JPH06130706A - Planographic printing original plate - Google Patents

Planographic printing original plate

Info

Publication number
JPH06130706A
JPH06130706A JP30156792A JP30156792A JPH06130706A JP H06130706 A JPH06130706 A JP H06130706A JP 30156792 A JP30156792 A JP 30156792A JP 30156792 A JP30156792 A JP 30156792A JP H06130706 A JPH06130706 A JP H06130706A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
resin
acid
printing
chemical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP30156792A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eiichi Kato
栄一 加藤
Hiroshi Tashiro
宏 田代
Kazuo Ishii
一夫 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP30156792A priority Critical patent/JPH06130706A/en
Publication of JPH06130706A publication Critical patent/JPH06130706A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a planographic printing original plate free from staining, excellent in desensitization and having high resistance to plate wear. CONSTITUTION:A binding resin (A) containing a functional group forming a hydrophilic group by chemical reaction treating and a photo/thermosetting group is contained in the surface layer of the planographic printing original plate as a binding resin and a binding resin (B), which is a star type copolymer made by joining >=3 AB type block polymer chains composed of an A block containing a specific polymer component and a B block containing a polymer component containing a specific polar group to an organic molecule, is contained in a photoconductive layer as a binding resin.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子写真方式で製版さ
れる電子写真式平版印刷用原版に関するものであり、特
に、光導電層上に特定の性質を有する表面層を設ける様
にした平版印刷用原版に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic lithographic printing plate precursor prepared by electrophotography, and more particularly to a lithographic plate provided with a surface layer having specific properties on a photoconductive layer. Regarding the original plate for printing.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在ダイレクト製版用のオフセット原版
には多種のものが提案され且つ実用化されているが、中
でも、導電性支持体上に酸化亜鉛のごとき光導電性粒子
及び結着樹脂を主成分とした光導電層を設けた感光体を
通常の電子写真工程を経て、感光体表面に親油性の高い
トナー画像を形成させ、続いて該表面をエッチ液と言わ
れる不感脂化液で処理し非画像部分を選択的に親水化す
ることによってオフセット原版を得る技術が広く用いら
れている。
2. Description of the Related Art At present, various types of offset master plates for direct plate making have been proposed and put into practical use. Among them, photoconductive particles such as zinc oxide and a binder resin are mainly used on a conductive support. The photoconductor provided with the photoconductive layer as a component is subjected to a usual electrophotographic process to form a highly lipophilic toner image on the photoconductor surface, and then the surface is treated with a desensitizing solution called an etchant. A technique for obtaining an offset original plate by selectively making the non-image portion hydrophilic is widely used.

【0003】良好な印刷物を得るには、先ずオフセット
原版に、原画が忠実に複写されると共に、感光体表面が
不感脂化処理液となじみ易く、非画像部が充分に親水化
されると同時に耐水性を有し、更に印刷においては、画
像を有する光導電層が離脱しないこと、及び湿し水との
なじみがよく、印刷枚数が多くなっても汚れが発生しな
い様に充分に非画像部の親水性が保持されること、等の
性能を有する必要がある。
In order to obtain a good printed matter, first, the original image is faithfully copied to the offset original plate, the surface of the photoreceptor is easily compatible with the desensitizing solution, and at the same time the non-image area is sufficiently hydrophilicized. It has water resistance, and in printing, the photoconductive layer with the image does not come off, it is well compatible with fountain solution, and it is sufficiently non-image area so that stains do not occur even when the number of printed sheets increases. It is necessary to have such properties as maintaining the hydrophilicity of.

【0004】近年、通常の電子写真感光体上に特定の樹
脂層を設けることにより製版が容易な非画像部表面親水
性処理型の印刷版を作成する方法が特公昭45−560
6号公報に示されている。すなわち、電子写真感光層上
にビニルエーテルと−無水マレイン酸共重合体およびこ
れと相溶性の疎水性樹脂とからなる表面層を設けた印刷
版が開示されている。この層はトナー像形成後、非画像
部をアルカリで処理することにより酸無水環部分を加水
開環することにより親水化できる層(親水化可能層)で
ある。
In recent years, a method of preparing a printing plate of a hydrophilic treatment type on the surface of a non-image area by providing a specific resin layer on an ordinary electrophotographic photosensitive member has been proposed.
No. 6 publication. That is, a printing plate is disclosed in which a surface layer comprising a vinyl ether, a maleic anhydride copolymer, and a hydrophobic resin compatible with the vinyl ether is provided on the electrophotographic photosensitive layer. This layer is a layer (hydrophilizable layer) which can be hydrophilized by hydrolyzing the acid anhydride ring portion by treating the non-image portion with an alkali after forming a toner image.

【0005】しかし、そこで用いられているビニルエー
テル−無水マレイン酸共重合体は、開環して親水化され
た状態では水溶性となってしまうため、たとえその他の
疎水性の樹脂と相溶した状態で層が形成されていたとし
ても、その耐水性ははなはだしく劣り、耐刷性はせいぜ
い500〜600枚が限度であった。
However, the vinyl ether-maleic anhydride copolymer used therein becomes water-soluble when it is ring-opened and hydrophilized, so that it is compatible with other hydrophobic resins. Even if the layer is formed by (1), the water resistance is extremely poor, and the printing durability is limited to 500 to 600 sheets at most.

【0006】更に、特開昭60−90343、同60−
159756、同61−217292各号公報等では、
シリル化されたポリビニルアルコールを主成分とし、且
つ架橋剤を併用した表面層(親水化可能層)を設ける方
法が示されている。即ち、この層は、トナー像形成後非
画像部において、シリル化されたポリビニルアルコール
を加水分解処理して親水化するものである。また、親水
化後の膜強度を保持するため、ポリビニルアルコールの
シリル化度を調整し、残像水酸基を架橋剤を用いて架橋
している。そして、これらにより、印刷物の地汚れ性が
改良され、耐刷枚数が向上すると記載されている。
Further, Japanese Patent Laid-Open Nos. 60-90343 and 60-
159756, 61-217292, etc.,
A method of providing a surface layer (hydrophilizable layer) containing a silylated polyvinyl alcohol as a main component and a crosslinking agent together is disclosed. That is, this layer is for hydrolyzing the silylated polyvinyl alcohol by hydrolyzing it in the non-image area after toner image formation. In addition, in order to maintain the film strength after hydrophilization, the degree of silylation of polyvinyl alcohol is adjusted and the residual image hydroxyl groups are crosslinked with a crosslinking agent. And, it is described that the background stain resistance of the printed matter is improved and the number of printed sheets is improved by these.

【0007】しかしながら、現実に評価してみると、特
に地汚れにおいて未だ満足できるものではない。また、
シリル化ポリビニルアルコールはポリビニルアルコール
をシリル化剤で所望の割合にシリル化することで製造し
ているが、高分子反応であることから、安定して製造す
ることが難しい。更に親水化ポリマーの化学構造が限定
されているため、電子写真感光体としての機能を阻害し
ないように、1)帯電性、2)複写画像の品質(画像部
の網点再現性・解像力、非画像部の地カブリ等)、3)
露光感度、等に対して該表面層が影響しないようにする
ことが難しい等の問題があった。
However, when actually evaluated, it is still unsatisfactory, especially in the background stain. Also,
Silylated polyvinyl alcohol is produced by silylating polyvinyl alcohol with a silylating agent to a desired ratio, but it is difficult to produce stably because it is a polymer reaction. Further, since the chemical structure of the hydrophilic polymer is limited, 1) chargeability and 2) copy image quality (halftone dot reproducibility / resolution of image area, Fog in the image area, etc.), 3)
There is a problem that it is difficult to prevent the surface layer from affecting the exposure sensitivity and the like.

【0008】本発明者等は、以上のような電子写真式平
版印刷用原版の有する問題点を改良するために、先に、
表面層の主成分として分解によりカルボキシル基を生成
する官能基を含有した樹脂を用いた電子写真式平版印刷
用原版を提案した(特開昭62−28345号明細
書)。更に、表面層樹脂として、分解により親水性基を
生成する官能基を含有する樹脂と、感光層中で樹脂が架
橋する化合物とを併用したものを検討し、例えば分解に
よりヒドロキシル基を生成する官能基を含有するもの
(特開平1−245970、同1−262556各号公
報)、分解によりカルボキシル基を生成する官能基を含
有するもの(特開平1−283572、同1−2848
60各号公報)、分解によりチオール基、アミノ基、ホ
スホノ基、スルホ基等を生成する官能基を含有するもの
(特開平1−304465、同1−306855各号公
報)等を提案した。
The inventors of the present invention have previously proposed the following in order to improve the above-mentioned problems of the electrophotographic lithographic printing plate precursor.
An electrophotographic lithographic printing plate precursor using a resin containing a functional group capable of generating a carboxyl group as a main component of the surface layer by decomposition has been proposed (JP-A-62-28345). Further, as the surface layer resin, a resin containing a functional group that generates a hydrophilic group by decomposition and a compound that the resin crosslinks in the photosensitive layer are examined together, and for example, a function that generates a hydroxyl group by decomposition Those containing a group (JP-A-1-245970, JP-A-1-262556) and those containing a functional group capable of generating a carboxyl group by decomposition (JP-A-1-28357, 1-2848).
No. 60), and those containing functional groups that generate a thiol group, an amino group, a phosphono group, a sulfo group and the like by decomposition (JP-A-1-304465 and 1-306855).

【0009】更には、表面層中に、分解により親水性基
を生成する官能基を含有し、更に高次の網目構造を形成
した微小粒径の粒子を少量併用するものが検討されてお
り、例えば分解によりカルボキシル基を生成する官能基
を含有するもの(特開平2−13965号公報)、分解
によりヒドロキシル基を生成する官能基を含有するもの
(特開平2−13966号公報)、分解によりスルホ
基、ホスホノ基等を生成する官能基を含有するもの(特
開平2−13967号公報)等が開示されている。
Further, it has been investigated to use a small amount of fine particles having a functional group capable of generating a hydrophilic group by decomposition in the surface layer and forming a higher order network structure. For example, those containing a functional group capable of generating a carboxyl group by decomposition (JP-A-2-13965), those containing a functional group capable of generating a hydroxyl group by decomposition (JP-A-2-13966), and sulfo by decomposition. A group containing a functional group that generates a group, a phosphono group, etc. (JP-A-2-13967) is disclosed.

【0010】これらの結着樹脂あるいは樹脂粒子は不感
脂化液または印刷時に用いる浸し水による加水分解、加
水素分解又は光分解等をうけて親水性基を生成するもの
である。これらを平版印刷用原版の表面層樹脂として用
いると、いずれの場合も、親水性基自身をはじめから含
有した際に生じる電子写真特性の悪化(暗電荷保持量や
光感度)等を回避できると共に、不感脂化液により親水
化される非画像部の親水性が、表面層中の結着樹脂ある
いは樹脂粒子中において分解により生成される上記親水
性基によってより発現することで、画像部の親油性と非
画像部の親水性が明確となり、印刷時に非画像部に印刷
インキが付着するのを防止し、且つ、表面層内が架橋構
造を形成していることにより、親水化した該樹脂が水不
溶性となり更に、架橋効果により、水を含有して該親水
性架橋樹脂が膨潤して、水保有性が生まれ、表面層の親
水性が充分に保持されるようになる。その結果として地
汚れのない鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷することが
可能となる。
These binder resins or resin particles form a hydrophilic group by being hydrolyzed, hydrolyzed or photolyzed by a desensitizing solution or immersion water used at the time of printing. When these are used as the surface layer resin of the lithographic printing plate precursor, in any case, it is possible to avoid deterioration of electrophotographic properties (dark charge retention amount and photosensitivity) and the like which occur when the hydrophilic group itself is contained from the beginning. The hydrophilicity of the non-image area which is hydrophilized by the desensitizing solution is more expressed by the hydrophilic group produced by decomposition in the binder resin or resin particles in the surface layer, thereby improving the hydrophilicity of the image area. The oiliness and the hydrophilicity of the non-image area become clear, the printing ink is prevented from adhering to the non-image area during printing, and the crosslinked structure is formed in the surface layer, so that the hydrophilicized resin is Further, it becomes water-insoluble, and due to the crosslinking effect, the hydrophilic crosslinked resin containing water swells, water retention is created, and the hydrophilicity of the surface layer is sufficiently maintained. As a result, it becomes possible to print a large number of printed matter with clear image quality without scumming.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】このような、分解反応
により親水性基を生成する型の樹脂は、予め保護基でマ
スクされたカルボキシル基あるいはヒドロキシル基を処
理液で分解反応させて該保護基を離脱させるものであ
り、したがって、この型の樹脂には、保存時には大気中
の湿度(水分)の影響を受けて加水分解することなく安
定に存在し、また親水化処理時には速やかに脱保護基反
応が進行して親水性基を生成し、非画像部の親水性を向
上できることが重要な特性として要求される。
Such a resin of the type which produces a hydrophilic group by a decomposition reaction is a protective group which is prepared by decomposing a carboxyl group or a hydroxyl group masked with a protective group in advance with a treatment liquid. Therefore, this type of resin is stable and does not hydrolyze under the influence of atmospheric humidity (moisture) during storage, and is rapidly deprotected during hydrophilization treatment. An important characteristic is that the reaction proceeds to form a hydrophilic group and the hydrophilicity of the non-image area can be improved.

【0012】しかしながら、高温多湿の環境で長期間保
存といった苛酷な条件下でも分解しないで安定に存在す
る親水性基生成官能基(保護基)にすると、処理液によ
る迅速な分解や、親水性の迅速な発現に困難が生じるこ
とが判った。
However, when a hydrophilic group-forming functional group (protecting group) is present which does not decompose even under severe conditions such as storage in a hot and humid environment for a long period of time and is stable, a rapid decomposition by the treatment liquid and a hydrophilic group It has been found that difficulties arise in rapid onset.

【0013】また、上記の親水性基を生成する樹脂を用
いた平版印刷用原版を、更に詳細に評価して見ると、オ
フセット印刷機上での印刷条件の変動(例えば印刷中で
の湿し水の供給量の変動等)あるいは印刷機の種類(シ
ンフロー方式かモルトン方式)によって、印刷時に地汚
れが発生・刷り出してから、地汚れのない印刷物が得ら
れるまでの印刷枚数の増加:地汚れを生じない印刷枚数
の低下等、印刷時の安定して高耐刷を得るためのラチチ
ュードが狭いことが問題となった。
Further, a more detailed evaluation of the lithographic printing plate precursor using the above-mentioned resin that produces a hydrophilic group will show variations in printing conditions on an offset printing machine (for example, dampening during printing). Depending on the amount of water supply, etc.) or the type of printing machine (Synflow method or Molton method), the number of prints increases from the occurrence of scumming at the time of printing / printing until the production of a scum with no scumming: The problem is that the latitude is narrow to obtain stable and high printing durability at the time of printing, such as a reduction in the number of printed sheets without causing stains.

【0014】一方、光導電性酸化亜鉛を利用した平版印
刷用原版は、公知の如く、酸化亜鉛を酸性条件下の不感
脂化処理液で化学処理することで表面を親水化するが、
良好な不感脂化能を示す処理液としては、黄血塩を主剤
として含有するものに限定されている。
On the other hand, in the lithographic printing plate precursor using photoconductive zinc oxide, the surface of the lithographic printing plate is made hydrophilic by chemically treating zinc oxide with a desensitizing solution under acidic conditions, as is known.
The treatment liquids exhibiting good desensitizing ability are limited to those containing yellow blood salt as a main ingredient.

【0015】これらの制約により、主剤として黄血塩を
含有する不感脂化処理液の廃液処理方法の限定が必要と
なっている事、又、酸性条件を維持して印刷する必要が
ある事から、中性紙印刷用紙を用いると、印刷可能な枚
数が急激に減少してしまう(即ち、耐刷性が劣化)事、
あるいは、不感脂化の原理がキレート化反応による親水
化物の生成であることから、印刷中に色インキ中に含有
される多価金属イオンと相互作用を生じ易く、それによ
りインキの異常乳化を生じ、結果として特に、カラー印
刷を行なう場合に、耐刷枚数が低下してしまう事等の種
々の問題及び制約があった。
Due to these restrictions, it is necessary to limit the waste liquid treatment method of the desensitizing treatment liquid containing yellow blood salt as the main ingredient, and it is necessary to print while maintaining the acidic conditions. , When using neutral paper printing paper, the number of printable sheets decreases sharply (that is, printing durability deteriorates),
Alternatively, since the principle of desensitization is the formation of a hydrophilized product by a chelation reaction, it easily interacts with polyvalent metal ions contained in the color ink during printing, which causes abnormal emulsification of the ink. As a result, in particular, when performing color printing, there are various problems and restrictions such as a reduction in the number of printable sheets.

【0016】本発明は、以上のような従来の平版印刷用
原版の有する問題点を改良するものである。すなわち、
本発明の目的の1は、オフセット原版として、印刷工程
における印刷条件が変動しても且つカラー印刷をしても
安定して、全面一様な地汚れは勿論、点状の地汚れをも
発生させない、不感脂化性の優れた平版印刷用原版を提
供することである。
The present invention improves the above-mentioned problems of the conventional lithographic printing plate precursor. That is,
One of the objects of the present invention is to provide an offset original plate which is stable even when the printing conditions in the printing process are varied and is color printed, and produces not only uniform background stains but also spotwise background stains. It is an object of the present invention to provide a lithographic printing plate precursor that is excellent in desensitizing property and that is not caused.

【0017】本発明の目的の2は、印刷方式の異なるい
かなるオフセット印刷機に対しても刷り出し時の損紙が
非常に少ない、高耐刷力を有する平版印刷用原版を提供
することである。本発明の目的の3は、不感脂化処理液
及び湿し水に環境衛生上問題のない処理液を組み合せて
用いることができる、高耐刷性をもつ平版印刷用原版を
提供することである。
A second object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor having a high printing durability and having very little loss of paper at the time of printing to any offset printing machine having a different printing system. . An object 3 of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor having high printing durability, which can use a combination of a desensitizing treatment liquid and a fountain solution with a treatment liquid having no environmental hygiene problem. .

【0018】本発明の目的の4は、印刷用紙として、中
性紙を用いても、酸性紙と同様に、印刷工程に問題を生
じないで、高耐刷可能な平版印刷用原版を提供すること
である。
An object 4 of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor capable of high printing durability, even if neutral paper is used as the printing paper, like the acidic paper, without causing any problems in the printing process. That is.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を、導
電性支持体上に光導電性化合物及び結着樹脂とを少なく
とも含有してなる光導電層を少なくとも1層設け、更に
その最上層に表面層を設けてなる電子写真感光体を利用
した平版印刷用原版において、該表面層の結着樹脂が、
下記の結着樹脂〔A〕を少なくとも1種含有する及び該
光導電層に結着樹脂として下記の結着樹脂〔B〕を少な
くとも1種含有することを特徴とする平版印刷用原版に
よって達成される。結着樹脂〔A〕として、化学反応処
理で−COOH基を生成する官能基を少なくとも1種含
有する重合体成分(a)、該処理で−SO3 H基、−S
2 H基、−PO3 2 基を生成する官能基から選ばれ
た少なくとも一種の官能基を含有する重合体成分(b)
及び熱及び/又は光硬化性基を少なくとも1種含有する
重合体成分(c)を少なくとも含有する共重合体を用い
る。結着樹脂〔B〕として、1×103 〜2×104
重量平均分子量を有し、下記一般式(I)で示される繰
り返し単位を重合体成分として少なくとも1種含有する
Aブロックと、−PO3 2 基、−SO3 H基、−CO
OH基、−P(=O)(OH)R1 〔R1 は炭化水素基又
は−OR2 (R2 は炭化水素基を表す)基を表す〕基及
び環状酸無水物含有基から選択される少なくとも1種の
極性基を含有する重合体成分を少なくとも1種含有する
Bブロックとから構成されるAB型ブロック高分子鎖
が、有機分子中に少なくとも3個結合してなるスター型
共重合体を用いる。
The present invention has the above-mentioned object of providing at least one photoconductive layer containing at least a photoconductive compound and a binder resin on a conductive support, and further providing the uppermost layer thereof. In a lithographic printing plate precursor using an electrophotographic photosensitive member having a surface layer provided on, the binder resin of the surface layer,
A lithographic printing plate precursor comprising at least one binder resin [A] below and at least one binder resin [B] below as a binder resin in the photoconductive layer. It As the binder resin [A], a polymer component (a) containing at least one functional group capable of forming a —COOH group by a chemical reaction treatment, —SO 3 H group, —S by the treatment.
Polymer component (b) containing at least one functional group selected from functional groups forming O 2 H group and —PO 3 H 2 group
And a copolymer containing at least the polymer component (c) containing at least one heat and / or photocurable group. As the binder resin [B], an A block having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 and containing at least one repeating unit represented by the following general formula (I) as a polymer component, -PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -CO
OH group, —P (═O) (OH) R 1 [R 1 represents a hydrocarbon group or —OR 2 (R 2 represents a hydrocarbon group) group] and a cyclic acid anhydride-containing group. A star-type copolymer in which at least three AB-type block polymer chains composed of a B block containing at least one polymer component containing at least one polar group are bound in an organic molecule. To use.

【0020】[0020]

【化4】 [Chemical 4]

【0021】〔式(I)中、a1 及びa2 は各々水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。
11は炭化水素基を表わす。〕
[In the formula (I), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group.
R 11 represents a hydrocarbon group. ]

【0022】好ましくは、該結着樹脂〔A〕に含有され
る共重合体成分(a)は、−COOH基を生成する官能
基の少なくとも1種が、該共重合体の高分子鎖主鎖に直
接結合しているものである。更に好ましくは、本発明の
表面層中に、上記結着樹脂〔A〕とともに、熱及び/又
は光硬化性化合物を含有するものである。
Preferably, in the copolymer component (a) contained in the binder resin [A], at least one functional group which produces a --COOH group is a polymer chain main chain of the copolymer. Is directly connected to. More preferably, the surface layer of the present invention contains a heat and / or photocurable compound together with the binder resin [A].

【0023】更に本発明において、樹脂〔B〕として、
下記一般式(Ia)及び一般式(Ib)で示される、2
位に、及び/又は2位と6位に特定の置換基を有するベ
ンゼン環又は無置換のナフタレン環を含有する、特定の
置換基をもつメタクリレート成分と酸性基成分とを含有
する樹脂〔B〕(以降この樹脂を特に樹脂〔BB〕と称
する)であることが好ましい。
Further, in the present invention, as the resin [B],
2 represented by the following general formula (Ia) and general formula (Ib)
Resin containing a benzene ring or a naphthalene ring having a specific substituent at the 2-position and / or the 2- and 6-positions and containing a methacrylate component having a specific substituent and an acidic group component [B] (Hereinafter, this resin is particularly referred to as resin [BB]).

【0024】[0024]

【化5】 [Chemical 5]

【0025】[0025]

【化6】 [Chemical 6]

【0026】〔式(Ia)及び(Ib)中、A1 及びA
2 は互いに独立に、それぞれ水素原子、炭素数1〜10
の炭化水素基、塩素原子、臭素原子、−COR14又は−
COOR14(R14は炭素数1〜10の炭化水素基を示
す)を表す。B1 及びB2 はそれぞれ−COO−とベン
ゼン環を結合する、単結合又は連結原子数1〜4個の連
結基を表わす。〕又、本発明の光導電層に用いられる、
光導電性化合物は、結着樹脂中に分散して使用するもの
であればいずれでもよいが、特に低コストで且つ無公害
性という事から、光導電性酸化亜鉛及び/又は光導電性
酸化チタンと分光増感色素とを少なくとも組み合わせて
用いる系が好ましい。
[In the formulas (Ia) and (Ib), A 1 and A
2 are each independently a hydrogen atom and a carbon number of 1-10.
Hydrocarbon group, chlorine atom, bromine atom, -COR 14 or-
COOR 14 (R 14 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms) is represented. B 1 and B 2 each represent a single bond or a connecting group having 1 to 4 connecting atoms, which connects —COO— and the benzene ring. ] Also used in the photoconductive layer of the present invention,
The photoconductive compound may be any one as long as it can be used by dispersing it in a binder resin, but since it is particularly low cost and non-polluting, photoconductive zinc oxide and / or photoconductive titanium oxide. A system in which at least a spectral sensitizing dye is used in combination is preferable.

【0027】[0027]

【作用】本発明の平版印刷用原版は、従来の酸化亜鉛を
化学処理して親水性を発現させ、印刷インキに対する不
感脂化性を利用するシステムとは異なり、親水性発現の
ために、酸化亜鉛を全く利用しないで、表面層に用いた
結着樹脂を水不溶性で且つ親水性となる様に設計された
ものである。従って、光導電体としては、樹脂分散型で
用いられるものであればいずれのものでも用いることが
できるが、平版印刷用原版としてのコスト及び無公害性
を勘案すれば、前記の様に、光導電性酸化亜鉛及び/又
は酸化チタンが好都合である。
The lithographic printing plate precursor of the present invention is different from the conventional system in which zinc oxide is chemically treated to express hydrophilicity and utilizes the desensitizing property for printing ink, and therefore, is oxidized due to hydrophilicity. The binder resin used for the surface layer is designed to be water-insoluble and hydrophilic without using zinc at all. Therefore, as the photoconductor, any one can be used as long as it is used in the resin dispersion type, in consideration of the cost and pollution-free as the lithographic printing plate precursor, as described above, Conductive zinc oxide and / or titanium oxide are preferred.

【0028】従来の酸化亜鉛を利用した平版印刷用原版
は、特定の条件の中で1万枚程度の耐刷性を有している
が、この特定の条件を軽減もしくは解決することは、前
記した様に原理的に困難な問題である。そこで本発明者
らは、原稿に対して、出来るだけ良好な再現性を示す複
写画像を形成する電子写真感光体としての性能を有し、
且つこれを不感脂化処理をして、印刷原版として用いた
時に、前記した様な、印刷時の種々の制約をなくし且つ
1万枚以上の高耐刷性を保持させるために、先に公開さ
れた技術の内容を含めて、更に鋭意検討を進めた。その
結果、本発明の結着樹脂〔A〕及び結着樹脂〔B〕を任
意に調整して用いること、更には表面層が高次構造を形
成していることで、本発明の原版が極めて、優れた性能
を示すことが見出された。
A conventional lithographic printing plate precursor using zinc oxide has a printing durability of about 10,000 sheets under specific conditions, but the reduction or solution of these specific conditions is described above. This is a difficult problem in principle. Therefore, the present inventors have a performance as an electrophotographic photosensitive member that forms a copied image showing as good reproducibility as possible on a document,
In addition, when it was used as a printing original plate after desensitizing treatment, it was previously disclosed in order to eliminate the above-mentioned various restrictions during printing and to maintain high printing durability of 10,000 sheets or more. Further advanced study including the contents of the applied technology. As a result, since the binder resin [A] and the binder resin [B] of the present invention are arbitrarily adjusted and used, and further, the surface layer has a higher-order structure, the original plate of the present invention is extremely excellent. , Has been found to exhibit excellent performance.

【0029】つまり、光導電層では、電子写真方式で良
好な複写画像を形成し、且つ、表面層では、結着樹脂の
みを利用して、化学反応による不感脂化処理で印刷原版
とするものである。表面層で結着樹脂のみを利用して化
学処理後の印刷原版の性能が優れた特性を示すために
は、不感脂化された後の膜(非画像部)の水への濡れ性
が極めて良好なこと(具体的には、蒸留水への接触角値
で0°)と同時に、不感脂化処理後の表面層全体が適切
な吸水量を保有することが、極めて主要であり、このこ
とが、印刷方式の違いあるいは、印刷時の湿し水の供給
量(即ち、印刷機上の湿し水と印刷インキのバランス)
変化に対し、大きく影響するか、安定しているかを支配
していることが明らかとなってきた。更に、この状態が
印刷を続けていく際に維持できるか否かが高耐刷性と影
響することも明らかになった。
That is, in the photoconductive layer, a good copy image is formed by an electrophotographic method, and in the surface layer, only the binder resin is used to make a printing original plate by desensitizing treatment by a chemical reaction. Is. In order to show the excellent performance of the printing original plate after chemical treatment using only the binder resin in the surface layer, the wettability of the film (non-image area) after desensitization to water is extremely high. It is extremely important that the entire surface layer after desensitization has an appropriate water absorption amount at the same time that it is good (specifically, the contact angle value with distilled water is 0 °). However, the difference in printing method or the amount of dampening water supplied during printing (that is, the balance between dampening water and printing ink on the printing press)
It has become clear that the change is largely controlled or controlled. Further, it was also clarified that whether or not this state can be maintained when printing is continued affects high printing durability.

【0030】この様な平版原版の表面層での膜構造を達
成し維持していくには、本発明の結着樹脂〔A〕に示さ
れる様に、不感脂化処理で生成する親水基として、カル
ボキシル基と、スルホ基・スルフィノ基・ホスホノ基よ
り選ばれた少なくとも1つの親水基とを、同一高分子鎖
中に含有している事、更に好ましくは、該カルボキシル
基は、高分子主鎖に直結している事が重要であり、また
更に該結着樹脂〔A〕は、光及び/又は熱硬化性基を含
有しており、成膜後の表面層が、高次架橋構造を形成し
ている事、更にこの高次架橋構造の形成を充分ならしめ
るために、光及び/又は熱硬化性化合物を組み合せて用
いる事が重要である。
In order to achieve and maintain such a film structure in the surface layer of the lithographic original plate, as shown in the binder resin [A] of the present invention, a hydrophilic group produced by desensitizing treatment is used. A carboxyl group and at least one hydrophilic group selected from a sulfo group, a sulfino group and a phosphono group in the same polymer chain, and more preferably, the carboxyl group is a polymer main chain. It is important that the binder resin [A] further contains a photo- and / or thermosetting group, and the surface layer after film formation has a high-order cross-linking structure. In addition, it is important to use a photo- and / or thermosetting compound in combination in order to sufficiently form the higher order crosslinked structure.

【0031】即ち、本発明の不感脂化処理で親水性基を
発現した高分子鎖(表面層)は、充分な不感脂化性を示
し、且つ高次架橋構造を形成していることで、親水化し
た高分子を水不溶性化して膜の強度を維持するととも
に、膜が吸水して一定の吸水量を保持する。この際、膜
の高次架橋構造の架橋の程度で膜の膨潤性が異なり膜の
吸水量に影響を与えると考えられる。
That is, the polymer chain (surface layer) which exhibits a hydrophilic group in the desensitizing treatment of the present invention exhibits sufficient desensitizing property and has a high-order crosslinked structure, The hydrophilized polymer is made water-insoluble to maintain the strength of the membrane, and the membrane absorbs water to maintain a constant water absorption amount. At this time, it is considered that the swelling property of the film is different depending on the degree of cross-linking of the high-order cross-linking structure of the film and affects the water absorption amount of the film.

【0032】従来公知のカルボキシル基を生成する樹脂
を用いた平版では、膜の膨潤を抑制して、ある程度、膜
強度が高耐刷ではあるが、破損しない程度に高次架橋構
造を形成すると、表面濡れ性と膜の吸水量が不足し、前
記した様な印刷条件等によっては、刷り出しから印刷物
に地汚れが発生してしまった。このことは、カルボキシ
ル基のみでは親水化力が不充分であるため、膜強度は良
好であっても、膜の状態が充分な濡れ性と吸水量を保持
できないものと推定される。
In a lithographic plate using a conventionally known resin which produces a carboxyl group, swelling of the film is suppressed, and although the film strength is high to some extent, a high-order crosslinked structure is formed to the extent that it does not break, The surface wettability and the water absorption of the film were insufficient, and depending on the printing conditions and the like as described above, the printed matter was scummed after printing. This is presumed to be because even if the film strength is good, the film state cannot maintain sufficient wettability and water absorption since the hydrophilicity is insufficient with only the carboxyl group.

【0033】他方、従来公知のスルホン基あるいはホス
ホノ基を生成する樹脂を用いた場合には、膜の膨潤性を
抑制して、高耐刷性を維持できるまで充分に架橋するた
めに必要な架橋成分を導入すると、これら架橋成分が親
油性のために、結果として樹脂の表面濡れ性の低下を招
き刷り出しから地汚れが発生してしまった。一方、上記
スルホン基あるいはホスホノ基を生成する樹脂を用い親
油性の架橋成分の導入を抑えた場合には、生成したスル
ホ基、あるいはホスホノ基は、カルボキシル基と比べ親
水性が非常に高く、且つ高次構造の膜で吸水量を充分に
保有することができ、刷り出しから地汚れのない印刷物
を得ることができた。しかし、印刷時の印圧が過酷とな
る大型印刷機上で耐刷性を調べて見ると、耐刷性の低下
を生じた。この事は、膜の強度と膜の表面濡れ性・膜の
吸水量との両立が難しいことによると考えられる。
On the other hand, when a conventionally known resin which produces a sulfone group or a phosphono group is used, it is necessary to suppress the swelling property of the film and sufficiently crosslink it until high printing durability can be maintained. When the components are introduced, these cross-linking components are lipophilic, and as a result, the surface wettability of the resin is lowered, and scumming occurs from printing. On the other hand, when the introduction of the lipophilic cross-linking component is suppressed by using the resin that produces the sulfone group or the phosphono group, the produced sulfo group or phosphono group has very high hydrophilicity as compared with the carboxyl group, and The high-order structure film was able to retain a sufficient amount of water absorption, and it was possible to obtain a printed matter with no background stain after printing. However, when the printing durability was examined on a large-sized printing machine where the printing pressure during printing was severe, the printing durability was reduced. It is considered that this is because it is difficult to satisfy both the strength of the film, the surface wettability of the film and the water absorption amount of the film.

【0034】そこで印刷時のラチチュードの拡大と、高
耐刷性をともに満足するための手段として前記従来のカ
ルボキシル基生成の樹脂と、スルホ基及び/又はホスホ
ノ基生成の樹脂を混合した原版を検討したが、性能の向
上は見られなかった。しかし、本発明の結着樹脂
〔A〕、つまりカルボキシ基、スルホ基/ホスホノ基及
び熱/光硬化性基を含有している樹脂〔A〕を用いるこ
とにより前記した様な原版としての膜の状態を制御する
ことが可能となり、高性能な原版を見出すことが確認さ
れた。
Therefore, as a means for satisfying both the expansion of latitude during printing and high printing durability, an original plate in which the above-mentioned conventional carboxyl group-forming resin and a sulfo group- and / or phosphono group-forming resin are mixed is examined. However, the performance was not improved. However, by using the binder resin [A] of the present invention, that is, the resin [A] containing a carboxy group, a sulfo group / phosphono group and a heat / photocurable group, a film as an original plate as described above is formed. It was confirmed that it was possible to control the state and find a high-performance original plate.

【0035】更には、生成するカルボキシル基の少なく
とも1つを高分子主鎖に直結した重合体成分の化学構造
にすることで、表面濡れ性が更に向上し、印刷条件のラ
チチュードがより拡大することを見出した。以上の様な
印刷原版としての性能を有効に利用するための前提とし
て、複写画像の再現性の向上が同時に必要となる。これ
は、本発明の結着樹脂〔B〕を光導電層に含有し、結着
樹脂〔A〕と組合せて用いることで可能となった。
Further, the chemical structure of the polymer component in which at least one of the generated carboxyl groups is directly linked to the main chain of the polymer, the surface wettability is further improved and the latitude of printing conditions is further expanded. Found. As a premise for effectively utilizing the performance as the printing original plate as described above, it is necessary to improve the reproducibility of the copied image at the same time. This was made possible by containing the binder resin [B] of the present invention in the photoconductive layer and using it in combination with the binder resin [A].

【0036】即ち、光導電層中で、特定の極性基を含有
する低分子量体の結着樹脂〔B〕を、光導電体粒子、更
には各種増感剤とともに用いた分散系において、該樹脂
〔B〕は、光導電体粒子に充分吸着して該粒子を均一に
分散し、その高分子鎖が非常に短いことにより該粒子間
の凝集を抑制する事、又、分光増感色素・化学増感剤等
の増感剤分子が該粒子表面に充分吸着されることを疎外
しない事及び光導電体表面の余分な活性サイトを結着樹
脂〔B〕が充分に吸着してトラップを補償している事等
の重要な作用を有し、これらの働きによって、電子写真
感光体としての静電特性、実際の複写画像再現性(撮像
性)を良好にするものと考えられる。
That is, a low molecular weight binder resin [B] containing a specific polar group is used in a photoconductive layer together with photoconductive particles and various sensitizers in the dispersion system. [B] is capable of sufficiently adsorbing to photoconductive particles to uniformly disperse the particles, and suppressing the aggregation between the particles due to the very short polymer chain, and also a spectral sensitizing dye / chemical Do not exclude that the sensitizer molecules such as sensitizers are sufficiently adsorbed on the surface of the particles, and the binder resin [B] is sufficiently adsorbed on the active sites on the surface of the photoconductor to compensate the trap. It is considered that the electrophotographic photosensitive member has good electrostatic characteristics and actual reproduced image reproducibility (imaging property).

【0037】更には本発明において、低分子量の樹脂
〔B〕として、前記一般式(Ia)及び一般式(Ib)
で示される、ベンゼン環又はナフタレン環を含有する特
定の置換基をもつメタクリレート成分を含有する樹脂
〔B〕(以降この低分子量体を特に樹脂〔BB〕と称す
る)を用いると、樹脂〔B〕の場合よりもより一層電子
写真特性(特にV10、D.R.R.、E1/10)の向上が
達成できる。
Further, in the present invention, the low molecular weight resin [B] is represented by the above general formula (Ia) and general formula (Ib).
The resin [B] containing a methacrylate component having a specific substituent containing a benzene ring or a naphthalene ring represented by (B) (hereinafter, this low molecular weight compound is particularly referred to as resin [BB]) is used. In this case, the electrophotographic characteristics (particularly V 10 , DRR, E 1/10 ) can be further improved.

【0038】この事の理由は不明であるが、1つの理由
として、メタクリレートのエステル成分である、平面性
のベンゼン環又はナフタレン環の効果により、膜中の光
導電体粒子表面でのこれらのポリマー分子鎖の配列が適
切に行なわれることによるものと考えられる。この作用
は、近赤外〜赤外光の分光増感用色素として特に有効な
ポリメチン色素あるいはフタロシアニン系顔料で特に顕
著な効果を示した。
The reason for this is not clear, but one reason is that due to the effect of the planar benzene ring or naphthalene ring, which is the ester component of methacrylate, these polymers on the surface of the photoconductor particles in the film. This is probably because the molecular chains are arranged properly. This effect was particularly remarkable with polymethine dyes or phthalocyanine pigments, which are particularly effective as dyes for spectral sensitization from near infrared to infrared light.

【0039】以下に本発明の結着樹脂〔A〕について詳
しく説明する。樹脂〔A〕の重量平均分子量は、好まし
くは5×103 〜1×106 、より好ましくは、1×1
4 〜5×105 であり、樹脂〔A〕のガラス転移点は
好ましくは−10℃〜110℃の範囲のものが好ましい
が、より好ましくは−5℃〜100℃である。樹脂
〔A〕の分子量が5×103 より小さくなると、光導電
層を形成後の高次構造の橋かけの効果が不充分で、印刷
原版としての膜強度の維持が難しくなってしまう。一方
分子量が1×106 より大きくなると、塗膜の均一性が
損なわれ、感光体としての静電特性の劣化あるいは、膜
強度の低下を生じてしまう。
The binder resin [A] of the present invention will be described in detail below. The weight average molecular weight of the resin [A] is preferably 5 × 10 3 to 1 × 10 6 , and more preferably 1 × 1.
It is 0 4 to 5 × 10 5 , and the glass transition point of the resin [A] is preferably in the range of −10 ° C. to 110 ° C., more preferably −5 ° C. to 100 ° C. When the molecular weight of the resin [A] is smaller than 5 × 10 3 , the effect of crosslinking the higher-order structure after forming the photoconductive layer is insufficient, and it becomes difficult to maintain the film strength as a printing original plate. On the other hand, when the molecular weight is more than 1 × 10 6 , the uniformity of the coating film is impaired, and the electrostatic properties of the photoreceptor are deteriorated or the film strength is reduced.

【0040】本発明の樹脂〔A〕の各重合体成分の存在
割合は、全重合体100重量部中、親水性基発現の官能
基含有成分総量〔即ち、重合体成分(a)と重合体成分
(b)の総量〕は60〜55重量%で、好ましくは60
〜90重量%である。且つ、重合体成分(a)と重合体
成分(b)の割合は、成分(a)と成分(b)の総量1
00重量部として、成分(a)/成分(b)が5〜90
重量%/95〜10重量%で、好ましくは10〜80重
量%/80〜20重量%である。
The abundance ratio of each polymer component of the resin [A] of the present invention is such that the total amount of the functional group-containing component that expresses hydrophilic groups [that is, the polymer component (a) and the polymer is 100 parts by weight of the total polymer]. The total amount of component (b)] is 60 to 55% by weight, preferably 60
Is about 90% by weight. Moreover, the ratio of the polymer component (a) and the polymer component (b) is such that the total amount of the component (a) and the component (b) is 1
The amount of component (a) / component (b) is 5 to 90 as 100 parts by weight.
% / 95 to 10% by weight, preferably 10 to 80% by weight / 80 to 20% by weight.

【0041】又、光及び/又は熱硬化性基含有成分
(c)の存在割合は、5〜40重量%で、好ましくは1
0〜30重量%である。又、これら以外の他の共重合成
分は、多くても、35重量%以下である。
The proportion of the photo- and / or thermosetting group-containing component (c) is 5-40% by weight, preferably 1%.
It is 0 to 30% by weight. In addition, the content of other copolymerization components other than these is at most 35% by weight.

【0042】以上述べた、各重合体成分の範囲をはずれ
ると、印刷用原版としての本発明の効果が低下してしま
う。即ち、印刷時の刷り出しからの地汚れ抑制の低下、
印刷枚数の低下等を生じる。まず、本発明において用い
られる分解して少なくとも1個のカルボキシル基を生成
する官能基(以下単に、カルボキシル基生成官能基と称
することもある)について詳しく説明する。
If the content of each polymer component is out of the above range, the effect of the present invention as a printing original plate will be reduced. That is, the reduction of the background stain suppression from the printing at the time of printing,
The number of printed sheets may decrease. First, the functional group used in the present invention for decomposing to generate at least one carboxyl group (hereinafter, may be simply referred to as a carboxyl group-forming functional group) will be described in detail.

【0043】本発明のカルボキシル基生成官能基は分解
によってカルボキシル基を生成するが、1つの官能基か
ら生成するカルボキシル基は1個でも2個以上でもよ
い。本発明の1つの好ましい態様によれば、カルボキシ
ル基生成官能基含有樹脂は、一般式(II)〔−COO
−L1 〕で示される官能基を少なくとも1種含有する樹
脂である。
The carboxyl group-forming functional group of the present invention produces a carboxyl group by decomposition, but the number of carboxyl groups produced from one functional group may be one or two or more. According to one preferred embodiment of the present invention, the carboxyl group-forming functional group-containing resin has the general formula (II) [—COO
-L 1 ] is a resin containing at least one functional group.

【0044】一般式(II)〔−COO−L1 〕におい
て、L1 は、
In the general formula (II) [--COO-L 1 ], L 1 is

【0045】[0045]

【化7】 [Chemical 7]

【0046】を表わす。但し、R1 ,R2 は互いに同じ
でも異なっていてもよく、水素原子又は脂肪族基を表わ
し、Xは芳香族基を表わし、Zは水素原子、ハロゲン原
子、トリハロメチル基、アルキル基、−CN,−N
2 ,−SO2 1 ′、−COOR2 ′、−O−R3
又は−CO−R4 ′(但し、R1 ′、R2 ′、R3 ′、
4 ′はそれぞれ炭化水素基を示す)を表わし、n,m
は0,1又は2を表わす。
Represents However, R 1 and R 2, which may be the same or different, each represents a hydrogen atom or an aliphatic group, X represents an aromatic group, Z is a hydrogen atom, a halogen atom, a trihalomethyl group, an alkyl group, CN, -N
O 2, -SO 2 R 1 ' , -COOR 2', -O-R 3 '
Or —CO—R 4 ′ (provided that R 1 ′, R 2 ′, R 3 ′,
R 4 ′ each represents a hydrocarbon group), and n, m
Represents 0, 1 or 2.

【0047】A1 ,A2 は同じでも異なってもよくHa
mmettの置換基定数σ値が正の値を示す電子吸引性
基を表わす。R3 は、水素原子又は炭化水素基を表わ
す。R4 ,R5 ,R6 は、互いに同じでも異なっていて
もよく、炭化水素基又は−O−R5 ′(但し、R5 ′は
炭化水素基を示す)を表わす。
A 1 and A 2 may be the same or different and may be Ha
It represents an electron-withdrawing group having a positive substituent constant σ value of mmett. R 3 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. R 4, R 5, R 6, which may be the same or different from each other, represent a hydrocarbon group or -O-R 5 '(where, R 5' represents a hydrocarbon group).

【0048】Y1 は酸素原子又はイオウ原子を表わし、
7 ,R8 ,R9 は同じでも異なってもよく、各々水素
原子又は脂肪族基を表わし、pは5又は6の整数を表わ
す。Y2 は環状イミド基を形成する有機残基を表わす。
一般式(II)〔−COO−L1 〕の官能基は、分解に
よってカルボキシル基を生成するものであり、以下更に
詳しく説明する。
Y 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom,
R 7 , R 8 and R 9 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or an aliphatic group, and p represents an integer of 5 or 6. Y 2 represents an organic residue forming a cyclic imide group.
Formula (II) - functional group [COO-L 1], which generates a carboxyl group by decomposition is described hereinafter in more detail.

【0049】L1 L 1 is

【0050】[0050]

【化8】 [Chemical 8]

【0051】を表わす場合において、R1 ,R2 は互い
に同じでも異なっていてもよく、好ましくは水素原子、
又は置換されてもよい炭素数1〜12の直鎖状又は分枝
状アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメ
チル基、トリフルオロメチル基、ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、ヒドロキシエチル基、3−
クロロプロピル基等)を表わし、Xは好ましくは置換さ
れてもよいフェニル基又はナフチル基(例えばフェニル
基、メチルフェニル基、クロロフェニル基、ジメチルフ
ェニル基、クロロメチルフェニル基、ナフチル基等)を
表わし、Zは好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、フッ素原子等)、トリハロメチル基(例え
ばトリクロロメチル基、トリフルオロメチル基等)、炭
素数1〜12の置換されてもよい直鎖状又は分枝状アル
キル基(例えばメチル基、クロロメチル基、ジクロロメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、テトラフルオロエチル基、オクチル基、シアノエチ
ル基、クロロエチル基等)、−CN、−NO2 、−SO
2 1 ′〔R1 ′は脂肪族基(例えば炭素数1〜12の
置換されてもよいアルキル基:具体的にはメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、クロロエチル基、ペン
チル基、オクチル基等、炭素数7〜12の置換されても
よいアラルキル基:具体的にはベンジル基、フェネチル
基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基、クロロフ
ェネチル基、メチルフェネチル基等)又は芳香族基(例
えば置換基を含有してもよいフェニル基又はナフチル
基:具体的には、フェニル基、クロロフェニル基、ジク
ロロフェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル
基、アセチルフェニル基、アセトアミドフェニル基、メ
トキシカルボニルフェニル基、ナフチル基等)を表わ
す〕、−COOR2 ′(R2 ′は上記R1 ′と同義であ
る)、−O−R3 ′(R3 ′は上記R1 ′と同義であ
る)又は−CO−R4 ′(R4 ′は上記R1 ′と同義で
ある)を表わす。n,mは、0,1又は2を表わす。
In the case of representing, R 1 and R 2 may be the same or different from each other, preferably a hydrogen atom,
Or a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, butyl Group, hexyl group, octyl group, decyl group, hydroxyethyl group, 3-
Chloropropyl group), X is preferably a phenyl group or naphthyl group which may be substituted (for example, phenyl group, methylphenyl group, chlorophenyl group, dimethylphenyl group, chloromethylphenyl group, naphthyl group, etc.), Z is preferably a hydrogen atom, a halogen atom (for example, chlorine atom, fluorine atom, etc.), a trihalomethyl group (for example, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, etc.), a linear chain having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted, or Branched alkyl group (for example, methyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, tetrafluoroethyl group, octyl group, cyanoethyl group, chloroethyl group, etc.), -CN,- NO 2 , -SO
2 R 1 ′ [R 1 ′ is an aliphatic group (for example, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms: specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a chloroethyl group, a pentyl group, Aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms which may be substituted such as octyl group: specifically, benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, chlorophenethyl group, methylphenethyl group, etc.) or aromatic group ( For example, a phenyl group or naphthyl group which may contain a substituent: specifically, a phenyl group, a chlorophenyl group, a dichlorophenyl group, a methylphenyl group, a methoxyphenyl group, an acetylphenyl group, an acetamidophenyl group, a methoxycarbonylphenyl group, represents a naphthyl group)], -COOR 2 '(R 2' is the R 1 'is synonymous with), - O-R 3' ( 3 'the R 1' represents the same meaning as) or -CO-R 4 '(R 4 ' has the same meaning as above R 1 '). n and m represent 0, 1 or 2.

【0052】又、L1 L 1 is

【0053】[0053]

【化9】 [Chemical 9]

【0054】を表わす場合において、R4 ,R5 ,R6
は互いに同じでも異なっていてもよく、好ましくは炭素
数1〜18の置換されてもよい脂肪族基〔脂肪族基はア
ルキル基、アルケニル基、アラルキル基又は脂環式基を
示し、置換基としては例えばハロゲン原子、−CN基、
−OH基、−O−Q′(Q′はアルキル基、アラルキル
基、脂環式基、アリール基を示す)等が挙げられる〕、
炭素数6〜18の置換されてもよい芳香族基(例えばフ
ェニル基、トリル基、クロロフェニル基、メトキシフェ
ニル基、アセトアミドフェニル基、ナフチル基等)又は
−O−R4 ′〔R4 ′は置換されてもよい炭素数1〜1
2のアルキル基、置換されてもよい炭素数2〜12のア
ルケニル基、置換されてもよい炭素数7〜12のアラル
キル基、炭素数5〜18の置換されてもよい脂環式基、
炭素数6〜18の置換さてもよいアリール基を示す〕を
表わす。
In the case of representing, R 4 , R 5 , R 6
May be the same or different from each other, preferably an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted [the aliphatic group represents an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or an alicyclic group, and as a substituent Is, for example, a halogen atom, a -CN group,
-OH group, -O-Q '(Q' represents an alkyl group, an aralkyl group, an alicyclic group, an aryl group) and the like],
An optionally substituted aromatic group having 6 to 18 carbon atoms (eg, phenyl group, tolyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, acetamidophenyl group, naphthyl group, etc.) or —O—R 4 ′ [R 4 ′ is substituted 1 to 1 carbon atoms which may be
2 alkyl groups, optionally substituted C 2-12 alkenyl groups, optionally substituted C 7-12 aralkyl groups, C 5-18 optionally substituted alicyclic groups,
Represents an optionally substituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms].

【0055】又L1 L 1 is

【0056】[0056]

【化10】 [Chemical 10]

【0057】を表わす場合において、A1 、A2 は、互
いに同じでも異なってもよく、各々、少なくとも一方が
電子吸引基であり、−A1 、−A2 のHammettの
σp 値の和が0.45以上であればよい。ここで言う電
子吸引基の例としては、例えばアシル基、アロイル基、
ホルミル基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカル
ボニル基、アルキルスルホニル基、アロイルスルホニル
基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化ア
ルキル基、カルバモイル基等が挙げられる。
In the case of representing, A 1 and A 2 may be the same as or different from each other, at least one of which is an electron-withdrawing group, and the sum of the Hammett σ p values of -A 1 and -A 2 is It may be 0.45 or more. Examples of the electron-withdrawing group here include, for example, an acyl group, an aroyl group,
Formyl group, alkoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, aroylsulfonyl group, nitro group, cyano group, halogen atom, halogenated alkyl group, carbamoyl group and the like can be mentioned.

【0058】Hammettのσp 値は、通常置換基の
電子吸引・供与の度合いを見積もる指標として用いられ
ており、+側に大きいほど強い電子吸引基として扱われ
る。各置換基に対する具体的な数値については、稲本直
樹著「ハメット則−構造と反応性」丸善(1984年
刊)等に記載されている。また、この系におけるHam
mettのσp 値は加成性が成り立つと考えられ、−A
1 、−A2 の両方が電子吸引基である必要はない。従っ
て、一方例えば−A1 が電子吸引基である場合、他方の
−A2 の置換基は、−A1 、−A2 のσp値の和が0.
45以上になるものであればいずれでもよく、特に制限
されるところはない。
The Hammett's σ p value is usually used as an index for estimating the degree of electron withdrawing / donating of a substituent, and the larger it is on the + side, the stronger the electron withdrawing group. Specific numerical values for each substituent are described in Naoki Inamoto, "Hammett's Rule-Structure and Reactivity," Maruzen (1984) and the like. In addition, Ham in this system
The σ p value of mett is considered to be additive, and −A
Both 1 and -A 2 need not be electron withdrawing groups. Therefore, for example, when -A 1 is an electron-withdrawing group, the other substituent of -A 2 has a sum of σ p values of -A 1 and -A 2 of 0.
Any material may be used as long as it is 45 or more, and there is no particular limitation.

【0059】L1 が、L 1 is

【0060】[0060]

【化11】 [Chemical 11]

【0061】を表わす場合において、Y1 は酸素原子又
はイオウ原子を表わす。R7 、R8 、R9 は互いに同じ
でも異なっていてもよく、好ましくは水素原子、置換さ
れてもよい炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、
オクタデシル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、
メトキシプロピル基等)、置換されてもよい脂環式基
(例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、置
換されてもよい炭素数7〜12のアラルキル基(例えば
ベンジル基、フェネチル基、クロロベンジル基、メトキ
シベンジル基、等)、置換されてもよい芳香族基(例え
ばフェニル基、ナフチル基、クロロフェニル基、トリル
基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、ジクロロフェニル基等)又は−O−R6 ′(R6
は炭化水素基を表わし、具体的には上記R7 、R8 、R
9 の炭化水素基と同一の置換基類を示す)を表わす。
In the case of representing, Y 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom. R 7 , R 8 and R 9 may be the same or different from each other, preferably a hydrogen atom, and an optionally substituted linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, Propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group,
Octadecyl group, chloroethyl group, methoxyethyl group,
Methoxypropyl group etc.), optionally substituted alicyclic group (eg cyclopentyl group, cyclohexyl group etc.), optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, Methoxybenzyl group, etc.), optionally substituted aromatic group (eg, phenyl group, naphthyl group, chlorophenyl group, tolyl group, methoxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, dichlorophenyl group, etc.) or —O—R 6 ′ ( R 6
Represents a hydrocarbon group, specifically, the above R 7 , R 8 and R
The same substituents as the hydrocarbon group 9 are shown).

【0062】pは5又は6の整数を表わす。L1 が、P represents an integer of 5 or 6. L 1 is

【0063】[0063]

【化12】 [Chemical 12]

【0064】を表わす場合において、Y2 は、環状イミ
ド基を形成する有機残基を表わす。好ましくは、一般式
(III)又は(IV)で示される有機残基を表わす。
In the case of representing, Y 2 represents an organic residue forming a cyclic imide group. Preferably, it represents an organic residue represented by the general formula (III) or (IV).

【0065】[0065]

【化13】 [Chemical 13]

【0066】式(III)中、R12、R13は各々同じで
も異なってもよく、各々水素原子、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、臭素原子等)、炭素数1〜18の置換され
てもよいアルキル基〔例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2
−クロロエチル基、2−メトキシエチル基、2−シアノ
エチル基、3−クロロプロピル基、2−(メタンスルホ
ニル)エチル基、2−(エトキシオキシ)エチル基
等〕、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル基
(例えばベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロ
ピル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、メト
キシベンジル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基
等)、炭素数3〜18の置換されてもよいアルケニル基
(例えばアリル基、3−メチル−2−プロペニル基、2
−ヘキセニル基、4−プロピル−2−ペンテニイル基、
12−オクタデセニル基等)、−S−R7 ′〔R7 ′は
前記R12又はR13のアルキル基、アラルキル基、アルケ
ニル基と同一の内容を表わす置換基、又は置換されても
よいアリール基(例えばフェニル基、トリル基、クロロ
フェニル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、
エトキシフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基
等)〕、又は−NHR8 ′(R8 ′は前記R7 ′と同一
の内容を表わす)を表わす。又、R12とR13で環を形成
する残基を表わしてもよい〔例えば5〜6員環の単環
(例えばシクロペンチル環、シクロヘキシル環)、又は
5〜6員環のビシクロ環(例えばビシクロヘプタン環、
ビシクロヘプタン環、ビシクロオクタン環、ビシクロオ
クテン環等)、更にはこれらの環は置換されなくてもよ
く、置換基としてはR12、R13で前記した内容と同一の
ものを含む)。
In the formula (III), R 12 and R 13 may be the same or different and each may be substituted with a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) or a C 1-18 substituent. Alkyl group [eg methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2
-Chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-chloropropyl group, 2- (methanesulfonyl) ethyl group, 2- (ethoxyoxy) ethyl group, etc.], substituted with 7 to 12 carbon atoms Aralkyl group (eg, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, etc.), which may be substituted with 3 to 18 carbon atoms Good alkenyl groups (eg allyl group, 3-methyl-2-propenyl group, 2
-Hexenyl group, 4-propyl-2-pentenyl group,
12-octadecenyl group, etc.), —S—R 7 ′ [R 7 ′ is a substituent having the same meaning as the alkyl group, aralkyl group, alkenyl group of R 12 or R 13 above, or an aryl group which may be substituted. (For example, phenyl group, tolyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group,
Ethoxyphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, etc.)] or —NHR 8 ′ (R 8 ′ has the same meaning as R 7 ′). Further, R 12 and R 13 may represent a ring-forming residue [eg, a 5- or 6-membered monocyclic ring (eg, cyclopentyl ring, cyclohexyl ring) or a 5- or 6-membered bicyclo ring (eg, bicyclo ring). Heptane ring,
Bicycloheptane ring, bicyclooctane ring, bicyclooctene ring, etc.), and these rings may not be substituted, and the substituents include the same as those described above for R 12 and R 13 .

【0067】qは2又は3の整数を表わす。式(IV)
中、R14、R15は同一でも異なってもよく、前記R12
13と同一の内容のものを表わす。更には、R14とR15
は連続して芳香族環を形成する有機残基を表わしてもよ
い(例えばベンゼン環、ナフタレン環等)。6員環の単
環(例えばシクロペンチル環、シクロヘキシル環等)、
5員〜12員環の芳香族環(例えばベンゼン環、ナフタ
レン環、チオフェン環、ピロール環、ピラン環、キノリ
ン環等)等を表わす。
Q represents an integer of 2 or 3. Formula (IV)
In the above, R 14 and R 15 may be the same or different, and the above R 12 ,
It has the same contents as R 13 . Furthermore, R 14 and R 15
May represent an organic residue that continuously forms an aromatic ring (eg, benzene ring, naphthalene ring, etc.). 6-membered monocyclic ring (for example, cyclopentyl ring, cyclohexyl ring, etc.),
It represents a 5-membered to 12-membered aromatic ring (for example, a benzene ring, a naphthalene ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, a pyran ring, a quinoline ring, etc.).

【0068】L1 L 1 is

【0069】[0069]

【化14】 [Chemical 14]

【0070】を表わす場合において、R10、R11は前記
6 と同一の内容と同義である。更に、本発明の好まし
い他の1つの態様として、下記一般式(V)で示される
オキサゾロン環を少なくとも1種含有する樹脂である。
In the case of representing, R 10 and R 11 have the same meanings as R 6 . Furthermore, another preferable embodiment of the present invention is a resin containing at least one oxazolone ring represented by the following general formula (V).

【0071】[0071]

【化15】 [Chemical 15]

【0072】一般式(V)において、R16、R17は互い
に同じでも異なっていてもよく、各々水素原子、炭化水
素基を表わすか、又はR16とR17とが一緒に環を形成し
てもよい。好ましくは、R16、R17は互いに同じでも異
なってもよく、各々水素原子、置換されていてもよい炭
素数1〜12の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、2−クロロエチル基、2−メトキシエチル基、2−
メトキシカルボニルエチル基、3−ヒドロキシプロピル
基等)、置換されていてもよい炭素数7〜12のアラル
キル基(例えばベンジル基、4−クロロベンジル基、4
−アセトアミドベンジル基、フェネチル基、4−メトキ
シベンジル基等)、置換されていてもよい炭素数2〜1
2のアルケニル基(例えばエチレン基、アリル基、イソ
プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基等)、置換さ
れていてもよい5〜7員環の脂環式基(例えばシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、クロロシクロヘキシル基
等)、置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、
クロロフェニル基、メトキシフェニル基、アセトアミド
フェニル基、メチルフェニル基、ジクロロフェニル基、
ニトロフェニル基、ナフチル基、ブチルフェニル基、シ
メチルフェニル基等)を表わすか、又はR16とR17とが
一緒に環(例えばテトラメチレン基、ペンタメチレン
基、ヘキサメチレン基等)を形成してもよい。
In the general formula (V), R 16 and R 17, which may be the same or different, each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group, or R 16 and R 17 together form a ring. May be. Preferably, R 16 and R 17 may be the same as or different from each other, and each is a hydrogen atom or an optionally substituted linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group). Group, butyl group, hexyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-
Methoxycarbonylethyl group, 3-hydroxypropyl group, etc.), optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg, benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4
-Acetamidobenzyl group, phenethyl group, 4-methoxybenzyl group, etc.), optionally substituted carbon number 2 to 1
2 alkenyl groups (eg ethylene group, allyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, etc.), optionally substituted 5- to 7-membered alicyclic groups (eg cyclopentyl group, cyclohexyl group, chlorocyclohexyl group) Groups, etc.), optionally substituted aromatic groups (eg phenyl groups,
Chlorophenyl group, methoxyphenyl group, acetamidophenyl group, methylphenyl group, dichlorophenyl group,
Nitrophenyl group, naphthyl group, butylphenyl group, dimethylphenyl group, etc.), or R 16 and R 17 together form a ring (eg, tetramethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, etc.) May be.

【0073】又、化学反応により少なくとも1つのスル
ホ基を生成する官能基としては、例えば一般式(VI)
又は(VII)で表わされる官能基が挙げられる。 一般式(VI) −SO2 −O−L2 一般式(VII) −SO2 −S−L2 式中L2 は、
The functional group which forms at least one sulfo group by a chemical reaction is, for example, a compound represented by the general formula (VI)
Alternatively, a functional group represented by (VII) may be mentioned. Formula (VI) -SO 2 -O-L 2 Formula (VII) -SO 2 -S-L 2 formula in L 2 is,

【0074】[0074]

【化16】 [Chemical 16]

【0075】を表わす。具体的には、一般式(II)−
COO−L1 の該当する保護基と同一の内容を表わす。
又、化学反応により少なくとも1つのスルフィン酸基を
生成する官能基としては例えば、一般式(VIII)で
表わされる官能基が挙げられる。
Represents Specifically, the general formula (II)-
It has the same meaning as the corresponding protecting group for COO-L 1 .
In addition, examples of the functional group that forms at least one sulfinic acid group by a chemical reaction include a functional group represented by the general formula (VIII).

【0076】[0076]

【化17】 [Chemical 17]

【0077】更に又、−PO3 2 基を生成する官能基
としては、例えば一般式(IX)が挙げられる。
Further, as the functional group which forms a —PO 3 H 2 group, for example, the general formula (IX) can be mentioned.

【0078】[0078]

【化18】 [Chemical 18]

【0079】式中L3 、L4 は同じでも異なってもよ
く、具体的には一般式(II)−COO−L1 の保護基
1 と同一の内容を表わす。以下に前記した一般式(I
I)〜(IX)の内容の具体例を例示する。但し、本発
明の内容は、これらに限定されるものではない。下記具
体例において、各記号は下記の内容を表わす。
In the formula, L 3 and L 4 may be the same or different, and specifically have the same contents as the protecting group L 1 of the general formula (II) -COO-L 1 . The general formula (I
Specific examples of the contents of I) to (IX) will be illustrated. However, the content of the present invention is not limited to these. In the following specific examples, each symbol represents the following content.

【0080】[0080]

【化19】 [Chemical 19]

【0081】[0081]

【化20】 [Chemical 20]

【0082】[0082]

【化21】 [Chemical 21]

【0083】[0083]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0084】[0084]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0085】本発明において用いられる、前記した様な
化学反応して−COOH、−SO3H、−SO2 Hある
いは−PO3 2 の親水性基を生成する官能基を含有す
る共重合体成分としては、特に限定されるものではな
い。好ましくは下記一般式(X)で示すものが挙げられ
る。
Copolymers used in the present invention containing a functional group capable of forming a hydrophilic group of --COOH, --SO 3 H, --SO 2 H or --PO 3 H 2 by the above-mentioned chemical reaction. The components are not particularly limited. Preferred are those represented by the following general formula (X).

【0086】[0086]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0087】〔上記式(X)中、Z’は−COO−、−
OCO−、−O−、−CO−、−CON(r1 )−、−
SO2 N(r1 )−(r1 は水素原子又は炭化水素基を
表わす)、−CONHCOO−、−CONHCONH
−、−CH2 COO−、−CH2 OCO−、
[In the above formula (X), Z'is -COO-,-
OCO -, - O -, - CO -, - CON (r 1) -, -
SO 2 N (r 1) - (r 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group), - CONHCOO -, - CONHCONH
-, - CH 2 COO -, - CH 2 OCO-,

【0088】[0088]

【化25】 [Chemical 25]

【0089】を表わす。Y’は、−Z’−と−W0 を直
接結合する又は連結する有機残基を表す。さらに
Represents Y 'represents an organic residue bonded to or directly connected to -Z'- and -W 0. further

【0090】[0090]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0091】[0091]

【化27】 [Chemical 27]

【0092】と−W0 を直接結合してもよい。−W0
一般式(II)〜(IX)で示される官能基を表す。b
1 ,b2 は互いに同じでも異なってもよく、各々、水素
原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アラルキ
ル基又はアリール基を表す。〕一般式(X)を更に詳細
に説明する。
Alternatively, -W 0 may be directly bonded. —W 0 represents a functional group represented by any one of formulas (II) to (IX). b
1 and b 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aralkyl group or an aryl group. The general formula (X) will be described in more detail.

【0093】好ましくは、Z’はPreferably Z'is

【0094】[0094]

【化28】 [Chemical 28]

【0095】を表す。但し、r1 は水素原子、炭素数1
〜8の置換されてもよいアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエ
チル基、2−シアノエチル基、2−メトキシエチル基、
2−ヒドロキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、
炭素数7〜9の置換されてもよいアラルキル基(例えば
ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、
クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル
基、メトキシベンジル基、クロロ−メチル−ベンジル
基、ジブロモベンジル基等)、置換されてもよいアリー
ル基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、メシ
チル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、ブロ
モフェニル基、クロロ−メチル−フェニル基等)等が挙
げられる。
Represents However, r 1 is a hydrogen atom and has 1 carbon atom
To 8 optionally substituted alkyl groups (eg, methyl groups,
Ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxyethyl group,
2-hydroxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.),
An optionally substituted aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (eg, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group,
Chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chloro-methyl-benzyl group, dibromobenzyl group, etc.), an optionally substituted aryl group (for example, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, Methoxyphenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloro-methyl-phenyl group, etc.) and the like.

【0096】Y’は連結する直接結合か、−Z’−と−
0 を連結する有機残基を表す。Y’が連結する有機残
基を表す場合、この連結基はヘテロ原子を介していても
よい炭素−炭素結合を表し(ヘテロ原子としては、酸素
原子、イオウ原子、窒素原子を示す)、例えば
Y'is a direct bond for connecting, or -Z'- and-
Represents an organic residue connecting W 0 . When Y'represents an organic residue to be linked, this linking group represents a carbon-carbon bond which may be passed through a hetero atom (as the hetero atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom is shown), for example,

【0097】[0097]

【化29】 [Chemical 29]

【0098】等の結合単位の単独又は組合わせの構成よ
り成るものである。(但しr2 、r3、r4 、r5 、r
6 は、各々前記のr1 と同一の内容を表す)。b1 、b
2 は同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子
(例えば塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭化水素
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プ
ロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシ
ルオキシカルボニル基、メトキシカルボニルメチル基、
エトキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチ
ル基等の置換されてもよい炭素数1〜12のアルキル
基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基、フェ
ニル基、トリル基、キシリル基、クロロフェニル基等の
アリール基等)を表す。
The binding units such as the above may be used alone or in combination. (However, r 2 , r 3 , r 4 , r 5 , r
6 represents the same contents as the above r 1 ). b 1 , b
2 may be the same or different, and is a hydrogen atom, a halogen atom (eg chlorine atom, bromine atom, etc.), a cyano group, a hydrocarbon group (eg methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl). Group, propoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, hexyloxycarbonyl group, methoxycarbonylmethyl group,
An optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms such as an ethoxycarbonylmethyl group and a butoxycarbonylmethyl group, an aralkyl group such as a benzyl group and a phenethyl group, an aryl group such as a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group and a chlorophenyl group. Etc.).

【0099】更に又、一般式(X)中のFurther, in the general formula (X)

【0100】[0100]

【化30】 [Chemical 30]

【0101】[0101]

【化31】 [Chemical 31]

【0102】と−W0 を直接連結させても良い。以下に
本発明の一般式(II)〜(IX)で表される官能基を
含有する重合体成分の具体例を示す。但し、本発明の範
囲はこれらに限定されるものではない。また、例(b−
1)〜(b−36)中、bは−H又は−CH3 を表わ
す。nは2〜8を表わす。mは0、又は1〜8の整数を
表す。
It is also possible to directly connect -W 0 . Specific examples of the polymer component containing a functional group represented by the general formulas (II) to (IX) of the present invention are shown below. However, the scope of the present invention is not limited to these. In addition, an example (b-
During 1) ~ (b-36) , b represents -H or -CH 3. n represents 2-8. m represents 0 or an integer of 1 to 8.

【0103】[0103]

【化32】 [Chemical 32]

【0104】[0104]

【化33】 [Chemical 33]

【0105】本発明に用いられる前記した様な−COO
H、−SO3 H、−PO3 2 及び−SO2 Hを化学反
応で発現する官能基は、該親水性基を保護した官能基で
あり、これら保護基の該親水性への化学結合による導入
の方法は、従来公知の方法によって、容易に行なうこと
ができる 例えばJ.F.W.McOmie「Protectiv
e groups in Organic Chemi
stry」(Plenum Press.1973年
刊)、F.W.Greene,「Protective
groupsin Organic Synthes
is」(Wiley−lnterscience、19
81年刊)、日本化学会編「新実験化学講座、第14
巻、有機化合物の合成と反応」〔丸善(株)1978年
刊〕岩倉義男・栗田恵輔著「反応性高分子」(講談社)
等に記載された各単位反応が用いられる。
The --COO as described above used in the present invention.
The functional groups that express H, —SO 3 H, —PO 3 H 2 and —SO 2 H in a chemical reaction are functional groups that protect the hydrophilic group, and these protective groups are chemically bonded to the hydrophilicity. The method of introduction according to J. et al. Can be easily performed by a conventionally known method, for example, J. F. W. McOmie "Protectiv
e groups in Organic Chemi
story ”(Plenum Press. 1973), F.I. W. Greene, "Protective
groups Organic Syntheses
is ”(Wiley-linterscience, 19
1981), Chemical Society of Japan, "New Experimental Chemistry Course, No. 14"
Volume, Synthesis and Reaction of Organic Compounds "[Maruzen Co., Ltd., 1978] Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita" Reactive Polymer "(Kodansha)
Each unit reaction described in, etc. is used.

【0106】これら本発明に供せられる官能基を樹脂
〔A〕中に導入する方法としては、本発明にとって重要
な、−COOH及び−SO3 H、−PO3 2 、−SO
2 Hから選ばれた少なくとも1種の親水性基を各々含有
する重合体を、反応によって各々の親水基を保護した官
能基に変換する言わゆる高分子反応による方法、あるい
は、前記した一般式で示される官能基を1種又はそれ以
上含有する1種又はそれ以上の単量体を合成した後、こ
れと共重合し得る他の任意の単量体との重合反応により
重合体とする方法により得られる。
As a method for introducing these functional groups to be used in the present invention into the resin [A], --COOH and --SO 3 H, --PO 3 H 2 , --SO, which are important for the present invention, are used.
A method by a so-called polymer reaction in which a polymer each containing at least one hydrophilic group selected from 2 H is converted into a functional group in which each hydrophilic group is protected by a reaction, or by the above-mentioned general formula By synthesizing one or more monomers containing one or more of the functional groups shown, and then polymerizing with any other monomer copolymerizable therewith to form a polymer. can get.

【0107】重合体中に、本発明に必要な官能基を任意
に調整し得ること、あるいは、不純物(高分子反応の場
合、用いる触媒あるいは副生物等)を混入しない事等の
理由から後者の方法(予め、所望の単量体を得、後重合
反応を行なう)により製造する事が好ましい。例えば−
COOHを生成する官能基を導入する場合、具体的には
重合性の二重結合を含むカルボン酸類あるいはその酸ハ
ライド類を、例えば前記した公知文献等に記載された方
法に従って、そのカルボキシル基を一般式(II)〔−
COO−L1 〕の官能基に変換した後、重合反応を行な
い製造するという方法で行なうものである。
For the reason that the functional group necessary for the present invention can be arbitrarily adjusted in the polymer or that impurities (catalyst or by-product used in the case of polymer reaction) are not mixed, It is preferably produced by a method (preliminarily obtaining a desired monomer and carrying out a post-polymerization reaction). For example −
In the case of introducing a functional group that produces COOH, specifically, a carboxylic acid containing a polymerizable double bond or an acid halide thereof, for example, a carboxyl group is generally converted to a carboxyl group according to the method described in the above-mentioned publicly known documents. Formula (II) [-
COO-L 1 ] is converted into a functional group, and then a polymerization reaction is carried out for production.

【0108】また、反応でカルボン酸を生成する官能基
としての一般式(V)で示されるオキサゾロン環を含有
する樹脂は、該オキサゾロン環を含有する1種又はそれ
以上の単量体の、又は該単量体及びこれと共重合し得る
他の単量体の重合反応により重合体とする方法により得
られる。このオキサゾロン環を含有する単量体は、重合
性不飽和結合を含有するN−アシロイル−α−アミノ酸
類の脱水閉環反応により製造することができる。具体的
には、岩倉義男:栗田恵輔著「反応性高分子」第3章
(講談社刊)の総説引例の文献記載の方法によって製造
することができる。
Further, the resin containing an oxazolone ring represented by the general formula (V) as a functional group which produces a carboxylic acid by a reaction is a resin containing one or more monomers containing the oxazolone ring, or It can be obtained by a method of polymerizing the monomer and another monomer copolymerizable therewith. The oxazolone ring-containing monomer can be produced by a dehydration ring-closing reaction of N-acylloyl-α-amino acids having a polymerizable unsaturated bond. Specifically, it can be produced by the method described in the literature cited in the review article of Yoshio Iwakura: Keisuke Kurita, “Reactive Polymer” Chapter 3 (published by Kodansha).

【0109】次に、本発明の樹脂〔A〕に含有される、
熱及び/又は光硬化性基を含有する共重合体成分につい
て説明する。「熱及び/又は光硬化性官能基」とは、熱
及び光のうちの少なくともいずれかにより樹脂の硬化反
応を行なう官能基をいう。光硬化性官能基として具体的
には、乾英夫、永松元太郎、「感光性高分子」(講談
社、1977年刊)、角田隆弘、「新感光性樹脂」(印
刷学会出版部、1981年刊)、G.E.Green
and B.P.Strak,J.Macro.Sc
i.Reas.Macro.Chem.,C21
(2)、187〜273(1981〜82)、C.G.
Rattey,「Photopolymirizati
on of Surface Cootings」
(A.WileyInter Science Pu
b.1982年刊)、等の総説に引例された光硬化性樹
脂として従来公知の感光性樹脂等に用いられる官能基が
用いられる。
Next, contained in the resin [A] of the present invention,
The copolymer component containing a heat and / or photocurable group will be described. "Thermal and / or photo-curable functional group" refers to a functional group that cures the resin by at least one of heat and light. Specific examples of the photocurable functional group include Hideo Inui, Mototaro Nagamatsu, "Photosensitive Polymer" (Kodansha, published in 1977), Takahiro Tsunoda, "New Photosensitive Resin" (Publishing Society of Japan, published in 1981), G . E. Green
and B. P. Strak, J .; Macro. Sc
i. Reas. Macro. Chem. , C21
(2), 187-273 (1981-82), C.I. G.
Rattee, "Photopolymirizati
on of Surface Coatings "
(A. WileyInter Science Pu
b. The functional group used in a conventionally known photosensitive resin or the like is used as the photocurable resin cited in the review article such as 1982).

【0110】また、本発明における「熱硬化性官能基」
としては、例えば、遠藤剛、「熱硬化性高分子の精密
化」(C.M.C.(株)、1986年刊)、原崎勇次
「最新バインダー技術便覧」第II−I章(総合技術セ
ンター、1985年刊)、大津隆行「アクリル樹脂の合
成・設計と新用途開発」(中部経営開発センター出版
部、1985年刊)、大森英三「機能性アクリル系樹
脂」(テクノシステム、1985年刊)等の総説に引例
の官能基を用いることができる。
Further, the "thermosetting functional group" in the present invention
For example, Takeshi Endo, “Refining thermosetting polymer” (CMC Co., Ltd., published in 1986), Yuji Harazaki “Latest Binder Technology Handbook” Chapter II-I (Comprehensive Technical Center). , 1985), Takayuki Otsu "Synthesis and design of acrylic resin and new application development" (Chubu Business Development Center Publishing Department, 1985), Eizo Omori "Functional Acrylic Resin" (Technosystem, 1985), etc. The functional groups cited in the reviews can be used.

【0111】例えば−COOH基、−PO3 2 基、−
SO2 H基、−OH基、−SH基、−NH2 基、−NH
A 基〔RA は炭化水素基を表わし、例えば炭素数1〜
8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、2−クロロエ
チル基、2−メトキシエチル基、2−シアノエチル基
等)が挙げられる。〕、環状酸無水物含有基〔環状酸無
水物含有基とは、少なくとも1つの環状酸無水物を含有
する基であり、含有される環状酸無水物としては、脂肪
族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボン酸無水物が挙
げられる。
For example, --COOH group, --PO 3 H 2 group,
SO 2 H group, -OH group, -SH group, -NH 2 group, -NH
R A group [ RA represents a hydrocarbon group having, for example, 1 to 1 carbon atoms.
8 alkyl groups (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, etc.). ], Cyclic acid anhydride-containing group [The cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and as the cyclic acid anhydride to be contained, aliphatic dicarboxylic acid anhydride, aromatic Group dicarboxylic acid anhydrides may be mentioned.

【0112】脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、
コハク酸無水物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸
無水物環、シクロペンタン−1,2−ジカルボン酸無水
物環、シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物
環、シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物環、
2,3−ビシクロ〔2,2,2〕オクタンジカルボン酸
無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、
ブチル基、ヘキシル基等のアルキル基等が置換されてい
てもよい。
Examples of the aliphatic dicarboxylic acid anhydride include:
Succinic anhydride ring, glutaconic anhydride ring, maleic anhydride ring, cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid anhydride ring, cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid anhydride ring, cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid ring Acid anhydride ring,
2,3-bicyclo [2,2,2] octanedicarboxylic acid anhydride ring and the like can be mentioned, and these rings include, for example, halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, methyl group, ethyl group,
An alkyl group such as a butyl group and a hexyl group may be substituted.

【0113】又、芳香族ジカルボン酸無水物の例として
は、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水
物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−
ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、例
えば、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、
ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカル
ボニル基(アルコキシ基としては、例えば、メトキシ
基、エトシキ基等)等が置換されていてもよい。〕、−
N=C=O基、ブロック化イソシアナート基〔イソシア
ナート基と活性水素化合物との付加体で熱により分解し
てイソシアナート基を生成する官能基。例えば活性水素
化合物としては、2,2,2−トリフロロエタノール、
2,2,2,2′,2′,2′−ヘキサフロロイソプロ
ピルアルコールフェノール類(フェノール、クロロフェ
ノール、シアノフェノール、クレゾール、メトキシフェ
ノール等)、活性メチレン化合物(アセチルアセトン、
アセト酢酸エステル類、マロン酸ジエステル類、マロン
ジニトリル等)、環状N原子含有化合物(例えばイミダ
ゾール、ピペラジン、モルホリン等)等が挙げられ
る〕、−CONHCH2 ORB 〔RB は水素原子又は炭
素数1〜8のアルキル基(具体的にはRA のアルキル基
と同一内容)を表わす。〕、−OR基を少なくとも1個
含有するシランカップリング基〔例えば−Si(OR)
3 、−Si(OR)2 (R)、−Si(OR)(R)2
であり、−OR、又は−Rは、炭化水素基を表わし、具
体的には前記一般式(II)−COOL1 で示したR1
と同一の内容を表わす。〕、−OR基を少なくとも1個
含有するチタネートカップリング基、
Examples of aromatic dicarboxylic acid anhydrides include phthalic anhydride ring, naphthalene-dicarboxylic acid anhydride ring, pyridine-dicarboxylic acid anhydride ring, thiophene-
Dicarboxylic acid anhydride ring and the like, these rings, for example, a chlorine atom, a halogen atom such as a bromine atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an alkyl group such as a butyl group,
A hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group (as the alkoxy group, for example, a methoxy group, an ethoxy group, etc.) may be substituted. ],-
N = C = O group, blocked isocyanate group [a functional group that is decomposed by heat with an adduct of an isocyanate group and an active hydrogen compound to form an isocyanate group. For example, as the active hydrogen compound, 2,2,2-trifluoroethanol,
2,2,2,2 ', 2', 2'-hexafluoroisopropyl alcohol phenols (phenol, chlorophenol, cyanophenol, cresol, methoxyphenol, etc.), active methylene compounds (acetylacetone,
Acetoacetic esters, malonic acid diesters, malonic dinitrile etc.), cyclic N atom-containing compound (e.g. imidazole, piperazine, morpholine, etc.), etc.], -CONHCH 2 OR B [R B is a hydrogen atom or a carbon atoms It represents an alkyl group of 1 to 8 (specifically the same as the alkyl group of RA ). ], A silane coupling group containing at least one -OR group [for example, -Si (OR)]
3 , -Si (OR) 2 (R), -Si (OR) (R) 2
And -OR or -R represents a hydrocarbon group, and specifically R 1 shown in the general formula (II) —COOL 1 above.
Represents the same content as. ], A titanate coupling group containing at least one -OR group,

【0114】[0114]

【化34】 [Chemical 34]

【0115】等の開環反応が容易に進行するヘテロ原子
含有の立体的に高否をもつ環状官能基、−Cd1 =CH
2 基(d1 、d2 は、各々水素原子、ハロゲン原子
(例えば塩素原子、臭素原子等)又は炭素数1〜4のア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基等)を表わす)等
を挙げることができる。又該重合性二重結合基として、
具体的には
A heteroatom-containing cyclic functional group having high stericity such as --Cd 1 ═CH, which facilitates the ring-opening reaction.
d 2 group (d 1 and d 2 are each a hydrogen atom, a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.) or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, etc.), etc. be able to. Further, as the polymerizable double bond group,
In particular

【0116】[0116]

【化35】 [Chemical 35]

【0117】を挙げることができる。以上の様な熱及び
/又は光硬化性を含有する共重合体成分は、前記した親
水性基を発現する官能基を含有した共重合体成分に相当
する単量体と共重合し得うる相当する単量体であればい
ずれでもよい。例えば共重合体成分として一般式(X
I)が示される。
Examples thereof include: The copolymer component containing heat and / or photocurability as described above can be copolymerized with the monomer corresponding to the above-mentioned copolymer component containing a functional group expressing a hydrophilic group. Any monomer may be used as long as it is a monomer. For example, as a copolymer component, the general formula (X
I) is indicated.

【0118】[0118]

【化36】 [Chemical 36]

【0119】W1 は上記で説明した熱及び/又は光硬化
性基を表わす。更に、本発明の樹脂〔A〕は、前記した
親水性基を発現する官能基含有の重合体成分、光及び/
又は熱硬化性基含有の重合体成分とともに、これら以外
の重合体成分を含有してもよい。他の重合体成分として
は、上記重合体成分に相当する単量体と共重合するもの
であればいずれでもよく、例えば、高分子学会編「高分
子データ・ハンドブック〔基礎編〕」培風館(1986
年刊)、J.Brandrup.E.H.Immerg
ut.「Polymer Hand book」(Jo
hn Wileyd Sons,1989年刊)等に記
載された化合物が挙げられる。
W 1 represents the heat and / or photocurable group described above. Furthermore, the resin [A] of the present invention comprises a functional group-containing polymer component expressing a hydrophilic group as described above, light and / or
Alternatively, a polymer component other than these may be contained together with the polymer component containing a thermosetting group. Any other polymer component may be used as long as it copolymerizes with a monomer corresponding to the above polymer component. For example, “Polymer Data Handbook [Basic Edition]” edited by the Society of Polymer Science, Baifukan (1986).
Annual), J. Brandrup. E. H. Immerg
ut. "Polymer Handbook" (Jo
hn Wileyd Sons, published in 1989) and the like.

【0120】具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ
置換アクリル酸(例えばα−アセトキシ体、α−アセト
キシメチル体、α−(2−アミノ)メチル体、α−クロ
ロ体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシ
リル体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、
α−クロロ−β−メトキシ体、α,β−ジクロロ体
等)、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エステ
ル類、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、2−アルケ
ニルカルボン酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メチル
−2−ヘキセン酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−
ヘキセン酸、4−エチル−2−オクテン酸等)、マレイ
ン酸、マレイン酸半エステル類、マレイン酸半アミド
類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホ
ン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボ
ン酸類のビニル基又はアリル基の半エステル誘導体、メ
タクリル酸エステル類、アクリル酸エステル類、クロト
ン酸エステル類に加え、α−オレフィン類、カルボン酸
ビニル又はアクリル酸エステル類(例えばカルボン酸と
して、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、
ナフタレンカルボン酸等)、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル、ビニルエーテル類、イタコン酸エステル
類(例えばジメチルエステル、ジエチルエステル等)、
アクリルアミド類、メタクリルアミド類、スチレン類
(例えばスチレン、ビニルトルエン、クロロスチレン、
ヒドロキシスチレン、N,N−ジメチルアミノメチルス
チレン、メトキシカルボニルスチレン、メタンスルホニ
ルオキシスチレン、ビニルナフタレン等)、ビニルスル
ホン含有化合物、ビニルケトン含有化合物、複素環ビニ
ル類(例えばビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニ
ルイミダゾール、ビニルチオフェン、ビニルイミダゾリ
ン、ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルキノ
リン、ビニルテトラゾール、ビニルオキサジン等)等が
挙げられる。
Specifically, acrylic acid, α and / or β
Substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α- (2-amino) methyl form, α-chloro form, α-bromo form, α-fluoro form, α-tributylsilyl form, α-cyano form Body, β-chloro form, β-bromo form,
α-chloro-β-methoxy form, α, β-dichloro form, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half-esters, itaconic acid half-amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (eg 2-pentenoic acid) , 2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-
Hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half-esters, maleic acid half-amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, dicarboxylic acids In addition to half-ester derivatives of vinyl group or allyl group, methacrylic acid esters, acrylic acid esters, crotonic acid esters, α-olefins, vinyl carboxylates or acrylic acid esters (for example, acetic acid, propionic acid as carboxylic acid) , Butyric acid, valeric acid, benzoic acid,
Naphthalenecarboxylic acid, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, itaconic acid esters (eg, dimethyl ester, diethyl ester, etc.),
Acrylamides, methacrylamides, styrenes (eg styrene, vinyltoluene, chlorostyrene,
Hydroxystyrene, N, N-dimethylaminomethylstyrene, methoxycarbonylstyrene, methanesulfonyloxystyrene, vinylnaphthalene, etc.), vinylsulfone-containing compound, vinylketone-containing compound, heterocyclic vinyls (eg vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, Vinyl thiophene, vinyl imidazoline, vinyl pyrazole, vinyl dioxane, vinyl quinoline, vinyl tetrazole, vinyl oxazine, etc.) and the like.

【0121】次に本発明の樹脂〔A〕とともに用いられ
る光及び/又は熱硬化性化合物について説明する。
Next, the photo and / or thermosetting compound used together with the resin [A] of the present invention will be explained.

【0122】光及び/又は熱硬化性化合物とは、該硬化
性基を少なくとも1種含有する低分子化合物、オリゴマ
ー、ポリマーのいずれのものでもよい。光及び/又は熱
硬化性基とは、熱及び光のうちの少なくともいずれかに
より樹脂の硬化を行なう官能基を言う。具体的な「光硬
化性官能基」、「熱硬化性官能基」としては前記した樹
脂〔A〕に含有される重合体成分(c)の該官能基と同
一の内容のものが挙げられる。
The light and / or thermosetting compound may be any of a low molecular weight compound, an oligomer and a polymer containing at least one kind of the curable group. The light and / or thermosetting group refers to a functional group that cures the resin by at least one of heat and light. Specific examples of the “photo-curable functional group” and “thermo-curable functional group” include those having the same content as the functional group of the polymer component (c) contained in the resin [A].

【0123】これら硬化性化合物としては、通常架橋剤
として用いられる化合物を挙げることができる。具体的
には、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブック」大
成社刊(1981年)、高分子学会編「高分子データハ
ンドブック 基礎編」培風館(1986年)等に記載さ
れている化合物を用いることができる。例えば、有機シ
ラン系化合物(例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリブトキシシラン、γ−グリシドキヒプロピルト
リメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等の
シランカップリング剤等)、ポリイソシアナート系化合
物(例えば、トルイレンジイソシアナート、o−トルイ
レンジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソシアナ
ート、トリフェニルメタントリイソシアナート、ポリメ
チレンポリフェニルイソシアナート、ヘキサメチレンジ
イソシアナート、イソホロンジイソシアナート、高分子
ポリイソシアナート等)、ポリブロック化イソシアナー
ト系化合物( ブロック化剤としては、重合体(c)成分
で記載したと同様の内容のものが挙げられる)、ポリカ
ルボン酸系化合物及びそれらのカルボン酸無水物(例え
ば、フタル酸、マレイン酸、コハク酸、グルタル酸、イ
タコン酸、ピロメリット酸、ベンゼン1,2,4,5−
テトラカルボン酸、3,3′,4,4′−ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、シ
クロヘキセンジカルボン酸等及びこれらの無水物等)、
ポリオール系化合物(例えば、1,4−ブタンジオー
ル、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシアル
キレングリコール、1,1,1−トリメチロールプロパ
ン等)、ポリアミン系化合物(例えば、エチレンジアミ
ン、γ−ヒドロキシプロピル化エチレンジアミン、フェ
ニレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、N−アミノ
エチルピペラジン、変性脂肪族ポリアミン類等)、チタ
ネートカップリング系化合物(例えば、テトラブトキシ
チタネート、テトラプロポキシチタネート、イソプロピ
ルトリステアロイルチタネート等)、アルミニウムカッ
プリング系化合物〔例えば、アルミニウムブチレート、
アルミニウムアセチルアセテート、アルミニウムオキシ
ドオクテート、アルミニウムトリス(アセチルアセテー
ト)等〕、ポリエポキシ基含有化合物及びエポキシ樹脂
(例えば、垣内弘編著「新エポキシ樹脂」昭晃堂(19
85年刊)、橋本邦之編著「エポキシ樹脂」日刊工業新
聞社(1969年刊)等に記載された化合物類)、メラ
ミン樹脂(例えば、三輪一郎、松永英夫編著「ユリア・
メラミン樹脂」日刊工業新聞社(1969年刊)等に記
載された化合物類)、ポリ(メタ)アクリレート系化合
物(例えば、大河原信、三枝武夫、東村敏延編「オリゴ
マー」講談社(1976年刊)、大森英三「機能性アク
リル系樹脂」テクノシステム(1985年刊)等に記載
された化合物類が挙げられ、具体的には、ジビニルベン
ゼン、トリビニルベンゼン等のスチレン誘導体:多価ア
ルコール(例えば、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリ
コール#200、#400、#600、1,3−ブチレ
ングリコール、ネオペンチルグリコール、ジプロピレン
グリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチロー
ルプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリト
ールなど)、又はポリヒドロキシフェノール(例えばヒ
ドロキノン、レゾルシン、カテコールおよびそれらの誘
導体)のメタクリル酸、アクリル酸又はクロトン酸のエ
ステル類、ビニルエーテル類又はアリルエーテル類:二
塩基酸(例えはマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、ピメリン酸、マレイン酸、フタル酸、イタコン
酸等)のビニルエステル類、アリルエステル類、ビニル
アミド類又はアリルアミド類:ポリアミン(例えばエチ
レンジアミン、1,3−プロピレンジアミン、1,4−
ブチレンジアミン等)とビニル基を含有するカルボン酸
(例えば、メタクリル酸、アクリル酸、クロトン酸、ア
リル酢酸等)との縮合体、ビニル基を含有するカルボン
酸(例えばメタクリル酸、アクリル酸、メタクリロイル
酢酸、アクリロイル酢酸、メタクリロイルプロピオン
酸、アクリロイルプロピオン酸、イタコニロイル酢酸、
イタコニロイルプロピオン酸、カルボン酸無水物等)と
アルコール又はアミンの反応体(例えばアリルオキシカ
ルボニルプロピオン酸、アリルオキシカルボニル酢酸、
2−アリルオキシカルボニル安息香酸、アリルアミノカ
ルボニルプロピオン酸等)等のビニル基を含有したエス
テル誘導体又はアミド誘導体(例えばメタクリル酸ビニ
ル、アクリル酸ビニル、イタコン酸ビニル、メタクリル
酸アリル、アクリル酸アリル、イタコン酸アリル、メタ
クリロイル酢酸ビニル、メタクリロイルプロピオン酸ビ
ニル、メタクリロイルプロピオン酸アリル、メタクリル
酸ビニルオキシカルボニルメチルエステル、アクリル酸
ビニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニルエチレ
ンエステル、N−アリルアクリルアミド、N−アリルメ
タクリルアミド、N−アリルイタコン酸アミド、メタク
リロイルプロピオン酸アリルアミド等)又はアミノアル
コール類(例えばアミノエタノール、1−アミノプロパ
ノール、1−アミノブタノール、1−アミノヘキサノー
ル、2−アミノブタノール等)とビニル基を含有したカ
ルボン酸との縮合体などが挙げられる。
Examples of these curable compounds include compounds usually used as a crosslinking agent. Specifically, the compounds described in "Crosslinking Agent Handbook" edited by Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, published by Taiseisha (1981), "Polymer Data Handbook Basic Edition", Baifukan (1986), etc. Can be used. For example, an organic silane-based compound (for example, a silane coupling agent such as vinyltrimethoxysilane, vinyltributoxysilane, γ-glycidokichipropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane). Etc.), polyisocyanate compounds (for example, toluylene diisocyanate, o-toluylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, polymethylene polyphenyl isocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate). Isocyanates, high molecular weight polyisocyanates, etc.), polyblocked isocyanate compounds (blocking agents include those having the same contents as those described for the polymer (c) component), polycarbocarbonate Acid compounds and their carboxylic acid anhydrides (such as phthalic acid, maleic acid, succinic acid, glutaric acid, itaconic acid, pyromellitic acid, benzene 1,2,4,5
Tetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, cyclohexenedicarboxylic acid, etc. and their anhydrides, etc.),
Polyol compounds (for example, 1,4-butanediol, polyoxypropylene glycol, polyoxyalkylene glycol, 1,1,1-trimethylolpropane, etc.), polyamine compounds (for example, ethylenediamine, γ-hydroxypropylated ethylenediamine, Phenylenediamine, hexamethylenediamine, N-aminoethylpiperazine, modified aliphatic polyamines, etc.), titanate coupling compounds (eg, tetrabutoxy titanate, tetrapropoxy titanate, isopropyl tristearoyl titanate, etc.), aluminum coupling compounds [ For example, aluminum butyrate,
Aluminum acetyl acetate, aluminum oxide octate, aluminum tris (acetyl acetate), etc.], polyepoxy group-containing compound and epoxy resin (for example, “New Epoxy Resin” by Hiroshi Kakiuchi, Shokoido (19
1985), "Epoxy resin" edited by Kuniyuki Hashimoto, compounds described in Nikkan Kogyo Shimbun (Published in 1969), melamine resin (e.g. edited by Ichiro Miwa, Hideo Matsunaga, "Uria."
"Melamine resin", compounds described in Nikkan Kogyo Shimbun (1969), poly (meth) acrylate compounds (for example, Shin Okawara, Takeo Saegusa, Toshinobu Higashimura "Oligomer" Kodansha (1976), Omori The compounds described in Eizo “Functional Acrylic Resin” Techno System (published in 1985) and the like can be mentioned. Specifically, styrene derivatives such as divinylbenzene and trivinylbenzene: polyhydric alcohol (for example, ethylene glycol , Diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol # 200, # 400, # 600, 1,3-butylene glycol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, etc.), or Methacrylic acid, esters of acrylic acid or crotonic acid, vinyl ethers or allyl ethers of rehydroxyphenols (eg hydroquinone, resorcin, catechol and their derivatives): dibasic acids (eg malonic acid, succinic acid, glutaric acid, Adipic acid, pimelic acid, maleic acid, phthalic acid, itaconic acid, etc.) vinyl esters, allyl esters, vinyl amides or allyl amides: polyamines (eg ethylenediamine, 1,3-propylenediamine, 1,4-
Butylenediamine, etc.) with a vinyl group-containing carboxylic acid (eg, methacrylic acid, acrylic acid, crotonic acid, allyl acetic acid, etc.), vinyl group-containing carboxylic acid (eg, methacrylic acid, acrylic acid, methacryloyl acetic acid) , Acryloyl acetic acid, methacryloyl propionic acid, acryloyl propionic acid, itaconiloyl acetic acid,
Itaconiloylpropionic acid, carboxylic acid anhydride, etc.) and alcohol or amine reactants (eg, allyloxycarbonylpropionic acid, allyloxycarbonylacetic acid,
Ester derivatives or amide derivatives containing vinyl groups such as 2-allyloxycarbonylbenzoic acid and allylaminocarbonylpropionic acid (eg vinyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl itaconate, allyl methacrylate, allyl acrylate, itacone) Allyl acid, vinyl methacryloyl acetate, vinyl methacryloyl propionate, allyl methacryloyl propionate, vinyl oxycarbonyl methyl ester methacrylate, vinyloxy carbonyl methyl oxycarbonyl ethylene acrylate, N-allyl acrylamide, N-allyl methacrylamide, N-allyl Itaconic acid amide, methacryloylpropionic acid allylamide, etc.) or amino alcohols (eg aminoethanol, 1-aminopropanol, 1-amido) Butanol, 1-amino hexanol, 2-amino butanol) and the like condensates of carboxylic acids containing vinyl groups.

【0124】又、樹脂〔A〕で含有されると同様な光及
び/又は熱硬化性基含有重合体成分を含有する重合体が
挙げられる。これら光及び/又は熱硬化性樹脂の重量平
均分子量は1×103 〜1×106、好ましくは3×1
3 〜1×105 の範囲である。以上の如く、本発明の
表面層の結着樹脂は、更には硬化性化合物共存下での架
橋反応は、高分子鎖間の化学結合が進行し易い組み合せ
で用いることが好ましい。例えば官能基の組み合せによ
る高分子反応としては、通常よく知られた方法が挙げら
れ、下記表AのようなA群の官能基とB群の官能基の組
合せが例示される。但し、これらに限定されるものでは
ない。
Further, a polymer containing the same photo- and / or thermosetting group-containing polymer component as that contained in the resin [A] can be mentioned. The weight average molecular weight of these light and / or thermosetting resins is 1 × 10 3 to 1 × 10 6 , preferably 3 × 1.
It is in the range of 0 3 to 1 × 10 5 . As described above, the binder resin of the surface layer of the present invention is preferably used in a crosslinking reaction in the coexistence of a curable compound in a combination in which a chemical bond between polymer chains easily proceeds. For example, as a polymer reaction by a combination of functional groups, a well-known method is usually mentioned, and a combination of a functional group of group A and a functional group of group B as shown in Table A below is exemplified. However, it is not limited to these.

【0125】[0125]

【表1】 [Table 1]

【0126】表Aにおいて、R1 0 、R2 0 はアルキル
基を表す。R3 0 〜R5 0 はアルキル基又はアルコキシ
基を表し、且つ置換基中少なくとも1つはアルコキシ基
を表す。本発明では、表面層膜中での架橋反応を促進さ
せるために、主成分の樹脂に必要に応じて反応促進剤を
添加してもよい。架橋反応が官能基間の化学結合を形成
する反応様式の場合には、例えば有機酸(酢酸、プロピ
オン酸、酪酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスル
ホン酸等)、フェノール類(フェノール、クロロフェノ
ール、ニトロフェノール、シアノフェノール、ブロモフ
ェノール、ナフトール、ジクロロフェノール等)、有機
金属化合物(アセチルアセトナートジルコニウム塩、ア
セチルアセトンジルコニウム塩、アセチルアセトコバル
ト塩等、ジラウリン酸ジブトキシスズ等)、ジチオカル
バミン酸化合物(ジエチルジチオカルバミン酸塩等)、
チウラムジスルフィド化合物(テトラメチルチウラムジ
スルフィド等)、カルボン酸無水物(無水フタル酸、無
水マレイン酸、無水コハク酸、ブチルコハク酸無水物
等、3,3′,4,4′−テトラカルボン酸ベンゾフェ
ノンジ無水物、トリメリット酸無水物等)等が挙げられ
る。
[0126] In Table A, R 1 0, R 2 0 represents an alkyl group. R 3 0 ~R 5 0 represents an alkyl group or an alkoxy group, at least one in and substituent represents an alkoxy group. In the present invention, in order to promote the crosslinking reaction in the surface layer film, a reaction accelerator may be added to the resin as the main component, if necessary. When the crosslinking reaction is a reaction mode in which a chemical bond between functional groups is formed, for example, an organic acid (acetic acid, propionic acid, butyric acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, etc.), phenols (phenol, chlorophenol, Nitrophenol, cyanophenol, bromophenol, naphthol, dichlorophenol, etc.), organometallic compounds (acetylacetonate zirconium salt, acetylacetone zirconium salt, acetylacetocobalt salt, etc., dibutoxytin dilaurate, etc.), dithiocarbamic acid compound (diethyldithiocarbamate) etc),
Thiuram disulfide compounds (tetramethyl thiuram disulfide, etc.), carboxylic anhydrides (phthalic anhydride, maleic anhydride, succinic anhydride, butyl succinic anhydride, etc., 3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic acid benzophenone dianhydride Substances, trimellitic anhydride, etc.) and the like.

【0127】架橋反応が重合性反応様式の場合には、重
合開始剤(過酸化物、アゾビス系化合物等が挙げられ
る)を用いることができる。本発明の表面層の主成分と
する樹脂は、表面層形成物を塗布した後、光及び/又は
熱硬化される。熱硬化を行なうためには、例えば、乾燥
条件を従来の感光体作製時の乾燥条件より厳しくする。
例えば、乾燥条件を高温及び/または長時間とする。あ
るいは、塗布溶剤の乾燥後、更に加熱処理することが好
ましい。例えば60℃〜150℃で5〜120℃間処理
する。上述の反応促進剤を併用すると、より穏やかな条
件で処理することができる。
When the crosslinking reaction is in a polymerizable reaction mode, a polymerization initiator (such as a peroxide and an azobis compound) can be used. The resin which is the main component of the surface layer of the present invention is light and / or heat cured after applying the surface layer forming material. In order to carry out heat curing, for example, the drying conditions are set to be more severe than the conventional drying conditions for producing a photoreceptor.
For example, the drying conditions are high temperature and / or long time. Alternatively, it is preferable to further heat-treat the coating solvent after drying. For example, the treatment is performed at 60 ° C to 150 ° C for 5 to 120 ° C. When the above reaction accelerator is used in combination, the treatment can be performed under milder conditions.

【0128】本発明の表面層の主成分とする樹脂中の特
定の官能基を光照射で硬化する方法としては、「化学的
活性光線」で光照射する工程を入れるようにすればよ
い。本発明に用いられる「化学的活性光線」としては、
可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線、γ線、α
線などいずれでもよいが、好ましくは紫外線が挙げられ
る。より好ましくは、波長310nmから波長500n
mの範囲での光線を発しうるものであり、一般には低
圧、高圧あるいは超高圧の水銀ランプ、ハロゲンランプ
等が用いられる。光照射の処理は通常5cmから50c
mの距離から10秒〜10分間の照射で充分に行なうこ
とができる。
As a method of curing the specific functional group in the resin which is the main component of the surface layer of the present invention by irradiation with light, a step of irradiation with "chemically active light" may be included. As the “chemically actinic ray” used in the present invention,
Visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray, γ-ray, α
Any of lines and the like may be used, but ultraviolet rays are preferable. More preferably, a wavelength of 310 nm to a wavelength of 500 n
It can emit light rays in the range of m, and generally, a low-pressure, high-pressure or ultra-high-pressure mercury lamp, a halogen lamp or the like is used. Light treatment is usually 5 cm to 50 c
Irradiation from a distance of m for 10 seconds to 10 minutes can be sufficiently performed.

【0129】本発明の表面層に用いる樹脂として、更に
他の結着樹脂を併用してもよい。これら用いることので
きる樹脂としては従来公知の電子写真感光層用の結着樹
脂類が挙げられ、例えば、柴田隆治・石渡次郎、高分
子、第17巻、第278頁(1968年)宮本晴視,武
井秀彦、イメージング,1973(No.8)中村孝一
編「記録材料用バインダーの実際技術」第10章、C.
H.C.出版(1985年)電子写真学会編、「電子写
真用有機感光体の現状シンポジウム」予稿集(1985
年)、小門宏編、「最近の光導電材料と感光体の開発・
実用化」日本科学情報(株)(1986年)、電子写真
学会編「電子写真技術の基礎と応用」第5章、コロナ社
(株)(1988年)、D.Tatt,S.C.Hei
decker,Tappi,49(No.10),43
9(1966)、E.S.Baltazzi,R.G.
Blanclotte et al,Phot.Sc
i.Eng.16(No.5),354(1972)、
グエン・チャン・ケー、清水勇,井上英一,電子写真学
会誌18(No.2),22(1980)等の成書・総
説に記載の化合物等が挙げられる。
As the resin used in the surface layer of the present invention, another binder resin may be used in combination. Examples of the resins that can be used include conventionally known binder resins for electrophotographic photosensitive layers. For example, Ryuji Shibata and Jiro Ishiwatari, Kogaku, Vol. 17, p. 278 (1968) Harumi Miyamoto. , Hidehiko Takei, Imaging, 1973 (No.8), Koichi Nakamura, "Practical Technology of Binder for Recording Material", Chapter 10, C.I.
H. C. Published (1985) edited by The Electrophotographic Society of Japan, "Presentation Symposium on Organic Photoreceptors for Electrophotography" (1985)
), Hiroshi Komon, “Recent Development of Photoconductive Materials and Photoconductors.
Practical application ”, Japan Science Information Co., Ltd. (1986), edited by The Institute of Electrophotography,“ Basics and Applications of Electrophotographic Technology ”Chapter 5, Corona Publishing Co., Ltd. (1988), D.I. Tatt, S.M. C. Hei
decker, Tappi, 49 (No. 10), 43
9 (1966), E.I. S. Baltazzi, R .; G.
Blanclotte et al, Photo. Sc
i. Eng. 16 (No. 5), 354 (1972),
Nguyen Chang Kae, Isamu Shimizu, Eiichi Inoue, Electrophotographic Society Journal 18 (No. 2), 22 (1980) and the like.

【0130】具体的には、オレフィン重合体及び共重合
体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン共重合体、ア
ルカン酸ビニル重合体及び共重合体、アルカン酸アリル
重合体及び共重合体、スチレン及びその誘導体、重合体
及び共重合体、ブタジエン−スチレン共重合体、イソプ
レン−スチレン共重合体、ブタジエン−不飽和カルボン
酸エステル共重合体、アクリロニトリル共重合体、メタ
クリロニトリル共重合体、アルキルビニルエーテル共重
合体、アクリル酸エステル重合体及び共重合体、メタク
リル酸エステル重合体及び共重合体、スチレン−アクリ
ル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステ
ル共重合体、イタコン酸ジエステル重合体及び共重合
体、無水マレイン酸共重合体、アクリルアミド共重合
体、メタクリルアミド共重合体、水酸基変性シリコン樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ケトン樹脂、ポリエステル
樹脂、シリコン樹脂、アミド樹脂、水酸基及びカルボキ
シル基変性ポリエステル樹脂、ブチラール樹脂、ポリビ
ニルアセタール樹脂、環化ゴム−メタクリル酸エステル
共重合体、環化ゴム−アクリル酸エステル共重合体、窒
素原子を含有しない複素環を含有する共重合体(複素環
として例えば、フラン環、テトラヒドロフラン環、チオ
フェン環、ジオキサン環、ジオキソフラン環、ラクトン
環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、1,3−ジ
オキセタン環等)、エポキシ樹脂等が挙げられる。
Specifically, olefin polymers and copolymers, vinyl chloride copolymers, vinylidene chloride copolymers, vinyl alkanoate polymers and copolymers, allyl alkanoate polymers and copolymers, styrene and Derivatives, polymers and copolymers, butadiene-styrene copolymers, isoprene-styrene copolymers, butadiene-unsaturated carboxylic acid ester copolymers, acrylonitrile copolymers, methacrylonitrile copolymers, alkyl vinyl ether copolymers Polymers, acrylic acid ester polymers and copolymers, methacrylic acid ester polymers and copolymers, styrene-acrylic acid ester copolymers, styrene-methacrylic acid ester copolymers, itaconic acid diester polymers and copolymers , Maleic anhydride copolymer, acrylamide copolymer, methacrylamide Polymer, hydroxyl group-modified silicone resin, polycarbonate resin, ketone resin, polyester resin, silicone resin, amide resin, hydroxyl group- and carboxyl group-modified polyester resin, butyral resin, polyvinyl acetal resin, cyclized rubber-methacrylic acid ester copolymer, ring Rubber-acrylic acid ester copolymer, a copolymer containing a nitrogen atom-free heterocycle (as a heterocycle, for example, furan ring, tetrahydrofuran ring, thiophene ring, dioxane ring, dioxofuran ring, lactone ring, benzofuran ring, Benzothiophene ring, 1,3-dioxetane ring, etc.), epoxy resin and the like.

【0131】これら、含有してもよい他の結着樹脂は、
本発明の感光材料と不感脂化処理後、保水性を発現する
働きを阻害しない範囲内で用いられる。具体的には、全
結着樹脂100重量部中、多くても30重量%以内であ
り、好ましくは20重量%以内で併用される。親水化可
能な表面層自体の強度、電子写真感光層との接着性ある
いは電子写真特性等の改善のために、前記した本発明の
樹脂以外の樹脂を添加したり、架橋剤あるいは可塑剤等
を添加してもよい。
These other binder resins which may be contained are
After the desensitizing treatment with the light-sensitive material of the present invention, it is used within a range that does not impair the function of expressing water retention. Specifically, the content is at most 30% by weight, preferably 20% by weight or less, in 100 parts by weight of the total binder resin. In order to improve the strength of the hydrophilizable surface layer itself, the adhesiveness with the electrophotographic photosensitive layer, the electrophotographic characteristics, etc., a resin other than the resin of the present invention described above is added, or a crosslinking agent or a plasticizer is added. You may add.

【0132】架橋剤としては、通常用いられる有機過酸
化物、金属セッケン、有機シラン、ポリウレタンの如き
架橋剤、エポキシ樹脂の如き硬化剤等を用いることがで
きる。具体的には、山下普三・金子東助編「架橋剤ハン
ドブック」大成社刊(1981年)等に記載されている。更
に、親水化可能な表面層は、トナー現像時の現像特性、
トナー像の接着性あるいは親水化処理後の保水性などを
向上させる目的で、その表面が機械的にマット化されて
いたり、層にマット剤が含有されていてもよい。マット
剤としては、二酸化珪素、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化
ジルコニウム、ガラス粒子、アルミナ、クレーなどの充
填剤や、ポリメチルメタアクリレート、ポリスチレン、
フェノール樹脂などの重合体粒子などが例示できる。
As the crosslinking agent, a commonly used organic peroxide, metal soap, organic silane, a crosslinking agent such as polyurethane, a curing agent such as an epoxy resin and the like can be used. Specifically, it is described in "Crosslinking Agent Handbook" edited by Fuzo Yamashita and Tosuke Kaneko, published by Taiseisha (1981). Further, the surface layer which can be hydrophilized has developing characteristics during toner development,
The surface of the toner image may be mechanically matted or a layer may contain a matting agent for the purpose of improving the adhesiveness of the toner image or the water retention after the hydrophilic treatment. Examples of the matting agent include fillers such as silicon dioxide, zinc oxide, titanium oxide, zirconium oxide, glass particles, alumina and clay, polymethylmethacrylate and polystyrene,
Examples thereof include polymer particles such as phenol resin.

【0133】該表面層を構成する場合に重要な事は、前
記の如く、不感脂化処理後非画像部が充分に親水性に変
化することである。即ち、この親水性は、例えば、水に
対する接触角を測定することによって確認することがで
きる。不感脂化処理を行なう以前の表面層(親水化可能
層)の表面の水に対する接触角は約60°〜120°である
が、不感脂化処理後はそれは約0°〜5°にまで低下
し、水に非常によく濡れるようになる。このため、印刷
版は親油性トナーからなる画像部と高度に親水性の非画
像部とをその表面に形成していることになる。従って、
不感脂化処理後の表面層が水との接触角で5度以下にな
る様にすればよい。
What is important in constructing the surface layer is that the non-image area becomes sufficiently hydrophilic after the desensitizing treatment, as described above. That is, this hydrophilicity can be confirmed by, for example, measuring the contact angle with water. The contact angle of water on the surface of the surface layer (hydrophilizable layer) before the desensitizing treatment is about 60 ° to 120 °, but it decreases to about 0 ° to 5 ° after the desensitizing treatment. And then get very wet with water. Therefore, the printing plate has an image portion made of lipophilic toner and a highly hydrophilic non-image portion formed on its surface. Therefore,
The surface layer after desensitizing treatment may have a contact angle with water of 5 degrees or less.

【0134】本発明においては、従来のものに比べその
親水性が更に良好である点で特に優れている。次に本発
明の光導電層に含有する結着樹脂〔B〕について詳しく
説明する。樹脂〔B〕は、一般式(I)で示される重合
体成分を少なくとも含有するAブロックと、特定の極性
基から選択される少なくとも一種の極性基を含有する重
合体成分を少なくとも含有するBブロックとから構成さ
れるAB型ブロック高分子鎖を有機分子中に少なくとも
3個結合してなるスター型共重合体である。
The present invention is particularly excellent in that it is more hydrophilic than the conventional ones. Next, the binder resin [B] contained in the photoconductive layer of the present invention will be described in detail. The resin [B] is an A block containing at least a polymer component represented by the general formula (I) and a B block containing at least a polymer component containing at least one polar group selected from specific polar groups. Is a star-type copolymer in which at least three AB-type block polymer chains composed of are bonded in an organic molecule.

【0135】ここにおいて、AブロックとBブロックの
高分子鎖中における配列の順序はいずれでもよい。即
ち、該重合体を模式的に示す下記の如くになる。
In this case, the order of arrangement of the A block and the B block in the polymer chain may be any. That is, the following is a schematic representation of the polymer.

【0136】[0136]

【化37】 [Chemical 37]

【0137】[0137]

【化38】 [Chemical 38]

【0138】〔ここで、Xは有機分子を表し、(A)は
Aブロックを、(B)はBブロックを表し、(A)−
(B)は高分子鎖を表す。〕また、かかるAB型ブロッ
ク高分子鎖は、有機分子中に含まれる上限は多くても1
5個、通常10個程度である。樹脂〔B〕の重量平均分
子量は1×103 〜2×104 、好ましくは3×103
〜1×104 であり、樹脂〔B〕のガラス転移点は好ま
しくは−40℃〜110℃、より好ましくは−20℃〜
90℃である。
[Where X represents an organic molecule, (A) represents an A block, (B) represents a B block, and (A)-
(B) represents a polymer chain. In addition, such an AB-type block polymer chain has an upper limit of at most 1 contained in the organic molecule.
Five, usually about ten. The weight average molecular weight of the resin [B] is 1 × 10 3 to 2 × 10 4 , preferably 3 × 10 3.
To 1 × a 10 4, a glass transition point of the resin (B) is preferably -40 ° C. to 110 ° C., more preferably -20 ° C. ~
90 ° C.

【0139】樹脂〔B〕の分子量が1×103 より小さ
くなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度を保てず、
一方分子量が2×104 より大きくなると本発明の樹脂
であっても、特に近赤外〜赤外分光増感色素を用いた感
光体において、高温・高湿、低温・低湿の苛酷な条件下
での電子写真特性(特に初期電位、暗減衰保持率及び光
感度)の変動が多少大きくなり、安定した複写画像が得
られるいとう本発明の効果が薄れてしまう。
When the molecular weight of the resin [B] is less than 1 × 10 3 , the film forming ability is deteriorated and the sufficient film strength cannot be maintained.
On the other hand, when the molecular weight is more than 2 × 10 4 , even in the case of the resin of the present invention, particularly in a photoreceptor using a near infrared to infrared spectral sensitizing dye, high temperature / high humidity, low temperature / low humidity under severe conditions. The fluctuation of the electrophotographic characteristics (particularly the initial potential, the dark decay retention rate and the photosensitivity) in the above-mentioned method becomes a little large, and the effect of the present invention that a stable copy image can be obtained is weakened.

【0140】本発明の樹脂〔B〕中に含有される極性基
含有成分の存在量は、樹脂〔B〕100重量部中に1〜
20重量部であることが好ましく、より好ましくは3〜
15重量部である。樹脂〔B〕における極性基含有量が
1重量%より少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃
度を得ることができない。一方、該極性基含有量が20
重量%よりも多いと、いかに低分子量体といえども分散
性が低下し、更にオフセットマスターとして用いるとき
に地汚れが増大する。
The amount of the polar group-containing component contained in the resin [B] of the present invention is 1 to 100 parts by weight of the resin [B].
It is preferably 20 parts by weight, more preferably 3 to
15 parts by weight. When the content of the polar group in the resin [B] is less than 1% by weight, the initial potential is low and a sufficient image density cannot be obtained. On the other hand, the polar group content is 20
If it is more than wt%, the dispersibility of the low molecular weight compound will be lowered, and the background stain will be increased when it is used as an offset master.

【0141】本発明のスタ−型共重合体(樹脂〔B〕)
の高分子鎖を構成する各ブロックは以下の特徴を有す
る。樹脂〔B〕のAブロック成分における一般式(I)
の繰り返し単位に相当する重合体成分の存在割合は好ま
しくはAブロック成分中30〜100重量%、より好ま
しくは50〜100重量%される。また、Aブロックに
おいては、Bブロックで含有される特定の極性基含有成
分を含有しないことを特徴とする。
Star type copolymer of the present invention (resin [B])
Each block constituting the polymer chain has the following characteristics. General formula (I) in the A block component of the resin [B]
The proportion of the polymer component corresponding to the repeating unit is preferably 30 to 100% by weight, more preferably 50 to 100% by weight in the A block component. Further, the A block is characterized by not containing the specific polar group-containing component contained in the B block.

【0142】前記一般式(I)で示される繰り返し単位
を更に説明する。a1 及びa2 は各々水素原子、ハロゲ
ン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、
シアノ基又は炭化水素基(例えば炭素数1〜8の脂肪族
基;例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ベンジル基等、炭素数6
〜12の芳香族基;例えばフェニル基等)を表す。a1
が水素原子を表し、及びa2 がメチル基を表す場合が好
ましい。
The repeating unit represented by the general formula (I) will be further described. a 1 and a 2 are each a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.),
Cyano group or hydrocarbon group (for example, aliphatic group having 1 to 8 carbon atoms; for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, benzyl group, etc., having 6 carbon atoms
To 12 aromatic groups; for example, a phenyl group). a 1
Is preferably a hydrogen atom, and a 2 is a methyl group.

【0143】R11は炭化水素基を表し、具体的にはアル
キル基、アラルキル基又は芳香族基を表し、好ましくは
ベンゼン環又はナフタレン環を含有する炭化水素基であ
るアラルキル基又は芳香族基である。更に、R11は好ま
しくは炭素数1〜18の置換されていてもよい炭化水素
基を表わす。置換基としては上記ABブロック共重合体
のBブロックを構成する重合成分に含有される前記極性
基以外の置換基であればいずれでもよく、例えば、ハロ
ゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子
等)、−OZ1 、−COOZ1 、−OCOZ1 (Z1
炭素数1〜22のアルキル基を表わし、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オ
クチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オ
クタデシル基等である)等の置換基が挙げられる。好ま
しい炭化水素基としては、炭素数1〜18の置換されて
もよいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2
−シアノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、
2−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭
素数4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例え
ば、2−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、
2−ぺンテニル基、3−メチル−2−ぺンテニル基、1
−ぺンテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル
基、4−メチル−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜1
2の置換されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル
基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチル
メチル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、
ブロモベンジル基、メチルベンジル基、エ9ルベンジル
基、メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメト
キシベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい
脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキ
シルエチル基、2−シクロぺンチルエチル基等)又は炭
素数6〜12の置換されてもよい芳香族基(例えば、フ
ェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピ
ルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル
基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキ
シフェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェ
ニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロ
モフェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル
基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニ
ルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセト
アミドフェニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシ
ロイルアミドフェニル基等)等があげられる。
R 11 represents a hydrocarbon group, specifically an alkyl group, an aralkyl group or an aromatic group, preferably an aralkyl group or an aromatic group which is a hydrocarbon group containing a benzene ring or a naphthalene ring. is there. Further, R 11 preferably represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. The substituent may be any substituent other than the polar group contained in the polymerization component constituting the B block of the AB block copolymer, and examples thereof include a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom). Etc.), —OZ 1 , —COOZ 1 , —OCOZ 1 (Z 1 represents an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, and a decyl group. , Dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, etc.) and the like. The preferred hydrocarbon group is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, Hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2
-Cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group,
2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc., an alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group,
2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1
-Pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), C7-C1
2 optionally substituted aralkyl groups (eg, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group,
A bromobenzyl group, a methylbenzyl group, an ethylbenzyl group, a methoxybenzyl group, a dimethylbenzyl group, a dimethoxybenzyl group, etc.) and an alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms which may be substituted (for example, a cyclohexyl group, 2- A cyclohexylethyl group, a 2-cyclopentylethyl group or the like) or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (for example, a phenyl group, a naphthyl group, a tolyl group, a xylyl group, a propylphenyl group, a butylphenyl group, Octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonyl Phenyl group, butoki Carbonyl phenyl, acetamidophenyl group, propionitrile amidophenyl group, dodecane white ylamide phenyl group) and the like.

【0144】R11の示す炭化水素基において、R11が脂
肪族基の場合には好ましくは炭素数1〜5の炭化水素基
を式(I)で表わされる成分中の60重量%以上含有す
ることが好ましい。このような置換基R11を有する成分
である一般式(I)の繰り返し単位において、より好ま
しくは前記一般式(Ia)及び/又は一般式(Ib)で
示される繰り返し単位の重合体成分が挙げられる。
[0144] In the hydrocarbon group represented by R 11, R 11 is preferably in the case of an aliphatic group containing more than 60 wt% in component represented a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms in formula (I) It is preferable. In the repeating unit of the general formula (I) which is a component having such a substituent R 11 , more preferred is a polymer component of the repeating unit represented by the general formula (Ia) and / or the general formula (Ib). To be

【0145】式(Ia)において、好ましいA1 及びA
2 として、互いに独立に各々水素原子、塩素原子及び臭
素原子の外に、炭素数1〜10の炭化水素基として、好
ましくは炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、炭素数7〜9のアラ
ルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル
基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、メトキシベ
ンジル基、クロロメチルベンジル基)及びアリール基
(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ブロモフ
ェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジ
クロロフェニル基)、並びに−COOZ2及び−COO
2 (好ましいZ2 としては上記の炭素数1〜10の好
ましい炭化水素基として記載したものを挙げることがで
きる)を挙げることができる。
In formula (Ia), preferred A 1 and A
As 2 , each independently of one another, a hydrogen atom, a chlorine atom and a bromine atom, as a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group,
Ethyl group, propyl group, butyl group, aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group) , Chloromethylbenzyl group) and aryl groups (eg, phenyl group, tolyl group, xylyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group), and —COOZ 2 and —COO.
Z 2 (preferable Z 2 can include those described as the above-mentioned preferable hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms).

【0146】式(Ia)及び(Ib)において、B1
びB2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する単結合
又は−(CH2 a −(aは1〜3の整数を表す)、−
CH2 OCO−、−CH2 CH2 OCO−、−(C
2 b −(bは1又は2の整数を表す)、−CH2
2 O−等の如き連結原子数1〜4個の連結基であり、
より好ましくは単結合又は結合原子数1〜2個の連結基
を挙げることができる。
In the formulas (Ia) and (Ib), B 1 and B 2 are each a single bond connecting —COO— and the benzene ring or — (CH 2 ) a — (a represents an integer of 1 to 3). ,-
CH 2 OCO -, - CH 2 CH 2 OCO -, - (C
H 2) b - (b represents an integer of 1 or 2), - CH 2 C
A connecting group having 1 to 4 connecting atoms such as H 2 O-,
More preferably, a single bond or a linking group having 1 to 2 bonding atoms can be mentioned.

【0147】本発明の樹脂〔B〕で用いられる式(I
a)又は(Ib)で示される繰り返し単位の具体例を以
下に挙げる。しかし、本発明の範囲はこれに限定される
ものではない。また、以下の(b−1)〜(b−20)
において、cは1〜4の整数、dは0又は1〜3の整
数、eは1〜3の整数、R21はいずれも−CcH2c+1
は−(CH2 d −C6 5 (ただし、c、dは上記と
同じ)を表し、D1 及びD2 は同じでも異なってもよ
く、水素原子、−Cl、−Br、−Iのいずれかを表
す。
Formula (I) used in the resin [B] of the present invention
Specific examples of the repeating unit represented by a) or (Ib) are shown below. However, the scope of the present invention is not limited to this. In addition, the following (b-1) to (b-20)
In, c is an integer of 1 to 4, d is 0 or an integer of 1 to 3, e is an integer of 1-3, R 21 are both -CCH 2c + 1 or - (CH 2) d -C 6 H 5 (However, c and d are the same as the above), D 1 and D 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, —Cl, —Br, or —I.

【0148】[0148]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0149】[0149]

【化40】 [Chemical 40]

【0150】[0150]

【化41】 [Chemical 41]

【0151】[0151]

【化42】 [Chemical 42]

【0152】該Aブロック中に含有される他の重合成分
としては、例えば下記一般式(XII)で示される成分
が挙げられる。
Examples of the other polymerization component contained in the A block include components represented by the following general formula (XII).

【0153】[0153]

【化43】 [Chemical 43]

【0154】〔式(XII)中、X1 は−COO−、−
OCO−、−(CH2 p −OCO−、−(CH2 p
−COO−(pは1〜3の整数を表す)、−O−、−S
2 −、−CO−、−CON(Z3)−、−SO2 N(Z
3)−、−CONHCOO−、−CONHCONH−又は
−C6 4 −を表す(ここでZ3 は水素原子又は炭化水
素基を表す)。
[In the formula (XII), X 1 is -COO-,-
OCO -, - (CH 2) p -OCO -, - (CH 2) p
-COO- (p represents an integer of 1 to 3), -O-, -S.
O 2 -, - CO -, - CON (Z 3) -, - SO 2 N (Z
3) -, - CONHCOO -, - CONHCONH- or -C 6 H 4 - are expressed (here Z 3 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group).

【0155】R12は炭化水素基を表す。b1 及びb
2 は、互いに同じでも異なってもよく、前記式(I)中
のa1 、a2 とそれぞれ同一の内容を表す。〕ここで、
3 は水素原子のほか、好ましい炭化水素基としては、
炭素数1〜18の置換されてもよいアルキル基(例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプ
チル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチ
ル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−
メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、
3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換され
てもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロ
ペニル基、2−ブテニル基、2−ぺンテニル基、3−メ
チル−2−ぺンテニル基、1−ぺンテニル基、1−ヘキ
セニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセ
ニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラル
キル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチ
ル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジ
メチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数
5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘ
キシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロぺ
ンチルエチル基等)又は炭素数6〜12の置換されても
よい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリ
ル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニ
ル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メト
キシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニ
ル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジ
クロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル
基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、エトキシカルボキシフェニル基、ブトキシカルボニ
ルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミ
ドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)が挙
げられる。
R 12 represents a hydrocarbon group. b 1 and b
2's may be the same as or different from each other and have the same contents as a 1 and a 2 in the formula (I). 〕here,
Z 3 is not only a hydrogen atom but also a preferable hydrocarbon group,
An optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2 -Chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-
Methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group,
3-bromopropyl group, etc.), an alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms which may be substituted (eg, 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-). A pentenyl group, a 1-pentenyl group, a 1-hexenyl group, a 2-hexenyl group, a 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, a benzyl group, Phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), carbon Number 5 to 8 alicyclic group which may be substituted (eg, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc. Or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, Ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarboxyphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, A propioamidophenyl group, a dodecyloylamidophenyl group, etc.).

【0156】X1 が−C6 4 −を表わす場合、ベンゼ
ン環は置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲ
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
クロロメチル基、メトキシメチル基等)、アルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブ
トキシ基等)等が挙げられる。
[0156] X 1 is -C 6 H 4 - may represent a benzene ring may have a substituent. As the substituent, a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group,
Chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.) and the like.

【0157】R12は、炭化水素基を表わし、好ましい炭
化水素基としては、炭素数1〜22の置換されてもよい
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチ
ル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−
メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、
3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換され
てもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロ
ペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メ
チル−2−ぺンテニル基、1−ぺンテニル基、1−ヘキ
セニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセ
ニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラル
キル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチ
ル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジ
メチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数
5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘ
キシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロぺ
ンチルエチル基等)、炭素数6〜12の置換されてもよ
い芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル
基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル
基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル
基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジク
ロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル
基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニ
ルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミ
ドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)が挙
げられる。
R 12 represents a hydrocarbon group, and a preferable hydrocarbon group is an optionally substituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group). , Hexyl group, octyl group,
Decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-
Methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group,
3-bromopropyl group, etc.), an alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-perenyl group). Ntenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), and optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg, benzyl group, phenethyl group). Group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), carbon number 5 to 8 optionally substituted alicyclic groups (eg, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc. An optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, Ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, A propioamidophenyl group, a dodecyloylamidophenyl group, etc.).

【0158】更に好ましくは、一般式(XII)におい
て、X1 は−COO−、−OCO−、−CH2 OCO
−、−CH2 COO−、−O−、−CONH−、−SO
2 NH−又は−C6 4 −を表す。更には、式(XI
I)に示される重合体成分とともに該Aブロック中に含
有され得る重合体成分として、該式(XII)の重合体
成分と共重合しうる他の繰り返し単位に相当する単量
体、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、複
素環ビニル類(例えばビニルピリジン、ビニルイミダゾ
ール、ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、ビニルピ
ラゾール、ビニルジオキサン、ビニルオキサジン等)等
が挙げられる。これら他の単量体はAブロックの全重合
体成分100重量部中20重量部を超えない範囲で用い
られる。
More preferably, in the general formula (XII), X 1 is --COO--, --OCO--, --CH 2 OCO.
-, - CH 2 COO -, - O -, - CONH -, - SO
2 NH- or -C 6 H 4 - represents a. Furthermore, the formula (XI
As the polymer component that can be contained in the A block together with the polymer component represented by I), a monomer corresponding to another repeating unit copolymerizable with the polymer component of the formula (XII), for example, acrylonitrile, Examples thereof include methacrylonitrile and heterocyclic vinyls (for example, vinyl pyridine, vinyl imidazole, vinyl pyrrolidone, vinyl thiophene, vinyl pyrazole, vinyl dioxane, vinyl oxazine, etc.). These other monomers are used within a range not exceeding 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total polymer component of the A block.

【0159】次にスタ−型共重合体の高分子鎖を構成す
るブロックBについて詳述する。ブロックBを構成する
極性基含有成分について説明する。該極性基は、−PO
3 2 基、−SO3 H基、−COOH基、−P(=O)
(OH)R1 基及び環状酸無水物含有基から少なくとも
1種選ばれるものである。ここで、−P(=O)(OH)
1 は、下記(化44)で表わされる基を示し、ここに
おいて該R1 は炭化水素基又は−OR2 基(R2 は炭化
水素基を表す)を表し、具体的にはR1 は炭素数1〜6
の置換されていてもよい炭化水素基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、2−クロロエチル
基、2−ブロムエチル基、2−フロロエチル基、3−ク
ロロプロピル基、3−メトキシプロピル基、2−メトキ
シブチル基、ベンジル基、フェニル基、プロペニル基、
メトキシメチル基、エトキシメチル基、2−エトキシエ
チル基)等であり、R2 はR1と同一の内容を表す。
Next, the block B constituting the polymer chain of the star type copolymer will be described in detail. The polar group-containing component forming the block B will be described. The polar group is -PO
3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH group, -P (= O)
At least one selected from the group (OH) R 1 and the group containing a cyclic acid anhydride. Where -P (= O) (OH)
R 1 represents a group represented by the following (Formula 44), wherein R 1 represents a hydrocarbon group or an —OR 2 group (R 2 represents a hydrocarbon group), and specifically R 1 is 1 to 6 carbon atoms
An optionally substituted hydrocarbon group (for example, a methyl group,
Ethyl group, propyl group, butyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-fluoroethyl group, 3-chloropropyl group, 3-methoxypropyl group, 2-methoxybutyl group, benzyl group, phenyl group, propenyl group ,
Methoxymethyl group, ethoxymethyl group, 2-ethoxyethyl group) and the like, and R 2 has the same content as R 1 .

【0160】[0160]

【化44】 [Chemical 44]

【0161】また、環状酸無水物含有基とは、少なくと
も1つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。脂肪族ジカルボ
ン酸無水物の例としては、コハク酸無水物、、グルタコ
ン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シクロぺンタン−
1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキサン−1,
2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキセン−1,2−
ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシクロ〔2.2.
2〕オクタジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これら
の環は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、
メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキ
ル基等が置換されていてもよい。
The cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and the cyclic acid anhydride to be contained is an aliphatic dicarboxylic acid anhydride or an aromatic dicarboxylic acid anhydride. Things can be mentioned. Examples of aliphatic dicarboxylic acid anhydrides include succinic anhydride, glutaconic anhydride ring, maleic anhydride ring, cyclopentane-
1,2-dicarboxylic acid anhydride ring, cyclohexane-1,
2-dicarboxylic acid anhydride ring, cyclohexene-1,2-
Dicarboxylic acid anhydride ring, 2,3-bicyclo [2.2.
2] octadicarboxylic acid anhydride rings and the like, and these rings include, for example, halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom,
An alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a butyl group and a hexyl group may be substituted.

【0162】また、芳香族ジカルボン酸無水物の例とし
ては、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無
水物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン
−ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、
例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、
ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカル
ボニル基(アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、
エトキシ基等)等が置換されていてもよい。
Examples of aromatic dicarboxylic acid anhydrides include phthalic anhydride ring, naphthalene-dicarboxylic acid anhydride ring, pyridine-dicarboxylic acid anhydride ring, thiophene-dicarboxylic acid anhydride ring, and the like. These rings are
For example, chlorine atom, halogen atom such as bromine atom, methyl group, ethyl group, propyl group, alkyl group such as butyl group,
Hydroxyl group, cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group (as the alkoxy group, for example, methoxy group,
Ethoxy group etc.) may be substituted.

【0163】樹脂〔B〕における極性基を含有する共重
合成分は、例えば一般式(I)〔一般式(Ia)、(I
b)も含む〕で示される繰り返し単位に相当する単量体
と共重合し得る該極性基を含有するビニル系化合物であ
ればいずれでもよく、例えば、高分子学会編「高分子デ
ータ・ハンドブック〔基礎編〕」培風館(1986年
刊)等に記載されている。具体的には、アクリル酸、α
及び/又はβ置換アクリル酸(例えばα−アセトキシ
体、α−アセトキシメチル体、α−(2−アミノ)メチ
ル体、α−クロロ体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α
−トリブチルシリル体、α−シアノ体、β−クロロ体、
β−ブロモ体、α−クロロ−β−メトキシ体、α,β−
ジクロロ体等)、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン
酸半エステル類、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、
2−アルケニルカルボン酸類(例えば2−ペンテン酸、
2−メチル−2−ヘキセン酸、2−オクテン酸、4−メ
チル−2−ヘキセン酸、4−エチル−2−オクテン酸
等)、マレイン酸、マレイン酸半エステル類、マレイン
酸半アミド類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベン
ゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン
酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル基の半エステ
ル誘導体及びこれらのカルボン又はスルホン酸のエステ
ル誘導体、アミド誘導体の置換基中に該極性基を含有す
る化合物等が挙げられる。
The copolymerizable component containing a polar group in the resin [B] is, for example, one represented by the general formula (I) [the general formula (Ia) or (I
b)], any vinyl compound containing the polar group that can be copolymerized with the monomer corresponding to the repeating unit represented by the formula (1) can be used. Basic edition] ”is described in Baifukan (published in 1986) and the like. Specifically, acrylic acid, α
And / or β-substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α- (2-amino) methyl form, α-chloro form, α-bromo form, α-fluoro form, α
-Tributylsilyl body, α-cyano body, β-chloro body,
β-bromo form, α-chloro-β-methoxy form, α, β-
Dichloro form, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half-esters, itaconic acid half-amides, crotonic acid,
2-alkenylcarboxylic acids (eg, 2-pentenoic acid,
2-Methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinyl Benzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, half-ester derivative of vinyl group or allyl group of dicarboxylic acids, and ester groups of these carboxylic or sulfonic acids, and polar groups in the substituents of amide derivatives And the like.

【0164】以下に極性基含有の共重合成分について例
示する。ここで、d1 はH又はCH3 を示し、d2
H、CH3 又はCHCOOCH3 を示し、R22は炭素数
1〜4のアルキル基を示し、R23は炭素数1〜6のアル
キル基、ベンジル基又はフェニル基を示し、fは1〜3
の整数を示し、gは2〜11の整数を示し、hは1〜1
1の整数を示し、iは2〜4の整数を示し、jは2〜1
0の整数を示す。
Examples of the polar group-containing copolymer component are shown below. Here, d 1 represents H or CH 3, d 2 represents H, CH 3 or CHCOOCH 3, R 22 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 23 is alkyl of 1 to 6 carbon atoms Group, benzyl group or phenyl group, f is 1 to 3
Is an integer, g is an integer of 2 to 11, and h is 1 to 1.
1 represents an integer, i represents an integer of 2 to 4, and j represents 2-1.
Indicates an integer of 0.

【0165】[0165]

【化45】 [Chemical formula 45]

【0166】[0166]

【化46】 [Chemical formula 46]

【0167】[0167]

【化47】 [Chemical 47]

【0168】[0168]

【化48】 [Chemical 48]

【0169】[0169]

【化49】 [Chemical 49]

【0170】[0170]

【化50】 [Chemical 50]

【0171】[0171]

【化51】 [Chemical 51]

【0172】[0172]

【化52】 [Chemical 52]

【0173】[0173]

【化53】 [Chemical 53]

【0174】[0174]

【化54】 [Chemical 54]

【0175】[0175]

【化55】 [Chemical 55]

【0176】上記の如き特定の極性基を含有する重合成
分は該Bブロック中に2種以上含有されていてもよく、
その場合における該2種以上の極性基含有成分は該Bブ
ロック中においてランダム共重合又はブロック共重合の
いずれの態様で含有されていてもよい。また、上記極性
基含有の重合体成分以外の重合体成分をBブロック中に
含有していてもよく、かかる重合体成分としては好まし
くは前記一般式(I)及び(XII)の繰り返し単位に相
当する重合体成分が挙げられる。更にこれら以外の他の
単量体を共重合成分として含有してもよい。
Two or more kinds of the above-mentioned polymerization component containing a specific polar group may be contained in the B block,
In that case, the two or more kinds of polar group-containing components may be contained in the B block in any mode of random copolymerization or block copolymerization. Further, a polymer component other than the polar group-containing polymer component may be contained in the B block, and such a polymer component preferably corresponds to the repeating unit of the general formulas (I) and (XII). A polymer component to be used. Further, a monomer other than these may be contained as a copolymerization component.

【0177】このような他の共重合成分としては、例え
ば一般式(I)で説明した以外の置換基を含有するメタ
クリル酸エステル類、アクリル酸エステル類、クロトン
酸エステル類に加え、α−オレフィン類、カルボン酸ビ
ニル又はアリル酸エステル類(例えばカルボン酸とし
て、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナ
フタレンカルボン酸等)、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、ビニルエーテル類、イタコン酸エステル類
(例えばジメチルエステル、ジエチルエステル等)、ア
クリルアミド類、メタクリルアミド類、スチレン類(例
えばスチレン、ビニルトルエン、クロロスチレン、ヒド
ロキシスチレン、N,N−ジメチルアミノメチルスチレ
ン、メトキシカルボニルスチレン、メタンスルホニルオ
キシスチレン、ビニルナフタレン等)、ビニルスルホン
含有化合物、ビニルケトン含有化合物、複素環ビニル類
(例えばビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイ
ミダゾール、ビニルチオフェン、ビニルイミダゾリン、
ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルキノリ
ン、ビニルテトラゾール、ビニルオキサジン等)等が挙
げられる。
Examples of such other copolymerization component include, in addition to the methacrylic acid esters, acrylic acid esters and crotonic acid esters containing a substituent other than those described in the general formula (I), α-olefins. , Vinyl carboxylates or allyl esters (for example, as carboxylic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, benzoic acid, naphthalenecarboxylic acid, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, itaconic acid esters (for example, Dimethyl ester, diethyl ester, etc., acrylamides, methacrylamides, styrenes (for example, styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, hydroxystyrene, N, N-dimethylaminomethylstyrene, methoxycarbonylstyrene, methanesulfonyloxystyrene, vinyl chloride) Naphthalene), vinyl sulfone-containing compounds, vinyl ketones containing compounds, heterocyclic vinyl compounds (e.g., vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylthiophene, vinylimidazoline,
Vinylpyrazole, vinyldioxane, vinylquinoline, vinyltetrazole, vinyloxazine, etc.) and the like.

【0178】一方、本発明に従う、高分子鎖を少なくと
も3個以上結合してなる有機分子としては、該分子の分
子量が1000以下のものであれば特に限定されるもの
ではない。例を挙げれば、下記(化56)等の3価の炭
化水素残基が挙げられる。
On the other hand, the organic molecule according to the present invention, which is formed by binding at least three polymer chains, is not particularly limited as long as the molecular weight of the molecule is 1,000 or less. For example, a trivalent hydrocarbon residue such as the following (formula 56) may be mentioned.

【0179】[0179]

【化56】 [Chemical 56]

【0180】〔ここで、r1 〜r4 はそれぞれ水素原子
又は炭化水素基を表す。但し、r1 及びr2 又はr3
4 のうちの少なくとも1つは高分子鎖に連結する。〕
これらの有機残基は、単独又はこれらの任意の組合せの
構成からなり、組合せの場合は、−O−、−S−、−N
(r5 )−、−COO−、−CON(r5 )−、−SO
2 −、−SO2 N(r5 )−{ここでr5 はそれぞれ水
素原子又は炭化水素基を表す}、−NHCOO−、−N
HCONH−、酸素原子、イオウ原子、窒素原子等のヘ
テロ原子含有の複素環(例えばチオフェン環、ピリジン
環、ピラン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール
環、フラン環、ピペリジン環、ピラジン環、ピロール
環、ピペラジン環等)等の結合単位の組合せを含んでい
てもよい。
[Here, r 1 to r 4 each represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group. However, r 1 and r 2 or r 3 ~
At least one of r 4 is linked to the polymer chain. ]
These organic residues are composed of one or any combination thereof, and in the case of a combination, -O-, -S-, -N.
(R 5) -, - COO -, - CON (r 5) -, - SO
2 -, - SO 2 N ( r 5) - { wherein r 5 each represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group}, - NHCOO -, - N
HCONH-, heterocycles containing heteroatoms such as oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom (for example, thiophene ring, pyridine ring, pyran ring, imidazole ring, benzimidazole ring, furan ring, piperidine ring, pyrazine ring, pyrrole ring, piperazine A ring or the like) may be included in the binding unit.

【0181】他の該高分子鎖を結合する有機分子の例と
しては、下記(化57)又は(化58)と上記結合単位
との組合せから構成されるものが挙げられる。しかしな
がら、本発明に従う有機分子の具体例としては、これら
に限定されるものではない。
As another example of the organic molecule which bonds the polymer chain, there is a compound composed of the following (Chemical Formula 57) or (Chemical Formula 58) and the above-mentioned bonding unit. However, specific examples of the organic molecule according to the present invention are not limited to these.

【0182】[0182]

【化57】 [Chemical 57]

【0183】[0183]

【化58】 [Chemical 58]

【0184】本発明のスター型共重合体は、従来公知の
極性基含有で且つ重合性二重結合基をもつ単量体のスタ
ー型ポリマーの合成法を利用して合成することができ
る。例えばその一つとしてカルバニオンを開始剤とする
重合反応が挙げられる。具体的には、M.Morto
n、T.E.Helminiak etal、J.Po
lym.Sci.、57、471(1962)、B.G
ordonIII、M.Blumenthal、J.
E.Loftus、etal、Polym.Bul
l.、11、349(1984)、R.B.Bate
s、W.A.Beavers、etal、J.Org.
Chem.、44、3800(1979)に記載の方法
に従って合成できる。
The star-type copolymer of the present invention can be synthesized by utilizing a conventionally known method for synthesizing a star-type polymer of a monomer containing a polar group and having a polymerizable double bond group. For example, one of them is a polymerization reaction using a carbanion as an initiator. Specifically, M. Morto
n, T. E. Helminiak et al. Po
lym. Sci. 57, 471 (1962), B.I. G
ordon III, M.I. Blumenthal, J. et al.
E. Loftus, et al, Polym. Bul
l. 11, 349 (1984), R.M. B. Bate
S.W. A. Beavers, et al. Org.
Chem. , 44, 3800 (1979).

【0185】但し、本反応を用いる際には、本発明の
「特定の極性基」は、保護した官能基として用いて重合
させた後、保護基の脱離を行う。これらの、本発明の特
定の極性基の保護基による保護及びその保護基の脱離
(脱保護反応)については、従来公知の知見を利用して
容易に行なうことができる。例えば前記引用文献にも種
々記載されており、更には、岩倉義男、栗田恵輔、「反
応性高分子」(株)講談社刊(1977年)、T.W.
Greene、「Protective Groups
in Organic Synthesis」,Jo
hn Wiley & Sons(1981年)、J.
F.W.McOmie、「Protective Gr
oups in Organic Chemistr
y」Plenum Press、(1973年)等の総
説に詳細に記載されている方法を適宜選択して行なうこ
とができる。
However, when this reaction is used, the "specific polar group" of the present invention is used as a protected functional group to polymerize, and then the protective group is eliminated. The protection of the specific polar group of the invention with a protecting group and the elimination of the protecting group (deprotection reaction) can be easily carried out by utilizing the conventionally known knowledge. For example, various references are given in the above cited document, and further, Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita, "Reactive Polymer" Kodansha Co., Ltd. (1977), T.S. W.
Greene, "Protective Groups
in Organic Synthesis ”, Jo
hn Wiley & Sons (1981), J. Am.
F. W. McOmie, "Protective Gr
oops in Organic Chemistr
The method described in detail in the review article such as "y" Plenum Press, (1973) and the like can be appropriately selected and performed.

【0186】他の方法としては、本発明の特定の極性基
を保護しないままの単量体を用い、ジシオカーバメント
基を含有する化合物及び/又はザンテート基を含有する
化合物を開始剤として、光照射下に重合反応を行なって
合成することもできる。例えば、大津隆行、高分子、
,248(1988)、檜森俊一、大津隆一、Pol
ym.Rep.Jap.37.3508(1988)、
特開昭64−111号、特開昭64−26619号、東
信行等、Polymer Preprints、Jap
an、36、(6)、1511(1987)、M.Ni
wa、N.Higashi、etal、J.Macro
mol.Sci.Chem.A24(5)、567(1
987)等に記載の合成方法に従って合成することがで
きる。
As another method, a monomer of the present invention which does not protect a specific polar group is used, and a compound containing a dithiocarbament group and / or a compound containing a xanthate group is used as an initiator. It can also be synthesized by performing a polymerization reaction under light irradiation. For example, Takayuki Otsu, Polymer, 3
7 , 248 (1988), Shunichi Hinomori, Ryuichi Otsu, Pol
ym. Rep. Jap. 37 . 3508 (1988),
JP-A-64-111, JP-A-64-26619, Nobuyuki Higashi, Polymer Preprints, Japan
an, 36 , (6), 1511 (1987), M.A. Ni
wa, N.W. Higashi, et al. Macro
mol. Sci. Chem. A24 (5), 567 (1
987) and the like.

【0187】本発明の樹脂〔B〕の重量平均分子量の調
整は、重合反応において従来公知の如く、重合に用いる
全単量体総量と各種重合開始剤量との使用割合あるいは
重合温度等によって容易に調整することができる。具体
的には、用いる単量体の種類及び開始剤の種類によって
任意に合成できるものである。
The weight average molecular weight of the resin [B] of the present invention can be easily adjusted by the ratio of the total amount of all monomers used in the polymerization and the amount of various polymerization initiators, the polymerization temperature, etc., as conventionally known in the polymerization reaction. Can be adjusted to. Specifically, it can be arbitrarily synthesized depending on the type of monomer used and the type of initiator.

【0188】本発明の樹脂〔B〕を有する光導電層は、
前記表面層と同様に高次構造を形成していてもよい。光
導電層における高次構造は、前記表面層と同様の架橋剤
及び架橋方法により形成することができる。本発明の表
面層を有する平版印刷用原版は、光導電層塗布後、表面
層を塗布するものであり、このため光導電層が架橋され
ていると、表面層の塗布溶媒に対する光導電層の耐溶剤
性が充分に発揮される。
The photoconductive layer containing the resin [B] of the present invention is
A higher order structure may be formed similarly to the surface layer. The higher order structure in the photoconductive layer can be formed by the same crosslinking agent and crosslinking method as those for the surface layer. The lithographic printing plate precursor having a surface layer of the present invention is one in which the surface layer is applied after coating the photoconductive layer. Therefore, when the photoconductive layer is cross-linked, the photoconductive layer of the surface layer with respect to the coating solvent is Sufficient solvent resistance is exhibited.

【0189】本発明の光導電層に供せられる樹脂〔B〕
の使用割合は、好ましくは、光導電層に用いる全結着樹
脂100重量部に対して、組み合わせて用いる樹脂
〔B〕の割合は、5〜40重量部であり、より好ましく
は、10〜30重量部である。
Resin for use in the photoconductive layer of the present invention [B]
The ratio of the resin [B] used in combination is preferably 5 to 40 parts by weight, more preferably 10 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total binder resin used in the photoconductive layer. Parts by weight.

【0190】樹脂〔B〕の割合が5重量部以下だと、静
電特性の向上効果が薄れてしまい、他方40重量部を越
えると感光体の膜強度が低下してしまう。
If the proportion of the resin [B] is 5 parts by weight or less, the effect of improving the electrostatic characteristics is diminished, while if it exceeds 40 parts by weight, the film strength of the photoreceptor is lowered.

【0191】結着樹脂〔B〕と組合せ得る結合剤として
は、従来知られている全てのものが利用できる。代表的
なものは塩化ビニル−酢酸ビニル共重合物、スチレン−
ブタジエン共重合物、スチレン−ブチルメタクリレート
共重合物、ポリメタクリレート、ポリアクリレート、ポ
リ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、アルキッド樹
脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、エポキシエステル
樹脂、ポリエステル樹脂等である。また、水性のアクリ
ルエマルジョン、アクリルエステルエマルジョンと組合
わせることも可能である。
As the binder that can be combined with the binder resin [B], all conventionally known binders can be used. Typical examples are vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, styrene-
Examples thereof include butadiene copolymer, styrene-butyl methacrylate copolymer, polymethacrylate, polyacrylate, polyvinyl acetate, polyvinyl butyral, alkyd resin, silicone resin, epoxy resin, epoxy ester resin, polyester resin and the like. It is also possible to combine with an aqueous acrylic emulsion or acrylic ester emulsion.

【0192】結合剤として有用な特定の重合体物質の例
については、リサーチ・ディスクロージャー(Research
Disclosure)、109 巻、61−67頁の「電子写真要素、材
料および方法」という題名の下に記載されている。一般
に、本発明に用いられる光導電性組成物に存在させる結
合剤の量は変更可能である。代表的には結合剤の有用な
量は、光導電性材料と結合剤の混合物の全量に対して、
約10ないし約90重量%の範囲内である。
For examples of specific polymeric materials useful as binders, see Research Disclosure (Research
Disclosure), 109, pages 61-67, under the title "Electrophotographic Elements, Materials and Methods". Generally, the amount of binder present in the photoconductive composition used in the present invention can be varied. Typically, a useful amount of binder is based on the total amount of mixture of photoconductive material and binder.
It is in the range of about 10 to about 90% by weight.

【0193】本発明に用いられる電子写真感光層(光導
電層)には、無機の光導電性化合物、有機の光導電性化
合物を問わず、あらゆる光導電性物質が使用できる。無
機光導電性物質としては、例えば、酸化亜鉛、酸化チタ
ン、硫化亜鉛、セレン、セレン合金、硫化カドミウム、
セレン化カドミウム、シリコンなどがあげられ、これら
は結着性樹脂とともに光導電層を形成してもよいし、ま
た、蒸着あるいはスパッタリング等により単独で光導電
層を形成してもよい。有機の光導電性物質としては、例
えば高分子のものでは、以下の(1)〜(5)のものを
挙げることができる。 (1) 特公昭34-10966号公報記載のポリビニルカルバ
ゾールおよびその誘導体、(2) 特公昭43-18674号公
報、特公昭43-19192号公報記載のポリビニルピレン、ポ
リビニルアントラセン、ポリ−2−ビニル−4−(4’
−ジメチルアミノフェニル)−5−フェニル−オキサゾ
ール、ポリ−3−ビニル−N−エチルカルバゾールなど
のビニル重合体、(3) 特公昭43-19193号公報記載の
ポリアセナフチレン、ポリインデン、アセナフチレンと
スチレンの共重合体などのような重合体、(4) 特公
昭56-13940号公報などに記載のピレン−ホルムアルデヒ
ド樹脂、ブロムピレン−ホルムアルデヒド樹脂、エチル
カルバゾール−ホルムアルデヒド樹脂などの縮合樹脂、
(5) 特開昭56-90833号、同56-161550 号公報に記載
された各種のトリフェニルメタンポリマー。
For the electrophotographic photosensitive layer (photoconductive layer) used in the present invention, any photoconductive substance can be used regardless of whether it is an inorganic photoconductive compound or an organic photoconductive compound. As the inorganic photoconductive substance, for example, zinc oxide, titanium oxide, zinc sulfide, selenium, selenium alloy, cadmium sulfide,
Examples thereof include cadmium selenide and silicon, and these may form a photoconductive layer together with a binder resin, or may be independently formed by vapor deposition or sputtering. As the organic photoconductive substance, for example, in the case of polymer, the following (1) to (5) can be mentioned. (1) Polyvinylcarbazole and its derivatives described in JP-B-34-10966, (2) Polyvinylpyrene, polyvinylanthracene, and poly-2-vinyl- described in JP-B-43-18674 and JP-B-43-19192 4- (4 '
-Dimethylaminophenyl) -5-phenyl-oxazole, vinyl polymers such as poly-3-vinyl-N-ethylcarbazole, (3) Polyacenaphthylene, polyindene, acenaphthylene and styrene described in JP-B-43-19193. (4) Condensation resins such as pyrene-formaldehyde resin, bromopyrene-formaldehyde resin, ethylcarbazole-formaldehyde resin described in JP-B-56-13940.
(5) Various triphenylmethane polymers described in JP-A-56-90833 and JP-A-56-161550.

【0194】また低分子のものでは例えば以下の(6)
〜(18)のものを挙げることができる。 (6) 米国特許第3112197 号明細書などに記載されて
いるトリアゾール誘導体、(7) 米国特許第3189447
号明細書などに記載されているオキサジアゾール誘導
体、(8) 特公昭37-16096号公報などに記載されてい
るイミダゾール誘導体、(9) 米国特許第3615402
号、同第3820989 号、同3542544 号、特公昭45-555号、
特公昭51-10983号、特開昭51-93224号、特開昭55-17105
号、特開昭56-4148号、特開昭55-108667 号、特開昭55-
156953 号、特開昭56-36656号明細書、公報などに記載
のポリアリールアルカン誘導体、(10)米国特許第31
80729 号、同第4278746 号、特開昭55-88064号、特開昭
55-88065号、特開昭49-105537 号、特開昭55-51086号、
特開昭56-80051号、特開昭56-88141号、特開昭57-45545
号、特開昭54-112637 号、特開昭55-74546号明細書、公
報などに記載されているピラゾリン誘導体およびピラゾ
ロン誘導体、(11)米国特許第3615404 号明細書、特
公昭51-10105号、特開昭54-83435号、特開昭54-110836
号、特開昭54-119925 号、特公昭46-3712 号、特公昭47
-28336号明細書、公報などに記載されているフェニレン
ジアミン誘導体、(12)米国特許第3567450 号、特公
昭49-35702号、西独国特許(DAS)1110518 号、米国
特許第3180703 号、米国特許第3240597 号、米国特許第
3658520 号、米国特許第4232103 号、米国特 許第4175
961 号、米国特許第4012376 号、特開昭55-144250 号、
特開昭56-119132 号、特公昭39-27577号、特開昭56-224
37号明細書、公報などに記載されているアリールアミン
誘導体、(13)米国特許第3526501 号明細書記載のア
ミノ置 換カルコン誘導体、(14)米国特許第354254
6 号明細書などに記載のN,N−ビカルバジル誘導体、
(15)米国特許第3257203 号明細書などに記載のオキ
サゾール誘導体、(16)特開昭56-46234号公報などに
記載のスチリルアントラセン誘導体、(17)特開昭54
-110837 号公報などに記載されているフルオレノン誘導
体、(18)米国特許第3717462 号、特開昭54-59143
号、特開昭55-52063号、特開昭55-52064号、特開昭55-4
6760号、特開昭55-85495号、特開昭57-11350号、特開昭
57-148749 号各明細書、公報などに開示されているヒド
ラゾン誘導体。
For low molecular weight compounds, for example, the following (6)
(18) can be mentioned. (6) Triazole derivatives described in US Pat. No. 3,112,197, etc. (7) US Pat. No. 3,189,447
Oxadiazole derivatives described in JP-B No. 3615402, (8) Imidazole derivatives described in JP-B-37-16096, and (9) US Pat. No. 3615402.
No. 3820989, No. 3542544, Japanese Patent Publication No. 45-555,
JP-B-51-10983, JP-A-51-93224, JP-A-55-17105
JP-A-56-4148, JP-A-55-108667, JP-A-55-
No. 156953, JP-A-56-36656, and the like, polyarylalkane derivatives described in (10) US Pat. No. 31.
80729, 4278746, JP-A-55-88064, JP-A
55-88065, JP-A-49-105537, JP-A-55-51086,
JP-A-56-80051, JP-A-56-88141, JP-A-57-45545
Nos. 54-112637, 55-74546, and the like, and pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives described in the gazette, (11) U.S. Pat. No. 3,615,404, Japanese Patent Publication No. 51-10105. , JP-A-54-83435, JP-A-54-110836
Japanese Patent Publication No. 54-119925, Japanese Patent Publication No. 46-3712, Japanese Patent Publication No. 47
-28336, the phenylenediamine derivatives described in gazettes, (12) U.S. Pat. No. 3567450, Japanese Patent Publication No. 49-35702, West German Patent (DAS) 1110518, U.S. Pat. No. 3180703, U.S. Pat. No. 3240597, U.S. Patent No.
3658520, U.S. Pat.No. 4,232,103, U.S. Patent No. 4175
961, U.S. Pat.No. 4012376, JP-A-55-144250,
JP-A-56-119132, JP-B-39-27577, JP-A-56-224
Nos. 37, 37, and the like, (13) amino-substituted chalcone derivatives described in US Pat. No. 3,526,501, and (14) US Pat. No. 354254.
N, N-bicarbazyl derivatives described in No. 6, etc.,
(15) Oxazole derivatives described in US Pat. No. 3,257,203 and the like, (16) Styrylanthracene derivatives described in JP-A-56-46234, and (17) JP-A-54.
Fluorenone derivatives described in JP-A-110837, (18) US Pat. No. 3717462, JP-A-54-59143
No. 55, JP-A-55-52063, JP-A-55-52064, JP-A-55-4
6760, JP-A-55-85495, JP-A-57-11350, JP-A-SHO
No. 57-148749 Hydrazone derivatives disclosed in their respective specifications and publications.

【0195】これらの光導電性物質は、場合により2種
類以上併用することもできる。これらの光導電性物質の
中では、ポリ−N−ビニルカルバゾール;トリ−p−ト
リルアミンおよびトリフェニルアミンなどの如きトリア
リールアミン;4,4'−ビス(ジエチルアミン)−2,2'−
ジメチルトリフェニルメタンなどの如きポリアリールメ
タン;および3−(4−ジメチルアミノフェニル)−1,
5-ジフェニル−2−ピラゾリンなどの如きピラゾリン誘
導体で代表される不飽和の複素環含有化合物等が好まし
く用いられる。
Two or more kinds of these photoconductive substances may be used in combination depending on the case. Among these photoconductive materials are poly-N-vinylcarbazole; triarylamines such as tri-p-tolylamine and triphenylamine; 4,4'-bis (diethylamine) -2,2'-
Polyarylmethanes such as dimethyltriphenylmethane; and 3- (4-dimethylaminophenyl) -1,
Unsaturated heterocycle-containing compounds represented by pyrazoline derivatives such as 5-diphenyl-2-pyrazoline are preferably used.

【0196】更に、分光増感剤として従来公知の化合物
を添加することができる。例えば、キサンテン系色素、
トリフェニルメタン系色素、アジン系色素、フタロシア
ニン系色素(含金属)、ポリメチン系色素等が挙げら
れ、具体的には、宮本晴視、武井秀彦編、「イメージン
グ」1973(No. 8), 2; C.J.You-ng, R.C.A Review 1
5, 469 (1954);清田航平等、電気通信学会論文誌 J63
-C (No. 2)、97(1980);原崎勇次等、工業化学雑誌、6
6、78及び188(1963);谷忠昭、日本写真学会誌、35、208
(1972); Rese-arch Disclosure,1982年 216, 117 〜118
;総合技術資料集「最近の光導電材料と感光体の開発
・実用化」日本科学情報(株)出版部刊(1986年)等の
総説引例の公知材料等があげられる。
Further, a conventionally known compound can be added as a spectral sensitizer. For example, xanthene dye,
Examples thereof include triphenylmethane-based dyes, azine-based dyes, phthalocyanine-based dyes (metal-containing), and polymethine-based dyes. Specifically, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei, “Imaging” 1973 (No. 8), 2 ; CJYou-ng, RCA Review 1
5, 469 (1954); Kohei Kiyota, Transactions of the Institute of Electrical Communication J63
-C (No. 2), 97 (1980); Yuji Harasaki et al., Journal of Industrial Chemistry, 6
6, 78 and 188 (1963); Tadaaki Tani, Journal of the Photographic Society of Japan, 35, 208.
(1972); Rese-arch Disclosure, 1982 216, 117-118
The publicly known materials and the like, which are referred to in general reviews, such as the collection of comprehensive technical data “Recent development and practical application of photoconductive materials and photoconductors” published by Nippon Kagaku Information Co., Ltd. (1986), are listed.

【0197】光導電層は、一層から形成されていてもよ
いが、二層以上の多層から形成されていてもよい。多層
である場合には、例えば、前記の無機光導電体またはフ
タロシアニン顔料、アゾ顔料などの有機顔料及び必要に
より加えられる結着性樹脂からなる電荷発生層と、前記
した高分子化合物や低分子化合物及び結着性樹脂からな
る電荷搬送層とを積層した、いわゆる機能分離型の光導
電性層の形態のものが考えられる。
The photoconductive layer may be formed of a single layer, or may be formed of two or more layers. In the case of a multi-layer, for example, the inorganic photoconductor or a phthalocyanine pigment, a charge generating layer composed of an organic pigment such as an azo pigment and a binder resin optionally added, and the above-mentioned polymer compound or low-molecular compound A so-called function-separated type photoconductive layer in which a charge transport layer made of a binder resin is laminated is considered.

【0198】本発明に用いられる光導電層は、通常用い
られる公知の支持体上に設けることができる。一般に言
って電子写真感光層の支持体は、導電性であることが好
ましく、導電性支持体としては従来と全く同様、例え
ば、金属、紙、プラスチックシート等の基体に低抵抗性
物質を含浸させるなどして導電処理したもの、基体の裏
面(感光層を設ける面と反対面)に導電性を付与し、更
にはカール防止を図る等の目的で少なくとも1層以上を
コートしたもの、前記支持体の表面に耐水性接着層を設
けたもの、前記支持体の表面層に必要に応じて少なくと
も1層以上のプレコート層が設けられたもの、Al等を蒸
着した基体化プラスチックを紙にラミネートしたもの等
が使用できる。
The photoconductive layer used in the present invention can be provided on a commonly used known support. Generally speaking, the support of the electrophotographic photosensitive layer is preferably conductive, and as the conductive support, the substrate such as metal, paper or plastic sheet is impregnated with a low resistance substance in the same manner as in the conventional case. Those which have been subjected to a conductive treatment by, for example, those which are coated with at least one layer for the purpose of imparting conductivity to the back surface of the substrate (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided), and for preventing curling, Having a water-resistant adhesive layer on its surface, at least one precoat layer being provided on the surface layer of the support as required, and a substrate plastic laminated with Al or the like laminated on paper Etc. can be used.

【0199】具体的に、導電性基体あるいは導電化材料
の例として、坂本幸男、「電子写真」14, (No. 1),
第2〜11頁(1975) ;森賀弘之「入門特殊紙の化学」高
分子刊行会(1975);M.F.Hoover, J.Mac-romol.Sci.Ch
em.,A−4(6)、第1327〜1417頁(1970)等に記載され
ているもの等を用いることができる。適当な支持体上の
光導電性組成物の塗布厚は、広く変えることができる。
普通は、約10ミクロンから約300 ミクロン(但し、乾燥
前)の範囲内で塗布することができる。乾燥前の塗布厚
の好ましい範囲は、約50ミクロンないし約150 ミクロン
の範囲内であることがわかった。しかし、この範囲をは
ずれても有益な結果を得ることができる。この塗布物を
乾燥させた場合の厚さは、約1ミクロンから約50ミクロ
ンの範囲内であればよい。
Specifically, as an example of the conductive substrate or the conductive material, Yukio Sakamoto, “Electrophotography” 14, (No. 1),
2-11 (1975); Hiroyuki Moriga "Introduction to Special Paper Chemistry" Polymer Publishing (1975); MF Hoover, J. Mac-romol. Sci. Ch
Those described in em., A-4 (6), pages 1327 to 1417 (1970) and the like can be used. The coating thickness of the photoconductive composition on a suitable support can vary widely.
Generally, it can be applied in the range of about 10 microns to about 300 microns, but before drying. It has been found that the preferred range of coating thickness before drying is in the range of about 50 microns to about 150 microns. However, even if it deviates from this range, a beneficial result can be obtained. The dried thickness of this coating may be in the range of about 1 micron to about 50 microns.

【0200】本発明の親水化可能な表面層の厚さは10μ
m以下であり、特にカールソンプロセス用としては0.1
〜5μmであることが好ましい。5μmより厚いと、平
版印刷用原版の電子写真用感光体としての感度の低下や
残留電位が高くなるといった不都合が生じ得る。実際に
本発明の平版印刷用原版を作るには、一般的に、まず常
法に従って導電性支持体上に電子写真感光層(光導電
層)を形成する。次いで、この層の上に、本発明の樹
脂、更には必要により前記した添加剤等を沸点が 200℃
以下の揮発性炭化水素溶剤に溶解又は分散し、これを塗
布・乾燥することによって製造することができる。用い
る有機溶剤としては、具体的にはとくにジクロロメタ
ン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、テトラクロロ
エタン、ジクロロプロパンまたはトリクロロエタンなど
の如き、炭素数1〜3のハロゲン化炭化水素が好まし
い。その他クロロベンゼン、トルエン、キシレンまたは
ベンゼンなどの如き芳香族炭化水素、アセトンまたは2
−ブタノン等の如きケトン類、テトラヒドロフランなど
の如きエーテルおよびメチレンクロリドなど、塗布用組
成物に用いられる各種の溶剤および上記溶剤の混合物も
使用可能である。
The thickness of the hydrophilizable surface layer of the present invention is 10 μm.
m or less, especially 0.1 for Carlson process
It is preferably ˜5 μm. If it is thicker than 5 μm, there may occur inconveniences such as a decrease in sensitivity of the lithographic printing original plate as an electrophotographic photoreceptor and an increase in residual potential. In order to actually make the lithographic printing plate precursor of the present invention, generally, an electrophotographic photosensitive layer (photoconductive layer) is first formed on a conductive support according to a conventional method. Next, on this layer, the resin of the present invention and, if necessary, the above-mentioned additives and the like have a boiling point of 200 ° C.
It can be produced by dissolving or dispersing in the following volatile hydrocarbon solvent, coating and drying it. As the organic solvent used, specifically, a halogenated hydrocarbon having 1 to 3 carbon atoms such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, tetrachloroethane, dichloropropane or trichloroethane is particularly preferable. Other aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, toluene, xylene or benzene, acetone or 2
It is also possible to use various solvents used in the coating composition and mixtures of the above solvents, such as ketones such as butanone, ethers such as tetrahydrofuran and methylene chloride.

【0201】以上の如くして得られた原版を、通常の電
子写真法に従って該原版上にトナー像を形成する。これ
を不感脂化処理液(例えば、酸性又はアルカリ性の水溶
液あるいは還元剤を溶解した水溶液など)で処理して非
画像部を親水性に変えることにより印刷版を得ることが
できる。このように、本発明における親水化可能層を用
いれば、従来公知のあらゆる電子写真感光体が、高品質
の平版印刷用原版として使用が可能となる。親水化可能
層は、親水処理後、高い親水性と耐水性が両立する皮膜
であり、また、トナー画像との接着性も極めて良好で、
したがって得られた平版印刷用原版は地汚れの発生が非
常に抑制されるとともに、高い耐刷性を有する。
A toner image is formed on the original plate obtained as described above according to a usual electrophotographic method. A printing plate can be obtained by treating this with a desensitizing treatment liquid (for example, an acidic or alkaline aqueous solution or an aqueous solution in which a reducing agent is dissolved) to change the non-image area to hydrophilic. As described above, by using the hydrophilizable layer in the invention, any conventionally known electrophotographic photoreceptor can be used as a high quality lithographic printing original plate. The hydrophilizable layer is a film that has both high hydrophilicity and water resistance after hydrophilic treatment, and also has very good adhesion to a toner image,
Therefore, the obtained lithographic printing plate precursor has extremely suppressed generation of background stain and has high printing durability.

【0202】さらに、本発明の印刷版は電子写真感光層
本来の感度をほとんどそのまま維持することができるの
で、従来の電子写真製版用の印刷原版に比べ飛躍的に高
感度な印刷原版が得られる。また、従来はひとつの層で
光導電性と親水化が可能であるという性質を持たねばな
らないため、酸化亜鉛など限られた材料しか使用できな
かったが、本発明の印刷原版では光導電層と親水化可能
層に機能が分離しているので、光導電層の選択の範囲が
広がり、したがって、たとえば長波長光領域に高感度な
材料を選択すれば、従来不可能であったHe−Neレーザー
や半導体レーザーにより書き込みが可能となる。
Further, since the printing plate of the present invention can maintain the original sensitivity of the electrophotographic photosensitive layer almost as it is, it is possible to obtain a printing plate plate having dramatically higher sensitivity than the conventional printing plate for electrophotographic plate making. . Further, conventionally, only one material such as zinc oxide can be used because it has to have the property that photoconductivity and hydrophilicity can be obtained in one layer, but in the printing original plate of the present invention, a photoconductive layer and Since the functions are separated in the hydrophilizable layer, the range of selection of the photoconductive layer is widened. Therefore, if a material having high sensitivity in the long-wavelength light region is selected, for example, a He-Ne laser which has been impossible in the past can be obtained. It becomes possible to write with a semiconductor laser.

【0203】本発明では、可視光の露光又は半導体レー
ザー光の露光等光源の種類によって必要に応じて各種の
色素を分光増感剤として併用することができる。例え
ば、宮本晴視,武井秀彦:イメージング1973(N
o.8)第12頁、C.J.Young等:RCA R
eview 15,469頁(1954年)、清田航平
等:電気通信学会論文誌,J63−C(No.2)、9
7頁(1980年)、原崎勇次等、工業化学雑誌,6
6,78及び188頁(1963年)、谷忠昭,日本写
真学会誌 35,208頁(1972年)等の総説引例
のカーボニウム系色素、ジフェニルメタン色素、トリフ
ェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレイン系色
素、ポリメチン色素(例えば、オキソノール色素、メロ
シアニン色素、シアニン色素、ロダシアニン色素、スチ
リル色素等)、フタロシアニン色素(金属を含有しても
よい)等が挙げられる。
In the present invention, various dyes can be used together as a spectral sensitizer depending on the kind of light source such as visible light exposure or semiconductor laser light exposure. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei: Imaging 1973 (N
o. 8) Page 12, C.I. J. Young et al .: RCA R
view 15, pp. 469 (1954), Kouhei Kiyota et al .: Transactions of the Institute of Electrical Communication, J63-C (No. 2), 9
7 pages (1980), Yuji Harazaki et al., Journal of Industrial Chemistry, 6
6,78 and 188 (1963), Tadaaki Tani, Journal of the Photographic Society of Japan, 35, 208 (1972), and other general references, carbonium dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, phthalein dyes. , Polymethine dyes (for example, oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes, etc.), phthalocyanine dyes (which may contain a metal), and the like.

【0204】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、フタレイ
ン系色素を中心に用いたものとしては、特公昭51−4
52、特開昭50−90334、同50−11422
7、同53−39130、同53−82353各号公
報、米国特許第3052540、同第4054450各
号明細書、特開昭57−16456号公報等に記載のも
のが挙げられる。
More specifically, those mainly containing carbonium type dyes, triphenylmethane type dyes, xanthene type dyes and phthalein type dyes are disclosed in Japanese Examined Patent Publication No. 51-4.
52, JP-A-50-90334, 50-11422.
7, JP-A-53-39130, JP-A-53-82353, US Pat. Nos. 3,052,540 and 4,054,450, and JP-A-57-16456.

【0205】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、F.M.Harmmer「The Cyanin
eDyes and Related Compoun
ds」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的
には、米国特許第3047384、同3110591、
同3121008、同3125447、同312817
9、同3132942、同3622317各号明細書、
英国特許第1226892、同1309274、同14
05898各号明細書、特公昭48−7814、同55
−18892各号公報等に記載の色素が挙げられる。
Examples of polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes and rhodacyanine dyes include F.I. M. Harmmer "The Cyanin
eDyes and Related Compound
The dyes described in "ds" and the like can be used, and more specifically, U.S. Pat. Nos. 3,047,384 and 3,110,591,
3121008, 3125447 and 312817
9, No. 3132942, No. 3622317,
British Patent Nos. 1226892, 1309274 and 14
No. 05898, Japanese Patent Publications Nos. 48-7814, 55
The dyes described in each publication of 18892 are mentioned.

【0206】更に、700nm以上の長波長の近赤外〜
赤外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭
47−840、同47−44180、特公昭51−41
061、同49−5034、同49−45122、同5
7−46245、同56−35141、同57−157
254、同61−26044、同61−27551各号
公報、米国特許第3619154、同4175956各
号明細書、「Research Disclosur
e」1982年、216,第117〜118頁等に記載
のものが挙げられる。
[0206] Furthermore, in the near-infrared region with a long wavelength of 700 nm or more,
As polymethine dyes for spectrally sensitizing infrared light, JP-A-47-840, JP-A-47-44180 and JP-B-51-41 are known.
061, ibid 49-5034, ibid 49-45122, ibid 5
7-46245, 56-351141, 57-157.
No. 254, No. 61-26044, No. 61-27551, U.S. Pat. Nos. 3,619,154 and 4,175,956, and "Research Disclosure".
e ”, 1982, 216, pp. 117-118.

【0207】本発明の感光体は、種々の増感色素を併用
させてもその性能が増感色素により変動しにくい点にお
いても優れている。更には、必要に応じて、従来知られ
ている種々の電子写真感光体用添加剤を併用することが
できる。これらの添加剤としては、電子写真感度を改良
するための化学増感剤、皮膜性を改良するための各種の
可塑剤、界面活性剤などが含まれる。
The photoconductor of the present invention is also excellent in that the performance thereof does not easily vary depending on the sensitizing dye even when various sensitizing dyes are used in combination. Furthermore, if necessary, various conventionally known additives for electrophotographic photoreceptors can be used in combination. These additives include chemical sensitizers for improving electrophotographic sensitivity, various plasticizers for improving film properties, surfactants and the like.

【0208】化学増感剤としては、例えばハロゲン、ベ
ンゾキノン、クロラニル、フルオラニル、ブロマニル、
ジニトロベンゼン、アントラキノン、2,5−ジクロロ
ベンゾキノン、ニトロフェノール、無水テトラクロルフ
タル酸、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノベンゾキ
ノン、ジニトロフルオレノン、トリニトロフルオレノ
ン、テトラシアノエチレン等の電子吸引性化合物、小門
宏等「最近の光導電材料と感光体の開発・実用化」第4
章〜第6章:日本科学情報(株)出版部(1986年)
の総説引例のポリアリールアルカン化合物、ヒンダート
フェノール化合物、p−フェニレンジアミン化合物等が
挙げられる。また、特開昭58−65439、同58−
102239、同58−129439、同62−719
65各号公報等に記載の化合物等も挙げることができ
る。
Examples of the chemical sensitizer include halogen, benzoquinone, chloranil, fluoranyl, bromanil,
Electron withdrawing compounds such as dinitrobenzene, anthraquinone, 2,5-dichlorobenzoquinone, nitrophenol, tetrachlorophthalic anhydride, 2,3-dichloro-5,6-dicyanobenzoquinone, dinitrofluorenone, trinitrofluorenone and tetracyanoethylene , Hiroshi Komon et al. "Recent Development and Practical Use of Photoconductive Materials and Photoconductors" No. 4
Chapter-Chapter 6: Japan Science Information Co., Ltd. Publishing Department (1986)
The polyarylalkane compound, the hindered phenol compound, the p-phenylenediamine compound, etc. Moreover, JP-A-58-65439 and 58-
102239, 58-129439, 62-719.
The compounds described in each of the 65 publications and the like can also be mentioned.

【0209】可塑剤としては、例えばジメチルフタレー
ト、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、トリ
フェニルフタレート、トリフェニルフォスフェート、ジ
イソブチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチル
セバケート、ラウリン酸ブチル、メチルフタリールエチ
ルグリコレート、ジメチルグリコールフタレートなどを
光導電層の可撓性を向上するために添加できる。これら
の可塑剤は光導電層の静電特性を劣化させない範囲で含
有させることができる。
Examples of the plasticizer include dimethyl phthalate, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, triphenyl phthalate, triphenyl phosphate, diisobutyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, butyl laurate, methylphthalyl ethyl glycolate, dimethyl. Glycol phthalate or the like can be added to improve the flexibility of the photoconductive layer. These plasticizers can be contained in a range that does not deteriorate the electrostatic properties of the photoconductive layer.

【0210】以上の如くして得られた本発明の平版印刷
用原版を用いた印刷版の作成は、公知の方法が適用で
き、上記した構成から成る電子写真用原版に常法により
複写画像を形成後、非画像部を不感脂化処理することで
作成される。即ち、暗所で実質的に一様に帯電し、画像
露光により静電潜像を形成する。露光方法としては、半
導体レーザー、He−Neレーザー等による走査露光あ
るいはキセノンランプ、タイグステンランプ、蛍光灯等
を光源として反射画像露光、透明陽画フィルムを通した
密着露光などが挙げられる。次に上記静電潜像をトナー
によって現像する。現像法としては従来公知の方法、例
えばカスケード現像、磁器ブラシ現像、パウダークラウ
ド現像、液体現像などの各種の方法を用いることができ
る。中でも液体現像は微細な画像を形成することが可能
であり、印刷版を作成するために好適である。形成され
たトナー画像は公知の定着法、例えば加熱定着、圧力定
着、溶剤定着等により定着することができる。
A known method can be applied to prepare a printing plate using the lithographic printing plate precursor of the present invention obtained as described above, and a copy image is formed on the electrophotographic plate having the above-mentioned structure by a conventional method. After formation, it is created by desensitizing the non-image area. That is, it is charged substantially uniformly in a dark place, and an electrostatic latent image is formed by imagewise exposure. Examples of the exposure method include scanning exposure with a semiconductor laser, He-Ne laser, or the like, reflection image exposure using a xenon lamp, Tigsten lamp, fluorescent lamp, or the like as a light source, contact exposure through a transparent positive film, and the like. Next, the electrostatic latent image is developed with toner. As the developing method, conventionally known methods, for example, various methods such as cascade development, porcelain brush development, powder cloud development and liquid development can be used. Among them, liquid development is capable of forming a fine image and is suitable for making a printing plate. The formed toner image can be fixed by a known fixing method such as heat fixing, pressure fixing, solvent fixing and the like.

【0211】このようにして形成されたトナー画像を有
する平版印刷用原版について、次に非画像部を不感脂化
処理することで印刷版が作成される。本発明に供される
不感脂化処理は、前記した保護された親水基が処理液に
より化学反応し、親水基を発現されるものである。具体
的には、塩基性の処理液が用いられ、好ましくはpH8
〜14の水溶性処理液であればいずれでもよい。
With respect to the lithographic printing original plate having the toner image thus formed, the non-image portion is subjected to a desensitizing treatment to prepare a printing plate. In the desensitizing treatment used in the present invention, the above-mentioned protected hydrophilic group chemically reacts with the treatment liquid to express the hydrophilic group. Specifically, a basic treatment liquid is used, preferably pH 8
Any of the water-soluble treatment liquids Nos. 14 to 14 may be used.

【0212】処理液を塩基性とする化合物としては、従
来公知の無機化合物あるいは有機化合物のいずれでもよ
く、例えば炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、ケイ酸カリウム、ケイ酸ナトリウム、有機アミン化
合物等いずれでもよく又単独あるいは混合して用いるこ
とができる。更には、親水化反応を迅速するために併用
する化合物として、パーソンPearson等の求核定
数n〔R.G.Pearson,H.Sobel,J.
Songstad,J.Amer.Chem.So
c.,90,319(1968)〕が5.5以上の値を
有する置換基を含有し、且つ蒸留水100重量部中に、
1重量部以上溶解する親水性化合物が挙げられる。
The compound that makes the treatment liquid basic may be any of conventionally known inorganic compounds and organic compounds, for example, carbonates, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium silicate, sodium silicate, organic amine compounds. Etc., and any of these may be used alone or in combination. Furthermore, as a compound used in combination to accelerate the hydrophilization reaction, the nucleophilic constant n [R. G. Pearson, H .; Sobel, J .;
Songstad, J.M. Amer. Chem. So
c. , 90, 319 (1968)] contains a substituent having a value of 5.5 or more, and in 100 parts by weight of distilled water,
A hydrophilic compound that dissolves in an amount of 1 part by weight or more can be used.

【0213】具体的な化合物としては、例えばヒドラジ
ン、ヒドロキシルアミン、亜硫酸塩(アンモニウム塩、
ナトリウム塩、カリウム塩、亜鉛塩等)、チオ硫酸塩等
が挙げられ、また、分子内にヒドロキシル基、カルボキ
シル基、スルホ基、ホスホノ基、アミノ基から選ばれた
少なくとも1つの極性基を含有するメルカプト化合物、
ヒドラジド化合物、スルフィン酸化合物、第1級アミン
化合物あるいは第2級アミン化合物等が挙げられる。
Specific compounds include, for example, hydrazine, hydroxylamine, sulfite (ammonium salt,
Sodium salt, potassium salt, zinc salt, etc.), thiosulfate salt, etc., and at least one polar group selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a sulfo group, a phosphono group, and an amino group in the molecule. Mercapto compounds,
Examples thereof include hydrazide compounds, sulfinic acid compounds, primary amine compounds, secondary amine compounds, and the like.

【0214】例えばメルカプト化合物として、2−メル
カプトエタノール、2−メルカプトエチルアミン、N−
メチル−2−メルカプトエチルアミン、N−(2−ヒド
ロキシエチル)2−メルカプトエチルアミン、チオグリ
コール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、メルカプト
ベンゼンカルボン酸、2−メルカプトエタンスルホン
酸、2−メルカプトエチルホスホン酸、メルカプトベン
ゼンスルホン酸、2−メルカプトプロピオニルアミノ酢
酸、2−メルカプト−1−アミノ酢酸、1−メルカプト
プロピオニルアミノ酢酸、1,2−ジメルカプトプロピ
オニルアミノ酢酸、2,3−ジヒドロキシプロピルメル
カプタン、2−メチル−2−メルカプト−1−アミノ酢
酸等を、スルフィン酸化合物として2−ヒドロキシエチ
ルスルフィン酸、3−ヒドロキシプロパンスルフィン
酸、4−ヒドロキシブタンスルフィン酸、カルボキシベ
ンゼンスルフィン酸、ジカルボキシベンゼンスルフィン
酸等を、ヒドラジド化合物として2−ヒドラジノエタノ
ールスルホン酸、4−ヒドラジノブタンスルホン酸、ヒ
ドラジノベンゼンスルホン酸、ヒドラジノベンゼンスル
ホン酸、ヒドラジノ安息香酸、ヒドラジノベンゼンジカ
ルボン酸等を、第1級あるいは第2級アミン化合物とし
て、例えばN−(2−ヒドロキシエチル)アミン、N,
N−ジ(2−ヒドロキシエチル)アミン、N,N−ジ
(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、トリ(2
−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、N−(2,3
−ジヒドロキシプロピル)アミン、N,N−ジ(2,3
−ジヒドロキシプロピル)アミン、2−アミノプロピオ
ン酸、アミノ安息香酸、アミノピリジン、アミノベンゼ
ンジカルボン酸、2−ヒドロキシエチルモルホリン、2
−カルボキシエチルモルホリン、3−カルボキシピペラ
ジン等を挙げることができる。
For example, as a mercapto compound, 2-mercaptoethanol, 2-mercaptoethylamine, N-
Methyl-2-mercaptoethylamine, N- (2-hydroxyethyl) 2-mercaptoethylamine, thioglycolic acid, thiomalic acid, thiosalicylic acid, mercaptobenzenecarboxylic acid, 2-mercaptoethanesulfonic acid, 2-mercaptoethylphosphonic acid, mercapto Benzenesulfonic acid, 2-mercaptopropionylaminoacetic acid, 2-mercapto-1-aminoacetic acid, 1-mercaptopropionylaminoacetic acid, 1,2-dimercaptopropionylaminoacetic acid, 2,3-dihydroxypropylmercaptan, 2-methyl-2 -Mercapto-1-aminoacetic acid or the like, as a sulfinic acid compound, 2-hydroxyethylsulfinic acid, 3-hydroxypropanesulfinic acid, 4-hydroxybutanesulfinic acid, carboxybenzenesulfinic acid, Carboxybenzenesulfinic acid and the like, 2-hydrazinoethanolsulfonic acid, 4-hydrazinobutanesulfonic acid, hydrazinobenzenesulfonic acid, hydrazinobenzenesulfonic acid, hydrazinobenzoic acid, hydrazinobenzenedicarboxylic acid and the like as hydrazide compounds, Examples of the primary or secondary amine compound include N- (2-hydroxyethyl) amine, N,
N-di (2-hydroxyethyl) amine, N, N-di (2-hydroxyethyl) ethylenediamine, tri (2
-Hydroxyethyl) ethylenediamine, N- (2,3
-Dihydroxypropyl) amine, N, N-di (2,3
-Dihydroxypropyl) amine, 2-aminopropionic acid, aminobenzoic acid, aminopyridine, aminobenzenedicarboxylic acid, 2-hydroxyethylmorpholine, 2
-Carboxyethyl morpholine, 3-carboxy piperazine etc. can be mentioned.

【0215】これら処理液中の求核性化合物の存在量は
0.05モル/リットル〜10モル/リットルで、好ま
しくは0.1モル/リットル〜5モル/リットルであ
る。また、処理液のpHは4以上が好ましい。処理の条
件は、温度15℃〜60℃で浸漬時間は10秒〜5分間
が好ましい。該処理液は、上記した求核性化合物及びp
H調整剤以外に、他の化合物を含有してもよい。例えば
水に可溶性の有機溶媒を、水100重量部中に1〜50
重量部含有してもよい。このような水に可溶性の有機溶
媒としては、例えばアルコール類(メタノール、エタノ
ール、プロパノール、プロパギルアルコール、ベンジル
アルコール、フェネチルアルコール等)、ケトン類(ア
セトン、メチルエチルケトン、アセトフェノン等)、エ
ーテル類(ジオキサン、トリオキサン、テトラヒドロフ
ラン、エチレングリコール、プロピレングリコール、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、テトラヒドロピラン等)ア
ミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、ギ酸エチ
ル等)等が挙げられ、これらは単独又は2種以上を混合
して用いてもよい。
The amount of the nucleophilic compound present in these treatment solutions is 0.05 mol / liter to 10 mol / liter, preferably 0.1 mol / liter to 5 mol / liter. Further, the pH of the treatment liquid is preferably 4 or more. The treatment conditions are preferably a temperature of 15 ° C. to 60 ° C. and an immersion time of 10 seconds to 5 minutes. The treatment liquid contains the above-mentioned nucleophilic compound and p
Other compounds may be contained in addition to the H regulator. For example, a water-soluble organic solvent is added in an amount of 1 to 50 parts by weight in 100 parts by weight of water.
You may contain a weight part. Examples of such water-soluble organic solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, propanol alcohol, benzyl alcohol, phenethyl alcohol, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, acetophenone, etc.), ethers (dioxane, Trioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol, propylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, tetrahydropyran, etc.) amides (dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, ethyl formate, etc.) These may be used alone or in admixture of two or more.

【0216】また、界面活性剤を水100重量部中に
0.1〜20重量部含有してもよい。界面活性剤として
は、従来公知のアニオン性、カチオン性あるいはノニオ
ン性の各界面活性剤が挙げられる。例えば、堀口博「新
界面活性剤」三共出版(株)、(1975年刊)、小田
良平、寺村一広「界面活性剤の合成とその応用」槇書店
(1980年刊)等に記載される化合物を用いることが
できる。
The surfactant may be contained in 100 parts by weight of water in an amount of 0.1 to 20 parts by weight. Examples of the surfactant include conventionally known anionic, cationic or nonionic surfactants. For example, compounds described in Hiroshi Horiguchi "New Surfactants" Sankyo Publishing Co., Ltd. (published in 1975), Ryohei Oda, Kazuhiro Teramura "Synthesis of Surfactants and Their Applications" Maki Shoten (published in 1980), etc. Can be used.

【0217】処理の条件は、温度15℃〜60℃で浸漬
時間は10秒〜5分間が好ましい。更に、該求核性化合
物含有の親水化処理は、印刷時の浸し水に該求核性化合
物を含有させて用いても同様の効果を得ることができ
る。
The treatment conditions are preferably a temperature of 15 ° C. to 60 ° C. and an immersion time of 10 seconds to 5 minutes. Further, the hydrophilic treatment containing the nucleophilic compound can obtain the same effect even when the immersing water at the time of printing is used by containing the nucleophilic compound.

【0218】[0218]

【実施例】以下に本発明の実施例を例示するが、本発明
の内容がこれらに限定されるものではない。 〔樹脂〔B〕の合成〕 樹脂〔B〕の合成例1:〔B−1〕 ベンジルメタクリレート47.5g、下記開始剤〔I−
1〕24.8g及びテトラヒドロフラン70gの混合物
を、窒素気流下に温度40℃とした。この溶液に400
Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガラスフィルター
を通して10時間光照射して光重合した。
EXAMPLES Examples of the present invention will be illustrated below, but the contents of the present invention are not limited thereto. [Synthesis of Resin [B]] Synthesis Example 1 of Resin [B]: [B-1] 47.5 g of benzyl methacrylate, the following initiator [I-
1] A mixture of 24.8 g and tetrahydrofuran 70 g was heated to a temperature of 40 ° C. under a nitrogen stream. 400 in this solution
Photopolymerization was performed by irradiating with a W high-pressure mercury lamp from a distance of 10 cm through a glass filter for 10 hours.

【0219】[0219]

【化59】 [Chemical 59]

【0220】次に、この重合物に、メタクリル酸2.5
g及びテトラヒドロフラン5gの混合溶液を加え、窒素
気流下、温度40℃で更に上記と同様にして光照射を1
0時間行なった。水/メタノール(2/1)の混合溶液
800ml中に再沈し、沈殿物を捕集し、乾燥した。得
られた重合体の収量は38gで重量平均分子量(Mw)
8.5×103 であった。下記式中のbはブロック結合
を示す。
Next, methacrylic acid 2.5 was added to this polymer.
g and 5 g of tetrahydrofuran were added, and light irradiation was further performed under a nitrogen stream at a temperature of 40 ° C. in the same manner as above.
It was run for 0 hours. Reprecipitation was performed in 800 ml of a mixed solution of water / methanol (2/1), and the precipitate was collected and dried. The yield of the obtained polymer was 38 g, and the weight average molecular weight (Mw).
It was 8.5 × 10 3 . B in the following formula represents a block bond.

【0221】[0221]

【化60】 [Chemical 60]

【0222】樹脂〔B〕の合成例2〜10:〔B−2〕
〜〔B−10〕 樹脂〔B〕の合成例1において、ベンジルメタクリレー
ト47.5g及びメタクリル酸2.5gの代わりに、下
記表−Bに示した成分に相当する各単量体に各々代えた
他は、樹脂〔B〕の合成例1と同様に操作して各重合体
を合成した。得られた各重合体のMwは7×103 〜1
×104 の範囲であった。
Synthesis Examples 2 to 10 of Resin [B]: [B-2]
-[B-10] In Synthesis Example 1 of Resin [B], 47.5 g of benzyl methacrylate and 2.5 g of methacrylic acid were replaced with respective monomers corresponding to the components shown in Table B below. Others were operated in the same manner as in Synthesis Example 1 of Resin [B] to synthesize each polymer. The Mw of each polymer obtained was 7 × 10 3 to 1
It was in the range of × 10 4 .

【0223】[0223]

【表2】 [Table 2]

【0224】[0224]

【表3】 [Table 3]

【0225】[0225]

【表4】 [Table 4]

【0226】樹脂〔B〕の合成例11〜16:〔B−1
1〕〜〔B−16〕 2−クロロフェニルメタクリレート40g、下記表−C
の開始剤0.02モル及びテトラヒドロフラン50gの
混合溶液を樹脂〔B〕の合成例1と同様にして光照射を
8時間行なった。次に、この反応物に、ベンジルメタク
リレート7.5g、メタクリル酸2.5g及びテトラヒ
ドロフラン10gの混合溶液を加えた後、上記合成例1
と同様にして反応を行なった。
Synthesis Examples 11 to 16 of Resin [B]: [B-1
1] to [B-16] 40 g of 2-chlorophenyl methacrylate, the following table-C
A mixed solution of 0.02 mol of the above initiator and 50 g of tetrahydrofuran was irradiated with light in the same manner as in Synthesis Example 1 of Resin [B] for 8 hours. Next, after adding a mixed solution of 7.5 g of benzyl methacrylate, 2.5 g of methacrylic acid and 10 g of tetrahydrofuran to the reaction product, the above-mentioned Synthesis Example 1 was performed.
The reaction was carried out in the same manner as in.

【0227】得られた重合体のMwは5×103 〜9×
103 の範囲であった。
The Mw of the obtained polymer was 5 × 10 3 to 9 ×.
It was in the range of 10 3 .

【0228】[0228]

【表5】 [Table 5]

【0229】[0229]

【表6】 [Table 6]

【0230】樹脂〔B〕の合成例17〜25:〔B−1
7〕〜〔B−25〕 メチルメタクリレート52.5g、メチルアクリレート
17.5g、下記開始剤〔I−8〕44g及びテトラヒ
ドロフラン75gの混合溶液を、温度50℃で窒素気流
下に、樹脂〔B〕の合成例1と同様の条件下に光照射を
15時間行なった。
Synthesis Examples 17 to 25 of Resin [B]: [B-1
7] to [B-25] A mixed solution of 52.5 g of methyl methacrylate, 17.5 g of methyl acrylate, 44 g of the following initiator [I-8] and 75 g of tetrahydrofuran was added to a resin [B] at a temperature of 50 ° C under a nitrogen stream. Light irradiation was performed for 15 hours under the same conditions as in Synthesis Example 1 above.

【0231】[0231]

【化61】 [Chemical formula 61]

【0232】この重合物に、下記表−Dの重合成分に相
当する各単量体及びテトラヒドロフラン25gを加え、
再び上記と同様にして光照射を15時間行なった。得ら
れた重合体のMwは5×103 〜8×103 の範囲であ
った。
To this polymer, 25 g of tetrahydrofuran and 25 g of each monomer corresponding to the polymerization components shown in Table D below were added.
Again, light irradiation was carried out for 15 hours in the same manner as above. The Mw of the obtained polymer was in the range of 5 × 10 3 to 8 × 10 3 .

【0233】[0233]

【表7】 [Table 7]

【0234】[0234]

【表8】 [Table 8]

【0235】[0235]

【表9】 [Table 9]

【0236】樹脂〔B〕の合成例26〜31:〔B−2
6〕〜〔B−31〕 下記表−Eに記載の重合成分に相当する各単量体、及び
下記開始剤〔I−9〕0.03モルを用いた他は、樹脂
〔B〕の合成例1と同様に操作して、各重合体を得た。
得られた重合体のMwは4×103 〜9×103 の範囲
であった。
Synthesis Examples 26 to 31 of Resin [B]: [B-2
6] to [B-31] Synthesis of resin [B] except that each monomer corresponding to the polymerization components shown in Table E below and 0.03 mol of the following initiator [I-9] are used. The same operation as in Example 1 was carried out to obtain each polymer.
The Mw of the obtained polymer was in the range of 4 × 10 3 to 9 × 10 3 .

【0237】[0237]

【化62】 [Chemical formula 62]

【0238】[0238]

【表10】 [Table 10]

【0239】[0239]

【表11】 [Table 11]

【0240】実施例1及び比較例A〜D 実施例1 下記構造の結着樹脂〔PB−1〕33.6g、結着樹脂
〔B−2〕7.4g、光導電性酸化亜鉛200g、ウラ
ニン0.02g、ローズベンガル0.04g、ブロムフ
ェノールブルー0.03g、サリチル酸0.15g及び
トルエン300gの混合物を、ホモジナイザー(日本精
機(株)製)中で、1×104 r.p.m.の回転数で
10分間分散した。これに、無水フタル酸0.1g、o
−クロロフェノール0.02gを加えて、回転数1×1
3 r.p.m.で1分間分散した。この感光層形成用
分散物を導電処理した紙に乾燥付着量が25g/m2
なるようにワイヤーバーで塗布し、100℃で30秒間
乾燥し、更に140℃で1時間加熱した。
Example 1 and Comparative Examples A to D Example 1 33.6 g of a binder resin [PB-1] having the following structure, 7.4 g of a binder resin [B-2], 200 g of photoconductive zinc oxide, and uranine. A mixture of 0.02 g, rose bengal 0.04 g, bromphenol blue 0.03 g, salicylic acid 0.15 g and toluene 300 g was placed in a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.) at 1 × 10 4 r. p. m. Was dispersed for 10 minutes at the rotation speed of. To this, 0.1 g of phthalic anhydride, o
-Add 0.02 g of chlorophenol and rotate at 1 x 1
0 3 r. p. m. Dispersed for 1 minute. The photosensitive layer-forming dispersion was applied to a conductive-treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 25 g / m 2 , dried at 100 ° C. for 30 seconds, and further heated at 140 ° C. for 1 hour.

【0241】[0241]

【化63】 [Chemical formula 63]

【0242】この感光体表面上に、下記内容の溶液をワ
イヤーバーで塗布し、指触乾燥後、更に温度140℃で
1時間加熱し、膜厚2.3μmの表面層を形成した。つ
いで暗所で20℃、65%RHの条件下で24時間放置
することにより、電子写真感光材料を作製した。 下記構造の樹脂〔A−1〕 8g 下記構造の樹脂〔P−1〕 2g 無水フタル酸 0.1g o−クロロフェノール 0.02g テトラヒドロフラン 90g
A solution having the following content was applied on the surface of the photoreceptor by a wire bar, dried by touch with a finger, and further heated at a temperature of 140 ° C. for 1 hour to form a surface layer having a thickness of 2.3 μm. Then, the mixture was left in the dark at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours to prepare an electrophotographic photosensitive material. Resin [A-1] having the following structure 8 g Resin [P-1] having the following structure 2 g Phthalic anhydride 0.1 g O-chlorophenol 0.02 g Tetrahydrofuran 90 g

【0243】[0243]

【化64】 [Chemical 64]

【0244】比較例A 実施例1において、樹脂〔A−1〕8gの代わりに下記
構造の樹脂〔R−1〕のみ8gを用いた他は実施例1と
同様に操作して電子写真感光材料を作製した。
Comparative Example A An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1, except that 8 g of resin [R-1] having the following structure was used instead of 8 g of resin [A-1]. Was produced.

【0245】[0245]

【化65】 [Chemical 65]

【0246】比較例B 実施例1において、樹脂〔A−1〕8gの代わりに、下
記構造の樹脂〔R−2〕8gを用いた他は、実施例1と
同様にして電子写真感光材料を作製した。
Comparative Example B An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1 except that 8 g of the resin [R-2] having the following structure was used instead of 8 g of the resin [A-1] in Example 1. It was made.

【0247】[0247]

【化66】 [Chemical formula 66]

【0248】比較例C 実施例1において、樹脂〔A−1〕8gの代わりに樹脂
〔R−1〕5.5g及び樹脂〔R−2〕2.5g(樹脂
〔R−1〕/樹脂〔R−2〕=69/31(重量比)〕
を用いた他は、実施例1と同様に操作して電子写真感光
材料を作製した。 比較例D 実施例1において、光導電層の結着樹脂〔PB−1〕3
3.6g及び〔B−2〕7.4gの代わりに結着樹脂
〔PB−1〕のみ41gを用いた他は、実施例1と同様
に操作して電子写真感光材料を作製した。
Comparative Example C In Example 1, instead of 8 g of the resin [A-1], 5.5 g of the resin [R-1] and 2.5 g of the resin [R-2] (resin [R-1] / resin [R-1] / R-2] = 69/31 (weight ratio)]
An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example 1 except that was used. Comparative Example D In Example 1, the binder resin [PB-1] 3 for the photoconductive layer was used.
An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example 1 except that 41 g of only the binder resin [PB-1] was used instead of 3.6 g and [B-2] 7.4 g.

【0249】これらの感光材料の撮像性、及び印刷性を
調べた。印刷性は、全自動製版機ELP404V(富士
写真フィルム(株)製)に現像剤を用いて、露光・現像
処理して画像を形成し、下記内容の不感脂化処理液E−
1を用いて不感脂化処理をして得られた平版印刷板を用
いて調べた。なお、印刷性は、印刷機の湿し水と印刷イ
ンキの供給方式の違いの影響を調べるために、シンフロ
ー方式とモルトン方式の各々の印刷機を用いて評価し
た。更に、菊全サイズ(1003×800mm)の印刷
を行なう大型印刷機を用いて、オフセット印刷機上の印
圧が強くなった場合の印刷板の耐久性を鮮明な印刷物が
何枚得られるかという耐刷性で評価した。
The imaging properties and printability of these light-sensitive materials were examined. As for printability, a fully automatic plate-making machine ELP404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) is used with a developer to perform an exposure / development process to form an image, and a desensitizing solution E-
It was examined by using a lithographic printing plate obtained by desensitizing treatment using No. 1. The printability was evaluated using each of the Synflow system and Molton system printers in order to investigate the influence of the difference between the dampening water and the printing ink supply system of the printer. Furthermore, by using a large-sized printing machine that prints a Kikuzen size (1003 × 800 mm), the durability of the printing plate when the printing pressure on the offset printing machine becomes strong is determined by how many clear prints can be obtained. The printing durability was evaluated.

【0250】[0250]

【表12】 [Table 12]

【0251】表−Fに記した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注1) 撮像性:各感光材料及び全自動製版機ELP4
04V(富士写真フィルム(株)製)を1昼夜常温・常
湿(20℃、65%)に放置した後、製版して複写画像
を形成し、得られた複写原版の画像(カブリ、画像の画
質)を目視で観察する。 注2) 刷り出し保水性:各感光材料そのものを(製版
しない原版:即ち、生版と略称)温度40℃の下記処方
の不感脂化処理液:E−1中に3分間浸漬した。これら
の版を湿し水として下記のF−1を用いて印刷し、刷り
出しから50枚目の印刷物の地汚れの有無を目視で評価
した。 不感脂化処理液:E−1 モノエタノールアミン 60g ネオソープ(松本油脂(株)製) 8g ベンジルアルコール 100g を蒸留水で希釈し全量を1.0リットルにした後、水酸
化カリウムでpH13.5に調整した。
Embodiments of the evaluation items shown in Table-F are as follows. Note 1) Imaging: Each photosensitive material and fully automatic plate-making machine ELP4
04V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) is left at room temperature and normal humidity (20 ° C, 65%) for one day and then plate-made to form a copy image, and the obtained copy original image (fog, image Visually observe the image quality). Note 2) Water retention after printing: Each light-sensitive material itself was dipped for 3 minutes in E-1 (desensitizing treatment solution of the following formulation) having a temperature of 40 ° C. (original plate not made into a plate: abbreviated as raw plate). These plates were printed using F-1 below as dampening water, and the presence or absence of background stains on the 50th printed sheet after printing was visually evaluated. Desensitizing treatment liquid: E-1 Monoethanolamine 60 g Neosoap (manufactured by Matsumoto Yushi Co., Ltd.) 8 g Benzyl alcohol 100 g was diluted with distilled water to a total volume of 1.0 liter, and then adjusted to pH 13.5 with potassium hydroxide. It was adjusted.

【0252】湿し水:F−1 PS版用湿し水アルキーA〔東洋インキ(株)製〕を蒸
留水を用いて200倍に希釈した水溶液(pH9.5) 刷り出し保水性I :モルトン式印刷機として、リョー
ビ・3200CD型(リョービ(株)製)を用いた。 刷り出し保水性II:シンフロー式印刷機として、リョ
ービ・3200MCD型を用いた。 注3) 耐刷性 各感光材料を上記注3)と同一の操作で製版した後、注
4)で用いたE−1の処理液中に3分間浸漬した後、湿
し水として、注4)で用いた湿し水F−1、又印刷用紙
として中性紙を各々用い、印刷機として、オリバー94
型〔(株)桜井製作所〕を用いて、地汚れの発生しない
鮮明な画像の得られる印刷物の印刷枚数を調べた。各感
光材料とも、表面の平滑性は良好であった。本発明、比
較例A〜Cの材料の静電特性は良好で実際の撮像性も複
写画像はいずれも良好な画質であった。しかし、比較例
Dは、複写画像の細線・文字の欠落が見られ、又、非画
像部に地カブリも発生した。
Damping water: F-1 Damping water for PS plate Alky A (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) was diluted 200 times with distilled water (pH 9.5) Imprint water retention I: Molton A Ryobi 3200CD type (manufactured by Ryobi Co., Ltd.) was used as a type printing machine. Imprinted water retention II: Ryobi 3200MCD type was used as a synflow type printing machine. Note 3) Printing durability After sensitizing each photosensitive material in the same manner as in Note 3) above, immersing it in the processing solution of E-1 used in Note 4) for 3 minutes, ) And the neutralizing paper as the printing paper, and as the printing machine, Oliver 94
Using a mold (Sakurai Mfg. Co., Ltd.), the number of prints of a printed matter on which a clear image free of background stain was obtained was examined. The surface smoothness of each photographic material was good. The electrostatic characteristics of the materials of the present invention and Comparative Examples A to C were good, and the actual image pickup properties and the copied images were all good. However, in Comparative Example D, fine lines and missing characters were observed in the copied image, and ground fog also occurred in the non-image portion.

【0253】次に、これら各感光体を不感脂化処理し
て、実際の印刷機上での非画像部のインキ付着有無(保
水性)の程度を、刷り出しから印刷物の50枚目で、地
汚れの程度を目視評価した。本発明及び比較例Dの各原
版は、印刷機に拘わらずインキ付着が全く認められず極
めて良好な保水性を示した。
Next, each of these photoconductors is subjected to a desensitizing treatment to determine the degree of presence or absence of ink adhesion (water retention) in the non-image area on the actual printing machine at the 50th sheet of printed matter after printing. The degree of scumming was visually evaluated. Each of the original plates of the present invention and Comparative Example D showed extremely good water retention without any ink adhesion, regardless of the printing machine.

【0254】他方、カルボキシル基を生成する版である
比較例Aは、湿し水とインキの供給方式の違いによっ
て、刷り出しでの印刷物の地汚れの発生に大きな差を生
じた。即ち、印刷開始時に、湿し水の供給がモルトン方
式に比較し、不充分なシンフロー方式では、印刷物の非
画像部にインキ付着が生じ地汚れとなってしまった。こ
の事は、比較例Aの原版では、親水化された光導電層の
表面は、充分に水との濡れ性は良好になっているが、該
光導電層全体が保持する水量(特に膜の保水量)が不充
分なため湿し水の供給量のバランスが崩れると印刷開始
時に、版の表面に形成される極薄層の水層(ウィーンリ
ーバシダリー層:W.B.L.)保持ができないためと
推定される。
On the other hand, Comparative Example A, which is a plate producing a carboxyl group, caused a large difference in the occurrence of background stains on the printed matter due to the difference in the fountain solution and the ink supply system. That is, when the printing was started, the supply of dampening water was insufficient as compared with the Molton system, and in the insufficient synflow system, ink adhered to the non-image portion of the printed matter and became scumming. This means that in the original plate of Comparative Example A, the surface of the hydrophilized photoconductive layer has sufficiently good wettability with water, but the amount of water held by the entire photoconductive layer (particularly the film If the balance of the supply of dampening water is lost due to insufficient water retention), an extremely thin water layer (Vienna reversal layer: WBL) is formed on the plate surface at the start of printing. It is presumed that it cannot be retained.

【0255】又、スルホ基を生成する版である比較例B
は、シンフロー方式の場合でも、比較例Aに比らべイン
キ付着性は改良された。しかし、膜の保水量がこの場合
大きくなるため、逆にW.B.L.の形成がまだ不充分
な状態になってしまうものと推定される。更に、比較例
A及びBで用いた両者の樹脂をブレンドして用いた比較
例Cは、両者の欠点をおぎなうことはできず、結果とし
て、比較例Aと同様な結果となった。
Further, Comparative Example B which is a plate producing a sulfo group
In comparison with Comparative Example A, the ink adhesion was improved even in the case of the synflow system. However, since the water retention capacity of the membrane increases in this case, W. B. L. It is presumed that the formation of spores will be insufficient. Further, Comparative Example C, which was used by blending both resins used in Comparative Examples A and B, could not fill the defects of both, and as a result, the same result as Comparative Example A was obtained.

【0256】次に、大型印刷機を用いて、耐刷性を調べ
た所、本発明のものは、5千枚印刷しても、印刷物の画
質は鮮明であった。他方、比較例A,B及びCは、5〜
600枚あるいは1千枚程度となった。比較例Aの耐刷
性が低下してしまった原因は、多数枚刷り込んでゆく
と、膜の保水量が起因して、膜最表面部のW.B.L.
あるいは保水量が充分な状態でなくなってしまったこと
によるものと考えられる。又、比較例B及びCの場合に
は、スルホ基含有の架橋構造を有する樹脂の保水量が多
きいことで膜の強度が不足して膜の破壊による耐刷性の
劣化によるものと推定された。比較例Dの場合には、撮
像性が不良(細線・文字の欠落)でそれが印刷物上に刷
り出しからそのまま発生した。
Next, when the printing durability was examined using a large-sized printing machine, the image quality of the printed matter of the present invention was clear even after printing 5,000 sheets. On the other hand, Comparative Examples A, B and C are 5
It became about 600 or 1,000. The reason why the printing durability of Comparative Example A was deteriorated was that, when a large number of sheets were imprinted, the water retention amount of the film caused the W.I. B. L.
It is also considered that the amount of water retention is no longer sufficient. In the case of Comparative Examples B and C, it is presumed that the resin having a sulfo group-containing crosslinked structure has a large water retention amount, so that the strength of the film is insufficient and the printing durability is deteriorated due to the breakage of the film. It was In the case of Comparative Example D, the image pick-up property was poor (fine lines / missing characters), which occurred as it was after being printed on the printed matter.

【0257】これらの事より、印刷時の条件変動に対し
ても、良好な印刷物を多数枚印刷することができるの
は、本発明の材料のみであった。 実施例2、及び比較例E〜H 下記構造の結着樹脂〔PB−2〕30.5g、結着樹脂
〔B−30〕6.5g、前記樹脂〔P−1〕6g、光導
電性酸化亜鉛200g、ウラニン0.02g、下記構造
の色素〔I〕0.015g、下記構造の色素〔II〕
0.012g、N−ヒドロキシフタル酸イミド0.18
g及びトルエン300gの混合物を、ホモジナイザー
〔日本精機(株)製〕中で、7×103 r.p.m.の
回転数で8分間分散した。これに無水フタル酸0.1
g、アセチルアセトンジルコニウム塩0.002gを加
えて、回転数1×103 r.p.m.で1分間分散し
た。この感光層形成用分散物を導電処理した紙に乾燥付
着量が25g/m2 となるようにワイヤーバーで塗布
し、100℃で30秒間乾燥し、更に140℃で1時間
加熱した。
From these facts, it was only the material of the present invention that it was possible to print a large number of excellent printed matter even when the printing conditions varied. Example 2 and Comparative Examples E to H 30.5 g of a binder resin [PB-2] having the following structure, 6.5 g of a binder resin [B-30], 6 g of the resin [P-1], and a photoconductive oxide. Zinc 200 g, uranine 0.02 g, dye [I] 0.015 g having the following structure, dye [II] having the following structure
0.012 g, N-hydroxyphthalic acid imide 0.18
g and toluene 300 g in a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.) at 7 × 10 3 r. p. m. Was dispersed for 8 minutes at the rotation speed of. Phthalic anhydride 0.1
g, 0.002 g of acetylacetone zirconium salt, and a rotation speed of 1 × 10 3 r. p. m. Dispersed for 1 minute. The photosensitive layer-forming dispersion was applied to a conductive-treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 25 g / m 2 , dried at 100 ° C. for 30 seconds, and further heated at 140 ° C. for 1 hour.

【0258】[0258]

【化67】 [Chemical formula 67]

【0259】[0259]

【化68】 [Chemical 68]

【0260】この感光層上に、下記内容の塗布溶液をワ
イヤーバーで塗布し、指触乾燥後、温度140℃で1時
間加熱し、膜厚2.5μmの表面層を形成した。ついで
暗所で20℃、65%RHの条件下で24時間放置する
ことにより、電子写真感光材料を作製した。 下記構造の樹脂〔A−2〕 8.5g 下記構造の樹脂〔P−2〕 1.5g 無水フタル酸 0.05g アセチルアセトンジルコニウム塩 0.001g o−クロロフェノール 0.001g トルエン 90g
On the photosensitive layer, a coating solution having the following contents was coated with a wire bar, dried by touch with a finger, and heated at a temperature of 140 ° C. for 1 hour to form a surface layer having a thickness of 2.5 μm. Then, the mixture was left in the dark at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours to prepare an electrophotographic photosensitive material. Resin [A-2] having the following structure 8.5 g Resin [P-2] having the following structure 1.5 g Phthalic anhydride 0.05 g Acetylacetone zirconium salt 0.001 g O-chlorophenol 0.001 g Toluene 90 g

【0261】[0261]

【化69】 [Chemical 69]

【0262】比較例E 実施例2において、樹脂〔A−2〕8.5gの代わりに
下記構造の樹脂〔R−3〕のみ8.5gを用いた他は実
施例と同様に操作して電子写真感光材料を作製した。
Comparative Example E An electronic device was prepared in the same manner as in Example 2 except that 8.5 g of the resin [R-3] having the following structure was used instead of 8.5 g of the resin [A-2] in Example 2. A photographic light-sensitive material was produced.

【0263】[0263]

【化70】 [Chemical 70]

【0264】比較例F 実施例2において、樹脂〔A−2〕8.5gの代わり
に、下記構造の樹脂〔R−3〕8.5gを用いた他は、
実施例2と同様にして電子写真感光材料を作製した。
Comparative Example F In Example 2, except that 8.5 g of the resin [R-3] having the following structure was used instead of 8.5 g of the resin [A-2],
An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 2.

【0265】[0265]

【化71】 [Chemical 71]

【0266】比較例G 実施例2において、樹脂〔A−2〕8.5gの代わり
に、樹脂〔R−3〕4.5g及び樹脂〔R−4〕4.0
g(樹脂〔R−3〕/樹脂〔R−4〕=53.3/4
6.7(重量比)〕を用いた他は、実施例2と同様に操
作して電子写真感光材料を作製した。 比較例H 実施例2において、光導電層の結着樹脂〔PB−2〕3
0gと〔B−30〕15gの代わりに、結着樹脂〔PB
−2〕のみ45gを用いた他は、実施例2と同様に操作
して電子写真感光材料を作製した。
Comparative Example G Instead of 8.5 g of the resin [A-2] in Example 2, 4.5 g of the resin [R-3] and 4.0 of the resin [R-4] were used.
g (Resin [R-3] / Resin [R-4] = 53.3 / 4
6.7 (weight ratio)] was used and an electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 2. Comparative Example H In Example 2, the binder resin [PB-2] 3 for the photoconductive layer was used.
0 g and [B-30] 15 g instead of the binder resin [PB
-2] was operated in the same manner as in Example 2 except that only 45 g was used to prepare an electrophotographic photosensitive material.

【0267】各感光材料の撮像性及び刷り出し保水性を
実施例1と同様の方法で調べた。更に、印刷時に用いる
湿し水のpHを変えた湿し水(即ち、pH4.5、pH
7.0、pH9.5)を用いて、印刷物への影響の度合
を調べた。以上の結果を表−Gに記載した。
The image pick-up property and the water retention after printing of each light-sensitive material were examined in the same manner as in Example 1. In addition, the fountain solution used in printing has a different pH (that is, pH 4.5, pH
7.0, pH 9.5) was used to examine the degree of influence on the printed matter. The above results are shown in Table-G.

【0268】[0268]

【表13】 [Table 13]

【0269】注6) 湿し水依存性 前記注5)と同様にして印刷を行なった。但し、印刷に
用いる湿し水として下記内容の3種を用いて行なった。 I :pS版用湿し水EU−3(富士写真フィルム
(株)製)を蒸留水を用いて100倍に希釈した水溶液
(pH4.5) II :pS版用湿し水SG−23(東京インキ(株)
製)を蒸留水を用いて130倍に希釈した水溶液(pH
7.0) III:pS版用湿し水アルキーA(東洋インキ(株)
製)を蒸留水を用いて200倍に希釈した水溶液(pH
9.5) 実施例2及び比較例E〜Gのいずれも撮像性は良好であ
った。しかし、比較例Hは、細線・文字の欠落が発生
し、又、非画像部に地汚れも見られた。
Note 6) Dependence on fountain solution Printing was carried out in the same manner as in Note 5) above. However, as the dampening water used for printing, three kinds of the following contents were used. I: Damping water for pS plate EU-3 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) diluted 100 times with distilled water (pH 4.5) II: Damping water for pS plate SG-23 (Tokyo Ink Co., Ltd.
Made by diluting 130 times with distilled water (pH)
7.0) III: Fountain solution Alky A for pS plate (Toyo Ink Co., Ltd.)
Made by diluting 200 times with distilled water (pH)
9.5) In both Example 2 and Comparative Examples E to G, the image pickup property was good. However, in Comparative Example H, thin lines and missing characters were generated, and scumming was observed in the non-image area.

【0270】次に、刷り出し保水性を調べた所、本発明
及び比較例Hのものは、良好であったが、比較例E〜G
はシンフロー式の印刷機での保水性が低下した。なお、
比較例Eの場合、シンフロー方式で、良好な保水性に到
達しない理由は、樹脂〔R−4〕において、不感脂化処
理で発現した−PO3 2 基は、膜の保水量は充分であ
るが、該親水基が高分子主鎖から疎水性である連結基を
介して結合しているために、膜の表面上の水との濡れ性
が、印刷時に不充分なものとして表われるものと推定さ
れる。
Next, when the water retention after printing was examined, it was found that those of the present invention and Comparative Example H were good, but Comparative Examples EG
Had reduced water retention on a Symflow printing press. In addition,
For Comparative Example E, in Shinfuro manner, why it does not reach the good water retention, the resin [R-4], the -PO 3 H 2 group expressed in the desensitizing, water capacity of the membrane is sufficient However, since the hydrophilic group is bonded to the polymer main chain through a hydrophobic linking group, the wettability with water on the surface of the film appears to be insufficient during printing. It is estimated to be.

【0271】更に、耐刷性の評価を湿し水の種類を変え
て行なった。本発明のものは、湿し水の種類によらずい
ずれも、良好な印刷物が5千枚得られた。他方、比較例
E〜Gのものは、湿し水(III)の場合のみ良好で、
他の湿し水では、程度の差こそあれ刷り出しよりインキ
付着の地汚れが発生し、更に刷り込んでも良化すること
はなかった。又、比較例Hは、撮像性が不良のため、印
刷物にも細線・文字の欠落が刷り出しから発生した。
Further, evaluation of printing durability was carried out by changing the kind of dampening water. With the present invention, 5,000 good prints were obtained regardless of the type of dampening water. On the other hand, Comparative Examples E to G are good only in the case of the fountain solution (III),
With other dampening waters, the background stains caused by ink adhered more or less to the extent of printing, and did not improve even after further printing. Further, in Comparative Example H, the image pick-up property was poor, and therefore fine lines and missing characters occurred in the printed matter after printing.

【0272】これらは、湿し水のpHの影響が大きく、
親水化された親水基の解離定数と関係していると考えら
れる。つまり、比較例Eでその影響が支配的であること
から、樹脂〔R−3〕の−COOH基は高pH下では、
−COOH- 基に解離した状態で存在し水との親和性が
著しく向上しているが。低pHになると解離した基の存
在量が低下してしまい、水との親和性が小さくなるため
と考えられる。
These are greatly influenced by the pH of the dampening water,
It is considered to be related to the dissociation constant of the hydrophilized hydrophilic group. That is, since the influence is dominant in Comparative Example E, the —COOH group of the resin [R-3] is
Although it exists in a state of being dissociated to the —COOH group, the affinity with water is remarkably improved. It is considered that when the pH becomes low, the amount of dissociated groups decreases, and the affinity with water decreases.

【0273】即ち、生成する親水性基の解離定数(:p
Ka)の小さいものを併用しないと、湿し水の種類によ
って、保水性が大きく変動してしまう結果を招くことが
判った。以上の事より、本発明の材料は、大型印刷機で
印刷されるPS版の湿し水でも印刷可能となったことか
ら、印刷機の清掃点検をすることなく、容易に、他の印
刷原版と共用して用いることが可能となった。 実施例3〜13 実施例1において、樹脂〔A−1〕の代わりに、下記表
−Hの各樹脂〔A〕を用いた他は、実施例1と同様に操
作して各電子写真感光材料を作製した。
That is, the dissociation constant (: p
It was found that unless the water having a small Ka) is used in combination, the water retention greatly varies depending on the type of dampening water. As described above, since the material of the present invention can be printed even with the dampening water of the PS plate printed by a large-sized printing press, it can be easily printed on another printing original plate without cleaning and inspecting the printing press. It became possible to use it in common with. Examples 3 to 13 Each electrophotographic photosensitive material was operated in the same manner as in Example 1 except that each resin [A] shown in Table H below was used in place of the resin [A-1] in Example 1. Was produced.

【0274】[0274]

【表14】 [Table 14]

【0275】[0275]

【表15】 [Table 15]

【0276】[0276]

【表16】 [Table 16]

【0277】各感光材料の諸性能を、実施例1と同様に
して評価した。いずれも、実施例1の感光材料と同様
な、静電特性・撮像性を示した。又、印刷版としての性
能も、モルトン式・シンフロー式のいずれの印刷機にお
いても、刷り出しから良好な保水性を示し、且つ耐刷性
も5千枚を越えるものであった。 実施例14〜25 実施例1において、樹脂〔A−1〕、樹脂〔P−1〕及
び架橋用化合物〔無水フタル酸及びo−クロロフェノー
ル〕の代わりに下記表−Iの各化合物を用いた他は、実
施例1と同様に操作して、各感光材料を作製した。
Various performances of each light-sensitive material were evaluated in the same manner as in Example 1. All showed the same electrostatic characteristics and image pick-up property as the light-sensitive material of Example 1. As for the performance as a printing plate, good water retention was exhibited from the start of printing on both the Molton type and the Synflow type printing machines, and the printing durability was more than 5,000 sheets. Examples 14 to 25 In Example 1, instead of the resin [A-1], the resin [P-1] and the crosslinking compound [phthalic anhydride and o-chlorophenol], the compounds shown in Table I below were used. Others were operated in the same manner as in Example 1 to prepare each light-sensitive material.

【0278】[0278]

【表17】 [Table 17]

【0279】[0279]

【表18】 [Table 18]

【0280】[0280]

【表19】 [Table 19]

【0281】[0281]

【表20】 [Table 20]

【0282】[0282]

【表21】 [Table 21]

【0283】各感光材料の諸性能を、実施例1と同様に
して評価した。いずれも、実施例1の感光材料と同様
な、静電特性・撮像性を示した。又、印刷版としての性
能も、モルトン式・シンフロー式のいずれの印刷機にお
いても、刷り出しから良好な保水性を示し、且つ耐刷性
も5千枚を越えるものであった。 実施例26 X型無金属フタロシアニン(大日本インキ(株)製)1
g、下記構造の樹脂〔PB−3〕10g、樹脂〔B−2
6〕2g、樹脂〔P−1〕0.3g及びテトラヒドロフ
ラン80g混合物を500mlのガラス容器にガラスビ
ーズと共に入れ、ペイントシェーカー(東洋精機製作所
製)で60分間分散し、更にエチレングリコールジグリ
シジルエーテル0.3gを加え、2分間分散した後ガラ
スビーズをろ別して感光層分散液とした。
Various properties of each light-sensitive material were evaluated in the same manner as in Example 1. All showed the same electrostatic characteristics and image pick-up property as the light-sensitive material of Example 1. As for the performance as a printing plate, good water retention was exhibited from the start of printing on both the Molton type and the Synflow type printing machines, and the printing durability was more than 5,000 sheets. Example 26 X-type metal-free phthalocyanine (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 1
g, resin [PB-3] having the following structure 10 g, resin [B-2
6] 2 g, resin [P-1] 0.3 g and tetrahydrofuran 80 g mixture were put into a 500 ml glass container together with glass beads, dispersed with a paint shaker (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho) for 60 minutes, and further ethylene glycol diglycidyl ether 0. After adding 3 g and dispersing for 2 minutes, the glass beads were filtered to obtain a photosensitive layer dispersion liquid.

【0284】ついでこの分散液を導電性処理および耐溶
剤処理を施した0.2mm厚の紙版マスター用原紙の上
にワイヤーバーで塗布し、指触乾燥した後、110℃循
環式オーブンで、20秒間乾燥した。更に140℃で1
時間加熱した。得られた感光層の膜厚は8μmであっ
た。
Then, this dispersion was applied onto a 0.2 mm-thick base paper for a master for a printing plate, which had been subjected to a conductive treatment and a solvent resistance treatment, with a wire bar, and was dried by touch with a finger, and then in a 110 ° C. circulation type oven, It was dried for 20 seconds. 1 at 140 ° C
Heated for hours. The film thickness of the obtained photosensitive layer was 8 μm.

【0285】[0285]

【化72】 [Chemical 72]

【0286】この感光体上に、下記内容の塗布溶液を、
ワイヤーバーで塗布し、指触乾燥後、温度140℃で1
時間加熱し、膜厚2.0μmの表面層を形成した。 下記構造の樹脂〔A−25〕 8.0g 樹脂〔P−1〕 2g 無水フタル酸 0.1g o−クレゾール 0.02g トルエン 90g
On this photosensitive member, a coating solution having the following content was applied.
Apply with a wire bar, dry to the touch, and 1 at 140 ° C.
It was heated for an hour to form a surface layer having a film thickness of 2.0 μm. Resin [A-25] having the following structure 8.0 g Resin [P-1] 2 g Phthalic anhydride 0.1 g o-Cresol 0.02 g Toluene 90 g

【0287】[0287]

【化73】 [Chemical formula 73]

【0288】この感光材料を(20℃、65%RH)の
条件下で1昼夜放置した後、感光材料を−6kVで帯電
し、光源として2.8mW出力のガリウム−アルミニウ
ム−ヒ素、半導体レーザー(発振波長780nm)を用
いて、感光材料表面上で64erg/cm2 の照射量下
で、ピッチ25μm及びスキャニング速度300m/s
ecのスピード露光後液体現像剤として、ELP−T
(富士写真フィルム(株)製)を用いて現像し、イソパ
ラフィンアイソパーG(エッソ化学(株)製)溶媒のリ
ンス液で洗浄後定着することで得られた複写画像(カブ
リ、画像の画質)を目視評価した所、地カブリのない鮮
明な画像を与えた。
This light-sensitive material was allowed to stand for one day under the conditions of (20 ° C., 65% RH), then the light-sensitive material was charged at −6 kV, and a 2.8 mW output gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser was used as a light source. Oscillation wavelength of 780 nm) and a dose of 64 erg / cm 2 on the surface of the photosensitive material at a pitch of 25 μm and a scanning speed of 300 m / s.
ELP-T as a liquid developer after speed exposure of ec
A copy image (fog, image quality) obtained by developing with (Fuji Photo Film Co., Ltd.), washing with a rinse solution of isoparaffin Isopar G (Esso Chemical Co., Ltd.) solvent, and fixing. When it was visually evaluated, a clear image free of background fog was given.

【0289】次に、上記の方法で製版した版を、実施例
1と同一の条件で不感脂化処理し、且つ、印刷した。そ
の結果、刷り出し保水性(I)及び(II)のいずれ
も、良好であった。又、耐刷性を調べた所、鮮明な印刷
物が5千枚以上得られた。 実施例27 実施例26において、樹脂〔A−25〕8g、樹脂〔P
−1〕2g、及びエチレングリコールジグリシジルエー
テル0.3gの代わりに、下記構造の樹脂〔A−26〕
10gのみを用いた他は、実施例26と同様に操作して
感光材料を作製した。但し、膜の架橋は、加熱(140
℃、1時間)する方法の代わりに、高圧水銀灯を光源と
するランプを用いて80cmの距離下に3分間光照射を
行うことで行なった。
Next, the plate prepared by the above method was desensitized and printed under the same conditions as in Example 1. As a result, both the water retention after printing (I) and (II) were good. When the printing durability was examined, more than 5,000 clear prints were obtained. Example 27 In Example 26, 8 g of resin [A-25], resin [P
-1] 2 g, and 0.3 g of ethylene glycol diglycidyl ether instead of resin [A-26] having the following structure
A light-sensitive material was prepared in the same manner as in Example 26 except that only 10 g was used. However, the cross-linking of the membrane is not performed by heating (140
Instead of the method of (1 ° C., 1 hour), light was irradiated for 3 minutes at a distance of 80 cm using a lamp using a high pressure mercury lamp as a light source.

【0290】[0290]

【化74】 [Chemical 74]

【0291】本発明の感光材料の静電特性と印刷特性を
実施例26と同様の方法で評価した所、いずれも、実施
例26の感光材料の場合と同様に良好な結果を示した。 実施例28〜30 実施例1において、樹脂〔A−1〕8gの代わりに、下
記表−Jの樹脂〔A〕を各8g用いた他は、実施例1と
同様にして、各感光材料を作製した。
When the electrostatic characteristics and printing characteristics of the light-sensitive material of the present invention were evaluated in the same manner as in Example 26, all showed good results as in the case of the light-sensitive material of Example 26. Examples 28 to 30 Each photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1 except that 8 g of each resin [A] shown in Table J below was used instead of 8 g of the resin [A-1]. It was made.

【0292】[0292]

【表22】 [Table 22]

【0293】各感光材料について、実施例1と同様にし
て、静電特性及び印刷性を評価した所、いずれも、実施
例1の感光材料と同等の良好な結果を示した。 実施例31〜42 実施例1において、光導電層の樹脂〔B−4〕20gの
代わりに下記表−Kの樹脂〔B〕各20gを用いた他
は、実施例1と同様に各電子写真感光材料を作製した。
When each of the light-sensitive materials was evaluated for electrostatic characteristics and printability in the same manner as in Example 1, all showed good results equivalent to those of the light-sensitive material in Example 1. Examples 31 to 42 In the same manner as in Example 1, except that 20 g of each resin [B] shown in the following Table-K was used instead of 20 g of the resin [B-4] in the photoconductive layer in each of Example 1, electrophotography. A light-sensitive material was prepared.

【0294】[0294]

【表23】 [Table 23]

【0295】各感光材料を、実施例1と同様にして、印
刷原版として印刷評価した所、実施例1の場合と同等の
良好な性能を示した。 実施例43〜54 実施例1〜42で作成した各感光材料を用い、不感脂化
処理を下記のように操作してオフセット印刷用原版を作
成した。
When each light-sensitive material was subjected to printing evaluation as a printing original plate in the same manner as in Example 1, the same good performance as in Example 1 was shown. Examples 43 to 54 Using each of the photosensitive materials prepared in Examples 1 to 42, desensitizing treatment was operated as follows to prepare an offset printing original plate.

【0296】下記表−Lの求核性化合物0.2モル、有
機溶媒100g及びニューコールB4SN〔日本乳化剤
(株)製〕2gに蒸留水を加え、1リットルとした後、
各混合物のpHを13.5に調整した。各感光材料を、
該処理液中に温度35℃で3分間浸せきして、不感脂化
処理を行なった。得られたプレートを実施例1と同様の
印刷条件で印刷した。各感光材料とも実施例1の場合と
同等の良好な性能を示した。
Distilled water was added to 0.2 g of the nucleophilic compound shown in Table L below, 100 g of an organic solvent and 2 g of Newcol B4SN (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) to make 1 liter, and then
The pH of each mixture was adjusted to 13.5. Each photosensitive material,
It was immersed in the treatment liquid at a temperature of 35 ° C. for 3 minutes to perform a desensitizing treatment. The obtained plate was printed under the same printing conditions as in Example 1. Each of the light-sensitive materials exhibited good performance equivalent to that of Example 1.

【0297】[0297]

【表24】 [Table 24]

【0298】[0298]

【発明の効果】本発明によって、地汚れのない、不感脂
化性に優れた、高耐刷性を有する平版印刷用原版を提供
することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a lithographic printing plate precursor that is free of background stain, is excellent in desensitization and has high printing durability.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03G 5/09 101 9221−2H 13/28 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Office reference number FI technical display location G03G 5/09 101 9221-2H 13/28

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電性支持体上に光導電層化合物及び結
着樹脂とを少なくとも含有してなる光導電層を少なくと
も1層設け、更にその最上層に表面層を設けてなる電子
写真感光体を利用した平版印刷用原版において、該表面
層の結着樹脂が、下記の結着樹脂〔A〕を少なくとも1
種含有する及び該光導電層に結着樹脂として下記の結着
樹脂〔B〕を少なくとも1種含有することを特徴とする
平版印刷用原版。 結着樹脂〔A〕:化学反応処理で−COOH基を生成す
る官能基を少なくとも1種含有する重合体成分(a)、
該処理で−SO3 H基、−SO2 H基、−PO3 2
を生成する官能基から選ばれた少なくとも一種の官能基
を含有する重合体成分(b)及び熱及び/又は光硬化性
基を少なくとも1種含有する重合体成分(c)を少なく
とも含有する共重合体。 結着樹脂〔B〕:1×103 〜2×104 の重量平均分
子量を有し、下記一般式(I)で示される繰り返し単位
を重合体成分として少なくとも1種含有するAブロック
と、−PO3 2 基、−SO3 H基、−COOH基、−
P(=O)(OH)R1 〔R1 は炭化水素基又は−OR2
(R2 は炭化水素基を表す)基を表す〕基及び環状酸無
水物含有基から選択される少なくとも1種の極性基を含
有する重合体成分を少なくとも1種含有するBブロック
とから構成されるAB型ブロック高分子鎖が、有機分子
中に少なくとも3個結合してなるスター型共重合体。 【化1】 〔式(I)中、a1 及びa2 は各々水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。R11は炭化水
素基を表わす。〕
1. An electrophotographic photosensitive member comprising a conductive support, at least one photoconductive layer containing at least a photoconductive layer compound and a binder resin, and a surface layer on the uppermost layer. In the lithographic printing plate precursor using, the binder resin of the surface layer contains at least one of the following binder resins [A]:
A lithographic printing plate precursor containing a seed and containing at least one of the following binder resins [B] as a binder resin in the photoconductive layer. Binder resin [A]: a polymer component (a) containing at least one functional group that produces a —COOH group by a chemical reaction treatment,
The polymer component (b) containing at least one functional group selected from the functional groups that generate —SO 3 H group, —SO 2 H group, and —PO 3 H 2 group in the treatment, and heat and / or light. A copolymer containing at least a polymer component (c) containing at least one curable group. Binder resin [B]: A block having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 and containing at least one repeating unit represented by the following general formula (I) as a polymer component, PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH group, -
P (= O) (OH) R 1 [R 1 is a hydrocarbon group or -OR 2
(R 2 represents a hydrocarbon group) group and a B block containing at least one polymer component containing at least one polar group selected from a cyclic acid anhydride-containing group. A star type copolymer in which at least three AB type block polymer chains are bound in an organic molecule. [Chemical 1] [In the formula (I), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R 11 represents a hydrocarbon group. ]
【請求項2】 上記結着樹脂〔A〕において、共重合体
成分(a)は、−COOH基を生成する官能基の少なく
とも1種が、該共重合体の高分子鎖主鎖に直接結合して
いる事を特徴とする請求項1記載の平版印刷用原版。
2. In the binder resin [A], in the copolymer component (a), at least one functional group that produces a —COOH group is directly bonded to the main chain of the polymer chain of the copolymer. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein
【請求項3】 上記結着樹脂〔A〕とともに、熱及び/
又は光硬化性化合物を含有する事を特徴とする請求項1
又は2記載の平版印刷用原版。
3. Along with the binder resin [A], heat and / or
Alternatively, it contains a photocurable compound.
Or the lithographic printing plate precursor as described in 2.
【請求項4】 上記樹脂〔B〕が、一般式(I)で示さ
れる共重合体成分として下記一般式(Ia)及び下記一
般式(Ib)で示されるアリール基含有のメタクリレー
ト成分のうちの少なくとも1つを含有することを特徴と
する請求項1〜3のいずれか1項に記載の平版印刷用原
版。 【化2】 【化3】 〔式(Ia)及び(Ib)中、A1 及びA2 は互いに独
立に各々水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素
原子、−COR14又は−COOR14(R14は炭素数1〜
10の炭化水素基を表す)を表し、B1 及びB2 は各々
−COO−とベンゼン環を結合する単結合又は連結原子
数1〜4個の連結基を表す。〕
4. The aryl group-containing methacrylate component represented by the following general formula (Ia) or the following general formula (Ib) as a copolymer component represented by the general formula (I), wherein the resin [B] is The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 3, comprising at least one. [Chemical 2] [Chemical 3] [In Formulas (Ia) and (Ib), A 1 and A 2 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, —COR 14 or —COOR 14 (R 14 is a carbon number. 1 to
10 represents a hydrocarbon group), and B 1 and B 2 each represent a single bond for connecting —COO— and the benzene ring or a connecting group having 1 to 4 connecting atoms. ]
【請求項5】 上記光導電層が光導電性酸化亜鉛及び/
又は光導電性酸化チタンから成る光導電性化合物及び分
光増感色素を少なくとも含有する、請求項1〜4のいず
れか1項に記載の平版印刷用原版。
5. The photoconductive layer comprises photoconductive zinc oxide and / or
Alternatively, the lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 4, which contains at least a photoconductive compound made of photoconductive titanium oxide and a spectral sensitizing dye.
JP30156792A 1992-10-15 1992-10-15 Planographic printing original plate Pending JPH06130706A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30156792A JPH06130706A (en) 1992-10-15 1992-10-15 Planographic printing original plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30156792A JPH06130706A (en) 1992-10-15 1992-10-15 Planographic printing original plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06130706A true JPH06130706A (en) 1994-05-13

Family

ID=17898499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30156792A Pending JPH06130706A (en) 1992-10-15 1992-10-15 Planographic printing original plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06130706A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8809446B2 (en) 2010-12-15 2014-08-19 Eastman Chemical Company Substituted 3-oxopentanoates and their uses in coating compositions
US8809447B2 (en) 2010-12-15 2014-08-19 Eastman Chemical Company Acetoacetate-functional monomers and their uses in coating compositions
US9029451B2 (en) 2010-12-15 2015-05-12 Eastman Chemical Company Waterborne coating compositions that include 2,2,4-trimethyl-3-oxopentanoate esters as reactive coalescents
WO2015146443A1 (en) * 2014-03-26 2015-10-01 日産化学工業株式会社 Additive, and resist underlayer film-forming composition containing said additive

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8809446B2 (en) 2010-12-15 2014-08-19 Eastman Chemical Company Substituted 3-oxopentanoates and their uses in coating compositions
US8809447B2 (en) 2010-12-15 2014-08-19 Eastman Chemical Company Acetoacetate-functional monomers and their uses in coating compositions
US9029451B2 (en) 2010-12-15 2015-05-12 Eastman Chemical Company Waterborne coating compositions that include 2,2,4-trimethyl-3-oxopentanoate esters as reactive coalescents
WO2015146443A1 (en) * 2014-03-26 2015-10-01 日産化学工業株式会社 Additive, and resist underlayer film-forming composition containing said additive
JPWO2015146443A1 (en) * 2014-03-26 2017-04-13 日産化学工業株式会社 Additive and resist underlayer film forming composition containing the additive
US10067423B2 (en) 2014-03-26 2018-09-04 Nissan Chemical Industries, Ltd. Additive and resist underlayer film-forming composition containing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0561214A (en) Production of planographic printing original plate
JPH06130710A (en) Planographic printing original plate
JPH0784379A (en) Electrophotographic planographic printing plate
JPH06130706A (en) Planographic printing original plate
JPH05188663A (en) Planographic printing plate
JPH05273799A (en) Planographic printing original plate
JPH0627750A (en) Planographic printing plate
JPH06130709A (en) Planographic printing original plate
JPH06130707A (en) Planographic printing original plate
JPH06130708A (en) Planographic printing original plate
JP2758278B2 (en) Electrophotographic lithographic printing original plate
JP2894859B2 (en) Electrophotographic lithographic printing original plate
JP3048178B2 (en) Electrophotographic lithographic printing original plate
JP2758505B2 (en) Electrophotographic lithographic printing original plate
JPH0215277A (en) Electrophotographic master plate for planographic printing
JPH05127393A (en) Planographic printing original plate
JP2632241B2 (en) Lithographic printing plate
JPH01306856A (en) Plate for planographic printing
JPH0519496A (en) Original plate for planographic printing
JPH01191860A (en) Master plate for electrophotographic planographic printing
JPH052281A (en) Production of planographic printing board
JPH05100463A (en) Planographic printing plate
JPH0566578A (en) Original plate for electrophotographic planographic printing plate
JPH05210265A (en) Original plate for planographic printing
JPH0545919A (en) Electrophotographic planographic printing original plate