JP3245273B2 - Semiconductor device - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、チップ上に複数の容
量を形成する半導体装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device for forming a plurality of capacitors on a chip.
【0002】近年の半導体装置は益々高集積化が進み、
チップ上に多数の能動素子及び受動素子が配列される。
また、このような半導体装置ではその動作の高精度化も
益々要求されている。このため、チップ上に多数形成さ
れる受動素子の精度を向上させることが必要となってい
る。In recent years, semiconductor devices have been increasingly integrated,
A number of active and passive devices are arranged on a chip.
Further, in such a semiconductor device, higher precision of its operation is increasingly required. Therefore, it is necessary to improve the precision of a large number of passive elements formed on a chip.
【0003】[0003]
【従来の技術】4ビットの電荷再配分型A/D変換器の
一例を図5に従って説明する。容量8C,4C,2C,
1Cはその容量値が2の重み付けによる値で設定され、
その容量値の比率は8:4:2:1に設定されている。2. Description of the Related Art An example of a 4-bit charge redistribution A / D converter will be described with reference to FIG. Capacity 8C, 4C, 2C,
1C has its capacitance value set by a value obtained by weighting 2;
The ratio of the capacitance values is set to 8: 4: 2: 1.
【0004】すなわち、容量8Cは8個の単位容量で構
成され、容量4Cは4個の単位容量で構成され、容量2
Cは2個の単位容量で構成され、容量1Cは1個の単位
容量で構成される。That is, the capacitor 8C is composed of eight unit capacitances, the capacitance 4C is composed of four unit capacitances,
C is composed of two unit capacitances, and capacitance 1C is composed of one unit capacitance.
【0005】各容量8C,4C,2C,1Cの一方の端
子はチョッパ型比較器1に接続されている。前記チョッ
パ型比較器1はインバータ回路2と、同インバータ回路
2に対し並列に接続されるNチャネルMOSトランジス
タTrcとで構成される。そして、逐次比較制御部(図示
しない)の動作に基づいてトランジスタTrcのオン・オ
フ動作が制御される。One terminal of each of the capacitors 8C, 4C, 2C, 1C is connected to the chopper type comparator 1. The chopper type comparator 1 includes an inverter circuit 2 and an N-channel MOS transistor Trc connected in parallel to the inverter circuit 2. The on / off operation of the transistor Trc is controlled based on the operation of the successive approximation control unit (not shown).
【0006】前記各容量8C〜1Cの他方の端子は、前
記逐次比較制御部により制御される切り換え回路3a〜
3dに接続され、それぞれ基準電源電圧AVRと、同基
準電源電圧AVRとグランドGのレベルとの間で変動す
るアナログ入力信号Ainと、グランドGとのいずれかの
レベルが入力されるように切り換えられる。The other terminals of the capacitors 8C to 1C are connected to switching circuits 3a to 3c controlled by the successive approximation control unit.
3d, and are switched so that any one of the reference power supply voltage AVR, the analog input signal Ain which fluctuates between the reference power supply voltage AVR and the level of the ground G, and the ground G is input. .
【0007】上記のように構成されたA/D変換器の動
作を説明すると、まず前記逐次比較制御部の制御に基づ
いて、切り換え回路3a〜3dはアナログ入力信号Ain
に接続されてサンプリング動作が行われ、各容量8C〜
1Cにはその容量値に応じた電荷が蓄積される。The operation of the A / D converter configured as described above will be described. First, based on the control of the successive approximation control unit, the switching circuits 3a to 3d switch the analog input signal Ain
And the sampling operation is performed.
1C stores an electric charge corresponding to the capacitance value.
【0008】このとき、前記トランジスタTrcはオンさ
れて各容量8C〜1Cのチョッパ型比較器1側の端子
は、同チョッパ型比較器1のしきい値Vthに維持され
る。そして、各容量8C〜1Cは前記しきい値Vthと、
アナログ入力信号Ainとの差電圧に基づいて充電され、
各容量8C〜1Cのチョッパ型比較器1側の電極にはマ
イナスの電荷が蓄積される。At this time, the transistor Trc is turned on, and the terminals of the capacitors 8C to 1C on the chopper type comparator 1 side are maintained at the threshold value Vth of the chopper type comparator 1. Each of the capacitors 8C to 1C has the threshold value Vth,
Charged based on the difference voltage from the analog input signal Ain,
Negative charges are accumulated in the electrodes of the capacitors 8C to 1C on the chopper type comparator 1 side.
【0009】次いで、前記トランジスタTrcはオフされ
るとともに、逐次比較制御部の制御に基づいて切り換え
回路3a〜3dが順次切り換えられ、そのときのインバ
ータ回路2の入力端子のレベルの変化により、インバー
タ回路2から出力される出力信号OUTが4ビットのデ
ジタル信号となる。Next, while the transistor Trc is turned off, the switching circuits 3a to 3d are sequentially switched under the control of the successive approximation control section, and the change in the level of the input terminal of the inverter circuit 2 at that time causes the inverter circuit to change. The output signal OUT output from 2 becomes a 4-bit digital signal.
【0010】上記のようなA/D変換器では、4ビット
のA/D変換を行うために各容量C8〜C1が必要とな
り、各容量8C〜1Cは図6に示すようにレイアウトさ
れる。In the A / D converter as described above, each of the capacitors C8 to C1 is required to perform 4-bit A / D conversion, and each of the capacitors 8C to 1C is laid out as shown in FIG.
【0011】すなわち、チップ4上には16個の単位容
量が碁盤目状に配列され、その半分の面積を占有する8
個の単位容量で容量8Cが構成される。また、容量8C
に隣接して、縦方向に4個並ぶ単位容量で容量4Cが構
成される。That is, 16 unit capacitors are arranged on the chip 4 in a grid pattern, and occupy half the area thereof.
A capacity 8C is constituted by the unit capacity. In addition, capacity 8C
A capacitor 4C is constituted by four unit capacitors arranged in the vertical direction adjacent to.
【0012】また、容量4Cに隣接して2個の単位容量
で構成される容量2Cと、1個の単位容量で構成される
容量1Cとが配列される。なお、容量1Cに隣接する1
個の単位容量はダミー容量Dである。Also, a capacitor 2C composed of two unit capacitors and a capacitor 1C composed of one unit capacitor are arranged adjacent to the capacitor 4C. It should be noted that one capacitor adjacent to the capacitor 1C
The unit capacitance is a dummy capacitance D.
【0013】なお、前記各容量は基板上に形成されたウ
ェルと、同ウェル上に酸化膜を介して形成されるポリS
i 層とで形成される。Each of the capacitors has a well formed on a substrate and a poly S formed on the well via an oxide film.
and i layer.
【0014】[0014]
【発明が解決しようとする課題】上記のようなA/D変
換器の変換精度を向上させるための一手段として、チッ
プ4上に形成された各容量8C〜1Cの容量値を正確に
8:4:2:1に設定することが挙げられる。As one means for improving the conversion accuracy of the A / D converter as described above, the capacitance values of each of the capacitors 8C to 1C formed on the chip 4 should be exactly 8: 4: 2: 1.
【0015】そして、前記チップ4上に形成された各容
量8C〜1Cは、各単位容量が同一値であれば、上記容
量比に容易に設定可能である。ところが、ウェハープロ
セスのばらつきにより、各単位容量の容量値がチップ4
の一方から他方に向かって増加あるいは減少するように
変動することがある。例えば、前記チップ4上において
右方向から左方向に向かって各単位容量の容量値が大き
くなるようなばらつきが生じると、容量8Cの容量値は
設定値より小さくなり、容量1C,2Cの容量値は設定
値より大きくなる。The respective capacitances 8C to 1C formed on the chip 4 can be easily set to the above-mentioned capacitance ratio if each unit capacitance has the same value. However, due to variations in the wafer process, the capacitance value of each unit capacitance is
May increase or decrease from one side to the other. For example, when a variation occurs on the chip 4 such that the capacitance value of each unit capacitance increases from right to left, the capacitance value of the capacitance 8C becomes smaller than the set value, and the capacitance value of the capacitances 1C and 2C. Becomes larger than the set value.
【0016】すると、各容量8C〜1Cの容量値を前記
容量比に正確に設定することが困難となる。この結果、
上記A/D変換器の変換精度が低下するという問題点が
ある。Then, it is difficult to accurately set the capacitance values of the capacitors 8C to 1C to the capacitance ratio. As a result,
There is a problem that the conversion accuracy of the A / D converter is reduced.
【0017】この発明の目的は、チップ上に形成される
多数の単位容量に基づいて容量を形成する半導体装置に
おいて、ウェハープロセスのばらつきによる前記容量の
容量値の変動を抑制し得る半導体装置を提供することに
ある。An object of the present invention is to provide a semiconductor device which forms a capacitance based on a large number of unit capacitances formed on a chip and which can suppress a change in the capacitance value of the capacitance due to a variation in a wafer process. Is to do.
【0018】[0018]
【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理説明
図である。すなわち、容量形成領域Aに複数の単位容量
素子Cuが形成され、前記単位容量Cuの複数を接続して
所定の容量値を備えた容量素子Cが形成される。配線で
接続された前記単位容量素子Cuは、前記容量形成領域
Aの中心CEに対し均等に分散して配置される。FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of the present invention. That is, a plurality of unit capacitance elements Cu are formed in the capacitance formation region A, and a plurality of the unit capacitances Cu are connected to form a capacitance element C having a predetermined capacitance value. With wiring
The connected unit capacitance elements Cu are evenly distributed with respect to the center CE of the capacitance formation region A.
【0019】また、図2に示すように前記容量素子8C
を構成する複数の単位容量素子8C1〜8C8は、前記容
量形成領域A1の中心CEに対し、点対称の単位容量素
子Cu間を配線で接続することによって形成される。ま
た、前記単位容量素子の複数を配線で並列に接続して所
定の容量値を備えた容量素子が形成される。また、前記
単位容量素子は、碁盤目状に配置されている。Further, as shown in FIG.
Are formed in a point-symmetric unit capacitor element 8C1 to 8C8 with respect to the center CE of the capacitor forming area A1.
It is formed by connecting the children Cu by wiring . Further, a plurality of the unit capacitance elements are connected in parallel by wiring to form a capacitance element having a predetermined capacitance value. The unit capacitance elements are arranged in a grid pattern.
【0020】[0020]
【作用】容量素子Cを構成する複数の単位容量素子Cu
は、容量形成領域Aの中心CEに対し、均等に分散する
ように配置されるので、ウェハープロセスのばらつきに
よる各単位容量素子Cu の容量値のばらつきはそれぞれ
相殺される。A plurality of unit capacitance elements Cu constituting the capacitance element C are provided.
Are arranged so as to be evenly distributed with respect to the center CE of the capacitance forming region A, so that variations in the capacitance values of the unit capacitance elements Cu due to variations in the wafer process are canceled out.
【0021】[0021]
【実施例】図2は本発明を具体化した第一の実施例を示
す。チップ4上の中央部に位置する容量形成領域A1に
は16個の単位容量が碁盤目状に形成され、各単位容量
から容量8C,4C,2C,1Cが構成される。前記1
6個の単位容量はチップ4の中心CEに対し、その周囲
にほぼ均等な範囲で配列されている。FIG. 2 shows a first embodiment of the present invention. Sixteen unit capacitors are formed in a grid pattern in the capacitor forming area A1 located at the center of the chip 4, and the unit capacitors constitute capacitors 8C, 4C, 2C, and 1C. Said 1
The six unit capacitors are arranged in a substantially uniform range around the center CE of the chip 4.
【0022】前記容量8Cは8個の単位容量8C1 〜8
C8 で構成され、前記容量4Cは4個の単位容量4C1
〜4C4 で構成され、前記容量C2は2個の単位容量2
C1,2C2 で構成され、前記容量C1は1個の単位容
量で構成される。The capacitor 8C has eight unit capacitors 8C1 to 8C.
C8, and the capacitor 4C has four unit capacitors 4C1.
4C4, and the capacitor C2 is composed of two unit capacitors 2
C1 and 2C2, and the capacitance C1 is composed of one unit capacitance.
【0023】前記単位容量8C1 〜8C8 は、例えば単
位容量8C1 と同8C8 というように、2個ずつが前記
中心CEに対し、点対称状に位置するように配置され、
各単位容量8C1 〜8C8 が配線(図示しない)で並列
に接続されて、前記容量8Cが構成される。The unit capacitors 8C1 to 8C8 are arranged such that, for example, two units of the unit capacitors 8C1 and 8C8 are located point-symmetrically with respect to the center CE.
The unit capacitors 8C1 to 8C8 are connected in parallel by wiring (not shown) to form the capacitor 8C.
【0024】前記単位容量4C1 〜4C4 は、例えば単
位容量4C1 と同4C4 というように、2個ずつが前記
中心CEに対し、点対称状に位置するように配置され、
各単位容量4C1 〜4C4 が配線(図示しない)で並列
に接続されて、前記容量4Cが構成される。The unit capacitors 4C1 to 4C4 are arranged such that, for example, two units of the unit capacitors 4C1 and 4C4 are located point-symmetrically with respect to the center CE.
The unit capacitors 4C1 to 4C4 are connected in parallel by wiring (not shown) to form the capacitor 4C.
【0025】前記単位容量2C1 ,2C2 は前記中心C
Eに対し、点対称状に位置するように配置され、各単位
容量2C1 ,2C2 が配線(図示しない)で並列に接続
されて、前記容量2Cが構成される。The unit capacitances 2C1 and 2C2 are equal to the center C
The unit capacitors 2C1 and 2C2 are arranged in a point symmetrical manner with respect to E, and the unit capacitors 2C1 and 2C2 are connected in parallel by wiring (not shown) to form the capacitor 2C.
【0026】また、前記容量1Cは前記中心CEに隣接
して配置され、容量1Cの中心CEに対する点対称位置
にダミー容量Dが配置されている。従って、各容量8C
〜1Cは、これらを構成する各単位容量が中心CEに対
し点対称状に分散するように配置されている。The capacitor 1C is arranged adjacent to the center CE, and a dummy capacitor D is arranged at a point symmetrical position with respect to the center CE of the capacitor 1C. Therefore, each capacity 8C
1C are arranged so that the unit capacitors constituting them are dispersed point-symmetrically with respect to the center CE.
【0027】このような構成により、ウェハープロセス
のばらつきにより、チップ4の一方から他方に向かって
単位容量の容量値が変動するようなばらつきが生じて
も、各容量8C〜2Cにおいて各単位容量はチップ4の
中心CEに対し均等に分散するように配置されているの
で、例えば単位容量8C1 と同8C8 とが容量値の変動
量を補完し合うというように、各単位容量の容量値の変
動は相殺される。With such a configuration, even if a variation occurs in which the capacitance value of the unit capacitance changes from one side of the chip 4 to the other side due to the variation of the wafer process, each unit capacitance in each of the capacitors 8C to 2C is not changed. Since the capacitors 4 are arranged so as to be evenly distributed with respect to the center CE of the chip 4, the change in the capacitance value of each unit capacitor is, for example, such that the unit capacitors 8C1 and 8C8 complement the change in the capacitance value. Offset.
【0028】また、容量1Cは前記中心CEに隣接して
配置されているので、ウェハープロセスのばらつきによ
る容量値の変動は僅少である。従って、ウェハープロセ
スにばらつきが生じても、各容量8C〜1Cの容量値を
正確に設定することが容易となる。そして、このような
各容量8C〜1Cを前記A/D変換器に使用すれば、A
/D変換精度を向上させることができる。Further, since the capacitance 1C is disposed adjacent to the center CE, a change in the capacitance value due to a variation in the wafer process is small. Therefore, even if there is a variation in the wafer process, it is easy to accurately set the capacitance values of the capacitors 8C to 1C. If each of the capacitors 8C to 1C is used for the A / D converter, A
/ D conversion accuracy can be improved.
【0029】次に、この発明を具体化した第二の実施例
を図3に従って説明する。チップ4の中心CEの両側に
は容量形成領域A2,A3が配置され、各容量形成領域
A2,A3ではそれぞれ8個の単位容量が縦方向に2列
に配置され、各単位容量から容量8C,4C,2C,1
Cが構成される。Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Capacitance forming regions A2 and A3 are arranged on both sides of the center CE of the chip 4, and in each of the capacitance forming regions A2 and A3, eight unit capacitors are arranged in two columns in the vertical direction. 4C, 2C, 1
C is configured.
【0030】前記容量8Cは8個の単位容量8C1 〜8
C8 で構成され、前記容量4Cは単位容量4C1 〜4C
4 で構成され、前記容量C2は単位容量2C1 ,2C2
で構成され、前記容量C1は一つの単位容量で構成され
る。The capacitor 8C has eight unit capacitors 8C1 to 8C8.
C8, and the capacitor 4C is composed of unit capacitors 4C1 to 4C.
4 and the capacity C2 is unit capacity 2C1, 2C2.
, And the capacitance C1 is composed of one unit capacitance.
【0031】前記単位容量8C1 〜8C8 は例えば単位
容量8C1 と同8C8 というように、前記容量形成領域
A2,A3において、前記中心CEから点対称状に分散
するように配置され、各単位容量8C1 〜8C8 が配線
(図示しない)で並列に接続されて、前記容量8Cが構
成される。The unit capacitors 8C1 to 8C8 are arranged so as to be point-symmetrically distributed from the center CE in the capacitor forming regions A2 and A3, for example, the same as the unit capacitors 8C1 and 8C8. 8C8 are connected in parallel by wiring (not shown) to form the capacitor 8C.
【0032】前記単位容量4C1 〜4C4 は例えば単位
容量4C1 と同4C4 というように、前記容量形成領域
A2,A3において、前記中心CEから点対称状に分散
するように配置され、各単位容量4C1 〜4C4 が配線
(図示しない)で並列に接続されて、前記容量4Cが構
成される。The unit capacitors 4C1 to 4C4 are arranged so as to be point-symmetrically distributed from the center CE in the capacitor forming regions A2 and A3, for example, as the same as the unit capacitors 4C1 and 4C4. 4C4 are connected in parallel by wiring (not shown) to form the capacitor 4C.
【0033】前記単位容量2C1 ,2C2 は前記容量形
成領域A2,A3において、前記中心CEから点対称状
に分散するように配置され、各単位容量2C1 ,2C2
が配線(図示しない)で並列に接続されて、前記容量2
Cが構成される。The unit capacitances 2C1 and 2C2 are arranged in the capacitance forming areas A2 and A3 so as to be symmetrically dispersed from the center CE in a point-symmetric manner.
Are connected in parallel by wiring (not shown),
C is configured.
【0034】また、前記容量1Cは前記容量形成領域A
2において、前記中心CEの近傍に配置され、前記容量
形成領域A3において、容量1Cの中心CEに対する点
対称位置にダミー容量Dが配置されている。The capacitor 1C is connected to the capacitor forming region A
2, a dummy capacitor D is arranged near the center CE, and a dummy capacitor D is arranged at a point symmetrical position with respect to the center CE of the capacitor 1C in the capacitor forming region A3.
【0035】従って、各容量8C〜1Cは、これらを構
成する各単位容量が中心CEに対し点対称状に分散する
ように配置されている。このような構成により、ウェハ
ープロセスのばらつきにより、チップ4の一方から他方
に向かって単位容量の容量値が変動するようなばらつき
が生じても、各容量8C〜2Cにおいて各単位容量は、
チップ4の中心CEに対し、点対称状に分散するように
配置されているので、例えば単位容量8C1 と同8C8
が容量値の変動量を補完しあうというように、各単位容
量の容量値の変動は相殺される。Therefore, each of the capacitors 8C to 1C is arranged such that each of the unit capacitors constituting the capacitors 8C to 1C is dispersed point-symmetrically with respect to the center CE. With such a configuration, even if a variation occurs in which the capacitance value of the unit capacitance changes from one side of the chip 4 to the other side due to the variation of the wafer process, each unit capacitance in each of the capacitors 8C to 2C is:
Since they are arranged so as to be point-symmetrically distributed with respect to the center CE of the chip 4, for example, the unit capacitance 8C1 and the same 8C8
Compensate for the variation in capacitance value, the variation in capacitance value of each unit capacitance is offset.
【0036】また、容量1Cは前記中心CEの近傍に配
置されているので、ウェハープロセスのばらつきによる
容量値の変動は僅少である。従って、ウェハープロセス
にばらつきが生じても、各容量8C〜1Cの容量値を正
確に設定することが容易となる。Further, since the capacitance 1C is arranged near the center CE, a change in the capacitance value due to a variation in the wafer process is small. Therefore, even if there is a variation in the wafer process, it is easy to accurately set the capacitance values of the capacitors 8C to 1C.
【0037】次に、この発明を具体化した第三の実施例
を図4に従って説明する。チップ4上の中央部に形成さ
れた容量形成領域A4には、64個の単位容量が碁盤目
状に形成され、各単位容量から容量32C,16C,8
C,4C,2C,1Cが構成される。前記64個の単位
容量はチップ4の中心CEに対し、その周囲にほぼ均等
な範囲で配列されている。Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 64 unit capacitors are formed in a grid pattern in a capacitor forming region A4 formed at the center of the chip 4, and the capacitors 32C, 16C, and 8 are formed from each unit capacitor.
C, 4C, 2C, and 1C are configured. The 64 unit capacitors are arranged in a substantially uniform range around the center CE of the chip 4.
【0038】前記容量32Cは32個の単位容量32C
1 〜32C32で構成され、前記容量16Cは16個の単
位容量16C1 〜16C16で構成され、容量8Cは8個
の単位容量8C1 〜8C8 で構成され、前記容量4Cは
4個の単位容量4C1 〜4C4 で構成され、前記容量C
2は2個の単位容量2C1 ,2C2 で構成され、前記容
量C1は1個の単位容量で構成される。The capacitor 32C has 32 unit capacitors 32C.
The capacitance 16C is composed of 16 unit capacitances 16C1 to 16C16, the capacitance 8C is composed of eight unit capacitances 8C1 to 8C8, and the capacitance 4C is composed of four unit capacitances 4C1 to 4C4. And the capacitance C
Reference numeral 2 denotes two unit capacitors 2C1 and 2C2, and the capacitor C1 includes one unit capacitor.
【0039】前記単位容量32C1 〜32C32は、例え
ば単位容量32C1 と同32C32というように、前記中
心CEに対し、点対称状に分散するように配置され、各
単位容量32C1 〜32C32が配線(図示しない)で並
列に接続されて、前記容量32Cが構成される。The unit capacitors 32C1 to 32C32 are arranged so as to be symmetrically dispersed with respect to the center CE, for example, the same as the unit capacitor 32C1 and 32C32, and the unit capacitors 32C1 to 32C32 are wired (not shown). ) Are connected in parallel to form the capacitor 32C.
【0040】前記単位容量16C1 〜16C16は、例え
ば単位容量16C1 と同16C16というように、前記中
心CEに対し、点対称状に分散するように配置され、各
単位容量16C1 〜16C16が配線(図示しない)で並
列に接続されて、前記容量16Cが構成される。The unit capacitors 16C1 to 16C16 are arranged so as to be symmetrically dispersed with respect to the center CE, for example, the same as the unit capacitors 16C1 and 16C16, and the unit capacitors 16C1 to 16C16 are wired (not shown). ) Are connected in parallel to form the capacitor 16C.
【0041】前記単位容量8C1 〜8C8 は、例えば単
位容量8C1 と同8C8 というように、前記中心CEに
対し点対称状に分散するように配置され、各単位容量8
C1〜8C8 が配線(図示しない)で並列に接続され
て、前記容量8Cが構成される。The unit capacitors 8C1 to 8C8 are arranged so as to be symmetrically dispersed with respect to the center CE, for example, the same as the unit capacitors 8C1 and 8C8.
C1 to 8C8 are connected in parallel by wiring (not shown) to form the capacitor 8C.
【0042】前記単位容量4C1 〜4C4 は、同様に前
記中心CEから点対称状に分散するように配置され、各
単位容量4C1 〜4C4 が配線(図示しない)で並列に
接続されて、前記容量4Cが構成される。The unit capacitors 4C1 to 4C4 are similarly arranged so as to be distributed point-symmetrically from the center CE, and the unit capacitors 4C1 to 4C4 are connected in parallel by wiring (not shown). Is configured.
【0043】前記単位容量2C1 ,2C2 は前記中心C
Eに対し、点対称状に分散するように配置され、各単位
容量2C1 ,2C2 が配線(図示しない)で並列に接続
されて、前記容量2Cが構成される。The unit capacitances 2C1 and 2C2 are equal to the center C
The capacitors 2C1 and 2C2 are arranged in a point-symmetric manner with respect to E, and the unit capacitors 2C1 and 2C2 are connected in parallel by wiring (not shown) to form the capacitor 2C.
【0044】また、前記容量1Cは前記中心CEに隣接
して配置され、容量1Cの中心CEに対する点対称位置
にダミー容量Dが配置されている。従って、各容量32
C〜1Cは、これらを構成する各単位容量が中心CEに
対しほぼ均等に分散するように配置されている。The capacitor 1C is arranged adjacent to the center CE, and the dummy capacitor D is arranged at a point symmetrical position with respect to the center CE of the capacitor 1C. Therefore, each capacity 32
C to 1C are arranged such that the unit capacitors constituting them are distributed almost evenly with respect to the center CE.
【0045】このような構成により、ウェハープロセス
のばらつきにより、チップ4の一方から他方に向かって
単位容量の容量値が変動するようなばらつきが生じて
も、各容量32C〜2Cにおいて各単位容量はチップ4
の中心CEに対し均等に分散するように配置されている
ので、各単位容量の容量値の変動は相殺される。With such a configuration, even if a variation occurs in which the capacitance value of the unit capacitance changes from one side of the chip 4 to the other side due to the variation of the wafer process, each unit capacitance in each of the capacitors 32C to 2C is not changed. Chip 4
Are arranged so as to be evenly distributed with respect to the center CE, so that the fluctuation of the capacitance value of each unit capacitance is cancelled.
【0046】また、容量1Cは前記中心CEに隣接して
配置されているので、ウェハープロセスのばらつきによ
る容量値の変動は僅少である。従って、ウェハープロセ
スにばらつきが生じても、各容量32C〜1Cの容量値
を正確に設定することが容易となる。そして、このよう
な各容量32C〜1Cを6ビット構成のA/D変換器に
使用すれば、A/D変換精度を向上させることができ
る。Further, since the capacitance 1C is arranged adjacent to the center CE, the fluctuation of the capacitance value due to the fluctuation of the wafer process is very small. Therefore, even if a variation occurs in the wafer process, it is easy to accurately set the capacitance values of the capacitors 32C to 1C. If these capacitors 32C to 1C are used for an A / D converter having a 6-bit configuration, the A / D conversion accuracy can be improved.
【0047】なお、前記実施例ではチップ4の中心CE
に対し、各単位容量が点対称状に分散するように配置し
たが、その中心CEは必ずしもチップ4の中心である必
要はなく、容量形成領域の中心であればよい。In the above embodiment, the center CE of the chip 4 is
On the other hand, the unit capacitors are arranged so as to be dispersed in a point-symmetric manner, but the center CE is not necessarily required to be the center of the chip 4, but may be the center of the capacitor forming region.
