JP3230963B2 - Surface profile measuring device - Google Patents
Surface profile measuring deviceInfo
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- JP3230963B2 JP3230963B2 JP27486495A JP27486495A JP3230963B2 JP 3230963 B2 JP3230963 B2 JP 3230963B2 JP 27486495 A JP27486495 A JP 27486495A JP 27486495 A JP27486495 A JP 27486495A JP 3230963 B2 JP3230963 B2 JP 3230963B2
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、細長形状の被検面
を有する被検体の被検面凹凸形状を測定する表面形状測
定装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface shape measuring apparatus for measuring the irregular shape of a test surface having an elongated test surface.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、磁気ヘッドの製造方法とし
て、磁気ヘッド材料を細長ブロック状に形成しておき、
これをスライスして磁気ヘッドを切り出す方法が知られ
ている。磁気ヘッドにおいてはそのヘッド表面の面形状
が品質上重要になるが、上記細長ブロックの段階におい
てそのヘッド表面となるべき面が長手方向に波打った凹
凸形状となっているような場合には、この細長ブロック
からの切出しを行っても表面形状に優れた磁気ヘッドを
得ることができない。したがって、上記細長ブロックの
段階においてその表面の凹凸形状を予め測定し、良品に
対してのみ切出しを行うようにすれば、品質の保証され
た磁気ヘッドを製造することが可能となる。2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of manufacturing a magnetic head, a magnetic head material is formed in an elongated block shape.
A method of slicing this and cutting out a magnetic head is known. In a magnetic head, the surface shape of the head surface is important in quality, but in the case of the surface to be the head surface in the step of the elongated block, if the surface has a concave and convex shape wavy in the longitudinal direction, Even if cutting is performed from this elongated block, a magnetic head having an excellent surface shape cannot be obtained. Therefore, if the uneven shape of the surface is measured in advance in the step of the elongated block, and only the non-defective product is cut out, it is possible to manufacture a magnetic head with guaranteed quality.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上記細長ブロックの表
面の凹凸形状を測定する方法として、干渉計を用いて干
渉縞を形成させてその縞模様を観察する方法が考えられ
るが、長手方向の波打ち形状を縞模様から読み取ること
は容易ではなく、特に、磁気ヘッドの製造ラインにおい
て短時間で表面凹凸の有無判定を行うことは困難であ
る。本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので
あって、細長形状の被検面を有する被検体の被検面凹凸
形状を容易に測定することができる表面形状測定装置を
提供することを目的とするものである。As a method of measuring the irregular shape of the surface of the above-mentioned elongated block, a method of forming an interference fringe using an interferometer and observing the fringe pattern can be considered. It is not easy to read the shape from the stripe pattern, and it is particularly difficult to judge the presence or absence of surface irregularities in a short time in a magnetic head production line. The present invention has been made in view of such circumstances, and provides a surface shape measuring apparatus capable of easily measuring the uneven shape of a test surface of a test object having an elongated test surface. It is intended for.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明に係る表面形状測
定装置は、細長形状の被検面を有する被検体の前記被検
面の凹凸形状を測定する表面形状測定装置であって、前
記被検体を支持する被検体支持手段と、前記被検面に平
行光を照射する平行光照射手段と、前記被検面を結像す
る結像レンズとを備え、前記被検体支持手段による前記
被検体の支持が、前記被検面の長手方向と直交する平面
内において該被検面の法線方向と所定角度をなす方向か
ら該被検面に前記平行光を入射させるように行われてお
り、前記結像レンズが、前記平行光入射方向に配置され
るとともに、該結像レンズにより形成される略平行光束
に球面収差が生じるように構成されていることを特徴と
するものである。A surface shape measuring apparatus according to the present invention is a surface shape measuring apparatus for measuring the uneven shape of the test surface of a test object having an elongated test surface. An object supporting means for supporting an object, a parallel light irradiating means for irradiating the object surface with parallel light, and an imaging lens for forming an image on the object surface; and Is performed so that the parallel light is incident on the test surface from a direction that forms a predetermined angle with the normal direction of the test surface in a plane orthogonal to the longitudinal direction of the test surface, The imaging lens is arranged in the direction of incidence of the parallel light, and is configured such that spherical aberration occurs in the substantially parallel light beam formed by the imaging lens.
【0005】[0005]
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて、本発明の実
施例について説明する。図1は、本発明に係る表面形状
測定装置の一実施例を示す側面図である。図示のよう
に、この表面形状測定装置10は、細長形状の被検面2
aを有する被検体2(磁気ヘッド材料を細長ブロック状
に形成したもの)の被検面凹凸形状を測定する装置であ
る。すなわち、この表面形状測定装置10は、レーザ装
置12と、発散レンズ14と、ハーフミラー16と、コ
リメータレンズ18と、チルトステージ20と、結像レ
ンズ22と、撮像部24と、モニタ26とを備えてなっ
ている。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a side view showing an embodiment of the surface shape measuring apparatus according to the present invention. As shown in the figure, the surface shape measuring device 10 has an elongated shape of the test surface 2.
This is an apparatus for measuring the unevenness of the test surface of the test object 2 (having a magnetic head material formed in a slender block shape) having a. That is, the surface shape measuring apparatus 10 includes a laser device 12, a diverging lens 14, a half mirror 16, a collimator lens 18, a tilt stage 20, an imaging lens 22, an imaging unit 24, and a monitor 26. Equipped.
【0006】そして、レーザ装置12から射出されたレ
ーザ光を発散レンズ14で発散させた後、この発散光を
ハーフミラー16で反射させ、これをコリメータレンズ
18で平行光にしてチルトステージ20上の被検体に入
射させ、このチルトステージ20上の被検体からの反射
光を再びコリメータレンズ18で集束させ、この集束光
をさらに結像レンズ22の集光作用で撮像部24の撮像
面24a上に略平行照射し、これにより得られた被検体
の画像をモニタ26の画面上に表示するようになってい
る。上記表面形状測定装置10は、さらに、コリメータ
レンズ18とチルトステージ20との間の光路上(図中
2点鎖線で示す位置)に、基準板28を配置し得る構成
とされており、この位置に基準板28を配置した状態
で、被検面2aを基準板28に対して水平に配置するこ
とによりフィゾー型干渉計として使用することができる
ようになっている。After the laser light emitted from the laser device 12 is diverged by the diverging lens 14, the divergent light is reflected by the half mirror 16, and is converted into parallel light by the collimator lens 18, and is converted to parallel light on the tilt stage 20. The reflected light from the subject on the tilt stage 20 is focused again by the collimator lens 18, and the focused light is further condensed by the imaging lens 22 onto the imaging surface 24 a of the imaging unit 24. Irradiation is performed substantially in parallel, and an image of the subject obtained by the irradiation is displayed on the screen of the monitor 26. The surface shape measuring device 10 is further configured such that a reference plate 28 can be disposed on an optical path between the collimator lens 18 and the tilt stage 20 (a position indicated by a two-dot chain line in the figure). By disposing the test surface 2a horizontally with respect to the reference plate 28 in a state where the reference plate 28 is disposed, it can be used as a Fizeau interferometer.
【0007】図示のように、被検体2はチルトステージ
20上に支持されるようになっているが、被検体2の被
検面2aの凹凸形状を測定する際には、チルトステージ
20を被検面2aの長手方向の軸線(図示のように座標
系を設定した場合におけるY軸)回りに所定角度回転さ
せて、被検面2aを水平面に対して所定角度傾斜させる
ようになっている。そして、これにより、コリメータレ
ンズ18からの平行光を、ZX平面(上記長手方向の軸
線と直交する平面)内において被検面2aの法線方向と
上記所定角度をなす方向から被検面2aに入射させるよ
うになっている。図2は、チルトステージ20の詳細構
造を示す斜視図である。図示のように、チルトステージ
20は、ベースプレート30の上に、Yステージ32
と、Xステージ34と、チルトステージ本体36とが積
層されてなっている。As shown in the figure, the subject 2 is supported on a tilt stage 20. However, when measuring the uneven shape of the test surface 2a of the subject 2, the tilt stage 20 is supported. The test surface 2a is rotated by a predetermined angle around the longitudinal axis of the test surface 2a (Y axis when a coordinate system is set as shown in the figure), and the test surface 2a is inclined by a predetermined angle with respect to the horizontal plane. Thereby, the parallel light from the collimator lens 18 is transferred to the test surface 2a from a direction at a predetermined angle with respect to a normal direction of the test surface 2a in a ZX plane (a plane orthogonal to the longitudinal axis). It is designed to be incident. FIG. 2 is a perspective view showing a detailed structure of the tilt stage 20. As shown in the figure, the tilt stage 20 has a Y stage 32 on a base plate 30.
, An X stage 34 and a tilt stage main body 36 are laminated.
【0008】上記Yステージ32は調整ネジ38により
ベースプレート30に対してY軸方向に移動可能であ
り、上記Xステージ34は調整ネジ40によりYステー
ジ32に対してX軸方向に移動可能であり、上記チルト
ステージ本体36は調整ネジ42、44によりXステー
ジ34に対して各々Y軸回り、X軸回りに傾動可能であ
る。上記チルトステージ本体36には上記傾動の際の支
点作用を果たすバネ46が設けられている。The Y stage 32 can be moved in the Y axis direction with respect to the base plate 30 by an adjustment screw 38, and the X stage 34 can be moved in the X axis direction with respect to the Y stage 32 by an adjustment screw 40. The tilt stage main body 36 can be tilted around the Y axis and the X axis with respect to the X stage 34 by adjusting screws 42 and 44, respectively. The tilt stage main body 36 is provided with a spring 46 that acts as a fulcrum at the time of tilting.
【0009】上記チルトステージ20には、さらに、そ
のベースプレート30に支持された4本の調整ネジ48
に遮蔽板50が高さ調整可能に取り付けられている。こ
の遮蔽板50には、Y軸方向に延びる細長形状のスリッ
ト50aが形成されており、このスリット50aにより
被検体2の被検面2aの形状を規定するようになってい
る。上記遮蔽板50は、上記チルトステージ20のYス
テージ32、Xステージ34およびチルトステージ本体
36により位置および傾斜角度が設定された被検体2に
対して、上記4本の調整ネジ48の調整によりその被検
面2aとなるべき表面近傍に配置されるようになってい
る。The tilt stage 20 is further provided with four adjusting screws 48 supported on the base plate 30 thereof.
The shield plate 50 is attached to the height adjustable. An elongated slit 50a extending in the Y-axis direction is formed in the shielding plate 50, and the shape of the test surface 2a of the subject 2 is defined by the slit 50a. The shielding plate 50 is adjusted by adjusting the four adjustment screws 48 on the subject 2 whose position and tilt angle are set by the Y stage 32, the X stage 34, and the tilt stage body 36 of the tilt stage 20. It is arranged near the surface to be the test surface 2a.
【0010】図3(a)に示すように、上記結像レンズ
22は、該結像レンズ22により形成される被検体の像
に球面収差が生じるように構成されている。この球面収
差は、図3(b)に示すように、チルトステージ本体3
6からの反射光がZ軸(光軸)となす角度を横軸にと
り、撮像部24の撮像面上における像高ズレ量を縦軸に
とったとき、高次関数的に角度が大きくなるほど収差の
増加量が大きくなるように設定されている。As shown in FIG. 3A, the imaging lens 22 is configured so that a spherical aberration occurs in the image of the subject formed by the imaging lens 22. As shown in FIG. 3 (b), the spherical aberration
When the angle formed by the reflected light from the optical axis 6 and the Z axis (optical axis) is taken on the horizontal axis, and the image height deviation amount on the imaging surface of the imaging unit 24 is taken on the vertical axis, the aberration increases as the angle increases in a higher-order function Is set to increase.
【0011】次に、本実施例の作用について説明する。
被検体2が、図4(a)に示すようなY軸方向に波打っ
た凹凸形状の被検面2aを有するものとする。本実施例
においては、この被検体2を上記チルトステージ20に
よりY軸回りに所定角度傾斜させるようになっている
が、そのときのチルトステージ本体36の傾斜角度をθ
とすると、被検面2aは図4(b)に示すようになる。
被検面2aにこのような傾斜角度を持たせることによ
り、コリメータレンズ18からの平行光はチルトステー
ジ本体36に対して入射角θで入射することとなる。Next, the operation of this embodiment will be described.
It is assumed that the subject 2 has a test surface 2a having an uneven shape waving in the Y-axis direction as shown in FIG. In the present embodiment, the subject 2 is tilted at a predetermined angle around the Y axis by the tilt stage 20. At this time, the tilt angle of the tilt stage main body 36 is set to θ.
Then, the test surface 2a becomes as shown in FIG.
By providing the test surface 2a with such an inclination angle, the parallel light from the collimator lens 18 enters the tilt stage main body 36 at an incident angle θ.
【0012】仮に、チルトステージ本体36が水平面に
対して傾斜していないとすれば、チルトステージ本体3
6からの反射光は、Z軸(光軸)方向に平行なビームと
なるため、コリメータレンズ18を経て結像レンズ22
で集束される際には、図3(a)にAで示すように近軸
光線となる。したがって、チルトステージ本体36に載
置された被検体2の被検面2aの各部位からの反射光
が、該被検面2aの波打ち凹凸形状によりZ軸(光軸)
方向に対して異なる角度を有していても、図3(b)の
Aから明らかなように、その角度変化に対する像高の変
化がほとんどないため、モニタ26上に被検面2aの波
打ち凹凸形状を映し出すことはできない。If the tilt stage body 36 is not inclined with respect to the horizontal plane, the tilt stage body 3
The reflected light from 6 becomes a beam parallel to the Z-axis (optical axis) direction.
When the light is converged at the point (a), the light becomes a paraxial ray as shown by A in FIG. Therefore, reflected light from each part of the test surface 2a of the test subject 2 placed on the tilt stage main body 36 is reflected on the Z-axis (optical axis) by the wavy irregularities of the test surface 2a.
Even if the angle is different from the direction, as is apparent from A of FIG. 3B, there is almost no change in the image height with respect to the angle change. The shape cannot be projected.
【0013】これに対し、本実施例においては、チルト
ステージ本体36が水平面に対して角度θ傾斜している
ので、チルトステージ本体36からの反射光は、Z軸
(光軸)に対して2θの角度をなす方向へのビームとな
る。このため、コリメータレンズ18を経て結像レンズ
22で集束される際には、図3(a)にBで示すように
周縁光線となり、したがって、チルトステージ本体36
に載置された被検体2の被検面2aの各部位からの反射
光が、該被検面2aの波打ち凹凸形状によりZ軸(光
軸)方向に対して異なる角度を有していれば、図3
(b)のBから明らかなように、その角度変化に対して
像高が大きく変化するため、撮像部24で撮像される、
被検面2aの波打ち凹凸形状をモニタ26上に鮮明に映
し出すことができる。On the other hand, in the present embodiment, since the tilt stage body 36 is inclined at an angle θ with respect to the horizontal plane, the reflected light from the tilt stage body 36 is 2θ with respect to the Z axis (optical axis). Beam in a direction at an angle of. Therefore, when the light is converged by the imaging lens 22 via the collimator lens 18, it becomes a marginal ray as shown by B in FIG.
If the reflected light from each part of the test surface 2a of the test object 2 placed on the test object 2 has a different angle with respect to the Z-axis (optical axis) direction due to the wavy irregularities of the test surface 2a. , FIG.
As is clear from B of (b), since the image height greatly changes with the angle change, the image is captured by the imaging unit 24.
The wavy irregularities of the test surface 2a can be clearly projected on the monitor 26.
【0014】図5は、本実施例に係る表面形状測定装置
10により得られたモニタ26上の被検面2aの像であ
って、同図(a)は、被検面2aに大きな波打ち凹凸形
状がない良品を示し、同図(b)は、被検面2aに大き
な波打ち凹凸形状がある不良品を示す図である。なお、
モニタ26上の各像からこのような良否判定がなされる
のは、以下の理由による。すなわち、本実施例における
被検体2は磁気ヘッド材料を細長ブロック状に形成した
ものであり、これを長手直交方向にスライスすることに
より磁気ヘッドが切り出されることから、たとえ被検面
2aに波打ち凹凸形状があったとしても、これが図5
(a)に示すような長周期の波であれば、切り出された
磁気ヘッドの表面に上記波打ち凹凸形状の影響が残存せ
ず、磁気ヘッドとしての性能上特に問題は生じない。一
方、図5(b)に示すような短周期の波の場合には、切
り出された磁気ヘッドの表面に上記波打ち凹凸形状の影
響が残存するため、磁気ヘッドとしての性能上問題が生
じることになる。FIG. 5 is an image of the test surface 2a on the monitor 26 obtained by the surface shape measuring apparatus 10 according to the present embodiment, and FIG. 5A shows large wavy irregularities on the test surface 2a. FIG. 4B shows a non-defective product having no shape, and FIG. 4B shows a defective product having a large wavy uneven shape on the test surface 2a. In addition,
The reason why the quality is determined from each image on the monitor 26 is as follows. That is, the test object 2 in this embodiment is formed of a magnetic head material in an elongated block shape, and the magnetic head is cut out by slicing the magnetic head material in a direction orthogonal to the longitudinal direction. Even if there is a shape, this is
In the case of a long-period wave as shown in (a), the influence of the wavy irregularities does not remain on the surface of the cut magnetic head, and there is no particular problem in the performance of the magnetic head. On the other hand, in the case of a short-period wave as shown in FIG. 5B, the effect of the wavy irregularities remains on the surface of the cut magnetic head, which causes a problem in performance as the magnetic head. Become.
【0015】以上詳述したように、本実施例において
は、チルトステージ本体36を水平面に対して角度θ傾
斜させることにより、チルトステージ本体36からの反
射光を結像レンズ22に対して周縁光線として入射させ
るようになっており、かつ、結像レンズ22として球面
収差を有するレンズが用いられているので、チルトステ
ージ本体36に載置された被検体2の被検面2aに波打
ち凹凸形状があり、このため該被検面2aの各部位から
の反射光がZ軸方向に対して異なる角度を有していれ
ば、その角度変化に対して像高が大きく変化し、これに
よりモニタ26上に被検面2aの波打ち凹凸形状を鮮明
に映し出すことができる。したがって、本実施例によれ
ば、磁気ヘッドの製造ラインにおいて、該磁気ヘッドと
なるべき細長ブロックの表面凹凸の有無判定を短時間で
容易に行うことが可能となる。As described in detail above, in the present embodiment, the tilt stage main body 36 is inclined at an angle θ with respect to the horizontal plane, so that the reflected light from the tilt stage main body 36 is transmitted to the imaging lens 22 by the marginal rays. Since a lens having a spherical aberration is used as the imaging lens 22, a wavy irregular shape is formed on the test surface 2 a of the test object 2 mounted on the tilt stage main body 36. Therefore, if the reflected light from each part of the test surface 2a has a different angle with respect to the Z-axis direction, the image height greatly changes with respect to the change in the angle. Thus, the wavy irregularities of the test surface 2a can be clearly projected. Therefore, according to the present embodiment, in the manufacturing line of the magnetic head, it is possible to easily determine in a short time the presence / absence of surface unevenness of the elongated block to be the magnetic head.
