JP3261211B2 - 流動層反応炉の粒子排出方法及び装置 - Google Patents
流動層反応炉の粒子排出方法及び装置Info
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Description
出方法とその方法を実施するための装置に関する。
ものとして、粉鉱石の使用、一般炭の使用、コークス工
程の省略等により溶銑を安価に製造する溶融還元法が注
目を浴びている。この溶融還元法で発生した排ガスを、
原料鉱石の予備還元のための流動層還元炉の流動ガスと
して供給して、還元力と保有熱を有効に利用することが
行われている。
投入部と、底部付近に流動層形成用のキャリアガス導入
部と、さらに流動層の底板の全面にノズルを設けた流動
用ガス導入部とを設けた流動層を形成するライザーと、
その外側にサイクロンを介して粉体を循環するための粉
体流動部を形成するダウンカマとからなる特開平l−1
11807号公報に開示された型式のものと、サイクロ
ンで捕集した粉状の鉄鉱石(還元鉱石)をライザーへ戻
さない非循環型の流動層とがある。
を排出する装置としては、ライザー内の流動層のガス圧
力が高いために、COを含む炉内有害ガスがリークしな
いようにロータリーフィーダ、スクリューフィーダ等の
機械的なものや、気体搬送型のニューマチックフィーダ
のようなシール性の高いものが使用されている。
鉱石排出装置の中で、ロータリーフィーダ、スクリュー
フィーダ等の機械的手段による排出装置は、流動層還元
炉の内部温度は900〜1000℃の高温であり、しか
もH2 O,SO2 等の腐食性ガスがリッチな還元ガス雰
囲気中での粉鉱石の切出しであるために、構成材料の高
温腐食、応力腐食による劣化と機械的摩耗による回転部
分のトラブルが多く発生する。また、還元ガスはCO,
H2 の有害ガスが数十%含まれており、系外へ洩れると
爆発や中毒で人的,物的な重大災害を招く危険性が大で
ある。このため、回転羽根刃先とケーシングとの隙間を
小さくしてガスリークを防止する構造がとられる。しか
し、高温の粉鉱石を切出すと、刃先のシール部がすぐに
摩耗してガスリークが発生したり、刃先の隙間が小さい
ため粉粒子が噛込んで回転がストップする。このため、
非常に操業性が悪く、且つメンテナンスに多大の費用が
かかっていた。
ようなキャリアガスを利用したガス搬送式排出装置の場
合には、切出しのための回転部材が存在しないので、上
記のような問題はなく優れていると言える。
ダの場合には、流動層内の圧力と外気圧との圧力差が大
の場合、流動層内の圧力変動をもろに受けることにな
り、流動層内の圧力が上昇したときにはニューマチック
フィーダの粉体シール部の鉄鉱石を一気に外気側へ排出
するため、排出口から層内のガスが突出し、切出制御が
不可能となる。一旦、ニューマチックフィーダの粉体シ
ール部が壊れると、その部分を粒子がガスによって気流
搬送されるため、粒子が溜まりにくく、容易に粉体シー
ル機構が回復しないため、安定操業ができなくなるとい
う欠点がある。
べき課題は、流動層による粉粒状原料の反応装置におけ
る機械式排出装置の摩耗トラブル、ガス搬送式排出装置
の炉内圧上昇時の粉体シール崩壊トラブル等の粒子排出
装置の欠点を解消して、粒子の安定した排出を可能とす
る手段を見出すことにある。
粒子排出方法は、流動層反応炉本体下方に、U字状の充
填移動層を形成し、該U字状の充填移動層の炉本体側に
位置する部分の長さを、充填層圧損により、炉内圧力を
シールできる長さにすると共に、前記U字状充填移動層
の底部からキャリアガスを導入し、該導入ガス量を調整
することにより粒子排出量を制御することを特徴とす
る。
実施するための装置として、炉本体底部に接続されてい
る垂直下降管と、それに続く水平面に対し適宜の角度に
て設けられた傾斜下降管と、さらに一端に粒子排出口を
有する上昇管とをそれぞれ連続してほぼU字状の連続管
を構成し、該連続管に複数個のキャリアガスの吹込口と
該ガスの制御装置とを設けると共に、上記垂直下降管と
傾斜下降管との長さの和(L)が下記式によって設定さ
れる装置を使用できる。
のリークガス流速(m/s) μg;リークガスの粘性係数 をそれぞれ示す。
で炉内ガスをシールし、かつ、流動層反応炉側の充填移
動層を形成する粒子が変動しない範囲で操作するので、
炉内圧が少々変動しても充填移動によって粉体シールが
崩壊することはない。
応炉側を傾斜下降管で形成することによって、粒子の移
動性が向上し、粒子の排出が円滑になり、多量の粒子の
切出性が向上する。
要を示す。
ザー2内に供給された原料は、底部のガス導入口3から
導入された還元ガスによって流動層4を形成し、還元反
応が行われる。5は粒体循環系であって、ライザー2の
頂部から排ガスと共に排出された粉状物を回収するサイ
クロン6とそれに続くダウンカマ7からなり、ダウンカ
マ7の下方に形成された充填移動層8は、ライザー2内
の下方に連続的に循環供給される。
(還元鉱石)の排出装置を示す。該排出装置9は、ライ
ザー2の底部に連続された垂直下降管10と、それに続
く傾斜下降管11と、さらに一端に排出口17を有する
上昇管12とを連続して、ほぼU字状に湾曲した充填移
動層13を形成している。その際、上記傾斜下降管11
は、粒子の移動性を向上せしめるため、水平面に対し適
宜に角度θ、例えば安息角以上の角度(本実施例では約
60°)にて設けられている。この底面と、垂直下降管
10の側面と傾斜下降管11の下面にはそれぞれキャリ
アガス導入部14,15,16が設けられており、各導
入部からのキャリアガスの吹込み量の調整により、充填
移動層13の粒子移動速度を制御し、上昇管12から還
元鉱石を排出する。この還元鉱石排出装置において、U
字状に形成された充填移動層のシール圧力は、充填移動
層を形成する還元鉱石粒子間を流れる炉内からのリーク
ガス流速と充填移動層長さによって決まる(充填層圧
損)。炉内と外気との圧力差ΔP(mmAg),還元鉱
石の平均粒子径dp(m),充填移動炉内の還元鉱石粒
子間を流れる炉内からのリークガス流速Ug(m/
s),リークガスの粘性係数μg(kgs/m2 ),さ
らには粒子の形状補正係数a(−)とすると、圧力シー
ルに必要な充填移動層の長さL(m)は、L=a×ΔP
×dp 2/(ug×μg)・・・(1)と表わすことが
できる。ここでLは、垂直下降管と傾斜下降管に形成さ
れる充填移動層の長さであり、aは実験的に求める係数
である。炉内と外気との圧力差1500〜max200
0mmAq、温度900℃で平均粒子径155μm(a
=0.00013)の粉鉱石を還元する流動層還元炉の
還元鉱石の排出装置に適用し、炉内ガスの許容リーク量
を0.01/mm3 以下とした場合の移動充填層の圧力
シール長さは2m(垂直下降管部:1.5m,傾斜下降
管部:0.5m、管垂直:0.1m)であった。これに
よって、炉内圧力の変動に対して充分な粉体シール機構
を形成することができる。操業に際しては、下降管1
0,11の側壁にキャリアガスを吹込み、かつ、キャリ
アガスの吹込み量を還元鉱石の流動化開始速度(量)以
下に調速することにより、下降管10,11に形成する
充填移動層の粒子自重と炉内圧による押出力を利用し
て、還元鉱石を炉外に排出する。吹込まれたキャリアガ
スが側壁面への還元鉱石の粒子押付け力を緩和すること
により、還元鉱石の下降を拘束している壁面摩擦力が低
減し、還元鉱石は粒子自重と炉内圧により下降管10,
11を下降し上昇管12から押し出される。還元鉱石の
排出速度はキャリアガス導入部14,15,16,から
吹込まれるキャリアガス量に比例する。また、キャリア
ガス導入部14,15から吹込むキャリアガスの下降管
10,11内の上昇速度は還元鉱石の流動化開始速度以
下に調整するため、下降管10,11内の還元鉱石の流
動化による還元鉱石の流出および粉体シールの崩壊が発
生することはない。
ができる。
ないので、排出装置そのものに摩耗、腐食等によるトラ
ブルの発生がない。
リーク量が少なく、装置全体の安全性が高い。
装置全体の安定操業が可能となる。
す。
Claims (2)
- 【請求項1】 流動層反応炉本体下方にU字状の充填移
動層を形成し、 該U字状の充填移動層の炉本体側に位置する部分の長さ
を、充填層圧損により炉内圧力をシールできる長さとす
ると共に、 前記U字状充填移動層の底部からキャリアガスを導入
し、 該導入ガス量を調整することにより粒子排出量を制御す
る流動層反応炉の粒子排出方法。 - 【請求項2】 炉本体底部に接続されている垂直下降管
と、それに続く水平面に対し適宜の角度にて設けられた
傾斜下降管と、さらに一端に粒子排出口を有する上昇管
とをそれぞれ連続してほぼU字状の連続管を構成し、 該連続管に複数個のキャリアガスの吹込口と該ガスの制
御装置とを設けると共に、 上記垂直下降管と傾斜下降管との長さの和(L)が下記
式によって設定されることを特徴とする流動層反応炉の
粒子排出装置。 L=a×ΔP×dp 2/(Ug×μg) 同式において、 a ;係数 ΔP;炉内と外気との圧力差(mm/Aq) dp;還元鉱石の平均粒子径(m) Ug;充填移動層内の還元鉱石粒子間を流れる炉内から
のリークガス流速(m/s) μg;リークガスの粘性係数 をそれぞれ示す。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14655593A JP3261211B2 (ja) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | 流動層反応炉の粒子排出方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP14655593A JP3261211B2 (ja) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | 流動層反応炉の粒子排出方法及び装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH073316A JPH073316A (ja) | 1995-01-06 |
JP3261211B2 true JP3261211B2 (ja) | 2002-02-25 |
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ID=15410321
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP14655593A Expired - Fee Related JP3261211B2 (ja) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | 流動層反応炉の粒子排出方法及び装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP3261211B2 (ja) |
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1993
- 1993-06-17 JP JP14655593A patent/JP3261211B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPH073316A (ja) | 1995-01-06 |
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