JP3262582B2 - ホージャサイト型ゼオライトの製造方法 - Google Patents
ホージャサイト型ゼオライトの製造方法Info
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- JP3262582B2 JP3262582B2 JP05646192A JP5646192A JP3262582B2 JP 3262582 B2 JP3262582 B2 JP 3262582B2 JP 05646192 A JP05646192 A JP 05646192A JP 5646192 A JP5646192 A JP 5646192A JP 3262582 B2 JP3262582 B2 JP 3262582B2
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- faujasite
- type zeolite
- recovered
- silica
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B39/00—Compounds having molecular sieve and base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites; Their preparation; After-treatment, e.g. ion-exchange or dealumination
- C01B39/02—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof; Direct preparation thereof; Preparation thereof starting from a reaction mixture containing a crystalline zeolite of another type, or from preformed reactants; After-treatment thereof
- C01B39/20—Faujasite type, e.g. type X or Y
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はホージャサイト型ゼオラ
イトの経済的な製造方法に係る。
イトの経済的な製造方法に係る。
【０００２】
【従来技術】ゼオライト製造において生成する過剰の珪
素とソーダ成分を有する母液は、廃液として通常捨てら
れているが、再利用する方法も提案されている。例え
ば、ゼオライトの製造工程から排出される廃液を利用し
てゼオライトを製造する方法の例としては、特開昭５９
−２０７８１３号公報、特開昭５３−６１６００号公報
があり、珪酸ソーダの製造例としては、特開昭６１−５
６４９号公報がある。しかし、従来の製造方法は製造工
程が複雑であり、また品質面、経済面で必ずしも満足の
いくものではなかった。
素とソーダ成分を有する母液は、廃液として通常捨てら
れているが、再利用する方法も提案されている。例え
ば、ゼオライトの製造工程から排出される廃液を利用し
てゼオライトを製造する方法の例としては、特開昭５９
−２０７８１３号公報、特開昭５３−６１６００号公報
があり、珪酸ソーダの製造例としては、特開昭６１−５
６４９号公報がある。しかし、従来の製造方法は製造工
程が複雑であり、また品質面、経済面で必ずしも満足の
いくものではなかった。
【０００３】
【目的】本発明は、ホージャサイト型ゼオライト製造に
おいて生成する過剰のシリカとソーダを含有する廃液を
回収して珪酸ソーダ水溶液又は無定形含水シリカを調製
し、これをゼオライト製造のシリカおよびアルカリ源の
一部として再使用することを特徴とするホージャサイト
型ゼオライトの経済的な製造方法を提供することを目的
とする。さらに、本発明の目的は、従来捨てられていた
利用価値のない廃液を利用して不純物を含まない、結晶
度の高いホージャサイト型ゼオライトの製造方法を提供
することにある。
おいて生成する過剰のシリカとソーダを含有する廃液を
回収して珪酸ソーダ水溶液又は無定形含水シリカを調製
し、これをゼオライト製造のシリカおよびアルカリ源の
一部として再使用することを特徴とするホージャサイト
型ゼオライトの経済的な製造方法を提供することを目的
とする。さらに、本発明の目的は、従来捨てられていた
利用価値のない廃液を利用して不純物を含まない、結晶
度の高いホージャサイト型ゼオライトの製造方法を提供
することにある。
【０００４】
【構成】本発明は、珪酸ソーダを原料としてホージャサ
イト型ゼオライトを製造する方法において、ホージャサ
イト型ゼオライト生成物を分離した廃液から、珪素とソ
ーダ成分を珪酸ソーダ水溶液又は無定形含水シリカとし
て回収し、ホージャサイト型ゼオライトの製造用原料の
シリカおよびアルカリ源の一部又はシリカ源の一部とし
て再利用することを特徴とする。
イト型ゼオライトを製造する方法において、ホージャサ
イト型ゼオライト生成物を分離した廃液から、珪素とソ
ーダ成分を珪酸ソーダ水溶液又は無定形含水シリカとし
て回収し、ホージャサイト型ゼオライトの製造用原料の
シリカおよびアルカリ源の一部又はシリカ源の一部とし
て再利用することを特徴とする。
【０００５】本発明での珪酸ソーダを原料としてホージ
ャサイト型ゼオライトを製造する方法としては、通常知
られているホージャサイト型ゼオライトの製造方法を採
用することが可能であり、例えば特公昭４９−１３７２
０号公報に記載の方法などが例示される。すなわち、含
水シリカ、アルミン酸ソーダ及び苛性ソーダからなり、
ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3のモル比約２〜４０：１、Ｎａ2Ｏ／
ＳｉＯ2のモル比約０．２〜７：１、及びＨ2Ｏ／Ｎａ2
Ｏのモル比約１０〜９０：１である第一の水性混合物を
約２５〜５０℃の温度において約５〜５０時間エージン
グに付して中間生成物を生成し、この中間生成物の少量
を珪酸ソーダ及びアルミン酸ソーダからなり、ＳｉＯ2
／Ａｌ2Ｏ3のモル比約２〜４０：１、Ｎａ2Ｏ／ＳｉＯ2
のモル比約２〜４０：１及びＨ2Ｏ／Ｎａ2Ｏのモル比約
１０〜９０：１である第二の水性混合物から作られた主
要成分であるゲルに、その結晶核として添加し、かくし
て上記の一緒にした混合物を約８０〜１１０℃の温度に
おいてエージングに付することによりシリカ対アルミナ
のモル比が少なくとも約２：１のホージャサイト型ゼオ
ライトが合成される。
ャサイト型ゼオライトを製造する方法としては、通常知
られているホージャサイト型ゼオライトの製造方法を採
用することが可能であり、例えば特公昭４９−１３７２
０号公報に記載の方法などが例示される。すなわち、含
水シリカ、アルミン酸ソーダ及び苛性ソーダからなり、
ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3のモル比約２〜４０：１、Ｎａ2Ｏ／
ＳｉＯ2のモル比約０．２〜７：１、及びＨ2Ｏ／Ｎａ2
Ｏのモル比約１０〜９０：１である第一の水性混合物を
約２５〜５０℃の温度において約５〜５０時間エージン
グに付して中間生成物を生成し、この中間生成物の少量
を珪酸ソーダ及びアルミン酸ソーダからなり、ＳｉＯ2
／Ａｌ2Ｏ3のモル比約２〜４０：１、Ｎａ2Ｏ／ＳｉＯ2
のモル比約２〜４０：１及びＨ2Ｏ／Ｎａ2Ｏのモル比約
１０〜９０：１である第二の水性混合物から作られた主
要成分であるゲルに、その結晶核として添加し、かくし
て上記の一緒にした混合物を約８０〜１１０℃の温度に
おいてエージングに付することによりシリカ対アルミナ
のモル比が少なくとも約２：１のホージャサイト型ゼオ
ライトが合成される。
【０００６】前記のような方法で合成されたホージャサ
イト型ゼオライト生成物は、母液と分離され、洗浄して
回収される。本発明に係るホージャライト型ゼオライト
の製造法は、前述のホージャサイト型ゼオライト生成物
が分離された母液、洗浄水などの廃液から該廃液中に含
まれる珪素とソーダ成分を回収しホージャライト型ゼオ
ライト製造用原料のシリカとアルカリ源の一部として再
利用するに際し、該廃液を加熱処理工程と微小粒径の不
溶成分除去処理工程とに任意の順序で付することを特徴
とする。本発明での廃液の加熱処理は、１０５℃以上の
温度で少なくとも１０分間、好ましくは１１０℃〜２０
０℃の温度で１０分〜５時間オートクレーブ処理に付す
る。また、本発明では、廃液中に含まれている微小粒径
の不溶成分を除去処理することが必要である。微小粒径
の不溶成分を除去処理する方法としては、濾過、遠心分
離など通常の分離除去操作により行うことができる。本
発明では、前述の廃液の加熱処理と微小粒径の不溶成分
除去処理を行うことが必要であり、いずれか一方の処理
を欠いた場合には、廃液から珪素とソーダ成分を回収し
てホージャサイト型ゼオライト製造用原料の一部として
使用してホージャサイト型ゼオライトを製造した場合
に、ホージャサイト型ゼオライトとともにＰ型ゼオライ
トやグメリナイトが生成し、ホージャサイト型ゼオライ
トの結晶度が低下するという欠点が生じる。本発明で
は、廃液を加熱処理に付した後に微小粒径の不溶成分除
去処理を行ってもよく、また、廃液中の微小粒径の不溶
成分を除去した後に廃液を加熱処理に付してもよい。本
発明の方法では、廃液を加熱処理した後、微小粒径の不
溶成分を除去する場合は、廃液を加熱処理に付すること
により廃液中に混入しているＰ型ゼオライトやグメリナ
イトの種子の原因となる微量の小粒子径のシリカ−アル
ミナの粒子の成長を促し、該シリカ−アルミナの粒子の
除去が容易になるので、Ｐ型ゼオライトやグメリナイト
の種子となる成分が充分に除去される。また、廃液中の
微小粒径の不溶成分を除去した後、加熱処理する場合
は、Ｐ型ゼオライトやグメリナイトの種子の原因となる
ある程度の大きさを有するシリカ−アルミナの粒子は除
去されており、廃液中に残存するシリカ−アルミナ成分
は加熱処理により溶解して種子としての作用を失う。従
って、本発明の方法では、結晶度が高く、不純物を含ま
ないホージャサイト型ゼオライトを製造することができ
る。
イト型ゼオライト生成物は、母液と分離され、洗浄して
回収される。本発明に係るホージャライト型ゼオライト
の製造法は、前述のホージャサイト型ゼオライト生成物
が分離された母液、洗浄水などの廃液から該廃液中に含
まれる珪素とソーダ成分を回収しホージャライト型ゼオ
ライト製造用原料のシリカとアルカリ源の一部として再
利用するに際し、該廃液を加熱処理工程と微小粒径の不
溶成分除去処理工程とに任意の順序で付することを特徴
とする。本発明での廃液の加熱処理は、１０５℃以上の
温度で少なくとも１０分間、好ましくは１１０℃〜２０
０℃の温度で１０分〜５時間オートクレーブ処理に付す
る。また、本発明では、廃液中に含まれている微小粒径
の不溶成分を除去処理することが必要である。微小粒径
の不溶成分を除去処理する方法としては、濾過、遠心分
離など通常の分離除去操作により行うことができる。本
発明では、前述の廃液の加熱処理と微小粒径の不溶成分
除去処理を行うことが必要であり、いずれか一方の処理
を欠いた場合には、廃液から珪素とソーダ成分を回収し
てホージャサイト型ゼオライト製造用原料の一部として
使用してホージャサイト型ゼオライトを製造した場合
に、ホージャサイト型ゼオライトとともにＰ型ゼオライ
トやグメリナイトが生成し、ホージャサイト型ゼオライ
トの結晶度が低下するという欠点が生じる。本発明で
は、廃液を加熱処理に付した後に微小粒径の不溶成分除
去処理を行ってもよく、また、廃液中の微小粒径の不溶
成分を除去した後に廃液を加熱処理に付してもよい。本
発明の方法では、廃液を加熱処理した後、微小粒径の不
溶成分を除去する場合は、廃液を加熱処理に付すること
により廃液中に混入しているＰ型ゼオライトやグメリナ
イトの種子の原因となる微量の小粒子径のシリカ−アル
ミナの粒子の成長を促し、該シリカ−アルミナの粒子の
除去が容易になるので、Ｐ型ゼオライトやグメリナイト
の種子となる成分が充分に除去される。また、廃液中の
微小粒径の不溶成分を除去した後、加熱処理する場合
は、Ｐ型ゼオライトやグメリナイトの種子の原因となる
ある程度の大きさを有するシリカ−アルミナの粒子は除
去されており、廃液中に残存するシリカ−アルミナ成分
は加熱処理により溶解して種子としての作用を失う。従
って、本発明の方法では、結晶度が高く、不純物を含ま
ないホージャサイト型ゼオライトを製造することができ
る。
【０００７】以下に本発明に関し、さらに具体的に説明
する。 （１）ホージャサイト型ゼオライト生成物から過剰の珪
素とソーダ成分とを含有する母液を分離し、廃液として
回収する。また、母液を分離したゼオライトを水洗し、
洗浄水として回収する。 （２）廃液は、珪素とソーダ成分を含有する濃度は比較
的高いが、洗浄水の方は、珪素とソーダ成分を含有する
濃度が非常に低いために、そのまま利用しようとする
と、ゼオライト製造のモル組成において水分が過剰とな
り、合成のモル組成範囲から外れ、ゼオライトは合成で
きなくなる。 （３）そこで、濃度の高い廃液と濃度の低い洗浄水とを
分けて回収し、濃度の低い洗浄水は該洗浄水に無機酸を
添加し、中和してシリカを沈殿させ、洗浄して、固形分
のシリカとして回収する。無機酸としては、硫酸、硝
酸、塩酸などが使用可能である。この回収した固形分の
シリカを前述の濃度の高い廃液と混合し、加熱溶解す
る。また、所望により苛性ソーダを加えて６０〜１００
℃の温度で０．５〜５時間程度加熱溶解して水硝子組成
の水溶液を調製する。上記の濃度の高い廃液と固形分シ
リカを混合して溶解するのに加える苛性ソーダの量は、
得られる珪酸ソーダ水溶液の組成が、水硝子の組成、特
に３号水硝子の組成に調製することが、ホージャサイト
型ゼオライトを製造する際の所望する調合モル組成の出
発原料のゲル状混合物を調製する場合に、原料の制約が
少ないので好ましい。 （４）上記（３）で得た固形分のシリカを溶解した廃液
又は所望により苛性ソーダを加えて調製した水硝子組成
の廃液より微小粒径の不溶成分を除去した後、この廃液
を加熱処理するか、又は該廃液（固形分のシリカを溶解
した廃液又は水硝子組成の廃液）を加熱処理した後、そ
の中に含有されている微小粒径の不溶成分を除去して、
珪酸ソーダ溶液として回収し、ホージャサイト型ゼオラ
イト製造用原料のシリカ及びアルカリ源の一部として使
用される。本発明の別な実施態様としては、前述の濃度
の高い廃液と濃度の低い洗浄水とを混合し、該廃液（濃
度の高い廃液と洗浄水の混合水溶液）を、所望により加
熱して水分を蒸発させて濃縮処理を行った後、加熱処理
と微小粒径の不溶成分除去処理に付して、ホージャサイ
ト型ゼオライト製造用原料のシリカ及びアルカリ源の一
部として使用される。また、本発明では、必要に応じ
て、加熱処理と微小粒径の不溶成分除去処理を行った廃
液中に、追加の苛性ソーダ、含水シリカあるいは水を加
えて水硝子組成の珪酸ソーダ水溶液を調製することもで
きる。調製される珪酸ソーダ水溶液の濃度は、ホージャ
サイト型ゼオライトを製造する際の所望する原料のモル
組成により決定される範囲内であれば任意のものでよい
が、他の原料の水分組成のバランスから、好ましくは、
酸化物（Ｎａ2Ｏ＋ＳｉＯ2）として１５〜３０ｗｔ％の
範囲であることが望ましい。また本発明の他の実施態様
としては、前述の廃液（濃度の高い廃液と洗浄水の混合
水溶液）を加熱処理と微小粒径の不溶成分除去処理に付
した後、該廃液に無機酸を添加して中和し、シリカの沈
殿を生ぜしめ、分離し、必要に応じて水洗して無定形含
水シリカとして回収し、該無定形含水シリカをホージャ
サイト型ゼオライト製造用原料のシリカ源の一部として
使用することもできる。図１から理解できるように、本
発明においては、ホージャサイト型ゼオライト生成物の
廃液より調製した珪酸ソーダ水溶液に前記のような加熱
処理および固形分除去処理を行うことにより、このもの
をホージャサイト型ゼオライト生成物の製造に使用して
も市販の水硝子水溶液を使用する場合と同様に高純度の
高結晶ホージャ型ゼオライトが得られる。
する。 （１）ホージャサイト型ゼオライト生成物から過剰の珪
素とソーダ成分とを含有する母液を分離し、廃液として
回収する。また、母液を分離したゼオライトを水洗し、
洗浄水として回収する。 （２）廃液は、珪素とソーダ成分を含有する濃度は比較
的高いが、洗浄水の方は、珪素とソーダ成分を含有する
濃度が非常に低いために、そのまま利用しようとする
と、ゼオライト製造のモル組成において水分が過剰とな
り、合成のモル組成範囲から外れ、ゼオライトは合成で
きなくなる。 （３）そこで、濃度の高い廃液と濃度の低い洗浄水とを
分けて回収し、濃度の低い洗浄水は該洗浄水に無機酸を
添加し、中和してシリカを沈殿させ、洗浄して、固形分
のシリカとして回収する。無機酸としては、硫酸、硝
酸、塩酸などが使用可能である。この回収した固形分の
シリカを前述の濃度の高い廃液と混合し、加熱溶解す
る。また、所望により苛性ソーダを加えて６０〜１００
℃の温度で０．５〜５時間程度加熱溶解して水硝子組成
の水溶液を調製する。上記の濃度の高い廃液と固形分シ
リカを混合して溶解するのに加える苛性ソーダの量は、
得られる珪酸ソーダ水溶液の組成が、水硝子の組成、特
に３号水硝子の組成に調製することが、ホージャサイト
型ゼオライトを製造する際の所望する調合モル組成の出
発原料のゲル状混合物を調製する場合に、原料の制約が
少ないので好ましい。 （４）上記（３）で得た固形分のシリカを溶解した廃液
又は所望により苛性ソーダを加えて調製した水硝子組成
の廃液より微小粒径の不溶成分を除去した後、この廃液
を加熱処理するか、又は該廃液（固形分のシリカを溶解
した廃液又は水硝子組成の廃液）を加熱処理した後、そ
の中に含有されている微小粒径の不溶成分を除去して、
珪酸ソーダ溶液として回収し、ホージャサイト型ゼオラ
イト製造用原料のシリカ及びアルカリ源の一部として使
用される。本発明の別な実施態様としては、前述の濃度
の高い廃液と濃度の低い洗浄水とを混合し、該廃液（濃
度の高い廃液と洗浄水の混合水溶液）を、所望により加
熱して水分を蒸発させて濃縮処理を行った後、加熱処理
と微小粒径の不溶成分除去処理に付して、ホージャサイ
ト型ゼオライト製造用原料のシリカ及びアルカリ源の一
部として使用される。また、本発明では、必要に応じ
て、加熱処理と微小粒径の不溶成分除去処理を行った廃
液中に、追加の苛性ソーダ、含水シリカあるいは水を加
えて水硝子組成の珪酸ソーダ水溶液を調製することもで
きる。調製される珪酸ソーダ水溶液の濃度は、ホージャ
サイト型ゼオライトを製造する際の所望する原料のモル
組成により決定される範囲内であれば任意のものでよい
が、他の原料の水分組成のバランスから、好ましくは、
酸化物（Ｎａ2Ｏ＋ＳｉＯ2）として１５〜３０ｗｔ％の
範囲であることが望ましい。また本発明の他の実施態様
としては、前述の廃液（濃度の高い廃液と洗浄水の混合
水溶液）を加熱処理と微小粒径の不溶成分除去処理に付
した後、該廃液に無機酸を添加して中和し、シリカの沈
殿を生ぜしめ、分離し、必要に応じて水洗して無定形含
水シリカとして回収し、該無定形含水シリカをホージャ
サイト型ゼオライト製造用原料のシリカ源の一部として
使用することもできる。図１から理解できるように、本
発明においては、ホージャサイト型ゼオライト生成物の
廃液より調製した珪酸ソーダ水溶液に前記のような加熱
処理および固形分除去処理を行うことにより、このもの
をホージャサイト型ゼオライト生成物の製造に使用して
も市販の水硝子水溶液を使用する場合と同様に高純度の
高結晶ホージャ型ゼオライトが得られる。
【０００８】
実施例１ 予め水酸化アルミニウムを苛性ソーダで溶解したアルミ
ン酸ソーダ水溶液、苛性ソーダ、珪酸ソーダ及び水とか
ら、次のモル組成を有する １５．９Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・１４．７ＳｉＯ2・３２９．７Ｈ2Ｏ 第一のゲル状混合物を調製した。この第一のゲル状混合
物を３０〜３４℃の温度で１３時間熟成してゼオライト
製造用の種子を調製した。次に、アルミン酸ソーダ水溶
液（Ａｌ2Ｏ3＝２２．０ｗｔ％，Ｎａ2Ｏ＝１７．０ｗ
ｔ％）と市販の３号水硝子（ＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏ＝３．２
モル比）、無定形含水シリカ、苛性ソーダ及び水とから
調製した次のモル組成を有する第二ゲル状混合物 ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ ２５７．６ｋｇに第一ゲル状混合物１３．０ｋｇを種子
として混合し、室温で３時間熟成した後、さらに９５℃
で３５時間熟成してホージャサイト型ゼオライトを生ぜ
しめた。次いで該ゼオライトを濾過、脱水、洗浄してゼ
オライト（Ｘ）を得た。濾過、脱水に際して濾液Ａ（Ｎ
ａ2Ｏ＝４．８ｗｔ％，ＳｉＯ2＝８．４ｗｔ％）５８．
１ｋｇを回収し、さらにイオン交換水での洗浄により得
られた洗浄濾液Ｂ（Ｎａ2Ｏ＝２．０ｗｔ％，ＳｉＯ2＝
３．４ｗｔ％）４１１ｋｇを回収した。洗浄濾液Ｂに、
Ｈ2ＳＯ4水溶液を加えて中和し、次いで、イオン交換水
で洗浄してシリカの固形分（ＳｉＯ2＝４８．９ｗｔ
％）２８．７ｋｇを回収した。このシリカ固形分を濾液
Ａと混合し、さらに４８ｗｔ％苛性ソーダ水溶液１３．
２ｋｇ及び無定形含水シリカ（ＳｉＯ2＝５５．３ｗｔ
％）８．４ｋｇと水を加えて９５℃で１時間加熱溶解し
て水硝子水溶液Ｃを調製した。この水硝子水溶液Ｃをオ
ートクレーブにて１５０℃で２０分間処理し、冷却後、
濾過して微量の残存する固形分を除去し、ＳｉＯ2／Ｎ
ａ2Ｏモル比３．２の３号水硝子水溶液（ＳｉＯ2＝１
９．１ｗｔ％）１２３．４ｋｇを得た。この回収して得
られた３号水硝子水溶液をゼオライト（Ｘ）の製造にお
いて調製した第二ゲル状混合物の調製の原料の一部に使
用して ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ モル組成のゲル状混合物とし、種子の第一ゲル状混合物
を混合し、ゼオライト（Ｘ）と同様の方法でホージャサ
イト型ゼオイトを製造した。この際の廃液は、前述のよ
うに回収して繰り返し利用される。廃液を利用して得ら
れたホージャサイト型ゼオライトのＸ線回折図をゼオラ
イト（Ｘ）と比較して図１に示す。なお、市販のホージ
ャサイト型ゼオライト（ユニオンカーバイト社製ＳＫ−
４０）を基準としたＸ線回折図の（５３３）及び（６４
２）面の総ピーク面積比により求めた結晶化度はゼオラ
イト（Ｘ）は１０５％であり、廃液も利用して得られた
ゼオライトの結晶化度は１０７％であった。
ン酸ソーダ水溶液、苛性ソーダ、珪酸ソーダ及び水とか
ら、次のモル組成を有する １５．９Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・１４．７ＳｉＯ2・３２９．７Ｈ2Ｏ 第一のゲル状混合物を調製した。この第一のゲル状混合
物を３０〜３４℃の温度で１３時間熟成してゼオライト
製造用の種子を調製した。次に、アルミン酸ソーダ水溶
液（Ａｌ2Ｏ3＝２２．０ｗｔ％，Ｎａ2Ｏ＝１７．０ｗ
ｔ％）と市販の３号水硝子（ＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏ＝３．２
モル比）、無定形含水シリカ、苛性ソーダ及び水とから
調製した次のモル組成を有する第二ゲル状混合物 ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ ２５７．６ｋｇに第一ゲル状混合物１３．０ｋｇを種子
として混合し、室温で３時間熟成した後、さらに９５℃
で３５時間熟成してホージャサイト型ゼオライトを生ぜ
しめた。次いで該ゼオライトを濾過、脱水、洗浄してゼ
オライト（Ｘ）を得た。濾過、脱水に際して濾液Ａ（Ｎ
ａ2Ｏ＝４．８ｗｔ％，ＳｉＯ2＝８．４ｗｔ％）５８．
１ｋｇを回収し、さらにイオン交換水での洗浄により得
られた洗浄濾液Ｂ（Ｎａ2Ｏ＝２．０ｗｔ％，ＳｉＯ2＝
３．４ｗｔ％）４１１ｋｇを回収した。洗浄濾液Ｂに、
Ｈ2ＳＯ4水溶液を加えて中和し、次いで、イオン交換水
で洗浄してシリカの固形分（ＳｉＯ2＝４８．９ｗｔ
％）２８．７ｋｇを回収した。このシリカ固形分を濾液
Ａと混合し、さらに４８ｗｔ％苛性ソーダ水溶液１３．
２ｋｇ及び無定形含水シリカ（ＳｉＯ2＝５５．３ｗｔ
％）８．４ｋｇと水を加えて９５℃で１時間加熱溶解し
て水硝子水溶液Ｃを調製した。この水硝子水溶液Ｃをオ
ートクレーブにて１５０℃で２０分間処理し、冷却後、
濾過して微量の残存する固形分を除去し、ＳｉＯ2／Ｎ
ａ2Ｏモル比３．２の３号水硝子水溶液（ＳｉＯ2＝１
９．１ｗｔ％）１２３．４ｋｇを得た。この回収して得
られた３号水硝子水溶液をゼオライト（Ｘ）の製造にお
いて調製した第二ゲル状混合物の調製の原料の一部に使
用して ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ モル組成のゲル状混合物とし、種子の第一ゲル状混合物
を混合し、ゼオライト（Ｘ）と同様の方法でホージャサ
イト型ゼオイトを製造した。この際の廃液は、前述のよ
うに回収して繰り返し利用される。廃液を利用して得ら
れたホージャサイト型ゼオライトのＸ線回折図をゼオラ
イト（Ｘ）と比較して図１に示す。なお、市販のホージ
ャサイト型ゼオライト（ユニオンカーバイト社製ＳＫ−
４０）を基準としたＸ線回折図の（５３３）及び（６４
２）面の総ピーク面積比により求めた結晶化度はゼオラ
イト（Ｘ）は１０５％であり、廃液も利用して得られた
ゼオライトの結晶化度は１０７％であった。
【０００９】比較例１ 実施例１と同様に、回収された濾液Ａ（５８．１ｋ
ｇ），洗浄濾液Ｂから回収したシリカ固形分（２８．７
ｋｇ）と苛性ソーダ、無定形含水シリカ、水から調整し
た混合液を９５℃で１時間加熱溶解して、１２３．４ｋ
ｇの３号水硝子水溶液（ＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏモル比３．
２，ＳｉＯ2＝１９．１ｗｔ％）を調製した。この３号
水硝子水溶液をオートクレーブ及び濾過処理せずにその
ままゼオライト（Ｘ）の製造において調製した第二ゲル
状混合物の調整の原料の一部に使用して ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ モル組成のゲル状混合物とし種子の第一ゲル状混合物を
混合し、ゼオライト（Ｘ）と同様の方法でホージャサイ
ト型ゼオライトを製造した。このホージャサイト型ゼオ
ライトのＸ線回折図を図２に示す。図２から分るように
ホージャサイト型ゼオライトの結晶形とともにＰ型ゼオ
ライト及びグメリナイトの結晶形が認められる。なお、
このホージャサイト型ゼオライトの結晶化度は６６％で
あった。
ｇ），洗浄濾液Ｂから回収したシリカ固形分（２８．７
ｋｇ）と苛性ソーダ、無定形含水シリカ、水から調整し
た混合液を９５℃で１時間加熱溶解して、１２３．４ｋ
ｇの３号水硝子水溶液（ＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏモル比３．
２，ＳｉＯ2＝１９．１ｗｔ％）を調製した。この３号
水硝子水溶液をオートクレーブ及び濾過処理せずにその
ままゼオライト（Ｘ）の製造において調製した第二ゲル
状混合物の調整の原料の一部に使用して ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ モル組成のゲル状混合物とし種子の第一ゲル状混合物を
混合し、ゼオライト（Ｘ）と同様の方法でホージャサイ
ト型ゼオライトを製造した。このホージャサイト型ゼオ
ライトのＸ線回折図を図２に示す。図２から分るように
ホージャサイト型ゼオライトの結晶形とともにＰ型ゼオ
ライト及びグメリナイトの結晶形が認められる。なお、
このホージャサイト型ゼオライトの結晶化度は６６％で
あった。
【００１０】比較例２ 実施例１と同様に回収された濾液Ａ（５８．１ｋｇ）、
洗浄濾液Ｂから回収したシリカ固形分（２８．７ｋｇ）
と苛性ソーダ、無定形含水シリカ、水から調整した混合
液を９５℃で１時間加熱溶解して、１２３．４ｋｇの３
号水硝子水溶液（ＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏモル比３．２，Ｓｉ
Ｏ2＝１９．１ｗｔ％）を調製した。この３号水硝子水
溶液をオートクレーブにて、１５０℃で２０分処理した
だけで濾過処理せずにゼオライト（Ｘ）の製造において
調製した第二ゲル状混合物の調整の原料の一部に使用し
て ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ モル組成のゲル状混合物とし、種子の第一ゲル状混合物
を混合し、ゼオライト（Ｘ）と同様の方法でホージャサ
イト型ゼオライトを製造した。このホージャサイト型ゼ
オライトについてＸ線回折分析を行ったところ結晶化度
は８２％でありホージャサイト型ゼオライトの外にＰ型
ゼオライトの生成が認められた。
洗浄濾液Ｂから回収したシリカ固形分（２８．７ｋｇ）
と苛性ソーダ、無定形含水シリカ、水から調整した混合
液を９５℃で１時間加熱溶解して、１２３．４ｋｇの３
号水硝子水溶液（ＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏモル比３．２，Ｓｉ
Ｏ2＝１９．１ｗｔ％）を調製した。この３号水硝子水
溶液をオートクレーブにて、１５０℃で２０分処理した
だけで濾過処理せずにゼオライト（Ｘ）の製造において
調製した第二ゲル状混合物の調整の原料の一部に使用し
て ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ モル組成のゲル状混合物とし、種子の第一ゲル状混合物
を混合し、ゼオライト（Ｘ）と同様の方法でホージャサ
イト型ゼオライトを製造した。このホージャサイト型ゼ
オライトについてＸ線回折分析を行ったところ結晶化度
は８２％でありホージャサイト型ゼオライトの外にＰ型
ゼオライトの生成が認められた。
【００１１】比較例３ 実施例１と同様に回収された濾液Ａ（５８．１ｋｇ）、
洗浄濾液Ｂから回収したシリカ固形分（２８．７ｋｇ）
と苛性ソーダ、無定型含水シリカ、水から調整した混合
液を９５℃で１時間加熱溶解して、１２３．４ｋｇの３
号水硝子水溶液（ＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏモル比３．２，Ｓｉ
Ｏ2＝１９．１ｗｔ％）を調製した。この３号水硝子水
溶液をオートクレーブ処理せずに、濾過して、微量の残
存する固形分を除去し、ゼオライト（Ｘ）の製造におい
て調製した第二ゲル状混合物の調整の原料の一部に使用
して ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ モル組成のゲル状混合物とし、種子の第一ゲル状混合物
を混合し、ゼオライト（Ｘ）と同様の方法でホージャサ
イト型ゼオライトを製造した。このホージャサイト型ゼ
オライトについてＸ線回折分析を行ったところ結晶化度
は８０％でホージャサイト型ゼオライトの外にＰ型ゼオ
ライトとグメリナイトの生成が認められた。
洗浄濾液Ｂから回収したシリカ固形分（２８．７ｋｇ）
と苛性ソーダ、無定型含水シリカ、水から調整した混合
液を９５℃で１時間加熱溶解して、１２３．４ｋｇの３
号水硝子水溶液（ＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏモル比３．２，Ｓｉ
Ｏ2＝１９．１ｗｔ％）を調製した。この３号水硝子水
溶液をオートクレーブ処理せずに、濾過して、微量の残
存する固形分を除去し、ゼオライト（Ｘ）の製造におい
て調製した第二ゲル状混合物の調整の原料の一部に使用
して ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ モル組成のゲル状混合物とし、種子の第一ゲル状混合物
を混合し、ゼオライト（Ｘ）と同様の方法でホージャサ
イト型ゼオライトを製造した。このホージャサイト型ゼ
オライトについてＸ線回折分析を行ったところ結晶化度
は８０％でホージャサイト型ゼオライトの外にＰ型ゼオ
ライトとグメリナイトの生成が認められた。
【００１２】実施例２ 実施例１と同様に回収された濾液Ａ５８．１ｋｇと、洗
浄濾液Ｂ４１１ｋｇを混合した廃液をオートクレーブに
て１５０℃で２０分処理し、次いで濾過して微量の残存
する固形分を除去した。このオートクレーブ及び濾過処
理した濾液を更に濃縮しＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏモル比１．８
の２号水硝子水溶液(ＳｉＯ2＝９．９ｗｔ％)１９０．
２ｋｇを得た。この回収して得られた２号水硝子水溶液
とカオリン（ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏモル比２．０）無定形含
水シリカ、苛性ソーダ及び水から調整した次のモル組成
を有する第二ゲル状混合物 ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ ２５７．６ｋｇに第一ゲル状混合物１３．０ｋｇを種子
として混合し、ゼオライト（Ｘ）と同様の方法でホージ
ャサイト型ゼオライトを製造した。なお、この際の母液
は本発明に従って前述のように回収して、繰り返し利用
される。このホージャサイト型ゼオライトのＸ線回折分
析を行ったところ結晶化度は１０５％でホージャサイト
型ゼオライト以外のゼオライトの生成は認められなかっ
た。
浄濾液Ｂ４１１ｋｇを混合した廃液をオートクレーブに
て１５０℃で２０分処理し、次いで濾過して微量の残存
する固形分を除去した。このオートクレーブ及び濾過処
理した濾液を更に濃縮しＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏモル比１．８
の２号水硝子水溶液(ＳｉＯ2＝９．９ｗｔ％)１９０．
２ｋｇを得た。この回収して得られた２号水硝子水溶液
とカオリン（ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏモル比２．０）無定形含
水シリカ、苛性ソーダ及び水から調整した次のモル組成
を有する第二ゲル状混合物 ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ ２５７．６ｋｇに第一ゲル状混合物１３．０ｋｇを種子
として混合し、ゼオライト（Ｘ）と同様の方法でホージ
ャサイト型ゼオライトを製造した。なお、この際の母液
は本発明に従って前述のように回収して、繰り返し利用
される。このホージャサイト型ゼオライトのＸ線回折分
析を行ったところ結晶化度は１０５％でホージャサイト
型ゼオライト以外のゼオライトの生成は認められなかっ
た。
【００１３】比較例４ 実施例１と同様に回収された濾液Ａ５８．１ｋｇと、洗
浄濾液Ｂ４１１ｋｇを混合した濾液をオートクレーブ及
び濾過処理せずに、濃縮し、ＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏモル比
１．８の２号水硝子水溶液（ＳｉＯ2＝９．９ｗｔ％）
１９０．２ｋｇを得た。この回収して得られた２号水硝
子水溶液とカオリン（ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏモル比＝２．
０）無定型含水シリカ、苛性ソーダ及び水から調整した
次のモル組成を有する第二ゲル状混合物 ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ ２５７．６ｋｇに第一ゲル状混合物１３．０ｋｇを種子
として混合し、ゼオライト（Ｘ）と同様の方法でホージ
ャサイト型ゼオライトを製造した。このホージャサイト
形ゼオライトのＸ線回折分析を行ったところ結晶化度は
７６％でホージャサイト型ゼオライト以外にＰ型ゼオラ
イトとグメリナイトの生成が認められた。
浄濾液Ｂ４１１ｋｇを混合した濾液をオートクレーブ及
び濾過処理せずに、濃縮し、ＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏモル比
１．８の２号水硝子水溶液（ＳｉＯ2＝９．９ｗｔ％）
１９０．２ｋｇを得た。この回収して得られた２号水硝
子水溶液とカオリン（ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏモル比＝２．
０）無定型含水シリカ、苛性ソーダ及び水から調整した
次のモル組成を有する第二ゲル状混合物 ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ ２５７．６ｋｇに第一ゲル状混合物１３．０ｋｇを種子
として混合し、ゼオライト（Ｘ）と同様の方法でホージ
ャサイト型ゼオライトを製造した。このホージャサイト
形ゼオライトのＸ線回折分析を行ったところ結晶化度は
７６％でホージャサイト型ゼオライト以外にＰ型ゼオラ
イトとグメリナイトの生成が認められた。
【００１４】実施例３ 実施例１と同様に回収された濾液Ａ５８．１ｋｇ、洗浄
濾液Ｂから回収したシリカ固形分２８．７ｋｇと苛性ソ
ーダ、無定形シリカ及び水から調整した混合液を９５℃
で１時間加熱溶解して、１２３．４ｋｇの３号水硝子水
溶液（ＳｉＯ／Ｎａ2Ｏモル比３．２、ＳｉＯ2＝１９．
１ｗｔ％）を調整した。この３号水硝子水溶液を濾過し
て微量の残存する固形分を除去した後、オートクレーブ
にて１５０℃で２０分処理し、ゼオライト（Ｘ）の製造
において調製した第二ゲル状混合物の原料の一部に利用
して ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ モル組成のゲル状混合物とし、種子の第一ゲル状混合物
を混合し、ゼオライト（Ｘ）と同様の方法でホージャサ
イト型ゼオライトを製造した。この際の廃液は前述のよ
うに回収し、繰り返し利用される。このホージャサイト
型ゼオライトについて、Ｘ線回折分析を行ったところ結
晶化度は１０４％で、ホージャサイト型ゼオライト以外
のゼオライトの生成は認められなかった。
濾液Ｂから回収したシリカ固形分２８．７ｋｇと苛性ソ
ーダ、無定形シリカ及び水から調整した混合液を９５℃
で１時間加熱溶解して、１２３．４ｋｇの３号水硝子水
溶液（ＳｉＯ／Ｎａ2Ｏモル比３．２、ＳｉＯ2＝１９．
１ｗｔ％）を調整した。この３号水硝子水溶液を濾過し
て微量の残存する固形分を除去した後、オートクレーブ
にて１５０℃で２０分処理し、ゼオライト（Ｘ）の製造
において調製した第二ゲル状混合物の原料の一部に利用
して ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ モル組成のゲル状混合物とし、種子の第一ゲル状混合物
を混合し、ゼオライト（Ｘ）と同様の方法でホージャサ
イト型ゼオライトを製造した。この際の廃液は前述のよ
うに回収し、繰り返し利用される。このホージャサイト
型ゼオライトについて、Ｘ線回折分析を行ったところ結
晶化度は１０４％で、ホージャサイト型ゼオライト以外
のゼオライトの生成は認められなかった。
【００１５】実施例４ 実施例１と同様に回収された濾液Ａ５８．１ｋｇと、洗
浄濾液Ｂ４１１ｋｇを混合した廃液をオートクレーブに
て１５０℃で２０分処理し、次いで濾過して微量の残存
する固形分を除去した。このオートクレーブ及び濾過処
理した濾液にＨ 2ＳＯ4水溶液を加えて中和し、次いでイ
オン交換水で洗浄して無定形シリカの固形分（ＳｉＯ2
＝４８．９ｗｔ％）３８．７ｋｇを回収した。この回収
したシリカの固形分とアルミン酸ソーダ（Ａｌ2Ｏ3＝２
２．０ｗｔ％、Ｎａ2Ｏ＝１７．０ｗｔ％）、市販の３
号水硝子水溶液（ＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏ＝３．２モル比）、
無定形含水シリカ及び水とから調整した次のモル組成を
有する第二ゲル状混合物 ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ ２５７．６ｋｇに第一ゲル状混合物１３．０ｋｇを種子
として混合し、ゼオライト（Ｘ）と同様の方法でホージ
ャサイト型ゼオライトを製造した。なお、この際の母液
は本発明に従って前述のように回収して繰り返し利用さ
れる。このホージャサイト型ゼオライトのＸ線回折分析
を行ったところ結晶化度は１０６％で、ホージャサイト
型ゼオライト以外のゼオライトの生成は認められなかっ
た。
浄濾液Ｂ４１１ｋｇを混合した廃液をオートクレーブに
て１５０℃で２０分処理し、次いで濾過して微量の残存
する固形分を除去した。このオートクレーブ及び濾過処
理した濾液にＨ 2ＳＯ4水溶液を加えて中和し、次いでイ
オン交換水で洗浄して無定形シリカの固形分（ＳｉＯ2
＝４８．９ｗｔ％）３８．７ｋｇを回収した。この回収
したシリカの固形分とアルミン酸ソーダ（Ａｌ2Ｏ3＝２
２．０ｗｔ％、Ｎａ2Ｏ＝１７．０ｗｔ％）、市販の３
号水硝子水溶液（ＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏ＝３．２モル比）、
無定形含水シリカ及び水とから調整した次のモル組成を
有する第二ゲル状混合物 ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ ２５７．６ｋｇに第一ゲル状混合物１３．０ｋｇを種子
として混合し、ゼオライト（Ｘ）と同様の方法でホージ
ャサイト型ゼオライトを製造した。なお、この際の母液
は本発明に従って前述のように回収して繰り返し利用さ
れる。このホージャサイト型ゼオライトのＸ線回折分析
を行ったところ結晶化度は１０６％で、ホージャサイト
型ゼオライト以外のゼオライトの生成は認められなかっ
た。
【００１６】比較例５ 実施例１と同様に、回収された濾液Ａ５８．１ｋｇと洗
浄濾液Ｂ４１１ｋｇを混合した濾液をオートクレーブ及
び濾過処理せずに、硫酸水溶液で中和し、次いでイオン
交換水で水洗して無定形シリカの固形分（ＳｉＯ2＝４
８．９ｗｔ％）３８．７ｋｇを回収した。この回収した
シリカ固形分とアルミン酸ソーダ、市販の３号水硝子、
無定形含水シリカ及び水とから調整した次のモル組成を
有する第二ゲル状混合物 ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ ２５７．６ｋｇに第一ゲル状混合物１３．０ｋｇを種子
として混合し、ゼオライト（Ｘ）と同様の方法でホージ
ャサイト型ゼオライトを製造した。このホージャサイト
型ゼオライトについてＸ線回折分析を行ったところ結晶
化度は７０％で、ホージャサイト型ゼオライトの外にＰ
型ゼオライトとグメリナイトの生成が認められた。
浄濾液Ｂ４１１ｋｇを混合した濾液をオートクレーブ及
び濾過処理せずに、硫酸水溶液で中和し、次いでイオン
交換水で水洗して無定形シリカの固形分（ＳｉＯ2＝４
８．９ｗｔ％）３８．７ｋｇを回収した。この回収した
シリカ固形分とアルミン酸ソーダ、市販の３号水硝子、
無定形含水シリカ及び水とから調整した次のモル組成を
有する第二ゲル状混合物 ２．５Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８．０ＳｉＯ2・１０４．３Ｈ2Ｏ ２５７．６ｋｇに第一ゲル状混合物１３．０ｋｇを種子
として混合し、ゼオライト（Ｘ）と同様の方法でホージ
ャサイト型ゼオライトを製造した。このホージャサイト
型ゼオライトについてＸ線回折分析を行ったところ結晶
化度は７０％で、ホージャサイト型ゼオライトの外にＰ
型ゼオライトとグメリナイトの生成が認められた。
【００１７】
【効果】本発明の方法によると、不純物を含まない高結
晶化度のホージャサイト型ゼオライトの製造原料とし
て、従来廃棄されていたホージャサイト型ゼオライト生
成物の廃液から珪素とソーダ成分を回収することができ
る。
晶化度のホージャサイト型ゼオライトの製造原料とし
て、従来廃棄されていたホージャサイト型ゼオライト生
成物の廃液から珪素とソーダ成分を回収することができ
る。
【図１】市販の３号水硝子水溶液を使用して得たホージ
ャサイト型ゼオライトのＸ線回折図である。
ャサイト型ゼオライトのＸ線回折図である。
【図２】ホージャサイト型ゼオライトの廃液より調製し
た３号水硝子水溶液を使用して得たホージャサイト型ゼ
オライトのＸ線回折図である。
た３号水硝子水溶液を使用して得たホージャサイト型ゼ
オライトのＸ線回折図である。
【図３】ホージャサイト型ゼオライトの廃液より調製し
た３号水硝子水溶液を、オートクレーブ及び濾過処理せ
ずに、そのまま原料として使用して得たホージャサイト
形ゼオライトのＸ線回折図である。
た３号水硝子水溶液を、オートクレーブ及び濾過処理せ
ずに、そのまま原料として使用して得たホージャサイト
形ゼオライトのＸ線回折図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−69509（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−89948（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−61600（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−11817（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−61599（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−122466（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−5649（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C01B 33/00 - 39/54
Claims (4)
- 【請求項１】 珪酸ソーダを原料としてホージャサイト
型ゼオライトを製造する方法において、ホージャサイト
型ゼオライト生成物の廃液から、該廃液中に含まれる珪
素とソーダ成分を回収し、ホージャサイト型ゼオライト
製造用原料のシリカとアルカリ源の一部として再利用す
るに際し、該廃液を加熱処理工程と微小粒径の不溶成分
除去処理工程とに任意の順序で付することを特徴とする
ホージャサイト型ゼオライトの製造方法。 - 【請求項２】 珪酸ソーダを原料としてホージャサイト
型ゼオライトを製造する方法において、ホージャサイト
型ゼオライト生成物の廃液から、該廃液中に含まれる珪
素とソーダ成分を下記の〜の工程により珪酸ソーダ
水溶液として回収し、ホージャサイト型ゼオライト製造
用原料のシリカ及びアルカリ源の一部として再利用する
ことを特徴とするホージャサイト型ゼオライトの製造方
法。 ホージャサイト型ゼオライト生成物から過剰の珪素と
ソーダ成分とを含有する母液を分離し、廃液として回収
する。 母液を分離したゼオライトを水洗し、得られた洗浄水
に無機酸を添加して中和し、沈殿固形シリカ分を回収す
る。 前記工程で得られた沈殿固形シリカ分を前記工程
で回収した廃液と混合し、加熱溶解する。 前記工程で得られた廃液に、さらに必要に応じて追
加の苛性ソーダ、含水シリカあるいは水を加え水硝子組
成の廃液を調製する。 前記又は工程で得られた廃液より微小粒径の不溶
成分を除去した後、この廃液を加熱処理するか、又は
又は工程で得られた廃液を加熱処理した後、その中に
含有されている微小粒径の不溶成分を除去する。 - 【請求項３】 珪酸ソーダを原料としてホージャサイト
型ゼオライトを製造する方法において、ホージャサイト
型ゼオライト生成物の廃液から、該廃液中に含まれる珪
素とソーダ成分を下記の〜の工程により珪酸ソーダ
水溶液として回収し、ホージャサイト型ゼオライト製造
用原料のシリカおよびアルカリ源の一部として再利用す
ることを特徴とするホージャサイト型ゼオライトの製造
方法。 ホージャサイト型ゼオライト生成物から過剰の珪素と
ソーダ成分とを含有する母液を分離し、廃液として回収
する。 母液を分離したゼオライトを水洗し、洗浄水を回収す
る。 前記と工程で回収した廃液と洗浄水を混合する。 前記工程で得られた廃液に所望により濃縮処理を行
う。 前記又は工程で得られた廃液より微小粒径の不溶
成分を除去した後、この廃液を加熱処理するか、又は
又は工程で得られた廃液を加熱処理した後、その中に
含有されている微小粒径の不溶成分を除去する。 前記工程で得た廃液に所望により追加の濃縮処理を
行う。 前記または工程で得られた廃液中に必要に応じて
追加の苛性ソーダ、含水シリカあるいは水を加え水硝子
組成の珪酸ソーダ水溶液を調製する。 - 【請求項４】 珪酸ソーダを原料としてホージャサイト
型ゼオライトを製造する方法において、ホージャサイト
型ゼオライト生成物の廃液から該廃液中に含まれる珪素
成分を下記の〜の工程により無定形含水シリカとし
て回収し、ホージャサイト型ゼオライト製造用原料のシ
リカ源の一部として再利用することを特徴とするホージ
ャサイト型ゼオライトの製造方法。 ホージャサイト型ゼオライト生成物から過剰の珪素と
ソーダ成分とを含有する母液を分離し、廃液として回収
する。 母液を分離したゼオライトを水洗し、洗浄水を回収す
る。 前記と工程で回収した廃液と洗浄水を混合する。 前記工程で得られた廃液より微小粒径の不溶成分を
除去した後、この廃液を加熱処理するか、又は工程で
得られた廃液を加熱処理した後、その中に含有されてい
る微小粒径の不溶成分を除去する。 前記工程で得られた廃液に無機酸を添加して中和
し、沈殿固形シリカ分を分離し、必要に応じて水洗す
る。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05646192A JP3262582B2 (ja) | 1992-02-06 | 1992-02-06 | ホージャサイト型ゼオライトの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05646192A JP3262582B2 (ja) | 1992-02-06 | 1992-02-06 | ホージャサイト型ゼオライトの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06107411A JPH06107411A (ja) | 1994-04-19 |
| JP3262582B2 true JP3262582B2 (ja) | 2002-03-04 |
Family
ID=13027743
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05646192A Expired - Lifetime JP3262582B2 (ja) | 1992-02-06 | 1992-02-06 | ホージャサイト型ゼオライトの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3262582B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6864202B2 (en) * | 2002-09-16 | 2005-03-08 | Indian Oil Corporation Limited | Process for preparing sodium silicate alkali solution depleted of sodium salt and enriched in silica |
| CN103979572B (zh) * | 2014-05-26 | 2016-06-01 | 大连理工大学 | 一种循环利用母液改性合成分子筛的方法 |
| JP6271405B2 (ja) * | 2014-12-05 | 2018-01-31 | 三井造船株式会社 | ゼオライト膜を用いた脱水方法 |
-
1992
- 1992-02-06 JP JP05646192A patent/JP3262582B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06107411A (ja) | 1994-04-19 |
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