JP3270037B2 - Collection method for synthetic resin substrates - Google Patents
Collection method for synthetic resin substratesInfo
- Publication number
- JP3270037B2 JP3270037B2 JP2001046344A JP2001046344A JP3270037B2 JP 3270037 B2 JP3270037 B2 JP 3270037B2 JP 2001046344 A JP2001046344 A JP 2001046344A JP 2001046344 A JP2001046344 A JP 2001046344A JP 3270037 B2 JP3270037 B2 JP 3270037B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- film
- aqueous solution
- photographic
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29B—PREPARATION OR PRETREATMENT OF THE MATERIAL TO BE SHAPED; MAKING GRANULES OR PREFORMS; RECOVERY OF PLASTICS OR OTHER CONSTITUENTS OF WASTE MATERIAL CONTAINING PLASTICS
- B29B17/00—Recovery of plastics or other constituents of waste material containing plastics
- B29B17/02—Separating plastics from other materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29B—PREPARATION OR PRETREATMENT OF THE MATERIAL TO BE SHAPED; MAKING GRANULES OR PREFORMS; RECOVERY OF PLASTICS OR OTHER CONSTITUENTS OF WASTE MATERIAL CONTAINING PLASTICS
- B29B17/00—Recovery of plastics or other constituents of waste material containing plastics
- B29B17/02—Separating plastics from other materials
- B29B2017/0213—Specific separating techniques
- B29B2017/0293—Dissolving the materials in gases or liquids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2069/00—Use of PC, i.e. polycarbonates or derivatives thereof, as moulding material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2705/00—Use of metals, their alloys or their compounds, for preformed parts, e.g. for inserts
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2017/00—Carriers for sound or information
- B29L2017/001—Carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records
- B29L2017/003—Records or discs
- B29L2017/005—CD''s, DVD''s
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W30/00—Technologies for solid waste management
- Y02W30/50—Reuse, recycling or recovery technologies
- Y02W30/62—Plastics recycling; Rubber recycling
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Separation, Recovery Or Treatment Of Waste Materials Containing Plastics (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、合成樹脂等からな
る基材上に記録層等を設けた製品から合成樹脂等を回収
する改良された方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improved method for recovering a synthetic resin or the like from a product having a recording layer or the like provided on a substrate made of a synthetic resin or the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】合成樹脂又はセルロース有機酸エステル
からなる基材上に種々の機能を有する層を積層した材料
が多くの分野で使用されている。例えば、三酢酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート
等の基材上に記録層等を積層した各種の記録材料が広く
実用されている。これらの記録材料には、ハロゲン化銀
感光層を設けた写真感光材料、PMMA又はポリカーボ
ネート基材に色素記録層や反射層を設けたCD−RO
M、CD−R、DVD、DVD−R等が含まれる。2. Description of the Related Art In many fields, materials obtained by laminating layers having various functions on a substrate made of a synthetic resin or a cellulose organic acid ester are used. For example, various recording materials in which a recording layer or the like is laminated on a substrate such as cellulose triacetate, polyethylene terephthalate, and polycarbonate are widely used. These recording materials include a photographic photosensitive material provided with a silver halide photosensitive layer, and a CD-RO provided with a dye recording layer and a reflective layer on a PMMA or polycarbonate substrate.
M, CD-R, DVD, DVD-R and the like.
【0003】光学式ディスク製品からポリカーボネート
樹脂を回収する方法の一例としては、特開平4−360
035号(日本特許第2615277号)があり、アル
ミニウム反射膜を有するディスク製品を75ないし10
0℃において濃いアルカリ水溶液中で処理する方法が知
られている。又、特開平5−345321号には、金属
蒸着膜を有するプラスチック成型品を70℃以上の熱水
中で加熱することによりこの蒸着膜を剥離する方法が記
載されている。An example of a method for recovering a polycarbonate resin from an optical disk product is disclosed in JP-A-4-360.
No. 035 (Japanese Patent No. 2615277), and a disk product having an aluminum reflective film is used for 75 to 10 times.
It is known to treat at 0 ° C. in a concentrated alkaline aqueous solution. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-345321 describes a method in which a plastic molded article having a metal vapor-deposited film is heated in hot water at 70 ° C. or higher to peel off the vapor-deposited film.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、第一に、合成樹脂又はセルロース有機酸エ
ステル(以下、「合成樹脂等」ともいう。)からなる基
材、特にポリカーボネート基材及びポリエステル基材を
当初の目的に再利用可能とする程の高い品質で、かつ、
低い回収コストで、大量かつ安定に回収できる回収方法
を提供することである。The problem to be solved by the present invention is, first, a substrate made of a synthetic resin or a cellulose organic acid ester (hereinafter also referred to as "synthetic resin or the like"), particularly a polycarbonate-based material. Material and polyester base material with high quality that can be reused for the original purpose, and
An object of the present invention is to provide a collection method capable of stably collecting a large amount at a low collection cost.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明の上記諸目的は、
以下の手段により達成された。本発明の第1の観点は、
合成樹脂よりなる基材から該基材上に設けられた異質の
層を105℃以上のアルカリ水溶液中で除去した後、
0.1質量%ないし10質量%の過酸化物を含有する水
溶液により処理することを特徴とする異質の層の除去方
法に関する。上記の合成樹脂としては、芳香族ポリカー
ボネート、芳香族ポリエステル又はポリピロメリットイ
ミドが好ましく、ビスフェノールAポリカーボネート、
ポリエチレンテレフタレート、又はポリエチレンナフタ
レートが特に好ましい。セルロース有機酸エステル、例
えば、酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、又は酢酸
プロピオン酸セルロースにも適用できる。The above objects of the present invention are as follows.
This was achieved by the following means. According to a first aspect of the present invention,
After removing a foreign layer provided on the substrate from a substrate made of a synthetic resin in an alkaline aqueous solution at 105 ° C. or higher,
Water containing 0.1% to 10% by weight of peroxide
The present invention relates to a method for removing a foreign layer, which is characterized by treating with a solution . As the above synthetic resin, aromatic polycarbonate, aromatic polyester or polypyromellitimide is preferable, bisphenol A polycarbonate,
Polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate is particularly preferred. Cellulose organic acid esters , eg
For example, the present invention can be applied to cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, or cellulose acetate propionate.
【0006】本発明の第2の観点は、ポリカーボネート
基材上に異質の層を設けた製品を、105℃以上のアル
カリ水溶液中でその異質の層を除去した後、0.1質量
%ないし10質量%の過酸化物を含有する水溶液により
処理する工程を含むことを特徴とするポリカーボネート
基材の回収方法に関する。本発明において、ポリカーボ
ネート基材上に、色素含有層、金属反射層、感光層、保
護層、下塗層、及び接着剤層からなる群より選ばれた機
能層を少なくとも1層設けたポリカーボネート基材か
ら、pH10ないし14かつ105℃ないし130℃の
アルカリ水溶液中で該機能層を実質的に除去する工程を
含むことが好ましい。更には、0.1質量%ないし20
質量%の苛性アルカリ及び0.001質量%ないし10
質量%以下の界面活性剤を含有するアルカリ水溶液中
で、撹拌しながら、該ポリカーボネート基材から機能層
を除去する工程、これに続きアルカリ水溶液を除去する
工程を含む、前記のポリカーボネート基材の回収方法が
好ましく使用できる。又、前記のポリカーボネート基材
の回収方法において、アルカリ水溶液による機能層の除
去工程を少なくとも2段回の新鮮なアルカリ水溶液によ
り実施しても良い。A second aspect of the present invention, a product having a heterogeneous layer on the polycarbonate substrate, after removing the layer of the heterogeneous in an alkaline aqueous solution above 105 ° C., 0.1 mass
% To 10% by weight of an aqueous solution containing a peroxide . In the present invention, a polycarbonate substrate provided with at least one functional layer selected from the group consisting of a dye-containing layer, a metal reflective layer, a photosensitive layer, a protective layer, an undercoat layer , and an adhesive layer on the polycarbonate substrate A step of substantially removing the functional layer in an alkaline aqueous solution having a pH of 10 to 14 and 105 ° C. to 130 ° C.
It is preferred to include . Furthermore, 0.1 mass% to 20 mass%
Wt% caustic and 0.001 wt% to 10 wt%
A step of removing the functional layer from the polycarbonate substrate while stirring in an aqueous alkaline solution containing not more than 10% by mass of a surfactant, followed by a step of removing the aqueous alkaline solution, the recovery of the above-mentioned polycarbonate substrate The method can be preferably used. In the above-described method for recovering a polycarbonate substrate, the step of removing the functional layer with an aqueous alkali solution may be performed at least two times with a fresh aqueous alkali solution.
