JP3274213B2 - Electrophotographic color proofing master - Google Patents
Electrophotographic color proofing masterInfo
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- JP3274213B2 JP3274213B2 JP06545393A JP6545393A JP3274213B2 JP 3274213 B2 JP3274213 B2 JP 3274213B2 JP 06545393 A JP06545393 A JP 06545393A JP 6545393 A JP6545393 A JP 6545393A JP 3274213 B2 JP3274213 B2 JP 3274213B2
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Color Electrophotography (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真方式の色校正
用原版に関するものであり、特に、該色校正用原版の光
導電層の改良に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic color proofing master, and more particularly to an improvement in a photoconductive layer of the color proofing master.
【0002】[0002]
【従来の技術】多色印刷の印刷版としては、品質、耐刷
性、寸度安定性、汚れにくさ等の面から、専らPS版が
用いられている。PS版は、親水性向上のための表面処
理を施したアルミニウム支持体上に、ジアゾ樹脂もしく
はo−キノンジアジドを主剤とした感光層を設けてなる
版材であり、これに、色分解、網掛けしたフィルムを重
ね紫外線露光を行なったのち現像し、非画像部の感光層
を除いて親水性のアルミ表面を露出させることにより印
刷版を作製することができる。各色についてこのプロセ
スにより印刷版を作製し、これを順に印刷機にかけ、対
応するインキを用いて一枚の印刷用紙に印刷することに
より、多色像の印刷物を得ることができる。かかる印刷
方法においては、文字入力、レイアウト、色指定などの
一連の編集、製版、印刷の各工程において指定通りの作
業が行なわれたことの確認、及び色調子再現等について
の発注者の注文との差違がないことの確認を行い、必要
な場合には修正を行った後に、実際の印刷に進んでい
る。このステップを校正と言う。前者は内校と呼ばれ、
上に述べたように印刷会社内部での各工程のチェックを
目的としている。一方、後者は外校と呼ばれ、発注者に
印刷許可を得るための校正であり、インキ、印刷用紙等
も本機印刷と同じものを使用し、その刷り上がりも本機
印刷とほとんど変わらない。ここで、本機印刷に用いる
印刷用紙で校正刷りを行なうことを本紙校正と呼んでい
る。色指定、カラー写真の調子再現については、各色に
ついての確認及び修正が必要であり、特に外校としての
校正刷りは何度か繰り返して行なわれているのが実際で
ある。従来からの校正刷りは、実際の印刷に用いる色分
解及び網掛けしたフィルムと、校正刷り用と称される比
較的安価で耐刷性の低いPS版とを用いて作製した印刷
版を用い、例えば大日本スクリーン製の平台4色校正機
と呼ばれる印刷機に近い機構の校正機により印刷するこ
とにより行なわれている。これはプレスプルーフと呼ば
れているが、印刷版の作製に時間がかかり、また、操作
に熟練を要するため一定の品質を保つのが難しいという
欠点を有している。2. Description of the Related Art As a printing plate for multicolor printing, a PS plate is exclusively used from the viewpoints of quality, printing durability, dimensional stability, and resistance to contamination. The PS plate is a plate material in which a photosensitive layer mainly composed of a diazo resin or o-quinonediazide is provided on an aluminum support that has been subjected to a surface treatment for improving hydrophilicity. A printing plate can be prepared by exposing the exposed film to ultraviolet light, developing the exposed film and exposing the hydrophilic aluminum surface except for the photosensitive layer in the non-image area. A printing plate is prepared for each color by this process, and the printing plate is sequentially applied to a printing machine and printed on one sheet of printing paper using a corresponding ink, whereby a printed matter of a multicolor image can be obtained. In such a printing method, a series of editing operations such as character input, layout, and color designation, plate making, confirmation of work performed as specified in each process of printing, and ordering of an orderer for color tone reproduction and the like. After confirming that there is no difference, and making corrections if necessary, the process proceeds to actual printing. This step is called calibration. The former is called the inner school,
As described above, the purpose is to check each process inside the printing company. On the other hand, the latter is called a foreign school, which is a proofreading for obtaining printing permission from the orderer, uses the same ink, printing paper, and the like as this machine printing, and the printed result is almost the same as this machine printing. Here, performing proof printing on printing paper used for printing on the machine is called proofreading. Regarding color designation and color tone reproduction, it is necessary to confirm and correct each color. In particular, proof printing as a foreign school is actually repeated several times. Conventional proof printing uses a printing plate produced using color-separated and shaded film used for actual printing and a relatively inexpensive and low-durability PS plate called for proof printing. For example, printing is performed by a proofing machine having a mechanism similar to a printing machine called a flat table four-color proofing machine manufactured by Dainippon Screen. This is called press proof, but has the drawback that it takes a long time to produce a printing plate, and it is difficult to maintain a certain quality because of the skill required for the operation.
【0003】このような印刷機に近い機構の校正機を用
いず、従って簡便でかつ印刷に起因する不安定要素のな
い色校正方法がいくつか提案されており、操作性、繰り
返し安定性などの点から好ましいとして利用されてい
る。これはオフプレスプルーフと呼ばれていて、代表的
な方式、システムは日本印刷学会誌の第24巻第3号3
2ページ(1989)に掲載されている。例えばカラー
アート(富士写真フィルム株式会社)、クロマリン(デ
ュポン)及びマッチプリント(3M)などの商品名で実
用化されているシステムである。これらは色分解フィル
ムを用いてはいるが、上述のような校正機は用いないシ
ステムである。色分解フィルムは、カラースキャナーを
用いて製造されることが多い。これは、原稿からデータ
を読み取り、色分解、網掛け、調子再現コントロールを
行った後、デジタルデータとして出力し、該データに基
づいて変調したレーザー光により銀塩フィルムを走査露
光し、これに現像、定着、及び乾燥処理を行って多色印
刷版用のポジチブ又はネガチブフィルムを製造する装置
である。近年、更にトータルカラースキャナーと呼ばれ
る電子製版システムが開発されて、実用に供され始めて
いる。これはシステム内でレタッチまたは、集版までを
行なうことのできるもので、これまで以上に迅速に仕上
がりの良否を判定する内校が要求される。つまりシステ
ム内で処理を行なった結果としての仕様体裁、レイアウ
ト、いくつかの絵柄の色分解品質の適否、調子の再現性
の具合などを、これまでの校正法で行っていたのでは、
色分解フィルムへの出力、プレスプルーフまたはオフプ
レスプルーフの仕上がりを待たなければならないため、
システムの利用効率を著しく低下させることになる。シ
ステム内にある画像データはデジタル情報として利用可
能であることから、従来の校正法に依らないデジタルダ
イレクトカラープルーフシステムがいくつか提案されて
いる。これらの詳細は「印刷情報」誌1991年4月号
2ページ以降に掲載されている。方式としては銀塩方
式、静電トナー方式(湿式電子写真方式)、インキジェ
ット方式、熱昇華転写方式などがある。Several color proofing methods have been proposed which do not use a proofing machine having a mechanism close to such a printing press, and are therefore simple and free from unstable elements caused by printing. It is used as preferred from the point of view. This is called an off-press proof, and a typical system and system is the Journal of the Printing Society of Japan, Vol.
2 (1989). For example, it is a system that has been put to practical use under trade names such as Color Art (Fuji Photo Film Co., Ltd.), Cromarine (DuPont), and Match Print (3M). These are systems that use a color separation film but do not use the above-described proofing machine. Color separation films are often manufactured using a color scanner. This involves reading data from a manuscript, performing color separation, shading, and tone reproduction control, outputting it as digital data, and scanning and exposing the silver halide film with laser light modulated based on the data, and developing it. , Fixing and drying processes to produce a positive or negative film for a multicolor printing plate. In recent years, an electronic plate making system called a total color scanner has been further developed and put into practical use. This system can perform retouching or plate collection in the system, and requires an internal school that judges the quality of the finish more quickly than before. In other words, if the specifications and layout as a result of processing in the system, the suitability of the color separation quality of some pictures, the reproducibility of the tone, etc. were done by the conventional calibration method,
Because you have to wait for output to color separation film, press proof or off-press proof finish,
This will significantly reduce the utilization efficiency of the system. Since image data in the system can be used as digital information, some digital direct color proof systems that do not rely on the conventional calibration method have been proposed. Details of these are described in the “Printing Information” magazine, April 1991, page 2 and thereafter. Examples of the method include a silver salt method, an electrostatic toner method (wet electrophotographic method), an ink jet method, and a thermal sublimation transfer method.
【0004】それぞれ特徴があるが、特に湿式電子写真
方式は光導電性感光体に帯電、レーザー露光を行った
後、電気絶縁性液体中に顔料を分散したカラートナーで
現像し、これをC、M、Y、Bkの4色について繰り返
したあとにトナー像を転写することができるので、高精
細、高画質であり色調、調子再現性が良く、また、用紙
を選ばないので、本紙校正が可能であるという利点を持
っている。しかしながら感光体表面から直接本紙にトナ
ー像を完全に転写することは極めて難しく、それを成し
得た特開平2−272469に開示された技術において
も、幾つかのステップを踏む必要がある。また剥離可能
な転写層を光導電層の表面に設けて、この上にトナー画
像を形成し転写層ごと本紙へ転写するという提案が、特
開昭61−174557(特公平2−43185)、特
開平1−112264、特開平1−281464、特開
平3−11347においてなされている。そのなかでも
唯一実用に供されているのは特開昭61−174557
の技術であるが、これは電子写真感材の透明支持体(ポ
リエチレンテレフタレートフィルム)側から露光するも
のであり、更に導電層も透明としなければならず、一回
限りの使い捨てでもあるので、コスト面では不利であ
る。特開平1−112264、特開平1−281464
においては、光導電層表面に、剥離層、接着層を順次設
けてなる感光紙を用いた画像形成方法もしくはカラー印
刷方法の提示があり、これらは現像後にトナー画像を剥
離層ごと普通紙に転写することを特徴としている。しか
しながらこれらの方法に用いられている光導電層の構成
を均一に実用的な面積で形成すること、およびトナー画
像を損なうことなく転写することは困難である。[0004] In particular, in the wet electrophotography method, the photoconductive photoreceptor is charged, laser-exposed, and then developed with a color toner in which a pigment is dispersed in an electrically insulating liquid. Since the toner image can be transferred after repeating the four colors of M, Y, and Bk, high definition, high image quality, good color tone and tone reproducibility, and proofreading is possible because any paper is selected. Has the advantage of being However, it is extremely difficult to completely transfer the toner image directly from the surface of the photoreceptor to the actual paper, and the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-272469, which can achieve this, requires several steps. Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 61-174557 (JP-B 2-43185) discloses a method in which a transferable layer is provided on the surface of a photoconductive layer, a toner image is formed on the transfer layer, and the entire transfer layer is transferred to the paper. This is described in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 1-112264, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-281464, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-11347. Among them, the only one practically used is disclosed in JP-A-61-174557.
In this technique, the exposure is performed from the transparent support (polyethylene terephthalate film) side of the electrophotographic light-sensitive material, and the conductive layer must be transparent. It is disadvantageous in terms of terms. JP-A-1-112264, JP-A-1-281264
Has proposed an image forming method or a color printing method using a photosensitive paper in which a release layer and an adhesive layer are sequentially provided on the surface of a photoconductive layer. It is characterized by doing. However, it is difficult to form the structure of the photoconductive layer used in these methods uniformly with a practical area and to transfer the toner image without damaging the toner image.
【0005】特開平3−11347の光導電層上に剥離
可能なオーバーコート層を設けた記録媒体を用いる方法
においても、同様のことが言える。以上の様な転写に関
わる画像の劣化の問題とともに、電子写真プロセスで画
像を形成する事に関しても種々の問題があり、かかる問
題の要因としては、特に、電子写真感光体の静電特性が
挙げられる。公知の光導電層で構成される電子写真感光
体を利用したシステムについては、撮像時の環境条件を
変動(高温・高湿あるいは低温・低湿)させて詳細に検
討してみたところ、電子写真特性(特に暗中電荷保持
性、光感度等)が変動し、安定した良好な複写画像が得
られなくなる場合が生じた。また、今日のデジタルダイ
レクト化に対応可能な電子写真式色校正用原版におい
て、半導体レーザー光を用いたスキャニング露光方式を
採用した場合、可視光による全面同時露光方式に比べ時
間が長くなり、また露光強度にも制約があることから、
静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に関して、より
高い性能が要求される。これに対し、上記公知の原版で
は電子写真特性が劣化し、実際の複写画像も地カブリが
発生し易くなり、且つ細線の飛びや文字のツブレが生じ
てしまい、結果として、得られた色校正刷りの画像が低
下してしまった。The same can be said for the method using a recording medium in which a releasable overcoat layer is provided on a photoconductive layer in JP-A-3-11347. In addition to the problem of image deterioration related to transfer as described above, there are various problems in forming an image by an electrophotographic process, and the cause of such a problem is, in particular, the electrostatic characteristics of an electrophotographic photosensitive member. Can be A system using an electrophotographic photoreceptor composed of a known photoconductive layer was examined in detail by changing the environmental conditions at the time of imaging (high temperature / high humidity or low temperature / low humidity). (Particularly charge retention in the dark, light sensitivity, etc.) fluctuated, and a stable and good copied image could not be obtained. In addition, if a scanning exposure method using a semiconductor laser beam is adopted in an electrophotographic color proofing plate that can support today's digital direct conversion, the time will be longer than in the case of a full-surface simultaneous exposure method using visible light. Because there are restrictions on strength,
Higher performance is required for electrostatic characteristics, particularly dark charge retention characteristics and light sensitivity. On the other hand, in the above-mentioned known original plate, the electrophotographic characteristics are deteriorated, the ground fog is liable to occur in the actual copied image, and the thin lines are skipped and the characters are blurred. The printed image has dropped.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明は以上のような
問題点を改良した電子写真方式を用いた色校正用原版を
提供するものである。本発明の目的は色ずれがなく高精
細、高画質の色校正刷りを簡便に、安定して得ることに
ある。本発明の他の目的は、容易に製造でき、且つ製造
コストの低い電子写真式色校正用原版を提供することに
ある。更に他の目的は、トナー像を容易に、シンプルな
構成の転写装置で転写することができ、転写用紙を選ば
ず、印刷本紙への校正刷りを可能とする色校正刷りの製
造方法を提供することにある。本発明の他の目的は、複
写画像形成時の環境が低温低湿あるいは高温高湿のよう
に変動する場合でも、鮮明で良質な画像を有する色校正
刷りを与えることができる色校正用原版を提供すること
である。本発明の他の目的は、併用し得る増感色素の種
類による影響を受け難く、半導体レーザー光によるスキ
ャニング露光方式でも静電特性の優れた色校正用原版を
提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is to provide a color proofing original plate using an electrophotographic method in which the above problems are improved. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to easily and stably obtain a high-definition, high-quality color proof print without color shift. Another object of the present invention is to provide an electrophotographic color proofing original plate which can be easily manufactured and has a low manufacturing cost. Still another object is to provide a method for producing a color proof print which can easily transfer a toner image by a transfer device having a simple structure, and can perform proof printing on a printing paper sheet irrespective of transfer paper. It is in. Another object of the present invention is to provide a color proofing original plate capable of giving a color proof having a clear and high-quality image even when the environment at the time of forming a copy image fluctuates as low or low humidity or high temperature and high humidity. It is to be. Another object of the present invention is to provide a color proofing master which is hardly affected by the type of sensitizing dyes that can be used together and has excellent electrostatic characteristics even in a scanning exposure method using a semiconductor laser beam.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】前記の課題は、支持体、
光導電層及び転写層を含み、該転写層上に電子写真プロ
セスにより形成された少なくとも1色のトナー像を、転
写層と共に被転写材料に転写することにより色校正刷り
を製造するための電子写真式色校正用原版であって、該
光導電層が、下記の樹脂(P1)、(P2)、(P3)及び(P4)から
なる群から選ばれる樹脂〔P〕、下記の樹脂(Q1)及び(Q
2)からなる群から選ばれる樹脂〔Q〕、並びに光及び/
又は熱硬化性基を少なくとも1種含有する構成単位を少
なくとも1種含有する樹脂〔R〕を含み、且つ該樹脂
〔P〕が少なくとも前記転写層に接する表面の近傍に存
在し、該表面のJIS Z0237−1980「粘着テ
ープ・シート試験方法」により試験される粘着力が15
0gram・force(g ・f)以下であることを特徴とする電子
写真式色校正用原版により達成される。 (1) 樹脂(P1):フッ素原子及び/又はケイ素原子を含有
する構成単位を50重量%以上含有するセグメント
(X)と光及び/又は熱硬化性基を少なくとも1種含有
する構成単位を含有するセグメント(Y)とを含む直線
状ブロック型共重合体。 (2) 樹脂(P2):フッ素原子及び/又はケイ素原子を含有
する構成単位を50重量%以上含有するセグメント
(X)と光及び/又は熱硬化性基を少なくとも1種含有
する構成単位を含有するセグメント(Y)とを含むAB
型ブロック高分子鎖が少なくとも3個、有機基(Z)を
介して結合しているスター型共重合体。 (3) 樹脂(P3):フッ素原子及び/又はケイ素原子を含有
する構成単位を50重量%以上含有するセグメント
(X)と光及び/又は熱硬化性基を少なくとも1種含有
する構成単位を含有するセグメント(Y)とを含むグラ
フト型共重合体。According to the present invention, there is provided a support,
Electrophotography for producing a color proof by transferring a toner image of at least one color formed on the transfer layer by an electrophotographic process together with a transfer layer to a material to be transferred, including a photoconductive layer and a transfer layer. Formula master for color proofing, wherein the photoconductive layer is a resin (P) selected from the group consisting of the following resins (P 1 ), (P 2 ), (P 3 ) and (P 4 ); Resins (Q 1 ) and (Q
2 ) a resin [Q] selected from the group consisting of:
Or a resin [R] containing at least one structural unit containing at least one thermosetting group, and the resin [P] is present at least near the surface in contact with the transfer layer, and the JIS of the surface Z0237-1980 "Adhesive tape / sheet test method" has an adhesive strength of 15
Achieved by an electrophotographic color proofing master characterized by being less than or equal to 0 gram · force (g · f). (1) Resin (P 1 ): a segment (X) containing 50% by weight or more of a constituent unit containing a fluorine atom and / or a silicon atom and a constituent unit containing at least one kind of light and / or thermosetting group. And a linear block copolymer containing a segment (Y). (2) Resin (P 2 ): a segment (X) containing 50% by weight or more of a constituent unit containing a fluorine atom and / or a silicon atom and a constituent unit containing at least one kind of light and / or thermosetting group. AB containing segment (Y)
A star copolymer in which at least three type block polymer chains are bonded via an organic group (Z). (3) Resin (P 3 ): a segment (X) containing 50% by weight or more of a constituent unit containing a fluorine atom and / or a silicon atom and a constituent unit containing at least one kind of light and / or thermosetting group. And a graft copolymer containing a segment (Y).
【0008】(4) 樹脂(P4):フッ素原子及び/又はケイ
素原子を含有する構成単位を50重量%以上含有するセ
グメント(X)と光及び/又は熱硬化性基を少なくとも
1種含有する構成単位を含有するセグメント(Y)とを
含むAB型又はABA型ブロック共重合体であり、且つ
該セグメント(X)の少なくとも一つが下記のグラフト
型セグメント(X') であるか、該セグメント(Y)の少
なくとも一つが下記のグラフト型セグメント(Y') であ
るか、又は該セグメント(X)の少なくとも一つが下記
のグラフト型セグメント(X') であり、且つ該セグメン
ト(Y)の少なくとも一つが下記のグラフト型セグメン
ト(Y') である共重合体。 グラフト型セグメント(X') :重量平均分子量が1×1
03 〜2×104 であり、フッ素原子及び/又はケイ素
原子を含有する構成単位を50重量%以上、好ましくは
90重量%以上含有するマクロモノマー部(MA ) を共
重合成分として含有するセグメント。 グラフト型セグメント (Y') :重量平均分子量が1×1
03 〜2×104 であり、フッ素原子及び/又はケイ素
原子を含有する構成単位を含有しない構成単位より成る
マクロモノマー部(MB ) を共重合成分として含有する
セグメント。 (5) 樹脂(Q1 ):1×103 〜2×104 の重量平均
分子量を有し、下記一般式(I):(4) Resin (P 4 ): It contains a segment (X) containing 50% by weight or more of a structural unit containing a fluorine atom and / or a silicon atom and at least one kind of light and / or thermosetting group. An AB type or ABA type block copolymer containing a segment (Y) containing a structural unit, and at least one of the segments (X) is a graft type segment (X ′) shown below, or At least one of Y) is the following graft-type segment (Y '), or at least one of the segments (X) is the following graft-type segment (X'), and at least one of the segments (Y) is A copolymer having one of the following graft segments (Y '). Graft type segment (X '): weight average molecular weight 1 × 1
0 3 a to 2 × 10 4, a fluorine atom and / or a structural unit containing a silicon atom 50 wt% or more, preferably contains macromonomer unit which contains more than 90% by weight of (M A) as a copolymer component segment. Graft type segment (Y '): weight average molecular weight is 1 × 1
0 3 a to 2 × 10 4, segment containing macromonomer unit consisting of structural units containing no structural units containing a fluorine atom and / or silicon atom (M B) as a copolymerization component. (5) Resin (Q 1 ): having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 and having the following general formula (I):
【0009】[0009]
【化4】 Embedded image
【0010】〔式中、b1 及びb2 は各々水素原子、ハ
ロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表し、R3 は炭
化水素基を表す〕で示されるモノマーと、−PO3 H2
基、−SO3 H基、−COOH基、−PO(OH)(R
1 )(式中、R1 は炭化水素基又は−OR2 (R2 は炭
化水素基を表す) を表す)基及び環状酸無水物基から選
択される少なくとも1種の極性基を含有する重合体成分
を含有する重合体主鎖の一方の末端にのみ下記一般式
(II):Wherein b 1 and b 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group, and R 3 represents a hydrocarbon group; and -PO 3 H 2
Group, -SO 3 H group, -COOH group, -PO (OH) (R
1 ) (wherein R 1 represents a hydrocarbon group or —OR 2 (R 2 represents a hydrocarbon group)) and a cyclic acid anhydride group and contains at least one polar group. The following general formula (II) only at one end of the polymer main chain containing the united component
【0011】[0011]
【化5】 Embedded image
【0012】〔式中、V1 は−COO−、−OCO−、
−CH2 OCO−、−CH2 COO−、−O−、−SO
2 −、−CO−、−CONHCOO−、−CONHCO
NH−、−CONHSO2 −、−CON(T1 )−、−
SO2 N(T1 )−又は−C6H4 −を表し(ここで、
T1 は水素原子又は炭化水素基を表す)、b3 及びb4
は各々水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素
基、−COOZ1 又は−Z 2 −COOZ1 (Z1 は水素
原子又は炭化水素基を表し、Z2 は炭化水素基を表す)
を表す。〕で示される重合性二重結合基を結合して成る
重量平均分子量1×104 以下の一官能性マクロモノマ
ー(MC )とから少なくともなるグラフト型共重合体。 (6) 樹脂(Q2 ):1×103 〜2×104 の重量平均
分子量を有し、−PO3 H2 基、−SO3H基、−CO
OH基、フェノール性OH基、−PO(OH)(R1 )
(式中、R 1 は前記と同様の意味を有する) 基及び環状
酸無水物基から選択される少なくとも1種の極性基を含
有する重合体成分を少なくとも1種含有するAブロック
と、下記一般式(III):[Wherein V1Is -COO-, -OCO-,
-CHTwoOCO-, -CHTwoCOO-, -O-, -SO
Two-, -CO-, -CONHCOO-, -CONHCO
NH-, -CONHSOTwo-, -CON (T1)-,-
SOTwoN (T1)-Or -C6HFour-(Where,
T1Represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group), bThreeAnd bFour
Is hydrogen, halogen, cyano, hydrocarbon
Group, -COOZ1Or -Z Two-COOZ1(Z1Is hydrogen
Z represents an atom or a hydrocarbon group;TwoRepresents a hydrocarbon group)
Represents Represented by the following formula:
Weight average molecular weight 1 × 10FourThe following monofunctional macromonomers
ー (MCA) a graft copolymer comprising at least: (6) Resin (QTwo): 1 × 10Three~ 2 × 10FourWeight average
Having a molecular weight of -POThreeHTwo Group, -SOThreeH group, -CO
OH group, phenolic OH group, -PO (OH) (R1)
(Where R 1Has the same meaning as above.)
It contains at least one polar group selected from acid anhydride groups.
Block containing at least one polymer component having
And the following general formula (III):
【0013】[0013]
【化6】 Embedded image
【0014】〔式中、V2 は−COO−、−OCO−、
−(CH2)a OCO−、−(CH2)aCOO−(aは1
〜3の整数を表す)、−O−、−SO2 −、−CO−、
−CON(T1 )−、−SO2 N(T1 )−、−CON
HCOO−、−CONHCONH−又は−C6 H4 −を
表し(ここで、T1 は前記と同様の意味を有する) 、R
4 は炭化水素基を表し、b5 及びb6 は各々b1 及びb
2 と同様の意味を有する。但し、V2 が−C6 H4 −を
表す場合、R4 は水素原子又は炭化水素基を表す。〕で
示される重合体成分を少なくとも1種含有するBブロッ
クとから構成されるABブロック共重合体のBブロック
の重合体主鎖の末端に重合性二重結合基を結合して成る
一官能性マクロモノマー(MD )を少なくとも1種共重
合成分として含有するグラフト型共重合体。[Wherein VTwoIs -COO-, -OCO-,
− (CHTwo)aOCO-,-(CHTwo)aCOO- (a is 1
Represents an integer of ~ 3), -O-, -SOTwo-, -CO-,
−CON (T1)-, -SOTwoN (T1)-, -CON
HCOO-, -CONHCONH- or -C6HFour-
Representation (where T1Has the same meaning as described above), R
FourRepresents a hydrocarbon group, bFiveAnd b6Is b1And b
TwoHas the same meaning as Where VTwoIs -C6HFour-
When represented, RFourRepresents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. 〕so
B block containing at least one polymer component shown
B block of AB block copolymer composed of
Consisting of a polymerizable double bond bonded to the terminal of the polymer main chain
Monofunctional macromonomer (MD) At least one type
A graft copolymer contained as a combined component.
【0015】本発明の光導電層は、光導電性化合物が樹
脂〔Q〕及び樹脂〔R〕等の結着樹脂で分散されたもの
であればよく、光導電性化合物の分散された層のみで構
成されたいわゆる単分散層タイプ及び光導電性化合物分
散層である電荷発生層と電荷輸送層とを少なくとも含む
いわゆる積層タイプ(又は機能分離タイプ)のいずれで
もよい。重要なことは、該各種光導電層の転写層に接す
る面の近傍に樹脂〔P〕が偏在し、該面が改良された剥
離特性を有することである。例えば、電荷発生層と電荷
輸送層からなる機能分離型の光導電層においては、転写
層と隣接する層である電荷輸送層が樹脂〔P〕及び樹脂
〔R〕を含み、電荷発生層が樹脂〔Q〕及び光導電性化
合物を含むことができる。また、電荷発生層と電荷輸送
層からなる機能分離型の光導電層において、転写層と隣
接する層である電荷輸送層が、樹脂〔P〕、樹脂
〔R〕、樹脂〔Q〕及び光導電性化合物を含むこともで
きる。好ましくは、上記樹脂〔P〕は、該樹脂が含有さ
れる層の樹脂の総重量を基準として1〜30重量%含ま
れる。樹脂〔Q〕の量は、好ましくは光導電性化合物1
00重量部に対し、1〜100重量部、さらに好ましく
は3〜50重量部である。樹脂〔R〕の量は、好ましく
は該樹脂が含有される層の樹脂の総重量を基準として5
〜99.1重量%である。本発明において、結着樹脂は光
導電性化合物が分散されるマトリックスを形成する樹脂
であり、本発明で使用する樹脂〔P〕、樹脂〔Q〕,樹
脂〔R〕及び必要により存在するその他の樹脂を含む。
また、好ましくは、本発明の光導電層は光及び/又は熱
硬化剤を含有する。本明細書において、「光及び/又は
熱硬化剤」は、光及び/又は熱硬化性化合物、光及び/
又は熱硬化性オリゴマー、光及び/又は熱硬化性樹脂及
び架橋剤を意味する。The photoconductive layer of the present invention may be any layer in which the photoconductive compound is dispersed in a binder resin such as resin [Q] and resin [R]. And a so-called laminated type (or a function separation type) including at least a charge generation layer and a charge transport layer which are photoconductive compound dispersion layers. What is important is that the resin [P] is unevenly distributed in the vicinity of the surface of the various photoconductive layers in contact with the transfer layer, and that the surface has improved release characteristics. For example, in a function-separated photoconductive layer composed of a charge generation layer and a charge transport layer, the charge transport layer adjacent to the transfer layer contains a resin [P] and a resin [R], and the charge generation layer is a resin. [Q] and a photoconductive compound. Further, in the function-separated type photoconductive layer including the charge generation layer and the charge transport layer, the charge transport layer adjacent to the transfer layer is formed of a resin [P], a resin [R], a resin [Q], and a photoconductive layer. Sexual compounds may also be included. Preferably, the resin [P] is contained in an amount of 1 to 30% by weight based on the total weight of the resin in the layer containing the resin. The amount of the resin [Q] is preferably the amount of the photoconductive compound 1
The amount is 1 to 100 parts by weight, more preferably 3 to 50 parts by weight, based on 00 parts by weight. The amount of the resin [R] is preferably 5 to 5% based on the total weight of the resin in the layer containing the resin.
999.1% by weight. In the present invention, the binder resin is a resin that forms a matrix in which the photoconductive compound is dispersed, and the resin [P], the resin [Q], the resin [R] used in the present invention, and any other Including resin.
Also, preferably, the photoconductive layer of the present invention contains a light and / or thermosetting agent. In the present specification, “light and / or thermosetting agent” refers to a light and / or thermosetting compound, light and / or
Or a thermosetting oligomer, a light and / or thermosetting resin and a crosslinking agent.
【0016】[0016]
【作用】本発明の色校正用原版において、光導電層が単
分散層タイプである場合は該光導電層に、光導電層が積
層タイプである場合は該光導電層の転写層に隣接する層
に、樹脂〔P〕を少量共存させて塗膜を形成すると、塗
布後、乾燥工程が終了するまでの間に、樹脂〔P〕は膜
の表面部に移行し、濃縮され、そこで剥離性を発現す
る。一方、樹脂〔P〕中のフッ素及び/又はケイ素原子
含有の重合体セグメント(X)は転写層側に、他の重合
体セグメント(Y)は樹脂〔R〕との相溶性が良好なた
めに光導電層内部側に配列する。その結果、光導電層の
表面において剥離性が発現されるとともに、重合体セグ
メント(Y)と樹脂〔R〕との相互作用によりアンカー
効果を奏する。更に、樹脂〔R〕及び樹脂〔P〕のセグ
メント(Y)は、光及び/又は熱硬化性基を含有し、ま
た、好ましくは、光導電層は光及び/又は熱硬化剤を含
有するため、該層を成膜した後、光及び/又は熱等によ
り硬化すると、該層中の樹脂〔P〕が表面に配向した状
態で該層が硬化されるため、配向の状態が充分に固定さ
れるという結果が得られる。このことにより、更に転写
層を塗膜形成する際の樹脂〔P〕の転写層への移行が防
止され、転写層と光導電層との界面を明確に維持するこ
とができる。従って、本発明の色校正用原版を用いる
と、校正刷りにおいて、電子写真プロセスにより形成さ
れたトナー画像が転写層ごと良好に転写され、転写層の
剥離不良等の問題が生じることがない。また、転写層用
の熱可塑性樹脂の種類によって、塗布用の溶媒が選択さ
れるが、その溶媒によっては、転写層の成膜時に、光導
電層の結着樹脂との溶媒和作用により、光導電層の分散
状態に影響を及ぼし、電子写真特性に悪影響(地カブリ
が出やすくなる、画質が劣化する等)を及ぼす場合があ
った。かかる問題は、本発明の光導電層を架橋すること
によって耐溶媒性が付与されることにより解消される。In the color proofing master of the present invention, the photoconductive layer is adjacent to the photoconductive layer when the photoconductive layer is a monodispersed layer type, and is adjacent to the transfer layer of the photoconductive layer when the photoconductive layer is a laminated type. When a coating film is formed by allowing a small amount of resin [P] to coexist in the layer, the resin [P] migrates to the surface of the film and concentrates after the application and before the drying step is completed, where the resin [P] is removed. Is expressed. On the other hand, the polymer segment (X) containing fluorine and / or silicon atoms in the resin [P] has a good compatibility with the resin [R] because the polymer segment (X) has a good compatibility with the resin [R]. It is arranged inside the photoconductive layer. As a result, releasability is exhibited on the surface of the photoconductive layer, and an interaction between the polymer segment (Y) and the resin [R] produces an anchor effect. Further, the segment (Y) of the resin [R] and the resin [P] contains a light and / or thermosetting group, and preferably, the photoconductive layer contains a light and / or thermosetting agent. When the layer is formed and then cured by light and / or heat, the layer is cured in a state where the resin [P] in the layer is oriented on the surface, so that the orientation state is sufficiently fixed. Is obtained. This further prevents the transfer of the resin [P] to the transfer layer when the transfer layer is formed as a coating film, and can maintain the interface between the transfer layer and the photoconductive layer clearly. Therefore, when the color proofing master of the present invention is used, in the proof printing, the toner image formed by the electrophotographic process is transferred well for each transfer layer, and there is no problem such as defective peeling of the transfer layer. In addition, a solvent for coating is selected depending on the type of the thermoplastic resin for the transfer layer. However, depending on the solvent, when forming the transfer layer, the solvation action with the binder resin of the photoconductive layer causes the light to be reduced. In some cases, this affects the dispersion state of the conductive layer and adversely affects the electrophotographic characteristics (for example, ground fogging is likely to occur and image quality is deteriorated). Such a problem is solved by imparting solvent resistance by crosslinking the photoconductive layer of the present invention.
【0017】また、本発明の光導電層においては、光導
電性化合物を含有する層が、結着樹脂として樹脂〔Q〕
を含有するため、光導電性化合物は、微粒子化され且つ
均一に分散される。更には分光増感色素を用いて増感す
る場合、本発明の光導電層では用いる分光増感色素の種
類が種々変わった場合でも、これらの色素は光導電性化
合物と充分に相互作用することができる。特に半導体レ
ーザー光用分光増感に用いる色素と光導電性化合物との
相互作用は、公知の結着樹脂の系では不充分となってし
まうが、本発明の系では充分に相互作用することができ
る。このことは、その詳細は不明であるが、光導電性化
合物及び分光増感色素を樹脂〔Q〕の共存下に分散する
と、樹脂〔Q〕が、色素と光導電性化合物の吸着相互作
用を阻害することなく光導電性化合物粒子の表面に吸着
し、しかも樹脂〔Q〕が光導電性化合物粒子表面の該色
素による被覆を適切な状態に保持することによるものと
思われる。こうしたことにより、低温・低湿、高温・高
湿と環境条件が著しく変化した場合でも、良好で安定し
た電子写真特性を維持できるようになったものと考えら
れる。一方、前記の様な光導電層が単分散層タイプより
成る場合においては、光導電性化合物、樹脂〔Q〕とと
もに、樹脂〔R〕及び少量の樹脂〔P〕が共存する系と
なる。こうした複合系においても、樹脂〔Q〕は、光導
電性化合物と充分に相互作用し、樹脂〔R〕に阻害され
ることなく、上記の様な、優れた静電特性を保持するこ
とができる。これと同時に、表面偏在性の樹脂〔P〕
は、表面部分に濃縮され、表面剥離性を充分に発現する
ことができる。Further, in the photoconductive layer of the present invention, the layer containing the photoconductive compound is a resin [Q] as a binder resin.
, The photoconductive compound is finely divided and uniformly dispersed. Furthermore, when sensitizing using a spectral sensitizing dye, even if the type of spectral sensitizing dye used in the photoconductive layer of the present invention is variously changed, these dyes sufficiently interact with the photoconductive compound. Can be. In particular, the interaction between the dye used for spectral sensitization for semiconductor laser light and the photoconductive compound is insufficient in the known binder resin system, but it is sufficient in the system of the present invention to interact. it can. Although the details are unknown, when the photoconductive compound and the spectral sensitizing dye are dispersed in the coexistence of the resin [Q], the resin [Q] causes the adsorption interaction between the dye and the photoconductive compound. This is probably because the resin [Q] adsorbs onto the surface of the photoconductive compound particles without hindrance, and keeps the coating of the surface of the photoconductive compound particles with the dye in an appropriate state. It is considered that, due to these, good and stable electrophotographic characteristics can be maintained even when environmental conditions such as low temperature / low humidity and high temperature / high humidity are significantly changed. On the other hand, when the photoconductive layer is a monodispersed layer type as described above, a system in which the resin [R] and a small amount of the resin [P] coexist with the photoconductive compound and the resin [Q]. Even in such a composite system, the resin [Q] sufficiently interacts with the photoconductive compound, and can maintain the above-described excellent electrostatic characteristics without being inhibited by the resin [R]. . At the same time, the surface uneven distribution resin [P]
Is concentrated on the surface portion and can sufficiently exhibit surface peelability.
【0018】上記のように、本発明の色校正用原板は光
導電層の転写層に接する面の剥離性が良好であることを
特徴とするが、剥離性が良好であるか否かは、JIS
Z0237─1980「粘着テープ・シート試験方法」
により試験される粘着力により判断される。即ち、本発
明の色校正用原板は、光導電層の転写層に接する面の上
記試験方法による粘着力が150gram・force (g・f)以
下、好ましくは100g・f 以下、さらに好ましくは5
0 g・f 以下であることを要する。粘着力は、「試験
板」として電子写真式色校正用原板を用い、「粘着テー
プ」として幅6mmの粘着テープを用い、引きはがし速度
120mm/ 分で粘着テープを引きはがし、得られた値を
10mm幅の粘着テープに比例換算して表したものであ
る。なお、転写層形成後の光導電層表面の粘着力は、転
写層形成前の光導電層表面の粘着力と同等である。As described above, the original plate for color proofing of the present invention is characterized in that the surface of the photoconductive layer in contact with the transfer layer has good releasability. JIS
Z0237 @ 1980 "Testing method for adhesive tape / sheet"
Judgment by the adhesive force tested by That is, the color proofing plate of the present invention has an adhesive force of 150 gram · force (g · f) or less, preferably 100 g · f or less, more preferably 5 g / f or less, of the surface of the photoconductive layer in contact with the transfer layer according to the above test method.
It must be 0 g · f or less. The adhesive strength was measured using the electrophotographic color proofing plate as the "test plate", the 6 mm wide adhesive tape as the "adhesive tape", and peeling off the adhesive tape at a peeling speed of 120 mm / min. It is expressed in proportion to a 10 mm wide adhesive tape. The adhesive strength of the photoconductive layer surface after the formation of the transfer layer is equal to the adhesive strength of the photoconductive layer surface before the formation of the transfer layer.
【0019】上記のように、本発明の色校正用原版は、
支持体、光導電層及び転写層を含む。以下、各々につい
て詳細に説明する。 〔支持体〕本発明において、光導電層は、従来公知の支
持体上に設けることができる。該支持体は導電性である
ことが好ましく、導電性支持体としては、従来使用され
ているようなもの、例えば金属、紙、プラスチックシー
ト等の基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電処
理したもの、基体の裏面(光導電層を設ける面と反対側
の面)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の
目的で少なくとも1層以上の層をコートしたもの、前記
支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体
の表面層に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコー
ト層を設けたもの、Al等を蒸着した導電化プラスチック
を紙にラミネートしたもの等が使用できる。As described above, the color proofing plate of the present invention comprises:
It includes a support, a photoconductive layer and a transfer layer. Hereinafter, each will be described in detail. [Support] In the present invention, the photoconductive layer can be provided on a conventionally known support. The support is preferably conductive. As the conductive support, a support such as that conventionally used, for example, a substrate such as a metal, paper, or a plastic sheet is impregnated with a low-resistance substance to be conductive. Treated, coated with at least one layer for the purpose of imparting conductivity to the back surface of the substrate (the surface opposite to the surface on which the photoconductive layer is provided) and further preventing curling, A body provided with a water-resistant adhesive layer on the surface of the body, a body provided with at least one or more pre-coat layers as required on the surface layer of the support, or a sheet obtained by laminating a conductive plastic on which Al or the like is deposited on paper. Etc. can be used.
【0020】具体的には、導電性基体あるいは導電化材
料の例として、坂本幸男、電子写真、14、(No.
1)、2〜11頁(1975年刊)、森賀弘之、「入門
特殊紙の化学」高分子刊行会(1975年刊)、M. F.
Hoover, J. Macromol. Sci. Chem. A−4(6)、13
27〜1417頁(1970年刊)等に記載されている
もの等が挙げられる。 〔光導電層〕 (樹脂〔P〕)上記のように、樹脂〔P〕は樹脂 (P1)
〜(P4)からなる群より選ばれ、これらはいずれもセグメ
ント(X)及びセグメント(Y)を含む共重合体であ
る。好ましくは、樹脂〔P〕のセグメント(X)は、フ
ッ素原子及び/又はケイ素原子を含有する構成単位をセ
グメント(X)の総重量を基準として80重量%以上、
特に90重量%以上含有する。また、セグメント(Y)
は、好ましくは光及び/又は熱硬化性基を有する構成単
位を、セグメント(Y)の総重量を基準として1〜60
重量%、より好ましくは5〜40重量%含有する。セグ
メント(X)とセグメント(Y)の存在割合は、 5〜9
5/95〜5(重量比) であり、好ましくは10〜90
/90〜10 (重量比) である。また、セグメント
(X)におけるフッ素原子及び/又はケイ素原子を有す
る構成単位に含有されるフッ素原子及び/又はケイ素原
子の数は、好ましくは、フッ素原子のみ含有される場合
には3個以上であり、ケイ素原子のみ含有される場合は
2個以上であり、そしてフッ素原子とケイ素原子の両方
を含有する場合には各々1個以上である。 (樹脂(P1))樹脂(P1)はフッ素原子及び/又はケイ
素原子を含有する構成単位を50重量%以上含有するセ
グメント(X)と光及び/又は熱硬化性基を少なくとも
1種含有する構成単位を含有するセグメント(Y)とを
含む直線状ブロック型共重合体である。該樹脂(P1)
は、直線状ブロック共重合体であればいずれでもよく、
例えばAB型(即ち、(X)−(Y))ブロック共重合
体もしくはそのマルチブロック化体、又はABA型(即
ち、(X)−(Y)−(X)、(Y)−(X)−
(Y))ブロック共重合体が挙げられる。樹脂(P1)の
重量平均分子量は、5×103 〜1×106 、好ましく
は1×104 〜5×105 である。また、樹脂(P1)中
のセグメント(X)の重量平均分子量は、1×103 以
上であることが好ましい。 (樹脂(P2))樹脂(P2)は、フッ素原子及び/又はケ
イ素原子を含有する構成単位を50重量%以上含有する
セグメント(X)と光及び/又は熱硬化性基を少なくと
も1種含有する構成単位を含有するセグメント(Y)と
を含むAB型ブロック高分子鎖が少なくとも3個、有機
基(Z)を介して結合しているスター型共重合体であ
る。樹脂(P2)のAB型ブロック高分子鎖においてセグ
メント(X)とセグメント(Y)の高分子鎖中における
配列の順序はいずれでもよい。即ち、該重合体を模式的
に示すと下記の如くになる。Specifically, as an example of a conductive substrate or a conductive material, Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14, (No.
1), pp. 2-11 (1975), Hiroyuki Moriga, "Introduction to Special Paper Chemistry", Polymer Publishing Association (1975), MF
Hoover, J. Macromol. Sci. Chem. A-4 (6), 13
And the like described on pages 27 to 1417 (published in 1970) and the like. [Photoconductive layer] (Resin [P]) As described above, resin [P] is resin (P 1 )
~ Selected from the group consisting of (P 4), which are copolymers containing both segments (X) and the segment (Y). Preferably, the segment (X) of the resin [P] contains at least 80% by weight of a structural unit containing a fluorine atom and / or a silicon atom, based on the total weight of the segment (X).
Particularly, the content is 90% by weight or more. In addition, segment (Y)
Is preferably 1 to 60 based on the total weight of the segment (Y),
% By weight, more preferably 5 to 40% by weight. The existence ratio of segment (X) and segment (Y) is 5-9
5/95 to 5 (weight ratio), preferably 10 to 90
/ 90 to 10 (weight ratio). Further, the number of fluorine atoms and / or silicon atoms contained in the structural unit having a fluorine atom and / or a silicon atom in the segment (X) is preferably 3 or more when only a fluorine atom is contained. And when it contains only silicon atoms, it is two or more, and when it contains both fluorine atoms and silicon atoms, it is one or more each. (Resin (P 1 )) The resin (P 1 ) contains a segment (X) containing 50% by weight or more of a structural unit containing a fluorine atom and / or a silicon atom and at least one kind of light and / or thermosetting group. And a segment (Y) containing the following structural unit. The resin (P 1 )
May be any linear block copolymer,
For example, an AB type (that is, (X)-(Y)) block copolymer or a multi-block thereof, or an ABA type (that is, (X)-(Y)-(X), (Y)-(X) −
(Y)) a block copolymer. The weight average molecular weight of the resin (P 1 ) is 5 × 10 3 to 1 × 10 6 , preferably 1 × 10 4 to 5 × 10 5 . The weight average molecular weight of the segment (X) in the resin (P 1 ) is preferably 1 × 10 3 or more. (Resin (P 2 )) The resin (P 2 ) comprises at least one kind of a segment (X) containing 50% by weight or more of a structural unit containing a fluorine atom and / or a silicon atom and a light and / or thermosetting group. A star-type copolymer in which at least three AB-type block polymer chains containing a segment (Y) containing a constituent unit are bonded via an organic group (Z). In the AB type block polymer chain of the resin (P 2 ), the sequence of the segment (X) and the segment (Y) in the polymer chain may be any order. That is, the polymer is schematically shown below.
【0021】[0021]
【化7】 Embedded image
【0022】(ここで、Zは有機基を表し、(A)はセ
グメント(X)を表し、(B)はセグメント(Y)を表
す) また、有機基(Z)に結合するAB型ブロック高分子鎖
の数の上限は、通常15個、好ましくは10個である。
樹脂(P2)の重量平均分子量は、5×103 〜 1×10
6 、好ましくは 1×104 〜5×105 である。また、
樹脂(P2)におけるセグメント(X)の重量平均分子量
は、1×103 以上であることが好ましい。有機基
(Z)は、その分子量が1000以下のものであれば特
に限定されるものではない。以下のような3価以上の炭
化水素基が例として挙げられる。(Where Z represents an organic group, (A) represents a segment (X), and (B) represents a segment (Y). The upper limit of the number of molecular chains is usually 15 and preferably 10.
The weight average molecular weight of the resin (P 2 ) is 5 × 10 3 to 1 × 10
6 , preferably 1 × 10 4 to 5 × 10 5 . Also,
The weight average molecular weight of the segment (X) in the resin (P 2 ) is preferably 1 × 10 3 or more. The organic group (Z) is not particularly limited as long as it has a molecular weight of 1,000 or less. Examples include the following trivalent or higher valent hydrocarbon groups.
