JP3268885B2 - 光ピックアップ - Google Patents
光ピックアップInfo
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- JP3268885B2 JP3268885B2 JP11636193A JP11636193A JP3268885B2 JP 3268885 B2 JP3268885 B2 JP 3268885B2 JP 11636193 A JP11636193 A JP 11636193A JP 11636193 A JP11636193 A JP 11636193A JP 3268885 B2 JP3268885 B2 JP 3268885B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光磁気ディスク装置に使
用される光ピックアップに関する。
用される光ピックアップに関する。
【0002】
【従来の技術】光磁気ディスク装置は光磁気ディスクに
対してバイアス磁界発生回路からバイアス磁界を印加す
ると共に、対物レンズから光スポットを照射することに
より情報の記録,再生,消去を行っている。
対してバイアス磁界発生回路からバイアス磁界を印加す
ると共に、対物レンズから光スポットを照射することに
より情報の記録,再生,消去を行っている。
【0003】この光磁気ディスク装置において、対物レ
ンズのフォーカス方向又はトラッキングの駆動にはコイ
ルを有した磁気回路を用いた電磁駆動方式が用いられて
いる。この場合、磁気回路からの漏れ磁界があると、バ
イアス磁界発生回路からの磁界と合成され、光スポット
位置での磁界が変化するため、情報の記録,消去が十分
に行うことができないと共に、バイアス磁界発生回路の
消費電力量が大きくなるといった問題がある。
ンズのフォーカス方向又はトラッキングの駆動にはコイ
ルを有した磁気回路を用いた電磁駆動方式が用いられて
いる。この場合、磁気回路からの漏れ磁界があると、バ
イアス磁界発生回路からの磁界と合成され、光スポット
位置での磁界が変化するため、情報の記録,消去が十分
に行うことができないと共に、バイアス磁界発生回路の
消費電力量が大きくなるといった問題がある。
【0004】この問題を解決するため従来は特開昭63
−266643号公報が開示されている。図12はかか
る従来技術の構成を示し、バイアス磁界発生回路100
と駆動用の磁気回路110とが光磁気ディスク120を
挟むように配設されている。バイアス磁界発生回路10
0は中央部分のヨーク130と、このヨーク130に巻
回された界磁コイル140と、ヨーク130および界磁
コイル140を周囲から囲むヨーク150とを備えてい
る。このバイアス磁界発生回路100の界磁コイル14
0に通電することにより、光磁気ディスク120に対し
て垂直に磁界を作用させると共に、この通電の方向を反
転させることにより記録時と消去時とで逆方向の磁界を
作用させるものである。これに対し駆動用の磁気回路1
10に通電することにより対物レンズ(図示省略)がト
ラッキング方向またはフォーカス方向に移動して光磁気
ディスクに光ビームを照射する。この場合、駆動用の磁
気回路110においては漏れ磁束が発生するが、その磁
界の向きが光磁気ディスクに対して平行となっているた
め、記録,消去に必要な磁界に対して影響することがな
い。
−266643号公報が開示されている。図12はかか
る従来技術の構成を示し、バイアス磁界発生回路100
と駆動用の磁気回路110とが光磁気ディスク120を
挟むように配設されている。バイアス磁界発生回路10
0は中央部分のヨーク130と、このヨーク130に巻
回された界磁コイル140と、ヨーク130および界磁
コイル140を周囲から囲むヨーク150とを備えてい
る。このバイアス磁界発生回路100の界磁コイル14
0に通電することにより、光磁気ディスク120に対し
て垂直に磁界を作用させると共に、この通電の方向を反
転させることにより記録時と消去時とで逆方向の磁界を
作用させるものである。これに対し駆動用の磁気回路1
10に通電することにより対物レンズ(図示省略)がト
ラッキング方向またはフォーカス方向に移動して光磁気
ディスクに光ビームを照射する。この場合、駆動用の磁
気回路110においては漏れ磁束が発生するが、その磁
界の向きが光磁気ディスクに対して平行となっているた
め、記録,消去に必要な磁界に対して影響することがな
い。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来構造においては、光スポット位置の漏れ磁束は考
慮されているが、バイアス磁界発生回路100のヨーク
150に作用する磁束については考慮されていない。バ
イアス磁界発生回路100のヨーク150中には漏れ磁
束がQのように通る。この場合、界磁コイル140に通
電したときに、ヨーク150中に流れる磁束Rと一部分
が同じ磁路となる。このため、ヨーク150中の磁束密
度が大きくなり磁気飽和を生じやすい。これにより光ス
ポット付近に発生するバイアス磁界発生回路100から
の磁界強度が低下する。またはヨーク150の断面積を
大きくする必要があり、大型化するという不具合が生じ
る。又、いわゆる磁界変調記録方式においては、バイア
ス磁界発生回路を光スポットに近づけると共に小形にし
てインダクタンスを下げて発生磁界を高速で切り替える
必要がある。ところが、この方式に用いるバイアス磁界
発生回路においては対物レンズの駆動用の磁気回路に接
近しているか、あるいはヨークの断面積が小さいことか
ら磁気飽和しやすく、このため特に漏れ磁束の影響が大
きいという問題がある。
た従来構造においては、光スポット位置の漏れ磁束は考
慮されているが、バイアス磁界発生回路100のヨーク
150に作用する磁束については考慮されていない。バ
イアス磁界発生回路100のヨーク150中には漏れ磁
束がQのように通る。この場合、界磁コイル140に通
電したときに、ヨーク150中に流れる磁束Rと一部分
が同じ磁路となる。このため、ヨーク150中の磁束密
度が大きくなり磁気飽和を生じやすい。これにより光ス
ポット付近に発生するバイアス磁界発生回路100から
の磁界強度が低下する。またはヨーク150の断面積を
大きくする必要があり、大型化するという不具合が生じ
る。又、いわゆる磁界変調記録方式においては、バイア
ス磁界発生回路を光スポットに近づけると共に小形にし
てインダクタンスを下げて発生磁界を高速で切り替える
必要がある。ところが、この方式に用いるバイアス磁界
発生回路においては対物レンズの駆動用の磁気回路に接
近しているか、あるいはヨークの断面積が小さいことか
ら磁気飽和しやすく、このため特に漏れ磁束の影響が大
きいという問題がある。
【0006】本発明は、上記事情を考慮されてなされた
ものであり、対物レンズ駆動用の磁気回路からの漏れ磁
束の影響を受けにくいバイアス磁界発生回路を有する光
ピックアップを提供することを目的とする。
ものであり、対物レンズ駆動用の磁気回路からの漏れ磁
束の影響を受けにくいバイアス磁界発生回路を有する光
ピックアップを提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明は、界磁
コイルおよびヨークを有し光磁気ディスクにバイアス磁
界を発生させるバイアス磁界発生回路と、光磁気ディス
クに光ビームを集光させる対物レンズと、この対物レン
ズを支持する支持部を有すると共に対物レンズを光磁気
ディスクに対して垂直方向および/または平行方向に移
動させる磁気回路を有した駆動手段とを備えた光ピック
アップにおいて、前記界磁コイルへの通電による前記ヨ
ーク内を走行する磁束の方向と前記磁気回路が発生する
ヨーク付近の磁束の方向とが略直交するようにバイアス
磁界発生回路と磁気回路とを配設し、前記ヨークは閉磁
気回路からなることを特徴とする。
コイルおよびヨークを有し光磁気ディスクにバイアス磁
界を発生させるバイアス磁界発生回路と、光磁気ディス
クに光ビームを集光させる対物レンズと、この対物レン
ズを支持する支持部を有すると共に対物レンズを光磁気
ディスクに対して垂直方向および/または平行方向に移
動させる磁気回路を有した駆動手段とを備えた光ピック
アップにおいて、前記界磁コイルへの通電による前記ヨ
ーク内を走行する磁束の方向と前記磁気回路が発生する
ヨーク付近の磁束の方向とが略直交するようにバイアス
磁界発生回路と磁気回路とを配設し、前記ヨークは閉磁
気回路からなることを特徴とする。
【0008】
【実施例】図1ないし図7は、光磁気ディスクの記録再
生装置に適用した本発明の一実施例を示し、これらの図
において、XYZの座標は同一の座標を示している。
