JP3256258B2 - コーティング膜形成ノズル - Google Patents
コーティング膜形成ノズルInfo
- Publication number
- JP3256258B2 JP3256258B2 JP02508792A JP2508792A JP3256258B2 JP 3256258 B2 JP3256258 B2 JP 3256258B2 JP 02508792 A JP02508792 A JP 02508792A JP 2508792 A JP2508792 A JP 2508792A JP 3256258 B2 JP3256258 B2 JP 3256258B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- upstream
- downstream
- central
- glass
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、加熱されたガラス帯に
対して、例えばシランやモノシランなどに代表されるよ
うな、カルボニル金属や気化性水素化合金属成分からな
るガスから得られる被覆フィルムを形成する装置に取り
付けられるノズルに関する。
対して、例えばシランやモノシランなどに代表されるよ
うな、カルボニル金属や気化性水素化合金属成分からな
るガスから得られる被覆フィルムを形成する装置に取り
付けられるノズルに関する。
【０００２】
【従来の技術】仏国特許第２３１４１５２号によってこ
の種のノズルが公知であり、それには移動するガラス帯
の被覆面に対して、ガラス帯の搬送方向に横断する方向
に延びる分配器からのコーティングガスが噴射され、更
にガスはガラス表面に対して平行にかつガラス帯の全幅
に亙って均一に薄く流れるように噴射される。
の種のノズルが公知であり、それには移動するガラス帯
の被覆面に対して、ガラス帯の搬送方向に横断する方向
に延びる分配器からのコーティングガスが噴射され、更
にガスはガラス表面に対して平行にかつガラス帯の全幅
に亙って均一に薄く流れるように噴射される。
【０００３】このため、ノズルは、ガス噴射装置、中央
ブロック、上流側の側方ヒールと下流の側方ヒールとを
有し、これらのヒールは中央ブロックの片側に配置さ
れ、噴射装置からのガスに対し、上流側側方ヒールと中
央ブロックとの間、中央ブロックの下面とガラス帯との
間、及び中央ブロックと下流側ヒールとの間に延びるＵ
状ガイド溝に沿った流路を提供し、ノズルは更に中央ブ
ロックと下流側ヒールとの間の溝からの出口に形成され
るガス吸引装置を有する。
ブロック、上流側の側方ヒールと下流の側方ヒールとを
有し、これらのヒールは中央ブロックの片側に配置さ
れ、噴射装置からのガスに対し、上流側側方ヒールと中
央ブロックとの間、中央ブロックの下面とガラス帯との
間、及び中央ブロックと下流側ヒールとの間に延びるＵ
状ガイド溝に沿った流路を提供し、ノズルは更に中央ブ
ロックと下流側ヒールとの間の溝からの出口に形成され
るガス吸引装置を有する。
【０００４】尚、ここで用いられている上流側、中央、
下流側の各表現はガラス帯の搬送方向に対して定義した
ものである。上流側ヒールと下流側ヒールには、ガラス
表面に対し微少距離（約１mm）をおいて平行に延びる平
坦な下面が設けられ、これらの下面とガラスとの間で起
こるガス飛散を最小限にする。
下流側の各表現はガラス帯の搬送方向に対して定義した
ものである。上流側ヒールと下流側ヒールには、ガラス
表面に対し微少距離（約１mm）をおいて平行に延びる平
坦な下面が設けられ、これらの下面とガラスとの間で起
こるガス飛散を最小限にする。
【０００５】このノズルは、ガラス帯上に例えば６０ナ
ノメートル以下の微少薄さのコーティングを施したり、
かつ／又は小流量のガスを用いて約３．３ｍ幅のノズル
に対して１００ １／min.のオーダの薄膜コーティング
を施すことが望まれるような場合、正しく機能する。事
実、これらの厚さに対しては、溝の水平部のガス流はガ
ラス帯のそれよりも小さな速度で流れる。この流れはこ
のため下流側方向においてはガラス帯に乗せられ、その
結果、上流側ヒール上でのガス飛散も外殻飛散も発生し
ない。同様に、下流ヒール側の下で発生する飛散は、清
浄期間と比較して長い生産期間に対し充分小さい。従っ
てガラスの損失は比較的制限される。
ノメートル以下の微少薄さのコーティングを施したり、
かつ／又は小流量のガスを用いて約３．３ｍ幅のノズル
に対して１００ １／min.のオーダの薄膜コーティング
を施すことが望まれるような場合、正しく機能する。事
実、これらの厚さに対しては、溝の水平部のガス流はガ
ラス帯のそれよりも小さな速度で流れる。この流れはこ
のため下流側方向においてはガラス帯に乗せられ、その
結果、上流側ヒール上でのガス飛散も外殻飛散も発生し
ない。同様に、下流ヒール側の下で発生する飛散は、清
浄期間と比較して長い生産期間に対し充分小さい。従っ
てガラスの損失は比較的制限される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】これに対し、ガラス帯
上に例えば８０ナノメートルの微少薄さのコーティング
を施したり、かつ／又は高流量のガスを用いて約３．３
ｍ幅のノズルに対して少なくとも４００ １／min.のオ
ーダの薄膜コーティングを施すことが望まれるような場
合、ガスの流速はガラス帯の速度よりも確かに高くなる
ことができる。しかしながらこの速度上昇は以下の欠点
を導く。
上に例えば８０ナノメートルの微少薄さのコーティング
を施したり、かつ／又は高流量のガスを用いて約３．３
ｍ幅のノズルに対して少なくとも４００ １／min.のオ
ーダの薄膜コーティングを施すことが望まれるような場
合、ガスの流速はガラス帯の速度よりも確かに高くなる
ことができる。しかしながらこの速度上昇は以下の欠点
を導く。
【０００７】 ・ その分解を確実にする一方で所望の膜厚を得るため
に速度に比例してＵ部溝の水平部長さを増加しなければ
ならない。 ・ ガス速度はガラス帯速度よりも大きいため、下流ヒ
ールの下方からの飛散はかなりの量になり、上流ヒール
下方からも飛散しがちである。これらのヒールの下面は
コーティング材のデポジットで早い時期に覆われ、流速
がより高くなるガス脈を作り、結果としてガラス帯を横
断する方向に不等質の付着物を生じる。
に速度に比例してＵ部溝の水平部長さを増加しなければ
ならない。 ・ ガス速度はガラス帯速度よりも大きいため、下流ヒ
ールの下方からの飛散はかなりの量になり、上流ヒール
下方からも飛散しがちである。これらのヒールの下面は
コーティング材のデポジットで早い時期に覆われ、流速
がより高くなるガス脈を作り、結果としてガラス帯を横
断する方向に不等質の付着物を生じる。
【０００８】 ・ 閉塞や付着がかなりのものになる時、コーティング
粒子がガラスに接触して跡を残す可能性がある。 ・ 時間と共に増加する付着はノズルの定期的なクリー
ニングを要し、この時ガラス生産ラインはその生産量を
維持しなければならないため、損失ガラスを産む。
粒子がガラスに接触して跡を残す可能性がある。 ・ 時間と共に増加する付着はノズルの定期的なクリー
ニングを要し、この時ガラス生産ラインはその生産量を
維持しなければならないため、損失ガラスを産む。
【０００９】 ・ 回復されないガス飛散は、ガラス製造用フロート容
器の内部にこの種のノズルが装着される場合、ガラス用
フロート浴の雰囲気を汚す。本発明は、ガラス帯上に比
較的薄い膜を付着させることができ、かつ／又は高いガ
ラス流量を用いることができるノズルを提案すること
で、これらの欠点に対処することを目的とする。
器の内部にこの種のノズルが装着される場合、ガラス用
フロート浴の雰囲気を汚す。本発明は、ガラス帯上に比
較的薄い膜を付着させることができ、かつ／又は高いガ
ラス流量を用いることができるノズルを提案すること
で、これらの欠点に対処することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明によればノズル
は、 ・ ガラス帯に対して横断する中央噴射路をその間に形
成する第１及び第２中央ブロックであって、これらの中
央ブロックはガラス帯とで一定厚の２つの通路を形成
し、中央噴射路からのガスは２つの通路の間で、ガラス
帯に平行でかつ一方は上流側へ流れ、他方は下流側に流
れる２つの層流に分割されるような、第１及び第２中央
ブロック、及び ・ 第１中央ブロックの上流側と第２中央ブロックの下
流側に夫々取り付けられ、これらのブロックと共に上流
側吸引路と下流側吸引路を形成する上流側ヒールと下流
側ヒールであって、好ましくはこれらのヒールの少なく
とも一方にガラス帯よりも高い下面が設けられる、上流
側ヒール及び下流側ヒール、を有する。
は、 ・ ガラス帯に対して横断する中央噴射路をその間に形
成する第１及び第２中央ブロックであって、これらの中
央ブロックはガラス帯とで一定厚の２つの通路を形成
し、中央噴射路からのガスは２つの通路の間で、ガラス
帯に平行でかつ一方は上流側へ流れ、他方は下流側に流
れる２つの層流に分割されるような、第１及び第２中央
ブロック、及び ・ 第１中央ブロックの上流側と第２中央ブロックの下
流側に夫々取り付けられ、これらのブロックと共に上流
側吸引路と下流側吸引路を形成する上流側ヒールと下流
側ヒールであって、好ましくはこれらのヒールの少なく
とも一方にガラス帯よりも高い下面が設けられる、上流
側ヒール及び下流側ヒール、を有する。
【００１１】ノズルは更に、中央噴射路への入り口に取
り付けられたガス噴射装置と、上記上流吸引路と下流吸
引路からの各出口に夫々取り付けられる２つのガス吸引
装置とを有する。
り付けられたガス噴射装置と、上記上流吸引路と下流吸
引路からの各出口に夫々取り付けられる２つのガス吸引
装置とを有する。
【００１２】
【作用】上流側ヒール及び下流側ヒールがガラス帯に対
して高い位置にある時、起こり得るそれらの下面の目詰
まりや付着は問題にはならない。特に、コーティングの
凹凸に帰着するようなガス流量の変化もなく、又コーテ
ィングがあまりにも大きい時ガラス上に付けられるよう
な痕跡の形成もない。
して高い位置にある時、起こり得るそれらの下面の目詰
まりや付着は問題にはならない。特に、コーティングの
凹凸に帰着するようなガス流量の変化もなく、又コーテ
ィングがあまりにも大きい時ガラス上に付けられるよう
な痕跡の形成もない。
【００１３】更に、上流側ヒールと下流側ヒールとがガ
ラス帯からかなりの距離にあるけれども上流側方向及び
下流側方向に対してガスの飛散はない。何故ならガラス
帯上を上流側及び下流側に流れる２つのガス流は、上記
ガス流と同時に吸引される周辺ガスの向流によって夫々
阻止されるからである。ガラスは移動するため、ガラス
は中央噴射路からのガス流のかなりの部分を下流側方向
に乗せる傾向がある。この流れの部分は、上流側を移動
する残留した流れよりも高い速度で流れる。その結果、
仮に中央噴射路が上流側吸引路と下流側吸引路とから等
距離に置かれるならば、課せられた経路に沿って上流側
に向かうガスの移動時間は、熱いガラス帯上で熱分解に
要求される時間よりも長くなり、これは第１中央ブロッ
クの長さ部分は無用なものとなるということを意味す
る。逆に、下流側に流れるガス流に対する接触時間は充
分ではなく、この結果コーティングガスの一部は使用さ
れなくなるであろう。従って、そのような中央送りノズ
ルは反応ガスの消費や蒸着、及び全長サイズに関して最
適化されない。後者の点はコーティング装置が有効空間
が小さいフロート槽容器内に配置された時、特に重要に
なる。
ラス帯からかなりの距離にあるけれども上流側方向及び
下流側方向に対してガスの飛散はない。何故ならガラス
帯上を上流側及び下流側に流れる２つのガス流は、上記
ガス流と同時に吸引される周辺ガスの向流によって夫々
阻止されるからである。ガラスは移動するため、ガラス
は中央噴射路からのガス流のかなりの部分を下流側方向
に乗せる傾向がある。この流れの部分は、上流側を移動
