JP3230179B2 - 電子写真感光体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関する
ものであり、特にプリンタ、複写機等に有効な高感度で
耐久性に優れた感光体に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真システムの感光体としては、セ
レン、硫化カドミウム等の無機光電導性物質を主成分と
する無機感光体と種々の有機光導電性化合物を主成分と
する有機感光体に大別することができる。従来、高速の
複写機用には感度特性に優れる無機感光体が用いられて
きたが、製造原料や製品化合物の毒性による制約が大き
く、また環境保護の観点からも近年は無害な有機感光体
への置き換え要請が強くなってきている。このような流
れに基づいて有機感光体の高性能化の要求は強く、特に
高感度化のための技術開発は緊急の課題となっている。

【０００３】有機感光体の性能向上のために用いられる
最も一般的な方法は光キャリアの発生機能とキャリア輸
送機能を異なる物質に個別に分担させる機能分離の技術
である。キャリアの発生とキャリアの輸送を別々の物質
に担わせることにより、それぞれに適した物質を広い範
囲のものから選択することが可能となった。特に有機感
光体では化合物の種類が豊富であるためこのような機能
分離による高性能化において有利であり、多くのキャリ
ア発生物質及びキャリア輸送物質が提案されてきてい
る。有機感光体のキャリア発生物質としては例えば、ジ
ブロムアンスアンスロンに代表される多環キノン化合物
や、無金属フタロシアニン、チタニルフタロシアニン等
のフタロシアニン化合物、ビスアゾ化合物やトリスアゾ
化合物、チアピリリウム化合物とポリカーボネートとの
共晶錯体、スクエアリウム化合物などが実用化されてき
た。またキャリア輸送物質としては例えば、ピラゾリン
化合物、ポリアリールアルカン化合物、トリフェニルア
ミン化合物、ヒドラゾン化合物、テトラフェニルベンジ
ジン化合物、スチリル化合物などが実用化されてきた。

【０００４】なかでもキャリア発生物質の性能は直接に
感度特性を決定してしまうが、その基本機能であるとこ
ろの入射光を吸収して電子キャリアを生成させる能力
は、キャリア発生物質の分子構造に依存するばかりでな
くそれらの分子の集合形態によっても著しく影響され
る。例えば上記の無金属フタロシアニンやチタニルフタ
ロシアニンでは多くの結晶多形が知られており、分子構
造が同じでも結晶型が異なるとキャリア発生の量子効率
は全く異なるため、結果としての電子写真感度に大きな
差が見られる。無金属フタロシアニンのＸ型結晶やτ型
結晶はα型結晶やβ型結晶に比べて１オーダー大きい感
度を示すことやチタニルフタロシアニンのＹ型結晶がＡ
型結晶やＢ型結晶に比べて３〜４倍高い感度を示すこと
はよく知られたことである。同様にアゾ化合物やスクエ
アリウム化合物においても分子凝集構造の違いによって
感度が著しく変化する。

【０００５】このようにキャリア発生物質の開発におい
ては化学構造の最適化と同様にその結晶構造或いは分子
凝集構造の最適化が不可欠な要素となっている。

【０００６】本発明を構成する構造式（１）または
（２）のイミダゾールペリレン化合物は特公昭61-8423
号（米国特許3,972,717号）においてキャリア発生物質
として用いる技術が公開され、その後本化合物をキャリ
ア発生物質とした多くの電子写真感光体が検討されてき
ている。特開昭59ー59686号には主として本化合物を分散
塗布して感光体を作製する技術が示され、特開昭61ー275
848号（米国特許4,587,189号）、特開昭63-180956号、
特開昭63-291061号、特開平4-186363号、特開平4-18636
4号には本化合物と特定のキャリア輸送物質とを組み合
わせて用いる技術が示されている。また特開昭64ー56444
号、特開平4ー204850号にはアシッドペースト処理によっ
て本化合物を微粒化する技術が示されており、特公昭63
ー41054号には本化合物を含むペリレン系化合物を昇華精
製して用いる技術が示されている。

【０００７】しかしながら、これらの従来技術において
は本化合物の結晶状態に関する検討が行われていないた
めに十分な感度特性を引き出すことができておらず、近
年の高感度化の要求に答えることができていない。

【０００８】本化合物の結晶型については、J.Imag.Sc
i.,vol.33,P151-159(1989)にいくつかのＸ線回折スペク
トルが開示されている。しかしながらこれらは粉末結晶
に関するものであり、本発明者らの検討においてはこれ
らの粉末を用いて感光体塗布液を調製した場合に、塗布
液調製の条件や化学的純度に依存して感光体塗布物のＸ
線回折スペクトルが変化し、同時に感光体特性も大きく
変化することが明らかとなった。

【０００９】このような観点から特開平5-249719号及び
特開平5-281769号においては本化合物の結晶状態を制御
する技術が公開されている。これらの技術は乾式粉砕法
によって結晶状態を調節するものであるが、このような
乾式粉砕は局所的に強いせん断力がかかるため、粉砕の
均一化の点で問題があり電子写真画像に黒点を生じ易い
という欠点がある。また乾式粉砕は結晶粉末に対する機
械的衝撃が大きいために結晶欠陥が導入され易く、その
結果として帯電電位保持能の低下が起こる。このように
本化合物に対しては結晶制御技術がまだ不十分であり、
その性能が引き出されていない。

【００１０】一方、感光体は帯電、露光を何度も繰り返
して使用されるのでそのような状況においての特性安定
性が感光体の寿命を決定する。このような繰り返し安定
性を持たせるために従来から酸化防止剤として知られた
化合物を添加して用いることが工夫されている。しかし
そのような方法を用いても特に高温高湿の環境下におい
ては十分な繰り返し安定性を得ることが難しいのが実状
であった。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高感
度でかつ繰り返し安定性に優れ、高速の複写機、プリン
タ、ファックス等に広く用いることができる電子写真感
光体を提供することである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の構成における電
子写真感光体は、キャリア発生物質として、昇華精製後
アシッドペースト処理されたＣｕ−Ｋα線に対するＸ線
回折スペクトルの6.3±0.2°、12.4±0.2°、25.3±0.2
°、27.1±0.2°にピークを有する結晶であって、12.4
±0.2°のピーク強度が最大であると同時に同ピークの
半値幅が0.65゜以上であり、かつ11.5±0.2°に明瞭な
ピークを示さない状態の構造式（１）または（２）のイ
ミダゾールペリレン化合物とヒンダードフェノール基及
びヒンダードアミン基のいずれか一方もしくは両方を同
一分子中に合わせて２個以上有する化合物とを含有す
る。

【００１３】

【化２】

【００１４】構造式（１）及び／または（２）のイミダ
ゾールペリレン化合物の結晶型については、J.Imag.Sc
i.,vol.33,P151-159 (1989)に、α、γ、ε、ρと呼ば
れる４種のＸ線回折スペクトルが開示されている。基本
的にα型とε型は類似の結晶構造であるが、ρ型はこれ
らと全く異なる結晶であることは明らかである。本発明
の結晶状態はこのρ型結晶に基づいている。このρ型結
晶を有機溶媒中に分散微粒化するとき、分散工程中に起
こる状態の変化が感度特性に重大な影響を与える。

【００１５】一般に高感度な感光体特性を得るためには
第一にキャリア発生物質の微粒化された均一な塗布膜を
得ることが必要である。このためにまずはキャリア発生
物質を微粒化することが重要となる。微粒化によって結
晶子サイズがある大きさ以下になってくるとＸ線回折ス
ペクトルにおいて回折ピークのブロードニングとピーク
強度の低下が起こる。イミダゾールペリレン化合物のρ
型結晶はＣｕ−Ｋα線に対するＸ線回折スペクトルにお
いて6.3±0.2°、12.4±0.2°、25.3±0.2°、27.1±0.
2°のピークが特徴であるが、この他に11.5±0.2°に固
有のピークが存在する。ρ型結晶を微粒化していくとピ
ーク全体がブロードニングするが、本発明では特に12.4
±0.2°のピークの半値幅が0.65゜以上になることが重
要であり、このようにブロードニングした 12.4±0.2°
のピークによって11.5±0.2°のピークが埋もれてしま
い、11.5±0.2°の領域にピークが認められなくなる必
要がある。ただし12.4±0.2°のピークの半値幅が 1.5
゜を越えるとρ型結晶状態とはいえなくなる。

【００１６】また本発明のイミダゾールペリレン化合物
の感光体特性はＸ線回折スペクトルにおけるピークの相
対強度によって特徴づけられる結晶状態に依存する。該
イミダゾールペリレン化合物は、合成した段階では6.3
゜付近のピーク強度が最大である場合が多く、また昇華
したものでは25〜28゜のピーク強度が最大となる場合と
12.4°のピーク強度が最大となる場合がある。しかしこ
れらを有機溶媒中で分散微粒化すると各ピークの相対強
度は変化し、したがって感光体特性が変化していくが、
本発明の結晶はＸ線回折スペクトルの12.4±0.2°のピ
ーク強度が最大となるようにすることにより特に優れた
感度特性を得ることができる。

【００１７】すなわち本発明ではρ型結晶の12.4±0.2
°のピークの半値幅が0.65゜以上であり、かつ11.5±0.
2°に明瞭なピークを示さない状態まで微粒化したうえ
で、12.4±0.2°のピーク強度が最大である状態が用い
られる。

【００１８】キャリア発生物質のこのような結晶状態を
得るための方法は特に限定されないが、乾式粉砕法に見
られるような電子写真画像の欠陥を防止するために最も
優れた方法は、昇華精製したイミダゾールペリレン化合
物を硫酸を用いてアシッドペースト処理（アモルファス
化もしくは低結晶化）し、これを親和性の高い有機溶媒
中でポリマーバインダを介在させながら穏やかに分散す
ることによって結晶成長させながら目的の結晶状態にす
るものである。この方法においては均一な微粒化が達成
され、また機械的衝撃が小さいために結晶欠陥の導入に
よる特性低下が避けられる。

【００１９】構造式（１）または（２）のイミダゾール
ペリレン化合物はペリレン-3,4,9,10-テトラカルボン酸
二無水物とo-フェニレンジアミンの脱水縮合反応によっ
て合成できる。

【００２０】合成されたイミダゾールペリレン化合物は
不純物を除去するために昇華精製にかけられる。昇華操
作は１回から５〜６回程度の範囲で繰り返されるが、望
ましくは２回以上の繰り返しを行う方が良い。昇華精製
を行わないで塗布液を調製した場合は本発明の結晶状態
を得ることが難しい。昇華して得られたイミダゾールペ
リレン化合物はＸ線回折スペクトルにおいてシャープな
ピークパターンを示し、結晶化度の高い状態であること
が確認される。

【００２１】昇華精製して得られた高結晶化度のイミダ
ゾールペリレン化合物は硫酸を用いたアシッドペースト
処理を行うことにより結晶化度の低い状態に変換され
る。すなわち濃硫酸に溶解した後、その溶液を水もしく
はメタノール等の貧溶媒にあけて析出させ、これをろ
過、乾燥して低結晶性の微粒子粉末を得るものである。

【００２２】アシッドペースト処理後の低結晶性粉末は
イミダゾールペリレン化合物に対する親和性の高い溶媒
中で適当な分散機を用いて分散処理が行われる。親和性
の高い溶媒としては炭素数４〜８のケトン系溶媒もしく
は炭素数４〜７の環状エーテル系溶媒もしくは炭素数２
〜４のハロゲン化炭化水素溶媒が有用である。なかでも
特に好ましい溶媒として、メチルエチルケトン、メチル
イソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジクロルエタン、ト
リクロルエタンを挙げることができる。またこの分散処
理においては適当なバインダポリマーの存在によって良
い結果を与えることができる。

【００２３】特に望ましいバインダポリマーとしてはポ
リビニルビチラールやポリビニルホルマールなどのポリ
ビニルアセタール樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル系樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリ
ル樹脂及びメタクリル樹脂、アクリル及びメタクリル共
重合樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン共重合樹脂、ポ
リスチレン、スチレン共重合樹脂、フェノキシ樹脂、フ
ェノール樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等を挙げる
ことができる。

【００２４】得られた分散塗布液を用いて感光体が作ら
れる。感光体中において本発明の結晶状態が実現されて
いるかどうかは感光体から剥離したイミダゾールペリレ
ン化合物のＸ線回折スペクトルを測定することで確認で
きる。また感光体塗布の過程では結晶状態の変化は起き
ないので、分散塗布液から溶媒を除去しＸ線回折スペク
トルを測定しても同じ結果が得られる。

【００２５】これらのサンプルはＣｕ−Ｋα線をＸ線源
とした粉末Ｘ線回折測定装置によって測定され、ブラッ
グ角２θの関数として回折線強度分布が得られる。この
とき試料量が十分な場合はピーク強度間の相対強度比は
試料量によって変化しないが、試料量が少なくなると低
角度側のピーク強度が相対的に大きくなる。したがって
測定においてはピーク強度比が試料量によって変化しな
い程度に十分な量の試料を用いなければならない。

【００２６】ここでのピーク強度は図１に示したように
ノイズを含んだベースラインレベルからの立ち上がり点
ａとｂを結ぶ線分と頂点ｃからおろした垂線との交点ｄ
を起点としたときの頂点ｃまでの高さ（線分cdの長さ）
で定義されるものとする。またピークの半値幅は点ｄを
起点としてcd／２の高さの位置におけるピーク幅として
定義される。

【００２７】本発明の結晶状態にあるイミダゾールペリ
レン化合物は感度特性に優れるが、特に高温高湿の環境
下において繰り返し使用したときに露光部電位が上昇す
る傾向にあり、そのような問題を改善するためにヒンダ
ードフェノール系化合物やヒンダードアミン系化合物を
共存させる方法を用いることができる。本発明の結晶状
態にあるイミダゾールペリレン化合物に対しては、特に
１つの化合物中に２つ以上のヒンダードフェノール基も
しくはヒンダードアミン基を有するような化合物におい
て顕著な繰り返し特性の安定化効果がみられる。すなわ
ち、ヒンダードフェノール基が２つ以上あるか、ヒンダ
ードアミン基が２つ以上ある場合、もしくはヒンダード
フェノール基とヒンダードアミン基の両方が合わせて２
つ以上ある場合に優れた効果が得られるものである。ヒ
ンダードフェノール基とはフェノール水酸基の隣接位の
少なくとも一つが分岐アルキル置換されたものを意味し
ており、特に（ｔ）ブチル基で置換されたものが望まし
い。ヒンダードアミン基とはアミン窒素原子に少なくと
も一つの分岐アルキル基が結合したものを意味してお
り、特に２位にアルキル置換したピペリジル基が望まし
い。

【００２８】上記ヒンダードフェノール基の望ましい構
造は以下の構造式（３）もしくは（４）で表すことがで
き、ヒンダードアミン基の望ましい構造は構造式（５）
もしくは（６）で表すことができる。

【００２９】

【化３】

【００３０】式中、Ｒ₁〜Ｒ₁₆は水素原子、アルキル、
アルコキシ、アリール、アラルキル、アシル、ハロゲ
ン、ニトロ、シアノ、アミド、カルバモイルを表す。Ｒ
₁は分岐アルキルであり、Ｒ₇はアルキル基である。

【００３１】具体的な化合物例を次に示す。

【００３２】

【化４】

【００３３】

【化５】

【００３４】

【化６】

【００３５】

【化７】

【００３６】感光体の構成は種々の形態をとることがで
きる。代表的には図１（ａ）〜（ｆ）のような構成とな
る。図１（ａ）の場合、導電性支持体１上にキャリア発
生層２を形成し、これにキャリア輸送層３を積層して感
光層４を形成したものであり、同図（ｂ）はキャリア発
生層２とキャリア輸送層３を逆にした感光層４′を形成
したものである。同図（ｃ）は（ａ）の層構成において
感光層４と導電性支持体１の間に中間層５を設けたもの
であり、同図（ｄ）は（ｂ）の層構成において感光層
４′と導電性支持体１との間に中間層５を設けたもので
ある。同図（ｅ）はキャリア発生物質６とキャリア輸送
物質７を含有する感光層４″を形成したものであり、同
図（ｆ）はこのような感光層４″と導電性支持体１との
間に中間層５を設けたものである。図１（ａ）〜（ｆ）
の構成において最表層にはさらに保護層を設けることが
できる。

【００３７】キャリア発生層の形成には上記のようにし
て結晶状態を調整した分散塗布液を用い、バーコート
法、スピンコート法、アプリケーター塗布、スプレー塗
布、デイップ塗布等によって行うことができる。キャリ
ア発生物質の分散に有用な装置としては超音波分散機、
ボールミル、サンドミル、ホモミキサ、ペイントシェイ
カー等を用いることができる。キャリア発生層形成のた
めにバインダを用いると有用である。キャリア輸送層の
形成にはキャリア輸送物質を溶媒に溶かした液を用い、
キャリア発生層の場合に述べたのと同様の塗布方法によ
って行うことができる。感光層膜の機械的物性向上のた
めにポリマーバインダを用いることが望ましく、キャリ
ア輸送物質といっしょに溶媒に溶かして用いられる。

【００３８】キャリア輸送物質としては種々のものが使
用できるが、代表的なものとしては、例えばオキサゾー
ル、オキサジアゾール、チアゾール、チアジアゾール、
イミダゾール等に代表される含窒素複素環核及びその縮
合環核を有する化合物、ポリアリールアルカン系の化合
物、ピラゾリン系化合物、ヒドラゾン系化合物、トリア
リールアミン化合物、スチリル系化合物、スチリルトリ
フェニルアミン系化合物、β-フェニルスチリルトリフ
ェニルアミン系化合物、ブタジエン系化合物、ヘキサト
リエン系化合物、カルバゾール系化合物、縮合多環系化
合物等が挙げられる。

【００３９】キャリア輸送物質の具体例を示す。

【００４０】

【化８】

【００４１】

【化９】

【００４２】

【化１０】

【００４３】

【化１１】

【００４４】

【化１２】

【００４５】バインダに対するキャリア輸送物質の割合
は10〜500重量％とされ、さらには20〜150重量％が好ま
しい。キャリア発生層の厚さは0.01〜20μmとされる
が、さらには0.05〜５μmが好ましい。キャリア輸送層
の厚みは１〜100μmとされるが、さらには５〜50μmが
好ましい。

【００４６】キャリア輸送層、中間層に用いるバインダ
として有用なポリマーとしては例えば、ポリカーボネー
ト、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、
塩化ビニル共重合樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチ
レン、スチレン共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニル
ホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタ
ール、ポリビニルカルバゾール、シリコーン樹脂、シリ
コーン共重合樹脂、ポリエステル、フェノキシ樹脂、フ
ェノール樹脂、ポリウレタン、エポキシ樹脂等を挙げる
ことができる。

【００４７】導電性支持体としては金属板、金属ドラム
が用いられる他、導電性ポリマーや酸化インジウム等の
導電性化合物もしくはアルミニウム、パラジウム等の金
属の薄層を塗布、蒸着、ラミネート等の手段により紙や
プラスチックフイルム等の基体の上に設けてなるものを
用いることができる。

【００４８】

【実施例】

（合成例）ペリレン-3,4,9,10-テトラカルボン酸二無水
物 39.2ｇ、o-フェニレンジアミン 32.4ｇ、α-クロル
ナフタレン 800mlを混合し、260℃で６時間反応させ
た。放冷後、析出晶を濾取しメタノールで繰り返し洗浄
した。加熱乾燥して構造式（１）と（２）の混合物とし
てのイミダゾールペリレン化合物 51.1ｇを得た。こう
して得られたものを合成品と呼ぶ。

【００４９】（昇華例）合成例で得たイミダゾールペリ
レン化合物は５×10^-4〜５×10^-3torrの圧力下において
500℃の加熱条件下で昇華精製を行った。揮発性の不純
物はシャッターを用いて除去した。得られた精製結晶は
もう一度同様の昇華処理を行ってさらに高純度化した。
このようにして２回の昇華操作を経たものを昇華品と呼
ぶ。

【００５０】（アシッドペースト処理例）イミダゾール
ペリレン化合物の昇華品 20ｇを600mlの濃硫酸に溶解し
た液をグラスフィルターで濾過した後、1200mlの純水中
に滴下して析出させた。これを濾取し純水で十分に洗浄
してから乾燥させた。こうして得られたものをＡＰ品
（アシッドペースト処理品）と呼ぶ。

【００５１】（実施例１）ガラスビーズを充填したサン
ドミル装置に、イミダゾールペリレン化合物のＡＰ品
７ｇ、ポリビニルブチラール樹脂「エスレック ＢＬ
Ｓ」（積水化学工業社製）1.5ｇ、メチルエチルケトン
250mlを入れ15時間の分散処理を行った。こうして得ら
れた分散液の一部を濃縮乾固しＸ線回折スペクトルを測
定した。結果を図３に示す。12.4±0.2°のピーク強度
が最大であり、半値幅は0.86°であった。また11.5±0.
2°に明瞭なピークはみられなかった。

【００５２】得られた分散液はアルミニウムを蒸着した
ポリエステルベース上にワイヤーバーを用いて塗布し、
膜厚0.5μmのキャリア発生層を形成した。次いでキャリ
ア輸送物質 Ｔ−６；１部と例示化合物Ａ−３；0.1部、
ポリカーボネート「Ｚ−200］（三菱ガス化学社製）1.4
部を1,2-ジクロルエタン 10部に溶解した液をブレード
塗布機を用いて塗布し乾燥の後、膜厚28μmのキャリア
輸送層を形成した。こうして得られた感光体をサンプル
１とする。

【００５３】（実施例２）メチルエチルケトンの代わり
に1,2-ジクロルエタン 250mlを用いた他は実施例１と同
様にして分散処理を行い、得られた分散液のＸ線回折ス
ペクトルを測定した。それを図４に示す。12.4±0.2°
のピーク強度が最大であり、半値幅は0.94°であった。
また11.5±0.2°に明瞭なピークはみられなかった。さ
らにこの分散液を用い実施例１と同様にして感光体を作
製した。これをサンプル２とする。

【００５４】（実施例３）メチルエチルケトンの代わり
にテトラヒドロフラン 250mlを用いた他は実施例１と同
様にして分散処理を行い、得られた分散液のＸ線回折ス
ペクトルを測定した。それを図５に示す。12.4±0.2°
のピーク強度が最大であり、半値幅は0.68°であった。
また11.5±0.2°に明瞭なピークはみられなかった。さ
らにこの分散液を用い実施例１と同様にして感光体を作
製した。これをサンプル３とする。

【００５５】（比較例１）サンドミル分散装置の代わり
に超音波分散装置を用いて５時間の分散を行った他は実
施例１と同様にして分散液を得た。得られた分散液のＸ
線回折スペクトルを測定した結果を図６に示す。結晶成
長が過度となり12.4±0.2°のピークの半値幅は0.60°
であった。また11.5±0.2°にピークが認められた。さ
らに、この分散液を用い実施例１と同様にして感光体を
作製した。これを比較サンプル（１）とする。

【００５６】（比較例２）イミダゾールペリレン化合物
のＡＰ品の代わりに昇華品を用いて実施例１と同様の分
散処理を行い、得られた分散液のＸ線回折スペクトルを
測定した。結果を図７に示す。12.4±0.2°のピークの
半値幅は0.68°であり、12.4±0.2°のピークよりも27.
1±0.2°のピーク強度の方が大きい。さらにこの分散液
を用い実施例１と同様にして感光体を作製した。これを
比較サンプル（２）とする。

【００５７】（比較例３）イミダゾールペリレン化合物
のＡＰ品の代わりに昇華品を用い、ポリビニルブチラー
ル樹脂の代わりにポリカーボネート樹脂「パンライトＬ
1250」（帝人化成社製）を用い、メチルエチルケトンの
代わりにトルエンを用いた他は実施例１と同様にして分
散処理を行い、得られた分散液のＸ線回折スペクトルを
測定した。それを図８に示す。12.4±0.2°のピークの
半値幅は0.52°であり、12.4±0.2°のピークよりも27.
1±0.2°のピーク強度の方が大きい。また11.5±0.2°
にピークが認められた。さらにこの分散液を用い実施例
１と同様にして感光体を作製した。これを比較サンプル
（３）とする。

【００５８】（評価１）以上のようにして得られたサン
プルは複写機「U-BIX 3035」改造機（コニカ社製）に装
着し、40℃，80％RHの環境において初期未露光部電位Ｖ
H(Ｖ)、初期露光部電位ＶL(Ｖ)を測定し、さらに同環境
下において１万回の繰り返しテストを行った後の後期未
露光部電位ＶH′(Ｖ) 、後期露光部電位ＶL′(Ｖ)を測
定した。結果を表１に示す。

【００５９】

【表１】

【００６０】（実施例４〜９）例示化合物Ａ−３をＡ−
２，Ａ−７，Ａ−13，Ａ−15，Ａ−17，Ａ−19に代えた
他は実施例１と同様にして感光体を作製した。これをサ
ンプル４〜サンプル９とする。

【００６１】（比較例４〜７）例示化合物Ａ−３を下記
構造式Ｚ−１，Ｚ−２，Ｚ−３，Ｚ−４の化合物に代え
た他は実施例１と同様にして感光体を作製した。これを
比較サンプル４〜比較サンプル７とする。

【００６２】

【化１３】

【００６３】（比較例８）実施例１において例示化合物
Ａ−３を添加しなかった他は実施例１と同様にして感光
体を作製した。これを比較サンプル８とする。

【００６４】（実施例10）ガラスビーズを充填したサン
ドミル装置に、イミダゾールペリレン化合物のＡＰ品
７ｇ、ポリエステル樹脂「バイロン200」（東洋紡社
製）2.0ｇ、メチルエチルケトン 250mlを入れ15時間の
分散処理を行った。こうして得られた分散液の一部を濃
縮乾固しＸ線回折スペクトルを測定した。12.4±0.2°
のピーク強度が最大であり、半値幅は0.77°であった。
また11.5±0.2°に明瞭なピークはみられなかった。

【００６５】得られた分散液に例示化合物Ａ−14；0.1
ｇを添加し、アルミニウムを蒸着したポリエステルベー
ス上にワイヤーバーを用いて塗布して、膜厚0.6μmのキ
ャリア発生層を形成した。次いでキャリア輸送物質 Ｂ
−26；１部、ポリカーボネート「Ｚ−300］（三菱ガス
化学社製）1.4部を1,2-ジクロルエタン 10部に溶解した
液をブレード塗布機を用いて塗布し乾燥の後、膜厚28μ
mのキャリア輸送層を形成した。こうして得られた感光
体をサンプル10とする。

【００６６】（評価２）得られたサンプルは評価１と同
様にして評価した。結果を表２に示す。

【００６７】

【表２】

【００６８】以上の例から明らかなように、本発明の感
光体においては、高感度であると同時に、高温、高湿環
境下で繰り返し使用しても、露光部電位の上昇が小さ
く、安定した特性を維持することができる。

【００６９】尚、実施例及び比較例において、感光体サ
ンプルから採取して、測定したイミダゾールペリレン化
合物のＸ線回折スペクトルは、対応する分散液のＸ線回
折スペクトルと一致することを確認した。

【００７０】

【発明の効果】本発明により高速複写機、プリンタ、フ
ァックス等に広く用いることが出来る耐久性が高く高感
度な電子写真感光体を提供することが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる感光体の層構成図。

【図２】Ｘ線回折ピークにおけるピーク強度、半値幅の
定義を表す図。

【図３】イミダゾールペリレン化合物実施例１のＸ線回
折スペクトル。

【図４】イミダゾールペリレン化合物実施例２のＸ線回
折スペクトル。

【図５】イミダゾールペリレン化合物実施例３のＸ線回
折スペクトル。

【図６】イミダゾールペリレン化合物比較例１のＸ線回
折スペクトル。

【図７】イミダゾールペリレン化合物比較例２のＸ線回
折スペクトル。

【図８】イミダゾールペリレン化合物比較例３のＸ線回
折スペクトル。

【符号の説明】

１ 帯電性支持体 ２ キャリア発生層 ３ キャリア輸送層 ４，４′，４″ 感光層 ５ 中間層 ６ キャリア発生物質 ７ キャリア輸送物質

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−281769（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−249719（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−276761（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−6015（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−257297（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−257299（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−172853（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−80564（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−107789（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03G 5/06

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 キャリア発生物質として、昇華精製後ア
   シッドペースト処理されたＣｕ−Ｋα線に対するＸ線回
   折スペクトルの6.3±0.2°、12.4±0.2°、25.3±0.2
   °、27.1±0.2°にピークを有する結晶であって、12.4
   ±0.2°のピーク強度が最大であると同時に同ピークの
   半値幅が0.65゜以上であり、かつ11.5±0.2°に明瞭な
   ピークを示さない状態の構造式（１）または（２）の少
   くとも一方のイミダゾールペリレン化合物と、ヒンダー
   ドフェノール基及びヒンダードアミン基のいずれか一方
   もしくは両方を同一分子中に合わせて２個以上有する化
   合物とを含有することを特徴とする電子写真感光体。 【化１】