生装置に適用した本発明の一実施例を示し、これらの図
において、XYZの座標は同一の座標を示している。
【0009】図1に示すように、本実施例では、デッキ
ベース1上にスピンドルモータ2が固定されており、こ
のスピンドルモータ2によって光磁気ディスク3が回転
自在に軸支されている。また、デッキベース1上には、
後述するアクチュエータ22を備える可動部4がX方向
に移動可能に支持されている。
ベース1上にスピンドルモータ2が固定されており、こ
のスピンドルモータ2によって光磁気ディスク3が回転
自在に軸支されている。また、デッキベース1上には、
後述するアクチュエータ22を備える可動部4がX方向
に移動可能に支持されている。
【0010】可動部4の詳細な構成は図2に示すとおり
である。すなわち、アルミダイキャストで作成されたキ
ャリッジ20を備え、キャリッジ20のスピンドルモー
タ側には3本のビス21,21,21によってアクチュ
エータ22が配設されている。また、キャリッジ20の
環状の凹部20a内にはミラー45が対物レンズ40の
真下に位置するように設けられている。このキャリッジ
20のスピンドルモータの反対側の後方には、固定光学
系5が設けられている。この固定光学系5内には発光素
子および受光素子(図示省略)が配設されており、発光
素子から出射した光ビームを可動部4内に取り込んで、
ミラー45で反射し、対物レンズ40を介して光磁気デ
ィスク3に入射させ、この光磁気ディスク3で反射した
光をミラー45で反射して固定光学系5内の受光素子へ
導くようになっている。
である。すなわち、アルミダイキャストで作成されたキ
ャリッジ20を備え、キャリッジ20のスピンドルモー
タ側には3本のビス21,21,21によってアクチュ
エータ22が配設されている。また、キャリッジ20の
環状の凹部20a内にはミラー45が対物レンズ40の
真下に位置するように設けられている。このキャリッジ
20のスピンドルモータの反対側の後方には、固定光学
系5が設けられている。この固定光学系5内には発光素
子および受光素子(図示省略)が配設されており、発光
素子から出射した光ビームを可動部4内に取り込んで、
ミラー45で反射し、対物レンズ40を介して光磁気デ
ィスク3に入射させ、この光磁気ディスク3で反射した
光をミラー45で反射して固定光学系5内の受光素子へ
導くようになっている。
【0011】キャリッジ20のスピンドルモータの反対
側は上方に立ち上がっており、この立ち上がり部20b
の上側面20cには、バネ23の一端が2本のビス2
4,24によって固定されている。バネ23の他端に
は、光磁気ディスク3の情報記録面上に磁界を発生させ
るバイアス磁界発生回路25(図7参照)を備えたスラ
イダ26が固定されている。スライダ26は、回転する
光磁気ディスク3上に微小量浮上した状態となってい
る。対物レンズ40とスライダ26との間に光磁気ディ
スク3を挟む必要があるため、バネ23のX方向におけ
る長さ、およびキャリッジ20の立ち上がり部20bの
上側面20cと対物レンズ40との間のX方向における
長さは十分に長くなっている。なお、磁界変調を用いて
光磁気ディスク3に情報の記録を行う場合においてはバ
イアス磁界発生回路25のインダクタンスを下げる必要
があり、このため同回路25を小型にする必要がある。
側は上方に立ち上がっており、この立ち上がり部20b
の上側面20cには、バネ23の一端が2本のビス2
4,24によって固定されている。バネ23の他端に
は、光磁気ディスク3の情報記録面上に磁界を発生させ
るバイアス磁界発生回路25(図7参照)を備えたスラ
イダ26が固定されている。スライダ26は、回転する
光磁気ディスク3上に微小量浮上した状態となってい
る。対物レンズ40とスライダ26との間に光磁気ディ
スク3を挟む必要があるため、バネ23のX方向におけ
る長さ、およびキャリッジ20の立ち上がり部20bの
上側面20cと対物レンズ40との間のX方向における
長さは十分に長くなっている。なお、磁界変調を用いて
光磁気ディスク3に情報の記録を行う場合においてはバ
イアス磁界発生回路25のインダクタンスを下げる必要
があり、このため同回路25を小型にする必要がある。
【0012】キャリッジ20の上には、アクチュエータ
22を覆うカバー22aが固着されている。キャリッジ
20のY方向における両側面にはコの字状の凹部20
d,20dが形成されており、この凹部20d,20d
に、四面柱状に巻回されたコイル27,27がそれぞれ
固着されている。コイル27,27の中には図1に示す
ように、センターヨーク6,6が挿入されている。セン
ターヨーク6,6はそれぞれビス7,7,7,7によっ
てデッキベース1に固着されている。これらのセンター
ヨーク6,6には略コの字状のサイドヨーク8,8が当
接されており、このサイドヨーク8,8もそれぞれビス
9,9によってデッキベース1に固定されている。サイ
ドヨーク8,8の内側には、厚さ方向に着磁されたマグ
ネット10が図3に示すように異極を内側にして固着さ
れており、このマグネット10とセンターヨーク6,6
との間に磁気ギャップが形成されている。コイル27,
27に電流を流すと、磁気ギャップが形成されている部
分に位置するコイル27,27の一辺に対して、X方向
の力が発生して、可動部4がX方向に移動する。
22を覆うカバー22aが固着されている。キャリッジ
20のY方向における両側面にはコの字状の凹部20
d,20dが形成されており、この凹部20d,20d
に、四面柱状に巻回されたコイル27,27がそれぞれ
固着されている。コイル27,27の中には図1に示す
ように、センターヨーク6,6が挿入されている。セン
ターヨーク6,6はそれぞれビス7,7,7,7によっ
てデッキベース1に固着されている。これらのセンター
ヨーク6,6には略コの字状のサイドヨーク8,8が当
接されており、このサイドヨーク8,8もそれぞれビス
9,9によってデッキベース1に固定されている。サイ
ドヨーク8,8の内側には、厚さ方向に着磁されたマグ
ネット10が図3に示すように異極を内側にして固着さ
れており、このマグネット10とセンターヨーク6,6
との間に磁気ギャップが形成されている。コイル27,
27に電流を流すと、磁気ギャップが形成されている部
分に位置するコイル27,27の一辺に対して、X方向
の力が発生して、可動部4がX方向に移動する。
【0013】キャリッジ20の下側面には、FPC(フ
レキシブル回路基板)28の一端28aが固定されてい
る。このFPC28は屈曲部28bを介してY方向に延
設しており、その延設端28cがデッキベース1上に固
定されている。FPC28は、その屈曲部28bが可動
部4とスピンドルモータ2との間に位置するように配設
されているため、固定光学系5から出射する光束と干渉
することはない。このFPC28によって、コイル27
およびアクチュエータ22への電気的接続を行う。ま
た、キャリッジ20の立ち上がり部20bの側面20e
には、別のFPC29の一端が取り付けられている。こ
のFPC29の他端には図1に示すように、固定光学系
5に固着されているL字状のプレート30が固定されて
いる。このFPC29を介して、バイアス磁界発生回路
25およびスライダ26あるいはバネ23に取り付けた
スライダ26等の異常を検出するAEセンサ(図示省
略)との電気的接続が行われる。ここでFPC29は、
固定光学系5から出射する光束の上側に配置されている
ため、光束と干渉することはない。
レキシブル回路基板)28の一端28aが固定されてい
る。このFPC28は屈曲部28bを介してY方向に延
設しており、その延設端28cがデッキベース1上に固
定されている。FPC28は、その屈曲部28bが可動
部4とスピンドルモータ2との間に位置するように配設
されているため、固定光学系5から出射する光束と干渉
することはない。このFPC28によって、コイル27
およびアクチュエータ22への電気的接続を行う。ま
た、キャリッジ20の立ち上がり部20bの側面20e
には、別のFPC29の一端が取り付けられている。こ
のFPC29の他端には図1に示すように、固定光学系
5に固着されているL字状のプレート30が固定されて
いる。このFPC29を介して、バイアス磁界発生回路
25およびスライダ26あるいはバネ23に取り付けた
スライダ26等の異常を検出するAEセンサ(図示省
略)との電気的接続が行われる。ここでFPC29は、
固定光学系5から出射する光束の上側に配置されている
ため、光束と干渉することはない。
【0014】また、FPC29の他端29aには、バイ
アス磁界発生回路25の駆動用の回路およびAEセンサ
(図示省略)のプリアンプ回路を含む電気回路31が配
