JP3227357B2 - Bonding method of board with lead - Google Patents
Bonding method of board with leadInfo
- Publication number
- JP3227357B2 JP3227357B2 JP24811495A JP24811495A JP3227357B2 JP 3227357 B2 JP3227357 B2 JP 3227357B2 JP 24811495 A JP24811495 A JP 24811495A JP 24811495 A JP24811495 A JP 24811495A JP 3227357 B2 JP3227357 B2 JP 3227357B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- leads
- heating
- heating tool
- pressing surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/741—Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
- H01L2224/749—Tools for reworking, e.g. for shaping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
- H01L2224/7525—Means for applying energy, e.g. heating means
- H01L2224/753—Means for applying energy, e.g. heating means by means of pressure
- H01L2224/75301—Bonding head
- H01L2224/75302—Shape
- H01L2224/75303—Shape of the pressing surface
- H01L2224/75304—Shape of the pressing surface being curved
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
- H01L2224/7525—Means for applying energy, e.g. heating means
- H01L2224/753—Means for applying energy, e.g. heating means by means of pressure
- H01L2224/75301—Bonding head
- H01L2224/75302—Shape
- H01L2224/75303—Shape of the pressing surface
- H01L2224/75305—Shape of the pressing surface comprising protrusions
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
- H01L2224/758—Means for moving parts
- H01L2224/75821—Upper part of the bonding apparatus, i.e. bonding head
- H01L2224/75822—Rotational mechanism
- H01L2224/75823—Pivoting mechanism
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
- H01L2224/75981—Apparatus chuck
- H01L2224/75982—Shape
- H01L2224/75983—Shape of the mounting surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01067—Holmium [Ho]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/0132—Binary Alloys
- H01L2924/01322—Eutectic Alloys, i.e. obtained by a liquid transforming into two solid phases
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/35—Mechanical effects
- H01L2924/351—Thermal stress
- H01L2924/3511—Warping
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂封止型半導体
装置における半導体搭載基板へのリードの接合方法に関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for joining leads to a semiconductor mounting substrate in a resin-sealed semiconductor device.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、特開平2ー126647号公報に
より半導体素子のアルミニウム電極とTAB用フィルム
キャリアのリードとの間にバンプが存在する状態にてボ
ンディングツール先端のチップ部で熱圧着するボンディ
ング装置において、ボンディングツールのチップ部を複
数に分割することにより熱膨張によるチップ部の反りを
低減し、一辺を一括に接合する方法が提案されている。2. Description of the Related Art Conventionally, according to Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-126647, a bonding apparatus for thermocompression bonding at a tip portion of a bonding tool tip in a state where a bump exists between an aluminum electrode of a semiconductor element and a lead of a TAB film carrier. Has proposed a method in which the chip portion of a bonding tool is divided into a plurality of portions to reduce the warpage of the chip portion due to thermal expansion and collectively join one side.
【0003】しかしながら、チップ部を取付ける基台そ
のものの熱変形や個々のチップ内での熱変形の問題があ
り、金バンプあるいは金、錫の厚メッキと併用しないと
完全な問題の解決にならない。[0003] However, there is a problem of thermal deformation of the base itself on which the chip portion is mounted and thermal deformation within each chip, and the complete problem cannot be solved unless used together with gold bumps or thick plating of gold or tin.
【0004】そして、上記のように金バンプあるいは
金、錫のメッキ厚の厚膜化を行うことで高さばらつきを
吸収することができるが、金バンプを行うものは金メッ
キの膜厚が厚くなってコスト高となるという問題があ
り、一方、リード側にメッキする錫メッキの厚膜化をは
かると錫リッチの化合物層により接合されるため、接合
強度が低下するという問題がある。[0004] As described above, variations in height can be absorbed by increasing the thickness of the gold bump or the plating thickness of gold or tin. However, in the case of the gold bump, the thickness of the gold plating is increased. On the other hand, when the thickness of tin plating for plating on the lead side is increased, the bonding is performed by a tin-rich compound layer, so that the bonding strength is reduced.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】上記金バンプの形成、
金メッキ、錫メッキ厚の厚膜化を行わないで、基板上に
形成された回路とリードとを共晶反応により接合するこ
とが考えられる。この場合、リード3の上から加熱ツー
ル7により加圧し、リード3を通して熱を基板1の回路
とリード3の界面(以下接合界面と称する)へ伝えるこ
とにより接合される。しかしながら、このように金バン
プの形成、金メッキ、錫メッキ厚の厚膜化を行わない
で、基板1上に形成された回路とリード3とを共晶反応
により接合する場合、複数のリード3と基板1に設けた
回路とを一括して接合しようとすると、接合前において
図27(a)のように押圧面4が平坦面であった加熱ツ
ール7が接合時には熱膨張のため図27(b)のように
下方に凸となるように反って、図27(c)のように基
板1の両端部においてリード3と加熱ツール7とが接触
されない部分ができる。また、加熱ツール7の押圧面4
が接合時に平坦であっても、図28のように基板1の厚
みばらつき等によりリード3と基板1上に形成された回
路2とが接触されない部分ができる。その結果、熱がリ
ード3を通して接合界面に伝わらず、接合されない部分
が生じるという問題が発生する。SUMMARY OF THE INVENTION
It is conceivable that the circuit and the lead formed on the substrate are joined by a eutectic reaction without increasing the thickness of the gold plating and tin plating. In this case, bonding is performed by applying pressure from above the leads 3 by the heating tool 7 and transmitting heat through the leads 3 to an interface between the circuit of the substrate 1 and the leads 3 (hereinafter referred to as a bonding interface). However, when the circuit formed on the substrate 1 and the leads 3 are joined by eutectic reaction without forming the gold bumps, gold plating, and increasing the thickness of the tin plating, a plurality of leads 3 If the circuit provided on the substrate 1 is to be joined together,
Heating tool 7 pressing surface 4 is a flat surface as shown in FIG. 27 (a) is warped so as to be convex downward as for thermal expansion FIG 27 (b) at the time of joining, FIG. 27 (c) Thus, there are portions where the leads 3 and the heating tool 7 are not in contact at both ends of the substrate 1 as shown in FIG. Further, the pressing surface 4 of the heating tool 7
Are flat at the time of bonding, there are portions where the leads 3 do not come into contact with the circuit 2 formed on the substrate 1 due to variations in the thickness of the substrate 1 as shown in FIG . As a result, there is a problem in that heat is not transmitted to the bonding interface through the leads 3 and a non-bonded portion occurs.
【0006】本発明は上記の従来例の問題点に鑑みて発
明したものであって、その目的とするところは、金バン
プの形成や、金メッキ、錫メッキのメッキ厚の厚膜化を
行わないで、複数のリードと基板に設けた回路とを未接
合がない状態で均一に一括接合できるリード付き基板の
接合方法を提供するにある。The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and has as its object the purpose of not forming a gold bump or increasing the plating thickness of gold plating and tin plating. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method for bonding a substrate with leads, which can uniformly and collectively bond a plurality of leads and a circuit provided on the substrate without any unbonding.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記従来の問題点を解決
して本発明の目的を達成するために、本発明のリード付
き基板の接合方法は、可曲性を有する基板1上に形成さ
れた回路2と配列した複数のリード3とを加熱圧着する
に当たり、弾性体により形成した基板下受け5により基
板1を支持すると共に基板1と基板下受け5との間に断
熱材8を介在して該基板1を加熱ツール7の押圧面4に
倣うように変形させて接合することを特徴とするもので
ある。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned conventional problems and achieve the object of the present invention, a method for bonding a substrate with leads according to the present invention is formed on a substrate 1 having flexibility. When the circuit 2 and the plurality of leads 3 arranged are heated and press-bonded, the substrate support 5 formed of an elastic body is
It supports the plate 1 and cuts between the substrate 1 and the substrate support 5.
Interposed thermal material 8 is characterized in that the joining is deformed to follow the substrate 1 by the pressing surface 4 of the heating tool 7.
【0008】そして、可曲性を有する基板1上に形成さ
れた回路2と配列した複数のリード3とを加熱圧着する
に当たり、流動体よりなる基板下受け5により基板1を
支持して基板1を加熱ツール7の押圧面に倣うように変
形させて接合することを特徴とすることも好ましい。 [0008] Then, the substrate is formed on a bendable substrate 1.
Thermocompression bonding of the arranged circuit 2 and the arranged leads 3
The substrate 1 by the substrate support 5 made of a fluid.
The substrate 1 is supported and changed so as to follow the pressing surface of the heating tool 7.
It is also preferable to form and join.
【0009】また、可曲性を有する基板1上に形成され
た回路2と配列した複数のリード3とを加熱圧着するに
当たり、バイメタルよりなる基板下受け5により基板1
を支持して基板1を加熱ツール7の押圧面に倣うように
変形させて接合することを特徴とすることも好ましい。 [0009] Further , the substrate is formed on a substrate 1 having flexibility.
To heat-press the circuit 2 and the plurality of leads 3
And the substrate 1 is supported by the substrate support 5 made of bimetal.
So that the substrate 1 follows the pressing surface of the heating tool 7
It is also preferable to be characterized by being deformed and joined.
【0010】また、可曲性を有する基板1上に形成され
た回路2と配列した複数のリード3とを加熱圧着するに
当たり、基板1下方からリード3一本一本を加熱ツール
7の押圧面に押し上げて基板1を加熱ツール7の押圧面
に倣うように変形させて接合することを特徴とすること
も好ましい。 [0010] In addition, formed on a substrate 1 having flexibility.
To heat-press the circuit 2 and the plurality of leads 3
Contact, one lead 3 from the bottom of the substrate 1 heating tool
The substrate 1 is pushed up to the pressing surface of the heating tool 7 and the pressing surface of the heating tool 7 is pressed.
It is characterized by being deformed and joined so as to follow
Is also preferred.
【0011】また、センサー10により加圧補正量を検
出して、加圧補正量に基づいて加圧力を制御することも
好ましい。 Further, the pressure correction amount may be detected by the sensor 10 and the pressing force may be controlled based on the pressure correction amount.
preferable.
【0012】また、基板1上に形成された回路2と配列
した複数のリード3とを加熱圧着するに当たり、加熱時
に加熱ツール7の押圧面4全面が、該加熱ツール7で押
圧される該当する列に含まれる全てのリード3に均一に
当たるように変形して加圧するものであって、加熱ツー
ル7を回転自在に支持し、加熱ツール7の加圧をアクチ
ュエータ9によって補正することを特徴とするものであ
ってもよい。Further, when the circuit 2 formed on the substrate 1 and the plurality of leads 3 arranged thereon are heated and pressed, the entire pressing surface 4 of the heating tool 7 is pressed by the heating tool 7 during heating. be those pressurize deformed to impinge uniformly on all leads 3 included in the column, heating tools
The tool 7 is rotatably supported, and the pressurization of the heating tool 7 is activated.
The correction may be performed by the heater 9 .
【0013】また、基板1上に形成された回路2と配列
した複数のリード3とを加熱圧着するに当たり、加熱時
に加熱ツール7の押圧面4全面が、該加熱ツール7で押
圧される該当する列に含まれる全てのリード3に均一に
当たるように、加熱ツール7の押圧面4の中央部と両端
部とで温度差を生じさせて加熱時に押圧面が凸状に変形
するのを抑えて加圧することを特徴とするものであって
もよい。Further, when the circuit 2 formed on the substrate 1 and the plurality of leads 3 arranged are heated and pressed, the entire pressing surface 4 of the heating tool 7 is pressed by the heating tool 7 during heating. A temperature difference is generated between the center and both ends of the pressing surface 4 of the heating tool 7 so that the pressing surface 4 is deformed into a convex shape during heating so as to uniformly hit all the leads 3 included in the row. It may be characterized by pressing.
【0014】そして、加熱ツール7の押圧面4の中央部
の温度を計測し、この中央部の計測温度をフィードバッ
クして指令温度と比較して指令温度になるように加熱す
ることも好ましい。It is also preferable to measure the temperature at the center of the pressing surface 4 of the heating tool 7 and feed back the measured temperature at the center to compare it with the command temperature and heat the tool to the command temperature.
【0015】また、可曲性を有する基板1上に形成され
た回路2と配列した複数のリード3とを加熱圧着するに
当たり、接合用の加熱ツール7を用いて基板1を基板樹
脂のガラス転移温度付近で加圧して基板1を加熱ツール
7の押圧面4に倣うように変形させた後に接合するもの
であって、接合用の加熱ツール7を用いて基板1を基 板
樹脂のガラス転移温度付近で加圧して基板1を加熱ツー
ル7の押圧面4に倣うように変形させる際の加圧力を接
合時の加圧力よりも高くすることも好ましい。[0015] Further, the substrate is formed on a bendable substrate 1.
To heat-press the circuit 2 and the plurality of leads 3
Per one bonding the substrate 1 after deformed allowed to follow the substrate 1 is pressurized in the vicinity of the glass transition temperature of the substrate resin to the pressing surface 4 of the heating tool 7 with a heating tool 7 for joining
A is, board substrate 1 with a heating tool 7 for joining
The substrate 1 is heated by pressing around the glass transition temperature of the resin.
The pressing force when deforming so as to follow the pressing surface 4 of the
It is also preferable to make the pressure higher than the applied pressure .
【0016】また、基板1上に形成された回路2と配列
した複数のリード3とを加熱圧着するに当たり、リード
3を塑性変形させることにより基板1上に形成された全
ての回路2とそれに対応する全てのリード3を均一に接
触させて接合するものであって、加熱ツール7のリード
3との接触面を鋭角化し、加熱ツール7をリード3に食
い込ませることによりリード3を塑性変形することを特
徴とするものであってもよい。Further , when the circuit 2 formed on the substrate 1 and the plurality of arranged leads 3 are heated and pressure-bonded, all the circuits 2 formed on the substrate 1 are deformed by plastically deforming the leads 3. The leads 3 of the heating tool 7 are joined by uniformly contacting all the leads 3 to be joined.
The contact surface with the lead 3 is sharpened, and the heating tool 7
The lead 3 is plastically deformed by
It may be a sign .
【0017】そして、基板1上に形成された回路2と配
列した複数のリード3とを加熱圧着するに当たり、リー
ド3を塑性変形させることにより基板1上に形成された
全ての回路2とそれに対応する全てのリード3を均一に
接触させて接合するものであって、リード3の厚み方向
の一部に他の部分に比べて塑性変形しやすい塑性変形可
能部を設けることによりリード3を塑性変形することを
特徴とするものであってもよい。 Then, the circuit 2 formed on the substrate 1 is arranged.
When heating and crimping a plurality of leads 3 in a row,
Formed on the substrate 1 by plastically deforming the substrate 3
All circuits 2 and all corresponding leads 3 are evenly distributed
It is to be brought into contact and joined, and in the thickness direction of the lead 3
Plastic deformation is possible in some parts, which is more likely to be plastically deformed than in other parts
That the lead 3 is plastically deformed
It may be a feature.
【0018】そして、上記したいずれの方法において
も、加熱ツール7の熱が複数のリード3を通して各リー
ド3と基板1に形成された回路2との接合界面に伝わっ
て、金バンプの形成、金メッキ、錫メッキの膜厚の厚膜
化を行うことなく、複数のリード3と基板1に形成され
た回路2とを未接合部無く均一に一括して接合すること
ができることになる。In any of the above methods, the heat of the heating tool 7 is transmitted to the bonding interface between each lead 3 and the circuit 2 formed on the substrate 1 through the plurality of leads 3 to form a gold bump and gold plating. Accordingly, the plurality of leads 3 and the circuit 2 formed on the substrate 1 can be uniformly and collectively joined without any unjoined portions without increasing the thickness of the tin plating.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】以下本発明を実施形態に基づいて
詳述する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail based on embodiments.
【0020】半導体搭載用の基板1は図2(a)(b)
に示すように、表面の周端部には基板1の各辺に沿って
リード3と接合するための回路2が複数並んで形成して
あり、該複数の回路2は基板1に搭載される半導体チッ
プ15とワイヤ16等により接続されるものであり、複
数の回路2の端部にはそれぞれリード3が接続される。
そして、上記半導体チップ15を搭載し、リード3を接
続した基板1は図2(c)のように全体を樹脂17によ
り封止してある。ここで、リード3には錫メッキが施し
てあり、銅よりなる回路2にはニッケル、金メッキが施
してあり、リード3と基板1上に形成した回路2とを接
合するには、図3に示すように、チタンやモリブデン等
で形成された加熱ツール7によりリード3と回路2とを
加熱圧着してAuーSn共晶により接合するものであ
る。図3(d)において70はシリンダー装置であっ
て、シリンダー装置70のロッド32の先端部に加熱ツ
ール7が装着してあって、シリンダー装置70を作動す
ることで加熱ツール7が上下移動するようになってい
る。また71はトランス、72は導電部であり、加熱ツ
ール7内にヒータが設けてあって通電することで加熱さ
れるようになっている。そして、本発明においては、上
記リード3と基板1上に形成した回路2とを加熱ツール
7により接合する際、数10〜数100本のリード3と
回路2とを一括で接合するのであるが、この場合、上記
のように加熱ツール7で複数のリード3と回路2とを接
合する際に均一に接合するための技術に本発明の特徴が
ある。なお、以下に示す各実施形態では共晶接合の例と
してAuーSn共晶接合の例を示しているが、AuーS
n共晶接合にのみ限定されないのは勿論である。The substrate 1 for mounting a semiconductor is shown in FIGS.
As shown in FIG. 2, a plurality of circuits 2 for bonding to the leads 3 are formed side by side along the sides of the substrate 1 at the peripheral end of the surface, and the plurality of circuits 2 are mounted on the substrate 1. The semiconductor chip 15 is connected to the semiconductor chip 15 by wires 16 and the like. Leads 3 are connected to ends of the plurality of circuits 2 respectively.
Then, the entire substrate 1 on which the semiconductor chip 15 is mounted and the leads 3 are connected is sealed with a resin 17 as shown in FIG. Here, the lead 3 is plated with tin, and the circuit 2 made of copper is plated with nickel or gold. To join the lead 3 and the circuit 2 formed on the substrate 1, FIG. As shown, the lead 3 and the circuit 2 are heated and pressed by a heating tool 7 made of titanium, molybdenum, or the like, and joined by Au-Sn eutectic. In FIG. 3D, reference numeral 70 denotes a cylinder device. The heating tool 7 is attached to the tip of the rod 32 of the cylinder device 70, and the heating tool 7 moves up and down by operating the cylinder device 70. It has become. Reference numeral 71 denotes a transformer, and reference numeral 72 denotes a conductive portion. A heater is provided in the heating tool 7 and is heated when energized. In the present invention, when the leads 3 and the circuit 2 formed on the substrate 1 are joined by the heating tool 7, several to several hundred leads 3 and the circuit 2 are joined together. In this case, a feature of the present invention is a technique for uniformly joining the plurality of leads 3 and the circuit 2 by the heating tool 7 as described above. In each of the embodiments described below, an example of Au—Sn eutectic bonding is shown as an example of eutectic bonding.
It is needless to say that the invention is not limited only to the n-eutectic junction.
【0021】図1には本発明の一実施形態が示してあ
る。図1において5は可曲性を有する基板1の下面側を
支持するための基板下受けであり、本実施形態では基板
下受け5はゴムのような弾性体よりなり、また、ゴム製
の基板下受け5と基板1との間には断熱材8を介在して
ある。ゴムのような弾性体よりなる基板下受け5に基板
1を載置するに当たっては、基板下受け5により基板1
の加圧部分のみを断熱材8を介して基板1が加熱ツール
7の押圧面4に倣うように変形自在に支持するようにな
っている。つまり、隙間を介して対向配置したゴムのよ
うな弾性体よりなる基板下受け5に断熱材8を介して基
板1の両端部を載置して支持させる。この場合、接合し
ようとする複数のリード3の列と平行な基板1の両端部
をそれぞれ対向配置した基板下受け5の上に載置するの
である。そして、加熱ツール7の下面の押圧面4により
並列した複数のリード3を並列した複数の回路2に加熱
圧着 する。加熱ツール7により加熱圧着する際、加熱ツ
ール7は熱膨張により下方に凸となるように変形するが
(つまり押圧面4が下方に凸となるように変形する
が)、本実施形態においては、基板1の端部のみが弾性
体よりなる基板下受け5により支持してあるので、図1
のように加熱ツール7の押圧面4が下方に凸に変形して
も、弾性体よりなる基板下受け5が押圧面4の変形に倣
って変形し、これに伴い基板1も弾性体よりなる基板下
受け5に端部を支持された状態で押圧面4の変形に倣っ
て変形し、加熱ツール7の熱が複数のリード3を通して
各リード3と基板1に形成された回路2との接合界面に
伝わり、各リード3とこれに対応する各回路2とが未接
合部無く均一に一括して接合されることになる。ここ
で、基板1の下面全体を弾性体よりなる基板下受け5で
支持することも考えられるが、この場合、基板1の非加
圧部も弾性体よりなる基板下受け5で支持されており、
このため、加熱ツール7で加熱加圧した場合、加圧部の
直下では基板下受け5が下降するが、非加圧部の直下で
は基板下受け5が下降せず、このため、基板1が加圧部
と非加圧部との境界で反り、接合界面で十分な接触が得
られず、接合不良が発生するおそれがあるが、基板下受
け5により基板1の加圧部分のみを基板1が加熱ツール
7の押圧面4に倣うように変形自在に支持することで、
加熱ツール7で加熱加圧した場合、基板1が加圧部と非
加圧部との境界で反ることが無く、接合界面で十分な接
触が得られ、確実に接合されることになる。 FIG. 1 shows an embodiment of the present invention. 1 5 Ri substrate under receiving der for supporting a lower surface of the substrate 1 having a bendable substrate in this embodiment
The lower support 5 is made of an elastic material such as rubber, and is made of rubber.
A heat insulating material 8 is interposed between the substrate support 5 and the substrate 1.
is there. The substrate is placed on the substrate support 5 made of an elastic material such as rubber.
1 is placed on the substrate 1 by the substrate support 5.
Only the pressurized part of the substrate 1 is heated via the heat insulating material 8 by the heating tool.
7 so as to be deformable so as to follow the pressing surface 4.
ing. In other words, it is the rubber
A base support 5 made of such an elastic body is interposed via a heat insulating material 8.
Both ends of the plate 1 are placed and supported. In this case,
Both ends of the substrate 1 parallel to the row of the plurality of leads 3 to be made
Are placed on the substrate lower supports 5 which are arranged opposite to each other.
It is. Then, the pressing surface 4 on the lower surface of the heating tool 7
Heating a plurality of parallel leads 3 to a plurality of parallel circuits 2
Crimp . When performing thermocompression bonding with the heating tool 7,
The rule 7 is deformed so as to be convex downward due to thermal expansion.
(That is, the pressing surface 4 is deformed so as to be convex downward.
However, in the present embodiment, only the end of the substrate 1 is elastic.
Since it is supported by the substrate support 5 made of a body, FIG.
The pressing surface 4 of the heating tool 7 is deformed so as to protrude downward as shown in FIG.
Also, the substrate support 5 made of an elastic body follows the deformation of the pressing surface 4.
Accordingly, the substrate 1 is also under the substrate made of an elastic body.
Following the deformation of the pressing surface 4 while the end is supported by the receiver 5,
And the heat of the heating tool 7 passes through the plurality of leads 3
At the joint interface between each lead 3 and the circuit 2 formed on the substrate 1
Transmitted, each lead 3 and each corresponding circuit 2 are not connected
It will be uniformly and collectively joined without any joints. here
Then, the entire lower surface of the substrate 1 is supported by a substrate support 5 made of an elastic body.
Although it is conceivable to support it, in this case,
The pressure portion is also supported by a substrate support 5 made of an elastic body.
For this reason, when heating and pressurizing with the heating tool 7,
Immediately below, the substrate support 5 is lowered, but immediately below the non-pressurized portion.
Means that the substrate support 5 does not descend, so that the substrate 1
Warpage at the boundary between
Is not possible, and there is a risk of poor bonding.
Only the pressurized portion of the substrate 1 is heated by the
7 so as to be deformable so as to follow the pressing surface 4,
When the substrate 1 is heated and pressed by the heating tool 7, the substrate 1
No warping at the boundary with the pressurized part
The touch is obtained and the connection is ensured.
【0022】なお、上記例において基板下受け5をゴム
等の弾性体により形成する場合、弾性体よりなる基板下
受け5を剛体よりなる基板受台6により支持するように
してもよい。 In the above example, the substrate support 5 is made of rubber.
When formed by an elastic body such as
So that the receiver 5 is supported by the rigid substrate support 6
May be.
【0023】しかして、可曲性のある基板1の両端部を
断熱材8を介してゴムのような弾性体よりなる基板下受
け5で支持させ、その後、加熱ツール7を下降させて加
熱ツール7の下面の押圧面4により並列した複数のリー
ド3を並列した複数の回路2に加熱圧着する。加熱ツー
ル7により加熱圧着する際、加熱ツール7は熱膨張によ
り下方に凸となるように変形するが(つまり押圧面4が
下方に凸となるように変形するが)、本実施形態におい
ては、弾性体よりなる基板下受け5が押圧面4 の変形に
倣って変形し、これに伴い基板1も弾性体よりなる基板
下受け5に端部を支持された状態で押圧面4の変形に倣
って変形し、このことにより加熱ツール7の押圧面4が
複数のリード3に当たって、複数のリード3をそれぞれ
対応する複数の回路2に押し当て、加熱ツール7の熱が
複数のリード3を通して各リード3と基板1に形成され
た回路2との接合界面に伝わり、各リード3にメッキさ
れた錫と各回路2にメッキされた金とがAuーSn共晶
合金となって溶融し、各リード3とこれに対応する各回
路2とが未接合部無く均一に一括して接合されることに
なる。なお、AuーSn共晶合金の接合条件としては、
例えば、加熱温度(加熱ツール7の接触部分の温度)が
350℃、加熱のための通電時間(温度保持時間)が2
sec、加圧が150gF/リードである。ここで、上
記のように基板下受け5を弾性体とすることで、より確
実に基板1を加熱ツール7の押圧面4の変形に倣わせる
ことができる。 Thus, both ends of the flexible substrate 1 are
Substrate support made of an elastic material such as rubber via heat insulating material 8
Only it is supported by 5, then heat and pressure to a plurality of circuit 2 in parallel a plurality of leads 3 in parallel with the lower surface of the pressing surface 4 of the heating tool 7 heating tool 7 is lowered to. At the time of thermocompression bonding by the heating tool 7, the heating tool 7 is deformed so as to be convex downward due to thermal expansion (that is, the pressing surface 4 is deformed so as to be convex downward), but in the present embodiment, The substrate support 5 made of an elastic body is used to deform the pressing surface 4 .
Following this, the substrate 1 is also made of an elastic body.
Following the deformation of the pressing surface 4 with the end supported by the lower support 5
As a result, the pressing surface 4 of the heating tool 7 hits the plurality of leads 3 and presses the plurality of leads 3 against the corresponding plurality of circuits 2, and heat of the heating tool 7 passes through the plurality of leads 3. Transferred to the bonding interface between the lead 3 and the circuit 2 formed on the substrate 1, the tin plated on each lead 3 and the gold plated on each circuit 2 become Au-Sn eutectic alloy and melt. The leads 3 and the corresponding circuits 2 are uniformly and collectively joined without any unjoined portions. The joining conditions for the Au-Sn eutectic alloy include:
For example, the heating temperature (the temperature of the contact portion of the heating tool 7) is 350 ° C., and the energization time for heating (temperature holding time) is 2
sec, pressure is 150 gF / lead. Where
As described above, by making the substrate support 5 an elastic body, the substrate 1 can more reliably follow the deformation of the pressing surface 4 of the heating tool 7.
【0024】また、本実施形態においては、弾性体より
なる基板下受け5としてゴムを用いた場合、ゴム製の基
板下受け5と基板1との間に断熱材8を介在した点に特
徴がある。すなわち、通常ゴムは耐熱温度が低いため
に、基板1を通しての伝導熱により熱影響を受けるの
で、この熱影響が基板下受け5におよばないようにゴム
製の基板下受け5と基板1との間に断熱材8を介在する
のである。実施形態においては、ゴム製の基板下受け5
の上面に耐熱性があり、且つ断熱性があり、且つ変形し
やすいポリイミドフィルム等の樹脂フィルムよりなる断
熱材8を貼ってある。なお、断熱材8としては上記の実
施形態のものにのみ限定されない。Further , in the present embodiment, when rubber is used as the substrate support 5 made of an elastic material, the heat insulating material 8 is interposed between the rubber substrate support 5 and the substrate 1.
There is a sign. That is, since rubber is generally affected by the heat conducted through the substrate 1 because the heat resistance temperature is low, the rubber lower support 5 and the substrate 1 are connected so that this thermal influence does not reach the lower support 5. The heat insulating material 8 is interposed between them. In the embodiment, the rubber substrate support 5
A heat insulating material 8 made of a resin film such as a polyimide film, which has heat resistance, heat insulating properties, and is easily deformed, is attached to the upper surface. In addition, the heat insulating material 8 is not limited only to the above-described embodiment.
【0025】図4、図5には本発明の更に他の実施形態
が示してある。この実施形態においては、基板下受け5
として流動体5dを用いた例を示している。 FIGS. 4 and 5 show still another embodiment of the present invention. In this embodiment, the substrate support 5
Shows an example using a fluid 5d.
【0026】すなわち図4に示す実施形態では基板1の
下方からエアー、水、油等の流動体5dを吹き付け、そ
の圧により基板1を加熱ツール7の押圧面4の反りに倣
わせるようにしている。That is, in the embodiment shown in FIG. 4 , a fluid 5d such as air, water, oil or the like is sprayed from below the substrate 1 so that the pressure causes the substrate 1 to follow the warpage of the pressing surface 4 of the heating tool 7. ing.
【0027】また、図5に示す実施形態においては、エ
アー、水、油等の流動体5dを封じ込めた変形自在の容
器5eを基板下受け5としたものであり、この流動体5
dを封じ込めた変形自在の容器5eの上面に基板1を載
置した状態で、図5に示すように加熱ツール7の押圧面
4により加熱押圧するのである。この場合、加熱ツール
7の押圧面4が熱により変形するが、流動体5dを封じ
込めた変形自在の容器5eの上面部が押圧面4に倣って
変形し、このことにより基板1も押圧面4に倣って変形
し、接合領域全域にわたって均一に加圧することができ
て複数のリード3が均一な接合強度で接合されることに
なる。In the embodiment shown in FIG. 5 , a deformable container 5e containing a fluid 5d such as air, water, oil or the like is used as the substrate support 5, and this fluid 5
the upper surface of the deformable container 5e which containment d while placing the substrate 1, is to heat pressed by the pressing surface 4 of the heating tool 7 as shown in FIG. In this case, the pressing surface 4 of the heating tool 7 is deformed by heat, but the upper surface portion of the deformable container 5e containing the fluid 5d is deformed following the pressing surface 4, whereby the substrate 1 is also deformed. Accordingly, the leads 3 can be uniformly pressed over the entire joining region, and the plurality of leads 3 are joined with uniform joining strength.
【0028】図6には基板下受け5をバイメタル5fと
した例が示してある。すなわち、加熱ツール7で加熱押
圧した際、基板1を通過した熱により加熱ツール7の押
圧面4の変形に合わせて変形するようなバイメタル5f
を基板下受け5として用い、加熱ツール7による加熱加
圧時の押圧面4の変形に倣ってバイメタル5fを変形さ
せることで基板1を押圧面4の変形に倣わせるものであ
る。FIG . 6 shows an example in which the substrate support 5 is a bimetal 5f. That is, when heated and pressed by the heating tool 7, the bimetal 5 f is deformed in accordance with the deformation of the pressing surface 4 of the heating tool 7 by the heat passing through the substrate 1.
Is used as a substrate support 5, and the bimetal 5f is deformed according to the deformation of the pressing surface 4 at the time of heating and pressurization by the heating tool 7, thereby causing the substrate 1 to follow the deformation of the pressing surface 4.
【0029】図7、図8においては、基板1下方からリ
ード3一本一本を加熱ツール7の押圧面4に押し上げる
ことで、基板1を加熱ツール7の押圧面4に倣うように
変形させて接合するものである。In FIGS. 7 and 8 , each lead 3 is pushed up from below the substrate 1 to the pressing surface 4 of the heating tool 7 to deform the substrate 1 so as to follow the pressing surface 4 of the heating tool 7. Are joined together.
【0030】すなわち図7においては、ローラ28を基
板1の下方に配置し、該ローラ28で基板1を矢印ホ方
向に押して基板1を加熱ツール7の押圧面4に押し付け
ながらローラ28を矢印ヘ方向に移動させ、複数のリー
ド3を一本一本加熱ツール7の押圧面に確実に押圧させ
るものであり、このことにより接合領域全域にわたり加
圧分布が均一になり、均一な接合強度を得ることがで
き、また、複数のリード3を均一に一括接合することが
できるものである。That is, in FIG. 7 , the roller 28 is disposed below the substrate 1, and the substrate 1 is pressed in the direction of arrow E by the roller 28, and the roller 28 is pressed to the arrow while pressing the substrate 1 against the pressing surface 4 of the heating tool 7. In the direction, and the plurality of leads 3 are pressed one by one against the pressing surface of the heating tool 7 one by one, whereby the pressure distribution becomes uniform over the entire bonding region and uniform bonding strength is obtained. In addition, a plurality of leads 3 can be uniformly and collectively joined.
【0031】また、図8においては、下部にばね等の弾
性体29aをそなえた細い棒29bを基板1の下方に配
置し、全リード3の下部を基板1を介して各細い棒29
bで押し上げることで基板1を加熱ツール7の押圧面4
の変形に倣わせ、同時に複数のリード3を一本一本加熱
ツール7の押圧面に確実に押圧させるものであり、この
ことにより接合領域全域にわたり加圧分布が均一にな
り、均一な接合強度を得ることができ、また、複数のリ
ード3を均一に一括接合することができるものである。In FIG. 8 , a thin rod 29b provided with an elastic body 29a such as a spring at the lower part is disposed below the substrate 1, and the lower part of all the leads 3 is connected via the substrate 1 to each thin rod 29b.
The substrate 1 is pushed up by b to press the substrate 1 against the pressing surface 4 of the heating tool 7.
, And at the same time, the plurality of leads 3 are surely pressed one by one against the pressing surface of the heating tool 7, whereby the pressure distribution is uniform over the entire bonding area, and the uniform bonding strength is achieved. And a plurality of leads 3 can be uniformly and collectively joined.
【0032】ところで、温度や圧力や変位等を検出する
センサー10により加圧補正量を検出して、加圧補正量
をフィードバックして加圧力を制御するようにしてもよ
い。 Incidentally, the pressure correction amount may be detected by a sensor 10 for detecting temperature, pressure, displacement, etc., and the pressure correction amount may be fed back to control the pressing force.
【0033】図9にはその一例が示してある。図9にお
いては、基板1の下方にそれぞれ独立して上下方向に可
変するアクチュエータ9を配置し、アクチュエータ9に
より基板1を加熱ツール7の押圧面4の変形に倣うよう
に変形させるものである。それぞれ独立して上下方向に
可変するアクチュエータ9を押し上げる手段としてはエ
アー、水、油、ばね、磁石等が考えられる。アクチュエ
ータ9の配置場所は図15に示す実施形態のように基板
1の下部全体にのみ限るものではなく、基板1の下部の
一部の下方に配置してあってもよい。本実施形態のよう
に各アクチュエータ9ごと独立して上下方向に可変する
構成とすることで、アクチュエータ9ごとに押し上げ量
が制御できるため、接合領域全域にわたって均一に加圧
することができるものである。そして、このように基板
1の下方にそれぞれ独立して上下方向に可変するアクチ
ュエータ9を配置し、アクチュエータ9により基板1を
加熱ツール7の押圧面4の変形に倣うように変形させる
ものにおいて、各アクチュエータ9の先端に圧力検知の
ためのセンサー10を設け、各アクチュエータ9の先端
のセンサー10で圧力を検知し、この圧力を制御部にフ
ィードバックし、全体の加圧が均一になるように各アク
チュエータ9の押し上げ量を制御するようになってい
る。図10には本実施形態において各アクチュエータ9
による加圧制御のフロー図が示してあり、このフロー図
においては一例としてaで示すセンサー10を設けたア
クチュエータ9の制御例が示してある。すなわち、加圧
を開始し、aで示すセンサー10で圧力を検知し、Pa
<Pの場合にはアクチュエータ9を伸ばすように制御
し、Pa>Pの場合にはアクチュエータ9を縮めるよう
に制御するものであり(ここでPaはaで示すセンサー
で検知した圧力、Pはaで示すセンサーで検出すべき設
計上の所定値)、これを加圧が終了するまで繰り返す。
これは加圧している間に温度変化等により条件の変化が
起こり得るので、その対応として加圧が終了するまで圧
力を検出し、その値の適否を繰り返しチェックするもの
である。このことにより接合領域全域にわたり適切な加
圧力を与えることができる。FIG . 9 shows an example. In FIG. 9 , the vertical direction is independent of each other below the substrate 1 .
The changing actuator 9 is arranged, and the actuator 9 is
So that the substrate 1 follows the deformation of the pressing surface 4 of the heating tool 7
Is to be deformed. Up and down independently
As means for pushing up the variable actuator 9,
, Water, oil, springs, magnets, and the like. Actue
The place where the data 9 is arranged is the same as that of the embodiment shown in FIG.
1 is not limited to the entire lower part,
It may be arranged below a part. As in this embodiment
Variable independently in the vertical direction for each actuator 9
With the configuration, the push-up amount for each actuator 9
Can be controlled, so pressurization is uniform over the entire bonding area
Is what you can do. In this manner, the actuators 9 that can be independently changed in the vertical direction are arranged below the substrate 1 and the actuator 9 deforms the substrate 1 so as to follow the deformation of the pressing surface 4 of the heating tool 7. A sensor 10 for detecting pressure is provided at the tip of the actuator 9, the pressure is detected by the sensor 10 at the tip of each actuator 9, and this pressure is fed back to the control unit, so that each actuator 9 is uniformly pressurized. 9 is controlled. FIG. 10 shows each actuator 9 in this embodiment .
Is shown, and as an example, a control example of the actuator 9 provided with the sensor 10 indicated by a is shown in this flow chart. That is, pressurization is started, the pressure is detected by the sensor 10 indicated by a, and
In the case of <P, the actuator 9 is controlled to be extended, and in the case of Pa> P, the actuator 9 is controlled to be contracted (where Pa is the pressure detected by the sensor indicated by a, and P is a This value is a design-specific value to be detected by the sensor indicated by, and is repeated until the pressurization is completed.
In this method, since conditions may change due to a temperature change or the like during pressurization, pressure is detected until pressurization is completed, and the appropriateness of the value is repeatedly checked. This makes it possible to apply an appropriate pressing force over the entire joining region.
【0034】図11にはセンサー10を設ける他の例が
示してある。図11においては、図6に示した基板下受
け5をバイメタル5fとしたものにおいて、圧力検知の
ためのセンサー10をバイメタル5fの上面部に複数設
け、また、バイメタル5fの下面側にヒータ30を複数
配置したものであり、加熱ツール7による加熱押圧時に
バイメタル5fが変形するが、この際、センサー10に
より圧力を検知し、この圧力を制御部にフィードバック
して全体の加圧が均一となるようにバイメタル5f全体
の反り量が一定となるようにヒータ30を制御するよう
になっている。図12には本実施形態においてバイメタ
ル5fを加熱するヒータ30の温度制御のフロー図が示
してある。本実施形態においてはヒータ30は、ヒータ
温度1、ヒータ温度2、ヒータ温度3の3段階に制御さ
れるようになっている(ここでヒータ温度1:低、ヒー
タ温度2:中、ヒータ温度3:高)である。しかして、
加圧を開始し、ヒータ30を加熱すると、まずヒータ温
度2にヒータ30が制御される。次に、図11のa、
b、c、d、eの各センサー10により圧力を検出し、
(a+e)/2<(b+c+d)/3の場合にはヒータ
温度3となるようにヒータ30が制御され、(a+e)
/2>(b+c+d)/3の場合にはヒータ温度1とな
るようにヒータ30が制御され、これを加圧が終了する
まで繰り返す。これは加圧している間に温度変化等によ
り条件の変化が起こり得るので、その対応として加圧が
終了するまで圧力を検出し、その値の適否を繰り返しチ
ェックするものでこのことにより接合領域全域にわたり
適切な加圧力を与えることができる。FIG . 11 shows another example in which the sensor 10 is provided. In FIG. 11 , in the case where the substrate support 5 shown in FIG. 6 is a bimetal 5f, a plurality of sensors 10 for pressure detection are provided on the upper surface of the bimetal 5f, and the heater 30 is provided on the lower surface of the bimetal 5f. The bimetal 5f is deformed when heated and pressed by the heating tool 7. At this time, the pressure is detected by the sensor 10, and the pressure is fed back to the control unit so that the entire pressure is uniform. The heater 30 is controlled so that the warpage of the entire bimetal 5f is constant. FIG. 12 shows a flowchart of temperature control of the heater 30 for heating the bimetal 5f in the present embodiment. In this embodiment, the heater 30 is controlled in three stages of heater temperature 1, heater temperature 2, and heater temperature 3 (here, heater temperature 1: low, heater temperature 2: medium, heater temperature 3). : High). Then
When the pressurization is started and the heater 30 is heated, first, the heater 30 is controlled to the heater temperature 2. Next, in FIG.
The pressure is detected by each of the sensors 10 of b, c, d, and e,
When (a + e) / 2 <(b + c + d) / 3, the heater 30 is controlled so that the heater temperature becomes 3, and (a + e)
If / 2> (b + c + d) / 3, the heater 30 is controlled so that the heater temperature becomes 1, and this is repeated until the pressurization is completed. This is because the conditions may change due to temperature changes etc. during pressurization, and as a response, pressure is detected until pressurization is completed, and the appropriateness of the value is repeatedly checked. And a suitable pressing force can be applied over the range.
【0035】上記した各実施形態では、加熱ツール7の
押圧面4の加熱時における熱による変形に対して基板1
側または基板1を支持する基板下受け5側を加熱ツール
7の押圧面4の変形に倣うようにした例を示したが、加
熱ツール7側において押圧面4の熱による変形対策を施
して複数のリード3を一括して均一に接合するようにし
てもよい。以下この実施形態につき説明する。In each of the above-described embodiments, the substrate 1 is prevented from being deformed by heat when the pressing surface 4 of the heating tool 7 is heated.
Although the example in which the side or the substrate lower support 5 supporting the substrate 1 is designed to follow the deformation of the pressing surface 4 of the heating tool 7 has been described, The leads 3 may be collectively and uniformly joined. Hereinafter, this embodiment will be described.
【0036】図13、図14に示す実施形態において
は、シリンダー装置70のロッド32から突出した突片
33に回転軸34により加熱ツール7の中央部を回転自
在に支持し、更に、加熱ツール7の上部の両側をそれぞ
れシリンダー装置70のロッド32とアクチュエータ3
5a,35bにより接続し、アクチュエータ35a、3
5bの動作により加熱ツール7を回動させるようにして
ある。ここで、加熱時においてアクチュエータ35a、
35bは図14に示すように交互に変位させるものであ
る。しかして、加熱ツール7で加熱加圧する際、加熱ツ
ール7の押圧面4が熱により凸状に沿って変形するが、
この加熱加圧時にアクチュエータ35a、35bを作動
して図14のように交互に変位させて加熱ツール7を回
転運動させることで両端のリード3の加圧不足を補い、
両端のリード3も確実に加圧し、このことにより列に含
まれる全てのリード3を均一に接合するものである。In the embodiment shown in FIGS. 13 and 14 , a central portion of the heating tool 7 is rotatably supported by a rotating shaft 34 on a protruding piece 33 protruding from the rod 32 of the cylinder device 70. The rod 32 of the cylinder device 70 and the actuator 3
5a, 35b, the actuators 35a, 3b
The heating tool 7 is rotated by the operation 5b. Here, during heating, the actuator 35a,
35b is intended to displace alternately as shown in FIG. 14. Thus, when the heating tool 7 is heated and pressurized, the pressing surface 4 of the heating tool 7 is deformed along the convex shape by heat.
At the time of heating and pressurizing, the actuators 35a and 35b are operated to alternately displace as shown in FIG. 14 to rotate the heating tool 7, thereby compensating for insufficient pressurization of the leads 3 at both ends,
The leads 3 at both ends are also reliably pressurized, thereby uniformly joining all the leads 3 included in the row.
【0037】ここで、アクチュエータ35a、35bに
よる加圧補正量を温度や圧力や変位を検出するセンサー
36で検出してフィードバック制御するようにしてもよ
い。図15に示す実施形態では基板受台6に圧力を検出
するセンサー36を複数箇所に設け(図15ではa、
b、cの3つのセンサー36を両端部と中央部とに設
け)てある。図15において90はA/D変換器、91
はCPU、92はD/A変換器、93は増幅器である。
そして、図16に示すようなフロー図に従って加熱ツー
ル7によって加熱加圧動作をするものである。すなわ
ち、加熱ツール7を加熱するまではアクチュエータ35
a、35bの変位を等しくしておく。そして、加熱を開
始し、次にb位置のセンサー36により加圧力を測定し
て記憶する。次に、a位置のセンサー36の測定値が、
記憶したb位置のセンサー36の測定値と等しくなるよ
うにアクチュエータ35aを伸ばす(この時同時にアク
チュエータ35bを縮める)。次に、c位置のセンサー
36の測定値が、記憶したb位置のセンサー36の測定
値と等しくなるようにアクチュエータ35bを伸ばす
(この時同時にアクチュエータ35aを縮める)。この
ようにして両端部のリード3も確実に加圧するのであ
る。そして、加熱を終了し、アクチュエータ35a、3
5bの変位を等しくするものである。しかして、上記の
ように加熱時にセンサー36の値に基づいて加熱ツール
7を回転運動させることで、押圧面4の中央と両端の加
圧を等しくし、列に含まれる全てのリード3を均一に接
合するものである。Here, the pressure correction amount by the actuators 35a and 35b may be detected by a sensor 36 that detects temperature, pressure and displacement, and feedback control may be performed. In the embodiment shown in FIG. 15 , sensors 36 for detecting pressure are provided at a plurality of locations on the board receiving table 6 (a, a in FIG. 15 ) .
The three sensors b and c are provided at both ends and the center. In FIG. 15 , reference numeral 90 denotes an A / D converter;
Denotes a CPU, 92 denotes a D / A converter, and 93 denotes an amplifier.
Then, in which the heating pressurizing operation by the heating tool 7 according to a flowchart shown in FIG. 16. That is, the actuator 35 is heated until the heating tool 7 is heated.
The displacements of a and 35b are made equal. Then, heating is started, and then the pressing force is measured and stored by the sensor 36 at the position b. Next, the measurement value of the sensor 36 at the position a is
The actuator 35a is extended so as to be equal to the measured value of the sensor 36 at the stored position b (at the same time, the actuator 35b is contracted). Next, the actuator 35b is extended so that the measured value of the sensor 36 at the position c becomes equal to the stored measured value of the sensor 36 at the position b (at the same time, the actuator 35a is contracted). In this way, the leads 3 at both ends are also reliably pressed. Then, the heating is completed, and the actuators 35a, 3a
5b is made equal. Thus, by rotating the heating tool 7 based on the value of the sensor 36 at the time of heating as described above, the pressing at the center and both ends of the pressing surface 4 is equalized, and all the leads 3 included in the row are made uniform. Is to be joined.
【0038】上記実施形態ではセンサー36として圧力
センサーを用いている例を示しているが、温度センサー
を用いて両端のリード3にも確実に入熱されるようにア
クチュエータ35a、35bを駆動してもよい。また、
基板受台の基板受面を弾性体(ゴム等)として、その変
位量を測定してフィードバックしてもよい。また、セン
サー36は加熱ツール7側に配置してもよい。In the above embodiment, an example is shown in which a pressure sensor is used as the sensor 36. However, even if the actuators 35a and 35b are driven by using a temperature sensor so as to reliably input heat to the leads 3 at both ends. Good. Also,
An elastic body (rubber or the like) may be used as the substrate receiving surface of the substrate receiving table, and the displacement may be measured and fed back. Further, the sensor 36 may be arranged on the heating tool 7 side.
【0039】図17には本発明の更に他の実施形態が示
してある。この実施形態においては、基板1上に形成さ
れた回路2とリード3とを加熱圧着するに当たり、加熱
時に加熱ツール7の押圧面4全面が、該加熱ツール7で
押圧される該当する列に含まれる全てのリード3に均一
に当たるように、加熱ツール7の押圧面4の中央部と両
端部とで温度差を生じさせて加熱時に押圧面4の中央部
の熱膨張を抑えて押圧面4が凸状に変形するのを抑えて
加圧するものである。すなわち、この実施形態では、基
板1を支持している基板受台6の中央部に冷却部51を
設けてある。冷却部51としては加熱ツール7側に向け
て空気を吹き出す吹き出し孔51aを基板受け台50の
中央部に設け、加熱ツール7による加熱時に加熱ツール
7側に向けて空気を吹きかけ、これにより、加熱ツール
7の押圧面4の中央部の温度が両端部の温度より下が
り、このことで、押圧面4の熱による下方への凸状の変
形を抑えて列に含まれる全てのリード3を均一に接合す
ることができる。なお、図17(c)の押圧面4の実線
は本実施形態のように加熱時に加熱ツール7の押圧面4
の中央部と両端部とで温度差を生じさた場合であり、同
図(c)の想像線は加熱ツール7の押圧面4の中央部と
両端部とで温度差を生じさせない場合の押圧面4の変形
を示している。また、同図(d)は本実施形態の加熱時
における図17(c)のa、b、c部分における加熱ツ
ール7の温度分布を示している。FIG . 17 shows still another embodiment of the present invention. In this embodiment, when the circuit 2 and the lead 3 formed on the substrate 1 are heat-pressed, the entire pressing surface 4 of the heating tool 7 during heating is included in a corresponding row pressed by the heating tool 7. A temperature difference is generated between the central portion and both end portions of the pressing surface 4 of the heating tool 7 so that the pressing surface 4 is uniformly heated and the thermal expansion of the central portion of the pressing surface 4 during heating is suppressed. Pressing is performed while suppressing deformation to a convex shape. That is, in this embodiment, the cooling unit 51 is provided at the center of the substrate support 6 supporting the substrate 1. As the cooling unit 51, a blowing hole 51a for blowing air toward the heating tool 7 side is provided at the center of the substrate receiving base 50, and air is blown toward the heating tool 7 side when the heating is performed by the heating tool 7, whereby the heating is performed. The temperature at the center of the pressing surface 4 of the tool 7 is lower than the temperature at both ends, which suppresses downward deformation of the pressing surface 4 due to the heat, and makes all the leads 3 included in the row uniform. Can be joined. Note that the solid line of the pressing surface 4 in FIG. 17C indicates the pressing surface 4 of the heating tool 7 during heating as in this embodiment.
A temperature difference is generated between the central portion and both ends of the heating tool, and the imaginary line in FIG. 3C is a pressure when no temperature difference is generated between the central portion and both ends of the pressing surface 4 of the heating tool 7. The deformation of the surface 4 is shown. FIG. 11D shows the temperature distribution of the heating tool 7 at the portions a, b, and c in FIG. 17C during heating according to the present embodiment.
【0040】図18には図17に示す実施形態において
加熱ツール7の中央部の押圧面4付近に熱電対のような
温度センサー55を設け、この温度センサー55により
検出した押圧面4の中央部の温度情報に基づいてフィー
ドバック制御して加熱ツール7の加熱を制御するように
したものである。図19には本実施形態のフロー図が示
してあり、加熱ツール7の加熱を開始し、次に冷却部5
1を構成する吹き出し孔51aから空気を加熱ツール7
の中央部側に向けて吹き出し、次に加熱ツール7の押圧
面4の中央部付近に設けた温度センサー55により押圧
面4の中央部の温度を測定し、この測定温度をフィード
バックして指令温度と比較し、加熱ツール7の中央部の
温度が指令温度になるようにその温度差に比例した加熱
用の電流を流し、これにより冷却用の空気で冷却されて
も加熱ツール7の押圧面4の中央部が所定の温度に加熱
されるように制御されるものである。図18において9
3は増幅器である。In FIG . 18, a temperature sensor 55 such as a thermocouple is provided near the pressing surface 4 at the center of the heating tool 7 in the embodiment shown in FIG. The feedback control is performed based on the temperature information to control the heating of the heating tool 7. FIG. 19 shows a flowchart of this embodiment, in which heating of the heating tool 7 is started, and then the cooling unit 5 is started.
The heating tool 7 heats air from the blowing holes 51a constituting
The temperature of the center of the pressing surface 4 is measured by a temperature sensor 55 provided near the center of the pressing surface 4 of the heating tool 7, and the measured temperature is fed back to the command temperature. In comparison with the above, a heating current proportional to the temperature difference is caused to flow so that the temperature at the central portion of the heating tool 7 becomes the command temperature, so that the pressing surface 4 of the heating tool 7 can be cooled even if it is cooled by cooling air. Is controlled to be heated to a predetermined temperature. In FIG. 18 , 9
3 is an amplifier.
【0041】上記各実施形態において図20に示すよう
に基板1を支持する基板受台6の基板1に接する面を弾
性体60としてもよいものである。すなわち、基板受台
6の基板1を支持する面に弾性体60として耐熱性ゴム
(例えば商品名バイトン0.5mm厚)を設け、加熱ツ
ール7によって加圧して加熱した状態で加熱ツール7の
押圧面4が凸状に変形しようとすると、基板1及び弾性
体60が弾性変形し、加熱ツール7の押圧面4に倣うよ
うにする。これにより、加熱時に加熱ツール7の押圧面
4が列に含まれるすべてのリード3を加圧することがで
きるものである。In each of the above embodiments, as shown in FIG. 20 , the surface of the substrate receiving table 6 supporting the substrate 1 in contact with the substrate 1 may be an elastic body 60. That is, a heat-resistant rubber (for example, trade name: Viton 0.5 mm thick) is provided as an elastic body 60 on the surface of the substrate receiving table 6 supporting the substrate 1, and the heating tool 7 is pressed and heated. When the surface 4 is to be deformed in a convex shape, the substrate 1 and the elastic body 60 are elastically deformed so as to follow the pressing surface 4 of the heating tool 7. Thereby, at the time of heating, the pressing surface 4 of the heating tool 7 can press all the leads 3 included in the row.
【0042】次に、図21に基づいて本発明の更に他の
実施形態につき説明する。本実施形態においては、接合
用の加熱ツール7を用いて基板1を基板樹脂のガラス転
移温度付近で加圧して基板1を加熱ツール7の押圧面4
に倣うように変形させた後に接合するようにした例であ
る。すなわち、本実施形態においては、接合用の加熱ツ
ール7を用いて、成形可能な樹脂等の基板1を該基板樹
脂が軟化し始めるガラス転移温度付近で加圧成形させ、
基板1を加熱ツール7の押圧面4に倣わせる加圧加熱成
形工程と、その後に接合する接合工程とを有している。
図21には基板1が凹凸面を有し、加熱ツール7の押圧
面4が接合時に平坦面をしている場合の例を示してい
る。すなわち、図21(a)に示すように凹凸面を有す
る基板1を、接合用の加熱ツール7により基板1を基板
樹脂が軟化し始めるガラス転移温度付近で加圧成形して
基板1を図21(b)のように加熱ツール7の押圧面4
に倣わせ、この工程の後で図21(c)のように、加熱
ツール7により接合するのである。 Next, still another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, the substrate 1 is pressed near the glass transition temperature of the substrate resin by using the bonding heating tool 7 to press the substrate 1 against the pressing surface 4 of the heating tool 7.
This is an example of joining after deforming so as to follow. That is, in the present embodiment, using the heating tool 7 for bonding, the substrate 1 such as a moldable resin is pressure-formed near the glass transition temperature at which the substrate resin starts to soften,
There is a pressure and heat forming step of causing the substrate 1 to follow the pressing surface 4 of the heating tool 7, and a joining step of joining thereafter.
FIG. 21 shows an example in which the substrate 1 has an uneven surface and the pressing surface 4 of the heating tool 7 is flat at the time of bonding. That is, as shown in FIG. 21 (a), the substrate 1 having the uneven surface is pressure-formed near the glass transition temperature at which the substrate resin begins to soften by the heating tool 7 for bonding to form the substrate 1 in FIG. The pressing surface 4 of the heating tool 7 as shown in FIG.
After this step, bonding is performed by the heating tool 7 as shown in FIG. 21 (c).
【0043】ここで、接合用の加熱ツール7を用いてガ
ラス転移点付近で加圧加熱する成形工程時の加圧力と、
接合工程時の加圧力とを同じにすれば、加圧力が高い場
合には成形時間を短くすることができるが、接合時に加
圧過剰により基板損傷が生じ、また、加圧力が低い場合
には接合時の基板1損傷は防止できるが成形時間が長く
なることになる。そこで、接合用の加熱ツール7を用い
て基板1を基板樹脂のガラス転移温度付近で加圧して基
板1を加熱ツール7の押圧面4に倣うように変形させる
際の加圧力を接合時の加圧力よりも高くし、このことに
より、加圧加熱成形時間を短縮し、且つ接合時における
加圧過剰による基板1の損傷を防止することができるこ
とになる。また、加圧加熱成形時には上記のように基板
樹脂のガラス転移点付近で加熱するが、接合時には加熱
温度は接合に必要な温度まで高めるものである。図22
(a)、(b)にはそれぞれ図21の(b)の段階と
(c)の段階における加圧力と加圧時間との関係を示す
グラフ、及び図21の(b)の段階と(c)の段階にお
ける加熱温度と加熱時間との関係を示すグラフが示して
ある。ここで、図22(b)の段階(つまり加圧加熱成
形工程)における温度をT1 、加圧力をP1 、保持時間
をt1 とし、図21(c)の段階(つまり接合工程)に
おける温度をT2 、加圧力をP2 、保持時間をt2 とし
ている。Here, the pressing force in the forming step of pressing and heating near the glass transition point using the heating tool 7 for bonding,
If the pressing force during the joining step is the same, the molding time can be shortened when the pressing force is high, but the substrate is damaged due to excessive pressurization at the time of bonding, and when the pressing force is low, The substrate 1 can be prevented from being damaged at the time of joining, but the molding time becomes longer. Therefore, the pressing force when the substrate 1 is deformed so as to follow the pressing surface 4 of the heating tool 7 by pressing the substrate 1 near the glass transition temperature of the substrate resin by using the bonding heating tool 7 is used. The pressure is higher than the pressure, which makes it possible to shorten the time of pressurized heat molding and prevent the substrate 1 from being damaged due to excessive pressurization during bonding. In addition, the substrate is heated near the glass transition point of the substrate resin during the press-heating molding as described above, but the heating temperature is increased to a temperature necessary for the bonding during the bonding. FIG.
(A) and (b) are graphs showing the relationship between the pressing force and the pressurizing time at the stage of (b) and (c) of FIG. 21 , respectively, and at the stage of (b) and (c) of FIG. 3) is a graph showing the relationship between the heating temperature and the heating time in the stage ()). Here, the temperature at the stage of FIG. 22B (that is, the pressing and heating molding step) is T1, the pressing force is P1, the holding time is t1, and the temperature at the stage of FIG. , The pressure is P2, and the holding time is t2.
【0044】なお、上記した図21に示す実施形態にお
いては、基板1が凹凸面を有し、加熱ツール7の押圧面
4が接合時に平坦面となっている場合における例を示し
たが、加熱ツール7が接合時に下方に凸となっている場
合にも、同様に、接合用の加熱ツール7を用いて基板1
を基板樹脂のガラス転移温度付近で加圧して基板1を加
熱ツール7の押圧面4に倣うように変形させた後に接合
するようにしてもよい。この場合、基板1が凹凸面を有
した場合で且つ加熱ツール7が接合時に下方に凸となっ
ている場合にも同様にして行うとよい。In the embodiment shown in FIG. 21 described above, an example is shown in which the substrate 1 has an uneven surface and the pressing surface 4 of the heating tool 7 is flat at the time of joining. Similarly, when the tool 7 is convex downward at the time of joining, the substrate 1
May be pressed near the glass transition temperature of the substrate resin to deform the substrate 1 so as to follow the pressing surface 4 of the heating tool 7 and then join the substrates. In this case, the same procedure may be performed when the substrate 1 has an uneven surface and the heating tool 7 is convex downward during bonding.
【0045】次に、図23に基づいて本発明の更に他の
実施形態を説明する。この実施形態においては、基板1
上に形成された回路と配列した複数のリード3とを加熱
圧着するに当たり、リード3を塑性変形させることによ
り基板1上に形成された全ての回路とそれに対応する全
てのリード3を均一に接触させて接合するものである。
すなわち、リード3を厚み方向に塑性変形させることに
より、加熱ツール7の反りや基板1の凹凸のために生じ
る基板1の回路とリード3とのギャップを吸収させ、基
板1上に形成された全ての回路とそれに対応する全ての
リード3とを均一に接触させて接合するようにしたもの
である。図23は基板1の凹凸のために生じる基板回路
とリード3とのギャップを吸収する場合の例が示してあ
る。図23(a)は接合前で基板1の表面が凹凸面とな
っていて複数のリード3のうち任意のリード3aと基板
1との間にギャップGが生じている状態を示しており、
図23(b)は接合時に上記リード3a以外の他のリー
ド3b……を塑性変形させることにより、基板1上に形
成された全ての回路とそれに対応する全てのリード3と
を均一に接触させて接合するようにしている。Next, explaining still another embodiment of the present invention with reference to FIG. 23. In this embodiment, the substrate 1
When the circuit formed thereon and the plurality of arranged leads 3 are heated and pressed, the leads 3 are plastically deformed to uniformly contact all the circuits formed on the substrate 1 and all the corresponding leads 3. It is made to join.
That is, by plastically deforming the lead 3 in the thickness direction, the gap between the circuit of the substrate 1 and the lead 3 caused by the warpage of the heating tool 7 or the unevenness of the substrate 1 is absorbed, and all the parts formed on the substrate 1 are absorbed. The above circuit and all the leads 3 corresponding thereto are brought into uniform contact and joined. FIG. 23 shows an example in which the gap between the substrate circuit and the lead 3 caused by the unevenness of the substrate 1 is absorbed. FIG. 23A shows a state in which the surface of the substrate 1 has an uneven surface before bonding, and a gap G is generated between an arbitrary lead 3a of the plurality of leads 3 and the substrate 1;
FIG. 23 (b) shows that all the circuits formed on the substrate 1 and all the corresponding leads 3 are uniformly contacted by plastically deforming the other leads 3b other than the leads 3a at the time of joining . To join.
【0046】ここで、図24にはリード3を塑性変形さ
せる場合の一実施形態が示してある。この実施形態にお
いては、リード3を塑性変形させるための手段が加熱ツ
ール7側に設けてある。すなわち、通常加熱ツール7の
リード3への押圧面4は図46(c)のようになってい
るが、この押圧面4を図24(d)のように先端が尖っ
た鋸刃状凹凸部4aとし、この鋸刃状凹凸部4aをリー
ド3を塑性変形させるための手段とするものである。そ
して、例えば、図24(a)のように接合前において任
意のリード3aと基板1との間にギャップGが生じてい
る場合、図24(b)のように上記リード3a以外のリ
ード3b……に加熱ツール7の鋸刃状凹凸部4aが食い
込んでリード3b……が塑性変形し、この結果、基板1
上に形成された全ての回路とそれに対応する全てのリー
ド3とを均一に接触させて接合するのである。 FIG. 24 shows an embodiment in which the lead 3 is plastically deformed. In this embodiment, means for plastically deforming the lead 3 is provided on the heating tool 7 side. That is, the pressing surface 4 of the normal heating tool 7 against the lead 3 is as shown in FIG. 46 (c) . Reference numeral 4a designates a means for plastically deforming the lead 3 using the saw-toothed uneven portion 4a. Then, for example, any lead 3a and if gaps G is formed between the substrate 1, leads 3b other than the lead 3a as shown in FIG. 24 (b) before joining as shown in FIG. 24 (a) ... Are cut into the saw blade-shaped irregularities 4a of the heating tool 7, and the leads 3b are plastically deformed.
All the circuits formed above and all the leads 3 corresponding thereto are uniformly contacted and joined.
【0047】次に、図25、図26にはそれぞれリード
3を塑性変形させる場合の他の実施形態が示してある。
この図25、図26に示すものにおいては、リード3の
厚み方向の一部に切欠や突起等を設けて他の部分に比べ
て塑性変形しやすい塑性変形可能部99を設けることに
よりリード3を塑性変形させ、加熱ツール7の反りや基
板1の凹凸による基板1の回路とリード3とのギャップ
を吸収し、基板1上に形成された全ての回路とそれに対
応する全てのリード3とを均一に接触させて接合するよ
うになっている。ここで、図25においては、リード3
の厚み方向の一部に切欠を設けて塑性変形可能部99と
した例であり、図26においては、リード3に突起を設
けることで該突起を塑性変形可能部99とした例であ
る。そして、例えば、図25(a)や図26(a)のよ
うに接合前において任意のリード3aと基板1との間に
ギャップGが生じている場合、図25(b)や図26
(b)のように上記リード3a以外のリード3b……が
塑性変形可能部99で塑性変形し(つまり、図25
(c)から図25(d)のように、あるいは、図26
(c)から図26(d)のように塑性変形し)、この結
果、基板1上に形成された全ての回路とそれに対応する
全てのリード3とを均一に接触させて接合するのであ
る。Next,FIG. 25, FIG.Each lead
3 shows another embodiment in which 3 is plastically deformed.
thisFIG. 25, FIG.In the example shown in FIG.
Notches and protrusions are provided in a part of the thickness direction to compare with other parts
To provide a plastically deformable portion 99 which is easily plastically deformed.
The lead 3 is plastically deformed, and the heating tool 7 is warped or deformed.
The gap between the circuit of the substrate 1 and the lead 3 due to the unevenness of the plate 1
And absorbs all the circuits formed on the substrate 1
All the corresponding leads 3 are brought into uniform contact and joined.
Swelling. here,FIG.In lead 3
Notch in a part of the thickness direction of the plastic deformable portion 99
ExampleFIG.In, a protrusion is provided on the lead 3.
In this example, the protrusion is formed into a plastically deformable portion 99 by being cut.
You. And, for example,FIG.(A) andFIG.(A)
Before bonding, between any lead 3a and substrate 1
When the gap G occurs,FIG.(B) andFIG.
Leads 3b... Other than the lead 3a as shown in FIG.
Plastically deformable in the plastically deformable portion 99 (that is,FIG.
From (c)FIG.As in (d), orFIG.
From (c)FIG.(Plastically deforms as shown in (d)).
As a result, all the circuits formed on the substrate 1 and the corresponding circuits
All leads 3 are uniformly contacted and joined.
You.
【0048】なお、上記したいずれの実施形態でも同時
に一括接合する場所は基板1の1辺のみに限らず、同時
に一括接合する場所は基板1の2辺、あるいは3辺、あ
るいは4辺であってもよい。In any of the above-described embodiments, the place where the collective joining is performed simultaneously is not limited to only one side of the substrate 1, and the places where the collective joining is performed simultaneously are two, three, or four sides of the substrate 1. Is also good.
【0049】[0049]
【発明の効果】本発明の請求項1記載の発明にあって
は、上述のように、可曲性を有する基板上に形成された
回路と配列した複数のリードとを加熱圧着するに当た
り、弾性体により形成した基板下受けにより基板を支持
すると共に基板と基板下受けとの間に断熱材を介在して
該基板を加熱ツールの押圧面に倣うように変形させて接
合するので、従来のように金バンプの形成や金メッキ厚
や錫メッキ厚の厚膜化を行なわないで、複数のリードと
基板に設けた回路とを未接合がない状態で均一に一括接
合できるものである。したがって、本発明によれば、バ
ンプレスで列に含まれる全てのリードを一括して均一に
接合することが可能となったものであり、しかも基板を
弾性体により形成した基板下受けにより支持するので、
簡単な構成で確実に基板を加熱ツールの押圧面に倣うよ
うに変形させて接合することができ、また、基板と基板
下受けとの間に断熱材を介在することで、基板下受けを
ゴムとした場合に断熱材により基板下受けの熱による劣
化を防止して寿命を長くすることができるものであり、
また、耐熱温度の低いゴムでも使用できるものである。 In the invention of claim 1, wherein the present invention, as described above, upon thermocompression bonding a plurality of leads which are arranged to a circuit formed on a substrate having a bendable, elastic Substrate is supported by substrate support formed by body
And heat insulating material between the board and the board support.
Since joined deformed so as to follow the substrate to the pressing surface of the heating tool, as in the prior art is not performed thickening of forming and gold plating thickness and the tin plating thickness of the gold bumps, arranged in a plurality of leads and the substrate The circuit can be uniformly joined together without any unjoined circuit. Therefore, according to the present invention, which has become possible to uniformly bonded collectively all the lead contained in the column bumpless, moreover the substrate
Because it is supported by the substrate support formed by the elastic body,
The simple configuration ensures that the substrate follows the pressing surface of the heating tool
It can be deformed and joined like
By interposing a heat insulator between the lower support and the lower support
Insulation material when rubber is used
Can prolong the service life by preventing
Also, rubber having a low heat-resistant temperature can be used.
【0050】また、請求項2記載の発明にあっては、可
曲性を有する基板上に形成された回路と配列した複数の
リードとを加熱圧着するに当たり、流動体よりなる基板
下受けにより基板を支持して基板を加熱ツールの押圧面
に倣うように変形させて接合するので、従来のように金
バンプの形成や金メッキ厚や錫メッキ厚の厚膜化を行な
わないで、複数のリードと基板に設けた回路とを未接合
がない状態で均一に一括接合できるものであり、したが
って、本発明によれば、バンプレスで列に含まれる全て
のリードを一括して均一に接合することが可能となった
ものであり、しかも基板下受けとして流動体を用いるの
で、接合領域全域にわたり加圧分布を均一にできて、均
一な接合強度が得られるものである。 [0050] Further, in the invention of claim 2, variable
A plurality of circuits arranged on a substrate having flexibility
A substrate made of a fluid when heating and pressing the lead
The substrate is supported by the lower support and the substrate is pressed by the pressing surface of the heating tool.
It is deformed and joined to follow the
Form bumps and increase the thickness of gold plating and tin plating.
Do not connect multiple leads to the circuit on the board without joining
Can be uniformly joined together without any
Thus, according to the present invention, all the
Leads can be joined uniformly all at once
And using a fluid as a substrate support
The pressure distribution can be made uniform over the entire joining area,
A uniform bonding strength can be obtained.
【0051】また、請求項3記載の発明にあっては、可
曲性を有する基板上に形成された回路と配列した複数の
リードとを加熱圧着するに当たり、バイメタルよりなる
基板下受けにより基板を支持して基板を加熱ツールの押
圧面に倣うように変形させて接合するので、従来のよう
に金バンプの形成や金メッキ厚や錫メッキ厚の厚膜化を
行なわないで、複数のリードと基板に設けた回路とを未
接合がない状態で均一に一括接合できるものであり、し
たがって、本発明によれば、バンプレスで列に含まれる
全てのリードを一括して均一に接合することが可能とな
ったものであり、しかも基板下受けとしてバイメタルを
用いるので、簡単な構成で確実に基板を加熱ツールの押
圧面に倣うように変形させて接合することができるもの
である。 [0051] Further, in the invention of claim 3, wherein the variable
A plurality of circuits arranged on a substrate having flexibility
It is made of bimetal when heat-pressing the lead
The substrate is supported by the substrate support, and the substrate is pressed by the heating tool.
It is deformed and joined to follow the pressure surface,
Formation of gold bumps and thickening of gold plating and tin plating
Do not connect multiple leads to the circuit on the board.
They can be joined together in a batch without any joining.
Thus, according to the present invention, it is included in a row at bumpless
All leads can be joined together at once.
And use bimetal as a support for the substrate.
Use a simple configuration to securely press the substrate with the heating tool.
What can be deformed and joined to follow the pressure surface
It is.
【0052】また、請求項4記載の発明にあっては、可
曲性を有する基板上に形成された回路と配列した複数の
リードとを加熱圧着するに当たり、基板下方からリード
一本一本を加熱ツールの押圧面に押し上げて基板を加熱
ツールの押圧面に倣うように変形させて接合するので、
従来のように金バンプの形成や金メッキ厚や錫メッキ厚
の厚膜化を行なわないで、複数のリードと基板に設けた
回路とを未接合がない状態で均一に一括接合できるもの
であり、したがって、本発明によれば、バンプレスで列
に含まれる全てのリードを一括して均一に接合すること
が可能となったものであり、しかも基板下方からリード
一本一本を加熱ツールの押圧面に押し上げるので、接合
領域全域にわたり加圧分布を均一にできて、均一な接合
強度が得られるものであり、また、複数のリードを一本
一本加熱ツールに押し当てるため接合部の信頼性が高ま
るものである。 [0052] Further, in the invention described in claim 4, variable
A plurality of circuits arranged on a substrate having flexibility
When heating and crimping the lead,
Each one is pushed up to the pressing surface of the heating tool to heat the substrate
Since it is deformed and joined to follow the pressing surface of the tool,
Gold bump formation, gold plating thickness, tin plating thickness
Provided on multiple leads and substrate without thickening
One that can be uniformly joined together with no unjoined circuit
And, according to the invention,
All leads included in the package at once
And lead from under the board
Each one is pushed up to the pressing surface of the heating tool, so joining
Uniform pressure distribution over the entire area for uniform bonding
Strength can be obtained, and multiple leads
Pressing against a single heating tool increases joint reliability
Things.
【0053】また、請求項5記載の発明にあっては、上
記請求項2乃至請求項4のいずれかに記載の発明の効果
に加えて、センサーにより加圧補正量を検出して、加圧
補正量に基づいて加圧力を制御するので、接合領域全域
にわたり適切な加圧を与えることができるものである。 [0053] Further, in the invention of claim 5, wherein, above
Effect of the invention according to any one of claims 2 to 4
In addition, the sensor detects the amount of pressure
Since the pressing force is controlled based on the correction amount,
And a suitable pressurization can be applied.
【0054】また、請求項6記載の発明にあっては、基
板上に形成された回路と配列した複数のリードとを加熱
圧着するに当たり、加熱時に加熱ツールの押圧面全面
が、該加熱ツールで押圧される該当する列に含まれる全
てのリードに均一に当たるように変形して加圧するもの
であって、加熱ツールを回転自在に支持し、加熱ツール
の加圧をアクチュエータによって補正するので、従来の
ように金バンプの形成や金メッキ厚や錫メッキ厚の厚膜
化を行なわないで、複数のリードと基板に設けた回路と
を未接合がない状態で均一に一括接合できるものであ
る。したがって、本発明によれば、バンプレスで列に含
まれる全てのリードを一括して均一に接合することが可
能となったものであり、また、加熱ツールを回転自在に
支持し、加熱ツールの加圧をアクチュエータによって補
正するので、簡単な構成で加熱ツールの押圧面の両端部
の加圧力を補正して、列に含まれる全てのリードを一括
して均 一に接合することができるものである。 In the invention according to claim 6, the base
Heats the circuit formed on the board and the multiple leads arranged
When pressing, the entire pressing surface of the heating tool during heating
Are all included in the corresponding row pressed by the heating tool.
Deformed and pressed so as to hit all leads uniformly
Wherein the heating tool is rotatably supported, and the heating tool is
Pressure is corrected by the actuator,
So as to form a gold bump or gold plating or tin plating thick film
The circuit provided on a plurality of leads and the substrate
Can be uniformly joined together without any unjoined parts.
You. Therefore, according to the present invention, the columns in the bumpless
All leads can be joined uniformly at once.
The heating tool can be rotated freely.
Support, and the pressurization of the heating tool is supplemented by an actuator.
Correct both ends of the pressing surface of the heating tool with a simple configuration
Of all leads in a row
Those that may be joined evenly one to.
【0055】また、請求項7記載の発明にあっては、基
板上に形成された回路と配列した複数のリードとを加熱
圧着するに当たり、加熱時に加熱ツールの押圧面全面
が、該加熱ツールで押圧される該当する列に含まれる全
てのリードに均一に当たるように、加熱ツールの押圧面
の中央部と両端部とで温度差を生じさせて加熱時に押圧
面が凸状に変形するのを抑えて加圧するので、簡単な構
成で加熱時に加熱ツールの押圧面の凸変形を抑え、列に
含まれた全てのリードを一括して均一に接合することが
できるものである。 Further, in the invention according to claim 7, the base
Heats the circuit formed on the board and the multiple leads arranged
When pressing, the entire pressing surface of the heating tool during heating
Are all included in the corresponding row pressed by the heating tool.
Pressing surface of heating tool so that all leads are evenly
Temperature difference between the center and both ends of the
Pressurizing the surface while suppressing it from deforming in a convex shape,
The convex deformation of the pressing surface of the heating tool during heating
All leads included can be joined together at once
You can do it.
【0056】また、請求項8記載の発明にあっては、上
記請求項7記載の発明の効果に加えて、加熱ツールの押
圧面の中央部の温度を計測し、この中央部の計測温度を
フィードバックして指令温度と比較して指令温度になる
ように加熱するので、加熱ツールの押圧面の中央部を加
熱時に冷却しても、確実に所定の温度まで加熱すること
ができて、列に含まれた全てのリードを一括して均一に
接合することができるものである。 [0056] Further, in the invention according to claim 8, above
In addition to the effect of the invention described in claim 7, the pressing of the heating tool is performed.
Measure the temperature at the center of the pressure surface and measure the temperature at this center.
Feedback and compare with command temperature to command temperature
The center of the pressing surface of the heating tool.
Be sure to heat up to the specified temperature even when cooling when hot
To make all leads in a row uniform at once
It can be joined.
【0057】また、請求項9記載の発明にあっては、可
曲性を有する基板上に形成された回路と配列した複数の
リードとを加熱圧着するに当たり、接合用の加熱ツール
を用いて基板を基板樹脂のガラス転移温度付近で加圧し
て基板を加熱ツールの押圧面に倣うように変形させた後
に接合するものであって、接合用の加熱ツールを用いて
基板を基板樹脂のガラス転移温度付近で加圧して基板を
加熱ツールの押圧面に倣うように変形させる際の加圧力
を接合時の加圧力よりも高くするので、複数のリードと
基板の回路を未接合無く均一に一括して接合することが
できるものであり、また、接合用の加熱ツールを用いて
基板を成形させるため、予め基板を成形させる工程を設
けずに接合工程の一部として基板を加熱ツールの押圧面
に簡単且つ確実に倣わせることができるものであり、更
に接合用の加熱ツールを用いて基板を基板樹脂のガラス
転移温度付近で加圧して基板を加熱ツールの押圧面に倣
うように変形させる際の加圧力を接合時の加圧力よりも
高くするので、基板の成形 時間を短縮化でき、また、接
合時の加圧過剰による基板損傷を防止することができる
ものである。 [0057] Further, in the invention of claim 9, wherein, soluble
A plurality of circuits arranged on a substrate having flexibility
Heating tool for joining when heating and crimping the lead
Press the substrate near the glass transition temperature of the substrate resin using
After deforming the substrate to follow the pressing surface of the heating tool
To be bonded to each other using a heating tool for bonding.
Pressing the substrate around the glass transition temperature of the substrate resin
Pressing force when deforming to follow the pressing surface of the heating tool
Is higher than the pressing force at the time of joining.
The circuit of the substrate can be joined together in a lump without unjoining
It can be done by using a heating tool for bonding.
In order to shape the substrate, a process for forming the substrate is set in advance.
Pressing surface of the heating tool as part of the bonding process
Can be copied easily and reliably.
The substrate is made of glass using a heating tool for bonding
Pressing near the transition temperature to make the substrate follow the pressing surface of the heating tool
Force when deforming so that it
Since the height is higher, the molding time of the substrate can be shortened.
Can prevent substrate damage due to excessive pressurization
Things.
【0058】また、請求項10記載の発明にあっては、
基板上に形成された回路と配列した複数のリードとを加
熱圧着するに当たり、リードを塑性変形させることによ
り基板上に形成された全ての回路とそれに対応する全て
のリードを均一に接触させて接合するものであって、加
熱ツールのリードとの接触面を鋭角化し、加熱ツールを
リードに食い込ませることによりリードを塑性変形する
ので、複数のリードと基板の回路を未接合無く均一に一
括して接合することができるものであり、また、リード
自身を塑性変形させるため、加熱ツールの反りを防止し
たり、基板を変形させたりする機構が不要となるもので
あり、更に、加熱ツールのリードとの接触面を鋭角化
し、加熱ツールをリードに食い込ませることによりリー
ドを塑性変形するので、加熱ツールの押圧面に簡単な加
工を施すのみで、簡単にリードを塑性変形させることが
できるものである。 According to the tenth aspect of the present invention,
Adds the circuit formed on the board and the
The lead is plastically deformed during thermocompression bonding.
All circuits formed on the substrate and all corresponding circuits
Are joined by uniformly contacting the leads of
The contact surface of the heat tool with the lead is sharpened,
Plastically deform the lead by cutting it into the lead
Therefore, multiple leads and the circuit of the board can be uniformly
And can be joined together.
Prevents the heating tool from warping because it deforms itself
Or a mechanism that deforms the substrate becomes unnecessary.
Yes, and the contact surface with the lead of the heating tool is sharpened
And lead the heating tool into the lead
Since the metal is plastically deformed, it can be easily applied to the pressing surface of the heating tool.
The lead can be easily plastically deformed only by
You can do it.
【0059】また、請求項11記載の発明にあっては、
基板上に形成された回路と配列した複数のリードとを加
熱圧着するに当たり、リードを塑性変形させることによ
り基板上に形成された全ての回路とそれに対応する全て
のリードを均一に接触させて接合するものであって、リ
ードの厚み方向の一部に他の部分に比べて塑性変形しや
すい塑性変形可能部を設けることによりリードを塑性変
形するので、複数のリードと基板の回路を未接合無く均
一に一括して接合することができるものであり、また、
リード自身を塑性変形させるため、加熱ツールの反りを
防止したり、基板を変形させたりする機構が不要となる
ものであり、更に、リードの厚み方向の一部に他の部分
に比べて塑性変形しやすい塑性変形可能部を設けること
によりリードを塑性変形するので、リード自身の簡単な
加工でリードを塑性変形させることができるものであ
る。 According to the eleventh aspect of the present invention,
Adds the circuit formed on the board and the
The lead is plastically deformed during thermocompression bonding.
All circuits formed on the substrate and all corresponding circuits
The leads are uniformly contacted and joined.
Plastic deformation in some parts in the thickness direction of the
The lead can be plastically deformed by providing a plastically deformable part.
Shape, so that multiple leads and the circuit of the board can be
It can be joined all at once, and
In order to plastically deform the lead itself, warp the heating tool.
No need for a mechanism to prevent or deform the substrate
And another part in the thickness direction of the lead.
Provide a plastically deformable part that is more plastically deformable than
Leads to plastic deformation of the lead,
It is capable of plastically deforming the lead during processing.
You.
【図1】本発明の一実施形態の説明のための断面図であ
る。FIG. 1 is a sectional view for explaining an embodiment of the present invention.
【図2】(a)はリードと基板とを示す分解正面断面図
であり、(b)は分解平面図であり、(c)はリードを
接合した後に樹脂封止をした状態の断面図である。2A is an exploded front cross-sectional view showing a lead and a substrate, FIG. 2B is an exploded plan view, and FIG. 2C is a cross-sectional view in a state where the leads are joined and then sealed with a resin. is there.
【図3】(a)はリードを接合する前の状態の断面図で
あり、(b)は接合時の断面図であり、(c)は斜視図
であり、(d)は接合状態の概略全体図である。3A is a cross-sectional view of a state before a lead is bonded, FIG. 3B is a cross-sectional view at the time of bonding, FIG. 3C is a perspective view, and FIG. It is an overall view.
【図4】本発明の他の実施形態の説明のための断面図で
ある。 FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining another embodiment of the present invention .
is there.
【図5】本発明の更に他の実施形態の説明のための断面
図である。 FIG. 5 is a sectional view for explaining still another embodiment of the present invention .
FIG.
【図6】本発明の更に他の実施形態の説明のための断面
図である。 FIG. 6 is a sectional view for explaining still another embodiment of the present invention .
FIG.
【図7】本発明の更に他の実施形態の説明のための断面
図である。 FIG. 7 is a cross-sectional view for explaining still another embodiment of the present invention.
FIG.
【図8】本発明の更に他の実施形態の説明のための断面
図である。 FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining still another embodiment of the present invention.
FIG.
【図9】本発明の更に他の実施形態の説明のための断面
図である。FIG. 9 is a cross-sectional view for explaining still another embodiment of the present invention.
【図10】同上のフロー図である。 FIG. 10 is a flowchart of the above.
【図11】本発明の更に他の実施形態の説明のための断
面図である。 FIG. 11 is a sectional view for explaining still another embodiment of the present invention.
FIG.
【図12】同上のフロー図である。 FIG. 12 is a flowchart of the above.
【図13】本発明の更に他の実施形態の説明のための説
明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram for explaining still another embodiment of the present invention.
【図14】同上の2つのアクチュエータの変位と時間と
の関係を示すグラフである。 FIG. 14 shows displacement and time of two actuators of the above .
6 is a graph showing the relationship of.
【図15】本発明の更に他の実施形態の説明図である。FIG. 15 is an explanatory diagram of still another embodiment of the present invention.
【図16】同上のフロー図である。 FIG. 16 is a flowchart of the above.
【図17】本発明の更に他の実施形態を示し、(a)は
正面説明図であり、(b)は側面説明図であり、(c)
は加熱ツールの加熱時に押圧面の中央部を冷却した場合
と冷却しない場合との押圧面の変形を示す説明図であ
り、(d)は加熱時における加熱ツールの押圧面の温度
分布を示す説明図である。 FIG. 17 shows still another embodiment of the present invention , wherein (a)
It is front explanatory drawing, (b) is a side explanatory drawing, (c)
Is when the center of the pressing surface is cooled during heating of the heating tool
FIG. 7 is an explanatory diagram showing deformation of the pressing surface when the cooling is not performed.
(D) is the temperature of the pressing surface of the heating tool during heating.
It is explanatory drawing which shows a distribution.
【図18】本発明の更に他の実施形態の説明図である。FIG. 18 is an explanatory view of still another embodiment of the present invention.
【図19】同上のフロー図である。FIG. 19 is a flowchart of the above .
【図20】本発明の更に他の実施形態の説明図である。 FIG. 20 is an explanatory diagram of still another embodiment of the present invention.
【図21】本発明の更に他の実施形態を示し、(a)は
加熱加圧成形前の状態を示す説明図であり、(b)は基
板樹脂のガラス転移温度付近で加圧している段階の説明
図であり、(c)は接合時の説明図である。 FIG. 21 shows yet another embodiment of the present invention, wherein (a)
It is explanatory drawing which shows the state before heat-pressure molding, (b) is a base.
Explanation of pressurizing stage near the glass transition temperature of plate resin
It is a figure and (c) is explanatory drawing at the time of joining.
【図22】(a)は図21の(b)の段階と(c)の段
階における加圧力と加圧時間との関係を示すグラフであ
り、(b)は図21の(b)の段階と(c)の段階にお
ける加熱温度と加熱時間との関係を示すグラフである。 FIG. 22 (a) shows the stage of FIG. 21 (b) and the stage of FIG. 21 (c).
FIG. 6 is a graph showing a relationship between a pressing force and a pressurizing time in a floor.
(B) corresponds to steps (b) and (c) in FIG.
4 is a graph showing the relationship between the heating temperature and the heating time during heating.
【図23】(a)(b)は本発明の更に他の実施形態の
説明図である。 23 (a) and (b) show still another embodiment of the present invention.
FIG.
【図24】本発明の更に他の実施形態を示し、(a)は
接合前を(b)は接合時の状態を示す説明図であり、
(c)は一般の加熱ツールの押圧面を(d)は本実施形
態の押圧面を示す説明図である。 FIG. 24 shows yet another embodiment of the present invention , wherein (a)
(B) is an explanatory diagram showing a state at the time of joining before joining;
(C) is a pressing surface of a general heating tool, and (d) is the present embodiment.
It is explanatory drawing which shows the pressing surface of a state.
【図25】本発明の更に他の実施形態を示し、(a)は
接合前を(b)は接合時の状態を示す説明図であり、
(c)は塑性変形前を(d)は加圧により塑性変形した
状態を示す説明図である。 FIG. 25 shows yet another embodiment of the present invention, wherein (a)
(B) is an explanatory diagram showing a state at the time of joining before joining;
(C) is before plastic deformation and (d) is plastically deformed by pressing.
It is explanatory drawing which shows a state.
【図26】本発明の更に他の実施形態を示し、(a)は
接合前を(b)は接合時の状態を示す説明図であり、
(c)はリードの塑性変形前を(d)は加圧によりリー
ドが塑性変形した状態を示す説明図である。 FIG. 26 shows yet another embodiment of the present invention , wherein (a)
(B) is an explanatory diagram showing a state at the time of joining before joining;
(C) Lead before plastic deformation of lead (d) Lead by pressurization
FIG. 4 is an explanatory view showing a state in which the metal is plastically deformed.
【図27】(a)は加熱ツールを加熱する前の断面図で
あり、(b)は加熱ツールを加熱している時の押圧面の
変形を示す断面図であり、(c)は同上の接合時におけ
る問題点を示す説明図である。 FIG. 27A is a cross-sectional view before a heating tool is heated.
Yes, (b) is the pressing surface when heating the heating tool
It is sectional drawing which shows a deformation | transformation.
FIG.
【図28】基板の厚みにばらつきがある場合における問
題点を説明するための説明図である。 FIG. 28 illustrates a problem when the thickness of the substrate varies.
FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a title.
1 基板 2 回路 3 リード 4 押圧面 5 基板下受け 7 加熱ツール 8 断熱材 9 アクチュエータ 10 センサー DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Circuit 3 Lead 4 Pressing surface 5 Substrate support 7 Heating tool 8 Insulation material 9 Actuator 10 Sensor
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 法上 司 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工 株式会社内 (72)発明者 北野 斉 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工 株式会社内 (72)発明者 川村 和司 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工 株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−119152(JP,A) 特開 昭63−86530(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/60 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Tsukasa Hogami 1048, Kazuma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Inside (72) Inventor Hitoshi Kitano 1048 Kadoma, Kazuma Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Works Co., Ltd. (72 Inventor Kazushi Kawamura 1048 Kadoma, Kazuma, Osaka Pref. Matsushita Electric Works, Ltd. (56) References JP-A-2-119152 (JP, A) JP-A-63-86530 (JP, A) (58) Survey Field (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/60
Claims (11)
と配列した複数のリードとを加熱圧着するに当たり、弾
性体により形成した基板下受けにより基板を支持すると
共に基板と基板下受けとの間に断熱材を介在して該基板
を加熱ツールの押圧面に倣うように変形させて接合する
ことを特徴とするリード付き基板の接合方法。Upon 1. A thermocompression bonding a plurality of leads to the circuit and array formed on a substrate having a bendable, bullets
When the substrate is supported by the substrate support
Both the substrate and bonding method leaded substrate, characterized in that the joined interposed insulation is deformed so as to follow the pressing surface of the heating tool the substrate between the substrate under received.
と配列した複数のリードとを加熱圧着するに当たり、流
動体よりなる基板下受けにより基板を支持して基板を加
熱ツールの押圧面に倣うように変形させて接合すること
を特徴とするリード付き基板の接合方法。2. A circuit formed on a substrate having flexibility.
When heating and crimping the multiple leads
The substrate is supported and supported by the substrate support
Deformation and bonding to follow the pressing surface of the thermal tool
A method for joining substrates with leads.
と配列した複数のリードとを加熱圧着するに当たり、バ
イメタルよりなる基板下受けにより基板を支持して基板
を加熱ツールの押圧面に倣うように変形させて接合する
ことを特徴とするリード付き基板の接合方法。3. A circuit formed on a substrate having flexibility.
When heating and crimping multiple leads
The board is supported by the board support made of metal.
Is deformed so as to follow the pressing surface of the heating tool and is joined
A method for joining substrates with leads.
と配列した複数のリードとを加熱圧着するに当たり、基
板下方からリード一本一本を加熱ツールの押圧面に押し
上げて基板を加熱ツールの押圧面に倣うように変形させ
て接合することを特徴とするリード付き基板の接合方
法。4. A circuit formed on a substrate having flexibility.
When heating and crimping multiple leads
Press each lead from below the plate against the pressing surface of the heating tool
Raise and deform the substrate to follow the pressing surface of the heating tool
A method for joining substrates with leads , characterized in that the substrates are joined together .
加圧補正量に基づいて加圧力を制御することを特徴とす
る請求項2乃至請求項4のいずれかに記載のリード付き
基板の接合方法。5. A pressure correction amount is detected by a sensor,
The pressurizing force is controlled based on the pressurizing correction amount.
The method for bonding a substrate with leads according to any one of claims 2 to 4 .
のリードとを加熱圧着するに当たり、加熱時に加熱ツー
ルの押圧面全面が、該加熱ツールで押圧される該当する
列に含まれる全てのリードに均一に当たるように変形し
て加圧するものであって、加熱ツールを回転自在に支持
し、加熱ツールの加圧をアクチュエータによって補正す
ることを特徴とするリード付き基板の接合方法。6. A plurality of arrays arranged on a circuit formed on a substrate.
When applying heat and pressure to the lead of
The entire pressing surface of the tool is pressed by the heating tool.
Deform so that all the leads in the row are hit evenly
Pressurizes and supports the heating tool rotatably
And correct the pressurization of the heating tool by the actuator.
A method for joining substrates with leads.
のリードとを加熱圧 着するに当たり、加熱時に加熱ツー
ルの押圧面全面が、該加熱ツールで押圧される該当する
列に含まれる全てのリードに均一に当たるように、加熱
ツールの押圧面の中央部と両端部とで温度差を生じさせ
て加熱時に押圧面が凸状に変形するのを抑えて加圧する
ことを特徴とするリード付き基板の接合方法。7. A plurality of circuits arranged on a circuit formed on a substrate
Heating Two Upon, upon heating to application of a lead heating pressure
The entire pressing surface of the tool is pressed by the heating tool.
Heat so that all leads in the row are evenly distributed
A temperature difference occurs between the center and both ends of the pressing surface of the tool.
And pressurize while suppressing the pressing surface from deforming convexly during heating
A method for joining substrates with leads.
測し、この中央部の計測温度をフィードバックして指令
温度と比較して指令温度になるように加熱することを特
徴とする請求項7記載のリード付き基板の接合方法。8. The temperature of the center of the pressing surface of the heating tool is measured.
Measure and feed back the measured temperature at the center to command
Heating to the command temperature compared to the temperature
The method for bonding substrates with leads according to claim 7 .
と配列した複数のリードとを加熱圧着するに当たり、接
合用の加熱ツールを用いて基板を基板樹脂のガラス転移
温度付近で加圧して基板を加熱ツールの押圧面に倣うよ
うに変形させた後に接合するものであって、接合用の加
熱ツールを用いて基板を基板樹脂のガラス転移温度付近
で加圧して基板を加熱ツールの押圧面に倣うように変形
させる際の加圧力を接合時の加圧力よりも高くすること
を特徴とするリード付き基板の接合方法。9. A circuit formed on a bendable substrate
When heating and crimping multiple leads
Substrate to glass transition of substrate resin using joint heating tool
Pressing around the temperature will make the substrate follow the pressing surface of the heating tool
It is joined after being deformed like this.
Substrate near the glass transition temperature of substrate resin using thermal tool
To deform the substrate to follow the pressing surface of the heating tool
The pressing force at the time of making it higher than the pressing force at the time of joining
A method for joining substrates with leads.
数のリードとを加熱圧着するに当たり、リードを塑性変
形させることにより基板上に形成された全ての回路とそ
れに対応する全てのリードを均一に接触させて接合する
ものであって、加熱ツールのリードとの接触面を鋭角化
し、加熱ツールをリードに食い込ませることによりリー
ドを塑性変形することを特徴とするリード付き基板の接
合方法。10. A circuit array formed with a circuit formed on a substrate.
As the number of leads and thermocompression bonding, the leads deform plastically.
All the circuits formed on the substrate
All the corresponding leads are uniformly contacted and joined
The contact surface of the heating tool with the lead is sharpened
And lead the heating tool into the lead
A method for bonding a substrate with leads, wherein the substrate is plastically deformed .
数のリードとを加熱圧着するに当たり、リードを塑性変
形させることにより基板上に形成された全ての回路とそ
れに対応する全てのリードを均一に接触させて接合する
ものであって、リードの厚み方向の一部に他の部分に比
べて塑性変形しやすい塑性変形可能部を設けることによ
りリードを塑性変形することを特徴とするリード付き基
板の接合方法。11. A circuit arrayed with a circuit formed on a substrate.
As the number of leads and thermocompression bonding, the leads deform plastically.
All the circuits formed on the substrate
All the corresponding leads are uniformly contacted and joined
That is part of the lead thickness direction compared to other parts.
By providing a plastically deformable part that is easily plastically deformed
A method for joining substrates with leads, wherein the leads are plastically deformed .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24811495A JP3227357B2 (en) | 1995-02-23 | 1995-09-26 | Bonding method of board with lead |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7-35101 | 1995-02-23 | ||
JP3510195 | 1995-02-23 | ||
JP24811495A JP3227357B2 (en) | 1995-02-23 | 1995-09-26 | Bonding method of board with lead |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08293525A JPH08293525A (en) | 1996-11-05 |
JP3227357B2 true JP3227357B2 (en) | 2001-11-12 |
Family
ID=26374022
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24811495A Expired - Fee Related JP3227357B2 (en) | 1995-02-23 | 1995-09-26 | Bonding method of board with lead |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3227357B2 (en) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7071714B2 (en) | 2001-11-02 | 2006-07-04 | Formfactor, Inc. | Method and system for compensating for thermally induced motion of probe cards |
US6972578B2 (en) * | 2001-11-02 | 2005-12-06 | Formfactor, Inc. | Method and system for compensating thermally induced motion of probe cards |
US7688063B2 (en) | 2008-02-19 | 2010-03-30 | Formfactor, Inc. | Apparatus and method for adjusting thermally induced movement of electro-mechanical assemblies |
JP5589836B2 (en) * | 2008-03-26 | 2014-09-17 | 日本電気株式会社 | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
JP4983872B2 (en) * | 2009-07-31 | 2012-07-25 | カシオ計算機株式会社 | Bonding apparatus and bonding method using the same |
CN104701223B (en) * | 2015-03-24 | 2018-02-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | A kind of chip pressing equipment |
JP7215206B2 (en) * | 2019-02-19 | 2023-01-31 | 富士電機株式会社 | Semiconductor device manufacturing method |
JP7334464B2 (en) | 2019-05-15 | 2023-08-29 | 富士電機株式会社 | Semiconductor module, method for manufacturing semiconductor module, and step jig |
KR102240019B1 (en) * | 2019-07-24 | 2021-04-14 | 주식회사 클레버 | Pressing device for sealing secondary battery |
WO2021194293A1 (en) * | 2020-03-26 | 2021-09-30 | 주식회사 클레버 | Battery cell sealing device for degassing process |
-
1995
- 1995-09-26 JP JP24811495A patent/JP3227357B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH08293525A (en) | 1996-11-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5749997A (en) | Composite bump tape automated bonding method and bonded structure | |
US5861661A (en) | Composite bump tape automated bonded structure | |
US5813115A (en) | Method of mounting a semiconductor chip on a wiring substrate | |
CN109103117B (en) | Apparatus for bonding semiconductor chips and method of bonding semiconductor chips | |
US6461890B1 (en) | Structure of semiconductor chip suitable for chip-on-board system and methods of fabricating and mounting the same | |
CN101252093B (en) | Method of manufacturing an electronic component and an electronic device, the electronic component and electronic device | |
JP3227357B2 (en) | Bonding method of board with lead | |
JP2018074148A (en) | Method for simultaneously bonding multiple chips of different heights onto flexible substrates using anisotropic conductive film or paste | |
US6674178B1 (en) | Semiconductor device having dispersed filler between electrodes | |
JP3881751B2 (en) | Semiconductor chip mounting structure and mounting method | |
JPH0638436B2 (en) | Method of joining semiconductor pellet and substrate | |
JPS6351538B2 (en) | ||
US6008072A (en) | Tape automated bonding method | |
KR101750206B1 (en) | Heating header of semiconductor mounting apparatus and bonding method for semiconductor | |
US6194780B1 (en) | Tape automated bonding method and bonded structure | |
JP3393527B2 (en) | Solder bump connection method and pressure jig | |
JP2583142B2 (en) | Manufacturing method of thermoelectric module | |
JP3947502B2 (en) | Manufacturing method of sealing member made of anisotropic conductive film | |
JPS6386530A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
JP3384357B2 (en) | Method of bonding liquid crystal polymer tape and method of mounting semiconductor chip on lead frame | |
JP2978673B2 (en) | Semiconductor device bonding equipment | |
JPH0671026B2 (en) | Semiconductor mounting method | |
JP7453035B2 (en) | Crimping head, mounting device using the same, and mounting method | |
JP2003133707A (en) | Method and apparatus for placing electronic component | |
JPH0236556A (en) | Pin grid array and mounting of semiconductor element |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20010821 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070831 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080831 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090831 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090831 Year of fee payment: 8 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090831 Year of fee payment: 8 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090831 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100831 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110831 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120831 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130831 Year of fee payment: 12 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |