JP3207457B2 - 製造工程管理システム - Google Patents

製造工程管理システム

Info

Publication number
JP3207457B2
JP3207457B2 JP20440291A JP20440291A JP3207457B2 JP 3207457 B2 JP3207457 B2 JP 3207457B2 JP 20440291 A JP20440291 A JP 20440291A JP 20440291 A JP20440291 A JP 20440291A JP 3207457 B2 JP3207457 B2 JP 3207457B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
management
code
data
information
lot
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP20440291A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH05151231A (ja
Inventor
悦生 福田
雅敬 田沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP20440291A priority Critical patent/JP3207457B2/ja
Publication of JPH05151231A publication Critical patent/JPH05151231A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3207457B2 publication Critical patent/JP3207457B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/02Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/30Computing systems specially adapted for manufacturing

Landscapes

  • General Factory Administration (AREA)
  • Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、多種の半導体装置の
製造工程を示す記述情報の、文法、製造条件値、および
製造工程順をチェックし、上記製造工程の各工程におけ
る製造条件が工程順に印刷されている製造工程表を生成
し、複数の製造の工場が存在する場合、各製造工場間に
おいてそれぞれ異なる表記、フォーマットを有する製造
処理条件指示書や、各製造工場のシステムを管理する管
理コンピュータ用の情報を生成することによって、上記
多種の半導体装置の製造工程を管理する製造工程管理シ
ステムに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の試作ラインのような多品種
変量製造ラインでは、複数の製造工程を有し、異なる工
程順序と処理(製造)条件を持つ多数の被産性対象を同
時に製造・処理している。
【0003】この多品種変量製造ラインにおいて製品を
製造するとき、各工程の処理内容およびプロセスの流れ
が記述された製造工程表(以下、プロセスフローチェッ
ク用シートという)が使用される。
【0004】しかしながら、このプロセスフローチェッ
ク用シートを使用するとき、記述された処理(プロセ
ス)の流れが必ずしも正しいとは限らない。
【0005】従来、プロセスフローのチェックは、熟練
した技術者・研究者の手作業によって行われていた。し
かしながら、現状ではプロセスフローをチェックする熟
練者が不足しているのが現状である。また、今後プロセ
スフローが長くなると、長大なチェック時間が費され、
さらに熟練者においてもチェックミスが生じる恐れがあ
る。
【0006】また、熟練者・研究者がワードプロセッサ
もしくは手書きにより、前記プロセスフローチェック用
シートに各工程の処理内容およびプロセスの流れを記述
していた。
【0007】さらに、企業の半導体製造工場は、日本ま
たは世界各地に点在しており、各製造工場で独自の製造
体系を有している。例えば、製造に従事するライン担当
者が使用する製造処理条件指示書は、そのフォーマッ
ト、表示名称等に違いが有り、各工場特有の表現と形式
を持っている。つまり、同じ処理であるにもかかわらず
各工場における表示形式、名称が異なるのが現状であ
る。また、製造工場のシステムを管理する管理コンピュ
ータで使用する製造管理用情報(データ)なども、各工
場で固有のコード、フォーマットで使用され、工場を越
えてデータを使用することは不可能である。
【0008】従って、技術者/研究者たちが製造処理条
件指示書や製造工場の管理用データを作成する場合に、
それぞれの工場に合わせて作成しなければならないのが
現状である。例えば、同じプロセスフローを3工場に渡
って使用する場合、製造処理条件指示書とクリーンルー
ム管理用データをそれぞれ3種類ずつ作成しなければな
らない。また、名称、コード、形式等が各工場で異なる
ため、各工場間で工場管理用データを共有化することは
不可能である。
【0009】また、各工場では、一般に、それぞれ複数
の処理室を持っており、その処理室間の管理の問題も重
要である。
【0010】また、上記コンピュータ用コードは汎用性
がないため、特に、半導体の試作ラインの様に多品種変
量の場合、上記コンピュータ用コードが非常に多く必要
となり、プロセスフローの修正や追加等の管理処理が複
雑である。
【0011】また、従来では、上記多品種変量の各ロッ
トごとにコード情報が対応していないため、ロット毎の
処理条件の変更がむずかしい。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】このように、熟練した
技術者・研究者の手作業におけるプロセスフローのチェ
ックでは、長大なチェック時間が費やされ、さらに、チ
ェックミスが生じるという問題があった。
【0013】また、ワードプロセッサもしくは手書きに
よるプロセスフローチェック用シートでは、修正や追加
が困難である。また、記入する技術者・研究者によって
フォーマットが異なるため、作業ミスを生じる危険があ
る。
【0014】さらに、技術者/研究者が複数の工場で製
品を製造する場合、同じ処理内容であるにもかかわら
ず、各工場それぞれに適した製造処理条件指示書、製造
工場管理用データを作成しなければならない。また、製
造処理条件指示書、製造工場管理用データを別々に、つ
まり1工場に対して2種類のプロセスフローデータを作
成しなければならない。
【0015】また、従来のコンピュータ用コードは汎用
性がないため、多品種変量の製造工程の場合、プロセス
フローの修正や追加等の管理処理が複雑である。
【0016】すなわち、従来では、入力された多種の製
造工程をチェックし、各工場における各処理室ごとに、
そのチェックされた製造工程の実行を一貫して管理する
システムが確立されていなかった。
【0017】そこで本発明は、このような従来の事情に
鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、
記述さたプロセスフローを高速でかつ正確にチェックす
ることができると共に、プロセスフロー修正や追加が容
易にでき、かつ規定の形式にフォーマット化することに
より、多品種変量製造ラインにおいても十分対応できる
製造工程管理システムを提供することである。
【0018】さらに、この発明の他の目的は、記述され
たプロセスフローのデータを元に、各工場用にデータを
変換することができ、さらに1度で複数のデータを作成
することができる製造工程管理システムを提供すること
である。
【0019】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、半導体製造に必要とされる一連の製造工程
群から成るプロセスフローデータを各製造工程の情報を
コード化して入力する入力手段と、コード化された情報
群に対して最大限許容される条件を管理するコード情報
管理手段と、入力手段で入力されたコード情報が正しく
記述されているか否かを、コード情報管理手段と比較し
てチェックするコード情報チェック手段と、コード情報
チェック手段でチェックされたコード情報群を、特定の
半導体製造ラインに適合するように管理用データに変換
するコード情報変換手段と、コード情報変換手段でコー
ド情報群を変換して得られる半導体製造ライン管理用デ
ータを用いて半導体製造工程の管理を行う半導体製造工
程管理手段とを備えたことを特徴とする。