設されている(図2参照)従って、バイアス磁界発生回
路25やAEセンサ(図示省略)と、この電気回路31
との距離が短くなるためノイズが発生しにくくなる。ま
た、可動部4全体の質量も小さくなる。なお、可動部4
の駆動感度に余裕がある場合には、この電気回路31を
FPC29のキャリッジ20側の端部29cに配設する
ようにしても良く、これによりノイズの発生をより一層
抑制することができる。
アス磁界発生回路25の駆動用の回路およびAEセンサ
(図示省略)のプリアンプ回路を含む電気回路31が配
設されている(図2参照)従って、バイアス磁界発生回
路25やAEセンサ(図示省略)と、この電気回路31
との距離が短くなるためノイズが発生しにくくなる。ま
た、可動部4全体の質量も小さくなる。なお、可動部4
の駆動感度に余裕がある場合には、この電気回路31を
FPC29のキャリッジ20側の端部29cに配設する
ようにしても良く、これによりノイズの発生をより一層
抑制することができる。
【0015】キャリッジ20のY方向における一方の端
部には、ベアリング取り付け部20fが2箇所設けられ
ており、この取り付け部20f,20fに、それぞれ外
輪がV字状のベアリング32,32の軸が圧入されてい
る。また、キャリッジ20のY方向における他方の端部
には、斜め方向にベアリングを取り付けるベアリング取
り付け部20gが形成されている。この取り付け部20
gには外輪が円筒状のベアリング33の軸が圧入されて
いる。このベアリング33は、図3に示すように軸33
aとX−Y平面とでなす角δを45°より大きくなるよ
うに(例えば50°)する。またキャリッジ20のこの
取り付け部20gの下側には、予圧バネ35がビス35
aを介して取り付けられており、この予圧バネ35の先
端に外輪が円筒状のベアリング36が圧入されている。
部には、ベアリング取り付け部20fが2箇所設けられ
ており、この取り付け部20f,20fに、それぞれ外
輪がV字状のベアリング32,32の軸が圧入されてい
る。また、キャリッジ20のY方向における他方の端部
には、斜め方向にベアリングを取り付けるベアリング取
り付け部20gが形成されている。この取り付け部20
gには外輪が円筒状のベアリング33の軸が圧入されて
いる。このベアリング33は、図3に示すように軸33
aとX−Y平面とでなす角δを45°より大きくなるよ
うに(例えば50°)する。またキャリッジ20のこの
取り付け部20gの下側には、予圧バネ35がビス35
aを介して取り付けられており、この予圧バネ35の先
端に外輪が円筒状のベアリング36が圧入されている。
【0016】図1に示すように、センターヨーク6,6
の内側に基準ガイドレール11a,11bがそれぞれ2
本のサラビス12a,12a,12b,12bによって
デッキベース1に固定されている。ガイドレール11
a,11bはそれぞれキャリッジ20のX方向に設けた
開口部20h(図2参照)に相対的な移動可能なように
挿入されている。基準側のガイドレール11aは、2つ
のベアリング32,32のV字状の外輪に当接してお
り、従動側のガイドレール11bにはベアリング33の
外輪が当接すると共に、ベアリング36が予圧を与えな
がら当接している。このような構造により、可動部4
は、4つのベアリング32,32,33,36と2本の
ガイドレール11a,11bによってX方向に移動可能
に支持される。
の内側に基準ガイドレール11a,11bがそれぞれ2
本のサラビス12a,12a,12b,12bによって
デッキベース1に固定されている。ガイドレール11
a,11bはそれぞれキャリッジ20のX方向に設けた
開口部20h(図2参照)に相対的な移動可能なように
挿入されている。基準側のガイドレール11aは、2つ
のベアリング32,32のV字状の外輪に当接してお
り、従動側のガイドレール11bにはベアリング33の
外輪が当接すると共に、ベアリング36が予圧を与えな
がら当接している。このような構造により、可動部4
は、4つのベアリング32,32,33,36と2本の
ガイドレール11a,11bによってX方向に移動可能
に支持される。
【0017】図3の断面図で示すとおり、2本のガイド
レール11a,11bのZ方向における高さを比べた場
合、従動側のガイドレール11bの方がZ1 だけ高くな
っている。また、2本のガイドレール11a,11bの
それぞれの中心を結ぶ線の中点Sは、X方向から見ると
対物レンズ40の光軸上にある。ガイドレール11a,
11bをZ方向にずらせて配置するのは、基準側のガイ
ドレール11aに当接しているベアリング32,32に
スラスト方向の荷重を与え、ベアリング32,32自体
のガタをなくすためである。従動側のガイドレール11
bがZ方向において高くなっているため、これに当接し
ているベアリング33のZ方向における位置も高くなっ
て、その上端部が光磁気ディスク3に近づいてしまう
が、この実施例では、上述した通り、ベアリング33を
XY平面に対して45°よりも大きい角度である50°
に傾斜させて配置することによって、上端部が光磁気デ
ィスク3に近づくことを防ぐようにしている。
レール11a,11bのZ方向における高さを比べた場
合、従動側のガイドレール11bの方がZ1 だけ高くな
っている。また、2本のガイドレール11a,11bの
それぞれの中心を結ぶ線の中点Sは、X方向から見ると
対物レンズ40の光軸上にある。ガイドレール11a,
11bをZ方向にずらせて配置するのは、基準側のガイ
ドレール11aに当接しているベアリング32,32に
スラスト方向の荷重を与え、ベアリング32,32自体
のガタをなくすためである。従動側のガイドレール11
bがZ方向において高くなっているため、これに当接し
ているベアリング33のZ方向における位置も高くなっ
て、その上端部が光磁気ディスク3に近づいてしまう
が、この実施例では、上述した通り、ベアリング33を
XY平面に対して45°よりも大きい角度である50°
に傾斜させて配置することによって、上端部が光磁気デ
ィスク3に近づくことを防ぐようにしている。
【0018】また、図2に示すように、従動側のガイド
レール11bに当接しているベアリング33,36は、
アクチュエータ22に対してX方向にずらせた位置に配
設しているため、これらのベアリングをY方向において
より中心寄りに位置させることができ、この結果、可動
部4全体のY方向の寸法を小さくして、可動部4の軽量
化を実現することができる。また、このようにベアリン
グ33,36をY方向において中心よりに位置させた結
果、図3に示すように、ベアリング33を、光磁気ディ
スク3のカートリッジ3aの開口部3bの中に位置させ
ることができるため、ベアリング33とカートリッジ3
aの開口部3bの中に位置させることができるため、ベ
アリング33とカートリッジ3aとの干渉を防ぐことが
できる。また、基準側ガイドレール11aと、従動側ガ
イドレール11bとのZ方向のずれZ1 を確保したまま
で、ガイドレールの中点Sを光磁気ディスク3側に近づ
けることになり、可動部4のZ方向の寸法を小さくする
ことができる。
レール11bに当接しているベアリング33,36は、
アクチュエータ22に対してX方向にずらせた位置に配
設しているため、これらのベアリングをY方向において
より中心寄りに位置させることができ、この結果、可動
部4全体のY方向の寸法を小さくして、可動部4の軽量
化を実現することができる。また、このようにベアリン
グ33,36をY方向において中心よりに位置させた結
果、図3に示すように、ベアリング33を、光磁気ディ
スク3のカートリッジ3aの開口部3bの中に位置させ
ることができるため、ベアリング33とカートリッジ3
aの開口部3bの中に位置させることができるため、ベ
アリング33とカートリッジ3aとの干渉を防ぐことが
できる。また、基準側ガイドレール11aと、従動側ガ
イドレール11bとのZ方向のずれZ1 を確保したまま
で、ガイドレールの中点Sを光磁気ディスク3側に近づ
けることになり、可動部4のZ方向の寸法を小さくする
ことができる。
【0019】また、サイドヨーク8,8に当接させたマ
グネット10のZ方向における中心は、センターヨーク
6,6、サイドヨーク8,8およびコイル27,27の
Z方向における中心に対してZ2 だけ高くなっている。
したがって、センターヨーク6,6とマグネット10と
の間に存在する磁気ギャップ中の、コイル27,27に
作用する磁束の磁束密度中心fは、センターヨーク6の
Z方向の中心に対してほぼZ2 ×1/2だけ高い位置に
存在することになる。この磁束密度の中心fが、1個の
コイル27に発生するX方向の駆動力の駆動中心であ
り、2個のコイル27,27に発生するX方向の駆動力
