JP3230337B2 - 磁気ヘッド装置用スライダ及び該スライダの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド装置用スライダ及び該スライダの製造方法Info
- Publication number
- JP3230337B2 JP3230337B2 JP13899693A JP13899693A JP3230337B2 JP 3230337 B2 JP3230337 B2 JP 3230337B2 JP 13899693 A JP13899693 A JP 13899693A JP 13899693 A JP13899693 A JP 13899693A JP 3230337 B2 JP3230337 B2 JP 3230337B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slider
- groove
- forming
- magnetic head
- rail
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、浮上型磁気ヘッド装置
用スライダ及びそのスライダの製造方法に関する。
用スライダ及びそのスライダの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】浮上型磁気ヘッド装置のスライダは、そ
の後端に記録再生用磁気ヘッド素子を有しており、磁気
ディスク等の高速で移動する磁気媒体表面とこのスライ
ダの浮上面（ＡＢＳ面）との間に押し込まれる空気流に
よって浮上力を発生する。スライダの浮上量（浮上高）
は、この浮上力と外部からスライダに印加されるばね力
とを釣り合わせて適切な値に調節される。
の後端に記録再生用磁気ヘッド素子を有しており、磁気
ディスク等の高速で移動する磁気媒体表面とこのスライ
ダの浮上面（ＡＢＳ面）との間に押し込まれる空気流に
よって浮上力を発生する。スライダの浮上量（浮上高）
は、この浮上力と外部からスライダに印加されるばね力
とを釣り合わせて適切な値に調節される。
【０００３】しかしながら、この種のスライダを一方の
端部を支点として回動するスウィングアームの他端部に
取り付けて支持した場合、スライダに対する磁気ディス
クの相対的移動速度の相違やスキューによって、ディス
クの内周部と外周部とでは浮上量が異なってしまう。図
３はこの現象を説明するための実測した特性図であり、
横軸は磁気ディスクとの相対的移動速度及びスキュー角
度、縦軸はスライダの浮上量をそれぞれ示している。同
図において、３０は相対速度の相違に基づく浮上量変化
特性、３１はスキューに基づく浮上量変化特性、３２は
実際の浮上量変化特性でありこれは変化特性３０及び３
１を合成したものに対応している。
端部を支点として回動するスウィングアームの他端部に
取り付けて支持した場合、スライダに対する磁気ディス
クの相対的移動速度の相違やスキューによって、ディス
クの内周部と外周部とでは浮上量が異なってしまう。図
３はこの現象を説明するための実測した特性図であり、
横軸は磁気ディスクとの相対的移動速度及びスキュー角
度、縦軸はスライダの浮上量をそれぞれ示している。同
図において、３０は相対速度の相違に基づく浮上量変化
特性、３１はスキューに基づく浮上量変化特性、３２は
実際の浮上量変化特性でありこれは変化特性３０及び３
１を合成したものに対応している。
【０００４】スライダのＡＢＳ面側に設けられるレール
の断面形状を工夫することにより、横方向圧力を発生さ
せてこのようなスキュー及び周速による浮上量の差を補
償し、磁気ディスクの内周部と外周部とで同一浮上量と
なるようにした技術が公知である（例えば、米国特許第
４，６７３，９９６号（特開昭６１−２７８０８７号に
対応）、米国特許第４，８７０，５１９号及び特公昭６
３−２１２７１号）。
の断面形状を工夫することにより、横方向圧力を発生さ
せてこのようなスキュー及び周速による浮上量の差を補
償し、磁気ディスクの内周部と外周部とで同一浮上量と
なるようにした技術が公知である（例えば、米国特許第
４，６７３，９９６号（特開昭６１−２７８０８７号に
対応）、米国特許第４，８７０，５１９号及び特公昭６
３−２１２７１号）。
【０００５】図４はこの公知技術によるスライダを示す
斜視図である。同図において、４０及び４１はスライダ
４２の一方の面側に突出する浮上用レール部、４３はレ
ール部４０及び４１間の溝部（ブリードスロット部）、
４４及び４５並びに４６及び４７はレール部４０及び４
１の側縁に連続してそれぞれ設けられた段差平面部を示
している。段差平面部４４及び４６は磁気ディスクの内
周側に対応した位置に、段差平面部４５及び４７は磁気
ディスクの外周側に対応した位置にそれぞれ設けられて
いる。これら段差平面部は、スライダ４２を横方向に加