【0020】
【作用】上記構成において、入力手段を用いて入力され
たコード情報は、正しく記述されているか否かをチェッ
クされた後、半導体製造ラインごとに定められるフォー
マットに適合するように自動的に変換されて半導体製造
ライン管理用データが作成される。次いで、この半導体
製造ライン管理用データに基づいて、被製造物は製造工
程ごとに対応するクリーンルームに搬送され、該クリー
ンルーム内の処理装置によって管理用データに基づいて
処理される。
【0021】従って、半導体製造ラインごとに半導体製
造のための管理用データのフォーマットが異なっていて
も、コード情報が入力されれば、自動的に半導体製造ラ
インに適合した管理用データを得ることができる。更
に、入力されたコード情報は自動的にチェックされるの
で、入力ミスが生じても即座に対応でき、作業効率が大
幅に改善される。
【0022】
【実施例】以下、図面を用いてこの発明の実施例を説明
する。
【0023】図1は、この発明に従う製造工程管理シス
テムの概略構成ブロック図である。
【0024】図1に示すように、この製造工程管理シス
テムは、入力されるコード情報(製造工程毎に処理の種
類、処理に付随する変数および変数の値を示す)を製造
工程順にプロセスフローとして記述し、その記述された
プロセスフローに対し後述の如く種々のチェックを行
い、チェックされたプロセスフローのデータから各工場
におけるクリーンルーム(処理室)管理用データを生成
して転送する第1のコンピュータ101を有している。
この第1のコンピュータ101は、LAN103を介し
て、工場毎に設置されたクリーンルーム管理用コンピュ
ータ(第2のコンピュータ)105に接続されており、
このクリーンルーム管理用コンピュータ105は、上記
第1のコンピュータ101より転送されるクリーンルー
ム管理用データに従って各クリーンルーム(処理室)間
及びクリーンルーム内の製造工程管理を行う様になって
いる。
【0025】第2コンピュータ105は、各工場及び各
試作ラインに設けられる。
【0026】上記第1のコンピュータ101より転送さ
れるクリーンルーム管理用データには製造ロット毎にバ
ーコードの如きID番号(識別番号)が付けられる。こ
のID番号はロットID出力部107から第1コンピュ
ータ101へ出力される。また、上記第1のコンピュー
タ101には、クリーンルーム管理用データの格納部1
09が接続され、管理用データがコンピュータ101へ
出力される。また、上記クリーンルーム管理用コンピュ
ータ105には、第1コンピュータ101から転送され
るデータを格納するクリーンルーム管理用データ格納部
111が接続されている。
【0027】ロットID出力部107の代わりに、第2
コンピュータ105に製造ロット毎のID番号を送るロ
ット出力部113を用いても良い。
【0028】次に、上記クリーンーム管理用コンピュー
タ105には、LAN103を介して、クリーンルーム
A,B,…間において半導体ウェハキャリングケース
(ロット)115を搬送する工程間搬送系117を制御
する第3のコンピュータ119と、上記工程間搬送系1
17からのキャリングケース(ロット)115を保管す
るロット保管棚121を制御する第4のコンピュータ1
23と、上記キャリングケース115内の半導体ウェハ
を処理するための処理装置125を制御するための第5
のコンピュータ127と、上記ロット保管棚121と処
理装置125間の工程内搬送系129を制御するための
第6のコンピュータ131とが接続されている。
【0029】第3コンピュータ119は第2コンピュー
タ105と対で設けられ、第4コンピュータ123及び
第5コンピュータ131は各クリーンルームに設けられ
る。
【0030】また、各クリーンルームの入口には、上記
キャリングケース115に、上記ロットID出力部10
7又は111によって付けられたID番号を読み取るロ
ットID自動認識装置133が設けられ、その読み取ら
れた信号は、上記第4のコンピュータ123へ送られ
る。
【0031】次に、上記の如き構成の製造工程管理シス
テムの動作について説明する。
【0032】図1において、第1のコンピュータ101
を用いて、入力された処理の種類を表すコードと変数と
変数の値とを後述する如くにチェックし、クリーンルー
ム管理用コード変換部41,53,65を通すことによ
り作成された各工場のクリーンルーム管理用データをL
AN103の通信手段を用いて、各工場のクリーンルー
ム管理用コンピュータ105に転送する。転送されたデ
ータはクリーンルーム管理用データ格納部113の記録
媒体に保存される。
【0033】データの転送は基本的には1ロット1デー
タとする。
【0034】転送されたデータにはクリーンルーム管理
用コンピュータ105に識別できるようにID番号が付
けられる。この時、同一のデータで数ロットに対しID
番号を発番したい場合には、何ロットでもID番号を発
番することもできる。つまり、1ロット1ID番号1プ
ロセスフローデータとなる。
【0035】データに付けられたID番号は、クリーン
ルーム管理用コンピュータ105または、データ転送に
使用した第1のコンピュータ101によりバーコードな
どのデータの形で出力される。
【0036】データの形で出力されたID番号は、例え
ばバーコードプリンターなどにより読取り媒体へと出力
される。この時、バーコードの形ではなく、IDカード
のようなデータを情報として格納できる媒体へ出力して
も良い。
【0037】バーコードまたはIDカードとして出力さ
れたID番号は、ウェハキャリングケース(ロット)1
15に添付される。
【0038】バーコードまたはIDカードを添付したウ
ェハキャリングケース(以後ロット)115は、工程間
転送系117によりクリーンルームへ運ばれる。
【0039】まず最初の処理を行う部屋(部屋A)に到
着したロットは、工程間搬送系117からロット保管棚
121に移載される前に、入口においてロットID番号
認識装置133によりID番号を読取られ、プロセスフ
ローのデータを管理しているクリーンルーム管理コンピ
ュータ105とロット保管棚121を管理する第4のコ
ンピュータ123にID番号の情報を転送する。
【0040】転送されたID番号の情報はクリーンルー
ム管理用コンピュータ105で認識され、ロット115
が処理の部屋(部屋A)に到着したことを情報としてコ
ンピュータ105に格納される。
【0041】IDを認識し終ったロットはロットを保管
するロット保管棚121に保管される。
【0042】ロット保管棚121を管理する第4コンピ
ュータ123は、先程のID番号の情報によりロットを
受け入れたことを情報として格納する。この時同時にこ
の部屋で処理する処理条件が、クリーンルーム管理コン
ピュータ105から第4コンピュータ123へ転送され
る。この処理条件はクリーンルーム管理用データから転
送され、ロット保管棚管理コンピュータ123に格納さ
れる(ただし、処理条件は1条件ではなく前後の数工程
または、全条件でも良い)。
【0043】次に、クリーンルームを管理するコンピュ
ータ105からロット保管棚を管理するコンピュータ1
23及び処理装置125までロットを搬送する工程内搬
送系129を管理する第6のコンピュータ131へロッ
トを処理せよとの情報が転送される。ロット処理の情報
を受け取ったロット保管棚管理コンピュータ123の制
御によってロットが処理装置125へ搬送されるよう
に、ロットは搬送系129へ移載される。
【0044】さらに、装置までロットを搬送する搬送系
129はロットを処理装置125まで搬送する。
【0045】ロットが処理装置125へ搬送された後、
搬送系129と処理装置125との間を受け持つ移載機
により、ウェハのみがロットから取り出され、処理装置
125へ移載される。
【0046】ウェハを受取った処理装置125は、あら
かじめロット保管棚管理コンピュータ123に格納され
た処理条件が装置管理コンピュータ127で装置用に変
換された後、装置管理コンピュータ127から処理装置
125へ処理条件を転送され、処理を開始する。この
時、処理を開始したという情報がロット保管棚を管理す
るコンピュータ123とクリーンルーム管理コンピュー
タ105に転送される。このため、装置用レシピコード
をある程度汎用することができる。例えば、従来「N2
アニール、900℃、10分」のレシピコードは「DD
N90010」でありこのコードの下に処理装置125
を起動させる情報が付随していた。つまり「処理条件=
レシピコード=装置を起動させる情報」であった。今回
のコードを用いると「GAS=N2,TEMP=90
0、TIME=10」の変数の値のみを、処理装置10
5を起動させるべく、処理装置125の情報の可変の変
数部に情報として送るため、多数の処理条件が装置を起