の駆動中心Fは、図3に示すように、X方向から見て対
物レンズ40の光軸上にあり、前述のガイドレール11
a,11bの中点Sと一致している。また、可動部4の
重心Gもこのコイル27,27の駆動中心Fと一致して
いる。このように、本実施例においてはコイル27,2
7の駆動中心FのZ方向における高さが、センターヨー
ク6,6、サイドヨーク8,8、コイル27,27のZ
方向における高さとマグネット10の高さとが一致して
いる場合に比べて、Z2 ×1/2だけ光磁気ディスク3
側に近づけることができる。
グネット10のZ方向における中心は、センターヨーク
6,6、サイドヨーク8,8およびコイル27,27の
Z方向における中心に対してZ2 だけ高くなっている。
したがって、センターヨーク6,6とマグネット10と
の間に存在する磁気ギャップ中の、コイル27,27に
作用する磁束の磁束密度中心fは、センターヨーク6の
Z方向の中心に対してほぼZ2 ×1/2だけ高い位置に
存在することになる。この磁束密度の中心fが、1個の
コイル27に発生するX方向の駆動力の駆動中心であ
り、2個のコイル27,27に発生するX方向の駆動力
の駆動中心Fは、図3に示すように、X方向から見て対
物レンズ40の光軸上にあり、前述のガイドレール11
a,11bの中点Sと一致している。また、可動部4の
重心Gもこのコイル27,27の駆動中心Fと一致して
いる。このように、本実施例においてはコイル27,2
7の駆動中心FのZ方向における高さが、センターヨー
ク6,6、サイドヨーク8,8、コイル27,27のZ
方向における高さとマグネット10の高さとが一致して
いる場合に比べて、Z2 ×1/2だけ光磁気ディスク3
側に近づけることができる。
【0020】また、コイル27,27のZ方向の中心よ
りも、駆動中心Fの高さが、光磁気ディスク3に近いた
め、コイル27,27自体をバランサとして作用させる
ことができる。従って、アクチュエータ22、バネ23
等が、駆動中心Fよりも光磁気ディスク3側に位置して
るために、可動部4の重心と駆動中心Fとを一致させる
のに必要なバランサの質量を小さくするか、あるいはバ
ランサをなくすことが可能となる。この結果、可動部4
全体を軽量化して駆動感度を高めることができると共
に、可動部4のZ方向の厚みを薄くして装置全体の小型
化を図ることができる。
りも、駆動中心Fの高さが、光磁気ディスク3に近いた
め、コイル27,27自体をバランサとして作用させる
ことができる。従って、アクチュエータ22、バネ23
等が、駆動中心Fよりも光磁気ディスク3側に位置して
るために、可動部4の重心と駆動中心Fとを一致させる
のに必要なバランサの質量を小さくするか、あるいはバ
ランサをなくすことが可能となる。この結果、可動部4
全体を軽量化して駆動感度を高めることができると共
に、可動部4のZ方向の厚みを薄くして装置全体の小型
化を図ることができる。
【0021】本実施例においては、基準側ガイドレール
11aに当接させるベアリングとして、外輪形状がV字
状のベアリング32,32を2個用いるようにしている
ので、外輪形状が円筒状のベアリングを4個用いる場合
に比して、ベアリングの数が少なくてすみ、低コスト化
を図ることができる。また、従動側ガイドレール11b
に対しては、外輪形状が円筒状のベアリング33,36
を組み合わせて、ベアリング36を予圧するようにして
いる。従動側ガイドレール11bに対して、外輪形状が
V字状のベアリング1個で、このベアリングを予圧バネ
で保持して予圧をかけるようにすると、外部の振動や予
圧バネの共振によりベアリングが変位して、可動部4が
所望しない方向に動いてしまうが、本実施例のように構
成すると、ベアリング33が固定されているため、予圧
バネ35が共振しても可動部4には共振が生じにくくな
る。
11aに当接させるベアリングとして、外輪形状がV字
状のベアリング32,32を2個用いるようにしている
ので、外輪形状が円筒状のベアリングを4個用いる場合
に比して、ベアリングの数が少なくてすみ、低コスト化
を図ることができる。また、従動側ガイドレール11b
に対しては、外輪形状が円筒状のベアリング33,36
を組み合わせて、ベアリング36を予圧するようにして
いる。従動側ガイドレール11bに対して、外輪形状が
V字状のベアリング1個で、このベアリングを予圧バネ
で保持して予圧をかけるようにすると、外部の振動や予
圧バネの共振によりベアリングが変位して、可動部4が
所望しない方向に動いてしまうが、本実施例のように構
成すると、ベアリング33が固定されているため、予圧
バネ35が共振しても可動部4には共振が生じにくくな
る。
【0022】図4,図5および図6を用いてアクチュエ
ータ22について説明する。図4はアクチュエータ22
の全体の構成を示す斜視図、図5はアクチュエータ22
の分解斜視図、図6は図5の分解斜視図をZ方向におけ
る逆方向から見た図である。
ータ22について説明する。図4はアクチュエータ22
の全体の構成を示す斜視図、図5はアクチュエータ22
の分解斜視図、図6は図5の分解斜視図をZ方向におけ
る逆方向から見た図である。
【0023】レンズホルダ41の中央に対物レンズ40
が固着されている。レンズホルダ41のY方向における
両端には凹部41a,41aがそれぞれ形成されてお
り、これらの凹部41a,41a中に、4角柱状に巻回
されたフォーカスコイル42,42が配設されている。
凹部41a,41aは、それぞれ底面41b、側面41
cおよび底面41bのX方向における両端部から上側に
突出させた凸部41dを備えており、フォーカスコイル
42,42の底面が凹部41a,41aの底面41b
に、外周3面が側面41cに、内側面が凸部41dによ
って、それぞれ位置決めされ、固着されている。フォー
カスコイル42の残りの外周側面にはトラッキングコイ
ル43,43がそれぞれ固着されている。これらのトラ
ッキングコイル43,43はX方向において互いに逆方
向にずれて配設されている。なお、凸部41dは、後述
するヨーク54のX方向における側面と当接されること
により、レンズホルダ41のX方向のストッパとして作
用する。
が固着されている。レンズホルダ41のY方向における
両端には凹部41a,41aがそれぞれ形成されてお
り、これらの凹部41a,41a中に、4角柱状に巻回
されたフォーカスコイル42,42が配設されている。
凹部41a,41aは、それぞれ底面41b、側面41
cおよび底面41bのX方向における両端部から上側に
突出させた凸部41dを備えており、フォーカスコイル
42,42の底面が凹部41a,41aの底面41b
に、外周3面が側面41cに、内側面が凸部41dによ
って、それぞれ位置決めされ、固着されている。フォー
カスコイル42の残りの外周側面にはトラッキングコイ
ル43,43がそれぞれ固着されている。これらのトラ
ッキングコイル43,43はX方向において互いに逆方
向にずれて配設されている。なお、凸部41dは、後述
するヨーク54のX方向における側面と当接されること
により、レンズホルダ41のX方向のストッパとして作
用する。
【0024】レンズホルダ41の底面には、ホルダの外
周に沿ってコの字型に形成されたバランサ44が固着さ
れている。このバランサ44はリン青銅板により作製さ
れている。図5に示すように、レンズホルダ41の一辺
およびバランサ44の一辺には円弧状の凸部41eおよ
び凸部44aがそれぞれ形成されており、固定光学系5
(図1参照)から発せられた光ビームはこの凸部44a
の直下を通ってミラー45(図2参照)へ入射する。バ
ランサ44は、レンズホルダ41の底面の外周にほぼ沿
うように固着されているので、レンズホルダ41のX軸
回りのねじれ剛性を高め、共振周波数を高くする。ま
た、レンズホルダ41に形成した凸部41eもレンズホ
ルダ41の剛性を高めるように作用する。また、レンズ
ホルダ41の底面側には、ミラー45を設置するための
四角状の凹部41jが形成されており、対物レンズ40
とミラー45とを近付けるようになっている。
周に沿ってコの字型に形成されたバランサ44が固着さ
れている。このバランサ44はリン青銅板により作製さ
れている。図5に示すように、レンズホルダ41の一辺
およびバランサ44の一辺には円弧状の凸部41eおよ
び凸部44aがそれぞれ形成されており、固定光学系5
(図1参照)から発せられた光ビームはこの凸部44a
の直下を通ってミラー45(図2参照)へ入射する。バ
ランサ44は、レンズホルダ41の底面の外周にほぼ沿
うように固着されているので、レンズホルダ41のX軸
回りのねじれ剛性を高め、共振周波数を高くする。ま
た、レンズホルダ41に形成した凸部41eもレンズホ
ルダ41の剛性を高めるように作用する。また、レンズ
ホルダ41の底面側には、ミラー45を設置するための
四角状の凹部41jが形成されており、対物レンズ40
とミラー45とを近付けるようになっている。
【0025】レンズホルダ41のX方向における両端に
は、突出部41f,41fが形成されており、これらの
突起41f,41fの上下両面に溝41g,41gを形
成して、これらの溝に板状のバネ46,46,47,4
7のそれぞれの一端部46a,46a,47a,47a
を固着している。これらのバネの一端部46a,46
a,47a,47aは、またフォーカスコイル42およ
びトラッキングコイル43の端末(図示省略)と直接半
田付けされている。バネ46,46,47,47の他端
部46b,46b,47b,47bは、保持部材48の
上端部のX方向における両端部に形成された溝48a,
48a,48b,48bにそれぞれ半田付けにより固定
されている。プラスチックで成形された保持部材48の
これらの溝48a,48a,48b,48bおよび保持
部材48の背面側には、銅によってパターンを形成し
て、バネ46,46,47,47への電気的接続を取る
ようにしている。従って、ここではFPCが不要とな
り、FPCの変形などによってバネに応力がかかるとい
う問題を防ぐことができる。
は、突出部41f,41fが形成されており、これらの
突起41f,41fの上下両面に溝41g,41gを形
成して、これらの溝に板状のバネ46,46,47,4
7のそれぞれの一端部46a,46a,47a,47a
を固着している。これらのバネの一端部46a,46
a,47a,47aは、またフォーカスコイル42およ
びトラッキングコイル43の端末(図示省略)と直接半
田付けされている。バネ46,46,47,47の他端
部46b,46b,47b,47bは、保持部材48の
上端部のX方向における両端部に形成された溝48a,
48a,48b,48bにそれぞれ半田付けにより固定
されている。プラスチックで成形された保持部材48の
これらの溝48a,48a,48b,48bおよび保持
部材48の背面側には、銅によってパターンを形成し
て、バネ46,46,47,47への電気的接続を取る
ようにしている。従って、ここではFPCが不要とな
り、FPCの変形などによってバネに応力がかかるとい
う問題を防ぐことができる。
【0026】バネ46,46,47,47は、ベリリウ
ム銅板をエッチング加工して形成し、部分的にダンパ4
9,49,49,49で被覆している。これらのバネ4
6,46,47,47によって、レンズホルダ41をX
およびZ方向に移動可能に保持するようにしている。こ
れらのバネ46,46,47,47は、X方向に内側に
向けて屈曲しており、左右のバネ46と47との間隔
は、レンズホルダ41側の端部46a,46a,47
a,47aの間隔に比べて、保持部材48側の端部46
b,46b,47b,47bの間隔が広くなるように構
成されている。このように構成することにより、レンズ
ホルダ41側のX方向の寸法が小さくなると共に、Y軸
回りのねじれ剛性を高めることができる。
ム銅板をエッチング加工して形成し、部分的にダンパ4
9,49,49,49で被覆している。これらのバネ4
6,46,47,47によって、レンズホルダ41をX
およびZ方向に移動可能に保持するようにしている。こ
れらのバネ46,46,47,47は、X方向に内側に
向けて屈曲しており、左右のバネ46と47との間隔
は、レンズホルダ41側の端部46a,46a,47
a,47aの間隔に比べて、保持部材48側の端部46
b,46b,47b,47bの間隔が広くなるように構
成されている。このように構成することにより、レンズ
ホルダ41側のX方向の寸法が小さくなると共に、Y軸
回りのねじれ剛性を高めることができる。
【0027】保持部材48の底面には、図6に示すよう
に、2個のボス48fが形成されており、このポス48
fをベース50に穿った穴50a,50aに係合させ
て、保持部材48をベース50上に位置決めする。保持
部材48には、連結部48cを経てハウジング48dが
一体的に成形されている。ハウジング48dには、凹部
48eが形成されており、アクチュエータ22を組み立
てたときに、レンズホルダ41の突出部41fの一方の
先端に設けたフラグ41hがこの凹部48eに位置す
る。ハウジング48d内には、LED(発光ダイオー
ド)51とPD(フォトダイオード)52とが固着され
ており、PD52の受光面は、X方向に2分割されてい
る。LED51からY方向に射出した光は、前記フラグ
41hで中央部を遮光されて、PD52に入射するた
め、フラグ41hの陰はPD52の分割線上にあること
になる。したがってPD52の受光面の出力の差を取る
ことによってフラグ41h、すなわち対物レンズ40の
X方向における位置情報、あるいは移動速度の情報を得
ることができる。
に、2個のボス48fが形成されており、このポス48
fをベース50に穿った穴50a,50aに係合させ
て、保持部材48をベース50上に位置決めする。保持
部材48には、連結部48cを経てハウジング48dが
一体的に成形されている。ハウジング48dには、凹部
48eが形成されており、アクチュエータ22を組み立
てたときに、レンズホルダ41の突出部41fの一方の
先端に設けたフラグ41hがこの凹部48eに位置す
る。ハウジング48d内には、LED(発光ダイオー
ド)51とPD(フォトダイオード)52とが固着され
ており、PD52の受光面は、X方向に2分割されてい
る。LED51からY方向に射出した光は、前記フラグ
41hで中央部を遮光されて、PD52に入射するた
め、フラグ41hの陰はPD52の分割線上にあること
になる。したがってPD52の受光面の出力の差を取る
ことによってフラグ41h、すなわち対物レンズ40の
X方向における位置情報、あるいは移動速度の情報を得
ることができる。
【0028】保持部材48の連結部48cは上下のバネ
46,47の間に位置するため、この連結部48cによ
って、アクチュエータ22の外形を大きくすることはな
い。
46,47の間に位置するため、この連結部48cによ
って、アクチュエータ22の外形を大きくすることはな
い。
【0029】バネ46,46,47,47は、レンズホ
ルダ41と保持部材48とをそれぞれ治具を用いて位置
決めした状態で組み付ける。また、レンズホルダ41の
フラグ41hはレンズホルダ41と一体成形され、ハウ
ジング48dも保持部材48と一体成形されるので、L
ED51,PD52,フラグ41hの相互の位置精度が
良くなり、PD52の差出力にオフセットが生じにく
い。このように構成されているため、組み立ての際の位
置調整作業が不要になる。また、この対物レンズ40の
位置センサ部(フラグ41h,LED51,PD52)
は、ミラー45に関して固定光学系5と反対側に位置し
ているので、ミラー45と固定光学系5との間の光束を
干渉することがなく、位置センサ部の配置が容易となっ
ている。
ルダ41と保持部材48とをそれぞれ治具を用いて位置
決めした状態で組み付ける。また、レンズホルダ41の
フラグ41hはレンズホルダ41と一体成形され、ハウ
ジング48dも保持部材48と一体成形されるので、L
ED51,PD52,フラグ41hの相互の位置精度が
良くなり、PD52の差出力にオフセットが生じにく
い。このように構成されているため、組み立ての際の位
置調整作業が不要になる。また、この対物レンズ40の
位置センサ部(フラグ41h,LED51,PD52)
は、ミラー45に関して固定光学系5と反対側に位置し
ているので、ミラー45と固定光学系5との間の光束を
干渉することがなく、位置センサ部の配置が容易となっ
ている。
【0030】ベース50は、一枚の鉄板をプレス成型し
て形成する。X方向に延在する4つのヨーク53,5
3,54,54がZ方向に立ち上がっており、外側のヨ
ーク53,53の内側面には、厚さ方向に着磁されたマ
グネット55,56がそれぞれ異極を内側にして固着さ
れている。このマグネット55,56と内側のヨーク5
4,54との間に磁気ギャップが形成される。なお、外
側のヨーク53,53のX方向における一側部は内側に
折り曲げられて、ヨーク53aを形成している。図4に
示すように、アクチュエータ22を組み立てると、トラ
ッキングコイル43の一辺43a,43aがそれぞれマ
グネット55,56に対向し、他方の一辺43b,43
bはそれぞれヨーク53a,53aに対向する位置にな
る。前記磁気ギャップ中の磁束の方向は、トラッキング
コイル43の一辺と他の一辺43bとの間ではY方向に
おいて逆向きになるため、これらの辺43a,43bに
発生する力はX方向において同じ向きになる。またフォ
