JP3239023B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JP3239023B2
JP3239023B2 JP22819094A JP22819094A JP3239023B2 JP 3239023 B2 JP3239023 B2 JP 3239023B2 JP 22819094 A JP22819094 A JP 22819094A JP 22819094 A JP22819094 A JP 22819094A JP 3239023 B2 JP3239023 B2 JP 3239023B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路に関す
るものである。近年、DRAM等において、消費電力の
低減やホットキャリア効果の抑制等のために電源電圧を
従来の5Vから3.3Vに下げることが行われつつあ
る。しかし現在のところ、5Vから3.3Vへの移行期
であることから、このような低電圧のDRAM等と5V
系の半導体集積回路(例えば、マイクロコンピュータ)
とを接続して1つのシステムを構成することが行われ
る。この場合、低電圧のDRAM等の入出力回路には、
許容電圧を超える入力電圧が加えられることになる。本
発明は、このような電源電圧の異なる半導体集積回路を
接続する場合に、入出力回路に工夫を施して、安定なイ
ンターフェイスをとれるようにしたものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit. In recent years, in DRAMs and the like, the power supply voltage has been reduced from the conventional 5 V to 3.3 V in order to reduce power consumption and suppress the hot carrier effect. However, at present, since the transition period is from 5 V to 3.3 V, such low-voltage DRAMs and the like are
Based semiconductor integrated circuits (eg microcomputers)
Are connected to form one system. In this case, input / output circuits such as a low-voltage DRAM include:
An input voltage exceeding the allowable voltage will be applied. In the present invention, when connecting such semiconductor integrated circuits having different power supply voltages, the input / output circuit is devised so that a stable interface can be obtained.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体集積回路を図4に示す。図
において、1は入力回路、2は出力回路であり、両者
は、共通に入出力端子3に接続されている。入出力端子
3は他の集積回路4と接続されている。入力回路1は、
クロックド・インバータ5と、クロックド・インバータ
5の出力を受け一時的に入力データを保持するラッチ回
路6とから成る。クロックド・インバータ5は、入力電
圧Vinがゲートに印加される入力トランジスタ10,
11と、入力制御信号φとその反転信号*φによって制
御された制御トランジスタ12,13とで構成されてい
る。また、出力回路2は、出力トランジスタ14,15
と、制御回路16とから構成されている。出力制御回路
16は、ナンド回路17とインバータ18とから成り、
ナンド回路17の一方の入力端子には出力制御信号*D
ESが入力されている。上記の半導体集積回路の電源電
圧Vcc2は、例えば3.3Vであり、他の半導体集積
回路4の電源電圧Vcc1は、例えば、5Vである。
2. Description of the Related Art FIG. 4 shows a conventional semiconductor integrated circuit. In the figure, 1 is an input circuit, 2 is an output circuit, and both are connected to an input / output terminal 3 in common. The input / output terminal 3 is connected to another integrated circuit 4. The input circuit 1
It comprises a clocked inverter 5 and a latch circuit 6 which receives an output of the clocked inverter 5 and temporarily holds input data. The clocked inverter 5 includes an input transistor 10 having an input voltage Vin applied to its gate,
And control transistors 12 and 13 controlled by an input control signal φ and its inverted signal * φ. The output circuit 2 includes output transistors 14 and 15
And a control circuit 16. The output control circuit 16 includes a NAND circuit 17 and an inverter 18,
One input terminal of the NAND circuit 17 has an output control signal * D
ES has been input. The power supply voltage Vcc2 of the above-mentioned semiconductor integrated circuit is, for example, 3.3V, and the power supply voltage Vcc1 of the other semiconductor integrated circuits 4 is, for example, 5V.

【0003】次に、上記回路の動作を図5を参照しなが
ら説明する。まず、入力モードにおいて、入力制御信号
φがHレベルになり、クロックド・インバータ5が活性
化して、入出力端子3に印加された入力電圧がクロック
ド・インバータ5を介して内部回路へ入力される。この
とき、出力制御信号*DESはLレベルであり、出力制
御回路16の出力はLレベルとなり、出力トランジスタ
14,15はともにオフ状態、すなわち出力禁止状態と
なっている。
Next, the operation of the above circuit will be described with reference to FIG. First, in the input mode, the input control signal φ goes high, the clocked inverter 5 is activated, and the input voltage applied to the input / output terminal 3 is input to the internal circuit via the clocked inverter 5. You. At this time, the output control signal * DES is at the L level, the output of the output control circuit 16 is at the L level, and the output transistors 14 and 15 are both in the off state, that is, in the output prohibited state.

【0004】次に、出力モードにおいて、入力制御信号
φはLレベルとなり、クロックド・インバータ5は不活
性になり、入力禁止状態となる。それ以前に入力された
データは、ラッチ回路6によって保持される。、出力制
御信号*DESはHレベルへ立ち上がり、これを受けて
出力禁止状態が解除され、出力トランジスタ14,15
から入出力端子3にデータが出力される。
Next, in the output mode, the input control signal φ goes low, the clocked inverter 5 becomes inactive, and the input is inhibited. Data input before that is held by the latch circuit 6. , The output control signal * DES rises to the H level, and in response to this, the output inhibition state is released, and the output transistors 14 and 15
Outputs data to the input / output terminal 3.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記入
力モードにおいて、クロックド・インバータ5を構成し
ている入力トランジスタ10,11のゲートには、他の
半導体集積回路の電源電圧Vcc1である5Vの電圧が
印加されこととなり、入力トランジスタ10,11のゲ
ート酸化膜の信頼性が劣化するという問題がある。これ
は、低電圧の半導体集積回路では、比較的薄いゲート酸
化膜が採用されるからである。
However, in the above input mode, the gates of the input transistors 10 and 11 constituting the clocked inverter 5 have a voltage of 5 V which is the power supply voltage Vcc1 of another semiconductor integrated circuit. Is applied, and the reliability of the gate oxide films of the input transistors 10 and 11 deteriorates. This is because a relatively thin gate oxide film is employed in a low-voltage semiconductor integrated circuit.

【0006】また、出力禁止状態にある出力トランジス
タ14,15のゲート・ドレイン間にも最大5Vの電圧
が加わるので、同様にそのゲート酸化膜の信頼性が劣化
してしまう。本発明は、上記の課題に鑑みてなされたも
のであり、電源電圧の異なる半導体集積回路を接続する
場合に、入出力回路に工夫を施して、信頼性の高いイン
ターフェイスをとれるようにしたものである。
In addition, since a maximum voltage of 5 V is applied between the gate and the drain of each of the output transistors 14 and 15 in the output prohibited state, the reliability of the gate oxide film is similarly deteriorated. The present invention has been made in view of the above problems, and when connecting semiconductor integrated circuits having different power supply voltages, an input / output circuit is devised so that a highly reliable interface can be obtained. is there.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
低電圧の半導体集積回路の入出力端子3と、入出力回路
1,2との間にNチャネル型のパス・トランジスタ7を
設け、該パス・トランジスタ7のゲートに電源電圧Vc
c2と等しい電圧を供給したものである。請求項2に係
る発明は、入出力端子3と入出力回路1,2との間にN
チャネル型のパス・トランジスタ7を設け、該パス・ト
ランジスタ7のゲートに電源電圧Vcc2より大きく、
他の半導体集積回路4の電源電圧Vcc1以下の電圧V
p(Vcc2<Vp≦Vcc1)を供給したものであ
る。
The invention according to claim 1 is
An N-channel pass transistor 7 is provided between the input / output terminal 3 of the low-voltage semiconductor integrated circuit and the input / output circuits 1 and 2, and the power supply voltage Vc is connected to the gate of the pass transistor 7.
A voltage equal to c2 is supplied. The invention according to claim 2 is characterized in that N
A channel type pass transistor 7 is provided, and the gate of the pass transistor 7 is higher than the power supply voltage Vcc2,
Voltage V of power supply voltage Vcc1 or less of other semiconductor integrated circuit 4
p (Vcc2 <Vp ≦ Vcc1).

【0008】[0008]

【作用】請求項1に係る発明によれば、入出力端子3に
Vcc1(5V)の電圧が印加されても、パス・トラン
ジスタ7により、入力トランジスタ10,11等に加わ
る最大電圧は、Vcc2(3.3V)−Vtと低くなる
ので、ゲート酸化膜の信頼性の問題を解消することがで
きる。ここで、Vtは、パス・トランジスタ7のしきい
値電圧であり、例えば、Vtが0.5Vのとき、当該電
圧は2.8Vとなる。
According to the first aspect of the present invention, even when the voltage of Vcc1 (5 V) is applied to the input / output terminal 3, the maximum voltage applied to the input transistors 10, 11 and the like by the pass transistor 7 is Vcc2 ( 3.3V) -Vt, so that the problem of the reliability of the gate oxide film can be solved. Here, Vt is a threshold voltage of the pass transistor 7. For example, when Vt is 0.5V, the voltage becomes 2.8V.

【0009】請求項2に係る発明は、パス・トランジス
タ7のインピーダンスを下げ、入出力動作の高速化を図
ったものである。すなわち、この発明によれば、パス・
トランジスタ7のゲートに電源電圧Vcc2より大き
く、他の半導体集積回路4の電源電圧Vcc1以下の電
圧Vp(Vcc2<Vp≦Vcc1)を供給しているの
で、入力トランジスタ10,11等に加わる最大電圧
は、Vp−Vtとなる。したがって、ゲート酸化膜の信
頼性に影響しない範囲内で、パス・トランジスタ7のイ
ンピーダンスを下げることが可能となる。例えば、Vp
を4Vに設定すると、当該電圧は3.5Vとなる。
According to a second aspect of the present invention, the impedance of the pass transistor 7 is reduced to speed up the input / output operation. That is, according to the present invention,
Since a voltage Vp (Vcc2 <Vp ≦ Vcc1) higher than the power supply voltage Vcc2 and lower than the power supply voltage Vcc1 of the other semiconductor integrated circuit 4 is supplied to the gate of the transistor 7, the maximum voltage applied to the input transistors 10, 11 and the like is , Vp-Vt. Therefore, the impedance of pass transistor 7 can be reduced within a range that does not affect the reliability of the gate oxide film. For example, Vp
Is set to 4V, the voltage becomes 3.5V.

【0010】[0010]

【実施例】以下で、本発明の半導体集積回路の実施例を
図1乃至図3を参照しながら説明する。 (1)第1の実施例 図1に示すように、半導体集積回路の入出力端子3と、
入出力回路1,2との間にNチャネル型のパス・トラン
ジスタ7を設け、該パス・トランジスタ7のゲート電圧
Vpに電源電圧Vcc2と等しい電圧を供給した点が特
徴である。このパス・トランジスタ7は、常時オン状態
のシングル・チャネルのトランスミッション・ゲートと
同じ動作をする。他の回路構成は、従来例と同じであ
り、半導体集積回路の電源電圧をVcc2(3.3
V)、これに接続される他の半導体集積回路4の電源電
圧をVcc1(5V)としている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a semiconductor integrated circuit according to the present invention will be described below with reference to FIGS. (1) First Embodiment As shown in FIG. 1, an input / output terminal 3 of a semiconductor integrated circuit,
It is characterized in that an N-channel type pass transistor 7 is provided between the input / output circuits 1 and 2, and a gate voltage Vp of the pass transistor 7 is supplied with a voltage equal to the power supply voltage Vcc2. This pass transistor 7 operates in the same manner as a single-channel transmission gate that is always on. The other circuit configuration is the same as that of the conventional example, and the power supply voltage of the semiconductor integrated circuit is Vcc2 (3.3
V), the power supply voltage of the other semiconductor integrated circuit 4 connected thereto is Vcc1 (5 V).

【0011】本実施例によれば、入力モードにおいて、
他の半導体集積回路4から、入出力端子3にVcc1
(5V)の電圧が印加されても、Nチャネル型のパス・
トランジスタ7を設けたことにより、入力トランジスタ
10,11等に加わる最大電圧は、Vcc2(3.3
V)−Vtと低くなるので、ゲート酸化膜の信頼性の問
題を解消することができる。ここで、Vtは、パス・ト
ランジスタ7のしきい値電圧である。したがって、例え
ば、Vtが0.5Vのとき、当該電圧は2.8Vとな
る。
According to this embodiment, in the input mode,
Vcc1 is applied to the input / output terminal 3 from another semiconductor integrated circuit 4.
(5V) is applied, the N-channel type
By providing the transistor 7, the maximum voltage applied to the input transistors 10, 11 and the like is Vcc2 (3.3
V) -Vt, the problem of the reliability of the gate oxide film can be solved. Here, Vt is the threshold voltage of pass transistor 7. Therefore, for example, when Vt is 0.5V, the voltage becomes 2.8V.

【0012】また、出力禁止状態(*DES=0V)に
おいて、出力トランジスタ14,15のゲート・ドレイ
ン間に加えられる最大電圧も低下するので、同様にして
ゲート酸化膜の信頼性の問題が解消される。一方、出力
モードにおいて、出力データは、パス・トランジスタ7
を介して、入出力端子3に出力されるので、上記と同様
な電圧の低下が生じるが、他の半導体集積回路4の入力
回路のしきい値を調節することにより、対処することが
できる。
Further, in the output inhibited state (* DES = 0V), the maximum voltage applied between the gate and drain of the output transistors 14 and 15 also decreases, so that the problem of the reliability of the gate oxide film is similarly solved. You. On the other hand, in the output mode, the output data is
Is output to the input / output terminal 3 via the interface, the same voltage drop occurs as described above, but this can be dealt with by adjusting the threshold value of the input circuit of the other semiconductor integrated circuit 4.

【0013】(2)第2の実施例 第1の実施例では、パス・トランジスタ7を設けたこと
により、入出力インピーダンスが増加し、データの入出
力速度が遅くなってしまう。そこで、本実施例では、パ
ス・トランジスタ7のゲート電圧Vpを適当な範囲内で
Vcc2から昇圧し、低インピーダンス化を図った。そ
のゲート電圧Vpは、電源電圧Vcc2より大きく、他
の半導体集積回路4の電源電圧Vcc1以下の電圧(V
cc2<Vp≦Vcc1)としている。このような設定
によれば、入力トランジスタ10,11等に加わる最大
電圧は、Vp−Vtとなる。したがって、ゲート酸化膜
の信頼性に影響しない範囲内で、パス・トランジスタ7
のインピーダンスを下げることが可能となる。例えば、
Vt=0.5Vとすると、Vpを4Vに設定した場合に
は、当該電圧は3.5Vとなる。また、Vp=Vcc1
(5V)に設定した場合には、当該電圧は4.5Vとな
るといった如くである。ゲート酸化膜の信頼性と低イン
ピーダンス化とのかね合いを考慮すると、Vpを4V程
度に設定するのが最も適している。
(2) Second Embodiment In the first embodiment, since the pass transistor 7 is provided, the input / output impedance increases, and the data input / output speed decreases. Therefore, in the present embodiment, the gate voltage Vp of the pass transistor 7 is boosted from Vcc2 within an appropriate range to reduce the impedance. The gate voltage Vp is higher than the power supply voltage Vcc2, and is equal to or lower than the power supply voltage Vcc1 of another semiconductor integrated circuit 4 (V
cc2 <Vp ≦ Vcc1). According to such a setting, the maximum voltage applied to the input transistors 10, 11 and the like is Vp-Vt. Therefore, as long as the reliability of the gate oxide film is not affected, the pass transistor 7
Can be reduced. For example,
Assuming that Vt = 0.5V, when Vp is set to 4V, the voltage becomes 3.5V. Vp = Vcc1
If it is set to (5V), the voltage will be 4.5V. Considering the balance between the reliability of the gate oxide film and the reduction in impedance, it is most suitable to set Vp to about 4V.

【0014】Vpの発生方法としては、昇圧回路を使う
ことにより、外部から電圧を供給することなく、半導体
集積回路内部で発生することができる。その一例の回路
を図2に示す。本回路は、昇圧信号φpの立ち上がりを
受けて、電源電圧Vcc2を、(1+α)Vcc2−V
tという電圧へ昇圧する昇圧回路20と、昇圧回路20
の出力Vpに接続され、その昇圧された電圧を一定範囲
に保持するためのポンプ回路21と、ポンプ回路21に
動作クロックを供給するリングオシレータ22と、から
成る。ここで、Vtは、Nチャネル型MOSトランジス
タ23のしきい値である。23,25,26,28,2
9,30は、いずれもNチャネル型MOSトランジスタ
であり、24はPチャネル型MOSトランジスタ、2
7,31はカップリング・コンデンサである。また、α
はカップリング容量C1とノードBの寄生容量C2との
分割比で定まる値である(0<α<1)。
As a method for generating Vp, the voltage can be generated inside the semiconductor integrated circuit without using an external voltage by using a booster circuit. An example circuit is shown in FIG. This circuit, upon receiving the rising of the boost signal φp, changes the power supply voltage Vcc2 to (1 + α) Vcc2-V
a booster circuit 20 for boosting the voltage to a voltage of t;
And a ring oscillator 22 for supplying an operation clock to the pump circuit 21 to maintain the boosted voltage within a certain range. Here, Vt is the threshold value of the N-channel MOS transistor 23. 23, 25, 26, 28, 2
Numerals 9 and 30 are N-channel MOS transistors, 24 is a P-channel MOS transistor, 2
7, 31 are coupling capacitors. Also, α
Is a value determined by the division ratio between the coupling capacitance C1 and the parasitic capacitance C2 of the node B (0 <α <1).

【0015】図3は、本回路の動作を示すタイミング図
である。昇圧信号φpがVcc2へ立ち上がると、カッ
プリング・コンデンサ27を介して、ノードBがVcc
2−Vtから、(1+α)Vcc2−Vtへ変化する。
トランジスタ24はオン状態であるので、Vpには、
(1+α)Vcc2−Vtが出力される。また、リーク
電流等によりVpが低下した場合には、ポンプ回路21
が働き、Vpは(1+β)Vcc2−2Vtという電圧
に維持される。なお、βはカップリング容量C3と寄生
容量C4との分割比で定まる値である(0<β<1)。
このようにして、Vpは、所定の電圧範囲に保持され
る。
FIG. 3 is a timing chart showing the operation of this circuit. When the boost signal φp rises to Vcc2, the node B is connected to Vcc via the coupling capacitor 27.
From 2-Vt, it changes to (1 + α) Vcc2-Vt.
Since the transistor 24 is on, Vp is:
(1 + α) Vcc2-Vt is output. When Vp decreases due to a leak current or the like, the pump circuit 21
Works, and Vp is maintained at a voltage of (1 + β) Vcc2-2Vt. Here, β is a value determined by the division ratio between the coupling capacitance C3 and the parasitic capacitance C4 (0 <β <1).
In this way, Vp is kept within a predetermined voltage range.

【0016】[0016]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体集
積回路によれば、パス・トランジスタ7を設け、そのゲ
ートに電源電圧Vcc2を加えたことにより、入出力端
子3にVcc1(5V)の電圧が印加されても、パス・
トランジスタ7により、入力トランジスタ10,11等
に加わる最大電圧は、Vcc2(3.3V)−Vtと低
くなるので、ゲート酸化膜の信頼性の問題を解消するこ
とができる。これにより、低電圧の半導体集積回路と通
常電圧の半導体集積回路とのインターフェイスをとる場
合に、低電圧の半導体集積回路の信頼性を確保すること
が可能となる。
As described above, according to the semiconductor integrated circuit of the present invention, by providing the pass transistor 7 and applying the power supply voltage Vcc2 to the gate thereof, the input / output terminal 3 is connected to the Vcc1 (5V). Even if voltage is applied,
The maximum voltage applied to the input transistors 10, 11 and the like by the transistor 7 is reduced to Vcc2 (3.3V) -Vt, so that the problem of the reliability of the gate oxide film can be solved. This makes it possible to ensure the reliability of the low-voltage semiconductor integrated circuit when interfacing the low-voltage semiconductor integrated circuit with the normal-voltage semiconductor integrated circuit.

【0017】また、パス・トランジスタ7のゲートに電
源電圧Vcc2より大きく、他の半導体集積回路4の電
源電圧Vcc1以下の電圧Vp(Vcc2<Vp≦Vc
c1)を供給することにより、入力トランジスタ10,
11等に加わる最大電圧は、Vp−Vtとなる。したが
って、ゲート酸化膜の信頼性に影響しない範囲内で、パ
ス・トランジスタ7のインピーダンスを下げ、データの
入出力速度の低下を極力抑えることができる。
A voltage Vp (Vcc2 <Vp ≦ Vc) that is higher than the power supply voltage Vcc2 and lower than the power supply voltage Vcc1 of another semiconductor integrated circuit 4 is applied to the gate of the pass transistor 7.
c1), the input transistors 10,
The maximum voltage applied to 11 and the like is Vp-Vt. Therefore, the impedance of the pass transistor 7 can be reduced within a range that does not affect the reliability of the gate oxide film, and a decrease in the data input / output speed can be suppressed as much as possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例に係る半導体集積回路の回路図
である。
FIG. 1 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention.

【図2】パス・トランジスタのゲート電圧Vpの発生回
路を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a circuit for generating a gate voltage Vp of a pass transistor.

【図3】図2に示す回路の動作タイミング図である。FIG. 3 is an operation timing chart of the circuit shown in FIG. 2;

【図4】従来例の半導体集積回路を示す回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram showing a conventional semiconductor integrated circuit.

【図5】図4に示す回路の動作タイミング図である。FIG. 5 is an operation timing chart of the circuit shown in FIG. 4;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 入力回路 2 出力回路 3 入出力端子 4 他の半導体集積回路 5 クロックド・インバータ 6 ラッチ回路 7 パス・トランジスタ 10,11 入力トランジスタ 14,15 出力トランジスタ 20 昇圧回路 21 ポンプ回路 22 リングオシレータ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Input circuit 2 Output circuit 3 I / O terminal 4 Other semiconductor integrated circuits 5 Clocked inverter 6 Latch circuit 7 Pass transistor 10, 11 Input transistor 14, 15 Output transistor 20 Boost circuit 21 Pump circuit 22 Ring oscillator

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−243321(JP,A) 特開 平7−99437(JP,A) 特開 平8−97703(JP,A) 特開 平8−65135(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H03K 17/00 - 17/70 H03K 19/00 - 19/007 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (56) References JP-A-4-243321 (JP, A) JP-A-7-99437 (JP, A) JP-A-8-97703 (JP, A) JP-A-8-97 65135 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H03K 17/00-17/70 H03K 19/00-19/007

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 電源電圧が相対的に高い他の半導体集積
回路(電源電圧:Vcc1)から供給される入力電圧V
inを受ける入力回路と、前記入力回路の一部を構成し
前記入力電圧Vinがゲートに印加される入力トランジ
スタと、前記入力回路と共通に入出力端子に接続された
出力回路と、前記出力回路の一部を構成し出力回路が出
力禁止状態のときに前記入力電圧がゲート・ドレイン間
に印加される出力トランジスタと、を有する半導体集積
回路(電源電圧:Vcc2)において、前記入出力端子と前記入力回路及び出力回路との間に設
けられたNチャネル型のパス・トランジスタと、電源電
圧Vcc2を昇圧する昇圧回路と、該昇圧回路により昇
圧された電圧を一定範囲に保持するためのポンプ回路
と、を設け、前記昇圧回路及びポンプ回路の出力を前記
Nチャネル型のパス・トランジスタのゲートに共通接続
することにより、前記パス・トランジスタのゲートに電
源電圧Vcc2より大きく、且つ電源電圧Vcc1以下
の電圧Vp(Vcc2<Vp≦Vcc1)を供給するよ
うにしたことを特徴とする半導体集積回路。
1. An input voltage V supplied from another semiconductor integrated circuit (power supply voltage: Vcc1) having a relatively high power supply voltage.
an input circuit for receiving the input voltage, an input transistor forming a part of the input circuit, the input voltage Vin being applied to a gate, an output circuit commonly connected to the input circuit and an input / output terminal, and the output circuit A power supply voltage: Vcc2, comprising an output transistor which forms a part of the circuit and outputs the input voltage between the gate and the drain when the output circuit is in the output inhibited state. Installed between input and output circuits
N-channel type pass transistor and power supply
And a booster circuit for boosting the voltage Vcc2.
Pump circuit to keep the applied voltage within a certain range
And the output of the booster circuit and the pump circuit is
Commonly connected to the gate of N-channel type pass transistor
The gate of the pass transistor.
Greater than source voltage Vcc2 and less than or equal to power supply voltage Vcc1
Voltage Vp (Vcc2 <Vp ≦ Vcc1)
A semiconductor integrated circuit characterized by the above.
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