動させる1つの情報となり、処理装置125を起動させ
る情報が少なくなる。
【0047】ちなみに、処理装置125を起動する情報
は処理装置125を制御するコンピュータ127に格納
されている。処理が終了すると、処理装置125は処理
終了の情報をロット保管棚121を管理するコンピュー
タ123と、搬送を管理するコンピュータ131と、ク
リーンルーム管理コンピュータ105に転送する。
【0048】情報を受取った搬送を管理するコンピュー
タ131は、ロットをロット保管棚121まで搬送す
る。
【0049】また、同時にクリーンルーム管理コンピュ
ータ105から、プロセスフローの流れを元にロット保
管棚管理コンピュータ123及び部屋間を搬送する搬送
系117を管理するコンピュータ119へ、次工程の搬
送指示が転送される。
【0050】ロット保管棚を管理するコンピュータ12
3はロットを保管棚121から搬送系117へ受け渡
す。この時、ロットに付随しているID番号をID番号
認識装置133により読取り、ID番号認識装置133
からプロセスフローのデータを管理しているクリーンル
ーム管理コンピュータ105及びロット保管棚を管理す
るコンピュータ123にID番号の情報を転送する。
【0051】ID番号の情報を転送されたクリーンルー
ム管理コンピュータ105はロットが払出されたことを
認識し、次工程(次部屋B)の処理に情報を移す。
【0052】払出しと次工程への搬送の情報を受けた搬
送系管理コンピュータ119は、ロット115を次部屋
Bへと搬送する。
【0053】以下、同様の処理の流れを繰り返す。
【0054】以上、上述の如き構成のシステムによれ
ば、プロセスフローの情報を1ロット毎に付加させてあ
るので、 ロット毎に処理条件の変更(修正/追加/削除)が容
易である。 処理条件の分割が可能である。 ウェハの情報も入れられることが可能なため、枚葉管
理が可能である。
【0055】また、プロセスフローを処理の種類を表す
コードと変数と変数の値とで作成するので、 変数が細かく別れていることから、他条件の組み合わ
せの検索が可能である。 装置用レシピコードを汎用にできる。
【0056】また、部屋にロットを受入れたという情報
と部屋を出たという情報をロットID自動認識装置13
3が、処理を開始したという情報及び終了したという情
報を装置制御コンピュータ127が管理し、クリーンル
ーム管理用コンピュータ105へ転送するため、人間の
介在がなくなる。また、このような情報の取り方を行う
ことで、ロットの詳細な位置、状況を把握できる。
【0057】例えば、受入れから処理開始までの間は処
理待ち状態、処理開始から処理終了までは処理中、処理
終了から払出しまでは払出し待ち状態であることが判
る。
【0058】次に、図2を参照して、上記第1のコンピ
ュータ101におけるプロセスフローのチェック動作お
よび各工場のクリーンルーム管理用データの生成動作に
ついて説明する。
【0059】図2は、上記第1のコンピュータ101に
おける上記チェック動作および生成動作の機能ブロック
図である。
【0060】上記機能は、入力部1、コード記述部3、
各管理テーブル5〜29、各チェック部7〜31、各変
換部32〜65、各並べ換え部39〜69、および出力
部71から構成されている。
【0061】入力部1では、半導体製造の各処理を表す
複数のコードが入力される。
【0062】なお、複数のコードには、製造工程の処理
の種類を表すコード、各処理に付随する変数、およびそ
の変数に代入するパラメータ(変数の値)とがある。ま
た、処理の種類を表すコードには大工程を示すヘッダー
と中工程を示す区分の2つのコードがある。
【0063】例えば、CVD(Chemical Va
per Deposition)工程中のLow Pr
essure CVD工程のヘッダーを表すコードは
「CVD」となり、区分を表すコードは「LPCVD」
となる。
【0064】また、このCVD工程に付随する変数に
は、例えば、膜の種類を表す「FILM」、堆積膜厚を
表す「THICK」などがある。
【0065】さらに、「FILM」に所属するパラメー
タは、多結晶シリコンを表す「POLY」、あるいはシ
リコン窒化膜を表す「SIN」などがある。また、「T
HICK」には、「1000」、「500」などの堆積
させたい膜厚の数値をÅ単位で代入する。
【0066】従って、LPCVDでシリコン窒化膜を1
000Å形成する工程は、「CVD、LPCVD:FI
LM=SIN、THICK=1000;」というコード
で示される。
【0067】また、イオン注入工程中の低ドーズイオン
注入工程のヘッダーコードは「IMP」であり、区分コ
ードは「LDOSE」となる。またこのイオン注入の付
随する変数には、イオン種を表す「ELEMENT」、
注入加速電圧を表す「ENERGY」、注入量を表す
「DOSE」等がある。更に「ELEMENT」に属す
るパラメータにはイオン種である「BORON」、「A
S」などがあり、「ENERGY」に属するパラメータ
には「100」、「150」などの加速電圧値をKeV
単位で代入し、「DOSE」には2×1013を表す「2
E13」や「1.5E13」などの注入量をcm-2単位
で代入する。例えば、低ドーズイオン注入工程でボロン
を50keVで1×1013/cm2 の注入を行いたい場
合のコードは「IMP、LDOSE:ELEMENT=
BORON、ENERGY=50、DOSE=1E1
3;」となる。
【0068】このようなコードが、各工程、各処理にそ
れぞれ存在しており、付随する変数は各工程、各処理毎
に異なっている。
【0069】処理の種類をヘッダーと区分の2つのコー
ドに分けているのは管理がしやすい事と、コーンピュー
タでのチェックの効率化が図られる事によるが、4階層
(ヘッダ、区分、変数、変数値)で表す以外に、所望に
よりヘッダーと区分を1まとめにして1コードで処理の
種類を定め、3種のコードで各工程を表すことも可能で
ある。コード記述部3は、入力された複数のコードを製
造工程順に記述する。例えば上記一連の工程はコード記
述部3で 「CVD、LPCVD:FILM=SIN、THICK=1000; IMP、LDOSE:ELEMENT=BORON、EENERGY=50、 DOSE=1E13; ・ ・ ・ 」 と製造工程順に配列される。
【0070】コード記述部3の具体例として、例えばス
クリーンエディタやワードプロセッサが用いられ、入力
部1として例えばキーボードが用いられる。
【0071】コード管理テーブル5では、ヘッダー、区
分、および各処理に付随する変数の所属関係が、予め設
定されている。図3は、このコード管理テーブル5の一
例を表す表である。
【0072】図3に示すように、ヘッダーを表すコード
「A」には、区分を表すコード「AA1」「AA2」な
どが所属している。さらに、「AA1」に変数「PR
1」「PR2」「PR4」などが所属している。
【0073】CVD工程を例にとると、ヘッダーを表す
コード「A」が「CVD」、区分を表すコード「AA
1」が「LPCVD」、処理に所属する変数「PR1」
が「FILM」、「PR2」が「THICK」に対応す
る。
【0074】変数チェック部7では、コード管理テーブ
ル5に予め設定されているコードと比較して、入力され
た各コードの存在の有無、スペルの是非をチェックす
る。
【0075】条件値管理テーブル9では、変数に所属す
る条件値(成分名)が予め設定されている(図4参
照)。
【0076】条件値チェック部11では、条件管理テー
ブル9を用いて変数に所属する条件値(成分名)が条件
管理テーブル9に存在するか否かをチェックする。
【0077】組合わせ管理テーブル13では、コード管
理テーブル5で規定されたコード群(ヘッダー、区分)
と変数群との組合わせが予め設定されている。また、こ
の組合わせ管理テーブル13では、コード群と変数群と
の組合わせが正しい場合に、装置群、又は装置とのイン
ターフェースコードとなるレシピコードが割り当てられ
る(図5参照)。レシピコードは、製造装置125側に
付属している制御コンピュータ127にその処理モード
を指定するためのものである。
【0078】組合わせチェック部15では、組合わせ管
理テーブル13を用いて、上記コード群と変数群との組
合わせが正しいか否かをチェックする。
【0079】許容範囲テーブル17では、各変数に所属
する条件値(変数の値)の上限値と下限値とが予め設定
されている(図6参照)。この許容範囲管理テーブル1
7は、各処理に付随しており、処理の数だけ存在する。
条件値は、処理装置125の能力等から定められる。
【0080】上下限値チェック部19では、許容範囲管
理テーブル17を用いて記述されたコードの処理条件値
が、許容されていて上限値と下限値の間に治まっている
か否かをチェックする。
【0081】図4に示した条件値管理テーブル9では、