する残留した流れよりも高い速度で流れる。その結果、
仮に中央噴射路が上流側吸引路と下流側吸引路とから等
距離に置かれるならば、課せられた経路に沿って上流側
に向かうガスの移動時間は、熱いガラス帯上で熱分解に
要求される時間よりも長くなり、これは第１中央ブロッ
クの長さ部分は無用なものとなるということを意味す
る。逆に、下流側に流れるガス流に対する接触時間は充
分ではなく、この結果コーティングガスの一部は使用さ
れなくなるであろう。従って、そのような中央送りノズ
ルは反応ガスの消費や蒸着、及び全長サイズに関して最
適化されない。後者の点はコーティング装置が有効空間
が小さいフロート槽容器内に配置された時、特に重要に
なる。
【００１４】これらの欠点は中央ブロックの長さを不均
等にした本発明によって解決される。それらは、ガスと
ガラス帯の接触時間が上流側を流れるガス流と下流側を
流れるガス流に関して実質上等しくなるように計算され
る。最適な配分を持つ上記ノズルは比較的コンパクトで
あり、それはフロートガラス閉じ込め容器内に導入する
ことが可能である。それは従来のノズルでは不可能と考
えられていた蒸着を可能にするほどの蒸着能力を有す
る。
等にした本発明によって解決される。それらは、ガスと
ガラス帯の接触時間が上流側を流れるガス流と下流側を
流れるガス流に関して実質上等しくなるように計算され
る。最適な配分を持つ上記ノズルは比較的コンパクトで
あり、それはフロートガラス閉じ込め容器内に導入する
ことが可能である。それは従来のノズルでは不可能と考
えられていた蒸着を可能にするほどの蒸着能力を有す
る。
【００１５】
【実施例】図１は、例えば図示しない溶解スズ浴を含ん
だ容器の中の溶解スズのような金属浴１２の表面に浮か
ぶガラス帯１０を示している。このガラスは図で左側に
位置することになるガラス溶解炉（図示せず）から浴の
上を流れる。ガラスは帯を形成するべく広がり、帯は浴
からの出口に設けられた引き抜き手段によって矢印ｆ方
向に一定速度で浴から引き抜かれる。
だ容器の中の溶解スズのような金属浴１２の表面に浮か
ぶガラス帯１０を示している。このガラスは図で左側に
位置することになるガラス溶解炉（図示せず）から浴の
上を流れる。ガラスは帯を形成するべく広がり、帯は浴
からの出口に設けられた引き抜き手段によって矢印ｆ方
向に一定速度で浴から引き抜かれる。
【００１６】ガラス帯１０の上方であって寸法的な安定
性を得たフロート浴の領域内には、コーティングガスを
供給するためのノズル１４が設けられている。このノズ
ルはガラス帯に対して横断する方向に配置されており、
この帯の全幅を横切って延びている。それは反転された
Ｕ状の部材１６を有しており、その垂直側壁の端縁は水
平なブラケット１８，２０上に固定される。ブラケット
は両端縁の間に長方形の開口部２２を形成し、開口部は
ガラス帯に対し横断し帯幅に等しい長さを有する。
性を得たフロート浴の領域内には、コーティングガスを
供給するためのノズル１４が設けられている。このノズ
ルはガラス帯に対して横断する方向に配置されており、
この帯の全幅を横切って延びている。それは反転された
Ｕ状の部材１６を有しており、その垂直側壁の端縁は水
平なブラケット１８，２０上に固定される。ブラケット
は両端縁の間に長方形の開口部２２を形成し、開口部は
ガラス帯に対し横断し帯幅に等しい長さを有する。
【００１７】部材より画成されるチャンバ２４内には、
その全長に亙って穴２７が空けられたガス送りダクト２
６が収納される。ガスはチャンバ２４を充満し、ここで
均一な圧力となり開口部２２から流出する。ノズルは、
ガラス帯１０の上方において上流側から下流側の順で配
置された上流側ヒール３０、第１の中央ブロック３２、
第２の中央ブロック３４及び下流側ヒールを有する。
その全長に亙って穴２７が空けられたガス送りダクト２
６が収納される。ガスはチャンバ２４を充満し、ここで
均一な圧力となり開口部２２から流出する。ノズルは、
ガラス帯１０の上方において上流側から下流側の順で配
置された上流側ヒール３０、第１の中央ブロック３２、
第２の中央ブロック３４及び下流側ヒールを有する。
【００１８】通常カーボンから造られるこれらの部品
は、夫々ガラス帯の全幅を横切って延び、それらの間と
帯とで、２つの中央ブロックの隣接する側壁面によって
形成されかつ開口部２２に接続される垂直噴射路３８
と、中央ブロックの下面とガラス帯との間に形成されか
つ一定厚（約３〜６mm）の水平上流側通路４０及び水平
下流側通路４２と、上流側ヒール３０と第１中央ブロッ
ク３２の間に形成される上流側吸引路４４と、第２中央
ブロック３４と下流側ヒール３６との間で形成される下
流側吸引路４６とを有する。
は、夫々ガラス帯の全幅を横切って延び、それらの間と
帯とで、２つの中央ブロックの隣接する側壁面によって
形成されかつ開口部２２に接続される垂直噴射路３８
と、中央ブロックの下面とガラス帯との間に形成されか
つ一定厚（約３〜６mm）の水平上流側通路４０及び水平
下流側通路４２と、上流側ヒール３０と第１中央ブロッ
ク３２の間に形成される上流側吸引路４４と、第２中央
ブロック３４と下流側ヒール３６との間で形成される下
流側吸引路４６とを有する。
【００１９】吸引路４４，４６の出口に対しダクト４
８，５０から構成される吸引手段が取り付けられ、ダク
トには穴５２が空けられ装置の全幅に横切って延びる。
これらのダクトは反転Ｕ状部材５４，５６内に収納さ
れ、部材はブラケット５８，６０及び６２，６４によっ
て各中央ブロック３２，３４と各ヒール３０，３６に固
定される。
８，５０から構成される吸引手段が取り付けられ、ダク
トには穴５２が空けられ装置の全幅に横切って延びる。
これらのダクトは反転Ｕ状部材５４，５６内に収納さ
れ、部材はブラケット５８，６０及び６２，６４によっ
て各中央ブロック３２，３４と各ヒール３０，３６に固
定される。
【００２０】送りダクト２６からのガス流は噴射路３８
を下降し、２つの流れに分かれる。それは水平上流側通
路４０を通ってガラス帯搬送方向とは逆に流れる上流側
流れ６６と水平下流側通路４２を通ってガラス帯搬送方
向と同じように流れる下流側流れ６８である。そして最
終的にはこの上流側流れと下流側流れとは夫々上流側吸
引路４４、下流側吸引路４６を介して外へと吸引され
る。
を下降し、２つの流れに分かれる。それは水平上流側通
路４０を通ってガラス帯搬送方向とは逆に流れる上流側
流れ６６と水平下流側通路４２を通ってガラス帯搬送方
向と同じように流れる下流側流れ６８である。そして最
終的にはこの上流側流れと下流側流れとは夫々上流側吸
引路４４、下流側吸引路４６を介して外へと吸引され
る。
【００２１】本発明によれば、上流側ヒール３０、下流
側ヒール３６のどんな汚損をも防ぎガス流を妨害しない
ように、これらのヒールの下面７０，７２はガラス帯１
０に対して、例えば３〜５０mmのような充分な距離、好
ましくは１０〜３０mmや１０〜２０mmのような距離を以
て上方に位置せしめられることが好ましい。しかしなが
ら、この距離を増加してもヒール下方からコーティング
ガスが飛散したり漏出することはない。何故なら、吸引
路４４，４６の吸引によって発生する負圧のために、周
囲ガスの向流７４，７６がヒール下方に発生し、それら
は上流側流れ６６、下流側流れ６８に対して反対方向に
流れることでどんなガス飛散をも阻止する。
側ヒール３６のどんな汚損をも防ぎガス流を妨害しない
ように、これらのヒールの下面７０，７２はガラス帯１
０に対して、例えば３〜５０mmのような充分な距離、好
ましくは１０〜３０mmや１０〜２０mmのような距離を以
て上方に位置せしめられることが好ましい。しかしなが
ら、この距離を増加してもヒール下方からコーティング
ガスが飛散したり漏出することはない。何故なら、吸引
路４４，４６の吸引によって発生する負圧のために、周
囲ガスの向流７４，７６がヒール下方に発生し、それら
は上流側流れ６６、下流側流れ６８に対して反対方向に
流れることでどんなガス飛散をも阻止する。
【００２２】前述したように、反応ガスの消費という点
からのコストやノズル全体のサイズを最適化するために
は、コーティングガスとガラス帯１０との接触時間が上
流側流れ６６と下流側流れ６８に対して互いに等しくな
るように中央ブロック３２，３４の寸法が決められる。
以下の定義を用いる。
からのコストやノズル全体のサイズを最適化するために
は、コーティングガスとガラス帯１０との接触時間が上
流側流れ６６と下流側流れ６８に対して互いに等しくな
るように中央ブロック３２，３４の寸法が決められる。
以下の定義を用いる。
【００２３】 Ｌ１ ：中央ブロック３２の長さ Ｌ２ ：中央ブロック３４の長さ Ｖ１ ：上流側通路４０を通って上流側に流れるガスの
流速 Ｖ２ ：下流側通路４２を通って下流側に流れるガスの
流速 ｖ ：ガラス帯の搬送速度 ΔＰ１ ：ヘッドの上流側損失 ΔＰ２ ：ヘッドの下流側損失 ΔＰ１ ＝ＫＬ１ （Ｖ２ ＋ｖ／２） ΔＰ２ ＝ＫＬ２ （Ｖ２ −ｖ／２）上流側ガラス帯と下流側ガラス帯と のガラスの接触時間
の等式は以下の式で表せる。
流速 Ｖ２ ：下流側通路４２を通って下流側に流れるガスの
流速 ｖ ：ガラス帯の搬送速度 ΔＰ１ ：ヘッドの上流側損失 ΔＰ２ ：ヘッドの下流側損失 ΔＰ１ ＝ＫＬ１ （Ｖ２ ＋ｖ／２） ΔＰ２ ＝ＫＬ２ （Ｖ２ −ｖ／２）上流側ガラス帯と下流側ガラス帯と のガラスの接触時間
の等式は以下の式で表せる。
【００２４】 Ｌ１ ／Ｖ１ ＝Ｌ２ ／Ｖ２ （１） ヘッドの上流側損失と下流側損失との実際の等式は以下
のように書ける。 Ｌ１ （Ｖ１ ＋ｖ／２）＝Ｌ２ （Ｖ２ −ｖ／２） （２） ここで、 Ｖ１ ＋Ｖ２ ＝Ｖ （３） （但し、Ｖ：ガスの噴射速度） ノズル幅１ｍ当たりの流量をＱとし、中央ブロックとガ
ラス帯間のガス帯の厚さをｅとすると、Ｖ＝Ｑ／ｅの関
係が知られている。
のように書ける。 Ｌ１ （Ｖ１ ＋ｖ／２）＝Ｌ２ （Ｖ２ −ｖ／２） （２） ここで、 Ｖ１ ＋Ｖ２ ＝Ｖ （３） （但し、Ｖ：ガスの噴射速度） ノズル幅１ｍ当たりの流量をＱとし、中央ブロックとガ
ラス帯間のガス帯の厚さをｅとすると、Ｖ＝Ｑ／ｅの関
係が知られている。
【００２５】式（１），（２）から Ｖ１ （Ｖ１ ＋ｖ／２）＝Ｖ２ （Ｖ２ −ｖ／２） となり、この式のＶ２ を式（３）によって得られた値
Ｖ−Ｖ１ で置き換えると、下式が得られる。 Ｖ１ ＝（Ｖ−ｖ／２） （４） Ｖ２ ＝（Ｖ＋ｖ／２） （５） 故に、 Ｌ１ ／Ｌ２ ＝（Ｖ−ｖ／２）／（Ｖ＋ｖ／２） （６） が得られる。ここで数値を適用し、 ｖ＝０．２ ｍ／ｓ Ｖ＝０．４ ｍ／ｓ Ｌ１ ＋Ｌ２ ＝４００ mm （７） とすると、 Ｖ１ ＝０．１５ ｍ／ｓ Ｖ２ ＝０．２５ ｍ／ｓ が得られる。式（６），（７）の装置の解は、 Ｌ１ ＝１５０ mm Ｌ２ ＝２５０ mm 最適化された配分になるこの種のノズルは高い収量を有
し、従来ノズルでは不可能と考えられていた蒸着を可能
にする。
Ｖ−Ｖ１ で置き換えると、下式が得られる。 Ｖ１ ＝（Ｖ−ｖ／２） （４） Ｖ２ ＝（Ｖ＋ｖ／２） （５） 故に、 Ｌ１ ／Ｌ２ ＝（Ｖ−ｖ／２）／（Ｖ＋ｖ／２） （６） が得られる。ここで数値を適用し、 ｖ＝０．２ ｍ／ｓ Ｖ＝０．４ ｍ／ｓ Ｌ１ ＋Ｌ２ ＝４００ mm （７） とすると、 Ｖ１ ＝０．１５ ｍ／ｓ Ｖ２ ＝０．２５ ｍ／ｓ が得られる。式（６），（７）の装置の解は、 Ｌ１ ＝１５０ mm Ｌ２ ＝２５０ mm 最適化された配分になるこの種のノズルは高い収量を有
し、従来ノズルでは不可能と考えられていた蒸着を可能
にする。
【００２６】このようなノズルは前述したようなフロー
ト容器内部に取り付けても良いが、外部にも取り付け可
能である。更に、特にヒールの一方（例えば、上流側ヒ
ール）が、高くないヒールと同じ側で高くない時、補助
吸引手段を本ノズルの上流側及び／又は下流側に装着し
ても良い。
ト容器内部に取り付けても良いが、外部にも取り付け可
能である。更に、特にヒールの一方（例えば、上流側ヒ
ール）が、高くないヒールと同じ側で高くない時、補助
吸引手段を本ノズルの上流側及び／又は下流側に装着し
ても良い。
【図１】本発明によるノズルの概略的断面図である。
１０…ガラス帯 １２…フロート浴 １４…ノズル ３０…上流側ヒール ３２…第１の中央ブロック ３４…第２の中央ブロック ３６…下流側ヒール ３８…中央噴射路 ４０，４２…通路 ４４…上流側吸引路 ４６…下流側吸引路 ６６，６８…層流 ７０，７２…下面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C03C 15/00 - 23/00 C23C 16/00 - 16/56
Claims (7)
- 【請求項１】 層流様式でガス混合物の熱分解によりガ
ラス帯の上にコーティング膜を形成するノズルであっ
て、 ガラス帯（１０）に対して横断する中央噴射路（３８）
をその間に形成する第１及び第２中央ブロック（３２，
３４）であって、これらの中央ブロックはガラス帯と共
に一定厚の２つの通路（４０，４２）を形成し、中央噴
射路（３８）からのガスは上記２つの通路の間で、ガラ
ス帯に平行でかつ一方は上流側へ流れ他方は下流側に流
れる２つの層流（６６，６８）に分割されるような、第
１及び第２中央ブロックと、 第１中央ブロック（３２）の上流側と第２中央ブロック
（３４）の下流側に夫々取り付けられ、これらのブロッ
クと共に上流側吸引路（４４）と下流側吸引路（４６）
を形成する上流側ヒール（３０）と下流側ヒール（３
６）であって、これら上流側ヒールと下流側ヒールとの
少なくとも一方の下面（７０，７２）は、ガラス帯より
も高いような上流側ヒールと下流側ヒールとを有し、さ
らに前記各中央ブロック（３２、３４）の各長さ（Ｌ１
とＬ２）は互いに等しくない、ことを特徴とするノズ
ル。 - 【請求項２】 上流側ヒール（３０）又は下流側ヒール
（３６）の下面（７０，７２）はガラス帯から３〜５０
mmの距離を隔てた位置にあることを特徴とする請求項１
に記載のノズル。 - 【請求項３】 層流様式でガス混合物の熱分解によりガ
ラス上にコーティング膜を形成するノズルであって、ガ
ラス帯（１０）に対して横断する中央噴射路（３８）を
その間に形成する第１及び第２中央ブロック（３２，３
４）を有し、これらの中央ブロックはガラス帯と共に２
つの通路（４０，４２）を形成し、中央噴射路（３８）
からのガスは上記２つの通路の間で、ガラス帯に平行で
かつ一方は上流側へ流れ他方は下流側に流れる２つの層
流（６６，６８）に分割され、第１及び第２中央ブロッ
ク（３２，３４）の各長さ（Ｌ１ とＬ２ ）は互いに
等しくないことを特徴とするノズル。 - 【請求項４】 上記中央ブロック（３２，３４）の長さ
（Ｌ１ とＬ２ ）は、ガスとガラス帯（１０）との接
触時間が、上流側に流れるガス流（６６）と下流側に流
れるガス流（６８）とで実質上等しくなるように設計さ
れることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に
記載のノズル。 - 【請求項５】 上記中央ブロック（３２，３４）の長さ
（Ｌ１ とＬ２ ）は、夫々上流側と下流側とで、 Ｌ１ ／Ｌ２ ＝（Ｖ−ｖ／２）／（Ｖ＋ｖ／２） 但し、Ｖ：コーティングガスの噴射速度 ｖ：ガラス帯の搬送速度 の関係を満たすことを特徴とする、請求項１〜４のいず
れか１項に記載のノズル。 - 【請求項６】 更に、中央噴射路（３８）への入り口に
取り付けられるガス噴射装置（２６）と、夫々上記上流
側吸引路（４４）及び下流側吸引路（４６）からの各出
口に取り付けられる２つのガス吸引装置（４８，５０）
を有することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１
項に記載のノズル。 - 【請求項７】 フロートガラス製造容器内に取り付けら
れることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に
記載のノズル。
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