圧してスライダ４２に対する磁気ディスクの相対的移動
速度の相違及びスキューに基づく浮上量の差を補償する
ためのものであり、そのレール表面（ＡＢＳ面）からの
深さ（段差）は０．６〜０．９μｍ程度となっている。
ブリードスロット部４３は、通常は、ＡＢＳ面からの深
さがほぼ２５〜４５μｍに設定されている。
斜視図である。同図において、４０及び４１はスライダ
４２の一方の面側に突出する浮上用レール部、４３はレ
ール部４０及び４１間の溝部（ブリードスロット部）、
４４及び４５並びに４６及び４７はレール部４０及び４
１の側縁に連続してそれぞれ設けられた段差平面部を示
している。段差平面部４４及び４６は磁気ディスクの内
周側に対応した位置に、段差平面部４５及び４７は磁気
ディスクの外周側に対応した位置にそれぞれ設けられて
いる。これら段差平面部は、スライダ４２を横方向に加
圧してスライダ４２に対する磁気ディスクの相対的移動
速度の相違及びスキューに基づく浮上量の差を補償する
ためのものであり、そのレール表面（ＡＢＳ面）からの
深さ（段差）は０．６〜０．９μｍ程度となっている。
ブリードスロット部４３は、通常は、ＡＢＳ面からの深
さがほぼ２５〜４５μｍに設定されている。
【０００６】近年、記録密度の向上に伴ってスライダの
浮上量が０．２μｍ以下であることが要求されており、
このような低浮上量のスライダを実現するためには、外
部からスライダに印加されるばね力を増大させるか又は
浮上用レール部４０及び４１の幅を細くして浮上力を低
減させることが必要となる。ばね力を増大させること
は、始動時の摩擦等のために耐久性の点で問題がある。
このため、一般にはレール幅を細くして低浮上力とする
ことが行われている（例えば特開昭６１−１０４４６１
号、特開昭６４−４３８１２号）。
浮上量が０．２μｍ以下であることが要求されており、
このような低浮上量のスライダを実現するためには、外
部からスライダに印加されるばね力を増大させるか又は
浮上用レール部４０及び４１の幅を細くして浮上力を低
減させることが必要となる。ばね力を増大させること
は、始動時の摩擦等のために耐久性の点で問題がある。
このため、一般にはレール幅を細くして低浮上力とする
ことが行われている（例えば特開昭６１−１０４４６１
号、特開昭６４−４３８１２号）。
【０００７】しかしながら、ブリードスロット部４３の
深さが約２５〜４５μｍと比較的深いため、レール幅を
細くしようとするとスライダの後端面上に設けられてい
る磁気ヘッド素子のコイル部分を削り込んでしまう恐れ
がある。このコイル部分の大きさには下限があるのでレ
ール幅の低減化があまり期待できなかった。さらに、ブ
リードスロット部４３が深いことからイオンビームミリ
ング法を適用することが難しく、機械加工によって溝形
成を行う必要がある。機械研削を行う場合、溝が深いた
めに研削量が多くなりブレードの摩耗等が問題となる。
深さが約２５〜４５μｍと比較的深いため、レール幅を
細くしようとするとスライダの後端面上に設けられてい
る磁気ヘッド素子のコイル部分を削り込んでしまう恐れ
がある。このコイル部分の大きさには下限があるのでレ
ール幅の低減化があまり期待できなかった。さらに、ブ
リードスロット部４３が深いことからイオンビームミリ
ング法を適用することが難しく、機械加工によって溝形
成を行う必要がある。機械研削を行う場合、溝が深いた
めに研削量が多くなりブレードの摩耗等が問題となる。
【０００８】このような問題点を解決するため、本出願
人は、ブリードスロット部４３の深さをほぼ１〜５μｍ
と浅くしたスライダについて既に提案している。
人は、ブリードスロット部４３の深さをほぼ１〜５μｍ
と浅くしたスライダについて既に提案している。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】この種のスライダにお
いても、浮上量補償用の段差平面部４４、４５、４６及
び４７の形成は、イオンビームによってレール部４０及
び４１の一部をミリングすることによって行われる。し
かしながら、スライダ材によっては耐摩耗性を考慮して
かなり硬い材質のものを使用している関係上、その研削
にかなりの長時間を要してしまう。特開昭６２−９５７
４号公報には、磁気ヘッドスライダの負圧面形成を機械
加工で行い、その後、クロスレールをスパッタリング等
によって付着加工することによってエッチング速度の遅
いスライダ材料でのスライダ加工を容易にすることが開
示されている。しかしながら、この公報には、浮上量補
償用の段差平面部の形成については何等記載されていな
い。
いても、浮上量補償用の段差平面部４４、４５、４６及
び４７の形成は、イオンビームによってレール部４０及
び４１の一部をミリングすることによって行われる。し
かしながら、スライダ材によっては耐摩耗性を考慮して
かなり硬い材質のものを使用している関係上、その研削