【0048】[0048]
【発明の効果】以上詳述したように、この発明はチップ
上に形成される多数の単位容量素子に基づいて複数の容
量素子を形成する半導体装置において、ウェハープロセ
スのばらつきによる前記各容量素子の容量値の変動を抑
制し得る半導体装置を提供することができる優れた効果
を発揮する。As described above in detail, the present invention relates to a semiconductor device in which a plurality of capacitance elements are formed on the basis of a large number of unit capacitance elements formed on a chip. An excellent effect of being able to provide a semiconductor device capable of suppressing a change in capacitance is exhibited.
【図1】本発明の原理説明図である。FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of the present invention.
【図2】第一の実施例を示す単位容量のレイアウト図で
ある。FIG. 2 is a layout diagram of a unit capacitor showing the first embodiment.
【図3】第二の実施例を示す単位容量のレイアウト図で
ある。FIG. 3 is a layout diagram of a unit capacitor showing a second embodiment.
【図4】第三の実施例を示す単位容量のレイアウト図で
ある。FIG. 4 is a layout diagram of a unit capacitor showing a third embodiment.
【図5】電荷再配分型A/D変換器の一例を示す回路図
である。FIG. 5 is a circuit diagram illustrating an example of a charge redistribution A / D converter.
【図6】従来の単位容量のレイアウト図である。FIG. 6 is a layout diagram of a conventional unit capacitor.
A 容量形成領域 C 容量素子 Cu 単位容量素子 CE 中心 A capacitance forming region C capacitance element Cu unit capacitance element CE center
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 27/04 H01L 21/822 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 27/04 H01L 21/822
Claims (4)
子(Cu)を形成し、前記単位容量素子(Cu)の複数を
接続して所定の容量値を備えた容量素子(C)を形成す
る半導体装置であって、配線で接続された前記単位容量素子(Cu)は、 前記容
量形成領域(A)の中心(CE)に対し均等に分散して
配置されていることを特徴とする半導体装置。1. A plurality of unit capacitance elements (Cu) are formed in a capacitance formation region (A), and a plurality of the unit capacitance elements (Cu) are connected to form a capacitance element (C) having a predetermined capacitance value. In the semiconductor device to be formed, the unit capacitance elements (Cu) connected by wiring are uniformly distributed with respect to the center (CE) of the capacitance formation region (A).
A semiconductor device characterized by being arranged .
子(Cu)を形成し、前記単位容量素子(Cu)の複数を
接続して所定の容量値を備えた容量素子(C)を形成す
る半導体装置であって、 前記容量素子(C)は、前記容量形成領域(A)の中心
(CE)に対し点対称の単位容量素子(Cu)間を配線
で接続することによって形成することを特徴とする半導
体装置。2. A plurality of unit capacitance elements (Cu) are formed in a capacitance formation area (A), and a plurality of the unit capacitance elements (Cu) are connected to form a capacitance element (C) having a predetermined capacitance value. A semiconductor device to be formed, wherein the capacitance element (C) is connected between unit capacitance elements (Cu) point-symmetric with respect to a center (CE) of the capacitance formation region (A).
A semiconductor device characterized by being formed by connecting with each other .
接続して所定の容量値を備えた容量素子を形成することConnecting to form a capacitive element having a predetermined capacitance value
を特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 1, wherein:
れていることを特徴とする請求項1,2又は3に記載のThe method according to claim 1, 2, or 3, wherein
半導体装置。Semiconductor device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23186893A JP3245273B2 (en) | 1993-09-17 | 1993-09-17 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP23186893A JP3245273B2 (en) | 1993-09-17 | 1993-09-17 | Semiconductor device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0786519A JPH0786519A (en) | 1995-03-31 |
JP3245273B2 true JP3245273B2 (en) | 2002-01-07 |
Family
ID=16930282
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP23186893A Expired - Lifetime JP3245273B2 (en) | 1993-09-17 | 1993-09-17 | Semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3245273B2 (en) |
-
1993
- 1993-09-17 JP JP23186893A patent/JP3245273B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
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