条件値が数値以外のものが扱われたが、この図6に示す
許容範囲テーブル17では、条件値が数値の場合が扱わ
れている。
【0082】この場合、図6に示すように、プロセス精
度が不十分であるために具体的な許容範囲を定めること
ができず、目標値のみを定める場合、例えば、CVD工
程の膜厚の場合と、上限and/or下限を定める場
合、例えばイオン注入工程の注入量のように上下限値の
指定により具体的な許容範囲を定めても製造装置側が精
度上対応できる場合である。
【0083】以上の管理テーブル5〜17を用いて、プ
ロセスフローの基本的な寸法、および条件値(成分名、
又は変数の値)をチェックをする。
【0084】次に、以下の管理テーブル21〜29およ
びチェック部23〜31を用いて、プロセスフローの順
序がチェックされる。
【0085】工程順序管理テーブル21では、任意の2
つの工程の順序・組合わせが管理される(図7参照)。
【0086】工程順チェック部23では、工程順序管理
テーブル21を用いて連続する任意の2つの工程の順序
・組合わせが正しいか否かがチェックされるものであ
る。
【0087】図7に示される工程順管理テーブル21で
は、処理Aの後に処理Bが来ればOKであるが、処理A
の後に処理Bが来なかったり、処理Aの前に処理Bが来
ると工程順チェック部23においてNGであることを示
す。同様に、処理Aが前に処理CであればOKである
が、処理Aの前が処理Cでなかったり、処理Aの後が処
理CであるとNGとなる。
【0088】これにより、前後関係のエラーや、技術者
や研究者が見落としがちな本工程(A)の前の前処理
(C)や、後の検査工程(B)等の補助工程が組込まれ
ているか否かがチェックされる。
【0089】後工程管理テーブル25では、ある工程の
1工程または複数工程後に処理する工程が正しいか否か
が管理される(図8参照)。
【0090】後工程チェック部27では、後工程管理テ
ーブル25を用いてある工程の1工程または複数工程後
に処理する工程が正しいか否かがチェックされる機能を
有している。
【0091】図8に示した後工程管理テーブル25にお
いて、処理Aの後に処理aが来る場合、その間に処理T
があればOKであるが、なければNGであり、処理Bの
後に特定の処理CがあるときNGである。
【0092】例えば、BPSG膜形成工程(A)の後に
LPCVDによるPoly Si膜形成工程(a)が来
る場合、ボロン(B)、リン(P)によってLPCVD
炉が汚染されるのを防ぐため、酸化膜などの形成工程
(T)があればOKであるが、なければNGである。
【0093】また、Al膜の蒸着工程(B)の後、熱酸
化膜の形成工程(C)が来る場合はNGである。
【0094】工程管理テーブル29では、ある2つの工
程間(1パッケージ内)になければならない工程、ある
いはあってはならない工程が管理される(図9参照)。
【0095】工程間チェック部31では、工程間管理テ
ーブル29を用いて2つの工程の間に必ず無ければなら
ない工程、または、あってはならない工程がチェックさ
れるものでる。例えば、リソグラフィー工程とリソグラ
フィー工程の間には、必ずレジスト剥離工程が存在しな
ければならないので、レジスト剥離工程の有無がチェッ
クされる。また、もしレジスト剥離工程が存在したなら
ば、リソグラフィー工程とそのレジスト剥離工程の間に
は、酸化拡散工程は存在してはならないので、この酸化
工程の有無がチェックされる。
【0096】図9に示した工程間管理テーブル29にお
いて、ある2つの工程間(1パッケージ内)に処理Aが
あればOKであるが、処理Aがない場合はNGとなる。
そして、処理Aがある場合、ある区間、例えばパッケー
ジ内で処理Aまでの間に処理BがあるとNGとなる。引
き続くパッケージにも同様の判断がなされる。
【0097】パッケージには、例えば繰り返しの単位が
用いられ、この繰り返し単位で製造工程を分割する。集
積回路の製造工程は20枚以上のマスクが用いられ、例
えば1つのリソグラフィー工程から次のリソグラフィー
工程までの間がパッケージとして定められる。従って、
レジスト剥離工程(A)の前に酸化拡散工程があると、
酸化炉、拡散炉がレジストで汚染されるのでこれを禁止
するためにNGが出される。
【0098】リソグラフィー工程以外にも酸化拡散工程
と酸化拡散工程の間をパッケージするなど任意の単位を
パッケージすることができる。
【0099】以上のように、工程順序チェック部23で
は、工程順序管理テーブル21を用いて2つの工程の順
序・組合わせが正しいかどうか、後工程チェック部27
では、後工程管理テーブル25を用いてある工程の後に
処理する工程が正しく記述されているか否か、工程間チ
ェック部31では、工程間管理テーブル29を用いて2
つの工程の間に必ず無ければならない工程が記述されて
いるか否か、あるいはあってはならない工程が記述され
ているか否かがチェックされる。
【0100】これらのプロセスフローの順序チェック
は、前処理、検査工程のように製造されたデバイスが予
定通り機能しないことを防ぐ対デバイス規則と共に、B
PSG膜形成後、LPCVDでPoly Si膜を形成
した場合にLPCVD炉がBPSG膜からの汚染によっ
てラインを止めなければならないなどのケースを防ぐた
めの対製造装置規則があり、これら対デバイス禁止条
件、対製造装置禁止条件によりチェック部23〜31で
プロセスフローのチェックが行われる。
【0101】チェック部23〜31でプロセスフローの
チェックが終了すると、次に各種データの生成を行う手
段に入る。しかし、チェックした結果、NGが1つでも
ある場合は、そのエラーの内容が出力部71に出力され
る。
【0102】工場選択部33では、コード記述部で入力
されたコードデータを変換する変換先の工場が選択さ
れ、複数の工場の選択も可能である。今回の実施例の場
合、ある1つのA工場を選択した場合について解説す
る。
【0103】かな漢字変換テーブル37には、コード記
述部3で入力された複数のコードと各コードに対する文
字情報とが対応付けられている。今回の図10の例では
A工場の1例を示す。
【0104】同図から判るように、「OXDIF」で示
される変数を「酸化拡散」に、「ASHR」で示される
変数を「アッシャー」対応付けるものである。かな漢字
変換部35では、コード管理テーブル5と変換テーブル
37とを用いて、記述されたコードがかな漢字に変換さ
れ、文字情報になる。
【0105】並べ換え部39では、かな文字変換された
文字情報が規定のフォーマットに並べ換えられる。図1
1に、工場で使用する一例を示す。
【0106】管理用データ変換テーブル43には、文字
情報と、各工場で使用されている工場の生産管理コンピ
ュータに入力するデータとが対応付けられている。図1
2にはコードの組合わせと、管理用コードおよび装置用
レシピコードとの関係を示すテーブルが示され、管理用
データ変換部41により変換される。
【0107】管理用データに変換されたデータは、さら
に管理用データ並べ換え部45で、それぞれのコンピュ
ータに適したデータフォーマットに並べ換えられる。図
13に一例を示す。
【0108】変換データ並べ換え部39およびコンピュ
ータ用データ並べ換え部45で並べ換えられたデータは
それぞれ別々に出力部71で、フロッピーディスク、ハ
ードディスクなどに代表される記録媒体にファイルとし
て保存される。
【0109】さらに、出力部71では、並べ換え部39
で並べ換えられ、規定のフォーマットに変換されたかな
漢字変換の文字情報が印刷され、最終的にプロセスフロ
ーチェック用シートを出力することも可能である。図1
4に図11から作成されたシートの一例を示す。出力部
71は、具体例として、プリンターである。
【0110】次に、ハードウェアの具体的な実現手段に
ついて図2を参照しながら説明する。
【0111】入力部1は、例えばキーボードであり、コ
ード記述部3はスクリーンエディタ又はワードプロセッ
サである。
【0112】管理テーブルおよび変換テーブル5〜67
は、ハードディスクあるいはフロッピーディスクなどの
記録媒体に保存されている。各チェック部および並べ換
え部7〜69はCPUに付属するメインメモリで実現さ
れている。例えば、前記ハードディスクあるいはフロッ
ピーディスクにスクリーンエディタ又はワードプロセッ
サから一旦保存されたプロセスフローコードデータは、
該当する管理テーブルおよび変換テーブル5〜67と共
に前記メインメモリに呼び込まれ、次いでソフトウェア
制御のもとに各チェック部および変換部7〜69が処理
流れに沿ってCPUに付属する前記メインメモリ内で順
序実現される。
【0113】チェック結果は、そのエラー内容および変
換内容と共にプリンター、又は前記スクリーンエデッタ
やワードプロセッサの表示画面などの出力部71に出力
