JP3243581B2 - Active matrix liquid crystal light valve - Google Patents

Active matrix liquid crystal light valve

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は能動素子(active
element)により液晶セルをスイッチングする
アクティブマトリクス液晶ライトバルブ(AMLC
V),該光バルブを有する液晶表示装置(LCD)及び
該LCDを有する画像情報処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to an active device.
active matrix liquid crystal light valve (AMLC) that switches the liquid crystal cell by element
V), a liquid crystal display (LCD) having the light valve, and an image information processing apparatus having the LCD.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、アクティブ素子を設けたAM
LCVとしての液晶表示素子LCDは、ツイステッドネ
マティック(TN)液晶を用いる場合に広く利用され、
フラットパネルディスプレイとして、あるいは、プロジ
ェクションテレビとして商品化されてきた。薄膜トラン
ジスタ(TFT)やダイオード素子、およびMIM(メ
タル・インシュレータ・メタル)素子などに代表される
上記アクティブ素子は、そのスイッチング特性により、
比較的応答の遅いTN液晶に対し実質ライン選択周期よ
り長い間電圧印加状態を保持することにより液晶の光学
スイッチ応答を助ける。また、TN液晶などのようにメ
モリ性(自己保持性)がない液晶に対して、上記電圧印
加状態保持により、単位セルに1フレーム間の実質的メ
モリ状態をもたらすものである。そしてLCDは、各ラ
イン間、画素間に対して原理的にはクロストークを与え
ず、良好な表示特性を与え得る。
2. Description of the Related Art Conventionally, an AM having an active element is provided.
A liquid crystal display element LCD as an LCV is widely used when a twisted nematic (TN) liquid crystal is used,
It has been commercialized as a flat panel display or as a projection television. The above-mentioned active element represented by a thin film transistor (TFT), a diode element, a MIM (metal insulator metal) element, etc., has a switching characteristic.
By maintaining a voltage applied state for a TN liquid crystal having a relatively slow response longer than a substantial line selection cycle, the response of the liquid crystal to an optical switch is assisted. In addition, for a liquid crystal having no memory property (self-holding property) such as a TN liquid crystal, the above-described voltage application state holding causes a unit cell to have a substantial memory state for one frame. The LCD can provide good display characteristics without crosstalk between lines and pixels in principle.

【0003】近年では、TN液晶に対して、数桁応答速
度の速い強誘電液晶(FLC)もその開発が進み、これ
を用いた表示パネルやライトバルブなども発表されてい
る。ここで、FLCを前記アクティブマトリクス素子に
より駆動することにより、更に良好な表示素子を得る可
能性がある。FLCと前記TFTを組み合わせた例とし
ては、米国特許第4,840,462号明細書や、プロ
シーディング オブザエスアイディー、第30巻、19
89、「フェロエレクティブ リキッド−クリスタル
ビデオ ディスプレイ」(Proceeding of
theSID,vol.30,1989,「Ferr
oelective Liquid−Crystal
Video Display」)などに示されている。
In recent years, development of a ferroelectric liquid crystal (FLC), which has a several-digit response speed faster than that of a TN liquid crystal, has been advanced, and a display panel, a light valve, and the like using the same have been announced. Here, by driving the FLC with the active matrix element, a better display element may be obtained. Examples of the combination of the FLC and the TFT include U.S. Pat. No. 4,840,462 and Proceeding of the SDD, Vol.
89, "Ferroelectric Liquid-Crystal
Video Display "(Proceeding of
theSID, vol. 30, 1989, "Ferr
olive Liquid-Crystal
Video Display ”).

【0004】図11に、従来の液晶表示素子の回路を示
す。
FIG . 11 shows a circuit of a conventional liquid crystal display device.

【0005】図11に示す回路は、共通電極COMと各
画素電極CEの間に液晶材料を封入した液晶セル701
と画素TFT702とからなる単位画素、映像信号を伝
える信号配線703、ラインバッファ704、シフトパ
ルススイッチ708、水平シフトレジスタ705、ゲー
ト信号を伝えるゲート配線711、及び垂直シフトレジ
スタ706から構成されており、映像信号は、図中70
7の信号入力端から、タイミングをずらして順次各画素
あるいは、各ラインに転送されていく。
[0005] A circuit shown in FIG . 11 includes a liquid crystal cell 701 in which a liquid crystal material is sealed between a common electrode COM and each pixel electrode CE.
A signal line 703 for transmitting a video signal, a line buffer 704, a shift pulse switch 708, a horizontal shift register 705, a gate line 711 for transmitting a gate signal, and a vertical shift register 706. The video signal is 70
7 is sequentially transferred to each pixel or each line at a shifted timing from the signal input end of the pixel 7.

【0006】図12に、図11に示した従来のアクティ
ブマトリクス液晶表示素子の駆動パルスタイミングを示
す。図では、線順次駆動方法について示してある。すな
わち、液晶に記録されるべき映像信号SV は、その映像
信号の周波数に同期した出力を示す水平シフトレジスタ
705によって駆動するシフトパルススイッチ708を
介して、バッファ部に1ライン分の映像信号が記録され
る。あるラインの全画素の映像信号がラインバッファ部
704に記録された後、ラインバッファ部704の出力
スイッチと垂直シフトレジスタ706によってオンされ
た画素スイッチを通して各液晶セルに映像信号が記録さ
れる。各液晶セルへの信号転送は、一般には、水平走期
間中のブランキング期間中に、ある水平ラインに対して
パルスφT により一括に信号転送がなされる。上述のタ
イミングにより、各ラインに順次映像信号が転送されて
いく。
FIG. 12 shows the drive pulse timing of the conventional active matrix liquid crystal display device shown in FIG. The drawing shows a line sequential driving method. That is, the video signal S V to be recorded on the liquid crystal is transferred to the buffer unit via the shift pulse switch 708 driven by the horizontal shift register 705 indicating an output synchronized with the frequency of the video signal, and the video signal for one line is stored in the buffer unit. Be recorded. After the video signals of all the pixels in a certain line are recorded in the line buffer unit 704, the video signals are recorded in each liquid crystal cell through the output switch of the line buffer unit 704 and the pixel switch turned on by the vertical shift register 706. Signal transfer to each liquid crystal cell is generally during the blanking period of the horizontal run period, signal transfer is performed collectively by the pulse phi T for a horizontal line. At the above timing, the video signal is sequentially transferred to each line.

【0007】このように転送された信号電圧に対して、
セルを構成する液晶分子が動くことで、別にクロスポラ
ライザの関係で設けた偏向板の方向により、液晶セルの
透過率が変化する。この様子を図13に示す。
With respect to the signal voltage thus transferred,
As the liquid crystal molecules constituting the cell move, the transmittance of the liquid crystal cell changes depending on the direction of a polarizing plate separately provided in relation to a cross polarizer. This is shown in FIG.

【0008】図13で横軸に示した信号電圧値は、用い
る液晶によって、その意味が異なる。例えば、TN液晶
を用いた場合は、その値は、実効電圧値(Vrms )とし
て定義される。この値の定性的な説明を、図14を参照
して行う。液晶にDC成分が長時間印加されるのを防止
する為に1フレームごとにその信号電圧の極性を変えて
信号を印加する方法がある。この場合液晶自身は、図中
の斜線部分で示したAC電圧成分に対応して動作するの
である。従って、実効電圧Vrms は、2フレーム分の時
間をtF 、液晶に転送される信号電圧をVLC(t)とす
ると、
The meaning of the signal voltage value shown on the horizontal axis in FIG. 13 differs depending on the liquid crystal used. For example, when a TN liquid crystal is used, the value is defined as an effective voltage value (V rms ). A qualitative description of this value will be given with reference to FIG. In order to prevent a DC component from being applied to the liquid crystal for a long time, there is a method of applying a signal by changing the polarity of the signal voltage for each frame. In this case, the liquid crystal itself operates according to the AC voltage component indicated by the hatched portion in the figure. Therefore, assuming that the effective voltage V rms is t F for a time corresponding to two frames and V LC (t) is a signal voltage transferred to the liquid crystal.

【0009】[0009]

【数1】 で表わされる。一方、上記FLC液晶の場合は、一般に
は、DC電圧駆動である。例えば、FLCとして、双安
定状態を持つもの(このような液晶としては、カイラル
スメクチック液晶が好ましく、カイラルスメクチックC
相(SmC*)またはH相(SmH*)更にSmI*、
SmF*、SmG*等のカイラルスメクチック液晶が適
している。)を用いた場合、図15のような駆動波形と
なる。すなわち、信号電圧としては、信号を書き込む前
に、双安定状態の内の一方の状態にリセット電圧VR
より一度リセットし、その後、書き込み電圧信号(V
M )を印加する。図13の透過率に寄与する信号電圧
は、やはり斜線で示されている。TN液晶とは異なり、
書き込み電圧のDC成分がそのまま信号電圧となる。
(Equation 1) Is represented by On the other hand, the FLC liquid crystal is generally driven by a DC voltage. For example, FLCs having a bistable state (such liquid crystals are preferably chiral smectic liquid crystals and chiral smectic C
Phase (SmC *) or H phase (SmH *) and SmI *,
Chiral smectic liquid crystals such as SmF * and SmG * are suitable. ), The driving waveform is as shown in FIG. That is, the signal voltage before writing the signal, once reset by the reset voltage V R to one of the state of the bistable states, then the write voltage signal (V
M ). The signal voltage that contributes to the transmittance in FIG. 13 is also indicated by hatching. Unlike TN liquid crystal,
The DC component of the write voltage becomes the signal voltage as it is.

【0010】図12の駆動法を用いると、画素電極の電
圧は信号電圧によって変化するが、液晶の共通電極の電
位に対して必ず正であり、液晶セルに常に直流電圧成分
が印加された状態と同じである。特に液晶材料としてT
N型液晶を用いる場合にはこの直流成分は液晶分子の焼
き付きの原因となる。
When the driving method shown in FIG. 12 is used, the voltage of the pixel electrode changes depending on the signal voltage, but is always positive with respect to the potential of the common electrode of the liquid crystal, and the state where the DC voltage component is always applied to the liquid crystal cell. Is the same as In particular, T
When an N-type liquid crystal is used, this direct current component causes burn-in of liquid crystal molecules.

【0011】この直流電圧成分の除去方法の1つが、図
14に示したような、信号電圧の1フレーム反転駆動法
である。N回目の信号電圧は共通電極の電位に対して正
の方向になるよう印加し、(N+1)回目の信号電圧は
逆に負の方向になるよう印加する。このように1フレー
ムごとに共通電極電位に対する信号電圧の極性を反転さ
れることで、液晶セルに印加される直流電圧成分が相殺
され、液晶分子の焼き付きが防止できる。
One method of removing the DC voltage component is a one-frame inversion driving method of a signal voltage as shown in FIG. The N-th signal voltage is applied so as to be in the positive direction with respect to the potential of the common electrode, and the (N + 1) -th signal voltage is applied so as to be in the negative direction. By inverting the polarity of the signal voltage with respect to the common electrode potential for each frame as described above, the DC voltage component applied to the liquid crystal cell is cancelled, and the burn-in of the liquid crystal molecules can be prevented.

【0012】同様の作用効果により、1H期間ごとの反
転駆動法、1画素ごとの反転駆動法などがある。しか
し、従来のこのような反転駆動法では、新たに以下のよ
うな解決すべき技術的課題が生じていた。
With the same operation and effect, there are an inversion driving method for each 1H period, an inversion driving method for each pixel, and the like. However, such a conventional inversion driving method has a new technical problem to be solved as follows.

【0013】信号電圧の最大値をVMAX とすると、反転
駆動を行った場合、上記のいかなる方式であっても、シ
フトレジスタ部にはVMAX の2倍の振幅の信号を転送す
る能力が求められる。シフトレジスタ部には当然それ以
上のON時耐圧が要求されることになる。
Assuming that the maximum value of the signal voltage is V MAX , in the case of inversion driving, the shift register section must have the ability to transfer a signal having an amplitude twice V MAX , regardless of the method described above. Can be Naturally, the shift register section is required to have a higher ON-state breakdown voltage.

【0014】耐圧条件を緩和する手段のひとつとして、
信号電圧の最大振幅を下げることが考えられるが、今
後、急速に普及すると考えられるハイビジョン用ディス
プレイのように高精細が要求されるものに対して、同手
段は図13からもわかるように階調の確保を困難にする
方向であり、望ましくない。
As one of means for relaxing the withstand voltage condition,
Although it is conceivable to lower the maximum amplitude of the signal voltage, in the case where high definition is required such as a high-vision display which is expected to spread rapidly in the future, the same means as shown in FIG. Is difficult, which is not desirable.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】また、耐圧条件緩和の
別の手段として、シフトレジスタを構成するトランジス
タにLDD(lightly doped drai
n)構造のような高耐圧構造のMOSトランジスタをス
イッチとして用いることも考えられるが、現在考案され
ているこれら高耐圧型のMOSトランジスタは耐圧の向
上と引き換えに、ソース、ドレインに直列に付加される
抵抗の増大による相互コンダクタンスgmの低下という
問題点を持っている。先に言及したように、今後LCV
にはハイビジョンディスプレイのように、ますます高速
駆動が要求されるようになり、アクティブ素子としての
TFTにもより大きなgmが求められる。また上記のよ
うな高耐圧構造のMOSトランジスタは、プロセスが煩
雑であり、シフトレジスタを構成する上では歩留りを低
くしてしまい、その結果製造コストを比較的高いものと
してしまう。
As another means for alleviating the withstand voltage condition, a transistor constituting a shift register is provided with an LDD (lightly doped drain).
n) It is conceivable to use a MOS transistor having a high withstand voltage structure such as a structure as a switch. However, these high withstand voltage type MOS transistors which have been devised at present are added in series to a source and a drain in exchange for improvement of withstand voltage. However, there is a problem that the transconductance gm decreases due to an increase in resistance. As mentioned earlier, in the future LCV
As in the case of high-vision displays, high-speed driving is increasingly required, and a larger gm is also required for a TFT as an active element. Further, the MOS transistor having the high withstand voltage structure as described above requires a complicated process, and lowers the yield in forming a shift register, resulting in a relatively high manufacturing cost.

【0016】一方、前述した耐圧の問題とは別に駆動速
度を向上させることが良好な画像を表示する為に要求さ
れる。とりわけ、線順次駆動を行う場合にはラインバッ
ファへの書き込み速度を速めることが要求される。その
為にはシフトパルスの周波数を高めることが考えられる
がそれも図11に示す回路や図12に示す駆動方法では
自ずと限界があった。
On the other hand, apart from the above-mentioned problem of the withstand voltage, it is required to improve the driving speed in order to display a good image. In particular, when performing the line sequential driving, it is required to increase the writing speed to the line buffer. To this end, it is conceivable to increase the frequency of the shift pulse, but this is naturally limited by the circuit shown in FIG. 11 and the driving method shown in FIG.

【0017】特に情報量が多くなるにつれ、この問題は
ソフトウェアの負担を増大させたり、周辺装置のメモリ
量やマイクロプロセッサ(MPU)等のハードウェアの
負担をも増大させる。
In particular, as the amount of information increases, this problem increases the load on software, and also increases the amount of memory in peripheral devices and the load on hardware such as a microprocessor (MPU).

【0018】[0018]

【発明の目的】本発明の第1の目的は、駆動回路を改良
することにより、上述した耐圧に係る技術的課題を解決
することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is a first object of the present invention to solve the above-mentioned technical problem relating to the withstand voltage by improving a driving circuit.

【0019】本発明の第2の目的は、駆動回路と駆動タ
イミングとを改良することにより、上述した耐圧に係る
課題とは独立した信号処理速度に係る技術的課題を解決
することにある。
A second object of the present invention is to solve the technical problem relating to the signal processing speed independent of the above-mentioned problem relating to the withstand voltage by improving the driving circuit and the driving timing.

【0020】本発明の第3の目的は、周辺装置の大規模
化を抑制し、又はソフトウェアの複雑化を抑えることに
ある。
A third object of the present invention is to suppress an increase in the scale of a peripheral device or an increase in software complexity.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段及び作用】上述した第1及
び第3の目的は、液晶とアクティブ素子とを有するセル
を複数具備するアクティブマトリクス光バルブにおい
て、前記セルに印加する信号を転送する為のスイッチを
駆動する回路がシフトレジスタと該シフトレジスタの出
力を昇圧する昇圧手段を有し、前記昇圧手段は、第1の
MOSトランジスタと第1のキャパシタと第2のMOS
トランジスタとから成り、第1のMOSトランジスタの
ゲートとソースはシフトレジスタの第1の出力に接続
し、キャパシタの第1の電極はシフトレジスタの第2の
出力に接続し、第2のMOSトランジスタのゲートはシ
フトレジスタの第3の出力に接続し、ソースは独立に設
けられたリセット電源線に接続され、第1のMOSトラ
ンジスタのドレインと第1のキャパシタの第2の電極と
第2のMOSトランジスタのドレインは互いに接続され
ていること、若しくは、前記昇圧手段は、第4のMOS
トランジスタと第5のMOSトランジスタと第6のMO
Sトランジスタと第2のキャパシタを持ち、第4のMO
Sトランジスタのソースは電源線に接続され、ゲートは
シフトレジスタの第1出力端子に接続され、第4のMO
Sトランジスタのドレインと第5のMOSトランジスタ
のソースとゲートと、第2のキャパシタの第1電極は互
いに接続されている。第2のキャパシタの第2電極はシ
フトレジスタの第2出力端子に接続され、第6のMOS
トランジスタのソースはリセット電源線に接続され、ゲ
ートはシフトレジスタの第3出力端子に接続され、第
5、第6のMOSトランジスタのドレインは互いに接続
されていること、を特徴とする光バルブにより達成され
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The first and third objects described above are for transferring a signal to be applied to a cell in an active matrix light valve having a plurality of cells each having a liquid crystal and an active element. the circuit for driving the switch have a boosting means for boosting the output of the shift register and the shift register, said boosting means comprises first
MOS transistor, first capacitor and second MOS
And a first MOS transistor.
Gate and source connected to first output of shift register
And the first electrode of the capacitor is connected to the second electrode of the shift register.
Output and the gate of the second MOS transistor
Connected to the third output of the
The first MOS transistor connected to the reset power supply line
A drain of the transistor and a second electrode of the first capacitor.
The drains of the second MOS transistors are connected to each other.
Or the step-up means comprises a fourth MOS
Transistor, fifth MOS transistor and sixth MO
A fourth MO having an S transistor and a second capacitor;
The source of the S transistor is connected to the power supply line, and the gate is
The fourth MO is connected to the first output terminal of the shift register.
Drain of S transistor and fifth MOS transistor
Of the second capacitor and the first electrode of the second capacitor.
Connected. The second electrode of the second capacitor is
6th MOS connected to the second output terminal of the
The source of the transistor is connected to the reset power line,
Port is connected to the third output terminal of the shift register,
Fifth, drains of the sixth MOS transistors are connected to each other
This is achieved by a light valve characterized in that:

【0022】又、上述した第1及び第3の目的は液晶と
アクティブ素子とを有するセルの複数を2次元状に配置
した液晶表示手段と該表示手段を駆動する為の駆動回路
とを具備し、前記駆動回路は、前記複数のセルに印加す
る信号を転送する為のスイッチと、シフトパルスを発生
するシフトレジスタと、該シフトレジスタのシフトパル
スの電圧を昇圧する昇圧回路と、を含み、該昇圧回路の
出力を該スイッチに入力することにより該スイッチを駆
動すること、前記昇圧回路は、第1のMOSトランジス
タと第1のキャパシタと第2のMOSトランジスタとか
ら成り、第1のMOSトランジスタのゲートとソースは
シフトレジスタの第1の出力に接続し、キャパシタの第
1の電極はシフトレジスタの第2の出力に接続し、第2
のMOSトランジスタのゲートはシフトレジスタの第3
の出力に接続し、ソースは独立に設けられたリセット電
源線に接続され、第1のMOSトランジスタのドレイン
と第1のキャパシタの第2の電極と第2のMOSトラン
ジスタのドレインは互いに接続されていること、若しく
は、前記昇圧回路は、第4のMOSトランジスタと第5
のMOSトランジスタと第6のMOSトランジスタと第
2のキャパシタを持ち、第4のMOSトランジスタのソ
ースは電源線に接続され、ゲートはシフトレジスタの第
1出力端子に接続され、第4のMOSトランジスタのド
レインと第5のMOSトランジスタのソースとゲート
と、第2のキャパシタの第1電極は互いに接続されてい
る。第2のキャパシタの第2電極はシフトレジスタの第
2出力端子に接続され、第6のMOSトランジスタのソ
ースはリセット電源線に接続され、ゲートはシフトレジ
スタの第3出力端子に接続され、第5、第6のMOSト
ランジスタのドレインは互いに接続されていること、
特徴とする液晶表示素子、及び該素子を有する画像情報
処理装置により達成される。
The first and third objects have liquid crystal display means in which a plurality of cells each having a liquid crystal and an active element are arranged two-dimensionally, and a drive circuit for driving the display means. The drive circuit includes a switch for transferring a signal applied to the plurality of cells, a shift register that generates a shift pulse, and a booster circuit that boosts a voltage of the shift pulse of the shift register. Driving the switch by inputting an output of a booster circuit to the switch , wherein the booster circuit includes a first MOS transistor
And the first capacitor and the second MOS transistor
And the gate and source of the first MOS transistor are
Connected to the first output of the shift register and to the first output of the capacitor.
One electrode is connected to the second output of the shift register,
The gate of the MOS transistor is connected to the third
Output, and the source is an independent reset
Connected to the source line, the drain of the first MOS transistor
And a second electrode of the first capacitor and a second MOS transistor.
The drains of the transistors are connected to each other,
The booster circuit includes a fourth MOS transistor and a fifth MOS transistor.
MOS transistor, sixth MOS transistor and
And the fourth MOS transistor
Source is connected to the power supply line, and the gate is
1 output terminal and connected to the fourth MOS transistor.
Rain and source and gate of fifth MOS transistor
And the first electrodes of the second capacitor are connected to each other.
You. The second electrode of the second capacitor is connected to the
2 output terminal and connected to the source of the sixth MOS transistor.
Source is connected to the reset power supply line, and the gate is
The fifth and sixth MOS transistors are connected to the third output terminal of the
The invention is achieved by a liquid crystal display element characterized in that drains of transistors are connected to each other , and an image information processing apparatus having the element.

【0023】一方、上述した第2及び第3の目的は、液
晶とアクティブ素子とを有するセルの複数を2次元状に
配置した液晶表示手段と該表示手段を駆動する為の駆動
回路とを具備する液晶表示素子において、前記駆動回路
は、前記複数のセルに印加する画像信号を転送する為の
スイッチアレイと、該スイッチアレイを順次駆動する為
の時系列パルスを発生するパルス発生回路とを含み、前
記信号を該スイッチアレイに入力する為の信号線が複数
設けられており、前記時系列パルスを時系列的に少なく
とも一部オーバーラップさせて前記スイッチアレイに入
力すること、前記パルス発生回路は、シフトパルスを発
生するシフトレジスタと、シフトパルスの電圧を昇圧
し、前記時系列パルスを形成する昇圧回路とを含むこ
と、前記昇圧回路は、第1のMOSトランジスタと第1
のキャパシタと第2のMOSトランジスタとから成り、
第1のMOSトランジスタのゲートとソースはシフトレ
ジスタの第1の出力に接続し、キャパシタの第1の電極
はシフトレジスタの第2の出力に接続し、第2のMOS
トランジスタのゲートはシフトレジスタの第3の出力に
接続し、ソースは独立に設けられたリセット電源線に接
続され、第1のMOSトランジスタのドレインと第1の
キャパシタの第2の電極と第2のMOSトランジスタの
ドレインは互いに接続されていること、若しくは、前記
昇圧回路は、第4のMOSトランジスタと第5のMOS
トランジスタと第6のMOSトランジスタと第2のキャ
パシタを持ち、第4のMOSトランジスタのソースは電
源線に接続され、ゲートはシフトレジスタの第1出力端
子に接続され、第4のMOSトランジスタのドレインと
第5のMOSトランジスタのソースとゲートと、第2の
キャパシタの第1電極は互いに接続されている。第2の
キャパシタの第2電極はシフトレジスタの第2出力端子
に接続され、第6のMOSトランジスタのソースはリセ
ット電源線に接続され、ゲートはシフトレジスタの第3
出力端子に接続され、第5、第6のMOSトランジスタ
のドレインは互いに接続されていること、を特徴とする
液晶表示素子、及び該素子を有する画像情報処理装置に
より達成される。
On the other hand, the second and third objects described above include a liquid crystal display means in which a plurality of cells each having a liquid crystal and an active element are two-dimensionally arranged, and a drive circuit for driving the display means. In the liquid crystal display device, the driving circuit includes a switch array for transferring image signals applied to the plurality of cells, and a pulse generation circuit for generating a time-series pulse for sequentially driving the switch array. , the signal is a signal line is provided with a plurality of for input to the switch array, said time chronologically is at least partially overlaps the sequence pulses inputted to the switch array, the pulse generating circuit Emits a shift pulse
Shift register and boost pulse voltage
And a booster circuit for forming the time-series pulse.
And the booster circuit includes a first MOS transistor and a first MOS transistor.
And a second MOS transistor,
The gate and source of the first MOS transistor are shifted
A first electrode of a capacitor connected to a first output of the transistor;
Is connected to the second output of the shift register, and the second MOS
The gate of the transistor is connected to the third output of the shift register.
Connect the source to the independently provided reset power line.
Connected to the drain of the first MOS transistor and the first
The second electrode of the capacitor and the second MOS transistor
The drains are connected to each other, or
The booster circuit includes a fourth MOS transistor and a fifth MOS transistor.
Transistor, a sixth MOS transistor and a second capacitor.
And the source of the fourth MOS transistor is
Connected to the source line, and the gate is connected to the first output terminal of the shift register.
And the drain of the fourth MOS transistor
A source and a gate of the fifth MOS transistor;
The first electrodes of the capacitor are connected to each other. Second
The second electrode of the capacitor is the second output terminal of the shift register
And the source of the sixth MOS transistor is reset.
And the gate is connected to the third shift register.
Fifth and sixth MOS transistors connected to the output terminal
Are connected to each other, and a liquid crystal display element and an image information processing apparatus having the element.

【0024】[0024]

【好適な実施態様の説明】本発明による第1の実施態様
は、液晶セルに印加する信号を転送するスイッチに入力
する駆動信号パルスを前述の特定の昇圧回路により昇圧
するものであり、この構成によってシフトレジスタを構
成するトランジスタ等の耐圧を向上させる為の複雑な構
造を省くことができる。このことは高性能な素子(デバ
イス)をその製造歩留りを低くすることなく作製可能と
する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In a first embodiment of the present invention, a drive signal pulse input to a switch for transferring a signal to be applied to a liquid crystal cell is boosted by the above-described specific booster circuit. Accordingly, it is possible to omit a complicated structure for improving the withstand voltage of a transistor or the like included in the shift register. This makes it possible to manufacture a high-performance element (device) without lowering the production yield.

【0025】一方、本発明による第2の実施態様は液晶
セルに印加する信号を転送するスイッチアレイに入力す
る該信号のラインを複数にして、該複数ラインに対応し
たスイッチを駆動する駆動信号パルスを時系列的にオー
バーラップさせて供給するものであり、この構成によっ
て、画像(映像)信号の処理速度を向上させることがで
きる。
On the other hand, in a second embodiment of the present invention, a drive signal pulse for driving a switch corresponding to a plurality of lines by setting a plurality of lines of the signal to be input to a switch array for transferring a signal to be applied to a liquid crystal cell. Are supplied in a time-series manner, and the processing speed of an image (video) signal can be improved by this configuration.

【0026】このことも、高性能な素子をその製造歩留
りを低くすることなく作製可能とするものである。しか
も、周辺装置のソフトウェア及びハードウェアの大規模
化を抑制することもできる。
This also makes it possible to manufacture a high-performance device without lowering the production yield. In addition, it is possible to suppress an increase in the scale of software and hardware of the peripheral device.

【0027】そして、本発明は液晶プリンターや液晶表
示素子用の光バルブ及びそれらを搭載した画像情報処理
装置に用いられる。
The present invention is used for a liquid crystal printer, a light valve for a liquid crystal display element, and an image information processing apparatus equipped with the same.

【0028】本発明に用いられるアクティブ素子や転送
用のスイッチ更にはシフトレジスタ及び昇圧手段は望ま
しくは半導体集積回路として同一基体上に一体的に作製
される。このような基体としては絶縁膜上に半導体領域
を有するものが好ましい。このような基体は容易に周辺
回路内蔵の光透過型液晶ライトバルブを形成し易いから
である。
The active element, the transfer switch, the shift register, and the booster used in the present invention are desirably integrally formed on the same substrate as a semiconductor integrated circuit. As such a base, a base having a semiconductor region on an insulating film is preferable. This is because such a base can easily form a light transmission type liquid crystal light valve having a built-in peripheral circuit.

【0029】第1の実施態様における昇圧手段はトラン
ジスタや容量素子を用いて形成される。
The step-up means in the first embodiment is formed using a transistor, a capacitor element.

【0030】又、一方、第2の実施態様における複数の
ラインは映像信号を構成する複数の要素信号が供給され
る。この要素信号は合成されて1つの映像信号となるも
のである。とりわけ赤信号、緑信号、青信号といった色
分解信号を要素信号として用いれば複雑なカラー画像形
成の為の信号処理速度を高めることが容易になる。
On the other hand, a plurality of lines in the second embodiment are supplied with a plurality of element signals constituting a video signal. The component signals are combined into one video signal. In particular, if a color separation signal such as a red signal, a green signal, and a blue signal is used as an element signal, it becomes easy to increase the signal processing speed for forming a complex color image.

【0031】より好ましくは、線順次駆動に採用するこ
とによりラインバッファへの書き込みが速くなり、その
他の時系列的な信号の処理を並行して行う為の余分な時
間を作り出せる。
More preferably, by adopting the line sequential driving, writing to the line buffer becomes faster, and extra time for performing other time-series signal processing in parallel can be created.

【0032】[0032]

【実施例】以下、具体的且つ詳細に本発明の各実施例に
ついて述べるが、本発明は、これらの実施例に限定され
ることはなく、本発明の目的が達成される範囲内での設
計変更、要素の置換を含むものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, each embodiment of the present invention will be described specifically and in detail. However, the present invention is not limited to these embodiments, and a design within a range in which the object of the present invention is achieved. This includes changes and replacement of elements.

【0033】(実施例1)図1に、本実施例に基づくア
クティブマトリクス素子の駆動回路を示す。図1中、1
01はシフトレジスタであり、P1〜P7は前記シフト
レジスタ101の出力端子である。102は第1のMO
Sトランジスタであり、シフトレジスタ101の第1の
出力端子P1にそのゲートとソースが接続されている。
103は第1のキャパシタでありキャパシタ103の第
1電極はシフトレジスタ101の第2の出力端子P2に
接続されている。104は第2のMOSトランジスタで
あり、シフトレジスタ101の第3の出力端子P3にそ
のゲートが接続され、そのソースはリセット用の基準電
極を与える基準電源VRSに接続されたリセット電源線1
05に接続されている。第1のMOSトランジスタ10
2のドレインと第1のキャパシタ103の第2電極と第
2のMOSトランジスタのドレインは互いに接続され、
第1の出力端子01となる。続いてシフトレジスタの第
3出力端子P3、第4出力端子P4、第5出力端子P5
に上記と同様の構成にMOSトランジスタ、およびキャ
パシタを接続し、第2の出力端子02とする。以下、順
次同様に2端子ずつずらして接続してゆく。106はシ
フトレジスタの信号で制御されるスイッチングトランジ
スタである。
(Embodiment 1) FIG. 1 shows a drive circuit of an active matrix element based on this embodiment. In FIG. 1, 1
Reference numeral 01 denotes a shift register, and P1 to P7 are output terminals of the shift register 101. 102 is the first MO
It is an S transistor, and its gate and source are connected to the first output terminal P1 of the shift register 101.
Reference numeral 103 denotes a first capacitor, and a first electrode of the capacitor 103 is connected to a second output terminal P2 of the shift register 101. A second MOS transistor 104 has a gate connected to a third output terminal P3 of the shift register 101, and a source connected to a reset power supply line 1 connected to a reference power supply VRS for providing a reset reference electrode.
05. First MOS transistor 10
2 and the second electrode of the first capacitor 103 and the drain of the second MOS transistor are connected to each other;
It becomes the first output terminal 01. Subsequently, the third output terminal P3, the fourth output terminal P4, and the fifth output terminal P5 of the shift register
A MOS transistor and a capacitor are connected to the same configuration as above, and a second output terminal 02 is provided. Hereinafter, the connection is sequentially shifted by two terminals. Reference numeral 106 denotes a switching transistor controlled by a signal of the shift register.

【0034】具体的な動作を説明する為に、図2に動作
タイミングを示す。シフトレジスタ101の各出力は同
図のP1〜P7に示したように、各端子より互いに時間
的にオーバーラップすることなく順次出力される。出力
端子01の電位は、まずP1の信号により、P1の出力
電圧から第1のMOSトランジスタ102のしきい値電
圧分だけ落ちた電圧、まで昇圧される。続いてP2の信
号により、キャパシタ103を介してP2の信号電圧に
キャパシタ103とトランジスタ106のゲート容量と
の容量分割比をかけた電圧分だけ昇圧される。ここでた
とえばP1〜P7の出力振幅を7V、第1のMOSトラ
ンジスタ102のしきい値電圧を1V、キャパシタ10
3とトランジスタ106のゲート容量との容量分割比を
0.9と設定すると、スイッチングトランジスタ106
のゲートに印加される電圧は次式で表わされるように、
シフトレジスタ101の動作電圧7Vに対し、12.3
Vと1.76倍に昇圧される。
FIG. 2 shows the operation timing for explaining the specific operation. Each output of the shift register 101 is sequentially output from each terminal without temporally overlapping each other as shown by P1 to P7 in FIG. First, the potential of the output terminal 01 is boosted by the signal of P1 to a voltage lower than the output voltage of P1 by the threshold voltage of the first MOS transistor 102. Subsequently, in response to the signal of P2, the voltage is boosted by the voltage obtained by multiplying the signal voltage of P2 by the capacitor 103 and the gate capacitance of the transistor 106 via the capacitor 103. Here, for example, the output amplitude of P1 to P7 is 7 V, the threshold voltage of first MOS transistor 102 is 1 V, capacitor 10
3 and the gate capacitance of the transistor 106 are set to 0.9, the switching transistor 106
The voltage applied to the gate of
12.3 with respect to the operating voltage 7V of the shift register 101
It is boosted to 1.76 times V.

【0035】 出力端子電圧=(7−1)+7×0.9=12.3V 本回路により、シフトレジスタ101内、および本回路
内の各トランジスタに印加される電源電圧は7Vという
低電圧のまま、12.3Vという高電圧を発生すること
ができ、11V振幅の信号を取り扱うことができる。
Output terminal voltage = (7-1) + 7 × 0.9 = 12.3 V With this circuit, the power supply voltage applied to the shift register 101 and each transistor in the circuit remains as low as 7 V. , 12.3 V, and can handle signals with 11 V amplitude.

【0036】又、スイッチングトランジスタ106とし
てPMOSを用いた場合のタイミング図を図3として示
す。PMOSの場合も同様の効果を得ることができる。
FIG. 3 is a timing chart when a PMOS is used as the switching transistor 106. Similar effects can be obtained in the case of a PMOS.

【0037】(実施例2)図4に、第2の実施例の回路
図を示す。本実施例では、シフトレジスタの第1出力端
子P1、第2出力端子P2、第3出力端子P3に本発明
の回路を接続した後、以下第2出力端子P2、第3出力
端子P3、第4出力端子P4と、、一端子づつずらして
順次接続される。本回路の動作タイミング図を図5に示
す。同図から分かるように、本回路の場合、ある期間出
力がオーバーラップして出力されるが、図4に示したよ
うに、スイッチングトランジスタ106により接続され
る信号線が複数ある場合、たとえばカラーパネルにおい
てR、G、B、各色ごとに信号線を有するような場合、
出力をタイミング的にオーバーラップさせることにより
実施例1に比べより高速な動作を実現することができ
る。
(Embodiment 2) FIG. 4 shows a circuit diagram of a second embodiment. In this embodiment, after the circuit of the present invention is connected to the first output terminal P1, the second output terminal P2, and the third output terminal P3 of the shift register, the second output terminal P2, the third output terminal P3, the fourth output terminal The output terminal P4 is sequentially connected to the output terminal P4 while being shifted by one terminal. FIG. 5 shows an operation timing chart of this circuit. As can be seen from the figure, in the case of this circuit, the outputs are output in an overlapping manner for a certain period. However, as shown in FIG. 4, when there are a plurality of signal lines connected by the switching transistor 106, for example, the color panel In the case where there is a signal line for each of R, G, B and each color,
By making the outputs overlap in timing, a higher-speed operation can be realized as compared with the first embodiment.

【0038】(実施例3)図6に第3の実施例の回路図
を示す。本実施例は、実施例1では所望の高電圧出力を
維持できる期間がP2信号が出力されている期間に限ら
れるのに対し、第1のキャパシタの第1電極とシフトレ
ジスタのP2出力端子の間に第3のMOSトランジスタ
601を挿入し、このMOSトランジスタのソースとゲ
ートをP2出力端子に接続し、ドレインを第1のキャパ
シタの第1電極に接続する構造を取ることで、図7に示
したようにP2信号の出力が終了した後もキャパシタの
第1電極側の電位は保持され第2電極側の電位も次のP
3信号が印加されるまで所望の高電圧出力を維持するこ
とができる。これによりスイッチングトランジスタが信
号を転送できる期間を延ばすことができる。
(Embodiment 3) FIG. 6 is a circuit diagram of a third embodiment. In the present embodiment, the period during which the desired high voltage output can be maintained is limited to the period during which the P2 signal is output in the first embodiment, whereas the period between the output of the P2 signal and the first electrode of the first capacitor and the position of the P2 output terminal of the shift register. A third MOS transistor 601 is interposed therebetween, the source and the gate of this MOS transistor are connected to the P2 output terminal, and the drain is connected to the first electrode of the first capacitor. As described above, even after the output of the P2 signal is completed, the potential on the first electrode side of the capacitor is maintained, and the potential on the second electrode side is also changed to the next P level.
The desired high voltage output can be maintained until three signals are applied. Thus, the period during which the switching transistor can transfer a signal can be extended.

【0039】第1のキャパシタの第1電極にはリセット
トランジスタ602が接続されており、P3信号が印加
されると第1電極側の電位をリセットする。
A reset transistor 602 is connected to the first electrode of the first capacitor, and resets the potential of the first electrode when the P3 signal is applied.

【0040】(実施例4)図8に第4の実施例の回路図
を示す。本実施例は、チャージポンピング回路を用いて
昇圧回路を構成した実施例である。第4のMOSトラン
ジスタ801と第5のMOSトランジスタ802と第6
のMOSトランジスタ803と第2のキャパシタ804
を持ち、第4のMOSトランジスタ801のソースは電
源線VDD805に接続され、ゲートはシフトレジスタ
のP1出力端子に接続され、第4のMOSトランジスタ
801のドレインと第5のMOSトランジスタ802の
ソースおよびゲートと、第2のキャパシタ804の第1
電極は互いに接続されている。第2のキャパシタ804
の第2電極はP2出力端子に接続され、第6のMOSト
ランジスタ803のソースは電源線VSS806に接続
され、ゲートはシフトレジスタのP3出力端子に接続さ
れ、第5のMOSトランジスタ802および第6のMO
Sトランジスタ803のドレインは互いに接続され出力
端子となる。動作タイミング図を図9に示す。まず、P
1信号により、第4のMOSトランジスタ801のドレ
イン端子の電位を昇圧する。次にP2信号により、キャ
パシタ804を介して更に昇圧し、出力する。次にP3
信号によりリセットを行う。本回路構成においても上記
実施例と同様の効果が得られる。
(Embodiment 4) FIG. 8 shows a circuit diagram of a fourth embodiment. This embodiment is an embodiment in which a booster circuit is configured using a charge pumping circuit. The fourth MOS transistor 801, the fifth MOS transistor 802, and the sixth
MOS transistor 803 and second capacitor 804
The source of the fourth MOS transistor 801 is connected to the power supply line VDD 805, the gate is connected to the P1 output terminal of the shift register, the drain of the fourth MOS transistor 801 and the source and gate of the fifth MOS transistor 802 And the first of the second capacitors 804
The electrodes are connected to each other. Second capacitor 804
Is connected to the P2 output terminal, the source of the sixth MOS transistor 803 is connected to the power supply line VSS806, the gate is connected to the P3 output terminal of the shift register, the fifth MOS transistor 802 and the sixth MO
The drains of the S transistors 803 are connected to each other and serve as output terminals. FIG. 9 shows an operation timing chart. First, P
The potential of the drain terminal of the fourth MOS transistor 801 is boosted by one signal. Next, the voltage is further boosted by the P2 signal via the capacitor 804 and output. Next, P3
Reset by signal. In this circuit configuration, the same effect as in the above embodiment can be obtained.

【0041】以上説明した実施例1乃至4におけるスイ
ッチングトランジスタ106の出力(映像信号)は線順
次駆動法を採用する場合には図11のラインバッファ7
04を介して信号配線70に供給される。これとは別
に、画素毎に時系列的に順次駆動する場合には、ライン
バッファ704を介することなく直接出力を信号配線7
に供給する。
When the line-sequential driving method is employed, the output (video signal) of the switching transistor 106 in the first to fourth embodiments described above is used for the line buffer 7 shown in FIG.
04 is supplied to the signal line 70 3 through. Separately, when the pixels are sequentially driven in time series for each pixel, the output is directly sent to the signal line 7 without passing through the line buffer 704.
0 supplied to the 3.

【0042】以上説明した実施例1乃至4の回路は半導
体基板上に形成される。
The circuits of the first to fourth embodiments described above are formed on a semiconductor substrate.

【0043】図10は本発明によるAMLCDを用いた
画像情報処理装置を示す模式図である。
FIG. 10 is a schematic diagram showing an image information processing apparatus using an AMLCD according to the present invention.

【0044】1はAMLCDであり、基体6の中央に表
示部5が設けられている。図10では模式的に画素部分
を拡大して4及び4’として示している。表示部5の周
囲にはシフトレジスタを含む駆動回路が配置されてい
る。信号配線に接続され映像信号を供給する水平駆動回
路3,3’は表示部の上下に、ゲート配線に接続されラ
イン選択信号を発生する駆動回路2,2’は表示部5の
左右に配置されている。
Reference numeral 1 denotes an AMLCD, in which a display unit 5 is provided at the center of a base 6. FIG. 10 schematically shows the pixel portion as 4 and 4 ′ in an enlarged manner. A drive circuit including a shift register is arranged around the display unit 5. The horizontal drive circuits 3 and 3 ′ connected to signal lines and supplying video signals are arranged above and below the display unit, and the drive circuits 2 and 2 ′ connected to gate lines and generating line selection signals are arranged on the left and right sides of the display unit 5. ing.

【0045】このAMLCD1はこれらの駆動回路は制
御する別基板に実装された駆動制御回路10に接続され
る。この回路10は実施例2乃至4用として設計される
場合には1つの映像信号を複数の要素信号(例えば
VR,SVG,SVB)に分離する回路を含む。
The AMLCD 1 is connected to a drive control circuit 10 mounted on another board for controlling these drive circuits. This circuit 10 includes a circuit for separating one video signal into a plurality of element signals (for example, S VR , S VG , S VB ) when designed for the second to fourth embodiments.

【0046】又、光源12及び光源の点灯を制御するイ
ンバータを含む点灯制御回路と共に上記駆動制御回路1
0は中央制御回路14に接続される。
The drive control circuit 1 includes a light source 12 and a lighting control circuit including an inverter for controlling lighting of the light source.
0 is connected to the central control circuit 14.

【0047】更に、この画像情報処理装置では画像情報
を入力するレンズを含む光学系22と光電変換要素を含
むイメージセンサ21とその駆動回路20を有してい
る。
Further, the image information processing apparatus has an optical system 22 including a lens for inputting image information, an image sensor 21 including a photoelectric conversion element, and a drive circuit 20 for driving the image sensor.

【0048】加えて、イメージセンサ21による画像情
報及び/又は表示された画像情報は記録ヘッド31を含
む記録制御回路30により記録媒体に記録される。
In addition, the image information by the image sensor 21 and / or the displayed image information is recorded on a recording medium by a recording control circuit 30 including a recording head 31.

【0049】以上説明した実施例のアクティブマトリク
ス液晶表示素子1は、以下に示す方法により製造される
単結晶Si層を有する半導体基板を用いることにより、
液晶素子、液晶駆動回路及びその他の周辺駆動回路を同
時に同一基板上に作成することができる。以下、その方
法につき説明する。
The active matrix liquid crystal display element 1 of the embodiment described above uses a semiconductor substrate having a single-crystal Si layer manufactured by the following method.
A liquid crystal element, a liquid crystal driving circuit, and other peripheral driving circuits can be simultaneously formed on the same substrate. Hereinafter, the method will be described.

【0050】半導体基板の単結晶Si層は単結晶Si基
体を多孔質化した多孔質Si基体を用いて形成したもの
である。
The single crystal Si layer of the semiconductor substrate is formed by using a porous Si substrate obtained by making the single crystal Si substrate porous.

【0051】この多孔質Si基体には、透過型電子顕微
鏡による観察によれば、平均約600Å程度の径の孔が
形成されており、その密度は単結晶Siに比べると、半
分以下になるにもかかわらず、その単結晶性は維持され
ており、多孔質層の上部へ単結晶Si層をエピタキシャ
ル成長させることも可能である。ただし、1000℃以
上では、内部の孔の再配列が起こり、増速エッチングの
特性が損なわれる。このため、Si層のエピタキシャル
成長には、分子線エピタキシャル成長法、プラズマCV
D法、熱CVD法、光CVD法、バイアス・スパッタ
法、液晶成長法等の低温成長が好適とされる。
According to observation with a transmission electron microscope, pores having an average diameter of about 600 ° are formed in the porous Si substrate, and the density thereof is less than half that of single crystal Si. Nevertheless, its single crystallinity is maintained, and a single crystal Si layer can be epitaxially grown on the porous layer. However, if the temperature is higher than 1000 ° C., rearrangement of the internal holes occurs, and the characteristics of the accelerated etching are impaired. For this reason, the epitaxial growth of the Si layer includes the molecular beam epitaxial growth method and the plasma CV method.
Low temperature growth such as D method, thermal CVD method, photo CVD method, bias sputtering method, liquid crystal growth method, etc. is preferable.

【0052】ここでP型Siを多孔質化した後に単結晶
層をエピタキシャル成長させる方法について説明する。
Here, a method for epitaxially growing a single crystal layer after making P-type Si porous will be described.

【0053】先ず、Si単結晶基体を用意し、それをH
F溶液を用いた陽極化成法によって、多孔質化する。単
結晶Siの密度は2.33g/cm3 であるが、多孔質
Si基体の密度はHF溶液濃度を20〜50重量%に変
化させることで、0.6〜1.1g/cm3 に変化させ
ることができる。この多孔質層は下記の理由により、P
型Si基体に形成され易い。
First, a Si single crystal substrate was prepared, and
It is made porous by an anodizing method using an F solution. The density of single crystal Si is 2.33 g / cm 3 , but the density of the porous Si substrate is changed to 0.6 to 1.1 g / cm 3 by changing the HF solution concentration to 20 to 50% by weight. Can be done. This porous layer is made of P for the following reason.
It is easy to form on the Si substrate.

【0054】多孔質Siは半導体の電解研磨の研究過程
において発見されたものであり、陽極化成におけるSi
の溶解反応において、HF溶液中のSiの陽極反応には
正孔が必要であり、その反応は、次のように示される。
Porous Si was discovered in the course of research on the electropolishing of semiconductors, and was
In the dissolution reaction of the above, holes are necessary for the anodic reaction of Si in the HF solution, and the reaction is shown as follows.

【0055】Si+2HF+(2−n)e+ →SiF2
+2H+ +ne- SiF2 +2HF→SiF4 +H2 SiF4 +2HF→H2 SiF6 又は、 Si+4HF+(4−λ)e+ →SiF4 +4H+ +λ
- SiF4 +2HF→H2 SiF6 ここで、e+ 及び、e- はそれぞれ、正孔と電子を表し
ている。また、n及びλはそれぞれSi1原子が溶解す
るために必要な正孔の数であり、n>2又は、λ>4な
る条件が満たされた場合に多孔質Siが形成されるとし
ている。
Si + 2HF + (2-n) e + → SiF 2
+ 2H + + ne - SiF 2 + 2HF → SiF 4 + H 2 SiF 4 + 2HF → H 2 SiF 6 or Si + 4HF + (4-λ) e + → SiF 4 + 4H + + λ
e SiF 4 + 2HF → H 2 SiF 6 Here, e + and e represent a hole and an electron, respectively. Further, n and λ are the number of holes required for dissolving the Si1 atom, and it is assumed that porous Si is formed when the condition of n> 2 or λ> 4 is satisfied.

【0056】以上のことから、正孔の存在するP型Si
は、多孔質化され易いと言える。
From the above, it can be seen that P-type Si containing holes exists.
Can be said to be easily made porous.

【0057】一方、高濃度N型Siも多孔質化されうる
ことが報告されており、従って、P型、N型の別にこだ
わらずに多孔質化を行うことができる。
On the other hand, it has been reported that high-concentration N-type Si can also be made porous. Therefore, it is possible to make the porous body regardless of whether it is P-type or N-type.

【0058】また、多孔質層はその内部に大量の空隙が
形成されているために、密度が半分以下に減少する。そ
の結果、体積に比べて表面積が飛躍的に増大するため、
その化学エッチング速度は、通常の単結晶層のエッチン
グ速度に比べて著しく増速される。
Further, since the porous layer has a large amount of voids formed therein, the density is reduced to less than half. As a result, the surface area increases dramatically compared to the volume,
The chemical etching rate is significantly increased compared to the etching rate of a normal single crystal layer.

【0059】単結晶Siを陽極化成によって多孔質化す
る条件を以下に示す。尚、陽極化成によって形成する多
孔質Siの出発材料は、単結晶Siに限定されるもので
はなく、他の結晶構造のSiでも可能である。
The conditions for making single-crystal Si porous by anodizing are shown below. The starting material of the porous Si formed by anodization is not limited to single crystal Si, but may be Si having another crystal structure.

【0060】印加電圧: 2.6(V) 電流密度: 30(mA・cm-2) 陽極化成溶液: HF:H2 O:C25 OH=1:
1:1 時間: 2.4(時間) 多孔質Siの厚み:300(μm) Porosity: 56(%) このようにして形成した多孔質化Si基体の上にSiを
エピタキシャル成長させて単結晶Si薄膜を形成する。
単結晶Si薄膜の厚さは好ましくは50μm以下、さら
に好ましくは20μm以下である。
Applied voltage: 2.6 (V) Current density: 30 (mA · cm −2 ) Anodizing solution: HF: H 2 O: C 2 H 5 OH = 1:
1: 1 time: 2.4 (hour) Thickness of porous Si: 300 (μm) Porosity: 56 (%) Si is epitaxially grown on the porous Si substrate thus formed, and a single-crystal Si thin film is formed. To form
The thickness of the single crystal Si thin film is preferably 50 μm or less, more preferably 20 μm or less.

【0061】次に上記単結晶Si薄膜表面を酸化した
後、最終的に基板を構成することになる基体を用意し、
単結晶Si表面の酸化膜と上記基体を貼り合わせる。或
いは新たに用意した単結晶Si基体の表面を酸化した
後、上記多孔質Si基体上の単結晶Si層と貼り合わせ
る。この酸化膜を基体と単結晶Si層の間に設ける理由
は、例えば基体としてガラスを用いた場合、Si活性層
の下地界面により発生する界面準位は上記ガラス界面に
比べて、酸化膜界面の方が準位を低くできるため、電子
デバイスの特性を、著しく向上させることができるため
である。さらに、後述する選択エッチングにより多孔質
Si基体をエッチング除去した単結晶Si薄膜のみを新
しい基体に貼り合わせても良い。貼り合わせはそれぞれ
の表面を洗浄後に室温で接触させるだけでファン デル
ワールス力で簡単には剥すことができない程充分に密
着しているが、これをさらに200〜900℃、好まし
くは600〜900℃の温度で窒素雰囲気下熱処理し完
全に貼り合わせる。
Next, after oxidizing the surface of the single-crystal Si thin film, a base that will eventually constitute a substrate is prepared.
The oxide film on the surface of the single-crystal Si is bonded to the substrate. Alternatively, the surface of a newly prepared single crystal Si substrate is oxidized and then bonded to the single crystal Si layer on the porous Si substrate. The reason why this oxide film is provided between the substrate and the single-crystal Si layer is that, for example, when glass is used as the substrate, the interface level generated by the underlying interface of the Si active layer is higher at the oxide film interface than at the glass interface. This is because the lower the level, the more significantly the characteristics of the electronic device can be improved. Further, only a single crystal Si thin film obtained by etching and removing a porous Si substrate by selective etching described later may be bonded to a new substrate. The lamination is performed so that the respective surfaces can be simply brought into contact with each other at room temperature after washing, so that they cannot be easily peeled off by van der Waals force, but they are further adhered to each other at 200 to 900 ° C., preferably 600 to 900 ° C. Heat treatment under a nitrogen atmosphere at a temperature of 5 ° C. to completely bond.

【0062】さらに、上記の貼り合わせた2枚の基体全
体にSi34 層をエッチング防止膜として堆積し、多
孔質Si基体の表面上のSi34 層のみを除去する。
このSi34 層の代わりにアピエゾンワックスを用い
ても良い。この後、多孔質Si基体を全部エッチング等
の手段で除去することにより薄膜単結晶Si層を有する
半導体基板が得られる。
Further, an Si 3 N 4 layer is deposited as an etching prevention film on the whole of the two bonded substrates, and only the Si 3 N 4 layer on the surface of the porous Si substrate is removed.
Apiezon wax may be used instead of the Si 3 N 4 layer. Thereafter, the entirety of the porous Si substrate is removed by means such as etching to obtain a semiconductor substrate having a thin-film single-crystal Si layer.

【0063】この多孔質Si基体のみを無電解湿式エッ
チングする選択エッチング法について説明する。
A selective etching method for electrolessly wet etching only the porous Si substrate will be described.

【0064】結晶Siに対してはエッチング作用を持た
ず、多孔質Siのみを選択エッチング可能なエッチング
液としては、弗酸、フッ化アンモニウム(NH4 F)や
フッ化水素(HF)等バッファード弗酸、過酸化水素水
を加えた弗酸又はバッファード弗酸の混合液、アルコー
ルを加えた弗酸又はバッファード弗酸の混合液、過酸化
水素水とアルコールとを加えた弗酸又はバッファード弗
酸の混合液が好適に用いられる。これらの溶液に貼り合
わせた基板を湿潤させてエッチングを行う。エッチング
速度は弗酸、バッファード弗酸、過酸化水素水の溶液濃
度及び温度に依存する。過酸化水素水を添加することに
よって、Siの酸化を増速し、反応速度を無添加に比べ
て増速することが可能となり、さらに過酸化水素水の比
率を変えることにより、その反応速度を制御することが
できる。またアルコールを添加することにより、エッチ
ングによる反応生成気体の気泡を、瞬時にエッチング表
面から攪拌することなく除去でき、均一に且つ効率よく
多孔質Siをエッチングすることができる。
As an etching solution having no etching action on crystalline Si and capable of selectively etching only porous Si, a buffered solution such as hydrofluoric acid, ammonium fluoride (NH 4 F) or hydrogen fluoride (HF) may be used. A mixed solution of hydrofluoric acid or buffered hydrofluoric acid to which hydrofluoric acid or hydrogen peroxide solution is added, a mixed solution of hydrofluoric acid or buffered hydrofluoric acid to which alcohol is added, or a hydrofluoric acid or buffer to which hydrogen peroxide water and an alcohol are added A mixture of difluoric acid is preferably used. The substrate bonded to these solutions is wetted and etched. The etching rate depends on the solution concentration and temperature of hydrofluoric acid, buffered hydrofluoric acid, and hydrogen peroxide solution. By adding the hydrogen peroxide solution, the oxidation of Si can be accelerated, and the reaction rate can be increased as compared with the case without addition. Further, by changing the ratio of the hydrogen peroxide solution, the reaction rate can be increased. Can be controlled. In addition, by adding alcohol, bubbles of the reaction gas generated by the etching can be instantaneously removed from the etching surface without stirring, and the porous Si can be uniformly and efficiently etched.

【0065】バッファード弗酸中のHF濃度は、エッチ
ング液に対して、好ましくは1〜95重量%、より好ま
しくは1〜85重量%、さらに好ましくは1〜70重量
%の範囲で設定され、バッファード弗酸中のNH4 F濃
度は、エッチング液に対して、好ましくは1〜95重量
%、より好ましくは5〜90重量%、さらに好ましくは
5〜80重量%の範囲で設定される。
The HF concentration in the buffered hydrofluoric acid is set in the range of preferably 1 to 95% by weight, more preferably 1 to 85% by weight, and still more preferably 1 to 70% by weight with respect to the etching solution. The NH 4 F concentration in the buffered hydrofluoric acid is set in the range of preferably 1 to 95% by weight, more preferably 5 to 90% by weight, and still more preferably 5 to 80% by weight based on the etching solution.

【0066】HF濃度は、エッチング液に対して、好ま
しくは1〜95重量%、より好ましくは5〜90重量
%、さらに好ましくは5〜80重量%の範囲で設定され
る。
The HF concentration is set in the range of preferably 1 to 95% by weight, more preferably 5 to 90% by weight, and still more preferably 5 to 80% by weight, based on the etching solution.

【0067】H22 濃度は、エッチング液に対して、
好ましくは1〜95重量%、より好ましくは5〜90重
量%、さらに好ましくは10〜80重量%で、且つ上記
過酸化水素水の効果を奏する範囲で設定される。
The H 2 O 2 concentration depends on the etching solution.
It is preferably set to 1 to 95% by weight, more preferably 5 to 90% by weight, and still more preferably 10 to 80% by weight, and is set within a range in which the above-mentioned hydrogen peroxide solution is exerted.

【0068】アルコール濃度は、エッチング液に対し
て、好ましくは80重量%、より好ましくは60重量%
以下、さらに好ましくは40重量%以下で、且つ上記ア
ルコールの効果を奏する範囲で設定される。
The alcohol concentration is preferably 80% by weight, more preferably 60% by weight with respect to the etching solution.
Hereinafter, it is more preferably 40% by weight or less, and is set within a range in which the effect of the alcohol is exerted.

【0069】温度は、好ましくは0〜100℃、より好
ましくは5〜80℃、さらに好ましくは5〜60℃の範
囲で設定される。
The temperature is set in the range of preferably 0 to 100 ° C., more preferably 5 to 80 ° C., and still more preferably 5 to 60 ° C.

【0070】本工程に用いられるアルコールはエチルア
ルコールの他、イソプロピルアルコールなど製造工程等
に実用上差し支えなく、さらに上記アルコール添加効果
を望むことのできるアルコールを用いることができる。
The alcohol used in this step is not limited to ethyl alcohol, and may be isopropyl alcohol or any other alcohol that can be used in the production process and the like, and can further exhibit the above-mentioned alcohol addition effect.

【0071】このようにして得られた半導体基板は、通
常のSiウエハーと同等な単結晶Si層が平坦にしかも
均一に薄層化されて基板全域に大面積に形成されてい
る。
In the semiconductor substrate obtained in this manner, a single-crystal Si layer equivalent to that of a normal Si wafer is flattened and uniformly thinned, and formed over a large area over the entire substrate.

【0072】この半導体基板の単結晶Si層を部分酸化
法或いは島状にエッチングすることにより分離し、不純
物をドープしてp或いはnチャネルトランジスタを形成
する。
The single crystal Si layer of the semiconductor substrate is separated by a partial oxidation method or by etching in an island shape, and is doped with impurities to form a p or n channel transistor.

【0073】(実施例5)図16と図17とは本発明に
よる液晶ライトバルブの駆動回路及びそのタイミングを
示すチャートである。
(Embodiment 5) FIGS. 16 and 17 are charts showing a drive circuit of a liquid crystal light valve according to the present invention and its timing.

【0074】本例は前述した実施例4を一部改良したも
のであり、その改良点を除く他の構成は実施例4とほぼ
同一である。
This embodiment is a partial improvement of the above-described fourth embodiment, and the other configuration except for the improved point is almost the same as that of the fourth embodiment.

【0075】回路的にはMOSトランジスタ803のゲ
ートを端子P4に接続するというように、シフトレジス
タの端子を一段後にずらして接続することで、図17に
示すように昇圧回路一端子のリセットタイミング(オ
ン)と次の一端子のセットタイミング(オフ)とを時間
的に逆にしてオーバーラップする期間T01及びT02を順
次設けている。そして、シフトレジスタ101として高
周波数で動作するレジスタを採用している。これにより
スイッチ106の出力側に書き込まれる信号の処理速度
を速めることができる。
In terms of the circuit, by connecting the shift register terminal one stage later, such as connecting the gate of the MOS transistor 803 to the terminal P4, as shown in FIG. ON) and the set timing (OFF) of the next one terminal are temporally reversed, and overlapping periods T01 and T02 are sequentially provided. Then, a register operating at a high frequency is employed as the shift register 101. Thus, the processing speed of a signal written to the output side of the switch 106 can be increased.

【0076】本例では実施例2,3同様に昇圧回路とオ
ーバーラップ駆動とを組み合わせているが、本発明にお
いては昇圧回路を設けずにシフトレジスタのシフトパル
スをオーバーラップさせるだけで昇圧せずに供給するも
のであってもよい。
In this embodiment, the boosting circuit and the overlap driving are combined as in the second and third embodiments. However, in the present invention, the boosting circuit is not provided and only the shift pulse of the shift register is overlapped and no boosting is performed. May be supplied.

【0077】[0077]

【発明の効果】本発明によればシフトレジスタを構成す
るトランジスタ等の耐圧を向上させる為の複雑な構造を
省くことができ、高性能な素子(デバイス)をその製造
歩留りを低くすることなく作製可能となる。
According to the present invention, it is possible to omit a complicated structure for improving the breakdown voltage of a transistor or the like constituting a shift register, and to manufacture a high-performance element without lowering the manufacturing yield. It becomes possible.

【0078】また、本発明によれば画像(映像)信号の
処理速度を向上させることができ、高性能な素子をその
製造歩留りを低くすることなく作製可能となる。しか
も、周辺装置のソフトウェア及びハードウェアの大規模
化を抑制することもできる。
Further, according to the present invention, the processing speed of an image (video) signal can be improved, and a high-performance device can be manufactured without lowering the production yield. In addition, it is possible to suppress an increase in the scale of software and hardware of the peripheral device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例1のアクティブマトリクス液晶
光バルブの駆動回路を示す図
FIG. 1 is a diagram showing a drive circuit of an active matrix liquid crystal light valve according to a first embodiment of the present invention.

【図2】実施例1の駆動回路の動作タイミング図FIG. 2 is an operation timing chart of the drive circuit according to the first embodiment.

【図3】実施例1の駆動回路に一部PMOSトランジス
タを用いた場合のタイミング図
FIG. 3 is a timing chart when a PMOS transistor is partially used in the drive circuit according to the first embodiment;

【図4】本発明の実施例2のアクティブマトリクス液晶
光バルブの駆動回路を示す図
FIG. 4 is a diagram illustrating a drive circuit of an active matrix liquid crystal light valve according to a second embodiment of the present invention.

【図5】実施例2の駆動回路の動作タイミング図FIG. 5 is an operation timing chart of the drive circuit according to the second embodiment.

【図6】本発明の実施例3のアクティブマトリクス液晶
光バルブの駆動回路を示す図
FIG. 6 is a diagram showing a drive circuit of an active matrix liquid crystal light valve according to a third embodiment of the present invention.

【図7】実施例3の駆動回路の動作タイミング図FIG. 7 is an operation timing chart of the drive circuit according to the third embodiment.

【図8】本発明の実施例4のアクティブマトリクス液晶
光バルブの駆動回路を示す図
FIG. 8 is a diagram showing a drive circuit of an active matrix liquid crystal light valve according to a fourth embodiment of the present invention.

【図9】実施例4の駆動回路の動作タイミング図FIG. 9 is an operation timing chart of the drive circuit according to the fourth embodiment.

【図10】本発明による液晶光バルブを用いた画像情報
処理装置の構造を示す模式図
FIG. 10 is a schematic diagram showing the structure of an image information processing apparatus using a liquid crystal light valve according to the present invention.

【図11】従来の液晶表示装置の回路図FIG. 11 is a circuit diagram of a conventional liquid crystal display device.

【図12】アクティブマトリクス液晶表示素子の駆動パ
ルスタイミングを示す図
FIG. 12 is a diagram showing drive pulse timing of an active matrix liquid crystal display element.

【図13】TN液晶セルの透過率と信号電圧の相関を示
す図
FIG. 13 is a diagram showing a correlation between a transmittance of a TN liquid crystal cell and a signal voltage.

【図14】TN液晶を用いたアクティブマトリクス液晶
表示素子の駆動波形を示す図
FIG. 14 is a diagram showing a driving waveform of an active matrix liquid crystal display device using a TN liquid crystal.

【図15】強誘電性液晶を用いたアクティブマトリクス
液晶表示素子の駆動波形を示す図
FIG. 15 is a diagram showing driving waveforms of an active matrix liquid crystal display device using a ferroelectric liquid crystal.

【図16】本発明の実施例5によるアクティブマトリク
ス液晶光バルブの駆動回路を示す図
FIG. 16 is a diagram showing a drive circuit of an active matrix liquid crystal light valve according to Embodiment 5 of the present invention.

【図17】実施例5の駆動回路の動作タイミング図FIG. 17 is an operation timing chart of the drive circuit according to the fifth embodiment.

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/133 550 G02F 1/1368 G09G 3/36 H02M 3/07 Continuation of front page (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G02F 1/133 550 G02F 1/1368 G09G 3/36 H02M 3/07

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 液晶とアクティブ素子とを有するセルを
複数具備するアクティブマトリクス液晶光バルブにおい
て、前記各セルに印加する信号を転送する為のスイッチ
を駆動する回路が、シフトレジスタと該シフトレジスタ
の出力を昇圧する昇圧手段を有し、前記昇圧手段は、第1のMOSトランジスタと第1のキ
ャパシタと第2のMOSトランジスタとから成り、第1
のMOSトランジスタのゲートとソースはシフトレジス
タの第1の出力に接続し、キャパシタの第1の電極はシ
フトレジスタの第2の出力に接続し、第2のMOSトラ
ンジスタのゲートはシフトレジスタの第3の出力に接続
し、ソースは独立に設けられたリセット電源線に接続さ
れ、第1のMOSトランジスタのドレインと第1のキャ
パシタの第2の電極と第2のMOSトランジスタのドレ
インは互いに接続されていることを特徴とする アクティ
ブマトリクス液晶光バルブ。
1. An active matrix liquid crystal light valve including a plurality of cells each having a liquid crystal and an active element, wherein a circuit for driving a switch for transferring a signal applied to each cell includes a shift register and a shift register of the shift register. A booster for boosting an output, wherein the booster includes a first MOS transistor and a first key.
A first MOS transistor and a first MOS transistor.
The gate and source of the MOS transistor are shifted
The first electrode of the capacitor is connected to the first output of the
Connected to the second output of the
The gate of the transistor is connected to the third output of the shift register
The source is connected to an independently provided reset power line.
And the drain of the first MOS transistor and the first capacitor.
Drain of the second electrode of the capacitor and the second MOS transistor
The active matrix liquid crystal light valves are connected to each other .
【請求項2】 液晶とアクティブ素子とを有するセルを
複数具備するアクティブマトリクス液晶光バルブにおい
て、前記各セルに印加する信号を転送する為のスイッチ
を駆動する回路が、シフトレジスタと該シフトレジスタ
の出力を昇圧する昇圧手段を有し、前記昇圧手段は、第4のMOSトランジスタと第5のM
OSトランジスタと第6のMOSトランジスタと第2の
キャパシタを持ち、第4のMOSトランジスタのソース
は電源線に接続され、ゲートはシフトレジスタの第1出
力端子に接続され、第4のMOSトランジスタのドレイ
ンと第5のMOSトランジスタのソースとゲートと、第
2のキャパシタの第1電極は互いに接続されている。第
2のキャパシタの第2電極はシフトレジスタの第2出力
端子に接続され、第6のMOSトランジスタのソースは
リセット電源線に接続され、ゲートはシフトレジスタの
第3出力端子に接続され、第5、第6のMOSトランジ
スタのドレインは互いに接続されていることを特徴とす
アクティブマトリクス液晶光バルブ。
2. An active matrix liquid crystal light valve including a plurality of cells each having a liquid crystal and an active element, wherein a circuit for driving a switch for transferring a signal applied to each of the cells includes a shift register and a shift register of the shift register. A booster for boosting an output, wherein the booster includes a fourth MOS transistor and a fifth M transistor.
The OS transistor, the sixth MOS transistor, and the second
With a capacitor, the source of the fourth MOS transistor
Is connected to the power supply line, and the gate is the first output of the shift register.
And the drain of the fourth MOS transistor
And the source and gate of the fifth MOS transistor,
The first electrodes of the two capacitors are connected to each other. No.
The second electrode of the second capacitor is the second output of the shift register
Terminal of the sixth MOS transistor
Connected to the reset power supply line and the gate is
The fifth and sixth MOS transistors are connected to the third output terminal.
The drains of the transistors are connected to each other.
Active matrix liquid crystal light valve that.
【請求項3】 液晶とアクティブ素子とを有するセルの
複数を2次元状に配置した液晶表示手段と該表示手段を
駆動する為の駆動回路とを具備する液晶表示素子におい
て、 前記駆動回路は、前記複数のセルに印加する信号を転送
する為のスイッチと、シフトパルスを発生するシフトレ
ジスタと、該シフトレジスタのシフトパルスの電圧を昇
圧する昇圧回路と、を含み、該昇圧回路の出力を該スイ
ッチに入力することにより該スイッチを駆動する駆動回
路であって、 前記昇圧回路は、第1のMOSトランジスタと第1のキ
ャパシタと第2のMOSトランジスタとから成り、第1
のMOSトランジスタのゲートとソースはシフトレジス
タの第1の出力に接続し、キャパシタの第1の電極はシ
フトレジスタの第2の出力に接続し、第2のMOSトラ
ンジスタのゲートはシフトレジスタの第3の出力に接続
し、ソースは独立に設けられたリセット電源線に接続さ
れ、第1のMOSトランジスタのドレインと第1のキャ
パシタの第2の電極と第2のMOSトランジスタのドレ
インは互いに接続されていることを特徴とする 液晶表示
素子。
3. A liquid crystal display device comprising: liquid crystal display means in which a plurality of cells each having a liquid crystal and an active element are two-dimensionally arranged; and a drive circuit for driving the display means. A switch for transferring a signal to be applied to the plurality of cells, a shift register for generating a shift pulse, and a booster circuit for boosting a voltage of the shift pulse of the shift register; and an output of the booster circuit. A drive circuit that drives the switch by inputting to the switch
The booster circuit includes a first MOS transistor and a first key.
A first MOS transistor and a first MOS transistor.
The gate and source of the MOS transistor are shifted
The first electrode of the capacitor is connected to the first output of the
Connected to the second output of the
The gate of the transistor is connected to the third output of the shift register
The source is connected to an independently provided reset power line.
And the drain of the first MOS transistor and the first capacitor.
Drain of the second electrode of the capacitor and the second MOS transistor
The liquid crystal display elements are connected to each other .
【請求項4】 液晶とアクティブ素子とを有するセルの
複数を2次元状に配置した液晶表示手段と該表示手段を
駆動する為の駆動回路とを具備する液晶表示素子におい
て、 前記駆動回路は、前記複数のセルに印加する信号を転送
する為のスイッチと、シフトパルスを発生するシフトレ
ジスタと、該シフトレジスタのシフトパルスの電圧を昇
圧する昇圧回路と、を含み、該昇圧回路の出力を該スイ
ッチに入力することにより該スイッチを駆動する駆動回
路であって、 前記昇圧回路は、第4のMOSトランジスタと第5のM
OSトランジスタと第6のMOSトランジスタと第2の
キャパシタを持ち、第4のMOSトランジスタのソース
は電源線に接続され、ゲートはシフトレジスタの第1出
力端子に接続され、第4のMOSトランジスタのドレイ
ンと第5のMOSトランジスタのソースとゲートと、第
2のキャパシタの第1電極は互いに接続されている。第
2のキャパシタの第2電極はシフトレジスタの第2出力
端子に接続され、第6のMOSトランジスタのソースは
リセット電源線に接続され、ゲートはシフトレジスタの
第3出力端子に接続され、第5、第6のMOSトランジ
スタのドレインは互いに接続されていることを特徴とす
液晶表示素子。
4. A liquid crystal display device comprising: liquid crystal display means in which a plurality of cells each having a liquid crystal and an active element are two-dimensionally arranged; and a drive circuit for driving the display means. A switch for transferring a signal to be applied to the plurality of cells, a shift register for generating a shift pulse, and a booster circuit for boosting a voltage of the shift pulse of the shift register; and an output of the booster circuit. A drive circuit that drives the switch by inputting to the switch
The booster circuit includes a fourth MOS transistor and a fifth M transistor.
The OS transistor, the sixth MOS transistor, and the second
With a capacitor, the source of the fourth MOS transistor
Is connected to the power supply line, and the gate is the first output of the shift register.
And the drain of the fourth MOS transistor
And the source and gate of the fifth MOS transistor,
The first electrodes of the two capacitors are connected to each other. No.
The second electrode of the second capacitor is the second output of the shift register
Terminal of the sixth MOS transistor
Connected to the reset power supply line and the gate is
The fifth and sixth MOS transistors are connected to the third output terminal.
The drains of the transistors are connected to each other.
The liquid crystal display element that.
【請求項5】 液晶とアクティブ素子とを有するセルの
複数を2次元状に配置した液晶表示手段と該表示手段を
駆動する為の駆動回路とを具備し、前記駆動回路は、前
記複数のセルに印加する画像信号を転送する為のスイッ
チと、シフトパルスを発生するシフトレジスタと、該シ
フトレジスタのシフトパルスの電圧を昇圧する昇圧回路
と、を含み、該昇圧回路の出力を該スイッチに入力する
ことにより該スイッチを駆動する液晶表示手段と、該液
晶表示手段に入力する該画像信号を供給する別個の画像
信号供給手段と、を有し、 前記昇圧回路は、第1のMOSトランジスタと第1のキ
ャパシタと第2のMOSトランジスタとから成り、第1
のMOSトランジスタのゲートとソースはシフトレジス
タの第1の出力に接続し、キャパシタの第1の電極はシ
フトレジスタの第2の出力に接続し、第2のMOSトラ
ンジスタのゲートはシフトレジスタの第3の出力に接続
し、ソースは独立に設けられたリセット電源線に接続さ
れ、第1のMOSトランジスタのドレインと第1のキャ
パシタの第2の電極と第2のMOSトランジスタのドレ
インは互いに接続されていることを特徴とする 画像情報
処理装置。
5. A liquid crystal display device in which a plurality of cells each having a liquid crystal and an active element are arranged two-dimensionally, and a drive circuit for driving the display device, wherein the drive circuit includes the plurality of cells. Including a switch for transferring an image signal to be applied to the shift register, a shift register for generating a shift pulse, and a booster circuit for boosting the voltage of the shift pulse of the shift register. The output of the booster circuit is input to the switch. The liquid crystal display means for driving the switch, and a separate image signal supply means for supplying the image signal to be input to the liquid crystal display means , wherein the booster circuit includes a first MOS transistor and a second MOS transistor. 1 key
A first MOS transistor and a first MOS transistor.
The gate and source of the MOS transistor are shifted
The first electrode of the capacitor is connected to the first output of the
Connected to the second output of the
The gate of the transistor is connected to the third output of the shift register
The source is connected to an independently provided reset power line.
And the drain of the first MOS transistor and the first capacitor.
Drain of the second electrode of the capacitor and the second MOS transistor
The image information processing apparatuses are connected to each other .
【請求項6】 液晶とアクティブ素子とを有するセルの
複数を2次元状に配置した液晶表示手段と該表示手段を
駆動する為の駆動回路とを具備し、前記駆動回路は、前
記複数のセルに印加する画像信号を転送する為のスイッ
チと、シフトパルスを発生するシフトレジスタと、該シ
フトレジスタのシフトパルスの電圧を昇圧する昇圧回路
と、を含み、該昇圧回路の出力を該スイッチに入力する
ことにより該スイッチを駆動する液晶表示手段と、該液
晶表示手段に入力する該画像信号を供給する別個の画像
信号供給手段と、を有し、 前記昇圧回路は、第4のMOSトランジスタと第5のM
OSトランジスタと第6のMOSトランジスタと第2の
キャパシタを持ち、第4のMOSトランジスタのソース
は電源線に接続され、ゲートはシフトレジスタの第1出
力端子に接続され、第4のMOSトランジスタのドレイ
ンと第5のMOSトランジスタのソースとゲートと、第
2のキャパシタの第1電極は互いに接続されている。第
2のキャパシタの第2電極はシフトレジスタの第2出力
端子に接続され、第6のMOSトランジスタのソースは
リセット電源線に接続され、ゲートはシフトレジスタの
第3出力端子に接続され、第5、第6のMOSトランジ
スタのドレインは互いに接続 されていることを特徴とす
画像情報処理装置。
6. A liquid crystal display device in which a plurality of cells each having a liquid crystal and an active element are two-dimensionally arranged, and a drive circuit for driving the display device, wherein the drive circuit includes the plurality of cells. Including a switch for transferring an image signal to be applied to the shift register, a shift register for generating a shift pulse, and a booster circuit for boosting the voltage of the shift pulse of the shift register. The output of the booster circuit is input to the switch. a liquid crystal display means for driving said switch by, anda separate the image signal supply means for supplying the image signal to be input to the liquid crystal display unit, the booster circuit includes a fourth MOS transistor first M of 5
The OS transistor, the sixth MOS transistor, and the second
With a capacitor, the source of the fourth MOS transistor
Is connected to the power supply line, and the gate is the first output of the shift register.
And the drain of the fourth MOS transistor
And the source and gate of the fifth MOS transistor,
The first electrodes of the two capacitors are connected to each other. No.
The second electrode of the second capacitor is the second output of the shift register
Terminal of the sixth MOS transistor
Connected to the reset power supply line and the gate is
The fifth and sixth MOS transistors are connected to the third output terminal.
The drains of the transistors are connected to each other .
That image information processing apparatus.
【請求項7】 前記画像情報処理装置は更に前記画像信
号の基になる情報を発生するイメージセンサーを有する
ことを特徴とする請求項5又は6に記載の画像情報処理
装置。
7. The image information processing apparatus according to claim 5, wherein the image information processing apparatus further includes an image sensor that generates information based on the image signal.
【請求項8】 前記画像情報処理装置は更に前記画像信
号に応じた情報を記録媒体に記録する記録手段を有する
ことを特徴とする請求項5ないし7のうちのいずれか1
項に記載の画像情報処理装置。
8. The image information processing apparatus according to claim 5, further comprising a recording unit that records information corresponding to the image signal on a recording medium.
An image information processing apparatus according to any one of the preceding claims.
【請求項9】 液晶とアクティブ素子とを有するセルの
複数を2次元状に配置した液晶表示手段と該表示手段を
駆動する為の駆動回路とを具備する液晶表示素子におい
て、 前記駆動回路は、前記複数のセルに印加する画像信号を
転送する為のスイッチアレイと、該スイッチアレイを順
次駆動する為の時系列パルスを発生するパルス発生回路
とを含む駆動回路であって、 前記パルス発生回路は、シフトパルスを発生するシフト
レジスタと、シフトパルスの電圧を昇圧し、前記時系列
パルスを形成する昇圧回路とを含み、前記昇圧回路は、
第1のMOSトランジスタと第1のキャパシタと第2の
MOSトランジスタとから成り、第1のMOSトランジ
スタのゲートとソースはシフトレジスタの第1の出力に
接続し、キャパシタの第1の電極はシフトレジスタの第
2の出力に接続し、第2のMOSトランジスタのゲート
はシフトレジスタの第3の出力に接続し、ソースは独立
に設けられたリセット電源線に接続され、第1のMOS
トランジスタのドレインと第1のキャパシタの第2の電
極と第2のMOSトランジスタのドレインは互いに接続
され、 前記信号を該スイッチアレイに入力する為の信号線が複
数設けられており、前記時系列パルスを時系列的に少な
くとも一部オーバーラップさせて前記スイッチアレイに
入力することを特徴とする液晶表示素子。
9. A liquid crystal display device comprising: liquid crystal display means in which a plurality of cells each having a liquid crystal and an active element are two-dimensionally arranged; and a drive circuit for driving the display means. A drive circuit including a switch array for transferring image signals to be applied to the plurality of cells, and a pulse generation circuit for generating a time-series pulse for sequentially driving the switch array , wherein the pulse generation circuit is Shift, generate shift pulse
The voltage of the register and the shift pulse are boosted, and the time series
A booster circuit for forming a pulse, wherein the booster circuit includes:
A first MOS transistor, a first capacitor, and a second
A first MOS transistor
The gate and source of the star are connected to the first output of the shift register.
And the first electrode of the capacitor is the
2 and the gate of the second MOS transistor
Is connected to the third output of the shift register and the source is independent
Connected to the reset power supply line provided in the first MOS
The drain of the transistor and the second capacitor of the first capacitor
The pole and the drain of the second MOS transistor are connected to each other
And a plurality of signal lines for inputting the signals to the switch array, wherein the time-series pulses are input to the switch array at least partially overlapped in a time-series manner. Display element.
【請求項10】 液晶とアクティブ素子とを有するセル
の複数を2次元状に配置した液晶表示手段と該表示手段
を駆動する為の駆動回路とを具備する液晶表示素子にお
いて、 前記駆動回路は、前記複数のセルに印加する画像信号を
転送する為のスイッチアレイと、該スイッチアレイを順
次駆動する為の時系列パルスを発生するパルス発生回路
とを含む駆動回路であって、 前記パルス発生回路は、シフトパルスを発生するシフト
レジスタと、シフトパルスの電圧を昇圧し、前記時系列
パルスを形成する昇圧回路とを含み、前記昇圧回路は第
4のMOSトランジスタと第5のMOSトランジスタと
第6のMOSトランジスタと第2のキャパシタを持ち、
第4のMOSトランジスタのソースは電源線に接続さ
れ、ゲートはシフトレジスタの第1出力端子に接続さ
れ、第4のMOSトランジスタのドレインと第5のMO
Sトランジスタのソースとゲートと、第2のキャパシタ
の第1電極は互いに接続されている。第2のキャパシタ
の第2電極はシフトレジスタの第2出力端子に接続さ
れ、第6のMOSトランジスタのソースはリセット電源
線に接続され、ゲートはシフトレジスタの第3出力端子
に接続され、第5、第6のMOSトランジスタのドレイ
ンは互いに接続され、 前記信号を該スイッチアレイに入力する為の信号線が複
数設けられており、前記時系列パルスを時系列的に少な
くとも一部オーバーラップさせて前記スイッチアレイに
入力することを特徴とする液晶表示素子。
10. A liquid crystal display device comprising: a liquid crystal display means in which a plurality of cells each having a liquid crystal and an active element are two-dimensionally arranged; and a drive circuit for driving the display means. A drive circuit including a switch array for transferring image signals to be applied to the plurality of cells, and a pulse generation circuit for generating a time-series pulse for sequentially driving the switch array , wherein the pulse generation circuit is Shift, generate shift pulse
The voltage of the register and the shift pulse are boosted, and the time series
And a booster circuit for forming a pulse.
Fourth MOS transistor and fifth MOS transistor
Having a sixth MOS transistor and a second capacitor,
The source of the fourth MOS transistor is connected to the power supply line.
And the gate is connected to the first output terminal of the shift register.
And the drain of the fourth MOS transistor and the fifth MO
A source and a gate of the S transistor, and a second capacitor
Are connected to each other. Second capacitor
Of the shift register is connected to the second output terminal of the shift register.
The source of the sixth MOS transistor is a reset power supply.
Line, the gate is the third output terminal of the shift register
And drains of the fifth and sixth MOS transistors
Are connected to each other and provided with a plurality of signal lines for inputting the signals to the switch array, and inputting the time-series pulses to the switch array at least partially overlapping in time series. Characteristic liquid crystal display element.
【請求項11】 前記信号は複数の色分解信号であるこ
とを特徴とする請求項9又は10に記載の液晶表示素
子。
11. The liquid crystal display device according to claim 9, wherein the signal is a plurality of color separation signals.
【請求項12】 液晶とアクティブ素子とを有するセル
の複数を2次元状に配置した液晶表示手段と該表示手段
を駆動する為の駆動回路とを具備し、前記駆動回路は、
前記複数のセルに印加する画像信号を転送する為のスイ
ッチアレイと、該スイッチアレイを順次駆動する為の
系列パルスを発生するパルス発生回路とを含み、前記信
号を該スイッチアレイに入力する為の信号線が複数設け
られており、前記時系列パルスを時系列的に少なくとも
一部オーバーラップさせて前記スイッチアレイに入力す
る液晶表示手段と、 該液晶表示手段に入力する該画像信号を供給する別個の
画像信号供給手段と、を有し、 前記パルス発生回路は、シフトパルスを発生するシフト
レジスタと、シフトパルスの電圧を昇圧し、前記時系列
パルスを形成する昇圧回路とを含み、前記昇圧回路は、
第1のMOSトランジスタと第1のキャパシタと第2の
MOSトランジス タとから成り、第1のMOSトランジ
スタのゲートとソースはシフトレジスタの第1の出力に
接続し、キャパシタの第1の電極はシフトレジスタの第
2の出力に接続し、第2のMOSトランジスタのゲート
はシフトレジスタの第3の出力に接続し、ソースは独立
に設けられたリセット電源線に接続され、第1のMOS
トランジスタのドレインと第1のキャパシタの第2の電
極と第2のMOSトランジスタのドレインは互いに接続
されていることを特徴とする 画像情報処理装置。
12. A liquid crystal display device in which a plurality of cells each having a liquid crystal and an active element are arranged two-dimensionally, and a drive circuit for driving the display device, wherein the drive circuit comprises:
A switch array for transferring the image signal to be applied to the plurality of cells, when for sequentially driving the switch array
A pulse generating circuit for generating a series pulse , wherein a plurality of signal lines for inputting the signal to the switch array are provided, and the switch is configured to at least partially overlap the time series pulse in a time series. Liquid crystal display means for inputting to the array, and separate image signal supply means for supplying the image signal to be input to the liquid crystal display means , wherein the pulse generation circuit generates a shift pulse.
The voltage of the register and the shift pulse are boosted, and the time series
A booster circuit for forming a pulse, wherein the booster circuit includes:
A first MOS transistor, a first capacitor, and a second
It consists of a MOS transistor data, the first MOS transients
The gate and source of the star are connected to the first output of the shift register.
And the first electrode of the capacitor is the
2 and the gate of the second MOS transistor
Is connected to the third output of the shift register and the source is independent
Connected to the reset power supply line provided in the first MOS
The drain of the transistor and the second capacitor of the first capacitor
The pole and the drain of the second MOS transistor are connected to each other
An image information processing apparatus, comprising:
【請求項13】 液晶とアクティブ素子とを有するセル
の複数を2次元状に配置した液晶表示手段と該表示手段
を駆動する為の駆動回路とを具備し、前記駆動回路は、
前記複数のセルに印加する画像信号を転送する為のスイ
ッチアレイと、該スイッチアレイを順次駆動する為の
系列パルスを発生するパルス発生回路とを含み、前記信
号を該スイッチアレイに入力する為の信号線が複数設け
られており、前記時系列パルスを時系列的に少なくとも
一部オーバーラップさせて前記スイッチアレイに入力す
る液晶表示手段と、 該液晶表示手段に入力する該画像信号を供給する別個の
画像信号供給手段と、を有し、 前記パルス発生回路は、シフトパルスを発生するシフト
レジスタと、シフトパルスの電圧を昇圧し、前記時系列
パルスを形成する昇圧回路とを含み、前記昇圧回路は、
第4のMOSトランジスタと第5のMOSトランジスタ
と第6のMOSトランジスタと第2のキャパシタを持
ち、第4のMOSトランジスタのソースは電源線に接続
され、ゲートはシフトレジスタの第1出力端子に接続さ
れ、第4のMOSトランジスタのドレインと第5のMO
Sトランジスタのソースとゲートと、第2のキャパシタ
の第1電極は互いに接続されている。第2のキャパシタ
の第2電極はシフトレジスタの第2出力端子に接続さ
れ、第6のMOSトランジスタのソースはリセット電源
線に接続され、ゲートはシフトレジスタの第3出力端子
に接続され、第5、第6のMOSトランジスタのドレイ
ンは互いに接続されていることを特徴とする 画像情報処
理装置。
13. A liquid crystal display device in which a plurality of cells each having a liquid crystal and an active element are arranged two-dimensionally, and a drive circuit for driving the display device, wherein the drive circuit comprises:
A switch array for transferring the image signal to be applied to the plurality of cells, when for sequentially driving the switch array
A pulse generation circuit that generates a series pulse, and a plurality of signal lines for inputting the signal to the switch array are provided. Liquid crystal display means for inputting to the array, and separate image signal supply means for supplying the image signal to be input to the liquid crystal display means , wherein the pulse generation circuit generates a shift pulse.
The voltage of the register and the shift pulse are boosted, and the time series
A booster circuit for forming a pulse, wherein the booster circuit includes:
Fourth MOS transistor and fifth MOS transistor
And a sixth MOS transistor and a second capacitor.
The source of the fourth MOS transistor is connected to the power supply line
And the gate is connected to the first output terminal of the shift register.
And the drain of the fourth MOS transistor and the fifth MO
A source and a gate of the S transistor, and a second capacitor
Are connected to each other. Second capacitor
Is connected to the second output terminal of the shift register.
The source of the sixth MOS transistor is a reset power supply.
Line, the gate is the third output terminal of the shift register
And the drains of the fifth and sixth MOS transistors
The image information processing apparatuses are connected to each other .
【請求項14】 前記画像情報処理装置は更に前記画像
信号の基になる情報を発生するイメージセンサーを有す
ることを特徴とする請求項12又は13に記載の画像情
報処理装置。
14. The image information processing apparatus according to claim 12 or 13, characterized in that it has an image sensor for generating the image information processing apparatus is further based on the image signal information.
【請求項15】 前記画像情報処理装置は更に前記画像
信号に応じた情報を記録媒体に記録する記録手段を有す
ることを特徴とする請求項12ないし14のうちのいず
れか1項に記載の画像情報処理装置。
15. The image processing apparatus according to claim 12, wherein the image information processing apparatus further includes a recording unit that records information corresponding to the image signal on a recording medium.
The image information processing apparatus according to claim 1.
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