【0007】本発明の第3の観点は、写真用ポリエステ
ルフィルム上に設けられた機能層を、105℃〜150
℃のアルカリ水溶液中で除去する洗浄工程を含むことを
特徴とする写真用ポリエステルフィルムの回収方法に関
する。又、前記の写真用ポリエステルフィルムの回収方
法において、銀又はハロゲン化銀を含む機能層を有する
写真用ポリエステルフィルムから、アルカリ水溶液中で
機能層を除去する工程において、アルカリ水溶液中に陰
電極を挿入し、該アルカリ水溶液中の銀イオンを還元し
陰電極に銀めっきを形成させるために充分な負電圧を陰
電極に負荷することにより、該アルカリ水溶液から銀を
除去する工程を含むことができる。写真用ポリエステル
フィルム上に機能層を設けた製品を、必要に応じて、予
めチップに裁断した後、0.1ないし3質量%の濃度の
アルカリ水溶液中で105℃ないし150℃の温度で除
去する工程を含むポリエステルの回収方法としても良
い。[0007] A third aspect of the present invention is a photographic polyester.
The functional layer provided on Rufirumu, 105 ° C. to 150 DEG
The present invention relates to a method for recovering a photographic polyester film , comprising a washing step of removing the polyester film in an aqueous alkali solution at ℃ . Further, in the method for collecting a photographic polyester film , the method further includes a functional layer containing silver or silver halide.
In the step of removing the functional layer from the photographic polyester film in an alkaline aqueous solution, a negative electrode is inserted into the alkaline aqueous solution, and sufficient to reduce silver ions in the alkaline aqueous solution and form silver plating on the negative electrode. A step of removing silver from the alkaline aqueous solution by applying a negative voltage to the negative electrode can be included. Polyester for photo
A step of cutting a product having a functional layer on a film into chips as necessary and removing the product at a temperature of 105 ° C. to 150 ° C. in an alkaline aqueous solution having a concentration of 0.1 to 3% by mass. It is good also as a polyester recovery method.
【0008】従来技術として公知の種々の回収方法を用
いても、短時間で、安い処理コストで、再利用可能な高
品質(異物が認められず、解重合が少ない)な合成樹脂
等を得ることは困難であったが、本発明の回収方法によ
り初めて当初の使用目的にも再利用できる高品質の合成
樹脂製の基材が回収できたのである。Even if various recovery methods known in the prior art are used, a high-quality (no foreign substance is recognized and little depolymerization) synthetic resin which can be reused in a short time and at a low processing cost is obtained. Although it was difficult, the recovery method of the present invention was able to recover a high-quality synthetic resin base material that can be reused for the original purpose of use for the first time.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】以下に本発明の回収方法について
詳細に説明する。本発明の回収方法によると、合成樹脂
等からなる基材の疎水性と耐化学薬品性を利用し、基材
上に積層された異質の層、付着異物を選択的に除去する
ことができる。合成樹脂等よりなる基材はエステル結合
をもつために、高濃度、例えば7ないし30重量%の水
酸化ナトリウム溶液では、加熱すると容易に加水分解さ
れてしまう傾向がある。本発明者らは、水酸化ナトリウ
ム溶液の濃度を低下させると、合成樹脂等の疎水性がよ
り有効にきいて、加水分解や溶解をほぼ完全に避けるこ
とができることを見いだした。加えて、本発明者は、驚
くべきことに、合成樹脂等よりなる基材の上に設けられ
た異質の層(この異質の層は単一層であっても複数であ
っても良い。)の除去の律速段階は、それらの層の膨潤
過程にあり、その膨潤はアルカリ濃度を低下させるとか
えって促進させることができることを見いだした。本発
明者らは、さらに膨潤の促進に合わせてアルカリ水溶液
の温度を100℃超、好ましくは105〜150℃(本
発明において、105℃以上150℃以下と同義であ
る。)とすることによって合成樹脂等よりなる基材上の
異物を実用上完全に溶解ないし完全に剥離除去すること
ができることを見いだした。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the recovery method of the present invention will be described in detail. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the collection | recovery method of this invention, the foreign layer laminated | stacked on the base material and the attached foreign material can be selectively removed using the hydrophobicity and chemical resistance of the base material which consists of a synthetic resin etc. Since a substrate made of a synthetic resin or the like has an ester bond, a high concentration, for example, a sodium hydroxide solution of 7 to 30% by weight tends to be easily hydrolyzed when heated. The present inventors have found that when the concentration of the sodium hydroxide solution is reduced, the hydrophobicity of the synthetic resin or the like becomes more effective, and hydrolysis and dissolution can be almost completely avoided. In addition, the present inventor has surprisingly found that a heterogeneous layer (the heterogeneous layer may be a single layer or a plurality of layers) provided on a substrate made of a synthetic resin or the like. The rate-limiting step of removal was in the process of swelling of these layers, and it was found that swelling could be accelerated by lowering the alkali concentration. The present inventors further increase the temperature of the aqueous alkali solution to more than 100 ° C., preferably 105 to 150 ° C. (this is synonymous with 105 ° C. or more and 150 ° C. or less in the present invention) in accordance with the promotion of swelling. It has been found that foreign matter on a substrate made of resin or the like can be practically completely dissolved or completely peeled off.
【0010】本発明の回収方法は、広く熱可塑性樹脂の
回収に適用できる。熱可塑性樹脂としては、合成樹脂及
びセルロース有機酸エステルなどが典型的であり、酢酸
セルロース、酪酸セルロース、又はこれらの混合エステ
ルに代表されるセルロース有機酸エステル、;芳香族ポ
リエステル、芳香族ポリカーボネート、ポリイミド、ポ
リアミド等に代表される合成樹脂が代表的である。芳香
族ポリエステル及び芳香族ポリカーボネートは以下、単
にポリエステル及びポリカーボネートとともいう。The recovery method of the present invention can be widely applied to recovery of a thermoplastic resin. As the thermoplastic resin, synthetic resins and cellulose organic acid esters are typical, and cellulose organic acid esters represented by cellulose acetate, cellulose butyrate, or a mixed ester thereof; aromatic polyester, aromatic polycarbonate, polyimide And synthetic resins such as polyamides. Hereinafter, the aromatic polyester and the aromatic polycarbonate are simply referred to as polyester and polycarbonate.
【0011】本発明におけるポリカーボネート基材製品
は、CD−ROM、CD−R、DVD、DVD−R等の
ディスク基盤等に用いられ、その表面に蒸着層や塗布層
が存在する。このため、アルカリ水溶液による洗浄温度
を約105℃以上に上げると共に、苛性アルカリの濃度
を下げることにより、短時間の洗浄処理でも、基質表面
の色素や異物をほぼ完全に除去し、かつ、基質内部の解
重合を抑制することができる。またアルカリ水溶液によ
る異物の除去の進行に応じて苛性アルカリの濃度を変え
る方法、すなわち、新鮮なアルカリ水溶液による多段洗
浄方式を採用する等の改良も本発明において有用であ
る。多段工程において、工程の段数は2ないし4とする
ことができる。The polycarbonate substrate product of the present invention is used for a disk base of a CD-ROM, a CD-R, a DVD, a DVD-R and the like, and has a vapor deposition layer and a coating layer on the surface. For this reason, the washing temperature with an alkaline aqueous solution is raised to about 105 ° C. or higher, and the concentration of caustic alkali is reduced, so that even in a short-time washing treatment, dyes and foreign substances on the substrate surface are almost completely removed, and the inside of the substrate is removed. Can be suppressed. Further, a method of changing the concentration of the caustic alkali in accordance with the progress of the removal of the foreign matter by the aqueous alkali solution, that is, an improvement such as adopting a multi-stage cleaning method using a fresh alkaline aqueous solution is also useful in the present invention. In the multi-step process, the number of steps in the process can be two to four.
【0012】ポリカーボネートは、主鎖中に炭酸エステ
ル結合をもつポリ炭酸エステルであって、殆んど非結晶
性の線状高分子である。芳香族ポリカーボネートの使用
が好ましく、2,2’−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン(ビスフェノールA)にホスゲンやまたジ
フェニールカーボネートと反応させたビスフェノールA
ポリカーボネートの使用が特に好ましい。特開平7−1
65978号明細書に記載されているその他の芳香族ポ
リカーボネートポリマーも本発明に使用できる。[0012] Polycarbonate is a polycarbonate having a carbonate bond in the main chain, and is almost a non-crystalline linear polymer. It is preferable to use an aromatic polycarbonate, and bisphenol A obtained by reacting 2,2'-bis (4-hydroxyphenyl) propane (bisphenol A) with phosgene or diphenyl carbonate.
The use of polycarbonate is particularly preferred. JP-A-7-1
Other aromatic polycarbonate polymers described in US Pat. No. 6,597,78 can also be used in the present invention.
【0013】回収の対象となるポリカーボネート基材上
に設けられる機能層としては、種々の記録材料として有
用な1以上の機能を有する層であり、色素含有層、金属
反射層、感光層、保護層及び下塗層等が例示できる。色
素含有層には、シアニン系色素等が広く用いられ、金属
反射層には、反射特性に優れた金や銀また安価なアルミ
ニウムの蒸着層等が多用される。また、感光層として
は、ハロゲン化銀乳剤層、またはフォトポリマー層や感
光性ジアゾ化合物層などの非銀塩感光層が用いられる。The functional layer provided on the polycarbonate substrate to be recovered is a layer having one or more functions useful as various recording materials, and includes a dye-containing layer, a metal reflective layer, a photosensitive layer, and a protective layer. And an undercoat layer. For the dye-containing layer, a cyanine-based dye or the like is widely used, and for the metal reflective layer, a vapor-deposited layer of gold, silver, or inexpensive aluminum having excellent reflection characteristics is frequently used. As the photosensitive layer, a silver halide emulsion layer or a non-silver salt photosensitive layer such as a photopolymer layer or a photosensitive diazo compound layer is used.
【0014】保護層、下塗層などには、光学特性に優れ
た熱可塑性アクリル系エステル、アクリル酸エステルモ
ノマーやメタクリル酸エステルモノマーなどの共重合体
が用いられる。さらに、保護層には、紫外線吸収剤とし
てベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サルチル
酸フェニルなどのサルチル酸系化合物が用いられ、また
紫外線硬化剤も用いられる。下塗層としては、硬化ゼラ
チンや熱硬化製樹脂などを用いることもできる。For the protective layer, the undercoat layer and the like, a copolymer of thermoplastic acrylic ester, acrylate monomer or methacrylate monomer having excellent optical properties is used. Further, the protective layer, benzophenone emission system as an ultraviolet absorber, benzotriazole-based, salicylic acid-based compounds such as phenyl salicylate is used, also UV curing agent is also used. As the undercoat layer, hardened gelatin, thermosetting resin, or the like can be used.
【0015】ポリカーボネート基材は、板状またはフィ
ルム状の形態で用いられている。例えば、50ないし2
00μm厚のフィルム、0.5ないし2mm厚のディス
クとして用いられる。その直径は12cmのものが多
い。The polycarbonate substrate is used in the form of a plate or a film. For example, 50 or 2
It is used as a film having a thickness of 00 μm and a disk having a thickness of 0.5 to 2 mm. The diameter is often 12 cm.
【0016】本発明で回収できるポリエステル基材の代
表例は、写真感光材料のベースフィルムに用いられてい
るポリエステルである。写真用ポリエステルフィルム
は、一般に、物理的強度、耐水、耐熱性に優れている。
その表面は疎水性であるために、ポリエステルフィルム
ベース表面にまず下塗層を設け、続いて単層の又は複数
の親水性層を設けてから、親水性感光層を塗布すること
が多い。単層からなる下塗層は、基材の極く表面を膨潤
させる化合物、水溶性高分子、及びポリマーラテックス
の混合物を塗布することが多い。又、重層からなる下塗
層は、第一層として塩化ビニリデン、塩化ビニールなど
から成る共重合体を塗布した上に、第二層としてゼラチ
ンなどの親水性高分子を塗布して親水性を付与してい
る。これら下塗層の上に親水性感光層が設けられ、ゼラ
チン硬化剤により固く接合されている。本発明のアルカ
リ水溶液は、水溶性有機溶剤を多量に含まないので、下
塗りゼラチン層の膨潤、除去も早く、又、処理後の水溶
液の水洗除去も容易である。Replacement of polyester base material recoverable in the present invention
The example in the table is used for the base film of photographic photosensitive material.
Polyester.Polyester film for photo
Is generally excellent in physical strength, water resistance and heat resistance.
Polyester film because its surface is hydrophobic
The base surface is first provided with a subbing layer, followed by a single layer or multiple layers.
After applying the hydrophilic layer, apply the hydrophilic photosensitive layer
There are many. Undercoat layer consisting of a single layer swells the surface of the substrate
Compound, water-soluble polymer, and polymer latex
Is often applied. Also, an undercoat consisting of multiple layers
The layer is vinylidene chloride, vinyl chloride, etc. as the first layer
And a second layer of gelatin
Hydrophilicity by applying a hydrophilic polymer such as
You. A hydrophilic photosensitive layer is provided on these undercoat layers,
It is firmly joined by a tin hardener. Arca of the present invention
Since aqueous solutions do not contain large amounts of water-soluble organic solvents,
Swells and removes the coated gelatin layer quickly, and is soluble in water after processing
Washing and removal of the liquid is also easy.
【0017】本発明の回収方法により回収できるポリエ
ステルは、主鎖中にエステル結合、特にカルボン酸エス
テル結合をもち、殆どが非結晶性の線状高分子である。
好ましい例として、芳香族ポリエステルが挙げられ、具
体例としてポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
ナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート等が挙げ
られる。ハロゲン化銀写真感光材料の基材として使用で
きるポリエステルは特開平6−175285号などに記
載されている。The polyester which can be recovered by the recovery method of the present invention has an ester bond, particularly a carboxylic acid ester bond in the main chain, and is almost a non-crystalline linear polymer.
Preferred examples include aromatic polyesters, and specific examples include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polypropylene terephthalate. Polyesters that can be used as a base material of a silver halide photographic light-sensitive material are described in JP-A-6-175285.
【0018】写真用ポリエステルフィルムの代表的な膜
厚は10μmないし200μmであり、多くは80μm
ないし180μmである。The typical film thickness of a photographic polyester film is 10 μm to 200 μm, and most is 80 μm.
To 180 μm.
【0019】次に合成樹脂等からなる基材の回収処理方
法について説明する。本発明の回収方法では、合成樹脂
等の上に設けられた異質の層、通常は特定の機能を有す
る機能層を、アルカリ水溶液中で除去する洗浄工程を必
須とし、通常は、アルカリ水溶液を合成樹脂等から除去
するための工程(通常は水により洗い流すために「水洗
工程」ともいうことにする)、及び、乾燥工程を含む。Next, a method of recovering a substrate made of a synthetic resin or the like will be described. The recovery method of the present invention essentially requires a washing step of removing a foreign layer provided on a synthetic resin or the like, usually a functional layer having a specific function, in an alkaline aqueous solution. It includes a step of removing the resin from the resin or the like (usually referred to as a “rinsing step” for washing away with water) and a drying step.
【0020】(洗浄処理)アルカリ水溶液の調製には、
苛性アルカリを使用することができる、ここで、「苛性
アルカリ」とは、アルカリ金属の水酸化物や炭酸塩を意
味し、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムなどが挙げられる。苛性ア
ルカリの他に、界面活性剤、過酸化物を必要に応じて併
用しても良い。(Cleaning treatment) In the preparation of the alkaline aqueous solution,
Caustic may be used, where "caustic" means hydroxides or carbonates of alkali metals, such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, and the like. Can be In addition to the caustic alkali, a surfactant and a peroxide may be used in combination as needed.
【0021】本発明におけるアルカリ水溶液による洗浄
工程は、好ましくは、pH10ないし14のアルカリ液
を使用する。pHの調節には、pH計を使用するか、p
H計の替りに、伝導度計を使用して調節することもでき
る。水酸化ナトリウムの濃度は、一般に0.1重量%以
上の濃度であれば良いが、ポリカーボネート基材の洗浄
処理においては、0.1ないし20重量%が好ましく、
0.1ないし10重量%がより好ましい。また、写真用
ポリエステルフィルムの洗浄処理においては、0.1な
いし4重量%が好ましく、0.1ないし3重量%がより
好ましい。同じpH値に調節できるならばイオン強度が
低い苛性アルカリの使用が好ましい。The washing step with an aqueous alkali solution in the present invention preferably uses an alkaline solution having a pH of 10 to 14. To adjust the pH, use a pH meter or p
Instead of the H meter, the adjustment can be made using a conductivity meter. The concentration of sodium hydroxide may be generally 0.1% by weight or more, but is preferably 0.1 to 20% by weight in the washing treatment of the polycarbonate substrate.
0.1 to 10% by weight is more preferred. Also for photos
In the washing treatment of the polyester film , 0.1 to 4% by weight is preferable, and 0.1 to 3% by weight is more preferable. If the pH can be adjusted to the same value, it is preferable to use a caustic having a low ionic strength.
【0022】洗浄工程の温度は、約105℃より高温で
あれば良く、ポリカーボネート基材の処理においては、
105ないし130℃が好ましい。また、写真用ポリエ
ステルフィルムの処理においては、105ないし150
℃が好ましく、110ないし140℃がより好ましい。The temperature of the washing step may be higher than about 105 ° C. In the treatment of a polycarbonate substrate,
105-130 ° C is preferred. Also, for photo
105-150 for steal film processing
C. is preferred, and 110 to 140 C. is more preferred.
【0023】洗浄処理において、機能層を実質的に除去
するとは、基材から機能層を50重量%以上除去するこ
とをいう。In the cleaning treatment, substantially removing the functional layer means removing the functional layer from the substrate by 50% by weight or more.
【0024】界面活性剤にはノニオン性界面活性剤、ア
ニオン性界面活性剤及びカチオン性界面活性剤がある
が、本発明において使用される界面活性剤は、ノニオン
性界面活性剤及びアニオン性界面活性剤が好ましい。ノ
ニオン性界面活性剤としては、例えば、ポリエチレング
リコールエーテル系、特に、高級アルコールのポリエチ
レングリコールエーテル、アルキルフェノールのポリエ
チレングリコールエーテルなどが好ましく用いられる。
また、アニオン性界面活性剤としては、例えば、アルキ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウムなどが挙げられ、好ま
しくはノニオン性界面活性剤と併用される。界面活性剤
の濃度は、0.001ないし10質量%、好ましくは
0.01ないし1重量%である。界面活性剤は、回収原
料としての製品に付着した又は処理液中に除去され再付
着した色素や微小異物を除去するのに有用である。The surfactant includes a nonionic surfactant, an anionic surfactant and a cationic surfactant. The surfactant used in the present invention includes a nonionic surfactant and an anionic surfactant. Agents are preferred. As the nonionic surfactant, for example, polyethylene glycol ethers, in particular, polyethylene glycol ethers of higher alcohols, polyethylene glycol ethers of alkylphenols and the like are preferably used.