される。またこの内容は前記ハードディスクやフロッピ
ーディスクに保存される。
【0114】次にこの発明の作用を説明する。
【0115】入力部1から、製造工程の処理の種類を表
すヘッダーコード、区分コード、処理に付随する変数、
およびその変数に代入するパラメータ(変数の値)など
の複数のコードが第1コンピュータ101に入力され
る。
【0116】入力されたコードは、コード記述部3によ
って処理工程順に記述され、プロセスフローデータとな
る。この時、コード記述部3では記述するプログラム、
例えばスクリーンエディタやワードプロセッサなどが用
いられる。また、記述されたプロセスフローデータは図
示しないフロッピーディスク、あるいはハードディスク
など記録媒体に保存される。図15に、図示しない表示
画面に表示されているプロセスフローデータの一例を示
す。同図には、コード群が処理工程順に記述されてい
る。なお、プロセスフローデータの1行が1工程に相当
する。例えばNUMER5の処理は、「酸化拡散工程の
酸化工程で、フィールド酸化、O2 ガス温度1000
℃、膜厚11000Åの処理を行うことを表している。
【0117】次に、記録媒体に格納されたプロセスフロ
ーデータに対し、各管理テーブル5〜29およびチェッ
ク部7〜31よってプロセスフローのチェックが行われ
る。ここでは、図15に示したプロセスフローデータの
NUMBER5ステートメントがチェックされる場合を
説明する。
【0118】NUMBER5ステートメントは、まず変
数チェック部7に呼び出され、コード管理テーブル5に
よって「OXDIF」、「OX」、「OBJECT」、
「GAS」、「TEMP」、「THICK」などの存在
の有無とスペルの是非がチェックされる。
【0119】次に、条件値チェック部11において、条
件値管理テーブル9が用いられ、変数を表すコード「O
BJECT」に「FIELD」、「GAS」に「O」な
どが所属しているかどうかがチェックされる。ここで、
条件値管理テーブル9で管理されていない条件値は、指
定することが禁止される。
【0120】組合わせチェック部15では、コード群と
変数との組合わせが正しいか否かが、組合わせ管理テー
ブル13を用いてチェックされる。このチェックの結
果、正しいとされた場合は、製造装置および製造装置と
のインターフェイスコードとなるレシピコードが割り当
てられる。
【0121】上下限値チェック部19により、膜厚11
000Åが規格内に治まっているかどうかのチェック
が、許容範囲テーブル17を用いられて行われる。
【0122】続いて、工程順序チェック部23により、
工程順序管理テーブル21を用いてNUMBER5の酸
化拡散工程に前処理と検査工程が付属しているかどうか
の判断が行われる。
【0123】さらに、NUMBER5の酸化拡散工程後
に処理を行う工程が正しいか否かが、後工程管理テーブ
ル25に基づき後工程チェック部27によって判断され
る。
【0124】さらに、NUMBER5とNUMBER1
6の酸化拡散工程の間に存在する工程が良いか否かが、
工程間チェック部31において工程間管理テーブル29
によって判断される。
【0125】これら全てのチェックの是非がプリンター
に出力される。また、OKとなったならば、プロセスフ
ローデータは出力部47となるハードディスクに保存さ
れる。
【0126】さて、上記チェックによりプロセスフロー
データにエラーが無い場合には、プロセスフローデータ
は、各変換テーブル37〜67でコードの変換が行わ
れ、さらに各並び換え部39〜69で変換されたデータ
が決まったフォーマットに並び換えられる。ここでは、
図15に示したプロセスフローデータのNUMBER5
ステートメントがA工場用に変換される場合を説明す
る。
【0127】NUMBER5ステートメントは、まずか
な漢字変換部35に呼出され、かな漢字変換テーブル3
7によって「OXDIF」が「酸化拡散」、「OX」が
「酸化」、「OBJECT」が「処理目的」、「FIE
LD」が「フィールド」、「GAS」が「ガス」、「T
EMP」が「温度」、「THICK」が「膜厚」に変換
される。ただし、このかな漢字変換は各工場により異な
るため、工場選択部3であらかじめ変換したい工場のテ
ーブルを選択しておく。
【0128】次に、変換されたかな漢字データは変換デ
ータ並べ換え部39に通され、各工場のフォーマットに
並び変えられる。並び変えられたデータは出力部71で
フロッピーディスク、またはハードディスクなどに代表
される記録媒体にフィイルとして保存される。図16に
ある工場のフォーマットを示す。製造工程の処理の種類
を表すヘッダーコードは表示されず、区分コードは3列
目に、処理に付随する変数は4列目に、変数に代入する
パラメータ(変数の値)は5列目に表示されている。
【0129】続いてプロセスフローデータは、管理用デ
ータ変換テーブル43によって、工場の管理システムに
使用するデータにコードを変換する。NUMBER5ス
テートメントのコードの組合わせ「OXDIF、OX:
OBJECT=FIELD、GAS=O、TEMP=1
000、THICK=11000(1100);」は、
管理用コード「D10」に変換され、さらに管理用デー
タ変換テーブル43から対応する装置用レシピコードが
引き出され、管理用コードとともに管理システムに使用
するデータとなる。この今回の場合、装置用レシピコー
ドは「OX 1000 P 11000」で表される。
また、図には表現されていないが、必要に応じて他のデ
ータ(またはコード)も付随させて管理システムに使用
するデータを形成することができる(図12参照)。
【0130】管理用データに変換されたデータはさらに
管理用データ並び換え45に呼出され、決まったフォー
マットに並び換えられる。今回の場合、図17に示す様
に管理用コードが1列目に、装置用レシピコードが3列
目に並べ換えられる。
【0131】そして、変換されたデータはかな漢字変換
データと同様に出力部71でフロッピーディスク、また
はハードディスクなどに代表される記録媒体にファイル
として保存される。この時、かな漢字変換ファイルとは
別に保存される。
【0132】このように、この発明の各チェック部で
は、各管理テーブル5〜29を用いて工程順に記述され
た、コード群の文法と工程順序を高速にチェックするこ
とができる。例えば、300工程の処理フローをチェッ
クするために、熟練した技術者・研究者では約30分か
かっていたが、この装置では約1/10の時間でチェッ
クすることができる。
【0133】また、かな漢字変換部と並べ換え部を用い
ることにより、プロセスフローチェック用シートを直接
修正せず、プロセスフローデータを修正して印刷するた
め、修正されたプロセスフローチェック用シートを容易
に得ることができる。また、フォーマットが規定されて
いるため、個人差がなくなり、さらに、シート中に枠や
罫線を引く手間が省ける。
【0134】さらに、各変換テーブル37〜69を用い
て各工場用の処理条件指示書と管理用データ等を同時に
生成することができる。このことにより、1つのデータ
から(この場合コード記述部3で作成されたデータ)、
同時に複数の目的のデータを生成することができ、1つ
1つデータを作成することがなくなる。
【0135】なお、今回の実施例では、コードの種類を
ヘッダー、区分、変数、および変数の値としてプロセス
フローデータを記述したが、この発明はこれに限ること
はない。例えば、コード群として表現して記述しても良
いものである。また、各管理テーブルは、複数のテーブ
ルをまとめた管理方法でも、分散した管理方法でも良い
ものである。さらに、生成データの数を2つ(処理条件
指示書データ、システム管理用データ)としたが、変換
テーブルを増やすことでもって多くのデータも生成可能
である。さらに、コード記述部で作成されたデータには
製造上必要なデータ、例えば処理の統計データや、処理
位置の軌跡データなどを抽出することが可能であり、こ
れらのデータを含め、多くのデータが出力される。
【0136】前述したように、本発明では各製造工程ご
との処理の種類、処理に付随する変数および変数の値を
表すコード情報によりプロセスフローを記述し、ロット
毎にIDを付与する様にしている。従って、 ロッド毎に処理条件の変更(修正/追加/削除)が容
易である。 また、 処理条件の分割が可能である。
【0137】図14は処理条件の分割を行う場合のプロ
セスフローを示す。
【0138】例えば、工程1〜Zからなるプロセスフロ
ーAによりIDが「UT909000100」のロット
が処理されるものとする。ここで、研究者がロットに対
し処理フローを幾通りかに分割したい場合、次の様に行
う。例えば、ロット中の1〜8枚目のウェハはそのまま
実行するが、9〜16枚目、17〜24枚目のウェハ
は、夫々30工程目で分割し、プロセスフローBを経て
工程Xに、プロセスフローCを経て工程Yに戻して、以
後元の工程を行う場合を考える。この場合、例えばクリ
ーンルーム管理用コンピュータ105にアクセスし、プ
ロセスフローBのIDを「UT909000101」、
プロセスフローCのIDを「UT909000102」
とし、それぞれ9〜16枚目、17〜24枚目のウェハ
と対応付けておく。これによりロットの分割処理を行う
ことが容易に出来る。勿論、単にある工程の条件値、例
えば膜厚を幾通りかに変える場合も同様である(X=Y
=31)。
【0139】更に、ウェハ毎にIDを付与して枚葉管理
を行うことも出来る。
【0140】また、本発明によればプロセスフローを処
理の種類、変数、変数の値で構成するので、 変数が細かく分れていることから、他条件との組合せ
の検索が可能となる。
【0141】例えば、低ドーズイオン注入工程でボロン
を50KeVで1×1013/cm2 注入する場合のコー
ドは「IMP,LDOSE:ELEMENT=BORO
N,ENERGY=50,DOSE=1E13;」であ
った。従って、例えばクリーンルーム管理用コンピュー
タ105をアクセスし、或いはロット保管棚制御部のコ
ンピュータ123からアクセスして、「ELEMENT
=BORON」,「ENERGY=50」,「DOSE
=1E13」を適宜組合せて、クリーンルーム内のロッ
トを検索し、それぞれの保管場所及び処理段階を求める
事が出来る。これにより、コンピュータ105,11
9,131により、工程間搬送系119や工程内搬送
129を制御して同種の処理を行うロットを集めて処理
する等、ロットの流れを管理して処理装置125を効率
良く作動させる事が出来る。先の例では、「ELEME
NT=AS」の処理に切換える前に「ELEMENT=
BORON」を集めて処理したり、「ELEMENT=
BORON,ENERGY=50,DOSE=1E1
3」を集めてバッチ処理する事等が自在に出来る。
【0142】また、装置用レシピコードを汎用にでき
る。例えばN2 アニールを900℃、10分行うという
処理はレシピと共に「OXDIF,OX:TEMP=9
00,TIME=10M,GAS=N2 ,PECIPE
=DDN」で表される。ここで「RECIPE」とは装
置を管理しているコンピュータ127が管理する処理装
置125を動かすための情報群を呼び出すためのヘッダ
ーであり、それぞれシーケンスの違いにより区別されて
いる。シーケンスとは処理順であり、例えば「900
℃,10分」の熱処理でも、あるシーケンスは「ランプ
アップ(加熱立上げ時間)を3分行ってから10分熱
し、ランプダウン(立下げ時間)は5分」であり、他の
シーケンスでは「ランプアップが1分で10分熱し、ラ
ンプダウンは10分」というように処理により幾つかの
シーケンスが要る。このランプアップ、ランプダウンの
時間指定は「RECIPE」で行う。「RECIPE=
DDN」は前記のシーケンスを指定するものである。
【0143】図18はレシピ情報のローディングを示す
図である。
【0144】レシピコードとそれに付随する処理装置を
動かすための情報はコンピュータ127に格納されてい
る。クリーンルームコンピュータ105からロット保管
棚処理部のコンピュータ123にプロセスフローデータ
「OXDIF,OX:TEMP=900,TIME=1
0M,GAS=N2,RECIPE=DDN」が転送さ
れる。装置制御部のコンピュータ127では、コンピュ
ータ123から転送されたプロセスフローデータの処理
内容にある「RECIPE=DDN」で選択されたレシ
ピ情報がメモリ上にローディングされ、さらにこのレシ
ピ情報の変数「TEMP」「TIME」「GAS」へ、
転送されたプロセスフローデータから処理内容「TEM
P=900」「TIME=10M」「GAS=N2」が
受け渡され代入される。
【0145】そしてこのレシピ情報に従って処理装置1
25が作動される。本発明によれば、プロセスフローの
処理条件毎にコンピュータ127にレシピ情報を格納し
ておく必要がなく装置用レシピコードを汎用にできる。
【0146】
【発明の効果】以上説明してきたように、この発明によ
る装置によれば、プロセスフローの情報を1ロット毎に
付加させてあるので、 ロット毎に処理条件の変更(修正/追加/削除)が容
易である。 処理条件の分割が可能である。 ウェハの情報も入れられることが可能なため、枚葉管
理が可能である。
【0147】また、プロセスフローを処理の種類を表す
コードと変数と変数の値とで作成するので、 変数が細かく別れていることから、他条件との組み合
わせの検索が可能である。 装置用レシピコードを汎用にできる。
【0148】また、部屋に受入れたという情報と部屋を
出たという情報とのロットID自動認識装置133が管
理し、処理を開始したという情報と終了したという情報
を装置制御コンピュータが管理し、クリーンルーム管理
用コンピュータ105へ転送するため、人間の介在がな
くなる。また、このような情報の取り方を行うことで、
ロットの詳細な位置、状況を把握できる。
【0149】例えば、受入れから処理開始までの間は処
理待ち状態、処理開始から処理終了までは処理中、処理
終了から払出しまでは払出し待ち状態であることが判
る。
【0150】また、高速かつ正確にプロセスフローのル
ールチェックができる。これにより、熟練した技術者・
研究者でなくとも容易にチェックすることができる。さ
らに、チェックミスがなくなるため、製造時における作
業ミスの激減が望める。また、煩わしい手作業を行うこ
となく、プロセスフローの修正や追加が容易にできる。
さらに、規定の形式にフォーマットされているので、作
業ミスの激減が望める。さらに、1つのデータから、半
導体製造に必要な数々のデータを生成することができ
る。プロセスフロー作成に要する労力を軽減し、より早
く製品を流すことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に従う製造工程管理システムの構成を
示すブロック図。
【図2】図2は、第1のコンピュータにおけるチェック
動作および生成動作の機能ブロック図。
【図3】各管理テーブルを示す図。
【図4】各管理テーブルを示す図。
【図5】各管理テーブルを示す図。
【図6】各管理テーブルを示す図。
【図7】各管理テーブルを示す図。
【図8】各管理テーブルを示す図。
【図9】各管理テーブルを示す図。
【図10】各変換テーブルを示す図。
【図11】プロセスチェック用シートを作成する変換デ
ータの一例を示す図。
【図12】各変換テーブルを示す図。
【図13】印刷された管理用コードの一例を示す図。
【図14】処理条件の分割を行う場合のプロセスフロー
を示す図。
【図15】プロセスフローデータの一例を示す図。
【図16】プロセスチェック用シートの一例を示す図。
【図17】管理用データを予め決められたフォーマット
に並べ換えられた一例を示す図。
【図18】レシピ情報のローディングを示す図。
【符号の説明】
1…入力部 3…コード記述部 5…コード管理テーブル 7…変数チェック部 9…条件値管理テーブル 11…条件値チェック部 13…組合わせ管理テーブル 15…組合わせチェック部 17…許容範囲管理テーブル 19…上下限値チェック部 21…工程順管理テーブル 23…工程順チェック部 25…後工程管理テーブル 27…後工程チェック部 29…工程間管理テーブル 31…工程間チェック部 33…工場選択部 35…A工場用かな漢字変換部 37…A工場用かな漢字変換テーブル 39…A工場用かな漢字変換データ並べ換え部 41…A工場用コンピュータ用データ変換部 43…A工場用コンピュータ用データ変換テーブル 45…A工場用コンピュータ用データ並べ換え部 47…B工場用かな漢字変換部 49…B工場用かな漢字変換テーブル 51…B工場用かな漢字変換データ並べ換え部 53…B工場用コンピュータ用データ変換部 55…B工場用コンピュータ用データ変換テーブル 57…B工場用コンピュータ用データ並べ換え部 59…Z工場用かな漢字変換部 61…Z工場用かな漢字変換テーブル 63…Z工場用かな漢字変換データ並べ換え部 65…Z工場用コンピュータ用データ変換部 67…Z工場用コンピュータ用データ変換テーブル 69…Z工場用コンピュータ用データ並べ換え部 71…出力部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平1−183344(JP,A) 特開 昭59−14008(JP,A) 特開 昭62−63310(JP,A) 特開 昭59−72516(JP,A) 特開 昭63−280411(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G05B 19/418 G06F 17/60 H01L 21/02

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体製造に必要とされる一連の製造工
    程群から成るプロセスフローデータを各製造工程の情報
    として、処理の種類、処理に付随する変数、及び変数に
    所属する条件値に区分してコード化し入力する入力手段
    と、 コード化された情報群に対して最大限許容される条件を
    管理するコード情報管理手段と、 入力手段で入力されたコード情報が正しく記述されてい
    るか否かを、コード情報管理手段と比較してチェックす
    るコード情報チェック手段と、 コード情報チェック手段でチェックされたコード情報群
    を、特定の半導体製造ラインに適合するように管理用デ
    ータに変換するコード情報変換手段と、 コード情報変換手段でコード情報群を変換して得られる
    半導体製造ライン管理用データを用いて半導体製造工程
    の管理を行う半導体製造工程管理手段とを備えたことを
    特徴とする製造工程管理システム。
  2. 【請求項2】 コード情報変換手段は、半導体製造ライ
    ンを有する工場及び試作ラインごとに複数設けられ、半
    導体製造ライン管理用データは各工場及び試作ラインに
    対し、同時に並列して作成されることを特徴とする請求
    項1記載の製造工程管理システム。
  3. 【請求項3】 コード情報変換手段は、 コード化された情報を文字情報に対応付ける文字情報対
    応手段と、 コード情報群を文字情報対応手段において対応付けられ
    る文字情報に変換する文字情報変換手段と、 文字情報変換手段によって得られた文字情報を規定のフ
    ォーマットに並べ変える文字情報並べ変え手段と、 文字情報並べ変え手段で並べ変えられた文字情報を出力
    する出力手段とを備えたことを特徴とする請求項1記載
    の製造工程管理システム。
  4. 【請求項4】 半導体製造工程管理手段は、 コード情報変換手段で得られる半導体製造ライン管理用
    データを受信し、管理するクリーンルームのうち管理用
    データに記述される製造工程に対応する一のクリーンル
    ームを指定するクリーンルーム管理手段と、 クリーンルーム管理手段によって指定されたクリーンル
    ームへウェハを搭載したロットを搬送するロット搬送手
    段と、 ロット搬送手段によって搬送されたロットの受入れ情報
    をクリーンルーム管理手段に伝えて管理用データをクリ
    ーンルーム管理手段から受信し、管理用データに従って
    ロットを所定の処理装置へ搬送するよう指示するロット
    管理手段と、 ロット管理手段から送られる管理用データに従って、ロ
    ット管理手段の指示によって搬送されたロットを処理す
    べく処理装置を制御するロット処理制御手段とを備えた
    ことを特徴とする請求項1記載の製造工程管理システ
    ム。
JP20440291A 1990-08-14 1991-08-14 製造工程管理システム Expired - Fee Related JP3207457B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20440291A JP3207457B2 (ja) 1990-08-14 1991-08-14 製造工程管理システム

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21378290 1990-08-14
JP2-213782 1990-08-14
JP24110790 1990-09-13
JP2-241107 1990-09-13
JP1442291 1991-02-05
JP3-14422 1991-02-05
JP20440291A JP3207457B2 (ja) 1990-08-14 1991-08-14 製造工程管理システム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05151231A JPH05151231A (ja) 1993-06-18
JP3207457B2 true JP3207457B2 (ja) 2001-09-10

Family

ID=27456193

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20440291A Expired - Fee Related JP3207457B2 (ja) 1990-08-14 1991-08-14 製造工程管理システム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3207457B2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7160739B2 (en) 2001-06-19 2007-01-09 Applied Materials, Inc. Feedback control of a chemical mechanical polishing device providing manipulation of removal rate profiles
JP6483971B2 (ja) * 2014-07-28 2019-03-13 日本電産サンキョー株式会社 生産システム
CN108062076B (zh) 2016-11-09 2020-10-27 株式会社东芝 数据收集系统、处理系统以及存储介质
CN112818180A (zh) * 2020-12-31 2021-05-18 广州粤芯半导体技术有限公司 晶圆加工历史数据的存储和查询方法、制程控制系统

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05151231A (ja) 1993-06-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5495417A (en) System for automatically producing different semiconductor products in different quantities through a plurality of processes along a production line
US5375062A (en) Method and apparatus for forming lot
US4227245A (en) Digital computer monitored system or process which is configured with the aid of an improved automatic programming system
US4389706A (en) Digital computer monitored and/or operated system or process which is structured for operation with an improved automatic programming process and system
US7515972B2 (en) System and method for dynamically creating and editing function block types in a process control environment
Bassok et al. Ordering and production decisions with supply quality and demand uncertainty
Gurnani et al. Control of batch processing systems in semiconductor wafer fabrication facilities
JPH10106917A (ja) 半導体装置製造用生産システム
CN101387870B (zh) 改善晶片合格率的方法及其系统
JP3207457B2 (ja) 製造工程管理システム
TW511120B (en) Semiconductor factory automation system and method for resetting process recipe by employing trace file
WO2001082055A1 (en) Reticle management system
US7539553B2 (en) System and method for automated dispatch and transportation of work-in-process
Lin et al. The performance of the number of vehicles in a dynamic connecting transport AMHS
US7062345B2 (en) Wafer lot identity management system and method thereof
JPH0553607A (ja) 装置制御コンピユータおよび装置制御方法
JPH1041204A (ja) 製造工程管理システム及び製造工程管理方法
US6678566B2 (en) Backup control system (BCS) for optimizing utilization of multiple fabrication facilities
CN100507782C (zh) 制程控制方法及制程控制系统
CN100419607C (zh) 基于晶片的规划方法及系统
CN1329950C (zh) 具有防止制程污染的制造系统与处理方法
US6466945B1 (en) Accurate processing through procedure validation in software controlled environment
US5613000A (en) Method and apparatus for changing the data setting modes in a bonding machine
JPS5967638A (ja) 半導体装置の製造システム
TW426872B (en) Method of preventing contamination in process

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080706

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090706

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090706

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100706

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110706

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees