JP3253171B2 - Image density unevenness measuring device - Google Patents

Image density unevenness measuring device

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JP3253171B2
JP3253171B2 JP10990893A JP10990893A JP3253171B2 JP 3253171 B2 JP3253171 B2 JP 3253171B2 JP 10990893 A JP10990893 A JP 10990893A JP 10990893 A JP10990893 A JP 10990893A JP 3253171 B2 JP3253171 B2 JP 3253171B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、感光体上で光ビームを
走査して画像記録を行うレーザプリンタ等の画像記録装
置で得られる画像に対して濃度むらの計測を行う画像濃
度むら計測装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image density unevenness measuring apparatus for measuring density unevenness of an image obtained by an image recording apparatus such as a laser printer which scans a photosensitive member with a light beam to record an image. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】感光体上で光ビームを走査して画像記録
を行うレーザプリンタや医用で用いられるレーザイメー
ジャ等の画像記録装置では、記録画像に濃度むらが生じ
ることがあり、特に走査線に直角方向の濃度むらが発生
しやすく、画像の品質上問題である。
2. Description of the Related Art In an image recording apparatus such as a laser printer that uses a light beam to scan an image on a photosensitive member to record an image or a laser imager used in medicine, density unevenness may occur in a recorded image. Density unevenness in the perpendicular direction is likely to occur, which is a problem in image quality.

【0003】記録画像の走査線に直角方向の濃度むらの
原因を大別すると走査線ピッチのむらと光ビーム強度の
むらとが考えられるが、いずれの原因かがわかると画像
記録装置を改良する上で都合が良い。
The causes of density unevenness in the direction perpendicular to the scanning line of a recorded image can be roughly classified into unevenness in the scanning line pitch and unevenness in the light beam intensity. convenient.

【0004】従来、CTスキャナやMRI等で得られる
画像を記録するのに用いられるレーザイメージャ等で記
録された画像の濃度むらを評価する装置はなく、目視で
行うしかなかったが、目視では濃度むらの有無を見分け
ることはできてもその原因までは判断できなかった。こ
のため、光ビーム照射ユニットや記録用フィルムの搬送
ユニット等を単体で検査して濃度むらの原因を推定して
その対策をしていた。
Conventionally, there is no apparatus for evaluating unevenness in density of an image recorded by a laser imager or the like used for recording an image obtained by a CT scanner, MRI, or the like. Although the presence or absence of unevenness could be identified, the cause could not be determined. For this reason, the light beam irradiation unit, the transport unit for the recording film, and the like are independently inspected to estimate the cause of the density unevenness and take a countermeasure.

【0005】また、一般的なレーザプリンタ等の画像に
対する画像濃度むら評価装置としては、濃度むら自体を
評価する方法(たとえば、特開平4−284771号公
報、特開平4−335363号公報)が知られており、
走査線ピッチを評価する装置(たとえば、特開平3−2
82684号公報、特開平4−229287号公報)が
知られている。
[0005] As a device for evaluating image density unevenness of an image of a general laser printer or the like, there is known a method for evaluating the image density unevenness itself (for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 4-2847771 and 4-335363). Has been
Apparatus for evaluating scanning line pitch (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open
No. 82684, JP-A-4-229287) are known.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、目視により濃
度むらを評価する場合は、評価する者により個人差が生
じるため定量的な評価ができない。また、目視で濃度む
らを発見したとしても、その原因は光ビーム照射ユニッ
トや記録用フィルムの搬送ユニット等の単体検査の結果
から推定していたに過ぎないので、実際の濃度むらの直
接原因がつかめず対策に時間がかかってしまう。
However, when the density unevenness is evaluated by visual observation, a quantitative evaluation cannot be performed because individual evaluators vary. Also, even if density unevenness is found by visual inspection, the cause was only estimated from the results of unit inspection of the light beam irradiation unit and the recording film transport unit, etc., so the direct cause of the actual density unevenness was It takes time to take measures without grasping.

【0007】また、一般的なレーザプリンタ等の画像に
対する画像濃度むら評価装置の場合、濃度むら自体と走
査線ピッチが別々に測定されるので濃度むらと走査線ピ
ッチとの関係がつかめず濃度むらの原因が走査線ピッチ
むらにあるのかどうかがわからない。このため、濃度む
らの直接原因がつかめず対策に時間がかかってしまう。
また、走査線ピッチの測定に用いる濃度分布は視覚に対
応したものとなっていないため走査線ピッチむらが濃度
むらにどう影響するかの把握がしづらいという欠点があ
る。さらに、従来の画像濃度むら評価装置では光ビーム
強度むらまで測定できるものはない。
Further, in the case of an image density unevenness evaluation apparatus for an image such as a general laser printer or the like, the density unevenness itself and the scanning line pitch are measured separately, so that the relationship between the density unevenness and the scanning line pitch cannot be grasped. It is not known whether the cause is uneven scanning line pitch. For this reason, the direct cause of the density unevenness cannot be determined, and it takes time to take measures.
In addition, since the density distribution used for measuring the scanning line pitch does not correspond to the visual sense, it is difficult to grasp how the scanning line pitch unevenness affects the density unevenness. Furthermore, there is no conventional image density unevenness evaluation apparatus capable of measuring even light beam intensity unevenness.

【0008】本発明は上記の点にかんがみてなされたも
ので、光ビームを走査して画像記録を行うレーザイメー
ジャやレーザプリンタ等の画像記録装置で得られる画像
に対して、走査線に直角方向の濃度むらをその原因(走
査線ピッチむら、光ビーム強度むら)と結びつけて高精
度に測定し評価することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above points, and is directed to a direction perpendicular to a scanning line with respect to an image obtained by an image recording apparatus such as a laser imager or a laser printer which performs image recording by scanning a light beam. It is an object of the present invention to measure and evaluate the density unevenness with high accuracy by linking the causes (unevenness of scanning line pitch, unevenness of light beam intensity).

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を達
成するために、光ビームを走査することにより記録され
走査線ごとの濃度に濃淡が生じ得る画像試料の走査線に
対して直角方向の濃度むらを計測する装置において、前
記画像試料の前記走査線のピッチよりも微細幅の領域の
濃度を測定する濃度測定手段と、前記画像試料の濃度測
定位置を走査線に対して直角方向に移動する移動手段
と、前記濃度測定位置を測定する位置測定手段と、前記
位置測定手段により測定された濃度測定位置と各濃度測
定位置で前記濃度測定手段により測定された濃度とに基
づき前記画像試料の濃度分布を作成する濃度分布作成手
段と、前記濃度分布を空間フィルタリング処理して濃度
むら分布を作成する濃度むら分布作成手段と、前記濃度
分布から走査線ピッチを求め該走査線ピッチから走査線
ピッチむら分布を作成する第1の走査線ピッチむら分布
作成手段と、前記濃度分布から光ビームの強度に対応し
た値を求め該値から光ビーム強度むら分布を作成する光
ビーム強度むら分布作成手段と、前記濃度分布作成手段
が作成した濃度分布、前記濃度むら分布作成手段が作成
した濃度むら分布、前記第1の走査線ピッチむら分布作
成手段が作成した走査線ピッチむら分布、および、前記
光ビーム強度むら分布作成手段が作成した光ビーム強度
むら分布のうちの少なくとも1つを表示することができ
る表示手段とから画像濃度むら計測装置を構成した。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention is directed to a method of scanning a light beam in a direction perpendicular to a scanning line of an image sample, which may have a density difference for each scanning line. In a device for measuring the density unevenness, a density measuring means for measuring the density of an area of the image sample having a finer width than the pitch of the scanning lines, and a density measuring position of the image sample in a direction perpendicular to the scanning lines. Moving means for moving, position measuring means for measuring the density measuring position, the image sample based on the density measuring position measured by the position measuring means and the density measured by the density measuring means at each density measuring position A density distribution creating means for creating a density distribution of the density distribution, a density unevenness distribution creating means for creating a density unevenness distribution by spatially filtering the density distribution, and a scanning line peak from the density distribution. A first scanning line pitch unevenness distribution creating means for obtaining a scanning line pitch unevenness distribution from the scanning line pitch, and obtaining a value corresponding to the intensity of the light beam from the density distribution to obtain the light beam intensity unevenness distribution from the value. Light beam intensity unevenness distribution creating means to be created, and the concentration distribution creating means
Created by the density distribution created by
Density unevenness distribution, the first scan line pitch unevenness distribution
Scanning line pitch unevenness distribution created by the
Light beam intensity created by the light beam intensity unevenness distribution creation means
Can display at least one of the uneven distributions
The image density unevenness measuring device is constituted by the display means .

【0010】[0010]

【作用】本発明は以上の構成によって、移動手段により
移動した濃度測定位置を位置測定手段により測定すると
ともにその濃度測定位置における濃度を濃度測定手段で
測定し、この濃度測定位置と濃度とに基づき濃度分布作
成手段が濃度分布を作成し、濃度むら分布作成手段が濃
度分布に基づき濃度むら分布を作成し、第1の走査線ピ
ッチむら分布作成手段が濃度分布に基づき走査線ピッチ
むら分布を作成し、光ビーム強度むら分布作成手段が濃
度分布に基づき光ビーム強度むら分布を作成する。
According to the present invention, the density measuring position moved by the moving means is measured by the position measuring means, and the density at the density measuring position is measured by the density measuring means. The density distribution creating means creates the density distribution, the density unevenness distribution creating means creates the density unevenness distribution based on the density distribution, and the first scanning line pitch unevenness distribution creating means creates the scanning line pitch unevenness distribution based on the density distribution. Then, the light beam intensity unevenness distribution creating means creates the light beam intensity unevenness distribution based on the density distribution.

【0011】[0011]

【実施例】以下本発明を図面に基づいて説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings.

【0012】図1は、本発明による画像濃度むら評価装
置のブロック線図である。
FIG. 1 is a block diagram of an apparatus for evaluating uneven image density according to the present invention.

【0013】1はHe−Neレーザであり、破線で示し
たレーザ光2を照射する。一点鎖線で示した筒3は、レ
ーザ光2の光路の周囲に設けられ、レーザ光2が空気の
ゆらぎの影響を受けて屈折し光路が変動してしまうのを
防いでいる。4はビームエキスパンダであり、レーザ光
2の径を拡大している。He−Neレーザ1で照射され
たレーザ光2の断面の直径は約0.8mmであり、ビー
ムエキスパンダ4で約4mmに拡大される。
Reference numeral 1 denotes a He-Ne laser, which emits a laser beam 2 indicated by a broken line. The cylinder 3 indicated by a dashed line is provided around the optical path of the laser light 2 to prevent the laser light 2 from being refracted under the influence of air fluctuation and changing the optical path. Reference numeral 4 denotes a beam expander, which enlarges the diameter of the laser beam 2. The cross-sectional diameter of the laser beam 2 irradiated by the He-Ne laser 1 is about 0.8 mm, and is expanded to about 4 mm by the beam expander 4.

【0014】ビームエキスパンダ4で拡大されたレーザ
光2は、シリンドリカルレンズ5でその断面が縦長のス
リット状に変形された後、スリット6で上下がカットさ
れて、横が約20μm、縦が約1000μmの断面が矩
形のビーム光になる。このように縦長のスリット光とす
ることで試料の粒状性ノイズを抑制している。また、横
径のビームウエストの少し手前(たとえば0.1mm前
後He−Neレーザ1側)に試料面をセットすれば、収
束状態のビームが試料に照射されるためさらに効果的に
粒状性ノイズを抑制できる。シリンドリカルレンズ5と
スリット6はゴニオステージ17上に配置され、画像記
録済の試料9に記録された走査線とスリット6を通過し
たレーザ光2とのアジマス角を調整できるようにしてあ
り、このアジマス角を調整することにより試料9の濃度
計測の精度向上が可能である。
The cross section of the laser beam 2 expanded by the beam expander 4 is deformed by a cylindrical lens 5 into a vertically long slit shape, and then the upper and lower portions are cut by a slit 6 to have a width of about 20 μm and a height of about 20 μm. A cross section of 1000 μm becomes a rectangular light beam. By using the vertically elongated slit light as described above, the granular noise of the sample is suppressed. Also, if the sample surface is set slightly before the beam waist of the lateral diameter (for example, the He-Ne laser 1 side of about 0.1 mm), the sample is irradiated with a converged beam, so that the granular noise is more effectively reduced. Can be suppressed. The cylindrical lens 5 and the slit 6 are arranged on a gonio stage 17 so that the azimuth angle between the scanning line recorded on the image-recorded sample 9 and the laser beam 2 passing through the slit 6 can be adjusted. By adjusting the angle, the accuracy of the concentration measurement of the sample 9 can be improved.

【0015】7は一軸メカニカルステージであり、CP
U15からの指令を受けたステージコントローラ12に
より制御され左右方向に移動するようになっている。一
軸メカニカルステージ7には、試料9が試料ホルダ8に
固定されて配置されており、一軸メカニカルステージ7
を左右に移動させることにより試料9を左右に動かし
て、試料9をミクロトレースすることができる。
Reference numeral 7 denotes a single-axis mechanical stage,
It is controlled by the stage controller 12 which receives a command from U15, and moves in the left-right direction. The sample 9 is fixed to the sample holder 8 and arranged on the uniaxial mechanical stage 7.
Is moved left and right, thereby moving the sample 9 left and right to micro trace the sample 9.

【0016】一軸メカニカルステージ7の位置(移動距
離)はレーザ測長器11により精密に測定されてCPU
15に報告される。本実施例で用いられる試料9はレー
ザイメージャで画像記録されたフィルムであり、この試
料9を透過するレーザ光2の光量に基づいて試料9の濃
度が測定される。レーザイメージャによる試料9への画
像の記録は、試料9を縦方向に搬送しながら光ビームを
試料9の横方向に反復的に走査をすることによって行わ
れる。このようにして画像記録された試料9は縦横を逆
にして試料ホルダ8に固定される。
The position (moving distance) of the uniaxial mechanical stage 7 is precisely measured by a laser
15 reported. The sample 9 used in this embodiment is a film on which an image is recorded by a laser imager, and the density of the sample 9 is measured based on the amount of the laser beam 2 transmitted through the sample 9. Recording of an image on the sample 9 by the laser imager is performed by repeatedly scanning the light beam in the horizontal direction of the sample 9 while transporting the sample 9 in the vertical direction. The sample 9 on which the image is recorded in this manner is fixed to the sample holder 8 with the length and width reversed.

【0017】スリット6を通過したレーザ光2は試料9
を透過し、ホトダイオード10で受光される。ホトダイ
オード10は受光したレーザ光2の光量に応じた電流を
発生する。この電流は、アンプ13で電圧変換および増
幅されてA/D変換器14でデジタル値に変換された後
CPU15に入力される。16は表示装置であり、CP
U15に接続されており、後に説明する濃度むら、走査
線ピッチむら、光ビーム強度むら等の計測結果を表示す
る。
The laser beam 2 that has passed through the slit 6
And is received by the photodiode 10. The photodiode 10 generates a current according to the amount of the received laser beam 2. This current is voltage-converted and amplified by the amplifier 13, converted into a digital value by the A / D converter 14, and then input to the CPU 15. Reference numeral 16 denotes a display device,
It is connected to U15 and displays measurement results such as density unevenness, scanning line pitch unevenness, light beam intensity unevenness, etc., which will be described later.

【0018】CPU15は、A/D変換器14から入力
された透過光量とHe−Neレーザ1で照射された光源
光量とに基づき数1を用いて試料9の濃度を求める。数
1において、Dは試料の濃度、I0 は光源光量、Iは透
過光量である。
The CPU 15 obtains the density of the sample 9 based on the transmitted light amount input from the A / D converter 14 and the light amount of the light source irradiated by the He-Ne laser 1 using Equation 1. In Equation 1, D is the concentration of the sample, I 0 is the light source light amount, and I is the transmitted light amount.

【0019】[0019]

【数1】D=log(I0 /I) 数1により求められた試料9の濃度は、レーザ測長器1
1で精密に測定された試料9上におけるレーザ光2の照
射位置と対応づけられてCPU15に備えられたメモリ
(図示せず)に記憶される。ところで、試料9上におけ
るレーザ光2の照射位置の測定には精密さが要求される
ので、レーザ測長器11で1回目の測定を行った後に試
料9の濃度を測定しその後レーザ測長器11で2回目の
測定を行い、1回目と2回目の測定結果の平均値を試料
9上におけるレーザ光2の照射位置とするようにすれば
より正確な位置が測定できる。
D = log (I 0 / I) The density of the sample 9 obtained by the equation 1 is expressed by the following formula:
The data is stored in a memory (not shown) provided in the CPU 15 in association with the irradiation position of the laser beam 2 on the sample 9 precisely measured in 1. By the way, since the measurement of the irradiation position of the laser beam 2 on the sample 9 requires precision, the concentration of the sample 9 is measured after the first measurement is performed by the laser length measuring device 11, and then the laser length measuring device is measured. If the second measurement is performed at 11 and the average value of the first and second measurement results is used as the irradiation position of the laser beam 2 on the sample 9, a more accurate position can be measured.

【0020】次に、CPU15はステージコントローラ
12に指令を与え、一軸メカニカルステージ7を1μm
だけ横方向に移動する。移動後一軸メカニカルステージ
7を一旦停止させ、上述したのと同様に移動後の位置で
試料9の濃度を求め、その濃度を、レーザ測長器11で
精密に測定された試料9上におけるレーザ光2の照射位
置と対応づけてCPU15に備えられたメモリに記憶す
る。このように、試料9上の各位置における試料9の濃
度を求め記憶していくことにより試料9の濃度分布を求
めることができる。
Next, the CPU 15 gives a command to the stage controller 12 to move the one-axis mechanical stage 7 to 1 μm.
Just move laterally. After the movement, the uniaxial mechanical stage 7 is temporarily stopped, the density of the sample 9 is determined at the position after the movement in the same manner as described above, and the density is measured by the laser beam on the sample 9 precisely measured by the laser length measuring device 11. The data is stored in the memory provided in the CPU 15 in association with the irradiation position of No. 2. As described above, the density distribution of the sample 9 can be obtained by obtaining and storing the density of the sample 9 at each position on the sample 9.

【0021】図2は試料9の濃度分布である。FIG. 2 shows the concentration distribution of the sample 9.

【0022】濃度分布は図2に示すように波線を示し、
波線の山の部分が試料9に画像を記録した際の走査線に
対応する。
The concentration distribution shows a wavy line as shown in FIG.
The ridge of the wavy line corresponds to the scanning line when an image is recorded on the sample 9.

【0023】図3および図4は、図2に示した濃度分布
を分析する処理のフローチャートである。
FIG. 3 and FIG. 4 are flowcharts of the processing for analyzing the density distribution shown in FIG.

【0024】図3から説明すると、まず、図2に示した
濃度分布の山のそれぞれに関して山の中心位置を求める
(F−1)。
Referring to FIG. 3, first, the center position of each mountain having the density distribution shown in FIG. 2 is obtained (F-1).

【0025】図5は山の中心位置を求める方法の説明図
である。
FIG. 5 is an explanatory diagram of a method for obtaining the center position of a mountain.

【0026】たとえば、図5の山aの中心位置を求める
には、山aにおける最高点と最低点との間に閾値を設
け、山aがこの閾値に達する2つの点aU 、aD を求め
る。次に、こうして求めた2点aU とaD の中点aC
求め、この中点aC の位置(横軸の値)を山aの中心位
置とみなす。図3のステップ(F−1)では、このよう
にして濃度分布のすべての山に対してその中心位置を求
めておく。
For example, to determine the center position of the peak a in FIG. 5, a threshold is provided between the highest point and the lowest point of the peak a, and two points a U and a D at which the peak a reaches this threshold are determined. Ask. Then, thus determined the midpoint a C two points a U and a D determined, considered the position of the middle point a C (the value of the horizontal axis) and the center position of the mountain a. In step (F-1) of FIG. 3, the center positions of all the peaks in the density distribution are obtained in this way.

【0027】図3の説明に戻り、ステップ(F−2)で
は試料9に画像を記録した際の走査線のサイクルで、図
2に示した濃度分布のサイクル平均を求めることにより
試料9の濃度むら分布を求める。
Returning to the description of FIG. 3, in step (F-2), the cycle average of the density distribution shown in FIG. Find the uneven distribution.

【0028】図6は濃度分布のサイクル平均を求める方
法の説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of a method for obtaining the cycle average of the density distribution.

【0029】ステップ(F−1)で求めたそれぞれの山
の中心位置を利用して、図6に示すように互いに隣接す
る山の中心位置どうしの間の面積(斜線を施した部分の
面積)を求め、この面積を走査線ピッチで割ってサイク
ル平均とする。たとえば、山aと山bのサイクル平均は
山aの中心位置と山bの中心位置との中央の位置におけ
るデータであるというように、サイクル平均と試料9上
の位置とを対応づけてCPU15に備えられたメモリに
記憶する。このように、試料9上の位置に対応したサイ
クル平均を求め記憶していくことにより試料9の濃度む
ら分布を求めることができる。
Using the center positions of the respective mountains obtained in step (F-1), the area between the center positions of adjacent mountains as shown in FIG. 6 (the area of the hatched portion) as shown in FIG. Is obtained, and this area is divided by the scanning line pitch to obtain a cycle average. For example, the CPU 15 associates the cycle average and the position on the sample 9 with the CPU 15 such that the cycle average of the peaks a and b is data at the center position between the center position of the peak a and the center position of the peak b. It is stored in the provided memory. In this way, by obtaining and storing the cycle average corresponding to the position on the sample 9, the uneven density distribution of the sample 9 can be obtained.