ーカスコイル42の一辺も、この磁気ギャップ中に位置
しており、Z方向に力が発生する。
て形成する。X方向に延在する4つのヨーク53,5
3,54,54がZ方向に立ち上がっており、外側のヨ
ーク53,53の内側面には、厚さ方向に着磁されたマ
グネット55,56がそれぞれ異極を内側にして固着さ
れている。このマグネット55,56と内側のヨーク5
4,54との間に磁気ギャップが形成される。なお、外
側のヨーク53,53のX方向における一側部は内側に
折り曲げられて、ヨーク53aを形成している。図4に
示すように、アクチュエータ22を組み立てると、トラ
ッキングコイル43の一辺43a,43aがそれぞれマ
グネット55,56に対向し、他方の一辺43b,43
bはそれぞれヨーク53a,53aに対向する位置にな
る。前記磁気ギャップ中の磁束の方向は、トラッキング
コイル43の一辺と他の一辺43bとの間ではY方向に
おいて逆向きになるため、これらの辺43a,43bに
発生する力はX方向において同じ向きになる。またフォ
ーカスコイル42の一辺も、この磁気ギャップ中に位置
しており、Z方向に力が発生する。
【0031】ベース50の下面には、FPC55が貼付
されており、ベース50に設けた穴50b,50bを通
るLED51,PD52の端子と半田付けされて、これ
らの素子の電気的接続を図る。また、ベース50のX方
向の一端部は、直角に上方向に曲げられて、補強部50
cを形成しており、他端部は、下側が円弧状に切り欠か
れた光束にげ50dが形成されている。固定光学系5か
ら出射した光はこの光束にげ50dの直下を通ってミラ
ー45に入射する。
されており、ベース50に設けた穴50b,50bを通
るLED51,PD52の端子と半田付けされて、これ
らの素子の電気的接続を図る。また、ベース50のX方
向の一端部は、直角に上方向に曲げられて、補強部50
cを形成しており、他端部は、下側が円弧状に切り欠か
れた光束にげ50dが形成されている。固定光学系5か
ら出射した光はこの光束にげ50dの直下を通ってミラ
ー45に入射する。
【0032】図3に示すように、マグネット10は異極
を向かい合わせ、各々N極をY(−)側に向けている。
このマグネット10,センターヨーク6,サイドヨーク
8から成る2組の磁気回路からのバイアス磁界発生回路
25付近の漏れ磁束60はY軸にほぼ平行でY(−)側
に向いている。また、アクチュエータ22のマグネット
55,56は、各々N極をY(+)側に向けている。こ
のマグネット55,56,ベース50から構成される磁
気回路からのバイアス磁界発生回路25付近の漏れ磁束
61はY軸にほぼ平行でY(+)側に向いている。
を向かい合わせ、各々N極をY(−)側に向けている。
このマグネット10,センターヨーク6,サイドヨーク
8から成る2組の磁気回路からのバイアス磁界発生回路
25付近の漏れ磁束60はY軸にほぼ平行でY(−)側
に向いている。また、アクチュエータ22のマグネット
55,56は、各々N極をY(+)側に向けている。こ
のマグネット55,56,ベース50から構成される磁
気回路からのバイアス磁界発生回路25付近の漏れ磁束
61はY軸にほぼ平行でY(+)側に向いている。
【0033】図7はバイアス磁界発生回路25を示し、
フェライトにより略E字状に成形されたヨーク65のセ
ンターポール65aに界磁コイル66が巻回されてい
る。またセンターポール65aの両側にはサイドヨーク
65bが近接配置されている。かかるバイアス磁界発生
回路25はヨーク65の厚み方向がY軸と平行となるよ
うにスライダ26に取付けられている。このようなバイ
アス磁界発生回路25の界磁コイル66に通電すると、
メインポール65aからサイドヨーク65bを通ってヨ
ーク65の外側を回りメインポール65aに達する磁路
が形成される。かかる磁路の磁束62はXZ平面に略平
行で且つY軸に垂直となっており、ヨーク65付近にお
けるマグネット10,マグネット55,56を含む漏れ
磁束60,61と直交している。従って漏れ磁束60,
61はヨーク65の中を通るが、ヨーク65の中を通る
バイアス磁界発生回路25の磁束62の方向と直交し、
磁気飽和することがなくなる。
フェライトにより略E字状に成形されたヨーク65のセ
ンターポール65aに界磁コイル66が巻回されてい
る。またセンターポール65aの両側にはサイドヨーク
65bが近接配置されている。かかるバイアス磁界発生
回路25はヨーク65の厚み方向がY軸と平行となるよ
うにスライダ26に取付けられている。このようなバイ
アス磁界発生回路25の界磁コイル66に通電すると、
メインポール65aからサイドヨーク65bを通ってヨ
ーク65の外側を回りメインポール65aに達する磁路
が形成される。かかる磁路の磁束62はXZ平面に略平
行で且つY軸に垂直となっており、ヨーク65付近にお
けるマグネット10,マグネット55,56を含む漏れ
磁束60,61と直交している。従って漏れ磁束60,
61はヨーク65の中を通るが、ヨーク65の中を通る
バイアス磁界発生回路25の磁束62の方向と直交し、
磁気飽和することがなくなる。
【0034】以上のことから磁束62が通る方向のヨー
ク65の断面積を小さくすることができ、インダクタン
スを小さくできると共に、光スポット位置上のバイアス
磁界を大きくすることができる。しかも磁束60,61
は向きが逆方向であるため、相互にキャンセルされ、こ
れによりヨーク65付近の漏れ磁束が小さくなってい
る。
ク65の断面積を小さくすることができ、インダクタン
スを小さくできると共に、光スポット位置上のバイアス
磁界を大きくすることができる。しかも磁束60,61
は向きが逆方向であるため、相互にキャンセルされ、こ
れによりヨーク65付近の漏れ磁束が小さくなってい
る。
【0035】図8〜図10は本発明の別の実施例を示
す。図8は本実施例のアクチュエータの分解斜視図、図
9はアクチュエータの上面図、図10はアクチュエータ
の磁気回路とバイアス磁界発生回路25を示す斜視図で
ある。
す。図8は本実施例のアクチュエータの分解斜視図、図
9はアクチュエータの上面図、図10はアクチュエータ
の磁気回路とバイアス磁界発生回路25を示す斜視図で
ある。
【0036】本実施例においては、実施例1に対してア
クチュエータとバイアス磁界発生回路25のヨーク65
の向きが異なっている。対物レンズ40は、Z方向から
見てほぼ星形形状のホルダ70の中央に形成された開口
部70aに固着されている。このホルダ70の外周方向
に突出した突起部70bにより形成されるコーナー部7
0cには、四角柱状に巻回されたフォーカスコイル71
が位置決め固着されている。ホルダ70の側面部70d
に形成された凸部70eには、ほぼロの字状を呈してい
るトラッキングコイル72が位置決めされ固着されてい
る。
クチュエータとバイアス磁界発生回路25のヨーク65
の向きが異なっている。対物レンズ40は、Z方向から
見てほぼ星形形状のホルダ70の中央に形成された開口
部70aに固着されている。このホルダ70の外周方向
に突出した突起部70bにより形成されるコーナー部7
0cには、四角柱状に巻回されたフォーカスコイル71
が位置決め固着されている。ホルダ70の側面部70d
に形成された凸部70eには、ほぼロの字状を呈してい
るトラッキングコイル72が位置決めされ固着されてい
る。
【0037】また、ホルダ70のY方向端部には、Z方
向に突出した凸部70hが形成されている。この凸部7
0hには、Y方向に沿って穴70gが形成されている。
この穴70gには、断面が円形の金属製の4本のバネ7
3a〜73dの一端が固定されている。これらバネ73
a〜73dの他端は、ホルダ70の近傍に設けられた固
定部材74に形成された孔74aに挿入されて固定され
ている。4本のバネ73a〜73dは、主要部(両端
部)が平行となるよう配設され、かつ対物レンズ40を
挟み込むように、対物レンズ40の上下にそれぞれ位置
している。
向に突出した凸部70hが形成されている。この凸部7
0hには、Y方向に沿って穴70gが形成されている。
この穴70gには、断面が円形の金属製の4本のバネ7
3a〜73dの一端が固定されている。これらバネ73
a〜73dの他端は、ホルダ70の近傍に設けられた固
定部材74に形成された孔74aに挿入されて固定され
ている。4本のバネ73a〜73dは、主要部(両端
部)が平行となるよう配設され、かつ対物レンズ40を
挟み込むように、対物レンズ40の上下にそれぞれ位置
している。
【0038】これらバネ73a〜73dは、Y方向に沿
って共に平行であり、かつ互いにX方向に変位した両端
部と、これら両端部をつなぐようにY方向に対して傾斜
した途中部とからなっている。バネ73a〜73dのう
ち、X方向のバネ間隔は、固定部材74側に比べてホル
ダ70側の方が狭くなっている(図8参照)。すなわ
ち、バネ73aおよびバネ73cの固定部材74側の端
部の間隔、並びにバネ73bおよびバネ73dの固定部
材74側の端部の間隔はバネ73aおよびバネ73cの
ホルダ70側の端部の間隔、バネ73bおよびバネ73
dのホルダ70側の端部の間隔よりも広くなっている。
また、これらバネのうちバネ73aは、ホルダ70の下
方に設置されたミラー75に入射する入射光束中に位置
するようになっている。
って共に平行であり、かつ互いにX方向に変位した両端
部と、これら両端部をつなぐようにY方向に対して傾斜
した途中部とからなっている。バネ73a〜73dのう
ち、X方向のバネ間隔は、固定部材74側に比べてホル
ダ70側の方が狭くなっている(図8参照)。すなわ
ち、バネ73aおよびバネ73cの固定部材74側の端
部の間隔、並びにバネ73bおよびバネ73dの固定部
材74側の端部の間隔はバネ73aおよびバネ73cの
ホルダ70側の端部の間隔、バネ73bおよびバネ73
dのホルダ70側の端部の間隔よりも広くなっている。
また、これらバネのうちバネ73aは、ホルダ70の下
方に設置されたミラー75に入射する入射光束中に位置
するようになっている。
【0039】なお、バネ73a〜73dのホルダ70側
の端部は、対物レンズ40を移動可能に支持する固定部
材74と反対側に位置しているため、バネ73a〜73
dの有効長を長くとれる。したがって、装置のY方向の
寸法を小さくできる。図8に示すように、固定部材74
のホルダ70側の面には、先端部に三角形状の切り欠き
を有し、Y方向に突出した取付け部74bが形成されて
いる。この取付け部74bの下側には、位置決め用の2
個の凸部74cが設けられている。これら凸部74c
は、ベース76の底壁に形成された2個の孔76aにそ
れぞれ嵌入され、固定部材74はベース76上に位置決
め固定される。
の端部は、対物レンズ40を移動可能に支持する固定部
材74と反対側に位置しているため、バネ73a〜73
dの有効長を長くとれる。したがって、装置のY方向の
寸法を小さくできる。図8に示すように、固定部材74
のホルダ70側の面には、先端部に三角形状の切り欠き
を有し、Y方向に突出した取付け部74bが形成されて
いる。この取付け部74bの下側には、位置決め用の2
個の凸部74cが設けられている。これら凸部74c
は、ベース76の底壁に形成された2個の孔76aにそ
れぞれ嵌入され、固定部材74はベース76上に位置決
め固定される。
【0040】このベース76は、鉄板を折り曲げること
によって形成されており、上方に突出するように折曲さ
れた2個の第1の折曲げ部76bとこれら第1の折曲げ
部76bの表面と対向するように折り曲げされた第2の
折曲げ部76cとを備えている。第2の折曲げ部76c
は第3の折曲げ部76dの先端を折曲して形成されてい
る。第1の折曲げ部76bの表面には、厚み方向に着磁
された2個のマグネット77がそれぞれ固着されてい
る。すなわち、左右のマグネット77の極性は異極が同
方向を向いている。すなわち、右側のマグネット77の
N極と、左側のマグネット77のS極とが、Y(+)方
向に向き、かつ対物レンズ40のX方向両側に設置され
ている。
によって形成されており、上方に突出するように折曲さ
れた2個の第1の折曲げ部76bとこれら第1の折曲げ
部76bの表面と対向するように折り曲げされた第2の
折曲げ部76cとを備えている。第2の折曲げ部76c
は第3の折曲げ部76dの先端を折曲して形成されてい
る。第1の折曲げ部76bの表面には、厚み方向に着磁
された2個のマグネット77がそれぞれ固着されてい
る。すなわち、左右のマグネット77の極性は異極が同
方向を向いている。すなわち、右側のマグネット77の
N極と、左側のマグネット77のS極とが、Y(+)方
向に向き、かつ対物レンズ40のX方向両側に設置され
ている。
【0041】また、図9に示すように、第1の折曲げ部
76bにマグネット77が固着されているので、マグネ
ット77と第2の折曲げ部76cとが離間しながら対向
することになり、この結果、これらの間には主磁気ギャ
ップ78が形成される。なお、前記第1の折曲げ部76
bと、マグネット77は、フォーカスコイル71内に位
置している。第2の折曲げ部76cの先端部76eはY
方向に対して斜めに形成され、トラッキングコイル72
のZ方向に平行な一辺72aに対向するようになってい
る。
76bにマグネット77が固着されているので、マグネ
ット77と第2の折曲げ部76cとが離間しながら対向
することになり、この結果、これらの間には主磁気ギャ
ップ78が形成される。なお、前記第1の折曲げ部76
bと、マグネット77は、フォーカスコイル71内に位
置している。第2の折曲げ部76cの先端部76eはY
方向に対して斜めに形成され、トラッキングコイル72
のZ方向に平行な一辺72aに対向するようになってい
る。
【0042】前記固定部材74の三角形状の切り欠き上
には、Z方向と平行な2分割線を有する受光素子79
と、光を出射するLED80とが互いに略90°の角度
をなして取付けられている。一方、ホルダ70の固定部
材74側の部分の中央は凸状の表面が反射面81として
構成されている。この反射面81は、平滑で光の反射率
がその周辺部より高く設定されている。
には、Z方向と平行な2分割線を有する受光素子79
と、光を出射するLED80とが互いに略90°の角度
をなして取付けられている。一方、ホルダ70の固定部
材74側の部分の中央は凸状の表面が反射面81として
構成されている。この反射面81は、平滑で光の反射率
がその周辺部より高く設定されている。
【0043】LED80から射出された光は、この光の
中心部がホルダ70の反射面81で反射され、受光素子
79に入射する。反射面81以外のホルダ70の部分に
当たった光が受光素子79に入射しないように、ホルダ
70の固定部材74側の面の角度が設定されている。あ
るいは、このホルダ70の面の角度を設定する代わり
に、この面を粗に成形してもよい。
中心部がホルダ70の反射面81で反射され、受光素子
79に入射する。反射面81以外のホルダ70の部分に
当たった光が受光素子79に入射しないように、ホルダ
70の固定部材74側の面の角度が設定されている。あ
るいは、このホルダ70の面の角度を設定する代わり
に、この面を粗に成形してもよい。
【0044】可動部82(図9参照)がX方向に移動し
た時には、反射面81もX方向に移動するため、反射面
81で反射された受光素子79上に入射する光も受光素
子79の分割線に対して移動する。従って、受光素子の
2つの受光部の出力電流の差をとることにより、可動部
82のX方向の位置および可動部82の速度を得ること
ができる。なお、ホルダ70と固定部材74とバネ73
a〜73dとを組み立てる場合には、ホルダ70と固定
部材74を組立治具により位置決めし、そこにバネ73
a〜73dを各々の位置の孔に挿入して接着剤で固定す
ることにより行うことができる。
た時には、反射面81もX方向に移動するため、反射面
81で反射された受光素子79上に入射する光も受光素
子79の分割線に対して移動する。従って、受光素子の
2つの受光部の出力電流の差をとることにより、可動部
82のX方向の位置および可動部82の速度を得ること
ができる。なお、ホルダ70と固定部材74とバネ73
a〜73dとを組み立てる場合には、ホルダ70と固定
部材74を組立治具により位置決めし、そこにバネ73
a〜73dを各々の位置の孔に挿入して接着剤で固定す
ることにより行うことができる。
【0045】次に、以上のように構成された装置の作用
を説明する。先ずアクチュエータは図9に示すように、
フォーカスコイル71またはトラッキングコイル72に
電流を流すと、マグネット77が発生する磁界と協働し
コイルに駆動力が生じ、ホルダ70に保持されている対
物レンズ40がZ方向(フォーカス方向)またはX方向
(トラッキング方向)に移動する。この場合、ホルダ7
0を移動可能に支持しているバネ73b,73dと、バ
ネ73a,73cとが対物レンズ40の上下にそれぞれ
位置しているので、上下のバネ間隔を確保しながら光デ
ィスク面から下側のバネ73a,73cまでの距離を短
くすることができる。したがって、装置の薄型化が可能
となる。さらに、バネ73aが光束中に位置しているの
で、光束と対物レンズ40とを近付けることができ、よ
り一層装置の薄型化を図ることができる。
を説明する。先ずアクチュエータは図9に示すように、
フォーカスコイル71またはトラッキングコイル72に
電流を流すと、マグネット77が発生する磁界と協働し
コイルに駆動力が生じ、ホルダ70に保持されている対
物レンズ40がZ方向(フォーカス方向)またはX方向
(トラッキング方向)に移動する。この場合、ホルダ7
0を移動可能に支持しているバネ73b,73dと、バ
ネ73a,73cとが対物レンズ40の上下にそれぞれ
位置しているので、上下のバネ間隔を確保しながら光デ
ィスク面から下側のバネ73a,73cまでの距離を短
くすることができる。したがって、装置の薄型化が可能
となる。さらに、バネ73aが光束中に位置しているの
で、光束と対物レンズ40とを近付けることができ、よ
り一層装置の薄型化を図ることができる。
【0046】図10に示すように、マグネット77は一
方がN極を、他方はS極をY方向に向けて配設されてい
る。このマグネット77は対物レンズ40のX方向両側
に設置されている。このような配置では対物レンズ40
のZ(+)側に位置するバイアス磁界発生回路25付近
のアクチュエータの磁気回路からの漏れ磁束83は、X
軸にほぼ平行でX(−)方向に向いている。これに対し
て、バイアス磁界発生回路25は、実施例1と同一の構
造となっており、そのヨーク65の厚み方向をX軸と平
行に配置してある。したがってヨーク65中のコイル6
6による磁束は主にYZ平面に平行に通り、ヨーク65
中を通るアクチュエータの磁気回路からの漏れ磁束83
と直交する。これにより実施例1と同様の効果を有す
る。
方がN極を、他方はS極をY方向に向けて配設されてい
る。このマグネット77は対物レンズ40のX方向両側
に設置されている。このような配置では対物レンズ40
のZ(+)側に位置するバイアス磁界発生回路25付近
のアクチュエータの磁気回路からの漏れ磁束83は、X
軸にほぼ平行でX(−)方向に向いている。これに対し
て、バイアス磁界発生回路25は、実施例1と同一の構
造となっており、そのヨーク65の厚み方向をX軸と平
行に配置してある。したがってヨーク65中のコイル6
6による磁束は主にYZ平面に平行に通り、ヨーク65
中を通るアクチュエータの磁気回路からの漏れ磁束83
と直交する。これにより実施例1と同様の効果を有す
る。
【0047】本実施例においては、前記実施例に示した
ような固定側のマグネット10からの漏れ磁束84はセ
ンターヨーク,サイドヨークの断面積を磁束に対して十
分に大きくすることにより、漏れ磁束83に比べて小さ
くしているため、影響が小さくなる。
ような固定側のマグネット10からの漏れ磁束84はセ
ンターヨーク,サイドヨークの断面積を磁束に対して十
分に大きくすることにより、漏れ磁束83に比べて小さ
くしているため、影響が小さくなる。
【0048】本実施例においては、図11に示すように
ヨーク91および界磁コイル92が発生するバイアス磁
界のX方向の範囲が長いバイアス磁界発生回路90を用
い、この回路90をデッキベースに固定しても良い。こ
の場合においても、アクチュエータの磁気回路からの漏
れ磁束はX方向であるので、ヨーク91中を通る界磁コ
イル92による磁束の向きと直交する。すなわち、本実
施例のようなバイアス磁界発生回路付近の漏れ磁界の方
向をX方向に平行にすることにより、図11のような固
定の構造のバイアス磁界発生回路90を用いた場合に
も、同様の効果が得られる。
ヨーク91および界磁コイル92が発生するバイアス磁
界のX方向の範囲が長いバイアス磁界発生回路90を用
い、この回路90をデッキベースに固定しても良い。こ
の場合においても、アクチュエータの磁気回路からの漏
れ磁束はX方向であるので、ヨーク91中を通る界磁コ
イル92による磁束の向きと直交する。すなわち、本実
施例のようなバイアス磁界発生回路付近の漏れ磁界の方
向をX方向に平行にすることにより、図11のような固
定の構造のバイアス磁界発生回路90を用いた場合に
も、同様の効果が得られる。
【0049】以上の実施例においてはバイアス磁界発生
回路は光磁気ディスクに対して対物レンズの反対側に位
置しているが、対物レンズと同じ側に位置しても同様な
効果がある。
回路は光磁気ディスクに対して対物レンズの反対側に位
置しているが、対物レンズと同じ側に位置しても同様な
効果がある。
【0050】
【発明の効果】以上のとおり本発明においては、対物レ
ンズの駆動手段から漏れ磁束が発生しても、ヨーク内を
走行する磁束の方向と、磁気回路が発生するヨーク付近
の磁束の方向とが略直交するようにバイアス磁界発生回
路と磁気回路とを配設し、かつ、前記ヨークは閉磁気回
路を形成しているので、バイアス磁界発生回路のヨーク
が磁気飽和しにくいため、ヨーク内を磁束が最大限効率
良く通過することができる利点がある。
ンズの駆動手段から漏れ磁束が発生しても、ヨーク内を
走行する磁束の方向と、磁気回路が発生するヨーク付近
の磁束の方向とが略直交するようにバイアス磁界発生回
路と磁気回路とを配設し、かつ、前記ヨークは閉磁気回
路を形成しているので、バイアス磁界発生回路のヨーク
が磁気飽和しにくいため、ヨーク内を磁束が最大限効率
良く通過することができる利点がある。
【図1】本発明の実施例1の全体斜視図。
【図2】実施例1の可動部の分解斜視図。
【図3】図1のX方向におけるX方向における断面図。
【図4】実施例1のアクチュエータの斜視図。
【図5】図4の分解斜視図。
【図6】アクチュエータの下側からの分解斜視図。
【図7】バイアス磁界発生回路の斜視図。
【図8】実施例2の分解斜視図。
【図9】実施例2のアクチュエータの平面図。
【図10】バイアス磁界発生回路の配設を示す斜視図。
【図11】バイアス磁界発生回路の変形例の斜視図。
【図12】従来例の断面図。
1 デッキベース 2 スピンドルモータ 3 光磁気ディスク 4 可動部 5 固定光学系 6 センターヨーク 25 バイアス磁界発生回路 65 ヨーク 66 磁界コイル
Claims (1)
- 【請求項1】 界磁コイルおよびヨークを有し光磁気デ
ィスクにバイアス磁界を発生させるバイアス磁界発生回
路と、光磁気ディスクに光ビームを集光させる対物レン
ズと、この対物レンズを支持する支持部を有すると共に
対物レンズを光磁気ディスクに対して垂直方向および/
または平行方向に移動させる磁気回路を有した駆動手段
とを備えた光ピックアップにおいて、 前記界磁コイルへの通電による前記ヨーク内を走行する
磁束の方向と前記磁気回路が発生するヨーク付近の磁束
の方向とが略直交するようにバイアス磁界発生回路と磁
気回路とを配設し、前記ヨークは閉磁気回路からなるこ
とを特徴とする光ピックアップ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11636193A JP3268885B2 (ja) | 1993-04-20 | 1993-04-20 | 光ピックアップ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11636193A JP3268885B2 (ja) | 1993-04-20 | 1993-04-20 | 光ピックアップ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06309724A JPH06309724A (ja) | 1994-11-04 |
JP3268885B2 true JP3268885B2 (ja) | 2002-03-25 |
Family
ID=14685066
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11636193A Expired - Fee Related JP3268885B2 (ja) | 1993-04-20 | 1993-04-20 | 光ピックアップ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3268885B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3394210B2 (ja) | 1999-03-30 | 2003-04-07 | 富士通株式会社 | 光ディスク装置 |
-
1993
- 1993-04-20 JP JP11636193A patent/JP3268885B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06309724A (ja) | 1994-11-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20011211 |
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