JP3242830B2 - Color filter density measurement method - Google Patents

Color filter density measurement method

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JP3242830B2
JP3242830B2 JP4340496A JP4340496A JP3242830B2 JP 3242830 B2 JP3242830 B2 JP 3242830B2 JP 4340496 A JP4340496 A JP 4340496A JP 4340496 A JP4340496 A JP 4340496A JP 3242830 B2 JP3242830 B2 JP 3242830B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、色フィルタ基板
の色の濃さを光により測定する色フィルタの濃度測定
法に関するもので、例えば液晶表示板などに用いられる
3色フィルタ特性を1枚の基板上に有する色フィルタ基
板の色の濃さを測定するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for measuring the density of a color filter for measuring the color density of a color filter substrate using light.
But about the law, for example, it is to measure the color density of a color filter substrate having a three-color filter characteristics for use in a liquid crystal display panel on one substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】以下の説明において、液晶表示板に使用
される赤色、緑色および青色の3色のフィルタ基板、す
なわちR−G−B3色フィルタ基板を例として説明す
る。図7は、R−G−B3色フィルタ基板の一般的な製
造工程を示す説明図であり、これを用いて説明する。 (1)図7(a)に示すように透明基板11にブラック
マトリックス層(以下、BM層という)12を生成す
る。BM層12は通常金属層であり、その形状はR−G
−B各画素となる部分の輪郭を構成するものである。
尚、このBM層12は本発明と直接関係しないのでその
製造方法についての説明は省略する。 (2)透明基板11にBM層12を生成した後、図7
(b)に示すようにR色フィルタ層13を透明基板11
上に一面に、かつ均一に塗布する。 (3)その後写真エッチング技術により、図7(c)に
示すように不要な部分を除去する。これにより必要とな
る部分にのみR色画素23が形成される。 (4)透明基板11にR色画素23を形成した後、図7
(d)に示すようにG色フィルタ層14を透明基板11
上に一面に、かつ均一に塗布する。 (5)その後写真エッチング技術により、図7(e)に
示すように不要な部分を除去する。これにより必要とな
る部分にのみG色画素24となる部分が形成されるので
R−Gの各画素が互いに隣接して形成される。 (6)透明基板11にR画素23並びにG画素24を形
成した後、図7(f)に示すようにB色フィルタ層15
を透明基板11上に一面に、かつ均一に塗布する。 (7)その後写真エッチング技術により、図7(g)に
示すように不要な部分を除去する。これにより必要とな
る部分にのみB色画素25となる部分が形成されるので
R−G−Bの各画素が形成される。 (8)この後さらに透明電極の生成などの工程があるが
本発明に直接関係しないのでその工程を省略する。上記
R−G−Bの3色画素を同一基板上に設けた色フィルタ
基板2が完成すると、この色フィルタ基板2は検査工程
において、良品であるか否かを検査する。
2. Description of the Related Art In the following description, a filter substrate of three colors of red, green and blue used for a liquid crystal display panel, that is, an RGB three-color filter substrate will be described as an example. FIG. 7 is an explanatory view showing a general manufacturing process of the RGB three-color filter substrate, and the description will be given using this. (1) As shown in FIG. 7A, a black matrix layer (hereinafter, referred to as a BM layer) 12 is formed on a transparent substrate 11. The BM layer 12 is usually a metal layer, and its shape is RG
-B Constructs the outline of the portion that will be each pixel.
Since the BM layer 12 is not directly related to the present invention, the description of the manufacturing method is omitted. (2) After forming the BM layer 12 on the transparent substrate 11, FIG.
As shown in (b), the R color filter layer 13 is
Apply evenly over the top and evenly. (3) Then, unnecessary portions are removed by a photo-etching technique as shown in FIG. As a result, the R color pixels 23 are formed only in the necessary portions. (4) After forming the R color pixel 23 on the transparent substrate 11, FIG.
As shown in (d), the G color filter layer 14 is formed on the transparent substrate 11.
Apply evenly over the top and evenly. (5) Then, unnecessary portions are removed by a photo-etching technique as shown in FIG. As a result, a portion to be the G color pixel 24 is formed only in a necessary portion, so that the R-G pixels are formed adjacent to each other. (6) After forming the R pixel 23 and the G pixel 24 on the transparent substrate 11, as shown in FIG.
Is uniformly applied on the transparent substrate 11 over the entire surface. (7) Then, unnecessary portions are removed by a photo etching technique as shown in FIG. As a result, a portion that becomes the B-color pixel 25 is formed only in a necessary portion, so that each of the RGB pixels is formed. (8) After this, there are further steps such as formation of a transparent electrode, but these steps are omitted because they are not directly related to the present invention. When the color filter substrate 2 in which the three colors of R, G, and B pixels are provided on the same substrate is completed, whether or not the color filter substrate 2 is non-defective is inspected in an inspection process.

【0003】R−G−Bの3色のフィルタ部の各色の光
透過率は例えば図8に示す特性を有している。一般に、
R−G−B3色フィルタ基板の一方の面から白色光を照
射し、他方の面側への透過光量を各画素毎に測定するこ
とにより、各色の色の濃さを測定できることが理論的に
知られている。この従来の方法において、例えばR色画
素のフィルタ膜厚が倍になったことで色の濃さが濃くな
った場合を考える。R色画素を透過する光は赤色であ
り、赤色光の透過率が90%であったとする。これが2
倍の膜厚となると透過光量は、 90%×90%=81% であり、光量変化で言えば膜厚が2倍となったことでそ
の前後の比は、 90:81=10:9 であり、変化量は1割と見ることができる。上記計算例
では膜厚が2倍に変わったときのものであるが、膜厚が
数%変わった場合には上記光量変化は極めて微小となり
膜厚変化などで生ずる僅かな色の濃さの変化を高精度で
測定することができない。
The light transmittance of each color of the R, G, and B filters has, for example, the characteristics shown in FIG. In general,
It is theoretically possible to measure the color density of each color by irradiating white light from one surface of the RGB three-color filter substrate and measuring the amount of transmitted light to the other surface for each pixel. Are known. In this conventional method, for example, consider a case where the color density is increased by doubling the filter film thickness of the R color pixel. It is assumed that the light transmitted through the R pixel is red and the transmittance of the red light is 90%. This is 2
When the film thickness becomes twice as large, the transmitted light amount is 90% × 90% = 81%. In terms of the change in light amount, the film thickness is doubled, and the ratio before and after the film thickness is 90: 81 = 10: 9. Yes, the change can be regarded as 10%. In the above calculation example, the film thickness changes twice, but when the film thickness changes by several percent, the change in the amount of light becomes extremely small and a slight change in color density caused by a change in film thickness or the like. Cannot be measured with high accuracy.

【0004】また、色の濃さを均一にするために、塗布
されるフィルタ材料の原料管理を行い、塗布された各色
の膜厚を管理するなどの手段を施すことがある。しか
し、これらは代用特性でありフィルタの色の濃さを直接
測定していないので、誤差要因を含み、安定した品質で
大量に色フィルタ基板を作成する上で障害があった。
[0004] In addition, in order to make the color density uniform, there are cases where means for controlling the material of the applied filter material and controlling the film thickness of each applied color are used. However, since these are substitute characteristics and the color density of the filter is not directly measured, there is an error factor, and there is an obstacle in producing a large amount of color filter substrates with stable quality.

【0005】さらに、工程上の異常があったときには多
数の不良品が製造される危険性があるのでこれを避ける
には、各色フィルタを塗布した直後にその場でその色の
濃さを測定し、異常があった場合にはその結果をもとに
迅速に対策をとれることが望ましい。もちろんその色フ
ィルタの色の濃さを測定するに当たっては代用特性では
ない光学的な測定が望ましい。しかし、色フィルタ塗布
工程近傍で写真エッチング技術により光感光性の材料を
使用している場合、その工程近傍も含めて紫外線、青系
統の光の発生並びに照射は禁止されている。このような
場合には紫外線、青系統の光の発生や照射のない光源の
み、例えばイエローライトと称される黄色発光蛍光灯の
みの環境下で測定を行う必要がある。従って、従来の方
法ではB色の測定は青系統の光を照射する必要があり採
用できず、B色の測定は工程上の基板を工程外に取り出
しイエロールーム外で光学的な測定を行う必要があっ
た。
Further, when there is an abnormality in the process, there is a risk that a large number of defective products may be manufactured. To avoid this, the color density is measured immediately after the application of each color filter. If there is an abnormality, it is desirable to take prompt measures based on the result. Of course, in measuring the color density of the color filter, optical measurement which is not a substitute characteristic is desirable. However, when a photosensitive material is used by a photo-etching technique in the vicinity of the color filter coating process, generation and irradiation of ultraviolet and blue light are prohibited, including in the vicinity of the process. In such a case, it is necessary to perform the measurement in an environment of only a light source that does not generate or irradiate ultraviolet or blue light, for example, only a yellow light-emitting fluorescent lamp called a yellow light. Therefore, in the conventional method, it is necessary to irradiate blue light for the measurement of B color, and it cannot be adopted. For the measurement of B color, it is necessary to take out the substrate in the process out of the process and perform the optical measurement outside the yellow room. was there.

【0006】このように、イエローライト環境下で使用
できるR−G−B3色の色の濃さを測定する測定方法並
びに測定器が求められていたが、従来この種測定装置は
見当たらない。
As described above, there has been a demand for a measuring method and a measuring device for measuring the color density of the three colors RGB which can be used in an environment of yellow light, but no such measuring device has been hitherto found.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上述のように、色の濃
さを均一にするために、塗布されるフィルタ材料の原料
管理を行ったり塗布された各色の膜厚を管理するなどの
手段は、フィルタの色の濃さを直接測定していないの
で、誤差要因を含み、安定した品質で大量に色フィルタ
基板を作成する上で障害があり、また、フィルタ材料が
塗布される環境がイエロールーム環境の場合、紫外線並
びに青系統の光の照射が禁止されているのでフィルタ材
料が塗布された直後に色の濃さを光学的に測定出来ない
などの課題があった。
As described above, in order to make the color density uniform, means for controlling the raw material of the applied filter material and managing the film thickness of each applied color are not available. Because the color density of the filter is not directly measured, it includes error factors, hinders the production of a large number of color filter substrates with stable quality, and the environment in which the filter material is applied is a yellow room. In the case of the environment, irradiation of ultraviolet light and blue light is prohibited, so that there is a problem that the color density cannot be measured optically immediately after the filter material is applied.

【0008】この発明は上記のような課題を解決するた
めになされたもので、各色フィルタを塗布した直後にそ
の場でその色の濃さを測定でき、イエローライト環境下
においても周囲に影響を与えずに直接光学的に色の濃さ
を極めて高精度、かつ高感度で測定する色フィルタの濃
度測定方法を得ることを目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is possible to measure the color density on the spot immediately after applying each color filter, and to affect the surroundings even under a yellow light environment. An object of the present invention is to provide a color filter density measuring method for directly measuring optical color density with extremely high accuracy and high sensitivity without giving it.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】この発明に係る色フィル
タの濃度測定方法は、可視光のうち第1の波長領域で光
透過率が高い第1の色フィルタ層を有する第1の部分
と、上記第1の色フィルタ層と、この第1の色フィルタ
層と透明基板との間に設けられ、可視光のうち第2の波
長領域で光透過率が高い第2の色フィルタ層とを有する
第2の部分とから成る色フィルタ基板の一方の面側から
この色フィルタ基板に光を照射し、上記色フィルタ基板
の他方の面側に配置された受光手段により、上記色フィ
ルタ基板を通過した光のうち上記第1の波長領域以外の
所定域の波長の光量を測定し、上記受光手段に接続され
た演算手段により上記受光手段の出力から上記第1の部
分の色の濃さを演算するするものである。
A color filter according to the present invention is provided.
The method for measuring the density of the first portion includes a first portion having a first color filter layer having a high light transmittance in a first wavelength region of visible light.
And the first color filter layer, and the first color filter
A second wave of visible light provided between the layer and the transparent substrate.
A second color filter layer having a high light transmittance in a long region.
From one side of the color filter substrate and a second portion
The color filter substrate is irradiated with light, and light receiving means arranged on the other surface side of the color filter substrate causes light out of the light having passed through the color filter substrate other than the first wavelength region to pass therethrough .
The light amount of the wavelength in a predetermined range is measured, and the calculation unit connected to the light receiving unit outputs the first part from the output of the light receiving unit.
This is to calculate the density of the minute color.

【0010】この発明に係る色フィルタの濃度測定方法
は、可視光のうち第1の波長領域で光透過率が高い第1
の色フィルタ層を有する第1の部分と、上記第1の色フ
ィルタ層と、この第1の色フィルタ層と透明基板との間
に設けられ、可視光のうち第2の波長領域で光透過率が
高い第2の色フィルタ層とを有する第2の部分とから成
る色フィルタ基板の一方の面側からこの色フィルタ基板
に光を照射し、上記色フィルタ基板の他方の面側に配置
された受光手段により、上記色フィルタ基板を通過した
光のうち上記第1の波長領域以外で、且つ上記第2の波
長領域以外の所定域の波長の光量を測定し、上記受光手
段に接続された演算手段により上記受光手段の出力から
上記第1の部分の色の濃さを演算するものである。
The method for measuring the density of a color filter according to the present invention includes a method of measuring a first light having a high light transmittance in a first wavelength region of visible light .
A first portion having a first color filter layer ;
Between the first color filter layer and the transparent substrate.
Provided, the second part the color filter substrate from one surface side of the color filter substrate comprising a <br and a second second color filter layer having a high light transmittance in the wavelength region of visible light />, And light receiving means arranged on the other surface side of the color filter substrate, the light having passed through the color filter substrate other than the first wavelength region and the second wave
The amount of light having a wavelength in a predetermined region other than the long region is measured, and the color density of the first portion is calculated from the output of the light receiving means by the calculating means connected to the light receiving means.

【0011】この発明に係る色フィルタの濃度測定方法
は、可視光のうち第1の波長領域で光透過率が高い第1
の色フィルタ層を有する第1の部分と、上記第1の色フ
ィルタ層と、この第1の色フィルタ層と透明基板との間
に設けられ、可視光のうち第2の波長領域で光透過率が
高い第2の色フィルタ層とを有する第2の部分と、上記
第1の色フィルタ層と、この第1の色フィルタ層と透明
基板との間に設けられ 、可視光のうち第3の波長領域で
光透過率が高い第3の色フィルタ層を有する第3の部分
とから成る色フィルタ基板の一方の面側からこの色フィ
ルタ基板に光を照射し、上記色フィルタ基板の他方の面
側に配置された受光手段により、上記色フィルタ基板を
通過した光のうち上記第1の波長領域以外の所定域の波
長の光量を測定し、上記受光手段に接続された演算手段
により上記受光手段の出力から上記第1の部分の色の濃
さを演算するものである。
According to the method for measuring the density of a color filter according to the present invention, a first filter having a high light transmittance in a first wavelength region of visible light is used .
A first portion having a first color filter layer;
Between the first color filter layer and the transparent substrate.
A second portion having a second color filter layer having a high light transmittance in a second wavelength region of visible light ;
A first color filter layer and the first color filter layer
Provided between the substrate and the third wavelength region of visible light.
The color from one side of the color filter substrate comprising a third portion <br/> having a light transmittance higher third color filter layer Fi
The filter substrate is irradiated with light, and a light receiving unit disposed on the other surface side of the color filter substrate is used to detect a wave of a predetermined region other than the first wavelength region in the light passing through the color filter substrate.
The long light quantity is measured, and the color density of the first portion is calculated from the output of the light receiving means by the calculating means connected to the light receiving means.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の一形態を
液晶表示板に使用されるR−G−B3色フィルタ基板を
例として説明する。 実施の形態1. 図1はこの発明の実施の形態1による色フィルタの濃度
測定装置の構成を示す正面図であり、図2はこの発明の
実施の形態1による色フィルタの濃度測定装置の構成を
示す斜視図である。図1および図2において、1は測定
対象である色フィルタ基板、2はこの色フィルタ基板1
の一方の面側に設けた投光手段であり、例えばイエロー
光を発生する灯器により構成される。3は色フィルタ基
板1の他方の面側に設けられ、投光手段2と色フィルタ
基板1を介して光学的に対向する受光手段、4は受光手
段3の出力から色フィルタ基板1の濃度を演算する演算
手段である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to an RGB three-color filter substrate used for a liquid crystal display panel as an example. Embodiment 1 FIG. FIG. 1 is a front view showing a configuration of a color filter density measuring apparatus according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is a perspective view showing a configuration of a color filter density measuring apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. is there. 1 and 2, reference numeral 1 denotes a color filter substrate to be measured, and 2 denotes the color filter substrate 1.
The light projecting means is provided on one side of the light emitting device, and is constituted by, for example, a lamp for generating yellow light. Numeral 3 is provided on the other surface side of the color filter substrate 1, and is a light receiving unit optically opposed to the light projecting unit 2 via the color filter substrate 1, and 4 is a device for detecting the density of the color filter substrate 1 from the output of the light receiving unit 3. It is an operation means for performing an operation.

【0013】 次に、色フィルタの濃度測定方法について
説明する。図3はこの発明の実施の形態1による色フィ
ルタの濃度測定装置の具体的構成図であり、図3に示す
ように色フィルタ基板1が所定の速度で搬送されてお
り、色フィルタ基板1の通路の上方に投光手段2として
線状光源が配され、色フィルタ基板1の通路の下方に投
光手段2と対向して受光手段3が配されている。この場
合に色濃度測定のフローチャートを示すと図4のように
なる。
[0013] Next, a description will be given of concentration measurement method of the color filter. FIG. 3 is a specific configuration diagram of the color filter density measuring device according to Embodiment 1 of the present invention. As shown in FIG. 3, the color filter substrate 1 is conveyed at a predetermined speed. A linear light source is disposed above the passage as the light projecting unit 2, and a light receiving unit 3 is disposed below the passage of the color filter substrate 1 so as to face the light projecting unit 2. FIG. 4 shows a flowchart of the color density measurement in this case.

【0014】 このフローチャートを用いて色フィルタの
濃度測定方法を説明すると、先ず、投光手段2より受光
手段3に光を照射する(ステップ1)。次に、色フィル
タ基板1が投光手段2からの光の照射位置に進入したこ
とを検知する(ステップ2)。そして、受光手段3によ
り投光手段2からの光が色フィルタ基板1を通過した光
のうち光透過率の低い波長の光量を測定する(ステップ
3)。そして、色フィルタ基板1の通過完了を検知する
(ステップ4)。そして、演算手段4により受光手段3
の出力から色フィルタ基板1の色の濃さを演算する(ス
テップ5)。必要に応じてステップ2の前に戻り、上記
動作を繰り返す。
The method for measuring the density of the color filter will be described with reference to this flowchart. First, light is emitted from the light projecting means 2 to the light receiving means 3 (step 1). Next, it is detected that the color filter substrate 1 has entered the irradiation position of the light from the light projecting means 2 (step 2). The light receiving unit 3 measures the amount of light having a low light transmittance among the light from the light projecting unit 2 passing through the color filter substrate 1 (step 3). Then, completion of passage of the color filter substrate 1 is detected (step 4). Then, the light receiving means 3 is calculated by the arithmetic means 4.
Then, the color density of the color filter substrate 1 is calculated from the output (step 5). Returning to step 2 as necessary, the above operation is repeated.

【0015】 次に、上記図7に示したR−G−B3色フ
ィルタ基板の製造工程において、図7(b)で示したよ
うに、R色フィルタ層13を透明基板11上に塗布した
直後のR色フィルタ層13の色の濃さを測定する場合の
濃度測定について説明する。測定対象は図7(b)に示
すように透明基板11にBM層12があり、これらの上
面にR色フィルタ層13が塗布されている。このR色フ
ィルタ層13は図8に示すように、赤の波長の光を良く
通すが、それ以外の可視光をほとんど通さない。従っ
て、従来の色フィルタの濃度測定方法では白色光をこの
フィルタに照射し、その透過光量の変化から色の濃さを
測定していたが、透過光の主たる成分が透過率の高い波
長の光であればその色の濃さを想定できるので、光源を
白色光から例えば赤色光に変更してもその光量変化の程
度はほぼ同様と考えられる。
Next, the R-G-B3 color filter substrate manufacturing process shown in FIG 7, as shown in FIG. 7 (b), the coated and R color filter layer 1 3 on the transparent substrate 11 The density measurement when measuring the color density of the R color filter layer 13 immediately after will be described. As shown in FIG. 7B, the measurement target has a BM layer 12 on a transparent substrate 11, and an R color filter layer 13 is applied on the BM layer 12. As shown in FIG. 8, the R color filter layer 13 transmits light of a red wavelength well, but hardly transmits other visible light. Therefore, in the conventional method for measuring the density of a color filter, white light is radiated to this filter, and the color density is measured from the change in the amount of transmitted light. However, the main component of the transmitted light is light of a wavelength having a high transmittance. Therefore, even if the light source is changed from white light to, for example, red light, the degree of the light amount change is considered to be substantially the same.

【0016】 今仮に図8に示す波長λ1の光が投光部よ
り照射されているとする。このとき、R色フィルタ層1
3の膜厚が2倍となったことで色が濃くなったとする
と、90%の透過率のフィルタを光が2回透過すると考
えればよいので、 90%×90%=81% の光量が得られることになる。光量変化で言えば膜厚が
2倍となったことでその前後の比は、 90:81=10:9 であり変化量は1割と見ることができる。これが従来の
光学的に色の濃さを測定するときの感度を与える指数と
なる。
It is now assumed that light having a wavelength λ1 shown in FIG. 8 is emitted from the light projecting portion. At this time, the R color filter layer 1
Assuming that the color becomes darker due to the doubling of the film thickness of No. 3, light can be considered to transmit twice through a filter having a transmittance of 90%, so that a light amount of 90% × 90% = 81% is obtained. Will be done. Speaking of the change in light amount, the ratio before and after the film thickness has doubled is 90: 81 = 10: 9, and the change amount can be regarded as 10%. This is an index that gives the sensitivity when the color density is optically measured in the related art.

【0017】 一方、この発明の実施の形態1は、透過率
の低い波長域の光、例えば図8に示す波長λ2の光をR
色フィルタ層13に照射して透過光量を測定する場合を
考える。波長λ2の光の透過率が10%とすると、膜厚
が2倍となったときにはその光量は同様に、 10%×10%=1% となる。膜厚が2倍となったことで光量変化で言えばそ
の前後の比は、10:1であり変化量は10倍と見るこ
とができる。このように、R色フィルタ層13の色の濃
さを光学的に測定するとき、R色フィルタ層13の透過
率の高い波長λ1の光の光量を測定する場合に比べて、
R色フィルタ層13の透過率の低い波長λ2の光の光量
を測定することで色の濃さの変化に対して極めて高感度
に検出することができる。
Meanwhile, the first embodiment of the invention, the low wavelength region transmittance light, for example light having a wavelength λ2 as shown in FIG. 8 R
A case where the amount of transmitted light is measured by irradiating the color filter layer 13 will be considered. Assuming that the transmittance of the light having the wavelength λ2 is 10%, when the film thickness is doubled, the light amount becomes 10% × 10% = 1%. As the film thickness is doubled, the ratio before and after the light amount change is 10: 1, and the change amount can be seen as 10 times. As described above, when the color density of the R color filter layer 13 is optically measured, compared with the case where the light amount of the light of the wavelength λ1 having a high transmittance of the R color filter layer 13 is measured,
By measuring the amount of light of the wavelength λ2 having a low transmittance of the R color filter layer 13, it is possible to detect the change in color density with extremely high sensitivity.

【0018】 以上は膜厚が2倍という例で説明したが、
要はその色の濃さに応じて光量が変化するので、これに
限る必要はなく、本原理の出力は人間の感ずる色の濃さ
に対応するものであればよい。透過率の低い波長領域を
選ぶにあたって例えば波長λ2の光のように青色域より
長波長を選ぶことによりイエローライト環境でもR色フ
ィルタ層13の色の濃さを測定できることが理解され
る。
In the above description, the film thickness is doubled.
The point is that the amount of light changes according to the color density, so there is no need to limit to this, and the output of the present principle may be any as long as it corresponds to the color density felt by humans. It is understood that the color density of the R-color filter layer 13 can be measured even in a yellow light environment by selecting a wavelength longer than the blue range, for example, light having a wavelength λ2 when selecting a wavelength region having a low transmittance.

【0019】 次に、上記図7に示したR−G−B3色フ
ィルタ基板の製造工程において、図7(d)で示したよ
うに、透明基板11にR色画素23を形成した後、G色
フィルタ層14を透明基板11上に均一に塗布した直後
にG色フィルタ層14の色の濃さを測定する場合につい
て説明する。この色フィルタ基板1は図7(d)に示さ
れるようにG色フィルタ層14の材料が基板の全面に一
様に塗布されているが、その下にはR色画素23が構成
されているので、G色フィルタ層14のみの部分とG色
フィルタ層14とR色画素23が積層されている部分と
が存在する。この場合には測定したいG色フィルタ層1
4の透過率の低い波長例えば図8のλ1の光の透過光量
を測定すればよい。G色フィルタ層14のみの部分を透
過する光とG色フィルタ層14とR色画素23が積層さ
れている部分を透過する光があるが、λ1の光はR色画
素23での減衰は少ないので、受光手段3に到達する光
量はG色フィルタ層14のみの部分を透過する光量にG
色フィルタ層14とR色画素23が積層されている部分
を透過する光量を加えた光量となり結果としてR色画素
23が無い場合の光量に近くなる。
Next, the R-G-B3 color filter substrate manufacturing process shown in FIG 7, as shown in FIG. 7 (d), the after forming the R Iroga element 2 3 on the transparent substrate 11 , it will be described for measuring the color intensity of the G color filter layer 14 immediately after uniformly coated on the G color filter layer 1 4 a transparent substrate 11. As shown in FIG. 7 (d), the material of the G color filter layer 14 is uniformly applied to the entire surface of the substrate of the color filter substrate 1, but the R color pixels 23 are formed thereunder. Therefore, there is a portion including only the G color filter layer 14 and a portion where the G color filter layer 14 and the R color pixel 23 are stacked. In this case, the G color filter layer 1 to be measured
It is sufficient to measure the amount of transmitted light of wavelength 4 having a low transmittance, for example, light of λ1 in FIG. Although there is light passing through only the G color filter layer 14 and light passing through the portion where the G color filter layer 14 and the R pixel 23 are stacked, the light of λ1 is less attenuated in the R pixel 23. Therefore, the amount of light reaching the light receiving means 3 is equal to the amount of light transmitted through only the G filter layer 14.
The light amount is obtained by adding the light amount transmitted through the portion where the color filter layer 14 and the R color pixel 23 are stacked, and as a result, the light amount becomes close to the light amount when the R color pixel 23 is not provided.

【0020】 このように、R色画素23があっても光量
の総量が減少しないので、受光手段3に到達する迷光の
影響が低減でき、その分だけノイズに対し強くなり、測
定精度の向上が期待できる。従って、総光量はG色フィ
ルタ層14の透過率の低い波長の光であるので、その色
の濃さの変化に対して極めて高感度に検出することがで
きる。この場合、透過率の低い波長領域を選ぶにあたっ
て、例えば波長λ1の光のように青色域より長波長を選
ぶことによりイエローライト環境でもG色フィルタ層1
4の濃さを測定できる。
[0020] Thus, since the amount of light intensity even with R color pixels 23 is not reduced, it is possible to reduce the influence of stray light reaching the light receiving unit 3, becomes stronger with respect to noise correspondingly, improvement in measurement accuracy Can be expected. Accordingly, since the total amount of light is light having a wavelength with a low transmittance of the G color filter layer 14, it can be detected with extremely high sensitivity to a change in the color density. In this case, when selecting a wavelength region having a low transmittance, for example, by selecting a wavelength longer than the blue region, such as light of wavelength λ1, the G color filter layer 1 can be formed even in a yellow light environment.
4 can be measured.

【0021】 次に、上記図7に示したR−G−B3色フ
ィルタ基板の製造工程において、図7(f)で示したよ
うに、透明基板11にR色画素23及びG色画素24を
形成した後、B色フィルタ層15を透明基板11上に均
一に塗布した直後にB色フィルタ層15の色の濃さを測
定する場合について説明する。この色フィルタ基板1は
図7(f)に示されるようにB色フィルタ層15材料が
基板の全面に一様に塗布されているが、その下にはR色
画素23及びG色画素24が構成されているので、B色
フィルタ層15のみの部分と、B色フィルタ層15とR
色画素23が積層されている部分と、B色フィルタ層1
5とG色画素24が積層されている部分とが存在する。
この場合でも本発明によれば極めて高感度に色の濃さを
測定できる。すなわち測定したいB色フィルタ層15の
透過率の低い波長、例えば図8の波長λ1の光ないしは
波長λ2の光の透過光量を測定すればよい。B色フィル
タ層15のみの部分を透過する光と、B色フィルタ層1
5とR色画素23が積層されている部分を透過する光
と、B色フィルタ層15とG色画素24が積層されてい
る部分を透過する光とがあるが、波長λ1の光は、R色
画素23での減衰は少ないので、受光手段3に到達する
光量はB色フィルタ層15のみの部分を透過する光量に
B色フィルタ層15とR色画素23が積層されている部
分を透過する光量を加えた光量となり、結果としてR色
画素23が無い場合の光量に近くなる。また、波長λ2
の光は、G色画素24での減衰は少ないので、受光手段
3に到達する光量はB色フィルタ層15のみの部分を透
過する光量にB色フィルタ層15とG色画素24が積層
されている部分を透過する光量を加えた光量となり、結
果としてG色画素24が無い場合の光量に近くなる。
Next, FIG. 7 in R-G-B3 color filter substrate manufacturing process shown in, as shown in FIG. 7 (f), R color pixel 23 to the transparent substrate 11 and the G Iroga element 2 The case where the color density of the B color filter layer 15 is measured immediately after the B color filter layer 15 is uniformly coated on the transparent substrate 11 after the formation of the layer 4 will be described. As shown in FIG. 7 (f), the color filter substrate 1 has a B color filter layer 15 material uniformly coated on the entire surface of the substrate, but below the R color pixels 23 and the G color pixels 24. Therefore, only the B color filter layer 15 and the B color filter layer 15
The portion where the color pixels 23 are stacked, and the B color filter layer 1
5 and a portion where the G color pixels 24 are stacked.
Even in this case, according to the present invention, the color density can be measured with extremely high sensitivity. That is, the transmitted light amount of a wavelength having a low transmittance of the B color filter layer 15 to be measured, for example, light having a wavelength λ1 or light having a wavelength λ2 in FIG. 8 may be measured. The light transmitted through only the B color filter layer 15 and the B color filter layer 1
5 and the R color pixel 23 are laminated, and the light transmitted through the B color filter layer 15 and the G pixel 24 are laminated. Since the attenuation at the color pixel 23 is small, the amount of light reaching the light receiving unit 3 is transmitted through the portion where the B color filter layer 15 and the R color pixel 23 are laminated to the amount of light transmitted through only the B color filter layer 15. The light amount is the light amount obtained by adding the light amount, and as a result, the light amount is close to the light amount when there is no R color pixel 23. In addition, the wavelength λ2
Since the light of the color (A) is less attenuated by the G color pixel 24, the amount of light reaching the light receiving means 3 is equal to the amount of light transmitted through only the B color filter layer 15, and the B color filter layer 15 and the G color pixel 24 The light amount is the light amount obtained by adding the light amount transmitted through the present portion, and as a result, the light amount is close to the light amount when there is no G color pixel 24.

【0022】 このように、R色画素23及びG色画素2
4があっても光量の総量が減少しないので、受光手段3
に到達する迷光の影響が低減できるなどノイズにそれだ
け強くなり測定精度の向上が期待できる。この場合の総
光量はB色フィルタ層15の透過率の低い波長の光であ
るのでその色の濃さの変化に対して極めて高感度に検出
することができる。透過率の低い波長領域を選ぶにあた
って、例えば波長λ1の光ないし波長λ2の光のように
青色域より長波長を選ぶことによりイエローライト環境
でもB色フィルタ層の濃さを測定できる。
[0022] Thus, R-color pixel 23 and the G-color pixel 2
4, the total amount of light does not decrease.
The effect of stray light arriving at the object can be reduced, so that the noise becomes stronger and the measurement accuracy can be improved. Since the total amount of light in this case is light having a wavelength at which the transmittance of the B color filter layer 15 is low, it can be detected with extremely high sensitivity to a change in the color density. In selecting a wavelength region having a low transmittance, for example, by selecting a wavelength longer than the blue region, such as light of wavelength λ1 or light of wavelength λ2, the density of the B color filter layer can be measured even in a yellow light environment.

【0023】 実施の形態2. 図7(d)に示すように、R色画素23とG色フィルタ
層14の積層部分は凸であるので、G色フィルタ層14
の塗布直後にその粘性に応じてG色フィルタ層14が流
れ出し、そのG色フィルタ層14の凸部の厚さが薄くな
ることがある。この厚さの違いは、製造方法によっても
異なり、また塗布材料の粘度、R色画素23の大きさ形
状など多くの因子があるが、フィルタ層の凸部とそれ以
外の部分の厚さには極めて強い相関があることが多い。
換言すれば、一方の厚さが分かると他方の厚さが同定で
きる。しかし、その同定値の誤差が問題になる場合に
は、すでに説明した前記方法により測定することができ
る。すなわち、測定する光の波長を選択し、R色画素2
3でも減衰され、かつG色フィルタ層14でも減衰され
る波長、例えば図8における波長λ3の光を使用すれば
よい。
Embodiment 2 FIG . As shown in FIG. 7D, since the laminated portion of the R color pixel 23 and the G color filter layer 14 is convex, the G color filter layer 14
Immediately after application, the G color filter layer 14 flows out according to its viscosity, and the thickness of the convex portion of the G color filter layer 14 may be reduced. This difference in thickness varies depending on the manufacturing method, and there are many factors such as the viscosity of the coating material and the size and shape of the R-color pixel 23. However, the thickness of the convex portion of the filter layer and the other portions is different. Often there is a very strong correlation.
In other words, if one thickness is known, the other thickness can be identified. However, when the error of the identification value becomes a problem, it can be measured by the above-described method. That is, the wavelength of the light to be measured is selected, and the R pixel 2
A wavelength that is attenuated by the wavelength 3 and is also attenuated by the G color filter layer 14, for example, light having a wavelength λ3 in FIG.

【0024】 この場合、総光量は、R色画素23で1/
8に減衰され、G色フィルタ層14で光は1/10に減
衰される。受光手段3に到達する光量はG色フィルタ層
14のみの部分を透過する光量に比べG色フィルタ層1
4とR色画素23が積層されている部分を透過する光量
は透過率により1/8に加え面積が1/2なので、これ
によりフィルタ層の凸部からの光量はG色フィルタ層1
4のみの部分の光量の1/16となる。従って、総光量
はG色フィルタ層14のみの部分の色の濃さを反映する
ようになる。このように、総光量はG色フィルタ層14
の透過率の低い波長の光であるのでその色の濃さと光量
の関係はきわめて大きく、上記実施の形態1と同様に、
膜厚を高感度に検出できる。
In this case, the total amount of light is 1 /
8, and the light is attenuated by 1/10 in the G color filter layer 14. The amount of light reaching the light receiving means 3 is smaller than the amount of light transmitted through only the G filter layer 14.
The amount of light transmitted through the portion where the pixel 4 and the R color pixel 23 are stacked is に よ り and the area is 1 / according to the transmittance, so that the amount of light from the convex portion of the filter layer is
It becomes 1/16 of the light quantity of the portion of only 4. Therefore, the total light quantity reflects the color density of the portion of only the G filter layer 14. Thus, the total amount of light is
Since the light has a low transmittance, the relationship between the color density and the light amount is extremely large, and as in the first embodiment,
The film thickness can be detected with high sensitivity.

【0025】 実施の形態3. また、図7(f)に示すように、R色画素23及びG色
画素24とB色フィルタ層15との積層部分は凸である
ので、上記図7(d)に示したものと同様、B色フィル
タ層15の塗布直後その粘性に応じてB色フィルタ層1
5の凸部厚さが薄くなることがある。この場合も、測定
したいB色フィルタ層15の透過率が低く、かつR色画
素23の透過率及びG色画素24の透過率が共に低い波
長の光、例えば図8の波長λ4の光とすればよい。波長
λ4の光はR色画素23又はG色画素24で1/3に減
衰され、B色フィルタ層15で光は1/20に減衰され
る。R色画素23とB色フィルタ層15が積層されてい
る部分とG色画素24とB色フィルタ層15が積層され
ている部分を透過する光量は透過率によりB色フィルタ
層15のみの部分を透過する光量に比べ1/3になり、
総光量はそれだけB色フィルタ層15のみの部分の色の
濃さを反映するようになる。すなわち、総光量はB色フ
ィルタ層15の透過率の低い波長の光であるので、その
色の濃さと光量の関係は大きく、上記実施の形態1及び
2と同様に膜厚を高感度に検出できる。
[0025] Embodiment 3. Also, as shown in FIG. 7 (f), since the layered portion of the R color pixel 23 and the G color pixel 24 and the B color filter layer 15 is convex, similar to the one shown in FIG. Immediately after the application of the B color filter layer 15, the B color filter layer 1
5 may have a reduced thickness. In this case as well, light having a wavelength at which the transmittance of the B color filter layer 15 to be measured is low and the transmittance of the R color pixel 23 and the transmittance of the G color pixel 24 are both low, for example, light of wavelength λ4 in FIG. I just need. The light having the wavelength λ4 is attenuated to 1/3 by the R color pixel 23 or the G color pixel 24, and is attenuated to 1/20 by the B color filter layer 15. The amount of light transmitted through the portion where the R color pixel 23 and the B color filter layer 15 are stacked and the portion where the G pixel 24 and the B color filter layer 15 are stacked are determined by the transmittance of the portion where only the B color filter layer 15 is provided. 1/3 of the amount of transmitted light,
The total amount of light reflects the color density of the portion of only the B color filter layer 15. That is, since the total amount of light is light having a wavelength with a low transmittance of the B color filter layer 15, the relationship between the color density and the amount of light is large, and the film thickness can be detected with high sensitivity as in the first and second embodiments. it can.

【0026】 実施の形態4. 上記実施の形態1、2及び3において、特定波長の検出
に関してより具体的方法としては、受光手段3に特定波
長を透過させる光学フィルタを配することで実現でき
る。このようにすることで、光源は広帯域波長の光が放
射されていてもよいのでそれだけ光源の選択の自由度が
広がる。図5はこのような実施の形態4による色フィル
タの濃度測定装置の構成を示す正面図であり、5は受光
手段3に特定波長を透過させる光学フィルタである。
尚、図1と同一又は相当する部分には同一符号を付して
ある。このように、光学フィルタ5を色フィルタ基板1
と受光手段3との間に挿入し、特定波長のみ受光手段3
に透過させるようにしたので、光源(投光手段)2は広
帯域波長の光を用いることができる。従って、投光手段
2はイエローライトと称される黄色の発色の蛍光管を用
いることができ、光感光性材料を扱う環境に設置しても
なんら光学的な悪影響を周囲に及ぼさない。
[0026] Embodiment 4. In the first, second, and third embodiments, a more specific method for detecting a specific wavelength can be realized by disposing an optical filter that transmits a specific wavelength in the light receiving unit 3. In this way, the light source may emit light of a broadband wavelength, so that the degree of freedom in selecting the light source is increased. FIG. 5 is a front view showing the configuration of such a color filter density measuring device according to the fourth embodiment. Reference numeral 5 denotes an optical filter that allows the light receiving unit 3 to transmit a specific wavelength.
The same or corresponding parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. As described above, the optical filter 5 is connected to the color filter substrate 1.
Between the light receiving means 3 and only the specific wavelength.
The light source (light projecting means) 2 can use light having a wide wavelength band. Therefore, the light projecting means 2 can use a fluorescent tube of yellow color called yellow light, and does not exert any adverse optical influence on the surroundings even if it is installed in an environment where the photosensitive material is handled.

【0027】 実施の形態5. また、上記実施の形態4の特定波長を検出する方法とは
別の具体的な方法としては、投光手段2に特定波長を発
生させても良い。例えばレーザー光源又はLED光源を
投光手段2とする。この実施の形態5によれば、上記実
施の形態1、2及び3に示されるR色フィルタ層13、
G色フィルタ層14及びB色フィルタ層15の色の濃さ
を高感度で測定することができる。
Embodiment 5 FIG . Further, as a specific method different from the method of detecting the specific wavelength according to the fourth embodiment, the specific wavelength may be generated by the light projecting means 2. For example, a laser light source or an LED light source is used as the light projecting unit 2. According to the fifth embodiment, the R color filter layer 13 shown in the first, second, and third embodiments,
The color density of the G color filter layer 14 and the B color filter layer 15 can be measured with high sensitivity.

【0028】 実施の形態6. 図7(g)の状態の色フィルタ基板1のR色画素23、
G色画素24及びB色画素25の色の濃さを測定する場
合には次の手段を採用することができる。すなわち、図
7(g)の状態の色フィルタ基板1はR−G−Bの各画
素が生成されている。例えばR色画素23の色の濃さを
測定するときには、一つの方法としては、例えばレーザ
ー光を使用して画素より大きくない光線を基板の画素に
照射してその光量を測定する方法がある。この方法によ
れば各画素毎にその色の濃さを測定することが可能だが
基板上の画素数が非常に多い場合全画素を測定する時間
が長くなり、画素サイズが小さいとそれだけ光線照射の
位置精度が必要であり、いきおい大型で精密な機構が必
要となる。そこで、投光手段2とG色画素24及びB色
画素25と受光手段3の光路を遮り、R色画素23のみ
通過する光路となる孔を有するマスク板を使用し、投光
手段2からの光のうち、R色画素23を透過した光のみ
が受光手段3に到達するようにする。
Embodiment 6 FIG . The R color pixel 23 of the color filter substrate 1 in the state of FIG.
It can be adopted the following means in the case of measuring the G color pixel 24 and color strength of the B Iroga containing 2 5. That is, each pixel of RGB is generated in the color filter substrate 1 in the state of FIG. For example, when measuring the color density of the R-color pixel 23, one method is to irradiate a light beam not larger than the pixel to a pixel of the substrate using, for example, a laser beam and measure the light amount. According to this method, it is possible to measure the color density of each pixel, but when the number of pixels on the substrate is very large, the time to measure all the pixels becomes longer. Positional accuracy is required, and a very large and precise mechanism is required. Therefore, the light path of the light projecting means 2, the G color pixel 24, the B color pixel 25, and the light receiving means 3 is blocked, and a mask plate having a hole serving as an optical path passing only the R color pixel 23 is used. Of the light, only the light that has passed through the R color pixel 23 reaches the light receiving unit 3.

【0029】 図6はこのような実施の形態6によるマス
ク板を示す構成図である。図において、6はマスク板で
あり、R色画素23のみ通過する光路となる孔が設けら
れ、G色画素24及びB色画素25の光路は遮られてい
る。ここで、前述の波長λ2の光の光量を測定すること
でR色画素23の色の濃さが高感度で測定できる。尚、
R色画素23を例にして述べたがG色画素24あるいは
B色画素25でも同様の作用を有する。この実施の形態
6によれば、測定したい画素の色の種類がマスク板6に
より選択されているので同一色の複数の画素からの光量
はまとめて測定され、画素単位ほど微細に色の濃さの測
定が必要ない場合本発明が有効である。
FIG . 6 is a configuration diagram showing a mask plate according to such a sixth embodiment. In the figure, reference numeral 6 denotes a mask plate, which is provided with a hole serving as an optical path that passes only the R color pixel 23, and blocks the optical paths of the G color pixel 24 and the B color pixel 25. Here, the color density of the R pixel 23 can be measured with high sensitivity by measuring the amount of light of the wavelength λ2 described above. still,
Although the R color pixel 23 has been described as an example, the G color pixel 24 or the B color pixel 25 has the same operation. According to the sixth embodiment, since the color type of the pixel to be measured is selected by the mask plate 6, the light amounts from a plurality of pixels of the same color are collectively measured, and the color density is minutely finer for each pixel. The present invention is effective when measurement of is not necessary.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、可視光のうち第1の波長領域光透過率が高い第1
色フィルタ層を有する第1の部分と、上記第1の色フ
ィルタ層と、この第1の色フィルタ層と透明基板との間
に設けられ、可視光のうち第2の波長領域で光透過率が
高い第2の色フィルタ層とを有する第2の部分とから成
色フィルタ基板の一方の面側からこの色フィルタ基板
に光を照射し、上記色フィルタ基板の他方の面側に配置
された受光手段により、上記色フィルタ基板を通過した
光のうち上記第1の波長領域以外の所定域の波長の光量
を測定し、上記受光手段に接続された演算手段により上
記受光手段の出力から上記第1の部分の色の濃さを演算
するように構成したので、色の濃さの変化に対して極め
て高感度に検出できる効果がある。また、測定したいフ
ィルタ色と同様の色の光源を必要としないので、感光性
の材料を使用する工程で使用可能な光を選択することが
できるのでイエロールームでも本発明は採用できる。
らに、異なる色フィルタ層が二重になった状態にあって
も測定対象とする色 フィルタ層の色の濃さを正確に測定
できるなどの効果がある。
As described above, according to the present invention, the first light having a high light transmittance in the first wavelength region of the visible light .
A first portion having a first color filter layer ;
Between the first color filter layer and the transparent substrate.
And has a light transmittance in the second wavelength region of visible light.
A second portion having an elevated second color filter layer.
That light is irradiated from one surface side of the color filter substrate to the color filter substrate <br/>, the arranged light receiving means on the other surface side of the color filter substrate, the light passing through the color filter substrate The light intensity of a predetermined region other than the first wavelength region is measured, and the color density of the first portion is calculated from the output of the light receiving unit by the calculating unit connected to the light receiving unit. With this configuration, there is an effect that detection can be performed with extremely high sensitivity to a change in color density. Further, since a light source having the same color as the color of the filter to be measured is not required, light that can be used in the step of using a photosensitive material can be selected, so that the present invention can be applied to a yellow room. Sa
In addition, different color filter layers are doubled
Accurately measure the color depth of the color filter layer to be measured
There are effects such as being able to do.

【0031】 この 発明によれば、可視光のうち第1の波
長領域で光透過率が高い第1の色フィルタ層を有する
1の部分と、上記第1の色フィルタ層と、この第1の色
フィルタ層と透明基板との間に設けられ、可視光のうち
第2の波長領域で光透過率が高い第2の色フィルタ層
を有する第2の部分とから成る色フィルタ基板の一方の
側からこの色フィルタ基板に光を照射し、上記色フィ
ルタ基板の他方の面側に配置された受光手段により、上
記色フィルタ基板を通過した光のうち上記第1の波長領
域以外で、且つ上記第2の波長領域以外の所定域の波長
光量を測定し、上記受光手段に接続された演算手段に
より上記受光手段の出力から上記第1の部分の色の濃さ
を演算するように構成したので、色の濃さの変化に対し
て極めて高感度に検出できる効果がある。また、測定し
たいフィルタ色と同様の色の光源を必要としないので
感光性の材料を使用する工程で使用可能な光を選択する
ことができるのでイエロールームでも本発明は採用でき
る。さらに、請求項1と同様に、異なる色フィルタ層が
二重になった状態にあっても測定対象とする色フィルタ
層の色の濃さを正確に測定できるなどの効果がある。
According to this invention, a first portion having a first color filter layer having a high light transmittance at a first wavelength region of the visible light, and the first color filter layer, the first Color of
A second color filter layer provided between the filter layer and the transparent substrate and having high light transmittance in a second wavelength region of visible light ;
And irradiating the color filter substrate with light from one surface side of the color filter substrate composed of the second portion having the second portion. The first wavelength region of the transmitted light
Wavelength outside the range and in a predetermined range other than the second wavelength range
The amount of light is measured, and then, is computed color density of the first portion from the output of said light receiving means by connected operational means to said light receiving means, with respect to the change in color density There is an effect that detection can be performed with extremely high sensitivity. Also, since a light source of the same color as the filter color to be measured is not required ,
Since the light that can be used in the step of using a photosensitive material can be selected, the present invention can be applied to a yellow room. Further, similarly to the first aspect, there is an effect that the color density of the color filter layer to be measured can be accurately measured even when different color filter layers are doubled.

【0032】 この 発明によれば、可視光のうち第1の波
長領域で光透過率が高い第1の色フィルタ層を有する第
1の部分と、上記第1の色フィルタ層と、この第1の色
フィルタ層と透明基板との間に設けられ、可視光のうち
第2の波長領域で光透過率が高い第2の色フィルタ層と
を有する第2の部分と、上記第1の色フィルタ層と、こ
の第1の色フィルタ層と透明基板との間に設けられ、可
視光のうち第3の波長領域で光透過率が高い第3の色フ
ィルタ層を有する第3の部分とから成る色フィルタ基板
の一方の面側からこの色フィルタ基板に光を照射し、上
記色フィルタ基板の他方の面側に配置された受光手段に
より、上記色フィルタ基板を通過した光のうち上記第1
の波長領域以外の所定域の波長の光量を測定し、上記受
光手段に接続された演算手段により上記受光手段の出力
から上記第1の部分の色の濃さを演算するように構成し
たので、色の濃さの変化に対して極めて高感度な出力が
得られる。また、測定したいフィルタ色と同様の色の光
源を必要としないので感光性の材料を使用する工程で
使用可能な光を選択することができるのでイエロールー
ムでも本発明は採用できる。さらに、なる二色のフィ
ルタ画素上に測定したい色フィルタ層が重なった状態に
あっても測定対象とする色フィルタ層の色の濃さを正確
に測定できるなどの効果がある。
According to this invention, the having a first color filter layer having a high light transmittance at a first wavelength region of the visible light
1, the first color filter layer, and the first color
A second color filter layer provided between the filter layer and the transparent substrate and having high light transmittance in a second wavelength region of visible light;
A second portion having the first color filter layer,
Provided between the first color filter layer and the transparent substrate.
A third color filter having a high light transmittance in a third wavelength region of the viewing light.
The color filter substrate comprising a third portion having a filter layer is irradiated with light from one surface side of the color filter substrate, and light receiving means disposed on the other surface side of the color filter substrate causes the color filter substrate to emit light. Of the light passing through the substrate, the first
Since it is configured to measure the amount of light of a predetermined range of wavelengths other than the wavelength range and to calculate the color intensity of the first portion from the output of the light receiving means by the calculating means connected to the light receiving means, An output with extremely high sensitivity to a change in color density can be obtained. Further, since a light source having the same color as the color of the filter to be measured is not required , light that can be used in the step of using a photosensitive material can be selected, so that the present invention can be applied to a yellow room. In addition, the different dichroic Fi
Even when the color filter layer to be measured is overlaid on the pixel, the color density of the color filter layer to be measured can be measured accurately.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の実施の形態1による色フィルタの濃
度測定方法の実施構成を示す正面図である。
FIG. 1 is a front view showing an embodiment of a color filter density measuring method according to Embodiment 1 of the present invention;

【図2】この発明の実施の形態1による色フィルタの濃
度測定方法の実施構成を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing an embodiment of a color filter density measuring method according to Embodiment 1 of the present invention;

【図3】この発明の実施の形態1による色フィルタの濃
度測定方法の実施構成を示す具体的構成図である。
FIG. 3 is a specific configuration diagram showing an implementation configuration of a color filter density measuring method according to Embodiment 1 of the present invention;

【図4】この発明の実施の形態1による色濃度測定のフ
ローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart of color density measurement according to the first embodiment of the present invention.

【図5】この発明の実施の形態4による色フィルタの濃
度測定方法の実施構成を示す正面図である。
FIG. 5 is a front view showing an embodiment of a color filter density measuring method according to Embodiment 4 of the present invention;

【図6】この発明の実施の形態6によるマスク板を示す
構成図である。
FIG. 6 is a configuration diagram showing a mask plate according to a sixth embodiment of the present invention.

【図7】液晶用色フィルタ基板の製造工程を説明する図
である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a manufacturing process of a liquid crystal color filter substrate.

【図8】液晶用色フィルタ基板のR−G−B各色の画素
の光透過率を説明するための特性図である。
FIG. 8 is a characteristic diagram for explaining light transmittance of pixels of each color of RGB on a liquid crystal color filter substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 色フィルタ基板 2 投光手段 3 受光手段 4 演算手段 5 光学フィルタ 6 マスク板 13 R色フィルタ層 14 G色フィルタ層 15 B色フィルタ層 23 R色画素 24 G色画素 25 B色画素 1 color filter substrate 2 light emitting means 3 light receiving means 4 arithmetic means 5 optical filter 6 mask plate 13 R color filter layer 14 G color filter layer 15 B color filter layer 23 R color pixel 24 G color pixel 25 B color pixel

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01J 3/46 - 3/51 G01J 1/00 - 1/04 G01B 11/00 - 11/30 102 G01N 21/84 - 21/958 G01M 11/00 G02B 5/20 101 G02B 1/1335 505 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (58) Fields surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) G01J 3/46-3/51 G01J 1/00-1/04 G01B 11/00-11/30 102 G01N 21 / 84-21/958 G01M 11/00 G02B 5/20 101 G02B 1/1335 505

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 可視光のうち第1の波長領域で光透過率
が高い第1の色フィルタ層を有する第1の部分と、上記
第1の色フィルタ層と、この第1の色フィルタ層と透明
基板との間に設けられ、可視光のうち第2の波長領域で
光透過率が高い第2の色フィルタ層とを有する第2の部
分とから成る色フィルタ基板の一方の面側からこの色フ
ィルタ基板に光を照射し、上記色フィルタ基板の他方の
面側に配置された受光手段により、上記色フィルタ基板
を通過した光のうち上記第1の波長領域以外の所定域の
波長の光量を測定し、上記受光手段に接続された演算手
段により上記受光手段の出力から上記第1の部分の色の
濃さを演算することを特徴とする色フィルタの濃度測定
方法。
A first portion having a first color filter layer having a high light transmittance in a first wavelength region of visible light ;
A first color filter layer and the first color filter layer
Provided between the substrate and the second wavelength region of visible light.
A second part having a second color filter layer having high light transmittance
This from one side of the color filter substrate comprising a partial Irofu
The filter substrate is irradiated with light, and light receiving means arranged on the other surface side of the color filter substrate causes light of a predetermined region other than the first wavelength region of the light passing through the color filter substrate to pass therethrough .
A method for measuring the density of a color filter, comprising: measuring a light amount of a wavelength; and calculating a color density of the first portion from an output of the light receiving means by an arithmetic means connected to the light receiving means.
【請求項2】 可視光のうち第1の波長領域で光透過率
が高い第1の色フィルタ層を有する第1の部分と、上記
第1の色フィルタ層と、この第1の色フィルタ層と透明
基板との間に設けられ、可視光のうち第2の波長領域で
光透過率が高い第2の色フィルタ層とを有する第2の部
分とから成る色フィルタ基板の一方の面側からこの色フ
ィルタ基板に光を照射し、上記色フィルタ基板の他方の
面側に配置された受光手段により、上記色フィルタ基板
を通過した光のうち上記第1の波長領域以外で、且つ上
記第2の波長領域以外の所定域の波長の光量を測定し、
上記受光手段に接続された演算手段により上記受光手段
の出力から上記第1の部分の色の濃さを演算することを
特徴とする色フィルタの濃度測定方法。
2. A first portion having a first color filter layer having high light transmittance in a first wavelength region of visible light, the first color filter layer, and the first color filter layer And transparent
A second color filter layer provided between the substrate and the second color filter layer , the second color filter layer having high light transmittance in a second wavelength region of visible light;
The Irofu from one surface side of the color filter substrate consisting minutes
The filter substrate is irradiated with light, and light receiving means disposed on the other surface side of the color filter substrate is used to light the light having passed through the color filter substrate in a region other than the first wavelength region.
Measuring a light amount of a wavelength in a predetermined region other than the second wavelength region ,
A method for measuring the density of a color filter, comprising: calculating a color density of the first portion from an output of the light receiving means by a calculating means connected to the light receiving means.
【請求項3】 可視光のうち第1の波長領域で光透過率
が高い第1の色フィルタ層を有する第1の部分と、上記
第1の色フィルタ層と、この第1の色フィルタ層と透明
基板との間に設けられ、可視光のうち第2の波長領域で
光透過率が高い第2の色フィルタ層とを有する第2の部
分と、上記第1の色フィルタ層と、この第1の色フィル
タ層と透明基板との間に設けられ、可視光のうち第3の
波長領域で光透過率が高い第3の色フィルタ層を有する
第3の部分とから成る色フィルタ基板の一方の面側から
この色フィルタ基板に光を照射し、上記色フィルタ基板
の他方の面側に配置された受光手段により、上記色フィ
ルタ基板を通過した光のうち上記第1の波長領域以外
所定域の波長の光量を測定し、上記受光手段に接続され
た演算手段により上記受光手段の出力から上記第1の部
分の色の濃さを演算することを特徴とする色フィルタの
濃度測定方法。
3. A first portion having a first color filter layer having high light transmittance in a first wavelength region of visible light ,
A first color filter layer and the first color filter layer
A second color filter layer provided between the substrate and the second color filter layer , the second color filter layer having high light transmittance in a second wavelength region of visible light;
Minute, the first color filter layer, and the first color filter.
Between the transparent layer and the transparent substrate.
A third color filter layer having a high light transmittance in a wavelength region;
From one side of the color filter substrate comprising a third portion
The color filter substrate is irradiated with light, and light receiving means arranged on the other surface side of the color filter substrate causes light out of the light having passed through the color filter substrate other than the first wavelength region to pass therethrough .
A method for measuring the amount of light having a wavelength in a predetermined range, and calculating a color density of the first portion from an output of the light receiving means by an arithmetic means connected to the light receiving means. .
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