【0016】なお、本実施例においては、光源としてレ
ーザ装置を用いているので、チルトステージ本体36か
らの反射光も指向性が強いビームとなる。このため、図
3(a)にBで示す周縁光線のみが撮像面に入射するこ
ととなり、これにより撮像面24a上に被検面2aの波
打ち凹凸形状をより一層鮮明に映し出すことができる。In this embodiment, since the laser device is used as the light source, the reflected light from the tilt stage main body 36 also becomes a beam having strong directivity. For this reason, only the marginal rays shown by B in FIG. 3A are incident on the imaging surface, whereby the wavy irregularities of the test surface 2a can be more clearly projected on the imaging surface 24a.
【0017】また、本実施例においては、チルトステー
ジ20に取り付けられた遮蔽板50のスリット50aに
より被検体2の被検面2aの形状を規定するようになっ
ているので、常に同一の基準で被検面2aの波打ち凹凸
形状を映し出すことができ、その観察評価が容易とな
る。さらに、調整ネジ40によりXステージ34をX軸
方向に移動させるようにすれば、被検体2が幅広い表面
を有するような場合であっても、これを細長形状の被検
面2aに区切ってその波打ち凹凸形状を順次観察するこ
とが可能となる。なお、被検体2の被検面2aとなるべ
き表面の輪郭自体が細長い形状である場合には、上記の
ような遮蔽板50を用いることなく被検体2の表面全体
を被検面2aとして表面形状測定を行うようにしてもよ
いことはもちろんである。In the present embodiment, the shape of the test surface 2a of the subject 2 is defined by the slit 50a of the shielding plate 50 attached to the tilt stage 20, so that the same reference is always used. The wavy irregularities of the test surface 2a can be displayed, and the observation and evaluation thereof become easy. Furthermore, if the X stage 34 is moved in the X-axis direction by the adjusting screw 40, even when the subject 2 has a wide surface, the X stage 34 is divided into the elongated test surface 2a, It is possible to sequentially observe the wavy irregularities. When the contour of the surface to be the test surface 2a of the test object 2 has an elongated shape, the entire surface of the test object 2 is used as the test surface 2a without using the above-described shielding plate 50. Needless to say, shape measurement may be performed.
【0018】また、上記実施例では、モニタ26上に映
出された波打ち形状から定性的に被検面2a上の凹凸状
態を判断しているが、この波打ち形状の振幅量を測定す
ることにより、上記結像レンズの球面収差量に基づき被
検面2aの凹凸量を定量的に検出することが可能であ
る。なお、本発明の表面形状測定装置としては上記実施
例のものに限られるものではなく、その他種々の態様の
変更が可能である。In the above embodiment, the state of the irregularities on the test surface 2a is qualitatively determined from the wavy shape projected on the monitor 26. However, the amplitude of the wavy shape is measured. In addition, it is possible to quantitatively detect the amount of unevenness of the test surface 2a based on the amount of spherical aberration of the imaging lens. It should be noted that the surface shape measuring apparatus of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various other modifications can be made.
【0019】[0019]
【発明の効果】本発明によれば、被検体支持手段によっ
て被検体を傾斜配置することにより、その被検面長手方
向と直交する平面内において該被検面の法線方向と所定
角度をなす方向から該被検面に平行光を入射させるよう
に構成されており、また、この平行光を照射された被検
面からの反射光を集束させる結像レンズが、平行光入射
方向に配置されるとともに該結像レンズにより形成され
る集束ビームに球面収差が生じるように構成されている
ので、細長形状の被検面を有する被検体の被検面凹凸形
状を容易に測定することができる。According to the present invention, the subject is inclined by the subject supporting means, so that the subject forms a predetermined angle with the normal direction of the surface in a plane perpendicular to the longitudinal direction of the surface. An imaging lens that is configured to make parallel light incident on the surface to be inspected from a direction, and that focuses reflected light from the surface to be irradiated with the parallel light, is arranged in the parallel light incident direction. In addition, the configuration is such that spherical aberration occurs in the focused beam formed by the imaging lens. Therefore, it is possible to easily measure the uneven shape of the test surface of the test subject having the elongated test surface.
【図1】本発明に係る表面形状測定装置の一実施例を示
す側面図FIG. 1 is a side view showing an embodiment of a surface shape measuring apparatus according to the present invention.
【図2】上記実施例のチルトステージを示す斜視図FIG. 2 is a perspective view showing the tilt stage of the embodiment.
【図3】上記実施例の作用を示す説明図FIG. 3 is an explanatory view showing the operation of the embodiment.
【図4】上記実施例の測定対象となる被検面を示す斜視
図FIG. 4 is a perspective view showing a test surface to be measured in the embodiment.
【図5】上記実施例の測定結果を示す図FIG. 5 is a diagram showing measurement results of the above embodiment.
2 被検体 2a 被検面 10 表面形状測定装置 12 レーザ装置 14 発散レンズ 16 ハーフミラー 18 コリメータレンズ 20 チルトステージ 22 結像レンズ 24 撮像部 24a 撮像面 26 モニタ 28 基準板 30 ベースプレート 32 Yステージ 34 Xステージ 36 チルトステージ本体 50 遮蔽板 50a スリット Reference Signs List 2 subject 2a surface 10 to be measured 10 surface shape measuring device 12 laser device 14 divergent lens 16 half mirror 18 collimator lens 20 tilt stage 22 imaging lens 24 imaging unit 24a imaging surface 26 monitor 28 reference plate 30 base plate 32 Y stage 34 X stage 36 Tilt stage body 50 Shield plate 50a Slit
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 実開 昭62−199616(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01B 11/00 - 11/30 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References Japanese Utility Model Sho 62-199616 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G01B 11/00-11/30
Claims (4)
被検面の凹凸形状を測定する表面形状測定装置であっ
て、 前記被検体を支持する被検体支持手段と、前記被検面に
平行光を照射する平行光照射手段と、前記被検面を結像
する結像レンズとを備え、 前記被検体支持手段による前記被検体の支持が、前記被
検面の長手方向と直交する平面内において該被検面の法
線方向と所定角度をなす方向から該被検面に前記平行光
を入射させるように行われており、 前記結像レンズが、前記平行光入射方向に配置されると
ともに、該結像レンズにより形成される略平行光束に球
面収差が生じるように構成されていることを特徴とする
表面形状測定装置。1. A surface shape measuring apparatus for measuring an uneven shape of a test surface of a test object having an elongated test surface, a test object supporting means for supporting the test object, and the test surface. A parallel light irradiating means for irradiating the object with parallel light, and an imaging lens for forming an image on the surface to be inspected, wherein the support of the object by the object supporting means is orthogonal to a longitudinal direction of the surface to be inspected. It is performed so that the parallel light is incident on the test surface from a direction forming a predetermined angle with a normal direction of the test surface in a plane, and the imaging lens is disposed in the parallel light incident direction. A surface shape measuring apparatus characterized in that a spherical aberration is generated in a substantially parallel light beam formed by the imaging lens.
近傍に、前記被検面の細長形状と同一形状のスリットが
形成された遮蔽板が配置されていることを特徴とする請
求項1記載の表面形状測定装置。2. A shielding plate having a slit formed in the same shape as the elongated shape of the test surface is disposed near the surface of the test object to be the test surface. 2. The surface shape measuring device according to claim 1.
支持が、該被検体を前記遮蔽板に対して前記スリットの
長手方向と直交する前記被検面に沿った方向に相対移動
させ得るように行われていることを特徴とする請求項2
記載の表面形状測定装置。3. The support of the subject by the subject support means can move the subject relative to the shielding plate in a direction along the test surface orthogonal to a longitudinal direction of the slit. 3. The method according to claim 2, wherein
The surface shape measuring device according to the above.
縞形成用の基準板を配置し得るように構成されているこ
とを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の表面形状測
定装置。4. The surface shape measurement according to claim 1, wherein a reference plate for forming an interference fringe can be arranged at a predetermined position in the light beam of the parallel light. apparatus.
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