Examples of the anionic surfactant include, for example, sodium alkylbenzenesulfonate, and are preferably used in combination with a nonionic surfactant. The concentration of the surfactant is 0.001 to 10% by weight, preferably 0.01 to 1% by weight. Surfactants are useful for removing dyes and minute foreign substances that have adhered to the product as a recovered raw material or have been removed and re-adhered to the processing solution.
【0025】本発明に用いられる過酸化物には、−O−
O−結合をもつ酸化物や多価原子価をもつ金属の酸化物
が挙げられる。好ましくは、過酸化水素及びその塩、オ
ゾン、過硫酸及びその塩などである。過酸化物の濃度
は、0.1ないし10質量%であることが好ましい。ま
た、過酸化物水溶液の温度は65ないし95℃であるこ
とが好ましく、80ないし90℃であることがさらに好
ましい。過酸化物は残留金属や染料の完全除去に有用で
ある。過酸化水素の0.1ないし10質量%の液は、そ
のpHが2ないし5(弱酸性)であり、最終洗浄液とし
て好ましく使用できる。The peroxide used in the present invention includes -O-
An oxide having an O-bond and an oxide of a metal having a multivalent valence are exemplified. Preferred are hydrogen peroxide and its salts, ozone, persulfuric acid and its salts, and the like. The concentration of the peroxide is preferably 0.1 to 10% by mass. The temperature of the aqueous peroxide solution is preferably from 65 to 95 ° C, more preferably from 80 to 90 ° C. Peroxide is useful for complete removal of residual metals and dyes. A 0.1% to 10% by mass solution of hydrogen peroxide has a pH of 2 to 5 (weakly acidic) and can be preferably used as a final washing solution.
【0026】塗料や染料などを除去するために、有機溶
剤、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコール、グリセリン、メチルソロソルブなど基材に対
する貧溶剤を併用することができる。In order to remove paints, dyes and the like, organic solvents, for example, poor solvents for the base material such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, glycerin and methyl solosolve can be used in combination.
【0027】洗浄液の加熱は、通常1気圧以上の水蒸気
または熱水、バーナーや電熱により行われる。加圧式洗
浄装置を使用することが好ましく、耐高圧(0.2ない
し0.5MPa=2ないし5kgf/cm2)の洗浄装
置を用いることが好ましい。洗浄時間は5ないし150
分(5分以上150分以下)であり、5ないし100分
が好ましく、10ないし60分がさらに好ましい。The heating of the cleaning liquid is usually performed by using steam or hot water of 1 atm or more, a burner or electric heating. It is preferable to use a pressure type cleaning device, and it is preferable to use a high pressure resistant (0.2 to 0.5 MPa = 2 to 5 kgf / cm 2 ) cleaning device. Washing time is 5 to 150
Minutes (5 minutes or more and 150 minutes or less), preferably 5 to 100 minutes, more preferably 10 to 60 minutes.
【0028】さらに、105℃以上のアルカリ水溶液に
よる洗浄処理は、2段以上、好ましくは2段ないし3段
に分割して実施することができる。100℃以下のアル
カリ洗浄工程を付加しても良い。短時間のアルカリ洗浄
工程に続いて、洗浄付着した異物をアルカリ洗浄して除
去する工程の2段のアルカリ洗浄工程を採用することに
より、比較的短時間の洗浄工程により、再利用可能な高
品質の合成樹脂等を回収することができる。2段以上の
苛性アルカリの処理においては、各段のアルカリ水溶液
のアルカリ濃度、温度またはチップの密度を変えて実施
することが好ましい。複数のアルカリ洗浄工程の間に、
必要に応じて、液切りまたは水洗処理を入れることがで
きる。Further, the washing treatment with an aqueous alkali solution at 105 ° C. or higher can be carried out in two or more stages, preferably in two or three stages. An alkali washing step at 100 ° C. or lower may be added. After a short alkali cleaning step, a two-step alkali cleaning step of removing the adhered foreign substances by alkali cleaning is adopted, so that the reusable high quality can be achieved by a relatively short cleaning step. Can be recovered. In the treatment of two or more stages of caustic alkali, it is preferable to carry out the treatment while changing the alkali concentration, temperature or chip density of the aqueous alkali solution in each stage. During multiple alkaline cleaning steps,
If necessary, a draining or washing treatment can be performed.
【0029】また、銀含有層を設けた合成樹脂等の基材
を、アルカリ水溶液を用いて処理する場合は、そのスラ
リー中に銀を溶解し、処理槽の壁面に銀含有スケールが
発生する。従来、この発生を防止するため、ハロゲン化
物や糖類などの還元性化合物の使用が知られている。When a substrate such as a synthetic resin provided with a silver-containing layer is treated with an alkaline aqueous solution, silver is dissolved in the slurry and silver-containing scale is generated on the wall surface of the treatment tank. Conventionally, use of a reducing compound such as a halide or a saccharide has been known to prevent this occurrence.
【0030】本発明の方法では、処理液中に陰電極を設
け、負電圧を約1ないし10ボルト、好ましくは2ない
し5ボルトとすることにより、銀の回収とともに処理槽
の器壁または液切り板に銀含有スケールの付着を防止す
ることができる。In the method of the present invention, a negative electrode is provided in the processing solution, and a negative voltage is set to about 1 to 10 volts, preferably 2 to 5 volts, so that silver can be collected and the wall of the processing tank or drainage can be performed. The adhesion of the silver-containing scale to the plate can be prevented.
【0031】本発明による合成樹脂等の基材の処理に当
たっては、処理する基材をまず選別し、当該合成樹脂等
製の基材全体を予め適当な大きさのチップに裁断してか
ら処理を施すことが好ましい。ポリカーボネート基材の
処理においては、1mmないし10cmの大きさに破砕
することが好ましく、1mmないし10mmの粒度に破
砕することがさらに好ましい。また、ポリエステル基材
の処理においては、5mmないし3cmの大きさに破砕
することが好ましい。この破砕には、湿式破砕を用いる
のが良い。例えば特開平7−286064号明細書に記
載した方法を用いることができる。In the treatment of a base material such as a synthetic resin according to the present invention, the base material to be treated is first selected, and the whole base material made of the synthetic resin or the like is cut into chips of an appropriate size in advance, and then the processing is performed. Preferably, it is applied. In the treatment of the polycarbonate substrate, it is preferable to crush to a size of 1 mm to 10 cm, more preferably to crush to a particle size of 1 mm to 10 mm. In the treatment of the polyester base material, it is preferable to crush to a size of 5 mm to 3 cm. It is preferable to use wet crushing for this crushing. For example, a method described in JP-A-7-286064 can be used.
【0032】(水洗処理)基材からアルカリ水溶液を除
去する処理を水洗処理という。詳しくは、苛性アルカリ
処理をうけたチップから、処理液またはスラリーを排除
する、または下塗層及びその上層を溶解または微粉化し
た異物を除去するために、通常は水を用いて洗浄する処
理をいう。好ましくは10ないし60℃、さらに好まし
くは10ないし30℃の水を用いて処理する。水洗水
に、アルカリ中和のための酸性物質を加えてもよい。苛
性アルカリ処理または水洗処理の後、有機溶剤、例え
ば、エタノール、メタノールなどのアルコール類、アセ
トンなどのケトン類や、トルエンや石油エーテルなど、
またこれらを含有する水性溶液で、洗浄し、乾燥するこ
ともできる。(Washing treatment) The treatment for removing the aqueous alkali solution from the base material is called washing treatment. Specifically, in order to remove the processing solution or slurry from the chips that have been subjected to the caustic treatment, or to remove foreign substances that have dissolved or pulverized the undercoat layer and the upper layer, a process of washing with water is usually performed. Say. The treatment is preferably carried out using water at 10 to 60 ° C, more preferably 10 to 30 ° C. An acidic substance for alkali neutralization may be added to the washing water. After a caustic treatment or a washing treatment, an organic solvent, for example, alcohols such as ethanol and methanol, ketones such as acetone, and toluene and petroleum ether,
Further, it can be washed and dried with an aqueous solution containing these.
【0033】(乾燥処理)処理済チップを、50ないし
200℃、好ましくは80ないし120℃の温度に加熱
して、水分を好ましくは2質量%以下さらには1質量%
以下になるまで乾燥する処理をいう。再熔融し、再生ペ
レットを作成するためには、真空乾燥し水分を0.2重
量%以下にする方がよい。(Drying) The treated chip is heated to a temperature of 50 to 200 ° C., preferably 80 to 120 ° C., to reduce the water content to preferably 2% by mass or less, more preferably 1% by mass.
It refers to the process of drying until the temperature becomes below. In order to re-melt and produce regenerated pellets, it is preferable to dry under vacuum to reduce the water content to 0.2% by weight or less.
【0034】[0034]
【実施例】以下に実施例を示すが、これに限るものでは
ない。実施例1及び2にポリカーボネートの回収を示
し、又実施例11ないし15にポリエステルの回収を示
す。 (実施例−1)ポリカーボネート基材を用いる廃CD−
Rディスク製品を、約1ないし5cmの大きさに裁断し
て、ポリカーボネート基材の回収処理を行った。当該C
D−Rディスク製品は、基材(径12cm、厚み1.2
mm)の上に色素膜、銀反射膜及び紫外線吸収剤などを
含む保護膜が設けられていた。次の工程の処理を通し、
さらに水洗、乾燥し、ポリカーボネート樹脂回収試料N
o.1を得た。(処理条件は表1参照)EXAMPLES Examples will be shown below, but the present invention is not limited to these examples. Examples 1 and 2 show the recovery of polycarbonate, and Examples 11 to 15 show the recovery of polyester. (Example-1) Waste CD- using polycarbonate substrate
The R disk product was cut into a size of about 1 to 5 cm, and a polycarbonate substrate was recovered. The C
The DR disk product is made of a substrate (diameter 12 cm, thickness 1.2
mm), a protective film containing a dye film, a silver reflective film, an ultraviolet absorber and the like was provided. Through the processing of the next step,
After further washing with water and drying, the polycarbonate resin recovered sample N
o. 1 was obtained. (See Table 1 for processing conditions)
【0035】(第1段) 裁断時の付着異物の除去 界面活性剤として、ポリオキシエチレン誘導体(花王
(株)製・エマルゲンA−500)及びアルキル・ベン
ゼンスルホン酸ナトリウムの各1重量%の混合水溶液
に、製品を、固液比1:1の比で混合し、90℃で60
分間撹拌処理した。 (第2段) 色素、金属膜、保護膜の除去(その1) ポリオキシエチレン誘導体のノニオン界面活性剤の1重
量%と水酸化ナトリウムの3重量%との混合水溶液(p
H13.5)に製品を投入し、120℃で30分間処理
した。 (第3段) 色素、金属膜、保護膜の除去(その2) 上記第2段処理に引続いて水酸化ナトリウム濃度を5質
量%とし、他は第2段処理液組成等と全く同様にして1
20℃で30分処理した。(First stage) Removal of adhering foreign matter at the time of cutting Mixing 1% by weight of each of a polyoxyethylene derivative (Emulgen A-500 manufactured by Kao Corporation) and sodium alkyl benzenesulfonate as a surfactant. The product is mixed with the aqueous solution at a solid to liquid ratio of 1: 1 at 90 ° C. for 60 hours.
The mixture was stirred for minutes. (Second Stage) Removal of Dye, Metal Film, and Protective Film (Part 1) A mixed aqueous solution of 1% by weight of nonionic surfactant of polyoxyethylene derivative and 3% by weight of sodium hydroxide (p
H13.5), and the product was treated at 120 ° C. for 30 minutes. (Third Stage) Removal of Dye, Metal Film, and Protective Film (Part 2) Following the second stage treatment, the sodium hydroxide concentration was set to 5% by mass, and the other conditions were exactly the same as the second stage treatment liquid composition and the like. 1
Treated at 20 ° C. for 30 minutes.
【0036】(第4段) 残存金属(銀)などの溶解除
去及び洗浄 界面活性剤、ポリオキシエチレン誘導体とアルキルベン
ゼンスルホン酸ナトリウムの各1質量%の混合水溶液
(第1段の場合に同じ)に、過酸化水素、0.58質量
%相当量を混合した混合水溶液を用い、90℃で30分
間処理した。さらに水洗し、乾燥した。(Fourth step) Dissolution and removal of residual metal (silver) and washing A 1% by weight aqueous solution of each of a surfactant, a polyoxyethylene derivative and sodium alkylbenzenesulfonate (same as in the first step) , Hydrogen peroxide and 0.58% by mass of a mixed aqueous solution, and treated at 90 ° C. for 30 minutes. Further, it was washed with water and dried.
【0037】品質の評価 (1)チップ状回収試料の着色の程度(目視判定によ
る。) ◎ 着色を殆ど認めない ○ やや認めるが許容以下 △ 認める × 認める、使用不可 (2)粘度測定による平均分子量の評価 バージンのポリカーボネート樹脂の平均分子量は14,
500±500であった。この場合、許容平均分子量は
14,000以上。試料0.7gをジクロロメタン10
0mlに溶解し、20℃で粘度測定を行った。 (3)ジクロロメタン溶液中の異物存否の目視判定 バージンのポリカーボネート樹脂以下とくに100ない
し250μm径のもの2個以下であること。実施例−1
で得た回収資料No.1は使用可能の品質であった。 (1)着色の程度 ◎ (2)平均分子量 14500 (3)異物の存否 バージン樹脂以下Evaluation of the quality (1) Degree of coloring of the chip-shaped collected sample (by visual judgment) 着色 Almost no coloring ○ Somewhat acceptable but below acceptable △ Acceptable × Acceptable, unusable (2) Average molecular weight by viscosity measurement Evaluation The average molecular weight of the virgin polycarbonate resin is 14,
500 ± 500. In this case, the allowable average molecular weight is 14,000 or more. 0.7 g of a sample is placed in dichloromethane 10
It was dissolved in 0 ml and the viscosity was measured at 20 ° C. (3) Visual determination of the presence or absence of foreign matter in a dichloromethane solution. No more than two virgin polycarbonate resins, especially 100 to 250 μm in diameter. Example-1
Collected material No. obtained in 1 was of usable quality. (1) Degree of coloring ◎ (2) Average molecular weight 14500 (3) Presence or absence of foreign matter Virgin resin or less
【0038】(実施例−2)実施例−1において、第2
段の処理時間のみ60分に延長して、第3段の処理を省
略し、他は同様にしてポリカーボネート樹脂回収試料N
o.2を得た。また、第2段の処理を省略し、第3段の
処理時間のみ60分に延長し、他は同様に処理して回収
試料No.3を得た。その品質評価の結果は、試料N
o.2及び試料No.3共に以下の結果であった。 (1)着色の程度が、試料No.1に比し、共にやや劣
り「値○」であった。 (2)及び(3)の評価については他は試料No.1と
同等であった。 本発明のアルカリ高温処理は、複数段に分割する方が、
同じ処理時間で色素などの異物を除去しやすいことが判
る。(Embodiment 2) In the embodiment 1, the second
The processing time of the third step was extended to 60 minutes only, and the processing of the third step was omitted.
o. 2 was obtained. In addition, the second-stage processing was omitted, and only the third-stage processing time was extended to 60 minutes. 3 was obtained. The result of the quality evaluation is sample N
o. 2 and sample no. The following three results were obtained. (1) The degree of coloring is the same as the sample No. As compared with 1, both were slightly inferior in “value ○”. Regarding the evaluations of (2) and (3), the others were sample Nos. It was equivalent to 1. The alkali high temperature treatment of the present invention is better divided into a plurality of stages,
It can be seen that foreign substances such as dyes are easily removed in the same processing time.
【0039】(比較例1)実施例−1に用いたのと同じ
廃CD−Rディスク製品の裁断品を用い表1に示すよう
に水酸化ナトリウムの濃度、界面活性剤、処理温度、時
間を設定し他は同様にして比較試料A及びBを得た。品
質評価の結果を表1に示す。(Comparative Example 1) Using the same waste CD-R disc product cut as in Example 1, the concentration of sodium hydroxide, surfactant, treatment temperature and time were determined as shown in Table 1. Comparative samples A and B were obtained in the same manner except for setting. Table 1 shows the results of the quality evaluation.
【0040】[0040]
【表1】 [Table 1]
【0041】ポリカーボネート樹脂回収試料No.1、
2、3とも、特に試料No.1は、少ないアルカリ物質
の使用料でも、処理時間を短縮することができ、処理経
費を下げて高品質の回収試料を得ることができることが
判る。回収試料は、バージン樹脂と共に再利用できる。The polycarbonate resin recovered sample no. 1,
Sample Nos. 2 and 3 are particularly good. 1 shows that the processing time can be shortened even with a small amount of the use of an alkaline substance, and that a high-quality recovered sample can be obtained with a reduced processing cost. The recovered sample can be reused together with the virgin resin.
【0042】(実施例−11)写真感光材料用ベースフ
ィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムを用
い、その上にポリ塩化ビニリデンを用いた下塗層が設け
られているフィルムベースにハロゲン化銀乳剤層及び保
護層を塗設した写真感光材料の半製品(廃品)を、0.
5ないし3cm角に相当するチップに裁断した後に回収
処理に使用した。(Embodiment 11) A polyethylene terephthalate film was used as a base film for a photographic light-sensitive material, and an undercoat layer using polyvinylidene chloride was provided thereon. A silver halide emulsion layer and a protective layer were formed on a film base. The semi-finished product (waste product) of the photosensitive material coated with
After being cut into chips corresponding to 5 to 3 cm square, they were used for the recovery treatment.
【0043】筒状胴部の内径が約45cmであって、耐
圧性を付与された熱水供給口を設け、水蒸気に対して
0.5MPaに耐えるよう設定された加圧式洗浄装置を
用いた。A pressurized washing apparatus having a cylindrical body with an inner diameter of about 45 cm, a hot water supply port provided with pressure resistance, and set to withstand 0.5 MPa against water vapor was used.
【0044】(第1洗浄処理)上記チップ試料の約10
kgを処理容器に投入し、所定(表2に示す)濃度に設
定した苛性ソーダ熱水溶液35l及び高級アルコールの
ポリエチレングリコールエーテル(エマルゲン106花
王(株)製)を2.0gを併せ投入した後、所定(表2
に示す)温度で15分間にわたり、約100rpmの回
転数で撹拌した。処理液を排出し、充分に液切りを行っ
た上、水洗処理を5分行った。(First cleaning process) About 10 times of the above chip sample
kg into a processing container, 35 l of a hot aqueous solution of caustic soda set to a predetermined concentration (shown in Table 2) and 2.0 g of polyethylene glycol ether of higher alcohol (manufactured by Emulgen 106 Kao Corp.) were added. (Table 2
) For 15 minutes at about 100 rpm. The treatment liquid was discharged, the liquid was sufficiently drained, and a water washing treatment was performed for 5 minutes.
【0045】(第2洗浄処理)第1苛性アルカリ処理さ
れたチップ試料に、所定(表2に示す)濃度に設定した
苛性ソーダ熱水溶液30l及び高級アルコールのポリエ
チレングリコールエーテルの10.0gを投入し、所定
(表2に示す)温度で40分約200rpmの回転数で
撹拌した。その後、処理液を排出し、充分に液切りを行
った。(Second Washing Treatment) To a chip sample subjected to the first caustic treatment, 30 l of a hot aqueous solution of caustic soda set to a predetermined concentration (shown in Table 2) and 10.0 g of polyethylene glycol ether of a higher alcohol were introduced. The mixture was stirred at a predetermined temperature (shown in Table 2) for 40 minutes at a rotation speed of about 200 rpm. Thereafter, the treatment liquid was discharged, and the liquid was sufficiently drained.
【0046】(水洗処理)水を注ぎつつ撹拌し10分間
水洗して脱膜または微粉化した異物を除去した。(Washing treatment) The mixture was stirred while pouring water, and washed with water for 10 minutes to remove foreign substances that had been removed from the membrane or finely divided.
【0047】(乾燥処理)充分に水切りした洗浄処理済
チップを排出口から取り出し、100℃で30ないし6
0分で乾燥した。(Drying treatment) The washed chips, which have been sufficiently drained, are taken out from the discharge port, and are dried at 100 ° C. for 30 to 6
Dried in 0 minutes.
【0048】(再生ペレットまたは再生フィルムの作
成)乾燥処理済チップを真空乾燥した上で、260℃な
いし280℃に加熱熔融してポリエステルフイルムが得
られ、これを裁断して再生ペレットを得た。また得られ
たフィルムを二軸延伸して、再生フィルム試料を得た。(Preparation of Recycled Pellets or Recycled Films) The dried chips were vacuum-dried, and then heated and melted at 260 ° C. to 280 ° C. to obtain polyester films, which were cut to obtain regenerated pellets. The obtained film was biaxially stretched to obtain a regenerated film sample.
【0049】(品質の評価) (下塗層の除去確認)乾燥処理済チップについて塩化ビ
ニリデンなどを用いる場合は、ESCAによる表面解析
により有機(C原子)結合Cl原子の存否を検討した。 (下塗層の除去確認)また、処理チップ及び標準ポリエ
チレンテレフタレートフィルム片とを、1%硫酸含有イ
ンジゴカルミン水溶液につけ、水表面上を上下させて水
の濡れ状態を視察することにより、充分に下塗層が除去
されていることを確認した。フィルム片は、水を弾き、
水が1部付着しても浸潤しなかった。乾燥処理チップに
ついて、スチレンブタジエンポリマーなど異種有機化合
物を下塗層に用いる場合は、同様ESCAによる表面解
析(C1S軌道スペクトルの解析)により、異種有機物が
存在しないかどうかを検討した。(Evaluation of Quality) (Confirmation of Removal of Undercoat Layer) When vinylidene chloride or the like was used for the dried chips, the presence or absence of organic (C atom) -bonded Cl atoms was examined by surface analysis using ESCA. (Confirmation of removal of undercoat layer) Also, the treated chip and a piece of standard polyethylene terephthalate film were immersed in a 1% sulfuric acid-containing indigo carmine aqueous solution, and the surface of the water was moved up and down to observe the wet state of the water. It was confirmed that the coating layer had been removed. A piece of film flips the water,
Even if one part of water adhered, it did not infiltrate. When a different organic compound such as a styrene-butadiene polymer was used for the undercoat layer of the dried chip, it was examined whether or not there was a different organic substance by surface analysis by ESCA (analysis of C 1S orbital spectrum).
【0050】(再生フィルム中の異物除去確認)再生フ
ィルム及び実用PET標準フィルムについて拡大レンズ
(100倍)を通して異物の存在を目視視察と、標準フ
ィルムに対し再生フィルム中の異物の多さを比較し、次
のように区別した。 I: やや少ない (実用可能) II: 同等 (実用可能) III: 多い (実用不可)(Confirmation of Foreign Material Removal from Reproduced Film) The presence of foreign materials was visually inspected through a magnifying lens (100 times) for the recycled film and the practical PET standard film, and the number of foreign materials in the reproduced film was compared with the standard film. , As follows: I: Somewhat less (practical) II: Equivalent (practical) III: More (impractical)
【0051】(比較例−11)実施例−11に用いたと
同じチップ試料を用い、第1苛性アルカリ処理を、苛性
ソーダの濃度4質量%、温度85℃、また第2苛性アル
カリ処理を、苛性ソーダの濃度6質量%、温度85℃
で、その他は実施例−11に用いたと同様に行い、試料
A’を得た。(Comparative Example-11) Using the same chip sample as used in Example-11, the first caustic treatment was carried out at a concentration of 4% by mass of caustic soda at a temperature of 85 ° C, and the second caustic treatment was carried out at a temperature of 85 ° C. Concentration 6% by mass, temperature 85 ° C
The other steps were the same as those used in Example 11 to obtain a sample A ′.
【0052】(比較例−12;従来の方法の例)同じチ
ップ試料を用い、第1苛性アルカリ処理を、苛性ソーダ
の濃度4質量%、温度85℃で20分約200rpmの
回転数で撹拌処理し、水洗処理を50分間行った。第2
苛性アルカリ処理を、苛性ソーダの濃度6質量%、温度
85℃で50分間約200rpmの回転数で撹拌処理し、
水洗処理を50分間行った。その後は、実施例−11と
同様に行い試料B’を得た。前記洗浄装置において、液
切り板の下法に、ステンレス(SUS−304)製の陰
極板を設け処理容器とくに液切り板に対して1ないし3
ボルトの負電圧を負荷し各試料1の処理を連続して行っ
た。陰電極に金属銀(99%の純度)の付着を認め、陰
極を下から掩うサーラン製の網に針状銀を回収すること
ができた。この銀回収処置を行わない、通常の処理を連
続すると処理容器とくに液切り板上とくに小穴に銀含有
スケールの付着を視察した。(Comparative Example 12: Example of Conventional Method) Using the same chip sample, the first caustic alkali treatment was carried out by stirring at a rotation speed of about 200 rpm for 20 minutes at a concentration of 4% by weight of caustic soda at a temperature of 85 ° C. And a water washing treatment for 50 minutes. Second
The caustic alkali treatment is performed by stirring at a rotation speed of about 200 rpm for 50 minutes at a temperature of 85 ° C. at a concentration of caustic soda of 6% by mass,
The washing process was performed for 50 minutes. Thereafter, the same operation as in Example 11 was performed to obtain a sample B ′. In the cleaning apparatus, a cathode plate made of stainless steel (SUS-304) is provided below the drain plate, and the processing container, particularly the drain plate, is provided with a cathode plate.
Each sample 1 was continuously processed by applying a negative voltage of volt. Adhesion of metallic silver (99% purity) was observed on the negative electrode, and needle-like silver could be collected on a Saran net covering the cathode from below. When the normal processing was continued without performing the silver recovery treatment, the adhesion of the silver-containing scale was observed on the processing container, particularly on the drain plate, particularly on the small holes.
【0053】[0053]
【表2】 試料No.B’;試料No.11ないし16は、ノイズ
の中で、Clの存在を検出できない。試料No.B’
は、ポリエチレンテレフタレートの表面が溶解されてい
ることを認めた。[Table 2] Sample No. B ′: Sample No. Nos. 11 to 16 cannot detect the presence of Cl in the noise. Sample No. B '
Found that the surface of polyethylene terephthalate was dissolved.
【0054】表2の結果から、従来の方法に比し、苛性
ソーダの濃度を下げ0.2ないし3質量%とした上で、
温度を100℃超、とくに105℃以上に上げて処理す
れば、ポリエチレンテレフタレート基材上のポリ塩化ビ
ニリデン及び上層物質を比較的短時間で除去できること
が判った。From the results shown in Table 2, the concentration of caustic soda was reduced to 0.2 to 3% by mass as compared with the conventional method.
It has been found that if the treatment is carried out at a temperature higher than 100 ° C., particularly 105 ° C. or higher, polyvinylidene chloride and the upper layer material on the polyethylene terephthalate substrate can be removed in a relatively short time.
【0055】(実施例−12)ポリエチレンテレフタレ
ートプラスチックを基材として用いた使用済レントゲン
用写真フィルムを、実施例−11に準じて0.5ないし
1.5cm角に相当するチップに裁断した後、実施例−
11試料No.11に準じて、各処理を行い処理済チッ
プ(試料No.17)及び再生フィルムを得た。再生フ
ィルム中の異物の多さは、標準フィルムよりやや少な
く、再利用可能の品質であった。また、以下の回収処理
を行い、処理済チップ及び再生フィルムを得た。第1苛
性アルカリ処理として、苛性ソーダの0.7質量%水溶
液を用い90℃10分間処理した後、液切りを行い、続
いて第2苛性アルカリ処理として、苛性ソーダの1質量
%水溶液を用い110℃で25分間処理した。水洗処理
を、6分間行い、水切りの後、乾燥処理を行って、処理
済試料No.18及び再生フィルムを得た。再利用可能
の品質であった。処理試料No.17、No.18と
も、チップ表面で水を弾く。またESCAによる表の解
析の結果、異種有機物の存在量は、実用標準フィルムの
それ以下であった。(Example-12) A used X-ray photographic film using polyethylene terephthalate plastic as a base material was cut into chips corresponding to 0.5 to 1.5 cm square according to Example-11. Example-
11 sample no. According to No. 11, each processing was performed to obtain a processed chip (sample No. 17) and a regenerated film. The amount of foreign matter in the regenerated film was slightly lower than that of the standard film, and the quality was reusable. Further, the following recovery treatment was performed to obtain a processed chip and a regenerated film. As a first caustic treatment, a 0.7% by mass aqueous solution of caustic soda was used and treated at 90 ° C. for 10 minutes, followed by drainage. As a second caustic treatment, a 1% by mass aqueous solution of caustic soda was used at 110 ° C. Treated for 25 minutes. A water-washing process was performed for 6 minutes, and after a draining process, a drying process was performed. 18 and a regenerated film were obtained. Reusable quality. Processing sample No. 17, No. In both cases, flip the water on the chip surface. Further, as a result of analyzing the table by ESCA, the amount of the different organic substances was less than that of the practical standard film.
【0056】(実施例−13)ポリエチレンテレフタレ
ートを基材として用いた富士写真フィルム株式会社製の
映画用フィルムの使用済品を、実施例−11に準じて
0.5ないし1.5cm角に相当するチップに裁断し
た。実施例−12の試料No.18に準じて各処理を行
い処理済チップ試料No.19を得た。再生フィルム中
の異物の多さも標準フィルムと同様であって、充分に再
利用可能の品質であった。またポリエチレンナフタレー
トを基材とし、他は上記のポリエチレンテレフタレート
を用いたフィルムと同様にして作った現像済映画用フィ
ルムについても同様に処理して、チップ試料No.20
を得た。チップ試料No.20は、その表面で水を弾
き、浸潤しない。またESCAによる表面解析の結果、
異種有機物の存在量は標準フィルムのそれ以下であっ
た。その標準フィルムと同様、充分に再利用可能の品質
を得ることができた。Example 13 A used cinema film manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. using polyethylene terephthalate as a base material was equivalent to 0.5 to 1.5 cm square according to Example-11. Cut into chips. In the sample No. of Example-12. No. 18 for each processed chip sample No. 19 was obtained. The amount of foreign matter in the regenerated film was similar to that of the standard film, and the quality was sufficiently reusable. A developed cinema film made of polyethylene naphthalate as a base material and made in the same manner as the above-mentioned film using polyethylene terephthalate was treated in the same manner. 20
Got. Chip sample No. 20 repels water on its surface and does not infiltrate. As a result of surface analysis by ESCA,
The abundance of foreign organics was less than that of the standard film. As with the standard film, a sufficiently reusable quality could be obtained.
【0057】(実施例−14)ポリエチレンテレフタレ
ートを基材として用いた富士写真フィルム株式会社製、
使用済みカラープリント用フィルムを裁断し、チップに
した。実施例−11の試料No.13に準じて回収処理
を行い、処理チップ試料No.21を得た。再生フィル
ム中の異物の多さもその標準フィルムと同等であり再利
用可能の品質であった。(Example-14) Fuji Photo Film Co., Ltd. using polyethylene terephthalate as a substrate
The used color print film was cut into chips. In the sample No. of Example-11. 13 was performed, and the processed chip sample no. 21 was obtained. The amount of foreign matter in the regenerated film was also equal to that of the standard film, and the quality was reusable.
【0058】(実施例15)ポリエチレンテレフタレー
トを基材として用いた富士写真フイルム株式会社製、感
圧感光材料を裁断し、チップにした。 (苛性アルカリ処理)実施例−11に準じて1重量%の
苛性ソーダの110℃の熱水溶液で40分間処理した。
処理液を、排出し、充分に液切りを行った。 (水洗処理)水を注ぎつつ、チップを撹拌し、10分間
水洗した。水切りを行った。 (乾燥処理)実施例−11に準じて、110℃で40分
乾燥し、処理チップ試料No.22を得た。実施例−1
1に準じて、再生フィルムを作成。再利用可能の品質を
得た。同様にポリエチレンテレフタレートを基材として
用いた使用済感熱フィルムを裁断しチップとした。上
記、処理チップ試料No.22に準じて、処理チップ試
料No.23を得た。処理チップ試料No.22、23
とも、表面で水を弾いた。再利用可能の品質を得た。Example 15 A pressure-sensitive photosensitive material manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. using polyethylene terephthalate as a substrate was cut into chips. (Caustic Alkali Treatment) According to Example 11, a 1% by weight caustic soda was treated with a 110 ° C. hot aqueous solution for 40 minutes.
The treatment liquid was discharged, and the liquid was sufficiently drained. (Washing treatment) The chips were stirred while pouring water, and washed with water for 10 minutes. Drained. (Drying treatment) According to Example 11, drying was performed at 110 ° C for 40 minutes. 22 was obtained. Example-1
Create a reproduction film according to 1. Reusable quality was obtained. Similarly, a used heat-sensitive film using polyethylene terephthalate as a substrate was cut into chips. The processing chip sample No. 22 according to the processing chip sample No. 23 was obtained. Processing chip sample No. 22, 23
Both, flipped the water on the surface. Got reusable quality.
【0059】[0059]
【発明の効果】本発明の合成樹脂基材の回収方法によ
り、苛性アルカリの使用量を減量し、さらに処理時間を
短縮し、より安い処理コストで、基材上の異物を除去す
ることができる。又、基材の解重合を抑制し、再利用可
能な良品のポリカーボネート基材、写真用ポリエステル
フィルム等を比較的安価でかつ容易に回収することがで
きる。また、本発明の方法によって、銀またはハロゲン
化銀塩を塗布した三酢酸セルロース基材又はポリエステ
ル基材に対して、アルカリ水溶液を用いた処理液中に陰
電極を設け銀を還元するに充分な電圧(10ボルト以
下)を負荷するだけで、従来知られている異種化合物を
追添加することなく銀を回収し、処理槽内に付着する銀
含有スケールの発生を抑制することができる。According to the method for recovering a synthetic resin base material of the present invention, the amount of caustic alkali used can be reduced, the processing time can be further reduced, and foreign substances on the base material can be removed at a lower processing cost. . In addition, good-quality polycarbonate substrates and photographic polyester that can suppress the depolymerization of the substrate and can be reused
Films and the like can be collected relatively inexpensively and easily. Further, according to the method of the present invention, for a cellulose triacetate substrate or a polyester substrate coated with silver or a silver halide salt, a negative electrode is provided in a processing solution using an alkaline aqueous solution to reduce silver sufficiently. By simply applying a voltage (10 volts or less), silver can be recovered without adding a conventionally known different compound, and the generation of silver-containing scale adhering in the processing tank can be suppressed.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柴 恵輔 神奈川県南足柄市広町392番地 パナッ ク工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭53−70404(JP,A) 特開 平10−120820(JP,A) 特開 平9−141657(JP,A) 特開 平8−164524(JP,A) 特開 平7−205154(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08J 11/06 B29B 17/02 G11B 7/26 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Keisuke Shiba 392 Hiromachi, Minamiashigara-shi, Kanagawa Prefecture Inside of PANAK KOGYO CO., LTD. (JP, A) JP-A-9-141657 (JP, A) JP-A-8-164524 (JP, A) JP-A-7-205154 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7) , DB name) C08J 11/06 B29B 17/02 G11B 7/26
Claims (8)
けられた異質の層を105℃以上のアルカリ水溶液中で
除去した後、0.1質量%ないし10質量%の過酸化物
を含有する水溶液により処理することを特徴とする異質
の層の除去方法。1. After removing an extraneous layer provided on a substrate made of a synthetic resin in an alkaline aqueous solution at 105 ° C. or higher, 0.1 to 10% by mass of a peroxide
A method for removing a foreign layer, comprising treating with an aqueous solution containing :
105℃ないし150℃のアルカリ水溶液中で異質の層
を除去した後、65℃ないし95℃の過酸化物水溶液に
より処理する請求項1記載の除去方法。2. A layer which is different in an alkaline aqueous solution having a pH of 10 to 14 and a temperature of 105 ° C. to 150 ° C.
After removal of
The removal method according to claim 1, wherein the removal method is further performed.
から105℃以上のアルカリ水溶液中でその異質の層を
除去した後、0.1質量%ないし10質量%の過酸化物
を含有する水溶液により処理する工程を含むことを特徴
とするポリカーボネート基材の回収方法。3. After removing the extraneous layer from a polycarbonate substrate provided with the extraneous layer in an aqueous alkali solution at 105 ° C. or higher , 0.1 to 10% by mass of a peroxide is used.
A method for recovering a polycarbonate substrate, comprising a step of treating with an aqueous solution containing
層、下塗層、及び接着剤層よりなる群から選ばれた機能
層を少なくとも1層設けたポリカーボネート基材から、
pHが10ないし14であってかつ温度が105℃ない
し130℃のアルカリ水溶液中で該機能層を実質的に除
去する工程を含む請求項3記載のポリカーボネート基材
の回収方法。4. A dye-containing layer, a metal reflective layer, a photosensitive layer, a protective layer, subbing layer, and a polycarbonate substrate a functional layer selected from the group consisting of adhesive layer provided at least one layer,
The functional layer is substantially removed in an aqueous alkaline solution having a pH of 10 to 14 and a temperature of 105 to 130 ° C.
The method for recovering a polycarbonate substrate according to claim 3, comprising a step of removing .
とも2段階の新鮮なアルカリ水溶液により実施する請求
項3又は4記載のポリカーボネート基材の回収方法。5. The claims carried out by fresh alkaline aqueous solution of at least two steps removing step with an aqueous alkali solution
Item 5. The method for recovering a polycarbonate substrate according to item 3 or 4 .
00μmの写真用ポリエステルフィルムを105℃ない
し150℃のアルカリ水溶液中で処理する工程を含むこ
とを特徴とする写真用ポリエステルフィルムの回収方
法。 6. A film having a thickness of 10 μm to 2 provided with a foreign layer.
No polyester film for photographic use of 00μm at 105 ° C
And a step of treating in a 150 ° C. alkaline aqueous solution.
How to collect polyester film for photography
Law.
ルムを105℃ないし150℃のアルカリ水溶液中で処
理する工程を含む請求項6記載の写真用ポリエステルフ
ィルムの回収方法。7. A photographic polyester film having an undercoat layer.
Treated in an alkaline aqueous solution at 105 to 150 ° C.
7. The photographic polyester film according to claim 6, further comprising a step of
How to recover the film .
水性層が設けられた写真用ポリエステルフィルムをアル
カリ水溶液中で処理する請求項6又は7記載の写真用ポ
リエステルフィルムの回収方法。 8. The method of claim 1 , further comprising at least one parent layer on the undercoat layer.
A polyester film for photography with an aqueous layer
The photographic polish according to claim 6 or 7, wherein the photographic polish is processed in an aqueous potassium solution.
Method for collecting ester film.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001046344A JP3270037B2 (en) | 2000-02-22 | 2001-02-22 | Collection method for synthetic resin substrates |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000050445 | 2000-02-22 | ||
JP2000-50445 | 2000-02-22 | ||
JP2000050538 | 2000-02-22 | ||
JP2000-50538 | 2000-02-22 | ||
JP2001046344A JP3270037B2 (en) | 2000-02-22 | 2001-02-22 | Collection method for synthetic resin substrates |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001310970A JP2001310970A (en) | 2001-11-06 |
JP3270037B2 true JP3270037B2 (en) | 2002-04-02 |
Family
ID=27342487
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001046344A Expired - Lifetime JP3270037B2 (en) | 2000-02-22 | 2001-02-22 | Collection method for synthetic resin substrates |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3270037B2 (en) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3801914B2 (en) * | 2001-12-25 | 2006-07-26 | 富士写真フイルム株式会社 | How to reuse measurement tips |
JP3920139B2 (en) * | 2002-04-30 | 2007-05-30 | 忠史 甲本 | Water-absorbing polymer decomposing agent and method for decomposing water-absorbing polymer using the same |
JP4571587B2 (en) * | 2003-11-21 | 2010-10-27 | 株式会社クレハ | Recycling method of laminated moldings |
JP5315583B2 (en) | 2004-06-24 | 2013-10-16 | ソニー株式会社 | Recycling method of recovered disc, flame retardant resin composition, and flame retardant resin molded product |
JP2014133869A (en) * | 2012-12-14 | 2014-07-24 | Fujifilm Corp | Cellulose ester recovery method and solution film forming method |
JP6054837B2 (en) * | 2012-12-14 | 2016-12-27 | 富士フイルム株式会社 | Cellulose ester recovery method and solution casting method |
JP7196901B2 (en) * | 2020-12-16 | 2022-12-27 | 三菱ケミカル株式会社 | Polyester film recovery method, recovery device and functional layer remover |
JP7196900B2 (en) * | 2020-12-16 | 2022-12-27 | 三菱ケミカル株式会社 | Polyester film recovery method, recovery device and functional layer remover |
JP2021160350A (en) * | 2020-03-31 | 2021-10-11 | 三菱ケミカル株式会社 | Polyester film recovery method, recovery device, and functional layer removal agent |
JP7294308B2 (en) * | 2020-03-31 | 2023-06-20 | 三菱ケミカル株式会社 | Polyester recycling system and recycling method |
JP7196990B2 (en) * | 2020-12-16 | 2022-12-27 | 三菱ケミカル株式会社 | Polyester film recovery method, recovery device and functional layer remover |
WO2022190872A1 (en) * | 2021-03-11 | 2022-09-15 | Dic株式会社 | Separation and recovery method for laminated body comprising plastic film layer, and manufacturing method for regenerated plastic pellets using plastic debris recovered via said method |
WO2023189625A1 (en) * | 2022-03-31 | 2023-10-05 | 日東電工株式会社 | Functional layer removal method and functional layer removal device |
JP7392210B1 (en) * | 2022-09-06 | 2023-12-05 | Dic株式会社 | Separation and recovery method for plastic film and method for producing recycled plastic pellets |
WO2024053245A1 (en) * | 2022-09-06 | 2024-03-14 | Dic株式会社 | Method for separating and recovering plastic films and method for producing pellets of reclaimed plastic |
-
2001
- 2001-02-22 JP JP2001046344A patent/JP3270037B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001310970A (en) | 2001-11-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3270037B2 (en) | Collection method for synthetic resin substrates | |
JPH0260468B2 (en) | ||
US4544619A (en) | Photosensitive laminate | |
US6623564B2 (en) | Method of recovering synthetic substrates | |
JP3528898B2 (en) | How to recycle optical discs | |
JP3704899B2 (en) | Recycling method for disc-shaped information recording media | |
JPH07179652A (en) | Recycling method for waste silicone-polycarbonate part | |
JP3148363B2 (en) | Resin recovery method | |
JP2000241970A (en) | Photosensitive composition and photosensitive printing plate | |
JP2005264113A (en) | Method for recovering ester monomer from polyester film | |
JP2001287225A (en) | Method for recovering polycarbonate resin base material | |
JP4076845B2 (en) | Photosensitive transfer material | |
JP2001300939A (en) | Method for recovering cellulose ester and cellulose ester film | |
JPH07205154A (en) | Treating method for optical disk | |
JPH05181289A (en) | Removing method for organic film of organic photosensitive body, and regenerated base body for organic photosensitive body | |
JP2001350379A (en) | Recyclable image recording medium and method and device for recycling the same | |
JPS63260912A (en) | Photodegradable acrylic copolymer | |
US6086701A (en) | Process for the production of stamper | |
JP2002326019A (en) | Method for recycling washing water used when film is treated | |
JPH0465764B2 (en) | ||
JPH0663942A (en) | Recovery of resin | |
JP2966104B2 (en) | Resin recovery method | |
JP2002179835A (en) | Method for regenerating cellulose acetate film, regenerated cellulose acetate film and polarizing plate | |
WO1993002396A1 (en) | Process for processing subtractive offset plate | |
JPH0354557A (en) | Method for recovering substrate of photographic film |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3270037 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090118 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090118 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100118 Year of fee payment: 8 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100118 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110118 Year of fee payment: 9 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110118 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120118 Year of fee payment: 10 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130118 Year of fee payment: 11 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130118 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130118 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130118 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130118 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130118 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140118 Year of fee payment: 12 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |