JPH05210266A - Orignal plate for planographic printing - Google Patents
Orignal plate for planographic printingInfo
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- JPH05210266A JPH05210266A JP4051292A JP4051292A JPH05210266A JP H05210266 A JPH05210266 A JP H05210266A JP 4051292 A JP4051292 A JP 4051292A JP 4051292 A JP4051292 A JP 4051292A JP H05210266 A JPH05210266 A JP H05210266A
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真方式で製版さ
れる電子写真式平版印刷用原版に関するものであり、特
に、光導電層の改良及び光導電層上に特定の性質を有す
る表面層を設ける様にした平版印刷用原版に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic lithographic printing plate precursor prepared by electrophotography, and more particularly to an improvement of a photoconductive layer and a surface layer having specific properties on the photoconductive layer. The present invention relates to a lithographic printing plate precursor.
【0002】[0002]
【従来技術】現在ダイレクト製版用のオフセット原版に
は多種のものが提案され且つ実用化されているが、中で
も、導電性支持体上に酸化亜鉛のごとき光導電性粒子及
び結着樹脂を主成分とした光導電層を設けた感光体を通
常の電子写真工程を経て、感光体表面に親油性の高いト
ナー画像を形成させ、続いて該表面をエッチ液と言われ
る不感脂化液で処理し非画像部分を選択的に親水化する
ことによってオフセット原版を得る技術が広く用いられ
ている。2. Description of the Related Art At present, various types of offset original plates for direct plate making have been proposed and put into practical use. Among them, photoconductive particles such as zinc oxide and a binder resin are main components on a conductive support. The photoconductor provided with the photoconductive layer was subjected to a normal electrophotographic process to form a highly lipophilic toner image on the photoconductor surface, and then the surface was treated with a desensitizing solution called an etchant. A technique for obtaining an offset original plate by selectively hydrophilizing a non-image portion is widely used.
【0003】良好な印刷物を得るには、先ずオフセット
原版に、原画が忠実に複写されると共に、感光体表面が
不感脂化処理液となじみ易く、非画像部が充分に親水化
されると同時に耐水性を有し、更に印刷においては、画
像を有する光導電層が離脱しないこと、及び湿し水との
なじみがよく、印刷枚数が多くなっても汚れが発生しな
い様に充分に非画像部の親水性が保持されること、等の
性能を有する必要がある。In order to obtain a good printed matter, first, the original image is faithfully copied to the offset original plate, the surface of the photoconductor is easily compatible with the desensitizing solution, and the non-image area is sufficiently hydrophilized. It has water resistance, and in printing, the photoconductive layer with the image does not come off, it is well compatible with fountain solution, and it is sufficiently non-image area so that stains do not occur even when the number of printed sheets increases. It is necessary to have such properties as maintaining the hydrophilicity of.
【0004】近年、通常の電子写真感光体上に特定の樹
脂層を設けることにより製版が容易な非画像部表面親水
性処理型の印刷版を作成する方法が特公昭45−560
6号公報に示されている。すなわち、電子写真感光層上
にビニルエーテルと−無水マレイン酸共重合体およびこ
れと相溶性の疎水性樹脂とからなる表面層を設けた印刷
版が開示されている。この層はトナー像形成後、非画像
部をアルカリで処理することにより酸無水環部分を加水
開環することにより親水化できる層(親水化可能層)で
ある。In recent years, a method of preparing a printing plate of a hydrophilic treatment type on the surface of a non-image area which is easy to make by providing a specific resin layer on an ordinary electrophotographic photosensitive member is disclosed in JP-B-45-560.
No. 6 publication. That is, a printing plate is disclosed in which a surface layer comprising a vinyl ether, a maleic anhydride copolymer, and a hydrophobic resin compatible with the vinyl ether is provided on the electrophotographic photosensitive layer. This layer is a layer that can be made hydrophilic by hydrolyzing the acid anhydride ring portion by treating the non-image portion with an alkali after forming a toner image (hydrophilizable layer).
【0005】そこで用いられているビニルエーテル−無
水マレイン酸共重合体は、開環して親水化された状態で
は水溶性となってしまうため、たとえその他の疎水性の
樹脂と相溶した状態で層が形成されていたとしても、そ
の耐水性ははなはだしく劣り、耐刷性はせいぜい500
〜600枚が限度であった。The vinyl ether-maleic anhydride copolymer used therein becomes water-soluble in the state of being ring-opened and hydrophilized, so that even if it is miscible with other hydrophobic resin, the layer is formed. The water resistance is extremely poor, and the printing durability is 500 at most.
The limit was ~ 600 sheets.
【0006】更に、特開昭60−90343、同60−
159756、同61−217292各号公報等では、
シリル化されたポリビニルアルコールを主成分とし、且
つ架橋剤を併用した表面層(親水化可能層)を設ける方
法が示されている。即ち、この層は、トナー像形成後非
画像部において、シリル化されたポリビニルアルコール
を加水分解処理して親水化するものである。また、親水
化後の膜強度を保持するため、ポリビニルアルコールの
シリル化度を調整し、残像水酸基を架橋剤を用いて架橋
している。そして、これらにより、印刷物の地汚れ性が
改良され、耐刷枚数が向上すると記載されている。Further, Japanese Patent Laid-Open Nos. 60-90343 and 60-
159756, 61-217292, etc.,
A method of providing a surface layer (hydrophilizable layer) containing a silylated polyvinyl alcohol as a main component and a crosslinking agent together is disclosed. That is, this layer is for hydrolyzing the silylated polyvinyl alcohol by hydrolyzing it in the non-image area after toner image formation. Further, in order to maintain the film strength after hydrophilization, the degree of silylation of polyvinyl alcohol is adjusted and the residual image hydroxyl groups are crosslinked with a crosslinking agent. And, it is described that, by these, the background stain property of the printed matter is improved and the number of printed sheets is improved.
【0007】しかしながら、現実に評価してみると、特
に地汚れにおいて未だ満足できるものではない。また、
シリル化ポリビニルアルコールはポリビニルアルコール
をシリル化剤で所望の割合にシリル化することで製造し
ているが、高分子反応であることから、安定して製造す
ることが難しい。更に親水化ポリマーの化学構造が限定
されているため、電子写真感光体としての機能を阻害し
ないように、1)帯電性、2)複写画像の品質(画像部
の網点再現性・解像力、非画像部の地カブリ等)、3)
露光感度、等に対して該表面層が影響しないようにする
ことが難しい等の問題があった。However, when actually evaluated, it is still unsatisfactory, especially in the background stain. Also,
Silylated polyvinyl alcohol is produced by silylating polyvinyl alcohol with a silylating agent to a desired ratio, but it is difficult to produce it stably because it is a polymer reaction. Furthermore, since the chemical structure of the hydrophilic polymer is limited, 1) chargeability and 2) quality of copied image (halftone dot reproducibility / resolution of image area, Fog in the image area, etc.), 3)
There is a problem that it is difficult to prevent the surface layer from affecting the exposure sensitivity and the like.
【0008】本発明者等は、以上のような電子写真式平
版印刷用原版の有する問題点を改良するために、先に、
表面層の主成分として分解によりカルボキシル基を生成
する官能基を含有した樹脂を用いた電子写真式平版印刷
用原版を提案した(特開昭62−28345号明細
書)。In order to improve the problems of the above electrophotographic lithographic printing plate precursor, the present inventors have
An electrophotographic lithographic printing plate precursor using a resin containing a functional group capable of generating a carboxyl group as a main component of the surface layer by decomposition has been proposed (JP-A-62-28345).
【0009】更に、表面層樹脂として、分解により親水
性基を生成する官能基を含有する樹脂と、感光層中で樹
脂が架橋する化合物とを併用したものを検討し、例えば
分解によりヒドロキシル基を生成する官能基を含有する
もの(特開平1−245970、同1−262556各
号公報)、分解によりカルボキシル基を生成する官能基
を含有するもの(特開平1−283572、同1−28
4860各号公報)、分解によりチオール基、アミノ
基、ホスホノ基、スルホ基等を生成する官能基を含有す
るもの(特開平1−304465、同1−306855
各号公報)等を提案した。Further, as the surface layer resin, a combination of a resin containing a functional group capable of generating a hydrophilic group by decomposition and a compound capable of crosslinking the resin in the photosensitive layer is examined. Those containing a functional group to be generated (JP-A-1-245970, JP-A-1-262556), those containing a functional group to generate a carboxyl group by decomposition (JP-A-1-283527, 1-28).
4860 each), those containing a functional group which produces a thiol group, an amino group, a phosphono group, a sulfo group and the like by decomposition (JP-A-1-304465 and 1-306855).
Each publication) etc.
【0010】更には、表面層中に、分解により親水性基
を生成する官能基を含有し、更に高次の網目構造を形成
した微小粒径の粒子を少量併用するものが検討されてお
り、例えば分解によりカルボキシル基を生成する官能基
を含有するもの(特開平2−13965号公報)、分解
によりヒドロキシル基を生成する官能基を含有するもの
(特開平2−13966号公報)、分解によりスルホ
基、ホスホノ基等を生成する官能基を含有するもの(特
開平2−13967号公報)等が開示されている。Further, it has been investigated to use a small amount of fine particles having a functional group capable of generating a hydrophilic group by decomposition in the surface layer and forming a higher order network structure. For example, those containing a functional group capable of generating a carboxyl group by decomposition (JP-A-2-13965), those containing a functional group capable of generating a hydroxyl group by decomposition (JP-A-2-13966), and sulfo by decomposition. A group containing a functional group that generates a group, a phosphono group, etc. (JP-A-2-13967) is disclosed.
【0011】これらの結着樹脂あるいは樹脂粒子は不感
脂化液または印刷時に用いる浸し水による加水分解、加
水素分解又は光分解等をうけて親水性基を生成するもの
である。これらを平版印刷用原版の表面層樹脂として用
いると、いずれの場合も、親水性基自身をはじめから含
有した際に生じる電子写真特性の悪化(暗電荷保持量や
光感度)等を回避できると共に、不感脂化液により親水
化される非画像部の親水性が、表面層中の結着樹脂ある
いは樹脂粒子中において分解により生成される上記親水
性基によってより発現することで、画像部の親油性と非
画像部の親水性が明確となり、印刷時に非画像部に印刷
インキが付着するのを防止し、且つ、表面層内が架橋構
造を形成していることにより、親水化した該樹脂が水不
溶性となり更に、架橋効果により、水を含有して該親水
性架橋樹脂が膨潤して、水保有性が生まれ、表面層の親
水性が充分に保持されるようになる。その結果として地
汚れのない鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷することが
可能となる。These binder resins or resin particles form a hydrophilic group by being hydrolyzed, hydrolyzed or photolyzed by a desensitizing solution or immersion water used for printing. When these are used as the surface layer resin of the lithographic printing plate precursor, in any case, deterioration of electrophotographic properties (dark charge retention amount and photosensitivity) caused when the hydrophilic group itself is contained from the beginning can be avoided. The hydrophilicity of the non-image area which is hydrophilized by the desensitizing liquid is more expressed by the hydrophilic group produced by decomposition in the binder resin or resin particles in the surface layer, thereby improving the hydrophilicity of the image area. The oiliness and hydrophilicity of the non-image area become clear, the printing ink is prevented from adhering to the non-image area at the time of printing, and the surface layer has a crosslinked structure, so that the resin hydrophilized Further, it becomes water-insoluble, and due to the cross-linking effect, the hydrophilic cross-linking resin contains water and swells, water retention is created, and the hydrophilicity of the surface layer is sufficiently maintained. As a result, it becomes possible to print a large number of printed matter with clear image quality without scumming.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】上記の分解反応により
親水性基を生成する型の樹脂は、予め保護基でマスクさ
れたカルボキシル基あるいはヒドロキシル基を処理液で
分解反応させて該保護基を離脱させるものである。した
がって、この型の樹脂には、保存時には大気中の湿度
(水分)の影響を受けて加水分解することなく安定に存
在し、また親水化処理時には速やかに脱保護基反応が進
行して親水性基を生成し、非画像部の親水性を向上でき
ることが重要な特性として要求される。The resin of the type which produces a hydrophilic group by the above decomposition reaction is decomposed by a treatment liquid to decompose a carboxyl group or a hydroxyl group masked with a protecting group in advance, thereby leaving the protecting group. It is what makes them. Therefore, this type of resin is stable and does not hydrolyze under the influence of atmospheric humidity (moisture) during storage, and the deprotection group reaction proceeds rapidly during the hydrophilization process to make it hydrophilic. It is required as an important property that a group is generated and the hydrophilicity of the non-image area can be improved.
【0013】しかし、高温多湿の環境で長期間保存とい
った苛酷な条件下でも分解しないで安定に存在する親水
性基生成官能基(保護基)にすると、処理液による迅速
な分解や、親水性の迅速な発現に困難が生じることが判
った。本発明はこのような現状に鑑み、非画像部の親水
性により効果がより向上し、更に非常に苛酷な条件下で
保管しても安定で、且つ親水化処理時には短時間で容易
に親水性を発現できる平版印刷用原版を提供することを
課題としてなされたものである。However, if a hydrophilic group-forming functional group (protecting group) that stably exists without being decomposed even under severe conditions such as storage in a hot and humid environment for a long period of time is used, a rapid decomposition by the treatment liquid and a hydrophilic group It has been found that difficulties arise in rapid onset. In view of such a situation, the present invention is more effective due to the hydrophilicity of the non-image area, more stable even when stored under extremely severe conditions, and easily hydrophilic in a short time during the hydrophilic treatment. The object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor that can exhibit the above.
【0014】すなわち、本発明の目的は、静電特性(特
に暗電荷保持性及び光感度)に優れ、原画に対して忠実
な複写画像を再現し、且つオフセット原版として全面一
様な汚れは勿論、点状の地汚れをも発生させない、不感
脂化性の優れた平版印刷用原版を提供することである。
本発明の他の目的は、印刷において印刷枚数が増加して
も非画像部の親水性が充分に保たれ地汚れが発生しな
い、高耐刷力を有する平版印刷用原版を提供することで
ある。That is, the object of the present invention is to have excellent electrostatic characteristics (especially dark charge retention and photosensitivity), to reproduce a copy image faithful to the original image, and of course, to obtain a uniform stain as an offset original plate. Another object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor that is excellent in desensitization and does not generate dot-like background stains.
Another object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor having high printing durability, in which the hydrophilicity of the non-image area is sufficiently maintained and scumming does not occur even when the number of printed sheets is increased in printing. .
【0015】本発明の他の目的は、複写画像形成時の環
境が低温・低湿あるいは高温・高湿のように変動する場
合でも、鮮明で良質な画像を有する平版印刷用原版を提
供することである。本発明の他の目的は、併用し得る増
感色素の種類による影響を受け難く、半導体レーザー光
によるスキャニング露光方式でも静電特性の優れた平版
印刷用原版を提供することである。Another object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor having a clear and high-quality image even when the environment at the time of forming a copy image changes such as low temperature / low humidity or high temperature / high humidity. is there. Another object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor that is not easily affected by the types of sensitizing dyes that can be used in combination and has excellent electrostatic properties even in a scanning exposure system using a semiconductor laser beam.
【0016】[0016]
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を、導
電性支持体上に、少なくとも1層の光導電層を設け、更
にその最上層に表面層を設けてなる電子写真感光体を利
用した平版印刷用原版において、該表面層中に、下記の
非水溶媒系分散樹脂粒子〔L〕を少なくとも1種含有す
ること及び前記光導電層の結着樹脂として、下記の樹脂
〔A〕を少なくとも1種含有することを特徴とする平版
印刷用原版により達成する。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is directed to the above object of utilizing an electrophotographic photosensitive member comprising a conductive support, at least one photoconductive layer provided thereon, and a surface layer provided on the uppermost layer thereof. In the lithographic printing plate precursor, at least one of the following non-aqueous solvent-based dispersed resin particles [L] is contained in the surface layer, and the following resin [A] is used as the binder resin of the photoconductive layer. This is achieved by a lithographic printing plate precursor containing at least one kind.
【0017】非水系分散樹脂粒子〔L〕としては、非水
溶媒において、該非水溶媒には可溶であるが重合するこ
とにより不溶可する、分解によりチオール基、スルホ
基、アミノ基及び−P(=Z0 )(−Z0 −H)R' 1
基〔Z0 は酸素原子又はイオウ原子を表わす。R' 1 は
−Z0 −H、炭化水素又は−Z0 −R' 2 (R' 2 は炭
化水素基を表わす)を表わす〕のうちの少なくとも1つ
の基(親水性基)を生成する官能基を少なくとも1種含
有する一官能性単量体(C)と、ケイ素原子及び/又は
フッ素原子を含有する置換基を含み該一官能性単量体
(C)と共重合可能な一官能性単量体(D)とを、該非
水溶媒に可溶性の分散安定用樹脂の存在下に、分散重合
反応させることにより得られる共重合体樹脂粒子であ
り、樹脂〔A〕は、1×103 〜2×104 の重量平均
分子量を有し、下記一般式(I)で示される繰り返し単
位を重合体成分として30重量%以上を含有し、且つ重
合体主鎖の片末端に、−PO3 H2 、−SO3 H、−C
OOH、−P(=O)(OH)R01〔R01は炭化水素基
又は−OR02(R02は炭化水素基を表す)を表す〕〔上
記−P(=O)(OH)R01はThe non-aqueous dispersion resin particles [L] are soluble in the non-aqueous solvent but insoluble in the non-aqueous solvent by polymerization, and are insoluble in the non-aqueous solvent by decomposition, thiol group, sulfo group, amino group and -P. (= Z 0) (- Z 0 -H) R '1
The group [Z 0 represents an oxygen atom or a sulfur atom. R '1 is -Z 0 -H, a hydrocarbon or -Z 0 -R' functional for generating at least one group (hydrophilic group) of 2 (R '2 represents a hydrocarbon group) represent a] A monofunctional monomer (C) containing at least one group and a monofunctional monomer containing a substituent containing a silicon atom and / or a fluorine atom and copolymerizable with the monofunctional monomer (C) A copolymer resin particle obtained by subjecting a monomer (D) to a dispersion polymerization reaction in the presence of a dispersion stabilizing resin soluble in the non-aqueous solvent, wherein the resin [A] is 1 × 10 3 It has a weight average molecular weight of 2 to 10 4 and contains 30 wt% or more of the repeating unit represented by the following general formula (I) as a polymer component, and at one end of the polymer main chain, -PO 3 H 2, -SO 3 H, -C
OOH, -P (= O) (OH) R 01 [R 01 represents a hydrocarbon group or -OR 02 (R 02 represents a hydrocarbon group)] [-P (= O) (OH) R 01 above] Is
【0018】[0018]
【化4】 [Chemical 4]
【0019】を示す。〕及び環状酸無水物含有基から選
択される少なくとも1種の極性基を結合して成る樹脂で
ある。Is shown. ] And at least one polar group selected from cyclic acid anhydride-containing groups.
【0020】[0020]
【化5】 [Chemical 5]
【0021】〔ただし上記式(I)において、a1 、a
2 は各々、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化
水素基を表す。R03は炭化水素基を表す。〕更に、上記
非水溶媒系分散樹脂粒子が架橋構造を形成していること
が好ましい。また更に、上記分散安定用樹脂が、高分子
鎖中に、下記一般式(II)で示される重合性二重結合
基部分を少なくとも1種含有していることが好ましい。[However, in the above formula (I), a 1 , a
Each 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R 03 represents a hydrocarbon group. Furthermore, it is preferable that the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles form a crosslinked structure. Furthermore, it is preferable that the dispersion stabilizing resin contains at least one polymerizable double bond group moiety represented by the following general formula (II) in the polymer chain.
【0022】[0022]
【化6】 [Chemical 6]
【0023】〔一般式(II)において、V0 は−O
−、−COO−、−OCO−、−(CH2 )p OCO
−、−(CH2 )p COO−、−SO2 −、−CONR
1 −、−SO2 NR1 −、−C6 H5 −、−CONHC
OO−、又は−CONHCONH−を表わし(但し、p
は1〜4の整数を表わし、R1 は水素原子又は炭素数1
〜18の炭化水素基を表わす)、b1 、b2 は、互いに
同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、シ
アノ基、炭化水素基、−COO−R2 又は炭化水素基を
介した−COO−R2 (R2 は水素原子又は置換されて
もよい炭化水素基を示す)を表わす〕また更に、上記樹
脂〔A〕が、一般式(I)で示される共重合体成分とし
て下記一般式(Ia)及び下記一般式(Ib)で示され
るアリール基含有のメタクリレート成分のうちの少なく
とも1つを含有する(樹脂〔A’〕)ことが好ましい。[In the general formula (II), V 0 is -O
-, - COO -, - OCO -, - (CH 2) p OCO
-, - (CH 2) p COO -, - SO 2 -, - CONR
1 -, - SO 2 NR 1 -, - C 6 H 5 -, - CONHC
Represents OO- or -CONHCONH- (provided that p is
Represents an integer of 1 to 4, and R 1 is a hydrogen atom or has 1 carbon atom.
Represent to 18 hydrocarbon group), b 1, b 2 is through one another may be the same or different, a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -COO-R 2 or a hydrocarbon group -COO-R 2 (R 2 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted)] Furthermore, the above resin [A] is the following as a copolymer component represented by the general formula (I): It is preferable to contain at least one of the aryl group-containing methacrylate components represented by the general formula (Ia) and the following general formula (Ib) (resin [A ′]).
【0024】[0024]
【化7】 [Chemical 7]
【0025】〔ただし上記式(Ia)及び(Ib)にお
いて、T1 及びT2 は互いに独立に各々水素原子、炭素
数1〜10の炭化水素基、塩素原子、−COR04又は−
COOR05(R04及びR05は各々炭素数1〜10の炭化
水素基を表す)を表し、L1 及びL2 は各々−COO−
とベンゼン環を結合する単結合又は連結原子数1〜4個
の連結基を表す。〕本発明は、結着樹脂として樹脂
〔A〕を含有する光導電層を含み更に、非水系分散樹脂
粒子〔L〕を含有した最上層(表面層)を設けた電子写
真感光体を利用した電子写真式製版システム用の平版印
刷原版である。[In the above formulas (Ia) and (Ib), T 1 and T 2 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, -COR 04 or-
COOR 05 (R 04 and R 05 each represent a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), L 1 and L 2 are each -COO-
Represents a single bond or a connecting group having 1 to 4 connecting atoms for connecting the benzene ring. The present invention utilizes an electrophotographic photoreceptor including a photoconductive layer containing a resin [A] as a binder resin and further provided with an uppermost layer (surface layer) containing non-aqueous dispersion resin particles [L]. A lithographic printing plate precursor for an electrophotographic plate making system.
【0026】即ち、通常の電子写真プロセスに従いトナ
ー画像を形成した後(製版)非画像部を、最上層中に含
有する非水系分散樹脂粒子〔L〕(以降、樹脂粒子
〔L〕と略記する場合もある)の不感脂化処理によって
親油性の表面から親水性の表面に改質して印刷用原版と
することを特徴とするものである。That is, after forming a toner image according to a usual electrophotographic process (plate making), the non-image portion is contained in the uppermost layer of non-aqueous dispersion resin particles [L] (hereinafter abbreviated as resin particles [L]). In some cases), the lipophilic surface is modified to a hydrophilic surface by a desensitizing treatment to obtain a printing original plate.
【0027】通常、電子写真感光体において、光導電層
の上部に製版された印刷物を良好にする目的で更に一層
(表面層)設けると静電特性(特に光感度、残留電位
等)が低下し忠実な画像再現性が悪化してしまうため
に、種々の改良策が試みられる程、その影響は大きい。Usually, in the electrophotographic photoreceptor, if one more layer (surface layer) is provided on the photoconductive layer for the purpose of improving the quality of the printed matter, the electrostatic properties (particularly the photosensitivity, residual potential, etc.) will decrease. Since the faithful image reproducibility is deteriorated, various improvements are attempted, and the influence is great.
【0028】この問題に対して本発明者等は種々検討の
結果、樹脂〔A〕を用いることにより光導電層の静電特
性の高性能化を可能とし、実際に撮像した場合その複写
画像の忠実な再現性をそこなわない様にすることがで
き、更に本発明の樹脂粒子〔L〕を、ケイ素原子/フッ
素原子を含有する分散安定用樹脂の存在下で製造するこ
とで上記した最上層である表面層に特定の樹脂粒子
〔L〕を含有させ、従来の親水性を生じる樹脂又は樹脂
粒子に比べ効率よく保水性に利用することが可能な必要
量をより小量に抑制できたことにより従来の欠点を克服
し、光導電層に悪影響を与えることなく、保水性、耐刷
性等の向上が見られた。As a result of various studies by the present inventors on this problem, the use of the resin [A] makes it possible to improve the electrostatic characteristics of the photoconductive layer, and when the image is actually taken, the copy image is reproduced. Faithful reproducibility is not impaired, and further, the resin particles [L] of the present invention are produced in the presence of a dispersion stabilizing resin containing silicon atoms / fluorine atoms to produce the uppermost layer. By containing the specific resin particles [L] in the surface layer, the necessary amount that can be efficiently used for water retention can be suppressed to a smaller amount as compared with the conventional resin or resin particles that cause hydrophilicity. Thus, the conventional drawbacks were overcome, and water retention and printing durability were improved without adversely affecting the photoconductive layer.
【0029】本発明に供される表面層中の樹脂粒子
〔L〕は、その平均粒子径は1μm以下で且つ粒子径の
分布が狭く揃っているもので、且つ該樹脂粒子〔L〕と
して、重要な性質を少なくとも2つもつものである。そ
の1つは、不感脂化処理する際に、加水分解、求核置換
反応、レドックス反応あるいは光分解反応等の化学反応
により保護されていた前記の親水性基〔一官能性単量体
(C)〕がチオール基、スルホ基、アミノ基、−P(=
Z0 )(−Z0 −H)R' 1 基を生成し、疎水性から親
水性の性質に変換される。The resin particles [L] in the surface layer used in the present invention have an average particle diameter of 1 μm or less and a narrow distribution of particle diameters, and as the resin particles [L], It has at least two important properties. One of them is the above-mentioned hydrophilic group [monofunctional monomer (C, which is protected by a chemical reaction such as hydrolysis, nucleophilic substitution reaction, redox reaction or photolysis reaction during desensitization. )] Is a thiol group, a sulfo group, an amino group, -P (=
Z 0 ) (-Z 0 -H) R ' 1 groups are generated and converted from hydrophobic to hydrophilic nature.
【0030】該樹脂粒子〔L〕は親水性を発現できると
同時に、樹脂粒子〔L〕中に架橋構造を有する場合に
は、このとき親水性を有しつつ水に対して不溶もしくは
難溶で且つ水膨潤性を有する。The resin particles [L] can exhibit hydrophilicity and, at the same time, when the resin particles [L] have a crosslinked structure, at this time, the resin particles [L] have hydrophilicity and are insoluble or hardly soluble in water. It also has water swelling properties.
【0031】他の1つとしては、親油性の強い置換基、
すなわちフッ素原子及び/又はケイ素原子を少なくとも
1個以上含有する置換基を含む繰り単位を少なくとも含
む重合体成分〔一官能性単量体(D)〕を結合して成る
ことで、フッ素原子及び/又はケイ素原子含有の置換基
の大きな親油性によって該光導電層の表面部分に移行・
濃縮現象を生じることを示すものである。As another one, a substituent having strong lipophilicity,
That is, by combining with a polymer component [monofunctional monomer (D)] containing at least a repeating unit containing a substituent containing at least one fluorine atom and / or silicon atom, the fluorine atom and / or Or, due to the large lipophilicity of the silicon atom-containing substituent, it migrates to the surface portion of the photoconductive layer.
This shows that a concentration phenomenon occurs.
【0032】また、非水系分散樹脂粒子を分散安定化す
る分散安定用樹脂が重合造粒の反応過程において、不溶
化する共重合体部分に吸着して成る及び/又は上記式
(II)で示される重合性二重結合基部分含有の分散安
定用樹脂の場合には、両重合体成分が化学結合して成る
ものである。Further, a dispersion stabilizing resin for stabilizing dispersion of the non-aqueous dispersion resin particles is adsorbed on the insolubilized copolymer portion in the reaction process of polymerization granulation and / or represented by the above formula (II). In the case of the dispersion-stabilizing resin containing a polymerizable double bond group portion, both polymer components are chemically bonded.
【0033】以上の如き、表面部分への該樹脂粒子
〔L〕の濃縮と不感脂化処理による該樹脂粒子〔L〕の
親水性化の両効果によって、表面層の非画像部の保水性
が充分に達成されるものである。Due to both the effects of concentrating the resin particles [L] on the surface portion and making the resin particles [L] hydrophilic by the desensitizing treatment as described above, the water retentivity of the non-image area of the surface layer is improved. It is fully achieved.
【0034】また本発明は、光導電層の結着樹脂とし
て、式(I)で示される特定の重合体成分を含有し且つ
前記の特定の極性基を少なくとも重合体の側鎖に結合し
て成る低分子量の重合体の樹脂〔A〕を含有することで
ある。In the present invention, the binder resin for the photoconductive layer contains a specific polymer component represented by the formula (I) and has the specific polar group bonded to at least the side chain of the polymer. It is to contain a low molecular weight polymer resin [A].
【0035】このことにより静電特性が良好となり、更
に、光導電層に光導電性酸化亜鉛粒子、分光増感色素、
及び樹脂〔A〕が分散された時に、特定の極性基を重合
体の主鎖の片末端に結合して成る低分子量の樹脂〔A〕
が、光導電性酸化亜鉛の化学量論的な欠陥に吸着し且つ
酸化亜鉛及び色素の相互作用する状態への被覆性及び吸
着状態を適切に行なうことで光導電性酸化亜鉛のトラッ
プを補償すると共に湿度特性を飛躍的に向上させる一
方、光導電性酸化亜鉛の分散が充分に行われ、凝集を制
御することによるものと考えられる。As a result, the electrostatic properties are improved, and the photoconductive layer further contains photoconductive zinc oxide particles, a spectral sensitizing dye,
And a low molecular weight resin [A] having a specific polar group bonded to one end of the main chain of the polymer when the resin [A] is dispersed.
Compensates for trapping of photoconductive zinc oxide by adsorbing on stoichiometric defects of photoconductive zinc oxide and appropriately covering and adsorbing the interaction state of zinc oxide and dye. At the same time, it is considered that while the humidity characteristics are dramatically improved, the photoconductive zinc oxide is sufficiently dispersed and the aggregation is controlled.
【0036】特に従来の結着樹脂では、分光増感色素の
種類が変わった時に、吸着等の相互作用が阻害され、満
足な電子写真特性が得られなくなってしまった。しか
し、本発明の樹脂〔A〕を用いると、特に半導体レーザ
ー光用分光増感に用いる色素でも、著しく優れた性能を
満足できる様になる。更に、樹脂〔A' 〕を用いると樹
脂〔A〕の場合よりも、より一層電子写真特性(特にV
10,D.R.R.,E1/10)の向上が達成できる。Particularly, in the case of the conventional binder resin, when the kind of the spectral sensitizing dye is changed, the interaction such as adsorption is hindered and satisfactory electrophotographic characteristics cannot be obtained. However, when the resin [A] of the present invention is used, remarkably excellent performance can be satisfied even with a dye used for spectral sensitization for semiconductor laser light. Further, when the resin [A '] is used, the electrophotographic characteristics (particularly V) are further improved as compared with the case of the resin [A].
10 , D.I. R. R. , E 1/10 ) can be improved.
【0037】この事の理由は不明であるが、1つの理由
として、メタクリレートのエステル成分であるベンゼン
環又はナフタレン環の平面性硬化により、膜中の酸化亜
鉛界面でのこれらポリマー分子鎖の配列が適切に行われ
ることによるものと考えられる。The reason for this is unknown, but one reason is that the planar curing of the benzene ring or naphthalene ring, which is the ester component of the methacrylate, causes the alignment of these polymer molecular chains at the zinc oxide interface in the film. Probably due to being done properly.
【0038】以下に本発明で表面層に含有される非水溶
媒系分散樹脂粒子について詳細に説明する。本発明の樹
脂粒子は、いわゆる非水系分散重合によって製造された
ものである。The non-aqueous solvent-based dispersed resin particles contained in the surface layer in the present invention will be described in detail below. The resin particles of the present invention are produced by so-called non-aqueous dispersion polymerization.
【0039】以下に本発明で表面層に含有される非水溶
媒系分散樹脂粒子(以下に樹脂粒子〔L〕と称すること
もある)について詳細に説明する。本発明の樹脂粒子
は、いわゆる非水系分散重合によって製造されたもので
ある。本発明の非水溶媒系分散樹脂粒子は、分解により
チオール基、スルホ基、アミノ基及び−P(=Z0 )
(−Z0 −H)R' 1 基〔Z0 は酸素原子又はイオウ原
子を表わす。R' 1 は−Z0 −H、炭化水素又は−Z0
−R' 2 (R' 2 は炭化水素基を表わす)を表わす〕の
うちの少なくとも1つの基を生成する官能基を少なくと
も1種含有し重合後には該非水溶媒には不溶となる一官
能性単量体(C)からなる重合体成分〔重合体成分
(C)と略記する〕と、フッ素原子及び/又はケイ素原
子を少なくとも置換基として含み該一官能性単量体
(C)と共重合可能な一官能性単量体(D)とを、該非
水溶媒に可溶性となる分散安定用樹脂の存在下に重合反
応させることにより得られるものである。The non-aqueous solvent-based dispersed resin particles (hereinafter sometimes referred to as resin particles [L]) contained in the surface layer in the present invention will be described in detail below. The resin particles of the present invention are produced by so-called non-aqueous dispersion polymerization. The non-aqueous solvent-based dispersed resin particles of the present invention are decomposed to give a thiol group, a sulfo group, an amino group and -P (= Z 0 ).
(-Z 0 -H) R '1 group [Z 0 represents an oxygen atom or a sulfur atom. R '1 is -Z 0 -H, a hydrocarbon or -Z 0
-R ' 2 (R' 2 represents a hydrocarbon group)] containing at least one functional group forming at least one group, and a monofunctional compound which is insoluble in the non-aqueous solvent after polymerization. Copolymerization with a polymer component consisting of a monomer (C) [abbreviated as polymer component (C)] and the monofunctional monomer (C) containing at least a fluorine atom and / or a silicon atom as a substituent. It is obtained by polymerizing a possible monofunctional monomer (D) in the presence of a dispersion stabilizing resin which is soluble in the non-aqueous solvent.
【0040】分散樹脂粒子の分子量は104 〜106 、
好ましくは104 〜5×105 である。該樹脂粒子中の
重合成分として、単量体(C)の存在割合は、30重量
%以上好ましくは50重量%以上であり、単量体(D)
の存在割合は0.5重量%〜30重量%、好ましくは1
重量%〜20重量%である。他の共重合し得る単量体を
含有する場合は多くても30重量%以下である。The molecular weight of the dispersed resin particles is 10 4 to 10 6 ,
It is preferably 10 4 to 5 × 10 5 . The proportion of the monomer (C) as a polymerization component in the resin particles is 30% by weight or more, preferably 50% by weight or more, and the monomer (D) is used.
Is 0.5 to 30% by weight, preferably 1
% By weight to 20% by weight. When containing other copolymerizable monomers, the content is at most 30% by weight or less.
【0041】本発明の分散安定用樹脂の、該非水溶媒へ
の溶解性は、具体的には該溶媒100重量部に対し、温
度25℃において少なくとも5重量%溶解するものであ
ればよい。The solubility of the dispersion-stabilizing resin of the present invention in the non-aqueous solvent may be at least 5% by weight in 100 parts by weight of the solvent at a temperature of 25 ° C.
【0042】また、該分散安定用樹脂の重量平均分子量
は1×103 〜1×105 であり好ましくは2×103
〜5×104 、特に好ましくは3×103 〜2×104
である。The weight average molecular weight of the dispersion stabilizing resin is 1 × 10 3 to 1 × 10 5 , preferably 2 × 10 3.
To 5 × 10 4 , particularly preferably 3 × 10 3 to 2 × 10 4.
Is.
【0043】分散安定用樹脂の重量平均分子量が1×1
03 未満になると、生成した分散樹脂粒子の凝集が発生
し、平均粒径が揃った微粒子が得られなくなってしま
う。一方1×105 を越えると、表面層中に添加した時
に電子写真特性を満足しつつ保水性が向上するという本
発明の効果が薄れてしまう。The weight average molecular weight of the dispersion stabilizing resin is 1 × 1.
When it is less than 0 3 , the generated dispersed resin particles agglomerate, and fine particles having a uniform average particle diameter cannot be obtained. On the other hand, when it exceeds 1 × 10 5 , the effect of the present invention that the water retention is improved while satisfying the electrophotographic characteristics when added to the surface layer is diminished.
【0044】本発明の単量体(D)の繰り返し単位の総
和において、フッ素原子又は/及びケイ素原子を含有す
る置換基を有する繰り返し単位は、全体の40重量%以
上含有されていることが好ましく、より好ましくは60
〜100重量%以上である。In the total sum of the repeating units of the monomer (D) of the present invention, the repeating unit having a substituent containing a fluorine atom and / or a silicon atom is preferably contained in an amount of 40% by weight or more based on the whole. , And more preferably 60
~ 100 wt% or more.
【0045】本発明の上記成分が全体の40重量%未満
になると、樹脂粒子が表面層に分散された時に表面部分
への濃縮効果が低下し、結果として、印刷原版としての
保水性向上の効果が薄れてしまう。When the amount of the above components of the present invention is less than 40% by weight based on the total weight, the effect of concentrating on the surface portion when the resin particles are dispersed in the surface layer decreases, and as a result, the effect of improving water retention as a printing original plate. Will fade.
【0046】前記のように不溶化する単量体(C)及び
単量体(D)に対して、好ましくは分散安定用樹脂を1
〜50重量%、さらに好ましくは2〜30重量%使用す
る。For the monomer (C) and the monomer (D) which are insolubilized as described above, preferably one dispersion stabilizing resin is used.
.About.50% by weight, more preferably 2 to 30% by weight.
【0047】次に本発明の樹脂粒子〔L〕について詳し
く説明する。本発明において用いられる分解して少なく
とも1個のチオール基、スルホ基、アミノ基、−P(=
Z0 )(−Z0 −H)R' 1 基の少なくとも1つの親水
性基を生成する官能基(以下単に、親水性基生成官能基
と称することもある)について詳しく説明する。Next, the resin particles [L] of the present invention will be described in detail. As used in the present invention, at least one thiol group, sulfo group, amino group, -P (=
The functional group which forms at least one hydrophilic group of the Z 0 ) (-Z 0 -H) R ' 1 group (hereinafter sometimes simply referred to as a hydrophilic group-forming functional group) will be described in detail.
【0048】本発明の親水性基生成官能基は分解によっ
て少なくとも1つの親水性基を生成するが、1つの官能
基から生成する親水性基は1個でも2個以上でもよい。
以下、分解により少なくとも1個のチオール基を生成す
る官能基(チオール基生成官能基)について詳述する。The hydrophilic group-forming functional group of the present invention decomposes to form at least one hydrophilic group, and the number of hydrophilic groups formed from one functional group may be one or two or more.
Hereinafter, the functional group that generates at least one thiol group by decomposition (thiol group-forming functional group) will be described in detail.
【0049】本発明の1つの好ましい態様によれば、チ
オール基生成官能基含有樹脂は、例えば下記一般式(C
−I)〔−S−LA 〕で示される官能基を少なくとも1
種含有する樹脂である。According to one preferred embodiment of the present invention, the thiol group-forming functional group-containing resin has, for example, the following general formula (C
-I) - at least a functional group represented by [S-L A]
It is a resin containing seeds.
【0050】一般式(C−I):〔−S−LA 〕 式中、LA は、−Si(RA 1 )(RA 2 )
(RA 3 )、−CO−RA 4 、−CO−RA 5 、−CO
−O−RA 6 、−CS−O−RA 7 、−S−RA 8 、−
CS−N(RA 9 )(RA 10)又はThe general formula (C-I): - in [S-L A] expression, L A is, -Si (R A 1) ( R A 2)
(R A 3), - CO -R A 4, -CO-R A 5, -CO
-O-R A 6, -CS- O-R A 7, -S-R A 8, -
CS-N ( RA 9 ) ( RA 10 ) or
【0051】[0051]
【化8】 [Chemical 8]
【0052】を表わす。但し、RA 1 ,RA 2 及びRA
3 は互いに同じでも異なってもよく、各々炭化水素基又
は−O−RA ′(RA ′は炭化水素基を示す)を表わ
し、RA 4 、RA 5 、RA 6 、RA 7 、RA 8 、
RA 9 、RA 10、RA 11、RA 12及びRA 13は各々独立
に炭化水素基を表わし、Y1 は酸素原子又はイオウ原子
を表わす。Represents However, R A 1 , R A 2 and R A
3 may be the same or different, each represents a hydrocarbon group or -O-R A '(R A ' represents a hydrocarbon group), R A 4, R A 5, R A 6, R A 7 , R A 8 ,
R A 9 , R A 10 , R A 11 , R A 12 and R A 13 each independently represent a hydrocarbon group, and Y 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom.
【0053】上記一般式〔−S−LA 〕の官能基は、分
解によって、チオール基を生成するものであり、以下更
に詳しく説明する。LA が−Si(RA 1 )(RA 2 )
(RA 3 )を表わす場合において、RA 1、RA 2 及び
RA 3 は互いに同じでも異なっていてもよく、好ましく
は水素原子、置換されてもよい炭素数1〜18の直鎖状
又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、オクタデシル基、クロロエチル基、メ
トキシエチル基、メトキシプロピル基等)、置換されて
もよい脂環式基(例えばシクロペンチル基、シクロヘキ
シル基等)、置換されてもよい炭素数7〜12のアラル
キル基(例えばベンジル基、フェネチル基、クロロベン
ジル基、メトキシベンジル基等)又は置換されてもよい
芳香族基(例えばフェニル基、ナフチル基、クロロフェ
ニル基、トリル基、メトキシフェニル基、メトキシカル
ボニルフェニル基、ジクロロフェニル基等)又は−O−
RA ′(RA ′は炭化水素基を表わし、具体的には上記
RA 1 、RA 2 、RA 3 の炭化水素基の置換基類を例と
して挙げることができる)を表わす。[0053] functional group of the general formula [-S-L A] is degraded by, is intended to generate a thiol group, is described below in more detail. L A is -Si (R A 1 ) (R A 2 )
In the case of representing ( RA 3 ), R A 1 , R A 2 and R A 3 may be the same or different from each other, preferably a hydrogen atom or an optionally substituted straight chain having 1 to 18 carbon atoms. Or a branched alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, chloroethyl group, methoxyethyl group, methoxypropyl group, etc.), substituted Alicyclic group (eg cyclopentyl group, cyclohexyl group etc.), optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group etc.) or substituted Aromatic groups such as phenyl, naphthyl, chlorophenyl, tolyl, methoxyphenyl, methoxycarbonylphenyl, diphenyl Rorofeniru group) or -O-
R A ′ ( RA ′ represents a hydrocarbon group, and specifically, the substituents of the hydrocarbon group of R A 1 , R A 2 and R A 3 can be mentioned as an example).
【0054】LA が−CO−RA 4 、−CO−RA 5 、
−CO−O−RA 6 、−CS−O−RA 7 、又は−S−
RA 8 を表わす場合において、RA 4 、RA 5 、
RA 6 、RA 7 、RA 8 は各々好ましくは置換されてい
てもよい炭素数1〜12の直鎖状又は分岐状アルキル基
(例えばメチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロ
メチル基、メトキシメチル基、エチル基、,プロピル
基、n−ブチル基、ヘキシル基、3−クロロプロピル
基、フェノキシメチル基、2,2,2−トリフルオロエ
チル基、t−ブチル基、ヘキシルフルオロ−i−プロピ
ル基、オクチル基、デシル基等)、置換されていてもよ
い炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベンジル基、フ
ェネチル基、メチルベンジル基、トリメチルベンジル
基、ヘプタメチルベンジル基、メトキシベンジル基
等)、置換されていてもよい炭素数6〜12のアリール
基(例えばフェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェ
ニル基、メタンスルホニルフェニル基、メトキシフェニ
ル基、ブトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロ
ロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基等)を表
わす。L A is --CO-- RA 4 , --CO-- RA 5 ,
-CO-O-R A 6, -CS-O-R A 7, or -S-
In the case of representing R A 8 , R A 4 , R A 5 ,
R A 6 , R A 7 , and R A 8 are each preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (eg, methyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, methoxy). Methyl group, ethyl group, propyl group, n-butyl group, hexyl group, 3-chloropropyl group, phenoxymethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, t-butyl group, hexylfluoro-i-propyl group Group, octyl group, decyl group, etc.), optionally substituted aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (eg, benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, trimethylbenzyl group, heptamethylbenzyl group, methoxybenzyl group, etc.) An optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, methanesulfonylphene) Group, represents methoxyphenyl group, butoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, a trifluoromethylphenyl group).
【0055】LA が−CS−N(RA 9 )(RA 10)を
表わす場合において、RA 9 及びRA 10は各々同じでも
異なっていてもよく、好ましい例としては前記RA 4 〜
RA 8 で好ましいとした置換基を表わす。[0055] In the case where L A represents a -CS-N (R A 9) (R A 10), R A 9 and R A 10 may be the same or different from each other, the preferred examples R A 4 ~
It represents a preferred substituent for R A 8 .
【0056】LA がL A is
【0057】[0057]
【化9】 [Chemical 9]
【0058】を表わす場合において、Y1 は酸素原子又
はイオウ原子を表わす。RA 11、RA 12、RA 13は互い
に同じでも異なっていてもよく、好ましくは水素原子、
置換されてもよい炭素数1〜12の直鎖状又は分岐状ア
ルキル基を表わす。In the case of representing, Y 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom. R A 11 , R A 12 and R A 13 may be the same or different from each other, preferably a hydrogen atom,
It represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted.
【0059】好ましい例としては前記RA 4 〜RA 8 と
同じ内容を表わす。pは5又は6の整数を表わす。本発
明の他の好ましいチオール基生成官能基含有樹脂は、一
般式(C−II)又は一般式(C−III)で示される
チイラン環を少なくとも1種含有する樹脂である。As a preferred example, the same contents as R A 4 to R A 8 are represented. p represents an integer of 5 or 6. Another preferable thiol group-forming functional group-containing resin of the present invention is a resin containing at least one thiirane ring represented by the general formula (C-II) or the general formula (C-III).
【0060】[0060]
【化10】 [Chemical 10]
【0061】式(C−II)において、RA 14及びRA
15は互いに同じでも異なってもよく、各々水素原子又は
炭化水素基を表わす。好ましくは、水素原子又は前記R
A 4〜RA 8 で好ましいとした置換基を表わす。In the formula (C-II), R A 14 and R A
15 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferably, a hydrogen atom or the above R
The preferred substituents for A 4 to R A 8 are shown.
【0062】式(C−III)において、XA は水素原
子又は脂肪族基を表わす。脂肪族基として好ましくは、
炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等)を表わす。In the formula (C-III), X A represents a hydrogen atom or an aliphatic group. Preferably as an aliphatic group,
It represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.).
【0063】本発明の更に他の好ましいチオール基生成
官能基含有樹脂は、一般式(C−IV)で示されるイオ
ウ原子含有のヘテロ環基を少なくとも1種含有する樹脂
である。Still another preferred thiol group-forming functional group-containing resin of the present invention is a resin containing at least one sulfur atom-containing heterocyclic group represented by the general formula (C-IV).
【0064】[0064]
【化11】 [Chemical 11]
【0065】式(C−IV)において、YA は酸素原子
又は−NH−基を表わす。RA 16、RA 17、及びRA 18
は同じでも異なっていてもよく、各々水素原子又は炭化
水素基を表わす。好ましくは、水素原子又は前記RA 4
〜RA 8 で好ましいとした置換基を表わす。[0065] formula (C-IV), Y A represents an oxygen atom or -NH- group. R A 16 , R A 17 , and R A 18
May be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferably, a hydrogen atom or the above R A 4
Represent preferred and the substituents to R A 8.
【0066】RA 19及びRA 20は同じでも異なっていて
もよく、水素原子、炭化水素基又は−O−RA ″
(RA ″は炭化水素基を表わす)を表わす。好ましく
は、前記RA 1 〜RA 3 で好ましいとした置換基を表わ
す。R A 19 and R A 20 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group or —O—R A ″.
( RA "represents a hydrocarbon group), preferably the substituents mentioned above as preferred in RA 1 to RA 3 .
【0067】本発明の更にもう一つの好ましい態様によ
れば、チオール基生成官能基含有樹脂は、互いに立体的
に近い位置にある少なくとも2つのチオール基を1つの
保護基で同時に保護した形で有する官能基を少なくとも
1種含有する樹脂である。According to yet another preferred embodiment of the present invention, the thiol group-forming functional group-containing resin has a form in which at least two thiol groups sterically close to each other are simultaneously protected by one protecting group. It is a resin containing at least one functional group.
【0068】互いに立体的に近い位置にある少なくとも
2つのチオール基を1つの保護基で同時に保護した形で
有する官能基としては、例えば下記一般式(C−V)、
(C−VI)及び(C−VII)で表わされるものを挙
げることができる。Examples of the functional group having at least two thiol groups sterically close to each other simultaneously protected by one protecting group include, for example, the following general formula (CV),
The thing represented by (C-VI) and (C-VII) can be mentioned.
【0069】[0069]
【化12】 [Chemical 12]
【0070】式(C−V)及び式(C−VI)におい
て、ZA はヘテロ原子を介してもよい炭素−炭素結合又
はC−S結合同志を直接連結する化学結合を表わす(但
し、イオウ原子間の原子数は4個以内である)。更に一
方の−(ZA ・・・C)−結合が単なる結合のみを表わ
し、例えば下記の様になっていてもよい。In formulas (C-V) and (C-VI), Z A represents a carbon-carbon bond which may have a heteroatom or a C-S bond which directly connects the two bonds (provided that sulfur is present). The number of atoms between the atoms is 4 or less). Further, one of the-(Z A ... C) -bonds represents only a bond, and may be, for example, as shown below.
【0071】[0071]
【化13】 [Chemical 13]
【0072】式(C−VI)において、RA 21、RA 22
は同じでも異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基
又は−O−RA ″(RA ″は炭化水素基を示す)を表わ
す。式(C−VI)において、RA 21及びRA 22は好ま
しくは互いに同じでも異なっていてもよく、水素原子、
炭素数1〜12の置換されてもよいアルキル基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、2−メトキシエチル基、オクチル基等)、炭素数7
〜9の置換されてもよいアラルキル基(例えばベンジル
基、フェネチル基、メチルベンジル基、メトキシベンジ
ル基、クロロベンジル基等)、炭素数5〜7の脂環式基
(例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基)又は置
換されてもよいアリール基(例えばフェニル基、クロロ
フェニル基、メトキシフェニル基、メチルフェニル基、
シアノフェニル基等)又は−O−RA ″(RA ″はRA
21、RA 22における炭化水素基と同義である)を表わ
す。In the formula (C-VI), R A 21 , R A 22
May be the same or different and each represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group or -O- RA "( RA " represents a hydrocarbon group). In formula (C-VI), R A 21 and R A 22 may preferably be the same or different from each other, and a hydrogen atom,
Alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, 2-methoxyethyl group, octyl group, etc.), carbon number 7
To 9 optionally substituted aralkyl groups (eg, benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, etc.), alicyclic groups having 5 to 7 carbon atoms (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group) Or an optionally substituted aryl group (eg, phenyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, methylphenyl group,
A cyanophenyl group) or -O- RA "( RA " is RA
21 has the same meaning as the hydrocarbon group for R A 22 ).
【0073】式(C−VII)において、RA 23、RA
24、RA 25、RA 26は互いに同じでも異なっていてもよ
く、各々水素原子又は炭化水素基を表わす。好ましく
は、水素原子又は上記RA 21、RA 22において好ましい
とした炭化水素基と同義の内容を表わす。In the formula (C-VII), R A 23 , R A
24 , R A 25 and R A 26 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferably, it has the same meaning as the hydrogen atom or the hydrocarbon group described above as preferred in R A 21 and R A 22 .
【0074】本発明に用いられる一般式(C−I)〜
(C−VII)で示される官能基を少なくとも1種含有
する単量体(C)は、例えば岩倉義男・栗田恵輔著「反
応性高分子」230頁〜237頁(講談社:1977年
刊)、日本化学会編「新実験化学講座第14巻、有機化
合物の合成と反応〔III〕」第8章、第1700頁〜
1713頁(丸善株式会社、1978年刊)、J.F.
W.McOmie「Protective Group
s in Organic Chemistry」第7
章(Plenum Press.1973年刊)、S.
Patai「The Chemistry of th
e thiol group Part2」第12章、
第14章(John Wiley & Sons,19
74年刊)等に記載の方法等を適用することができる。General formula (C-I) used in the present invention:
Examples of the monomer (C) containing at least one functional group represented by (C-VII) include those described in Yoshio Iwakura and Keisuke Kurita, “Reactive Polymer”, pages 230 to 237 (Kodansha: 1977), Japan. Chemistry Society, "New Experimental Chemistry Course Vol. 14, Synthesis and Reactions of Organic Compounds [III]", Chapter 8, pp. 1700-
1713 (Maruzen Co., Ltd., 1978), J. F.
W. McOmie "Protective Group
s in Organic Chemistry "No. 7
Chapter (Plenum Press. 1973), S.
Patai "The Chemistry of the
e thiol group Part 2 "Chapter 12,
Chapter 14 (John Wiley & Sons, 19
1974) and the like can be applied.
【0075】更に具体的には、一般式(C−I)〜(C
−VII)の官能基を含有する単量体として、例えば以
下の様な化合物を挙げることができる。More specifically, general formulas (C-I) to (C
Examples of the monomer containing the functional group of -VII) include the following compounds.
【0076】[0076]
【化14】 [Chemical 14]
【0077】[0077]
【化15】 [Chemical 15]
【0078】[0078]
【化16】 [Chemical 16]
【0079】[0079]
【化17】 [Chemical 17]
【0080】[0080]
【化18】 [Chemical 18]
【0081】[0081]
【化19】 [Chemical 19]
【0082】[0082]
【化20】 [Chemical 20]
【0083】次に、分解により少なくとも1個の−P
(=Z0 )(−Z0 −H)R' 1 基、例えば下記一般式
(C−VIII)又は(C−IX)の基を生成する官能
基について詳しく説明する。Next, at least one -P is decomposed.
(= Z 0) (- Z 0 -H) R '1 groups are, for example will be described in detail a functional group generating a group of the following general formula (C-VIII) or (C-IX).
【0084】[0084]
【化21】 [Chemical 21]
【0085】式(C−VIII)において、RB は炭化
水素基又は−ZB 2 −RB ′(ここでRB ′は炭化水素
を示し、ZB 2 は酸素原子又はイオウ原子を示す)を表
わす。In the formula (C-VIII), R B is a hydrocarbon group or —Z B 2 —R B ′ (where R B ′ represents a hydrocarbon and Z B 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom). Represents.
【0086】QB 1 は酸素原子又はイオウ原子を表わ
す。ZB 1 は酸素原子又はイオウ原子を表わす。式(I
X)において、QB 2 、ZB 3 及びZB 4 は各々独立に
酸素原子又はイオウ原子を表わす。Q B 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom. Z B 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom. Formula (I
In X), Q B 2 , Z B 3 and Z B 4 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom.
【0087】好ましくは、RB は置換されてもよい炭素
数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基)又は−ZB 2 −RB ′(ここでZ
B 2は酸素原子又はイオウ原子を表わす。Preferably, R B is an optionally substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group) or —Z B 2 —R B ′ (where Z is Z).
B 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom.
【0088】RB ′は、RB と同一の内容を表わす。Q
B 1 、QB 2 、ZB 1 、ZB 3 、ZB 4 は各々独立に酸
素原子又はイオウ原子を表わす。R B 'represents the same contents as R B. Q
B 1 , Q B 2 , Z B 1 , Z B 3 , and Z B 4 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom.
【0089】以上の如き分解により式(C−VIII)
又は(C−IX)で示されるホスホ基を生成する官能基
としては、一般式(X)及び/又は(XI)で示される
官能基が挙げられる。By the above decomposition, the formula (C-VIII) is obtained.
Alternatively, the functional group which forms a phospho group represented by (C-IX) includes a functional group represented by the general formula (X) and / or (XI).
【0090】[0090]
【化22】 [Chemical formula 22]
【0091】式(C−X)及び(C−XI)において、
QB 1 、QB 2 、ZB 1 、ZB 3 、ZB 4 及びRB はそ
れぞれ式(C−VIII)及び(C−IX)で定義した
通りの内容を表わす。In formulas (C-X) and (C-XI),
Represents a Q B 1, Q B 2, Z B 1, Z B 3, Z B 4 and R B are each formula (C-VIII) and content as defined in (C-IX).
【0092】LB 1 、LB 2 及びLB 3 は互いに独立に
それぞれ−〔C(RB 1 )(RB 2)〕n −XB 1 、L B 1 , L B 2 and L B 3 are each independently-[C (R B 1 ) (R B 2 )] n -X B 1 ,
【0093】[0093]
【化23】 [Chemical formula 23]
【0094】−Si(RB 3 )(RB 4 )(RB 5 )、
−CO−RB 6 、−CS−RB 7 、−CO−O−
RB 8 、−CS−O−RB 9 、−S−RB 10、-Si (R B 3 ) (R B 4 ) (R B 5 ),
-CO-R B 6, -CS- R B 7, -CO-O-
R B 8 , -CS-O-R B 9 , -S-R B 10 ,
【0095】[0095]
【化24】 [Chemical formula 24]
【0096】を表わす。LB 1 〜LB 3 が−〔C(RB
1 )(RB 2 )〕n −XB 1 又はRepresents L B 1 to L B 3 are-[C (R B
1) (R B 2)] n -X B 1 or
【0097】[0097]
【化25】 [Chemical 25]
【0098】を表わす場合において、RB 1 、RB 2 は
互いに同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原
子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)又はメ
チル基を表わす。XB 1 及びXB 2 は電子吸引性基(こ
こで、電子吸引性基とは、ハメットの置換基定数が正値
を示す置換基であり、例えばハロゲン原子、−COO
−、−CO−、−SO2 −、−CN−、−NO2 等が挙
げられる)を表し、好ましくはハロゲン原子(例えば塩
素原子、臭素原子、フッ素原子等)、−CN−、−CO
NH2 、−NO2 又は−SO2 RB ″(RB ″はメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ベ
ンジル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチ
ル基等の如き炭化水素基を表す)を表す。nは1又は2
を表わす。更に、XB 1 がメチル基の場合には、RB 1
及びRB 2 がメチル基でn=1を表わす。In the case of representing, R B 1 and R B 2 may be the same as or different from each other and represent a hydrogen atom, a halogen atom (eg chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.) or a methyl group. X B 1 and X B 2 are electron withdrawing groups (here, the electron withdrawing group is a substituent having a positive Hammett substituent constant, for example, a halogen atom or —COO).
-, - CO -, - SO 2 -, - CN -, - NO 2 , etc. represent like is) is preferably a halogen atom (e.g. a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), - CN -, - CO
NH 2, -NO 2 or -SO 2 R B "(R B " is such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, benzyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group Represents a hydrocarbon group). n is 1 or 2
Represents. Further, when X B 1 is a methyl group, R B 1
And R B 2 is a methyl group and n = 1.
【0099】LB 1 〜LB 3 が−Si(RB 3 )(RB
4 )(RB 5 )を表わす場合において、RB 3 、RB 4
及びRB 5 は互いに同じでも異なっていてもよく、好ま
しくは水素原子、置換されてもよい炭素数1〜18の直
鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、クロロエチル
基、メトキシエチル基、メトキシプロピル基等)、置換
されてもよい脂環式基(例えばシクロペンチル基、シク
ロヘキシル基等)、置換されてもよい炭素数7〜12の
アラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、クロ
ロベンジル基、メトキシベンジル基等)、置換されても
よい芳香族基(例えばフェニル基、ナフチル基、クロロ
フェニル基、トリル基、メトキシフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、ジクロロフェニル基等)又は−
O−RB ''' (RB ''' は炭化水素基を表わし、具体的
には、上記RB 3 、RB 4 、RB 5 の置換基類を例とし
て挙げることができる)を表わす。L B 1 to L B 3 are —Si (R B 3 ) (R B
4 ) (R B 5 ), R B 3 , R B 4
And R B 5 may be the same or different from each other, preferably a hydrogen atom, an optionally substituted linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group). Group, hexyl group, octyl group,
Decyl group, dodecyl group, octadecyl group, chloroethyl group, methoxyethyl group, methoxypropyl group, etc.), optionally substituted alicyclic group (eg cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), optionally substituted carbon number 7 to 12 aralkyl groups (eg, benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.) and optionally substituted aromatic groups (eg, phenyl group, naphthyl group, chlorophenyl group, tolyl group, methoxyphenyl group, methoxycarbonyl group) Phenyl group, dichlorophenyl group, etc.) or −
O—R B ″ ″ (R B ″ ″ represents a hydrocarbon group, and specifically, the substituents of R B 3 , R B 4 , and R B 5 can be mentioned as an example). Represent.
【0100】LB 1 〜LB 3 が−CO−RB 6 、−CS
−RB 7 、−CO−O−RB 8 、−CS−O−RB 9 、
又は−S−RB 10を表わす場合において、RB 6 、RB
7 、RB 8 、RB 9 及びRB 10は各々独立に炭化水素基
を表わす。好ましくは置換されていてもよい炭素数1〜
6の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、ト
リクロロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメ
チル基、フェノキシメチル基、2,2,2−トリフルオ
ロエチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、t−
ブチル基、ヘキサフルオロ−i−プロピル基等)、置換
されてもよい炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベン
ジル基、フェネチル基、メチルベンジル基、トリメチル
ベンジル基、ヘプタメチルベンジル基、メトキシベンジ
ル基等)、置換されてもよい炭素数6〜12のアリール
基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ニトロ
フェニル基、シアノフェニル基、メタンスルホニルフェ
ニル基、メトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、ク
ロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリフルオロメ
チルフェニル基等)を表わす。L B 1 to L B 3 are -CO-R B 6 , -CS.
-R B 7, -CO-O- R B 8, -CS-O-R B 9,
Or in the case of representing the -S-R B 10, R B 6, R B
7 , R B 8 , R B 9 and R B 10 each independently represent a hydrocarbon group. Preferably, it has 1 to 1 carbon atoms which may be substituted.
6 linear or branched alkyl groups (for example, methyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, phenoxymethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, ethyl group, propyl group, hexyl group) Group, t-
Butyl group, hexafluoro-i-propyl group, etc.), optionally substituted aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, trimethylbenzyl group, heptamethylbenzyl group, methoxybenzyl group) Etc.), an optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, tolyl group, xylyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, methanesulfonylphenyl group, methoxyphenyl group, butoxyphenyl group, chlorophenyl group). , Dichlorophenyl group, trifluoromethylphenyl group, etc.).
【0101】更にLB 1 〜LB 3 がFurther, L B 1 to L B 3 are
【0102】[0102]
【化26】 [Chemical formula 26]
【0103】を表わす場合において、YB 1 及びYB 2
は酸素原子又はイオウ原子を表わす。本発明に用いられ
る官能基を少なくとも1種含有する単量体(C)は、従
来公知の方法に従がい、保護基を導入することで合成す
ることができる。保護基を導入する方法としては、同様
の合成反応を用いることができる。具体的には、J.
F.W.McOmie「Protective gro
ups in Organic Chemistry」
第6章(Plenum Press,1973年刊)に
記載の方法、あるいは日本化学会編「新実験化学講座第
14巻、有機化合物の合成と反応〔V〕」第2497頁
(丸善株式会社刊、1978年)等に記載のヒドロキシ
ル基への保護基導入の方法と同様の合成反応、あるいは
S.Patai「The Chemistry of
the Triol GroupPart 2」第13
章、第14章(Wiley−Interscience
1974年刊)、T.W.Greene「Protec
tive groupsin Organic Syn
thesis」第6章(Wiley−Intersci
ence 1981年刊)等に記載のチオール基への保
護基導入の方法と同様の合成反応により製造できる。In the case of representing Y B 1 and Y B 2
Represents an oxygen atom or a sulfur atom. The monomer (C) containing at least one functional group used in the present invention can be synthesized by introducing a protecting group according to a conventionally known method. As a method for introducing a protecting group, the same synthetic reaction can be used. Specifically, J.
F. W. McOmie "Protective gro
ups in Organic Chemistry "
Method described in Chapter 6 (Plenum Press, published in 1973), or "Chemical Experimental Society of Japan, Volume 14, New Synthetic Chemistry, Vol. 14, Synthesis and Reaction of Organic Compounds [V]", page 2497, published by Maruzen Co., Ltd., 1978. ) And the like, a synthetic reaction similar to the method of introducing a protective group into a hydroxyl group, or S.I. Patai "The Chemistry of
the Triol Group Part 2 "13th
Chapter, Chapter 14 (Wiley-Interscience
1974), T.S. W. Greene "Protec
TIVE GROUPS ORGANIC SYN
thesis ”Chapter 6 (Wiley-Intersci
ence 1981) and other methods for introducing a protective group into a thiol group.
【0104】保護基に用いられる一般式(C−X)及び
/又は(C−XI)の官能基を含有する重合成分の繰り
返し単位となり得る具体的な化合物例として以下の様な
例を挙げることができる。The following examples are given as specific examples of the compound which can be a repeating unit of the polymerization component containing the functional group of the general formula (C-X) and / or (C-XI) used for the protecting group. You can
【0105】[0105]
【化27】 [Chemical 27]
【0106】[0106]
【化28】 [Chemical 28]
【0107】[0107]
【化29】 [Chemical 29]
【0108】次に、分解によりアミノ基、例えば−NH
2 基及び/又は−NHRc 基を生成する官能基として
は、例えば下記一般式(C−XII)〜(C−XIV)
で表わされる基を挙げることができる。Then, by decomposition, an amino group such as --NH
Examples of the functional group that forms 2 groups and / or —NHR c group include the following general formulas (C-XII) to (C-XIV).
The group represented by can be mentioned.
【0109】[0109]
【化30】 [Chemical 30]
【0110】式(C−XII)及び式(C−XIV)
中、Rc 0 は各々水素原子、炭素数1〜12の置換され
てもよいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチ
ル基、3−クロロプロピル基、2−シアノエチル基、2
−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、2−メト
キシカルボニルエチル基、3−メトキシプロピル基、6
−クロロヘキシル基等)、炭素数5〜8の脂環式基(例
えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、炭素数
7〜12の置換されてもよいアラルキル基(例えばベン
ジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、1−
フェニルプロピル基、クロロベンジル基、メトキシベン
ジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基等)、炭
素数6〜12の置換されてもよいアリール基(例えばフ
ェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ト
リル基、キシリル基、メシチル基、クロロメチル基、ク
ロロフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニ
ル基、クロロメトキシフェニル基等)等を表わす。Formula (C-XII) and formula (C-XIV)
In the formula, R c 0 is a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, 2 -Chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 3-chloropropyl group, 2-cyanoethyl group, 2
-Methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 3-methoxypropyl group, 6
-Chlorohexyl group, etc.), an alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), and an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg, benzyl group, phenethyl group, 3- Phenylpropyl group, 1-
Phenylpropyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, etc.), aryl group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (eg phenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, tolyl group, xylyl Group, mesityl group, chloromethyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, chloromethoxyphenyl group, etc.) and the like.
【0111】好ましくはRc 0 が該炭化水素基を表わす
場合は、炭素数1〜8の炭化水素基類が挙げられる。式
(C−XII)で表わされる官能基において、Rc 1 は
炭素数2〜12の置換されてもよい脂肪族基を表わし、
更に具体的にはRc 1 は下記式(C−XV)で示される
基を表わす。When R c 0 preferably represents the hydrocarbon group, hydrocarbon groups having 1 to 8 carbon atoms can be mentioned. In the functional group represented by the formula (C-XII), R c 1 represents an optionally substituted aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms,
More specifically, R c 1 represents a group represented by the following formula (C-XV).
【0112】[0112]
【化31】 [Chemical 31]
【0113】式(C−XV)中、A1 ,A2 は各々水素
原子、ハロゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子等)又
は炭素数1〜12の置換されてもよい炭化水素基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、2−メト
キシエチル基、2−クロロエチル基、3−ブロモプロピ
ル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、クロロベンジル
基、メトキシベンジル基、メチルベンジル基、フェネチ
ル基、3−フェニルプロピル基、フェニル基、トリル
基、キシリル基、メシチル基、クロロフェニル基、メト
キシフェニル基、ジクロロフェニル基、クロロメチルフ
ェニル基、ナフチル基等)を表わし、Ycは水素原子、
ハロゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子等)、シアノ
基、炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基等)、置換基を含有しても
よい芳香族基(例えばフェニル基、トリル基、シアノフ
ェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、2,4,6−
トリメチルフェニル基、ヘプタメチルフェニル基、2,
6−ジメトキシフェニル基、2,4,6−トリメトキシ
フェニル基、2−プロピルフェニル基、2−ブチルフェ
ニル基、2−クロロ−6−メチルフェニル基、フラニル
基等)又は−SO2 −Rc 6 (Rc 6 はYc の炭化水素
基と同様の内容を表わす)等を表わす。nは1又は2を
表わす。In formula (C-XV), A 1 and A 2 are each a hydrogen atom, a halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, etc.) or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (eg, methyl group). Group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-chloroethyl group, 3-bromopropyl group, cyclohexyl group, benzyl group, chlorobenzyl group, methoxy Benzyl group, methylbenzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, dichlorophenyl group, chloromethylphenyl group, naphthyl group, etc., Y c is a hydrogen atom,
Halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, etc.), cyano group, alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), aromatic group which may have a substituent (For example, phenyl group, tolyl group, cyanophenyl group, 2,6-dimethylphenyl group, 2,4,6-
Trimethylphenyl group, heptamethylphenyl group, 2,
6-dimethoxyphenyl group, 2,4,6-trimethoxyphenyl group, 2-propylphenyl group, 2-butylphenyl group, 2-chloro-6-methylphenyl group, furanyl group) or -SO 2 -R c 6 (R c 6 has the same meaning as the hydrocarbon group of Y c ) and the like. n represents 1 or 2.
【0114】より好ましくは、Yc が水素原子又はアル
キル基の場合には、ウレタン結合の酸素原子に隣接する
炭素上のa1 及びa2 は水素原子以外の置換基を表わ
す。Yc が水素原子又はアルキル基でない場合には、A
1 及びA2 は上記内容のいずれの基でもよい。More preferably, when Y c is a hydrogen atom or an alkyl group, a 1 and a 2 on the carbon adjacent to the oxygen atom of the urethane bond represent a substituent other than a hydrogen atom. When Y c is not a hydrogen atom or an alkyl group, A
1 and A 2 may be any of the groups described above.
【0115】即ち、−〔C(A1 )(A2 )〕n −Yc
において、少なくとも1つ以上の電子吸引性基を含有す
る基を形成する場合あるいはウレタン結合の酸素原子に
隣接する炭素が立体的にかさ高い基を形成する場合が好
ましい例であることを示すものである。That is,-[C (A 1 ) (A 2 )] n -Y c
In the above, it is shown that the case where a group containing at least one or more electron-withdrawing groups is formed or the case where the carbon adjacent to the oxygen atom of the urethane bond forms a sterically bulky group is a preferable example. is there.
【0116】又、Rc 1 は脂環式基{例えば単環式炭化
水素基(シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、1−メチル−シクロヘキ
シル基、1−メチルシクロブチル基等)又は架橋環式炭
化水素基(ビシクロオクタン基、ビシクロオクテン基、
ビシクロノナン基、トリシクロヘプタン基等)等}を表
わす。R c 1 is an alicyclic group (eg, a monocyclic hydrocarbon group (cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 1-methyl-cyclohexyl group, 1-methylcyclobutyl group, etc.) Or a bridged cyclic hydrocarbon group (bicyclooctane group, bicyclooctene group,
Bicyclononane group, tricycloheptane group and the like).
【0117】一般式(C−XIII)において、Rc 2
及びRc 3 は同じでも異なっていてもよく、各々炭素数
1〜12の炭化水素基を表わし、具体的には、式(C−
XII)のYc における脂肪族基又は芳香族基と同様の
内容を表わす。In the general formula (C-XIII), R c 2
And R c 3, which may be the same or different, each represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and specifically, is represented by the formula (C-
It has the same meaning as the aliphatic group or aromatic group in Y c of XII).
【0118】一般式(C−XIV)において、Xc 1 及
びXc 2 は同じでも異なっていてもよく、各々酸素原子
又はイオウ原子を表わす。Rc 4 、Rc 5 は同じでも異
なっていてもよく、各々炭素数1〜8の炭化水素基を表
わし、具体的には式(C−XII)のYc における脂肪
族基又は芳香族基を表わす。In formula (C-XIV), X c 1 and X c 2 may be the same or different and each represents an oxygen atom or a sulfur atom. R c 4 and R c 5 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, specifically, an aliphatic group or an aromatic group for Y c of formula (C-XII). Represents.
【0119】式(C−XII)〜(C−XIV)の官能
基の具体例を以下に示す。Specific examples of the functional groups of the formulas (C-XII) to (C-XIV) are shown below.
【0120】[0120]
【化32】 [Chemical 32]
【0121】[0121]
【化33】 [Chemical 33]
【0122】[0122]
【化34】 [Chemical 34]
【0123】[0123]
【化35】 [Chemical 35]
【0124】本発明に用いられる分解によりアミノ基
(例えば−NH2 基及び/又は−NHR基)を生成する
官能基、例えば上記一般式(C−XII)〜(C−XI
V)の群から選択される官能基を少なくとも1種含有す
る単量体(C)は、例えば日本化学編「新実験化学講座
第14巻、有機化合物の合成と反応〔V〕」第2555
頁(丸善株式会社刊)、J.F.W.McOmie P
rotective groups in Organ
ic Chemistry」第2章(Plenum P
ress 1973年刊)、「Protective
groups in Organic Sinthes
is」第7章(John Wiley &Sons、1
981年刊)等に記載の方法によって製造することがで
きる。Functional groups used in the present invention which generate an amino group (for example, --NH 2 group and / or --NHR group) by decomposition, such as the above general formulas (C-XII) to (C-XI).
The monomer (C) containing at least one functional group selected from the group V) is, for example, “New Experimental Chemistry Lecture Vol. 14, Organic Compound Synthesis and Reaction [V]” No. 2555, edited by Nippon Kagaku.
Page (published by Maruzen Co., Ltd.), J. F. W. McOmie P
protective groups in Organ
ic Chemistry "Chapter 2 (Plenum P
(Res. 1973), "Protective
groups in Organic Sinthes
is ”Chapter 7 (John Wiley & Sons, 1
981) and the like.
【0125】更に又、分解により少なくとも1つのスル
ホ基を生成する官能基としては、例えば一般式(C−X
VI)又は(C−XVII)で表わされる官能基が挙げ
られる。Further, as the functional group capable of generating at least one sulfo group by decomposition, for example, a general formula (C-X
VI) or a functional group represented by (C-XVII).
【0126】 一般式(C−XVI) −SO2 −O−RD 1 一般式(C−XVII) −SO2 −S−RD 2 式(C−XVI)中RD 1 は−〔C(RD 3 )
(RD 4 )〕n −YD 、[0126] Formula (C-XVI) -SO 2 -O -R D 1 formula (C-XVII) -SO 2 -S -R D 2 formula (C-XVI) Medium R D 1 is - [C ( R D 3 )
(R D 4)] n -Y D,
【0127】[0127]
【化36】 [Chemical 36]
【0128】又は−NHCORD 7 を表わす。式(C−
XVII)中、RD 2 は、炭素数1〜18の置換されて
もよい脂肪族基、又は炭素数6〜22の置換基を有して
もよいアリール基を表わす。[0128] or represents a -NHCOR D 7. Formula (C-
In XVII), R D 2 represents an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted, or an aryl group having 6 to 22 carbon atoms which may have a substituent.
【0129】上記一般式(C−XVI)、(C−XVI
I)の官能基は分解によって、スルホ基を生成するもの
であり、以下に更に詳しく説明する。RD 1 が−〔C
(RD 3 )(RD 4 )−YD を表わす場合において、R
D 3 、RD 4 は同じでも異なってもよく、水素原子、ハ
ロゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子、臭素原子等)
又は炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基)を表わす。YD は炭素数1〜18の置換されてもよ
いアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、トリフロロメ
チル基、メタンスルホニルメチル基、シアノメチル基、
2−メトキシエチル基、エトキシメチル基、クロロメチ
ル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、2−メ
トキシカルボニルエチル基、2−プロポキシカルボニル
エチル基、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基
等)、炭素数2〜18の置換されてもよいアルケニル基
(例えばビニル基、アリル基等)、炭素数6〜12の置
換基を含有してもよいアリール基(例えばフェニル基、
ナフチル基、ニトロフェニル基、ジニトロフェニル基、
シアノフェニル基、トリフロロメチルフェニル基、メト
キシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニ
ル基、メタンスルホニルフェニル基、ベンゼンスルホニ
ルフェニル基、トリル基、キシリル基、アセトキシフェ
ニル基、ニトロナフチル基等)又は−CO−RD 8 (R
D 8 は脂肪族基又は芳香族基を表わし、具体的には上記
YD の置換基の内容と同一のものを表わす)を表わす。
nは0、1又は2を表わす。より好ましくは、置換基:
−〔C(RD 3 )(RD 4 )〕n −YD において、少な
くとも1つの電子吸引性基を含有する官能基が挙げられ
る。具体的には、nが0で、YDが置換基として電子吸
引性基を含有しない炭化水素基の場合、−〔C
(RD 3 )(RD 4 )〕n −において、少なくとも1ケ
以上のハロゲン原子を含有する。又nが0、1又は2
で、YD が電子吸引性基を少なくとも1つ含有する。更
には、n=1又は2で、−CO−RD 8 や−〔C(RD
3 )(RD 4 )〕−CO−RD 8 等が挙げられる。The above general formulas (C-XVI) and (C-XVI)
The functional group of I) produces a sulfo group by decomposition, and will be described in more detail below. R D 1 is-[C
In the case of representing ( RD 3 ) ( RD 4 ) -Y D , R
D 3 and R D 4 may be the same or different and each is a hydrogen atom, a halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.).
Alternatively, it represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group). Y D is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group,
Decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, trifluoromethyl group, methanesulfonylmethyl group, cyanomethyl group,
2-methoxyethyl group, ethoxymethyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-propoxycarbonylethyl group, methylthiomethyl group, ethylthiomethyl group, etc.), carbon number 2 To 18 optionally substituted alkenyl groups (eg vinyl group, allyl group, etc.), aryl groups having 6 to 12 carbon atoms and optionally substituted groups (eg phenyl group,
Naphthyl group, nitrophenyl group, dinitrophenyl group,
Cyanophenyl group, trifluoromethylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, methanesulfonylphenyl group, benzenesulfonylphenyl group, tolyl group, xylyl group, acetoxyphenyl group, nitronaphthyl group, etc.) or -CO-R D 8 (R
D 8 represents an aliphatic group or an aromatic group, and specifically represents the same as the content of the substituent of Y D ).
n represents 0, 1 or 2. More preferably, the substituents:
- In [C (R D 3) (R D 4) ] n -Y D, include functional group containing at least one electron withdrawing group. Specifically, when n is 0 and Y D is a hydrocarbon group containing no electron-withdrawing group as a substituent,-[C
(R D 3) (R D 4) ] n - in, it contains at least 1 pc or more halogen atoms. N is 0, 1 or 2
And Y D contains at least one electron withdrawing group. Furthermore, in n = 1 or 2, or -CO-R D 8 - [C (R D
3 ) (R D 4 )]-CO-R D 8 and the like.
【0130】もう1つの好ましい置換基として、−SO
2 −O−RD において酸素原子に隣接する炭素原子に少
なくとも2つの炭化水素基が置換するかあるいは、n=
0又は1で、YD がアリール基の場合に、アリール基の
2−位及び6−位に置換基を有する場合が挙げられる。Another preferred substituent is --SO.
In 2- O- RD , the carbon atom adjacent to the oxygen atom is substituted with at least two hydrocarbon groups, or n =
The case where it is 0 or 1 and Y D is an aryl group having a substituent at the 2-position and the 6-position of the aryl group can be mentioned.
【0131】RD 1 がR D 1 is
【0132】[0132]
【化37】 [Chemical 37]
【0133】を表わす場合において、ZD は、環状イミ
ド基を形成する有機残基を表わす。好ましくは、一般式
(C−XVIII)又は(C−XIX)で示される有機
残基を表わす。In the case of representing, Z D represents an organic residue forming a cyclic imide group. Preferably, it represents an organic residue represented by the general formula (C-XVIII) or (C-XIX).
【0134】[0134]
【化38】 [Chemical 38]
【0135】式(C−XVIII)中、RD 9 、RD 10
は各々同じでも異なってもよく、各々水素原子、ハロゲ
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、炭素数1〜1
8の置換されてもよいアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、2−クロロエチル基、2−メトキシエチル基、
2−シアノエチル基、3−クロロプロピル基、2−(メ
タンスルホニル)エチル基、2−(エトキシオキシ)エ
チル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラル
キル基(例えばベンジル基、フェネチル基、3−フェニ
ルプロピル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル
基、メトキシベンジル基、クロロベンジル基、ブロモベ
ンジル基等)、炭素数3〜18の置換されてもよいアル
ケニル基(例えばアリル基、3−メチル−2−プロペニ
ル基等)、RD 1 が−N=C(RD 5 )(RD 6 )を表
わす場合において、RD 5 、RD 6 は各々水素原子、脂
肪族基(具体的にはRD 3 、RD 4 のそれと同一の内容
を表わす)又はアリール基(具体的にはRD 3 、RD 4
のそれと同一の内容を表わす)を表わす。但し、RD 5
及びRD 6 がともに水素原子を表わすことはない。In the formula (C-XVIII), R D 9 , R D 10
May be the same or different, and each is a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), and a carbon number of 1 to 1.
8 optionally substituted alkyl groups (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group) Base,
2-cyanoethyl group, 3-chloropropyl group, 2- (methanesulfonyl) ethyl group, 2- (ethoxyoxy) ethyl group, etc.), and aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms which may be substituted (eg, benzyl group, phenethyl group). Group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, etc.), an alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms which may be substituted (eg, allyl group, 3- Methyl-2-propenyl group, etc.), and R D 1 represents —N═C (R D 5 ) (R D 6 ), R D 5 and R D 6 are each a hydrogen atom or an aliphatic group (specifically, Represents the same contents as those of R D 3 , R D 4 ) or an aryl group (specifically R D 3 , R D 4
Represents the same content as that of). However, R D 5
Neither R D 6 represents a hydrogen atom.
【0136】RD 1 が−NHCORD 7 を表わす場合に
おいて、RD 7 は脂肪族基又はアリール基を表わし、具
体的にはRD 3 、RD 4 のそれと同一の内容を各々表わ
す。式(C−XVII)中、RD 2 は炭素数1〜18の
置換されてもよい脂肪族基又は炭素数6〜22の置換基
を有してもよいアリール基を表わす。When R D 1 represents —NHCOR D 7 , R D 7 represents an aliphatic group or an aryl group, and specifically has the same contents as those of R D 3 and R D 4 . In formula (C-XVII), R D 2 represents an optionally substituted aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aryl group having 6 to 22 carbon atoms which may have a substituent.
【0137】更に具体的には前記した式(C−XVI)
で表わされるYD における脂肪族基又はアリール基と同
様の内容を表わす。本発明に用いられる一般式〔−SO
2 −O−RD 1 〕又は〔−SO2 −O−RD 2 〕群から
選択される官能基を少なくとも1種含有する単量体
(C)は、従来公知の有機反応の知見に基づいて合成す
る事ができる。More specifically, the above-mentioned formula (C-XVI)
The same content as the aliphatic group or aryl group in Y D represented by The general formula used in the present invention [-SO
2 -O-R D 1) or (-SO 2 -O-R D 2] monomer containing at least one functional group selected from the group (C) is based on the knowledge of the conventionally known organic reactions Can be synthesized.
【0138】例えば、J.F.W.McOmie,「P
rotective groupsin Organi
c Chemistry」;Prenum Press
(1973年刊)、T.W.Greene,「Prot
ective groupsin Organic S
ynthesis」 John Wiley & So
ns(1980年刊)等のカルボキシル基の保護反応と
同様にして合成できる。For example, J. F. W. McOmie, "P
rotary group Organi
c Chemistry "; Prenum Press
(Published in 1973), T.W. W. Greene, "Prot
active groups Organic S
"Thensis" John Wiley & So
It can be synthesized in the same manner as the carboxyl group protection reaction such as ns (published in 1980).
【0139】更に具体的に一般式(C−XVI)−SO
2 −O−RD 1 又は一般式(C−XVII)−SO2 −
O−RD 2 の官能基として以下の様な例を挙げることが
できるが、本発明の範囲はこれらに限定されるものでは
ない。More specifically, the general formula (C-XVI) -SO
2- O-R D 1 or general formula (C-XVII) -SO 2-
Examples of the functional group of O—R D 2 include the following, but the scope of the present invention is not limited to these.
【0140】[0140]
【化39】 [Chemical Formula 39]
【0141】[0141]
【化40】 [Chemical 40]
【0142】[0142]
【化41】 [Chemical 41]
【0143】[0143]
【化42】 [Chemical 42]
【0144】本発明の樹脂粒子〔L〕は、単量体〔C〕
とともに他の単量体を共存下に重合されてもよい。他の
単量体は、単量体〔C〕と共重合しうること及び共重合
体が該非水溶媒に不溶性重合体となるものであればいず
れでもよい。The resin particles [L] of the present invention are composed of the monomer [C]
It may be polymerized together with other monomers. Any other monomer may be used as long as it can be copolymerized with the monomer [C] and the copolymer becomes an insoluble polymer in the non-aqueous solvent.
【0145】これらの単量体と共重合しうる他の単量体
としては、例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪
酸ビニル、酢酸アリル、プロピオン酸アリル等の如き脂
肪族カルボン酸ビニルあるいはアリルエステル類、アク
リル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレ
イン酸、フマール酸等の如き不飽和カルボン酸のエステ
ル類又はアミド類、スチレン、ビニルトルエン、α−メ
チルスチレンの如きスチレン誘導体、α−オレフィン
類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、N−ビニ
ルピロリドンの如きビニル基置換のヘテロ環化合物等が
挙げられる。Other monomers copolymerizable with these monomers include, for example, aliphatic vinyl carboxylates such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, allyl acetate, allyl propionate and allyl esters. , Esters or amides of unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, etc., styrene derivatives such as styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, α-olefins , Vinyl group-substituted heterocyclic compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile, and N-vinylpyrrolidone.
【0146】これら他の単量体は、不溶化する全重合体
成分100重量部中60重量部以下であり、好ましくは
50重量部以下である。他の単量体が60重量部を越え
ると、オフセット印刷用原版としての保水性向上効果が
低下する。The amount of these other monomers is 60 parts by weight or less, preferably 50 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the total insoluble polymer component. If the amount of the other monomer exceeds 60 parts by weight, the effect of improving the water retention property as the original plate for offset printing decreases.
【0147】以上の様な分解して親水性基を生成する官
能基含有の単量体(C)とともに共重合し得る、フッ素
原子及び/又はケイ素原子を少なくとも2個以上含有す
る置換基を含む一官能性単量体(D)について説明する
と、本発明の一官能性単量体(D)は、上記要件を満た
す化合物であれば何れでもよい。また、以下に具体的な
置換基の内容を説明するが、これらの化学構造に限定さ
れるものではない。It contains a substituent containing at least two fluorine atoms and / or silicon atoms, which is copolymerizable with the functional group-containing monomer (C) which decomposes to form a hydrophilic group. Explaining the monofunctional monomer (D), the monofunctional monomer (D) of the present invention may be any compound as long as it satisfies the above requirements. The specific contents of the substituents will be described below, but the present invention is not limited to these chemical structures.
【0148】フッ素原子含有の置換基としては、例えば
−C h F 2h+1(hは1〜12の整数を表わす)、−(CF
2 ) j CF2 H (jは1〜11の整数を表わす)、−C 6
H lF l'〔(l 、l'は各々1〜5の整数、但し、l+l'=
5)又は(l =5−l'、l'は1〜5の整数)〕等が挙げ
られる。Examples of the fluorine atom-containing substituent include -C h F 2h + 1 (h represents an integer of 1 to 12),-(CF
2 ) j CF 2 H (j represents an integer of 1 to 11), -C 6
H l F l ′ [(l and l ′ are each an integer of 1 to 5, where l + l ′ =
5) or (l = 5-l ', l'is an integer of 1 to 5)] and the like.
【0149】ケイ素原子含有の置換基としては例えば、
−Si(R3 )(R 4 )(R 5 ) 、− Si(R 6 )(R 7 )O k -R8
(kは1〜20の整数を表わす)、ポリシロキサン構造
等が挙げられる。Examples of the substituent containing a silicon atom include:
−Si (R3) (RFour) (RFive), − Si (R 6) (R7) Ok-R8
(K represents an integer of 1 to 20), polysiloxane structure
Etc.
【0150】但し、R 3 , R 4 , R 5 は、同じでも異な
ってもよく、置換されていてもよい炭化水素基又は−OR
9 基(R 9 は、R 3 の炭化水素基と同一の内容を表わ
す)を表わす。However, R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different and may be an optionally substituted hydrocarbon group or —OR.
Represents 9 groups (R 9 represents the same content as the hydrocarbon group of R 3 ).
【0151】R 3 は、炭素数1〜18の置換されてもよ
いアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ド
デシル基、ヘキサデシル基、2−クロロエチル基、2−
ブロモエチル基、2,2,2−トリフロロエチル基、2
−シアノエチル基、3,3,3−トリフロロプロピル
基、2−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基、2
−メトキシカルボニルエチル基、2,2,2,2′,
2′,2′−ヘキサフロロイソプロピル基、等)、炭素
数4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、
2−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−
ペンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペ
ンテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4
−メチル−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置
換されていてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル
基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチル
メチル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、
ブロモベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル
基、メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメト
キシベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されていても
よい脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロ
ヘキシル基、2−シクロペンチルエチル基等)又は炭素
数6〜12の置換されていてもよい芳香族基(例えば、
フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロ
ピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル
基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキ
シフェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェ
ニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロ
モフェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル
基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニ
ルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセト
アミドフェニル基、プロピルアミドフェニル基、ドデシ
ロイルアミドフェニル基等)があげられる。R 3 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, 2 -Chloroethyl group, 2-
Bromoethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2
-Cyanoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, 2
-Methoxycarbonylethyl group, 2,2,2,2 ',
2 ′, 2′-hexafluoroisopropyl group, etc.), an alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms which may be substituted (eg,
2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-
Pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4
-Methyl-2-hexenyl group, etc.), an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms and which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chloro) Benzyl group,
A bromobenzyl group, a methylbenzyl group, an ethylbenzyl group, a methoxybenzyl group, a dimethylbenzyl group, a dimethoxybenzyl group, etc.) and an alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms which may be substituted (eg, a cyclohexyl group, 2- A cyclohexyl group, a 2-cyclopentylethyl group, etc.) or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg,
Phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group , Bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propylamidophenyl group, dodecyloylamidophenyl group, etc.).
【0152】−OR9 基において、R 9 は、上記R 3 の炭
化水素基と同一の内容を表わす。In the —OR 9 group, R 9 has the same meaning as the hydrocarbon group for R 3 above.
【0153】R 6 , R 7 , R 8 は同じでも異なってもよ
く、R 3 , R 4 , R 5 と同一の記号の内容を表わす。R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and represent the same symbols as R 3 , R 4 and R 5 .
【0154】次に、以上の様なフッ素原子及び/又はケ
イ素原子を含有した置換基を有する繰り返し単位の具体
例を以下に示す。ここで、bはH又はCH3 を示し、Rfは
-CH2 C h C 2h+1 -(CH 2 ) 2 -(CF2 ) j CF2 H を示
し、R 1 ′, R 2 ′, R 3 ′は炭素数1〜12のアルキ
ル基を示し、R″は−Si(CH 3 ) 3 を示し、hは1〜1
2の整数を示し、jは1〜11の整数を示し、iは1〜
3の整数を示し、lは1〜5の整数を示し、qは1〜2
0の整数を示し、rは0又は1〜20の整数を示し、お
よびtは2〜12の整数を示す。しかし、本発明の範囲
がこれらに限定されるものではない。Next, specific examples of the repeating unit having a substituent containing a fluorine atom and / or a silicon atom as described above are shown below. Here, b represents H or CH 3 , and Rf is
-CH 2 C h C 2h + 1 - (CH 2) 2 - (CF 2) shows a j CF 2 H, R 1 ' , R 2', R 3 ' represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R ″ represents —Si (CH 3 ) 3 and h is 1 to 1.
2 is an integer, j is an integer of 1 to 11, and i is 1 to
3 is an integer, 1 is an integer of 1 to 5, and q is 1 to 2.
Represents an integer of 0, r represents 0 or an integer of 1 to 20, and t represents an integer of 2 to 12. However, the scope of the present invention is not limited to these.
【0155】[0155]
【化43】 [Chemical 43]
【0156】[0156]
【化44】 [Chemical 44]
【0157】[0157]
【化45】 [Chemical 45]
【0158】[0158]
【化46】 [Chemical 46]
【0159】[0159]
【化47】 [Chemical 47]
【0160】以上の様な極性基含有の単量体(C)及び
フツ素原子及び/又はケイ素原子含有の単量体(D)と
ともに、これら以外の共重合し得る他の単量体を重合体
成分として含有してもよい。In addition to the polar group-containing monomer (C) and the fluorine atom and / or silicon atom-containing monomer (D) as described above, other copolymerizable monomers other than these are added. You may contain as a united component.
【0161】他の単量体としては後記する一般式(X)
の繰り返し単位に相当する単量体あるいは該式(X)で
示される成分に相当する単量体と共重合するものが挙げ
られる。The other monomer may be a compound represented by the general formula (X) described below.
And a monomer corresponding to the monomer represented by the formula (X).
【0162】この非水溶液に不溶となる重合成分として
重要なことは、前記した蒸留水に対する接触角で表され
る親水性が50度以下を満足できるものであればよい。What is important as the polymerization component which is insoluble in the non-aqueous solution is that it can satisfy the hydrophilicity represented by the contact angle to distilled water of 50 degrees or less.
【0163】本発明の分散安定用樹脂は、該非水溶媒に
可溶性の重合体であればいずれでもよいが、具体的に
は、K.B.J.Barrett「Dispersio
n Polymerization in Organ
ic Media」JohnWiley and So
ns(1975年刊)、R.Dowpenco,D.
P.Hart,Ind.Eng.Chem.Prod.
Res.Develop.12,(No.1)、14
(1973)、丹下豊吉、日本接着協会誌 23
(1),26(1987)、D.J.Walbridg
e、NATO.Adv.Study Inst.Se
r.E.No.67,40(1983)、Y.Sasa
ki and M.Yabuta,Proc,10t
h,Int.Conf.Org.Coat.Sci.T
echnol,10,263(1984)等の総説に引
例の各重合体が挙げられる。The dispersion stabilizing resin of the present invention is used in the non-aqueous solvent.
Any soluble polymer may be used, but specifically
K. B. J. Barrett "Dispersio
n Polymerization in Organ
ic Media "John Wiley and So
ns (1975), R.N. Dowpenco, D.M.
P. Hart, Ind. Eng. Chem. Prod.
Res. Development.12, (No. 1), 14
(1973), Tokichi Tange, Journal of Japan Adhesion Society23
(1), 26 (1987), D.I. J. Walbridge
e, NATO. Adv. Study Inst. Se
r. E. No. 67, 40 (1983), Y. Sasa
ki and M.K. Yabuta, Proc, 10t
h, Int. Conf. Org. Coat. Sci. T
echnol,10, 263 (1984) etc.
Each example polymer may be mentioned.
【0164】例えばオレフィン重合体、変性オレフィン
重合体、スチレン−オレフィン共重合体、脂肪族カルボ
ン酸ビニルエステル共重合体、変性無水マレイン酸共重
合体、ポリエステル重合体、ポリエーテル重合体、メタ
クリレートホモ重合体、アクリレートホモ重合体、メタ
クリレート共重合体、アクリレート共重合体、アルキッ
ド樹脂等である。For example, olefin polymer, modified olefin polymer, styrene-olefin copolymer, aliphatic carboxylic acid vinyl ester copolymer, modified maleic anhydride copolymer, polyester polymer, polyether polymer, methacrylate homopolymer. Examples thereof include polymer, acrylate homopolymer, methacrylate copolymer, acrylate copolymer, and alkyd resin.
【0165】より具体的には、本発明の分散安定用樹脂
の繰り返し単位として供される重合体成分としては、下
記一般式(X)で表される成分が挙げられる。More specifically, the polymer component used as the repeating unit of the dispersion stabilizing resin of the present invention includes a component represented by the following general formula (X).
【0166】[0166]
【化48】 [Chemical 48]
【0167】式(X)中、X2 は式(II)のV0 と同一の
内容を表わし、詳細は式(II)のV0の説明に記載されて
いる。[0167] formula (X), X 2 represents the same content as V 0 which Formula (II), details are given in the description of V 0 which formula (II).
【0168】R21は、炭素数1〜22の置換されてもよ
いアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ぺンチル基、ヘキシル基、オクチル基、
ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テト
ラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ドサコ
ニル基、2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル基、2
−(N−モルホリノ)エチル基、2−クロロエチル基、
2−ブロモエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−シ
アノエチル基、2−(α−チエニル)エチル基、2−カ
ルボキシエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、
2,3−エポキシプロピル基、2,3−ジアセトキシプ
ロピル基、3−クロロプロピル基、4−エトキシカルボ
ニルブチル基等)、炭素数3〜22の置換されてもよい
アルケニル基(例えばアリル基、ヘキセニル基、オクテ
ニル基、ドセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、
オクタデセニル基、オレイル基、リノレイル基等)、炭
素数7〜22の置換されてもよいアラルキル基(例えば
ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、
2−ナフチルメチル基、2−(2′−ナフチル)エチル
基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベン
ジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、
メトキシベンジル基、ジメトキシベンジル基、ブチルベ
ンジル基、メトキシカルボニルベンジル基等)、炭素数
4〜12の置換されてもよい脂環式基(例えばシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、アダ
マンチル基、クロロシクロヘキシル基、メチルシクロヘ
キシル基、メトキシシクロヘキシル基等)、炭素数6〜
22の置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、
トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、アン
トラニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ブ
チルフェニル基、ヘキシルフェニル基、オクチルフェニ
ル基、デシルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、オクチルオキシフ
ェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、アセチルフ
ェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、ブチルメチ
ルフェニル基、N,N−ジブチルアミノフェニル基、N
−メチル−N−ドデシルフェニル基、チエニル基、ヒラ
ニル基等)等が挙げられる。R 21 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group,
Nonyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, dosaconyl group, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl group, 2
-(N-morpholino) ethyl group, 2-chloroethyl group,
2-bromoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2- (α-thienyl) ethyl group, 2-carboxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group,
2,3-epoxypropyl group, 2,3-diacetoxypropyl group, 3-chloropropyl group, 4-ethoxycarbonylbutyl group, etc., and an alkenyl group having 3 to 22 carbon atoms which may be substituted (eg, allyl group, Hexenyl group, octenyl group, docenyl group, dodecenyl group, tridecenyl group,
Octadecenyl group, oleyl group, linoleyl group, etc.), aralkyl group having 7 to 22 carbon atoms which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group,
2-naphthylmethyl group, 2- (2'-naphthyl) ethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, trimethylbenzyl group,
Methoxybenzyl group, dimethoxybenzyl group, butylbenzyl group, methoxycarbonylbenzyl group, etc.), alicyclic group having 4 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclooctyl group, adamantyl group, chloro) Cyclohexyl group, methylcyclohexyl group, methoxycyclohexyl group, etc.), carbon number 6 to
22 optionally substituted aromatic groups (eg, phenyl group,
Tolyl group, xylyl group, mesityl group, naphthyl group, anthranyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, butylphenyl group, hexylphenyl group, octylphenyl group, decylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, Octyloxyphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, acetylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, butylmethylphenyl group, N, N-dibutylaminophenyl group, N
-Methyl-N-dodecylphenyl group, thienyl group, hiranyl group, etc.) and the like.
【0169】c1 ,c2 は式(II)中のb1 ,b2 と同一
の内容を表わし、詳細は式(II)のb1 ,b2 の説明に記
載される。[0169] c 1, c 2 represents a b 1, b 2 the same contents as in Formula (II), details are described in the description of the b 1, b 2 of the formula (II).
【0170】本発明の分散安定用樹脂中の重合体成分と
して、以上述べた成分とともに、他の重合体成分ととも
に、他の重合体成分を含有してもよい。As the polymer component in the dispersion stabilizing resin of the present invention, other polymer components may be contained in addition to the above-mentioned components.
【0171】他の重合体成分としては、一般式(X)で
示される成分に相当する単量体と共重合するものであれ
ばいずれでもよく、相当する単量体としては、例えば、
α−オレフィン類、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、ビニル含有複素環類(複素環としては例えばピラ
ン環、ピロリドン環、イミダゾール環、ピリジン環
等)、ビニル基含有のカルボン酸類(例えばアクリル
酸、メタアクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイ
ン酸等)、ビニル基含有のカルボキシアミド類(例えば
アクリルアミド、メタクリルアミド、クロトン酸アミ
ド、イタコン酸アミド、イタコン酸半アミド、イタコン
酸ジアミド等)等が挙げられる。The other polymer component may be any as long as it copolymerizes with the monomer corresponding to the component represented by the general formula (X). Examples of the corresponding monomer include:
α-olefins, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl-containing heterocycles (as the heterocycle, for example, pyran ring, pyrrolidone ring, imidazole ring, pyridine ring, etc.), vinyl group-containing carboxylic acids (eg acrylic acid, methacrylic acid) , Crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, etc.), vinyl group-containing carboxamides (eg, acrylamide, methacrylamide, crotonic acid amide, itaconic acid amide, itaconic acid half amide, itaconic acid diamide, etc.) and the like.
【0172】本発明の分散安定用樹脂において、一般式
(X)で示される重合体成分は、該樹脂の全重合体10
0重量部中30重量部以上、好ましくは50重量部以上
である。In the dispersion stabilizing resin of the present invention, the polymer component represented by the general formula (X) is the total polymer 10 of the resin.
It is 30 parts by weight or more, preferably 50 parts by weight or more in 0 parts by weight.
【0173】又、本発明の分散安定用樹脂おいて、光及
び/又は熱硬化性官能基を該樹脂の全重合体100重量
部中30重量部以、好ましくは20重量部以下の範囲で
含有してもよい。含有される光及び/又は熱硬化性官能
基としては、重合性官能基以外のものが挙げられ、具体
的に後述する粒子の架橋構造形成の官能基があげられ
る。In the dispersion stabilizing resin of the present invention, the light and / or thermosetting functional group is contained in an amount of 30 parts by weight or less, preferably 20 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the total polymer of the resin. You may. Examples of the photo- and / or thermosetting functional group to be contained include those other than the polymerizable functional group, and specific examples thereof include functional groups for forming a crosslinked structure of particles which will be described later.
【0174】該分散安定用樹脂としての重合体成分の1
つとして、熱及び/又は光硬化性基を含有させた場合に
は、更に結着樹脂と化学結合することで溶出を更に抑制
することができる。One of the polymer components as the dispersion stabilizing resin
As a result, when a heat and / or photocurable group is contained, further elution can be further suppressed by further chemically bonding to the binder resin.
【0175】更には、本発明の分散安定用樹脂が、高分
子鎖中に前記した一般式(II)で示される重合性二重結合
基部分を少なくとも1種含有して成ることが好ましい。Further, it is preferable that the dispersion stabilizing resin of the present invention contains at least one polymerizable double bond group moiety represented by the general formula (II) in the polymer chain.
【0176】以下に、該重合性二重結合基部分について
説明する。The polymerizable double bond group portion will be described below.
【0177】[0177]
【化49】 [Chemical 49]
【0178】一般式(II)において、V0 は−O−、−C
OO−、−OCO−、−(CH2 )p −OCO−、−
(CH2 )p −COO−、−SO2 −、−CONR1 、
−SO2 NR1 、−C6 H4 −、−CONHCOO−、
又は−CONHCONH−を表わす(pは1〜4の整数
を表す)。In the general formula (II), V 0 is -O-, -C
OO -, - OCO -, - (CH 2) p -OCO -, -
(CH 2) p -COO -, - SO 2 -, - CONR 1,
-SO 2 NR 1, -C 6 H 4 -, - CONHCOO-,
Or represents -CONHCONH- (p represents an integer of 1 to 4).
【0179】ここでR1 は水素原子のほか、好ましい炭
化水素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよい
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シ
アノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−
メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数
4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば2−
メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペン
テニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテ
ニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メ
チル−2−ヘキセニル基、等)、炭素数7〜12の置換
されていてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、
フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチ
ル基、2−ナフチルエチル基基、クロロベンジル基、ブ
ロモベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル
基、メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメト
キシベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されていても
よい脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロ
ヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル基、
等)、又は、炭素数6〜12の置換されていてもよい芳
香族基(例えばフェニル基、ナフチル基、トリル基、キ
シリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オ
クチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェ
ニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デ
シルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフ
ェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、アセ
チルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エト
キシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニ
ル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフェニ
ル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)が挙げられ
る。In addition to hydrogen atom, R 1 is preferably a hydrocarbon group which may be substituted and has 1 to 18 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group). , Hexyl group, octyl group,
Decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-
Methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms which may be substituted (eg, 2-
Methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, Etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, a benzyl group,
Phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), An alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms which may be substituted (eg, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group,
Etc.) or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, Methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, Acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecyloylamidophenyl group and the like).
【0180】V0 が−C6 H4 −を表わす場合、ベンゼ
ン環は、置換基を有してもよい。置換基としては、ハロ
ゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、クロロメチル基、メトキシメチル基、等)、アルコ
キシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ
基、ブトキシ基等)等が挙げられる。[0180] V 0 is -C 6 H 4 - may represent a benzene ring may have a substituent. As the substituent, a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), an alkoxy group (eg, methoxy group) Group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.) and the like.
【0181】b1 及びb2 は、互いに同じでも異なって
いてもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4の
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等)−COO−R2 又は炭化水素を介した
COOR2 (R2 は、水素原子又は炭素数1〜18のア
ルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基又は
アリール基を表わし、これらは置換されていてもよく、
具体的には、上記R1 について説明したものと同様の内
容を表わす) を表わす。B 1 and b 2 may be the same or different from each other, and are preferably a hydrogen atom, a halogen atom (eg chlorine atom, bromine atom etc.), a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg Methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.)-COO-R 2 or COOR 2 via hydrocarbon (R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, an oil) Represents a cyclic group or an aryl group, which may be substituted,
Specifically, it represents the same contents as those described for R 1 ).
【0182】上記炭化水素を介した−COO−R2 基に
おける炭化水素としては、メチレン基、エチレン基、プ
ロピレン基等が挙げられる。Examples of the hydrocarbon in the —COO—R 2 group via the above hydrocarbon include a methylene group, an ethylene group, a propylene group and the like.
【0183】更に好ましくは、一般式(II)において、V
0 は、−COO−、−OCO−、−CH2 OCO−、−
CH2 COO−、−O−、−CONH−、−SO2 NH
−、−CONHCOO−又は−C6 H4 −を表わし、b
1 ,b2 は互いに同じでも異なってもよく、水素原子、
メチル基、−COOR2 又は−CH2 COOR2 を表
し、(R2 は、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基等を表わす)を表わす。更により好ましくは
b1 ,b2 においていずれか一方が必ず水素原子を表わ
す。More preferably, in the general formula (II), V
0, -COO -, - OCO -, - CH 2 OCO -, -
CH 2 COO -, - O - , - CONH -, - SO 2 NH
-, - CONHCOO- or -C 6 H 4 - represents a, b
1 and b 2 may be the same or different from each other, a hydrogen atom,
Represents a methyl group, -COOR 2 or -CH 2 COOR 2 , (R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group,
Represents a hexyl group, etc.). Even more preferably, one of b 1 and b 2 always represents a hydrogen atom.
【0184】即ち、一般式(II)で表わされる重合性二重
結合基含有部分として、具体的にはCH2 =CH−CO
−O−、CH2 =C(CH3 )−CO−O−、CH(C
H3)=CH−CO−O−、CH2 =C(CH2 COO
CH3 )−CO−O−、CH2 =C(CH2 COOH)
−CO−O−、CH2 =CH−CONH−、CH2 =C
(CH3 )−CONH−、CH(CH3 )=CH−CO
NH−、CH2 =C(CH3 )−CONHCOO−、C
H2 =CH−O−CO−、CH2 =CH−CH2 −O−
CO−、CH2 =CH−O−、CH2 =C(COOH)
−CH2 −CO−O−、CH2 =C(COOCH3 )−
CH2 −CO−O−、CH2 =CH−C6 H4 −等が挙
げられる。That is, as the polymerizable double bond group-containing moiety represented by the general formula (II), specifically, CH 2 ═CH—CO
-O-, CH 2 = C (CH 3) -CO-O-, CH (C
H 3) = CH-CO- O-, CH 2 = C (CH 2 COO
CH 3) -CO-O-, CH 2 = C (CH 2 COOH)
-CO-O-, CH 2 = CH -CONH-, CH 2 = C
(CH 3) -CONH-, CH ( CH 3) = CH-CO
NH-, CH 2 = C (CH 3) -CONHCOO-, C
H 2 = CH-O-CO- , CH 2 = CH-CH 2 -O-
CO-, CH 2 = CH-O- , CH 2 = C (COOH)
-CH 2 -CO-O-, CH 2 = C (COOCH 3) -
CH 2 -CO-O-, CH 2 = CH-C 6 H 4 - , and the like.
【0185】これらの重合性二重結合基含有部分は高分
子鎖の主鎖に直接結合されるか又は任意の連結基で結合
されたものである。連結する基として具体的には二価の
有機残基であって、−O−、−S−、−N(d1 )−、
−SO−、−SO2 −、−COO−、−OCO−、−C
ONHCO−、−NHCONH−、−CON(d2 )−
SO2 (d3 )−及び−Si (d4 )(d5 )から選ば
れた結合基を介在させてもよい、二価の脂肪族基もしく
は二価の芳香族基、又はこれらの二価の残基の組合せに
より構成された有機残基を表わす。ここで、d1 〜d5
は式(II)におけるR1 と同一の内容を表わす。The polymerizable double bond group-containing moiety is directly bonded to the main chain of the polymer chain or bonded to any linking group. A divalent organic residue and specifically as linking to group, -O -, - S -, - N (d 1) -,
-SO -, - SO 2 -, - COO -, - OCO -, - C
ONHCO -, - NHCONH -, - CON (d 2) -
SO 2 (d 3) - and -S i (d 4) (d 5) the selected linking groups from may be interposed, a divalent aliphatic group or a divalent aromatic group or these two, Represents an organic residue composed of a combination of valent residues. Where d 1 to d 5
Represents the same contents as R 1 in formula (II).
【0186】二価の脂肪族基として、例えば−(C(k
1 )(k2 ))−、−(C(k1 )=C(k2 ))−、
−(C≡C)−、−C6 H10−、As the divalent aliphatic group, for example,-(C (k
1) (k 2)) - , - (C (k 1) = C (k 2)) -,
- (C≡C) -, - C 6 H 10 -,
【0187】[0187]
【化50】 [Chemical 50]
【0188】が挙げられる{k1 及びk2 は、互いに同
じでも異なってもよく、各々水素原子、ハロゲン原子
(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等)又は炭素
数1〜12のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等)
を表わす。Qは−O−、−S−又は−NR20−を表わ
し、R20は炭素数1〜4のアルキル基、−CH2 Cl又
は−CH2 Brを表わす}。{K 1 and k 2 may be the same or different from each other, and each is a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or the like) or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms ( For example, methyl group, ethyl group,
(Propyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, etc.)
Represents. Q is -O -, - S- or -NR 20 - represents, R 20 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a -CH 2 Cl or -CH 2 Br}.
【0189】二価の芳香族基としては、例えばベンゼン
環基、ナフタレン環基及び5又は6員の複素環基(複素
環を構成するヘテロ原子として、酸素原子、イオウ原
子、窒素原子から選ばれたヘテロ原子を少なくとも1種
含有する)が挙げられる。これらの芳香族基は置換基を
有していてもよく、例えばハロゲン原子(例えばフッ素
原子、塩素原子、臭素原子等)、炭素数1〜8のアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基等)、炭素数1〜6のアル
コキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキ
シ基、ブトキシ基等)が置換基の例として挙げられる。Examples of the divalent aromatic group include a benzene ring group, a naphthalene ring group and a 5- or 6-membered heterocyclic group (as a hetero atom constituting the hetero ring, selected from an oxygen atom, a sulfur atom and a nitrogen atom). Containing at least one heteroatom). These aromatic groups may have a substituent, for example, a halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group). , A butyl group, a hexyl group, an octyl group, etc.) and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (eg, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, etc.) can be mentioned as examples of the substituent.
【0190】複素環基としては、例えばフラン環、チオ
フェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピペラジン環、テ
トラヒドロフラン環、ピロール環、テトラヒドロピラン
環、1,3−オキサゾリン環等が挙げられる。Examples of the heterocyclic group include furan ring, thiophene ring, pyridine ring, pyrazine ring, piperazine ring, tetrahydrofuran ring, pyrrole ring, tetrahydropyran ring, 1,3-oxazoline ring and the like.
【0191】以上のような重合性二重結合基含有部分
は、具体的には高分子鎖中にランダム結合されている、
又は高分子鎖の主鎖の片末端にのみ結合されている。好
ましくは、高分子鎖主鎖の片末端にのみ重合性二重結合
基含有部分が結合された重合体(以下、一官能性重合体
〔M〕と略記する)が挙げられる。The above-mentioned polymerizable double bond group-containing moiety is specifically randomly bonded in the polymer chain,
Alternatively, it is bonded only to one end of the main chain of the polymer chain. Preferably, a polymer having a polymerizable double bond group-containing portion bonded to only one end of the main chain of the polymer chain (hereinafter, abbreviated as monofunctional polymer [M]) is used.
【0192】上記一官能性重合体〔M〕の一般式(II)で
示される重合性二重結合基含有部分と、これに連結する
有機残基で構成される部分の具体例として各々次のもの
が挙げられるが、これらに限定されるものではない。但
し、以下の各例において、P1 は−H、−CH3 −、−
CH2 COOCH3 、−Cl、−Br又は−CNを示
し、P2 は−H又は−CH3 を示し、Xは−Cl又は−
Brを示し、nは2〜12の整数を示し、mは1〜4の
整数を示す。Specific examples of the polymerizable double bond group-containing moiety represented by the general formula (II) of the monofunctional polymer [M] and the moiety composed of the organic residue linked to the polymerizable double bond group-containing moiety are as follows. However, the present invention is not limited to these. However, in each of the following examples, P 1 is —H, —CH 3 —, —
CH 2 COOCH 3, -Cl, shows -Br or -CN, P 2 represents -H or -CH 3, X is -Cl or -
Represents Br, n represents an integer of 2 to 12, and m represents an integer of 1 to 4.
【0193】[0193]
【化51】 [Chemical 51]
【0194】[0194]
【化52】 [Chemical 52]
【0195】[0195]
【化53】 [Chemical 53]
【0196】[0196]
【化54】 [Chemical 54]
【0197】[0197]
【化55】 [Chemical 55]
【0198】好ましくは本発明の分散安定用樹脂は重合
性二重結合基部分を高分子中の側鎖に含有するが、この
重合体の合成は従来公知の方法によって製造することが
できる。The dispersion stabilizing resin of the present invention preferably contains a polymerizable double bond group moiety in the side chain of the polymer, and the polymer can be synthesized by a conventionally known method.
【0199】例えば、重合反応性の異なる重合性二重
結合基を分子中に2個含有した単量体を共重合させる方
法、分子中に、カルボキシル基、ヒドロキシル基、ア
ミノ基、エポキシ基等の反応性基を含有した一官能性単
量体を共重合させて高分子を得た後、この高分子側鎖中
の反応基と化学結合しうる他の反応性基を含有した重合
性二重結合基を含む有機低分子化合物との反応を行う、
いわゆる高分子反応によって導入する方法、等が通常よ
く知られた方法として挙げられる。For example, a method of copolymerizing a monomer containing two polymerizable double bond groups having different polymerization reactivities in a molecule, a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, an epoxy group and the like in a molecule. After polymerizing a monofunctional monomer containing a reactive group to obtain a polymer, a polymerizable double-chain containing another reactive group that can chemically bond with the reactive group in the side chain of the polymer. Reacting with an organic low-molecular compound containing a bonding group,
Examples of well-known methods include a method of introducing by so-called polymer reaction.
【0200】上記の方法として、例えば特開昭60−
185962号公報に記載の方法等が挙げられる。上記
の方法として、具体的には岩倉義男,栗田恵輔「反応
性高分子」講談社(1977年刊)、小田良平「高分子
ファインケミカル」講談社(1976年刊)、特開昭6
1−43757号公報、特願平1−149305号とし
て出願した明細書等に詳細に記載されている。As the above method, for example, JP-A-60-
The method described in Japanese Patent No. 185962 may be used. As the above method, specifically, Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita "Reactive Polymer" Kodansha (Published in 1977), Ryohei Oda "Polymer Fine Chemical" Kodansha (Published in 1976), JP-A-6
It is described in detail in the specification etc. filed as Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-43757 and Japanese Patent Application No. 1-149305.
【0201】例えば、下記表−1のA群の官能基とB群
の官能基の組み合わせによる高分子反応が、通常よく知
られた方法として挙げられる。なお表−1のR22,R23
は各々水素原子又は炭素数1〜7の置換されてもよい炭
化水素基(好ましくは、例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2−ヒド
ロキシエチル基、3−ブロム−2−ヒドロキシプロピル
基、2−カルボキシエチル基、3−カルボキシプロピル
基、4−カルボキシブチル基、3−スルホプロピル基、
ベンジル基、スルホベンジル基、メトキシベンジル基、
カルボキシベンジル基、フェニル基、スルホフェニル
基、カルボキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、2
−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、2−メ
タンスルホニルエチル基、2−シアノエチル基、N,N
(ジクロロエチル)アミノベンジル基、N,N(ジヒド
ロキシエチル)アミノベンジル基、クロロベンジル基、
メチルベンジル基、N,N(ジヒドロキシエチル)アミ
ノフェニル基、メタンスルホニルフェニル基、シアノフ
ェニル基、ジシアノフェニル基、アセチルフェニル基
等)を表わす。For example, a polymer reaction resulting from the combination of the functional group of group A and the functional group of group B in Table 1 below is a well-known method. Note that R 22 and R 23 in Table-1
Are each a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms (preferably, for example, a methyl group, an ethyl group,
Propyl group, butyl group, 2-chloroethyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-bromo-2-hydroxypropyl group, 2-carboxyethyl group, 3-carboxypropyl group, 4-carboxybutyl group, 3-sulfopropyl group ,
Benzyl group, sulfobenzyl group, methoxybenzyl group,
Carboxybenzyl group, phenyl group, sulfophenyl group, carboxyphenyl group, hydroxyphenyl group, 2
-Methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, 2-methanesulfonylethyl group, 2-cyanoethyl group, N, N
(Dichloroethyl) aminobenzyl group, N, N (dihydroxyethyl) aminobenzyl group, chlorobenzyl group,
And a methylbenzyl group, N, N (dihydroxyethyl) aminophenyl group, methanesulfonylphenyl group, cyanophenyl group, dicyanophenyl group, acetylphenyl group and the like.
【0202】[0202]
【表1】 [Table 1]
【0203】本発明の分散安定用樹脂として更に好まし
い、重合性二重結合基部分を主鎖の片末端に含有する−
官能性重合体〔M〕は、従来公知の合成方法によって製
造することができる。例えば、イ)アニオン重合あるい
はカチオン重合によって得られるリビングポリマーの末
端に種々の試薬を反応させて一官能性重合体〔M〕を得
る、イオン重合法による方法、ロ)分子中にカルボキシ
ル基、ヒドロキシル基、アミノ基等の反応性基を含有し
た重合開始剤及び/又は連鎖移動剤を用いて、ラジカル
重合して得られる末端反応性基結合の重合体と種々の試
薬を反応させて一官能性重合体〔M〕を得るラジカル重
合法による方法、ハ)重付加あるいは重縮合反応により
得られた重合体に上記ラジカル重合法と同様にして、重
合性二重結合基を導入する重付加縮合法による方法等が
挙げられる。Further preferred as the dispersion stabilizing resin of the present invention is to contain a polymerizable double bond group moiety at one end of the main chain--
The functional polymer [M] can be produced by a conventionally known synthesis method. For example, a) a method by an ionic polymerization method in which various reagents are reacted with the ends of a living polymer obtained by anionic polymerization or cationic polymerization to obtain a monofunctional polymer [M], and b) a carboxyl group and a hydroxyl group in the molecule. Monofunctional by reacting a polymer having a terminal reactive group bond obtained by radical polymerization with various reagents using a polymerization initiator and / or a chain transfer agent containing a reactive group such as a group or an amino group. Method by radical polymerization method for obtaining polymer [M], c) Polyaddition condensation method in which a polymerizable double bond group is introduced into the polymer obtained by polyaddition or polycondensation reaction in the same manner as the above radical polymerization method. And the like.
【0204】具体的には、P.Dreyfuss &
R.P.Quirk,Bncycl.Polym.Sc
i.Eng.,7,551(1987)、P.F.Re
mpp,E.Franta,Adv.Polym.Sc
i.,58,1(1984)、V.Percec,Ap
pl.Poly.Sci.,285,95(198
4)、R.Asami,M.Takari,Macro
mol.Chem.Suppl.,12,163(19
85)、P.Rempp.,et al,Macrom
ol.Chem.Suppl.,8,3(1984)、
川上雄資,化学工業,38,56(1987)、山下雄
也,高分子,31,988(1982)、小林四郎,高
分子,30,625(1981)、東村敏延,日本接着
協会誌,18,536(1982)、伊藤浩一,高分子
加工,35,262(1986)、東貴四郎,津田隆,
機能材料,1987,No.10,5等の総説及びそれ
に引例の文献・特許等に記載の方法に従って合成するこ
とができる。Specifically, P. Dreyfuss &
R. P. Quirk, Bncycl. Polym. Sc
i. Eng. , 7 , 551 (1987), p. F. Re
mpp, E. Franta, Adv. Polym. Sc
i. , 58 , 1 (1984), V.I. Percec, Ap
pl. Poly. Sci. , 285 , 95 (198
4), R.A. Asami, M .; Takari, Macro
mol. Chem. Suppl. , 12 , 163 (19
85), P.I. Rempp. , Et al, Macrom
ol. Chem. Suppl. , 8 , 3 (1984),
Yusuke Kawakami, Kagaku Kogyo, 38 , 56 (1987), Yuya Yamashita, Kogaku, 31 , 988 (1982), Shiro Kobayashi, Kogaku, 30 , 625 (1981), Toshinobu Higashimura, Journal of Japan Adhesion Society, 18 , 536 (1982), Koichi Ito, Polymer Processing, 35 , 262 (1986), Kishiro Azuma, Takashi Tsuda,
Functional Materials, 1987 , No. It can be synthesized according to the methods described in the review articles such as 10, 5 and the like, and the literatures and patents cited therein.
【0205】以上の如き一官能性重合体〔M〕の合成方
法として更に具体的には、ラジカル重合性単量体に相当
する繰り返し単位を含有する重合体〔M〕は、特開平2
−67563号公報、特願昭63−64970、特願平
1−206989、同1−69011各号として出願の
明細書等に記載されており、又、ポリエステル構造又は
ポリエーテル構造を繰り返し単位として含有する重合体
〔M〕は、特願平1−56379、同1−58989、
同1−56380各号として出願の明細書等に各々記載
されている方法と同様にして得られる。More specifically, as the method for synthesizing the monofunctional polymer [M] as described above, a polymer [M] containing a repeating unit corresponding to a radical-polymerizable monomer is disclosed in
-67563, Japanese Patent Application No. 63-64970, Japanese Patent Application Nos. 1-206989 and 1-69011, and the like, and also contains a polyester structure or a polyether structure as a repeating unit. The polymer [M] to be prepared is disclosed in Japanese Patent Application Nos. 1-56379 and 1-58989.
It can be obtained in the same manner as the methods described in the specification of the application, etc., as Nos. 1-56380.
【0206】本発明の分散樹脂粒子は以上説明した様
に、極性基含有の一官能性単量体(C)、ケイ素原子及
び/又はフッ素原子含有の一官能性単量体(D)を上記
分散安定用樹脂の存在下で分散重合させて得られる共重
合体樹脂粒子である。As described above, the dispersed resin particle of the present invention comprises the polar group-containing monofunctional monomer (C) and the silicon atom and / or fluorine atom-containing monofunctional monomer (D). It is a copolymer resin particle obtained by dispersion polymerization in the presence of a dispersion stabilizing resin.
【0207】更に、本発明の分散樹脂粒子が網目構造を
有する場合は、上記した極性基含有一官能性単量体
(C)及びケイ素原子及び/又はフッ素原子含有の一官
能性単量体(D)を重合性成分〔重合体成分(C)と略
記する〕として成る重合体の重合体間が橋架けされてお
り、高次の網目構造を形成している。Further, when the dispersed resin particles of the present invention have a network structure, the above-mentioned polar group-containing monofunctional monomer (C) and silicon atom and / or fluorine atom-containing monofunctional monomer ( The polymer of D) as a polymerizable component [abbreviated as polymer component (C)] is bridged between polymers to form a high-order network structure.
【0208】すなわち、本発明の分散樹脂粒子は重合体
成分(C)から構成される非水分散溶媒に不溶な部分
と、該溶媒に可溶となる重合体とで構成される、非水系
ラテックスであり、網目構造を有する場合は、この該溶
媒に不溶な部分を形成している重合体成分(C)の分子
間が橋架けされているものである。That is, the dispersed resin particles of the present invention are a non-aqueous latex composed of a portion insoluble in the non-aqueous dispersion solvent composed of the polymer component (C) and a polymer soluble in the solvent. In the case of having a network structure, the molecules of the polymer component (C) forming the portion insoluble in the solvent are bridged.
【0209】これにより、網目樹脂粒子は水に対して難
溶性あるいは不溶性となったものである。具体的には、
該樹脂の水への溶解性は、80重量%以下好ましくは5
0重量%以下である。As a result, the network resin particles are sparingly soluble or insoluble in water. In particular,
The solubility of the resin in water is 80% by weight or less, preferably 5
It is 0% by weight or less.
【0210】本発明の架橋は、従来公知の架橋方法によ
って行うことができる。即ち、(a)該重合体成分
(C)を含有する重合体を種々の架橋剤あるいは硬化剤
によって架橋する方法、(b)該重合体成分(C)に相
当する単量体を少なくとも含有させて重合反応を行う際
に、重合性官能基を2個以上含有する多官能性単量体あ
るいは多官能性オリゴマーを共存させることにより分子
間に網目構造を形成する方法、及び(c)該重合体成分
(C)と反応性基を含有する成分を含む重合体類とを重
合反応あるいは高分子反応によって架橋させる方法等の
方法によって行うことができる。The crosslinking of the present invention can be carried out by a conventionally known crosslinking method. That is, (a) a method of crosslinking a polymer containing the polymer component (C) with various crosslinking agents or curing agents, and (b) containing at least a monomer corresponding to the polymer component (C). When a polymerization reaction is carried out by using a polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer containing two or more polymerizable functional groups, a network structure is formed between the molecules, and (c) the polymer. It can be carried out by a method such as a method in which the combined component (C) and the polymers containing the component containing a reactive group are crosslinked by a polymerization reaction or a polymer reaction.
【0211】上記(a)の方法の架橋剤としては、通常
架橋剤として用いられる化合物を挙げることができる。
具体的には、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブッ
ク」大成社刊(1981年),高分子学会編「高分子デ
ータハンドブック基礎編」培風館(1986年)等に記
載されている化合物を用いることができる。As the cross-linking agent in the above method (a), compounds usually used as cross-linking agents can be mentioned.
Specifically, the compounds described in "Crosslinking Agent Handbook" edited by Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, published by Taisei (1981), "Polymer Data Handbook Basic Edition", Baifukan (1986), edited by The Society of Polymer Science, Japan, etc. Can be used.
【0212】例えば、有機シラン系化合物(例えば、ビ
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤
等)、ポリイソシアナート系化合物(例えば、トルイレ
ンジイソシアナート、o−トルイレンジイソシアナー
ト、ジフェニルメタンジイソシアナート、トリフェニル
メタントリイソシアナート、ポリメチレンポリフェニル
イソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、イ
ソホロンジイソシアナート、高分子ポリイソシアナート
等)、ポリオール系化合物(例えば、1,4−ブタンジ
オール、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシ
アルキレングリコール、1,1,1−トリメチロールプ
ロパン等)、ポリアミン系化合物(例えば、エチレンジ
アミン、γ−ヒドロキシプロピル化エチレンジアミン、
フェニレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、N−ア
ミノエチルピペラジン、変性脂肪族ポリアミン類等)、
ポリエポキシ基含有化合物及びエポキシ樹脂(例えば、
垣内弘編著「新エポキシ樹脂」昭晃堂(1985年
刊)、橋本邦之編著「エポキシ樹脂」日刊工業新聞社
(1969年刊)等に記載された化合物類)、メラミン
樹脂(例えば,三輪一郎、松永英夫編著「ユリア・メラ
ミン樹脂」日刊工業新聞社(1969年刊)等に記載さ
れた化合物類)、ポリ(メタ)アクリレート系化合物
(例えば、大河原信、三枝武夫、東村敏延編「オリゴマ
ー」講談社(1976年刊)、大森英三「機能性アクリ
ル系樹脂」テクノシステム(1985年刊)等に記載さ
れた化合物類が挙げられ、具体的には、ポリエチレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールポリアクリレート、ビスフェノールA−
ジグリシジルエーテルジアクリレート、オリゴエステル
アクリレート及びこれらのメタクリレート体等がある。For example, an organic silane compound (eg, vinyltrimethoxysilane, vinyltributoxysilane,
γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, and other silane coupling agents), polyisocyanate compounds (for example, toluylene diisocyanate, o-toluy) Diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, polymethylene polyphenyl isocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, high molecular polyisocyanate, etc.), polyol-based compound (for example, 1, 4-butanediol, polyoxypropylene glycol, polyoxyalkylene glycol, 1,1,1-trimethylolpropane, etc., polyamine compounds (eg, ethylenediamine, γ-hydroxypropyl) Pill of ethylene diamine,
Phenylenediamine, hexamethylenediamine, N-aminoethylpiperazine, modified aliphatic polyamines, etc.),
Polyepoxy group-containing compound and epoxy resin (for example,
Kakiuchi Hiroshi's "New Epoxy Resins" Shokoido (1985), Kuniyuki Hashimoto's "Epoxy Resins", compounds described in Nikkan Kogyo Shimbun (1969), melamine resins (eg Ichiro Miwa, Hideo Matsunaga) Edited by "Uria Melamine Resin", compounds described in Nikkan Kogyo Shimbun (1969), poly (meth) acrylate compounds (for example, Shin Okawara, Takeo Saegusa, Toshinobu Higashimura "Oligomer" Kodansha (1976) Annually), Eizo Omori "functional acrylic resin" Techno System (published in 1985) and the like, and specifically, polyethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6- Hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol polyacryle Door, bisphenol A-
Examples include diglycidyl ether diacrylate, oligoester acrylate, and their methacrylates.
【0213】又、上記(b)の方法で共存させる重合性
官能基を2個以上含有する多官能性単量体〔多官能性単
量体(E)とも称する〕あるいは多官能性オリゴマーの
重合性官能基としては、具体的にはCH2 =CH−CH
2 −、CH2 =CH−CO−O−、CH2 =CH−、C
H2=C(CH3 )−CO−O−、CH(CH3 )=C
H−CO−O−、CH2 =CH−CONH−、CH2 =
C(CH3 )−CONH−、CH(CH3 )=CH−C
ONH−、CH2 =CH−O−CO−、CH2 =C(C
H3 )−O−CO−、CH2 =CH−CH2 −O−CO
−、CH2 =CH−NHCO−、CH2 =CH−CH2
−NHCO−、CH2 =CH−SO2 −、CH2 =CH
−CO−、CH2 =CH−O−、CH2 =CH−S−等
を挙げることができる。これらの重合性官能基の同一の
ものあるいは異なったものを2個以上有した単量体ある
いはオリゴマーであればよい。Polymerization of a polyfunctional monomer (also referred to as polyfunctional monomer (E)) or a polyfunctional oligomer containing two or more polymerizable functional groups which are coexistent in the method (b). As the functional group, specifically, CH 2 ═CH—CH
2 -, CH 2 = CH- CO-O-, CH 2 = CH-, C
H 2 = C (CH 3) -CO-O-, CH (CH 3) = C
H-CO-O-, CH 2 = CH-CONH-, CH 2 =
C (CH 3) -CONH-, CH (CH 3) = CH-C
ONH-, CH 2 = CH-O -CO-, CH 2 = C (C
H 3) -O-CO-, CH 2 = CH-CH 2 -O-CO
-, CH 2 = CH-NHCO- , CH 2 = CH-CH 2
-NHCO-, CH 2 = CH-SO 2 -, CH 2 = CH
-CO-, CH 2 = CH-O- , may be mentioned CH 2 = CH-S-, and the like. Any monomer or oligomer having two or more of the same or different polymerizable functional groups may be used.
【0214】重合性官能基を2個以上有した単量体の具
体例は、例えば同一の重合性官能基を有する単量体ある
いはオリゴマーとして、ジビニルベンゼン、トリビニル
ベンゼン等のスチレン誘導体:多価アルコール(例え
ば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ポリエチレングリコール#20
0、#400、#600、1,3−ブチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロパ
ン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトールな
ど)、又はポリヒドロキシフェノール(例えばヒドリキ
ノン、レゾルシン、カテコールおよびそれらの誘導体)
のメタクリル酸、アクリル酸又はクロトン酸のエステル
類、ビニルエーテル類又はアリルエーテル類:二塩基酸
(例えばマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン
酸、ピメリン酸、マレイン酸、フタル酸、イタコン酸
等)のビニルエステル類、アリルエステル類、ビニルア
ミド類又はアリルアミド類:ポリアミン(例えばエチレ
ンジアミン、1,3−プロピレンジアミン、1,4−ブ
チレンジアミン等)とビニル基を含有するカルボン酸
(例えば、メタクリル酸、アクリル酸、クロトン酸、ア
リル酢酸等)との縮合体などが挙げられる。Specific examples of the monomer having two or more polymerizable functional groups include, for example, a styrene derivative such as divinylbenzene or trivinylbenzene as a monomer or oligomer having the same polymerizable functional group: a polyvalent monomer. Alcohol (eg ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol # 20
0, # 400, # 600, 1,3-butylene glycol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, etc., or polyhydroxyphenols (eg, hydrinoquinone, resorcin, catechol) And their derivatives)
Methacrylic acid, acrylic acid or crotonic acid esters, vinyl ethers or allyl ethers: dibasic acids (eg malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, maleic acid, phthalic acid, itaconic acid, etc.) Vinyl esters, allyl esters, vinyl amides or allyl amides: polyamines (eg ethylenediamine, 1,3-propylenediamine, 1,4-butylenediamine, etc.) and carboxylic acids containing vinyl groups (eg methacrylic acid, acryl) Acid, crotonic acid, allyl acetic acid, etc.) and the like.
【0215】又、異なる重合性官能基を有する単量体あ
るいはオリゴマーとしては、例えば、ビニル基を含有す
るカルボン酸(例えばメタクリル酸、アクリル酸、メタ
クリロイル酢酸、アクリロイル酢酸、メタクリロイルプ
ロピオン酸、アルリロイルプロピオン酸、イタコニロイ
ル酢酸、イタコニロイルプロピオン酸、カルボン酸無水
物等)とアルコール又はアミンの反応体(例えばアリル
オキシカルボニルプロピオン酸、アリルオキシカルボニ
ル酢酸、2−アリルオキシカルボニル安息香酸、アリル
アミノカルボニルプロピオン酸等)等のビニル基を含有
したエステル誘導体又はアミド誘導体(例えばメタクリ
ル酸ビニル、アクリル酸ビニル、イタコン酸ビニル、メ
タクリル酸アリル、アクリル酸アリル、イタコン酸アリ
ル、メタクリロイル酢酸ビニル、メタクリロイルプロピ
オン酸ビニル、メタクリロイルプロピオン酸アリル、メ
タクリル酸ビニルオキシカルボニルメチルエステル、ア
クリル酸ビニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニ
ルエチレンエステル、N−アリルアクリルアミド、N−
アリルメタクリルアミド、N−アリルイタコン酸アミ
ド、メタクリロイルプロピオン酸アリルアミド等)又は
アミノアルコール類(例えばアミノエタノール、1−ア
ミノプロパノール、1−アミノブタノール、1−アミノ
ヘキサノール、2−アミノブタノール等)とビニル基を
含有したカルボン酸との縮合体などが挙げられる。Examples of the monomers or oligomers having different polymerizable functional groups include vinyl group-containing carboxylic acids (eg, methacrylic acid, acrylic acid, methacryloyl acetic acid, acryloyl acetic acid, methacryloyl propionic acid, arylloyl). Propionic acid, itaconiloylacetic acid, itaconiloylpropionic acid, carboxylic acid anhydride, etc.) and alcohol or amine reactants (eg, allyloxycarbonylpropionic acid, allyloxycarbonylacetic acid, 2-allyloxycarbonylbenzoic acid, allylaminocarbonylpropione) Ester derivatives or amide derivatives containing vinyl groups such as acids) (eg vinyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl itaconate, allyl methacrylate, allyl acrylate, allyl itaconate, methacryloyl) Vinyl acetate, methacryloyl propionic acid vinyl, methacryloyl propionic acid allyl, vinyl methacrylate oxycarbonyl ester, vinyl acrylate oxycarbonyl methyloxycarbonyl ethylene ester, N- allyl acrylamide, N-
Allylmethacrylamide, N-allylitaconic acid amide, methacryloylpropionic acid allylamide, etc.) or amino alcohols (for example, aminoethanol, 1-aminopropanol, 1-aminobutanol, 1-aminohexanol, 2-aminobutanol, etc.) and vinyl group And a condensate with a carboxylic acid containing
【0216】本発明に用いられる2個以上の重合性官能
基を有する単量体あるいはオリゴマーは、単量体(C)
及び(C)と共存する他の単量体との総量に対して10
モル%以下、好ましくは5モル%以下用いて重合し、樹
脂を形成する。The monomer or oligomer having two or more polymerizable functional groups used in the present invention is a monomer (C).
And 10 relative to the total amount of the other monomers coexisting with (C).
Polymerization is carried out using less than mol%, preferably less than 5 mol% to form a resin.
【0217】更には、上記(c)の方法の高分子間の反
応性基同志の反応により化学結合を形成し高分子間の橋
架けを行う場合には、通常の有機低分子化合物の反応と
同様に行うことができる。具体的には、分散安定用樹脂
の合成法において記載したと同様の方法に従って合成す
ることができる。Further, in the case of the above method (c), in the case of forming a chemical bond by the reaction of the reactive groups between the macromolecules to form a bridge between the macromolecules, the reaction with the usual organic low molecular weight compound is performed. You can do the same. Specifically, it can be synthesized according to the same method as described in the method of synthesizing the dispersion stabilizing resin.
【0218】分散重合において、粒子の粒径が揃った単
分散性の粒子が得られること及び0.5μm以下の微小
粒子が得られ易いこと等から、網目構造形成の方法とし
ては、多官能性単量体を用いる(b)の方法が好まし
い。In the dispersion polymerization, monodisperse particles having a uniform particle size can be obtained, and fine particles of 0.5 μm or less can be easily obtained. The method (b) using a monomer is preferable.
【0219】以上の如く、本発明の網目分散樹脂粒子
は、極性基を含有する繰り返し単位と、該非水溶媒に可
溶性の重合体成分とを含有し、且つ分子鎖間が高次に橋
架けされた構造を有する重合体の粒子である。As described above, the network-dispersed resin particles of the present invention contain a repeating unit containing a polar group and a polymer component soluble in the non-aqueous solvent, and the molecular chains are highly crosslinked. It is a polymer particle having a different structure.
【0220】非水溶媒系分散樹脂粒子の製造に用いられ
る非水溶媒としては、沸点200℃以下の有機溶媒であ
ればいずれでもよく、それは単独であるいは2種以上を
混合して使用してもよい。The non-aqueous solvent used in the production of the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles may be any organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower, which may be used alone or in combination of two or more. Good.
【0221】この有機溶媒の具体例は、メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール、フッ化アルコー
ル、ベンジルアルコール等のアルコール類、アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジエチルケト
ン等のケトン類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のカルボン酸エ
ステル類、ヘキサン、オクタン、デカン、ドデカン、ト
リデカン、シクロヘキサン、シクロオクタン等の炭素数
6〜14の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、メチレ
ンクロリド、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、ク
ロロホルム、メチルクロロホルム、ジクロロプロパン、
トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類等が挙げら
れる。ただし、以上述べた化合物例に限定されるもので
はない。Specific examples of this organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, fluorinated alcohol, benzyl alcohol, acetone,
Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone and diethyl ketone, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, carboxylic acid esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate and methyl propionate, hexane, octane, decane, dodecane and tridecane. , Aliphatic hydrocarbons having 6 to 14 carbon atoms such as cyclohexane and cyclooctane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, methylene chloride, dichloroethane, tetrachloroethane, chloroform, methylchloroform, dichloropropane,
Examples thereof include halogenated hydrocarbons such as trichloroethane. However, it is not limited to the above-mentioned compound examples.
【0222】これらの非水溶媒系で分散樹脂粒子を分散
重合法で合成することにより、樹脂粒子の平均粒子径は
容易に0.8μm以下となり、しかも粒子径の分布が非
常に狭く且つ単分散の粒子とすることができる。By synthesizing the dispersed resin particles in these non-aqueous solvent systems by the dispersion polymerization method, the average particle diameter of the resin particles easily becomes 0.8 μm or less, and the distribution of the particle diameter is very narrow and monodispersed. Can be particles.
【0223】具体的には、K.B.J.Barrett
「Dispersion Polymerizatio
n in Organic Media」John W
iley(1975年)、村田耕一郎、高分子加工、2
3、20(1974)、松本恒隆・丹下豊吉、日本接着
協会誌9、183(1973)、丹下豊吉、日本接着協
会誌23、26(1987)、D.J.Walbrid
ge、NATO.Adv.study.Inst.Se
r.B.No.67、40(1983)、英国特許第8
93429、同934038各号明細書、米国特許第1
122397、同3900412、同4606989各
号明細書、特開昭60−179751、同60−185
963各号公報等にその方法が開示されている。Specifically, K.K. B. J. Barrett
"Dispersion Polymerizatio
n in Organic Media "John W
iley (1975), Koichiro Murata, Polymer processing, 2
3, 20 (1974), Tsunetaka-Toyokichi Tange Matsumoto, Japan Journal of the Adhesion Society of 9, 183 (1973), Toyokichi Tange, Journal of the Adhesion Society of Japan 23, 26 (1987), D . J. Walbrid
ge, NATO. Adv. study. Inst. Se
r. B. No. 67, 40 (1983), British Patent No. 8
No. 93429, No. 934038, US Pat. No. 1
122397, 394012, and 4606989, JP-A-60-179751, and 60-185.
The method is disclosed in each of the 963 publications and the like.
【0224】本発明の分散樹脂粒子は、単量体(C)及
び単量体(D)と、分散安定用樹脂の少なくとも各々1
種以上から成り、網目構造を形成する場合には必要に応
じて多官能性単量体(E)を共存させて成り、いずれに
しても重要な事は、これら単量体から合成された樹脂粒
子が該非水溶媒に不溶であれば、所望の分散樹脂粒子を
得ることができる。より具体的には、不溶化する単量体
(C)及び単量体(D)に対して、分散安定用樹脂を1
〜50重量%使用することが好ましく、さらに好ましく
は2〜30重量%である。又本発明の分散樹脂粒子の分
子量は104 〜106 であり、好ましくは104 〜5×
105 である。The dispersed resin particles of the present invention contain at least 1 of each of the monomer (C) and the monomer (D) and the dispersion stabilizing resin.
In the case of forming a network structure, it is composed of more than one species and, if necessary, is made to coexist with a polyfunctional monomer (E). In any case, what is important is a resin synthesized from these monomers. If the particles are insoluble in the non-aqueous solvent, desired dispersed resin particles can be obtained. More specifically, one dispersion stabilizing resin is used for the insoluble monomer (C) and the monomer (D).
It is preferable to use -50% by weight, and more preferably 2-30% by weight. The molecular weight of the dispersed resin particles of the present invention is 10 4 to 10 6 , preferably 10 4 to 5 ×.
It is 10 5 .
【0225】以上の如き本発明で用いられる分散樹脂粒
子を製造するには、一般に、単量体(C)、単量体
(D)、分散安定用樹脂更には、多官能性単量体(E)
とを非水溶媒中で過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチ
ロニトリル、ブチルリチウム等の重合開始剤の存在下に
加熱重合させればよい。具体的には、(i) 単量体
(C),単量体(D)、分散安定用樹脂及び多官能性単
量体(E)の混合溶液中に重合開始剤を添加する方法、
(ii)非水溶媒中に、上記重合性化合物及び重合開始剤の
混合物を滴下又は任意に添加する方法等があり、これら
に限定されずいかなる方法を用いても製造することがで
きる。In order to produce the dispersed resin particles used in the present invention as described above, generally, the monomer (C), the monomer (D), the dispersion stabilizing resin, and the polyfunctional monomer ( E)
And may be heat-polymerized in the presence of a polymerization initiator such as benzoyl peroxide, azobisisobutyronitrile or butyllithium in a non-aqueous solvent. Specifically, (i) a method of adding a polymerization initiator to a mixed solution of the monomer (C), the monomer (D), the dispersion stabilizing resin and the polyfunctional monomer (E),
(ii) There are methods such as dropwise addition or optional addition of the mixture of the above-mentioned polymerizable compound and polymerization initiator into the non-aqueous solvent, and the method is not limited to these, and any method can be used for production.
【0226】重合性化合物の総量は非水溶媒100重量
部に対して5〜80重量部程度であり、好ましくは10
〜50重量部である。The total amount of the polymerizable compound is about 5 to 80 parts by weight, preferably 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the non-aqueous solvent.
˜50 parts by weight.
【0227】重合開始剤の量は、重合性化合物の総量の
0.1〜5重量%である。又、重合温度は30〜180
℃程度であり、好ましくは40〜120℃である。反応
時間は1〜15時間が好ましい。The amount of the polymerization initiator is 0.1 to 5% by weight based on the total amount of the polymerizable compounds. The polymerization temperature is 30 to 180.
The temperature is about 0 ° C, preferably 40 to 120 ° C. The reaction time is preferably 1 to 15 hours.
【0228】以上の如くして本発明により製造された非
水系分散樹脂は、微細でかつ粒度分布が均一な粒子とな
る。本発明の感光体の表面層は、上記した樹脂粒子がマ
トリックスの結着樹脂に均一に分散してなるものであ
り、以下に該結着樹脂について詳しく説明する。The non-aqueous dispersion resin produced according to the present invention as described above becomes fine particles having a uniform particle size distribution. The surface layer of the photoreceptor of the present invention comprises the above resin particles uniformly dispersed in the binder resin of the matrix, and the binder resin will be described in detail below.
【0229】本発明の表面層の結着樹脂としては、従来
結着樹脂として知られている全てのものが利用できる。
代表的なものは塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチ
レン−ブタジエン共重合体、スチレン−メタクリレート
共重合体、メタクリレート共重合体、アクリレート共重
合体、酢酸ビニル共重合体、アルカン酸ビニル樹脂、ポ
リビニルブチラール、アルキド樹脂、エポキシエステル
樹脂、ポリエステル樹脂等である。As the binder resin for the surface layer of the present invention, any of the conventionally known binder resins can be used.
Typical examples are vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-methacrylate copolymer, methacrylate copolymer, acrylate copolymer, vinyl acetate copolymer, vinyl alkanoate resin, polyvinyl. Butyral, alkyd resin, epoxy ester resin, polyester resin and the like.
【0230】具体的には栗田隆治・石渡次郎,高分子,
第17巻、第278頁(1968年)、宮本晴視,武井
秀彦,イメージング,1973(No.8)第9頁、中
村孝一編「記録材料用バインダーの実際技術」第10
章,C.H.C.出版(1985年)、D.D.Tat
t,S.C.Heidecker,Tappi,49
(No.10),439(1966)、E.S.Bal
ttazzi,R.G.Blancloette et
al,Photo.Sci.Eng.16(No.
5),354(1972)、グエン・チャン・ケー,清
水勇,井上英一,電子写真学会誌18(No.2),2
8(1980)、特公昭50−31011、特開昭53
−54027、同54−20735、同57−2025
44、同54−68046各号公報等に開示の材料が挙
げられる。Specifically, Ryuji Kurita, Jiro Ishiwatari, High Polymer,
Volume 17, p. 278 (1968), Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging, 1973 (No. 8) p. 9, Koichi Nakamura, "Practical Technology of Binders for Recording Materials", 10th
Chapter, C.I. H. C. Published (1985), D.M. D. Tat
t, S. C. Heidecker, Tappi, 49
(No. 10), 439 (1966), E.I. S. Bal
ttazzi, R .; G. Blancloette et
al, Photo. Sci. Eng. 16 (No.
5), 354 (1972), Nguyen Chan Kae, Isamu Shimizu, Eiichi Inoue, The Electrophotographic Society Journal 18 (No. 2), 2
8 (1980), JP-B-50-31011, JP-A-53.
-54027, 54-20735, 57-2025.
44, 54-68046, and the like.
【0231】更に、該表面層には、架橋性化合物及び架
橋促進化合物を含有させてもよい。具体的には、本発明
の樹脂粒子で架橋構造を形成するために用いた架橋性化
合物群と同様のものが挙げられる。但し、該表面層に含
有させる場合、不感脂化後の親水性を阻害しないこと、
及び電子写真感光体としての電子写真特性(例えば初期
電位、暗中電荷保持率、光感度、残留電位等)に悪影響
を及ぼさない範囲で用いなければならない。具体的に
は、表面層形成用組成物の全固形分量に対して、0.0
05〜10重量部の範囲内で用いることが好ましい。Further, the surface layer may contain a crosslinking compound and a crosslinking promoting compound. Specifically, the same compounds as the group of crosslinkable compounds used for forming the crosslinked structure with the resin particles of the present invention can be mentioned. However, when contained in the surface layer, do not inhibit the hydrophilicity after desensitization,
Also, it must be used within a range that does not adversely affect the electrophotographic characteristics of the electrophotographic photosensitive member (for example, initial potential, dark charge retention rate, photosensitivity, residual potential, etc.). Specifically, with respect to the total solid content of the surface layer forming composition, 0.0
It is preferably used in the range of 05 to 10 parts by weight.
【0232】これら架橋性化合物を併用することで該表
面層が架橋構造を形成し、高次構造化されたことで表面
層の不感脂化後の膜強度の向上及び表面全体の水保有性
が制御され、保水性の向上が図られる。By using these crosslinkable compounds in combination, the surface layer forms a crosslinked structure and is made to have a higher order structure, whereby the film strength after desensitization of the surface layer is improved and the water retention property of the entire surface is improved. It is controlled and the water retention is improved.
【0233】更にはまた、該表面層中に本発明の樹脂粒
子以外の微粒子(例えば金属酸化物等)を、表面層形成
用組成物全量に対して0.001〜5重量部の範囲内で
含有させてもよい。このことにより、微粒子添加による
フィラー効果による膜強度向上あるいは表面の平滑性調
整が図られる。Furthermore, fine particles (for example, metal oxides) other than the resin particles of the present invention are contained in the surface layer within a range of 0.001 to 5 parts by weight based on the total amount of the surface layer forming composition. It may be contained. As a result, it is possible to improve the film strength or adjust the surface smoothness due to the filler effect of adding fine particles.
【0234】例えば二酸化珪素、酸化亜鉛、酸化チタ
ン、酸化ジルコニウム、ガラス粒子、アルミナ、クレー
などの充填剤や、ポリメチルメタアクリレート、ポリス
チレン、フェノール樹脂などの重合体粒子などが例示で
きる。Examples thereof include fillers such as silicon dioxide, zinc oxide, titanium oxide, zirconium oxide, glass particles, alumina and clay, and polymer particles such as polymethylmethacrylate, polystyrene and phenol resin.
【0235】該表面層を構成する場合に重要な事は、前
記の如く、不感脂化処理後非画像部が充分に親水性に変
化することである。即ち、この親水性は、例えば、水に
対する接触角を測定することによって確認することがで
きる。不感脂化処理を行なう以前の表面層(親水化可能
層)の表面の水に対する接触角は約60°〜120°で
あるが、不感脂化処理後はそれは約5°〜20°にまで
低下し、水に非常によく濡れるようになる。このため、
印刷版は親油性トナーからなる画像部と高度に親水性の
非画像部とをその表面に形成していることになる。従っ
て、不感脂化処理後の表面層が水との接触角で20度以
下になる様にすればよい。What is important in constructing the surface layer is that the non-image area becomes sufficiently hydrophilic after the desensitizing treatment, as described above. That is, this hydrophilicity can be confirmed, for example, by measuring the contact angle with water. The contact angle of water on the surface of the surface layer (hydrophilizable layer) before the desensitizing treatment is about 60 ° to 120 °, but it decreases to about 5 ° to 20 ° after the desensitizing treatment. And then get very wet with water. For this reason,
The printing plate has an image area made of lipophilic toner and a highly hydrophilic non-image area formed on its surface. Therefore, the surface layer after the desensitizing treatment may have a contact angle with water of 20 degrees or less.
【0236】本発明においては、従来のものに比べその
親水性が更に良好である点で特に優れている。即ち、本
発明における樹脂粒子は、不感脂化液あるいは印刷時の
浸し水の処理により分解してヒドロキシル基を生成し、
親水性を発現する。The present invention is particularly excellent in that it is more hydrophilic than the conventional ones. That is, the resin particles in the present invention are decomposed by the treatment of the desensitizing solution or the soaking water at the time of printing to generate a hydroxyl group,
It develops hydrophilicity.
【0237】従って、該樹脂粒子を表面層に含有してい
る本発明原版は、不感脂化処理液により親水化される非
画像部の親水化により、画像部の親油性と非画像部の親
水性が明確となり、印刷時に非画像部に印刷インキが付
着するのを防止するものである。その結果として、地汚
れのない鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷することが可
能になる。Therefore, the original plate of the present invention containing the resin particles in the surface layer, the lipophilicity of the image area and the hydrophilicity of the non-image area are improved by making the non-image area hydrophilic by the desensitizing solution. The property is clear, and the printing ink is prevented from adhering to the non-image area during printing. As a result, it becomes possible to print a large number of prints with clear image quality without background stains.
【0238】更に、その一部が架橋されている上記の樹
脂粒子の場合、親水性を保持したまま水への溶解性が著
しく低下し、難溶性もしくは不溶性となり、且つ粒子自
身が水膨潤性を有するようになる。Further, in the case of the above-mentioned resin particles partially cross-linked, the solubility in water is remarkably lowered while maintaining the hydrophilicity, and the particles become hardly soluble or insoluble, and the particles themselves have a water swelling property. To have.
【0239】従って、該樹脂粒子において生成される上
記親水性基によって、非画像部の表面の親水性が発現す
るとともに、表面層全体が制御された水を含有するよう
になり、非画像部の親水性(印刷インキ反発性)がより
一層高められるという本発明の効果が向上し、且つ持続
性が向上する。Therefore, the hydrophilic group produced in the resin particles causes the surface of the non-image area to exhibit hydrophilicity, and the entire surface layer contains controlled water. The effect of the present invention that the hydrophilicity (printing ink repulsion) is further enhanced is improved, and the durability is improved.
【0240】より具体的な効果で言うならば、上記の樹
脂粒子中の上記の官能基の量を減じても、親水性向上の
効果が変わらず維持できること、あるいは、印刷機の大
型化あるいは印圧の変動等印刷条件が厳しくなった場合
でも、地汚れのない鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷す
ることが可能となる。More specifically, even if the amount of the above functional groups in the above resin particles is reduced, the effect of improving hydrophilicity can be maintained unchanged, or the size of the printing machine can be increased or the printing can be performed. Even when printing conditions such as pressure fluctuations become strict, it is possible to print a large number of prints with clear image quality without background stains.
【0241】そして、従来は一つの層で光導電性と親水
化が可能であるという性質を持たねばならないため、酸
化亜鉛など限られた材料しか使用できなかったが、本発
明の印刷原版では以上のように表面層を形成することに
より光導電層と親水化可能層(表面層)に機能が分離し
たため、従来の酸化亜鉛の不感脂化反応に依存したシス
テムと比べ、印刷時の厳格な管理が著しく緩和される。In the past, only one material such as zinc oxide could be used because it had to have the property that photoconductivity and hydrophilicity were possible in one layer, but in the printing original plate of the present invention, By forming a surface layer like this, the functions were separated into a photoconductive layer and a hydrophilizable layer (surface layer), so stricter control during printing compared to conventional systems that rely on the desensitizing reaction of zinc oxide. Is significantly reduced.
【0242】即ち、従来の酸化亜鉛を用いるシステムで
は、酸化亜鉛を不感脂化する不感脂化液の主剤としてフ
ェロシアン系化合物が用いられており、この化合物は環
境汚染防止上特別の取扱管理が必要であること、また、
不感脂化した親水化物が印刷物に付着していることか
ら、印刷時に多数枚印刷することで消耗してゆく分を、
印刷の浸し水に不感脂化主剤を含有させて補って使用す
るのが通例であるが、この副作用として色インキの使用
可能な種類が限定される、あるいは印刷用紙として中性
紙を用いることが難しい等の問題があった。That is, in the conventional system using zinc oxide, a ferrocyan-based compound is used as the main component of the desensitizing solution for desensitizing zinc oxide, and this compound requires special handling management for preventing environmental pollution. What you need, and
Since the desensitized hydrophilized substance adheres to the printed matter, the amount consumed by printing many sheets at the time of printing,
It is customary to use by adding the desensitizing main agent to the immersion water for printing, but as a side effect, the usable types of color inks are limited, or it is possible to use neutral paper as the printing paper. There were problems such as difficulties.
【0243】これに対し、本発明のシステムでは、不感
脂化の原理が全く異なることから、これら問題を容易に
解決することができる。On the other hand, in the system of the present invention, since the principle of desensitization is completely different, these problems can be easily solved.
【0244】次に、本発明の電子写真感光材料の光導電
層について説明する。該光導電層は、少なくとも光導電
体及び結着樹脂を含有して成り、該結着樹脂として以下
の樹脂〔A〕を少なくとも1種含有することが特に好ま
しい。Next, the photoconductive layer of the electrophotographic photosensitive material of the present invention will be described. The photoconductive layer contains at least a photoconductor and a binder resin, and it is particularly preferable that the photoconductive layer contains at least one of the following resins [A] as the binder resin.
【0245】樹脂〔A〕において、重量平均分子量は1
×103 〜2×104 、好ましくは3×103 〜1×1
04 であり、樹脂〔A〕のガラス転移点は好ましくは−
30℃〜110℃、より好ましくは−20℃〜90℃で
ある。In the resin [A], the weight average molecular weight is 1
× 10 3 to 2 × 10 4 , preferably 3 × 10 3 to 1 × 1
0 is 4, the glass transition point of the resin (A) is preferably -
It is 30 ° C to 110 ° C, and more preferably -20 ° C to 90 ° C.
【0246】樹脂〔A〕の分子量が103 より小さくな
ると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度を保てず、一方
分子量が2×104 より大きくなると本発明の樹脂であ
っても、特に近赤外〜赤外分光増感色素を用いた感光体
において、高温・高湿、低温・低湿の苛酷な条件下での
暗減衰保持率及び光感度の変動が多少大きくなり、安定
した複写画像が得られるという本発明の効果が薄れてし
まう。When the molecular weight of the resin [A] is less than 10 3 , the film forming ability is lowered and sufficient film strength cannot be maintained. On the other hand, when the molecular weight is more than 2 × 10 4 , even the resin of the present invention, In particular, in the case of photoreceptors using near-infrared to infrared spectral sensitizing dye, fluctuations in dark decay retention rate and photosensitivity under severe conditions of high temperature / high humidity, low temperature / low humidity are somewhat large, and stable copying is possible. The effect of the present invention that an image is obtained is diminished.
【0247】樹脂〔A〕の一般式(I) の繰り返し単位に
相当する重合体成分の存在割合は30重量%以上、好ま
しくは50〜97重量%、特定の極性基を含有する重合
体成分の存在割合は0.5〜15重量%、好ましくは1
〜10重量%である。The proportion of the polymer component corresponding to the repeating unit of the general formula (I) of the resin [A] is 30% by weight or more, preferably 50 to 97% by weight, and the proportion of the polymer component containing a specific polar group is The abundance ratio is 0.5 to 15% by weight, preferably 1
10 to 10% by weight.
【0248】樹脂〔A〕における極性基含有量が0.5
重量%より少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度
を得ることができない。一方該極性基含有量が15重量
%よりも多いと、いかに低分子量体といえども分散性が
低下し、更にオフセットマスターとして用いるときに地
汚れが増大する。The content of the polar group in the resin [A] is 0.5.
If it is less than wt%, the initial potential is low and a sufficient image density cannot be obtained. On the other hand, when the content of the polar group is more than 15% by weight, dispersibility is lowered no matter how low molecular weight the compound is, and scumming is increased when it is used as an offset master.
【0249】また低分子量の樹脂〔A〕としては、前記
した一般式(Ia)及び一般式(Ib) で示される、2
位に、及び/又は2位と6位に特定の置換基を有するベ
ンゼン環又は無置換のナフタレン環を有する特定の置換
基をもつメタクリレート成分を含有する、樹脂〔A〕
(以降、この低分子量体を樹脂〔A′〕とする)である
ことが好ましい。The low molecular weight resin [A] is represented by the above-mentioned general formula (Ia) and general formula (Ib).
Resin [A] containing a methacrylate component having a specific substituent having a benzene ring or a naphthalene ring having a specific substituent at the 2-position and / or the 2- and 6-positions
(Hereinafter, this low molecular weight compound is referred to as resin [A ']).
【0250】樹脂〔A′〕における式(Ia) 及び/又
は式(Ib) の繰り返し単位に相当するメタクリレート
の共重合成分の存在割合は30重量%以上、好ましくは
50〜97重量%、特定の極性基含有の重合体成分の存
在割合は樹脂〔A′〕100重量部に対して0.5〜1
5重量%、好ましくは1〜10重量%である。The proportion of the copolymerization component of methacrylate corresponding to the repeating unit of the formula (Ia) and / or the formula (Ib) in the resin [A '] is 30% by weight or more, preferably 50 to 97% by weight. The proportion of the polar group-containing polymer component is 0.5 to 1 relative to 100 parts by weight of the resin [A '].
It is 5% by weight, preferably 1 to 10% by weight.
【0251】次に樹脂〔A〕中に30重量%以上含有さ
れる、前記一般式(I) で示される繰り返し単位を更に説
明する。一般式(I) においてa1 ,a2 は、好ましくは
水素原子、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)、−
COO−R06又は炭化水素基を介した−COO−R
06(R06は、水素原子又は炭素数1〜18のアルキル
基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基又はアリー
ル基を表し、これらは置換されていてもよく、具体的に
は、下記R03について説明したものと同様の内容を表
す)を表す。Next, the repeating unit represented by the general formula (I) contained in the resin [A] in an amount of 30% by weight or more will be further described. In the general formula (I), a 1 and a 2 are preferably hydrogen atom, cyano group, alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.),
COO-R 06 or -COO-R via a hydrocarbon group
06 (R 06 represents a hydrogen atom or an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group or an aryl group having 1 to 18 carbon atoms, which may be substituted. It represents the same content as that described for 03 ).
【0252】上記炭化水素を介した−COO−R06基に
おける炭化水素としては、メチレン基、エチレン基、プ
ロピレン基などが挙げられる。R03は、炭素数1〜18
の置換されていてもよいアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、2−クロロエチル基、2−ブロモ
エチル基、2−シアノエチル基、2−ヒドロキシエチル
基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエトキシ基、
3−ヒドロキシプロピル基等)、炭素数2〜18の置換
されていてもよいアルケニル基(例えばビニル基、アリ
ル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、
ヘプテニル基、オクテニル基等)、炭素数7〜12の置
換されていてもよいアラルキル基(炭素数ベンジル基、
フェネチル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル
基、メトキシベンジル基、エトキシベンジル基、メチル
ベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されていてもよい
シクロアルキル基(例えばシクロペンチル基、シクロヘ
キシル基、シクロヘプチル基等)、置換されていてもよ
いアリール基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル
基、メシチル基、ナフチル基、メトキシフェニル基、エ
トキシフェニル基、フロロフェニル基、ジフロロフェニ
ル基、ブロモフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロ
フェニル基、ヨードフェニル基、メトキシカルボニルフ
ェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、シアノフェ
ニル基等)等が挙げられる。Examples of the hydrocarbon in the —COO—R 06 group via the above hydrocarbon include a methylene group, an ethylene group, a propylene group and the like. R 03 has 1 to 18 carbon atoms
An optionally substituted alkyl group (for example, a methyl group,
Ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-hydroxyethyl group , 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethoxy group,
3-hydroxypropyl group and the like, alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms and optionally substituted (for example, vinyl group, allyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group,
Heptenyl group, octenyl group, etc.), optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (benzyl group having carbon atoms,
Phenethyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, methoxybenzyl group, ethoxybenzyl group, methylbenzyl group, etc.), cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms which may be substituted (for example, cyclopentyl group, cyclohexyl group, Cycloheptyl group etc.), optionally substituted aryl group (eg phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, naphthyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, fluorophenyl group, difluorophenyl group, bromophenyl) Group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, iodophenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, cyanophenyl group, etc.) and the like.
【0253】更に好ましくは、一般式(I) の繰り返し単
位に相当する共重合体成分において、一般式(Ia) 及
び/又は一般式(Ib) で示される特定のアリール基を
含有するメタクリレート成分で表される共重合体成分
(樹脂〔A′〕)が挙げられる。More preferably, the copolymer component corresponding to the repeating unit of the general formula (I) is a methacrylate component containing a specific aryl group represented by the general formula (Ia) and / or the general formula (Ib). The copolymer component (resin [A ']) represented is mentioned.
【0254】式(Ia)において、好ましいT1 及びT
2 として、互いに独立に各々水素原子、塩素原子及び臭
素原子の外に、炭素数1〜10の炭化水素基として、好
ましくは炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基等)、炭素数7〜9の
アラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、3−
フェニルプロピル基、クロロベンジル基、ジクロロベン
ジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、メトキ
シベンジル基、クロロ−メチル−ベンジル基)およびア
リール基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、
ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェニ
ル基、ジクロロフェニル基)、並びに−COR04及び−
COOR05(好ましいR04及びR05としては上記の炭素
数1〜10の好ましい炭化水素基として記載したものを
挙げることができる)を挙げることができる。In formula (Ia), preferred T 1 and T
As 2 , each independently of one another, a hydrogen atom, a chlorine atom and a bromine atom, as a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group,
Ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (eg, benzyl group, phenethyl group, 3-
Phenylpropyl group, chlorobenzyl group, dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chloro-methyl-benzyl group) and aryl groups (for example, phenyl group, tolyl group, xylyl group,
Bromophenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group), and -COR 04 and-
COOR 05 (preferable R 04 and R 05 include those described as the above-mentioned preferable hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms) can be mentioned.
【0255】式(Ia)及び(Ib)において、L1 及
びL2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する直接結
合又は−(CH2 )n1−(n1 は1〜3の整数を表
す)、−CH2 OCO−、−CH2 CH2 OCO−、−
(CH2 O)m1−(m1 は1又は2の整数を表す)、−
CH2 CH2 O−等の如き連結原子数1〜4個の連結基
であり、より好ましくは直接結合又は結合原子数1〜2
個の連結基を挙げることができる。In the formulas (Ia) and (Ib), L 1 and L 2 each represent a direct bond connecting —COO— and the benzene ring or — (CH 2 ) n1 — (n 1 represents an integer of 1 to 3). ), - CH 2 OCO -, - CH 2 CH 2 OCO -, -
(CH 2 O) m1 - ( m 1 represents an integer of 1 or 2), -
A connecting group having 1 to 4 connecting atoms such as CH 2 CH 2 O-, and the like, more preferably a direct bond or 1 to 2 connecting atoms.
Can be mentioned.
【0256】本発明の樹脂〔A〕で用いられる式(I
a)又は(Ib)で示される繰り返し単位に相当する共
重合成分の具体例を以下に挙げる。しかし、本発明の範
囲はこれに限定されるものではない。以下の(a−1)
〜(a−20)において、nは1〜4の整数、mは0又
は1〜3の整数、pは1〜3の整数、R10〜R13はいず
れも−Cn H2n+1又は−(CH2 )m−C6 H5 (ただ
し、n,mは上記と同じ)、X1 及びX2 は同じでも異
なってもよく、水素原子、−Cl、−Br、−Iのいず
れかを表す。Formula (I) used in the resin [A] of the present invention
Specific examples of the copolymerization component corresponding to the repeating unit represented by a) or (Ib) are shown below. However, the scope of the present invention is not limited to this. The following (a-1)
In (a-20), n is an integer of 1 to 4, m is an integer of 0 or 1 to 3, p is an integer of 1 to 3, and R 10 to R 13 are all -C n H 2n + 1 or - (CH 2) m -C 6 H 5 ( except, n, m are as defined above), X 1 and X 2 may be the same or different, a hydrogen atom, -Cl, -Br, either -I Represents.
【0257】[0257]
【化56】 [Chemical 56]
【0258】[0258]
【化57】 [Chemical 57]
【0259】[0259]
【化58】 [Chemical 58]
【0260】[0260]
【化59】 [Chemical 59]
【0261】次に低分子量の樹脂〔A〕の重合体主鎖の
片末端に結合した極性基について説明する。該極性基
は、−PO3 H2 、−SO3 H,−COOH、−P(=
O)(OH)R01、環状酸無水物含有基から少なくとも
1種選ばれるものであることが好ましい。Next, the polar group bonded to one end of the polymer main chain of the low molecular weight resin [A] will be described. Polar group, -PO 3 H 2, -SO 3 H, -COOH, -P (=
It is preferable that at least one selected from O) (OH) R 01 and a cyclic acid anhydride-containing group.
【0262】−P(=O)(OH)R01基とは、上記R
01が炭化水素基又は−OR02基(R02は炭化水素基を表
す)を表し、具体的にはR01は炭素数1〜22の脂肪族
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、
オクタデシル基、2−クロロエチル基、2−メトキシエ
チル基、3−エトキシプロピル基、アリル基、クロトニ
ル基、ブテニル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フ
ェネチル基、3−フェニルプロピル基、メチルベンジル
基、クロロベンジル基、フロロベンジル基、メトキシベ
ンジル基等)、又は置換されていてもよいアリール基
(例えばフェニル基、トリル基、エチルフェニル基、プ
ロピルフェニル基、クロロフェニル基、フロロフェニル
基、ブロモフェニル基、クロロ−メチル−フェニル基、
ジクロロフェニル基、メトキシフェニル基、シアノフェ
ニル基、アセトアミドフェニル基、アセチルフェニル
基、ブトキシフェニル基等)等であり、R02はR01と同
一の内容である。The --P (═O) (OH) R 01 group means the above R
01 represents a hydrocarbon group or a —OR 02 group (R 02 represents a hydrocarbon group), and specifically, R 01 represents an aliphatic group having 1 to 22 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, Butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group,
Octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-ethoxypropyl group, allyl group, crotonyl group, butenyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, chlorobenzyl group Group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.) or optionally substituted aryl group (eg, phenyl group, tolyl group, ethylphenyl group, propylphenyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, bromophenyl group, chloro- A methyl-phenyl group,
Dichlorophenyl group, methoxyphenyl group, cyanophenyl group, acetamidophenyl group, acetylphenyl group, butoxyphenyl group, etc.), and R 02 has the same content as R 01 .
【0263】また、環状酸無水物含有基とは、少なくと
も1つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。Further, the cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and the cyclic acid anhydride to be contained is an aliphatic dicarboxylic acid anhydride or an aromatic dicarboxylic acid anhydride. Things can be mentioned.
【0264】脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、
コハク酸無水物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸
無水物環、シクロペンタン−1,2−ジカルボン酸無水
物環、シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物
環、シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物環、
2,3−ビシクロ〔2,2,2〕オクタジカルボン酸無
水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば塩素原子、
臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチ
ル基、ヘキシル基等のアルキル基等が置換されていても
よい。Examples of the aliphatic dicarboxylic acid anhydride include:
Succinic anhydride ring, glutaconic anhydride ring, maleic anhydride ring, cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid anhydride ring, cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid anhydride ring, cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid ring Acid anhydride ring,
2,3-bicyclo [2,2,2] octadicarboxylic acid anhydride ring and the like can be mentioned, and these rings are, for example, chlorine atom,
A halogen atom such as a bromine atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a butyl group and a hexyl group may be substituted.
【0265】また、芳香族ジカルボン酸無水物の例とし
ては、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無
水物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン
−ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、
例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、
ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカル
ボニル基(アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、
エトキシ基等)等が置換されていてもよい。Examples of aromatic dicarboxylic acid anhydrides include phthalic anhydride ring, naphthalene-dicarboxylic acid anhydride ring, pyridine-dicarboxylic acid anhydride ring, thiophene-dicarboxylic acid anhydride ring, and the like. These rings are
For example, chlorine atom, halogen atom such as bromine atom, alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group and butyl group,
Hydroxyl group, cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group (as the alkoxy group, for example, methoxy group,
Ethoxy group etc.) may be substituted.
【0266】これらの極性基は、重合体主鎖の末端に直
接結合してもよいし、連結基を介して結合してもよい。
連結基としては、いずれの結合する基でもよいが、例え
ば具体的に挙げるとすれば、−〔C(d1 )(d2 )〕
−(d1 、d2 は同じでも異なってもよく、各々水素原
子、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子等)、OH基、
シアノ基、アルキル基、(メチル基、エチル基、2−ク
ロロエチル基、2−ヒドロキシエチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキシル基等)、アラルキル基(ベンジル
基、フェネチル基等)、フェニル基等を表す)、−(C
H(d3 )−CH(d4 )〕−(d3 、d4 はd1 、d
2 と同一の内容を表す)、−C6 H10−、−C6 H
5 −、−O−、−S−、−N(d5 )−〔d5は、水素
原子又は炭化水素基を表す(炭化水素基、として具体的
には炭素数1〜12の炭化水素基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、2−メトキシエチル基、2
−クロロエチル基、2−シアノエチル基、ベンジル基、
メチルベンジル基、フェネチル基、フェニル基、トリル
基、クロロフェル基、メトキシフェニル基、ブチルフェ
ニル基等)が挙げられる)〕、−CO−、−COO−、
−OCO−、−(d5 )CON−、−SO2 N(d5 )
−、−SO2 −、−NHCONH−、−NHCOO−、
−NHSO2 −、−CONHCOO−、−CONHCO
NH−、複素環(ヘテロ原子として、O、S、N等を少
なくとも1種含有する5〜6員環又はこれらの縮合環で
あればいずれでもよい:例えばチオフェン環、ピリジン
環、フラン環、イミダゾール環、ピペリジン環、モルホ
リン環等が挙げられる)又は−Si(d6 )(d7 )−
(d6 、d7 は同じでも異なってもよく、炭化水素基又
は−Od8 (d8 は炭化水素基)を表す。これらの炭化
水素基としては、d5 で挙げたものと同一のものを挙げ
ることができる)等の結合基の単独又は、これらの組合
わせによる構成された連結基等が挙げられる。These polar groups may be directly bonded to the ends of the polymer main chain or may be bonded via a linking group.
The linking group, but may be any binding group, for example, if specifically mentioned, - [C (d 1) (d 2 ) ]
-(D 1 and d 2 may be the same or different and each is a hydrogen atom, a halogen atom (chlorine atom, bromine atom, etc.), an OH group,
Cyano group, alkyl group, (methyl group, ethyl group, 2-chloroethyl group, 2-hydroxyethyl group, propyl group,
Butyl group, hexyl group, etc.), aralkyl group (benzyl group, phenethyl group, etc.), phenyl group, etc.),-(C
H (d 3) -CH (d 4) ] - (d 3, d 4 is d 1, d
Represents a 2 same contents as), - C 6 H 10 - , - C 6 H
5 -, - O -, - S -, - N (d 5) - [d 5 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group (hydrocarbon group, as specifically hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (For example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, 2-methoxyethyl group, 2
-Chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, benzyl group,
Methylbenzyl group, phenethyl group, phenyl group, tolyl group, chlorofell group, methoxyphenyl group, butylphenyl group, etc.)), -CO-, -COO-,
-OCO -, - (d 5) CON -, - SO 2 N (d 5)
-, - SO 2 -, - NHCONH -, - NHCOO-,
-NHSO 2 -, - CONHCOO -, - CONHCO
NH-, a heterocycle (a 5- or 6-membered ring containing at least one kind of O, S, N or the like as a hetero atom, or a condensed ring thereof may be used: for example, a thiophene ring, a pyridine ring, a furan ring, imidazole. ring, piperidine ring, morpholine ring and the like) or -Si (d 6) (d 7 ) -
(D 6 and d 7 may be the same or different and represent a hydrocarbon group or —Od 8 (d 8 is a hydrocarbon group). These hydrocarbon groups are the same as those listed for d 5. And the like) or a linking group constituted by a combination of these.
【0267】更に、好ましくは結着樹脂〔A〕では、上
記一般式(I)で示される共重合成分〔一般式(Ia)
又は(Ib)で示されるものも含む〕とともに、これと
共重合する重合体成分として、−PO3 H2 、−SO3
H、−COOH、−P(=O)(OH)R01及び環状酸
無水物含有基から選択される少なくとも1種の極性基を
含有する共重合成分を0.05〜10重量%含有するこ
とが、より静電特性を向上する上で好ましい。Further, preferably, in the binder resin [A], the copolymerization component represented by the above general formula (I) [the general formula (Ia)] is used.
Or together including] those represented by (Ib), as the polymer component to be copolymerized therewith, -PO 3 H 2, -SO 3
0.05 to 10% by weight of a copolymerization component containing at least one polar group selected from H, -COOH, -P (= O) (OH) R 01 and a cyclic acid anhydride-containing group. However, it is preferable in terms of further improving the electrostatic characteristics.
【0268】これら特定の極性基は、前記した重合体主
鎖の片末端に結合してなる極性基と同一の内容を表す。
樹脂〔A〕において、共重合体成分として含有される極
性基と、重合体主鎖の片末端に結合された極性基の存在
割合は、本発明の光導電層を構成する他の結着樹脂、樹
脂粒子、分光増感色素、化学増感剤あるいはそれ以外の
添加剤の種類・量によって異なり、その割合は任意に調
節することが好ましい。重要なことは、両者の極性基の
総量が0.5〜15重量%の範囲の内で使用されること
である。These specific polar groups have the same contents as the polar groups bonded to one end of the polymer main chain described above.
In the resin [A], the abundance ratio of the polar group contained as a copolymer component and the polar group bonded to one end of the polymer main chain is determined by other binder resins constituting the photoconductive layer of the present invention. , The resin particles, the spectral sensitizing dye, the chemical sensitizer or other additives, and the ratio thereof is preferably adjusted arbitrarily. What is important is that the total amount of both polar groups be used within the range of 0.5 to 15% by weight.
【0269】これらの極性基を含有する共重合成分は、
例えば一般式(I)〔一般式(Ia),(Ib)も含
む〕で示される繰り返し単位に相当する単量体と共重合
し得る該極性基を含有するビニル系化合物であればいず
れでもよく、例えば、高分子学会編「高分子データ・ハ
ンドブック〔基礎編〕」培風館(1986年刊)等に記
載されている。具体的には、アクリル酸、α及び/又は
β置換アクリル酸(例えばα−アセトキシ体、α−アセ
トキシメチル体、α−(2−アミノ)メチル体、α−ク
ロロ体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリブチル
シリル体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ
体、α−クロロ−β−メトキシ体、α,β−ジクロロ体
等)、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エステ
ル類、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、2−アルケ
ニルカルボン酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メチル
−2−ヘキセン酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−
ヘキセン酸、4−エチル−2−オクテン酸等)、マレイ
ン酸、マレイン酸半エステル類、マレイン酸半アミド
類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホ
ン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボ
ン酸類のビニル基又はアリル基の半エステル誘導体、及
びこれらのカルボン又はスルホン酸のエステル誘電体、
アミド誘導体の置換基中に該極性基を含有する化合物等
が挙げられる。The copolymerization component containing these polar groups is
For example, any vinyl compound containing the polar group, which is copolymerizable with the monomer corresponding to the repeating unit represented by the general formula (I) [including general formulas (Ia) and (Ib)], may be used. For example, it is described in "Polymer Data Handbook [Basic Edition]" edited by Japan Society of Polymer Science, Baifukan (1986). Specifically, acrylic acid, α- and / or β-substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α- (2-amino) methyl form, α-chloro form, α-bromo form, α -Fluoro form, α-tributylsilyl form, α-cyano form, β-chloro form, β-bromo form, α-chloro-β-methoxy form, α, β-dichloro form, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itacone Acid half-esters, itaconic half-amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (eg 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-)
Hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half-esters, maleic acid half-amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, dicarboxylic acids Vinyl- or allyl-group half-ester derivatives, and their carboxylic or sulfonic acid ester dielectrics,
Examples thereof include compounds containing the polar group in the substituent of the amide derivative.
【0270】以下に極性基含有の共重合成分について例
示する。ここで、e1 はH又はCH3 を示し、e2 は
H、CH3 又はCH2COOCH3 を示し、R14は炭素
数1〜4のアルキル基を示し、R15は炭素数1〜6のア
ルキル基、ベンジル基又はフェニル基を示し、cは1〜
3の整数を示し、dは2〜11の整数を示し、eは1〜
11の整数を示し、fは2〜4の整数を示し、gは2〜
10の整数を示す。Examples of the polar group-containing copolymerization component are shown below. Here, e 1 represents H or CH 3 , e 2 represents H, CH 3 or CH 2 COOCH 3 , R 14 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 15 represents 1 to 6 carbon atoms. Represents an alkyl group, a benzyl group or a phenyl group, and c is 1 to
3 is an integer, d is an integer of 2 to 11, and e is 1 to
11 is an integer, f is an integer of 2 to 4, and g is 2 to
Indicates an integer of 10.
【0271】[0271]
【化60】 [Chemical 60]
【0272】[0272]
【化61】 [Chemical formula 61]
【0273】[0273]
【化62】 [Chemical formula 62]
【0274】[0274]
【化63】 [Chemical 63]
【0275】[0275]
【化64】 [Chemical 64]
【0276】[0276]
【化65】 [Chemical 65]
【0277】[0277]
【化66】 [Chemical 66]
【0278】[0278]
【化67】 [Chemical 67]
【0279】更に、本発明の低分子量樹脂〔A〕
(〔A′〕を含む)は、前記した一般式(I),(I
a)及び/又は(Ib)の単量体及び該極性基を含有し
た単量体とともに、これら以外の他の単量体を共重合成
分として含有してもよい。Furthermore, the low molecular weight resin [A] of the present invention
(Including [A ′]) is represented by the general formula (I) or (I
In addition to the monomer of a) and / or (Ib) and the monomer containing the polar group, another monomer other than these may be contained as a copolymerization component.
【0280】このような他の共重合成分としては、例え
ば一般式(I)で説明した以外の置換基を含有するメタ
クリル酸エステル類、アクリル酸エステル類、クロトン
酸エステル類に加え、α−オレフィン類、カルボン酸ビ
ニル又はアクリル酸エステル類(例えばカルボン酸とし
て、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナ
フタレンカルボン酸等) 、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、ビニルエーテル類、イタコン酸エステル類
(例えばジメチルエステル、ジエチルエステル等) 、ア
クリルアミド類、メタクリルアミド類、スチレン類(例
えばスチレン、ビニルトルエン、クロロスチレン、ヒド
ロキシスチレン、N,N−ジメチルアミノメチルスチレ
ン、メトキシカルボニルスチレン、メタンスルホニルオ
キシスチレン、ビニルナフタレン等)、ビニルスルホン
含有化合物、ビニルケトン含有化合物、複素環ビニル類
(例えばビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイ
ミダゾール、ビニルチオフェン、ビニルイミダゾリン、
ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルキノリ
ン、ビニルテトラゾール、ビニルオキサジン等)等が挙
げられる。Examples of such other copolymerization component include, in addition to methacrylic acid esters, acrylic acid esters and crotonic acid esters having a substituent other than those described in the general formula (I), α-olefins. , Vinyl carboxylates or acrylic acid esters (for example, as carboxylic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, benzoic acid, naphthalenecarboxylic acid, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, itaconic acid esters (for example, Dimethyl ester, diethyl ester, etc.), acrylamides, methacrylamides, styrenes (for example, styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, hydroxystyrene, N, N-dimethylaminomethylstyrene, methoxycarbonylstyrene, methanesulfonyloxystyrene, vinyl chloride) Naphthalene), vinyl sulfone-containing compounds, vinyl ketones containing compounds, heterocyclic vinyl compounds (e.g., vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylthiophene, vinylimidazoline,
Vinylpyrazole, vinyldioxane, vinylquinoline, vinyltetrazole, vinyloxazine, etc.) and the like.
【0281】これら他の単量体は樹脂〔A〕中30重量
%を越えないことが望ましい。樹脂〔A〕において、重
合体主鎖の片末端に該極性基を結合する方法としては、
従来公知のアニオン重合あるいはカチオン重合によって
得られるリビングポリマー末端に種々の試薬を反応させ
る方法(イオン重合法による方法)、分子中に特定の極
性基を含有した重合開始剤及び/又は連鎖移動剤を用い
てラジカル重合させる方法(ラジカル重合法による方
法)、あるいは以上の如きイオン重合法もしくはラジカ
ル重合法によって得られた末端に反応性基(例えばアミ
ノ基、ハロゲン原子、エポキシ基、酸ハライド等)含有
の重合体を高分子反応によって本発明の特定の極性基に
変換する方法等の合成法によって容易に製造することが
できる。It is desirable that these other monomers do not exceed 30% by weight in the resin [A]. In the resin [A], as a method of bonding the polar group to one end of the polymer main chain,
Conventionally known methods of reacting various reagents with the ends of living polymers obtained by anionic polymerization or cationic polymerization (methods by ionic polymerization method), polymerization initiators and / or chain transfer agents containing a specific polar group in the molecule Method of radical polymerization using (method of radical polymerization), or containing reactive group (eg amino group, halogen atom, epoxy group, acid halide, etc.) at the terminal obtained by ionic polymerization method or radical polymerization method as described above The polymer can be easily produced by a synthetic method such as a method of converting the polymer into a specific polar group of the present invention by a polymer reaction.
【0282】具体的には、P.Dreyfuss,R.
P.Quirk,Encycl.Polym,Sci.
Eng,7、551(1987)、中条善樹、山下雄也
「染料と薬品」、30、232(1985)、上田明、
永井進「科学と工業」60、57(1986)等の総説
及びそれに引用の文献等に記載の方法によって製造する
ことができる。Specifically, P. Dreyfuss, R.A.
P. Quirk, Encycl. Polym, Sci.
Eng, 7 , 551 (1987), Yoshiki Nakajo, Yuya Yamashita "Dyes and Drugs", 30 , 232 (1985), Akira Ueda,
It can be produced by the methods described in the review articles such as Susumu Nagai "Science and Industry" 60 , 57 (1986) and the references cited therein.
【0283】具体的には、用いる連鎖移動剤としては、
例えば、該極性基あるいは、上記反応性基(即ち該極性
基に誘導しうる基)を含有するメルカプト化合物(例え
ばチオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、
2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオ
ン酸、3−メルカプト酪酸、N−(2−メルカプトプロ
ピオニル)グリシン、2−メルカプトニコチン酸、3−
〔N−(2−メルカプトエチル)カルバモイル〕プロピ
オン酸、3−〔N−(2−メルカプトエチル)アミノ〕
プロピオン酸、N−(3−メルカプトプロピオニル)ア
ラニン、2−メルカプトエタンスルホン酸、3−ブタン
スルホン酸、2−メルカプトエタノール、3−メルカプ
ト−1,2−プロパンジオール、1−メルカプト−2−
プロパノール、3−メルカプト−2−ブタノール、メル
カプトフェノール、2−メルカプトエチルアミン、2−
メルカプトイミダゾール、2−メルカプト−3−ピリジ
ノール、4−(2−メエチルオキシカルボニル)フタル
酸無水物、2−メルカプトエチルホスホノ酸無水物、2
−メルカプトエチルホスホノ酸無水物モノメチルエステ
ル、あるいは上記極性基又は置換基を含有するヨード化
アルキル化合物(例えばヨード酢酸、ヨードプロピオン
酸、2−ヨードエタノール、2−ヨードエタンスルホン
酸、3−ヨードプロパンスルホン酸等)が挙げられる。Specifically, as the chain transfer agent used,
For example, a mercapto compound containing the polar group or the reactive group (that is, a group capable of being induced to the polar group) (for example, thioglycolic acid, thiomalic acid, thiosalicylic acid,
2-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptobutyric acid, N- (2-mercaptopropionyl) glycine, 2-mercaptonicotinic acid, 3-
[N- (2-mercaptoethyl) carbamoyl] propionic acid, 3- [N- (2-mercaptoethyl) amino]
Propionic acid, N- (3-mercaptopropionyl) alanine, 2-mercaptoethanesulfonic acid, 3-butanesulfonic acid, 2-mercaptoethanol, 3-mercapto-1,2-propanediol, 1-mercapto-2-
Propanol, 3-mercapto-2-butanol, mercaptophenol, 2-mercaptoethylamine, 2-
Mercaptoimidazole, 2-mercapto-3-pyridinol, 4- (2-meethyloxycarbonyl) phthalic anhydride, 2-mercaptoethylphosphonoic anhydride, 2
-Mercaptoethylphosphonoic anhydride monomethyl ester, or an iodinated alkyl compound containing the above polar group or substituent (for example, iodoacetic acid, iodopropionic acid, 2-iodoethanol, 2-iodoethanesulfonic acid, 3-iodopropane) Sulfonic acid).
【0284】該極性基、あるいは、特定の反応性基を含
有する重合開始剤としては、具体的には、4,4′−ア
ゾビス(4−シアノ吉草酸)、4,4′−アゾビス(4
−シアノ吉草酸クロライド)、2,2′−アゾビス(2
−シアノプロパノール)、2,2′−アゾビス(2−シ
アノペンタノール)、2,2′−アゾビス〔2−メチル
−N−(2−ヒドロキシエチル)−プロピオアミド〕、
2,2′−アゾビス{2−メチル−N−1,1−ビス
(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル〕プロピ
オアミド}、2,2′−アゾビス{2−〔1−(2−ヒ
ドロキシエチル)−2−イミダゾリン−2−イル〕プロ
パン}、2,2′−アゾビス〔2−(2−イミダゾリン
−2−イル)プロパン〕、2,2′−アゾビス〔2−
(4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−1,3−ジア
ゾピン−2−イル)プロパン〕等が挙げられる。Specific examples of the polymerization initiator containing the polar group or the specific reactive group include 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid) and 4,4'-azobis (4
-Cyanovaleric acid chloride), 2,2'-azobis (2
-Cyanopropanol), 2,2'-azobis (2-cyanopentanol), 2,2'-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) -propioamide],
2,2'-azobis {2-methyl-N-1,1-bis (hydroxymethyl) -2-hydroxyethyl] propioamide}, 2,2'-azobis {2- [1- (2-hydroxyethyl)- 2-Imidazolin-2-yl] propane}, 2,2'-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane], 2,2'-azobis [2-
(4,5,6,7-tetrahydro-1H-1,3-diazopin-2-yl) propane] and the like.
【0285】これらの連鎖移動剤あるいは重合開始剤
は、各々全単量体100重量部に対して、0.5〜15
重量部であり、好ましくは2〜10重量部である。以上
の如き低分子量の樹脂〔A〕(〔A′〕も含む)は、従
来の光導電層用の公知の樹脂と併用することが好まし
い。低分子量体の樹脂〔A〕と他の樹脂との使用割合は
5〜50/95〜50(重量比)が好ましい。These chain transfer agents or polymerization initiators are used in amounts of 0.5 to 15 per 100 parts by weight of all the monomers.
Parts by weight, preferably 2 to 10 parts by weight. The low molecular weight resin [A] (including [A ′]) as described above is preferably used in combination with a known resin for a conventional photoconductive layer. The use ratio of the low molecular weight resin [A] and the other resin is preferably 5 to 50/95 to 50 (weight ratio).
【0286】併用する他の樹脂としては、重量平均分子
量3×104 〜1〜106 、好ましくは5×104 〜5
×105 の中〜高分子量体である。また、併用する樹脂
のガラス転移点は−10℃〜120℃、好ましくは0℃
〜90℃である。Other resins to be used in combination include a weight average molecular weight of 3 × 10 4 to 1 to 10 6 , preferably 5 × 10 4 to 5.
× 10 5 is a medium to high molecular weight substance. The glass transition point of the resin used in combination is -10 ° C to 120 ° C, preferably 0 ° C.
~ 90 ° C.
【0287】例えば、柴田隆治・石渡次郎,高分子,第
17巻,第278頁(1968年)、宮本晴視,武井英
彦,イメージング,1973(No.8)第9頁、中村
孝一編,「記録材料用バインダーの実際技術」第10
章、C.H.C.出版(1985年刊)、D.Tat
t,S.C.Heidecker,Tappi,49
(No.10),439(1966)、E.S.Bal
tazzi R.G.Blanclotte eta
l,Photo.Sci.Eng.,16(No.
5),354(1972),グエン・チャン・ケー,清
水 勇,井上英一,電子写真学会誌18(No.2),
22(1980)、特公昭50−51011、特開昭5
3−54027、同54−20735、同57−202
544各号公報等に開示の材料が挙げられる。For example, Ryuji Shibata and Jiro Ishiwatari, Kobunshi, No.
Volume 17, pp. 278 (1968), Harumi Miyamoto, Hide Takei
Hiko, Imaging,1973(No.8) Page 9, Nakamura
Koichi, "Practical Technology of Binders for Recording Materials", 10th
Chapter, C.I. H. C. Published (1985), D.M. Tat
t, S. C. Heidecker, Tappi,49
(No. 10), 439 (1966), E.I. S. Bal
tazzi R .; G. Blanclotte eta
l, Photo. Sci. Eng. ,16(No.
5), 354 (1972), Nguyen Chan Kae, Kiyo
Yu Mizumizu, Eiichi Inoue, The Institute of Electrophotography18(No. 2),
22 (1980), JP-B-50-51011, JP-A-5
3-54027, 54-20735, 57-202.
The materials disclosed in each publication of 544 and the like are listed.
【0288】具体的には、オレフィン重合体及び共重合
体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン共重合体、ア
ルカン酸ビニル重合体及び共重合体、アルカン酸アリル
重合体及び共重合体、スチレン及びその誘導体、重合体
及び共重合体、ブタジエン−スチレン共重合体、イソプ
レン−スチレン共重合体、ブタジエン−不飽和カルボン
酸エステル共重合体、アクリロニトリル共重合体、メタ
クリロニトリル共重合体、アルキルビニルエーテル共重
合体、アクリル酸エステル重合体及び共重合体、メタク
リル酸エステル重合体及び共重合体、スチレン−アクリ
ル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステ
ル共重合体、イタコン酸ジエステル重合体及び共重合
体、無水マレイン酸共重合体、アクリルアミド共重合
体、メタクリルアミド共重合体、水酸基変性シリコン樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ケトン樹脂、アミド樹脂、
水酸基及びカルボキシル基変性ポリエステル樹脂、ブチ
ラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、環化ゴム−メ
タクリル酸エステル共重合体、環化ゴム−アクリル酸エ
ステル共重合体、窒素原子を含有しない複素環を含有す
る共重合体(複素環として例えば、フラン環、テトラヒ
ドロフラン環、チオフェン環、ジオキサン環、ジオキソ
フラン環、ラクトン環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフ
ェン環、1,3−ジオキセタン環等)、エポキシ樹脂等
が挙げられる。Specifically, olefin polymers and copolymers, vinyl chloride copolymers, vinylidene chloride copolymers, vinyl alkanoate polymers and copolymers, allyl alkanoate polymers and copolymers, styrene and Derivatives, polymers and copolymers, butadiene-styrene copolymers, isoprene-styrene copolymers, butadiene-unsaturated carboxylic acid ester copolymers, acrylonitrile copolymers, methacrylonitrile copolymers, alkyl vinyl ether copolymers Polymers, acrylic acid ester polymers and copolymers, methacrylic acid ester polymers and copolymers, styrene-acrylic acid ester copolymers, styrene-methacrylic acid ester copolymers, itaconic acid diester polymers and copolymers , Maleic anhydride copolymer, acrylamide copolymer, methacrylamide Polymers, hydroxyl-modified silicone resins, polycarbonate resins, ketone resins, amide resins,
Hydroxyl and carboxyl group-modified polyester resin, butyral resin, polyvinyl acetal resin, cyclized rubber-methacrylic acid ester copolymer, cyclized rubber-acrylic acid ester copolymer, copolymer containing nitrogen atom-free heterocycle (For example, a furan ring, a tetrahydrofuran ring, a thiophene ring, a dioxane ring, a dioxofuran ring, a lactone ring, a benzofuran ring, a benzothiophene ring, a 1,3-dioxetane ring, and the like), an epoxy resin, and the like can be given.
【0289】更に併用する中〜高分子量体の樹脂とし
て、前記した物性を満たし、好ましくは下記一般式(I
II)で示される繰り返し単位の重合体成分を30重量
部以上含有する重合体が挙げられる。As the medium to high molecular weight resin to be further used in combination, the above-mentioned physical properties are satisfied, and the following general formula (I
A polymer containing 30 parts by weight or more of the polymer component of the repeating unit represented by II) is included.
【0290】[0290]
【化68】 [Chemical 68]
【0291】〔式(III)中、Vは−COO−、−O
CO−、−(CH2 )h −OCO−、−(CH2 )h −
COO−、−O−または−SO2 −を表す。但しhは1
〜4の整数を表す〕一般式(III)において、f3 及
びf4 は式(I) 中のa1 ,a2 と同一の内容を表す。[In the formula (III), V is —COO—, —O
CO -, - (CH 2) h -OCO -, - (CH 2) h -
COO -, - O-or -SO 2 - represents a. However, h is 1
In the general formula (III), f 3 and f 4 have the same contents as a 1 and a 2 in the formula (I).
【0292】R07は式(I)中のR03と同一の内容を表
す。一般式(III)で示される重合体成分を含有する
中〜高分子量の結着樹脂(以降、樹脂〔B〕と称する)
としては、例えば式(III)で示される重合体成分含
有のランダム共重合体の樹脂(特開昭63−4981
7、同63−220149、同63−220148各号
公報等)、該ランダム共重合体と架橋性樹脂との併用樹
脂(特開平1−102573号等)、式(III)で示
される重合体成分を含有し予め部分架橋されている共重
合体(特開平2−34860、同2−40660各号公
報等)特定の繰り返し単位の重合体成分からなる一官能
性マクロモノマーと式(V)で示される成分に相当する
単量体との重合によるグラフト型ブロック共重合体(特
願昭63−203933、同63−207317各号公
報、特願平1−163796、同1−212994、同
1−229379、同1−189245各号として本発
明者等がすでに出願中の明細書)等が挙げられる。R 07 has the same meaning as R 03 in formula (I). A medium to high molecular weight binder resin containing a polymer component represented by the general formula (III) (hereinafter referred to as resin [B])
Examples of the resin include a random copolymer resin containing a polymer component represented by the formula (III) (JP-A-63-4981).
7, 63-220149, 63-220148, etc.), a resin in which the random copolymer and a crosslinkable resin are used in combination (JP-A-1-102573, etc.), and a polymer component represented by the formula (III). A partially functionalized cross-linked copolymer (Japanese Patent Laid-Open Nos. 34860/1990, 40660/1990, etc.) and a monofunctional macromonomer consisting of a polymer component of a specific repeating unit and the formula (V). Graft type block copolymer by polymerization with a monomer corresponding to the component (Japanese Patent Application Nos. 63-203933 and 63-207317, Japanese Patent Application Nos. 1-163796, 1-212994, 1-229379). As for each of the above-mentioned No. 1-189245, the specification etc. which the present inventors have already applied for are cited.
【0293】本発明では、樹脂〔A〕が特定の置換基を
もつメタクリレート共重合成分と特定の極性基を重合体
主鎖の片末端に結合した低分子量の共重合体であり、該
極性基が光導電層の光導電体の化学量論的な欠陥に吸着
し、且つ低分子量体であることから、光導電体の表面の
被覆性を向上させることで光導電体のトラップを補償す
ると共に温度特性を飛躍的に向上させる一方、光導電体
の分散が充分に行われ、凝集を抑制することが判った。In the present invention, the resin [A] is a low molecular weight copolymer in which a methacrylate copolymer component having a specific substituent and a specific polar group are bonded to one end of the polymer main chain. Adsorbs on the stoichiometric defects of the photoconductor in the photoconductive layer and is a low molecular weight substance, and therefore, the trapping of the photoconductor is compensated by improving the coverage of the surface of the photoconductor. It was found that while the temperature characteristics were dramatically improved, the photoconductor was sufficiently dispersed and the aggregation was suppressed.
【0294】そのことにより、電子写真感光体としての
電子写真特性が優れたものとなり、特に、半導体レーザ
ー光用の分光増感色素を用いた場合でも、極めて優れた
性能を発揮することが見い出された。As a result, it has been found that the electrophotographic characteristics of the electrophotographic photosensitive member become excellent, and in particular, extremely excellent performance is exhibited even when a spectral sensitizing dye for semiconductor laser light is used. It was
【0295】そして中〜高分子量の樹脂〔B〕を併用す
れば、樹脂〔A〕を用いたことによる電子写真特性の高
性能を全く阻害せずに、樹脂〔A〕のみの場合より光導
電層の機械的強度を充分に向上できるものと判った。即
ち、光導電体と結着樹脂の吸着・被覆の相互作用が適切
に行われ、且つ被覆導電層の膜強度が保持されるもので
ある。When the resin [B] having a medium to high molecular weight is used in combination, the photoconductive property is higher than that of the resin [A] alone without impairing the high performance of the electrophotographic characteristics due to the use of the resin [A]. It was found that the mechanical strength of the layer can be sufficiently improved. That is, the interaction between the adsorption and coating of the photoconductor and the binder resin is appropriately performed, and the film strength of the coating conductive layer is maintained.
【0296】これは、本発明にかかる結着樹脂の下記の
ような作用によるものと考えられる。即ち、本発明にお
いては結着樹脂として樹脂〔A〕と樹脂〔B〕を併用
し、各々の樹脂の重量平均分子量及び樹脂中の極性基の
含有量を特定することで、光導電体と樹脂との相互作用
の強さを変えることができる。これにより相互作用のよ
り強い樹脂〔A〕が選択的に且つ適切に光導電体に吸着
し、樹脂〔A〕に比べ相互作用の弱い樹脂〔B〕は、樹
脂中の重合体主鎖に対して、特定の位置に結合した極性
基が電子写真特性を阻害しない程度に光導電体とゆるや
かに相互作用し且つ長い分子鎖長及びグラフト分子鎖長
を有する樹脂〔B〕同士の分子鎖同士の相互作用をもす
ることで、上記した如く電子写真特性及び膜の機械的強
度を共に著しく向上させることができたと考えられる。It is considered that this is due to the following actions of the binder resin according to the present invention. That is, in the present invention, the resin [A] and the resin [B] are used together as the binder resin, and the weight average molecular weight of each resin and the content of the polar group in the resin are specified to obtain the photoconductor and the resin. The strength of interaction with can be changed. As a result, the resin [A] having a stronger interaction is selectively and appropriately adsorbed to the photoconductor, and the resin [B] having a weaker interaction than the resin [A] is attached to the polymer main chain in the resin. Of the resin [B] having a long molecular chain length and a graft molecular chain length and having a long interaction with the photoconductor to the extent that the polar group bonded to a specific position does not hinder the electrophotographic characteristics. It is considered that the interaction also significantly improved the electrophotographic properties and the mechanical strength of the film as described above.
【0297】本発明において用いられる光導電性化合物
は無機化合物あるいは有機化合物のいずれでもよい。本
発明の光導電性化合物として用いられる無機化合物とし
ては、例えば酸化亜鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カ
ドミウム、セレン、セレン−テルル、硫化鉛等従来公知
の無機光導電性化合物が挙げられ、公害性の観点から、
酸化亜鉛、酸化チタンが好ましい。The photoconductive compound used in the present invention may be either an inorganic compound or an organic compound. Examples of the inorganic compound used as the photoconductive compound of the present invention include conventionally known inorganic photoconductive compounds such as zinc oxide, titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, selenium, selenium-tellurium, and lead sulfide. From a sex perspective
Zinc oxide and titanium oxide are preferred.
【0298】光導電性化合物として、酸化亜鉛、酸化チ
タン等の無機光導電性化合物を用いる場合は、無機光導
電性化合物100重量部に対して上記した結着樹脂を1
0〜100重量部なる割合、好ましくは15〜40重量
部なる割合で使用する。When an inorganic photoconductive compound such as zinc oxide or titanium oxide is used as the photoconductive compound, 1 part of the above-mentioned binder resin is added to 100 parts by weight of the inorganic photoconductive compound.
It is used in a proportion of 0 to 100 parts by weight, preferably 15 to 40 parts by weight.
【0299】一方、有機化合物としては、従来公知の化
合物のいずれでもよく、具体的に電子写真式平版印刷用
原版としては次の二種が従来公知の例として知られてい
る。第一は、特公昭37−17162、同62−514
62、特開昭52−2437、54−19803、同5
6−107246、同57−161863各号公報など
に記載のような、有機光導電性化合物、増感染料、結合
樹脂を主体とする光導電層を有するものであり、第二
は、特開昭56−146145、同60−17751、
同60−17752、同60−17760、同60−2
54142、同62−54266各号公報などに記載の
ような電荷発生剤、電荷輸送剤、結合樹脂を主体とする
光導電層を有するものである。第二の例の特別な場合と
して特開昭60−230147、同60−23014
8、同60−238853各号公報などに記載のような
電荷発生剤と電荷輸送剤とをそれぞれ別の層に含有した
二層構成の光導電層も知られている。On the other hand, the organic compound may be any of the conventionally known compounds, and specifically, the following two types are known as conventionally known examples of the electrophotographic lithographic printing plate precursor. Firstly, Japanese Patent Publications 37-17162 and 62-514.
62, JP-A Nos. 52-2437, 54-19803 and 5
No. 6-107246, No. 57-161863, etc., which has a photoconductive layer mainly composed of an organic photoconductive compound, a sensitizing dye, and a binder resin. 56-146145, 60-17751,
60-177752, 60-17760, 60-2
54142, 62-54266, etc., and has a photoconductive layer mainly composed of a charge generating agent, a charge transporting agent, and a binding resin. As a special case of the second example, JP-A-60-230147 and 60-23014.
A photoconductive layer having a two-layer structure in which a charge generating agent and a charge transporting agent are contained in separate layers as described in JP-A No. 60-238853 and No. 8, is also known.
【0300】本発明の電子写真式平版印刷用原版は上記
の二種の光導電層のいずれの形態をとっていてもよい。
第二の例の場合には、本発明でいう有機光導電性化合物
が電荷輸送剤としての機能をはたす。The electrophotographic lithographic printing plate precursor according to the invention may take any form of the above-mentioned two photoconductive layers.
In the case of the second example, the organic photoconductive compound referred to in the present invention functions as a charge transport agent.
【0301】本発明における有機光導電性化合物として
は、(a)米国特許第3112197号明細書等に記載
のトリアゾール誘導体、(b)米国特許第318944
7号明細書等に記載のオキサジアゾール誘導体、(c)
特公昭37−16096号公報に記載のイミダゾール誘
導体、(d)米国特許第3615402、同38209
89、同3542544各号明細書、特公昭45−55
5、同51−10983各号公報、特開昭51−932
24、同55−108667、同55−156953、
同56−36656各号公報等に記載のポリアリールア
ルカン誘導体、(e)米国特許第3180729、同4
278746各号明細書、特開昭55−88064、同
55−88065、同49−105537、同55−5
1086、同56−80051、同56−88141、
同57−45545、同54−112637、同55−
74546各号公報等に記載のピラゾリン誘導体及びピ
ラゾロン誘導体、(f)米国特許第3615404号明
細書、特公昭51−10105、同46−3712、同
47−28336各号公報、特開昭54−83435、
同54−110836、同54−119925各号公報
等に記載のフェニレンジアミン誘導体、(g)米国特許
第3567450、同3180703、同324059
7、同3658520、同4232103、同4175
961、同4012376各号明細書、特公昭49−3
5702号公報、西独国特許(DAS)第111051
8号明細書、特公昭39−27577、特開昭55−1
44250、同56−119132、同56−2243
7各号公報などに記載されているアリールアミン誘導
体、(h)米国特許第3526501号明細書等に記載
のアミノ置換カルコン誘導体、(i)米国特許第354
2546号明細書などに記載のN,N−ビカルバジル誘
導体、(j)米国特許第3257203号明細書などに
記載のオキサゾール誘導体、(k)特開昭56−462
34号公報等に記載のスチリルアントラセン誘導体、
(l)特開昭54−110837号公報等に記載のフル
オレノン誘導体、(m)米国特許第3717462号明
細書、特開昭54−59143号公報(米国特許第41
50987号明細書に対応)、特開昭55−5206
3、同55−52064、同55−46760、同55
−85495、同57−11350、同57−1487
49、同57−104144各号公報等に記載されてい
るヒドラゾン誘導体、(n)米国特許第404794
8、同4047949、同4265990、同4273
846、同4299897、同4306008各号明細
書などに記載のベンジジン誘導体、(o)特開昭58−
190953、同59−95540、同59−9714
8、同59−195658、同62−36674各号公
報などに記載されているスチルベン誘導体、(p)特公
昭34−10966号公報記載のポリビニルカルバゾー
ル及びその誘導体、(q)特公昭43−18674、同
43−19192各号公報記載のポリビニルピレン、ポ
リビニルアントラセン、ポリ−2−ビニル−4−(4′
−ジメチルアミノフェニル)−5−フェニル−オキサゾ
ール、ポリ−3−ビニル−Nエチルカルバゾール等のビ
ニル重合体、(r)特公昭43−19193号公報記載
のポリアセナフチレン、ポリインデン、アセナフチレン
とスチレンの共重合体等の重合体、(s)特公昭56−
13940号公報などに記載のピレン−ホルムアルデヒ
ド樹脂、ブロムピレン−ホルムアルデヒド樹脂、エチル
カルバゾール−ホルムアルデヒド樹脂等の縮合樹脂、
(t)特開昭56−90833、同56−161550
各号公報に記載の各種のトリフェニルメタンポリマー、
などがある。Examples of the organic photoconductive compound in the present invention include (a) triazole derivatives described in US Pat. No. 3,121,197 and (b) US Pat. No. 3,189,944.
Oxadiazole derivatives described in No. 7, etc., (c)
Imidazole derivatives described in JP-B-37-16096, (d) US Pat. Nos. 3,615,402 and 38,209.
89, No. 3542544, Japanese Patent Publication No. 45-55
5, JP-A-51-10983 and JP-A-51-932.
24, the same 55-108667, the same 55-156953,
Polyarylalkane derivatives described in JP-A-56-36656, (e) U.S. Pat. Nos. 3,180,729 and 4;
278746, JP-A-55-88064, JP-A-55-88065, JP-A-49-105537, and JP-A-55-5.
1086, 56-80051, 56-88141,
57-45545, 54-112637, 55-
Pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives described in JP-A-74546, (f) US Pat. No. 3,615,404, JP-B-51-10105, JP-A-46-3712, JP-A-47-28336, JP-A-54-83435. ,
Phenylenediamine derivatives described in JP-A-54-110836, JP-A-54-119925 and the like, (g) US Patent Nos. 3567450, 3180703 and 324059.
7, 3658520, 4232103, 4175
961, 4012376, Japanese Patent Publication No. 49-3
5702, West German Patent (DAS) 111051
No. 8, JP-B-39-27577, JP-A-55-1
44250, 56-119132, 56-2243.
7 arylamine derivatives described in each publication, (h) amino-substituted chalcone derivatives described in US Pat. No. 3,526,501, etc., (i) US Patent 354.
2546, etc., N, N-bicarbazyl derivatives, (j) US Pat. No. 3,257,203, etc., oxazole derivatives, (k) JP-A-56-462.
34, styrylanthracene derivatives,
(L) Fluorenone derivatives described in JP-A-54-110837, (m) US Pat. No. 3,717,462, JP-A-54-59143 (US Pat. No. 41.
(Corresponding to the specification of 50987), JP-A-55-5206
3, ibid 55-52064, ibid 55-46760, ibid 55
-85495, 57-11350, 57-1487.
49, 57-104144, and the like, (n) US Patent No. 404794.
8, same 4047949, same 4265990, same 4273
Nos. 846, 4299897, 4306008 and the like, and (o) JP-A-58-
190953, 59-95540, 59-9714.
8, 59-195658, 62-36674, etc., stilbene derivatives, (p) polyvinylcarbazole and its derivatives described in JP-B-34-10966, (q) JP-B-43-18674, Polyvinyl pyrene, polyvinyl anthracene, and poly-2-vinyl-4- (4 ′) described in each of the same 43-19192 publications.
Of vinyl polymers such as -dimethylaminophenyl) -5-phenyl-oxazole and poly-3-vinyl-N-ethylcarbazole; and (r) polyacenaphthylene, polyindene, acenaphthylene and styrene described in JP-B-43-19193. Polymers such as copolymers, (s) Japanese Patent Publication No. 56-
Condensed resins such as pyrene-formaldehyde resin, bromopyrene-formaldehyde resin, ethylcarbazole-formaldehyde resin described in JP 13940,
(T) JP-A-56-90833 and JP-A-56-161550
Various triphenylmethane polymers described in each publication,
and so on.
【0302】なお本発明において、有機光導電性化合物
は、(a)〜(t)に挙げられた化合物に限定されず、
これまで公知の全ての有機光導電性化合物を用いること
ができる。これらの有機光導電性化合物は場合により2
種類以上併用することが可能である。In the present invention, the organic photoconductive compound is not limited to the compounds listed in (a) to (t),
All conventionally known organic photoconductive compounds can be used. These organic photoconductive compounds may optionally be 2
It is possible to use more than one type.
【0303】第一の例の光導電層に含有される増感色素
としては、電子写真感光体に使用される従来公知の増感
色素が使用可能である。これらは、「電子写真」12
9,(1973)、「有機合成化学」24(11),1
010,(1966)等に記載されている。例えば、米
国特許第31−41770、同4283475各号明細
書、特開昭48−25658号公報、特開昭62−71
965号公報等に記載のピリリウム系染料、Appli
ed Optics Supplement3 50
(1969)、特開昭50−39548号公報等に記載
のトリアリールメタン系染料、米国特許第359719
6号明細書等に記載のシアニン系染料、特開昭60−1
63047、同59−164588、同60−2525
17各号公報等に記載のスチリル系染料などが有利に使
用される。As the sensitizing dye contained in the photoconductive layer of the first example, conventionally known sensitizing dyes used in electrophotographic photoreceptors can be used. These are "electronic photographs" 12
9 , (1973), "Organic Synthetic Chemistry" 24 (11), 1
010, (1966) and the like. For example, U.S. Pat. Nos. 31-41770 and 4283475, JP-A-48-25658, and JP-A-62-71.
Pyrylium dyes described in Japanese Patent No. 965, etc., Appli
ed Optics Supplement 3 50
(1969), triarylmethane dyes described in JP-A No. 50-39548, US Pat. No. 3,579,719.
Cyanine dyes described in Japanese Patent No. 6 and the like, JP-A-60-1
63047, ibid. 59-164588, ibid. 60-2525
The styryl dyes described in each of the 17 publications and the like are advantageously used.
【0304】第二の例の光導電層に含有される電荷発生
剤としては、電子写真感光体において従来公知の有機及
び無機の各種の電荷発生剤が使用できる。例えば、セレ
ン、セレン−テルル、硫化カドミウム、酸化亜鉛、及び
以下(1)〜(9)に示す有機顔料を使用することがで
きる。(1)米国特許第4436800、同44395
06各号明細書、特開昭47−37543、同58−1
23541、同58−192042、同58−2192
63、同59−78356、同60−179746、同
61−148453、同61−238063各号公報、
特公昭60−5941、同60−45664各号公報等
に記載されたモノアゾ、ビスアゾ、トリスアゾ顔料など
のアゾ顔料、(2)米国特許第3397086、同46
66802各号明細書、特開昭51−90827、同5
2−55643各号公報等に記載の無金属あるいは金属
フタロシアニン等のフタロシアニン顔料、(3)米国特
許第3371884号明細書、特開昭47−30330
号公報等に記載のペリレン系顔料、As the charge generating agent contained in the photoconductive layer of the second example, various organic and inorganic charge generating agents known in the prior art for electrophotographic photoreceptors can be used. For example, selenium, selenium-tellurium, cadmium sulfide, zinc oxide, and the organic pigments shown in the following (1) to (9) can be used. (1) U.S. Pat. Nos. 4,436,800 and 44,395.
06 specifications, JP-A-47-37543 and JP-A-58-1
23541, 58-192042, 58-2192.
63, 59-78356, 60-179746, 61-148453, 61-238063.
Azo pigments such as monoazo, bisazo, and trisazo pigments described in JP-B Nos. 60-5941 and 60-45664, and (2) U.S. Pat.
66802 each specification, JP-A-51-90827, 5
Phthalocyanine pigments such as metal-free or metal phthalocyanines described in JP-A-2-55643, (3) U.S. Pat. No. 3,371,884, JP-A-47-30330.
Perylene pigments described in Japanese Patent Publication No.
【0305】(4)英国特許第2237680号明細
書、特開昭47−30331号公報等に記載のインジ
ゴ、チオインジゴ誘導体、(5)英国特許第22376
79号明細書、特開昭47−30332号公報等に記載
のキナクリンドン系顔料(6)英国特許第223767
8号明細書、特開昭59−184348、同62−28
738、同47−18544各号公報等に記載の多環キ
ノン系顔料、(7)特開昭47−30331、同47−
18543各号公報等に記載のビスベンズイミダゾール
系顔料、(8)米国特許第4396610、同4644
082各号明細書等に記載のスクアリウム塩系顔料、
(9)特開昭59−53850、同61−212542
各号公報等に記載のアズレニウム塩系顔料、などであ
る。これらは単独もしくは2種以上を併用して用いるこ
ともできる。(4) Indigo and thioindigo derivatives described in British Patent No. 2237680, JP-A No. 47-30331, etc., (5) British Patent No. 22376.
No. 79, Japanese Patent Application Laid-Open No. 47-30332, etc., quinacridone pigment (6) British Patent No. 223767.
No. 8, JP-A-59-184348, JP-A-62-28.
738 and 47-18544, and the like, (7) JP-A-47-30331 and JP-A-47-
No. 18543, bisbenzimidazole-based pigments, and (8) U.S. Pat. Nos. 4,396,610 and 4,644.
082 Squalium salt-based pigments described in each specification,
(9) JP-A-59-53850 and JP-A-61-212542
Examples thereof include azurenium salt-based pigments described in each publication and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
【0306】また、有機光導電性化合物と結合樹脂の混
合比は、有機光導電性化合物と結合樹脂との相溶性によ
って有機光導電性化合物の含有率の上限が決まり、これ
を上回る量を添加すると有機光導電性化合物の結晶化が
起こり好ましくない。有機光導電性化合物の含有量が少
ないほど電子写真感度は低下するので、有機光導電性化
合物の結晶化が起こらない範囲で、できるだけ多くの有
機光導電性化合物を含有させるのが好ましい。有機光導
電性化合物の含有率としては、結合樹脂100重量部に
対し、有機光導電性化合物5〜120重量部、好ましく
は、有機光導電性化合物10〜100重量部である。ま
た、有機光導電性化合物は、単独であるいは2種以上混
合して使用してよい。Further, regarding the mixing ratio of the organic photoconductive compound and the binding resin, the upper limit of the content rate of the organic photoconductive compound is determined by the compatibility between the organic photoconductive compound and the binding resin, and an amount exceeding this is added. Then, crystallization of the organic photoconductive compound occurs, which is not preferable. Since the electrophotographic sensitivity decreases as the content of the organic photoconductive compound decreases, it is preferable to include as many organic photoconductive compounds as possible within the range where crystallization of the organic photoconductive compound does not occur. The content of the organic photoconductive compound is 5 to 120 parts by weight, preferably 10 to 100 parts by weight of the organic photoconductive compound, relative to 100 parts by weight of the binding resin. The organic photoconductive compounds may be used alone or in combination of two or more.
【0307】本発明の平版印刷用原版は、光導電性化合
物100重量部に対して上記した結合樹脂を10〜10
0重量部なる割合、好ましくは15〜50重量部なる割
合で使用する。The lithographic printing plate precursor of the present invention contains 10 to 10 parts by weight of the above-mentioned binding resin to 100 parts by weight of the photoconductive compound.
It is used in a proportion of 0 parts by weight, preferably 15 to 50 parts by weight.
【0308】本発明では、可視光の露光又は半導体レー
ザー光の露光等光源の種類によって必要に応じて各種の
色素を分光増感剤として併用することができる。例え
ば、宮本晴視,武井秀彦:イメージング1973(N
o.8)第12頁、C.J.Young等:RCA R
eview 15,469頁(1954年)、清田航平
等:電気通信学会論文誌,J63−C(No.2)、9
7頁(1980年)、原崎勇次等、工業化学雑誌,6
6,78及び188頁(1963年)、谷忠昭,日本写
真学会誌 35,208頁(1972年)等の総説引例
のカーボニウム系色素、ジフェニルメタン色素、トリフ
ェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレイン系色
素、ポリメチン色素(例えば、オキソノール色素、メロ
シアニン色素、シアニン色素、ロダシアニン色素、スチ
リル色素等)、フタロシアニン色素(金属を含有しても
よい)等が挙げられる。In the present invention, various dyes can be used in combination as a spectral sensitizer depending on the kind of light source such as visible light exposure or semiconductor laser light exposure. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei: Imaging 1973 (N
o. 8) Page 12, C.I. J. Young et al .: RCA R
view 15 , p. 469 (1954), Kouhei Kiyota et al .: The Institute of Electrical Communication, J63-C (No. 2), 9
7 (1980), Yuji Harasaki et al., Journal of Industrial Chemistry, 6
6 , 78 and 188 (1963), Tadaaki Tani, Journal of the Photographic Society of Japan, 35 , 208 (1972), and other general references for carbonium dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, phthalein dyes. , Polymethine dyes (for example, oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes, etc.), phthalocyanine dyes (which may contain a metal), and the like.
【0309】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、フタレイ
ン系色素を中心に用いたものとしては、特公昭51−4
52、特開昭50−90334、同50−11422
7、同53−39130、同53−82353各号公
報、米国特許第3052540、同第4054450各
号明細書、特開昭57−16456号公報等に記載のも
のが挙げられる。More specifically, those mainly containing carbonium type dyes, triphenylmethane type dyes, xanthene type dyes, and phthalein type dyes are described in JP-B-51-4.
52, JP-A-50-90334, 50-11422.
7, JP-A-53-39130, JP-A-53-82353, US Pat. Nos. 3,052,540 and 4,054,450, and JP-A-57-16456.
【0310】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、F.M.Harmmer「The Cyanin
eDyes and Related Compoun
ds」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的
には、米国特許第3047384、同3110591、
同3121008、同3125447、同312817
9、同3132942、同3622317各号明細書、
英国特許第1226892、同1309274、同14
05898各号明細書、特公昭48−7814、同55
−18892各号公報等に記載の色素が挙げられる。Examples of polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes and rhodacyanine dyes include F.I. M. Harmmer "The Cyanin
eDyes and Related Compound
The dyes described in "ds" and the like can be used, and more specifically, U.S. Pat. Nos. 3,047,384 and 3,110,591,
3121008, 3125447 and 312817
9, No. 3132942, No. 3622317,
British Patent Nos. 12268892, 1309274, 14
No. 05898, Japanese Patent Publications No. 48-7814, 55
The dyes described in each publication of 18892 are listed.
【0311】更に、700nm以上の長波長の近赤外〜
赤外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭
47−840、同47−44180、特公昭51−41
061、同49−5034、同49−45122、同5
7−46245、同56−35141、同57−157
254、同61−26044、同61−27551各号
公報、米国特許第3619154、同4175956各
号明細書、「Research Disclosur
e」1982年、216,第117〜118頁等に記載
のものが挙げられる。Furthermore, near-infrared light with a long wavelength of 700 nm or more
As polymethine dyes for spectrally sensitizing infrared light, JP-A-47-840, JP-A-47-44180 and JP-B-51-41 are known.
061, ibid 49-5034, ibid 49-45122, ibid 5
7-46245, 56-351141, 57-157.
254, 61-26044, 61-27551, U.S. Pat. Nos. 3,619,154 and 4,175,956, and "Research Disclosure".
e ", 1982, 216 , pages 117 to 118, and the like.
【0312】本発明の感光体は、種々の増感色素を併用
させてもその性能が増感色素により変動しにくい点にお
いても優れている。更には、必要に応じて、従来知られ
ている種々の電子写真感光体用添加剤を併用することが
できる。The photoconductor of the present invention is also excellent in that the performance thereof does not easily vary depending on the sensitizing dye even when various sensitizing dyes are used in combination. Furthermore, various conventionally known additives for electrophotographic photoreceptors can be used in combination, if necessary.
【0313】これらの添加剤としては、電子写真感度を
改良するための化学増感剤、皮膜性を改良するための各
種の可塑剤、界面活性剤などが含まれる。These additives include chemical sensitizers for improving electrophotographic sensitivity, various plasticizers for improving film property, surfactants and the like.
【0314】化学増感剤としては、例えばハロゲン、ベ
ンゾキノン、クロラニル、フルオラニル、ブロマニル、
ジニトロベンゼン、アントラキノン、2,5−ジクロロ
ベンゾキノン、ニトロフェノール、無水テトラクロルフ
タル酸、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノベンゾキ
ノン、ジニトロフルオレノン、トリニトロフルオレノ
ン、テトラシアノエチレン等の電子吸引性化合物、小門
宏等「最近の光導電材料と感光体の開発・実用化」第4
章〜第6章:日本科学情報(株)出版部(1986年)
の総説引例のポリアリールアルカン化合物、ヒンダート
フェノール化合物、p−フェニレンジアミン化合物等が
挙げられる。また、特開昭58−65439、同58−
102239、同58−129439、同62−719
65各号公報等に記載の化合物等も挙げることができ
る。Examples of the chemical sensitizers include halogen, benzoquinone, chloranil, fluoranyl, bromanil,
Electron-withdrawing compounds such as dinitrobenzene, anthraquinone, 2,5-dichlorobenzoquinone, nitrophenol, tetrachlorophthalic anhydride, 2,3-dichloro-5,6-dicyanobenzoquinone, dinitrofluorenone, trinitrofluorenone and tetracyanoethylene , Hiroshi Komon et al. "Recent Development and Practical Use of Photoconductive Materials and Photoconductors" No. 4
Chapter-Chapter 6: Japan Science Information Publishing Co., Ltd. (1986)
The polyarylalkane compound, the hindered phenol compound, the p-phenylenediamine compound, etc. Moreover, JP-A-58-65439 and 58-
102239, 58-129439, 62-719.
The compounds described in each of the 65 publications and the like can also be mentioned.
【0315】可塑剤としては、例えばジメチルフタレー
ト、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、トリ
フェニルフタレート、トリフェニルフォスフェート、ジ
イソブチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチル
セバケート、ラウリン酸ブチル、メチルフタリールエチ
ルグリコレート、ジメチルグリコールフタレートなどを
光導電層の可撓性を向上するために添加できる。これら
の可塑剤は光導電層の静電特性を劣化させない範囲で含
有させることができる。Examples of the plasticizer include dimethyl phthalate, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, triphenyl phthalate, triphenyl phosphate, diisobutyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, butyl laurate, methylphthalylethyl glycolate and dimethyl. Glycol phthalate or the like can be added to improve the flexibility of the photoconductive layer. These plasticizers can be contained in a range that does not deteriorate the electrostatic properties of the photoconductive layer.
【0316】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体100重量部に対して0.0
01〜2.0重量部である。光導電層の厚さは1〜10
0μ、特には10〜50μが好適である。The addition amount of these various additives is not particularly limited, but usually 0.0 to 100 parts by weight of the photoconductor.
It is from 01 to 2.0 parts by weight. The thickness of the photoconductive layer is 1 to 10
0 μ, particularly 10 to 50 μ is suitable.
【0317】また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感
光体の電荷発生層として光導電層を使用する場合は、電
荷発生層の厚さは0.01〜1μ、特には0.05〜
0.5μが好適である。When the photoconductive layer is used as the charge generation layer of the laminated type photoreceptor having the charge generation layer and the charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is 0.01 to 1 μm, particularly 0.05 to 1 μm.
0.5μ is preferred.
【0318】本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば金属、紙、プラ
スチックシート等の基体に低抵抗性物質を含浸させるな
どして導電処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける
面と反対面)に導電性を付与し、更にはカール防止を図
る等の目的で少なくとも1層以上をコートしたもの、前
記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持
体の表面層に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコ
ート層を設けたもの、Al等を蒸着した基体導電化プラ
スチックを紙にラミネートしたもの等が使用できる。The photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support of the electrophotographic photosensitive layer is preferably conductive, and as the conductive support, a substrate such as metal, paper or plastic sheet is impregnated with a low resistance substance in the same manner as in the past. Those which have been subjected to a conductive treatment by, for example, those which are coated with at least one layer for the purpose of imparting conductivity to the back surface of the substrate (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided), and further for preventing curling, the support Having a water-resistant adhesive layer on its surface, having at least one precoat layer on the surface layer of the support, if necessary, and laminating a substrate with a conductive electroconductive plastic such as Al deposited on paper Etc. can be used.
【0319】具体的に、導電性基体あるいは導電化材料
の例として、坂本幸男,電子写真,14,(No.
1),2〜11頁(1975年刊)、森賀弘之,「入門
特殊紙の化学」高分子刊行会(1975年刊)、M.
F.Hoover,J.Macromol.Sci.C
hem.A−4(6),1327〜1417頁(197
0年刊)等に記載されているもの等を用いる。Specifically, as an example of the conductive substrate or the conductive material, Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14, (No.
1), pp. 2-11 (published in 1975), Hiroyuki Moriga, "Introduction to Special Paper Chemistry", Polymer Publishing (1975), M.S.
F. Hoover, J .; Macromol. Sci. C
hem. A-4 (6), pp. 1273-1417 (197).
The ones described in "0 years" etc. are used.
【0320】本発明の親水化可能な表面層の厚さは10
μm以下であり特にカールソンプロセス用としては0.
1〜5μmであることが好ましい。5μmより厚いと、
平版印刷用原版の電子写真用感光体としての感度の低下
や残留電位が高くなるといった不都合が生じ得る。The thickness of the hydrophilizable surface layer of the present invention is 10
.mu.m or less, especially for the Carlson process.
It is preferably 1 to 5 μm. If it is thicker than 5 μm,
There may occur inconveniences such as a decrease in sensitivity of the lithographic printing original plate as an electrophotographic photoreceptor and an increase in residual potential.
【0321】実際に本発明の感光体(印刷用原版)を作
るには、一般的に、まず常法に従って導電性支持体上に
電子写真感光層(光導電層)を形成する。次いで、この
層の上に、本発明の樹脂粒子、結合樹脂更には必要によ
り前記した添加剤等を、沸点が200℃以下の揮発性炭
化水素溶剤に溶解又は分散し、これを塗布・乾燥するこ
とによって表面層を形成して製造することができる。In order to actually prepare the photoreceptor of the present invention (printing original plate), generally, an electrophotographic photosensitive layer (photoconductive layer) is first formed on a conductive support according to a conventional method. Then, on this layer, the resin particles of the present invention, the binder resin, and if necessary, the above-mentioned additives and the like are dissolved or dispersed in a volatile hydrocarbon solvent having a boiling point of 200 ° C. or less, and this is applied and dried. Thus, the surface layer can be formed and manufactured.
【0322】用いる有機溶剤としては、具体的には特に
ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタ
ン、テトラクロロエタン、ジクロロプロパンまたはトリ
クロロエタンなどの如き、炭素数1〜3のハロゲン化炭
化水素が好ましい。その他クロロベンゼン、トルエン、
キシレンまたはベンゼンなどの如き芳香族炭化水素、ア
セトンまたは2−ブタノン等の如きケトン類、テトラヒ
ドロフラン等の如きエーテル及びメチレンクロリドな
ど、塗布用組成物に用いられる各種の溶剤及び上記溶剤
の混合物も使用可能である。The organic solvent used is particularly preferably a halogenated hydrocarbon having 1 to 3 carbon atoms such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, tetrachloroethane, dichloropropane or trichloroethane. Other chlorobenzene, toluene,
Various solvents used in the coating composition such as aromatic hydrocarbons such as xylene or benzene, ketones such as acetone or 2-butanone, ethers such as tetrahydrofuran and methylene chloride, and mixtures of the above solvents can also be used. Is.
【0323】以上の如くして得られた本発明の平版印刷
用原版を用いた印刷版の作成は、公知の方法が適用で
き、上記した構成から成る電子写真用原版に常法により
複写画像を形成後、非画像部を不感脂化処理することで
作成される。即ち、暗所で実質的に一様に帯電し、画像
露光により静電潜像を形成する。露光方法としては、半
導体レーザー、He−Neレーザー等による走査露光あ
るいはキセノンランプ、タイグステンランプ、蛍光灯等
を光源として反射画像露光、透明陽画フィルムを通した
密着露光などが挙げられる。次に上記静電潜像トナーに
よって現像する。現像法としては従来公知の方法、例え
ばカスケード現像、磁器ブラシ現像、パウダークラウド
現像、液体現像などの各種の方法を用いることができ
る。中でも液体現像は微細な画像を形成することが可能
であり、印刷版を作成するために好適である。形成され
たトナー画像は公知の定着法、例えば加熱定着、圧力定
着、溶剤定着等により定着することができる。A publicly known method can be applied to prepare a printing plate using the lithographic printing plate precursor of the present invention obtained as described above, and a copy image is formed on the electrophotographic plate having the above-mentioned structure by a conventional method. After formation, it is created by desensitizing the non-image area. That is, it is charged substantially uniformly in a dark place, and an electrostatic latent image is formed by imagewise exposure. Examples of the exposure method include scanning exposure using a semiconductor laser, a He-Ne laser, or the like, reflection image exposure using a xenon lamp, a Tigsten lamp, a fluorescent lamp, or the like as a light source, contact exposure through a transparent positive film, and the like. Next, development is performed using the above electrostatic latent image toner. As the developing method, conventionally known methods, for example, various methods such as cascade development, porcelain brush development, powder cloud development and liquid development can be used. Among them, liquid development is capable of forming a fine image and is suitable for making a printing plate. The formed toner image can be fixed by a known fixing method such as heat fixing, pressure fixing, solvent fixing and the like.
【0324】このようにして形成されたトナー画像を有
する平版印刷用原版について、次に非画像部を不感脂化
処理することで印刷版が作成される。With respect to the lithographic printing original plate having the toner image thus formed, the non-image portion is subjected to a desensitizing treatment to prepare a printing plate.
【0325】本発明に供される不感脂化処理は、本発明
の樹脂粒子を、処理液を通すことで加水分解する方法、
レドックス反応で分解する方法あるいは光照射処理して
分解する方法等により親水性基を生成する方法が挙げら
れる。The desensitizing treatment used in the present invention is a method in which the resin particles of the present invention are hydrolyzed by passing them through a treatment liquid.
Examples thereof include a method of decomposing by a redox reaction, a method of decomposing by a light irradiation treatment, and the like to generate a hydrophilic group.
【0326】樹脂粒子の不感脂化方法、即ち、保護され
た親水性基を分解する方法としては、保護された親水性
基の分解反応性により任意に選択される。その1つとし
てpH1〜6の酸性条件、pH8〜12のアルカリ性条
件の水溶液で加水分解する方法が挙げられる。これらの
pHの調整は、公知の化合物によって、容易に調整する
ことができる。あるいは、還元性又は酸化性の水溶性化
合物によるレドックス反応による方法も可能であり、こ
れらの化合物としては公知の化合物を用いることができ
例えば包水ヒドラジン、亜鉛酸塩、リポ酸、ハイドロキ
ノン類、ギ酸、チオ硫酸塩、過酸化水素、過硫酸塩、キ
ノン類等が挙げられる。The method of desensitizing the resin particles, that is, the method of decomposing the protected hydrophilic group is arbitrarily selected depending on the decomposition reactivity of the protected hydrophilic group. One of them is a method of hydrolyzing with an aqueous solution under acidic conditions of pH 1 to 6 and alkaline conditions of pH 8 to 12. Adjustment of these pHs can be easily adjusted by known compounds. Alternatively, a method by redox reaction with a reducing or oxidizing water-soluble compound is also possible, and known compounds can be used as these compounds, for example, hydrazine hydrate, zincate, lipoic acid, hydroquinones, formic acid. , Thiosulfates, hydrogen peroxide, persulfates, quinones and the like.
【0327】該処理液は、反応促進あるいは処理液の保
存安定性を改良するために他の化合物を含有してもよ
い。例えば水に可溶性の有機溶媒を水100重量部中に
1〜50重量部含有してもよい。このような水に可溶性
の有機溶媒としては、例えばアルコール類(メタノー
ル、エタノール、プロパノール、プロパルギルアルコー
ル、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等)、
ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、アセトフェ
ノン等)、エーテル類(ジオキサン、トリオキサン、テ
トラヒドロフラン、エチレングリコール、プロピレング
リコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロ
ピラン等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エ
チル、ギ酸エチル等)等が挙げられ、これらは単独又は
2種以上を混合して用いてもよい。The treatment liquid may contain other compounds in order to accelerate the reaction or improve the storage stability of the treatment liquid. For example, 1 to 50 parts by weight of a water-soluble organic solvent may be contained in 100 parts by weight of water. Examples of such water-soluble organic solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, propargyl alcohol, benzyl alcohol, phenethyl alcohol, etc.),
Ketones (acetone, methyl ethyl ketone, acetophenone, etc.), ethers (dioxane, trioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol, propylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, tetrahydropyran, etc.), amides (dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.) ), Esters (methyl acetate, ethyl acetate, ethyl formate, etc.) and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.
【0328】更には、親水化反応を迅速にするために併
用する化合物として、パーソン(Pearson)等の
求核定数n〔R.G.Pearson,H.Sobe
l,J.Songstad,J.Amer.Chem.
Soc.,90,319(1968)〕が5.5以上の
値を有する置換基を含有し、且つ蒸留水100重量部中
に、1重量部以上溶解する親水性化合物が挙げられる。Further, as a compound used in combination for speeding up the hydrophilization reaction, a nucleophilic constant n [R. G. Pearson, H .; Sobe
1, J.I. Songstad, J.M. Amer. Chem.
Soc. , 90, 319 (1968)] containing a substituent having a value of 5.5 or more and having a solubility of 1 part by weight or more in 100 parts by weight of distilled water.
【0329】具体的な化合物としては、例えばヒドラジ
ン、ヒドロキシルアミン、亜硫酸塩(アンモニウム塩、
ナトリウム塩、カリウム塩、亜鉛塩等)、チオ硫酸塩等
が挙げられ、また、分子内にヒドロキシル基、カルボキ
シル基、スルホ基、ホスホノ基、アミノ基から選ばれた
少なくとも1つの極性基を含有するメルカプト化合物、
ヒドラジド化合物、スルフィン酸化合物、第1級アミン
化合物あるいは第2級アミン化合物等が挙げられる。Specific compounds include, for example, hydrazine, hydroxylamine, sulfite (ammonium salt,
Sodium salt, potassium salt, zinc salt, etc.), thiosulfate, etc., and at least one polar group selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a sulfo group, a phosphono group, and an amino group in the molecule. Mercapto compounds,
Examples thereof include hydrazide compounds, sulfinic acid compounds, primary amine compounds, secondary amine compounds, and the like.
【0330】例えばメルカプト化合物として、2−メル
カプトエタノール、2−メルカプトエチルアミン、N−
メチル−2−メルカプトエチルアミン、N−(2−ヒド
ロキシエチル)2−メルカプトエチルアミン、チオグリ
コール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、メルカプト
ベンゼンカルボン酸、2−メルカプトエタンスルホン
酸、2−メルカプトエチルホスホン酸、メルカプトベン
ゼンスルホン酸、2−メルカプトプロピオニルアミノ酢
酸、2−メルカプト−1−アミノ酢酸、1−メルカプト
プロピオニルアミン酢酸、1,2−ジメルカプトプロピ
オニルアミノ酢酸、2,3−ジヒドロキシプロピルメル
カプタン、2−メチル−2−メルカプト−1−アミノ酢
酸等を、スルフィン酸化合物として、2−ヒドロキシエ
チルスルフィン酸、3−ヒドロキシプロパンスルフィン
酸、4−ヒドロキシブタンスルフィン酸、カルボキシベ
ンゼンスルフィン酸、ジカルボキシベンゼンスルフィン
酸等を、ヒドラジド化合物として、2−ヒドラジノエタ
ノールスルホン酸、4−ヒドラジノブタンスルホン酸、
ヒドラジノベンゼンスルホン酸、ヒドラジノベンゼンス
ルホン酸、ヒドラジノ安息香酸、ヒドラジノベンゼンジ
カルボン酸等を、第1級あるいは第2級アミン化合物と
して、例えば、N−(2−ヒドロキシエチル)アミン、
N,N−ジ(2−ヒドロキシエチル)アミン、N,N−
ジ(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、トリ
(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、N−
(2,3−ジヒドロキシプロピル)アミン、N,N−ジ
(2,3−ジヒドロキシプロピル)アミン、2−アミノ
プロピオン酸、アミノ安息香酸、アミノピリジン、アミ
ノベンゼンジカルボン酸、2−ヒドロキシエチルモルホ
リン、2−カルボキシエチルモルホリン、3−カルボキ
シピペラジン等を挙げることができる。For example, as a mercapto compound, 2-mercaptoethanol, 2-mercaptoethylamine, N-
Methyl-2-mercaptoethylamine, N- (2-hydroxyethyl) 2-mercaptoethylamine, thioglycolic acid, thiomalic acid, thiosalicylic acid, mercaptobenzenecarboxylic acid, 2-mercaptoethanesulfonic acid, 2-mercaptoethylphosphonic acid, mercapto Benzenesulfonic acid, 2-mercaptopropionylaminoacetic acid, 2-mercapto-1-aminoacetic acid, 1-mercaptopropionylamineacetic acid, 1,2-dimercaptopropionylaminoacetic acid, 2,3-dihydroxypropylmercaptan, 2-methyl-2 -Mercapto-1-aminoacetic acid or the like as a sulfinic acid compound, 2-hydroxyethylsulfinic acid, 3-hydroxypropanesulfinic acid, 4-hydroxybutanesulfinic acid, carboxybenzenesulfinic acid The dicarboxylate benzene sulfinic acid, a hydrazide compound, 2- hydrazino ethanol sulfonic acid, 4-hydrazino butanoic acid,
Hydrazinobenzenesulfonic acid, hydrazinobenzenesulfonic acid, hydrazinobenzoic acid, hydrazinobenzenedicarboxylic acid and the like as a primary or secondary amine compound, for example, N- (2-hydroxyethyl) amine,
N, N-di (2-hydroxyethyl) amine, N, N-
Di (2-hydroxyethyl) ethylenediamine, tri (2-hydroxyethyl) ethylenediamine, N-
(2,3-dihydroxypropyl) amine, N, N-di (2,3-dihydroxypropyl) amine, 2-aminopropionic acid, aminobenzoic acid, aminopyridine, aminobenzenedicarboxylic acid, 2-hydroxyethylmorpholine, 2 -Carboxyethyl morpholine, 3-carboxy piperazine etc. can be mentioned.
【0331】これら処理液中の求核性化合物の存在量は
0.05モル/リットル〜10モル/リットルで、好ま
しくは0.1モル/リットル〜5モル/リットルであ
る。The amount of the nucleophilic compound present in these treatment solutions is 0.05 mol / liter to 10 mol / liter, preferably 0.1 mol / liter to 5 mol / liter.
【0332】また、界面活性剤を水100重量部中に
0.1〜20重量部含有してもよい。界面活性剤として
は、従来公知のアニオン性、カチオン性あるいはノニオ
ン性の各界面活性剤が挙げられる。例えば、堀口博「新
界面活性剤」三共出版(株)、(1975年刊)、小田
良平、寺村一広「界面活性剤の合成とその応用」槇書店
(1980年刊)等に記載される化合物を用いることが
できる。The surfactant may be contained in 100 parts by weight of water in an amount of 0.1 to 20 parts by weight. Examples of the surfactant include conventionally known anionic, cationic or nonionic surfactants. For example, compounds described in Hiroshi Horiguchi "New Surfactants" Sankyo Publishing Co., Ltd. (1975), Ryohei Oda, Kazuhiro Teramura "Synthesis of Surfactants and Their Applications" Maki Shoten (1980), etc. Can be used.
【0333】本発明の範囲は、上記した具体的化合物例
に限定されるものではない。処理の条件は、温度15℃
〜60℃で浸漬時間は10秒〜5分間が好ましい。The scope of the present invention is not limited to the above specific compound examples. The processing condition is a temperature of 15 ° C.
The immersion time at -60 ° C is preferably 10 seconds to 5 minutes.
【0334】更には、特定の官能基を光照射で分解する
方法としては、製版におけるトナー画像を得た後のいず
れかの間で「化学的活性光線」で光照射する行程を入れ
る様にすればよい。即ち、電子写真現像後、トナー画像
の定着時に定着を兼ねて光照射を行ってもよいし、或い
は従来公知の他の定着法、例えば加熱定着、圧力定着、
溶剤定着などにより定着した後、光照射を行うものであ
る。Further, as a method of decomposing a specific functional group by irradiation with light, a process of irradiating with "chemically active light" may be included between any of the steps after obtaining a toner image in plate making. Good. That is, after electrophotographic development, light irradiation may be performed for fixing the toner image at the time of fixing the toner image, or other conventionally known fixing methods such as heat fixing, pressure fixing,
After fixing by solvent fixing or the like, light irradiation is performed.
【0335】本発明に用いられる「化学的活性光線」と
しては、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線、
γ線、α線などいずれでもよいが、好ましくは紫外線が
挙げられる。より好ましくは波長310nmから波長5
00nmの範囲での光線を発しうるものが好ましく、一
般には高圧あるいは超高圧の水銀ランプ等が用いられ
る。光照射の処理は通常5cm〜50cmの距離から1
0秒〜10秒間の照射で充分に行うことができる。The "chemically active rays" used in the present invention include visible rays, ultraviolet rays, far ultraviolet rays, electron beams, X-rays,
Either γ rays or α rays may be used, but ultraviolet rays are preferable. More preferably from wavelength 310 nm to wavelength 5
Those that can emit light in the range of 00 nm are preferable, and generally, a high-pressure or ultra-high-pressure mercury lamp or the like is used. The process of light irradiation is usually 1 from a distance of 5 cm to 50 cm.
Irradiation for 0 to 10 seconds can be sufficiently performed.
【0336】[0336]
【実施例】以下に本発明の実施例を例示するが、本発明
の内容がこれらに限定されるものではない。樹脂粒子用
の分散安定用樹脂(一官能性重合体)及び樹脂粒子の製
造例を具体的に例示する。EXAMPLES Examples of the present invention will be illustrated below, but the contents of the present invention are not limited thereto. The production examples of the dispersion stabilizing resin (monofunctional polymer) for resin particles and resin particles will be specifically exemplified.
【0337】分散安定用樹脂(一官能性重合体〔M〕)
の製造例1:〔M−1〕 ドデシルメタクリレート97g、グリシジルメタクリレ
ート3g及びトルエン200gの混合溶液を、窒素気流
下攪拌しながら、温度75℃に加温した。2,2′−ア
ゾビスイソブチロニトリル(略称A.I.B.N.)
1.0gを加え4時間攪拌し、更にA.I.B.N.
0.5gを加え4時間攪拌した。次に、この反応混合物
にメタアクリル酸5g、N,N−ジメチルドデシルアミ
ン1.0g、t−ブチルハイドロキノン0.5gを加
え、温度110℃にて、8時間攪拌した。冷却後、メタ
ノール2リットル中に再沈し、やや褐色気味の油状物を
補集後、乾燥した。収量73gで重量平均分子量3.6
×104 であった。Dispersion stabilizing resin (monofunctional polymer [M])
Production Example 1 of [M-1] A mixed solution of 97 g of dodecyl methacrylate, 3 g of glycidyl methacrylate and 200 g of toluene was heated to a temperature of 75 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 2,2'-azobisisobutyronitrile (abbreviation AIBN)
1.0 g was added and the mixture was stirred for 4 hours. I. B. N.
0.5 g was added and stirred for 4 hours. Next, 5 g of methacrylic acid, 1.0 g of N, N-dimethyldodecylamine and 0.5 g of t-butylhydroquinone were added to this reaction mixture, and the mixture was stirred at a temperature of 110 ° C. for 8 hours. After cooling, it was reprecipitated in 2 liters of methanol to collect a slightly brownish oily substance and then dried. Yield 73 g, weight average molecular weight 3.6
It was × 10 4 .
【0338】[0338]
【化69】 [Chemical 69]
【0339】分散安定用樹脂(一官能性重合体〔M〕)
の製造例2:〔M−2〕 2−エテルヘキシルメタクリレート100g、トルエン
150g及びイソプロパノール50gの混合溶液を、窒
素気流下攪拌しながら温度75℃に加温した。2,2′
−アゾビス(4−シアノ吉草酸)(略称A.C.V.)
を2g加え4時間反応し、更にA.C.V.0.8gを
加えて4時間反応した。冷却後、メタノール2リットル
中に再沈し、油状物を補集し乾燥した。Dispersion stabilizing resin (monofunctional polymer [M])
Production Example 2: [M-2] A mixed solution of 100 g of 2-etherhexyl methacrylate, 150 g of toluene and 50 g of isopropanol was heated to a temperature of 75 ° C while stirring under a nitrogen stream. 2,2 '
-Azobis (4-cyanovaleric acid) (abbreviation ACV)
2g and reacted for 4 hours. C. V. 0.8 g was added and reacted for 4 hours. After cooling, it was reprecipitated in 2 liters of methanol to collect an oily substance and dried.
【0340】得られた油状物50g、2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート6g、テトラヒドロフラン150g
の混合物を溶解し、これにジシクロヘキシルカルボンジ
イミド(D.C.C.)8g、4−(N,N−ジメチル
アミノ)ピリジン0.2g及び塩化メチレン20gの混
合溶液を温度25〜30℃で滴下し、更にそのまま4時
間攪拌した。次にこの反応混合物にギ酸5gを加え1時
間攪拌した。析出した不溶物を濾別した後、濾液をメタ
ノール1リットル中に再沈し油状物を補集した。更に、
この油状物をテトラヒドロフラン200gに溶解し、不
溶物を濾別後再びメタノール1リットル中に再沈し、油
状物を補集し乾燥した。収量32gで重量平均分子量
4.2×104 であった。50 g of the obtained oily substance, 6 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 150 g of tetrahydrofuran
Was dissolved, and a mixed solution of 8 g of dicyclohexyl carboxylic diimide (D.C.C.), 0.2 g of 4- (N, N-dimethylamino) pyridine and 20 g of methylene chloride was added dropwise at a temperature of 25 to 30C. Then, the mixture was stirred as it was for 4 hours. Next, 5 g of formic acid was added to this reaction mixture and stirred for 1 hour. After separating the precipitated insoluble matter by filtration, the filtrate was reprecipitated in 1 liter of methanol to collect an oily matter. Furthermore,
This oily substance was dissolved in 200 g of tetrahydrofuran, the insoluble substance was filtered off, and reprecipitated again in 1 liter of methanol, and the oily substance was collected and dried. The yield was 32 g and the weight average molecular weight was 4.2 × 10 4 .
【0341】[0341]
【化70】 [Chemical 70]
【0342】分散安定用樹脂(一官能性重合体〔M〕)
の製造例3:〔M−3〕 ブチルメタクリレート96g、チオグリコール酸4g及
びトルエン200gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しな
がら、温度70℃に加温した。A.I.B.N.を1.
0gを加え8時間反応した。次にこの反応溶液にグリシ
ジルメタクリレート8g、N,N−ジメチルドデシルア
ミン1.0g及びt−ブチルハイドロキノン0.5gを
加え、温度100℃にて、12時間攪拌した。冷却後こ
の反応溶液をメタノール2リットル中に再沈し、油状物
を82g得た。重量平均分子量は8×103 であった。Dispersion stabilizing resin (monofunctional polymer [M])
Production Example 3: [M-3] A mixed solution of 96 g of butyl methacrylate, 4 g of thioglycolic acid and 200 g of toluene was heated to 70 ° C while stirring under a nitrogen stream. A. I. B. N. 1.
0 g was added and reacted for 8 hours. Next, 8 g of glycidyl methacrylate, 1.0 g of N, N-dimethyldodecylamine and 0.5 g of t-butylhydroquinone were added to this reaction solution, and the mixture was stirred at a temperature of 100 ° C. for 12 hours. After cooling, this reaction solution was reprecipitated in 2 liters of methanol to obtain 82 g of an oily substance. The weight average molecular weight was 8 × 10 3 .
【0343】[0343]
【化71】 [Chemical 71]
【0344】分散安定用樹脂(一官能性重合体〔M〕)
の製造例4:〔M−4〕 n−ブチルメタクリレート100g、β−メルカプトプ
ロピオン酸4g及びトルエン200gの混合溶液を、窒
素気流下攪拌しながら温度70℃に加温した。これに
A.I.B.N.1gを加え6時間反応した。この反応
混合物を冷却し、温度25℃に設定した後、2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート10g及びジカルボキシルカ
ルボンジイミド(D.C.C.)8g、4−(N,N−
ジメチルアミノ)ピリジン0.2g及び塩化メチレン2
0gの混合溶液を温度25〜30℃で滴下し、更にその
まま4時間攪拌した。次にこの反応混合物にギ酸5gを
加え1時間攪拌した。析出した不溶物を濾別した後、濾
液をメタノール1リットル中に再沈し油状物を濾集し
た。更に、この油状物をテトラヒドロフラン200gに
溶解し、不溶物を濾別後再びメタノール2リットル中に
再沈し、油状物を補集し乾燥した。収量68gで重量平
均分子量6.6×103 であった。Dispersion stabilizing resin (monofunctional polymer [M])
Production Example 4 of [M-4] A mixed solution of 100 g of n-butyl methacrylate, 4 g of β-mercaptopropionic acid and 200 g of toluene was heated to 70 ° C while stirring under a nitrogen stream. A. I. B. N. 1 g was added and reacted for 6 hours. The reaction mixture was cooled and set to a temperature of 25 ° C., then 10 g of 2-hydroxyethyl methacrylate and 8 g of dicarboxylic carboxylic diimide (D.C.C.), 4- (N, N-).
Dimethylamino) pyridine 0.2 g and methylene chloride 2
0 g of the mixed solution was added dropwise at a temperature of 25 to 30 ° C., and the mixture was further stirred as it was for 4 hours. Next, 5 g of formic acid was added to this reaction mixture and stirred for 1 hour. The precipitated insoluble matter was filtered off, the filtrate was reprecipitated in 1 liter of methanol, and an oily matter was collected by filtration. Further, this oily substance was dissolved in 200 g of tetrahydrofuran, the insoluble substance was filtered off, and reprecipitated again in 2 liters of methanol, and the oily substance was collected and dried. The yield was 68 g and the weight average molecular weight was 6.6 × 10 3 .
【0345】[0345]
【化72】 [Chemical 72]
【0346】分散安定用樹脂(一官能性重合体〔M〕)
の製造例5〜12:〔M−5〕〜〔M−12〕 製造例4において、n−ブチルメタクリレート100g
の代わりに下記表−2に相当する単量体群に代えた他
は、製造例4と同様にして各樹脂を製造した。各樹脂の
重量平均分子量は5.5×103 〜7×103 の範囲で
あった。Dispersion stabilizing resin (monofunctional polymer [M])
Production Examples 5 to 12: [M-5] to [M-12] In Production Example 4, 100 g of n-butyl methacrylate
Each resin was produced in the same manner as in Production Example 4, except that the monomer group corresponding to Table 2 below was used instead of. The weight average molecular weight of each resin was in the range of 5.5 × 10 3 to 7 × 10 3 .
【0347】[0347]
【表2】 [Table 2]
【0348】分散安定用樹脂(一官能性重合体〔M〕)
の製造例13〜16:〔M−13〕〜〔M−16〕 製造例4において、2−ヒドロキシメタクリレートの代
わりに表−3に相当する化合物を用いた他は製造例4と
同様に操作して各樹脂を製造した。各樹脂の重量平均分
子量は6×103 〜7×103 の範囲であった。Dispersion stabilizing resin (monofunctional polymer [M])
Production Examples 13 to 16 of [M-13] to [M-16] The same operation as in Production Example 4 was repeated except that the compounds corresponding to Table 3 were used in place of 2-hydroxymethacrylate in Production Example 4. To produce each resin. The weight average molecular weight of each resin was in the range of 6 × 10 3 to 7 × 10 3 .
【0349】[0349]
【表3】 [Table 3]
【0350】分散安定用樹脂(一官能性重合体〔M〕)
の製造例17:〔M−17〕 ヘキシルメタクリレート80g、グリシジルメタクリレ
ート20g、2−メルカプトエタノール2g及びテトラ
ヒドロフラン300gの混合溶液を、窒素気流下攪拌し
ながら温度60℃に加温した。これに2,2′−アゾビ
ス(イソバレロニトリル)(略称:A.I.V.N.)
0.8gを加え4時間反応し、更にA.I.V.N
0.4gを加えて4時間反応した。この反応間を温度2
5℃に冷却した後、メタクリル酸4gを加え攪拌下に
D.C.C.6g、4−(N,N−ジメチルアミノ)ピ
リジン0.1g及び塩化メチレン15gの混合溶液を1
時間で滴下し、そのまま更に3時間攪拌した。次に、水
10gを加え、1時間攪拌し析出した不溶物を濾別後、
濾液をメタノール1リットル中に再沈し油状物を補集し
た。更にこの油状物をベンゼン150gに溶解し不溶物
を濾別後、再びメタノール1リットル中に再沈し油状物
を補集し乾燥した。収量は56gで重量平均分子量8×
103 であった。Dispersion stabilizing resin (monofunctional polymer [M])
Production Example 17: [M-17] A mixed solution of 80 g of hexyl methacrylate, 20 g of glycidyl methacrylate, 2 g of 2-mercaptoethanol and 300 g of tetrahydrofuran was heated to a temperature of 60 ° C while stirring under a nitrogen stream. In addition to this, 2,2'-azobis (isovaleronitrile) (abbreviation: AIVN)
0.8 g was added and the reaction was carried out for 4 hours. I. V. N
0.4 g was added and reacted for 4 hours. Temperature 2 during this reaction
After cooling to 5 ° C., 4 g of methacrylic acid was added and D. C. C. 1 g of a mixed solution of 6 g, 4- (N, N-dimethylamino) pyridine 0.1 g and methylene chloride 15 g.
The mixture was added dropwise over time, and the mixture was stirred as it was for 3 hours. Next, 10 g of water was added, the mixture was stirred for 1 hour, and the precipitated insoluble matter was filtered off.
The filtrate was reprecipitated in 1 liter of methanol to collect an oily substance. Further, this oily substance was dissolved in 150 g of benzene, the insoluble substance was filtered off, and then reprecipitated again in 1 liter of methanol to collect the oily substance and dried. Yield 56g, weight average molecular weight 8x
It was 10 3 .
【0351】[0351]
【化73】 [Chemical formula 73]
【0352】分散安定用樹脂(一官能性重合体〔M〕)
の製造例18〜22:〔M−18〕〜〔M−22〕 製造例17に示した様な反応を行なうことで下記表−4
の分散安定用樹脂を各々合成した。各樹脂の重量平均分
子量は6×103 〜9×103 の範囲であった。Dispersion stabilizing resin (monofunctional polymer [M])
Production Examples 18 to 22: [M-18] to [M-22] By carrying out the reaction as shown in Production Example 17, the following Table-4 is shown.
The respective dispersion stabilizing resins were synthesized. The weight average molecular weight of each resin was in the range of 6 × 10 3 to 9 × 10 3 .
【0353】[0353]
【表4】 [Table 4]
【0354】[0354]
【表5】 [Table 5]
【0355】樹脂粒子の製造例1:〔L−1〕 分散安定用樹脂〔M−17〕10g及びメチルエチルケ
トン200gの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度
60℃に加温した。これに、下記単量体〔C−1〕47
g、下記単量体〔D−1〕3g、エチレングリコールジ
メタクリレート5g、A.I.V.N.0.5g及びメ
チルエチルケトン240gの混合溶液を2時間で滴下
し、そのまま2時間反応した。更にA.I.V.N.
0.5gを加え2時間反応した。冷却後、200メッシ
ュのナイロン布を通して白色分散物を得た。平均粒径
0.18μmのラテックスであった。{:CAPA−5
00〔堀場製作所(株)〕製で粒径測定}Production Example 1 of Resin Particles [L-1] A mixed solution of 10 g of the dispersion stabilizing resin [M-17] and 200 g of methyl ethyl ketone was heated to a temperature of 60 ° C. while stirring under a nitrogen stream. In addition, the following monomer [C-1] 47
g, the following monomer [D-1] 3 g, ethylene glycol dimethacrylate 5 g, A. I. V. N. A mixed solution of 0.5 g and 240 g of methyl ethyl ketone was added dropwise over 2 hours, and the reaction was continued for 2 hours. Furthermore, A. I. V. N.
0.5 g was added and reacted for 2 hours. After cooling, a 200 mesh nylon cloth was passed through to obtain a white dispersion. The latex had an average particle size of 0.18 μm. {: CAPA-5
00 [HORIBA, Ltd.] particle size measurement}
【0356】[0356]
【化74】 [Chemical 74]
【0357】樹脂粒子の製造例2〜12:〔L−2〕〜
〔L−12〕 樹脂粒子の製造例1において、単量体〔C−1〕及び
〔D−1〕の代わりに下記表−5の本単量体に代えた他
は、製造例1と同様にして樹脂粒子を製造した。各粒子
の平均粒径は0.65〜0.30の範囲内であった。Production Examples 2-12 of Resin Particles: [L-2]
[L-12] Same as Production Example 1 except that Monomers [C-1] and [D-1] in Production Example 1 of resin particles were replaced with the present monomer in Table 5 below. To produce resin particles. The average particle size of each particle was within the range of 0.65 to 0.30.
【0358】[0358]
【表6】 [Table 6]
【0359】[0359]
【表7】 [Table 7]
【0360】[0360]
【表8】 [Table 8]
【0361】樹脂粒子の製造例13:〔L−13〕 分散安定用樹脂AA−6〔東亜合成(株)製マクロモノ
マー:メチルメタクリレートを繰り返し単位とするマク
ロモノマー:重量平均分子量1.5×104 〕7.5g
及びメチルエチルケトン133gの混合溶液を窒素気流
下攪拌しながら60℃に加温した。これに、下記単量体
〔C−13〕20g、下記単量体〔D−11〕5gジエ
チレングリコールジメタクリレート5g、A.I.V.
N.0.5g及びメチルエチルケトン150gの混合溶
液を1時間で滴下し更にA.I.V.N.0.25gを
加えて2時間反応した。冷却後、200メッシュのナイ
ロン布を通して得られた分散物の平均粒径は0.25μ
mであった。Production Example 13 of resin particles: [L-13] Dispersion stabilizing resin AA-6 [manufactured by Toagosei Co., Ltd. Macromonomer: Macromonomer having methyl methacrylate as a repeating unit: weight average molecular weight 1.5 × 10 5] 4 ] 7.5g
A mixed solution of and 133 g of methyl ethyl ketone was heated to 60 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 20 g of the following monomer [C-13], 5 g of the following monomer [D-11] and 5 g of diethylene glycol dimethacrylate, A. I. V.
N. A mixed solution of 0.5 g and 150 g of methyl ethyl ketone was added dropwise over 1 hour, and A. I. V. N. 0.25 g was added and reacted for 2 hours. After cooling, the average particle size of the dispersion obtained through a 200-mesh nylon cloth is 0.25μ.
It was m.
【0362】[0362]
【化75】 [Chemical 75]
【0363】樹脂粒子の製造例14〜24:〔L−1
4〕〜〔L−24〕 樹脂粒子の製造例13において、エチレングリコールジ
メタクリレート5gに代えて、下記表−6の多官能性化
合物を用いた他は製造例14と同様にして樹脂粒子〔L
−15〕〜〔L−25〕を製造した。各粒子とも重合率
は95〜98%で平均粒径は0.15〜0.25μmで
あった。Production Examples 14-24 of Resin Particles: [L-1
4] to [L-24] In the same manner as in Production Example 14, except that the polyfunctional compound shown in Table 6 below was used in place of 5 g of ethylene glycol dimethacrylate in Production Example 13 of resin particles, resin particles [L
-15] to [L-25] were produced. Each particle had a polymerization rate of 95 to 98% and an average particle diameter of 0.15 to 0.25 μm.
【0364】[0364]
【表9】 [Table 9]
【0365】樹脂粒子の製造例25〜34:〔L−2
5〕〜〔L−34〕 単量体〔C−12〕46g、単量体〔D−7〕4g、エ
チレングリコールジアクリレート2g、下記表−7に記
載した各分散安定用樹脂〔M〕8g及びジプロピルケト
ン230gを窒素気流下温度60℃に加温したジプロピ
ルケトン200gの溶液中に攪拌しながら2時間で滴下
した。そのまま1時間反応後、更にA.I.V.N.
0.3gを加え2時間反応した。冷却後200メッシュ
ナイロン布を通して得られた各分散物の平均粒径は0.
18〜0.25μmであった。Production Examples 25-34 of Resin Particles: [L-2
5] to [L-34] 46 g of monomer [C-12], 4 g of monomer [D-7], 2 g of ethylene glycol diacrylate, and 8 g of each dispersion stabilizing resin [M] shown in Table 7 below. Then, 230 g of dipropyl ketone was added dropwise to a solution of 200 g of dipropyl ketone heated to a temperature of 60 ° C. under a nitrogen stream in 2 hours while stirring. After reacting for 1 hour as it is, A. I. V. N.
0.3 g was added and reacted for 2 hours. After cooling, the average particle size of each dispersion obtained through a 200-mesh nylon cloth was 0.
It was 18 to 0.25 μm.
【0366】[0366]
【表10】 [Table 10]
【0367】樹脂粒子の製造例35〜40:〔L−3
5〕〜〔L−40〕 分散安定用樹脂AA−6 7g、単量体{D−4〕4
g、下記表−8記載の各単量体及び下記表−9記載の反
応溶媒340gの混合物を、窒素気流下に温度60℃に
加温した。これに、A.I.V.N.0.3gを加え2
時間反応し、更に、A.I.V.N.0.1gを加えて
2時間反応した。冷却後200メッシュナイロン布を通
して得られた分散物の平均粒径は0.15μm〜0.3
0μmの範囲であった。Production Examples 35-40 of Resin Particles: [L-3
5] to [L-40] Dispersion stabilizing resin AA-6 7 g, monomer {D-4] 4
g, a mixture of each monomer shown in Table 8 below and 340 g of a reaction solvent shown in Table 9 below was heated to a temperature of 60 ° C. under a nitrogen stream. In addition to this, I. V. N. Add 0.3g 2
Reacts for a time, and further I. V. N. 0.1 g was added and reacted for 2 hours. The average particle size of the dispersion obtained after passing through a 200 mesh nylon cloth after cooling is 0.15 μm to 0.3
It was in the range of 0 μm.
【0368】[0368]
【表11】 [Table 11]
【0369】[0369]
【表12】 [Table 12]
【0370】次に結着樹脂〔A〕の合成例を具体的に例
示する。 樹脂〔A〕の合成例1:〔A−1〕 ベンジルメタクリレート96g、チオサリチル酸4g及
びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下に温度75
℃に加温した。2,2’−アゾビスイソブチロニトリル
(略称A.I.B.N.)を1.0gを加え4時間反応
した。更にA.I.B.N.を0.4g加え2時間、そ
の後更にA.I.B.N.を0.2g加え3時間攪拌し
た。得られた共重合体〔A−1〕は下記の構造を有し、
その重量平均分子量は6.8×103 であった。Next, a synthesis example of the binder resin [A] will be specifically exemplified. Synthesis Example of Resin [A] 1: [A-1] A mixed solution of 96 g of benzyl methacrylate, 4 g of thiosalicylic acid and 200 g of toluene was heated under a nitrogen stream at a temperature of 75.
Warmed to ° C. 1.0 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile (abbreviation AIBN) was added and reacted for 4 hours. Furthermore, A. I. B. N. 0.4 g was added for 2 hours, and then A. I. B. N. 0.2 g was added and stirred for 3 hours. The obtained copolymer [A-1] has the following structure,
Its weight average molecular weight was 6.8 × 10 3 .
【0371】[0371]
【化76】 [Chemical 76]
【0372】樹脂〔A〕の合成例2〜13:〔A−2〕
〜〔A−13〕 樹脂〔A〕の合成例1において、ベンジルメタクリレー
ト96gに代えて、下記表−9の単量体を用いて、その
他は合成例1と同様に操作して各樹脂〔A−2〕〜〔A
−13〕を合成した。各樹脂の重量平均分子量は6.0
×103 〜8×103 であった。Synthesis Examples 2 to 13 of Resin [A]: [A-2]
~ [A-13] In Synthesis Example 1 of Resin [A], the monomers shown in Table 9 below were used in place of 96 g of benzyl methacrylate, and the other operations were performed in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain resins [A-13]. -2] ~ [A
-13] was synthesized. The weight average molecular weight of each resin is 6.0.
× was 10 3 ~8 × 10 3.
【0373】[0373]
【表13】 [Table 13]
【0374】[0374]
【表14】 [Table 14]
【0375】[0375]
【表15】 [Table 15]
【0376】樹脂〔A〕の合成例14〜24:〔A−1
4〕〜〔A−24〕 樹脂〔A〕の合成例1において、ベンジルメタクリレー
ト96g、チオサリチル酸4gに代えて、下記表−10
に示すメタクリレート、メルカプト化合物を用い、また
トルエン200gに代えてトルエン150g及びイソプ
ロパノール50gとした外は、合成例1と同様に反応し
て各樹脂〔A−14〕〜〔A−24〕を合成した。得ら
れた各共重合体の重量平均分子量は6.8×103 であ
った。Synthesis Examples 14 to 24 of Resin [A]: [A-1
4] to [A-24] In Synthesis Example 1 of Resin [A], instead of 96 g of benzyl methacrylate and 4 g of thiosalicylic acid, the following Table-10 is used.
Each of the resins [A-14] to [A-24] was synthesized by the same reaction as in Synthesis Example 1 except that the methacrylate and mercapto compound shown in 1 were used, and that 150 g of toluene and 50 g of isopropanol were used instead of 200 g of toluene. .. The weight average molecular weight of each obtained copolymer was 6.8 × 10 3 .
【0377】[0377]
【表16】 [Table 16]
【0378】[0378]
【表17】 [Table 17]
【0379】[0379]
【表18】 [Table 18]
【0380】樹脂〔A〕の合成例25:〔A−25〕 1−ナフチルメタクリレート95.5g、メタクリル酸
0.5g、トルエン150g及びイソプロパノール50
gの混合溶液を窒素気流下に温度80℃に加温した。
4,4′−アゾビス(4−シアノ)吉草酸(略称A.
C.V.)5.0gを加え5時間攪拌した。更にA.
C.V.を1g加え2時間、その後更にA.C.V.を
1g加え3時間攪拌した。得られた重合体の重量平均分
子量は7.5×103 であった。Synthesis Example 25 of resin [A]: [A-25] 1-naphthyl methacrylate 95.5 g, methacrylic acid 0.5 g, toluene 150 g and isopropanol 50.
The mixed solution of g was heated to a temperature of 80 ° C. under a nitrogen stream.
4,4'-azobis (4-cyano) valeric acid (abbreviation A.
C. V. ) 5.0 g was added and stirred for 5 hours. Furthermore, A.
C. V. 1 g was added for 2 hours, and then A. C. V. 1 g was added and stirred for 3 hours. The weight average molecular weight of the obtained polymer was 7.5 × 10 3 .
【0381】[0380]
【化77】 [Chemical 77]
【0382】樹脂〔A〕の合成例26:〔A−26〕 メチルメタクリレート50g及び塩化メチレン150g
の混合溶液を窒素気流下−20℃に冷却した。直前に調
整した10%1,1−ジフェニルヘキシルリチウムヘキ
サン溶液を1.0g加え、5時間攪拌した。これに二酸
化炭素を流量10ml/ccで10分間攪拌下に流した
後、冷却をやめて、反応混合物が室温になるまで攪拌放
置した。次にこの反応混合物を、1N塩酸50ccをメ
タノール1リットル中に溶かした溶液中に再沈し、白色
粉末を濾集した。この粉末を中性になるまで水洗した
後、減圧乾燥した。収量18gで、重量平均分子量6.
5×103 であった。Synthesis Example 26 of Resin [A]: [A-26] 50 g of methyl methacrylate and 150 g of methylene chloride.
The mixed solution of was cooled to -20 ° C under a nitrogen stream. 1.0 g of 10% 1,1-diphenylhexyllithium hexane solution adjusted immediately before was added, and the mixture was stirred for 5 hours. Carbon dioxide was passed under stirring at a flow rate of 10 ml / cc for 10 minutes, cooling was stopped, and the reaction mixture was allowed to stir until it reached room temperature. Next, the reaction mixture was reprecipitated in a solution of 50 cc of 1N hydrochloric acid dissolved in 1 liter of methanol, and a white powder was collected by filtration. The powder was washed with water until it became neutral, and then dried under reduced pressure. Yield 18 g, weight average molecular weight 6.
It was 5 × 10 3 .
【0383】[0383]
【化78】 [Chemical 78]
【0384】樹脂〔A〕の合成例27:〔A−27〕 ベンジルメタクリレート95g、チオグリコール酸4g
及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下に温度7
5℃に加温した。Synthesis Example 27 of Resin [A]: [A-27] 95 g of benzyl methacrylate, 4 g of thioglycolic acid
And a mixed solution of 200 g of toluene under a nitrogen stream at a temperature of 7
Warmed to 5 ° C.
【0385】A.C.V.を1.0g加え、6時間反応
した後、更にA.C.V.を0.4g加え3時間反応し
た。得られた共重合体の重量平均分子量は7.8×10
3 であった。A. C. V. 1.0 g was added and reacted for 6 hours, and then A. C. V. 0.4 g was added and reacted for 3 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer was 7.8 × 10.
Was 3 .
【0386】[0386]
【化79】 [Chemical 79]
【0387】実施例1及び比較例A〜B (実施例1)樹脂〔A−5〕8g(固形分量として)、
下記構造の樹脂〔B−1〕34g(固形分量として)、
光導電性酸化亜鉛200g、下記構造のメチン色素
〔I〕0.017g、無水フタル酸0.18g及びトル
エン300gの混合物を、ホモジナイザー(日本精機
(株)製)中で9×103 r.p.m.の回転数で10
分間分散した。この感光層形成用分散物を導電処理した
紙に乾燥付着量が25g/m2 となるようにワイヤーバ
ーで塗布し、100℃で30秒間乾燥した。Example 1 and Comparative Examples AB (Example 1) 8 g (as solid content) of resin [A-5],
34 g of resin [B-1] having the following structure (as solid content),
A mixture of 200 g of photoconductive zinc oxide, 0.017 g of methine dye [I] having the following structure, 0.18 g of phthalic anhydride and 300 g of toluene was mixed in a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.) at 9 × 10 3 r.p. p. m. At 10 rpm
Dispersed for minutes. This photosensitive layer-forming dispersion was applied to a conductive-treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 25 g / m 2, and dried at 100 ° C. for 30 seconds.
【0388】[0388]
【化80】 [Chemical 80]
【0389】この感光体表面上に、下記処方のトルエン
分散物をドクターブレードで塗布後100℃で20秒間
乾燥し、更に120℃で1時間加熱して約2μmの表面
層を形成した。A toluene dispersion having the following formulation was coated on the surface of this photoreceptor with a doctor blade, dried at 100 ° C. for 20 seconds, and further heated at 120 ° C. for 1 hour to form a surface layer of about 2 μm.
【0390】 表面層用トルエン分散物 下記構造の樹脂〔B′−1〕 3g 樹脂粒子〔L−1〕 5g (固形分量として) 無水フタル酸 0.02g o−クロロフェノール 0.001g をトルエンに加え全量100gとした。Toluene Dispersion for Surface Layer Resin [B′-1] having the following structure 3 g Resin particles [L-1] 5 g (as solid content) Phthalic anhydride 0.02 g O-chlorophenol 0.001 g was added to toluene. The total amount was 100 g.
【0391】[0391]
【化81】 [Chemical 81]
【0392】ついで暗所で20℃、65%RHの条件下
で24時間放置することにより、電子写真感光材料を作
製した。 (比較例A)実施例1において、樹脂〔A−5〕8g及
び樹脂〔B−1〕33gの代わりに樹脂〔B−1〕のみ
42gを用いた他は実施例1と同様に操作して電子写真
感光材料を作製した。 (比較例B) 比較用分散樹脂粒子:LR−1 樹脂粒子の製造例1:L−1において、分散安定用樹脂
〔M−32〕10gの代わりに、下記構造の樹脂を用い
た他は、製造例1と同様にして合成した。得られたラテ
ックスの平均粒径は0.17μmであった。Then, an electrophotographic light-sensitive material was prepared by leaving it in the dark at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours. (Comparative Example A) The same operation as in Example 1 was carried out except that only 42 g of the resin [B-1] was used in place of 8 g of the resin [A-5] and 33 g of the resin [B-1] in Example 1. An electrophotographic photosensitive material was produced. (Comparative Example B) Comparative Dispersion Resin Particles: LR-1 Production Example 1 of Resin Particles: In L-1, except that the resin having the following structure was used in place of 10 g of the dispersion stabilizing resin [M-32], It was synthesized in the same manner as in Production Example 1. The average particle size of the obtained latex was 0.17 μm.
【0393】[0393]
【化82】 [Chemical formula 82]
【0394】比較用感光体 実施例1において、表面層用トルエン分散物の樹脂粒子
〔L−1〕3gの代わりに、樹脂粒子〔LR−1〕3g
(固形分量として)を用いた他は、実施例1と同様にし
て電子写真感光材料を作製した。Comparative Photoreceptor In Example 1, 3 g of resin particles [LR-1] were used instead of 3 g of resin particles [L-1] of the toluene dispersion for the surface layer.
An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example 1 except that (as the solid content) was used.
【0395】これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑
度)、静電特性、光導電層の不感脂化性(不感脂化処理
後の光導電層の水との接触角で表わす)及び印刷性を調
べた。印刷性は、全自動製版機ELP404V(富士写
真フイルム(株)製)に現像剤として、下記内容の現像
剤LD−1を用いて、露光・現像処理して画像を形成
し、不感脂化処理をして得られた平版印刷板を用いて調
べた。(なお印刷機にはハマダスター(株)製ハマダス
ター800SX型を用いた)Film formation (smoothness of the surface), electrostatic characteristics, desensitizing property of the photoconductive layer (represented by contact angle of water of the photoconductive layer after desensitizing treatment) and printing of these light-sensitive materials. I investigated the sex. As for printability, a fully automatic plate-making machine ELP404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used as a developer, and a developer LD-1 having the following content was used to perform exposure / development processing to form an image and desensitization treatment. It investigated using the lithographic printing plate obtained by doing. (Note that the printing machine used was a Hamada Star 800SX type manufactured by Hamada Star Co., Ltd.)
【0396】液体現像剤:LD−1 ・トナー粒子の合成 メチルメタクリレート60g、メチルアクリレート40
g、下記構造の分散ポリマー20g及びアイソパーH6
80gの混合溶液を窒素気流下に攪拌しながら温度65
℃に加温した。これに2,2’−アゾビス(イソバレロ
ニトリル)(A.I.V.N.)1.2gを加えて2時
間反応し、更にA.I.V.N.を0.5g加えて2時
間反応し、更に又、A.I.V.N.を0.5g加えて
2時間反応した。Liquid developer: LD-1 ・ Synthesis of toner particles Methyl methacrylate 60 g, methyl acrylate 40
g, 20 g of a dispersion polymer having the following structure and Isopar H6
While stirring 80 g of the mixed solution under a nitrogen stream, a temperature of 65
Warmed to ° C. To this, 1.2 g of 2,2'-azobis (isovaleronitrile) (AIVN) was added and reacted for 2 hours. I. V. N. 0.5 g was added and the mixture was reacted for 2 hours. I. V. N. 0.5 g was added and reacted for 2 hours.
【0397】次に反応温度を90℃に上げて、30mm
Hgの減圧下に1時間攪拌し、未反応単量体を除去し
た。室温に冷却後、200メッシュのナイロン布を通し
て濾過し、白色分散物を得た。得られた分散物の単量体
の反応率は95重量%で樹脂粒子の平均粒径は0.25
μmで且つ単分散性良好なものであった。(粒径は、C
APA−500:馬場製作所製を使用)。Next, the reaction temperature was raised to 90 ° C. and the temperature was raised to 30 mm.
The mixture was stirred under reduced pressure of Hg for 1 hour to remove unreacted monomers. After cooling to room temperature, it was filtered through a 200-mesh nylon cloth to obtain a white dispersion. The reaction rate of the monomers of the obtained dispersion was 95% by weight, and the average particle size of the resin particles was 0.25.
The particle size was μm and the monodispersity was good. (The particle size is C
APA-500: used by Baba Seisakusho).
【0398】[0398]
【化83】 [Chemical 83]
【0399】・着色粒子の製造 テトラデシルメタクリレート/メタクリル酸共重合体
(共重合比;95/5重量比)を10g、ニグロシン1
0g及びアイソパーGの30gをガラスビーズと共にペ
イントシェーカー〔東京精機(株)製〕に入れ、4時間
分散し、ニグロシンの微小な分散物を得た。 ・液体現像剤の製造 上記トナー粒子の樹脂分散物45g、上記ニグロシン分
散物を25g、ヘキサデセン/半マレイン酸オクタデシ
ルアミド共重合体を0.06g及びFOC−1800の
15gをアイソパーGの1リットルに希釈することによ
り静電写真用液体現像剤を作製した。Production of colored particles: 10 g of tetradecyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization ratio; 95/5 weight ratio), 1 nigrosine
0 g and 30 g of Isopar G were put together with glass beads in a paint shaker (manufactured by Tokyo Seiki Co., Ltd.) and dispersed for 4 hours to obtain a fine dispersion of nigrosine. -Production of liquid developer 45 g of the resin dispersion of the toner particles, 25 g of the nigrosine dispersion, 0.06 g of hexadecene / semi-maleic acid octadecylamide copolymer and 15 g of FOC-1800 were diluted to 1 liter of Isopar G. By doing so, a liquid developer for electrostatic photography was prepared.
【0400】以上の結果をまとめて、表−11に示す。The above results are summarized in Table-11.
【0401】[0401]
【表19】 [Table 19]
【0402】注1) 表面層の平滑性:各感光材料を、
ベック平滑度試験機(熊谷理工(株)製)を用いて、空
気容量1ccの条件にて、その平滑度(sec/cc)
を測定した。 注2) 静電特性:温度20℃、65%RHの暗室中
で、各感光材料にペーパーアナライザー(川口電機
(株)製ペーパーアナライザーSP−428型)を用い
て−6kVで20秒間コロナ放電をさせた後、10秒間
放置し、この時の表面電位V10を測定した。次いでその
まま暗中で100秒間静置させた後の電位V100 を測定
し、90秒間暗減衰させた後の電位の保持性、即ち、暗
減衰保持率〔D.R.R.(%)〕を、(V100 /
V10)×100(%)で求めた。Note 1) Smoothness of surface layer:
Using a Beck's smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.), the smoothness (sec / cc) under the condition of an air capacity of 1 cc
Was measured. Note 2) Electrostatic characteristics: Corona discharge at -6 kV for 20 seconds using a paper analyzer (Kawaguchi Electric Co., Ltd. paper analyzer SP-428 type) on each light-sensitive material in a dark room at a temperature of 20 ° C and 65% RH. After that, it was left for 10 seconds and the surface potential V 10 at this time was measured. Then, the potential V 100 after standing still in the dark for 100 seconds was measured, and the potential retention after dark decay for 90 seconds, that is, the dark decay retention rate [D. R. R. The (%)], (V 100 /
It was determined by V 10 ) × 100 (%).
【0403】また、コロナ放電により光導電層表面を−
400Vに帯電させた後、波長780nmの単色光で照
射し、表面電位V10が1/10に減衰するまでの時間を
求め、これから露光量E1/10(erg/cm2 )を算出
する。温度20℃,65%RHの条件をIとし、更に温
度30℃,80%RHの環境条件で同様に評価し、これ
をIIとした。 注3) 撮像性:各感光材料を以下の環境条件で1昼夜
放置した。次に−5kVで帯電し、光源として2.0m
W出力のガリウム−アルミニウム−ヒ素半導体レーザー
(発振波長780nm)を用いて、感光材料表面上で、
45erg/cm2 の照射量下、ピッチ25μm及びス
キャニング速度330m/secのスピード露光後、液
体現像剤として、前記のLD−1を用いて現像し、定着
することで得られた複写画像(カブリ、画像の画質)を
目視評価した。 注4) 生版保水性:各感光材料そのものを(製版しな
い原版:即ち、生版と略称)下記処方の不感脂化処理
液:E−1中に3分間浸漬した。これらの版をハマダス
ター(株)製ハマダスター8005X型で、湿し水とし
て蒸留水を用いて印刷し、刷り出しから50枚目の印刷
物の地汚れの有無を目視で評価した。 不感脂化処理液:E−1 ジエタノールアミン 75g ネオソープ(松本油脂(株)製) 3g ベンジルアルコール 100g を蒸留水で希釈し全量を1.0リットルにした後、水酸
化カリウムでpH13.5に調整した。 注5) 印刷物の地汚れ:各感光材料を上記注3)と同
一の操作で製版した後、注4)で用いてE−1の処理液
中に3分間浸漬した後、湿し水としてE−1を水で3倍
に希釈した溶液を又印刷用紙として中性紙を各々用いて
印刷し、印刷物の地汚れが目視で判別できるまでの印刷
枚数を調べた。Further, the surface of the photoconductive layer was-
After being charged to 400 V, irradiation with monochromatic light having a wavelength of 780 nm is performed, and the time until the surface potential V 10 is attenuated to 1/10 is obtained, and the exposure amount E 1/10 (erg / cm 2 ) is calculated from this. The condition of temperature 20 ° C. and 65% RH was set to I, and the same evaluation was performed under the environmental conditions of temperature 30 ° C. and 80% RH, and this was set to II. Note 3) Imaging: Each light-sensitive material was left for one day under the following environmental conditions. Next, it is charged at -5kV and 2.0m as a light source.
Using a W output gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 780 nm), on the surface of the photosensitive material,
After exposure under a dose of 45 erg / cm 2 with a pitch of 25 μm and a scanning speed of 330 m / sec, the above-mentioned LD-1 was used as a liquid developer to develop and fix the copy image (fog, fog, The image quality) was visually evaluated. Note 4) Raw plate water retentivity: Each light-sensitive material itself was immersed for 3 minutes in a desensitizing solution E-1 having the following formulation (original plate not made into a plate: abbreviated as raw plate). These plates were printed on a Hamada Star 8005X type manufactured by Hamada Star Co., Ltd. using distilled water as dampening water, and the presence or absence of background stains on the 50th printed sheet after printing was visually evaluated. Desensitizing treatment liquid: E-1 Diethanolamine 75 g Neosoap (manufactured by Matsumoto Yushi Co., Ltd.) 3 g Benzyl alcohol 100 g was diluted with distilled water to a total volume of 1.0 liter and then adjusted to pH 13.5 with potassium hydroxide. . Note 5) Background stain of printed matter: After making each photosensitive material by the same operation as in Note 3) above, immersing it in the processing liquid of E-1 used for Note 4) for 3 minutes, and then using E as fountain solution. A solution obtained by diluting -1 with water three times was also printed using a neutral paper as a printing paper, and the number of printed sheets until the background stain of the printed matter was visually discriminated was examined.
【0404】各感光材料とも、表面の平滑性は良好であ
った。静電特性は、本発明及び比較例Bは良好で実際の
撮像性も複写画像はいずれも鮮明な画質であった。しか
し、比較例AはD.R.R.及び光感度が著しく低下
し、撮像性も細線・文字等の欠落、非画像部のカブリ等
が生じ実用に供しえないものとなった。これらのこと
は、光導電層の結着樹脂として本発明の樹脂〔A〕を用
いたことにより、半導体レーザー光スキャニング露光方
式でも優れた電子写真特性を得ることを示している。The surface smoothness of each photosensitive material was good. The electrostatic characteristics of the present invention and Comparative Example B were good, and the actual image pickup properties and the copied images were clear. However, Comparative Example A is D.I. R. R. In addition, the photosensitivity was remarkably lowered, and the image pickup property was not usable for practical use due to the lack of fine lines and characters, and the fog in the non-image area. These facts show that by using the resin [A] of the present invention as the binder resin of the photoconductive layer, excellent electrophotographic characteristics can be obtained even in the semiconductor laser light scanning exposure method.
【0405】これら各感光体を不感脂化処理して、非画
像部の親水化の度合(生版保水性)を評価した所、比較
例Bは、印刷インキ付着による地汚れが著しく、非画像
部の親水化が充分に行なわれなかった。When each of these photoreceptors was subjected to a desensitizing treatment to evaluate the degree of hydrophilicity of the non-image area (water-holding capacity of the original plate), Comparative Example B showed significant background stain due to the adhesion of printing ink, The part was not sufficiently hydrophilized.
【0406】更に実際に製版した後不感脂化処理して印
刷した所、本発明の平版は印刷用紙として中性紙を用い
ても地汚れの発生も見られず且つ鮮明な画像の印刷画質
の印刷物が5千枚得られた。他方比較例Aは、製版後の
画像の再現性が不充分なことから印刷物の画像も、刷り
出しから不満足なものとなった。又比較例Bは、製版後
の画像は良好であるが、非画像部の不感脂化が充分でな
いため印刷物は、刷り出しから、非画像部の地汚れが発
生した。Further, after the plate was actually made and then desensitized, the planographic printing plate of the present invention showed no scumming even when neutral paper was used as a printing paper, and showed a clear print quality of an image. 5,000 prints were obtained. On the other hand, in Comparative Example A, since the reproducibility of the image after plate making was insufficient, the image of the printed matter was also unsatisfactory after printing. Further, in Comparative Example B, the image after plate making was good, but the non-image area was not sufficiently desensitized, so that the printed matter had background stains from the imprinting.
【0407】このことは、表面層の本発明の樹脂粒子
〔L〕のみが充分な親水化を発現し、非画像部へのイン
キ付着等を生じないものである。以上の様に、非画像部
の親水性が充分進行し地カブリを発生しない電子写真式
平版印刷用原版は、本発明のもののみであった。 実施例2 実施例1において、樹脂〔A−5〕8g、樹脂〔B−
1〕34g、メチン色素〔I〕0.017g及び樹脂粒
子〔L−1〕5.0gの代わりに、樹脂〔A−19〕6
g、下記構造の樹脂〔B−2〕35.0g下記構造のメ
チン色素〔II〕0.020g及び樹脂粒子〔L−3
7〕5.5gを用いた他は、実施例1と同様に操作して
電子写真感光材料を作製した。This means that only the resin particles [L] of the present invention in the surface layer develop sufficient hydrophilicity and ink adhesion to non-image areas does not occur. As described above, the electrophotographic lithographic printing plate precursor in which the hydrophilicity of the non-image area was sufficiently advanced and the background fog did not occur was the only one of the present invention. Example 2 In Example 1, 8 g of resin [A-5], resin [B-
1] 34 g, methine dye [I] 0.017 g and resin particles [L-1] 5.0 g, instead of resin [A-19] 6
g, resin [B-2] having the following structure 35.0 g, methine dye [II] having the following structure 0.020 g, and resin particles [L-3
7] An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example 1 except that 5.5 g was used.
【0408】[0408]
【化84】 [Chemical 84]
【0409】実施例1と同様にして各特性を測定した。
以下に特に過酷な環境条件である(30℃、80%R
H)下での測定結果を示す。 静電特性 V10 : −770V D.R.R.: 78% E1/10 : 42erg/cm2 撮像性 : 良好(○) 生版保水性: 〃(○) 印刷物の地汚れ:5千枚まで地汚れなし 但し、不感脂化処理において、実施例1で用いたE−1
の代わりに下記処方の不感脂化処理液E−2を用いた。Each characteristic was measured in the same manner as in Example 1.
The following are particularly severe environmental conditions (30 ° C, 80% R
H) shows the measurement results under. Electrostatic properties V 10: -770V D. R. R. : 78% E 1/10 : 42 erg / cm 2 Imaging property: Good (○) Water retention of original plate: 〃 (○) Stain of printed matter: No background stain up to 5,000 sheets E-1 used in 1
In place of the above, the desensitizing treatment liquid E-2 having the following formulation was used.
【0410】 不感脂化処理液:E−2 セリン 60g N,N−ジメチルモノエタノールアミン 60g ニューコールB4SN(日本乳化剤(株)製) 8g メチルエチルケトン 100g を蒸留水に溶かし、全量1.0リットルとし水酸化カリ
ウムでpH13.0に調整した。Desensitizing treatment liquid: E-2 Serine 60 g N, N-dimethylmonoethanolamine 60 g Newcol B4SN (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) 8 g Methyl ethyl ketone 100 g was dissolved in distilled water to a total volume of 1.0 liter and water. The pH was adjusted to 13.0 with potassium oxide.
【0411】本発明の各感光材料は、いずれも帯電性、
暗電荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像及び印刷
物も高温高湿(30℃、80%RH)の過酷な条件にお
いても、地カブリの発生のない鮮明な画像を得た。 実施例3〜14 実施例1において用いた、樹脂粒子〔L〕、樹脂
〔A〕、樹脂〔B〕の代わりに、下記表−12の本発明
の樹脂粒子〔L〕5.0g(固形分量として)及び樹脂
〔A〕5g又下記構造の樹脂〔B−3〕34gを用いた
他は、実施例1と同様にして各感光材料を作製した。Each of the light-sensitive materials of the present invention has a charging property,
The dark charge retention rate and photosensitivity were excellent, and clear images without actual fog were obtained even under severe conditions of high temperature and high humidity (30 ° C., 80% RH) in actual copied images and printed matter. Examples 3 to 14 In place of the resin particles [L], resin [A] and resin [B] used in Example 1, 5.0 g of resin particles [L] of the present invention shown in Table 12 below (solid content) Each) and each of the photosensitive materials were prepared in the same manner as in Example 1 except that 5 g of the resin [A] and 34 g of the resin [B-3] having the following structure were used.
【0412】静電特性及び印刷特性を実施例1と同様に
操作して評価した。The electrostatic characteristics and the printing characteristics were evaluated by operating in the same manner as in Example 1.
【0413】[0413]
【化85】 [Chemical 85]
【0414】[0414]
【表20】 [Table 20]
【0415】各感光材料について、実施例1と同様に操
作して静電特性、印刷特性を測定したところ、いずれも
帯電性、暗電荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像
も高温高湿(30℃、80%RH)の過酷な条件におい
ても地カブリの発生や細線飛びの発生等のない鮮明な画
像を与えた。With respect to each of the light-sensitive materials, the electrostatic property and the printing property were measured by operating in the same manner as in Example 1. All were excellent in chargeability, dark charge retention rate and photosensitivity, and the actual copied image was high at high temperature. Even under severe conditions of humidity (30 ° C., 80% RH), a clear image was obtained with no background fog or fine line skipping.
【0416】又、不感脂化処理してオフセット平版原版
の性能を評価した所、いずれも生版保水性は良好で実際
の製版後の印刷結果でも3千枚印刷できた。 実施例15〜18 実施例1において、メチン色素〔I〕の代わりに下記表
−13の各色素を各々用いた他は、実施例1と同様にし
て各感光材料を作製した。When the performance of the offset lithographic original plate was evaluated after desensitization, the water retention of the original plate was good and it was possible to print 3,000 sheets even in the actual printing results after plate making. Examples 15 to 18 Photosensitive materials were prepared in the same manner as in Example 1 except that the dyes shown in Table 13 below were used instead of the methine dye [I].
【0417】[0417]
【表21】 [Table 21]
【0418】[0418]
【表22】 [Table 22]
【0419】各感光材料とも、撮像性、印刷特性とも
に、実施例1とほぼ同等の特性を示し、良好な結果であ
った。 実施例19〜21 下記表−13の樹脂〔A〕6.0g、下記構造の結着樹
脂〔B−4〕34.0g、光導電性酸化亜鉛200g、
ウラニン0.03g、ローズベンガル0.06g、テト
ラブロムフェノールブルー0.02g、無水マレイン酸
0.20g及びトルエン300gの混合物を、ボールミ
ル中で4時間分散した。この感光層形成用分散物を導電
処理した紙に乾燥付着量が20g/m2 となるようにワ
イヤーバーで塗布し、100℃で3分間乾燥して、電子
写真感光材料を作製した。Each of the light-sensitive materials exhibited almost the same characteristics as those in Example 1 in terms of image pick-up property and printing property, showing good results. Examples 19-21 6.0 g of resin [A] shown in Table 13 below, 34.0 g of binder resin [B-4] having the following structure, 200 g of photoconductive zinc oxide,
A mixture of 0.03 g of uranin, 0.06 g of rose bengal, 0.02 g of tetrabromophenol blue, 0.20 g of maleic anhydride and 300 g of toluene was dispersed in a ball mill for 4 hours. The electrophotographic photosensitive material was prepared by applying the dispersion for forming a photosensitive layer to a conductive-treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 20 g / m 2, and drying at 100 ° C. for 3 minutes.
【0420】[0420]
【化86】 [Chemical formula 86]
【0421】この感光体表面上に、下記処方のトルエン
分散物をドクターブレードで塗布後100℃で20秒間
乾燥し更に120℃で1時間加熱して約2μmの表面層
を形成した。 表面層用トルエン分散物 下記構造の樹脂〔B′−2〕 2g 下記表−13の樹脂粒子〔L〕 5g (固形分量として) 1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸ジ無水物 0.02g フェノール 0.0015g をトルエンに加え全量100gとした。A toluene dispersion having the following formulation was applied on the surface of this photoreceptor by a doctor blade, dried at 100 ° C. for 20 seconds, and further heated at 120 ° C. for 1 hour to form a surface layer of about 2 μm. Toluene Dispersion for Surface Layer 2 g of resin [B′-2] having the following structure: 5 g of resin particles [L] shown in Table 13 below (as solid content) 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride 0.0015 g of 02 g phenol was added to toluene to make the total amount 100 g.
【0422】[0422]
【化87】 [Chemical 87]
【0423】ついで暗所で20℃、65%RHの条件下
に24時間放置することにより電子写真感光材料を作製
した。感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、撮像性、光
導電層の不感脂化性(不感脂化処理後の光導電層の水と
の接触角で表わす)及び印刷性を調べた。Then, an electrophotographic light-sensitive material was prepared by leaving it in the dark at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours. The film properties (surface smoothness) of the light-sensitive material, the imaging property, the desensitizing property of the photoconductive layer (expressed by the contact angle of the photoconductive layer after the desensitizing treatment with water) and the printability were examined.
【0424】以上の結果をまとめて、表−14に示す。The above results are summarized in Table-14.
【0425】[0425]
【表23】 [Table 23]
【0426】表−14に記した評価項目の実施の態様に
おいて、撮像性は下記の通り行ない、他は実施例1と同
様に行なった。 注) 撮像性:各感光材料及び全自動製版機ELP40
4V(富士写真フィルム(株)製)を1昼夜常温・常湿
(20℃、65%)に放置した後、製版して複写画像を
形成し、得られた複写原版の画像(カブリ、画像の画
質)を目視で観察する(これをIとする)。複写画像の
画質IIは、製版を高温・高湿(30℃、80%)で行
なう他は、前記Iと同様の方法で試験する。In the mode for carrying out the evaluation items shown in Table 14, the image pick-up performance was performed as follows, and otherwise the same as in Example 1. Note) Imaging: Each photosensitive material and fully automatic plate-making machine ELP40
After leaving 4V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) at room temperature and humidity (20 ° C., 65%) for one day, plate making is performed to form a copy image, and the obtained copy original image (fog, image Visually observe (image quality) (this is referred to as I). The image quality II of the copied image is tested by the same method as the above I except that the platemaking is performed at high temperature and high humidity (30 ° C., 80%).
【0427】各感光材料との表−14の様に、いずれの
性能も良好で、耐刷枚数も3千枚であった。 実施例22 下記構造式のビスアゾ顔料5g、テトラヒドロフラン9
5g及び樹脂〔A−1〕0.8重量%及び樹脂〔B−
4〕4.2重量%のテトラヒドロフラン溶液30gの混
合物をボールミルで充分に粉砕した。次いで、この混合
物を取り出し、攪拌下、テトラヒドロフラン520gを
加えた。この分散物をワイヤーラウンドロッドを用いて
実施例1で用いた導電性透明支持体上に塗布して約0.
7μmの電荷発生層を形成した。As shown in Table 14 for each light-sensitive material, all the performances were good, and the number of printable sheets was 3,000. Example 22 5 g of bisazo pigment having the following structural formula, and tetrahydrofuran 9
5 g and resin [A-1] 0.8% by weight and resin [B-
4] A mixture of 30 g of a 4.2 wt% tetrahydrofuran solution was thoroughly pulverized with a ball mill. Then, this mixture was taken out, and 520 g of tetrahydrofuran was added with stirring. This dispersion was coated on the conductive transparent support used in Example 1 by using a wire round rod to give a dispersion of about 0.
A 7 μm charge generation layer was formed.
【0428】[0428]
【化88】 [Chemical 88]
【0429】次に、下記構造式のヒドラゾン化合物20
g、ポリカーボネート樹脂(GE社製、商品名レキサン
121)20g及びテトラヒドロフラン160gの混合
溶液をワイヤーラウンドロッドを用いて上記電荷発生層
の上に塗布して約18μmの電荷輸送量を形成し、2層
から成る感光層を有する電子写真感光体を得た。Next, the hydrazone compound 20 of the following structural formula
g, 20 g of polycarbonate resin (manufactured by GE Corporation, trade name Lexan 121) and 160 g of tetrahydrofuran are applied on the charge generation layer using a wire round rod to form a charge transport amount of about 18 μm, and two layers are formed. An electrophotographic photosensitive member having a photosensitive layer composed of was obtained.
【0430】[0430]
【化89】 [Chemical 89]
【0431】この感光体の表面に樹脂粒子〔L−13〕
の3.0重量%(固形分量として)、下記構造の樹脂
〔B′−3〕2重量%、無水フタル酸0.01重量%、
及び2−クロロフェノール0.005重量%を含有する
トルエン溶液をドクターブレードで塗布後、100℃で
20秒間乾燥後、更に130℃で1時間加熱して、約2
μmの表面層を形成した。ついで暗所で20℃、65%
RHの条件下で24時間放置することにより電子写真感
光材料を作製した。Resin particles [L-13] were formed on the surface of this photoreceptor.
% By weight (as solid content), 2% by weight of resin [B′-3] having the following structure, 0.01% by weight of phthalic anhydride,
And a toluene solution containing 0.005% by weight of 2-chlorophenol were coated with a doctor blade, dried at 100 ° C. for 20 seconds, and further heated at 130 ° C. for 1 hour to about 2
A μm surface layer was formed. Then in the dark at 20 ℃, 65%
An electrophotographic photosensitive material was produced by leaving it for 24 hours under the condition of RH.
【0432】[0432]
【化90】 [Chemical 90]
【0433】この感光材料を下記処方で調製した不感脂
化処理液(E−3)に3分間浸して不感脂化処理した。 不感脂化処理液(E−3) モノエタノールアミン 52g ニューコールB4SN(日本乳化剤(株)製) 10g メチルエチルケトン 80g これらを蒸留水に溶解し水酸化ナトリウムでpH13.
0に調整し全量1.0リットルとした。これに蒸留水2
μリットルの水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴ
ニオメーターで測定したところ10°以下であった。
尚、不感脂化処理前の接触角は95°であり、明らか
に、本感光材料の表面層が非常に良好に親水化されたこ
とを示す。This light-sensitive material was immersed in the desensitizing solution (E-3) prepared according to the following formulation for 3 minutes to be desensitized. Desensitizing treatment solution (E-3) Monoethanolamine 52 g Newcol B4SN (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) 10 g Methylethylketone 80 g These were dissolved in distilled water to pH 13.
The total amount was adjusted to 0 to make 1.0 liter. Distilled water 2
It was 10 ° or less when a contact angle with the formed water was measured with a goniometer by placing μ liter of water droplets.
The contact angle before the desensitizing treatment was 95 °, which clearly shows that the surface layer of the present light-sensitive material was very favorably hydrophilized.
【0434】これを実施例1と同様に、全自動製版機E
LP404Vで現像剤LD−1を用いて製版したとこ
ろ、得られたオフセット印刷用のマスター用原版の濃度
は1.0以上で画質は鮮明であった。As in the first embodiment, this is a fully automatic plate making machine E.
When plate making was carried out by using the developer LD-1 with LP404V, the density of the obtained master plate for offset printing was 1.0 or more, and the image quality was clear.
【0435】更に、前記処方で調製した不感脂化処理液
(E−3)中にこの製版後のマスター用原版を温度40
℃で2分間処理して不感脂化処理した。このオフセット
印刷用原版を印刷機で印刷したところ、3千枚印刷後の
印刷物は、非画像部のカブリがなく、画像も鮮明であっ
た。 実施例23〜27 実施例19において、表面層に用いた樹脂粒子〔L−1
6〕5.5gの代わりに下記表−15の樹脂粒子〔L〕
を総量で6g用いた他は、実施例19と同様に操作し
て、各感光材料を作成した。[0435] Furthermore, the master plate for master making after the plate making was added to the desensitizing solution (E-3) prepared by the above-mentioned formulation at a temperature of 40.
Desensitizing treatment was carried out by treating at 0 ° C. for 2 minutes. When this offset printing original plate was printed by a printing machine, the printed matter after printing 3,000 sheets had no fog in the non-image area and the image was clear. Examples 23 to 27 Resin particles used in the surface layer in Example 19 [L-1
6] Resin particles [L] shown in Table 15 below instead of 5.5 g
Each photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 19 except that 6 g was used in total.
【0436】[0436]
【表24】 [Table 24]
【0437】各材料を実施例19と同様にして、製版
後、下記不感脂化処理液E−4で温度35℃で3分間不
感脂化処理した。 不感脂化処理液(E−4) ホウ酸 55g 亜硫酸ナトリウム 40g ベンジルアルコール 80g これらを蒸留水に溶解し、全量で1.0リットルとし更
に水酸化ナトリウムでこの液がpH13.0となる様に
調製した。After each plate was made in the same manner as in Example 19, it was desensitized with the following desensitizing solution E-4 at a temperature of 35 ° C. for 3 minutes. Desensitizing treatment liquid (E-4) Boric acid 55 g Sodium sulfite 40 g Benzyl alcohol 80 g Dissolve these in distilled water to make a total volume of 1.0 liter, and prepare with sodium hydroxide so that this liquid has a pH of 13.0. did.
【0438】得られた各オフセットマスター用原版を印
刷した所、3千枚後の印刷物は、非画像部に地汚れもな
く、画像も鮮明であった。When each of the obtained master plates for offset master was printed, the printed material after 3,000 sheets had no background stain on the non-image area and the image was clear.
【0439】[0439]
【発明の効果】本発明によれば、苛酷な条件下において
も、優れた印刷画像と高耐刷性を有する平版印刷用原版
を得ることができる。また、本発明の平版印刷用原版
は、半導体レーザー光を用いたスキャニング露光方式に
有効である。According to the present invention, it is possible to obtain a lithographic printing plate precursor having an excellent printed image and high printing durability even under severe conditions. Further, the lithographic printing plate precursor of the present invention is effective for a scanning exposure method using a semiconductor laser beam.
Claims (4)
電層を設け、更にその最上層に表面層を設けてなる電子
写真感光体を利用した平版印刷用原版において、該表面
層中に、下記の非水系分散樹脂粒子〔L〕を少なくとも
1種含有し、且つ、該光導電層の結着樹脂として、下記
の樹脂〔A〕を少なくとも1種含有することを特徴とす
る平版印刷用原版。 非水系分散樹脂粒子〔L〕:非水溶媒において、該非水
溶媒には可溶であるが重合することにより不溶化する、
分解によりチオール基、スルホ基、アミノ基及び−P
(=Z0 )(−Z0 −H)R' 1 基〔Z0 は酸素原子又
はイオウ原子を表わす。R' 1 は−Z0 −H、炭化水素
又は−Z0 −R' 2 (R' 2 は炭化水素基を表わす)を
表わす〕のうちの少なくとも1つの基を生成する官能基
を少なくとも1種含有する一官能性単量体(C)と、ケ
イ素原子及び/又はフッ素原子を含有する置換基を含み
該一官能性単量体(C)と共重合可能な一官能性単量体
(D)とを、該非水溶媒に可溶性の分散安定用樹脂の存
在下に、分散重合反応させることにより得られる共重合
体樹脂粒子。 樹脂〔A〕:1×103 〜2×104 の重量平均分子量
を有し、下記一般式(I)で示される繰り返し単位を重
合体成分として30重量%以上を含有し、且つ重合体主
鎖の片末端に、−PO3 H2 、−SO3 H、−COO
H、−P(=O)(OH)R01〔R01は炭化水素基又は
−OR02(R02は炭化水素基を表す)を表す〕及び環状
酸無水物含有基から選択される少なくとも1種の極性基
を結合して成る樹脂。 【化1】 〔ただし上記式(I)において、a1 、a2 は各々、水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表
す。R03は炭化水素基を表す。〕1. A lithographic printing plate precursor using an electrophotographic photosensitive member comprising a photoconductive layer of at least one layer provided on a conductive support, and a surface layer provided on the uppermost layer of the photoconductive layer. A lithographic printing plate containing at least one kind of the following non-aqueous dispersion resin particles [L] and at least one kind of the following resin [A] as a binder resin for the photoconductive layer. Original version. Non-aqueous dispersion resin particles [L]: In a non-aqueous solvent, it is soluble in the non-aqueous solvent, but is insolubilized by polymerization.
Decomposed by thiol group, sulfo group, amino group and -P
(= Z 0) (- Z 0 -H) R '1 group [Z 0 represents an oxygen atom or a sulfur atom. R '1 is -Z 0 -H, a hydrocarbon or -Z 0 -R' 2 (R ' 2 represents a hydrocarbon group) at least one functional group for generating at least one of the radicals represents a] A monofunctional monomer (C) contained and a monofunctional monomer (D) containing a substituent containing a silicon atom and / or a fluorine atom and copolymerizable with the monofunctional monomer (D). And) in the presence of a dispersion-stabilizing resin soluble in the non-aqueous solvent, the copolymer resin particles obtained by a dispersion polymerization reaction. Resin [A]: having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 , containing a repeating unit represented by the following general formula (I) in an amount of 30% by weight or more as a polymer component, and polymer main at one end of the chain, -PO 3 H 2, -SO 3 H, -COO
H, -P (= O) (OH) R 01 [R 01 represents a hydrocarbon group or -OR 02 (R 02 represents a hydrocarbon group)] and at least one selected from a cyclic acid anhydride-containing group. A resin formed by combining two polar groups. [Chemical 1] [However, in the above formula (I), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R 03 represents a hydrocarbon group. ]
を形成していることを特徴とする請求項1記載の平版印
刷用原版。2. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles have a crosslinked structure.
下記一般式(II)で示される重合性二重結合基部分を
少なくとも1種含有していることを特徴とする請求項1
及び2記載の平版印刷用原版。 【化2】 〔一般式(II)において、V0 は−O−、−COO
−、−OCO−、−(CH2 )p OCO−、−(C
H2 )p COO−、−SO2 −、−CONR1 −、−S
O2 NR1 −、−C6 H5 −、−CONHCOO−、又
は−CONHCONH−を表わし(但し、pは1〜4の
整数を表わし、R1 は水素原子又は炭素数1〜18の炭
化水素基を表わす)、b1 、b2 は、互いに同じでも異
なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭
化水素基、−COO−R2 又は炭化水素基を介した−C
OO−R2 (R2 は水素原子又は置換されてもよい炭化
水素基を示す)を表わす〕3. The dispersion stabilizing resin comprises a polymer chain in the polymer chain,
The composition comprises at least one polymerizable double bond group moiety represented by the following general formula (II).
And the lithographic printing plate precursor as described in 2 above. [Chemical 2] [In the general formula (II), V 0 is -O-, -COO.
-, - OCO -, - ( CH 2) p OCO -, - (C
H 2) p COO -, - SO 2 -, - CONR 1 -, - S
O 2 NR 1 -, - C 6 H 5 -, - CONHCOO-, or -CONHCONH- a represents (wherein, p represents an integer of 1 to 4, R 1 is a hydrogen atom or a hydrocarbon having 1 to 18 carbon atoms Represents a group), b 1 and b 2 may be the same as or different from each other, and are a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, —COO—R 2 or —C via a hydrocarbon group.
OO-R 2 (R 2 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group)]
れる共重合体成分として下記一般式(Ia)及び下記一
般式(Ib)で示されるアリール基含有のメタクリレー
ト成分のうちの少なくとも1つを含有することを特徴と
する請求項1〜3のいずれかに記載の平版印刷用原版。 【化3】 〔ただし上記式(Ia)及び(Ib)において、T1 及
びT2 は互いに独立に各々水素原子、炭素数1〜10の
炭化水素基、塩素原子、−COR04又は−COOR
05(R04及びR05は各々炭素数1〜10の炭化水素基を
表す)を表し、L1 及びL2 は各々−COO−とベンゼ
ン環を結合する単結合又は連結原子数1〜4個の連結基
を表す。〕4. The aryl group-containing methacrylate component represented by the following general formula (Ia) and the following general formula (Ib) as the copolymer component represented by the general formula (I), The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 3, comprising at least one. [Chemical 3] [In the above formulas (Ia) and (Ib), T 1 and T 2 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, —COR 04 or —COOR.
05 (R 04 and R 05 each represent a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), and L 1 and L 2 each represent a single bond or a connecting atom number of 1 to 4 which connects —COO— and the benzene ring. Represents a linking group of. ]
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4051292A JPH05210266A (en) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | Orignal plate for planographic printing |
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Publications (1)
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-
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- 1992-01-31 JP JP4051292A patent/JPH05210266A/en active Pending
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