JP3211667U - 観測装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】標本の検査作業の作業効率を向上させることができると共に、ESDに起因して標本に損傷痕を残して標本の故障解析を複雑にさせない観測装置を提供する。【解決手段】顕微鏡1は、観察する標本Sが載置される装置ステージ2を備える。装置ステージ2は金属によって形成され、導電性を持つ材質からなる。装置ステージ2を支える鏡柱4や鏡台3等からなる顕微鏡本体は、装置ステージ2に電気的につながっている。顕微鏡1は、この装置ステージ2上に水平面出し治具11を備える。水平面出し治具11は、ステージ台12と3つの支持具13とから構成される。支持具13は、スリーブの外周にシンブルが回転自在に取り付けられて構成される金属製のマイクロメータヘッドからなり、このマイクロメータヘッドを保持するステムがステージ台12に固定されている。【選択図】図1
Description
本考案は、装置ステージに載置される標本を観察する観測装置に関するものである。
従来、この種の観測装置としては、例えば、半導体デバイス等の標本を観察したり検査するための顕微鏡がある。この種の顕微鏡を使用して、故障した半導体デバイス等の断面を観察し、故障解析をすることが従来行われている。半導体デバイス等の観察対象となる断面は、従来、サンプルを研磨することによって形成されている。
しかしながら、サンプルを研磨して観察面となる断面を形成する際、この断面がサンプルの底面に対して傾いてしまうことがある。このように観察面が傾いたサンプルを装置ステージに載置して、研磨した断面を顕微鏡で拡大して観察すると、顕微鏡の焦点が観察面に合わず、観察面がぼけてしまう。このような場合、従来、サンプルの研磨をやり直し、観察面が観察方向に対して垂直になるまで、サンプルを作り直していた。このサンプルの研磨作業にはある程度の熟練が要され、研磨作業に不慣れな作業者がサンプルを作ると、適切なサンプルの作成に時間および労力が必要とされた。このため、従来の観測装置を用いた半導体デバイス等の検査作業は、作業効率が悪かった。
また、従来、観測装置を用いて半導体デバイス等の故障解析を行う際、静電気放電(ElectoroStatic Discharge:以下、ESDと記す)によって半導体デバイス等が静電破壊をしないように、細心の注意を払って故障部位を観察する必要がある。ESDが起きると、半導体デバイス等の内部に放電電流が流れ、局部的に発熱したり電界が集中して、静電破壊に至る。この静電破壊は、帯電した導体(半導体デバイス等を含む)が瞬時に放電して起こるもので、エネルギーが小さいため、微小な損傷痕が半導体デバイス等に残る。このような損傷痕が残ると、半導体デバイス等の故障解析は複雑になる。
本考案はこのような課題を解決するためになされたもので、
導電性を持つ材質からなる装置ステージと、この装置ステージに電気的につながる観測装置本体とを備えて構成され、装置ステージに載置される標本を観察する観測装置において、
帯電防止材料からなる平板状のステージ台と、このステージ台の複数箇所に取り付けられてネジ作用によってステージ台の支持高さを可変する導電性材質からなる複数の支持具とから構成される水平面出し治具を装置ステージ上に備えることを特徴とする。
導電性を持つ材質からなる装置ステージと、この装置ステージに電気的につながる観測装置本体とを備えて構成され、装置ステージに載置される標本を観察する観測装置において、
帯電防止材料からなる平板状のステージ台と、このステージ台の複数箇所に取り付けられてネジ作用によってステージ台の支持高さを可変する導電性材質からなる複数の支持具とから構成される水平面出し治具を装置ステージ上に備えることを特徴とする。
本構成によれば、標本の観察面が観察方向に対して傾いていても、標本を水平面出し治具のステージ台上に載置し、ステージ台の複数箇所に取り付けられた支持具によるステージ台の各支持高さを支持具のネジ作用によって調節することで、標本の観察面を観察方向に対して容易に垂直に支持することができる。したがって、標本の観察面となる断面の研磨作業に不慣れな作業者が標本を作っても、水平面出し治具を装置ステージ上に備えることで、容易に、標本の観察面を観察方向に対して垂直にして、標本の観察を行うことが可能になる。このため、観測装置を用いた半導体デバイス等の検査作業の作業効率は向上する。
また、ステージ台は帯電防止材料からなり、複数の支持具は導電性材質からなる。したがって、標本または作業者または水平面出し治具が帯電していても、その帯電電荷は、ステージ台、支持具、および装置ステージを介して観測装置本体に放電され、アースされる。このため、ESDが起きないように細心の注意を従来のように払うことなく、標本の故障部位を観察することができ、この観点からも、観測装置を用いた半導体デバイス等の検査作業の作業効率は向上する。また、ESDに起因して標本に損傷痕が残ることはなく、半導体デバイス等の故障解析は従来のように複雑になることはない。
また、本考案は、支持具が、スリーブの外周にシンブルが回転自在に取り付けられて構成されるマイクロメータヘッドからなり、このマイクロメータヘッドを保持するステムがステージ台に固定されることを特徴とする。
本構成によれば、マイクロメータヘッドのシンブルを回すことで、支持具によるステージ台の各支持高さが調節され、その調節高さは、シンブルの外周囲に記される目盛りおよびスリーブの外周囲に記される目盛りを読むことで、正確に把握される。このため、各支持具間の高さ調整を正確に素早く行え、迅速に、標本の観察面を観察方向に対して垂直に調節することができる。
また、本考案は、支持具が、ステージ台に螺合する導電性ネジから構成されることを特徴とする。
本構成によれば、導電性ネジを回すことで、支持具によるステージ台の各支持高さが調節される。このため、水平面出し治具を安価に簡単に構成して、容易に、標本の観察面を観察方向に対して垂直にして、標本の観察を行うことが可能になる。
また、本考案は、装置ステージの外形よりも大きな外形を有して装置ステージ上に載置され、水平面出し治具が載置される帯電防止材料からなる平板状の大ステージを備えることを特徴とする。
本構成によれば、水平面出し治具に載置される標本または作業者または水平面出し治具または大ステージが帯電していても、その帯電電荷は、ステージ台と支持具とから構成される水平面出し治具、大ステージ、および装置ステージを介して観測装置本体に放電され、アースされる。また、大ステージが単独で装置ステージ上に載置されることで、装置ステージに置ききれない大きな標本を大ステージに載置して観察することができる。この際にも、大ステージ上の標本または作業者または大ステージが帯電していても、その帯電電荷は、大ステージおよび装置ステージを介して観測装置本体に放電され、アースされる。このため、ESDを起こすことなく標本の検査作業の作業効率を向上させることが可能な観測装置の使用用途を多様化することができる。
また、本考案は、大ステージが、装置ステージに使用される金属皿ネジを用いて装置ステージに固定されることを特徴とする。
本構成によれば、大ステージの装置ステージに対する固定を、観測装置に何ら処置を施すことなく、簡単に行える。また、金属皿ネジは、大ステージの表面に頭部を突出させることなく、大ステージに取り付けることができる。このため、大ステージに大きな標本を置くときに標本が金属皿ネジに引っ掛かったりすることはなく、金属皿ネジの使用が標本の観察を阻害することはない。
本考案によれば、標本の検査作業の作業効率を向上させることができると共に、ESDに起因して標本に損傷痕を残して標本の故障解析を複雑にさせない観測装置を提供することができる。
次に、本考案の観測装置を実施するための形態について、説明する。
図1は、本考案の第1の実施形態による観測装置を構成する顕微鏡1の側面図である。
顕微鏡1は、装置ステージ2に載置される標本Sを観察する。装置ステージ2の下方には鏡台3が設けられ、この鏡台3には鏡柱4が立設されている。対物レンズ5は、鏡柱4に支えられて、装置ステージ2上に配置されている。対物レンズ5に結像される標本像は接眼レンズ6で観察される。対物レンズ5および接眼レンズ6の光学系は、鏡柱4に設けられたハンドル7を回転させることで、装置ステージ2からの距離が調節される。
装置ステージ2は金属によって形成され、導電性を持つ材質からなる。装置ステージ2を支える鏡柱4や鏡台3等からなる顕微鏡本体は、装置ステージ2に電気的につながっている。本実施形態による顕微鏡1は、この装置ステージ2上に水平面出し治具11を備える。
図2は、水平面出し治具11を斜め上方から見た斜視図である。水平面出し治具11は、ステージ台12と3つの支持具13とから構成される。
ステージ台12は、例えば、塩化ビニル樹脂やアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等の帯電防止性能に優れた帯電防止材料からなる透明な平板によって構成される。支持具13は、導電性材質からなり、このステージ台12の3箇所に取り付けられて、ネジ作用によってステージ台12の支持高さを可変する。本実施形態では、支持具13は、スリーブ13bの外周にシンブル13aが回転自在に取り付けられて構成される金属製のマイクロメータヘッドからなり、このマイクロメータヘッドを保持するステムがステージ台12に固定されている。
図3は、装置ステージ2上に載置された状態の水平面出し治具11の側面図である。図3において図1および図2と同一または相当する部分には同一符号を付している。
同図に示すように支持具13は、ステージ台12に固定されて、ステージ台12の下方にスピンドル13cを突出させている。スピンドル13cは、シンブル13aおよびスリーブ13bに内蔵される部分の外周に雄ネジが形成されており、シンブル13aの内部に設けられたナットに螺合している。シンブル13aを回転させると、ナットと雄ネジとの間のネジ作用により、スピンドル13cがステージ台12の下方へ突出する長さが可変する。シンブル13aの外周囲およびスリーブ13bの外周囲には目盛りが記されており、スピンドル13cがステージ台12の下方へ突出する長さは、各目盛りから知ることができる。
本実施形態による顕微鏡1によれば、標本Sの観察面が図3に示すように観察方向に対して傾いていても、標本Sを水平面出し治具11のステージ台12上に載置し、ステージ台12の3箇所に取り付けられた支持具13によるステージ台12の各支持高さを支持具13のネジ作用によって調節することで、標本Sの観察面を観察方向に対して容易に垂直に支持することができる。例えば、標本Sの観察面が図3に示すように観察方向に対して傾いている場合には、同図に左側に位置する支持具13によるステージ台12の支持高さを高くするか、もしくは、同図に右側に位置する支持具13によるステージ台12の支持高さを低くすることで、標本Sの観察面を観察方向に対して容易に垂直にすることができる。したがって、標本Sの観察面となる断面の研磨作業に不慣れな作業者が手作業で標本Sを作っても、水平面出し治具11を装置ステージ2上に備えることで、その場で容易に、標本Sの観察面を観察方向に対して垂直に調整して、標本Sの観察を行うことが可能になる。つまり、標本Sの作り直しを従来のようにする必要は無くなる。このため、顕微鏡1を用いた半導体デバイス等の検査作業の作業効率は向上する。
また、ステージ台12は帯電防止材料からなり、各支持具13は導電性材質からなる。したがって、標本Sまたは作業者または水平面出し治具11が帯電していても、その帯電電荷は、ステージ台12、支持具13、および装置ステージ2を介して観測装置本体に放電され、アースされる。よって、ステージ台12および装置ステージ2が帯電することはない。このため、ESDが起きないように細心の注意を従来のように払うことなく、標本Sの故障部位を観察することができ、この観点からも、顕微鏡1を用いた半導体デバイス等の検査作業の作業効率は向上する。また、ESDに起因して標本Sに損傷痕が残ることはなく、半導体デバイス等の故障解析は従来のように複雑になることはない。
また、本実施形態では、支持具13が金属製のマイクロメータヘッドからなり、シンブル13aを回すことで、支持具13によるステージ台12の各支持高さが調節され、その調節高さは、シンブル13aの外周囲に記される目盛りおよびスリーブ13bの外周囲に記される目盛りを読むことで、正確に把握される。このため、各支持具13間の高さ調整を正確に素早く行え、迅速に、標本Sの観察面を観察方向に対して垂直に調節することができる。
図4は、本考案の第2の実施形態による観測装置を構成する顕微鏡1Aの側面図である。図4において図1と同一または相当する部分には同一符号を付してその説明は省略する。
この第2の実施形態による顕微鏡1Aは、装置ステージ2と水平面出し治具11との間に大ステージ14を備える点だけが、第1の実施形態による顕微鏡1と相違する。その他の構成は第1の実施形態による顕微鏡1と同様である。
図5は、顕微鏡1Aの装置ステージ2の部分を拡大して示す一部拡大斜視図である。図5において図4と同一または相当する部分には同一符号を付してその説明は省略する。
大ステージ14は、装置ステージ2の外形よりも大きな外形を有して、装置ステージ2上に載置され、水平面出し治具11が載置される。この大ステージ14も、水平面出し治具11を構成するステージ台12と同様な帯電防止材料からなる透明な平板から構成される。大ステージ14は、装置ステージ2に元々使用される金属皿ネジ15を用いて、装置ステージ2に固定されている。
本実施形態による顕微鏡1Aによれば、水平面出し治具11に載置される標本Sまたは作業者または水平面出し治具11または大ステージ14が帯電していても、その帯電電荷は、ステージ台12と支持具13とから構成される水平面出し治具11、大ステージ14、および装置ステージ2を介して観測装置本体に放電され、アースされる。よって、ステージ台12および大ステージ14および装置ステージ2が帯電することはない。また、大ステージ14が単独で装置ステージ2上に載置されることで、装置ステージ2に置ききれない大きな標本S、例えば、半導体ウエハなどを大ステージ14に載置して観察することができる。この際にも、大ステージ14上の標本Sまたは作業者または大ステージ14が帯電していても、その帯電電荷は、大ステージ14および装置ステージ2を介して観測装置本体に放電され、アースされる。このため、ESDを起こすことなく標本Sの検査作業の作業効率を向上させることが可能な顕微鏡1Aの使用用途を多様化することができる。
また、本実施形態による顕微鏡1Aによれば、大ステージ14の装置ステージ2に対する固定を、装置ステージ2に元々使用される金属皿ネジ15を用いて行うことで、顕微鏡1Aに何ら処置を施すことなく、簡単に行える。また、金属皿ネジ15は、大ステージ14の表面に頭部を突出させることなく、大ステージ14に取り付けることができる。このため、大ステージ14に標本Sを置くときに半導体ウエハのような大きな標本Sが金属皿ネジ15に引っ掛かったりすることはなく、金属皿ネジ15の使用が標本Sの観察を阻害することはない。
なお、上記の各実施形態では、支持具13に金属製のマイクロメータヘッドを用いた場合について説明したが、ステージ台12に螺合する導電性ネジから支持具13を構成するようにしてもよい。本構成によれば、導電性ネジを回すことで、支持具13によるステージ台12の各支持高さが調節される。このため、水平面出し治具11を安価に簡単に構成して、容易に、標本Sの観察面を観察方向に対して垂直にして、標本Sの観察を行うことが可能になる。
1、1A…顕微鏡(観測装置)
2…装置ステージ
3…鏡台
4…鏡柱
5…対物レンズ
6…接眼レンズ
7…ハンドル
11…水平面出し治具
12…ステージ台
13…支持具(マイクロメータヘッド)
13a…シンブル
13b…スリーブ
13c…スピンドル
14…大ステージ
15…金属皿ネジ
2…装置ステージ
3…鏡台
4…鏡柱
5…対物レンズ
6…接眼レンズ
7…ハンドル
11…水平面出し治具
12…ステージ台
13…支持具(マイクロメータヘッド)
13a…シンブル
13b…スリーブ
13c…スピンドル
14…大ステージ
15…金属皿ネジ
Claims (5)
- 導電性を持つ材質からなる装置ステージと、この装置ステージに電気的につながる観測装置本体とを備えて構成され、前記装置ステージに載置される標本を観察する観測装置において、
帯電防止材料からなる平板状のステージ台と、このステージ台の複数箇所に取り付けられてネジ作用によって前記ステージ台の支持高さを可変する導電性材質からなる複数の支持具とから構成される水平面出し治具を前記装置ステージ上に備えることを特徴とする観測装置。 - 前記支持具は、スリーブの外周にシンブルが回転自在に取り付けられて構成されるマイクロメータヘッドからなり、このマイクロメータヘッドを保持するステムが前記ステージ台に固定されることを特徴とする請求項1に記載の観測装置。
- 前記支持具は、前記ステージ台に螺合する導電性ネジから構成されることを特徴とする請求項1に記載の観測装置。
- 前記装置ステージの外形よりも大きな外形を有して前記装置ステージ上に載置され、前記水平面出し治具が載置される帯電防止材料からなる平板状の大ステージを備えることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の観測装置。
- 前記大ステージは、前記装置ステージに使用される金属皿ネジを用いて前記装置ステージに固定されることを特徴とする請求項4に記載の観測装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2017002197U JP3211667U (ja) | 2017-05-17 | 2017-05-17 | 観測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2017002197U JP3211667U (ja) | 2017-05-17 | 2017-05-17 | 観測装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP3211667U true JP3211667U (ja) | 2017-07-27 |
Family
ID=59384538
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2017002197U Active JP3211667U (ja) | 2017-05-17 | 2017-05-17 | 観測装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3211667U (ja) |
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2017
- 2017-05-17 JP JP2017002197U patent/JP3211667U/ja active Active
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