JP3216433B2 - Manufacturing method of electrode foil for aluminum electrolytic capacitor - Google Patents

Manufacturing method of electrode foil for aluminum electrolytic capacitor

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は低圧級のアルミ電解コン
デンサ用電極箔の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an electrode foil for a low-pressure aluminum electrolytic capacitor.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般にアルミ電解コンデンサは、アルミ
電解コンデンサ用電極箔と絶縁紙を巻回してコンデンサ
素子を構成し、このコンデンサ素子に駆動用電解液を含
浸させ、そしてこのコンデンサ素子をケース内に封入す
ることにより構成されている。
2. Description of the Related Art Generally, an aluminum electrolytic capacitor is constructed by winding an electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor and insulating paper to form a capacitor element, impregnating the capacitor element with a driving electrolyte, and placing the capacitor element in a case. It is constituted by enclosing.

【0003】また前記アルミ電解コンデンサ用電極箔
は、アルミニウム箔の表面をエッチングして凹凸を形成
しその表面積を拡大するエッチング工程と、このエッチ
ング工程により得られたエッチング箔の表面に酸化皮膜
を形成する化成工程とを経て製造されるもので、上記エ
ッチング工程においては、アルミニウム箔は塩化物を含
む水溶液中でその表面が電気化学的に溶解されて粗面化
され、そして硝酸、硫酸などで脱塩素処理される。この
後、エッチングされたアルミニウム箔は、乾燥して巻き
取られた上で次の化成工程に移される。
The electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor has an etching step of etching the surface of the aluminum foil to form irregularities to increase its surface area, and forming an oxide film on the surface of the etching foil obtained by the etching step. In the above-mentioned etching step, the surface of the aluminum foil is electrochemically dissolved in an aqueous solution containing chlorides to roughen the surface, and then the aluminum foil is removed with nitric acid, sulfuric acid, or the like. Chlorinated. Thereafter, the etched aluminum foil is dried and wound up, and then transferred to the next chemical conversion step.

【0004】そして、さらに大きい静電容量の電極箔を
得るために、例えば、特開平2−216810号公報に
示されているようにエッチングの後処理としてアミンを
添加した水溶液中でエッチング箔をボイル処理する方法
や、特開昭53−26960号公報に示されているアル
ミニウム箔をエッチングした後にアルゴン、窒素などの
不活性ガス雰囲気中で加熱処理する方法が提案されてい
る。
In order to obtain an electrode foil having a larger capacitance, the etching foil is boiled in an aqueous solution containing an amine as a post-etching treatment, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 2-216810. There has been proposed a method of performing a treatment, or a method of performing a heat treatment in an atmosphere of an inert gas such as argon or nitrogen after etching an aluminum foil disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 53-26960.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来技術のようにアルミニウム箔の表面を粗面化する
とともに、脱塩素処理を行ったエッチング箔をアミンを
添加した水溶液中でボイル処理する方法では、温度が
0℃以上と高いためアルミニウム箔の表面の水和皮膜厚
みが厚くなりすぎて化成後の漏れ電流が増大するという
問題点を有している。
However, in the method of roughening the surface of the aluminum foil and boil-treating the dechlorinated etching foil in an aqueous solution containing an amine as in the above-described prior art, , Temperature 9
Since the temperature is as high as 0 ° C. or more, the thickness of the hydrated film on the surface of the aluminum foil becomes too large, and there is a problem that the leakage current after chemical formation increases.

【0006】なお、上記ボイル処理する温度を90℃未
満で処理すると水和皮膜は薄くなり化成後の漏れ電流を
多少低減することができるが、大幅な効果は期待できな
いものであった。
[0006] The temperature for the boil treatment is set to 90 ° C or less.
When the treatment is full, the hydrated film becomes thin and the leakage current after chemical conversion is reduced.
Although it can be reduced somewhat, no significant effect can be expected
It was a terrible thing.

【0007】また、アルミニウム箔をエッチングした後
にアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気中で加熱処理
した上で化成処理を行ったアルミ電解コンデンサ用電極
箔では、単位面積当りの静電容量をアップさせることが
不充分であるという問題点を有していた。
In addition, in the electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor, which is subjected to a heat treatment in an inert gas atmosphere such as argon or nitrogen after etching the aluminum foil and then performing a chemical conversion treatment, the capacitance per unit area is increased. Is insufficient.

【0008】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、単位面積当りの静電容量を増大させることができる
とともに、漏れ電流を低減させることができるアルミ電
解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供することを目的
とするものである。
The present invention solves the above-mentioned conventional problems and provides a method of manufacturing an electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor capable of increasing the capacitance per unit area and reducing the leakage current. It is intended to provide.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法
は、アルミニウム箔の表面を粗面化し、脱塩素処理を行
ったエッチング箔を50℃の純水中に浸漬して0.01
〜1mg/cm2の水和皮膜を生成させ、続いてこれを
400℃の大気中で1分間乾燥処理した後、不活性ガス
雰囲気もしくは真空中で加熱処理した上で、前記エッチ
ング箔の表面に酸化皮膜を形成する化成処理を行うよう
にしたものである。
Means for Solving the Problems The method for aluminum electrolytic capacitors electrode foil of the present invention in order to achieve the above object, the surface of the aluminum foil is roughened, 50 ° C. The etching foil was dechlorination Immersion in pure water of 0.01
~ 1 mg / cm 2 of hydrated film is formed ,
After a drying treatment in an atmosphere of 400 ° C. for one minute , a heating treatment is performed in an inert gas atmosphere or vacuum, and then a chemical conversion treatment for forming an oxide film on the surface of the etching foil is performed.

【0010】[0010]

【作用】上記製造方法によれば、アルミニウム箔の表面
を粗面化し、脱塩素処理を行ったエッチング箔に水和皮
膜量が0.01〜1mg/cm2の範囲である水和皮膜
50℃の純水中に浸漬することにより生成させるよう
にしているもので、この水和処理により、エッチング箔
の表面に緻密で薄い水和アルミナ(Al(OH) 3 及び
Al 2 3 ・3H 2 )が形成され、そしてこのエッチン
グ箔表面に形成された水和アルミナAl(OH) 3
びAl 2 3 ・3H 2 を400℃の大気中で1分間乾
燥処理させることにより酸化アルミニウムの1水和物
(Al 2 3 ・H 2 O)にして、この後、不活性ガス雰囲
気中もしくは真空中で加熱処理するようにしているた
め、この加熱処理により前記酸化アルミニウムの1水和
物は脱水反応により結晶質化されやすくなり結晶性熱酸
化皮膜を生成することになる。そしてこの後の化成処理
により、前記エッチング箔の表面には薄くて耐電圧を有
する緻密な複合酸化皮膜が形成されることになるため、
この電極箔は単位面積当りの静電容量を増大させること
ができるとともに、漏れ電流を低減させることができる
ものである。
According to the above-mentioned manufacturing method, 50 parts of the hydrated film having an amount of the hydrated film in the range of 0.01 to 1 mg / cm 2 are applied to the etched foil which has been roughened and dechlorinated. It is produced by immersion in pure water at a temperature of ℃ C. By this hydration treatment, dense and thin hydrated alumina ( Al (OH) 3 and
Al 2 O 3 .3H 2 O ) is formed, and the hydrated alumina ( Al (OH) 3 and
And Al 2 O 3 .3H 2 O ) in air at 400 ° C. for 1 minute.
Monohydrate of aluminum oxide by drying
In the (Al 2 O 3 · H 2 O), after this, because you have to heat treatment at or in a vacuum in an inert gas atmosphere, 1 hydrate of the aluminum oxide by the heat treatment
The material is easily crystallized by a dehydration reaction, and a crystalline thermal oxide film is formed. Then, by the subsequent chemical conversion treatment, a thin composite oxide film having a withstand voltage is formed on the surface of the etching foil,
This electrode foil can increase the capacitance per unit area and reduce the leakage current.

【0011】[0011]

【実施例】以下、本発明の実施例1と、これと比較する
上での比較例1,2について説明する。
EXAMPLES Hereinafter, Example 1 of the present invention and Comparative Examples 1 and 2 for comparison with Example 1 will be described.

【0012】(実施例1) (A)エッチング工程:純度99.98%、厚み100
μmのアルミニウム生箔を塩酸5%、塩化アルミニウム
2%の水溶液からなる温度30℃のエッチング液中に浸
漬し、弦波交流電流で電流密度0.2A/cm2、電
気量120/cm2のエッチングを行った。 (B)脱塩素処理:10%硝酸水溶液(液温60℃)中
に1分間浸漬して脱塩素処理を行った。 (C)水和処理:純水(液温50℃)中に3分間浸漬し
て、0.2mg/cm2の水和皮膜量が得られる水和処
理を行った。 (D)乾燥処理:400℃の大気中で1分間乾燥処理を
行った。 (E)加熱処理:400℃の温度において真空中で1時
間加熱処理を行った。
(Example 1) (A) Etching step: purity 99.98%, thickness 100
5% hydrochloric acid aluminum raw foil [mu] m, were immersed in the etching solution temperature 30 ° C. of an aqueous solution of aluminum chloride 2%, a current density of 0.2 A / cm 2 in sinusoidal alternating current electrical quantity 120 C / cm 2 was etched. (B) Dechlorination treatment: The substrate was immersed in a 10% aqueous nitric acid solution (solution temperature 60 ° C.) for 1 minute to perform a dechlorination treatment. (C) Hydration treatment: immersion in pure water (liquid temperature 50 ° C.) for 3 minutes to perform hydration treatment to obtain a hydrated film amount of 0.2 mg / cm 2 . (D) Drying treatment: Drying treatment was performed in the air at 400 ° C. for 1 minute. (E) Heat treatment: Heat treatment was performed at 400 ° C. in a vacuum for 1 hour.

【0013】(比較例1) (A)エッチング工程:実施例1と同じ。 (B)脱塩素処理:実施例1と同じ。 (C)水和処理:濃度0.01mol/lであるエチル
アミン水溶液(液温98℃)中に1分間浸漬して水和処
理を行った。 (D)乾燥処理:実施例1と同じ。
Comparative Example 1 (A) Etching Step: Same as in Example 1. (B) Dechlorination treatment: Same as in Example 1. (C) Hydration treatment: A hydration treatment was carried out by immersion in an ethylamine aqueous solution (liquid temperature: 98 ° C.) having a concentration of 0.01 mol / l for 1 minute. (D) Drying treatment: Same as in Example 1.

【0014】(比較例2) (A)エッチング工程:実施例1と同じ。 (B)脱塩素処理:実施例1と同じ。 (C)乾燥処理:実施例1と同じ。 (D)加熱処理:実施例1と同じ。Comparative Example 2 (A) Etching Step: Same as in Example 1. (B) Dechlorination treatment: Same as in Example 1. (C) Drying treatment: Same as in Example 1. (D) Heat treatment: Same as in Example 1.

【0015】上記実施例1および比較例1,2で得られ
た各エッチング箔を35V化成して得られた電極箔の単
位面積当りの静電容量および漏れ電流を測定した結果を
(表1)に示す。
The results of measuring the capacitance per unit area and the leakage current of the electrode foil obtained by forming each of the etching foils obtained in Example 1 and Comparative Examples 1 and 2 at 35 V are shown in Table 1. Shown in

【0016】[0016]

【表1】 [Table 1]

【0017】(表1)から明らかなように本発明の実施
例1により得られた電極箔は、アルミニウム箔の表面を
粗面化し、脱塩素処理を行ったエッチング箔に、水和処
理、乾燥処理、加熱処理を施しているため、比較例1,
2により得られた電極箔に比べて単位面積当りの静電容
量を増大させることができるとともに、漏れ電流を低減
させることができるものである。
As is clear from Table 1, the electrode foil obtained according to the first embodiment of the present invention is obtained by roughening the surface of an aluminum foil, dechlorinating an etched foil, hydrating and drying the foil. Comparative Example 1 and Comparative Example 1
2, the capacitance per unit area can be increased and the leakage current can be reduced as compared with the electrode foil obtained in Step 2.

【0018】また本発明の実施例1においては、水和処
理を行う場合水和皮膜量を0.2mg/cm2にしたも
のについて説明したが、この水和処理によりエッチング
箔の表面に形成される水和アルミナ(水酸化アルミニウ
ム)の適正な水和皮膜厚みを得るためには、水和皮膜量
は0.01〜1mg/cm2の範囲が好ましいものであ
る。
In the first embodiment of the present invention, when the hydration treatment is performed, the amount of the hydrated film is set to 0.2 mg / cm 2 , but the hydration treatment forms the surface of the etching foil. In order to obtain an appropriate hydrated film thickness of hydrated alumina (aluminum hydroxide), the amount of the hydrated film is preferably in the range of 0.01 to 1 mg / cm 2 .

【0019】そしてまた本発明の実施例1においては、
加熱処理を行う場合、400℃の温度において真空中で
1時間加熱処理を行うようにしたものについて説明した
が、真空中以外のアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲
気中で行ってもよく、また加熱処理温度は250℃〜5
50℃の範囲が好ましく、かつその処理時間は0.1〜
5時間の範囲が好ましいものである。
In the first embodiment of the present invention,
In the case where the heat treatment is performed, the case where the heat treatment is performed for 1 hour in a vacuum at a temperature of 400 ° C. has been described. However, the heat treatment may be performed in an inert gas atmosphere such as argon and nitrogen other than the vacuum. Heat treatment temperature is 250 ℃ ~ 5
The temperature is preferably in the range of 50 ° C., and the treatment time is 0.1 to
A range of 5 hours is preferred.

【0020】すなわち、加熱処理温度が250℃以下、
またはその処理時間が0.1時間以下の場合は、加熱処
理の十分な効果が得られず、また加熱処理の温度が55
0℃以上、またはその処理時間が5時間以上の場合は、
水和処理によって形成される水和皮膜の結晶質化が過度
に促進されて後で生成される化成皮膜の漏れ電流が増大
してしまうため、加熱処理温度は250〜550℃の範
囲が好ましく、かつその処理時間は0.1〜5時間の範
囲が好ましい。
That is, the heat treatment temperature is 250 ° C. or less,
Alternatively, when the treatment time is 0.1 hour or less, a sufficient effect of the heat treatment cannot be obtained, and the temperature of the heat treatment is 55
If the temperature is 0 ° C or more, or the processing time is 5 hours or more,
Since the crystallization of the hydrated film formed by the hydration treatment is excessively promoted and the leakage current of the chemical conversion film generated later increases, the heat treatment temperature is preferably in the range of 250 to 550 ° C. The treatment time is preferably in the range of 0.1 to 5 hours.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上のように本発明のアルミ電解コンデ
ンサ用電極箔の製造方法によれば、アルミニウム箔の表
面を粗面化し、脱塩素処理を行ったエッチング箔を50
℃の純水中に浸漬して0.01〜1mg/cm2の水和
皮膜を生成させるようにしているもので、この水和処理
により、エッチング箔の表面に緻密で薄い水和アルミナ
Al(OH) 3 及びAl 2 3 ・3H 2 )が形成され、
続いてこれを400℃の大気中で1分間乾燥処理して前
記水和アルミナを酸化アルミニウムの1水和物(Al 2
3 ・H 2 O)にして、この後、不活性ガス雰囲気もしく
は真空中で加熱処理するようにしているため、前記40
0℃の乾燥処理によりエッチング箔の表面に形成された
酸化アルミニウムの1水和物は、この加熱処理により、
結晶質化されて結晶性熱酸化皮膜を生成することにな
る。そしてこの後の化成処理により、前記エッチング箔
の表面には薄くて耐電圧を有する緻密な複合酸化皮膜が
形成されるため、この電極箔は、単位面積当りの静電容
量を増大させることができるとともに、漏れ電流を低減
させることができるものである。
As described above, according to the method for producing an electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor of the present invention, the surface of the aluminum foil is roughened, and the etching foil which has been subjected to the dechlorination treatment is used.
A hydrated film of 0.01 to 1 mg / cm 2 is formed by immersion in pure water at ℃ C. By this hydration treatment, dense and thin hydrated alumina ( Al (OH) 3 and Al 2 O 3 .3H 2 O ) are formed,
Subsequently, this is dried for 1 minute in the air at 400 ° C.
The hydrated alumina was converted to aluminum oxide monohydrate (Al 2
In the O 3 · H 2 O), since this then has to be heat treated in an inert gas atmosphere or in a vacuum, the 40
Formed on the surface of etching foil by drying at 0 ° C
By this heat treatment, monohydrate of aluminum oxide is
It is crystallized to form a crystalline thermal oxide film. Then, by the subsequent chemical conversion treatment, a thin composite oxide film having a withstand voltage is formed on the surface of the etching foil, so that this electrode foil can increase the capacitance per unit area. At the same time, the leakage current can be reduced.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01G 9/04 301 H01G 9/055 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01G 9/04 301 H01G 9/055

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 アルミニウム箔の表面を粗面化し、脱塩
素処理を行ったエッチング箔を50℃の純水中に浸漬し
0.01〜1mg/cm2の水和皮膜を生成させ、
いてこれを400℃の大気中で1分間乾燥処理した後
不活性ガス雰囲気もしくは真空中で加熱処理した上で、
前記エッチング箔の表面に酸化皮膜を形成する化成処理
を行うようにしたアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造
方法。
1. An aluminum foil having a roughened surface and a dechlorinated etching foil is immersed in pure water at 50 ° C.
To produce a hydrated film of 0.01 to 1 mg / cm 2 Te, continued
After drying this in the air at 400 ° C. for 1 minute ,
After heat treatment in an inert gas atmosphere or vacuum,
A method of manufacturing an electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor, wherein a chemical conversion treatment for forming an oxide film on the surface of the etching foil is performed.
【請求項2】 加熱処理の温度は250〜550℃の範
囲であり、かつその処理時間は0.1〜5時間の範囲で
ある請求項1記載のアルミ電解コンデンサ用電極箔の製
造方法。
2. The method for producing an electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the temperature of the heat treatment is in the range of 250 to 550 ° C., and the treatment time is in the range of 0.1 to 5 hours.
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