JPH0897703A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

Info

Publication number
JPH0897703A
JPH0897703A JP6228192A JP22819294A JPH0897703A JP H0897703 A JPH0897703 A JP H0897703A JP 6228192 A JP6228192 A JP 6228192A JP 22819294 A JP22819294 A JP 22819294A JP H0897703 A JPH0897703 A JP H0897703A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage
input
circuit
power supply
semiconductor integrated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6228192A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junichi Matsuda
順一 松田
Isamu Kurihara
勇 栗原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP6228192A priority Critical patent/JPH0897703A/en
Publication of JPH0897703A publication Critical patent/JPH0897703A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE: To secure high reliability by providing an N-channel path transistor(TR) between an input terminal and an input circuit and applying a voltage equal to a power supply voltage to a gate of the path TR so as to prevent application of a voltage exceeding a permissible range to the integrated circuit designed to be operated at a low voltage. CONSTITUTION: An N-channel path TR 7 is provided between an input terminal 3 of a low voltage semiconductor integrated circuit and an input circuit 1 and a voltage equal to a power supply voltage Vcc2 is fed to a gate of the path TR 7. Through the constitution above, even when a voltage of Vcc1 (5V) is applied to an input output terminal 3 from other semiconductor integrated circuit 4, since a maximum voltage applied to input TRs 10, 11 is as low as Vcc2(3.3V)-Vt through the provision of the N-channel path TR 7, a problem of the reliability of a gate oxide film is solved, where Vt is a threshold voltage of the path TR 7.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路に関す
るものである。近年、DRAM等において、消費電力の
低減やホットキャリア効果の抑制等のために電源電圧を
従来の5Vから3.3Vに下げることが行われつつあ
る。しかし現在のところ、5Vから3.3Vへの移行期
であることから、このような低電圧のDRAM等と5V
系の半導体集積回路(例えば、マイクロコンピュータ)
とを接続して1つのシステムを構成することが行われ
る。この場合、低電圧のDRAM等の入力回路には、許
容電圧を超える入力電圧が加えられることになる。本発
明は、このような電源電圧の異なる半導体集積回路を接
続する場合に、入力回路部分に工夫を施して、安定なイ
ンターフェイスをとれるようにしたものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit. In recent years, in DRAMs and the like, the power supply voltage is being reduced from the conventional 5V to 3.3V in order to reduce the power consumption and suppress the hot carrier effect. However, at the present time, it is in the transitional period from 5V to 3.3V, so such low voltage DRAM etc.
System semiconductor integrated circuit (for example, microcomputer)
It is performed by connecting and to configure one system. In this case, an input voltage exceeding the allowable voltage is applied to the input circuit such as the low voltage DRAM. The present invention provides a stable interface by devising the input circuit portion when connecting such semiconductor integrated circuits having different power supply voltages.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体集積回路を図4に示す。図
において、1は入力回路であり、入力端子3に接続され
ている。入力端子3は他の集積回路4と接続されてい
る。入力回路1は、クロックド・インバータ5と、クロ
ックド・インバータ5の出力を受け一時的に入力データ
を保持するラッチ回路6とから成る。クロックド・イン
バータ5は、入力電圧Vinがゲートに印加される入力
トランジスタ10,11と、入力制御信号φとその反転
信号*φによって制御された制御トランジスタ12,1
3とで構成されている。
2. Description of the Related Art A conventional semiconductor integrated circuit is shown in FIG. In the figure, 1 is an input circuit, which is connected to an input terminal 3. The input terminal 3 is connected to another integrated circuit 4. The input circuit 1 includes a clocked inverter 5 and a latch circuit 6 that receives the output of the clocked inverter 5 and temporarily holds the input data. The clocked inverter 5 includes input transistors 10 and 11 to which an input voltage Vin is applied to their gates, and control transistors 12 and 1 controlled by an input control signal φ and its inverted signal * φ.
3 and 3.

【0003】上記の半導体集積回路の電源電圧Vcc2
は、例えば3.3Vであり、他の半導体集積回路4の電
源電圧Vcc1は、例えば、5Vである。次に、上記回
路の動作を説明する。まず、入力モードにおいて、入力
制御信号φがHレベルになり、クロックド・インバータ
5が活性化して、入力端子3に印加された入力電圧がク
ロックド・インバータを介して内部回路へ入力される。
Power supply voltage Vcc2 of the above semiconductor integrated circuit
Is 3.3V, for example, and the power supply voltage Vcc1 of the other semiconductor integrated circuit 4 is 5V, for example. Next, the operation of the above circuit will be described. First, in the input mode, the input control signal φ becomes H level, the clocked inverter 5 is activated, and the input voltage applied to the input terminal 3 is input to the internal circuit via the clocked inverter.

【0004】次に、入力制御信号φはLレベルとなり、
クロックド・インバータ5は不活性になり、入力禁止状
態となる。それ以前に入力されたデータは、ラッチ回路
6によって保持される。
Next, the input control signal φ becomes L level,
The clocked inverter 5 becomes inactive and enters an input prohibited state. The data input before that is held by the latch circuit 6.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、クロッ
クド・インバータ5を構成している入力トランジスタ1
0,11のゲートには、他の半導体集積回路の電源電圧
Vcc1である5Vの電圧が直接印加されこととなり、
入力トランジスタ10,11のゲート酸化膜の信頼性が
劣化するという問題がある。これは、低電圧の半導体集
積回路では、比較的薄いゲート酸化膜が採用されるから
である。
However, the input transistor 1 forming the clocked inverter 5 is
A voltage of 5 V, which is the power supply voltage Vcc1 of another semiconductor integrated circuit, is directly applied to the gates of 0 and 11.
There is a problem that the reliability of the gate oxide film of the input transistors 10 and 11 deteriorates. This is because a low voltage semiconductor integrated circuit uses a relatively thin gate oxide film.

【0006】本発明は、上記の課題に鑑みてなされたも
のであり、電源電圧の異なる半導体集積回路を接続する
場合に、入力回路に工夫を施して、信頼性の高いインタ
ーフェイスをとれるようにしたものである。
The present invention has been made in view of the above problems. When connecting semiconductor integrated circuits having different power supply voltages, the input circuit is devised so that a highly reliable interface can be obtained. It is a thing.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
低電圧の半導体集積回路の入力端子3と、入力回路1と
の間にNチャネル型のパス・トランジスタ7を設け、該
パス・トランジスタ7のゲートに電源電圧Vcc2と等
しい電圧を供給したものである。また、請求項2に係る
発明は、入力端子3と入力回路1との間にNチャネル型
のパス・トランジスタ7を設け、該パス・トランジスタ
7のゲートに電源電圧Vcc2より大きく、他の半導体
集積回路4の電源電圧Vcc1以下の電圧Vp(Vcc
2<Vp≦Vcc1)を供給したものである。
The invention according to claim 1 is
An N-channel type pass transistor 7 is provided between the input terminal 3 of the low voltage semiconductor integrated circuit and the input circuit 1, and a voltage equal to the power supply voltage Vcc2 is supplied to the gate of the pass transistor 7. . In the invention according to claim 2, an N-channel type pass transistor 7 is provided between the input terminal 3 and the input circuit 1, the gate of the pass transistor 7 is higher than the power supply voltage Vcc2, and the other semiconductor integrated circuit is provided. Voltage Vp (Vcc less than power supply voltage Vcc1 of circuit 4)
2 <Vp ≦ Vcc1) is supplied.

【0008】[0008]

【作用】請求項1に係る発明によれば、入力端子3にV
cc1(5V)の電圧が印加されても、パス・トランジ
スタ7により、入力トランジスタ10,11に加わる最
大電圧は、Vcc2(3.3V)−Vtと低くなるの
で、ゲート酸化膜の信頼性の問題を解消することができ
る。ここで、Vtは、パス・トランジスタ7のしきい値
電圧であり、例えば、Vtが0.5Vのとき、当該電圧
は2.8Vとなる。
According to the invention of claim 1, V is applied to the input terminal 3.
Even if a voltage of cc1 (5V) is applied, the maximum voltage applied to the input transistors 10 and 11 by the pass transistor 7 is as low as Vcc2 (3.3V) -Vt, which causes a problem of reliability of the gate oxide film. Can be resolved. Here, Vt is a threshold voltage of the pass transistor 7, and for example, when Vt is 0.5V, the voltage is 2.8V.

【0009】請求項2に係る発明は、パス・トランジス
タ7のインピーダンスを下げ、データ入力動作の高速化
を図ったものである。すなわち、この発明によれば、パ
ス・トランジスタ7のゲートに電源電圧Vcc2より大
きく、他の半導体集積回路4の電源電圧Vcc1以下の
電圧Vp(Vcc2<Vp≦Vcc1)を供給している
ので、入力トランジスタ10,11に加わる最大電圧
は、Vp−Vtとなる。したがって、ゲート酸化膜の信
頼性に影響しない範囲内で、パス・トランジスタ7のイ
ンピーダンスを下げることが可能となる。例えば、Vp
を4Vに設定すると、当該電圧は3.5Vとなる。
According to the second aspect of the invention, the impedance of the pass transistor 7 is lowered to speed up the data input operation. That is, according to the present invention, the gate of the pass transistor 7 is supplied with the voltage Vp (Vcc2 <Vp ≦ Vcc1) higher than the power supply voltage Vcc2 and lower than the power supply voltage Vcc1 of the other semiconductor integrated circuit 4. The maximum voltage applied to the transistors 10 and 11 is Vp-Vt. Therefore, the impedance of the pass transistor 7 can be lowered within a range that does not affect the reliability of the gate oxide film. For example, Vp
Is set to 4V, the voltage becomes 3.5V.

【0010】[0010]

【実施例】以下で、本発明の半導体集積回路の実施例を
図1乃至図3を参照しながら説明する。 (1)第1の実施例 図1に示すように、半導体集積回路の入力端子3と、入
力回路1との間にNチャネル型のパス・トランジスタ7
を設け、該パス・トランジスタ7のゲート電圧Vpに電
源電圧Vcc2と等しい電圧を供給した点が特徴であ
る。このパス・トランジスタ7は、常時オン状態のシン
グル・チャネルのトランスミッション・ゲートと同じ動
作をする。他の回路構成は、従来例と同じであり、半導
体集積回路の電源電圧をVcc2(3.3V)、これに
接続される他の半導体集積回路4の電源電圧をVcc1
(5V)としている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT An embodiment of a semiconductor integrated circuit of the present invention will be described below with reference to FIGS. (1) First Embodiment As shown in FIG. 1, an N-channel type pass transistor 7 is provided between an input terminal 3 of a semiconductor integrated circuit and the input circuit 1.
Is provided and a voltage equal to the power supply voltage Vcc2 is supplied to the gate voltage Vp of the pass transistor 7. This pass transistor 7 operates in the same manner as a single-channel transmission gate that is always on. The other circuit configuration is the same as that of the conventional example, the power supply voltage of the semiconductor integrated circuit is Vcc2 (3.3 V), and the power supply voltage of the other semiconductor integrated circuit 4 connected thereto is Vcc1.
(5V).

【0011】本実施例によれば、他の半導体集積回路4
から、入出力端子3にVcc1(5V)の電圧が印加さ
れても、Nチャネル型のパス・トランジスタ7を設けた
ことにより、入力トランジスタ10,11に加わる最大
電圧は、Vcc2(3.3V)−Vtと低くなるので、
ゲート酸化膜の信頼性の問題を解消することができる。
ここで、Vtは、パス・トランジスタ7のしきい値電圧
である。したがって、例えば、Vtが0.5Vのとき、
当該電圧は2.8Vとなる。
According to this embodiment, another semiconductor integrated circuit 4
Therefore, even if a voltage of Vcc1 (5V) is applied to the input / output terminal 3, the maximum voltage applied to the input transistors 10 and 11 is Vcc2 (3.3V) by providing the N-channel type pass transistor 7. Since it will be as low as −Vt,
It is possible to solve the problem of reliability of the gate oxide film.
Where Vt is the threshold voltage of pass transistor 7. Therefore, for example, when Vt is 0.5 V,
The voltage is 2.8V.

【0012】(2)第2の実施例 第1の実施例では、パス・トランジスタ7を設けたこと
により、入出力インピーダンスが増加し、データの入力
速度が遅くなってしまう。そこで、本実施例では、パス
・トランジスタ7のゲート電圧Vpを適当な範囲内でV
cc2から昇圧し、低インピーダンス化を図った。その
ゲート電圧Vpは、電源電圧Vcc2より大きく、他の
半導体集積回路4の電源電圧Vcc1以下の電圧(Vc
c2<Vp≦Vcc1)としている。このような設定に
よれば、入力トランジスタ10,11に加わる最大電圧
は、Vp−Vtとなる。したがって、ゲート酸化膜の信
頼性に影響しない範囲内で、パス・トランジスタ7のイ
ンピーダンスを下げることが可能となる。例えば、Vt
=0.5Vとすると、Vpを4Vに設定した場合には、
当該電圧は3.5Vとなる。また、Vp=Vcc1(5
V)に設定した場合には、当該電圧は4.5Vとなると
いった如くである。ゲート酸化膜の信頼性と低インピー
ダンス化とのかね合いを考慮すると、Vpを4V程度に
設定するのが最も適している。
(2) Second Embodiment In the first embodiment, since the pass transistor 7 is provided, the input / output impedance increases and the data input speed becomes slow. Therefore, in this embodiment, the gate voltage Vp of the pass transistor 7 is set to V within an appropriate range.
The impedance was lowered by boosting the voltage from cc2. The gate voltage Vp is higher than the power supply voltage Vcc2 and is equal to or lower than the power supply voltage Vcc1 of another semiconductor integrated circuit 4 (Vc).
c2 <Vp ≦ Vcc1). With this setting, the maximum voltage applied to the input transistors 10 and 11 is Vp-Vt. Therefore, the impedance of the pass transistor 7 can be lowered within a range that does not affect the reliability of the gate oxide film. For example, Vt
= 0.5V, when Vp is set to 4V,
The voltage is 3.5V. Also, Vp = Vcc1 (5
When it is set to V), the voltage becomes 4.5V. Considering the balance between the reliability of the gate oxide film and the low impedance, it is most suitable to set Vp to about 4V.

【0013】Vpの発生方法としては、昇圧回路を使う
ことができる。その一例の回路を図2に示す。本回路
は、昇圧信号φpの立ち上がりを受けて、電源電圧Vc
c2を、(1+α)Vcc2−Vtという電圧へ昇圧す
る昇圧回路20と、昇圧回路20の出力Vpに接続さ
れ、その昇圧された電圧を保持するためのポンプ回路2
1と、ポンプ回路21にクロックを供給するリングオシ
レータ22と、から成る。ここで、Vtは、Nチャネル
型MOSトランジスタ23のしきい値である。23,2
5,26,28,29,30は、いずれもNチャネル型
MOSトランジスタであり、24はPチャネル型MOS
トランジスタ、27,31はカップリング・コンデンサ
である。また、αはカップリング容量C1とノードBに
おける寄生容量C2との分割比で定まる値である(1<
α<1)。
A booster circuit can be used as a method of generating Vp. An example of the circuit is shown in FIG. This circuit receives the rising edge of the boosting signal φp and receives the power supply voltage Vc.
A booster circuit 20 that boosts c2 to a voltage of (1 + α) Vcc2-Vt, and a pump circuit 2 that is connected to the output Vp of the booster circuit 20 and holds the boosted voltage.
1 and a ring oscillator 22 that supplies a clock to the pump circuit 21. Here, Vt is the threshold value of the N-channel MOS transistor 23. 23, 2
5, 26, 28, 29 and 30 are all N channel type MOS transistors, and 24 is a P channel type MOS transistor.
Transistors 27 and 31 are coupling capacitors. Further, α is a value determined by the division ratio of the coupling capacitance C1 and the parasitic capacitance C2 at the node B (1 <
α <1).

【0014】図3は、本回路の動作を示すタイミング図
である。昇圧信号φpがVcc2へ立ち上がると、カッ
プリング・コンデンサ27を介して、ノードBがVcc
2−Vtから、(1+α)Vcc2−Vtへ変化する。
トランジスタ24はオン状態であるので、Vpには、
(1+α)Vcc2−Vtが出力される。また、リーク
電流等によりVpが低下した場合には、ポンプ回路21
が働き、Vpは(1+β)Vcc2−2Vtという電圧
に保持される。なお、βはカップリング容量C3と寄生
容量C4との分割比で定まる値である(1<β<1)。
このようにして、Vpは、所定の電圧範囲に保持され
る。
FIG. 3 is a timing chart showing the operation of this circuit. When the boosted signal φp rises to Vcc2, the node B becomes Vcc through the coupling capacitor 27.
It changes from 2-Vt to (1 + α) Vcc2-Vt.
Since the transistor 24 is in the ON state, Vp is
(1 + α) Vcc2-Vt is output. Further, when Vp decreases due to a leak current or the like, the pump circuit 21
And Vp is held at a voltage of (1 + β) Vcc2-2Vt. Note that β is a value determined by the division ratio of the coupling capacitance C3 and the parasitic capacitance C4 (1 <β <1).
In this way, Vp is maintained in the predetermined voltage range.

【0015】[0015]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体集
積回路によれば、パス・トランジスタ7を設け、そのゲ
ートに電源電圧Vcc2を加えたことにより、入力端子
3にVcc1(5V)の電圧が印加されても、パス・ト
ランジスタ7により、入力トランジスタ10,11に加
わる最大電圧は、Vcc2(3.3V)−Vtと低くな
るので、ゲート酸化膜の信頼性の問題を解消することが
できる。これにより、低電圧の半導体集積回路と通常電
圧の半導体集積回路とのインターフェイスをとる場合
に、低電圧の半導体集積回路の信頼性を確保することが
可能となる。
As described above, according to the semiconductor integrated circuit of the present invention, since the pass transistor 7 is provided and the power supply voltage Vcc2 is applied to its gate, the voltage of Vcc1 (5V) is applied to the input terminal 3. Is applied, the maximum voltage applied to the input transistors 10 and 11 by the pass transistor 7 is as low as Vcc2 (3.3V) -Vt, so that the problem of reliability of the gate oxide film can be solved. . This makes it possible to ensure the reliability of the low-voltage semiconductor integrated circuit when interfacing the low-voltage semiconductor integrated circuit with the normal-voltage semiconductor integrated circuit.

【0016】また、パス・トランジスタ7のゲートに電
源電圧Vcc2より大きく、他の半導体集積回路4の電
源電圧Vcc1以下の電圧Vp(Vcc2<Vp≦Vc
c1)を供給することにより、入力トランジスタ10,
11に加わる最大電圧は、Vp−Vtとなる。したがっ
て、ゲート酸化膜の信頼性に影響しない範囲内で、パス
・トランジスタ7のインピーダンスを下げ、データの入
力速度の低下を極力抑えることができる。
A voltage Vp (Vcc2 <Vp≤Vc) which is higher than the power supply voltage Vcc2 at the gate of the pass transistor 7 and is equal to or lower than the power supply voltage Vcc1 of the other semiconductor integrated circuit 4.
By supplying c1), the input transistor 10,
The maximum voltage applied to 11 is Vp-Vt. Therefore, the impedance of the pass transistor 7 can be lowered and the reduction of the data input speed can be suppressed as much as possible within the range that does not affect the reliability of the gate oxide film.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例に係る半導体集積回路の回路図
である。
FIG. 1 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention.

【図2】パス・トランジスタのゲート電圧Vpの発生回
路を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a circuit for generating a gate voltage Vp of a pass transistor.

【図3】図2に示す回路の動作タイミング図である。FIG. 3 is an operation timing chart of the circuit shown in FIG.

【図4】従来例の半導体集積回路を示す回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram showing a semiconductor integrated circuit of a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 入力回路 3 入力端子 4 他の半導体集積回路 5 クロックド・インバータ 6 ラッチ回路 7 パス・トランジスタ 10,11 入力トランジスタ 14,15 出力トランジスタ 20 昇圧回路 21 ポンプ回路 22 リングオシレータ 1 Input Circuit 3 Input Terminal 4 Other Semiconductor Integrated Circuit 5 Clocked Inverter 6 Latch Circuit 7 Pass Transistor 10,11 Input Transistor 14,15 Output Transistor 20 Booster Circuit 21 Pump Circuit 22 Ring Oscillator

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H03K 19/003 E ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI technical display location H03K 19/003 E

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電源電圧が相対的に高い他の半導体集積
回路(電源電圧:Vcc1)から供給される入力電圧V
inが印加される入力端子と、該入力端子に接続された
入力回路と、前記入力回路の一部を構成し前記入力電圧
Vinがゲートに印加される入力トランジスタと、を有
する半導体集積回路(電源電圧:Vcc2)において、
前記入力端子と前記入力回路との間にNチャネル型のパ
ス・トランジスタを設け、該パス・トランジスタのゲー
トに電源電圧Vcc2と等しい電圧を供給することを特
徴とする半導体集積回路。
1. An input voltage V supplied from another semiconductor integrated circuit (power supply voltage: Vcc1) having a relatively high power supply voltage.
A semiconductor integrated circuit (power supply) having an input terminal to which in is applied, an input circuit connected to the input terminal, and an input transistor that forms a part of the input circuit and has the gate to which the input voltage Vin is applied. Voltage: Vcc2),
An N-channel type pass transistor is provided between the input terminal and the input circuit, and a voltage equal to the power supply voltage Vcc2 is supplied to the gate of the pass transistor.
【請求項2】 電源電圧が相対的に高い他の半導体集積
回路(電源電圧:Vcc1)から供給される入力電圧V
inが印加される入力端子と、該入力端子に接続された
入力回路と、前記入力回路の一部を構成し前記入力電圧
Vinがゲートに印加される入力トランジスタと、を有
する半導体集積回路(電源電圧:Vcc2)において、
前記入力端子と前記入力回路との間にNチャネル型のパ
ス・トランジスタを設け、該パス・トランジスタのゲー
トに電源電圧Vcc2より大きく、前記他の半導体集積
回路の電源電圧Vcc1以下の電圧Vp(Vcc2<V
p≦Vcc1)を供給することを特徴とする半導体集積
回路。
2. An input voltage V supplied from another semiconductor integrated circuit (power supply voltage: Vcc1) having a relatively high power supply voltage.
A semiconductor integrated circuit (power supply) having an input terminal to which in is applied, an input circuit connected to the input terminal, and an input transistor that forms a part of the input circuit and has the gate to which the input voltage Vin is applied. Voltage: Vcc2),
An N-channel type pass transistor is provided between the input terminal and the input circuit, and the gate of the pass transistor has a voltage Vp (Vcc2 higher than the power supply voltage Vcc2 and lower than the power supply voltage Vcc1 of the other semiconductor integrated circuit). <V
A semiconductor integrated circuit characterized by supplying p ≦ Vcc1).
【請求項3】パス・トランジスタのゲートに供給される
電圧Vpを、電源電圧Vcc2を昇圧する昇圧回路と、
該昇圧回路の出力に接続され、その昇圧された電圧を一
定範囲に保持するためのポンプ回路と、該ポンプ回路に
動作クロックを供給するリングオシレータとから成る回
路により発生させることを特徴とする請求項2記載の半
導体集積回路。
3. A booster circuit for boosting a voltage Vp supplied to the gate of a pass transistor to a power supply voltage Vcc2,
A pump circuit connected to the output of the booster circuit for holding the boosted voltage in a constant range, and a ring oscillator for supplying an operating clock to the pump circuit, are generated by a circuit. Item 2. The semiconductor integrated circuit according to item 2.
JP6228192A 1994-09-22 1994-09-22 Semiconductor integrated circuit Pending JPH0897703A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6228192A JPH0897703A (en) 1994-09-22 1994-09-22 Semiconductor integrated circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6228192A JPH0897703A (en) 1994-09-22 1994-09-22 Semiconductor integrated circuit

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0897703A true JPH0897703A (en) 1996-04-12

Family

ID=16872654

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6228192A Pending JPH0897703A (en) 1994-09-22 1994-09-22 Semiconductor integrated circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0897703A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7167050B2 (en) 1999-08-10 2007-01-23 Oki Electric Industry Co., Ltd. Operational amplifier having large output current with low supply voltage

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7167050B2 (en) 1999-08-10 2007-01-23 Oki Electric Industry Co., Ltd. Operational amplifier having large output current with low supply voltage

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6194887B1 (en) Internal voltage generator
US5193198A (en) Method and apparatus for reduced power integrated circuit operation
KR960003374B1 (en) Semiconductor integrated circuit device
US5811992A (en) Dynamic clocked inverter latch with reduced charged leakage and reduced body effect
JP3135859B2 (en) Substrate bias circuit
US6731143B2 (en) Power-up circuit
US6208197B1 (en) Internal charge pump voltage limit control
US6798276B2 (en) Reduced potential generation circuit operable at low power-supply potential
US5612645A (en) Dynamic MOSFET threshold voltage controller
US5801569A (en) Output driver for mixed supply voltage systems
RU2247465C1 (en) Voltage regulation circuit for integrated circuits of chip- carrying cards
US20040150435A1 (en) Method and apparatus for regulating predriver for output buffer
US5627739A (en) Regulated charge pump with low noise on the well of the substrate
JP2002083930A (en) Semiconductor device
EP0404125B1 (en) Booster circuit
US5483179A (en) Data output drivers with pull-up devices
JPH0897703A (en) Semiconductor integrated circuit
JP3239023B2 (en) Semiconductor integrated circuit
US5798915A (en) Progressive start-up charge pump and method therefor
JPH0793987A (en) Semiconductor integrated circuit device
JP2001044819A (en) High-voltage output inverter
KR950000533B1 (en) Data output buffer
JPH1127137A (en) Semiconductor integrated circuit
KR0183874B1 (en) Vint generation circuit of semiconductor memory device
JPH08251004A (en) Output circuit