【0023】[0023]
【化8】 Embedded image
【0024】〔ここで、r1 〜r6 はそれぞれ単結合、
水素原子又は炭化水素基を表す。但し、r1 及びr2 の
少なくとも1つ、及びr3 〜r6 のうちの少なくとも1
つは単結合又は2価以上の炭化水素基を表す。これらの
炭化水素基は、単独又はこれらの任意の組合せの構成か
らなり、組合せの場合は、−O−、−S−、−N(r
7 )−、−COO−、−CON(r7 )−、−SO2
−、−SO2 N(r7 )−(ここでr7 はそれぞれ水素
原子又は炭化水素基を表す)、−NHCOO−、−NH
CONH−、酸素原子、イオウ原子、窒素原子等のヘテ
ロ原子含有の複素環(例えばチオフェン環、ピリジン
環、ピラン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール
環、フラン環、ピペリジン環、ピラジン環、ピロール
環、ピペラジン環等)等の結合単位を含んでいてもよ
い。高分子鎖を結合する他の連結基の例としては、下記
構造から選ばれる基と上記結合単位との組合せから構成
されるものが挙げられる。しかしながら、本発明におけ
る有機基(Z)は、これらに限定されるものではない。[Where r 1 to r 6 are each a single bond,
Represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. However, at least one of r 1 and r 2 and at least one of r 3 to r 6
One represents a single bond or a divalent or higher valent hydrocarbon group. These hydrocarbon groups are composed of a single or any combination thereof, and in the case of a combination, -O-, -S-, -N (r
7) -, - COO -, - CON (r 7) -, - SO 2
-, - SO 2 N (r 7) - ( wherein each represent r 7 hydrogen atom or a hydrocarbon group), - NHCOO -, - NH
Hetero atom-containing heterocycles such as CONH-, an oxygen atom, a sulfur atom and a nitrogen atom (e.g., thiophene ring, pyridine ring, pyran ring, imidazole ring, benzimidazole ring, furan ring, piperidine ring, pyrazine ring, pyrrole ring, piperazine And a bonding unit such as a ring. Examples of other linking groups that bind the polymer chain include those composed of a combination of a group selected from the following structures and the above-mentioned binding unit. However, the organic group (Z) in the present invention is not limited to these.
【0025】[0025]
【化9】 Embedded image
【0026】(樹脂(P3))樹脂(P3)は、フッ素原子
及び/又はケイ素原子を含有する構成単位を50重量%
以上含有するセグメント(X)と光及び/又は熱硬化性
基を少なくとも1種含有する構成単位を含有するセグメ
ント(Y)とを含むグラフト型共重合体である。該樹脂
(P3)において、セグメント(X)とセグメント(Y)
の高分子鎖中における配列の順序はいずれでもよい。即
ち、該重合体を模式的に示すと下記の如くになる。(Resin (P 3 )) The resin (P 3 ) contains 50% by weight of a structural unit containing a fluorine atom and / or a silicon atom.
A graft copolymer containing the above-mentioned segment (X) and a segment (Y) containing a structural unit containing at least one kind of light and / or thermosetting group. In the resin (P 3 ), the segment (X) and the segment (Y)
May be in any order in the polymer chain. That is, the polymer is schematically shown below.
【0027】[0027]
【化10】 Embedded image
【0028】樹脂(P3)の重量平均分子量は、5×10
3 〜1×106 で、好ましくは1×104 〜5×105
である。また、樹脂(P3)中のセグメント(X)の重量
平均分子量は、1×103 以上であることが好ましい。The weight average molecular weight of the resin (P 3 ) is 5 × 10
3 to 1 × 10 6 , preferably 1 × 10 4 to 5 × 10 5
It is. The weight average molecular weight of the segment (X) in the resin (P 3 ) is preferably 1 × 10 3 or more.
【0029】(樹脂(P4))樹脂(P4)は、フッ素原子
及び/又はケイ素原子を含有する構成単位を50重量%
以上含有するセグメント(X)と光及び/又は熱硬化性
基を含有する構成単位を含有するセグメント(Y)とか
ら構成されるAB型又はABA型ブロック共重合体であ
り、且つセグメント(X)の少なくとも一つが下記のグ
ラフト型セグメント(X')であるか、該セグメント
(Y)の少なくとも一つが下記のグラフト型セグメント
(Y')であるか、又は該セグメント(X)の少なくとも
一つが下記のグラフト型セグメント(X')であり、且つ
該セグメント(Y)の少なくとも一つが下記のグラフト
型セグメント(Y')である共重合体である。 グラフト型セグメント(X'):重量平均分子量が1×1
03 〜2×104 であり、フッ素原子及び/又はケイ素
原子を含有する構成単位を50重量%以上、好ましくは
90重量%以上含有するマクロモノマー部(MA ) を共
重合成分として含有するセグメント。 グラフト型セグメント(Y'):重量平均分子量が1×1
03 〜2×104 であり、フッ素原子及び/又はケイ素
原子を含有する構成単位を含有しない構成単位より成る
マクロモノマー部(MB ) を共重合成分として含有する
セグメント。 該樹脂(P4)において、セグメント(X)とセグメント
(Y)の配列順序はいずれでもよい。該共重合体の例と
しては、下記に模式的に示すものが挙げられる。(Resin (P 4 )) The resin (P 4 ) contains 50% by weight of a structural unit containing a fluorine atom and / or a silicon atom.
An AB- or ABA-type block copolymer composed of a segment (X) containing the above and a segment (Y) containing a constituent unit containing a light and / or thermosetting group, and the segment (X) Is at least one of the following graft segments (X ′), at least one of the segments (Y) is the following graft segment (Y ′), or at least one of the segments (X) is And a copolymer in which at least one of the segments (Y) is the following graft segment (Y ′). Graft type segment (X ′): weight average molecular weight is 1 × 1
0 3 a to 2 × 10 4, a fluorine atom and / or a structural unit containing a silicon atom 50 wt% or more, preferably contains macromonomer unit which contains more than 90% by weight of (M A) as a copolymer component segment. Graft type segment (Y ′): weight average molecular weight is 1 × 1
0 3 a to 2 × 10 4, segment containing macromonomer unit consisting of structural units containing no structural units containing a fluorine atom and / or silicon atom (M B) as a copolymerization component. In the resin (P 4 ), the arrangement order of the segment (X) and the segment (Y) may be any. Examples of the copolymer include those schematically shown below.
【0030】[0030]
【化11】 Embedded image
【0031】セグメント(X)中におけるマクロモノマ
ー部(MA ) の存在割合は、セグメント(X)の総重量
に対して、1〜50重量%、好ましくは3〜30重量%
である。上記マクロモノマー部(MB ) のセグメント
(Y)中における存在割合は、セグメント(Y)の総重
量に対して、1〜50重量%、好ましくは3〜30重量
%である。好ましくは、上記マクロモノマー部(MB )
は、光及び/又は熱硬化性基を含有する構成単位を、該
マクロモノマー部(MB ) の総重量に対して1〜50重
量%、好ましくは、3〜20重量%の量で含有する。The proportion of the macromonomer portion (M A ) in the segment (X) is 1 to 50% by weight, preferably 3 to 30% by weight, based on the total weight of the segment (X).
It is. The proportion of the segment (Y) of the macromonomer unit (M B), based on the total weight of the segment (Y), 1 to 50% by weight, preferably 3 to 30 wt%. Preferably, the macromonomer unit (M B)
It is a structural unit containing a photo and / or thermosetting group, 1 to 50% by weight relative to the total weight of the macromonomer unit (M B), preferably in an amount of 3 to 20 wt% .
【0032】樹脂(P4)の重量平均分子量は、5×10
3 〜1×106 で、好ましくは1×104 〜5×105
である。また、樹脂(P4)中のセグメント(X)の重量
平均分子量は、1×103 以上であることが好ましい。
以下、セグメント(X)及びセグメント(Y)について
詳細に説明する。 (セグメント(X))セグメント(X)中のフッ素原子
及び/又はケイ素原子を含有する構成単位は、例えば下
記のフッ素原子を有する置換基及び/又はケイ素原子を
有する置換基を有する。該置換基は、樹脂〔P〕の高分
子主鎖に組み込まれていても、高分子側鎖に結合してい
てもよい。フッ素原子を有する1価又は2価の置換基:
−Cb F2b+1(bは1〜18の整数を表わす)、−(C
F2 )c CF2 H(cは1〜17の整数を表わす)、−
CFH2 、−CF2 −、−CFH−、The weight average molecular weight of the resin (P 4 ) is 5 × 10
3 to 1 × 10 6 , preferably 1 × 10 4 to 5 × 10 5
It is. The weight average molecular weight of the segment (X) in the resin (P 4 ) is preferably 1 × 10 3 or more.
Hereinafter, the segment (X) and the segment (Y) will be described in detail. (Segment (X)) The structural unit containing a fluorine atom and / or a silicon atom in the segment (X) has, for example, the following substituent having a fluorine atom and / or substituent having a silicon atom. The substituent may be incorporated in the polymer main chain of the resin [P] or may be bonded to a polymer side chain. Monovalent or divalent substituent having a fluorine atom:
-C b F 2b + 1 (b is an integer of 1~18), - (C
F 2 ) c CF 2 H (c represents an integer of 1 to 17),-
CFH 2 , -CF 2- , -CFH-,
【0033】[0033]
【化12】 Embedded image
【0034】ケイ素原子を有する1価又は2価の置換
基: −Si(R5)(R6)(R7)、 −Si(R8)(R9)− 上記式中、R5 、R6 、R7 、R8 、R9 は、各々同じ
でも異なってもよく、炭素数1〜22の置換されていて
もよい炭化水素基、前記したフッ素原子含有の一価の有
機残基、−OR’基(R’は炭素数1〜22の置換され
ていてもよい炭化水素基を表わす)、あるいは−OSi
(R5')(R6')(R7') (基中、R5'〜R 7'は各々同じで
も異なってもよく、炭素数1〜22の置換されていても
よい炭化水素基、前記したフッ素原子含有の一価の有機
残基、−OR’基(R’は炭素数1〜22の置換されて
いてもよい炭化水素基を表わす)を表わす。 R5 〜R9 、R’及びR5'〜R7'の例を下記に示す:炭
素数1〜22の置換されてもよいアルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル
基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2,
2,2−トリフルオロエチル基、2−シアノエチル基、
3,3,3−トリフルオロプロピル基、2−メトキシエ
チル基、3−ブロモプロピル基、2−メトキシカルボニ
ルエチル基、2,2,2,2' ,2',2' −ヘキサフ
ルオロイソプロピル基等)、炭素数4〜22の置換され
ていてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−
プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3
−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル基、1−
ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘ
キセニル基等)、炭素数7〜12の置換されていてもよ
いアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、
3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフ
チルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、
メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジ
ル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基
等)、炭素数5〜8の置換されていてもよい脂環式基
(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシル基、
2−シクロペンチルエチル基等)又は炭素数6〜12の
置換されていてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、
ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル
基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシル
フェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル
基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、ク
ロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル
基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル
基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェ
ニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミ
ドフェニル基等)。Monovalent or divalent substitution having a silicon atom
Group: -Si (RFive) (R6) (R7), −Si (R8) (R9)-Wherein R isFive, R6, R7, R8, R9Are the same for each
And may be different and are substituted with 1 to 22 carbon atoms.
A hydrocarbon group, and a fluorine atom-containing monovalent compound as described above.
Group, -OR 'group (R' is substituted with 1 to 22 carbon atoms)
Represents an optionally substituted hydrocarbon group), or -OSi
(RFive') (R6') (R7') (In the group, RFive'~ R 7'Is the same for each
May be different and may be substituted having 1 to 22 carbon atoms.
Good hydrocarbon group, fluorine atom-containing monovalent organic as described above
Residue, -OR 'group (R' is a C1-22 substituted
Represents an optionally substituted hydrocarbon group). RFive~ R9, R 'and RFive'~ R7Examples of ': charcoal
An alkyl group which may be substituted and has a prime number of 1 to 22 (for example,
Tyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl
Group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl
Group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2,
2,2-trifluoroethyl group, 2-cyanoethyl group,
3,3,3-trifluoropropyl group, 2-methoxy
Tyl group, 3-bromopropyl group, 2-methoxycarbonyl
Ruethyl group, 2,2,2,2 ′, 2 ′, 2′-hexaf
Substituted with 4 to 22 carbon atoms
An alkenyl group (e.g., 2-methyl-1-
Propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3
-Methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-
Hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-
Xenyl group, etc.), and may be substituted having from 7 to 12 carbon atoms.
Aralkyl groups (for example, benzyl group, phenethyl group,
3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naph
Tylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group,
Methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl
Group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group
Etc.), an optionally substituted alicyclic group having 5-8 carbon atoms
(For example, a cyclohexyl group, a 2-cyclohexyl group,
2-cyclopentylethyl group etc.) or having 6 to 12 carbon atoms.
An aromatic group which may be substituted (for example, a phenyl group,
Naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl
Group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecyl
Phenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl
Group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group,
Lorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl
Group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxy
Carbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl
Group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophene
Nyl group, propioamidophenyl group, dodecylylamido
Dophenyl group etc.).
【0035】また、該フッ素原子を有する置換基及びケ
イ素原子を有する置換基は、組み合わされて構成されて
もよく、その場合には、直接結合してもよいし更には他
の連結基を介して結合してもよい。連結基は、例えば二
価の有機基であり、−O−、−S−、−NR5 −、−S
O−、−SO2 −、−COO−、−OCO−、−CON
HCO−、−NHCONH−、−CONR5 −、−SO
2 NR5 −等から選ばれたものであっても良く、二価の
脂肪族基もしくは二価の芳香族基、又はこれら二価の基
の組み合わせにより構成された有機基であってもよい。
ここで、R5 は前記の意味を表す。二価の脂肪族基とし
ては、例えば以下のものが挙げられる。Further, the substituent having a fluorine atom and the substituent having a silicon atom may be constituted in combination. In this case, the substituent may be directly bonded or further via another linking group. May be combined. Linking group is, for example, a divalent organic group, -O -, - S -, - NR 5 -, - S
O -, - SO 2 -, - COO -, - OCO -, - CON
HCO -, - NHCONH -, - CONR 5 -, - SO
It may be selected from 2 NR 5- and the like, and may be a divalent aliphatic group or a divalent aromatic group, or an organic group constituted by a combination of these divalent groups.
Here, R 5 has the above-mentioned meaning. Examples of the divalent aliphatic group include the following.
【0036】[0036]
【化13】 Embedded image
【0037】e1 及びe2 は、互いに同じでも異なって
いてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩
素原子、臭素原子等)又は炭素数1〜12のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、クロロメチ
ル基、ブロモメチル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、ノニル基、デシル基等)を表わす。Qは−O−、
−S−又は−NR10−を表し、R10は炭素数1〜4のア
ルキル基、−CH2 Cl又は−CH2 Brを表わす。二
価の芳香族基としては、例えばフェニレン基、ナフチレ
ン基および5または6員の複素環基(複素環を構成する
ヘテロ原子として、酸素原子、イオウ原子、窒素原子か
ら選ばれたヘテロ原子を少なくとも1種含有する)が挙
げられる。これらの芳香族基は置換基を有していてもよ
く、例えばハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原
子、臭素原子等)、炭素数1〜8のアルキル基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基等)、炭素数1〜6のアルコキシ基(例
えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ
基等)が置換基の例として挙げられる。E 1 and e 2 may be the same or different and are each a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a chlorine atom or a bromine atom) or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group). Group, propyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, etc.). Q is -O-,
-S- or -NR 10 - represents, R 10 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a -CH 2 Cl or -CH 2 Br. Examples of the divalent aromatic group include a phenylene group, a naphthylene group, and a 5- or 6-membered heterocyclic group (at least a heteroatom selected from an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom as a heteroatom constituting a heterocycle). One type). These aromatic groups may have a substituent, for example, a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group) , A butyl group, a hexyl group, an octyl group, etc.) and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (eg, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, etc.).
【0038】複素環基としては、例えばフラン環、チオ
フェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピペラジン環、テ
トラヒドロフラン環、ピロール環、テトラヒドロピラン
環、1,3−オキサゾリン環等が挙げられる。次に、以
上のようなフッ素原子及び/又はケイ素原子を有する置
換基を有する構成単位、即ちセグメント(X)を構成す
る前記のフッ素原子及び/又はケイ素原子を有する構成
単位の具体例を以下に示す。しかし、これらの例は本発
明を限定するものではない。但し−Rf は次に表わす置
換基を示す。 1)−Cd F2d+1 2)−CH2 Cd
F2d+1 3)−CH2 CH2 Cd F2d+1 4)−CH2 (C
F2 ) d CFHCF3 5)−CH2 CH2 (CF2 )d CFHCF3 6)−CH2 CH2 (CF2 )d CFHCF2 H 7)−CH2 (CFH)d CF2 H 8)−CH(CF3 )2 Examples of the heterocyclic group include a furan ring, a thiophene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a piperazine ring, a tetrahydrofuran ring, a pyrrole ring, a tetrahydropyran ring, and a 1,3-oxazoline ring. Next, specific examples of the structural unit having a substituent having a fluorine atom and / or a silicon atom as described above, that is, the structural unit having a fluorine atom and / or a silicon atom constituting the segment (X) are shown below. Show. However, these examples do not limit the invention. However, -R f represents the following substituent. 1) -C d F 2d + 1 2) -CH 2 C d
F 2d + 1 3) -CH 2 CH 2 C d F 2d + 1 4) -CH 2 (C
F 2) d CFHCF 3 5) -CH 2 CH 2 (CF 2) d CFHCF 3 6) -CH 2 CH 2 (CF 2) d CFHCF 2 H 7) -CH 2 (CFH) d CF 2 H 8) - CH (CF 3 ) 2
【0039】[0039]
【化14】 Embedded image
【0040】上記式及び下記式において、dは1〜18
の整数を表し、eは1〜5の整数を表し、bは水素原子
又はメチル基を表わす。In the above formula and the following formula, d is 1 to 18
And e represents an integer of 1 to 5, and b represents a hydrogen atom or a methyl group.
【0041】[0041]
【化15】 Embedded image
【0042】[0042]
【化16】 Embedded image
【0043】[0043]
【化17】 Embedded image
【0044】[0044]
【化18】 Embedded image
【0045】[0045]
【化19】 Embedded image
【0046】[0046]
【化20】 Embedded image
【0047】[0047]
【化21】 Embedded image
【0048】[0048]
【化22】 Embedded image
【0049】[0049]
【化23】 Embedded image
【0050】[0050]
【化24】 Embedded image
【0051】 (a−34) −(N(CORf ) CH2 CH2 )− 次に、マクロモノマー部(MA ) について説明する。マク
ロモノマー部(MA ) は、重量平均分子量が1×103 〜
2×104 、好ましくは3×103 〜1×104 の範囲
であるものである。重量平均分子量が1×103 未満で
は、グラフト部の長さが短くなりすぎて剥離性向上効果
が薄れ、2×104 を越えると、該一官能性マクロモノ
マー部(MA ) に相当する単量体と該マクロモノマー部(M
A ) 以外の構成単位に相当する単量体との共重合反応性
が低下してしまい、所望のグラフト型重合体が得られな
くなるためである。該マクロモノマー部(MA ) 中のフッ
素原子及び/又はケイ素原子を有する構成単位は、前記
セグメント(X)の構成単位として挙げたものでありう
る。該マクロモノマー部(MA ) は、例えば、該構成単位
等から成る重合体主鎖の片末端に、下記の一般式(IV)
で表される重合性二重結合含有基を有する一官能性マク
ロモノマーに相当するものでありうる。 CH (a1)=C (a2)−V3 − (IV) 〔式中、a1 及びa2 は各々水素原子、ハロゲン原子、
トリフルオロメチル基、シアノ基又は炭化水素基を表
す。V3 は−COO−、−OCO−、−(CH2 ) f O
CO−、−(CH2 )f COO−(fは1〜3の整数を
表す)、−O−、−SO2 −、−CO−、−CON(T
1 )−、−SO2 N(T1 )−、−CONHCOO−、
−CONHCONH−又は−C6 H4 −を表わす(ここ
で、T1 は水素原子又は炭化水素基を表す) 〕。(A-34)-(N (CORf) CHTwoCHTwo)-Next, the macromonomer part (MA) Will be described. Mc
Monomer part (MA) Means that the weight average molecular weight is 1 × 10Three~
2 × 10Four, Preferably 3 × 10Three~ 1 × 10FourRange
It is something that is. Weight average molecular weight is 1 × 10ThreeLess than
Has the effect of improving the releasability because the length of the graft is too short
Fades, 2 × 10FourBeyond, the monofunctional macromono
Mer part (MA) And the macromonomer part (M
A) Copolymerization reactivity with monomers corresponding to structural units other than
And the desired graft polymer cannot be obtained.
It is because it becomes. The macromonomer part (MA)
The structural unit having an elemental atom and / or a silicon atom is as described above.
It may be one of the constituent units of segment (X)
You. The macromonomer part (MA) Is, for example,
The following general formula (IV) is added to one end of the polymer main chain comprising
Having a polymerizable double bond-containing group represented by
It may correspond to a monomer. CH (a1) = C (aTwo) -VThree-(IV) [wherein a1And aTwoRepresents a hydrogen atom, a halogen atom,
Represents trifluoromethyl, cyano or hydrocarbon groups
You. VThreeIs -COO-, -OCO-,-(CHTwo) fO
CO-,-(CHTwo)fCOO- (f is an integer of 1 to 3
), -O-, -SOTwo-, -CO-, -CON (T
1)-, -SOTwoN (T1)-, -CONHCOO-,
-CONHCONH- or -C6HFour-(Here
And T1Represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group)]].
【0052】T1 としての炭化水素基の例を下記に示
す:炭素数1〜18の置換されてもよいアルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
プチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシ
ル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエ
チル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2
−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル
基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換
されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−
プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3
−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル基、1−
ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘ
キセニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいア
ラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−
フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチル
エチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチ
ルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル
基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、
炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シ
クロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シ
クロペンチルエチル基等)又は炭素数6〜12の置換さ
れてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル
基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチ
ルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル
基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキ
シフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニ
ル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノ
フェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニル
フェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシ
カルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロ
ピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基
等)が挙げられる。Examples of the hydrocarbon group as T 1 are as follows: an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a heptyl group, a hexyl group) Octyl, decyl, dodecyl, hexadecyl, octadecyl, 2-chloroethyl, 2-bromoethyl, 2-cyanoethyl, 2
-Methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group and the like, and an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (eg, 2-methyl-1-
Propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3
-Methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-
Hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group and the like, and optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-
Phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.),
An optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (for example, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.) or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms ( For example, phenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, propylphenyl, butylphenyl, octylphenyl, dodecylphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, butoxyphenyl, decyloxyphenyl, chlorophenyl, Dichlorophenyl, bromophenyl, cyanophenyl, acetylphenyl, methoxycarbonylphenyl, ethoxycarbonylphenyl, butoxycarbonylphenyl, acetamidophenyl, propioamidophenyl, dodecyloylamidophenyl, etc.) Can be
【0053】V3 が−C6 H4 −を表わす場合、ベンゼ
ン環は置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲ
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
クロロメチル基、メトキシメチル基等)、アルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブト
キシ基等)等が挙げられる。好ましくは、a1 及びa2
は、互いに同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハ
ロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子等)、トリフ
ルオロメチル基、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、−COOZ3 又は−Z2 −COOZ3 (Z3 は水
素原子又は炭素数1〜18のアルキル基、アルケニル
基、アラルキル基、脂環式またはアリール基を表し、こ
れらは置換されていてもよく、具体的には、上記T1 に
ついて説明したものであり得、Z2 は炭化水素基を表
す)を表す。When V 3 represents —C 6 H 4 —, the benzene ring may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (eg, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group,
Chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.) and alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.). Preferably, a 1 and a 2
May be the same or different, and may be a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a trifluoromethyl group, a cyano group, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group) , propyl group, butyl group, etc.), - COOZ 3 or -Z 2 -COOZ 3 (Z 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic or an aryl group, These may be substituted, and may specifically be as described for T 1 above, and Z 2 represents a hydrocarbon group).
【0054】Z2 としては、メチレン基、エチレン基、
プロピレン基等が挙げられる。更に好ましくは、一般式
(IV) において、V3 は−COO−、−OCO−、−C
H2 OCO−、−CH2 COO−、−O−、−CONH
−又は−C6 H4 −を表わし、a1 及びa2 は互いに同
じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数1〜6
のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基等)を表す。更に、より好ま
しくは、a1 及びa2 においていずれか一方が水素原子
を表す。As Z 2 , a methylene group, an ethylene group,
And a propylene group. More preferably, in the general formula (IV), V 3 represents -COO-, -OCO-, -C
H 2 OCO -, - CH 2 COO -, - O -, - CONH
— Or —C 6 H 4 —, wherein a 1 and a 2 may be the same or different from each other and represent a hydrogen atom or a carbon atom having 1 to 6 carbon atoms.
(For example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, etc.). More preferably, one of a 1 and a 2 represents a hydrogen atom.
【0055】一般式(IV)で示される重合性二重結合含
有基は、直接結合しても、あるいは任意の連結基を介し
て結合してもよい。連結基は、例えば二価の基であっ
て、−O−、−S−、−N(d1 )−、−SO−、−S
O2 −、−COO−、−OCO−、−CONHCO−、
−NHCONH−、−CON(d2 )−SO
2 (d3 )、−Si(d4 )(d5 )−、二価の脂肪族
基もしくは二価の芳香族基、又はこれらの二価の基の組
合せにより構成された有機基であってもよい。ここで、
d1〜d5 は式(IV)においてT1 について挙げたもの
でありうる。二価の脂肪族基としては、例えば−C(k
1 )(k2 )−、−C(k1 )=C(k2 )−、−C≡
C−、−C6 H10−、The polymerizable double bond-containing group represented by the general formula (IV) may be directly bonded, or may be bonded via an arbitrary linking group. Linking group, for example a divalent group, -O -, - S -, - N (d 1) -, - SO -, - S
O 2 —, —COO—, —OCO—, —CONHCO—,
-NHCONH -, - CON (d 2 ) -SO
2 (d 3 ), -Si (d 4 ) (d 5 )-, a divalent aliphatic group or a divalent aromatic group, or an organic group constituted by a combination of these divalent groups. Is also good. here,
d 1 to d 5 may be those described for T 1 in formula (IV). Examples of the divalent aliphatic group include, for example, -C (k
1) (k 2) -, - C (k 1) = C (k 2) -, - C≡
C -, - C 6 H 10 -,
【0056】[0056]
【化25】 Embedded image
【0057】が挙げられる。式中、k1 及びk2 は、互
いに同じでも異なっていてもよく、各々水素原子、ハロ
ゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等)
又は炭素数1〜12のアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、クロロメチル基、ブロモメチル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デ
シル基等)を表す。二価の芳香族基としては、例えばフ
ェニレン基、ナフチレン環基及び5又は6員の複素環基
(複素環を構成するヘテロ原子として、酸素原子、イオ
ウ原子、窒素原子から選ばれたヘテロ原子を少なくとも
1種含有する)が挙げられる。これらの芳香族基は置換
基を有していてもよく、例えばハロゲン原子(例えばフ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、炭素数1〜8のア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基、オクチル基等)、炭素数1〜6の
アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、ブトキシ基等)が置換基の例として挙げられ
る。複素環基としては、例えばフラン環基、チオフェン
環基、ピリジン環基、ピラジン環基、ピペラジン環基、
テトラヒドロフラン環基、ピロール環基、テトラヒドロ
ピラン環基、1,3−オキサゾリン環基、ピロリジン環
基、ピペリジン環基及び次式:And the like. In the formula, k 1 and k 2 may be the same or different, and each is a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.)
Or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (e.g., methyl, ethyl, propyl, chloromethyl, bromomethyl, butyl, hexyl, octyl, nonyl, decyl, etc.). As the divalent aromatic group, for example, a phenylene group, a naphthylene ring group and a 5- or 6-membered heterocyclic group (a heteroatom selected from an oxygen atom, a sulfur atom and a nitrogen atom as a heteroatom constituting a heterocyclic ring) Containing at least one). These aromatic groups may have a substituent, for example, a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group) , A butyl group, a hexyl group, an octyl group, etc.) and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (eg, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, etc.). As the heterocyclic group, for example, a furan ring group, a thiophene ring group, a pyridine ring group, a pyrazine ring group, a piperazine ring group,
Tetrahydrofuran ring group, pyrrole ring group, tetrahydropyran ring group, 1,3-oxazoline ring group, pyrrolidine ring group, piperidine ring group and the following formula:
【0058】[0058]
【化26】 Embedded image
【0059】(式中、Qは−O−、−S−又は−NR10
−を表し、R10は前記と同じ意味を有する)で表される
基が挙げられる。上記マクロモノマーの一般式IIで示さ
れる重合性二重結合基含有部分とこれに連結する連結基
で構成される部分の具体例として下記のものが挙げられ
る。下記式において、P1 は−H、−CH3 、−CH2
COOCH3 、−Cl、−Br、又は−CNを示し、P
2 は−H又は−CH3 を示し、bは−H又は−CH3 を
示し、Xは−Cl又は−Brを示し、nは2〜12の整
数を示し、mは1〜4の整数を示す。(Wherein Q is —O—, —S— or —NR 10
And R 10 has the same meaning as described above). Specific examples of the polymerizable double bond group-containing portion represented by the general formula II of the macromonomer and the portion composed of the linking group linked thereto are as follows. In the following formula, P 1 represents —H, —CH 3 , —CH 2
COOCH 3 , —Cl, —Br, or —CN;
2 represents -H or -CH 3, b represents -H or -CH 3, X represents a -Cl or -Br, n is an integer of 2 to 12, m is an integer of 1 to 4 Show.
【0060】[0060]
【化27】 Embedded image
【0061】[0061]
【化28】 Embedded image
【0062】[0062]
【化29】 Embedded image
【0063】[0063]
【化30】 Embedded image
【0064】[0064]
【化31】 Embedded image
【0065】(セグメント(Y))次に、セグメント
(Y)について詳しく説明する。まず、セグメント
(Y)に含有される光及び/又は熱硬化性基を含有する
構成単位について説明する。「光及び/又は熱硬化性
基」とは、光及び熱のうちの少なくともいずれかにより
樹脂の硬化反応を行なう官能基をいう。光硬化性官能基
としては、例えば、乾英夫、永松元太郎、「感光性高分
子」(講談社、1977年刊)、角田隆弘、「新感光性
樹脂」(印刷学会出版部、1981年刊)、G.E.Green
and B.P.Strak, J.Macro. Sci. Reas. Macro Chem., C2
1(2), 187〜273(1981〜82)、C.G.Ratte
y, 「Photopolymerization of Surface Coatings 」(A.
Wiley Inter Science Pub.1982年刊)等の総説に
記載された、光硬化性樹脂として従来公知の感光性樹脂
等に用いられる官能基が挙げられる。また、熱硬化性官
能基としては、例えば、遠藤剛、「熱硬化性高分子の精
密化」(C.M.C (株)、1986年刊)、原崎勇次(最
新バインダー技術便覧」第II−I章(総合技術センタ
ー、1985年刊)、大津隆行「アクリル樹脂の合成・
設計と新用途開発」(中部経営開発センター出版部、1
985年刊)、大森英三「機能性アクリル系樹脂」(テ
クノシステム、1985年刊)等の総説に記載された官
能基が挙げられる。例えば−COOH基、−PO3 H2
基、−SO2 H基、−OH基、−SH基、−NH2 基、
−NHR11基〔R11は炭化水素基を表わし、例えば炭素
数1〜8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、2−ク
ロロエチル基、2−メトキシエチル基、2−シアノエチ
ル基等)等〕、環状酸無水物基、−CONHCH2 OR
12(R12は水素原子又はアルキル基(例えばR11として
挙げたもの)を表す)、−N=C=O、次式で表される
基(Segment (Y)) Next, the segment (Y) will be described in detail. First, a structural unit containing a light and / or thermosetting group contained in the segment (Y) will be described. “Light and / or thermosetting group” refers to a functional group that causes a curing reaction of a resin by at least one of light and heat. Examples of the photocurable functional group include Hideo Inui, Mototaro Nagamatsu, "Photosensitive Polymer" (Kodansha, published in 1977), Takahiro Tsunoda, "New Photosensitive Resin" (publishing department of Printing Society, published in 1981), GEGreen
and BPStrak, J. Macro. Sci. Reas. Macro Chem., C2
1 (2), 187-273 (1981-82), CGRatte
y, `` Photopolymerization of Surface Coatings '' (A.
Examples of the photocurable resin include functional groups used in conventionally known photosensitive resins and the like described in reviews such as Wiley Inter Science Pub. 1982). Examples of the thermosetting functional group include, for example, Tsuyoshi Endo, "Precision of thermosetting polymer" (CMC Corporation, published in 1986), Yuji Harazaki (Handbook of Latest Binder Technology), Chapter II-I (Synthesis). Technical Center, 1985), Takatsu Otsu "Synthesis of acrylic resin
Design and New Application Development ”(Chubu Management Development Center Publishing Department, 1
985) and Eizo Omori "Functional Acrylic Resin" (Techno System, 1985) and the like. For example -COOH group, -PO 3 H 2
Group, -SO 2 H group, -OH group, -SH group, -NH 2 group,
-NHR 11 group [R 11 represents a hydrocarbon group, an alkyl group (e.g. methyl group having 1 to 8 carbon atoms, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, a 2-chloroethyl group, 2- Methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, etc.), cyclic acid anhydride group, -CONHCH 2 OR
12 (R 12 represents a hydrogen atom or an alkyl group (for example, those listed as R 11 )), -N = C = O, a group represented by the following formula:
【0066】[0066]
【化32】 Embedded image
【0067】(式中、Z’は窒素原子とともにヘテロ環
を形成するのに必要な原子群を表わし、該官能基は−N
=C=O基の保護基となる)、シランカップリング基、
チタネートカップリング基、−Cd6 =CHd7 基{d
6 、d7 は、各々水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素
原子、臭素原子等)又は炭素数1〜4のアルキル基(例
えばメチル基、エチル基等)を表わす}、重合性二重結
合含有基等を挙げることができる。又、重合性二重結合
含有基の具体例としては、CH2 =CH−、CH2 =C
H−CH2 −、CH2 =CH−COO−、CH2 =C
(CH3 )−COO−、CH 3 −CH=CH−COO
−、CH2 =CH−CONH−、CH2 =C(CH3 )
−CONH−、CH3 CH=CH−CONH−、CH2
=CH−O−CO−、CH2 =C(CH3 )−O−CO
−、CH2 =CH−CH2 −O−CO−、CH2=CH
−NHCO−、CH2 =CH−CH2 −NHCO−、C
H2 =CH−SO 2 −、CH2 =CH−CO−、CH2
=CH−O−、CH2 =CH−S−、(Wherein Z ′ is a heterocyclic ring together with a nitrogen atom)
Represents a group of atoms necessary to form
= C = O group), a silane coupling group,
Titanate coupling group, -Cd6= CHd7{D
6, D7Are a hydrogen atom and a halogen atom (for example, chlorine
Atom, bromine atom, etc.) or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg,
Represents a methyl group, an ethyl group, etc.), polymerizable double bond
And a group containing a compound. Also, polymerizable double bond
Specific examples of the contained group include CHTwo= CH-, CHTwo= C
H-CHTwo-, CHTwoCHCH—COO—, CHTwo= C
(CHThree) -COO-, CH Three-CH = CH-COO
-, CHTwo= CH-CONH-, CHTwo= C (CHThree)
-CONH-, CHThreeCH = CH-CONH-, CHTwo
CHCH—O—CO—, CHTwo= C (CHThree) -O-CO
-, CHTwo= CH-CHTwo-O-CO-, CHTwo= CH
-NHCO-, CHTwo= CH-CHTwo-NHCO-, C
HTwo= CH-SO Two-, CHTwo= CH-CO-, CHTwo
CHCH—O—, CHTwo= CH-S-,
【0068】[0068]
【化33】 Embedded image
【0069】等を挙げることができる。次に、マクロモ
ノマー部(MB ) について説明する。マクロモノマー部(M
B ) は、重量平均分子量が1×103 〜2×104 であ
り、好ましくは3×103 〜1×104 の範囲であるも
のである。重量平均分子量が1×103 以下ではアンカ
ー効果が薄れる。また、2×104 以上では、マクロモ
ノマー部(MB ) に相当する単量体とセグメント(Y)を
構成する他の構成単位に相当する単量体との共重合反応
性が低下する。該マクロモノマー部(MB ) を構成する構
成単位は、フッ素原子及び/又はケイ素原子を含有しな
いものであればいずれでもよい。更に好ましくは、マク
ロモノマー部(MB )は、光及び/又は熱硬化性官能基
含有の構成単位を、マクロモノマー部(MB )の総重量
に対して1〜50重量%含有する。And the like. Next, the macromonomer unit (M B) will be described. Macromonomer part (M
B ) has a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 , preferably 3 × 10 3 to 1 × 10 4 . When the weight average molecular weight is 1 × 10 3 or less, the anchor effect is weakened. Further, in the 2 × 10 4 or more, the copolymerization reactivity with a monomer corresponding to the other structural unit that constitutes the monomer and the segment (Y) corresponding to macromonomer unit (M B) is lowered. Structural units constituting the macromonomer portion (M B) may be any as long as it does not contain a fluorine atom and / or silicon atoms. More preferably, the macromonomer unit (M B) is a light and / or heat-curable functional group structure unit containing, containing 1 to 50% by weight relative to the total weight of the macromonomer unit (M B).
【0070】これら光及び/又は熱硬化性官能基の具体
例としては、セグメント(Y)に含まれる光及び/又は
熱硬化性官能基として挙げた基のうち重合性二重結合含
有基を除いたものが挙げられる。 (他の構成単位)また、本発明の樹脂〔P〕におけるセ
グメント(X)及びセグメント(Y)における、他の構
成単位は、そのモノマーが、先に述べた各々のセグメン
トの構成単位に相当するモノマーと共重合するものであ
ればいずれでもよい。例えば付加重合成分、ポリエステ
ル成分、ポリエーテル成分、ポリイミン成分等が挙げら
れる。上記付加重合成分としては、具体的には下記一般
式(V)で示される繰り返し単位から選ばれる構成単位
が挙げられる。 −CH(a1 )−C(V3 −T1 )(a2 )− (V) 式(V)中、a1 、a2 、V3 及びT1 は式(IV)と同
様の内容を表す。Specific examples of the photo- and / or thermosetting functional groups include the photo- and / or thermo-setting functional groups contained in the segment (Y) except for the polymerizable double bond-containing group. One. (Other Structural Units) Further, in the other structural units in the segment (X) and the segment (Y) in the resin [P] of the present invention, the monomer corresponds to the structural unit of each segment described above. Any one may be used as long as it copolymerizes with the monomer. Examples include an addition polymerization component, a polyester component, a polyether component, a polyimine component, and the like. Specific examples of the addition polymerization component include structural units selected from the repeating units represented by the following general formula (V). —CH (a 1 ) —C (V 3 −T 1 ) (a 2 ) — (V) In the formula (V), a 1 , a 2 , V 3 and T 1 have the same contents as in the formula (IV). Represent.
【0071】これら式(V)で示される構成単位の含有
量はセグメント(X)においては、通常50重量%以
下、好ましくは20重量%以下であり、更に好ましくは
全く含有されない。また、該構成単位の含有量は、マク
ロモノマー部(MA ) 中においては、50重量%以下、好
ましくは20重量%以下であり、より好ましくは全く含
有されない。一方、該構成単位の含有量は、セグメント
(Y)中においては、セグメント(Y)の総重量に対し
て0〜95重量%、好ましくは5〜90重量%である。
また、該構成単位の含有量は、マクロモノマー部(MB )
中においては、40〜100重量%、好ましくは50〜
95重量%である。更に、式(V)に示される構成単位
とともに含有され得る構成単位としては、該式(V)の
構成単位に相当するモノマーと共重合しうる単量体、例
えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、複素環ビ
ニル類(例えばビニルピリジン、ビニルイミダゾール、
ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、ビニルピラゾー
ル、ビニルジオキサン、ビニルオキサジン等)等に相当
する構成単位が挙げられる。これら他の構成単位は樹脂
〔P〕の全構成単位100重量部中20重量部を超えな
い範囲で用いられる。The content of the structural unit represented by the formula (V) in the segment (X) is usually at most 50% by weight, preferably at most 20% by weight, more preferably at all. The content of the structural unit is 50% by weight or less, preferably 20% by weight or less in the macromonomer part (M A ), and more preferably it is not contained at all. On the other hand, the content of the structural unit in the segment (Y) is 0 to 95% by weight, preferably 5 to 90% by weight based on the total weight of the segment (Y).
The content of the structural units, the macromonomer unit (M B)
In the composition, 40 to 100% by weight, preferably 50 to 100% by weight.
95% by weight. Further, as a structural unit which can be contained together with the structural unit represented by the formula (V), a monomer copolymerizable with a monomer corresponding to the structural unit of the formula (V), for example, acrylonitrile, methacrylonitrile, heterocyclic Vinyls (eg, vinylpyridine, vinylimidazole,
Structural units corresponding to vinylpyrrolidone, vinylthiophene, vinylpyrazole, vinyldioxane, vinyloxazine and the like. These other constituent units are used in an amount not exceeding 20 parts by weight based on 100 parts by weight of all the constituent units of the resin [P].
【0072】また、樹脂〔P〕中のセグメント(Y)に
おいて、上記の各構成単位とともに、−PO3 H2 、−
SO3 H、−COOH、−P(=O)(OH)R13〔R
13は炭化水素基又は−OR14(R14は炭化水素基を表
す)を表す〕及び環状酸無水物基から選択される少なく
とも1種の極性基を置換基として含有する構成単位を、
セグメント(Y)の総重量に対して10重量%未満の量
で用いることもできる。好ましくは、R13及びR14は各
々炭素数1〜6の置換されていてもよい炭化水素基(例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、2−
クロロエチル基、2−ブロムエチル基、2−フルオロエ
チル基、3−クロロプロピル基、3−メトキシプロピル
基、2−メトキシブチル基、ベンジル基、フェニル基、
プロペニル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、
2−エトキシエチル基)等でありうる。In the segment (Y) in the resin [P], -PO 3 H 2 ,-
SO 3 H, —COOH, —P (= O) (OH) R 13 [R
13 represents a hydrocarbon group or —OR 14 (R 14 represents a hydrocarbon group)] and a structural unit containing, as a substituent, at least one polar group selected from cyclic acid anhydride groups,
It can also be used in an amount of less than 10% by weight, based on the total weight of the segment (Y). Preferably, R 13 and R 14 are each an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group,
Chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-fluoroethyl group, 3-chloropropyl group, 3-methoxypropyl group, 2-methoxybutyl group, benzyl group, phenyl group,
Propenyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group,
2-ethoxyethyl group) and the like.
【0073】また、環状酸無水物基としては、脂肪族ジ
カルボン酸無水物、芳香族ジカルボン酸無水物等の残基
が挙げられる。脂肪酸ジカルボン酸無水物の例として
は、コハク酸無水物、グルタコン酸無水物、マレイン酸
無水物、シクロペンタン−1,2−ジカルボン酸無水
物、シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物、シ
クロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、2,3−
ビシクロ〔2,2,2〕オクタジカルボン酸無水物等が
挙げられ、これらの化合物は、例えば塩素原子、臭素原
子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、
ヘキシル基等のアルキル基等で置換されていてもよい。
また、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル
酸無水物、ナフタレン−ジカルボン酸無水物、ピリジン
−ジカルボン酸無水物、チオフェン−ジカルボン酸無水
物等が挙げられ、これらの化合物は、例えば塩素原子、
臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシル基、シ
アノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基(アルコキ
シ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基等)等で
置換されていてもよい。Examples of the cyclic acid anhydride group include residues such as aliphatic dicarboxylic acid anhydride and aromatic dicarboxylic acid anhydride. Examples of fatty acid dicarboxylic anhydrides include succinic anhydride, glutaconic anhydride, maleic anhydride, cyclopentane-1,2-dicarboxylic anhydride, cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride, cyclohexene- 1,2-dicarboxylic anhydride, 2,3-
Examples thereof include bicyclo [2,2,2] octadicarboxylic anhydride and the like. These compounds include, for example, chlorine atom, halogen atom such as bromine atom, methyl group, ethyl group, butyl group,
It may be substituted with an alkyl group such as a hexyl group.
Examples of the aromatic dicarboxylic anhydride include phthalic anhydride, naphthalene-dicarboxylic anhydride, pyridine-dicarboxylic anhydride, thiophene-dicarboxylic anhydride, and the like. atom,
Halogen atom such as bromine atom, alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hydroxyl group, cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group (alkoxy group such as methoxy group, ethoxy group, etc.) May be substituted.
【0074】以上の様な特定の極性基を含有する共重合
成分は、例えば一般式(IV)で示される繰り返し単位に
相当する単量体と共重合し得る極性基含有ビニル系化合
物に相当するものであればいずれでもよく、例えば、高
分子学会編「高分子データ・ハンドブック(基礎編〕」
培風館(1986年刊)等に記載されている。具体的に
は、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸(例え
ばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、α−
(2−アミノ)エチル体、α−クロロ体、α−ブロモ
体、α−フルオロ体、α−トリブチルシリル体、α−シ
アノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β
−メトキシ体、α,β−ジクロロ体等)、メタクリル
酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸
半アミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類
(例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン
酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4
−エチル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン
酸半エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼ
ンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスル
ホン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボン酸類のビニル基
又はアリル基の半エステル誘導体及びこれらのカルボン
酸又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置
換基中に該極性基を含有する化合物等に相当する構成単
位が挙げられる。The copolymer component having a specific polar group as described above corresponds to, for example, a polar group-containing vinyl compound which can be copolymerized with a monomer corresponding to the repeating unit represented by the general formula (IV). Any of these may be used, for example, "Polymer Data Handbook (Basic)" edited by The Society of Polymer Science, Japan
It is described in Baifukan (1986) and the like. Specifically, acrylic acid, α- and / or β-substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α-acetoxy form)
(2-amino) ethyl form, α-chloro form, α-bromo form, α-fluoro form, α-tributylsilyl form, α-cyano form, β-chloro form, β-bromo form, α-chloro-β
-Methoxy form, α, β-dichloro form, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half-esters, itaconic acid half-amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (eg, 2-pentenoic acid, 2-methyl- 2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4
-Ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinylbenzene carboxylic acid, vinylbenzene sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, vinyl phosphonic acid, vinyl group or allyl of dicarboxylic acids Structural units corresponding to half-ester derivatives of the groups, ester derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids, and compounds containing the polar group in the substituents of the amide derivatives are exemplified.
【0075】(樹脂〔P〕の合成)本発明の樹脂〔P〕
及びマクロモノマー部((MA ) ,(MB ) )に相当するマ
クロモノマーは、従来公知の重合方法に従って合成する
ことができる。例えば、W. J. Burlant, A. S. Hoffman
"Block and Graft polymers" ( 1960年、Renhal
d)、R. J. Ceresa, "Block and Graft Polymers" (19
62年、Butterworths) 、D. C. Allport, W. H. James
"Black Copolymers" (1972年、Applied Sci)、A.
Noshay, J. F. McGvath "Block Copolymers" (197
7年、Academic press.)、G. Huvtrez. D. J. Wilson,
G. Riess, NATO ASI Sev.Sev E. 1985、149、
V. Percea, Applied. Polymer Sci. 285、95(1
985)等の成書、総説に記載されている。(Synthesis of Resin [P]) Resin [P] of the present invention
The macromonomer corresponding to the macromonomer portion ((M A ), (M B )) can be synthesized according to a conventionally known polymerization method. For example, WJ Burlant, AS Hoffman
"Block and Graft polymers" (1960, Renhal
d), RJ Ceresa, "Block and Graft Polymers" (19
62, Butterworths), DC Allport, WH James
"Black Copolymers" (1972, Applied Sci), A.
Noshay, JF McGvath "Block Copolymers" (197
7 years, Academic press.), G. Huvtrez. DJ Wilson,
G. Riess, NATO ASI Sev. Sev E. 1985 , 149,
V. Percea, Applied. Polymer Sci. 285 , 95 (1
985), and the like.
【0076】例えば有機金属化合物(例えばアルキルリ
チウム類、リチウムジイソプロピルアミド、アルカリ金
属アルコラート類、アルキルマグネシウムハライド類、
アルキルアルミニウムハライド類等)を重合開始剤とす
るイオン重合反応については、T. E. Hogeu-Esch, J. S
mid, "Recent Advances in Anionic Polymerization"
(1987年、Elsevier New York)岡本佳男、高分子、
38、912(1989)、澤本光男、高分子、38、
1018(1989) 、成田正、高分子、37、252
(1988) 、B. C. Anderson, et al, Macromolecule
s 14、1601(1981)、S. Aoshima, T. Hig
ashimura, Macromolecules 22、1009(198
9)等に具体的に記載されている。また、ヨウ化水素/
ヨウ素系等によるイオン重合反応については、T. Higas
himura et al, Makromol. Chem., Macromol. Symp., 1
3/14、457(1988)、東村敏延、沢本光男、
高分子論文集46、189(1989) 等に記載されて
いる。また、グループ移動重合反応については、D. Y.
Sogah et al, Macromolecules 20、1473(198
7)、O. W. Webster, D. Y. Sogah, 高分子、36、8
08(1987) 、M. T. Reetg, et al, Angew. Chem.
Int. Ed. Eugl. 25、9108(1986)特開昭6
3−97609号等に記載されている。For example, organometallic compounds (eg, alkyl lithiums, lithium diisopropylamide, alkali metal alcoholates, alkyl magnesium halides,
Ionic polymerization reaction using alkyl aluminum halides as polymerization initiators is described in TE Hogeu-Esch, J. S.
mid, "Recent Advances in Anionic Polymerization"
(1987, Elsevier New York) Yoshio Okamoto, Polymer,
38 , 912 (1989), Mitsuo Sawamoto, polymer, 38 ,
1018 (1989), Tadashi Narita, Polymer, 37 , 252
(1988), BC Anderson, et al, Macromolecule
s 14 , 1601 (1981), S. Aoshima, T. Hig
ashimura, Macromolecules 22 , 1009 (198
9) and the like. In addition, hydrogen iodide /
For the ionic polymerization reaction using iodine, etc., see T. Higas
himura et al, Makromol. Chem., Macromol. Symp., 1
3/14, 457 (1988), Higashimura Satoshinobe, Mitsuo Sawamoto,
Polymers, 46 , 189 (1989). For the group transfer polymerization reaction, DY
Sogah et al, Macromolecules 20 , 1473 (198
7), OW Webster, DY Sogah, polymer, 36 , 8
08 (1987), MT Reetg, et al, Angew. Chem.
Int. Ed. Eugl. 25 , 9108 (1986) JP-A-6
No. 3-97609.
【0077】また、金属ポルフィリン錯体を用いたリビ
ング重合反応については、T. Yasuda,T. Aida, S. Inou
e, Macromolecules, 17、2217(1984)、M.
Kuroki, T. Aida, S. Inoue, J. Am. Chem. Soc. 10
9、4737(1987)、M. Kuroki et al, Macromo
lecules, 21、3115(1988)、M. Kuroki,I.
Inoue,有機合成化学、47、1017(1989)等
に記載されている。更には、環状化合物の開環重合反応
については、S. Kobayashi, T. Saegusa,"Ring Opening
Polymerization"(1984年、Applied Science Publi
shors, Ltd.) 、W. Seeliger et al. Angew. Chem. In
t. Engl.5、875(1966) 、S. Kobayashi et a
l, Poly, Bull. 13、447(1985)、Y. Chujo
et al, Macromolecules, 22、1074(1989)
等に記載されている。更には、ジチオカーバメート化合
物あるいはザンテート化合物等を開始剤として用いる光
リビング重合反応について、大津隆行、高分子、37、
248(1988)、檜森俊一、大津隆一、Polym. Re
p. Jap. 37、3508(1988)、特開昭64−
111号、特開昭64−26619号、M. Niwa, Macro
molecules,189、2187(1988)等に記載され
ている。The living polymerization reaction using a metal porphyrin complex is described in T. Yasuda, T. Aida, S. Inou.
e, Macromolecules, 17 , 2217 (1984);
Kuroki, T. Aida, S. Inoue, J. Am. Chem. Soc. 10
9 , 4737 (1987); M. Kuroki et al, Macromo
lecules, 21 , 3115 (1988), M. Kuroki, I.
Inoue, Synthetic Organic Chemistry, 47 , 1017 (1989). Further, regarding ring-opening polymerization of cyclic compounds, see S. Kobayashi, T. Saegusa, "Ring Opening
Polymerization "(1984, Applied Science Publi
shors, Ltd.), W. Seeliger et al. Angew. Chem. In
t. Engl. 5 , 875 (1966), S. Kobayashi et a
l, Poly, Bull. 13 , 447 (1985), Y. Chujo
et al, Macromolecules, 22 , 1074 (1989)
And so on. Further, regarding a living photopolymerization reaction using a dithiocarbamate compound or a xanthate compound as an initiator, Takayuki Otsu, Polymer, 37 ,
248 (1988), Shunichi Hinomori, Ryuichi Otsu, Polym. Re
p. Jap. 37 , 3508 (1988);
No. 111, JP-A-64-26619, M. Niwa, Macro
molecules, 189 , 2187 (1988) and the like.
【0078】他方、アゾ基あるいは過酸化基を含有した
高分子を開始剤とする、ラジカル重合反応によっても、
ブロック共重合体を合成する方法が、上田明等、高分子
論文集33、931(1976)、上田明、大阪市立工
業研究所報告84、(1989)、O. Nuyken et al, M
acromol. Chem., Rapid. Commun.9、671(198
8)、森屋泰夫等、強化プラスチック、29、907
(19 ) 、小田良平、科学と工業61、43(19
87)等に記載されている。グラフト型ブロック共重合
体の合成については、前記した成書、総説に加えて、更
に、井手文雄、“グラフト重合とその応用”(1977
年、高分子刊行会)、高分子学会編、“ポリマー・アロ
イ”(1981年、東京化学同人)等に記載されてい
る。例えば高分子鎖を、重合開始剤、化学的活線(放射
線、電子線等)、機械的応用化でのメカノケミカル反応
等でグラフト化する方法、高分子鎖と高分子鎖の官能基
を利用して、化学結合(いわゆる高分子間反応)しグラ
フト化する方法あるいはマクロモノマーを用いて、重合
反応し、グラフト化する方法等が知られている。On the other hand, a radical polymerization reaction using a polymer containing an azo group or a peroxide group as an initiator is also possible.
A method of synthesizing a block copolymer is described in Akira Ueda et al., Journal of Polymers, 33 , 931 (1976), Akira Ueda, Report of Osaka Municipal Industrial Research Institute 84 , (1989), O. Nuyken et al, M.
acromol. Chem., Rapid. Commun. 9 , 671 (198
8), Yasuo Moriya, reinforced plastics, 29 , 907
(19), Ryohei Oda, Science and Industry 61 , 43 (19)
87). Regarding the synthesis of the graft type block copolymer, in addition to the above-mentioned books and reviews, Fumio Ide, “Graft Polymerization and Its Application” (1977)
Polymer Society of Japan, edited by The Society of Polymer Science, "Polymer Alloy" (1981, Tokyo Chemical Dojin). For example, a method of grafting a polymer chain by a polymerization initiator, a chemical actinic ray (radiation, electron beam, etc.), a mechanochemical reaction in mechanical application, etc., utilizing a polymer chain and a functional group of the polymer chain. Then, a method of performing a chemical bond (a so-called interpolymer reaction) and grafting, or a method of performing a polymerization reaction using a macromonomer and grafting is known.
【0079】高分子鎖を用いてグラフト化する方法とし
て、具体的には、T. Shiota et al,J. Appl. Polym. Sc
i. 13、2447(1969)、W. H. Buck, Rubber
Chemistry and Technology,50、109(197
6)、遠藤剛、横沢勉、日本接着協会誌、24、323
(1988)、遠藤剛、ibid, 25、409(198
9)等に記載されている。また、マクロモノマーを用い
て、重合反応しグラフト化する方法として具体的には、
P. Dreyfuss & R. P. Quirk, Encycl. Polym. Sci. En
g.,7、551(1987)、P. F. Rempp, E. Franta,
Adv. Polym. Sci., 58、1(1984)、V. Perce
c, Appl. Poly. Sci.,285、95(1984)、R. A
sami, M. Takari, Macromol. Chem. Suppl.,12、16
3(1985)、P. Rempp., et al,Macromol. Chem. S
uppl., 8、3(1984)、川上雄資、化学工業、3
8、56(1987)、山下雄也、高分子、31、98
8(1982)、小林四郎、高分子、30、625(1
981)、東村敏延、日本接着協会誌、18、536
(1982)、伊藤浩一、高分子加工、35、262
(1986)、東貴四郎、津田隆、機能材料、198
7、No. 10、5、山下雄也編著、“マクロモノマーの
化学と工業”(1989年、アイ・ピー・シー
(株))、遠藤剛編著、“新しい機能性高分子の分子設
計”第4章(1991年、シーエムシー(株)、Y. Yam
ashita et al. Polym. Bull.5、361(1981)等
に記載されている。The method of grafting using a polymer chain is as follows.
Specifically, T. Shiota et al, J. Appl. Polym. Sc
i.13, 2447 (1969), W. H. Buck, Rubber
Chemistry and Technology,50, 109 (197
6), Tsuyoshi Endo, Tsutomu Yokozawa, Journal of the Japan Adhesive Society,24, 323
(1988), Tsuyoshi Endo, ibid,25, 409 (198
9). Also, using macromonomer
Specifically, as a method of performing a polymerization reaction and grafting,
P. Dreyfuss & R. P. Quirk, Encycl. Polym. Sci. En
g.,7551 (1987); PF Rempp, E. Franta,
Adv. Polym. Sci.,581 (1984), V. Perce
c, Appl. Poly. Sci.,285, 95 (1984), R.A.
sami, M. Takari, Macromol. Chem. Suppl.,12, 16
3 (1985), P. Rempp., Et al, Macromol. Chem. S
uppl., 8, 3 (1984), Yusuke Kawakami, Chemical Industry,3
8, 56 (1987), Yuya Yamashita, Polymer,31, 98
8 (1982), Shiro Kobayashi, Polymer,30, 625 (1
981), Toshinobu Higashimura, Journal of the Adhesive Society of Japan,18, 536
(1982), Koichi Ito, Polymer Processing,35, 262
(1986), Kishiro Higashi, Takashi Tsuda, Functional Materials,198
7No. 10, 5, edited by Yuya Yamashita, “Macromonomer
Chemistry and Industry "(1989, IPC
), Edited by Tsuyoshi Endo, “Molecular Design of New Functional Polymers
Chapter 4 (1991, CMC Corporation, Y. Yam
ashita et al. Polym. Bull.5, 361 (1981), etc.
It is described in.
【0080】スター型ブロック共重合体の合成方法は、
例えばM. T. Reetz, Angew. Chem.1st. Ed. Engl 2
7、1373(1988)、M. Sgwarc, "Carbanions,
LivingPolymers and Electron Transfer Processes"
(1968年、Wiley. New York)B. Gordon et al, Pol
ym. bull. 11、349(1984)、R. B. Bates et
al. J. Org. Chem.44、3800(1979)、Y. S
ogah, A. C. S. Polym. Repr. 1988、No. 2、3、
J. W. Mays. Polym. Bull.23、247(1990)、
I. M. Khan. et al. Macromolecules,21、2684
(1988)、A. Morikawa, Macromolecules,24 、3
469(1991)、上田明、永井進、高分子、39、
202(1990)、T. Otsu, Polym. Bull. 11、1
35(1984)等に記載されている。The method of synthesizing the star block copolymer is as follows.
For example, M. T. Reetz, Angew. Chem. 1st. Ed. Engl2
71373 (1988), M. Sgwarc, "Carbanions,
LivingPolymers and Electron Transfer Processes "
(1968, Wiley. New York) B. Gordon et al, Pol
ym.bull.11349 (1984); R. B. Bates et.
al. J. Org. Chem.44, 3800 (1979), Y.S.
ogah, A.C.S.Polym.Repr.1988, No. 2, 3,
J. W. Mays. Polym. Bull.23, 247 (1990),
I. M. Khan. Et al. Macromolecules,21, 2684
(1988), A. Morikawa, Macromolecules,24, 3
469 (1991), Akira Ueda, Susumu Nagai, Polymer,39,
202 (1990), T. Otsu, Polym. Bull.11, 1
35 (1984).
【0081】さらに、例えばW.J.Burlant. A.S. Hoffma
n "Block and Graft Polymers" (1960年, Renhold), R.
J.Ceresa, "Block and Graft Copolymers" (1962年, Bu
tterwords) L.C.Allport, W.H.James"Block copolymer
s"(1972年 Applied Sci), A.Noshay,J.E.McGrath"Block
Copolymers"(1977年, Academic press.)等の成書が挙
げられる。更に具体的には本発明のスター型共重合体
は、従来公知の極性基含有で且つ重合性二重結合含有基
をもつ単量体のスター型ポリマーの合成法を利用して合
成することができる。例えばその一つとしてカルバニオ
ンを開始剤とする重合反応が挙げられる。具体的には,
M.Morton, T.E.Helminiak et al. J.Polym.Sci.,57, 47
1(1962),B.Gordon III, M.Blumethal, J.E.Loftus. et
al, Polym. Bull.,11,349(1984), R.B.Bates, W.A.Beav
ers, et al, J.Org, Chem.,44, 3800(1979)に記載の方
法に従って合成できる。Further, for example, WJBurlant. AS Hoffma
n "Block and Graft Polymers" (1960, Renhold), R.
J. Ceresa, "Block and Graft Copolymers" (1962, Bu
tterwords) LCAllport, WHJames "Block copolymer
s "(1972 Applied Sci), A. Noshay, JEMcGrath" Block
Copolymers "(1977, Academic press.). More specifically, the star copolymer of the present invention has a conventionally known polar group-containing and polymerizable double bond-containing group. It can be synthesized by using a method for synthesizing a star polymer of a monomer, for example, a polymerization reaction using carbanion as an initiator.
M. Morton, TEHelminiak et al. J. Polym. Sci., 57, 47
1 (1962), B. Gordon III, M. Blumethal, JELoftus.
al, Polym. Bull., 11, 349 (1984), RBBates, WABeav.
ers, et al, J. Org, Chem., 44, 3800 (1979).
【0082】本発明の樹脂〔P〕においてセグメント
(Y)中に,前記した−COOH基等の特定の極性基を
含有する構成単位を含有する場合には、該特定の極性基
を含有する構成単位に相当する単量体において該極性基
を予め保護した官能基としておき、有機金属化合物(例
えばアルキルリチウム類,リチウムジイソプロピルアミ
ド,アルキルマグネシウムハライド類等)もしくはヨウ
化水素/ヨウ素系等によるイオン重合反応,ポルフィリ
ン金属錯体を触媒とする光重合反応又はグループ移動重
合反応等のいわゆるリビング重合反応でブロック共重合
体を合成した後,極性基を保護した官能基に加水分解反
応、加水素分解反応、酸化分解反応又は光分解反応等の
脱保護反応を行い,極性基を形成させる。その一つの例
を下記の反応式(I)に示す。When the resin (P) of the present invention contains a structural unit containing a specific polar group such as the above-mentioned —COOH group in the segment (Y), the structure containing the specific polar group is used. In the monomer corresponding to the unit, the polar group is set as a functional group in which the polar group is protected in advance, and ionic polymerization is performed using an organometallic compound (eg, alkyl lithiums, lithium diisopropylamide, alkyl magnesium halides, etc.) or a hydrogen iodide / iodine system. After synthesizing a block copolymer by a so-called living polymerization reaction such as a reaction, a photopolymerization reaction using a porphyrin metal complex as a catalyst, or a group transfer polymerization reaction, a hydrolysis reaction, a hydrogenolysis reaction, and a polar group-protected functional group are performed. A deprotection reaction such as an oxidative decomposition reaction or a photodecomposition reaction is performed to form a polar group. One example is shown in the following reaction formula (I).
【0083】[0083]
【化34】 Embedded image
【0084】また、マクロモノマー部(MA )及び(M
B )に相当するマクロモノマー、及び、これらマクロモ
ノマー部の少なくとも1種を含むAB型あるいはABA
型ブロック共重合体は、各々、従来公知の重合方法に従
って合成することができる。これらのマクロモノマー
は、例えば、有機金属化合物(例えばアルキルリチウム
類、リチウムジイソプロピルアミド、アルキルマグネシ
ウムハライド類等)あるいはヨウ化水素/ヨウ素系等に
よるイオン重合反応で、ポルフィリン金属錯体を触媒と
する光重合反応、グループ移動重合反応、ジチオカーバ
メート化合物、ジチオザンテート化合物等を開始剤とし
た光イニシエーター重合法あるいは、重合性二重結合基
を導入可能な官能基を含有した、ラジカル重合開始剤
(例えば、アゾビス化合物、過酸化物)・連鎖移動剤
(例えばメルカプト化合物、ヨード化合物)を用いたラ
ジカル重合反応等の公知のいわゆる従来公知の重合法で
重量平均分子量2×104 以下の重合体を合成した後
に、該重合体主鎖の片末端に種々の試薬を反応させて、
重合性二重結合基を導入することで合成することができ
る。Further, the macromonomer portions (M A ) and (M
B ) a macromonomer corresponding to AB) and an AB-type or ABA
Each of the block copolymers can be synthesized according to a conventionally known polymerization method. These macromonomers are, for example, photopolymerized by a porphyrin metal complex as a catalyst by an ionic polymerization reaction using an organometallic compound (eg, alkyl lithiums, lithium diisopropylamide, alkyl magnesium halides, etc.) or a hydrogen iodide / iodine system. Reaction, group transfer polymerization reaction, photoinitiator polymerization method using dithiocarbamate compound, dithioxanthate compound, etc. as an initiator, or radical polymerization initiator containing a functional group capable of introducing a polymerizable double bond group (for example, Azobis compound, peroxide) and a polymer having a weight average molecular weight of 2 × 10 4 or less by a known so-called conventional polymerization method such as a radical polymerization reaction using a chain transfer agent (for example, a mercapto compound or an iodine compound). After that, by reacting various reagents on one end of the polymer main chain,
It can be synthesized by introducing a polymerizable double bond group.
【0085】例えば、P. Lutz, P. Masson etal, Poly
m. Bull.,12、79(1984)B.C. Anderson, G.
D. Andrews etal, Macromolecules, 14、1601
(1981)K. Hatada, K. Ute. etal, Polym. J.1
7、977(1985)、18、1037(198
6)、右手浩一、畑田耕一、高分子加工、36、366
(1987)東村敏延、沢本光男、高分子論文集、4
6、189(1989)M. Kuroki,T. Aida, T. Am. Ch
em. Soc. 109、4737(1987)、相田卓三、
井上祥平、有機合成化学、43、300(1985)D.
Y. Sogah, W. R. Hertler etal, Macromolecules,2
0、1473(1987)、大津隆行、高分子、37、
248(1988)、檜森俊一、大津隆一、Polym. Re
p. Jap.37、3508(1988)、特開昭64−1
11号、特開昭64−26619号等に記載の合成方法
に従って容易にリビングポリマーを合成することができ
る。ラジカル重合反応を用いる例としては、Y. Yamashi
ta, J. Appl. Polym. Sci,Appl. Polym. Symp.36、1
93(1981)、K. K. Roy, etal, Makromol. Chem.
153、71(1972)、Y. Yamashita etal, Poly
m. J., 14、255(1982)、上田明、永井進、
科学と工業、60、57(1986)等に記載の合成方
法が挙げられる。又、重合体主鎖の末端に重合性二重結
合基を導入する方法は、従来公知の方法でありうる。For example, P. Lutz, P. Masson etal, Poly
m. Bull.,12, 79 (1984) B.C.Anderson, G.
D. Andrews etal, Macromolecules,14, 1601
(1981) K. Hatada, K. Ute. Etal, Polym. J.1
7977 (1985),18, 1037 (198
6), Koichi Ute, Koichi Hatada, Polymer Processing,36, 366
(1987) Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Polymer Papers,4
6189 (1989) M. Kuroki, T. Aida, T. Am. Ch.
em. Soc.109, 4737 (1987), Takuzo Aida,
Shohei Inoue, Synthetic Organic Chemistry,43, 300 (1985) D.
Y. Sogah, W. R. Hertler etal, Macromolecules,2
0, 1473 (1987), Takayuki Otsu, Polymer,37,
248 (1988), Shunichi Hinomori, Ryuichi Otsu, Polym. Re
p. Jap.373508 (1988);
No. 11, the synthesis method described in JP-A-64-26619 and the like.
The living polymer can be easily synthesized according to
You. For an example using a radical polymerization reaction, see Y. Yamashi
ta, J. Appl. Polym. Sci, Appl. Polym. Symp.36, 1
93 (1981), K. K. Roy, etal, Makromol. Chem.
153, 71 (1972), Y. Yamashita etal, Poly
m. J.,14255 (1982), Akira Ueda, Susumu Nagai,
Science and industry,60, 57 (1986), etc.
Law. In addition, a polymerizable double bond is attached to the terminal of the polymer main chain.
A method for introducing a combined group may be a conventionally known method.
【0086】具体的には、P. Dreyfuss & R. P. Quirk,
Encycl, Polym. Sci. Eng.,7、51(1987)、P.
F. Rempp, E. Franta, Adu., Polym. Sci. 58、1
(1984)、V. Per-cec, Appl., Polym. Sci., 28
5、95(1984)、R. Asami, M. TakaRi, Makvamo
l. Chem. Suppl. 12、163(1985)、P. Remp
p. etal, Makvamol. Chem. Suppl.8、3(1984)
川上雄資、化学工業、38、56(1987)、山下雄
也、高分子、31、988(1982)、小林四郎、高
分子、30、625(1981)、東村敏延、日本接着
協会誌、18、536(1982)、伊藤浩一、高分子
加工、35、262(1986)、東貴四郎、津田隆、
機能材料、1987 No.10、山下雄也編「マクロモノ
マーの化学と工業」第2章、アイピーシー出版部(19
89年刊)等の総説及びそれに引例の文献・特許等に記
載の方法に従って合成することができる。又、上記マク
ロモノマーにおいて、前記した、特定の極性基を含有す
る重合体成分を含有する場合には、該極性基を予め保護
した官能基とした単量体を用いて、重合反応及び重合性
二重結合基の導入反応を行なった後、保護基の脱離を行
なうことで容易に合成することができる。Specifically, P. Dreyfuss & RP Quirk,
Encycl, Polym. Sci. Eng., 7 , 51 (1987), P.
F. Rempp, E. Franta, Adu., Polym. Sci. 58 , 1
(1984), V. Per-cec, Appl., Polym. Sci., 28
5 , 95 (1984), R. Asami, M. TakaRi, Makvamo
l. Chem. Suppl. 12 , 163 (1985), P. Remp
p. etal, Makvamol. Chem. Suppl. 8 , 3 (1984)
Yusuke Kawakami, Chemical Industry, 38 , 56 (1987), Yuya Yamashita, Polymer, 31 , 988 (1982), Shiro Kobayashi, Polymer, 30 , 625 (1981), Toshinobu Higashimura, Journal of the Adhesive Society of Japan, 18, 536 (1982), Koichi Ito, Polymer Processing, 35 , 262 (1986), Kishiro Higashi, Takashi Tsuda,
Functional Materials, 1987 No. 10, edited by Yuya Yamashita, “Chemistry and Industry of Macromonomers”, Chapter 2, IPC Publishing (19
1989) and the methods described in the references and patents cited therein. Further, in the above-mentioned macromonomer, when a polymer component containing a specific polar group is contained, a polymerization reaction and polymerizable The compound can be easily synthesized by removing the protecting group after the introduction reaction of the double bond group.
【0087】本発明の特定の極性基を保護する保護基及
びその保護基の脱離(脱保護反応)については、従来公
知の知見を利用して容易に行なうことができる。例えば
前記した引用文献にも種々記載されており、更には、岩
倉義男、栗田恵輔、「反応性高分子」(株)講談社刊
(1977年)、T. W. Greene「Protective Groups in
Organic Synthesis」,John Wiley & Sons(1981
年)、J. F. W. McOmie,「Protective Groups in Organ
ic Chemistry」Plenum Press, (1973年)等の総説
に詳細に記載されている方法を適宜選択して行なうこと
ができる。樹脂(P4 )は、イオン重合反応、グループ
移動重合反応、金属ポルフィリン重合反応、光イニシエ
ーター法重合反応等の公知のいわゆるリビング重合反応
により、容易に製造することもできる。更には、上田
明、永井進、等、高分子論文集、33 131(197
6)同、科学と工業、64、446(1990)等に記
載の高分子アゾ開始剤を用いたラジカル共重合反応等に
よっても製造することができる。The protecting group for protecting the specific polar group of the present invention and the elimination of the protecting group (deprotection reaction) can be easily carried out by utilizing conventionally known knowledge. For example, various descriptions are given in the above-cited references, and furthermore, Yoshio Iwakura and Keisuke Kurita, "Reactive Polymers", published by Kodansha (1977), TW Greene "Protective Groups in"
Organic Synthesis ", John Wiley & Sons (1981
JFW McOmie, "Protective Groups in Organ
ic Chemistry ", Plenum Press, (1973) and the like. The resin (P 4 ) can be easily produced by a known so-called living polymerization reaction such as an ionic polymerization reaction, a group transfer polymerization reaction, a metal porphyrin polymerization reaction, and a photoinitiator polymerization reaction. Furthermore, Akira Ueda, Susumu Nagai, et al., Journal of Polymers, 33 131 (197
6) It can also be produced by a radical copolymerization reaction using a high-molecular azo initiator described in Scientific and Industrial Science, 64 , 446 (1990) and the like.
【0088】<樹脂(Q)>以下、樹脂(Q)、即ち樹
脂(Q1 )及び(Q2 )について詳説する。 (樹脂(Q1 ))上記のように、樹脂(Q1 )は、前記
一般式(I)で示されるモノマーと、特定の極性基含有
の一官能性マクロモノマー(MC )とを少なくとも1種
含有するグラフト型の共重合体から成る樹脂であること
を特徴とする。樹脂(Q1 )の重量平均分子量は1×1
03 〜2×104 、好ましくは3×103 〜1×104
であり、樹脂(Q1 )のガラス転移点は、好ましくは1
20℃以下であり、より好ましくは90℃以下である。
樹脂(Q1 )の分子量が1×103 より小さくなるかあ
るいは2×104 より大きくなると、本発明の樹脂であ
っても、静電特性の低下を生じ、本発明の効果がなくな
ってしまう。又、樹脂(Q1 )に供されるマクロモノマ
ー(MC )とは、特定の極性基を少なくとも1種含有し
ており、該極性基の樹脂(Q1 )中における含有量とし
ては0.5〜15重量%、好ましくは1〜10重量%であ
る。上記所定量の範囲を越えると、静電特性(特に、暗
減衰保持率及び光感度)の低下を招き、更に又、特に近
赤外〜赤外分光増感色素を用いた感光体において、高温
・高湿、低温・低湿の苛酷な条件下での暗減衰保持率及
び光感度の変動が多少大きくなり安定した複写画像が得
られるという本発明の効果が薄れてしまう。<Resin (Q)> The resin (Q), that is, the resins (Q 1 ) and (Q 2 ) will be described in detail below. (Resin (Q 1 )) As described above, the resin (Q 1 ) comprises at least one monomer represented by the general formula (I) and a specific polar group-containing monofunctional macromonomer (M C ). It is characterized by being a resin comprising a graft-type copolymer containing seeds. The weight average molecular weight of the resin (Q 1 ) is 1 × 1
0 3 to 2 × 10 4 , preferably 3 × 10 3 to 1 × 10 4
And the glass transition point of the resin (Q 1 ) is preferably 1
It is 20 ° C. or lower, more preferably 90 ° C. or lower.
If the molecular weight of the resin (Q 1 ) is smaller than 1 × 10 3 or larger than 2 × 10 4 , even if the resin of the present invention is used, the electrostatic properties are reduced and the effect of the present invention is lost. . Further, the resin macromonomers to be used in the (Q 1) (M C) , the specific polar group and contains at least one, as a content in the resin (Q 1) in the polar group 0. It is 5 to 15% by weight, preferably 1 to 10% by weight. If the amount exceeds the above range, the electrostatic properties (particularly, the dark decay retention and the photosensitivity) are reduced, and the photoreceptor using the near-infrared to infrared spectral sensitizing dye has a high temperature. The fluctuations in the dark decay retention and the light sensitivity under severe conditions of high humidity, low temperature and low humidity are slightly increased, and the effect of the present invention that a stable copied image is obtained is weakened.
【0089】次に樹脂(Q1 )に中に30重量%以上含
有される、前記一般式(I)で示される繰り返し単位に
相当するモノマーを更に説明する。b1 及びb2 は、好
ましくは各々水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原
子、臭素原子)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、−COOZ4 又は−Z2 −COOZ4 (ここで、
Z4 は水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基、アル
ケニル基、アラルキル基、脂環式基又はアリール基を表
し、これらは置換されていてもよく、具体的には、下記
R3 について説明したものと同様の内容を表わし、Z2
は炭化水素基を表す)を表す。Next, the monomer corresponding to the repeating unit represented by formula (I), which is contained in the resin (Q 1 ) in an amount of 30% by weight or more, will be further described. b 1 and b 2 each preferably represent a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a chlorine atom or a bromine atom), a cyano group, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.). ), -COOZ 4 or -Z 2 -COOZ 4 (where,
Z 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group or an aryl group, which may be substituted, specifically, the following R 3 described represent same contents as those, Z 2
Represents a hydrocarbon group).
【0090】R3 は、好ましくは炭素数1〜18の置換
されてもよいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オク
チル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラ
デシル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、
2−シアノエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メ
トキシエチル基、2−エトキシエチル基、3−ヒドロキ
シプロピル基等)、炭素数2〜18の置換されてもよい
アルケニル基(例えばビニル基、アリル基、イソプロペ
ニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オ
クテニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいア
ラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、ナフチ
ルメチル基、2−ナフチルエチル基、メトキシベンジル
基、エトキシベンジル基、メチルベンジル基等)、炭素
数5〜8の置換されていてもよいシクロアルキル基(例
えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプ
チル基等)、炭素数6〜12の置換されていてもよいア
リール基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、
ナフチル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル
基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、ブロ
モフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル
基、ヨードフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、エトキシカルボニルフェニル基、シアノフェニル基
等)等が挙げられる。R 3 is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, a methyl group, an ethyl group,
Propyl, butyl, pentyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, 2-chloroethyl, 2-bromoethyl,
A 2-cyanoethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 2-methoxyethyl group, a 2-ethoxyethyl group, a 3-hydroxypropyl group, etc., and an optionally substituted alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms (eg, a vinyl group, an allyl group) Group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, heptenyl group, octenyl group, etc.) and optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group) , A methoxybenzyl group, an ethoxybenzyl group, a methylbenzyl group, etc.), an optionally substituted cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms (eg, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, etc.), Optionally substituted aryl groups (eg phenyl, tolyl, xylyl,
Naphthyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, fluorophenyl, difluorophenyl, bromophenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, iodophenyl, methoxycarbonylphenyl, ethoxycarbonylphenyl, cyanophenyl, etc.) No.
【0091】このような置換基R3 を有する成分である
一般式(I)で示される構成単位において、より好まし
くは下記一般式(Ia)及び/又は(Ib)で示される
構成単位に相当するモノマーが挙げられる。The structural unit represented by the general formula (I), which is a component having the substituent R 3 , more preferably corresponds to the structural unit represented by the following general formulas (Ia) and / or (Ib) Monomers.
【0092】[0092]
【化35】 Embedded image
【0093】[0093]
【化36】 Embedded image
【0094】式(Ia)において、好ましいA1 及びA
2 としては、互に独立に各々水素原子、塩素原子及び臭
素原子の他に、炭素数1〜10の炭化水素基として、好
ましくは炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基等)、炭素数7〜9の
アラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、3−
フェニルプロピル基、クロロベンジル基、ジクロロベン
ジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、メトキ
シベンジル基、クロロメチルベンジル基)及びアリール
基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ブロモ
フェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、
ジクロロフェニル基)、並びに−COR 15及び−COO
R15(好ましいR15としては上記の炭素数1〜10の好
ましい炭化水素基として記載したものを挙げることがで
きる)を挙げることができる。In the formula (Ia), preferred A1And A
TwoAre independently a hydrogen atom, a chlorine atom and a odor
In addition to elemental atoms, preferred are hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms.
Preferably, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group,
Ethyl group, propyl group, butyl group, etc.)
Aralkyl groups (e.g., benzyl, phenethyl, 3-
Phenylpropyl group, chlorobenzyl group, dichloroben
Zyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxy
Cibenzyl group, chloromethylbenzyl group) and aryl
Groups (eg, phenyl, tolyl, xylyl, bromo
Phenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group,
Dichlorophenyl group), and -COR FifteenAnd -COO
RFifteen(Preferred RFifteenAre preferably those having 1 to 10 carbon atoms as described above.
Preferred hydrocarbon groups are listed below.
Cut).
【0095】式(Ia)及び(Ib)において、B1 及
びB2 は好ましくは各々−COO−とベンゼン環を結合
する単結合又は−(CH2)g −(gは1〜3の整数を表
す)、−CH2 OCO−、−CH2 CH2 OCO−、−
(CH2 O) h −(hは1又は2の整数を表す)、−C
H2 CH2 O−等の如き連結原子数1〜4個の連結基で
あり、より好ましくは1〜2個の連結基を挙げることが
できる。本発明の樹脂(Q1)で用いられる式(Ia)及
び(Ib)で示される構成単位の具体例を以下に挙げ
る。しかし、本発明の範囲はこれに限定されるものでは
ない。以下の(a−1)〜(a−20)において、cは
1〜4の整数、dは0又は1〜3の整数、eは1〜3の
整数、R16はいずれも−Cc H2c+1 又は−(CH2) d −
C6 H5 (ただし、c、dは各々上記と同じ)を表し、
D1 及びD2 は同じでも異なってもよく、水素原子、−
Cl、−Br、−Iのいずれかを表す。In the formulas (Ia) and (Ib), B1Passing
And BTwoPreferably binds each of -COO- and a benzene ring
A single bond or-(CHTwo)g-(G represents an integer of 1 to 3
), -CHTwoOCO-, -CHTwoCHTwoOCO-,-
(CHTwoO)h-(H represents an integer of 1 or 2), -C
HTwoCHTwoA linking group having 1 to 4 linking atoms such as O-
And more preferably 1 to 2 linking groups
it can. The resin of the present invention (Q1Formula (Ia) and
Specific examples of the structural unit represented by (Ib) and (Ib) are shown below.
You. However, the scope of the present invention is not limited to this.
Absent. In the following (a-1) to (a-20), c is
An integer of 1 to 4, d is 0 or an integer of 1 to 3, e is 1 to 3
Integer, R16Are all -CcH2c + 1Or-(CHTwo) d−
C6HFive (Where c and d are the same as above),
D1And DTwoMay be the same or different, a hydrogen atom,-
Represents any of Cl, -Br and -I.
【0096】[0096]
【化37】 Embedded image
【0097】[0097]
【化38】 Embedded image
【0098】[0098]
【化39】 Embedded image
【0099】次に低分子量の樹脂(Q1)に供される一官
能性マクロモノマー(MC )について詳しく説明する。
一官能性マクロモノマー(MC )は、一般式(II)で示
される重合性二重結合基を、特定の極性基を少なくとも
1種含有する重合成分を少なくとも1種含有して成る重
合体主鎖の一方の末端にのみ結合して成る、重量量平均
分子量1×10 4 以下のものである。Next, a low molecular weight resin (Q1)
Functional macromonomer (MC) Will be described in detail.
Monofunctional macromonomer (MC) Is represented by the general formula (II)
At least a specific polar group
A polymer containing at least one kind of polymerization component
Weight average, consisting of only one end of the merging backbone
Molecular weight 1 × 10 FourThese are:
【0100】重合性二重結合基を示す一般式(II)にお
いて、V1 は−COO−、−OCO−、−CH2 OCO
−、−CH2 COO−、−O−、−SO2 −、−CO
−、−CONHCOO−、−CONHCONH−、−C
ONHSO2 −、−CON(T 1 )−、−SO2 N(T
1 )−又は−C6 H4 −を表わす。ここで、T1 は水素
原子のほか、好ましい炭化水素基としては、炭素数1〜
18の置換されてもよいアルキル基(例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサ
デシル基、オクタデシル基、2−クロロエチル基、2−
ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−メトキシカ
ルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、3−ブロモ
プロピル基等)、炭素数4〜18の置換されてもよいア
ルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロペニル基、
2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メチル−2−
ペンテニル基、1−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、
2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセニル基
等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル基
(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプ
ロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基、
クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル
基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメチル
ベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数5〜8
の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘキシル
基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペンチル
エチル基等)又は炭素数6〜12の置換されてもよい芳
香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、
キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、
オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフ
ェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、
デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロ
フェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、ア
セチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エ
トキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェ
ニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフェ
ニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)が挙げられ
る。In the general formula (II) showing a polymerizable double bond group,
And V1Is -COO-, -OCO-, -CHTwoOCO
-, -CHTwoCOO-, -O-, -SOTwo-, -CO
-, -CONHCOO-, -CONHCONH-, -C
ONHSOTwo-, -CON (T 1)-, -SOTwoN (T
1)-Or -C6HFourRepresents-. Where T1Is hydrogen
In addition to atoms, preferred hydrocarbon groups include those having 1 to 1 carbon atoms.
18 optionally substituted alkyl groups (eg, methyl
Group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group,
Xyl, octyl, decyl, dodecyl, hexa
Decyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-
Bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxyca
Rubonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromo
Propyl group etc.), and optionally substituted C 4-18
Lucenyl group (for example, 2-methyl-1-propenyl group,
2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-
Pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group,
2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group
Etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms
(E.g., benzyl, phenethyl, 3-phenyl
Ropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group,
Chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl
Group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethyl
Benzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), having 5 to 8 carbon atoms
Optionally substituted alicyclic group (for example, cyclohexyl
Group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentyl
Ethyl group) or a substituted or unsubstituted group having 6 to 12 carbon atoms.
Aromatic groups (eg, phenyl, naphthyl, tolyl,
Xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group,
Octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl
Phenyl, ethoxyphenyl, butoxyphenyl,
Decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichloro
Phenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group,
Cetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, d
Toxylcarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl
Nyl group, acetamidophenyl group, propioamidophen
Nyl group, dodecylylamidophenyl group, etc.)
You.
【0101】V1 が−C6 H4 −を表わす場合、ベンゼ
ン環は置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲ
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
クロロメチル基、メトキシメチル基等)、アルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブ
トキシ基等)等が挙げられる。好ましくは、b3 及びb
4 は、互いに同じでも異なっていてもよく、水素原子、
ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子等)、シア
ノ基、炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基等)、−COOZ1 又は
−Z2 −COOZ1 (Z1 は、水素原子又は炭素数1〜
18のアルキル基、アルケニル基、脂環式基又はアリー
ル基を表し、これらは置換されていてもよく、具体的に
は、前記T1 について説明したものと同様の内容を表
し、Z2 は前記と同様の意味を有する)を表す。Z2 と
しては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が挙
げられる。更に好ましくは、一般式(II) において、V
1 は−COO−、−OCO−、−CH2 OCO−、−C
H2 COO−、−O−、−CONHCOO−、−CON
HCONH−、−CONH−、−SO2 NH−又は−C
6 H4 −を表わし、b3 及びb4 は互いに同じでも異な
っていてもよく、水素原子、メチル基、−COOZ 1 又
は−CH2 COOZ1 〔Z1 は水素原子又は炭素数1〜
6のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基等)を表す〕を表し、更によ
り好ましくは、b3 及びb4 においていずれか一方が水
素原子を表す。V1Is -C6HFour-Represents Benze
The ring may have a substituent. As a substituent, halogen
Atom (for example, chlorine atom, bromine atom, etc.), alkyl group
(E.g., methyl, ethyl, propyl, butyl,
Chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), alkoxy group
(For example, methoxy, ethoxy, propoxy,
And the like). Preferably, bThreeAnd b
FourMay be the same or different from each other, and represent a hydrogen atom,
Halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, etc.), shea
And an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group,
Tyl, propyl, butyl, etc.), -COOZ1Or
-ZTwo-COOZ1(Z1Is a hydrogen atom or carbon number 1
18 alkyl groups, alkenyl groups, alicyclic groups or aryl
And these may be substituted, and specifically,
Is the T1Display the same contents as described for
Then ZTwoHas the same meaning as described above). ZTwoWhen
Examples include methylene, ethylene, and propylene.
I can do it. More preferably, in the general formula (II), V
1Is -COO-, -OCO-, -CHTwoOCO-, -C
HTwoCOO-, -O-, -CONHCOO-, -CON
HCONH-, -CONH-, -SOTwoNH- or -C
6HFour-, BThreeAnd bFourAre the same but different
A hydrogen atom, a methyl group, -COOZ 1or
Is -CHTwoCOOZ1[Z1Is a hydrogen atom or carbon number 1
6 alkyl groups (for example, methyl group, ethyl group, propyl
Group, butyl group, hexyl group, etc.).
More preferably, bThreeAnd bFourOne of which is water
Represents an elementary atom.
【0102】即ち、一般式(II)で表される重合性二重
結合基としては、CH2 =CHCO−、CH2 =C(C
H3 )COO−、CH(CH3 )=CHCOO−、CH
2 =C(CH2 COOCH3 )COO−、CH2 =C
(CH2 COOH)COO−、CH2 =CHCONH
−、CH2 =C(CH3 )CONH−、C(CH3 )H
=CHCONH−、CH2 =CHOCO−、CH2 =C
HCH2 OCO−、CH2=CHO−、CH2 =C(C
OOH)CH2 COO−、CH2 =C(COOCH 3 )
CH2 COO−、CH2 =C(CH3 )CONHCOO
−、CH2 =C(CH3 )CONHCONH−、CH2
=CH−C6 H4 −等を挙げることができる。That is, the polymerizable double represented by the general formula (II)
As the linking group, CHTwo= CHCO-, CHTwo= C (C
HThree) COO-, CH (CHThree) = CHCOO-, CH
Two= C (CHTwoCOOCHThree) COO-, CHTwo= C
(CHTwoCOOH) COO-, CHTwo= CHCONH
-, CHTwo= C (CHThree) CONH-, C (CHThree) H
= CHCONH-, CHTwo= CHOCO-, CHTwo= C
HCHTwoOCO-, CHTwo= CHO-, CHTwo= C (C
OOH) CHTwoCOO-, CHTwo= C (COOCH Three)
CHTwoCOO-, CHTwo= C (CHThree) CONHCOO
-, CHTwo= C (CHThree) CONHCONH-, CHTwo
= CH-C6HFour-And the like.
【0103】本発明のマクロモノマー(MC )は、その
重合体主鎖の共重合成分として、特定の極性基(−CO
OH基、−PO3 H2 基、−SO3 H基、−OH基、−
CHO基、−PO(OH)R1 基及び環状酸無水物基)
から選ばれる極性基少なくとも1種含有した付加重合性
共重合成分である。ここで、−PO(OH)R1 基のR
1 は炭化水素基又は−OR2 基(R2 は炭化水素基を表
す)を表し、具体的にはR1 は置換されていてもよい炭
素数1〜22の脂肪族基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシ
ル基、ドデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチル
基、2−メトキシエチル基、3−エトキシプロピル基、
アリル基、クロトニル基、ブテニル基、シクロヘキシル
基) 、置換されていてもよい炭素数7〜22のアラルキル
基 (例えばベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプ
ロピル基、メチルベンジル基、クロロベンジル基、フル
オロベンジル基、メトキシベンジル基等)、又は置換さ
れてもよい炭素数6〜22のアリール基(例えばフェニル
基、トリル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル
基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、クロロ−メチル−フェニル基、ジクロロフェ
ニル基、メトキシフェニル基、シアノフェニル基、アセ
トアミドフェニル基、アセチルフェニル基、ブトキシフ
ェニル基等)等であり、R2 はR1 と同一の内容を表
す。The macromonomer (M C ) of the present invention has a specific polar group (—CO
OH group, -PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -OH group, -
CHO group, -PO (OH) R 1 group and cyclic acid anhydride group)
And an addition-polymerizable copolymer component containing at least one polar group selected from the group consisting of: Here, R of —PO (OH) R 1 group
1 represents a hydrocarbon group or an —OR 2 group (R 2 represents a hydrocarbon group). Specifically, R 1 is an optionally substituted aliphatic group having 1 to 22 carbon atoms (eg, a methyl group, Ethyl group,
Propyl, butyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, octadecyl, 2-chloroethyl, 2-methoxyethyl, 3-ethoxypropyl,
An allyl group, a crotonyl group, a butenyl group, a cyclohexyl group), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 22 carbon atoms (e.g., benzyl, phenethyl, 3-phenylpropyl, methylbenzyl, chlorobenzyl, fluoro) A benzyl group, a methoxybenzyl group or the like, or an optionally substituted aryl group having 6 to 22 carbon atoms (eg, phenyl, tolyl, ethylphenyl, propylphenyl, chlorophenyl, fluorophenyl, bromophenyl, A chloro-methyl-phenyl group, a dichlorophenyl group, a methoxyphenyl group, a cyanophenyl group, an acetamidophenyl group, an acetylphenyl group, a butoxyphenyl group, and the like, and R 2 represents the same content as R 1 .
【0104】また、環状酸無水物基としては、脂肪族ジ
カルボン酸無水物、芳香族ジカルボン酸無水物が挙げら
れる。脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハク
酸無水物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物
環、シクロペンタン−1,2−ジカルボン酸無水物環、
シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シク
ロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2,3−
ビシクロ〔2,2,2〕オクタジカルボン酸無水物環等
が挙げられ、これらの環は、例えば塩素原子、臭素原子
等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘ
キシル基等のアルキル基等で置換されていてもよい。ま
た、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸
無水物、ナフタレン−ジカルボン酸無水物、ピリジン−
ジカルボン酸無水物、チオフェン−ジカルボン酸無水物
等が挙げられ、これらの化合物は、例えば塩素原子、臭
素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシル基、シア
ノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基(アルコキシ
基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基等)等で置
換されていてもよい。The cyclic acid anhydride groups include aliphatic dicarboxylic acid anhydrides and aromatic dicarboxylic acid anhydrides. Examples of the aliphatic dicarboxylic anhydride include a succinic anhydride ring, a glutaconic anhydride ring, a maleic anhydride ring, a cyclopentane-1,2-dicarboxylic anhydride ring,
Cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride ring, 2,3-
Bicyclo [2,2,2] octadicarboxylic anhydride rings and the like. These rings are, for example, halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, and alkyl groups such as methyl group, ethyl group, butyl group and hexyl group. And so on. Examples of the aromatic dicarboxylic anhydride include phthalic anhydride, naphthalene-dicarboxylic anhydride, and pyridine-
Examples thereof include dicarboxylic anhydrides, thiophene-dicarboxylic anhydrides, and the like. These compounds include, for example, chlorine atoms, halogen atoms such as bromine atoms, methyl groups, ethyl groups, propyl groups, alkyl groups such as butyl groups, and hydroxyl groups. , A cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group (for example, a methoxy group, an ethoxy group and the like as the alkoxy group) and the like.
【0105】以上の様な特定の極性基を含有する共重合
成分は、他の共重合し得る上記極性基含有ビニル系化合
物に相当するものであればいずれでも用いることができ
る。例えば、高分子学会編「高分子データ・ハンドブッ
ク(基礎編〕」培風館(1986年刊)等に記載されて
いる。具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換ア
クリル酸(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメ
チル体、α−(2−アミノ)エチル体、α−クロロ体、
α−ブロモ体、α−フルオロ体、α−トリブチルシリル
体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−
クロロ−β−メトキシ体、α,β−ジクロロ体等)、メ
タクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イ
タコン酸半アミド類、クロトン酸、2−アルケニルカル
ボン酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘ
キセン酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン
酸、4−エチル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マ
レイン酸半エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニル
ベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニ
ルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボン酸類のビ
ニル基又はアリル基の半エステル誘導体及びこれらのカ
ルボン酸又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導
体の置換基中に該極性基を含有する化合物等に相当する
構成単位が挙げられる。As the copolymer component containing a specific polar group as described above, any copolymer component which can be copolymerized with the polar group-containing vinyl compound can be used. For example, it is described in “Polymer Data Handbook (Basic Edition)” edited by The Society of Polymer Science, Baifukan (1986), etc. Specifically, acrylic acid, α- and / or β-substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy) Form, α-acetoxymethyl form, α- (2-amino) ethyl form, α-chloro form,
α-bromo, α-fluoro, α-tributylsilyl, α-cyano, β-chloro, β-bromo, α-
Chloro-β-methoxy, α, β-dichloro, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid semiamides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (for example, 2-pentenoic acid, -Methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinylbenzene Carboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, half-ester derivatives of vinyl or allyl groups of dicarboxylic acids, and the polar groups in the substituents of ester derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids and amide derivatives And a structural unit corresponding to a compound or the like.
【0106】以下に極性基含有の共重合成分について例
示する。ここで、b1 はH又はCH 3 を示し、b2 は
H、CH3 又はCH2 COOCH3 を示し、R17は炭素
数1〜4のアルキル基を示し、R18は炭素数1〜6のア
ルキル基、ベンジル基又はフェニル基を示し、fは1〜
3の整数を示し、gは2〜11の整数を示し、hは1〜
11の整数を示し、iは2〜4の整数を示し、jは2〜
10の整数を示す。Examples of the copolymer component containing a polar group are described below.
Show. Where b1Is H or CH ThreeAnd bTwoIs
H, CHThreeOr CHTwoCOOCHThreeAnd R17Is carbon
R 1 represents an alkyl group represented by Formulas 1 to 4,18Is a group having 1 to 6 carbon atoms.
Represents a alkyl group, a benzyl group or a phenyl group, and f is 1 to
3 represents an integer, g represents an integer of 2 to 11, and h represents 1 to
11 represents an integer, i represents an integer of 2 to 4, and j represents 2 to
Indicates an integer of 10.
【0107】[0107]
【化40】 Embedded image
【0108】[0108]
【化41】 Embedded image
【0109】[0109]
【化42】 Embedded image
【0110】[0110]
【化43】 Embedded image
【0111】[0111]
【化44】 Embedded image
【0112】[0112]
【化45】 Embedded image
【0113】[0113]
【化46】 Embedded image
【0114】本発明のマクロモノマー(MC )は、前記
特定の極性基含有成分とともに、他の共重合成分を含有
する。該共重合成分としては、下記一般式(VI)の構成
単位が含まれる。The macromonomer (M C ) of the present invention contains another copolymerization component together with the specific polar group-containing component. The copolymer component includes a structural unit represented by the following general formula (VI).
【0115】[0115]
【化47】 Embedded image
【0116】一般式(VI)において、V4 は−COO
−、−OCO−、−(CH2 )m OCO−、−(C
H2 )m COO−(mは1〜3の整数を表す)、−O
−、−SO2−、−CO−、−CON(T1 )−、−S
O2 N(T1 )−、−CONHCOO−、−CONHC
ONH−又は−C6 H4 −を表わす(ここで、T1 は前
記と同様の意味を有する) 。R19は炭化水素基を表す。
但し、一般式(VI)中のV4 が−C6 H4 −を表わす場
合、R19は水素原子又は炭化水素基を表す。好ましい炭
化水素基としては、炭素数1〜22の置換されてもよい
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシ
ル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、2−クロロエチル基、2−ブロモ
エチル基、2−シアノエチル基、2−メトキシカルボニ
ルエチル基、2−メトキシエチル基、3−ブロモプロピ
ル基等)、炭素数4〜18の置換されていてもよいアル
ケニル基(例えば、2−メチル−1−プロペニル基、2
−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メチル−2−ペ
ンテニル基、1−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、2
−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセニル基等)、
炭素数7〜12の置換されていてもよいアラルキル基
(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプ
ロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基、
クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル
基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメチル
ベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数5〜8
の置換されていてもよい脂環式基(例えば、シクロヘキ
シル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペン
チルエチル基等)、炭素数6〜12の置換されていても
よい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリ
ル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニ
ル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メト
キシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニ
ル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジ
クロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル
基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニ
ルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミ
ドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)が挙
げられる。In the general formula (VI), V 4 represents —COO
-, - OCO -, - ( CH 2) m OCO -, - (C
H 2) m COO- (m is an integer of 1 to 3), - O
-, - SO 2 -, - CO -, - CON (T 1) -, - S
O 2 N (T 1 )-, -CONHCOO-, -CONHC
Represents ONH— or —C 6 H 4 — (where T 1 has the same meaning as described above). R 19 represents a hydrocarbon group.
However, when V 4 in the general formula (VI) represents —C 6 H 4 —, R 19 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferred hydrocarbon groups include alkyl groups having 1 to 22 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group,
Butyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl, 2-chloroethyl, 2-bromoethyl, 2-cyanoethyl, 2-methoxycarbonylethyl, 2 -Methoxyethyl group, 3-bromopropyl group and the like, an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (for example, 2-methyl-1-propenyl group, 2
-Butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2
-Hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.),
An optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group,
Chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), having 5 to 8 carbon atoms
An optionally substituted alicyclic group (e.g., cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.) and an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (e.g., phenyl Group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, A bromophenyl group, a cyanophenyl group, an acetylphenyl group, a methoxycarbonylphenyl group, an ethoxycarbonylphenyl group, a butoxycarbonylphenyl group, an acetamidophenyl group, a propioamidophenyl group, and a dodecyloylamidophenyl group.
【0117】V4 が−C6 H4 −を表わす場合、ベンゼ
ン環は置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲ
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
クロロメチル基、メトキシメチル基等)、アルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブ
トキシ基等)等が挙げられる。好ましくは、b7 及びb
8 は、互いに同じでも異なっていてもよく、水素原子、
ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子等)、シア
ノ基、炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基等)、−COOZ5 又は
−Z2 −COOZ5 (Z5 は、水素原子又は炭素数1〜
18のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環
式またはアリール基を表し、これらは置換されていても
よく、具体的には、上記T1 について説明したものであ
り得、Z 2 は前記と同様の意味を有する)を表す。Z2
としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が
挙げられる。更に好ましくは、一般式(IV) において、
V4 は−COO−、−OCO−、−CH2 OCO−、−
CH2 COO−、−O−、−CONH−、−SO2 NH
−又は−C6 H4 −を表わし、b7 及びb8 は互いに同
じでも異なっていてもよく、水素原子、メチル基、−C
OOZ5 又は−CH2 OOZ5 〔Z5 は好ましくは水素
原子又は炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等)を表
す〕を表す。更に、より好ましくは、b7 及びb8 にお
いていずれか一方が水素原子を表す。VFourIs -C6HFour-Represents Benze
The ring may have a substituent. As a substituent, halogen
Atom (for example, chlorine atom, bromine atom, etc.), alkyl group
(E.g., methyl, ethyl, propyl, butyl,
Chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), alkoxy group
(For example, methoxy, ethoxy, propoxy,
And the like). Preferably, b7And b
8May be the same or different from each other, and represent a hydrogen atom,
Halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, etc.), shea
And an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group,
Tyl, propyl, butyl, etc.), -COOZFiveOr
-ZTwo-COOZFive(ZFiveIs a hydrogen atom or carbon number 1
18 alkyl groups, alkenyl groups, aralkyl groups, alicyclic groups
Represents a formula or an aryl group, which may be substituted
Well, specifically, the above T1It is a description of
, Z TwoHas the same meaning as described above). ZTwo
As methylene group, ethylene group, propylene group, etc.
No. More preferably, in the general formula (IV),
VFourIs -COO-, -OCO-, -CHTwoOCO-,-
CHTwoCOO-, -O-, -CONH-, -SOTwoNH
-Or -C6HFour-, B7And b8Are the same as each other
Hydrogen atom, methyl group, -C
OOZFiveOr -CHTwoOOZFive[ZFiveIs preferably hydrogen
An atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group,
Ethyl, propyl, butyl, hexyl, etc.)
]. Still more preferably, b7And b8In
One of them represents a hydrogen atom.
【0118】これら共重合成分は該マクロモノマー(M
C )の全重合体成分中50〜99重量%であり、好まし
くは70〜95%である。該共重合成分の割合が上記範
囲を越えると、静電特性の低下を生じてしまう。又、該
マクロモノマー(MC )の重合体成分として、更に、他
の重合成分を含有することができ、含有され得る他の重
合体成分として、例えば、一般式(I)で説明した以外
の置換基を含有するメタクリル酸エステル類、アクリル
酸エステル類、クロトン酸エステル類に加え、α−オレ
フィン類、カルボン酸ビニル又はアリル類(例えばカル
ボン酸として、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、安
息香酸、ナフタレンカルボン酸等)、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリル、ビニルエーテル類、イタコン
酸エステル類(例えばジメチルエステル、ジエチルエス
テル等)、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ス
チレン類(例えばスチレン、ビニルトルエン、クロロス
チレン、ヒドロキシスチレン、N,N−ジメチルアミノ
メチルスチレン、メトキシカルボニルスチレン、メタン
スルホニルオキシスチレン、ビニルナフタレン等)、ビ
ニルスルホン含有化合物、ビニルケトン含有化合物、複
素環ビニル類、(例えばビニルピロリドン、ビニルピリ
ジン、ビニルイミダゾール、ビニルチオフェン、ビニル
イミダゾリン、ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、
ビニルキノリン、ビニルテトラゾール、ビニルオキサジ
ン等)等が挙げられる。これら他の単量体は高分子鎖の
全重合体成分中20重量%を越えない範囲で用いられる
ことが好ましい。These copolymer components are the same as those of the macromonomer (M
It is 50 to 99% by weight, preferably 70 to 95% by weight, based on all polymer components of C ). If the proportion of the copolymer component exceeds the above range, the electrostatic properties will be reduced. Further, as a polymer component of the macromonomer (M C ), another polymer component can be further contained. As another polymer component that can be contained, for example, a polymer other than that described in the general formula (I) can be used. In addition to methacrylates, acrylates, crotonic esters containing substituents, α-olefins, vinyl carboxylates or allyls (for example, carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, benzoic acid) Acid, naphthalenecarboxylic acid, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, itaconic esters (eg, dimethyl ester, diethyl ester, etc.), acrylamides, methacrylamides, styrenes (eg, styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, Hydroxystyrene, N, N-dimethylaminomethylstyre , Methoxycarbonylstyrene, methanesulfonyloxystyrene, vinylnaphthalene, etc.), vinylsulfone-containing compounds, vinylketone-containing compounds, heterocyclic vinyls (eg, vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylthiophene, vinylimidazoline, vinylpyrazole, vinyl Dioxane,
Vinylquinoline, vinyltetrazole, vinyloxazine, etc.). These other monomers are preferably used in an amount not exceeding 20% by weight of the total polymer components of the polymer chain.
【0119】(樹脂(Q2 ))結着樹脂(Q2 )の重量
平均分子量は1×103 〜2×104 、好ましくは3×
103 〜1×104 であり、樹脂(Q2 )のガラス転移
点は好ましくは−40℃〜110℃、より好ましくは−
20℃〜90℃である。結着樹脂(Q2 )の分子量が1
×103 より小さくなると、皮膜形成能が低下し充分な
膜強度を保てず、一方分子量が2×104 より大きくな
ると本発明の樹脂であっても、特に近赤外〜赤外分光増
感色素を用いた感光体において、高温・高湿、低温・低
湿の苛酷な条件下での電子写真特性(特に初期電位、暗
減衰保持率及び光感度)の変動が多少大きくなり、安定
した複写画像が得られるという本発明の効果が薄れてし
まう。(Resin (Q 2 )) The binder resin (Q 2 ) has a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 , preferably 3 × 10 3.
10 3 to 1 × 10 4 , and the glass transition point of the resin (Q 2 ) is preferably −40 ° C. to 110 ° C., and more preferably −
20 ° C to 90 ° C. The molecular weight of the binder resin (Q 2 ) is 1
Becomes smaller than × 10 3, can not be maintained a sufficient film strength and decrease film forming ability, whereas the molecular weight is greater than 2 × 10 4 the even resin of the present invention, in particular near-infrared to infrared spectral sensitization In photoreceptors using dye-sensitive dyes, fluctuations in electrophotographic characteristics (especially initial potential, dark decay retention and photosensitivity) under severe conditions of high temperature / high humidity, low temperature / low humidity are somewhat large, and stable copying is possible. The effect of the present invention that an image can be obtained is weakened.
【0120】本発明の結着樹脂(Q2 )において、マク
ロモノマー(MD )と他の単量体(例えば式 (VII)の単
量体)の存在割合は、1〜60/99〜40(重量比)
であり、好ましくは5〜40/95〜60(重量比)で
ある。結着樹脂(Q2 )におけるマクロモノマー含有量
が1.0重量%より少ないと電子写真特性(特に暗減衰
率、光感度)が低下し、又環境条件での電子写真特性の
変動が特に近赤外〜赤外光分光増感色素との組み合わせ
において大きくなる。これはグラフト部となるマクロモ
ノマーが僅かとなることで結果として従来のホモポリマ
ーあるいはランダム共重合体と殆んど同じ組成になって
しまうことによると考えられる。一方マクロモノマーの
含有量が60重量%を越えると、他の共重合成分に相当
する単量体と本発明に従うマクロモノマーとの共重合性
が充分でなくなり、結着樹脂として用いても充分な電子
写真特性が得られなくなってしまう。In the binder resin (Q 2 ) of the present invention, the ratio of the macromonomer (M D ) to the other monomer (for example, the monomer of the formula (VII)) is 1-60 / 99-40. (Weight ratio)
And preferably 5 to 40/95 to 60 (weight ratio). When the content of the macromonomer in the binder resin (Q 2 ) is less than 1.0% by weight, the electrophotographic properties (particularly, dark decay rate and photosensitivity) decrease, and the fluctuation of the electrophotographic properties under environmental conditions is particularly close. It increases in combination with infrared to infrared spectral sensitizing dyes. This is considered to be due to the fact that the composition becomes almost the same as that of a conventional homopolymer or random copolymer due to a small amount of macromonomer serving as a graft portion. On the other hand, when the content of the macromonomer exceeds 60% by weight, the copolymerizability between the monomer corresponding to the other copolymerization component and the macromonomer according to the present invention is not sufficient, and the macromonomer is not sufficiently used as a binder resin. Electrophotographic characteristics cannot be obtained.
【0121】本発明の結着樹脂(Q2 )における、マク
ロモノマー(MD )は極性基含有成分を含有し得る。含
有される極性基含有成分の存在量は、結着樹脂(Q2 )
100重量部中に1〜20重量部であることが好まし
く、より好ましくは3〜15重量部である。即ち、上記
結着樹脂(Q2 )中での極性基の存在割合は、マクロモ
ノマー(MD )中でのAブロックの組成比及び結着樹脂
(Q2 )でのマクロモノマー(MD )の共重合比によっ
て、好ましい比率に調整することができるものである。
結着樹脂(Q2 )における極性基含有量が1重量%より
少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得ること
ができない。一方、該極性基含有量が20重量%よりも
多いと、いかに低分子量体といえども分散性が低下し、
更にオフセットマスターとして用いるときに地汚れが増
大する。The macromonomer (M D ) in the binder resin (Q 2 ) of the present invention may contain a polar group-containing component. The amount of the polar group-containing component contained is determined by the binder resin (Q 2 )
The amount is preferably 1 to 20 parts by weight, more preferably 3 to 15 parts by weight, per 100 parts by weight. That is, the binder resin existing ratio of polar group in (Q 2) in the macromonomer (M D) in the macromonomer (M D) A block of the composition ratio and binder resin in (Q 2) Can be adjusted to a preferable ratio by the copolymerization ratio of
If the content of the polar group in the binder resin (Q 2 ) is less than 1% by weight, a sufficient initial image potential cannot be obtained due to a low initial potential. On the other hand, if the content of the polar group is more than 20% by weight, the dispersibility of even a low molecular weight substance is reduced,
Further, when used as an offset master, background contamination increases.
【0122】本発明のグラフト型共重合体に供される一
官能性マクロモノマー(MD )について更に具体的に説
明する。本発明の結着樹脂(Q2 )における該マクロモ
ノマー(MD )中の共重合体成分は、上記の如く、Aブ
ロックとBブロックとから構成されるが、このAブロッ
ク/Bブロックの存在割合は、好ましくは1〜70/9
9〜30(重量比)であり、より好ましくは3〜50/
97〜50(重量比)である。マクロモノマー(MD )
のAブロックを構成する成分中に含有される極性基とし
ては、−PO3 H2 基、−COOH基、−SO3 H基、
フェノール性OH基、−P(=O)(OH)R1 {R1 は
炭化水素基又は−OR2 (R2 は炭化水素基)基を示
す}基及び/又は環状酸無水物含有基が挙げられ、好ま
しくは、−COOH基、−SO3 H基、フェノール性O
H基又は−P(=O)(OH)R1 基である。The monofunctional macromonomer (M D ) used in the graft copolymer of the present invention will be described more specifically. The copolymer component in the macromonomer (M D ) in the binder resin (Q 2 ) of the present invention is composed of an A block and a B block as described above. The ratio is preferably 1-70 / 9
9 to 30 (weight ratio), more preferably 3 to 50 /
97 to 50 (weight ratio). Macromonomer (M D )
Examples of the polar group contained in the components constituting the A block of, -PO 3 H 2 group, -COOH group, -SO 3 H group,
A phenolic OH group, —P (= O) (OH) R 1 {R 1 represents a hydrocarbon group or —OR 2 (R 2 is a hydrocarbon group) group, and / or a cyclic acid anhydride-containing group. the recited, preferably, -COOH group, -SO 3 H group, a phenolic O
It is an H group or a —P (= O) (OH) R 1 group.
【0123】R1 は炭化水素基又は−OR2(R2 は炭化
水素基を表わす)基を表わし、R1及びR2 は好ましく
は置換されてもよい炭素数1〜22の脂肪族基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル
基、2−クロロエチル基、2−メトキシエチル基、3−
エトキシプロピル基、アリル基、クロトニル基、ブテニ
ル基、シクロヘキシル基)、置換されてもよい炭素数7
〜22のアラルキル基(ベンジル基、フェネチル基、3
−フェニルプロピル基、メチルベンジル基、クロロベン
ジル基、フロロベンジル基、メトキシベンジル基等)又
は置換されていてもよい炭素数6〜22のアリール基
(例えば、フェニル基、トリル基、エチルフェニル基、
プロピルフェニル基、クロロフェニル基、フロロフェニ
ル基、ブロモフェニル基、クロロ−メチル−フェニル
基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル基、シアノ
フェニル基、アセトアミドフェニル基、アセチルフェニ
ル基、ブトキシフェニル基等)等を表わす。また、環状
酸無水物含有基としては、結着樹脂(Q1 )の説明で挙
げたものと同じものが挙げられる。以上の如き「特定の
極性基を含有する重合体成分」は、例えば、本発明のマ
クロモノマー(MD )の他のブロック成分を構成する重
合体成分、即ち一般式(III )で示されるメタクリレー
ト成分等の相当するビニル系化合物と共重合する、該極
性基を含有するビニル系化合物であればいずれでも用い
ることができる。R 1 represents a hydrocarbon group or —OR 2 (R 2 represents a hydrocarbon group), and R 1 and R 2 are preferably an optionally substituted aliphatic group having 1 to 22 carbon atoms. For example, methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, octadecyl, 2-chloroethyl, 2-methoxyethyl, 3-
An ethoxypropyl group, an allyl group, a crotonyl group, a butenyl group, or a cyclohexyl group);
To 22 aralkyl groups (benzyl group, phenethyl group, 3
A phenylpropyl group, a methylbenzyl group, a chlorobenzyl group, a fluorobenzyl group, a methoxybenzyl group or the like, or an optionally substituted aryl group having 6 to 22 carbon atoms (for example, a phenyl group, a tolyl group, an ethylphenyl group,
Propylphenyl, chlorophenyl, fluorophenyl, bromophenyl, chloro-methyl-phenyl, dichlorophenyl, methoxyphenyl, cyanophenyl, acetamidophenyl, acetylphenyl, butoxyphenyl, etc.). Examples of the cyclic acid anhydride-containing group include the same groups as those described in the description of the binder resin (Q 1 ). The “polymer component containing a specific polar group” as described above is, for example, a polymer component constituting another block component of the macromonomer (M D ) of the present invention, that is, a methacrylate represented by the general formula (III) Any vinyl compound containing the polar group and copolymerizing with the corresponding vinyl compound such as a component can be used.
【0124】例えば、高分子学会編「高分子データ・ハ
ンドブック〔基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載
されている。具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ
置換アクリル酸(例えばα−アセトキシ体、α−アセト
キシメチル体、α−(2−アミノ)メチル体、α−クロ
ロ体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシ
リル体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、
α−クロロ−β−メトキシ体、α, β−ジクロロ体
等)、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エステ
ル類、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、2−アルケ
ニルカルボン酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メチル
−2−ヘキセン酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−
ヘキセン酸、4−エチル−2−オクテン酸等)、マレイ
ン酸、マレイン酸半エステル類、マレイン酸半アミド
類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホ
ン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボ
ン酸類のビニル基又はアリル基の半エステル誘導体、及
びこれらのカルボン酸又はスルホン酸のエステル誘導
体、アミド誘導体の置換基中に該極性基を含有する化合
物が挙げられる。これらの化合物の具体例として以下の
ものを挙げることができる。但し、以下の各例におい
て、p1 は−H,−CH3 ,−Cl,−Br,−CN,
−CH2 COOCH3 又は−CH2 COOHを示し、p
2 は−H又は−CH3 を示し、bは2〜18の整数を示
し、cは1〜12の整数を示し、dは1〜4の整数を示
す。For example, it is described in “Polymer Data Handbook [Basic Edition]” edited by The Society of Polymer Science, Baifukan (1986). Specifically, acrylic acid, α and / or β
Substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy, α-acetoxymethyl, α- (2-amino) methyl, α-chloro, α-bromo, α-fluoro, α-tributylsilyl, α-cyano) Form, β-chloro form, β-bromo form,
α-chloro-β-methoxy, α, β-dichloro, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid semiamides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (eg, 2-pentenoic acid) , 2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-
Hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinyl benzene carboxylic acid, vinyl benzene sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, vinyl phosphonic acid, dicarboxylic acid Examples include a half-ester derivative of a vinyl group or an allyl group, and a compound containing the polar group in a substituent of an ester derivative or an amide derivative of a carboxylic acid or a sulfonic acid thereof. The following are specific examples of these compounds. However, in the following examples, p 1 is -H, -CH 3, -Cl, -Br , -CN,
-CH 2 COOCH 3 or indicates -CH 2 COOH, p
2 represents -H or -CH 3, b represents an integer of 2 to 18, c represents an integer of 1 to 12, d is an integer of 1-4.
【0125】[0125]
【化48】 Embedded image
【0126】[0126]
【化49】 Embedded image
【0127】[0127]
【化50】 Embedded image
【0128】[0128]
【化51】 Embedded image
【0129】[0129]
【化52】 Embedded image
【0130】[0130]
【化53】 Embedded image
【0131】[0131]
【化54】 Embedded image
【0132】[0132]
【化55】 Embedded image
【0133】[0133]
【化56】 Embedded image
【0134】[0134]
【化57】 Embedded image
【0135】上記の如き極性基含有成分はAブロック中
に2種以上含有されていてもよく、これら2種以上の極
性基含有成分はAブロック中においてランダム共重合又
はブロック共重合のいずれで含有されていてもよい。更
に、極性基含有成分とともに、極性基を含有しない成分
(例えば前述の式(III )で示される成分)をAブロッ
ク中に含有していてもよいが、極性基含有成分はAブロ
ック中において30〜100重量%存在することが好ま
しい。次に上記マクロモノマーにおいて、Bブロックを
構成する成分、即ち一般式(III )で表わされる繰り返
し単位について説明する。一般式(III )において、V
2 は−COO−,−OCO−,−(CH2 )a OCO
−,−(CH2 )a COO−(aは1〜3の整数を表わ
す)、−O−,−SO2 −,−CO−,−CON
(T1 )−,−SO2 N(T1 )−,−CONHCOO
−、−CONHCONH又は−C6 H4 −を表わす。こ
こで、T1 は前記一般式(II)で定義したのと同様の意
味を有し、その具体例も前記一般式(II)のV1 の説明
で挙げたものと同様である。Two or more polar group-containing components as described above may be contained in the A block. These two or more polar group-containing components may be contained in the A block by either random copolymerization or block copolymerization. It may be. Further, a component not containing a polar group (for example, a component represented by the above formula (III)) may be contained in the A block together with the polar group-containing component. Preferably it is present in an amount of up to 100% by weight. Next, in the above-mentioned macromonomer, a component constituting the B block, that is, a repeating unit represented by the general formula (III) will be described. In the general formula (III), V
The 2 -COO -, - OCO -, - (CH 2) a OCO
-, - (CH 2) a COO- (a is an integer of 1~3), - O -, - SO 2 -, - CO -, - CON
(T 1 )-, -SO 2 N (T 1 )-, -CONHCOO
-, - CONHCONH or -C 6 H 4 - represents a. Here, T 1 has the same meaning as defined in the general formula (II), and specific examples thereof are also the same as those described in the description of V 1 in the general formula (II).
【0136】R4 は炭化水素基を表わし、好ましくは上
記T1 で好ましい炭化水素基として挙げたものと同様の
ものである。V2 が−C6 H4 −を表わす場合、R4 は
上記炭化水素の他水素原子を表わし、更にベンゼン環は
置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲン原子
(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、クロロメ
チル基、メトキシメチル基等)、アルコキシ基(例えば
メトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基
等)等が挙げられる。b5 及びb6 は、互いに同じでも
異なっていてもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原
子(例えば、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素
数1〜4のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基等)、−COOZ5 又は−Z2 −
COOZ5 (Z5 は水素原子又は炭素数1〜18のアル
キル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基又はア
リール基を表し、これらは置換されていてもよく、具体
的には、上記T1 について説明したものと同様の内容を
表し、Z2 は前記と同様の意味を有する)を表わす。R 4 represents a hydrocarbon group, and is preferably the same as the above-mentioned preferred hydrocarbon group for T 1 . When V 2 represents —C 6 H 4 —, R 4 represents a hydrogen atom in addition to the above hydrocarbon, and the benzene ring may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), an alkoxy group (eg, methoxy group, Ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.). b 5 and b 6 may be the same or different from each other, and are preferably a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a chlorine atom or a bromine atom), a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group) , Ethyl group,
Propyl group, butyl group, etc.), -COOZ 5 or -Z 2-
COOZ 5 (Z 5 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group or an aryl group, which may be substituted; 1 has the same meaning as described above, and Z 2 has the same meaning as described above).
【0137】Z2 としては、メチレン基、エチレン基、
プロピレン基等が挙げられる。更に好ましくは、一般式
(III)において、V2 は−COO−,−OCO−,−C
H2 OCO−,−CH2 COO−、−O−,−CONH
−,−SO2 NH−又は−C6 H4 −を表わし、b5 及
びb6 は互いに同じでも異なってもよく、水素原子、メ
チル基、−COOZ5 又は−CH2 COOZ5 〔Z5 は
より好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基等)を表わす}を表わす。更により好ましく
は、b5及びb6 においていずれか一方が水素原子を表
わす。更には該Bブロック中に式(III)の重合体成分以
外の重合体成分が含有されていてもよく、他の重合体成
分に相当する単量体として、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル、複素環ビニル類(例えばビニルピリジ
ン、ビニルイミダゾール、ビニルピロリドン、ビニルチ
オフェン、ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニ
ルオキサジン等)等が挙げられる。これら他の単量体は
Bブロックの全重合体成分100重量部中20重量部を
越えない範囲で用いられる。該Bブロック中には、該A
ブロックの構成成分である極性基を含有する重合体成分
を含有しない事が好ましい。Bブロックにおいて2種以
上の共重合成分が存在する場合には、これら2種以上の
共重合成分はBブロックにおいてランダム共重合又はブ
ロック共重合のいずれで含有されていてもよいが、合成
の簡便さよりランダムに含有されることが好ましい。次
に本発明のマクロモノマー(MD )において上記したA
ブロックと一般式(III)で示される重合体成分を含有す
るBブロックをA−B型で連結し且つAブロックと連結
するBブロックの他の末端に連結される重合性二重結合
基について説明する。具体的には下記一般式(VIII) で
示される重合性二重結合基が例として挙げられる。As Z 2 , a methylene group, an ethylene group,
And a propylene group. More preferably, in the general formula (III), V 2 is -COO-, -OCO-, -C
H 2 OCO -, - CH 2 COO -, - O -, - CONH
—, —SO 2 NH— or —C 6 H 4 —, wherein b 5 and b 6 may be the same or different and each represent a hydrogen atom, a methyl group, —COOZ 5 or —CH 2 COOZ 5 [Z 5 is More preferably, a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group,
Hexyl group). Even more preferably, one of b 5 and b 6 represents a hydrogen atom. Further, a polymer component other than the polymer component of the formula (III) may be contained in the B block. As monomers corresponding to the other polymer components, acrylonitrile, methacrylonitrile, heterocyclic vinyl (For example, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylpyrrolidone, vinylthiophene, vinylpyrazole, vinyldioxane, vinyloxazine, etc.). These other monomers are used in an amount not exceeding 20 parts by weight per 100 parts by weight of the total polymer components of the B block. In the B block, the A
It is preferable not to contain a polymer component containing a polar group which is a component of the block. When two or more copolymer components are present in the B block, these two or more copolymer components may be contained in the B block by either random copolymerization or block copolymerization. More preferably, it is contained at random. Next, in the macromonomer (M D ) of the present invention, the above-mentioned A
A description will be given of a polymerizable double bond group in which a block and a B block containing a polymer component represented by the general formula (III) are connected in an AB form and connected to the other end of the B block connected to the A block. I do. Specific examples include a polymerizable double bond group represented by the following general formula (VIII).
【0138】[0138]
【化58】 Embedded image
【0139】(式中、b5 、b6 及びV2 は式(III) 中
のb5 、b6 及びV2 と同一の内容を表わす。) 即ち、一般式(VIII)で示される重合性二重結合基とし
て、より具体的には、CH2 =CH−COO−,CH2
=C(CH3 )OCOO−,CH(CH3 )=CHCO
O−,CH2 =C(CH2 COOCH3 )COO−,C
H2 =C(CH 2 COOH)COO−,CH2 =CHC
ONH−,CH2 =C(CH3 )CONH−,CH(C
H3 )=CHCONH−,CH2 =CHOCO−,CH
2 =CHCH2 OCO−,CH2 =CH−O−,CH2
=C(COOH)CH2 COO−,CH2 =C(COO
CH3 )CH2 COO−,CH2 =CH−C6 H4 −,
CH2 =CH(CH2 )2 COO−,CH2 =CH−C
O−,CH2 =CH(CH 2 )2 OCO−等が挙げられ
る。(Wherein bFive, B6And VTwoIs in formula (III)
BFive, B6And VTwoRepresents the same content as. That is, a polymerizable double bond group represented by the general formula (VIII)
More specifically, CHTwo= CH-COO-, CHTwo
= C (CHThree) OCOO-, CH (CHThree) = CHCO
O-, CHTwo= C (CHTwoCOOCHThree) COO-, C
HTwo= C (CH TwoCOOH) COO-, CHTwo= CHC
ONH-, CHTwo= C (CHThree) CONH-, CH (C
HThree) = CHCONH-, CHTwo= CHOCO-, CH
Two= CHCHTwoOCO-, CHTwoCHCH—O—, CHTwo
= C (COOH) CHTwoCOO-, CHTwo= C (COO
CHThree) CHTwoCOO-, CHTwo= CH-C6HFour−,
CHTwo= CH (CHTwo)TwoCOO-, CHTwo= CH-C
O-, CHTwo= CH (CH Two)TwoOCO- and the like.
You.
【0140】本発明に供されるマクロモノマー(MD )
は上述の如きBブロックの片末端に、一般式(VIII)で
示される如き重合性二重結合基が、直接結合するか、あ
るいは、任意の連結基で結合された化学構造を有するも
のである。連結する基としては、炭素−炭素結合(一重
結合あるいは二重結合)、炭素−ヘテロ原子結合(ヘテ
ロ原子としては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原
子、ケイ素原子等)、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原
子団の任意の組合せで構成されるものである。即ち、具
体的には、単なる結合または、−C(Z6 )(Z6 )−
〔Z6 は同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン
原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、
シアノ基、ヒドロキシル基、アルキル基(例えばメチル
基、エチル基、プロピル基等)等を示す〕、−(CH=
CH)−,−C6 H10−,−C6H4 −,−O−,−S
−,−CO−,−N(Z7 )−,−COO−,−C(=
S)−,−SO2 −,−CON(Z7 )−,−SO2 N
(Z7 )−,−NHCOO−,−NHCONH−,−C
(Z7 )(Z7 )−〔Z7 はそれぞれ水素原子、前記式
(III)におけるR4 と同様の内容を表わす炭化水素基等
を示す〕等の原子団から選ばれた単独の連結基もしくは
任意の組合せで構成された連結基を表わす。The macromonomer (M D ) used in the present invention
Is a compound having a chemical structure in which a polymerizable double bond group represented by the general formula (VIII) is directly bonded to one end of the B block as described above, or is bonded by an arbitrary connecting group. . Examples of the linking group include a carbon-carbon bond (single bond or double bond), a carbon-hetero atom bond (for example, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, a silicon atom, etc.), a hetero atom-hetero atom. It is composed of any combination of bonding atomic groups. That is, specifically, a simple bond or -C (Z 6 ) (Z 6 )-
[Z 6 may be the same or different and include a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.),
A cyano group, a hydroxyl group, an alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc.)],-(CH =
CH) -, - C 6 H 10 -, - C 6 H 4 -, - O -, - S
-, - CO -, - N (Z 7) -, - COO -, - C (=
S) -, - SO 2 - , - CON (Z 7) -, - SO 2 N
(Z 7 )-, -NHCOO-, -NHCONH-, -C
(Z 7 ) (Z 7 )-[Z 7 is a hydrogen atom;
[III] represents a hydrocarbon group or the like having the same contents as R 4 in (III)], or a single linking group selected from atomic groups or an arbitrary combination thereof.
【0141】マクロモノマー(MD )の重量平均分子量
が2×104 を超えると、他のモノマー(例えば後述の
式(VII) に相当するモノマー)との共重合性が低下する
ため好ましくない。他方、重量平均分子量が小さ過ぎる
と、感光層の電子写真特性の向上効果が小さくなるた
め、1×103 以上であることが好ましい。本発明のマ
クロモノマー(MD )は、具体的には、下記の化合物を
例として挙げることができる。但し、本発明の範囲は、
これらに限定されるものではない。但し、下記化合物例
において、p3 、p4 及びp5 はそれぞれ、−H,−C
H3又は−CH2 COOCH3 を示し、p6 は−H又は
−CH3 を示し、R20は−C p H2p+1(pは1〜18の
整数)、−(CH2 )q C6 G5 (qは1〜3の整
数)、−C6 H4 −Y1 (Y1 は−H,−Cl,−B
r、−CH3 ,−OCH3 又は−COCH3 を示す)又
は−(CH2 )r −C10H7 (rは0又は1〜3の整
数)を示し、R21は−C5 H2s+1(sは1〜8の整数)
又は−(CH2 )q C6H5 を示し、Y2 は−OH,−
COOH,−SO3 H,−OP(=O)(OH) 2 又は
−OP(=O)(OH)OCH3 を示し、Y3 は−CO
OH,−SO3 H,−OP(=O)(OH)2 又は−O
P(=O)(OH)OCH3 を示し、t=2〜12の整
数を示し、uは2〜6の整数を示す。The macromonomer (MD) Weight average molecular weight
Is 2 × 10FourExceeds, other monomers (for example,
Copolymerizability with the monomer of formula (VII))
Therefore, it is not preferable. On the other hand, the weight average molecular weight is too small
And the effect of improving the electrophotographic properties of the photosensitive layer is reduced.
1 × 10ThreeIt is preferable that it is above. The present invention
Chromonomer (MD) Is, specifically, the following compound
Examples can be given. However, the scope of the present invention is:
It is not limited to these. However, the following compound examples
At pThree, PFourAnd pFiveAre -H and -C, respectively.
HThreeOr -CHTwoCOOCHThreeAnd p6Is -H or
-CHThreeAnd R20Is -C pH2p + 1(P is 1-18
Integer),-(CHTwo)qC6GFive(Q is 1-3
Number), -C6HFour-Y1(Y1Is -H, -Cl, -B
r, -CHThree, -OCHThreeOr -COCHThreeTo indicate)
Is-(CHTwo)r-CTenH7(R is an integer of 0 or 1-3
Number) and Rtwenty oneIs -CFiveH2s + 1(S is an integer from 1 to 8)
Or-(CHTwo)qC6HFiveAnd YTwoIs -OH,-
COOH, -SOThreeH, -OP (= O) (OH) TwoOr
-OP (= O) (OH) OCHThreeAnd YThreeIs -CO
OH, -SOThreeH, -OP (= O) (OH)TwoOr -O
P (= O) (OH) OCHThreeAnd t = 2 to 12
U represents an integer of 2 to 6.
【0142】[0142]
【化59】 Embedded image
【0143】[0143]
【化60】 Embedded image
【0144】[0144]
【化61】 Embedded image
【0145】[0145]
【化62】 Embedded image
【0146】更にこの樹脂(Q2 )において、マクロモ
ノマー(MD )と共重合する成分として、前記一般式(V
II) で示される単量体が好ましい。Further, in the resin (Q 2 ), as a component copolymerized with the macromonomer (M D ),
The monomers represented by II) are preferred.
【0147】[0147]
【化63】 Embedded image
【0148】(式中、b9 及びb10はそれぞれ水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を示す。R
22は炭化水素基を表わす。) 式(VIII)において、b9 及びb10は各々水素原子、ハ
ロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子)、シアノ基又
は炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等)等を表す。R22は炭化水
素基を表し、具体的にはアルキル基、アラルキル基又は
芳香族基を表し、好ましくはベンゼン環又はナフタレン
環を含有する炭化水素基であるアラルキル基又は芳香族
基である。(Wherein b 9 and b 10 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R
22 represents a hydrocarbon group. In the formula (VIII), b 9 and b 10 are each a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom or a bromine atom), a cyano group or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Butyl group). R 22 represents a hydrocarbon group, specifically, an alkyl group, an aralkyl group or an aromatic group, preferably an aralkyl group or an aromatic group which is a hydrocarbon group containing a benzene ring or a naphthalene ring.
【0149】更に、R22は好ましくは炭素数1〜18の
置換されていてもよい炭化水素基を表わす。重合体主鎖
中には、−PO3 H2 基、−SO3 H基、−COOH
基、−OH基、−SH基及び−PO3 R1 H基の極性基
を含有する共重合成分を含有しないものが好ましく、従
って、置換基としては樹脂(Q2 )における上記該極性
基含有の重合体成分に含有される前記極性基以外の置換
基を挙げることができ、例えば、ハロゲン原子(例えば
フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、−OZ8、−C
OOZ8 、−OCOZ8 (Z8 は炭素数1〜22のアル
キル基を表わし、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ド
デシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等である)
等の置換基が挙げられる。好ましい炭化水素基として
は、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
プチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシ
ル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエ
チル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2
−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル
基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換
されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−
プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3
−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル基、1−
ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘ
キセニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいア
ラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−
フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチル
エチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチ
ルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル
基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、
炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シ
クロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シ
クロペンチルエチル基等)又は炭素数6〜12の置換さ
れてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル
基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチ
ルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル
基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキ
シフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニ
ル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノ
フェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニル
フェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシ
カルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロ
ピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基
等)等が挙げられる。Further, R 22 preferably represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. During the polymer backbone, -PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH
It is preferred that the resin (Q 2 ) does not contain a copolymer component containing a polar group of a group, —OH group, —SH group and —PO 3 R 1 H group. polymeric component can be contained include the substituents other than the polar group, for example, a halogen atom (e.g. fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), - OZ 8, -C
OOZ 8, -OCOZ 8 (Z 8 represents an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl Etc.)
And the like. Preferred hydrocarbon groups include alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, Hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2
-Methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group and the like, and an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (eg, 2-methyl-1-
Propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3
-Methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-
Hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group and the like, and optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-
Phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.),
An optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (e.g., cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group and the like) or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms ( For example, phenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, propylphenyl, butylphenyl, octylphenyl, dodecylphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, butoxyphenyl, decyloxyphenyl, chlorophenyl, Dichlorophenyl, bromophenyl, cyanophenyl, acetylphenyl, methoxycarbonylphenyl, ethoxycarbonylphenyl, butoxycarbonylphenyl, acetamidophenyl, propioamidophenyl, dodecylylamidophenyl, etc.) Be mentioned
【0150】このような置換基R22が環を有する成分で
ある一般式(VII) の繰り返し単位において、より好まし
くは下記一般式(VIIa)及び/又は一般式(VIIb)で示
されるメタクリレート成分であることが好ましい(以降
この低分子量体をとくに樹脂(QQ)と称する)。[0150] In the repeating unit of the general formula such substituent R 22 is a component having a ring (VII), more preferably at methacrylate component represented by the following formulas (VIIa) and / or general formula (VIIb) It is preferable (hereinafter, this low molecular weight compound is particularly referred to as resin (QQ)).
【0151】[0151]
【化64】 Embedded image
【0152】[0152]
【化65】 Embedded image
【0153】〔式(VIIa)及び式(VIIb)中、A1'及び
A2'は互いに独立に、それぞれ水素原子、炭素数1〜1
0の炭化水素基、塩素原子、臭素原子、−COZ9 又は
−COOZ9 (Z9 は炭素数1〜10の炭化水素基を示
す)を表す。B1 及びB2 はそれぞれ−COO−とベン
ゼン環を結合する、単結合又は連結原子数1〜4個の連
結基を表わす。〕 上記特定の樹脂(QQ)を用いると樹脂(Q2 )の場合
よりもより一層電子写真特性(特にV10、D.R.R、
E1/10)の向上が達成できる。この事の理由は不明であ
るが、1つの理由として、メタクリレートのエステル成
分である、オルト位に置換基を有する平面性のベンゼン
環又はナフタレン環の効果により、膜中の酸化亜鉛界面
でのこれらポリマー分子鎖の配列が適切に行なわれるこ
とによることが考えられる。[In the formulas (VIIa) and (VIIb), A 1 ′ and A 2 ′ each independently represent a hydrogen atom or a carbon atom of 1 to 1;
0 represents a hydrocarbon group, a chlorine atom, a bromine atom, —COZ 9 or —COOZ 9 (Z 9 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms). Each B 1 and B 2 bind the -COO- and the benzene ring, represents a single bond or a linking atoms 1-4 linking groups. ] The more electrophotographic characteristics than the particular resin (QQ) the use the resin (Q 2) (in particular V 10, D.R.R,
E 1/10 ) can be improved. The reason for this is unknown, but one reason is that, due to the effect of the planar benzene ring or naphthalene ring having a substituent at the ortho position, which is an ester component of methacrylate, these compounds are present at the zinc oxide interface in the film. This may be due to the proper arrangement of the polymer molecular chains.
【0154】式(VIIa)において、好ましいA1'及びA
2'として、互いに独立に各々水素原子、塩素原子及び臭
素原子の外に、炭素数1〜10の炭化水素基として、好
ましくは炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基)、炭素数7〜9のア
ラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、3−フ
ェニルプロピル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジ
ル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、メトキシ
ベンジル基、クロロメチルベンジル基)及びアリール基
(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ブロモフ
ェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジ
クロロフェニル基)、並びに−COOZ 9 及び−COO
Z9 (好ましいZ9 としては上記の炭素数1〜10の好
ましい炭化水素基として記載したものを挙げることがで
きる)を挙げることができる。In the formula (VIIa), preferred A1 'And A
2 'Are each independently a hydrogen atom, a chlorine atom and a odor
In addition to the hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is preferable.
Preferably, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group,
Ethyl group, propyl group, butyl group)
Aralkyl groups (for example, benzyl group, phenethyl group,
Phenylpropyl group, chlorobenzyl group, dichlorobenzene
Group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxy
Benzyl group, chloromethylbenzyl group) and aryl group
(For example, phenyl group, tolyl group, xylyl group, bromo group
Phenyl, methoxyphenyl, chlorophenyl, di
Chlorophenyl group), and -COOZ 9And -COO
Z9(Preferred Z9Are preferably those having 1 to 10 carbon atoms as described above.
Preferred hydrocarbon groups are listed below.
Cut).
【0155】式(VIIa)及び式(VIIb)において、B1
及びB2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する単結
合又は−(CH2 )e −(eは1〜3の整数を表す)、
−CH2 OCO−、−CH2 CH2 OCO−、−(CH
2 )f −(fは1又は2の整数を表す)、−CH2 CH
2 O−等の如き連結原子数1〜4個の連結基であり、よ
り好ましくは単結合又は結合原子数1〜2個の連結基を
挙げることができる。本発明の樹脂(Q2 )で用いられ
る式(VIIa)又は式(VIIb)で示される繰り返し単位の
具体例を以下に挙げる。しかし、本発明の範囲はこれに
限定されるものではない。In the formulas (VIIa) and (VIIb), B 1
And B 2 are each a single bond connecting —COO— and a benzene ring or — (CH 2 ) e — (e represents an integer of 1 to 3);
-CH 2 OCO -, - CH 2 CH 2 OCO -, - (CH
2) f - (f is an integer of 1 or 2), - CH 2 CH
It is a linking group having 1 to 4 linking atoms such as 2 O-, and more preferably a single bond or a linking group having 1 to 2 linking atoms. Specific examples of the repeating unit represented by the formula (VIIa) or (VIIb) used in the resin (Q 2 ) of the present invention are shown below. However, the scope of the present invention is not limited to this.
【0156】[0156]
【化66】 Embedded image
【0157】[0157]
【化67】 Embedded image
【0158】[0158]
【化68】 Embedded image
【0159】[0159]
【化69】 Embedded image
【0160】[0160]
【化70】 Embedded image
【0161】[0161]
【化71】 Embedded image
【0162】[0162]
【化72】 Embedded image
【0163】[0163]
【化73】 Embedded image
【0164】更には、本発明のグラフト型共重合体にお
いて上記マクロモノマー(MD )と共重合する成分とし
ては、一般式(VII)、(VIIa)又は(VIIb)以外の単量
体であってもよく、例えば一般式(VII)で説明した以外
の置換基を含有するメタクリル酸エステル類、アクリル
酸エステル類、クロトン酸エステル類に加え、α−オレ
フィン類、カルボン酸ビニル又はアリル酸エステル類
(類えばカルボン酸として、酢酸、プロピオン酸、酪
酸、吉草酸、安息香酸、ナフタレンカルボン酸等)、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、ビニルエーテル
類、イタコン酸エステル類(例えばジメチルエステル、
ジエチルエステル等)、アクリルアミド類、メタクリル
アミド類、スチレン類(例えばスチレン、ビニルトルエ
ン、クロロスチレン、ヒドロキシスチレン、N,N−ジ
メチルアミノメチルスチレン、メトキシカルボニルスチ
レン、メタンスルホニルオキシスチレン、ビニルナフタ
レン等)、ビニルスルホン含有化合物、ビニルケトン含
有化合物、複素環ビニル類(例えばビニルピロリドン、
ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルチオフェ
ン、ビニルイミダゾリン、ビニルピラゾール、ビニルジ
オキサン、ビニルキノリン、ビニルテトラゾール、ビニ
ルオキサジン等)等が挙げられる。好ましい例として
は、炭素数1〜3のカルボン酸ビニル又はアリルエステ
ル類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレ
ン及びスチレン誘導体(例えばビニルトルエン、ブチル
スチレン、メトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロ
ロスチレン、ブロモスチレン、エトキシスチレン等)等
が挙げられる。Further, in the graft copolymer of the present invention, the component copolymerized with the macromonomer (M D ) is a monomer other than the general formula (VII), (VIIa) or (VIIb). For example, in addition to methacrylates, acrylates, crotonates containing substituents other than those described in the general formula (VII), α-olefins, vinyl carboxylate or allyl esters (Such as carboxylic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, benzoic acid, naphthalene carboxylic acid, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, itaconic esters (for example, dimethyl ester,
Diethyl ester, etc.), acrylamides, methacrylamides, styrenes (eg, styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, hydroxystyrene, N, N-dimethylaminomethylstyrene, methoxycarbonylstyrene, methanesulfonyloxystyrene, vinylnaphthalene, etc.), Vinylsulfone-containing compounds, vinylketone-containing compounds, heterocyclic vinyls (eg, vinylpyrrolidone,
Vinyl pyridine, vinyl imidazole, vinyl thiophene, vinyl imidazoline, vinyl pyrazole, vinyl dioxane, vinyl quinoline, vinyl tetrazole, vinyl oxazine, etc.). Preferred examples include vinyl or allyl carboxylate having 1 to 3 carbon atoms, acrylonitrile, methacrylonitrile, styrene and styrene derivatives (for example, vinyltoluene, butylstyrene, methoxystyrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, ethoxy, and the like). Styrene and the like).
【0165】(結着樹脂(Q)の製法)以下に、本発明
の樹脂(Q)の製法及びそれに使用するマクロモノマー
(MC)若しくは(MD )の製法を説明する。本発明の
樹脂(Q)またはマクロモノマー(MC )若しくは(M
D )は、従来公知の合成方法によって製造することがで
きる。例えば、該特定の極性基を含有する重合体成分に
相当する単量体において、極性基を予め保護した官能基
としておき、有機金属化合物(例えばアルキルリチウム
類、リチウムジイソプルアミド、アルキルマグネシウム
ハライド類等)あるいはヨウ化水素、ヨウ素系等による
イオン重合反応で、ポルフィリン金属錯体を触媒とする
光重合反応、あるいはグループ移動重合反応等の公知の
いわゆるリビング重合反応でABブロック共重合体を合
成した後、このリビングポリマーの末端に種々の試薬を
反応させて重合性二重結合基を導入する。この後、極性
基を保護した官能基を加水分解反応、加水素分解反応、
酸化分解反応あるいは、光分解反応等によって、脱保護
反応を行ない、極性基を形成させる方法が挙げられる。
その1つの例を下記の反応スキーム(2)及び(3)に
示した。スキーム(2)はマクロモノマー(MC )に関
するものであり、スキーム(3)はマクロモノマー(M
D )に関するものである。(Method for Producing Binder Resin (Q)) The method for producing the resin (Q) of the present invention and the method for producing the macromonomer (M C ) or (M D ) used therein will be described below. The resin (Q) or the macromonomer (M C ) or (M
D ) can be produced by a conventionally known synthesis method. For example, in a monomer corresponding to the polymer component containing the specific polar group, a polar group is previously protected as a functional group, and an organometallic compound (eg, alkyl lithiums, lithium diisopuramide, alkyl magnesium halide) is used. AB block copolymer was synthesized by a known so-called living polymerization reaction such as a photopolymerization reaction using a porphyrin metal complex as a catalyst, or a group transfer polymerization reaction by an ionic polymerization reaction using hydrogen iodide, iodine, or the like. Thereafter, various reagents are reacted with the terminal of the living polymer to introduce a polymerizable double bond group. After this, the hydrolysis of the functional group protecting the polar group, the hydrogenolysis reaction,
A method in which a deprotection reaction is performed by an oxidative decomposition reaction or a photodecomposition reaction to form a polar group may be mentioned.
One example is shown in the following reaction schemes (2) and (3). Scheme (2) relates to the macromonomer (M C ) and scheme (3) relates to the macromonomer (M C ).
D ).
【0166】[0166]
【化74】 Embedded image
【0167】[0167]
【化75】 Embedded image
【0168】例えば、P.Luta, P.Masson etal, Polym.
Bull.,12, 79(1984), B.C. Anderson, G.D. Andrews et
al, Macromolecules, 14, 1601(1981) K.Hatada, K.Ut
e,etal, Polym.J.17, 977(1985),18, 1037(1986), 右手
浩一、畑田耕一、高分子加工、36, 366(1987) 東村敏
延、沢本光男、高分子論文集、46, 189(1989) M. Kuro
ki, T. Aida, T. Am. Chem. Soc.109, 4737(1987), 相
田卓三、井上祥平、有機合成化学、43, 300(1985), D.
Y.Sogah, W.R.Hertler etal, Macromolecules, 20, 147
3(1987)等に記載の合成方法に従って容易にリビングポ
リマーを合成することができる。又、該リビングポリマ
ーの末端に重合性二重結合基を導入する方法としては、
従来公知のマクロモノマー法の合成法に従って容易の本
発明のマクロモノマーとすることができる。具体的に
は、P.Dreyfuss & R.P.Quirk, Encycl. Polym. Sci. En
g., 7, 51(1987), P.F.Rempp, E.Franta, Adu., Poly
m.Sci. 58 ,1(1984), V.Per-cec, Appl., Polym.Sci.,
285, 95(1984), R.Asami, M,Takari, Makvamol.Chem.Su
ppl. 12, 163(1985), P.Rempp. etal., Makvamol.Chem.
Suppl. 8, 3(1984) 川上雄資、化学工業、38, 56(198
7), 山下雄也、高分子、31, 988(1982),小林四郎、高分
子、30, 625(1981), 東村敏延、日本接着協会誌 18,
536(1982),伊藤浩一、高分子加工、35、262(1986) 、東
貴四郎、津田隆、機能材料、1987、 No.10,5等の総説及
びそれに引例の文献・特許等に記載の方法に従って合成
することができる。For example, P. Luta, P. Masson etal, Polym.
Bull., 12 , 79 (1984), BC Anderson, GD Andrews et
al, Macromolecules, 14 , 1601 (1981) K. Hatada, K. Ut
e, etal, Polym.J. 17 , 977 (1985), 18 , 1037 (1986), Koichi Ute, Koichi Hatada, Polymer Processing, 36 , 366 (1987) Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Collection of Polymer Papers, 46 , 189 (1989) M. Kuro
ki, T. Aida, T. Am. Chem. Soc. 109, 4737 (1987), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Synthetic Organic Chemistry, 43 , 300 (1985), D.
Y. Sogah, WRHertler etal, Macromolecules, 20 , 147
Living polymers can be easily synthesized according to the synthesis method described in 3 (1987) and the like. Further, as a method of introducing a polymerizable double bond group at the terminal of the living polymer,
The macromonomer of the present invention can be easily prepared according to a conventionally known synthesis method of a macromonomer method. Specifically, P. Dreyfuss & RPQuirk, Encycl. Polym. Sci. En
g., 7 , 51 (1987), PFRempp, E. Franta, Adu., Poly
m.Sci. 58 , 1 (1984), V.Per-cec, Appl., Polym.Sci.,
285 , 95 (1984), R. Asami, M, Takari, Makvamol.Chem.Su
ppl. 12 , 163 (1985), P. Rempp. et al., Makvamol. Chem.
Suppl. 8 , 3 (1984) Yusuke Kawakami, Chemical Industry, 38 , 56 (198
7), Yuya Yamashita, High Polymer, 31 , 988 (1982), Shiro Kobayashi, High Polymer, 30 , 625 (1981), Toshinobu Higashimura, Journal of the Adhesion Society of Japan 18 ,
536 (1982), Koichi Ito, Polymer Processing, 35 , 262 (1986), Kiyoshiro Higashi, Takashi Tsuda, Functional Materials, 1987 , No. 10, 5, etc. It can be synthesized according to the method.
【0169】又、本発明の特定の極性基を保護する保護
基及びその保護基の脱離(脱保護反応)については、従
来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。例
えば前記した引用文献にも種々記載されており、更に
は、岩倉義男、栗田恵輔、「反応性高分子」(株)講談
社刊(1977年)、T.W. Greene 「Protective Groups in
Organic Synthesis」, John Wiley & Sons (1981 年)
、J.F.W.McOmie, 「Protective Groups in Organic Ch
emistry」 Plenum Press (1973 年) 等の総説に詳細に
記載されている方法を適宜選択して行なうことができ
る。他のAB型ブロック共重合体の合成法としては、ジ
シオカーバメント化合物を開始剤とした光イニファータ
ー重合法によって合成することもできる。例えば、大津
隆行、高分子、37、 248(1988)、檜森俊一、大津隆一、
Polym.Rep.Jap.37,3508(1988), 特開昭64−111
号、特開昭64−26619号等に記載の合成方法に従
って合成される。これを上記したマクロモノマー合成法
を利用して本発明のマクロモノマー(MC )及び
(MD )を得ることができる。The protecting group for protecting the specific polar group of the present invention and the elimination of the protecting group (deprotection reaction) can be easily carried out by utilizing conventionally known knowledge. For example, various descriptions are given in the above cited references, and furthermore, Yoshio Iwakura and Keisuke Kurita, “Reactive Polymers”, published by Kodansha (1977), TW Greene “Protective Groups in
Organic Synthesis, John Wiley & Sons (1981)
, JFWMcOmie, `` Protective Groups in Organic Ch
emistry ", Plenum Press (1973), and the like. As another method of synthesizing the AB type block copolymer, it can be synthesized by a photoiniferter polymerization method using a disiocarbamate compound as an initiator. For example, Takatsu Otsu, Polymer, 37 , 248 (1988), Shunichi Himori, Ryuichi Otsu,
Polym. Rep. Jap. 37 , 3508 (1988), JP-A-64-111
And JP-A-64-26619. The macromonomers (M C ) and (M D ) of the present invention can be obtained by utilizing the above-mentioned macromonomer synthesis method.
【0170】本発明の結着樹脂(Q)は、前記マクロモ
ノマー及び他の単量体(例えば、マクロモノマー
(MC )については一般式(I)で示される単量体、マ
クロモノマー(MD )については一般式(VII)で示され
る単量体)のうちから各々少なくとも1種選ばれた化合
物を所望の割合で共重合させることによって製造するこ
とができる。重合方法としては溶液重合、懸濁重合、沈
殿重合、乳化重合等の公知の方法を用いることにより製
造することができる。例えば溶液重合ではベンゼン、ト
ルエン等の溶媒中、マクロモノマー及び単量体を所定の
割合で添加し、アゾビス系化合物、過酸化化合物、ラジ
カル重合開始剤によって重合せしめ共重合体溶液を得る
ことができる。これを乾燥または貧溶剤に添加すること
により所望の共重合体を得ることができる。また、懸濁
重合ではポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン
等の分散剤の存在下、単量体を懸濁させ、ラジカル重合
開始剤の存在下で共重合せしめ共重合体を得ることがで
きる。The binder resin (Q) of the present invention comprises the above-mentioned macromonomer and other monomers (for example, the macromonomer (M C ) is represented by the general formula (I), the macromonomer (M D ) can be produced by copolymerizing at least one compound selected from each of the monomers represented by the general formula (VII) at a desired ratio. As the polymerization method, it can be produced by using a known method such as solution polymerization, suspension polymerization, precipitation polymerization, and emulsion polymerization. For example, in the solution polymerization, a macromonomer and a monomer are added at a predetermined ratio in a solvent such as benzene and toluene, and then polymerized with an azobis compound, a peroxide compound, and a radical polymerization initiator to obtain a copolymer solution. . By drying this or adding it to a poor solvent, a desired copolymer can be obtained. In the suspension polymerization, a monomer can be suspended in the presence of a dispersant such as polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone, and then copolymerized in the presence of a radical polymerization initiator to obtain a copolymer.
【0171】(樹脂〔R〕)次に、本発明の光及び/又
は熱硬化性基を少なくとも1種含有して成る樹脂〔R〕
について説明する。樹脂〔R〕に含有される光及び/又
は熱硬化性基は、いずれでもよいが具体的には前記した
樹脂〔P〕で含有される硬化性基と同様の内容のものが
挙げられる。樹脂〔R〕は、上記した硬化性基が、従来
公知の電子写真感光体に用いられる樹脂中に含有された
ものであればいずれでもよい。これら従来公知の電子写
真感光層用の結着樹脂類は、例えば下記の文献に記載さ
れている。柴田隆治、石渡次郎、高分子、第17巻、第
278頁(1968年)宮本晴視、武井秀彦、イメージ
ング、1973(No. 8)中村孝一編「記録材料用バイ
ンダーの実際技術」第10章、C.H.C.出版(19
85年)電子写真学会編、「電子写真用有機感光体の現
状シンポジウム」予編集(1985年)。(Resin [R]) Next, the resin [R] of the present invention containing at least one kind of light and / or thermosetting group
Will be described. The light and / or thermosetting group contained in the resin [R] may be any, but specific examples include those having the same contents as the curable group contained in the resin [P]. The resin [R] may be any resin as long as the above-mentioned curable group is contained in a resin used for a conventionally known electrophotographic photoreceptor. These conventionally known binder resins for an electrophotographic photosensitive layer are described, for example, in the following documents. Ryuji Shibata, Jiro Ishiwatari, Polymer, Vol. 17, pp. 278 (1968) Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging, 1973 (No. 8) Koichi Nakamura, Ed. "Practical Technology of Binders for Recording Materials", Chapter 10 , C.I. H. C. Publishing (19
1985) Edited by the Society of Electrophotography, pre-edited by "Current Symposium on Organic Photoconductors for Electrophotography" (1985).
【0172】小門宏編、「最近の光導電材料と感光体の
開発・実用化」日本科学情報(株)(1986年) 電子写真学会編「電子写真技術の基礎と応用」第5章コ
ロナ社(株)(1988年) D.Tatt, S. C. Heidecker, Tappi, 49(No. 1
0)、439(1966)、E.S.Baltazzi ,R.
G.Blanclotte et al, Phot. Sci. Eng. 16(No.
5)、354(1972)、グエン・チャン・ケー、清
水勇、井上英一、電子写真学会誌18(No. 2)、22
(1980)、等の成書・総説に記載の化合物等が挙げ
られる。具体的には、オレフィン重合体及び共重合体、
塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン共重合体、アルカ
ン酸ビニル重合体及び共重合体、アルカン酸アリル重合
体及び共重合体、スチレン及びその誘導体、重合体及び
共重合体、ブタジエン−スチレン共重合体、イソプレン
−スチレン共重合体、ブタジエン−不飽和カルボン酸エ
ステル共重合体、アクリロニトリル共重合体、メタクリ
ロニトリル共重合体、アルキルビニルエーテル共重合
体、アクリル酸エステル重合体及び共重合体、メタクリ
ル酸エステル重合体及び共重合体、スチレン−アクリル
酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステル
共重合体、イタコン酸ジエステル重合体及び共重合体、
無水マレイン酸共重合体、アクリルアミド共重合体、メ
タクリルアミド共重合体、水酸基変性シリコン樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、ケトン樹脂、ポリエステル樹脂、
シリコン樹脂、アミド樹脂、水酸基及びカルボキシル基
変性ポリエステル樹脂、ブチラール樹脂、ポリビニルア
セタール樹脂、環化ゴム−メタクリル酸エステル共重合
体、環化ゴム−アクリル酸エステル共重合体、窒素原子
を含有しない複素環を含有する共重合体(複素環として
例えば、フラン環、テトラヒドロフラン環、チオフェン
環、ジオキサン環、ジオキソフラン環、ラクトン環、ベ
ンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、1,3−ジオキセ
タン環等)、エポキシ樹脂等が挙げられる。"Recent Development and Practical Use of Photoconductive Materials and Photoconductors", edited by Hiroshi Komon, "Japan Science Information Co., Ltd. (1986)" Co., Ltd. (1988) Tatt, SC Heidecker, Tappi, 49 (No. 1
0), 439 (1966); S. Baltazzi, R.A.
G. FIG. Blanclotte et al, Phot. Sci. Eng. 16 (No.
5), 354 (1972), Nguyen Chan K, Isamu Shimizu, Eiichi Inoue, Journal of the Society of Electrographic Photography 18 (No. 2), 22
(1980), etc., and the like. Specifically, olefin polymers and copolymers,
Vinyl chloride copolymer, vinylidene chloride copolymer, vinyl alkanoate polymer and copolymer, allyl alkanoate polymer and copolymer, styrene and its derivatives, polymer and copolymer, butadiene-styrene copolymer , Isoprene-styrene copolymer, butadiene-unsaturated carboxylic acid ester copolymer, acrylonitrile copolymer, methacrylonitrile copolymer, alkyl vinyl ether copolymer, acrylic ester polymer and copolymer, methacrylic ester Polymers and copolymers, styrene-acrylate copolymers, styrene-methacrylate copolymers, itaconic diester polymers and copolymers,
Maleic anhydride copolymer, acrylamide copolymer, methacrylamide copolymer, hydroxyl-modified silicone resin, polycarbonate resin, ketone resin, polyester resin,
Silicone resin, amide resin, hydroxyl and carboxyl group-modified polyester resin, butyral resin, polyvinyl acetal resin, cyclized rubber-methacrylate copolymer, cyclized rubber-acrylate copolymer, nitrogen-free heterocycle (E.g., a heterocycle such as a furan ring, a tetrahydrofuran ring, a thiophene ring, a dioxane ring, a dioxofuran ring, a lactone ring, a benzofuran ring, a benzothiophene ring, a 1,3-dioxetane ring), an epoxy resin, and the like. No.
【0173】これら重合体において含有される、光及び
/又は熱硬化性基を少なくとも1種含有する構成単位
は、樹脂〔R〕100重量部中、0.1〜40重量%であ
り好ましくは1〜30重量%である。存在割合が0.1重
量%以下となると、光導電層の成膜後の硬化が充分に進
行しなくなり、転写層塗膜時に光導電層表面部分との膜
界面の保持が不充分となり、転写層の剥離性に悪影響を
及ぼす。一方、存在割合が40重量%を超えると、光導
電層の結着樹脂としての電子写真特性が劣化し、複写画
線の原稿再現性の低下、非画像部の地カブリの発生等を
生じてしまう場合が生じた。これら光及び/又は熱硬化
性基含有の樹脂〔R〕は全結着樹脂100重量部中40
重量%以上使用する事が好ましい。該樹脂〔R〕の含有
量が40重量%未満の場合は、電子写真特性が低下する
からである。光導電層は樹脂〔P〕、樹脂〔Q〕及び樹
脂〔R〕に加えて必要によりその他の結着樹脂を含むこ
ともできる。例えば、樹脂〔R〕に関して説明した従来
公知の電子写真感光体用の結着樹脂が用いられる。 (光及び/又は熱硬化剤)本発明において、光導電層
(積層タイプの場合には転写層に隣接する層)は、膜の
硬化性を向上させるために、さらに光及び/又は熱硬化
剤を含有することが好ましい。「光及び/又は熱硬化
剤」の語には、光及び/又は熱硬化性化合物、光及び/
又は熱硬化性オリゴマー、光及び/又は熱硬化性樹脂、
並びに架橋剤が含まれる。その使用量は、樹脂〔P〕、
樹脂〔Q〕及び樹脂〔R〕の総量100重量部に対して
0.01〜20重量部、好ましくは0.1〜15重量部であ
る。その使用量が0.01重量部以下となると、膜の硬化
性向上の効果が薄れてしまう。一方、20重量部を超え
ると電子写真特性に悪影響を及ぼす。光及び/又は熱硬
化性樹脂は、従来公知の硬化性樹脂のいずれでもよく、
例えば、本発明の樹脂〔P〕のセグメント(Y)につい
て説明した硬化性基と同様の官能基含有の樹脂がその例
として挙げられる。又架橋剤としては、通常架橋剤とし
て用いられる化合物を使用することができる。具体的に
は、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成
社刊(1981年)高分子学会編「高分子データハンド
ブック基礎編」培風館(1986年)等に記載されてい
る化合物を用いることができる。The structural unit containing at least one light and / or thermosetting group contained in these polymers is 0.1 to 40% by weight, preferably 1 to 40% by weight, per 100 parts by weight of the resin [R]. 3030% by weight. If the abundance is less than 0.1% by weight, the curing after the formation of the photoconductive layer does not proceed sufficiently, and the retention of the film interface with the photoconductive layer surface during coating of the transfer layer becomes insufficient. This has an adverse effect on the peelability of the layer. On the other hand, if the abundance exceeds 40% by weight, the electrophotographic characteristics of the binder resin of the photoconductive layer are deteriorated, and the reproducibility of the original of the copy image is reduced, and the fogging of the non-image portion is caused. It happened. These light and / or thermosetting group-containing resins [R] are 40% by weight of the total binder resin.
It is preferable to use it by weight% or more. When the content of the resin [R] is less than 40% by weight, the electrophotographic properties are deteriorated. The photoconductive layer may contain other binder resins as necessary in addition to the resin [P], the resin [Q] and the resin [R]. For example, a conventionally known binder resin for an electrophotographic photosensitive member described for the resin [R] is used. (Light and / or thermosetting agent) In the present invention, the photoconductive layer (the layer adjacent to the transfer layer in the case of the laminated type) further comprises a light and / or thermosetting agent in order to improve the curability of the film. Is preferable. The term “light and / or thermosetting agent” includes light and / or thermosetting compounds, light and / or
Or thermosetting oligomers, light and / or thermosetting resins,
As well as a crosslinking agent. The amount used is resin [P],
Based on 100 parts by weight of the total amount of resin [Q] and resin [R]
It is 0.01 to 20 parts by weight, preferably 0.1 to 15 parts by weight. If the amount is less than 0.01 parts by weight, the effect of improving the curability of the film will be diminished. On the other hand, if it exceeds 20 parts by weight, the electrophotographic properties are adversely affected. The light and / or thermosetting resin may be any of conventionally known curable resins,
For example, a resin having the same functional group as the curable group described for the segment (Y) of the resin [P] of the present invention is mentioned as an example. As the cross-linking agent, a compound usually used as a cross-linking agent can be used. Specifically, compounds described in Shinzo Yamashita, Tosuke Kaneko, “Crosslinking Agent Handbook”, Taiseisha Publishing Co., Ltd. (1981), edited by The Society of Polymer Science, “Basic Polymer Data Handbook,” Baifukan (1986), etc. are used. be able to.
【0174】例えば、有機シラン系化合物(例えば、ビ
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤
等)、ポリイソシアナート系化合物(例えば、トルイレ
ンジイソシアナート、O−トルイレンジイソシアナー
ト、ジフェニルメタンジイソシアナート、トリフェニル
メタントリイソシアナート、ポリメチレンポリフェニル
イソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、イ
ソホロンジイソシアナート、高分子ポリイソシアナート
等)、ポリオール系化合物(例えば、1,4−ブタンジ
オール、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシ
アルキレングリコール、1,1,1−トリメチロールプ
ロパン等)、ポリアミン系化合物(例えば、エチレンジ
アミン、γ−ヒドロキシプロピル化エチレンジアミン、
フェニレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、N−ア
ミノエチルピペラジン、変性脂肪族ポリアミン類等)、
チタネートカップリング系化合物(例えばテトラブトキ
シチタネート、テトラプロポキシチタネート、イソプロ
ピルトリステアロイルチタネート等、)アルミニウムカ
ップリング系化合物(例えばアルミニウム−ブチレー
ト、アルミニウムアセチルアセテート、アルミニウムオ
キシドオクテート、アルミニウムトリス(アセチルアセ
テート)等)ポリエポキシ基含有化合物及びエポキシ樹
脂(例えば、垣内弘編著「エポキシ樹脂」昭晃堂(19
85年刊)、橋本邦之編著「エポキシ樹脂」日刊工業新
聞社(1969年刊)等に記載された化合物類)、メラ
ミン樹脂(例えば、三輪一郎、松永英夫編著「ユリア・
メラミン樹脂」日刊工業新聞社(1969年刊)、等に
記載された化合物類)ポリ(メタ)アクリレート系化合
物(例えば、大河原信、三枝武夫、東村敏延編「オリゴ
マー」講談社(1976年)、大森英三「機能性アクリ
ル系樹脂」テクノシステム(1985年刊)等に記載さ
れた化合物類が挙げられる。又多官能重合性含有の単量
体(例えばビニルメタクリレート、アリルメタクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレン
グリコールジアクリレート、ジビニルコハク酸エステ
ル、ジビニルアジピン酸エステル、ジアリルコハク酸エ
ステル、2−メチルビニルメタクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート、ジビニルベンゼン、
ペンタエリスリトールポリアクリレート等)等が挙げら
れる。For example, organic silane compounds (for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltributoxysilane,
silane coupling agents such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, etc.), polyisocyanate-based compounds (eg, toluylene diisocyanate, O-toluene) Range isocyanate, diphenylmethane diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, polymethylene polyphenyl isocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, polymer polyisocyanate, etc.), polyol compound (for example, 1, 4-butanediol, polyoxypropylene glycol, polyoxyalkylene glycol, 1,1,1-trimethylolpropane, etc.), polyamine-based compounds (for example, ethylenediamine, γ-hydroxyp Pill of ethylene diamine,
Phenylenediamine, hexamethylenediamine, N-aminoethylpiperazine, modified aliphatic polyamines, etc.),
Titanate coupling compounds (eg, tetrabutoxytitanate, tetrapropoxytitanate, isopropyl tristearoyl titanate, etc.) Aluminum coupling compounds (eg, aluminum-butyrate, aluminum acetyl acetate, aluminum oxide octate, aluminum tris (acetyl acetate), etc.) Polyepoxy group-containing compounds and epoxy resins (for example, "Epoxy Resins" edited by Hiroshi Kakiuchi, Shokodo (19
1985), "Epoxy Resins" edited by Kuniyuki Hashimoto, compounds described in Nikkan Kogyo Shimbun (published in 1969), etc., and melamine resins (for example, "Julia
Compounds described in "Melamine Resin", Nikkan Kogyo Shimbun (1969), etc.) Poly (meth) acrylate compounds (for example, "Oligomer" Kodansha (1976), edited by Shin Okawara, Takeo Saegusa, Toshinobu Higashimura, Omori, Compounds described in Eizo “Functional Acrylic Resin” Techno System (published in 1985), etc. In addition, polyfunctional polymerizable monomers (eg, vinyl methacrylate, allyl methacrylate, ethylene glycol diacrylate, polyethylene) Glycol diacrylate, divinyl succinate, divinyl adipate, diallyl succinate, 2-methylvinyl methacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, divinylbenzene,
Pentaerythritol polyacrylate, etc.).
【0175】以上の如く、本発明の光導電層の転写層と
隣接する層は、成膜後に硬化されることを特徴とする
が、樹脂〔P〕、樹脂〔Q〕、樹脂〔R〕及び光及び/
又は熱硬化剤は、高分子間が化学結合し易い官能基同志
の組合せで用いることが好ましい。かかる組合せは高分
子反応においてよく知られており、例えば下表の様なA
群の官能基とB群の官能基との組合せが例示される。
(但しこれに限定されるものではない)。As described above, the layer adjacent to the transfer layer of the photoconductive layer of the present invention is characterized in that it is cured after the film is formed, but the resin [P], the resin [Q], the resin [R], Light and / or
Alternatively, it is preferable to use the thermosetting agent in a combination of functional groups that are easily chemically bonded between polymers. Such combinations are well known in macromolecular reactions, for example, A
Combinations of group B and group B functional groups are illustrated.
(But not limited to this).
【0176】[0176]
【表1】 [Table 1]
【0177】表−1において、Rは炭化水素基を表し、
R15、R16はアルキル基を表し、R 17〜R19はアルキル
基又はアルコキシ基を表し、且つR17〜R19のうち少な
くとも1つはアルコキシ基を表し、B1 、B2 は電子吸
引性基を表わし、例えば−CN、−CF3 、−CO
R20、, −COOR20、−SO2 OR20(R20はCn H
2n +1(n:1〜4の整数),−CH2 C6 H5 、−C6
H5 等の炭化水素基を表わす)等を表す。 (反応促進剤)光導電層中の架橋反応を促進させるため
に、光導電層の結着樹脂に必要に応じて反応促進剤を添
加してもよい。In Table 1, R represents a hydrocarbon group,
RFifteen, R16Represents an alkyl group; 17~ R19Is alkyl
Or an alkoxy group, and R17~ R19Few of
At least one represents an alkoxy group;1, BTwoIs electron absorption
Represents an attractive group, for example, -CN, -CFThree, -CO
R20,, -COOR20, -SOTwoOR20(R20Is CnH
2n +1(N: an integer from 1 to 4), -CHTwoC6 HFive, -C6
HFiveAnd the like). (Reaction accelerator) To promote the crosslinking reaction in the photoconductive layer
A reaction accelerator, if necessary, to the binder resin of the photoconductive layer.
May be added.
【0178】架橋反応が官能基間の化学結合を形成する
反応様式の場合には、例えば有機酸類(酢酸、プロピオ
ン酸、酪酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホ
ン酸等)、フェノール類(フェノール、クロロフェノー
ル、ニトロフェノール、シアノフェノール、ブロモフェ
ノール、ナフトール、ジクロロフェノール等)、有機金
属化合物(アセチルアセトナートジルコニウム塩、アセ
チルアセトジルコニウム塩、アセチルアセトコバルト塩
等、ジラウリン酸ジブトキシスズ等)、ジチオカルバミ
ン酸化合物(ジエチルジチオカルバミン酸塩等)チウラ
ムジスルフィド化合物(テトラメチルチウラムジスルフ
ィド等)、カルボン酸無水物(無水フタル酸、無水マレ
イン酸、無水コハク酸、ブチルコハク酸無水物等、3,
3',4,4' −テトラカルボン酸ベンゾフェノンジ無水物、
トリメリット酸無水物等)等が挙げられる。In the case of a reaction mode in which a crosslinking reaction forms a chemical bond between functional groups, for example, organic acids (acetic acid, propionic acid, butyric acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, etc.), phenols (phenol, Chlorophenol, nitrophenol, cyanophenol, bromophenol, naphthol, dichlorophenol, etc.), organometallic compounds (acetylacetonato zirconium salt, acetylacetozirconium salt, acetylacetocobalt salt, etc., dibutoxytin dilaurate, etc.), dithiocarbamic acid compound ( Thiuram disulfide compound (such as tetramethylthiuram disulfide), carboxylic anhydride (such as phthalic anhydride, maleic anhydride, succinic anhydride, and butyl succinic anhydride);
3 ', 4,4'-tetracarboxylic acid benzophenone dianhydride,
Trimellitic anhydride) and the like.
【0179】架橋反応が重合性反応様式の場合には、重
合開始剤(過酸化物、アゾビス系化合物等)が挙げられ
る。本発明において、光導電層を塗膜した後、結着樹脂
は光及び/又は熱により硬化される。熱硬化を行なうた
めには、例えば、乾燥条件を従来の電子写真式色校正用
原版作製時の乾燥条件より厳しくする。例えば、乾燥条
件を高温度及び/又は長時間とする。あるいは塗布溶剤
の乾燥後、更に加熱処理することが好ましい。例えば6
0℃〜150℃で5〜120分間処理する。上述の反応
促進剤を併用すると、より穏やかな条件で処理すること
ができる。本発明の樹脂中の特定の官能基を光照射で硬
化する方法としては、「化学的活性光線」で光照射する
工程を入れる様にすればよい。本発明に用いられる「化
学的活性光線」としては、可視光線、紫外線、遠紫外
線、電子線、X線、γ線、α線などいずれでもよいが、
好ましくは紫外線が挙げられる。より好ましくは波長3
10nmから波長500nmの範囲での光線を発しうるもの
が好ましく、一般には低圧、高圧あるいは超高圧の水銀
ランプ、ハロゲンランプ等が用いられる。光照射の処理
は通常5cm〜50cmの距離から10秒〜10分間の照射
で充分に行うことができる。When the cross-linking reaction is of the polymerizable reaction type, a polymerization initiator (peroxide, azobis compound, etc.) may be used. In the present invention, after coating the photoconductive layer, the binder resin is cured by light and / or heat. In order to carry out thermosetting, for example, the drying conditions are made stricter than the drying conditions at the time of preparing a conventional electrophotographic color proofing master. For example, the drying conditions are high temperature and / or long time. Alternatively, it is preferable to further perform a heat treatment after drying the coating solvent. For example, 6
Treat at 0 ° C to 150 ° C for 5 to 120 minutes. When the above-mentioned reaction accelerator is used in combination, the treatment can be performed under milder conditions. As a method of curing a specific functional group in the resin of the present invention by light irradiation, a step of light irradiation with “chemically active light rays” may be included. The "chemically active light" used in the present invention may be any of visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray, γ-ray, α-ray,
Preferably, ultraviolet light is used. More preferably, wavelength 3
Those capable of emitting light in the wavelength range of 10 nm to 500 nm are preferred, and low-pressure, high-pressure or ultra-high-pressure mercury lamps, halogen lamps and the like are generally used. The light irradiation treatment can be sufficiently performed by irradiation from a distance of 5 cm to 50 cm for 10 seconds to 10 minutes.
【0180】(光導電性化合物)本発明において用いら
れる光導電性化合物は無機化合物あるいは有機化合物の
いずれでもよい。本発明の光導電性化合物として用いら
れる無機化合物としては、例えば酸化亜鉛、酸化チタ
ン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、硫化鉛等従来公知の無
機光導電性化合物が挙げられ、公害性の観点から、酸化
亜鉛、酸化チタンが好ましい。光導電性化合物として酸
化亜鉛、酸化チタン等の無機化合物を用いる場合は、該
無機化合物100重量部に対して上記した結着樹脂を1
0〜100重量部なる割合、好ましくは15〜40重量
部なる割合で使用する。一方、有機化合物は、従来公知
の化合物のいずれでもよい。例えば、第一の例として、
特公昭37−17162、同62−51462、特開昭
52−2437、54−19803、同56−1072
46、同57−161863各号公報などに記載された
有機光導電性化合物、増感色素、及び結合樹脂を主体と
する光導電層において使用されるものが挙げられる。ま
た、第二の例として、特開昭56−146145、同6
0−17751、同60−17752、同60−177
60、同60−254142、同62−54266各号
公報などに記載された電荷発生剤、電荷輸送剤、及び結
合樹脂を主体とする光導電層において使用されるものが
挙げられる。さらに、特開昭60−230147、同6
0−230148、同60−238853各号公報等に
記載された電荷発生剤と電荷輸送剤とをそれぞれ別の層
に含有する二層構成の光導電層において使用されるもの
が挙げられる。(Photoconductive Compound) The photoconductive compound used in the present invention may be either an inorganic compound or an organic compound. Examples of the inorganic compound used as the photoconductive compound of the present invention include conventionally known inorganic photoconductive compounds such as zinc oxide, titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, and lead sulfide. Zinc and titanium oxide are preferred. When an inorganic compound such as zinc oxide or titanium oxide is used as the photoconductive compound, the above-mentioned binder resin is added to 100 parts by weight of the inorganic compound.
It is used in a proportion of 0 to 100 parts by weight, preferably 15 to 40 parts by weight. On the other hand, the organic compound may be any of conventionally known compounds. For example, as a first example,
Japanese Patent Publication Nos. 37-17162 and 62-51462, JP-A-52-2437, 54-19803, and 56-1072.
46 and 57-161863, and those used in a photoconductive layer mainly composed of an organic photoconductive compound, a sensitizing dye, and a binding resin. As a second example, JP-A-56-146145 and JP-A-56-146145
0-17775, 60-17752, 60-177
No. 60, No. 60-254142 and No. 62-54266, which are used in a photoconductive layer mainly composed of a charge generating agent, a charge transporting agent, and a binding resin. Further, JP-A-60-230147 and JP-A-6-230147
Nos. 0-230148 and 60-238853, which are used in a two-layered photoconductive layer containing a charge generating agent and a charge transporting agent in separate layers.
【0181】本発明に用いられる有機光導電性化合物と
しては: (a)米国特許第3112197号明細書等に記載のト
リアゾール誘導体、(b)米国特許第3189447号
明細書等に記載のオキサジアゾール誘導体、(c)特公
昭37−16096号公報に記載のイミダゾール誘導
体、(d)米国特許第3615402、同382098
9、同3542544各号明細書、特公昭45−55
5、同51−10983各号公報、特開昭51−932
24、同55−108667、同55−156953、
同56−36656各号公報等に記載のポリアリールア
ルカン誘導体、(e)米国特許第3180729、同4
278746各号明細書、特開昭55−88064、同
55−88065、同49−105537、同55−5
1086、同56−80051、同56−88141、
同57−45545、同54−112637、同55−
74546各号公報等に記載のピラゾリン誘導体及びピ
ラゾロン誘導体、Examples of the organic photoconductive compound used in the present invention include: (a) a triazole derivative described in US Pat. No. 3,121,197 and the like; and (b) an oxadiazole described in US Pat. No. 3,189,447. Derivatives, (c) imidazole derivatives described in JP-B-37-16096, and (d) U.S. Patent Nos. 3,615,402 and 3,820,098.
9, JP 3542544, JP-B-45-55
5, JP-A-51-10983 and JP-A-51-993.
24, 55-108667, 55-56953,
Polyarylalkane derivatives described in JP-A-56-36656 and (e) US Pat.
278746, JP-A-55-88064, JP-A-55-88065, JP-A-49-105537 and JP-A-55-5
1086, 56-80051, 56-88141,
57-55545, 54-112637, 55-
Pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives described in each of the 74546 publications,
【0182】(f)米国特許第3615404号明細
書、特公昭51−10105、同46−3712、同4
7−28336各号公報、特開昭54−83435、同
54−110836、同54−119925各号公報等
に記載のフェニレンジアミン誘導体、(g)米国特許第
3567450、同3180703、同324059
7、同3658520、同4232103、同4175
961、同4012376各号明細書、特公昭49−3
5702号公報、西独国特許(DAS)第111051
8号明細書、特公昭39−27577、特開昭55−1
44250、同56−119132、同56−2243
7各号公報などに記載されているアリールアミン誘導
体、(h)米国特許第3526501号明細書等に記載
のアミノ置換カルコン誘導体、(i)米国特許第354
2546号明細書などに記載のN,N−ビカルバジル誘
導体、(F) US Pat. No. 3,615,404, Japanese Patent Publication Nos. 51-10105, 46-3712, and 4
Phenylenediamine derivatives described in JP-A-7-28336, JP-A-54-83435, JP-A-54-110836 and JP-A-54-119925; (g) U.S. Pat. Nos. 3,567,450, 3,180,703 and 3,24059
7, 3658520, 4232103, 4175
Nos. 961, 401,376, JP-B-49-3
No. 5702, West German Patent (DAS) 111051
No. 8, JP-B-39-27577, JP-A-55-1
44250, 56-119132, 56-2243
7, an arylamine derivative described in each publication, (h) an amino-substituted chalcone derivative described in US Pat. No. 3,526,501, etc., and (i) a US patent 354
An N, N-bicarbazyl derivative described in JP-A-2546, etc.,
【0183】(j)米国特許第3257203号明細書
などに記載のオキサゾール誘導体、(k)特開昭56−
46234号公報等に記載のスチリルアントラセン誘導
体、(l)特開昭54−110837号公報等に記載の
フルオレノン誘導体、(m)米国特許第3717462
号明細書、特開昭54−59143号公報(米国特許第
4150987号明細書に対応)、特開昭55−520
63、同55−52064、同55−46760、同5
5−85495、同57−11350、同57−148
749、同57−104144号公報等に記載されてい
るヒドラゾン誘導体、(n)米国特許第404794
8、同4047949、同4265990、同4273
846、同4299897、同4306008各号明細
書などに記載のベンジジン誘導体、(o)特開昭58−
190953、同59−95540、同59−9714
8、同59−195658、同62−36674各号公
報などに記載されているスチルベン誘導体、(J) Oxazole derivatives described in US Pat. No. 3,257,203, and (k) JP-A-56-203.
No. 46234, etc., styryl anthracene derivatives, (1) fluorenone derivatives described in JP-A-54-110837, etc., and (m) U.S. Pat. No. 3,717,462.
JP-A-54-59143 (corresponding to U.S. Pat. No. 4,150,987) and JP-A-55-520.
63, 55-52064, 55-46760, 5
5-85495, 57-11350, 57-148
749, 57-104144, and the like. (N) U.S. Patent No. 404794
8, 4047949, 4265990, 4273
No. 846, No. 4299897, No. 4306008, and the like.
190953, 59-95540, 59-9714
8, stilbene derivatives described in JP-A-59-195658, JP-A-62-36674, and the like;
【0184】(p)特公昭34−10966号公報に記
載のポリビニルカルバゾール及びその誘導体、(q)特
公昭43−18674、同43−19192各号公報記
載のポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリ
−2−ビニル−4−(4'−ジメチルアミノフェニル)−
5−フェニル−オキサゾール、ポリ−3−ビニル−Nエ
チルカルバゾール等のビニル重合体、(r)特公昭43
−19193号公報記載のポリアセナチレン、ポリイン
デン、アセナフチレンとスチレンの共重合体等の重合
体、(s)特公昭56−13940号公報などに記載の
ピレン−ホルムアルデヒド樹脂、ブロムピレン−ホルム
アルデヒド樹脂、エチルカルバゾール−ホルムアルデヒ
ド樹脂等の縮合樹脂、(t)特開昭56−90833、
同56−161550各号公報に記載の各種のトリフェ
ニルメタンポリマーが挙げられる。(P) Polyvinylcarbazole and derivatives thereof described in JP-B-34-10966, and (q) Polyvinylpyrene, polyvinylanthracene, and poly-2- described in JP-B-43-18874 and JP-B-43-19192. Vinyl-4- (4'-dimethylaminophenyl)-
Vinyl polymers such as 5-phenyl-oxazole and poly-3-vinyl-N-ethylcarbazole;
No. -19193, polymers such as polyacetalene, polyindene, copolymers of acenaphthylene and styrene, and (s) pyrene-formaldehyde resin, bromopyrene-formaldehyde resin, ethylcarbazole-formaldehyde described in JP-B-56-13940. Condensation resins such as resins, (t) JP-A-56-90833,
Various triphenylmethane polymers described in JP-A-56-161550 can be exemplified.
【0185】なお本発明において、有機光導電性化合物
は、(a)〜(t)に挙げられた化合物に限定されず、
これまで公知の全ての有機光導電性化合物を用いること
ができる。これらの有機光導電性化合物は場合により2
種類以上併用することも可能である。光導電層に含有さ
れる電荷発生剤としては、電子写真感光体において従来
公知の有機及び無機の各種の電荷発生剤を使用すること
ができる。例えば、セレン、セレン−テルル、硫化カド
ミウム、酸化亜鉛、及び以下(1)〜(9)に示す有機
顔料を使用することができる。 (1)米国特許第4436800、同4439506各
号明細書、特開昭47−37543、同58−1235
41、同58−192042、同58−219263、
同59−78356、同60−179746、同61−
148453、同61−238063各号公報、特公昭
60−5941、同60−45664各号公報等に記載
されたモノアゾ、ビスアゾ、トリスアゾ顔料などのアゾ
顔料、(2)米国特許第3397086、同46668
02各号明細書、特開昭51−90827、同52−5
5643各号公報等に記載の無金属あるいは金属フタロ
シアニン等のフタロシアニン顔料、(3)米国特許第3
371884号明細書、特開昭47−30330号公報
等に記載のペリレン系顔料、In the present invention, the organic photoconductive compound is not limited to the compounds listed in (a) to (t).
All known organic photoconductive compounds can be used. These organic photoconductive compounds may optionally be 2
It is also possible to use more than one kind in combination. As the charge generator contained in the photoconductive layer, various organic and inorganic charge generators conventionally known in electrophotographic photoreceptors can be used. For example, selenium, selenium-tellurium, cadmium sulfide, zinc oxide, and the following organic pigments (1) to (9) can be used. (1) U.S. Pat. Nos. 4,436,800 and 4,439,506, JP-A-47-37543 and JP-A-58-1235.
41, 58-192042, 58-219263,
59-78356, 60-179746, 61-
Azo pigments such as monoazo, bisazo and trisazo pigments described in JP-B-148453, JP-A 61-238063, JP-B-60-5941 and JP-B-60-45664; (2) U.S. Pat.
02, JP-A-51-90827, JP-A-52-5
Phthalocyanine pigments such as metal-free or metal phthalocyanines described in JP-A-5643, and the like; (3) US Pat.
No. 3,718,884, perylene pigments described in JP-A-47-30330, etc.
【0186】(4)英国特許第2237680号明細
書、特開昭47−30331号公報等に記載のインジ
ゴ、チオインジゴ誘導体、(5)英国特許第22376
79号明細書、特開昭47−30332号公報等に記載
のキナクリドン系顔料(6)英国特許第2237678
9号明細書、特開昭59−184348、同62−28
738、同47−18544各号公報等に記載の多環キ
ノン系顔料、(7)特開昭47−30331、同47−
18543各号公報等に記載のビスベンズイミダゾール
系顔料、(8)米国特許第4396610、同4644
082各号明細書等に記載のスクアリウム塩系顔料、
(9)特開昭59−53850、同61−212542
各号公報等に記載のアズレニウム塩系顔料等である。 これらは単独で用いることも、2種以上を併用して用い
ることもできる。(4) Indigo and thioindigo derivatives described in British Patent No. 2237680, JP-A-47-30331, and the like; (5) British Patent No. 22376
No. 79, JP 47-30332, etc., quinacridone pigments (6) British Patent No. 2237678
No. 9, JP-A-59-184348, JP-A-62-28
738 and 47-18544, and polycyclic quinone pigments described in (7) JP-A-47-30331 and 47-47.
Bisbenzimidazole pigments described in JP-A-18543 and (8) U.S. Patent Nos. 4,396,610 and 4,644.
082 squarium salt pigments described in the specification, etc.,
(9) JP-A-59-53850, JP-A-61-212542
And azurenium salt-based pigments described in each publication. These can be used alone or in combination of two or more.
【0187】また、有機光導電性化合物と結着樹脂の混
合比は、有機光導電性化合物と結着樹脂との相溶性によ
って有機光導電性化合物の含有率の上限が決まり、これ
を上回る量を添加すると有機光導電性化合物の結晶化が
起こり好ましくない。有機光導電性化合物の含有量が少
ないほど電子写真感度は低下するので、有機光導電性化
合物の結晶化が起こらない範囲で、できるだけ多くの有
機光導電性化合物を含有させるのが好ましい。有機光導
電性化合物の含有率としては、結合樹脂100重量部に
対し、有機光導電性化合物5〜120重量部、好ましく
は、有機光導電性化合物10〜100重量部である。ま
た、有機光導電性化合物は、単独であるいは2種以上混
合して使用してよい。The upper limit of the content ratio of the organic photoconductive compound is determined by the compatibility between the organic photoconductive compound and the binder resin. Is undesirable because crystallization of the organic photoconductive compound occurs. Since the electrophotographic sensitivity decreases as the content of the organic photoconductive compound decreases, it is preferable that as much organic photoconductive compound as possible is contained as long as crystallization of the organic photoconductive compound does not occur. The content of the organic photoconductive compound is 5 to 120 parts by weight, preferably 10 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the binder resin. Further, the organic photoconductive compounds may be used alone or in combination of two or more.
【0188】(分光増感剤)本発明では、可視光の露光
又は半導体レーザー光の露光等光源の種類によって必要
に応じて各種の色素を分光増感剤として併用することが
できる。例えば、宮本晴視、武井秀彦:イメージング1
973(No. 8)第12頁、C. J. Young 等、RCA Revi
ew 15、469頁(1954年)、清田航平等:電気
通信学会論文、J63−C(No. 2)、97頁(198
0年)、原崎勇次等、工業化学雑誌、66、78及び1
88頁(1963年)、谷忠昭、日本写真学会誌35、
208頁(1972年)等の総説引例のカーボニウム系
色素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色
素、キサンテン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン
色素(例えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、
シアニン色素、ロダシアニン色素、スチリル色素等)、
フタロシアニン色素(金属を含有してもよい)等が挙げ
られる。(Spectral Sensitizer) In the present invention, various dyes can be used in combination as a spectral sensitizer, if necessary, depending on the type of light source such as exposure to visible light or exposure to semiconductor laser light. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei: Imaging 1
973 (No. 8), page 12, CJ Young et al., RCA Revi
ew 15 , 469 (1954), Kohei Kiyota: IEICE Transactions, J63-C (No. 2), 97 (198).
0), Yuji Harasaki et al., Industrial Chemistry Magazine, 66 , 78 and 1
88 pages (1963), Tadaaki Tani, Journal of the Photographic Society of Japan 35 ,
208 (1972), such as carbonium dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (eg, oxonol dyes, merocyanine dyes, etc.)
Cyanine dye, rhodacyanine dye, styryl dye, etc.),
And a phthalocyanine dye (which may contain a metal).
【0189】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、フタレイ
ン系色素を中心に用いたものとしては、特公昭51−4
52、特開昭50−90334、同50−11422
7、同53−39130、同53−82353各号公
報、米国特許第3052540、同第4054450各
明細書、特開昭57−16456号公報等に記載のもの
が挙げられる。また、オキソノール色素、メロシアニン
色素、シアニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン
色素としては、F. M. Harmmer 「The Cyanine Dyes and
Related Compounds」等に記載の色素類が使用可能であ
り、更に具体的には、米国特許第3047384、同3
110591、同3121008、同3125447、
同3128179、同3132942、同362231
7各号明細書、英国特許第1226892、同1309
274、同14045898各号明細書、特公昭48−
7814、同55−18892各号公報等に記載の色素
が挙げられる。更に、700nm以上の長波長の近赤外〜
赤外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭
47−840、同47−44180、特公昭51−41
061、同49−5034、同49−45122、同5
7−46245、同56−35141、同57−157
254、同61−26044、同61−27551各号
公報、米国特許第3619154、同4175956各
号明細書、「Research Disclosure 」1982年、21
6、第117〜118頁等に記載のものが挙げられる。
本発明の色校正用原版は、種々の増感色素を併用させて
もその性能が増感色素により変動しにくい点においても
優れている。More specifically, those mainly comprising carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes and phthalein dyes are described in JP-B-51-4.
52, JP-A-50-90334 and 50-11422
7, 53-39130 and 53-82353, U.S. Pat. Nos. 3,052,540, 4,054,450, and JP-A-57-16456. Polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes and rhodacyanine dyes include FM Harmmer "The Cyanine Dyes and
Related Compounds ”and the like can be used, and more specifically, US Pat.
110591, 312008, 312547,
3128179, 3132942, 362231
7, each specification, British Patent Nos. 1226892 and 1309.
274, 14045898, JP-B-48-
And the dyes described in JP-A Nos. 7814 and 55-18892. Furthermore, near-infrared light having a long wavelength of 700 nm or more
Examples of polymethine dyes that spectrally sensitize the infrared region include JP-A-47-840 and JP-A-47-44180, and JP-B-51-41.
061, 49-5034, 49-45122, 5
7-46245, 56-51441, 57-157
Nos. 254, 61-26044, 61-27551, U.S. Pat. Nos. 3,619,154 and 4,175,956, "Research Disclosure", 1982, 21.
6, pages 117 to 118 and the like.
The original plate for color proofing of the present invention is also excellent in that even if various sensitizing dyes are used in combination, the performance is hardly changed by the sensitizing dyes.
【0190】(各種添加剤)更には、必要に応じて、従
来知られている種々の電子写真感光体用添加剤を併用す
ることができる。これらの添加剤としては、電子写真感
度を改良するための化学増感剤、皮膜性を改良するため
の各種の可塑剤、界面活性剤などが含まれる。化学増感
剤としては、例えばハロゲン、ベンゾキノン、クロラニ
ル、フルオラニル、ブロマニル、ジニトロベンゼン、ア
ントラキノン、2,5−ジクロロベンゾキノン、ニトロ
フェノール、無水テトラクロルフタル酸、2,3−ジク
ロロ−5,6−ジシアノベンゾキノン、ジニトロフルオ
レノン、トリニトロフルオレノン、テトラシアノエチレ
ン等の電子吸引性化合物、小門宏等「最近の光導電材料
と感光体の開発・実用化」第4章〜第6章:日本科学情
報(株)出版部(1986年)の総説引例のポリアリー
ルアルカン化合物、ヒンダードフェノール化合物、p−
フェニレンジアミン化合物等が挙げられる。また、特開
昭58−65439、同58−102239、同58−
129439、同62−71965各号公報等に記載の
化合物等も挙げることができる。可塑剤としては、例え
ばジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチ
ルフタレート、トリフェニルフタレート、トリフェニル
フォスフェート、ジイソブチルアジペート、ジメチルセ
バケート、ジブチルセバケート、ラウリル酸ブチル、メ
チルフタリールエチルグリコレート、ジメチルグリコー
ルフタレートなどを光導電層の可撓性を向上するために
添加できる。これらの可塑剤は光導電層の静電特性を劣
化させない範囲で含有させることができる。(Various Additives) If necessary, various conventionally known additives for electrophotographic photosensitive members can be used in combination. These additives include a chemical sensitizer for improving electrophotographic sensitivity, various plasticizers for improving film properties, and a surfactant. Examples of the chemical sensitizer include halogen, benzoquinone, chloranil, fluoranyl, bromanyl, dinitrobenzene, anthraquinone, 2,5-dichlorobenzoquinone, nitrophenol, tetrachlorophthalic anhydride, 2,3-dichloro-5,6-dicyano Electron-withdrawing compounds such as benzoquinone, dinitrofluorenone, trinitrofluorenone, and tetracyanoethylene; Hiroshi Komon et al. "Recent development and commercialization of photoconductive materials and photoreceptors" Chapters 4 to 6: Japan Science Information ( Polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, p-
And phenylenediamine compounds. Further, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 58-65439, 58-102239, 58-
Compounds described in JP-A-129439 and JP-A-62-71965 can also be mentioned. Examples of the plasticizer include dimethyl phthalate, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, triphenyl phthalate, triphenyl phosphate, diisobutyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, butyl laurate, methyl phthalyl ethyl glycolate, dimethyl glycol phthalate and the like. Can be added to improve the flexibility of the photoconductive layer. These plasticizers can be contained in a range that does not deteriorate the electrostatic properties of the photoconductive layer.
【0191】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体100重量部に対して0.00
1〜2.0重量部である。光導電性物質は周知の手段によ
り粉砕、微分散される。粉砕及び分散は、結着樹脂、そ
の溶媒及び各添加剤等が共存する系中、例えばソロモン
著「塗料の化学」その他に示されるようなボールミル、
ケディミル、サンドミル、ダイノミル、ペイントシェー
カー、ロールミル、超音波分散機などを使用して行うこ
とが一般的である。その後、これをバーコーター、リバ
ースコーター、ダイコーター等により、最適塗布量で塗
布し、乾燥することにより光導電層が形成される。又、
該光導電性物質を分散する溶媒はいずれでもよく、用い
る結着樹脂の溶解性等を勘案して選択される。単独で用
いても、2種以上を併用してもよい。光導電層の厚さは
1〜100μ、特には10〜50μが好適である。ま
た、電荷発生層及び電荷輸送層を含む積層タイプの光導
電層を形成する場合は、電荷発生層の厚さは0.01〜5
μ、特に0.05〜2μが好適である。また電荷輸送層の
厚さは0.99〜99.9μ、特に9〜90μが好適であ
る。電荷輸送層と電荷発生層の積層順序は、色校正用原
版を負に帯電させるか、正に帯電させるかによって変化
しうる。The amount of each of these additives is not particularly limited, but is usually 0.000 per 100 parts by weight of the photoconductor.
It is 1 to 2.0 parts by weight. The photoconductive substance is pulverized and finely dispersed by a known means. Pulverization and dispersion in a system in which the binder resin, its solvent and each additive coexist, for example, a ball mill as shown in Solomon's "Coating Chemistry" and others,
It is common to use a Keddy mill, a sand mill, a dyno mill, a paint shaker, a roll mill, an ultrasonic disperser, or the like. Thereafter, this is applied with a bar coater, a reverse coater, a die coater or the like at an optimum application amount, and dried to form a photoconductive layer. or,
The solvent in which the photoconductive material is dispersed may be any solvent, and is selected in consideration of the solubility of the binder resin to be used. They may be used alone or in combination of two or more. The thickness of the photoconductive layer is preferably from 1 to 100 µ, particularly preferably from 10 to 50 µ. In the case of forming a laminated type photoconductive layer including a charge generation layer and a charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is 0.01 to 5 mm.
μ, particularly 0.05 to 2 μ, is preferred. Further, the thickness of the charge transport layer is preferably 0.99 to 99.9 μm, particularly preferably 9 to 90 μm. The stacking order of the charge transport layer and the charge generation layer can be changed depending on whether the color proofing plate is charged negatively or positively.
【0192】〔転写層〕次に、転写層について説明す
る。転写層を形成する樹脂は熱可塑性樹脂であり、重量
平均分子量が5×103 〜1×106 、好ましくは1×
104 〜5×105 、ガラス転移点が0℃〜100℃、
好ましくは20℃〜85℃の範囲であるものである。該
樹脂は、転写層全組成物総量中、70重量%以上、好ま
しくは90重量%以上の割合で用いる。[Transfer Layer] Next, the transfer layer will be described. The resin forming the transfer layer is a thermoplastic resin and has a weight average molecular weight of 5 × 10 3 to 1 × 10 6 , preferably 1 × 10 3.
10 4 to 5 × 10 5 , a glass transition point of 0 ° C. to 100 ° C.,
Preferably, it is in the range of 20 ° C to 85 ° C. The resin is used in an amount of 70% by weight or more, preferably 90% by weight or more based on the total amount of the entire composition of the transfer layer.
【0193】上記物性を満たす熱可塑性樹脂であればい
ずれでもよいが、具体的には、塩化ビニル樹脂、ポリオ
レフィン樹脂、オレフィン−スチレン共重合体、アルカ
ン酸ビニル系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹
脂、アクリル系樹脂、セルローズ系樹脂、脂肪酸変性セ
ルローズ系樹脂、等が挙げられる。 例えば、日刊工業新聞社刊、「プラスチック材料講座シ
リーズ」第1巻〜18巻、(1961年) 近畿化学協会ビニル部会編「ポリ塩化ビニル」日刊工業
新聞社刊(1988年) 大森英三、「機能性アクリル系樹脂」(株)テクノシス
テム刊(1985年) 滝山栄一郎、「ポリエステル樹脂ハンドブック」日刊工
業新聞社刊(1988年) 湯木和男編、「飽和ポリエステル樹脂ハンドブック」日
刊工業新聞社(1989年) 高分子学会編、「高分子データハンドブック<応用編」
第1章培風館(1986年) 原崎勇次編「最新・バインダー技術便覧」第2章(株)
総合技術センター(1985年) 等に具体的に例示される化合物が挙げられる。これら熱
可塑性樹脂は、単独であるいは2種以上併用して用いる
ことができる。Any thermoplastic resin which satisfies the above physical properties may be used. Specific examples thereof include vinyl chloride resin, polyolefin resin, olefin-styrene copolymer, vinyl alkanoate resin, polyester resin, polyether resin, and the like. An acrylic resin, a cellulose resin, a fatty acid-modified cellulose resin, and the like can be given. For example, Nikkan Kogyo Shimbun, "Plastic Materials Course Series" Vol. 1-18, (1961) Kinki Chemical Association Vinyl Subcommittee, "Polyvinyl Chloride", Nikkan Kogyo Shimbun (1988) Eizo Omori, ""Functional Acrylic Resin" published by Techno System Co., Ltd. (1985) Eiichiro Takiyama, "Polyester Resin Handbook" published by Nikkan Kogyo Shimbun (1988) Kazuo Yugi, edited by "Saturated Polyester Resin Handbook" Nikkan Kogyo Shimbun (1989) The Society of Polymer Science, “Polymer Data Handbook <Applications”
Chapter 1 Baifukan (1986) Yuji Harazaki, "Latest Binder Technology Handbook", Chapter 2
Compounds specifically exemplified in the General Technology Center (1985) and the like. These thermoplastic resins can be used alone or in combination of two or more.
【0194】更に、該転写層には、塗布性、成膜性、膜
強度等種々の物理的特性を向上させるために、他の添加
剤を併用してもよい。例えば、前記した光導電層中に用
いると同様に可塑剤等が挙げられる。該転写層の膜厚
は、0.1〜10μm 、好ましくは0.5〜5μm であ
る。転写層の形成は、通常の塗膜形成方法が用いて行う
ことができ、例えば上記の様な任意の化合物を含有した
塗布溶液を用い、前記光導電層を塗膜すると同様の手段
を用いて行なうことができる。更には、公知の方法であ
るスプレードライ法も用いることができる。該層の成膜
方法は、特に限定されるものではない。Further, other additives may be used in the transfer layer in order to improve various physical properties such as coating properties, film forming properties, and film strength. For example, a plasticizer or the like may be used as in the above-described photoconductive layer. The thickness of the transfer layer is 0.1 to 10 μm, preferably 0.5 to 5 μm. The formation of the transfer layer can be performed by using a usual coating film forming method, for example, using a coating solution containing an arbitrary compound as described above, using the same means as that for coating the photoconductive layer. Can do it. Further, a spray drying method which is a known method can also be used. The method for forming the layer is not particularly limited.
【0195】〔色校正刷りの作製方法〕本発明の電子写
真式色校正用原版を用いて、色校正刷りを作製する方法
を下記に示す。まず、通常の電子写真プロセスにより、
電子写真式色校正用原版上に複写画像を形成する。即
ち、帯電−露光−現像−定着の各プロセスを従来公知の
方法により行なう。現像プロセスに供される現像剤とし
ては、従来公知のいずれの現像剤でもよく、乾式現像剤
あるいは液体現像剤があげられる。具体的には、例えば
町田元、“記録用材料と感光性樹脂”P107〜127
(1983年刊)、(株)学会出版センター,電子写真
学会,“イメージング No 2〜5電子写真の現像・定着
・帯電・転写”等に具体的な態様が示されている。[Production Method of Color Proof Printing] A method of producing a color proof printing using the electrophotographic color proof original plate of the present invention is described below. First, by the usual electrophotographic process,
A copy image is formed on an electrophotographic color proofing master. That is, each process of charging, exposure, development, and fixing is performed by a conventionally known method. As the developer used in the developing process, any conventionally known developer may be used, and examples thereof include a dry developer and a liquid developer. Specifically, for example, Moto Machida, “Recording Materials and Photosensitive Resins”, pp. 107-127
Specific examples are shown in, for example, "Development / Fixing / Electrification / Transfer of Electrophotography Nos. 2 to 5".
【0196】デジタル情報に基づいて露光するレーザー
光によるスキャニング露光方式及び液体現像剤を用いる
現像方式の組合せが、高精細な画像を形成できるため好
ましい。その一例を以下に示す。まず本発明の電子写真
式色校正用原版(以下、色校正用原版と略す)をフラッ
トベッド上に載置し、レジスターピン方式による位置決
めを行なった後、背面よりエアーサクションにより吸引
して固定する。次いで、例えば「電子写真技術の基礎と
応用」(電子写真学会編、コロナ社、昭和63年6月1
5日発行)212ページ以降に記載の帯電デバイスによ
り、該色校正用原版の帯電を行う。コロトロンまたはス
コロトロン方式が一般的である。この時、色校正用原版
の帯電電位の検出手段からの情報に基づき、フィードバ
ックをかけ、帯電条件を常に所定の範囲の表面電位とな
るようにコントロールすることが好ましい。A combination of a scanning exposure method using a laser beam for exposing based on digital information and a developing method using a liquid developer is preferable because a high-definition image can be formed. An example is shown below. First, an electrophotographic color proofing plate of the present invention (hereinafter, simply referred to as a color proofing plate) is placed on a flat bed, positioned by a register pin method, and then fixed by suction from the back surface by air suction. . Next, for example, "Basic and Application of Electrophotographic Technology" (edited by the Society of Electrophotographic Engineers, Corona, June 1, 1988)
The original for color proofing is charged by the charging device described on page 212 et seq. Corotron or scorotron systems are common. At this time, it is preferable to control the charging conditions so that the surface potential is always within a predetermined range based on the information from the charging potential detecting means of the color proofing master.
【0197】その後、例えば上記引用資料の254ペー
ジ以降に記載の方式を用いてレーザー光源による走査露
光を行なう。まず初めはカラー画像を4色に分解したな
かのイエロー版に相当する画像をドットパターンに変換
して露光する。次いで、液体現像剤を用いてトナー現像
を行なう。例えば、帯電、露光した色校正用原版をフラ
ットベッドから外し、上記引用資料の275ページ以降
に示された直接法の湿式現像法により現像する。この時
の露光モードは、トナー現像モードに対応して決定され
る。例えば、反転現像の場合はネガ露光、即ち画像部へ
のレーザー光の照射が行われ、帯電した時の電荷極性と
同じ電荷極性を持つトナーが使用され、現像バイアス電
圧の印加により露光部にトナーが電着される。原理の詳
細は上記引用資料の157ページ以降に記載されてい
る。現像後、余剰の現像液を除くために、上記引用資料
283ページに示されるようなスクイーズを行なったの
ち乾燥する。スクイーズ前に現像剤の担体液体のみでリ
ンスをすることも好ましい。以上のプロセスをマゼン
タ、シアン、ブラックの各色について繰り返すことによ
り、同一の色校正用原版上に4色フルカラーの画像が得
られる。最終的なステップとして色校正用原版上のトナ
ー画像を転写層ごと印刷用本紙に熱転写し、カラープル
ーフ、即ち色校正刷りを得る。Thereafter, for example, scanning exposure with a laser light source is performed by using the method described on page 254 and subsequent pages of the above cited document. First, an image corresponding to a yellow plate in a color image separated into four colors is converted into a dot pattern and exposed. Next, toner development is performed using a liquid developer. For example, the charged and exposed color proofreading master is removed from the flatbed and developed by the direct wet development method described on page 275 and thereafter of the above-cited reference material. The exposure mode at this time is determined according to the toner development mode. For example, in the case of reversal development, negative exposure, that is, irradiation of laser light to the image area is performed, and a toner having the same charge polarity as that when charged is used, and the toner is applied to the exposed area by applying a developing bias voltage. Is electrodeposited. Details of the principle are described on page 157 and thereafter of the cited reference. After development, squeezing is performed as shown on page 283 of the above-cited reference material in order to remove excess developer, and then drying is performed. It is also preferable to rinse only the carrier liquid of the developer before squeezing. By repeating the above process for each color of magenta, cyan, and black, a full-color image of four colors can be obtained on the same color proofing master. As a final step, the toner image on the color proofing plate is thermally transferred together with the transfer layer to the printing paper to obtain a color proof, that is, a color proof print.
【0198】転写層を本紙へ熱転写するための装置例を
図1に示す。これは加熱手段内蔵の一対のゴム被覆金属
ローラー間に所定のニップ圧力を印加しながら駆動する
ものである。この時のローラー表面温度は50〜150
℃、より好ましくは80〜120℃、ローラー間ニップ
圧力は0.2〜20 kgf/cm2 、より好ましくは05〜
10 kgf/cm2 、搬送スピードは0.1〜100mm/
秒、より好ましくは1〜30mm/秒の範囲である。これ
らの条件は、最適な結果が得られるように、使用される
色校正用原版の転写層、光導電層及び支持体の材料の物
性等に応じて適宜設定される。ローラー表面温度は公知
の手段によって所定の範囲内に保つことが好ましい。更
に加熱ローラー部の前に色校正用原版の予熱手段を設
け、加熱ローラー部の後に冷却手段を設けることもでき
る。図1には示していないが、ローラー間加圧手段とし
て、少なくとも一方のローラーの軸の両端に、スプリン
グ又は圧縮空気を用いるエアーシリンダーを使用するこ
ともできる。以上の如く、転写層に隣接する光導電層に
樹脂〔P〕を少量添加することで、該層の表面剥離性を
良好に改質することができる。このことにより、該層上
に設けた転写層が著しく良好に剥離されるようになり、
その結果、トナーの色ずれや転写不良のない高品質の色
校正刷りを得ることが可能となる。以下に本発明の実施
例を例示するが、本発明の内容はこれらに限定されるも
のではない。なお、以下の式において、記号「−b−」
は、該記号の両側のセグメントがボロック結合している
ことを意味する。FIG. 1 shows an example of an apparatus for thermally transferring the transfer layer to the paper. This is to drive while applying a predetermined nip pressure between a pair of rubber-coated metal rollers with built-in heating means. The roller surface temperature at this time is 50 to 150
° C, more preferably 80 to 120 ° C, the nip pressure between the rollers is 0.2 to 20 kgf / cm 2 , more preferably 0.5 to 20 kgf / cm 2 .
10 kgf / cm 2 , transport speed 0.1-100 mm /
Seconds, more preferably in the range of 1 to 30 mm / sec. These conditions are appropriately set according to the physical properties of the material of the transfer layer, photoconductive layer, and support of the color proofing master used so as to obtain optimum results. The roller surface temperature is preferably maintained within a predetermined range by a known means. Further, it is also possible to provide a means for preheating the color proofing master in front of the heating roller section, and to provide a cooling means after the heating roller section. Although not shown in FIG. 1, a spring or an air cylinder using compressed air may be used at both ends of the shaft of at least one of the rollers as the inter-roller pressing means. As described above, by adding a small amount of the resin [P] to the photoconductive layer adjacent to the transfer layer, the surface releasability of the layer can be satisfactorily modified. This allows the transfer layer provided on the layer to be remarkably peeled off,
As a result, it is possible to obtain a high-quality color proof print free of toner color shift and transfer failure. Examples of the present invention will be described below, but the contents of the present invention are not limited to these. In the following formula, the symbol "-b-"
Means that the segments on both sides of the symbol are bollocked.
樹脂〔P1 〕の合成例101:メチルメタクリレート7
0g、メチルアクリレート20g、グリシジルメタクリ
レート10g及びトルエン200gの混合溶液を、窒素
気流下に温度80℃に加温した。これに、下記構造の高
分子アゾビス開始剤〔I−1〕10gを加えて8時間反
応させた。反応終了後、得られた反応体をメタノール1.
5リットル中に再沈し得られた沈殿物を補集・乾燥し
て、収量75gでMW 3×104 の樹脂〔P−101〕
を得た。Synthesis Example 101 of Resin [P 1 ]: Methyl Methacrylate 7
A mixed solution of 0 g, 20 g of methyl acrylate, 10 g of glycidyl methacrylate and 200 g of toluene was heated to a temperature of 80 ° C. under a nitrogen stream. To this, 10 g of a polymer azobis initiator [I-1] having the following structure was added and reacted for 8 hours. After completion of the reaction, the obtained reactant was treated with methanol 1.
The 5 liters precipitate was obtained and reprecipitated in and scavenged and drying, M W 3 × 10 4 of the resin in a yield 75g [P-101]
I got
【0199】[0199]
【化76】 Embedded image
【0200】樹脂〔P1〕の合成例102:メチルメタ
クリレート63g、トリ(ジプロピル)シリルメタクリ
レート12.8g及びテトラヒドロフラン200gの混合
溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−20℃に冷却し
た。1,1−ジフェニルブチルリチウム0.8gを加え1
2時間反応させた。更に、この混合溶液に、下記構造の
単量体(M−1)30g及びテトラヒドロフラン60g
の混合溶液を、窒素気流下に充分に脱気した後添加し、
更に8時間反応させた。この混合物を0℃にした後、メ
タノール10mlを加え30分間反応させ、重合の停止
及び上記シリルエステルの脱保護処理を行なった。得ら
れた重合体溶液を撹拌下にて温度30℃とし、これに3
0%の塩化水素エタノール溶液3mlを加え、1時間撹
拌した。次に、減圧下に反応混合物を全体量が半分にな
るまで溶媒を留去した後、石油エーテル1リットル中に
再沈した。沈殿物を捕集し、減圧乾燥した。得られた樹
脂〔P−102〕のMwは6.8×104 で、収量は76
gであった。Synthesis Example 102 of Resin [P 1 ]: A mixed solution of 63 g of methyl methacrylate, 12.8 g of tri (dipropyl) silyl methacrylate and 200 g of tetrahydrofuran was sufficiently degassed under a nitrogen stream and cooled to -20 ° C. 0.8 g of 1,1-diphenylbutyllithium was added and 1
The reaction was performed for 2 hours. Further, 30 g of a monomer (M-1) having the following structure and 60 g of tetrahydrofuran were added to this mixed solution.
The mixed solution of was added after sufficiently degassing under a nitrogen stream,
The reaction was continued for another 8 hours. After the mixture was cooled to 0 ° C., 10 ml of methanol was added and reacted for 30 minutes to terminate the polymerization and deprotect the silyl ester. The obtained polymer solution was brought to a temperature of 30 ° C. under stirring,
3 ml of a 0% ethanol solution of hydrogen chloride was added, and the mixture was stirred for 1 hour. Next, the solvent was distilled off under reduced pressure until the total amount of the reaction mixture was reduced to half, and the reaction mixture was reprecipitated in 1 liter of petroleum ether. The precipitate was collected and dried under reduced pressure. The Mw of the obtained resin [P-102] was 6.8 × 10 4 and the yield was 76.
g.
【0201】[0201]
【化77】 Embedded image
【0202】樹脂〔P1 〕の合成例103:メチルメタ
クリレート63.8g、2−(トリフルオロアセチルオキ
シ)エチルメタクリレート19.7g、(テトラフェニル
ポルフィナート)アルミニウムメチル0.5g及び塩化メ
チレン200gの混合溶液を窒素気流下にて温度30℃
とした。これに300W−キセノンランプ光をガラスフ
ィルターを通して25cmの距離から光照射し、20時
間反応させた。この混合物に更に、下記単量体〔M−
2〕25gを加え、同様に12時間光照射した後、この
反応混合物にメタノール3gを加えて30分間撹拌し反
応を停止させた。次にこの反応混合物に、p−トルエン
スルホン酸の5重量%テトラヒドロフラン溶液50gを
加え加水分解処理をした。次に、メタノール2リットル
中に再沈し沈殿物を捕集し乾燥した。得られた樹脂〔P
−103〕は収量70gでMw7×104 であった。Synthetic Example 103 of Resin [P 1 ] 103: A mixture of 63.8 g of methyl methacrylate, 19.7 g of 2- (trifluoroacetyloxy) ethyl methacrylate, 0.5 g of (tetraphenylporphinato) aluminum methyl and 200 g of methylene chloride The temperature of the solution is 30 ° C under a nitrogen stream.
And This was irradiated with light of 300 W-xenon lamp through a glass filter from a distance of 25 cm, and reacted for 20 hours. The mixture was further added with the following monomer [M-
2] 25 g was added, and the mixture was similarly irradiated with light for 12 hours. Thereafter, 3 g of methanol was added to the reaction mixture, and the mixture was stirred for 30 minutes to stop the reaction. Next, 50 g of a 5% by weight solution of p-toluenesulfonic acid in tetrahydrofuran was added to the reaction mixture to carry out a hydrolysis treatment. Next, the precipitate was reprecipitated in 2 liters of methanol, and the precipitate was collected and dried. The obtained resin [P
-103] had a yield of 70 g and Mw of 7 × 10 4 .
【0203】[0203]
【化78】 Embedded image
【0204】樹脂〔P1 〕の合成例104:エチルメタ
クリレート48g、グリシジルメタクリレート12g及
びベンジルN,N−ジエチルジチオカーバメート2.4g
の混合物を、窒素気流下に容器に密閉し、温度50℃に
加温した。これに、400Wの高圧水銀灯で10cmの
距離からガラスフィルターを通して、6時間光照射し光
重合した。これをテトラヒドロフラン100gに溶解
し、更に、下記構造の単量体(M−3)40gを加えた
後、窒素置換し再び10時間光照射した。得られた反応
物をメタノール1リットルに再沈、捕集し乾燥した。得
られた重合体〔P−104〕は、収量73gでMw8×
104 であった。Synthesis Example 104 of Resin [P 1 ]: 48 g of ethyl methacrylate, 12 g of glycidyl methacrylate and 2.4 g of benzyl N, N-diethyldithiocarbamate
Was sealed in a container under a stream of nitrogen and heated to a temperature of 50 ° C. This was irradiated with light through a glass filter from a distance of 10 cm with a 400 W high-pressure mercury lamp for 6 hours to carry out photopolymerization. This was dissolved in 100 g of tetrahydrofuran, and 40 g of a monomer (M-3) having the following structure was further added, followed by nitrogen replacement and light irradiation again for 10 hours. The obtained reaction product was reprecipitated in 1 liter of methanol, collected and dried. The obtained polymer [P-104] was obtained in a yield of 73 g and Mw 8 ×
It was 10 4 .
【0205】[0205]
【化79】 Embedded image
【0206】樹脂〔P1 〕の合成例105:メチルメタ
クリレート55g、3−(トリメトキシシリル)エチル
メタクリレート20g、及びベンジルイソプロピルザン
テート1.0gの混合物を、窒素気流下に容器に密閉し、
温度50℃に加温した。これに400Wの高圧水銀灯で
10cmの距離からガラスフィルターを通して6時間光
照射し光重合した。得られた反応物をテトラヒドロフラ
ンで濃度40%の溶液にし、これに下記単量体〔M−
4〕25gを加えて窒素置換し、再び10時間光照射し
た。得られた反応物を、メタノール2リットル中に再沈
し捕集、乾燥した。得られた樹脂〔P−105〕は収量
63gでMw6×104 であった。Synthesis Example 105 of Resin [P 1 ] A mixture of 55 g of methyl methacrylate, 20 g of 3- (trimethoxysilyl) ethyl methacrylate, and 1.0 g of benzyl isopropyl xanthate was sealed in a container under a nitrogen stream.
Heated to a temperature of 50 ° C. This was irradiated with light through a glass filter from a distance of 10 cm with a 400 W high-pressure mercury lamp for 6 hours to carry out photopolymerization. The obtained reaction product was made into a solution having a concentration of 40% with tetrahydrofuran, and the following monomer [M-
4] 25 g was added, the atmosphere was replaced with nitrogen, and light irradiation was performed again for 10 hours. The obtained reaction product was reprecipitated in 2 liters of methanol, collected, and dried. The obtained resin [P-105] had a yield of 63 g and Mw of 6 × 10 4 .
【0207】[0207]
【化80】 Embedded image
【0208】樹脂〔P1 〕の合成例106〜114:合
成例105と同様の方法により、下記の各共重合体を合
成した。得られた樹脂〔P−106〕〜〔P−114〕
のMwは6×104 〜8×104 の範囲であった。Synthesis Examples 106 to 114 of Resin [P 1 ] The following copolymers were synthesized in the same manner as in Synthesis Example 105. The obtained resins [P-106] to [P-114]
Mw ranged from 6 × 10 4 to 8 × 10 4 .
【0209】[0209]
【化81】 Embedded image
【0210】[0210]
【化82】 Embedded image
【0211】[0211]
【化83】 Embedded image
【0212】[0212]
【化84】 Embedded image
【0213】[0213]
【化85】 Embedded image
【0214】樹脂〔P1 〕の合成例115:ベンジル
N,N−ジエチルジチオカーバメイトの代わりに、下記
構造の開始剤〔I−2〕10gを用いた他は合成例10
4と同様の方法により、Mw8.3×104 の樹脂〔P−
115〕を得た。Synthesis Example 115 of Resin [P 1 ] Synthesis Example 115 was repeated except that 10 g of an initiator [I-2] having the following structure was used in place of benzyl N, N-diethyldithiocarbamate.
In the same manner as in Example 4, a resin having Mw of 8.3 × 10 4 [P-
115] was obtained.
【0215】[0215]
【化86】 Embedded image
【0216】樹脂〔P1 〕の合成例116:ベンジルイ
ソプロピルザンテートの代わりに、下記構造の開始剤
〔I−3〕12gを用いた他は、合成例105と同様の
方法により、Mw9.3×104 の樹脂〔P−116〕を
得た。Synthetic Example 116 of Resin [P 1 ]: Mw 9.3 was obtained in the same manner as in Synthetic Example 105 except that 12 g of an initiator [I-3] having the following structure was used in place of benzyl isopropyl xanthate. × 10 4 resin [P-116] was obtained.
【0217】[0219]
【化87】 Embedded image
【0218】樹脂〔P1 〕の合成例117〜125:ベ
ンジル−N,N−ジエチルジチオカーバメイトの代わり
に、下記構造の開始剤〔I−4〕14gを用い、又、下
記表−103の構成単位に相当する各単量体を用いた他
は、合成例104と同様の方法により、Mw7×104
〜9×104の樹脂〔P−117〕〜〔P−125〕を
得た。Synthesis Examples 117 to 125 of Resin [P 1 ]: In place of benzyl-N, N-diethyldithiocarbamate, 14 g of an initiator [I-4] having the following structure was used. Mw 7 × 10 4 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 104 except that each monomer corresponding to the unit was used.
To 9 × 10 4 resins [P-117] to [P-125] were obtained.
【0219】[0219]
【化88】 Embedded image
【0220】[0220]
【表2】 [Table 2]
【0221】[0221]
【表3】 [Table 3]
【0222】[0222]
【表4】 [Table 4]
【0223】樹脂〔P1 〕の合成例126〜134:開
始剤〔I−3〕の代わりに、下記構造の化合物〔I−
5〕9.6gを用い、又下記表−104の構成単位に相当
する各単量体を用いた他は、合成例116と同様の方法
により、Mw8×104 〜10×104 の樹脂〔P−1
26〕〜〔P−134〕を得た。Synthesis Examples 126 to 134 of Resin [P 1 ]: In place of the initiator [I-3], a compound [I-
5] A resin having Mw of 8 × 10 4 to 10 × 10 4 was prepared in the same manner as in Synthesis Example 116 except that 9.6 g was used and each monomer corresponding to the structural unit shown in Table 104 below was used. P-1
26] to [P-134].
【0224】[0224]
【化89】 Embedded image
【0225】[0225]
【表5】 [Table 5]
【0226】[0226]
【表6】 [Table 6]
【0227】[0227]
【表7】 [Table 7]
【0228】[0228]
【表8】 [Table 8]
【0229】樹脂〔P1 〕の合成例135〜138:下
記表−105の構成単位に相当する単量体40g、下記
構造の化合物〔I−6〕11g及びテトラヒドロフラン
40gの混合物を窒素気流下に容器に密閉し、温度50
gに加温した。これに、400Wの高圧水銀灯で10c
mの距離からガラスフィルターを通して、12時間光照
射し光重合した。これに、メチルメタクリレート23
g、メチルアクリレート22g及びグリシジルメタクリ
レート15gの50重量%テトラヒドロフラン溶液を加
えた後、窒素置換し再び10時間光照射した。得られた
反応物をメタノール1リットルに再沈し、捕集し乾燥し
た。得られた樹脂〔P−135〕〜〔P−138〕は、
Mw6×104 〜8×104 であった。Synthesis Examples 135 to 138 of Resin [P 1 ]: A mixture of 40 g of a monomer corresponding to the structural unit shown in Table 105 below, 11 g of a compound [I-6] having the following structure, and 40 g of tetrahydrofuran was placed under a nitrogen stream. Seal in a container, temperature 50
g. 10C with a 400W high pressure mercury lamp
Light irradiation was performed for 12 hours through a glass filter from a distance of m for photopolymerization. In addition, methyl methacrylate 23
g, 22 g of methyl acrylate and 15 g of glycidyl methacrylate in 50% by weight of tetrahydrofuran, followed by nitrogen replacement and light irradiation again for 10 hours. The obtained reaction product was reprecipitated in 1 liter of methanol, collected and dried. The obtained resins [P-135] to [P-138]
Mw was 6 × 10 4 to 8 × 10 4 .
【0230】[0230]
【化90】 Embedded image
【0231】[0231]
【表9】 [Table 9]
【0232】樹脂〔P2 〕の合成例201:メチルメタ
クリレート57g、メチルアクリレート28g、グリシ
ジルメタクリレート15g、下記構造の開始剤〔I−
7〕17.5g及びテトラヒドロフラン150gの混合溶
液を窒素気流下に温度50℃に加温した。この溶液を4
00Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガラスフィルタ
ーを通して10時間光照射し光重合させた。得られた反
応物をメタノール1リットル中に再沈し、沈殿物を補集
し乾燥して、収量72gでMw4.0×104 の重合体を
得た。この重合体40g、下記構造の単量体(M−5)
60g及びテトラヒドロフラン100gの混合溶液を、
窒素気流下に温度50℃とし、上記と同条件で15時間
光照射した。次にこの反応物をメタノール1.5リットル
中に再沈し、沈殿物を補集・乾燥して収量78gでMw
6×104 の樹脂〔P−201〕を得た。Synthesis Example 201 of Resin [P 2 ]: 57 g of methyl methacrylate, 28 g of methyl acrylate, 15 g of glycidyl methacrylate, and an initiator [I-
7] A mixed solution of 17.5 g and 150 g of tetrahydrofuran was heated to a temperature of 50 ° C. under a nitrogen stream. Add this solution to 4
Light irradiation was performed for 10 hours through a glass filter from a distance of 10 cm with a high-pressure mercury lamp of 00 W to carry out photopolymerization. The obtained reaction product was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain a polymer having an Mw of 4.0 × 10 4 in a yield of 72 g. 40 g of this polymer, a monomer having the following structure (M-5)
A mixed solution of 60 g and 100 g of tetrahydrofuran is
The temperature was set to 50 ° C. in a nitrogen stream, and light irradiation was performed under the same conditions as above for 15 hours. Next, this reaction product was reprecipitated in 1.5 liters of methanol, and the precipitate was collected and dried to give a yield of 78 g of Mw.
6 × 10 4 resin [P-201] was obtained.
【0233】[0233]
【化91】 Embedded image
【0234】[0234]
【化92】 Embedded image
【0235】樹脂〔P2 〕の合成例202〜214:
〔P−202〕〜〔P−214〕 開始剤〔I−7〕17.5gの代わりに、下記表−202
の開始剤0.031モルを用いた他は、合成例201と同
様の条件で操作した。得られた各樹脂〔P−202〕〜
〔P−214〕の収量は70〜80gでMw4×104
〜6×104 であった。Synthesis Examples 202 to 214 of Resin [P 2 ]:
[P-202] to [P-214] In place of 17.5 g of the initiator [I-7], the following Table 202 was used.
The procedure was performed under the same conditions as in Synthesis Example 201, except that 0.031 mol of the initiator was used. Each of the obtained resins [P-202] to
The yield of [P-214] is 70 to 80 g and Mw 4 × 10 4.
66 × 10 4 .
【0236】[0236]
【表10】 [Table 10]
【0237】[0237]
【表11】 [Table 11]
【0238】[0238]
【表12】 [Table 12]
【0239】[0239]
【表13】 [Table 13]
【0240】[0240]
【表14】 [Table 14]
【0241】樹脂〔P2 〕の合成例215〜233:
〔P−215〕〜〔P−233〕 単量体〔M−5〕60gの代わりに下記表−203の構
成単位に相当する各単量体60gを用いた他は、合成例
201と同様に操作して、各樹脂〔P−215〕〜〔P
−233〕を得た。各樹脂のMwは6×104 〜7×1
04 の範囲であった。Synthetic Examples 215 to 233 of Resin [P 2 ]
[P-215] to [P-233] In the same manner as in Synthesis Example 201, except that 60 g of each monomer corresponding to the structural unit shown in Table 203 below was used instead of 60 g of the monomer [M-5]. Operate each resin [P-215]-[P
-233] was obtained. Mw of each resin is 6 × 10 4 to 7 × 1
0 was 4 of range.
【0242】[0242]
【表15】 [Table 15]
【0243】[0243]
【表16】 [Table 16]
【0244】[0244]
【表17】 [Table 17]
【0245】[0245]
【表18】 [Table 18]
【0246】[0246]
【表19】 [Table 19]
【0247】樹脂〔P2 〕の合成例234〜240:
〔P−234〕〜〔P−240〕 下記表−204の構成単位に相当するメタクリレート単
量体70g、下記表−204の構成単位Yに相当する各
単量体30g、開始剤〔I−13〕15g及びテトラヒ
ドロフラン100gの混合溶液を用いた他は、合成例2
01と同様の方法により、Mw6×104 〜7×104
の重合体を80g得た。次に、この重合体50g、合成
例201の単量体〔M−5〕50g及びテトラヒドロフ
ラン100gの混合溶液とし、重合反応は樹脂の合成例
201と同様にして行なった。但し、再沈溶媒はメタノ
ールに代えて、ジエチルエーテルを用いた。得られた樹
脂〔P−234〕〜〔P−240〕のMwは8×104
〜10×104 の範囲であった。Synthesis Examples 234 to 240 of Resin [P 2 ]:
[P-234] to [P-240] 70 g of a methacrylate monomer corresponding to the structural unit of Table-204 below, 30 g of each monomer corresponding to the structural unit Y of Table-204 below, and an initiator [I-13] Synthesis Example 2 except that a mixed solution of 15 g and 100 g of tetrahydrofuran was used.
Mw 6 × 10 4 to 7 × 10 4
80 g of a polymer was obtained. Next, a mixed solution of 50 g of this polymer, 50 g of the monomer [M-5] of Synthesis Example 201, and 100 g of tetrahydrofuran was used, and the polymerization reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 201 of resin. However, diethyl ether was used as the reprecipitation solvent instead of methanol. Mw of the obtained resins [P-234] to [P-240] is 8 × 10 4
It was in the range of 〜1010 × 10 4 .
【0248】[0248]
【表20】 [Table 20]
【0249】[0249]
【表21】 [Table 21]
【0250】樹脂〔P2 〕の合成例241〜254:
〔P−241〕〜〔P−254〕 開始剤〔I−7〕17.5gに代えて開始剤〔I−9〕
10gを用い、再沈溶媒メタノールに代えてジエチルエ
ーテルを用いた他は、合成例201と同様の方法によ
り、下記式で表される各樹脂〔P−241〕〜〔P−2
54〕を合成した。得られた樹脂のMwは7×104 〜
9×104 の範囲であった。Synthesis Examples 241 to 254 of Resin [P 2 ]
[P-241] to [P-254] Initiator [I-9] instead of 17.5 g of initiator [I-7]
Each of the resins [P-241] to [P-2] represented by the following formulas was prepared in the same manner as in Synthesis Example 201 except that 10 g was used, and diethyl ether was used instead of the reprecipitation solvent methanol.
54] was synthesized. Mw of the obtained resin is 7 × 10 4 or more.
The range was 9 × 10 4 .
【0251】[0251]
【化93】 Embedded image
【0252】式中、[P] は各々下記の構造を有する高分
子鎖である。In the formula, [P] is a polymer chain having the following structure.
【0253】[0253]
【化94】 Embedded image
【0254】[0254]
【化95】 Embedded image
【0255】[0255]
【化96】 Embedded image
【0256】[0256]
【化97】 Embedded image
【0257】[0257]
【化98】 Embedded image
【0258】樹脂〔P3 〕の合成例301:〔P−30
1〕 メチルメタクリレート60g、下記構造のマクロモノマ
ー〔M−6〕30g、グリシジルメタクリレート10
g、及びトルエン150gの混合溶液を、窒素気流下に
温度70℃とした。2,2'−アゾビスイソブチロニトリル
(略称:A.I.B.N)1.0gを加え4時間反応させ、更にA.
I.B.N. 0.5gを加え4時間反応させた。得られた樹脂
〔P−301〕のMw(重量平均分子量)は6.5×10
4 であった。Synthesis Example 301 of Resin [P 3 ]: [P-30]
1] 60 g of methyl methacrylate, 30 g of a macromonomer [M-6] having the following structure, and glycidyl methacrylate 10
g and a mixed solution of 150 g of toluene were brought to a temperature of 70 ° C. under a nitrogen stream. 1.0 g of 2,2'-azobisisobutyronitrile (abbreviation: AIBN) was added and reacted for 4 hours.
0.5 g of IBN was added and reacted for 4 hours. Mw (weight average molecular weight) of the obtained resin [P-301] is 6.5 × 10
Was 4 .
【0259】[0259]
【化99】 Embedded image
【0260】樹脂〔P3 〕の合成例302〜314:
〔P−302〕〜〔P−314〕 樹脂〔P−301〕の合成例1において、マクロモノマ
ー〔M−6〕30gの代わりに下記表−302の構成単
位に相当するマクロモノマー30gを用いた他は、合成
例301と同様の方法により、各樹脂〔P−302〕〜
〔P−314〕を合成した。得られた樹脂のMwは5×
104 〜8×104 の範囲であった。用いたマクロモノ
マーのMwは下記表−302に記載した。Synthesis Examples 302 to 314 of Resin [P 3 ]:
[P-302] to [P-314] In Synthesis Example 1 of resin [P-301], 30 g of macromonomer [M-6] was used in place of 30 g of macromonomer [M-6]. Otherwise, in the same manner as in Synthesis Example 301, each of the resins [P-302] to
[P-314] was synthesized. Mw of the obtained resin is 5 ×
The range was from 10 4 to 8 × 10 4 . The Mw of the used macromonomer is shown in Table-302 below.
【0261】[0261]
【表22】 [Table 22]
【0262】[0262]
【表23】 [Table 23]
【0263】[0263]
【表24】 [Table 24]
【0264】[0264]
【表25】 [Table 25]
【0265】樹脂〔P3 〕の合成例315〜325:
〔P−315〕〜〔P−325〕 下記表−303の構成単位に相当する単量体、ポリシロ
キサン構造のマクロモノマーFM−0721(チッソ
(株)製、Mw1×104 )25g及びトルエン200
gの混合溶液を窒素気流下に温度80℃に加温した。そ
の後、2,2'−アゾビスイソブチロニトリル(略称;A.I.
B.N.)1.0gを加え、4時間反応させ、更に、A.I.B.N.
0.5gを加え、4時間反応させた。Synthesis Examples 315 to 325 of Resin [P 3 ]:
[P-315] to [P-325] 25 g of a monomer corresponding to the structural unit shown in Table 303 below, 25 g of a macrosiloxane FM-0721 (manufactured by Chisso Corporation, Mw 1 × 10 4 ) having a polysiloxane structure, and 200 parts of toluene
g of the mixed solution was heated to a temperature of 80 ° C. under a nitrogen stream. Thereafter, 2,2′-azobisisobutyronitrile (abbreviation: AI
BN), and react for 4 hours.
0.5 g was added and reacted for 4 hours.
【0266】[0266]
【表26】 [Table 26]
【0267】[0267]
【表27】 [Table 27]
【0268】[0268]
【表28】 [Table 28]
【0269】[0269]
【表29】 [Table 29]
【0270】樹脂〔P3 〕の合成例326〜337:
〔P−326〕〜〔P−337〕 下記単量体〔M−7〕、下記表−304の構造に相当す
るマクロモノマー及びトルエン200gの混合溶液を用
いた他は、合成例301と同様の方法により、該表に示
す樹脂〔P−326〕〜〔P−337〕を得た。各樹脂
のMwは6×104 〜8×104 の範囲であった。Synthetic Examples 326 to 337 of Resin [P 3 ]:
[P-326] to [P-337] The same as Synthesis Example 301 except that a mixed solution of the following monomer [M-7], a macromonomer corresponding to the structure in Table-304 below, and 200 g of toluene was used. According to the method, resins [P-326] to [P-337] shown in the table were obtained. The Mw of each resin ranged from 6 × 10 4 to 8 × 10 4 .
【0271】[0271]
【化100】 Embedded image
【0272】[0272]
【表30】 [Table 30]
【0273】[0273]
【表31】 [Table 31]
【0274】[0274]
【表32】 [Table 32]
【0275】[0275]
【表33】 [Table 33]
【0276】樹脂〔P4 〕の合成例401:下記構造の
単量体(M−8)50g、下記構造の開始剤〔I−2
1〕0.5g及びテトラヒドロフラン50gの混合溶液
を、窒素気流下に容器に密閉し、温度60℃に加温し
た。これに400Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガ
ラスフィルターを通して10時間光照射し光重合した。
この反応物溶液に、メチルメタクリレート25gグリシ
ジルメタクリレート15g下記構造のマクロモノマー
〔M−9〕10g及びテトラヒドロフラン50gの混合
溶液を加えた後、窒素置換し再び16時間光照射した。
得られた反応混合物を、メタノール1.0リットル中に再
沈し、捕集し、乾燥した。得られた樹脂〔P−401〕
は、68gでMw6×104 であった。Synthesis Example 401 of Resin [P 4 ] 50 g of a monomer (M-8) having the following structure, and an initiator [I-2] having the following structure
1] A mixed solution of 0.5 g and 50 g of tetrahydrofuran was sealed in a vessel under a nitrogen stream, and heated to a temperature of 60 ° C. This was irradiated with light through a glass filter from a distance of 10 cm with a 400 W high-pressure mercury lamp for 10 hours to carry out photopolymerization.
To this reaction product solution was added a mixed solution of 25 g of methyl methacrylate, 15 g of glycidyl methacrylate, 10 g of a macromonomer [M-9] having the following structure, and 50 g of tetrahydrofuran.
The resulting reaction mixture was re-precipitated in 1.0 liter of methanol, collected and dried. Obtained resin [P-401]
Mw was 6 × 10 4 at 68 g.
【0277】[0277]
【化101】 Embedded image
【0278】[0278]
【化102】 Embedded image
【0279】樹脂〔P4 〕の合成例402:下記構造の
単量体(M−10)36g、シロキサンマクロモノマー
プラクセルーFM−725(チッ素(株)製Mw1×1
04 )4g、下記構造の開始剤〔I−22〕1.0g及び
テトラヒドロフラン50gの混合溶液を窒素気流下に容
器に密閉し、温度50℃に加温した。これに、合成例4
01と同様の光照射条件で12時間光照射し光重合し
た。この重合体溶液に、メチルメタクリレート24g、
メチルアクリレート18g、グリシジルメタクリレート
18g及びテトラヒドロフラン60gの混合溶液を加え
た後、窒素置換し、再び10時間光照射した。得られた
反応混合物をメタノール1リットル中に再沈し、補集
し、乾燥した。得られた樹脂〔P−402〕は、収量7
0gでMw8×104 であった。Synthesis Example 402 of Resin [P 4 ]: 36 g of monomer (M-10) having the following structure, siloxane macromonomer Praxel FM-725 (Mw1 × 1 manufactured by Nitrogen Co., Ltd.)
0 4) 4g, a mixed solution of the initiator [I-22] 1.0g and tetrahydrofuran 50g of the following structure was sealed in a container under a stream of nitrogen, was heated to a temperature of 50 ° C.. In addition, Synthesis Example 4
Light irradiation was performed for 12 hours under the same light irradiation conditions as in Example 01 to carry out photopolymerization. 24 g of methyl methacrylate was added to the polymer solution.
After adding a mixed solution of 18 g of methyl acrylate, 18 g of glycidyl methacrylate and 60 g of tetrahydrofuran, the atmosphere was replaced with nitrogen, and light irradiation was performed again for 10 hours. The obtained reaction mixture was reprecipitated in 1 liter of methanol, collected, and dried. The obtained resin [P-402] has a yield of 7
Mw was 8 × 10 4 at 0 g.
【0280】[0280]
【化103】 Embedded image
【0281】[0281]
【化104】 Embedded image
【0282】樹脂〔P4 〕の合成例403:〔P−40
3〕 メチルメタクリレート25g、グリシジルメタクリレー
ト15g、下記構造のマクロモノマー(M−11)10
g、下記構造の開始剤〔I−23〕2.5g及びテトラヒ
ドロフラン50gの混合溶液を、窒素気流下に脱気した
後、合成例401と同様の条件で、12時間光重合を行
なった。この重合溶液に、下記構造の単量体(M−1
2)50g及びテトラヒドロフラン60gの混合溶液を
加えた後、窒素置換し、再び12時間光照射し、重合し
た。得られた反応物を、メタノール1リットル中に再沈
し、沈殿物を補集し、乾燥した。Mw5.3×104 の樹
脂〔P−403〕72gを得た。Synthesis Example 403 of Resin [P 4 ]: [P-40]
3] 25 g of methyl methacrylate, 15 g of glycidyl methacrylate, macromonomer (M-11) 10 having the following structure
g, a mixed solution of 2.5 g of an initiator [I-23] having the following structure and 50 g of tetrahydrofuran were degassed under a nitrogen stream, and then photopolymerized for 12 hours under the same conditions as in Synthesis Example 401. A monomer having the following structure (M-1) was added to this polymerization solution.
2) After adding a mixed solution of 50 g and 60 g of tetrahydrofuran, the atmosphere was replaced with nitrogen, and the mixture was irradiated with light again for 12 hours to carry out polymerization. The obtained reaction product was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried. 72 g of a resin [P-403] having an Mw of 5.3 × 10 4 was obtained.
【0283】[0283]
【化105】 Embedded image
【0284】[0284]
【化106】 Embedded image
【0285】樹脂〔P4 〕の合成例404〜416:マ
クロモノマーとして下記の表−402の構成単位に相当
するマクロモノマーを用いた他は、合成例402と同様
の方法により各樹脂〔P−404〕〜〔P−416〕を
合成した。得られた樹脂のMwは5×104 〜8×10
4 の範囲でであった。用いたマクロモノマーのMwは下
記表−402に記載した。Synthesis Examples 404 to 416 of Resin [P 4 ]: Each of the resins [P 4 ] was prepared in the same manner as in Synthesis Example 402 except that macromonomers corresponding to the structural units shown in Table 402 below were used as macromonomers. 404] to [P-416] were synthesized. Mw of the obtained resin is 5 × 10 4 to 8 × 10
It was in the range of 4 . The Mw of the used macromonomer is shown in Table-402 below.
【0286】[0286]
【表34】 [Table 34]
【0287】[0287]
【表35】 表−402(続き) 合成例 P マクロモノマーM A 部 マクロモノマーの −X−の化学構造 MW ──────────────────────────────────── 404 P- 404 MA −4 6.5 ×103 405 P- 405 MA −5 8 ×103 406 P- 406 MA −6 6 ×103 407 P- 407 MA −7 8 ×103 408 P- 408 MA −8 5 ×103 409 P- 409 MA −9 8 ×103 410 P- 410 MA −10 7 ×103 411 P- 411 MA −11 6 ×103 412 P- 412 MA −12 9 ×103 413 P- 413 MA −13 1.5 ×104 414 P- 414 MA −14 1.2 ×104 415 P- 415 MA −15 1.5 ×104 416 P- 416 MA −16 1.0 ×104 ───────────────────────────────────Table 35 (Continued) Synthesis Example P Macromonomer M Part A Chemical Structure of -X- of Macromonomer M W ───────────────────── ─────────────── 404 P- 404 M A -4 6.5 x 10 3 405 P- 405 M A- 58 8 x 10 3 406 P- 406 M A- 66 6 x 10 3 407 P- 407 M A -7 8 × 10 3 408 P- 408 M A -8 5 × 10 3 409 P- 409 M A -9 8 × 10 3 410 P- 410 M A -10 7 × 10 3 411 P- 411 M A− 116 6 × 10 3 412 P− 412 M− A 12 9 × 10 3 413 P− 413 M A− 13 1.5 × 10 4 414 P− 414 M A− 14 1.2 × 10 4 415 P− 415 M A- 15 1.5 × 10 4 416 P-416 M A- 16 1.0 × 10 4 ───────────────────────────── ──────
【0288】[0288]
【化107】 Embedded image
【0289】[0289]
【化108】 Embedded image
【0290】[0290]
【化109】 Embedded image
【0291】[0291]
【化110】 Embedded image
【0292】樹脂〔P〕の合成例417〜429:樹脂
〔P〕の合成例401と同様の方法により、下記表−4
03の各樹脂を合成した。得られた樹脂のMwは4×1
04 〜8×104 の範囲であった。又、用いた一官能性
マクロモノマーのMwは6×103 〜1×104 であっ
た。Synthesis Examples 417 to 429 of Resin [P]: In the same manner as in Synthesis Example 401 of Resin [P], the following Table-4
No. 03 were synthesized. Mw of the obtained resin is 4 × 1
0 ranged from 4 ~8 × 10 4. The Mw of the monofunctional macromonomer used was 6 × 10 3 to 1 × 10 4 .
【0293】[0293]
【表36】 [Table 36]
【0294】[0294]
【表37】 [Table 37]
【0295】[0295]
【表38】 [Table 38]
【0296】[0296]
【表39】 [Table 39]
【0297】[0297]
【化111】 Embedded image
【0298】[0298]
【化112】 Embedded image
【0299】[0299]
【化113】 Embedded image
【0300】[0300]
【化114】 Embedded image
【0301】[0301]
【化115】 Embedded image
【0302】[0302]
【化116】 Embedded image
【0303】樹脂〔Q1 〕の合成例1:〔Q−1〕 ベンジルメタクリレート80g、下記構造の繰り返し単
位に相当するマロモノマー〔重量平均分子量(Mw)6
×103 〕20g及びトルエン100gの混合溶液を、
窒素気流下に温度80℃に加温した。2,2−アゾビス
(バレロニトリル)(略称;A.I.V.N.)6gを加えて3
時間反応し、更にA.I.V.N.1gを加えて4時間反応し
た。得られた共重合体のMwは9.5×103 であった。Synthesis Example 1 of Resin [Q 1 ]: [Q-1] 80 g of benzyl methacrylate, malomonomer [weight average molecular weight (Mw) 6 corresponding to a repeating unit having the following structure:
× 10 3 ] a mixed solution of 20 g and 100 g of toluene,
The mixture was heated to a temperature of 80 ° C. under a nitrogen stream. 3 g by adding 6 g of 2,2-azobis (valeronitrile) (abbreviation: AIVN)
After reacting for 1 hour, 1 g of AIVN was further added and reacted for 4 hours. Mw of the obtained copolymer was 9.5 × 10 3 .
【0304】[0304]
【化117】 Embedded image
【0305】樹脂〔Q1 〕の合成例2:〔Q−2〕 メチルメタクリレート60g、下記構造の繰り返し単位
に相当するマクロモノマー(Mw 5×103 〕25
g、メチルアクリレート15g、トルエン130g及び
エタノール20gの混合溶液を、窒素気流下に温度80
℃に加温した。2,2'−アゾビス(シアノ吉草酸)(A.C.
V.)7gを加えて4時間反応し、更にA.C.V.1gを加え
て4時間反応した。得られた共重合体のMwは1×10
4 であった。Synthesis Example 2 of Resin [Q 1 ]: [Q-2] 60 g of methyl methacrylate, macromonomer (Mw 5 × 10 3 ) 25 corresponding to a repeating unit having the following structure
g, 15 g of methyl acrylate, 130 g of toluene and 20 g of ethanol at 80 ° C. under a nitrogen stream.
Warmed to ° C. 2,2'-azobis (cyanovaleric acid) (AC
V.) 7 g was added and reacted for 4 hours, and 1 g of ACV was further added and reacted for 4 hours. Mw of the obtained copolymer is 1 × 10
Was 4 .
【0306】[0306]
【化118】 Embedded image
【0307】樹脂〔Q1 〕の合成例3:〔Q−3〕 2−クロロフェニルメタクリレート70g、下記構造の
繰り返し単位に相当するマクロモノマー(Mw 6.5×
103 〕25g、チオグリコール酸2g及びトルエン1
50gの混合溶液を窒素気流下に温度75℃に加温し
た。2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)(A. I.
B. N.)1gを加えて4時間反応し、後にA.I. B. N. 0.
8gを加え3時間、更にA. I. B. N. 0.5gを加えて4
時間反応した。得られた共重合体のMwは7.8×104
であった。Synthesis Example 3 of Resin [Q 1 ]: [Q-3] 70 g of 2-chlorophenyl methacrylate, a macromonomer (Mw 6.5 ×) corresponding to a repeating unit having the following structure
10 3 ] 25 g, thioglycolic acid 2 g and toluene 1
50 g of the mixed solution was heated to a temperature of 75 ° C. under a nitrogen stream. 2,2'-azobis (isobutyronitrile) (AI
1 g of BN) and reacted for 4 hours.
Add 8 g for 3 hours, then add 0.5 g of AIBN and add 4
Reacted for hours. Mw of the obtained copolymer was 7.8 × 10 4
Met.
【0308】[0308]
【化119】 Embedded image
【0309】樹脂〔Q1 〕の合成例4〜11:〔Q−
4〕〜〔Q−11〕 樹脂〔Q1 〕の合成例1と同様にして、下記表−2に相
当するメタクリレートとマクロモノマーを用いて、各樹
脂〔Q〕を合成した。各樹脂〔Q〕のMwは、7×10
3 〜1×104 の範囲であった。又、用いたマクロモノ
マーのMwは5×103 〜7×103 の範囲であった。Synthesis Examples 4 to 11 of Resin [Q 1 ]: [Q-
4] to [Q-11] Resin [Q] was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 of resin [Q 1 ], using methacrylate and macromonomer corresponding to Table 2 below. Mw of each resin [Q] is 7 × 10
It was in the range of 3 to 1 × 10 4 . The Mw of the used macromonomer was in the range of 5 × 10 3 to 7 × 10 3 .
【0310】[0310]
【表40】 [Table 40]
【0311】[0311]
【表41】 [Table 41]
【0312】樹脂〔Q1 〕の合成例12〜19:〔Q−
12〕〜〔Q−19〕 樹脂〔Q1 〕の合成例2と同様にして、メタクリレー
ト、マクロモノマー及びアゾビス系化合物を各々代え
て、下記表−3の樹脂〔Q〕を各々合成した。各樹脂
〔Q〕のMwは、8×103 〜1×104 の範囲であっ
た。又、用いた各々のマクロモノマーのMwは4×10
3 〜6×103 の範囲であった。Synthetic Examples 12 to 19 of Resin [Q 1 ]: [Q-
12] to [Q-19] Resin [Q] shown in Table 3 below was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 2 of resin [Q 1 ], except that methacrylate, macromonomer, and azobis-based compound were each replaced. The Mw of each resin [Q] was in the range of 8 × 10 3 to 1 × 10 4 . The Mw of each macromonomer used was 4 × 10
3 ranged to 6 × 10 3.
【0313】[0313]
【表42】 [Table 42]
【0314】[0314]
【表43】 [Table 43]
【0315】樹脂〔Q1 〕の合成例20〜27:〔Q−
20〕〜〔Q−27〕 樹脂〔Q1 〕の合成例3と同様にして、メタクリレー
ト、マクロモノマー及びメルカプト化合物を各々代え
て、下記表−4の樹脂〔Q〕を各々合成した。各樹脂
〔Q〕のMwは、7×103 〜1×104 の範囲であっ
た。又、用いた各々のマクロモノマーのMwは3×10
3 〜6×104 の範囲であった。Synthesis Examples 20 to 27 of Resin [Q 1 ]: [Q-
20] to [Q-27] Resins [Q] shown in Table 4 below were synthesized in the same manner as in Synthesis Example 3 of resin [Q 1 ], except that methacrylate, macromonomer, and mercapto compound were each replaced. Mw of each resin [Q] was in the range of 7 × 10 3 to 1 × 10 4 . The Mw of each macromonomer used was 3 × 10
The range was from 3 to 6 × 10 4 .
【0316】[0316]
【表44】 [Table 44]
【0317】[0317]
【表45】 [Table 45]
【0318】樹脂〔Q1 〕の合成例28〜35:〔Q−
28〕〜〔Q−35〕 樹脂〔Q1 〕の合成例3と同様にして、下記繰り返し単
位に相当するマクロモノマー(Mw 4×103 )20
g、チオサリチル酸2g、下記表−5に相当する単量体
80g、トルエン130g及びエタノール20gの混合
溶液を重合し、下記表−5の樹脂〔Q〕を各々合成し
た。各樹脂〔Q〕のMwは、6×103 〜8.5×103
の範囲であった。Synthesis Examples 28 to 35 of Resin [Q 1 ]: [Q-
28] to [Q-35] Macromonomer (Mw 4 × 10 3 ) 20 corresponding to the following repeating unit in the same manner as in Synthesis Example 3 of resin [Q 1 ].
g, 2 g of thiosalicylic acid, a mixed solution of 80 g of a monomer corresponding to Table 5 below, 130 g of toluene and 20 g of ethanol were polymerized to synthesize resins [Q] shown in Table 5 below. Mw of each resin [Q] is 6 × 10 3 to 8.5 × 10 3
Was in the range.
【0319】[0319]
【表46】 [Table 46]
【0320】[0320]
【表47】 [Table 47]
【0321】マクロモノマー(MD )の合成例1:(M
−13) トリフェニルメチルメタクリレート30g及びトルエン
100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−20
℃に冷却した。1,1−ジフェニルブチルリチウム1.0
gを加え10時間反応させた。更にこの混合溶液に、エ
チルメタクリレート70g及びトルエン100gの混合
溶液を窒素気流下に充分に脱気した後、添加し、更に1
0時間反応させた。この混合物を0℃にした後炭酸ガス
を毎分60ml の流量で30分間通気し、重合反応を停
止させた。得られた反応液を攪拌下に、温度25℃と
し、2−ヒドロキシエチルメタクリレート6gを加え、
更に、ジシクロヘキシルカルボジイミド12g、4−
N,N−ジメチルアミノピリジン1.0g及び塩化メチレ
ン20gの混合溶液を30分間で滴下し、そのまま3時
間攪拌した。析出した不溶物を濾別した後、この混合溶
液に、30%塩化水素エタノール溶液10ml を加え1
時間攪拌した。次に、減圧下に反応混合物を全体量が半
分になるまで溶媒を留去した後、石油エーテル1リット
ル中に再沈した。沈殿物を補集し、減圧乾燥して得られ
た重合体は、Mw6.5×103 で収量56gであった。Synthesis Example 1 of Macromonomer (M D )
-13) A mixed solution of 30 g of triphenylmethyl methacrylate and 100 g of toluene was sufficiently degassed under a stream of nitrogen to obtain -20.
Cooled to ° C. 1,1-diphenylbutyllithium 1.0
g was added and reacted for 10 hours. Further, to this mixed solution, a mixed solution of 70 g of ethyl methacrylate and 100 g of toluene was sufficiently degassed under a nitrogen stream, and then added.
The reaction was performed for 0 hours. After the mixture was cooled to 0 ° C., carbon dioxide gas was bubbled at a flow rate of 60 ml / min for 30 minutes to terminate the polymerization reaction. The obtained reaction solution was stirred at a temperature of 25 ° C., and 6 g of 2-hydroxyethyl methacrylate was added.
Furthermore, dicyclohexylcarbodiimide 12g, 4-
A mixed solution of 1.0 g of N, N-dimethylaminopyridine and 20 g of methylene chloride was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was stirred for 3 hours. After filtering out the precipitated insoluble matter, 10 ml of a 30% ethanol solution of hydrogen chloride was added to the mixed solution, and
Stirred for hours. Next, the solvent was distilled off under reduced pressure until the total amount of the reaction mixture was reduced to half, and the reaction mixture was reprecipitated in 1 liter of petroleum ether. The precipitate was collected and dried under reduced pressure to give a polymer having an Mw of 6.5 × 10 3 and a yield of 56 g.
【0322】[0322]
【化120】 Embedded image
【0323】マクロモノマー(MD )の合成例2:(M
−14) ベンジルメタクリレート5g、(テトラフェニルポルフ
ィナート)アルミニウムメチル0.1g及び塩化メチレン
60gの混合溶液を窒素気流下に温度30℃とした。こ
れに300W−キセノンランプ光をガラスフィルターを
通して25cmの距離から光照射し、12時間反応させ
た。この混合物に更にブチルメタクリレート45gを加
え、同様に8時間光照射した後、この反応混合物に4−
ブロモメチルスチレン10gを加え、30分間攪拌し反
応を停止させた。次にこの反応混合物にPd−Cを加
え、温度25℃で1時間接触還元反応を行なった。不溶
物を濾別した後石油エーテル500ml 中に再沈し、沈
殿物を補集し乾燥した。得られた重合体は収量33gで
Mw7×103 であった。Synthesis Example 2 of Macromonomer (M D )
-14) A mixed solution of 5 g of benzyl methacrylate, 0.1 g of (tetraphenylporphinato) aluminum methyl and 60 g of methylene chloride was heated to a temperature of 30 ° C. under a nitrogen stream. This was irradiated with light from a 300 W-xenon lamp through a glass filter from a distance of 25 cm, and reacted for 12 hours. 45 g of butyl methacrylate was further added to this mixture, and the mixture was similarly irradiated with light for 8 hours.
10 g of bromomethylstyrene was added, and the mixture was stirred for 30 minutes to stop the reaction. Next, Pd-C was added to the reaction mixture, and a catalytic reduction reaction was performed at a temperature of 25 ° C for 1 hour. After filtering off the insoluble matter, the precipitate was reprecipitated in 500 ml of petroleum ether, and the precipitate was collected and dried. The obtained polymer had a yield of 33 g and Mw of 7 × 10 3 .
【0324】[0324]
【化121】 Embedded image
【0325】マクロモノマー(MD )の合成例3:(M
−15) 4−ビニルフェニルオキシトリメチルシラン20g及び
トルエン100gの混合溶液を窒素気流下に、充分に脱
気し、0℃に冷却した。1,1−ジフェニル−3−メチ
ルペンチルリチウム2gを加え、6時間攪拌した。更に
この混合物に2−クロロ−6−メチルフェニルメタクリ
レート80g及びトルエン100gの混合溶液を窒素気
流下に充分脱気した後、添加して8時間反応させた。こ
の反応混合物に充分に攪拌しながらエチレンオキサイド
を毎分30ml の流量で30分間通気した後、温度15
℃に冷却しメタクリル酸クロライド12gを30分間で
滴下し、更にそのまま3時間攪拌した。次にこの反応混
合物に30%塩化水素エタノール溶液10gを加え、2
5℃で1時間攪拌した後、石油エーテル1リットル中に
再沈し、捕集した沈殿物をジエチルエーテル300ml
で2回洗浄し乾燥した。得られた重合体は、収量55g
でMw7.8×103 であった。Synthesis Example 3 of Macromonomer (M D ): (M
-15) A mixed solution of 20 g of 4-vinylphenyloxytrimethylsilane and 100 g of toluene was sufficiently degassed under a nitrogen stream and cooled to 0 ° C. 2 g of lithium 1,1-diphenyl-3-methylpentyl was added and stirred for 6 hours. Further, to this mixture, a mixed solution of 2-chloro-6-methylphenyl methacrylate (80 g) and toluene (100 g) was sufficiently degassed under a nitrogen stream, and then added, followed by a reaction for 8 hours. Ethylene oxide was bubbled through the reaction mixture at a flow rate of 30 ml / min for 30 minutes with sufficient stirring.
After cooling to ° C., 12 g of methacrylic acid chloride was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 3 hours. Next, 10 g of a 30% ethanol solution of hydrogen chloride was added to the reaction mixture,
After stirring at 5 ° C. for 1 hour, the mixture was reprecipitated in 1 liter of petroleum ether, and the collected precipitate was collected in 300 ml of diethyl ether.
And dried twice. The obtained polymer had a yield of 55 g.
Mw was 7.8 × 10 3 .
【0326】[0326]
【化122】 Embedded image
【0327】マクロモノマー(MD )の合成例4:(M
−16) トリフェニルメチルメタクリレート40g及びトルエン
100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−2
0℃に冷却した。sec-ブチルリチウム2gを加え10時
間反応させた。次に、この混合溶液に、スチレン60g
及びトルエン100gの混合溶液を充分に窒素気流下で
脱気した後添加し12時間反応した。この混合物を0℃
にした後、ベンジルブロマイド11gを加え1時間反応
し、温度25℃で更に2時間反応させた。この反応混合
物に30%塩化水素含有エタノール溶液10gを加え、
2時間攪拌した。不溶物を濾別後、n−ヘキサン1リッ
トル中に再沈し、沈殿物を捕集し減圧乾燥した。得られ
た重合体の収量は58gでMw4.5×103 であった。Synthesis Example 4 of Macromonomer (M D )
-16) A mixed solution of 40 g of triphenylmethyl methacrylate and 100 g of toluene was sufficiently degassed under a nitrogen stream, and -2.
Cooled to 0 ° C. 2 g of sec-butyllithium was added and reacted for 10 hours. Next, 60 g of styrene was added to this mixed solution.
Then, a mixed solution of 100 g of toluene and 100 g was sufficiently degassed under a nitrogen stream and then added, followed by a reaction for 12 hours. This mixture
After that, 11 g of benzyl bromide was added and reacted for 1 hour, and further reacted at a temperature of 25 ° C. for 2 hours. To this reaction mixture was added 10 g of a 30% hydrogen chloride-containing ethanol solution,
Stir for 2 hours. After filtering off the insoluble matter, the precipitate was reprecipitated in 1 liter of n-hexane, and the precipitate was collected and dried under reduced pressure. The yield of the obtained polymer was 58 g and Mw was 4.5 × 10 3 .
【0328】[0328]
【化123】 Embedded image
【0329】マクロモノマー(MD )の合成例5:(M
−17) フェニルメタクリレート70g、ベンジル−N−ヒドロ
キシルエチル−N−エチルジチオカーバメート4.8gの
混合物を、窒素気流下に容器に密閉し、温度60℃に加
温した。これに400Wの高圧水銀灯で10cmの距離か
らガラスフィルターを通して、10時間光照射し光重合
した。これにアクリル酸30g及びメチルエチルケトン
180gを加えた後、窒素置換し再び10時間光照射し
た。得られた反応混合物に、2−イソシアナートエチル
メタクリレート12gを、温度30℃で1時間で滴下
し、更に2時間攪拌した。得られた反応物をヘキサン1.
5リットルに再沈、捕集し乾燥した。得られた重合体
は、68gでMw6.0×103 であった。Synthesis Example 5 of Macromonomer (M D )
-17) A mixture of 70 g of phenyl methacrylate and 4.8 g of benzyl-N-hydroxylethyl-N-ethyldithiocarbamate was sealed in a vessel under a stream of nitrogen and heated to a temperature of 60 ° C. This was irradiated with light through a glass filter from a distance of 10 cm with a 400 W high-pressure mercury lamp for 10 hours to carry out photopolymerization. After 30 g of acrylic acid and 180 g of methyl ethyl ketone were added thereto, the atmosphere was replaced with nitrogen and light irradiation was performed again for 10 hours. 12 g of 2-isocyanatoethyl methacrylate was added dropwise to the obtained reaction mixture at a temperature of 30 ° C. for 1 hour, and the mixture was further stirred for 2 hours. The obtained reaction product was treated with hexane 1.
Reprecipitated to 5 liters, collected and dried. The obtained polymer had a Mw of 6.0 × 10 3 in 68 g.
【0330】[0330]
【化124】 Embedded image
【0331】樹脂〔Q2 〕の合成例1:〔Q−36〕 エチルメタクリレート80g、マクロモノマー(M−1
3)120g及びトルエン150gの混合溶液を窒素気
流下に温度95℃に加温した。2,2'−アゾビス(イソブ
チロニトリル)(A.I.B.N.)6gを加え3時間反応し、
更に2時間毎にA.I.B.N.2gを加え反応した。得られた
共重合体のMwは9×103 であった。Synthesis Example 1 of Resin [Q 2 ]: [Q-36] 80 g of ethyl methacrylate, macromonomer (M-1)
3) A mixed solution of 120 g and 150 g of toluene was heated to a temperature of 95 ° C. under a nitrogen stream. 6 g of 2,2'-azobis (isobutyronitrile) (AIBN) was added and reacted for 3 hours.
Further, every 2 hours, 2 g of AIBN was added and reacted. Mw of the obtained copolymer was 9 × 10 3 .
【0332】[0332]
【化125】 Embedded image
【0333】樹脂〔Q2 〕の合成例2:〔Q−37〕 2−クロロフェニルメタクリレート70g、マクロモノ
マー(M−14)30g、n−ドデシルメルカプタン2
g及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流下に温度
80℃に加温した。2,2’−アゾビス(イソバレロニ
トリル)(A.I.V.N.)3gを加え3時間反応し、更にA.
I.V.N.1gを加え2時間反応した。次にA.I.V.N.1gを
加え温度90℃に加温して3時間反応した。得られた共
重合体のMwは7.6×103 であった。Synthesis Example 2 of Resin [Q 2 ]: [Q-37] 70 g of 2-chlorophenyl methacrylate, 30 g of macromonomer (M-14), n-dodecyl mercaptan 2
g and 100 g of toluene were heated to a temperature of 80 ° C. under a nitrogen stream. 3 g of 2,2'-azobis (isovaleronitrile) (AIVN) was added and reacted for 3 hours.
1 g of IVN was added and reacted for 2 hours. Next, 1 g of AIVN was added, and the mixture was heated to a temperature of 90 ° C. and reacted for 3 hours. The Mw of the obtained copolymer was 7.6 × 10 3 .
【0334】[0334]
【化126】 Embedded image
【0335】樹脂〔Q2 〕の合成例3〜18:〔Q−3
8〕〜〔Q−53〕 樹脂〔Q2 〕の合成例1と同様の重合条件で、エチルメ
タクリレートを他の単量体に代えて下記表−6の共重合
体を合成した。得られた各重合体のMwは5×103 〜
9×103 であった。Synthesis Examples 3 to 18 of Resin [Q 2 ]: [Q-3]
8] to [Q-53] Copolymers shown in Table 6 below were synthesized under the same polymerization conditions as in Synthesis Example 1 of Resin [Q 2 ], except that ethyl methacrylate was replaced by another monomer. The Mw of each of the obtained polymers is 5 × 10 3 to
It was 9 × 10 3 .
【0336】[0336]
【表48】 [Table 48]
【0337】[0337]
【表49】 [Table 49]
【0338】[0338]
【表50】 [Table 50]
【0339】樹脂〔Q2 〕の合成例19〜35:〔Q−
54〕〜〔Q−70〕 樹脂〔Q2 〕の合成例2において、マクロモノマー(M
−14)の代わりに他のマクロモノマー(MD )を用い
た他は、合成例2と同様の重合条件で下記表−7の共重
合体を合成した。得られた各重合体のMwは2×103
〜1×104 であった。Synthesis Examples 19 to 35 of Resin [Q 2 ]: [Q-
54] to [Q-70] In Synthesis Example 2 of the resin [Q 2 ], the macromonomer (M
-14) was used other macromonomer (M D) in place of the copolymer of Table -7 were synthesized under the same polymerization conditions as in Synthesis Example 2. The Mw of each polymer obtained was 2 × 10 3
11 × 10 4 .
【0340】[0340]
【表51】 [Table 51]
【0341】[0341]
【表52】 [Table 52]
【0342】[0342]
【表53】 [Table 53]
【0343】[0343]
【表54】 [Table 54]
【0344】実施例1 X型無金属フタロシアニン(大日本インキ(株)製)1.
5g、下記構造の樹脂〔R−1〕8.5g、樹脂〔Q−
5〕1.5g、本発明の樹脂〔P−104〕0.3g、下記
構造の化合物〔A〕0.15g及びテトラヒドロフラン8
0gの混合物を、500mlのガラス容器にガラスビーズ
と共に入れ、ペイントシェーカー( 東洋精機製作所製)
で60分間分散し、更に、無水フタル酸0.04g及びo
−クロロフェノール0.001gを加え2分間分散した
後、ガラスビーズをろ別して光導電層分散液とした。つ
いでこの分散液を導電性処理および耐溶剤処理を施した
0.2mm厚の紙版マスター用原紙の上にワイヤーバーで塗
布し、指触乾燥した後、110℃循環式オーブンで、2
0秒間乾燥した。更に140℃で1時間加熱した。得ら
れた光導電層の膜厚は10μmであった。Example 1 X-type metal-free phthalocyanine (Dainippon Ink Co., Ltd.) 1.
5 g, 8.5 g of resin [R-1] having the following structure, and resin [Q-
5] 1.5 g, 0.3 g of the resin [P-104] of the present invention, 0.15 g of the compound [A] having the following structure, and tetrahydrofuran 8
0 g of the mixture is placed in a 500 ml glass container together with glass beads, and the mixture is placed on a paint shaker (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho).
For 60 minutes, and 0.04 g of phthalic anhydride and o
After adding 0.0001 g of chlorophenol and dispersing for 2 minutes, the glass beads were filtered to obtain a photoconductive layer dispersion. Then, this dispersion was subjected to a conductive treatment and a solvent resistance treatment.
It is applied on a 0.2 mm thick paper plate master paper with a wire bar, dried by touch, and then dried in a 110 ° C. circulating oven.
Dry for 0 seconds. Further heating was performed at 140 ° C. for 1 hour. The thickness of the obtained photoconductive layer was 10 μm.
【0345】[0345]
【化127】 Embedded image
【0346】さらにこの光導電層の上に転写層を形成す
るために下記の熱可塑性樹脂溶液を調製した。 ポリ(酢酸ビニル/クロトン酸)(95/5、Mw5×104 )・・3g アンモニア(28%水溶液) ・・1g エタノール ・・97g この溶液をワイヤーバーにて1.3μmの厚さとなるよう
に塗布し、120℃で20秒間オーブン乾燥した。 比較例A1 樹脂〔P−104〕0.3gの代わりに下記構造のランダ
ム共重合体〔RP−1〕0.3gを用いた他は、実施例1
と同様の方法により、電子写真式色校正用原版を作製し
た。Further, in order to form a transfer layer on the photoconductive layer, the following thermoplastic resin solution was prepared. Poly (vinyl acetate / crotonic acid) (95/5, Mw 5 × 10 4 ) 3 g Ammonia (28% aqueous solution) 1 g Ethanol 97 g This solution was adjusted to a thickness of 1.3 μm with a wire bar. Coated and oven dried at 120 ° C. for 20 seconds. Comparative Example A1 Example 1 was repeated except that 0.3 g of the random copolymer [RP-1] having the following structure was used in place of 0.3 g of the resin [P-104].
An electrophotographic color proofreading master was prepared in the same manner as in the above.
【0347】[0347]
【化128】 Embedded image
【0348】比較例B1 実施例1において、樹脂〔R−1〕8.5gおよび樹脂
〔Q−1〕1.5gの代わりに、樹脂〔R−1〕のみ10
gを用いた他は、実施例1と同様の方法により、電子写
真式色校正用原版を作製した。 試験例 実施例1、比較例A1及び比較例B1で作製された電子
写真式色校正用原版の静電特性、転写性及び画像再現性
を調べ、その結果を表−8に示した。Comparative Example B1 In Example 1, instead of 8.5 g of the resin [R-1] and 1.5 g of the resin [Q-1], only the resin [R-1] was used.
An electrophotographic color proofreading master was prepared in the same manner as in Example 1 except that g was used. Test Example The electrostatic characteristics, transferability and image reproducibility of the electrophotographic color proofing plates prepared in Example 1, Comparative Example A1 and Comparative Example B1 were examined, and the results are shown in Table-8.
【0349】[0349]
【表55】 表−8 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例1 比較例A1 比較例B1 ─────────────────────────────────── 静電特性 注1) V10(-V) |(20 ℃、65%RH) 580 570 560 ───────────────────────────── ‖(30 ℃、80%RH) 555 550 515 ────────────────────────────────── D.R.R(%) |(20 ℃、65%RH) 86 85 81 ───────────────────────────── ‖(30 ℃、80%RH) 82 81 72 ────────────────────────────────── E1/2 |(20 ℃、65%RH) 16 18 22 (erg/cm2)───────────────────────────── ‖(30 ℃、80%RH) 18 20 25 ─────────────────────────────────── 転写性 注2) ○ × ○ 非常に良好 転写ムラ 非常に良好 著しい ─────────────────────────────────── 画像再現性 注3) ○ ×× ○ |(20 ℃、65%RH) 良好 画像ムラ著しい 良好 ───────────────────────────── ‖(30 ℃、80%RH) ○ ×× ×〜△ 良好 画像ムラ 濃度低い、 著しい 細線、細文字 が欠落 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━[Table 55] Example 1 Comparative Example A1 Comparative Example B1 静電 Electrostatic characteristics Note 1) V 10 (-V) | ( (20 ° C, 65% RH) 580 570 560 ───────────────────────────── 30 (30 ° C, 80% RH) 555 550 515 ────────────────────────────────── DRR (%) | (20 ℃, 65% RH) 86 85 81 ───────────────────────────── ‖ (30 ° C, 80% RH) 82 81 72 ──────── ────────────────────────── E 1/2 | (20 ℃, 65% RH) 16 18 22 (erg / cm 2) ── ─────────────────────────── ‖ (30 ° C, 80% RH) 18 20 25転 写 Transferability Note 2) ○ × ○ Very good Transfer unevenness Very good Notable ──── ─────────────────────────────── Image reproducibility Note 3) ○ ×× ○ │ (20 ℃, 65% RH) Good Remarkable image unevenness Good ───────────────────────────── 30 (30 ° C, 80% RH) ○ ×× × ~ △ Good Image unevenness Low density, remarkable fine lines and fine characters are missing.
【0350】表−8に記載の評価項目は下記の方法によ
り試験された。 注1) 静電特性 温度20℃、65%RHの暗室中で、各色校正用原版に
ペーパーアナライザー(川口電気(株)製ペーパーアナ
ライザー−SP−428型)を用いて、−6kVで20
秒間コロナ放電をさせた後10秒間放置し、この時の表
面電位V10を測定した。次いでそのまま暗中で120秒
間放置した後の電位V130 を測定し、120秒間暗減衰
させた後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率〔DRR
(%)〕をDRR(%)=(V130 /V10)×100
(%)の式により求めた。また、コロナ放電により光導
電層の転写層と接する面を−500Vに帯電させた後、
波長780nmの単色光で照射し、表面電位(V10)が1
/2に減衰するまでの時間を求め、これから露光量E
1/2 (erg/cm2 )を算出する。又、温度30℃、80%R
Hの環境条件下で上記と同様の操作を行ない各特性を調
べた。環境条件(20℃、65%RH)を条件I、及び
(30℃、80%RH)を条件IIとした。The evaluation items described in Table 8 were tested by the following methods. Note 1) Electrostatic characteristics In a dark room at a temperature of 20 ° C. and 65% RH, use a paper analyzer (Paper Analyzer-SP-428, manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.) for each color calibration master at −6 kV.
Seconds and left 10 seconds After corona discharge was measured surface potential V 10 at this time. Then measuring the potential V 130 after leaving 120 seconds in as dark, retention of potential after being 120 seconds dark decay, i.e., dark decay retention rate [DRR
DRR (%) = (V 130 / V 10 ) × 100
(%). After charging the surface of the photoconductive layer in contact with the transfer layer to −500 V by corona discharge,
Irradiation with monochromatic light having a wavelength of 780 nm has a surface potential (V 10 ) of 1
/ 2, the time required to decay to / 2, and the exposure E
Calculate 1/2 (erg / cm 2 ). In addition, temperature 30 ℃, 80% R
The same operation as described above was performed under the environmental conditions of H, and each characteristic was examined. Environmental conditions (20 ° C., 65% RH) were defined as condition I, and (30 ° C., 80% RH) were defined as condition II.
【0351】注2) 転写性 シリコーンゴムで被覆した中空金属ローラーの内部に赤
外線ランプヒーターを組み込んだ一対の加熱ローラーの
間に、転写層が形成されたサンプルとコート紙とを重ね
て通過させた。この時のローラーの表面温度は上下とも
120℃、ローラー間のニップ圧は5kgf/cm2 、搬送ス
ピードは5mm/秒に設定した。通過後コート紙と重ねた
まま室温まで冷却してからサンプルとコート紙を分離し
た。この時コート紙側に転写された転写層の状態を目視
評価した。 注3) 画像再現性 各色校正用原版に、環境条件(I)及び(II) の下で、
実際に複写画像を形成し、転写後の色校正版における画
像再現性を評価した。Note 2) Transferability The sample on which the transfer layer was formed and the coated paper were passed over a pair of heating rollers in which an infrared lamp heater was incorporated inside a hollow metal roller covered with silicone rubber. . At this time, the surface temperature of the roller was set to 120 ° C. in both directions, the nip pressure between the rollers was set to 5 kgf / cm 2 , and the transport speed was set to 5 mm / sec. After the passage, the sample was cooled to room temperature while being overlapped with the coated paper, and then the sample and the coated paper were separated. At this time, the state of the transfer layer transferred to the coated paper side was visually evaluated. Note 3) Image reproducibility Under the environmental conditions (I) and (II),
A copied image was actually formed, and the image reproducibility of the color proof plate after transfer was evaluated.
【0352】各色校正用原版を暗所にて+450vにコ
ロナ帯電したのち、あらかじめ原稿からカラースキャナ
ーにより読み取り、色分解し、システム特有の幾つかの
色再現に関わる補正を加えた後、デジタル画像データと
してシステム内のハードディスクに記憶させてあった、
イエロー、マゼンタ、シアン、墨の各色の中のイエロー
についての情報をもとにネガ鏡像モードで、5mW出力
のガリウム−アルミニウム−ヒ素半導体レーザー(発振
波長780nm)を用いて、色校正用原版表面上で30er
g /cm2 の照射量下、ピッチ25μm及びスキャン速度
300m/secのスピードで露光した。続いて、シグネ
チャーシステム(イーストマン・コダック(製))用の
イエロー液体現像剤を、75倍(重合比)にアイソパー
H(エッソスタンダード石油製)で希釈して用い、一対
の平版現像電極を有する現像装置で色校正用原版側の電
極に+400vのバイアス電圧を印加し、露光部にトナ
ーが電着するようにした反転現像を行ない、ついでアイ
ソパーH単独浴中でリンスをして非画像部の汚れを除い
た。以上の処理をマゼンタ、シアン、墨の各色について
繰り返した。以上の様にして得られた製版後の色校正用
原版の画像をヒートロールの定着方法で定着させた。Each color calibration master was corona-charged to +450 V in a dark place, read in advance from a manuscript with a color scanner, color-separated, and corrected for some system-specific color reproduction. Was stored on the hard disk in the system as
On the surface of the color calibration master using a gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength: 780 nm) with a 5 mW output in the negative mirror image mode based on information on yellow in each color of yellow, magenta, cyan, and black. At 30er
Exposure was performed at a pitch of 25 μm and a scan speed of 300 m / sec under an irradiation amount of g / cm 2 . Subsequently, a yellow liquid developer for a signature system (Eastman Kodak (manufactured by)) diluted 75 times (polymerization ratio) with Isopar H (manufactured by Esso Standard Petroleum) is used, and has a pair of planographic developing electrodes. In the developing device, a bias voltage of +400 V is applied to the electrode on the side of the color proofing original plate, and reversal development is performed so that the toner is electrodeposited on the exposed portion. Dirt was removed. The above processing was repeated for each color of magenta, cyan, and black. The image of the color proofing plate after plate making obtained as described above was fixed by a fixing method using a heat roll.
【0353】つぎに印刷本紙であるコート紙と4色現像
後の色校正用原版を重ね合せ、15kgf /cm2 の圧力で
接している表面温度が120℃に常にコントロールされ
た1対のゴムローラーの間を、10mm/sec のスピード
で通過させた。その後重ねたままで室温まで冷やしてか
らコート紙と色校正用原版を引き剥がし、得られたコー
ト紙に形成された画像(カブリ、画像の画質)を目視評
価した。表−8に示す様に、実施例1(本発明)及び比
較例A1の静電特性は、環境条件が変わっても、良好な
結果を示した。Next, the coated paper, which is the actual printing paper, is superimposed on the color proofreading plate after the four-color development, and a pair of rubber rollers in contact with a pressure of 15 kgf / cm 2 , the surface temperature of which is constantly controlled at 120 ° C. At a speed of 10 mm / sec. Thereafter, the coated paper and the color proofreading master were peeled off after being cooled to room temperature while being stacked, and an image (fog, image quality) formed on the obtained coated paper was visually evaluated. As shown in Table 8, the electrostatic characteristics of Example 1 (the present invention) and Comparative Example A1 showed good results even when environmental conditions were changed.
【0354】しかし、光導電層の結着樹脂として、従来
の樹脂のみを用いた比較例B1は、静電特性の低下を生
じ(特に、暗中電荷保持率:D. R. R.及び光感度:E
1/2 )、その結果得られる色校正刷りの複写画像も満足
なものではなかった。かかる相違は、本発明の色校正用
原版においては、樹脂〔Q〕が光導電性化合物に充分吸
着し、且つ、光導電性化合物の均一な分散を可能とし、
化学増感剤である化合物〔A〕と光導電性化合物との相
互作用を充分に且つ均一に行なえる状態を形成している
ことによるものと推定される。又、本発明の樹脂〔P〕
を用いた実施例1及び比較例B1の転写層は完全に被転
写材に転写されたが、従来の樹脂を用いた比較例A1で
は、コート紙と色校正用原版の引き剥がしが良好にはで
きず、転写層又は光導電層に破損が生じた。However, in Comparative Example B1 using only the conventional resin as the binder resin for the photoconductive layer, the electrostatic characteristics were deteriorated (in particular, the charge retention in the dark: DRR and the photosensitivity: E
1/2 ), and the resulting color proof copy image was not satisfactory. This difference is that, in the color proofing plate of the present invention, the resin [Q] is sufficiently adsorbed to the photoconductive compound, and enables uniform dispersion of the photoconductive compound.
It is presumed that the compound [A], which is a chemical sensitizer, and the photoconductive compound form a state in which the interaction can be performed sufficiently and uniformly. Also, the resin [P] of the present invention
The transfer layers of Example 1 and Comparative Example B1 using the resin were completely transferred to the material to be transferred. However, in Comparative Example A1 using the conventional resin, the peeling of the coated paper and the color proofreading master was satisfactory. No, the transfer layer or the photoconductive layer was damaged.
【0355】かかる相違は、本発明及び比較例B1の色
校正用原版においては、光導電層中に共存させたフッ素
原子含有の共重合体である樹脂〔P〕が光導電層形成時
に表面部に濃縮移行し、更に、樹脂〔R〕と樹脂〔P〕
とが架橋剤により相互に充分高分子間で化学結合し硬化
膜を形成することにより、剥離性良好な界面が明確に形
成されるのに対し、従来のランダム共重合体を用いた比
較例A1の色校正用原版においては、かかる明確な界面
が形成されにくいことによるものと考えられる。また、
本発明の色校正用原版は、環境条件が変動しても、良好
なカラー画像の色校正刷りを提供することができたが、
比較例A1の色校正用原版は転写性が不充分で満足な画
像を提供できず、比較例B1の色校正用原版は高湿下で
の画像再現性が著しく低下してしまった。さらに、実施
例1及び比較例A1で形成される光導電層の剥離性を調
べるために、転写層を形成する前に、光導電層表面の粘
着力を測定した。粘着力は、前述のJISZ0237−
1980「粘着テープ・シート試験方法」により測定し
た。実施例1で形成された光導電層の粘着力は6 g・f
であり、比較例A1で形成された光導電層の粘着力は33
0g・f であった。以上の様に、本発明の色校正用原版の
みが、良好な性能を示した。The difference is that, in the color proofing masters of the present invention and Comparative Example B1, the resin [P], which is a fluorine atom-containing copolymer coexisting in the photoconductive layer, has a surface portion at the time of forming the photoconductive layer. To the resin [R] and resin [P]
Are sufficiently chemically bonded to each other by a crosslinking agent to form a cured film, whereby an interface having good releasability is clearly formed, whereas Comparative Example A1 using a conventional random copolymer is used. It is considered that such a clear interface is difficult to be formed in the color proofing master. Also,
The color proofing plate of the present invention was able to provide color proofing of a good color image, even when environmental conditions fluctuated.
The color proofing master of Comparative Example A1 was insufficient in transferability and could not provide a satisfactory image, and the color proofing master of Comparative Example B1 had significantly reduced image reproducibility under high humidity. Further, in order to examine the releasability of the photoconductive layer formed in Example 1 and Comparative Example A1, the adhesive strength of the surface of the photoconductive layer was measured before forming the transfer layer. The adhesive strength is as described in JISZ0237-
1980 "Adhesive tape / sheet test method". The adhesive strength of the photoconductive layer formed in Example 1 is 6 g · f
The adhesive force of the photoconductive layer formed in Comparative Example A1 was 33.
It was 0 g · f. As described above, only the color proofing master of the present invention showed good performance.
【0356】実施例2 光導電性酸化亜鉛200g、樹脂〔Q−2〕10g、下
記構造の樹脂〔R−2〕40g、本発明の樹脂〔P−1
03〕8g、下記構造の色素〔D−1〕0.018g、N
−ヒドロキシコハク酸イミド0.20g及びトルエン30
0gの混合物を、ホモジナイザー(日本精機(株)製)
に入れ回転数9×103 r.p.m.で10分間分散した。こ
の分散物に、プロピレングリコール1g及びテトラブト
キシチタネート0.02gを加え、更に回転数1×103
r p.m.で1分間分散した。ついでこの分散液を、導電性
処理および耐溶剤処理を施した0.2mm厚の紙版マスター
用原紙の上にワイヤーバーで塗布し、指触乾燥した後、
循環式オーブン中、90℃で1時間加熱した。得られた
光導電層の膜厚は15μmであった。Example 2 200 g of photoconductive zinc oxide, 10 g of resin [Q-2], 40 g of resin [R-2] having the following structure, and resin [P-1] of the present invention
03] 8 g, dye [D-1] 0.018 g having the following structure, N
-0.20 g of hydroxysuccinimide and 30 of toluene
0 g of the mixture is homogenized (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.).
And dispersed at a rotation speed of 9 × 10 3 rpm for 10 minutes. 1 g of propylene glycol and 0.02 g of tetrabutoxytitanate were added to this dispersion, and the number of revolutions was 1 × 10 3
Dispersed for 1 minute at rpm. Then, this dispersion was applied with a wire bar onto a 0.2 mm-thick stencil master paper subjected to a conductive treatment and a solvent resistance treatment, and then dried by touch.
Heated in a circulating oven at 90 ° C. for 1 hour. The thickness of the obtained photoconductive layer was 15 μm.
【0357】[0357]
【化129】 Embedded image
【0358】さらにこの光導電層の上に転写層を形成す
るために実施例1と同様の熱可塑性樹脂溶液を調製、塗
布、乾燥した。 比較例C1 樹脂〔Q−2〕10g及び樹脂〔R−2〕40gの代わ
りに、樹脂〔R−2〕のみ50gを用いた他は、実施例
2と同様の方法により、色校正用原版を作成した。 試験例 各色校正用原版の平滑性、静電特性、転写性及び画像再
現性について評価し、結果を表−9に示した。Further, in order to form a transfer layer on the photoconductive layer, the same thermoplastic resin solution as in Example 1 was prepared, applied and dried. Comparative Example C1 A color proofreading master was prepared in the same manner as in Example 2 except that only 50 g of the resin [R-2] was used instead of 10 g of the resin [Q-2] and 40 g of the resin [R-2]. Created. Test Example The smoothness, electrostatic properties, transferability and image reproducibility of each color proofing master were evaluated, and the results are shown in Table-9.
【0359】[0359]
【表56】 表−9 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例2 比較例C1 ────────────────────────────────── 光導電層表面の平滑性 注1) 1,100 1050 ────────────────────────────────── 静電特性 V10(-V) | 710 550 ────────────────────────── ‖ 685 510 ─────────────────────────────── D.R.R(%) | 88 75 ────────────────────────── ‖ 85 76 ─────────────────────────────── E1/2 | 10 25 (erg/cm2)────────────────────────── ‖ 12 26 ────────────────────────── 転写性 ○ ○ 非常に良好 非常に良好 ────────────────────────────────── 画像再現性 注2) ○ △〜○ | 良 好 濃度がやや薄い。 細線、細文字の欠落 少し発生 ────────────────────────── ‖ ○ ×× 良 好 濃度が出ない、地カブリ 発生、細線、細文字の 欠落発生 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━[Table 56] Table 9 {Example 2 Comparative Example C1} ─────────────────────────────── Smoothness of photoconductive layer surface Note 1) 1,100 1050 ───────静電 Electrostatic characteristics V 10 (-V) | 710 550 ─────────── ─────────────── ‖ 685 510 ─────────────────────────────── DRR (%) | 88 75 ────────────────────────── ‖ 85 76 ─────────────── ──────────────── E 1/2 | 10 25 (erg / cm 2) ───────────────────── ───── ‖ 12 26 ────────────────── ──────── Transferability ○ ○ Very good Very good ──────────────────────────────── ── Image reproducibility Note 2) ○ △ ~ ○ | Good Good The density is slightly low. Fine lines and missing small characters Slightly generated ────────────────────────── ‖ ○ ×× Good No density, fog on ground, fine lines , Small characters are missing ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【0360】表−9において、転写性については前記表
−8の方法により試験し、他の評価項目については下記
の方法により試験した。 注1) 光導電層の平滑性:得られた色校正用原版の平
滑度(see/cc) を、ベック平滑度試験機(熊谷理工
(株)製)を用い、空気容量1ccの条件にて測定した。 注2) 画像再現性 色校正用原版を暗所にて−600vにコロナ帯電したの
ち、実施例1と同様のデジタル画像データーを用い、ま
ずイエローについての情報をもとに、ポジ鏡像モード
で、半導体レーザーを用いて780nmの光で版面露光量
が25 erg/cm2になるように露光した。露光部の残留
電位は−120vであった。続いてバーサテック300
0(ゼロックス製カラー静電プロッター)用のイエロー
トナーを50倍のアイソパーH(エッソスタンダード石
油製)で希釈して用い、一対の平板現像電極を有する現
像装置で色校正用原版側の電極に−200vのバイアス
電圧を印加し、未露光部にトナーが電着するようにする
正現像を行ない、ついでアイソパーH単独浴中でリンス
をして非画像部の汚れを除いた。以上の処理をマゼン
タ、シアン、墨の各色について繰り返した。In Table 9, the transferability was tested by the method of Table 8 above, and the other evaluation items were tested by the following methods. Note 1) Smoothness of photoconductive layer: The smoothness (see / cc) of the obtained color proofreading master was measured using a Beck smoothness tester (manufactured by Kumagaya Riko Co., Ltd.) under the condition of an air capacity of 1 cc. It was measured. Note 2) Image Reproducibility After the color proofreading master was corona-charged to −600 V in a dark place, the same digital image data as in Example 1 was used. Exposure was performed using a semiconductor laser with light of 780 nm so that the plate surface exposure amount became 25 erg / cm 2 . The residual potential of the exposed part was -120v. Next, Versatech 300
A yellow toner for 0 (Xerox color electrostatic plotter) diluted with 50 times Isopar H (manufactured by Esso Standard Petroleum) is used, and a developing device having a pair of flat plate developing electrodes is used as an electrode on the color calibration original plate side. A bias voltage of 200 V was applied to perform normal development so that the toner was electrodeposited on the unexposed area, and then rinsed in a single bath of Isopar H to remove stain on the non-image area. The above processing was repeated for each color of magenta, cyan, and black.
【0361】つぎに印刷本紙であるコート紙を4色現像
後の色校正用原版と重ね合わせ、10 kgf/cm2 の圧力
で接している表面温度が120℃に常にコントロールさ
れた一対のゴムローラーの間を、6mm/sec のスピード
で通過させた。その後重ねたままで室温まで冷やしてか
らコート紙と色校正用原版を引き剥がし、色校正刷りと
しての画像を目視で評価した。表−9に示す様に、実施
例2の色校正用原版は、静電特性が極めて良好で且つ、
環境条件が変化しても、それらの特性の変化は小さく抑
えられ、実際に撮像性を調べても、地汚れがなく、細
線、細文字等微細な画像の再現性も良好であった。他
方、比較例C1の色校正用原版は、特に高湿条件下で静
電特性が著しく低下し、実際の画像再現性も、実用に供
し得るものではなかった。即ち、非画像部の地カブリ、
画像濃度の低下が生じ、細線の欠落等が著しくなった。
転写層の転写性はいずれも良好で、有機光導電性化合物
から成る光導電層のみならず、無機光導電性化合物を含
む光導電層においても、樹脂〔P〕による剥離性の向上
を達しうることが明らかになった。さらに、実施例2及
び比較例C1で形成される光導電層の剥離性を調べるた
めに、転写層を形成する前に、光導電層表面の粘着力を
測定した。粘着力は、前述のJISZ0237−198
0「粘着テープ・シート試験方法」により測定した。実
施例2で形成された光導電層の粘着力は8 g・f であ
り、比較例C1で形成された光導電層の粘着力は400
g・f 以上であった。以上の如く、実施例2の色校正用
原版のみが、良好な転写性を示し、且つ、環境の変動に
関わらず良好な画像再現性を示した。Next, the coated paper, which is the printing paper, is superimposed on the color proofreading plate after four-color development, and a pair of rubber rollers in contact with a pressure of 10 kgf / cm 2 , the surface temperature of which is constantly controlled to 120 ° C. At a speed of 6 mm / sec. Thereafter, the coated paper and the original plate for color proofreading were peeled off after being cooled to room temperature while being overlapped, and an image as a color proof print was visually evaluated. As shown in Table-9, the color proofing master of Example 2 had extremely good electrostatic characteristics and
Even if the environmental conditions change, the change in those characteristics was suppressed to a small value. Even when the imaging performance was actually examined, there was no background stain and the reproducibility of fine images such as fine lines and fine characters was good. On the other hand, the color proofing master of Comparative Example C1 had significantly reduced electrostatic properties, especially under high humidity conditions, and the actual image reproducibility was not practical. That is, the ground fog in the non-image area,
The image density was reduced, and thin lines were missing.
The transferability of the transfer layer is good, and the release property of the resin [P] can be improved not only in the photoconductive layer made of the organic photoconductive compound but also in the photoconductive layer containing the inorganic photoconductive compound. It became clear. Further, in order to examine the releasability of the photoconductive layer formed in Example 2 and Comparative Example C1, the adhesive strength of the photoconductive layer surface was measured before forming the transfer layer. The adhesive strength is as described in JISZ0237-198.
0 The adhesive tape / sheet test method was used. The adhesive strength of the photoconductive layer formed in Example 2 was 8 g · f, and the adhesive strength of the photoconductive layer formed in Comparative Example C1 was 400 g · f.
g · f or more. As described above, only the color proofreading master of Example 2 exhibited good transferability and good image reproducibility regardless of environmental changes.
【0362】実施例3 有機光導電性化合物として、4,4'−ビス(ジエチルアミ
ノ)−2,2'−ジメチルトリフェニルメタン5g、樹脂
〔Q−32〕1g、下記構造の樹脂〔R−3〕3g、本
発明の樹脂〔P−119〕0.8g、下記構造式の色素
(D−2)40mg、化学増感剤として下記構造式のアニ
リド化合物(B)0.2gを、メチレンクロライド30ml
とエチレンクロライド30mlとの混合物に溶解し、光導
電層溶液とした。この光導電層溶液を、ワイヤーラウン
ドロッドを用いて導電性透明支持体(100μmのポリ
エチレンテレフタレート支持体上に、酸化インジウムの
蒸着膜を有する。表面抵抗103 Ω)上に塗布して約4
μmの光導電層を形成した。Example 3 As an organic photoconductive compound, 4,4′-bis (diethylamino) -2,2′-dimethyltriphenylmethane (5 g), resin [Q-32] 1 g, resin [R-3 3 g, 0.8 g of the resin [P-119] of the present invention, 40 mg of the dye (D-2) having the following structural formula, 0.2 g of the anilide compound (B) having the following structural formula as a chemical sensitizer, and 30 ml of methylene chloride.
And 30 ml of ethylene chloride to obtain a photoconductive layer solution. This photoconductive layer solution was applied to a conductive transparent support (a polyethylene terephthalate support having a thickness of 100 μm and a vapor-deposited film of indium oxide; surface resistance: 10 3 Ω) by using a wire round rod to obtain about 4 μm.
A μm photoconductive layer was formed.
【0363】[0363]
【化130】 Embedded image
【0364】本発明の樹脂〔P〕の光導電層表面への偏
在性を確認するために、粘着テープによる接着力を測定
したところ、樹脂〔P−119〕を添加せず、代わりに
同量の樹脂〔R−3〕を用いたことの他は、実施例3と
同様の方法により製造された色校正用原版の接着力の7
0分の1に低減していることがわかった。さらにこの光
導電層の上に転写層を形成するために実施例1と同様の
熱可塑性樹脂溶液を調製、塗布、乾燥した。粘着テープ
を転写層表面に貼り付けて剥がしたところ、実施例1と
同様、抵抗を感ずることなく容易に転写層のみが剥離し
た。次に、この色校正用原版の撮像性及び転写性を、暗
所で、実施例1と同様の方法により調べた。但し、実施
例1において用いた、780nm発振波長の半導体レーザ
ー光の代わりに630nm発振波長のヘリウム−ネオンレ
ーザー光を用いて行なった。コート紙に転写されたカラ
ー複写画像は、地カブリのない鮮明なもので、且つ、画
像強度は充分高かった。In order to confirm the uneven distribution of the resin [P] of the present invention on the surface of the photoconductive layer, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive tape was measured, and the resin [P-119] was not added. Except that the resin [R-3] was used in Example 3, except that the adhesive strength of the color proofreading master produced by the same method as in Example 3 was 7%.
It turned out that it reduced to 1/0. Further, in order to form a transfer layer on the photoconductive layer, the same thermoplastic resin solution as in Example 1 was prepared, applied, and dried. When the pressure-sensitive adhesive tape was applied to the surface of the transfer layer and peeled off, only the transfer layer was easily peeled off without feeling resistance as in Example 1. Next, the image-capturing property and transfer property of this color proofing master were examined in a dark place by the same method as in Example 1. However, helium-neon laser light having an oscillation wavelength of 630 nm was used instead of the semiconductor laser light having an oscillation wavelength of 780 nm used in Example 1. The color copy image transferred to the coated paper was clear with no background fog, and the image intensity was sufficiently high.
【0365】実施例4 下記構造のビスアゾ顔料5g、テトラヒドロフラン95
g、樹脂〔Q−17〕1.5g、ポリエステル樹脂バイロ
ン200(東洋紡績(株)製)3.5g及びテトラヒドロ
フラン溶液30gの混合物をボールミル中で充分に粉砕
した。次いで、この混合物を取り出し、攪拌下、テトラ
ヒドロフラン520gを加えた。この分散物をワイヤー
ラウンドロッドを用いて実施例1で用いた導電性透明支
持体上に塗布して約0.7μmの電荷発生層を形成した。Example 4 5 g of a bisazo pigment having the following structure, 95 of tetrahydrofuran
g, 1.5 g of resin [Q-17], 3.5 g of polyester resin Byron 200 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) and 30 g of a tetrahydrofuran solution were sufficiently pulverized in a ball mill. Next, the mixture was taken out, and 520 g of tetrahydrofuran was added with stirring. This dispersion was coated on the conductive transparent support used in Example 1 using a wire round rod to form a charge generation layer of about 0.7 μm.
【0366】[0366]
【化131】 Embedded image
【0367】次に、下記構造式のヒドラゾン化合物20
g、ポリカーボネート樹脂(GE社製、商品名レキサン
121)20g、樹脂〔P−102〕2g、イソホロン
ジイソシアナート0.04g、テトラブトキシチタネート
0.001g及びテトラヒドロフラン160gの混合溶液
をワイヤーラウンドロッドを用いて上記電荷発生層の上
に塗布し、60℃で30秒間乾燥し更に温度120℃で
1時間加熱して約18μmの電荷輸送層を形成し、2層
から成る光導電層を有する色校正用原版を得た。Next, a hydrazone compound 20 of the following structural formula
g, 20 g of polycarbonate resin (manufactured by GE, trade name: Lexan 121), 2 g of resin [P-102], 0.04 g of isophorone diisocyanate, tetrabutoxy titanate
A mixed solution of 0.001 g and 160 g of tetrahydrofuran is applied on the charge generating layer using a wire round rod, dried at 60 ° C. for 30 seconds, and further heated at 120 ° C. for 1 hour to form a charge transporting layer of about 18 μm. Thus, a color proofreading master having a photoconductive layer composed of two layers was obtained.
【0368】[0368]
【化132】 Embedded image
【0369】さらにこの光導電層の上に転写層を形成す
るために実施例1と同様の熱可塑性樹脂溶液を調製、塗
布、乾燥した。粘着テープを転写層表面に貼り付けて剥
がしたところ、実施例1と同様、抵抗を感ずることなく
容易に転写層のみが剥離した。次に、この色校正用原版
を暗所で、実施例1と同様に操作して、撮像性及び転写
性を調べた。但し、実施例1において用いた、780nm
発振波長の半導体レーザー光の代わりに630nm発振波
長のヘリウム−ネオンレーザー光を用いて行なった。得
られた、転写後のコート紙のカラー複写画像は地カブリ
のない鮮明なもので、且つ、画像強度は充分高かった 実施例5〜7 実施例1において、樹脂〔P−104〕0.3gの代わり
に下記表−10の各樹脂〔P〕を0.3g各々用いた他
は、実施例1と同様の方法により、各々電子写真式色校
正用原版を製造した。この様にして得られた各原版の静
電特性、転写性及び画像再現性を実施例1と同様にして
評価し、その結果を表−10に示した。Further, in order to form a transfer layer on the photoconductive layer, the same thermoplastic resin solution as in Example 1 was prepared, applied and dried. When the pressure-sensitive adhesive tape was applied to the surface of the transfer layer and peeled off, only the transfer layer was easily peeled off without feeling resistance as in Example 1. Next, the color proofreading master was operated in a dark place in the same manner as in Example 1 to examine the image capturing property and the transfer property. However, 780 nm used in Example 1 was used.
This was performed using a helium-neon laser beam having an oscillation wavelength of 630 nm instead of the semiconductor laser beam having the oscillation wavelength. The obtained color copied image of the coated paper after the transfer was clear without fog, and the image strength was sufficiently high. Examples 5 to 7 In Example 1, 0.3 g of resin [P-104] was used. In place of the above, 0.3 g of each resin [P] shown in Table 10 below was used, and an electrophotographic color calibration original plate was produced in the same manner as in Example 1. The electrostatic properties, transferability, and image reproducibility of each master thus obtained were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table-10.
【0370】[0370]
【表57】 表−10 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例5 実施例6 実施例7 ─────────────────────────────────── 本発明の樹脂〔P〕 〔P−209〕 〔P−308〕 〔P−421〕 ─────────────────────────────────── 静電特性 580 585 580 V10(−V)I ──────────────────────────────── II 560 560 565 ─────────────────────────────────── D.R.R(%)I 87 86 86 ──────────────────────────────── II 83 84 82 ─────────────────────────────────── E1/2 I 16 15 17 (evg/cm2) ──────────────────────────── II 17 18 20 ─────────────────────────────────── 転写性 ○ ○ ○ 非常に良好 非常に良好 非常に良好 ─────────────────────────────────── 画像再現性 I ○ ○ ○ 良好 ───────────────────────────── II ○ ○ ○ 良好 良好 良好 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━Table 57 Table 5 Example 5 Example 6 Example 7 樹脂 Resin of the present invention [P] [P-209] [P −308] [P-421] 静電 Electrostatic characteristics 580 585 580 V 10 (−V) I ──────────────────────────────── II 560 560 565 ──────── ─────────────────────────── D. R. R (%) I 87 86 86 {II 83 84 82} ───────────────────────────── E 1/2 I 16 15 17 (evg / cm 2 ) ─────── ───────────────────── II 17 18 20 ───────────────────────── ────────── Transferability ○ ○ ○ Very good Very good Very good ────────────────────────── ───────── Image reproducibility I ○ ○ ○ Good ───────────────────────────── II ○ ○ ○ Good good good ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【0371】表−10に示す様に、実施例8〜10の色
校正用原版のいずれも、静電特性;転写性、及び画像再
現性について実施例1と同等の良好な性能を示した。
又、実施例5〜7の色校正用原版の光導電層の粘着力
は、いずれも5〜8g・fの範囲であり、これは剥離性
が極めて良好であることを示す。他方、比較として製造
された、樹脂〔P〕を添加せず、代わりに同量の樹脂
〔R−1〕を用いたことの他は実施例1と同様の方法に
より製造された色校正用原版は、転写不良を生じ、光導
電層と転写層との界面における均一な剥離が得られなか
った。更に、比較として製造された樹脂〔Q−5〕1.5
g及び樹脂〔R−1〕8.5gに代えて、樹脂〔R−1〕
のみ10gを用い、樹脂〔P−104〕0.3gに代え
て、実施例5〜7の樹脂〔P〕を用いたことの他は実施
例1と同様の方法により製造された色校正用原版では、
環境条件が変動した場合、特に高温高湿の条件下で静電
特性が低下し、実際の画像再現性も実用に供し得るもの
ではなかった。即ち、濃度の低下及び細線・細文字の欠
落が生じた。上記試験例により、本発明の色校正用原版
は極めて良好な色校正刷りを供し得ることが判った。 実施例8〜27 実施例1において、樹脂〔Q−5〕1.5gの代わりに下
記表−11の各樹脂〔Q〕1.5gを用いた他は、実施例
1と同様の方法により、各色校正用原版を製造した。As shown in Table 10, all of the color proofreading masters of Examples 8 to 10 exhibited good performance equivalent to that of Example 1 in terms of electrostatic characteristics, transferability and image reproducibility.
The adhesive strength of the photoconductive layers of the color proofing masters of Examples 5 to 7 was all in the range of 5 to 8 g · f, indicating that the peelability was extremely good. On the other hand, a color proofing master produced by the same method as in Example 1 except that the resin [P] was not added and the same amount of the resin [R-1] was used instead. Resulted in poor transfer, and uniform peeling at the interface between the photoconductive layer and the transfer layer could not be obtained. Further, a resin [Q-5] 1.5 prepared for comparison was prepared.
g and the resin [R-1] 8.5 g instead of the resin [R-1]
An original plate for color proofing produced by the same method as in Example 1 except that only 10 g was used and the resin [P] of Examples 5 to 7 was used instead of 0.3 g of the resin [P-104]. Then
When the environmental conditions fluctuate, the electrostatic characteristics deteriorate particularly under high-temperature and high-humidity conditions, and the actual image reproducibility is not practical. That is, the density was reduced, and thin lines and characters were missing. From the test examples described above, it was found that the color proofing plate of the present invention can provide very good color proofing. Examples 8 to 27 In the same manner as in Example 1, except that 1.5 g of each resin [Q] in Table 11 below was used instead of 1.5 g of the resin [Q-5], Each color proofing master was manufactured.
【0372】[0372]
【表58】 表−11 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例 樹脂〔Q〕 実施例 樹脂〔Q〕 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 8 Q−1 18 Q−23 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 9 Q−3 19 Q−29 10 Q−6 20 Q−33 11 Q−9 21 Q−40 12 Q−11 22 Q−46 13 Q−13 23 Q−52 14 Q−16 24 Q−59 15 Q−18 25 Q−65 16 Q−20 26 Q−68 17 Q−22 27 Q−70 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━[Table 58] Table-11 {Example resin [Q] Example resin [Q]} 8 8 Q-1 18 Q-23 ━━━━━━━━━━━━━ 9 9 Q-3 19 Q-29 10 Q-6 20 Q-33 11 Q-9 21 Q-40 12 Q-11 22 Q-46 13 Q-13 23 Q-52 14 Q-16 24 Q-59 15 Q-18 25 Q-65 16 Q-20 26 Q-68 17 Q-22 27 Q-70 ━━━━━━━━━━━ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【0373】これらの色校正用原版の撮像性及び転写性
を、暗所で、実施例1と同様の方法により調べた。転写
後のコート紙のカラー複写画像は地カブリのない鮮明な
ものであり、且つ、画像強度は充分高かった。 実施例28〜50 実施例1において、結着樹脂〔Q−5〕1.5g、樹脂
〔P−104〕0.3g及び架橋用化合物の代わりに、下
記表−12の各樹脂〔Q〕1.5g、樹脂〔P〕0.3g及
び架橋用化合物の所定量を各々用いた他は、実施例1と
同様に操作して各電子写真式色校正用原版を製造した。The imaging performance and transferability of these color proofing masters were examined in a dark place in the same manner as in Example 1. The color copy image of the coated paper after the transfer was clear without background fog, and the image intensity was sufficiently high. Examples 28 to 50 In Example 1, instead of 1.5 g of the binder resin [Q-5], 0.3 g of the resin [P-104] and the crosslinking compound, each resin [Q] 1 in Table 12 below was used. Each electrophotographic color proofing master was produced in the same manner as in Example 1 except that 0.5 g, 0.3 g of the resin [P] and a predetermined amount of the crosslinking compound were used.
【0374】[0374]
【表59】 表−12 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例 樹脂〔Q〕 樹脂〔P〕 架橋用化合物 ─────────────────────────────────── 28 Q−2 P−202 グルコン酸無水物 0.15g o−クレゾール 0.01g 29 Q−4 P−301 〃 〃 30 Q−7 P−214 エチレングリコール 0.03g ジグリシジルエーテル ステアリン酸亜鉛塩 0.001g 31 Q−10 P−315 〃 〃 32 Q−17 P−419 〃 〃 33 Q−19 P−207 1,6−ジヘキサン 0.20g ジアミン 34 Q−21 P−423 グルコン酸 0.18g フェノール 0.002g 35 Q−30 P−421 無水フタル酸 0.2g o−クロロフェノール 0.001g 36 Q−25 P−210 3−アミノプロピル トリメトキシシラン 0.1g 37 Q−24 P−321 〃 〃 38 Q−35 P−417 〃 〃 39 Q−41 P−212 プロピレングリコール 0.8g テトラブトキシチタネート 0.001g 40 Q−45 P−323 〃 〃 41 Q−48 P−213 トリメチロールプロパン 1.0g ジラウリン酸ジブトキシ 0.001g スズ塩 42 Q−49 P−125 〃 〃 43 Q−50 P−215 無水フタル酸 0.3g アセチルアセトンコ 0.001g バルト塩 44 Q−55 P−329 〃 〃 45 Q−56 P−421 〃 〃 46 Q−58 P−322 プロピレングリコール 0.05g ジグリシジルエーテル o−クロロフェノール 0.002g 47 Q−60 P−222 ROOCNH(CH2)6NHCOOR 0.2g テトラプロピオキシ チタネート 0.001g 48 Q−64 P−122 〃 〃 49 Q−66 P−335 γ−グリシドプロピル トリメトキシシラン 0.1g 50 Q−67 P−118 〃 〃 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━[Table 59] Example 12 Resin [Q] Resin [ P] Compound for crosslinking 2828 Q-2 P-202 Gluconic anhydride Product 0.15 g o-cresol 0.01 g 29 Q-4 P-301 {30 Q-7 P-214 ethylene glycol 0.03 g diglycidyl ether zinc stearate 0.001 g 31 Q-10 P-315} 32 Q-17 P-419 {} 33 Q-19 P-207 1,6-dihexane 0.20 g Diamine 34 Q-21 P-423 Gluconic acid 0.18 g Phenol 0.0002 g 35 Q-30 P-421 anhydrous phthalate Acid 0.2g o-chlorophenol 0.001g 36 Q-25P 210 3-aminopropyl trimethoxysilane 0.1 g 37 Q-24 P-321 〃 38 38 Q-35 P-417 〃 39 39 Q-41 P-212 Propylene glycol 0.8 g Tetrabutoxy titanate 0.001 g 40 Q- 45 P-323 〃 41 41 Q-48 P-213 Trimethylolpropane 1.0 g Dibutoxy dilaurate 0.001 g Tin salt 42 Q-49 P-125 〃 43 43 Q-50 P-215 Phthalic anhydride 0.3 g Acetylacetone Co 0.001 g Baltic salt 44 Q-55 P-329 〃 〃 45 Q-56 P-421 〃 46 46 Q-58 P-322 Propylene glycol 0.05 g Diglycidyl ether o-chlorophenol 0.002 g 47 Q-60 P-222 ROOCNH (CH 2 ) 6 NHCOOR 0.2 g Tetrapropoxy titanate 0.0 01g 48 Q-64 P-122 〃 49 49 Q-66 P-335 γ-glycidopropyl trimethoxysilane 0.1 g 50 Q-67 P-118 〃 ━━━━━━━━━━━━━ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【0375】式中、Rはm−メチルフェニル基を表す。
得られた色校正用原版の撮像性及び転写性を、暗所で、
実施例1と同様の方法により調べた。転写後のコート紙
のカラー複写画像は地カブリのない鮮明なものであり、
且つ、画像強度は充分高かった。 実施例51〜58 実施例1において、下記表−13に記載の樹脂〔Q〕2
g、樹脂〔R〕9g、樹脂〔P〕0.3g及び架橋用化合
物を用いること以外は、実施例1と同様の方法により色
校正用原版を製造した。In the formula, R represents an m-methylphenyl group.
The imaging and transfer properties of the obtained color proofing master in a dark place
Investigation was performed in the same manner as in Example 1. The color copy image of the coated paper after transfer is clear without ground fog,
And the image intensity was sufficiently high. Examples 51 to 58 In Example 1, the resin [Q] 2 shown in Table 13 below was used.
g, a resin [R] 9 g, a resin [P] 0.3 g, and a color proofing master were produced in the same manner as in Example 1 except for using a crosslinking compound.
【0376】[0376]
【表60】 表−13 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例 樹 脂 樹 脂 樹 脂 架 橋 用 化 合 物 〔Q〕 〔R〕 〔P〕 ─────────────────────────────────── 51 Q−8 R−4 P−429 ベンゾイルパーオキ 0.008g サイド 52 Q−12 R−5 P−116 1,4−ブタンジオ 0.3g ール ジラウリン酸ジブト 0.001g キシスズ 53 Q−28 R−6 P−428 エチレングリコール 2.0g ジメタクリレート 2,2′−アゾビス 0.03g (イソバレロニト リル) 54 Q−34 R−6 P−325 〃 〃 55 Q−35 R−7 P−129 アジピン酸ジビニル 2.2g 2,2′−アゾビス 0.01g (イソバレロニト リル) 56 Q−38 R−7 P−336 〃 〃 57 Q−50 R−8 P−422 ブロックイソシア 3g ナート Aditol VXL 81 (ヘキスト社製) ブチルチタネート・ 0.02g ダイマー 58 Q−56 R−8 P−126 〃 〃 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━[Table 60] Table 13 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Example Resin Resin Resin Resin Bridge compound [Q] [R] [P] ─────────────────────────────────── 51 Q-8 R-4 P-429 Benzoyl peroxy 0.008 g Side 52 Q-12 R-5 P-116 1,4-butanedio 0.3 g Dibutyl dibutyrate 0.001 g Xitin 53 Q-28 R- 6 P-428 Ethylene glycol 2.0 g Dimethacrylate 2,2'-azobis 0.03 g (isovaleronitrile) 54 Q-34 R-6 P-325 〃 〃 55 Q-35 R-7 P-129 Divinyl adipate 2 0.2 g 2,2'-azobis 0.01 g (isovaleronitrile) 56 Q-38 R-7 P 336 〃 57 57 Q-50 R-8 P-422 Block isocyanate 3 g Nato Aditol VXL 81 (manufactured by Hoechst) Butyl titanate 0.02 g Dimer 58 Q-56 R-8 P-126 〃 ━━━━━━ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【0377】表中、樹脂R−4〜R−8は下記式で表さ
れるものである。In the table, resins R-4 to R-8 are represented by the following formulas.
【0378】[0378]
【化133】 Embedded image
【0379】これに、実施例1の方法により転写層を形
成してなる色校正用原版を用い、色校正刷りを製造した
所、得られた色校正刷りのカラー複写画像は、地汚れも
なく、鮮明であった。 実施例59〜66 転写層を、ポリ(酢酸ビニル/クロトン酸)(95/5
重量比)の代わりに下記表−14の樹脂及び塗布溶媒を
用いて形成した他は、実施例1と同様の方法により、各
色校正用原版を製造した。When a color proof was produced using a color proof master having a transfer layer formed by the method of Example 1, the obtained color proof print color copy image was free of background smear. , Was clear. Examples 59-66 The transfer layer was coated with poly (vinyl acetate / crotonic acid) (95/5
Each of the color proofreading masters was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the resin and the coating solvent shown in Table 14 below were used instead of (weight ratio).
【0380】[0380]
【表61】 表−14 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例 熱 可 塑 性 樹 脂 塗 布 溶 媒 ─────────────────────────────────── 59 酢酸酪酸セルロース:cellidor Bsp 酢酸エチル (バイエルAG製) 60 ポリビニルブチラール樹脂:エスレック エタノール (積水化学(株)製) 61 プロピオン酸セルロース:セリドリア 酢酸エチル (ダイセル化学工業(株)製) 62 ポリ(酢酸ビニル) メチルエチルケトン 63 ポリ(酢酸ビニル/クロトン酸) 1%アンモニア水 (95/5)共重合体と 含有 Cellidor Bspを(8/2)重量比で使用 エタノール溶液 64 メチルメタクリレート/メチルアクリレート 共重合体(6/4)重量比 テトラヒドロフラン 65 スチレン/ブタジエン共重合体 ソルプレン1205(Sorprene1205) (旭化成(株)製) トルエン 66 ポリ(酢酸ビニル)と ポリ(エチルメタクリレート)とを (6/4)重量比で使用 メチルエチルケトン ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━[Table 61] Table 14 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Examples Thermoplastic resin Coating solvent 59 59 Cellulose acetate butyrate: cellidor Bsp Ethyl acetate (Bayer AG) 60 Polyvinyl butyral resin: Esrec Ethanol (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) 61 Cellulose propionate: ethyl ceridria acetate (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) 62 Poly (vinyl acetate) methyl ethyl ketone 63 Poly (vinyl acetate / crotonic acid) 1% ammonia water (95/5) copolymer and containing Cellidor Bsp used at (8/2) weight ratio Ethanol solution 64 Methyl methacrylate / methyl acrylate copolymer (6/4) weight ratio Tetrahydrofuran 6 Styrene / butadiene copolymer Sorprene 1205 (manufactured by Asahi Kasei Corporation) Toluene 66 Poly (vinyl acetate) and poly (ethyl methacrylate) are used in a weight ratio of (6/4) Methyl ethyl ketone ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【0381】得られた各色校正用原版の静電特性・転写
性及び画像再現性を、実施例1と同様の方法により調べ
た所、いずれも、実施例1と同じレベルの性能を示し
た。When the electrostatic properties, transferability and image reproducibility of each of the obtained color proofreading masters were examined in the same manner as in Example 1, all of them showed the same level of performance as in Example 1.
【図1】図1は、熱転写装置を示す。FIG. 1 shows a thermal transfer device.
1 ゴム被覆金属ローラー 2 内蔵加熱用ヒーター 3 表面温度検出手段 4 温度コントローラー DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Rubber-coated metal roller 2 Built-in heater 3 Surface temperature detecting means 4 Temperature controller
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−204739(JP,A) 特開 平4−179962(JP,A) 特開 平4−67151(JP,A) 特開 平4−37857(JP,A) 特開 平4−22961(JP,A) 特開 平2−244146(JP,A) 特開 平2−278276(JP,A) 特開 昭64−52135(JP,A) 特開 平3−11347(JP,A) 特開 昭61−174557(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03G 5/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (56) References JP-A-4-204739 (JP, A) JP-A-4-179962 (JP, A) JP-A-4-67151 (JP, A) JP-A-4- 37857 (JP, A) JP-A-4-22961 (JP, A) JP-A-2-244146 (JP, A) JP-A-2-278276 (JP, A) JP-A 64-52135 (JP, A) JP-A-3-11347 (JP, A) JP-A-61-174557 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G03G 5/00
Claims (9)
転写層上に電子写真プロセスにより形成された少なくと
も1色のトナー像を、転写層と共に被転写材料に転写す
ることにより色校正刷りを製造するための電子写真式色
校正用原版であって、該光導電層が、下記の樹脂(P1)、
(P2)、(P3)及び(P4)からなる群から選ばれる樹脂
〔P〕、下記の樹脂(Q1)及び(Q2)からなる群から選ばれ
る樹脂〔Q〕、並びに光及び/又は熱硬化性基を少なく
とも1種含有する構成単位を少なくとも1種含有する樹
脂〔R〕を含み、且つ該樹脂〔P〕が少なくとも前記転
写層に接する表面の近傍に存在し、該表面のJIS Z
0237−1980「粘着テープ・シート試験方法」に
より試験される粘着力が150gram・force(g ・f)以下
であることを特徴とする電子写真式色校正用原版。 (1) 樹脂(P1):フッ素原子及び/又はケイ素原子を含有
する構成単位を50重量%以上含有するセグメント
(X)と光及び/又は熱硬化性基を少なくとも1種含有
する構成単位を含有するセグメント(Y)とを含む直線
状ブロック型共重合体。 (2) 樹脂(P2):フッ素原子及び/又はケイ素原子を含有
する構成単位を50重量%以上含有するセグメント
(X)と光及び/又は熱硬化性基を少なくとも1種含有
する構成単位を含有するセグメント(Y)とを含むAB
型ブロック高分子鎖が少なくとも3個、有機基(Z)を
介して結合しているスター型共重合体。 (3) 樹脂(P3):フッ素原子及び/又はケイ素原子を含有
する構成単位を50重量%以上含有するセグメント
(X)と光及び/又は熱硬化性基を少なくとも1種含有
する構成単位を含有するセグメント(Y)とを含むグラ
フト型共重合体。 (4) 樹脂(P4):フッ素原子及び/又はケイ素原子を含有
する構成単位を50重量%以上含有するセグメント
(X)と光及び/又は熱硬化性基を少なくとも1種含有
する構成単位を含有するセグメント(Y)とを含むAB
型又はABA型ブロック共重合体であり、且つ該セグメ
ント(X)の少なくとも一つが下記のグラフト型セグメ
ント(X') であるか、該セグメント(Y)の少なくとも
一つが下記のグラフト型セグメント(Y') であるか、又
は該セグメント(X)の少なくとも一つが下記のグラフ
ト型セグメント(X') であり、且つ該セグメント(Y)
の少なくとも一つが下記のグラフト型セグメント(Y')
である共重合体。 グラフト型セグメント(X') :重量平均分子量が1×1
03 〜2×104 であり、フッ素原子及び/又はケイ素
原子を含有する構成単位を50重量%以上含有するマク
ロモノマー部(MA ) を共重合成分として含有するセグ
メント。 グラフト型セグメント (Y') :重量平均分子量が1×1
03 〜2×104 であり、フッ素原子及び/又はケイ素
原子を含有する構成単位を含有しない構成単位より成る
マクロモノマー部(MB ) を共重合成分として含有する
セグメント。 (5) 樹脂(Q1 ):1×103 〜2×104 の重量平均
分子量を有し、下記一般式(I): 【化1】 〔式中、b1 及びb2 は各々水素原子、ハロゲン原子、
シアノ基又は炭化水素基を表し、R3 は炭化水素基を表
す〕で示されるモノマーと、−PO3 H2 基、−SO3
H基、−COOH基、−PO(OH)(R1 )(式中、
R1 は炭化水素基又は−OR2 (R2 は炭化水素基を表
す) を表す)基及び環状酸無水物基から選択される少な
くとも1種の極性基を含有する重合体成分を含有する重
合体主鎖の一方の末端にのみ下記一般式(II): 【化2】 〔式中、V1 は−COO−、−OCO−、−CH2 OC
O−、−CH2 COO−、−O−、−SO2 −、−CO
−、−CONHCOO−、−CONHCONH−、−C
ONHSO2 −、−CON(T1 )−、−SO2 N(T
1 )−又は−C6H4 −を表し(ここで、T1 は水素原
子又は炭化水素基を表す)、b3 及びb4は各々水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−COOZ
1 又は−Z 2 −COOZ1 (Z1 は水素原子又は炭化水
素基を表し、Z2 は炭化水素基を表す) を表す。〕で示
される重合性二重結合基を結合して成る重量平均分子量
1×104 以下の一官能性マクロモノマー(MC )とか
ら少なくともなるグラフト型共重合体。 (6) 樹脂(Q2 ):1×103 〜2×104 の重量平均
分子量を有し、−PO3 H2 基、−SO3H基、−CO
OH基、フェノール性OH基、−PO(OH)(R1 )
(式中、R 1 は前記と同様の意味を有する) 基及び環状
酸無水物基から選択される少なくとも1種の極性基を含
有する重合体成分を少なくとも1種含有するAブロック
と、下記一般式(III): 【化3】 〔式中、V2 は−COO−、−OCO−、−(CH2)a
OCO−、−(CH2)aCOO−(aは1〜3の整数を
表す)、−O−、−SO2 −、−CO−、−CON(T
1 )−、−SO2 N(T1 )−、−CONHCOO−、
−CONHCONH−又は−C6 H4 −を表し(ここ
で、T1 は前記と同様の意味を有する) 、R 4 は炭化水
素基を表し、b5 及びb6 は各々b1 及びb2 と同様の
意味を有する。但し、V2 が−C6 H4 −を表す場合、
R4 は水素原子又は炭化水素基を表す。〕で示される重
合体成分を少なくとも1種含有するBブロックとから構
成されるABブロック共重合体のBブロックの重合体主
鎖の末端に重合性二重結合基を結合して成る一官能性マ
クロモノマー(MD )を少なくとも1種共重合成分とし
て含有するグラフト型共重合体。1. A method comprising: a support; a photoconductive layer; and a transfer layer.
At least the electrophotographic process formed on the transfer layer
Also transfers the one-color toner image to the transfer-receiving material together with the transfer layer.
Electrophotographic colors to produce color proofs
A calibration master, wherein the photoconductive layer is formed of the following resin (P1),
(PTwo), (PThree) And (PFour) Resin selected from the group consisting of
[P], the following resin (Q1) And (QTwo)
Resin [Q] and light and / or thermosetting groups
A tree containing at least one kind of structural unit containing at least one kind
Fat [R], and the resin [P] is at least
Exists in the vicinity of the surface in contact with the photoconductive layer, and the JIS Z of the surface
0237-1980 "Testing method for adhesive tape and sheet"
Adhesive strength to be tested is 150gram ・ force (g ・ f) or less
An electrophotographic color proofing master, characterized in that: (1) Resin (P1): Contains fluorine atom and / or silicon atom
Containing 50% by weight or more of structural units
Contains (X) and at least one light and / or thermosetting group
Including the segment (Y) containing the structural unit
Block copolymer. (2) Resin (PTwo): Contains fluorine atom and / or silicon atom
Containing 50% by weight or more of structural units
Contains (X) and at least one light and / or thermosetting group
Comprising a segment (Y) containing a structural unit
At least three type block polymer chains and an organic group (Z)
Star-type copolymers that are bonded via a polymer. (3) Resin (PThree): Contains fluorine atom and / or silicon atom
Containing 50% by weight or more of structural units
Contains (X) and at least one light and / or thermosetting group
And a segment (Y) containing a structural unit
Ft-type copolymer. (4) Resin (PFour): Contains fluorine atom and / or silicon atom
Containing 50% by weight or more of structural units
Contains (X) and at least one light and / or thermosetting group
Comprising a segment (Y) containing a structural unit
Type or ABA type block copolymer, and
At least one of the following graft-type segments (X)
(X ') or at least the segment (Y)
One is the following graft type segment (Y '), or
Is a graph in which at least one of the segments (X) is
Segment (X ') and the segment (Y)
At least one of the following graft-type segments (Y ')
Is a copolymer. Graft type segment (X '): weight average molecular weight 1 × 1
0Three~ 2 × 10FourAnd a fluorine atom and / or silicon
Mac containing 50% by weight or more of constituent units containing atoms
Monomer part (MA) As a copolymer component
Ment. Graft type segment (Y '): weight average molecular weight is 1 × 1
0Three~ 2 × 10FourAnd a fluorine atom and / or silicon
Consists of constituent units that do not contain constituent units containing atoms
Macromonomer part (MB) As a copolymer component
segment. (5) Resin (Q1): 1 × 10Three~ 2 × 10FourWeight average
Having a molecular weight of the following general formula (I):[Where b1And bTwoRepresents a hydrogen atom, a halogen atom,
Represents a cyano group or a hydrocarbon group;ThreeRepresents a hydrocarbon group
And -POThreeHTwo Group, -SOThree
H group, -COOH group, -PO (OH) (R1) (Where
R1Is a hydrocarbon group or -ORTwo(RTwoRepresents a hydrocarbon group
Group) and cyclic anhydride groups.
A polymer containing at least one kind of polar group-containing polymer component
Only at one end of the coalesced main chain is the following general formula (II):[Where V1Is -COO-, -OCO-, -CHTwoOC
O-, -CHTwoCOO-, -O-, -SOTwo-, -CO
-, -CONHCOO-, -CONHCONH-, -C
ONHSOTwo-, -CON (T1)-, -SOTwoN (T
1)-Or -C6HFour-(Where T1Is hydrogen field
Represents a child or a hydrocarbon group), bThreeAnd bFourAre hydrogen sources
, Halogen atom, cyano group, hydrocarbon group, -COOZ
1Or -Z Two-COOZ1(Z1Is a hydrogen atom or hydrocarbon
Represents a radical, ZTwoRepresents a hydrocarbon group). ]
Weight average molecular weight formed by bonding polymerizable double bond groups
1 × 10FourThe following monofunctional macromonomer (MC)And
At least a graft copolymer. (6) Resin (QTwo): 1 × 10Three~ 2 × 10FourWeight average
Having a molecular weight of -POThreeHTwo Group, -SOThreeH group, -CO
OH group, phenolic OH group, -PO (OH) (R1)
(Where R 1Has the same meaning as above.)
It contains at least one polar group selected from acid anhydride groups.
Block containing at least one polymer component having
And the following general formula (III):[Where VTwoIs -COO-, -OCO-,-(CHTwo)a
OCO-,-(CHTwo)aCOO- (a is an integer of 1 to 3
), -O-, -SOTwo-, -CO-, -CON (T
1)-, -SOTwoN (T1)-, -CONHCOO-,
-CONHCONH- or -C6HFourRepresents-(here
And T1Has the same meaning as described above), R FourIs hydrocarbon
Represents a radical, bFiveAnd b6Is b1And bTwoSimilar to
Meaningful. Where VTwoIs -C6HFourWhen expressing-,
RFourRepresents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. ]
A B block containing at least one coalescing component.
AB block copolymer to be formed
Monofunctional polymer consisting of a polymerizable double bond attached to the chain end
Chromonomer (MD) As at least one copolymer component
A graft-type copolymer.
〔Q〕が樹脂(Q1)である請求項1記載の電子写真式色校
正用原版。2. The electrophotographic color proofing master according to claim 1, wherein the resin [P] is a resin (P 1 ) and the resin [Q] is a resin (Q 1 ).
〔Q〕が樹脂(Q1)である請求項1記載の電子写真式色校
正用原版。3. The electrophotographic color proofing master according to claim 1, wherein the resin [P] is a resin (P 2 ) and the resin [Q] is a resin (Q 1 ).
〔Q〕が樹脂(Q1)である請求項1記載の電子写真式色校
正用原版。4. The electrophotographic color proofing master according to claim 1, wherein the resin [P] is a resin (P 3 ) and the resin [Q] is a resin (Q 1 ).
〔Q〕が樹脂(Q1)である請求項1記載の電子写真式色校
正用原版。5. The electrophotographic color proofing master according to claim 1, wherein the resin [P] is a resin (P 4 ) and the resin [Q] is a resin (Q 1 ).
〔Q〕が樹脂(Q2)である請求項1記載の電子写真式色校
正用原版。6. The electrophotographic color proofing master according to claim 1, wherein the resin [P] is a resin (P 1 ) and the resin [Q] is a resin (Q 2 ).
〔Q〕が樹脂(Q2)である請求項1記載の電子写真式色校
正用原版。7. The electrophotographic color proofing master according to claim 1, wherein the resin [P] is a resin (P 2 ) and the resin [Q] is a resin (Q 2 ).
〔Q〕が樹脂(Q2)である請求項1記載の電子写真式色校
正用原版。8. The electrophotographic color proofing master according to claim 1, wherein the resin [P] is a resin (P 3 ) and the resin [Q] is a resin (Q 2 ).
〔Q〕が樹脂(Q2)である請求項1記載の電子写真式色校
正用原版。9. The electrophotographic color proofing master according to claim 1, wherein the resin [P] is a resin (P 4 ) and the resin [Q] is a resin (Q 2 ).
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JPH0675405A JPH0675405A (en) | 1994-03-18 |
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