【0030】図7は濃度むら分布である。FIG. 7 shows an uneven density distribution.

【0031】図7において、縦軸はサイクル平均であ
り、横軸は試料9上の位置である。この濃度むら分布
は、図2に示した濃度分布から画像記録時の走査線のサ
イクルの影響による成分を取り除いたものものとなって
いる。
In FIG. 7, the vertical axis is the cycle average, and the horizontal axis is the position on the sample 9. The density unevenness distribution is obtained by removing components due to the influence of the scanning line cycle during image recording from the density distribution shown in FIG.

【0032】図3のステップ(F−3)では、図7に示
した濃度むら分布をフーリエ変換し、濃度むら周波数分
布を求める。
In step (F-3) of FIG. 3, the density unevenness distribution shown in FIG. 7 is Fourier-transformed to obtain the density unevenness frequency distribution.

【0033】図8は濃度むら周波数分布である。FIG. 8 shows a frequency distribution of uneven density.

【0034】図8において、縦軸は濃度をデシベル表示
したものであり、濃度1が0dBに対応する。横軸は空
間周波数であり、試料9上の濃度の変動の周波数を示
す。評価者が図8の濃度むら周波数分布を見てわかるよ
うに、この濃度むら周波数分布では、濃度むらm、p、
q、rが突出した値を示しており、評価者はこの濃度む
らm、p、q、rを試料9上の濃度むらとして着目すべ
きことがわかる。
In FIG. 8, the ordinate represents the density in decibels, and the density 1 corresponds to 0 dB. The horizontal axis is the spatial frequency, which indicates the frequency of the fluctuation of the concentration on the sample 9. The evaluator can see by looking at the density unevenness frequency distribution in FIG.
Thus, in this density unevenness frequency distribution, the density unevenness m, p,
q and r show prominent values, indicating that the evaluator should pay attention to the density unevenness m, p, q, and r as the density unevenness on the sample 9.

【0035】図3のステップ(F−4)では、ステップ
(F−1)で求めたそれぞれの山の中心位置を利用して
得た走査線ピッチを、測定した順にCPU15に備えら
れたメモリに記憶する。これにより、走査線数に対応し
た試料9の走査線ピッチむら分布を求めることができ
る。
In step (F-4) of FIG. 3, the scanning line pitch obtained by using the center position of each mountain obtained in step (F-1) is stored in the memory provided in the CPU 15 in the order of measurement. Remember. This makes it possible to obtain the scanning line pitch uneven distribution of the sample 9 corresponding to the number of scanning lines.

【0036】図9は走査線ピッチむら分布である。FIG. 9 shows a distribution of scanning line pitch unevenness.

【0037】図9において、縦軸は走査線ピッチであ
り、横軸は試料9上の何本目の走査線の位置なのかを示
す走査線数である。走査線数は試料9上の位置に対応す
るものなので、この走査線ピッチむら分布は、図7に示
した濃度むら分布と比較参照することができるものであ
る。図9の走査線ピッチむら分布は、図7に示した濃度
むら分布のうち走査線ピッチむらを原因とする濃度むら
だけを表わしたものとなっている。
In FIG. 9, the vertical axis is the scanning line pitch, and the horizontal axis is the number of scanning lines indicating the position of the scanning line on the sample 9. Since the number of scanning lines corresponds to the position on the sample 9, this uneven scanning line pitch distribution can be compared with the uneven density distribution shown in FIG. The scanning line pitch unevenness distribution in FIG. 9 shows only the density unevenness caused by the scanning line pitch unevenness in the density unevenness distribution shown in FIG.

【0038】再び図3に戻ってステップ(F−5)で
は、図9に示した走査線ピッチむら分布をフーリエ変換
し、走査線ピッチむら周波数分布を求める。
Returning to FIG. 3 again, in step (F-5), the scanning line pitch unevenness distribution shown in FIG. 9 is Fourier-transformed to obtain the scanning line pitch unevenness frequency distribution.

【0039】図10は走査線ピッチむら周波数分布であ
る。
FIG. 10 shows the frequency distribution of scanning line pitch unevenness.

【0040】図10において、縦軸は走査線ピッチをデ
シベル表示したものであり、走査線ピッチ1μmが0d
Bに対応する。横軸は空間周波数であり、試料9上の走
査線ピッチの変動の周波数を示す。評価者が図10の走
査線ピッチむら周波数分布を見てわかるように、この走
査線ピッチむら周波数分布では、ピッチむらs、t、u
が突出した値を示しており、評価者はこのピッチむら
s、t、uを試料9上の走査線ピッチむらとして着目す
べきことがわかる。
In FIG. 10, the vertical axis represents the scanning line pitch in decibels.
Corresponds to B. The horizontal axis indicates the spatial frequency, which indicates the frequency of the fluctuation of the scanning line pitch on the sample 9. The evaluator ran in FIG.
As can be seen by looking at the frequency distribution of the
In the frequency distribution of the pitch variation, the pitch variation s, t, u
Indicates a prominent value, indicating that the evaluator should pay attention to the pitch unevenness s, t, and u as the scanning line pitch unevenness on the sample 9.

【0041】続いて、図3のステップ(F−6)では、
ポリゴン(回転多面鏡)による走査線ピッチむらを求め
る。試料への画像記録には光ビームが用いられ、この光
ビームを偏向させ走査するためにはたとえばポリゴンが
用いられる。本実施例では、試料9に画像を記録すると
きに8面のポリゴンを用いた。ポリゴンの面によって
は、面倒れ等の不良のあることがあり、このポリゴン面
の不良のため走査線ピッチのむらが生じることがある。
そこで、図9に示した走査線ピッチむら分布のデータを
ポリゴンの面間ごとに分類し、ポリゴンによる走査線ピ
ッチむらを調べる。
Subsequently, in step (F-6) of FIG.
Scan line pitch unevenness due to polygon (rotating polygon mirror) is obtained. A light beam is used for recording an image on a sample, and a polygon is used to deflect and scan the light beam, for example. In this embodiment, when recording an image on the sample 9, eight polygons are used. Depending on the surface of the polygon, there may be a defect such as surface tilt, and the defect of the polygon surface may cause unevenness of the scanning line pitch.
Therefore, the data of the scanning line pitch unevenness distribution shown in FIG. 9 is classified for each face of the polygon, and the scanning line pitch unevenness due to the polygon is examined.

【0042】図11はポリゴンによる走査線ピッチむら
である。
FIG. 11 shows scanning line pitch unevenness due to polygons.

【0043】図11において、縦軸は走査線ピッチであ
り、横軸は8面あるポリゴンの各面間である。図中、縦
線は分類したポリゴンの面間ごとの走査線ピッチの最大
値と最小値を結んだものであり、さらに、分類したポリ
ゴンの面間ごとの走査線ピッチの平均値を折れ線で結ん
だ。
In FIG. 11, the vertical axis is the scanning line pitch, and the horizontal axis is between the surfaces of the eight polygons. In the figure, the vertical line connects the maximum value and the minimum value of the scanning line pitch for each surface of the classified polygon, and further connects the average value of the scanning line pitch for each surface of the classified polygon by a polygonal line. It is.

【0044】図4に進みステップ(F−7)では、図9
に示した走査線ピッチむら分布の各データから、そのデ
ータが分類されるポリゴン面間における平均値(図11
に示した平均値)を引いて、ポリゴン以外による走査線
ピッチむら分布を求める。
Proceeding to FIG. 4, in step (F-7), FIG.
From the data of the scanning line pitch unevenness distribution shown in FIG.
(Average value shown in (2)) is subtracted to obtain a scanning line pitch uneven distribution other than polygons.

【0045】図12はポリゴン以外による走査線ピッチ
むら分布である。
FIG. 12 shows a scanning line pitch unevenness distribution other than polygons.

【0046】図12において、縦軸は図9に示した走査
線ピッチからポリゴン面間ごとの平均値を引いたもので
あり、横軸は試料9上の何本目の走査線の位置なのかを
示す走査線数である。このポリゴン以外による走査線ピ
ッチむら分布は、図9に示した走査線ピッチむら分布の
うち、ポリゴンの面の不良以外を原因とする走査線ピッ
チむらだけを表わしたものとなっている。
In FIG. 12, the vertical axis is obtained by subtracting the average value for each polygon surface from the scanning line pitch shown in FIG. 9, and the horizontal axis is the number of the scanning line on the sample 9. It is the number of scanning lines shown. The nonuniform scanning line pitch distribution other than polygons represents only the nonuniform scanning line pitch caused by defects other than the polygon surface defect in the nonuniform scanning line pitch distribution shown in FIG.

【0047】図4に戻り、ステップ(F−8)では、図
12に示したポリゴン以外による走査線ピッチむら分布
をフーリエ変換し、ポリゴン以外による走査線ピッチむ
ら周波数分布を求める。
Returning to FIG. 4, in step (F-8), the scanning line pitch unevenness distribution other than polygons shown in FIG. 12 is subjected to Fourier transform, and the scanning line pitch unevenness frequency distribution other than polygons is obtained.

【0048】図13はポリゴン以外による走査線ピッチ
むら周波数分布である。
FIG. 13 shows a scanning line pitch uneven frequency distribution other than polygons.

【0049】図13において、縦軸は走査線ピッチをデ
シベル表示したものであり、走査線ピッチ1μmが0d
Bに対応する。横軸は空間周波数であり、試料9上の走
査線ピッチの変動の周波数を示す。評価者が図13の走
査線ピッチむら周波数分布を見てわかるように、このポ
リゴン以外による走査線ピッチむら周波数分布では、
ッチむらv、wが突出した値を示しており、評価者は
のピッチむらv、wを試料9上のポリゴン以外による走
査線ピッチむらとして着目すべきことがわかる。
In FIG. 13, the vertical axis represents the scanning line pitch in decibels.
Corresponds to B. The horizontal axis indicates the spatial frequency, which indicates the frequency of the fluctuation of the scanning line pitch on the sample 9. The evaluator runs in Fig. 13.
As can be seen from the frequency distribution of the scanning line pitch unevenness,
In the frequency distribution of scanning line pitch unevenness due to other than Rigon, the pitch unevennesses v and w show prominent values, and the evaluator regards the pitch unevenness v and w as scanning line pitches other than polygons on the sample 9. It is clear that attention should be paid to unevenness.

【0050】続いて、図4のステップ(F−9)では、
図2に示した濃度分布の各山の最高点における濃度を光
ビームの強度に対応した濃度として、試料9上の位置と
対応づけてCPU15に備えられたメモリに記憶し光ビ
ーム強度むら分布とする。
Subsequently, in step (F-9) of FIG.
The density at the highest point of each peak of the density distribution shown in FIG. 2 is stored in a memory provided in the CPU 15 in association with the position on the sample 9 as the density corresponding to the intensity of the light beam, and is stored in the memory provided in the CPU 15. I do.

【0051】図14は光ビームの強度に対応した濃度を
求める方法の説明図である。
FIG. 14 is an explanatory diagram of a method for obtaining the density corresponding to the intensity of the light beam.

【0052】試料9の画像記録時に用いられる光ビーム
が強いほど試料9上の画像の濃度が濃いので、試料9上
の位置に対応して各山の最高点の濃度を記憶していくこ
とにより試料9の光ビーム強度むら分布を求めることが
できる。
Since the density of the image on the sample 9 is higher as the light beam used for recording the image of the sample 9 is higher, the density of the highest point of each peak is stored in correspondence with the position on the sample 9. The light beam intensity uneven distribution of the sample 9 can be obtained.

【0053】図15は、図14に示したようにして求め
た光ビーム強度むら分布である。
FIG. 15 shows the light beam intensity unevenness distribution obtained as shown in FIG.

【0054】図15において、縦軸は光ビームの強度に
対応した濃度であり、横軸は試料9上の位置である。こ
の光ビーム強度むら分布は、図7に示した濃度むら分布
のうち光ビーム強度むらを原因とする濃度むらだけを表
わしたものとなっている。
In FIG. 15, the vertical axis represents the density corresponding to the intensity of the light beam, and the horizontal axis represents the position on the sample 9. This uneven light beam intensity distribution shows only the uneven density caused by the uneven light beam intensity in the uneven density distribution shown in FIG.

【0055】最後に、図4のステップ(F−10)で
は、図15に示した光ビーム強度むら分布をフーリエ変
換し、光ビーム強度むら周波数分布を求める。
Finally, in step (F-10) of FIG. 4, the light beam intensity non-uniformity distribution shown in FIG. 15 is Fourier-transformed to obtain a light beam intensity non-uniformity frequency distribution.

【0056】図16は光ビーム強度むら周波数分布であ
る。
FIG. 16 shows the frequency distribution of light beam intensity unevenness.

【0057】図16において、縦軸は光ビームの強度に
対応した濃度をデシベル表示したものであり、濃度1が
0dBに対応する。横軸は空間周波数であり、試料9上
の濃度の変動の周波数を示す。評価者が図16の光ビー
ム強度むら周波数分布を見てわかるように、この光ビー
ム強度むら周波数分布では、強度むらzが突出した値を
示しており、評価者はこの強度むらzを試料9上の光ビ
ーム強度むらとして着目すべきことがわかる。
In FIG. 16, the vertical axis represents the density corresponding to the intensity of the light beam in decibels, and the density 1 corresponds to 0 dB. The horizontal axis is the spatial frequency, which indicates the frequency of the fluctuation of the concentration on the sample 9. The evaluator uses the light beam shown in FIG.
As can be seen from the frequency distribution,
The uneven intensity frequency distribution shows a value at which the uneven intensity z is prominent, and it is understood that the evaluator should pay attention to the uneven intensity z as the light beam intensity unevenness on the sample 9.

【0058】ここで、図3および図4に示した濃度分布
を分析する処理で得られた各分布を用いて行う濃度むら
の評価について説明する。この評価は評価者が行うもの
である。
Here, the evaluation of the density unevenness performed using each distribution obtained by the processing for analyzing the density distribution shown in FIGS. 3 and 4 will be described. This evaluation is performed by the evaluator
It is.

【0059】ここでは、図8に示した濃度むら周波数分
布を見ると、濃度むらm、p、q、rの濃度レベルが高
くなっているので、この濃度むらm、p、q、rの原因
をつきとめる手順を説明する。
Here, looking at the frequency distribution of the density unevenness shown in FIG. 8, since the density levels of the density unevenness m, p, q, and r are high, the cause of the density unevenness m, p, q, and r is high. The procedure for locating is described.

【0060】図10の走査線ピッチむら周波数分布を見
ると、図8の濃度むらpに対応したピッチむらs、図8
の濃度むらqに対応したピッチむらtおよび図8の濃度
むらrに対応したピッチむらuが現れているが、図8の
濃度むらmに対応したピッチむらは現れていないことが
わかる。
Looking at the frequency distribution of the scanning line pitch unevenness in FIG. 10, the pitch unevenness s corresponding to the density unevenness p in FIG.
It can be seen that the pitch unevenness t corresponding to the density unevenness q and the pitch unevenness u corresponding to the density unevenness r in FIG. 8 appear, but the pitch unevenness corresponding to the density unevenness m in FIG. 8 does not appear.

【0061】また、図13のポリゴン以外の走査線ピッ
チむら周波数分布を見ると、図8の濃度むらqに対応し
たピッチむらvおよび図8の濃度むらrに対応したピッ
チむらwは現れているが、図8の濃度むらmに対応した
ピッチむらおよび図8の濃度むらpに対応したピッチむ
らは現れていないことがわかる。
Looking at the frequency distribution of scanning line pitch unevenness other than polygons in FIG. 13, pitch unevenness v corresponding to density unevenness q in FIG. 8 and pitch unevenness w corresponding to density unevenness r in FIG. 8 appear. However, it can be seen that pitch unevenness corresponding to the density unevenness m in FIG. 8 and pitch unevenness corresponding to the density unevenness p in FIG. 8 do not appear.

【0062】一方、図16の光ビーム強度むら周波数分
布を見ると、図8のむら濃度mに対応した強度むらzが
現れているが、図8の濃度むらpに対応した強度むら、
図8の濃度むらqに対応した強度むらおよび図8の濃度
むらrに対応した強度むらは現れていないことがわか
る。
On the other hand, looking at the frequency distribution of the light beam intensity unevenness in FIG. 16, the intensity unevenness z corresponding to the unevenness density m in FIG. 8 appears, but the intensity unevenness corresponding to the density unevenness p in FIG.
It can be seen that there is no intensity unevenness corresponding to the density unevenness q in FIG. 8 and the intensity unevenness corresponding to the density unevenness r in FIG.

【0063】以上のことから、図8の濃度むらmは光ビ
ーム強度むらが原因であり、図8の濃度むらpはポリゴ
ンの不良による走査線ピッチむらが原因であり、図8の
濃度むらqおよびrはポリゴン以外(たとえば、試料の
搬送むらや画像記録装置の振動等)による走査線ピッチ
むらが原因であることがわかる。
From the above, the density unevenness m in FIG. 8 is caused by the light beam intensity unevenness, the density unevenness p in FIG. 8 is caused by the scanning line pitch unevenness due to a defective polygon, and the density unevenness q in FIG. It can be seen that and r are caused by scanning line pitch unevenness due to non-polygon (for example, uneven transport of the sample or vibration of the image recording apparatus).

【0064】また、上記の評価によれば、それぞれのむ
ら(濃度むら、ピッチむら、強度むら)のレベルが定量
的に表わされているので濃度むらの定量的評価とその原
因の定量的推定を行うことができる。
Further, according to the above evaluation, the level of each unevenness (unevenness of density, unevenness of pitch, unevenness of intensity) is quantitatively expressed, so that quantitative evaluation of unevenness of density and quantitative estimation of the cause thereof are performed. It can be carried out.

【0065】上記の説明は各周波数分布を用いた試料の
濃度むらの評価について行ったが、各周波数分布をフー
リエ変換する前の濃度むら分布、走査線ピッチむら分
布、ポリゴン以外による走査線ピッチむら分布および光
ビーム強度むら分布を用いれば試料上のどの位置で濃度
むらが生じているかを把握することができる。
The above description has been made on the evaluation of the density unevenness of the sample using each frequency distribution. However, the density unevenness distribution before the Fourier transform of each frequency distribution, the scanning line pitch unevenness distribution, and the scanning line pitch unevenness other than polygons. By using the distribution and the light beam intensity unevenness distribution, it is possible to grasp at which position on the sample the density unevenness occurs.

【0066】ところで、上記の実施例では図3のステッ
プ(F−2)でサイクル平均により濃度むら分布を求め
たが、ここで、本発明による画像濃度むら評価装置に適
用できる濃度むら分布を求める別の方法を説明する。
In the above-described embodiment, the density unevenness distribution is obtained by cycle averaging in step (F-2) of FIG. 3. Here, the density unevenness distribution applicable to the image density unevenness evaluation apparatus according to the present invention is obtained. Another method will be described.

【0067】図17は視認限界むらのレベルの分布を示
す図(「アプライド オプティクス、第25巻、第21
号(1986年11月1日発行)」の3880頁に掲載
されたポール・シー・シューベルトによる「連続階調の
レーザスキャナーにおける周期的なイメージアーチファ
クト」と題する論文に記載されたグラフを参照したも
の)である。
FIG. 17 is a diagram showing the distribution of the level of unevenness in the visual limit (“Applied Optics, Vol. 25, No. 21).
No. (Issued November 1, 1986), p. 3880, a graph described in a paper by Paul Schubert entitled "Periodic Image Artifacts in Continuous Tone Laser Scanners". ).

【0068】従来から、目視で濃度むらを識別できる限
界を示す視認限界むらのレベル(正弦波パターンに対す
る視覚のコントラスト感度)が知られており、図17の
曲線の上側であれば目で見て試料上の濃度むらを識別す
ることができる。そこで、本方法ではこの視認限界レベ
ルを利用する。
Conventionally, the level of visual limit unevenness (visual contrast sensitivity to a sine wave pattern), which indicates the limit at which density unevenness can be visually identified, is known. If it is above the curve in FIG. Uneven concentration on the sample can be identified. Therefore, the present method utilizes this visibility limit level.

【0069】まず、図2に示した濃度分布をフーリエ変
換し濃度周波数分布を求め、次に、濃度周波数分布と視
認限界レベルの分布とをたし合わせ、濃度むら周波数分
布を得る。こうすることで、濃度周波数分布の中で視認
されない成分に関しては減衰することができ、目に対応
した濃度むら周波数分布を求めることができる。なお、
濃度むら分布を求めるためには、濃度むら周波数分布を
逆フーリエ変換すればよい。
First, the density distribution shown in FIG. 2 is Fourier-transformed to obtain a density frequency distribution, and then the density frequency distribution and the distribution of the visual limit level are combined to obtain a density uneven frequency distribution. This makes it possible to attenuate components that are not visually recognized in the density frequency distribution, and to obtain the density unevenness frequency distribution corresponding to the eyes. In addition,
In order to obtain the density unevenness distribution, the density unevenness frequency distribution may be inverse Fourier transformed.

【0070】また、上記の実施例では図3のステップ
(F−1)で濃度分布の山の中心位置(走査線の中心位
置)を、一つの閾値を設けることにより求めたが、本発
明はこれに限らず、別の方法で走査線の中心位置を求め
てもよい。
Further, in the above embodiment, the center position of the peak of the density distribution (the center position of the scanning line) was obtained by providing one threshold in step (F-1) in FIG. Instead, the center position of the scanning line may be obtained by another method.

【0071】たとえば、本願と同日に出願した「走査線
ピッチ計測方法」では、閾値を複数にし、濃度分布の曲
線が閾値に達する2点(山の上りと下り)の中心点を閾
値ごとに求め、この閾値ごとの中心点に対して直線近似
を行い、求まった近似直線が山の最高点の濃度に達する
点の位置を走査線の中心位置とみなすようにしている。
本発明にこの方法が適用できることはいうまでもない。
For example, in the “scanning line pitch measurement method” filed on the same day as the present application, a plurality of threshold values are set, and the center point of two points (up and down of a mountain) at which the curve of the density distribution reaches the threshold value is obtained for each threshold value. Straight line approximation is performed on the center point for each threshold value, and the position of the point at which the obtained approximate straight line reaches the highest peak density is regarded as the center position of the scanning line.
It goes without saying that this method can be applied to the present invention.

【0072】さらに、上記の実施例では図3のステップ
(F−9)で濃度分布の山の中心位置における濃度をプ
ロットすることにより光ビーム強度むら分布(正確には
光ビームの強度に対応した濃度のむら分布)を求めた
が、実際に光ビーム強度を求めて光ビーム強度むら分布
を求めてもよい。ここで、光ビーム強度を求める方法を
説明する。
Further, in the above embodiment, the density distribution at the center of the peak of the density distribution is plotted in step (F-9) in FIG. Although the density unevenness distribution is obtained, the light beam intensity unevenness distribution may be obtained by actually obtaining the light beam intensity. Here, a method for obtaining the light beam intensity will be described.

【0073】図18は、試料9に画像記録する際に用い
られるレーザイメージャの光ビームの強度の波形を示す
図である。
FIG. 18 is a diagram showing the waveform of the intensity of the light beam of the laser imager used when recording an image on the sample 9.

【0074】図18において、縦軸は光ビームの強度で
あり、横軸は光ビームの断面の中心点からの距離であ
る。図18は、強度が1でビーム径が120μmの光ビ
ームの場合の例である。光ビームの強度の分布は中心点
が最も強く、図18に示すようなガウス分布の曲線で表
わされる。この光ビームの半径は60μmであるが、中
心点から60μm以上離れた点でも光ビームの強度があ
ることが図18からわかる。
In FIG. 18, the vertical axis represents the intensity of the light beam, and the horizontal axis represents the distance from the center of the cross section of the light beam. FIG. 18 shows an example of a light beam having an intensity of 1 and a beam diameter of 120 μm. The intensity distribution of the light beam is the strongest at the center point, and is represented by a Gaussian distribution curve as shown in FIG. Although the radius of this light beam is 60 μm, it can be seen from FIG. 18 that the light beam has an intensity at a point 60 μm or more away from the center point.

【0075】また、試料9には光ビームの強度が強いほ
ど濃い画像が記録され、数1により濃度Dがわかれば、
試料9への画像記録時の光ビームの強度は数2から逆算
して求めることができる。数2において、γは試料9の
フィルムの感度特性、Eは試料9への画像記録時の光ビ
ームの強度である。
Further, the stronger the intensity of the light beam is, the deeper the image is recorded on the sample 9.
The intensity of the light beam at the time of recording an image on the sample 9 can be obtained by back calculation from Equation 2. In Equation 2, γ is the sensitivity characteristic of the film of Sample 9, and E is the intensity of the light beam when recording an image on Sample 9.

【0076】[0076]

【数2】D=γ・logE 試料9への画像記録時には、たとえば、図18に示した
光ビームを試料9上で横方向に走査し1本の走査線によ
る画像記録を行った後、試料9を縦方向に移動させて次
の1本の走査線による画像記録を行う。
D = γ · log E At the time of image recording on the sample 9, for example, the light beam shown in FIG. 9 is moved in the vertical direction to record an image by the next one scanning line.

【0077】ここで、図19に、図2の濃度分布を用い
て数2を逆算することで求めた光ビーム強度分布を示
す。
FIG. 19 shows the light beam intensity distribution obtained by inversely calculating Equation 2 using the density distribution of FIG.

【0078】図19において、実線で示した曲線は図2
の濃度分布を用いて数2を逆算することで求めた光ビー
ム強度分布であり、一方、一点鎖線で示した曲線は試料
9に画像を記録する際に用いた光ビームの波形である。
光ビームの波形が図18に示したようなガウス分布であ
るが故に、隣接する光ビームのすその強度が重ね合わさ
れ、実線の曲線の山の頂点での強度と一点鎖線の曲線の
山の頂点での強度とが一致していないことがわかる。
In FIG. 19, the curve shown by the solid line corresponds to FIG.
Is a light beam intensity distribution obtained by back-calculating Equation 2 using the density distribution described above. On the other hand, a curve shown by a dashed line is a light beam waveform used when an image is recorded on the sample 9.
Because the waveform of the light beam has a Gaussian distribution as shown in FIG. 18, the intensities of the adjacent light beams are superimposed, and the intensity at the peak of the solid line curve and the peak of the chain line curve are indicated. It can be seen that the intensities do not match.

【0079】ところで、図3のステップ(F−9)で求
めるべき光ビーム強度は、図19の実線の曲線の山の頂
点での光ビーム強度ではなく、図19の一点鎖線の曲線
の山の頂点での光ビーム強度であることが望ましい。そ
こで、図19の実線の曲線に基づき、図19の一点鎖線
の曲線の山の頂点での光ビーム強度を求める。
The light beam intensity to be obtained in step (F-9) in FIG. 3 is not the light beam intensity at the peak of the solid curve in FIG. Desirably the light beam intensity at the apex. Therefore, based on the solid curve in FIG. 19, the light beam intensity at the peak of the mountain of the one-dot chain line curve in FIG. 19 is obtained.

【0080】図19において、P(n) とあるのは実線の
曲線のn番目の山の頂点での強度であり、B(n) とある
のは実線の曲線のn番目の山の右側の谷の最低点での強
度であり、Pt(n)とあるのはn番目の山の中心位置と
(n+1)番目の山の中心位置との間隔(走査線ピッ
チ)であり、Rn とあるのは一点鎖線の曲線のn番目の
山の頂点での強度である。ここでは、実線の山の数はk
個あるものとして説明を進める(つまり、n=1、2、
・・・、k−1、k)。
In FIG. 19, P (n) is the intensity at the vertex of the n-th peak of the solid curve, and B (n) is the right side of the n-th peak of the solid curve. The intensity at the lowest point of the valley, Pt (n) is the distance (scanning line pitch) between the center position of the n-th peak and the center position of the (n + 1) -th peak, and R n and What is present is the intensity at the vertex of the n-th mountain of the dashed line curve. Here, the number of peaks in the solid line is k
The description proceeds as if there are (in other words, n = 1, 2,
..., k-1, k).

【0081】まず、P(n) の平均値PAVE を数3により
求め、B(n) の平均値BAVE を数4により求め、Pt(n)
の平均値Pt AVE を数5により求める。
First, the average value P AVE of P (n) is obtained by Equation 3, the average value B AVE of B (n) is obtained by Equation 4, and P t (n)
The average value P t AVE of is obtained by Expression 5.

【0082】[0082]

【数3】 (Equation 3)

【0083】[0083]

【数4】 (Equation 4)

【0084】[0084]

【数5】 次に、光ビームの波形をガウス分布とみなしてビーム径
(4σy)を算出する。光ビームがガウス分布であるな
ら、既存の公式を用いて光ビームのビーム径(4σy)
は数6で表わされる。
(Equation 5) Next, the beam diameter (4σy) is calculated by regarding the waveform of the light beam as a Gaussian distribution. If the light beam has a Gaussian distribution, the beam diameter of the light beam (4σy) is calculated using the existing formula.
Is represented by equation (6).

【0085】[0085]

【数6】 ここで、R(n) の平均値RAVE は数7で表わすことがで
きる。ここで、BDは光ビームの半径である。
(Equation 6) Here, the average value R AVE of R (n) can be expressed by Expression 7. Here, BD is the radius of the light beam.

【0086】[0086]

【数7】 続いて、計算のしやすさのため、P(n) をRAVE で割り
その結果をPR(n)とする。このPR(n)は、RAVE を1と
したときの図19の実線の曲線の山の頂点での光ビーム
強度の比率になっている。
(Equation 7) Subsequently, for ease of calculation, P (n) is divided by R AVE and the result is set to P R (n) . This P R (n) is the ratio of the light beam intensity at the peak of the peak of the solid curve in FIG. 19 when R AVE is set to 1.

【0087】次には、PR(n)を数8により補正してP
AD(n) を求める。この補正は、n番目の山とその隣接す
る山との間隔(走査線ピッチ)にむらがある場合の影響
を取り除くためのものである。
Next, P R (n) is corrected according to equation 8 to
Find AD (n) . This correction is intended to remove the effect of unevenness in the interval (scanning line pitch) between the n-th peak and its adjacent peak.

【0088】[0088]

【数8】 最後に、PAD(n) を数9により補正してRAD(n) (=R
(n) /RAVE )を求める。この補正は、隣接する山の光
ビーム強度むらの影響を取り除くものである。
(Equation 8) Finally, P AD (n) is corrected according to equation 9 to obtain R AD (n) (= R
(n) / R AVE ). This correction removes the influence of the light beam intensity unevenness of the adjacent mountain.

【0089】[0089]

【数9】 以上の説明で求めたRAD(n) をプロットすることによ
り、光ビーム強度むら分布を求めることができる。な
お、この方法で求めた光ビーム強度むら分布は、図3の
ステップ(F−9)の説明で求めた光ビーム強度むら分
布(正確には光ビームの強度に対応した濃度のむら分
布)よりも正確で誤差の少ないものとなっている。
(Equation 9) By plotting R AD (n) obtained in the above description, the light beam intensity uneven distribution can be obtained. Note that the light beam intensity unevenness distribution obtained by this method is more than the light beam intensity unevenness distribution (more precisely, the density unevenness distribution corresponding to the light beam intensity) obtained in the description of step (F-9) in FIG. It is accurate and has few errors.

【0090】ところで、本実施例では試料9の透過光に
よって試料9の濃度を検出するようにしたが、本発明は
これに限らず、試料の反射光によって試料の濃度を検出
する場合にも適用できることはもちろんである。
In this embodiment, the density of the sample 9 is detected by the transmitted light of the sample 9. However, the present invention is not limited to this, and is applicable to the case of detecting the density of the sample by the reflected light of the sample. Of course you can.

【0091】ところで、本実施例では、図1に示したよ
うにレーザ光2の光路にそって筒3を設けてあり、筒3
の中をレーザ光2が通過するようにしてある。ここで、
この筒3の効果について述べる。
In this embodiment, the cylinder 3 is provided along the optical path of the laser beam 2 as shown in FIG.
The laser light 2 is made to pass through the inside. here,
The effect of the cylinder 3 will be described.

【0092】図20は、筒3を設けない場合に試料9を
透過した光量を示す図である。
FIG. 20 is a diagram showing the amount of light transmitted through the sample 9 when the cylinder 3 is not provided.

【0093】図21は、筒3を設けた場合に試料9を透
過した光量を示す図である。
FIG. 21 is a diagram showing the amount of light transmitted through the sample 9 when the cylinder 3 is provided.

【0094】図20および図21において、縦軸は図1
に示したホトダイオード10で検出したレーザ光2の光
量電圧であり、横軸はHe−Neレーザ1の電源投入か
ら1時間以上経過した所定の時間を0として、その所定
の時間からの経過時間である。図20では透過光量電圧
がかなり散らばってしまっているのに対して、図21で
はその散らばりが極めて少なくなっていることがわか
る。
In FIG. 20 and FIG. 21, the vertical axis represents FIG.
, The horizontal axis represents the light amount voltage of the laser beam 2 detected by the photodiode 10, and the horizontal axis represents the time elapsed since the power-on of the He-Ne laser 1 as 0 for a predetermined time, and the elapsed time from the predetermined time. is there. In FIG. 20, it can be seen that the transmitted light voltage is considerably scattered, whereas in FIG. 21, the scatter is extremely small.

【0095】このように、筒3は、レーザ光2が空気ゆ
らぎの影響を受けて屈折し光路が変動してしまうのを防
いでいる。
As described above, the cylinder 3 prevents the laser beam 2 from being refracted by the influence of air fluctuation and changing the optical path.

【0096】次に、図1に示した試料ホルダ8について
説明する。
Next, the sample holder 8 shown in FIG. 1 will be described.

【0097】図22は試料ホルダ8の断面図である。FIG. 22 is a sectional view of the sample holder 8.

【0098】試料ホルダ8には、外枠8bとともに、た
とえばガラス製の透明支持体8aが設けられ、試料9を
この透明支持体8aではさんで固定するようになってい
る。こうすることで、レーザ光2が試料8に入射したと
きにその熱で試料8が微妙に変形したり動いたりするの
を防ぐことができる。
The sample holder 8 is provided with a transparent support 8a made of glass, for example, together with the outer frame 8b, and the sample 9 is fixed between the transparent supports 8a. By doing so, when the laser beam 2 is incident on the sample 8, the sample 8 can be prevented from being slightly deformed or moved by the heat.

【0099】図23ないし図26は透明支持体8aの効
果を示すもので、図23は、透明支持体8aを設けない
場合に計測した濃度の変動幅を示す図である。
FIGS. 23 to 26 show the effect of the transparent support 8a. FIG. 23 is a diagram showing the fluctuation range of the density measured when the transparent support 8a is not provided.

【0100】図23において、縦軸は、一軸メカニカル
ステージ7を動かさずに試料9の濃度を25回計測した
ときの濃度の変動幅(25回の計測における最大値と最
小値との差)であり、横軸は一軸メカニカルステージ7
の移動距離(すなわち試料9の上の濃度計測位置)であ
る。
In FIG. 23, the vertical axis indicates the fluctuation range of the concentration (difference between the maximum value and the minimum value in 25 measurements) when the concentration of the sample 9 was measured 25 times without moving the uniaxial mechanical stage 7. Yes, horizontal axis is uniaxial mechanical stage 7
(That is, the concentration measurement position on the sample 9).

【0101】図24は、透明支持体8aを設けない場合
に計測した濃度を示す図である。
FIG. 24 is a diagram showing the density measured when the transparent support 8a is not provided.

【0102】図24において、縦軸は、一軸メカニカル
ステージ7を動かさずに試料9の濃度を25回計測した
ときの濃度平均値であり、横軸は一軸メカニカルステー
ジ7の移動距離(すなわち試料9上の濃度計測位置)で
ある。
In FIG. 24, the vertical axis represents the average value of the density of the sample 9 measured 25 times without moving the single-axis mechanical stage 7, and the horizontal axis represents the moving distance of the single-axis mechanical stage 7 (that is, the sample 9). Upper density measurement position).

【0103】図23および図24を見てみると、試料9
の濃度が変化が大きい部分(図24の曲線の勾配が大き
い部分)で濃度変動幅が大きくなっていることがわか
る。
Looking at FIG. 23 and FIG.
It can be seen that the density fluctuation width is large in the portion where the density changes greatly (the portion where the slope of the curve in FIG. 24 is large).

【0104】図25は、透明支持体8aを設けた場合に
計測した濃度の変動幅を示す図である。
FIG. 25 is a diagram showing the fluctuation width of the density measured when the transparent support 8a is provided.

【0105】図25において、縦軸は、一軸メカニカル
ステージ7を動かさずに試料9の濃度を25回計測した
ときの濃度の変動幅(25回の計測における最大値と最
小値との差)であり、横軸は一軸メカニカルステージ7
の移動距離(すなわち試料9の上の濃度計測位置)であ
る。
In FIG. 25, the vertical axis represents the fluctuation range of the concentration (difference between the maximum value and the minimum value in 25 measurements) when the concentration of the sample 9 was measured 25 times without moving the uniaxial mechanical stage 7. Yes, horizontal axis is uniaxial mechanical stage 7
(That is, the concentration measurement position on the sample 9).

【0106】図26は、透明支持体8aを設けた場合に
計測した濃度を示す図である。
FIG. 26 is a diagram showing the density measured when the transparent support 8a is provided.

【0107】図26において、縦軸は、一軸メカニカル
ステージ7を動かさずに試料9の濃度を25回計測した
ときの濃度平均値であり、横軸は一軸メカニカルステー
ジ7の移動距離(すなわち試料9上の濃度計測位置)で
ある。
In FIG. 26, the vertical axis represents the average value of the density of the sample 9 measured 25 times without moving the single-axis mechanical stage 7, and the horizontal axis represents the moving distance of the single-axis mechanical stage 7 (that is, the sample 9). Upper density measurement position).

【0108】図23と図25とを比較してみると、図2
5の方が明らかに濃度変動幅が小さくなっていることが
わかり、試料ホルダ8に透明支持体8aを設けたことの
効果が明確である。このようにレーザ光の熱などの影響
で試料9が動いたり振動したりすることのないよう透明
支持体8aでしっかり固定することにより、特に、試料
9の位置ずれが大きく影響する濃度勾配を持つ部分で最
大濃度変動幅が0.0042から0.0025と6割程
度に減少できている。
When FIG. 23 and FIG. 25 are compared, FIG.
5 clearly shows that the density fluctuation width is smaller, and the effect of providing the transparent support 8a on the sample holder 8 is clear. By firmly fixing the sample 9 with the transparent support 8a so that the sample 9 does not move or vibrate due to the influence of the heat of the laser beam or the like, particularly, the sample 9 has a concentration gradient that greatly affects the displacement of the sample 9. In some portions, the maximum density fluctuation range can be reduced from 0.0042 to 0.0025, which is about 60%.

【0109】また、透明支持体8aは、試料9が動かな
いようにしっかい固定する必要があるのでガラスなどの
硬さが充分な材質であることが望まれる。さらに、この
透明支持体8aは薄い方が好ましい。これは、試料9を
透過するレーザ光2の光量を検出するときに、試料9に
よるレーザ光2の拡散が生じるのでホトダイオード10
をできるかぎり試料9に近づける必要があるからであ
る。
Further, since the transparent support 8a needs to be fixed firmly so that the sample 9 does not move, it is desired that the transparent support 8a be made of a material having sufficient hardness such as glass. Further, it is preferable that the transparent support 8a is thin. This is because the laser light 2 is diffused by the sample 9 when the amount of the laser light 2 transmitted through the sample 9 is detected.
Is required to be as close to the sample 9 as possible.

【0110】なお、試料ホルダ8に透明支持体を設けな
い場合であっても、試料9を試料ホルダ8に固定したと
きに試料9が露出する窓を小さくし、より強固に試料9
を固定することによって、透明支持体8aを設けるのと
同様の効果も得られる。
Even when the sample holder 8 is not provided with a transparent support, the window through which the sample 9 is exposed when the sample 9 is fixed to the sample holder 8 is reduced, so that the sample 9
Is fixed, the same effect as that of providing the transparent support 8a can be obtained.

【0111】また、本実施例では試料9を移動させて濃
度のミクロトレースを行っているが、レーザ光2の光路
を移動させて試料9上でレーザ光2が照射される位置を
変えることによって濃度のミクロトレースを行うように
してもよい。
In this embodiment, the sample 9 is moved to perform the micro trace of the concentration. However, by moving the optical path of the laser beam 2 to change the position on the sample 9 where the laser beam 2 is irradiated. A micro trace of the concentration may be performed.

【0112】さらに、本願と同日に出願した「濃度計測
装置」には、数1により濃度Dを求める際、レーザ光2
の光量が変動したときには光源光量I0 を補正する技術
を開示したが、本発明にこの技術が適用できることはい
うまでもない。
Further, the “density measuring device” filed on the same day as the present application has a laser beam 2
Although the technique for correcting the light source light quantity I 0 when the light quantity fluctuates has been disclosed, it is needless to say that this technique can be applied to the present invention.

【0113】さらにまた、本実施例では図1に示したレ
ーザ光2の透過光で試料9の濃度を測定したが、本発明
はこれに限らず、ランプの光を用いて試料9の濃度を測
定するようにしてもよい。
Furthermore, in the present embodiment, the density of the sample 9 was measured by the transmitted light of the laser beam 2 shown in FIG. 1, but the present invention is not limited to this, and the density of the sample 9 was measured using the light of a lamp. You may make it measure.

【0114】[0114]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光ビームを走査して画像記録を行うレーザイメージャや
レーザプリンタ等の画像記録装置の出力に対して、濃度
むらをその原因(走査線ピッチむら、光ビーム強度む
ら)と結びつけて高精度に測定し評価することができ
る。
As described above, according to the present invention,
The output of an image recording device, such as a laser imager or laser printer, that scans a light beam to record an image, is measured with high accuracy by associating uneven density with its causes (uneven scanning line pitch, uneven light beam intensity). Can be evaluated.

【0115】つまり、高精度な濃度むら評価(目で見て
わかる濃度むらに対応)ができるようになるとともに、
濃度むらが何にどれほど起因するのか(走査線ピッチむ
らが原因かそれとも光ビーム強度むらが原因か、走査線
ピッチむらが原因であればそれはポリゴンの影響かどう
かといったこと)が定量的にわかるようになる。これ
は、1回の濃度分布の測定結果から、濃度むら分布、走
査線ピッチむら分布および光ビーム強度むら分布等を求
めるようにしたことによる効果である。
That is, high-precision density unevenness evaluation (corresponding to density unevenness that can be visually recognized) can be performed, and
It is possible to quantitatively determine what causes the density unevenness (whether it is caused by uneven scanning line pitch or uneven light beam intensity, or if uneven scanning line pitch is caused by polygon effect). become. This is an effect of obtaining the density unevenness distribution, the scanning line pitch unevenness distribution, the light beam intensity unevenness distribution, and the like from one measurement result of the density distribution.

【0116】このように、1回のみの濃度分布の測定で
濃度むら分布、走査線ピッチむら分布および光ビーム強
度むら分布等を求めることができるということは、従来
のように、濃度むら分布を求めるために濃度分布を測定
し、他のむらの分布(走査線ピッチむら分布や光ビーム
強度むら分布等)を求めるために2回、3回と濃度分布
を測定するような場合と比較して、各むらの分布を相互
に比較して評価することが高精度に行えるということで
あり、且つ、濃度分布の測定回数が少ないので評価にか
かる時間が短くてすむということである。
As described above, the density non-uniformity distribution, the scanning line pitch non-uniformity distribution, the light beam intensity non-uniformity distribution, and the like can be obtained by measuring the density non-uniformity distribution only once. The density distribution is measured in order to obtain the density distribution, and the density distribution is measured twice and three times in order to obtain the distribution of other unevenness (scanning line pitch unevenness distribution, light beam intensity unevenness distribution, etc.). This means that the distribution of each unevenness can be compared with each other and evaluated with high accuracy, and the number of times of measuring the concentration distribution is small, so that the time required for the evaluation is short.

【0117】また、高精度且つ定量的な濃度むら評価が
できるようになったので、画像記録装置の品質基準を作
ることができる。
In addition, since high-precision and quantitative evaluation of density unevenness can be performed, a quality standard of an image recording apparatus can be created.

【0118】さらに、画像記録装置の記録結果に濃度む
らがあったときその濃度むらの原因がわかるようになっ
たので、画像記録装置を改良するときの精度を上げると
ともに改良にかかる時間を短縮することができる。
Further, when there is density unevenness in the recording result of the image recording apparatus, the cause of the density unevenness can be understood, so that the accuracy in improving the image recording apparatus and the time required for the improvement are shortened. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による画像濃度むら計測装置のブロック
線図である。
FIG. 1 is a block diagram of an image density unevenness measuring apparatus according to the present invention.

【図2】試料の濃度分布である。FIG. 2 is a concentration distribution of a sample.

【図3】図2に示した濃度分布を分析する処理のフロー
チャートである。
FIG. 3 is a flowchart of a process for analyzing a density distribution shown in FIG. 2;

【図4】図2に示した濃度分布を分析する処理のフロー
チャートの図4に続く部分である。
FIG. 4 is a part of the flowchart of the process of analyzing the concentration distribution shown in FIG. 2 that follows FIG. 4;

【図5】山の中心位置を求める方法の説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of a method for obtaining a center position of a mountain.

【図6】濃度分布のサイクル平均を求める方法の説明図
である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of a method of calculating a cycle average of a concentration distribution.

【図7】濃度むら分布である。FIG. 7 is an uneven density distribution.

【図8】濃度むら周波数分布である。FIG. 8 is a frequency distribution of uneven density.

【図9】走査線ピッチむら分布である。FIG. 9 is a scan line pitch uneven distribution.

【図10】走査線ピッチむら周波数分布である。FIG. 10 is a frequency distribution of scanning line pitch unevenness.

【図11】ポリゴンによる走査線ピッチむらである。FIG. 11 shows scanning line pitch unevenness due to polygons.

【図12】ポリゴン以外による走査線ピッチむら分布で
ある。
FIG. 12 is a scan line pitch uneven distribution other than polygons.

【図13】ポリゴン以外による走査線ピッチむら周波数
分布である。
FIG. 13 is a scanning line pitch uneven frequency distribution other than polygons.

【図14】光ビームの強度に対応した濃度を求める方法
の説明図である。
FIG. 14 is an explanatory diagram of a method for obtaining a density corresponding to the intensity of a light beam.

【図15】光ビーム強度むら分布である。FIG. 15 is a light beam intensity uneven distribution.

【図16】光ビーム強度むら周波数分布である。FIG. 16 is a frequency distribution of light beam intensity unevenness.

【図17】視認限界むらのレベルの分布を示す図であ
る。
FIG. 17 is a diagram showing a distribution of levels of visibility limit unevenness.

【図18】試料に画像記録する際に用いられるレーザイ
メージャの光ビームの強度の波形を示す図である。
FIG. 18 is a diagram showing a waveform of the intensity of a light beam of a laser imager used when recording an image on a sample.

【図19】図2の濃度分布を用いて数2を逆算すること
で求めた光ビーム強度分布である。
19 is a light beam intensity distribution obtained by back-calculating Equation 2 using the density distribution of FIG.

【図20】筒を設けない場合の試料を透過した光量を示
す図である。
FIG. 20 is a diagram showing the amount of light transmitted through a sample when no cylinder is provided.

【図21】筒を設けた場合の試料を透過した光量を示す
図である。
FIG. 21 is a diagram showing the amount of light transmitted through a sample when a cylinder is provided.

【図22】試料ホルダの断面図である。FIG. 22 is a sectional view of a sample holder.

【図23】透明支持体を用いずに計測した濃度の変動幅
を示す図である。
FIG. 23 is a diagram showing a fluctuation range of density measured without using a transparent support.

【図24】透明支持体を用いずに計測した濃度を示す図
である。
FIG. 24 is a diagram showing a density measured without using a transparent support.

【図25】透明支持体を用いて計測した濃度の変動幅を
示す図である。
FIG. 25 is a diagram showing a fluctuation range of density measured using a transparent support.

【図26】透明支持体を用いて計測した濃度を示す図で
ある。
FIG. 26 is a diagram showing the density measured using a transparent support.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 He−Neレーザ 2 レーザ光 3 筒 4 ビームエキスパンダ 5 シリンドリカルレンズ 6 スリット 7 一軸メカニカルステージ 8 試料ホルダ 8a 透明支持体 8b 外枠 9 試料 10 ホトダイオード 11 レーザ測長器 12 ステージコントローラ 13 アンプ 14 A/D変換器 15 CPU 16 表示装置 17 ゴニオステージ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 He-Ne laser 2 Laser beam 3 Cylinder 4 Beam expander 5 Cylindrical lens 6 Slit 7 Uniaxial mechanical stage 8 Sample holder 8a Transparent support 8b Outer frame 9 Sample 10 Photodiode 11 Laser length measuring device 12 Stage controller 13 Amplifier 14 A / D converter 15 CPU 16 Display device 17 Goniometer stage

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−284771(JP,A) 特開 平4−335363(JP,A) 特開 平3−282684(JP,A) 特開 平4−229287(JP,A) 特開 平1−91040(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H04N 1/00 G06T 1/00 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-4-284771 (JP, A) JP-A-4-335363 (JP, A) JP-A-3-282684 (JP, A) JP-A-4-284 229287 (JP, A) JP-A-1-91040 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H04N 1/00 G06T 1/00

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 光ビームを走査することにより記録され
走査線ごとの濃度に濃淡が生じ得る画像試料の走査線に
対して直角方向の濃度むらを計測する装置において、 前記画像試料の前記走査線のピッチよりも微細幅の領域
の濃度を測定する濃度測定手段と、 前記画像試料の濃度測定位置を走査線に対して直角方向
に移動する移動手段と、 前記濃度測定位置を測定する位置測定手段と、 前記位置測定手段により測定された濃度測定位置と各濃
度測定位置で前記濃度測定手段により測定された濃度と
に基づき前記画像試料の濃度分布を作成する濃度分布作
成手段と、 前記濃度分布を空間フィルタリング処理して濃度むら分
布を作成する濃度むら分布作成手段と、 前記濃度分布から走査線ピッチを求め該走査線ピッチか
ら走査線ピッチむら分布を作成する第1の走査線ピッチ
むら分布作成手段と、 前記濃度分布から光ビームの強度に対応した値を求め該
値から光ビーム強度むら分布を作成する光ビーム強度む
ら分布作成手段と 前記濃度分布作成手段が作成した濃度分布、前記濃度む
ら分布作成手段が作成した濃度むら分布、前記第1の走
査線ピッチむら分布作成手段が作成した走査線ピッチむ
ら分布、および、前記光ビーム強度むら分布作成手段が
作成した光ビーム強度むら分布のうちの少なくとも1つ
を表示することができる表示手段と を備えたことを特徴
とする画像濃度むら計測装置。
1. Recorded by scanning a light beam.
In the scanning line of the image sample, where the density of each scanning line may vary.
The density unevenness in the direction perpendicular tomeasurementAn apparatus having a finer width than a pitch of the scanning lines of the image sample.
Density measuring means for measuring the density of the image sample;
Moving means moving to the position; a position measuring means for measuring the concentration measuring position; a concentration measuring position measured by the position measuring means;
And the density measured by the density measuring means at the degree measurement position
Density distribution creating a density distribution of the image sample based on
Means for spatially filtering the density distribution to obtain density unevenness.
Density unevenness distribution creating means for creating a cloth; determining a scanning line pitch from the density distribution;
Scan line pitch to create scan line pitch uneven distribution
Unevenness distribution creating means for obtaining a value corresponding to the intensity of the light beam from the density distribution;
Create light beam intensity distribution from values
Distribution creation means, The density distribution created by the density distribution creating means;
Density unevenness distribution created by the
Scan line pitch unevenness created by the scanning line pitch unevenness distribution creating means
And the light beam intensity unevenness distribution creating means
At least one of the created light beam intensity distributions
Display means capable of displaying Characterized by having
Image density unevennessmeasurementapparatus.
【請求項2】 前記空間フィルタリング処理は、空間正
弦波パターンに対する視覚の空間周波数特性によるフィ
ルタリング処理であることを特徴とする請求項1に記載
の画像濃度むら計測装置。
2. The image density unevenness measuring apparatus according to claim 1, wherein the spatial filtering process is a filtering process based on a visual spatial frequency characteristic for a spatial sine wave pattern.
【請求項3】 前記光ビーム強度むら分布作成手段は、 前記濃度分布と前記画像試料の感度特性とに基づいて光
ビーム強度分布を作成する光ビーム強度分布作成手段
と、 前記光ビーム強度分布に基づいて前記光ビームのビーム
径を演算するビーム径演算手段と、 前記光ビーム強度分布の曲線の山の最高点における光ビ
ーム強度に対して、前記第1の走査線ピッチむら分布作
成手段で求めた走査線ピッチと前記ビーム径とを用い
て、走査線ピッチにより変動する隣接する走査線の光ビ
ーム強度の重なり成分の影響を取り除くように補正する
第1の補正手段と、 該第1の補正手段で補正した光ビーム強度に対して、前
記第1の補正手段で補正した隣接する山の最高点におけ
る光ビーム強度と前記第1の走査線ピッチむら分布作成
手段で求めた走査線ピッチと前記ビーム径とを用いて、
光ビーム強度により変動する隣接する走査線の光ビーム
強度の重なり成分の影響を取り除くように補正する第2
の補正手段とを有し、 該第2の補正手段で補正した光ビーム強度から光ビーム
強度むら分布を作成するものであることを特徴とする請
求項1または請求項2に記載の画像濃度むら計測装置。
3. The light beam intensity non-uniformity distribution creating unit includes: a light beam intensity distribution creating unit that creates a light beam intensity distribution based on the density distribution and a sensitivity characteristic of the image sample; Beam diameter calculating means for calculating the beam diameter of the light beam based on the first scanning line pitch unevenness distribution creating means for the light beam intensity at the highest point of the peak of the curve of the light beam intensity distribution. A first correction unit that corrects so as to eliminate the influence of the overlapping component of the light beam intensities of adjacent scanning lines that fluctuates according to the scanning line pitch, using the scanning line pitch and the beam diameter; With respect to the light beam intensity corrected by the means, the light beam intensity at the highest point of the adjacent peak corrected by the first correction means and the scanning light intensity determined by the first scanning line pitch unevenness distribution creating means. Using said beam diameter a line pitch,
The second correction is performed so as to remove the influence of the overlapping component of the light beam intensity of the adjacent scanning lines which fluctuates according to the light beam intensity.
3. An image density unevenness according to claim 1 or 2, wherein the light beam intensity unevenness distribution is created from the light beam intensity corrected by the second correction means. Measuring device.
【請求項4】 前記光ビームが回転多面鏡により偏向さ
れ、 前記走査線ピッチむら分布から前記回転多面鏡の各面間
周期による走査線ピッチむら分布を作成する第2の走査
線ピッチむら分布作成手段と、 該第2の走査線ピッチむら分布作成手段で作成した走査
線ピッチむら分布の影響を、前記第1の走査線ピッチむ
ら分布作成手段で作成した走査線ピッチむら分布から取
り除き、回転多面鏡の各面間周期以外による走査線ピッ
チむら分布を作成する第3の走査線ピッチむら分布作成
手段とをさらに備え 前記表示手段が、前記第2の走査線ピッチむら分布作成
手段が作成した走査線ピッチむら分布、および、前記第
3の走査線ピッチむら分布作成手段が作成した走査線ピ
ッチむら分布のうちの少なくとも1つを表示することが
できる ことを特徴とする請求項1、請求項2または請求
項3に記載の画像濃度むら計測装置。
4. The light beam is deflected by a rotating polygon mirror.
Between the surfaces of the rotating polygon mirror from the scanning line pitch uneven distribution.
Second scan for creating scan line pitch unevenness distribution by period
Line pitch unevenness distribution creating means, and the scan created by the second scanning line pitch unevenness distribution creating means
The influence of the line pitch non-uniformity distribution is determined by the first scanning line pitch
From the scan line pitch unevenness distribution created by the
Scanning line pitches other than the period between the surfaces of the rotating polygon mirror.
Creating the third scan line pitch unevenness distribution for creating the unevenness distribution
And means., The display means generates the second scanning line pitch unevenness distribution.
Scanning line pitch unevenness distribution created by the means, and
The scanning line pitches created by the scanning line pitch unevenness distribution creating means 3
Displaying at least one of the spotty distributions
it can Claim 1, Claim 2, or Claim
Item 3. Image density unevenness according to item 3.measurementapparatus.
【請求項5】 前記濃度むら分布をフーリエ変換し濃度
むら周波数分布を作成する濃度むら周波数分布作成手段
と、 前記第1の走査線ピッチむら分布作成手段により作成さ
れた走査線ピッチむら分布をフーリエ変換し走査線ピッ
チむら周波数分布を作成する第1の走査線ピッチむら周
波数分布作成手段と、 前記光ビーム強度むら分布をフーリエ変換し光ビーム強
度むら周波数分布を作成する光ビーム強度むら周波数分
布作成手段とをさらに備え 前記表示手段が、前記濃度むら周波数分布作成手段が作
成した濃度むら周波数分布、前記第1の走査線ピッチむ
ら周波数分布作成手段が作成した走査線ピッチむら周波
数分布、および、前記光ビーム強度むら周波数分布作成
手段が作成した光ビーム強度むら周波数分布のうちの少
なくとも1つを表示することができる ことを特徴とする
請求項1、請求項2または請求項3に記載の画像濃度む
計測装置。
5. The density unevenness distribution is subjected to a Fourier transform to obtain a density
Density uneven frequency distribution creation means for creating uneven frequency distribution
Created by the first scanning line pitch unevenness distribution creating means.
Fourier transform is applied to the scanning line pitch
1st scan line pitch for creating a frequency distribution
Means for creating a wave number distribution, and performing a Fourier transform on the light beam
Deformation frequency distribution Creates a frequency distribution
Further comprising cloth making means, The display means is provided by the density unevenness frequency distribution creating means.
Density unevenness frequency distribution and first scanning line pitch
Scan line pitch uneven frequency created by the frequency distribution creating means
Number distribution and frequency distribution of light beam intensity unevenness
Of the frequency distribution of the light beam
At least one can be displayed Characterized by
The image density according to claim 1, 2, or 3
Lameasurementapparatus.
【請求項6】 前記濃度むら分布をフーリエ変換し濃度
むら周波数分布を作成する濃度むら周波数分布作成手段
と、 前記第1の走査線ピッチむら分布作成手段により作成さ
れた走査線ピッチむら分布をフーリエ変換し走査線ピッ
チむら周波数分布を作成する第1の走査線ピッチむら周
波数分布作成手段と、 前記第3の走査線ピッチむら分布作成手段により作成さ
れた走査線ピッチむら分布をフーリエ変換し回転多面鏡
以外による走査線ピッチむら周波数分布を作成する第2
の走査線ピッチむら周波数分布作成手段と、 前記光ビーム強度むら分布をフーリエ変換し光ビーム強
度むら周波数分布を作成する光ビーム強度むら周波数分
布作成手段と、 をさらに備え 前記表示手段が、前記濃度むら周波数分布作成手段が作
成した濃度むら周波数分布、前記第1の走査線ピッチむ
ら周波数分布作成手段が作成した走査線ピッチむら周波
数分布、前記第2の走査線ピッチむら周波数分布作成手
段が作成した走査線ピッチむら周波数分布、および、前
記光ビーム強度むら周波数分布作成手段が作成した光ビ
ーム強度むら周波数分布のうちの少なくとも1つを表示
すること ができる ことを特徴とする請求項4に記載の画
像濃度むら計測装置。
6. The density unevenness distribution is subjected to a Fourier transform to obtain a density
Density uneven frequency distribution creation means for creating uneven frequency distribution
Created by the first scanning line pitch unevenness distribution creating means.
Fourier transform is applied to the scanning line pitch
1st scan line pitch for creating a frequency distribution
Wave number distribution creating means, and the third scanning line pitch unevenness distribution creating means.
Fourier transform of the irregular scanning line pitch distribution and a rotating polygon mirror
2nd to create scan line pitch uneven frequency distribution by other than
Scanning line pitch non-uniformity frequency distribution creating means; and
Deformation frequency distribution Creates a frequency distribution
A cloth making means; and, The display means is provided by the density unevenness frequency distribution creating means.
Density unevenness frequency distribution and first scanning line pitch
Scan line pitch uneven frequency created by the frequency distribution creating means
Number distribution, the second scanning line pitch uneven frequency distribution
Scan line pitch unevenness frequency distribution created by the step
Optical beam intensity unevenness
Display at least one of the frequency distributions
To do Can The image according to claim 4, characterized in that:
Uneven image densitymeasurementapparatus.
【請求項7】 前記濃度測定手段は、 光照射手段と、 該光照射手段からの光をスリット状に成形する光成形手
段と、 前記試料上の走査線と前記光成形手段によるスリット状
光の長さ方向とが平行になるように、前記試料への前記
スリット状光の照射位置を調整する照射位置調整手段
と、 前記スリット状光が前記画像試料を透過した透過光もし
くは前記スリット状光が前記画像試料で反射した反射光
に基づいて前記画像試料の濃度を演算する濃度演算手段
とを有することを特徴とする請求項1、請求項2、請求
項3、請求項4、請求項5または請求項6に記載の画像
濃度むら計測装置。
7. The concentration measuring means includes: a light irradiating means; a light shaping means for shaping light from the light irradiating means into a slit shape; Irradiation position adjusting means for adjusting the irradiation position of the slit-shaped light on the sample so that the length direction is parallel to the sample; and the transmitted light or the slit-shaped light transmitted by the slit-shaped light transmitted through the image sample. And a density calculating means for calculating the density of the image sample based on the light reflected by the image sample. The image density unevenness measuring device according to claim 6.
【請求項8】 前記濃度測定手段は、 光照射手段と、 該光照射手段からの光が前記画像試料を透過した透過光
もしくは前記光照射手段からの光が前記画像試料で反射
した反射光に基づいて前記画像試料の濃度を演算する濃
度演算手段と、 前記光照射手段からの光の光路を包む筒とを有すること
を特徴とする請求項1、請求項2、請求項3、請求項
4、請求項5または請求項6に記載の画像濃度むら計測
装置。
8. The density measuring unit includes: a light irradiating unit; and a light transmitted from the light irradiating unit and transmitted light transmitted through the image sample or light reflected from the image sample reflected from the image sample. 5. The image processing apparatus according to claim 1, further comprising: a density calculation unit that calculates a density of the image sample based on the image data; and a cylinder that encloses an optical path of light from the light irradiation unit. An image density unevenness measuring apparatus according to claim 5 or claim 6.
【請求項9】 前記濃度測定手段は、 前記光照射手段からの光の光路を包む筒を有することを
特徴とする請求項7に記載の画像濃度むら計測装置。
9. The image density unevenness measuring apparatus according to claim 7, wherein the density measuring unit has a cylinder enclosing an optical path of the light from the light irradiating unit.
【請求項10】 前記画像試料はその濃度計測面が透明
支持体で覆われてはさみ保持されていることを特徴とす
る請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項
5、請求項6、請求項7、請求項8または請求項9に記
載の画像濃度むら計測装置。
10. The image sample, wherein a density measurement surface of the image sample is covered with a transparent support and is held by scissors. 10. The image density unevenness measuring apparatus according to claim 6, claim 7, claim 8, or claim 9.
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