にかなりの長時間を要してしまう。特開昭６２−９５７
４号公報には、磁気ヘッドスライダの負圧面形成を機械
加工で行い、その後、クロスレールをスパッタリング等
によって付着加工することによってエッチング速度の遅
いスライダ材料でのスライダ加工を容易にすることが開
示されている。しかしながら、この公報には、浮上量補
償用の段差平面部の形成については何等記載されていな
い。
【００１０】従って本発明は、レール部間に浅い溝部を
有する磁気ヘッド装置用スライダにおいて、浮上量補償
用の段差平面部が容易にかつ短時間で形成できる磁気ヘ
ッド装置用スライダ及びその製造方法を提供するもので
ある。
有する磁気ヘッド装置用スライダにおいて、浮上量補償
用の段差平面部が容易にかつ短時間で形成できる磁気ヘ
ッド装置用スライダ及びその製造方法を提供するもので
ある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、磁気媒
体と対向する面側に該磁気媒体走行方向に延びる少なく
とも２つの浮上用レール部と、レール部間に設けられた
浅い溝部と、レール部の側縁に隣接して該レール部の浮
上面よりやや低い段差平面を構成する上面を有しており
レール部とは異なる材質によって溝部上に形成された積
層体とを備えた磁気ヘッド装置用スライダが提供され
る。
体と対向する面側に該磁気媒体走行方向に延びる少なく
とも２つの浮上用レール部と、レール部間に設けられた
浅い溝部と、レール部の側縁に隣接して該レール部の浮
上面よりやや低い段差平面を構成する上面を有しており
レール部とは異なる材質によって溝部上に形成された積
層体とを備えた磁気ヘッド装置用スライダが提供され
る。
【００１２】積層体の上面は、レール部の浮上面からの
段差が１μｍ未満の段差平面を構成していることが好ま
しい。
段差が１μｍ未満の段差平面を構成していることが好ま
しい。
【００１３】また本発明によれば、磁気媒体と対向する
面側に該磁気媒体走行方向に延びる少なくとも２つの浮
上用レール部を残してレール部間に浅い溝部を形成する
溝部形成工程と、レール部の側縁に隣接してレール部の
浮上面よりやや低い段差平面を積層によって溝部上に形
成する段差平面形成工程とを備えた磁気ヘッド装置用ス
ライダの製造方法が提供される。
面側に該磁気媒体走行方向に延びる少なくとも２つの浮
上用レール部を残してレール部間に浅い溝部を形成する
溝部形成工程と、レール部の側縁に隣接してレール部の
浮上面よりやや低い段差平面を積層によって溝部上に形
成する段差平面形成工程とを備えた磁気ヘッド装置用ス
ライダの製造方法が提供される。
【００１４】段差平面形成工程は、レール部の浮上面か
らの段差が１μｍ未満の平面を積層によって形成する工
程であることが好ましい。
らの段差が１μｍ未満の平面を積層によって形成する工
程であることが好ましい。
【００１５】溝部形成工程は、ほぼ１〜５μｍの深さの
溝部を形成する工程であることが好ましい。
溝部を形成する工程であることが好ましい。
【００１６】
【作用】浮上用レール部間の浅い溝部（ブリードスロッ
ト部）上に、レール部の側縁に隣接してこれらレール部
の浮上面よりやや低い段差平面を、切削ではなく積層に
よって形成している。ブリードスロット部の深さが浅い
ので、段差平面を形成するために積層する層の厚みは薄
くてよい。このため、段差平面を、蒸着、スパッタリン
グ又は塗布等の積層工程により短時間にかつ容易に、し
かも、高さ方向に非常に高い精度で形成することができ
る。
ト部）上に、レール部の側縁に隣接してこれらレール部
の浮上面よりやや低い段差平面を、切削ではなく積層に
よって形成している。ブリードスロット部の深さが浅い
ので、段差平面を形成するために積層する層の厚みは薄
くてよい。このため、段差平面を、蒸着、スパッタリン
グ又は塗布等の積層工程により短時間にかつ容易に、し
かも、高さ方向に非常に高い精度で形成することができ
る。
【００１７】
【実施例】図１は本発明の一実施例における磁気ヘッド
装置用スライダの後端側の一部の構成を概略的に示す斜
視図である。
装置用スライダの後端側の一部の構成を概略的に示す斜
視図である。
【００１８】同図において、１０及び１１はスライダ１
２の磁気媒体と対向する面側に設けられた２つの浮上用
レール部、１３はレール部１０及び１１間の溝部（ブリ
ードスロット部）、１４及び１５並びに１６及び１７は
レール部１０及び１１の側縁に連続してブリードスロッ
ト部１３上にそれぞれ設けられた積層体を示している。
積層体１４及び１６はそれらの上面が磁気ディスクの内
周側に対応した位置に段差平面部１４ａ及び１６ａを構
成しており、積層体１５及び１７はそれらの上面が磁気
ディスクの外周側に対応した位置に段差平面部１５ａ及
び１７ａを構成している。これら段差平面部は、スライ
ダ１２を横方向に加圧してスライダ１２に対する磁気デ
ィスクの相対的移動速度の相違及びスキューに基づく浮
上量の差を補償するためのものであり、そのレール表面
（ＡＢＳ面）からの深さ（段差）は０．６〜０．９μｍ
程度となっている。ブリードスロット部１３は、ＡＢＳ
面からの深さがほぼ１〜５μｍと浅く設定されている。
２の磁気媒体と対向する面側に設けられた２つの浮上用
レール部、１３はレール部１０及び１１間の溝部（ブリ
ードスロット部）、１４及び１５並びに１６及び１７は
レール部１０及び１１の側縁に連続してブリードスロッ
ト部１３上にそれぞれ設けられた積層体を示している。
積層体１４及び１６はそれらの上面が磁気ディスクの内
周側に対応した位置に段差平面部１４ａ及び１６ａを構
成しており、積層体１５及び１７はそれらの上面が磁気
ディスクの外周側に対応した位置に段差平面部１５ａ及
び１７ａを構成している。これら段差平面部は、スライ
ダ１２を横方向に加圧してスライダ１２に対する磁気デ
ィスクの相対的移動速度の相違及びスキューに基づく浮
上量の差を補償するためのものであり、そのレール表面
（ＡＢＳ面）からの深さ（段差）は０．６〜０．９μｍ
程度となっている。ブリードスロット部１３は、ＡＢＳ
面からの深さがほぼ１〜５μｍと浅く設定されている。
【００１９】レール部１０及び１１を含むスライダ１２
は、例えばＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ等のセラミクス材料から
構成されている。積層体１４〜１７は、スライダ１２よ
り軟らかく取扱が容易な材料、例えばカーボン、酸化物
又は有機物を蒸着、スパッタリング又は塗布等により積
層することによって形成されている。
は、例えばＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ等のセラミクス材料から
構成されている。積層体１４〜１７は、スライダ１２よ
り軟らかく取扱が容易な材料、例えばカーボン、酸化物
又は有機物を蒸着、スパッタリング又は塗布等により積
層することによって形成されている。
【００２０】図２は、上述のごとき段差平面部を有する
積層体１４〜１７の形成工程を示す断面図であり、以下
同図を参照して本実施例のスライダの製造方法について
説明する。
積層体１４〜１７の形成工程を示す断面図であり、以下
同図を参照して本実施例のスライダの製造方法について
説明する。
【００２１】まず、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣのセラミクスウ
エハ上に複数の磁気ヘッド素子を薄膜技術によってマト
リクス状に形成する。次いで、複数の磁気ヘッド素子が
一列に並んでなるバー２０にこのウエハを切断する。こ
の状態が図２（Ａ）に示されている。次いで、同図
（Ｂ）に示すように、レール部１０及び１１を残してこ
れらレール部１０及び１１間を機械加工、化学的エッチ
ング、プラズマエッチング又はイオンミリング等で切削
し、ＡＢＳ面からの深さがほぼ１〜５μｍと浅いブリー
ドスロット部１３を形成する。
エハ上に複数の磁気ヘッド素子を薄膜技術によってマト
リクス状に形成する。次いで、複数の磁気ヘッド素子が
一列に並んでなるバー２０にこのウエハを切断する。こ
の状態が図２（Ａ）に示されている。次いで、同図
（Ｂ）に示すように、レール部１０及び１１を残してこ
れらレール部１０及び１１間を機械加工、化学的エッチ
ング、プラズマエッチング又はイオンミリング等で切削
し、ＡＢＳ面からの深さがほぼ１〜５μｍと浅いブリー
ドスロット部１３を形成する。
【００２２】その後、同図（Ｃ）に示すように、所定パ
ターンに開口されているマスク２１をバー２０上に位置
合わせして取り付けた後、例えばカーボン又は酸化物等
を蒸着又はスパッタリングする。これにより、同図
（Ｄ）に示すように、ブリードスロット部１３上にレー
ル部１０及び１１の側縁に連続して積層体１４〜１７が
形成されることとなる。積層体１４〜１７の上面は段差
平面部１４ａ〜１７ａをそれぞれ構成しており、蒸着又
はスパッタリング時の積層体１４〜１７の厚みは、これ
ら段差平面部１４ａ〜１７ａのＡＢＳ面からの段差が１
μｍ未満、好ましくは０．６〜０．９μｍ程度となるよ
うに制御される。
ターンに開口されているマスク２１をバー２０上に位置
合わせして取り付けた後、例えばカーボン又は酸化物等
を蒸着又はスパッタリングする。これにより、同図
（Ｄ）に示すように、ブリードスロット部１３上にレー
ル部１０及び１１の側縁に連続して積層体１４〜１７が
形成されることとなる。積層体１４〜１７の上面は段差
平面部１４ａ〜１７ａをそれぞれ構成しており、蒸着又
はスパッタリング時の積層体１４〜１７の厚みは、これ
ら段差平面部１４ａ〜１７ａのＡＢＳ面からの段差が１
μｍ未満、好ましくは０．６〜０．９μｍ程度となるよ
うに制御される。
【００２３】ブリードスロット部１３が浅いため、上述
のように厚み制御される積層体１４〜１７は薄くてよい
こととなり、従って非常に短時間で積層形成することが
できる。また、段差平面部１４ａ〜１７ａが磁気媒体に
接触することはないので、積層体１４〜１７の材質は、
スライダ１２の材質より軟らかくてもよいこととなり積
層処理の容易な材質を大きな自由度で選ぶことができ
る。
のように厚み制御される積層体１４〜１７は薄くてよい
こととなり、従って非常に短時間で積層形成することが
できる。また、段差平面部１４ａ〜１７ａが磁気媒体に
接触することはないので、積層体１４〜１７の材質は、
スライダ１２の材質より軟らかくてもよいこととなり積
層処理の容易な材質を大きな自由度で選ぶことができ
る。
【００２４】積層体１４〜１７を形成した後、必要な研
磨工程等を実施した後、バー２０を個々のスライダに切
断する。
磨工程等を実施した後、バー２０を個々のスライダに切
断する。
【００２５】蒸着又はスパッタリングの代わりに、フォ
トレジスト等の有機物を塗布してパターン化することに
より積層体１４〜１７を形成してもよい。
トレジスト等の有機物を塗布してパターン化することに
より積層体１４〜１７を形成してもよい。
【００２６】上述したように本実施例では、浅いブリー
ドスロット部１３上に蒸着又はスパッタリングで積層体
１４〜１７を形成し、その上面を段差平面部１４ａ〜１
７ａとしているので、硬いスライダ材を削る従来技術の
場合より高さ制御が容易でありしかも精度が高い。しか
も、段差平面部１４ａ〜１７ａを短時間で積層形成する
ことができる。
ドスロット部１３上に蒸着又はスパッタリングで積層体
１４〜１７を形成し、その上面を段差平面部１４ａ〜１
７ａとしているので、硬いスライダ材を削る従来技術の
場合より高さ制御が容易でありしかも精度が高い。しか
も、段差平面部１４ａ〜１７ａを短時間で積層形成する
ことができる。
【００２７】段差平面部１４ａ〜１７ａを設けたことに
より、スライダに対する磁気ディスクの相対的移動速度
の相違及びスキューに基づく浮上量の差を補償すること
ができ、内周から外周まで一定浮上量に制御することが
できる。その結果、ゾーンビット法による高密度記録を
行う場合の磁気ヘッドとして用いることが可能となるこ
とはもちろんである。
より、スライダに対する磁気ディスクの相対的移動速度
の相違及びスキューに基づく浮上量の差を補償すること
ができ、内周から外周まで一定浮上量に制御することが
できる。その結果、ゾーンビット法による高密度記録を
行う場合の磁気ヘッドとして用いることが可能となるこ
とはもちろんである。
【００２８】さらに、ブリードスロット部１３の深さが
浅いため、浮上特性に悪影響を及ぼすことなく浮上用レ
ール部１０及び１１のＡＢＳ面の幅をより細くすること
ができる。その結果、低浮上量のスライダを容易に実現
することができ、しかもブリードスロット部１３の深さ
が浅いので、この部分の溝加工を機械研削で行った場合
にもブレードの摩耗が少なく加工時間も短くなる。ま
た、溝加工にイオンミリング法を用いることもできるの
で溝加工の深さバラツキが小さく均一性が高くなる。
浅いため、浮上特性に悪影響を及ぼすことなく浮上用レ
ール部１０及び１１のＡＢＳ面の幅をより細くすること
ができる。その結果、低浮上量のスライダを容易に実現
することができ、しかもブリードスロット部１３の深さ
が浅いので、この部分の溝加工を機械研削で行った場合
にもブレードの摩耗が少なく加工時間も短くなる。ま
た、溝加工にイオンミリング法を用いることもできるの
で溝加工の深さバラツキが小さく均一性が高くなる。
【００２９】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば、レール部の側縁に隣接してレール部の浮上面よりや
や低い段差平面を構成する上面を有しておりレール部と
は異なる材質によってレール部間の浅い溝部上に形成さ
れた積層体を備えているため、またレール部の側縁に隣
接してレール部の浮上面よりやや低い段差平面を積層に
よってレール部間の浅い溝部上に形成する溝部形成工程
を備えているため、浮上量補償用の段差平面部を、容易
にかつ短時間で、しかも、高さ方向に非常に高い精度で
形成することができる。
ば、レール部の側縁に隣接してレール部の浮上面よりや
や低い段差平面を構成する上面を有しておりレール部と
は異なる材質によってレール部間の浅い溝部上に形成さ
れた積層体を備えているため、またレール部の側縁に隣
接してレール部の浮上面よりやや低い段差平面を積層に
よってレール部間の浅い溝部上に形成する溝部形成工程
を備えているため、浮上量補償用の段差平面部を、容易
にかつ短時間で、しかも、高さ方向に非常に高い精度で
形成することができる。
【図１】本発明の一実施例における磁気ヘッド装置用ス
ライダの後端側の一部の構成を概略的に示す斜視図であ
る。
ライダの後端側の一部の構成を概略的に示す斜視図であ
る。
【図２】図１の実施例における段差平面部のの形成工程
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図３】ディスクの内周部と外周部とで浮上量が異なる
ことを説明するための実測した特性図である。
ことを説明するための実測した特性図である。
【図４】従来技術によるスライダの後端側の一部の構成
を概略的に示す斜視図である。
を概略的に示す斜視図である。
１０、１１ レール部 １２ スライダ １３ 溝部 １４、１５、１６、１７ 積層体 １４ａ、１５ａ、１６ａ、１７ａ 段差平面部
Claims (5)
- 【請求項１】 磁気媒体と対向する面側に該磁気媒体走
行方向に延びる少なくとも２つの浮上用レール部と、該
レール部間に設けられた浅い溝部と、前記レール部の側
縁に隣接して該レール部の浮上面よりやや低い段差平面
を構成する上面を有しており前記レール部とは異なる材
質によって前記溝部上に形成された積層体とを備えたこ
とを特徴とする磁気ヘッド装置用スライダ。 - 【請求項２】 前記積層体の上面が、前記レール部の浮
上面からの段差が１μｍ未満の段差平面を構成している
ことを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッド装置用ス
ライダ。 - 【請求項３】 磁気媒体と対向する面側に該磁気媒体走
行方向に延びる少なくとも２つの浮上用レール部を残し
て該レール部間に浅い溝部を形成する溝部形成工程と、
前記レール部の側縁に隣接して該レール部の浮上面より
やや低い段差平面を積層によって前記溝部上に形成する
段差平面形成工程とを備えたことを特徴とする磁気ヘッ
ド装置用スライダの製造方法。 - 【請求項４】 前記段差平面形成工程は、前記レール部
の浮上面からの段差が１μｍ未満の平面を積層によって
形成する工程であることを特徴とする請求項３に記載の
製造方法。 - 【請求項５】 前記溝部形成工程は、ほぼ１〜５μｍの
深さの溝部を形成する工程であることを特徴とする請求
項３又は４に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13899693A JP3230337B2 (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | 磁気ヘッド装置用スライダ及び該スライダの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13899693A JP3230337B2 (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | 磁気ヘッド装置用スライダ及び該スライダの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06325528A JPH06325528A (ja) | 1994-11-25 |
| JP3230337B2 true JP3230337B2 (ja) | 2001-11-19 |
Family
ID=15235048
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13899693A Expired - Fee Related JP3230337B2 (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | 磁気ヘッド装置用スライダ及び該スライダの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3230337B2 (ja) |
-
1993
- 1993-05-18 JP JP13899693A patent/JP3230337B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06325528A (ja) | 1994-11-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6139936A (en) | Discrete track media produced by underlayer laser ablation | |
| US7008550B2 (en) | Method for forming a read transducer by ion milling and chemical mechanical polishing to eliminate nonuniformity near the MR sensor | |
| US5761790A (en) | Process for manufacturing a thin film slider with protruding R/W element formed by chemical-mechanical polishing | |
| EP0617407A2 (en) | Contact recording disk file and head assembly for use therein | |
| JPH05342527A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| US5156704A (en) | Method for fabricating magnetic head air bearing sliders | |
| JP2500479B2 (ja) | 磁気ヘッド装置用スライダ及び該スライダの製造方法 | |
| JPH11306708A (ja) | 浮上ヘッドスライダおよび記録ディスク装置 | |
| US20030133227A1 (en) | Magnetic disk device and magnetic head slider | |
| US7894162B2 (en) | Method to protect the magnetic recording head from thermal asperities during disk drive operation | |
| JP3230337B2 (ja) | 磁気ヘッド装置用スライダ及び該スライダの製造方法 | |
| US6385011B1 (en) | Air bearing slider and manufacturing method therefor | |
| US6195235B1 (en) | Slider with deposited roughened surface structure | |
| EP1204097B1 (en) | Magnetic recording medium, method of manufacture thereof, and magnetic disk apparatus | |
| US20050068677A1 (en) | Stitched write head with staircase P2 defined throat height | |
| US5808832A (en) | Ultrathin silicon wear coating for a slider and thin film magnetic head elements at an ABS | |
| Gatzen | Rigid disk slider micromachining challenges to meet microtribology needs | |
| US6844144B2 (en) | Single slider air bearing process using polymer brush formation | |
| US8004796B2 (en) | Slider with contact features initiated at wafer level | |
| US7554770B2 (en) | Air bearing surface of thin-film magnetic head slider and method of processing the same | |
| JPH05282646A (ja) | 浮上型磁気ヘッド装置 | |
| US10586559B1 (en) | Side shield formation | |
| EP0689198A2 (en) | Hard disk drive transducer-slider having controlled contact bearing with controlled pitch and roll | |
| EP0654783A1 (en) | Multilayered longitudinal magnetic recording media with improved overwrite | |
| JPH08147918A (ja) | 磁気ヘッドスライダ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20010814 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070914 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080914 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090914 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |