JP3206764B2 - ペプチド化合物 - Google Patents
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07K—PEPTIDES
- C07K5/00—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof
- C07K5/04—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof containing only normal peptide links
- C07K5/06—Dipeptides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07K5/04—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof containing only normal peptide links
- C07K5/06—Dipeptides
- C07K5/06139—Dipeptides with the first amino acid being heterocyclic
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- C07K5/02—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof containing at least one abnormal peptide link
- C07K5/0202—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof containing at least one abnormal peptide link containing the structure -NH-X-X-C(=0)-, X being an optionally substituted carbon atom or a heteroatom, e.g. beta-amino acids
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は新規ペプチド化合物お
よびその塩に関する。さらに詳細には、この発明はタキ
キニン拮抗作用、特にサブスタンスＰ拮抗作用、ニュー
ロキニンＡ拮抗作用、ニューロキニンＢ拮抗作用などの
薬理活性を有する新規ペプチド化合物およびその塩、そ
の製造法、ならびにそれらを有効成分とするタキキニン
拮抗剤に関する。
よびその塩に関する。さらに詳細には、この発明はタキ
キニン拮抗作用、特にサブスタンスＰ拮抗作用、ニュー
ロキニンＡ拮抗作用、ニューロキニンＢ拮抗作用などの
薬理活性を有する新規ペプチド化合物およびその塩、そ
の製造法、ならびにそれらを有効成分とするタキキニン
拮抗剤に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】この発明の一つの目的
は、タキキニン拮抗作用、特にサブスタンスＰ拮抗作
用、ニューロキニンＡ拮抗作用、ニューロキニンＢ拮抗
作用などの薬理活性を有する新規かつ有用なペプチド化
合物ならびにその塩を提供することである。この発明の
他の目的は、前記ペプチド化合物およびその塩の製造法
を提供することである。この発明のさらに他の目的は、
前記ペプチド化合物ならびにその塩を有効成分として含
有するタキキニン拮抗剤を提供することである。この発
明のさらにいま一つの目的は、ヒトまたは動物における
タキキニン介在性疾患、例えば、喘息、気管支炎、鼻
炎、咳、喀痰などの呼吸器疾患；結膜炎、春季カタルな
どの眼疾患；接触性皮膚炎、アトピー性皮膚炎、じんま
疹、その他の湿疹様皮膚炎などの皮膚疾患；慢性関節リ
ウマチ、変形性関節症などの炎症性疾患；疼痛（例え
ば、片頭痛、頭痛、歯痛、癌性疼痛、背痛等）などの治
療または予防に有用な前記ペプチド化合物またはその塩
のタキキニン拮抗剤、特にサブスタンスＰ拮抗剤、ニュ
ーロキニンＡ拮抗剤またはニューロキニンＢ拮抗剤とし
ての使用を提供することである。
は、タキキニン拮抗作用、特にサブスタンスＰ拮抗作
用、ニューロキニンＡ拮抗作用、ニューロキニンＢ拮抗
作用などの薬理活性を有する新規かつ有用なペプチド化
合物ならびにその塩を提供することである。この発明の
他の目的は、前記ペプチド化合物およびその塩の製造法
を提供することである。この発明のさらに他の目的は、
前記ペプチド化合物ならびにその塩を有効成分として含
有するタキキニン拮抗剤を提供することである。この発
明のさらにいま一つの目的は、ヒトまたは動物における
タキキニン介在性疾患、例えば、喘息、気管支炎、鼻
炎、咳、喀痰などの呼吸器疾患；結膜炎、春季カタルな
どの眼疾患；接触性皮膚炎、アトピー性皮膚炎、じんま
疹、その他の湿疹様皮膚炎などの皮膚疾患；慢性関節リ
ウマチ、変形性関節症などの炎症性疾患；疼痛（例え
ば、片頭痛、頭痛、歯痛、癌性疼痛、背痛等）などの治
療または予防に有用な前記ペプチド化合物またはその塩
のタキキニン拮抗剤、特にサブスタンスＰ拮抗剤、ニュ
ーロキニンＡ拮抗剤またはニューロキニンＢ拮抗剤とし
ての使用を提供することである。
【０００３】
【発明の構成】本発明の目的化合物は、式（Ｉ）によっ
て表わすことができる： ［式中、Ｒ１は低級アルキル、アリール、アリールアミ
ノ、ピリジル、ピロリル 点線からなる記号は単結合または二重結合を、ＸはＣＨ
またはＮを、ＺはＯ、ＳまたはＮＨを示す）で表わされ
る基を示し、これらはそれぞれ適当な置換基を有してい
てもよい、Ｒ２は水素または低級アルキル、Ｒ３はヒド
ロキシ以外の適当な置換基、Ｒ４は適当な置換基を有し
ていてもよい低級アルキルで、Ｒ５は適当な置換基を有
していてもよいアル（低級）アルキル、またはピリジル
（低級）アルキルであるか、Ｒ４とＲ５が互いに結合し
てベンゼン環縮合低級アルキレンを形成し、Ｒ７は水素
または適当な置換基、Ａは適当な置換基を有していても
よい、Ｄ−Ｔｒｐ以外のアミノ酸残基、Ｙは結合、低級
アルキレンまたは低級アルケニレン、をそれぞれ示す］
て表わすことができる： ［式中、Ｒ１は低級アルキル、アリール、アリールアミ
ノ、ピリジル、ピロリル 点線からなる記号は単結合または二重結合を、ＸはＣＨ
またはＮを、ＺはＯ、ＳまたはＮＨを示す）で表わされ
る基を示し、これらはそれぞれ適当な置換基を有してい
てもよい、Ｒ２は水素または低級アルキル、Ｒ３はヒド
ロキシ以外の適当な置換基、Ｒ４は適当な置換基を有し
ていてもよい低級アルキルで、Ｒ５は適当な置換基を有
していてもよいアル（低級）アルキル、またはピリジル
（低級）アルキルであるか、Ｒ４とＲ５が互いに結合し
てベンゼン環縮合低級アルキレンを形成し、Ｒ７は水素
または適当な置換基、Ａは適当な置換基を有していても
よい、Ｄ−Ｔｒｐ以外のアミノ酸残基、Ｙは結合、低級
アルキレンまたは低級アルケニレン、をそれぞれ示す］
【０００４】本発明によれば、新規ペプチド化合物
（Ｉ）は下記の諸方法によって製造することができる。
（Ｉ）は下記の諸方法によって製造することができる。
【０００５】
【０００６】
【０００７】
【０００８】
【０００９】
【００１０】
【００１１】
【００１２】
【００１３】
【００１４】
【００１５】
【００１６】 上記各式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７、
Ａ、Ｘ、Ｙはそれぞれ前記定義の通りであり、 Ｒ９は低級アルキル、Ａａはチオを含むアミノ酸残基、
Ａｂはスルフィニルまたはスルホニルを含むアミノ酸残
基、Ａｃはアミノ、ヒドロキシおよび／またはカルボキ
シを含むアミノ酸残基、Ａｄは保護されたアミノ、保護
されたヒドロキシおよび／または保護されたカルボキシ
を含むアミノ酸残基、Ａｅは適当な置換基を有するスル
ホニルオキシを含むアミノ酸残基、Ａｆはアジドを含む
アミノ酸残基、Ａｇはアミノを含むアミノ酸残基、Ａｈ
は保護されたヒドロキシを含むアミノ酸残基、Ａｉは低
級アルキルチオを含むアミノ酸残基、Ｌは酸残基、Ｍ
ａ、Ｍｂはそれぞれアルカリ金属、をそれぞれ示す。
Ａ、Ｘ、Ｙはそれぞれ前記定義の通りであり、 Ｒ９は低級アルキル、Ａａはチオを含むアミノ酸残基、
Ａｂはスルフィニルまたはスルホニルを含むアミノ酸残
基、Ａｃはアミノ、ヒドロキシおよび／またはカルボキ
シを含むアミノ酸残基、Ａｄは保護されたアミノ、保護
されたヒドロキシおよび／または保護されたカルボキシ
を含むアミノ酸残基、Ａｅは適当な置換基を有するスル
ホニルオキシを含むアミノ酸残基、Ａｆはアジドを含む
アミノ酸残基、Ａｇはアミノを含むアミノ酸残基、Ａｈ
は保護されたヒドロキシを含むアミノ酸残基、Ａｉは低
級アルキルチオを含むアミノ酸残基、Ｌは酸残基、Ｍ
ａ、Ｍｂはそれぞれアルカリ金属、をそれぞれ示す。
【００１７】原料化合物（ＩＩ）および（ＩＩＩ）のう
ちあるものは新規であるが、後述の製造例および実施例
または一般公知の方法によって製造することができる。
本明細書中、アミノ酸、ペプチド、保護基、縮合剤など
は、当該分野で一般に使用されているＩＵＰＡＣ−ＩＵ
Ｂ（生化学命名委員会）に従った略号で示す。さらに、
特記のない限り、これらの略号で示されるアミノ酸およ
びそれらの残基はＬ型の化合物および残基を意味する。
ちあるものは新規であるが、後述の製造例および実施例
または一般公知の方法によって製造することができる。
本明細書中、アミノ酸、ペプチド、保護基、縮合剤など
は、当該分野で一般に使用されているＩＵＰＡＣ−ＩＵ
Ｂ（生化学命名委員会）に従った略号で示す。さらに、
特記のない限り、これらの略号で示されるアミノ酸およ
びそれらの残基はＬ型の化合物および残基を意味する。
【００１８】原料化合物および目的化合物の医薬として
許容される好適な塩とは、慣用の無毒性な塩であって、
酸付加塩、たとえば有機酸塩（たとえば酢酸塩、トリフ
ルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホ
ン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、蟻酸塩、トルエンスル
ホン酸塩など）、無機酸塩（たとえば塩酸塩、臭化水素
酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、燐酸塩な
ど）、アミノ酸（たとえばアルギニン、アスパラギン
酸、グルタミン酸など）との塩、または金属塩、たとえ
ばアルカリ金属塩（たとえばナトリウム塩、カリウム塩
など）やアルカリ土類金属塩（たとえばカルシウム塩、
マグネシウム塩など）、アンモニウム塩、有機塩基との
塩（たとえばトリメチルアミン塩、トリエチルアミン
塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン
塩、Ｎ，Ｎ′−ジベンジルエチレンジアミン塩など）な
どを挙げることができる。
許容される好適な塩とは、慣用の無毒性な塩であって、
酸付加塩、たとえば有機酸塩（たとえば酢酸塩、トリフ
ルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホ
ン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、蟻酸塩、トルエンスル
ホン酸塩など）、無機酸塩（たとえば塩酸塩、臭化水素
酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、燐酸塩な
ど）、アミノ酸（たとえばアルギニン、アスパラギン
酸、グルタミン酸など）との塩、または金属塩、たとえ
ばアルカリ金属塩（たとえばナトリウム塩、カリウム塩
など）やアルカリ土類金属塩（たとえばカルシウム塩、
マグネシウム塩など）、アンモニウム塩、有機塩基との
塩（たとえばトリメチルアミン塩、トリエチルアミン
塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン
塩、Ｎ，Ｎ′−ジベンジルエチレンジアミン塩など）な
どを挙げることができる。
【００１９】本明細書の前記および後記の記載におい
て、本発明がその範囲内に包含する種々の定義の好適な
例および実例を次に詳細に説明する。「低級」なる語
は、特記ない限り、炭素原子数１ないし６、好ましくは
１ないし４を意味する。好適な「低級アルキル」として
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシ
ルなどの直鎖または分枝アルキルが挙げられ、なかでも
とりわけ好ましいのはメチルである。好適な「アリー
ル」および「アリールアミノ」におけるアリール部分と
しては、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、クメ
ニル、ナフチルなどが挙げられ、なかでも好ましいのは
Ｃ６−Ｃ１０アリールであり、最も好ましいのはフェニ
ルである。好適な「低級アルキレン」としては、炭素原
子１ないし６個を有するものであり、メチレン、エチレ
ン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、メチ
ルトリメチレン、ヘキサメチレンなどが挙げられ、なか
でも好ましいのはメチレン、エチレンまたはトリメチレ
ンである。
て、本発明がその範囲内に包含する種々の定義の好適な
例および実例を次に詳細に説明する。「低級」なる語
は、特記ない限り、炭素原子数１ないし６、好ましくは
１ないし４を意味する。好適な「低級アルキル」として
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシ
ルなどの直鎖または分枝アルキルが挙げられ、なかでも
とりわけ好ましいのはメチルである。好適な「アリー
ル」および「アリールアミノ」におけるアリール部分と
しては、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、クメ
ニル、ナフチルなどが挙げられ、なかでも好ましいのは
Ｃ６−Ｃ１０アリールであり、最も好ましいのはフェニ
ルである。好適な「低級アルキレン」としては、炭素原
子１ないし６個を有するものであり、メチレン、エチレ
ン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、メチ
ルトリメチレン、ヘキサメチレンなどが挙げられ、なか
でも好ましいのはメチレン、エチレンまたはトリメチレ
ンである。
【００２０】好適な「低級アルケニレン」としては、炭
素原子２ないし６個有するものであり、ビニレン、プロ
ペニレンなどが挙げられ、なかでも好ましいのはビニレ
ンである。好適な「Ｄ−Ｔｒｐ以外のアミノ酸残基」と
は、Ｄ−Ｔｒｐ以外のアミノ酸から誘導された二価の残
基を意味し、これらのアミノ酸としては、グリシン（Ｇ
ｌｙ）、Ｄ−またはＬ−アラニン（Ａｌａ）、β−アラ
ニン（βＡｌａ）、Ｄ−またはＬ−バリン（Ｖａｌ）、
Ｄ−またはＬ−ロイシン（Ｌｅｕ）、Ｄ−またはＬ−イ
ソロイシン（Ｉｌｅ）、Ｄ−またはＬ−セリン（Ｓｅ
ｒ）、Ｄ−またはＬ−スレオニン（Ｔｈｒ）、Ｄ−また
はＬ−システイン（Ｃｙｓ）、Ｄ−またはＬ−メチオニ
ン（Ｍｅｔ）、Ｄ−またはＬ−フェニルアラニン（Ｐｈ
ｅ）、Ｌ−トリプトファン（Ｔｒｐ）、Ｄ−またはＬ−
チロシン（Ｔｙｒ）、Ｄ−またはＬ−プロリン（Ｐｒ
ｏ）、Ｄ−またはＬ−ジデヒドロプロリン（ΔＰｒｏ）
［たとえば３，４−ジデヒドロプロリン（Δ（３，４）
Ｐｒｏ）］、Ｄ−またはＬ−ヒドロキシプロリン（Ｐｒ
ｏ（ＯＨ））［たとえば３−ヒドロキシプロリン（Ｐｒ
ｏ（３ＯＨ））および４−ヒドロキシプロリン（Ｐｒｏ
（４ＯＨ））］、Ｄ−またはＬ−アゼチジン−２−カル
ボン酸（Ａｚｔ）、Ｄ−またはＬ−チオプロリン（Ｔｐ
ｒ）、Ｄ−またはＬ−アミノプロリン（Ｐｒｏ（Ｎ
Ｈ２））［たとえば３−アミノプロリン（Ｐｒｏ（３Ｎ
Ｈ２））および４−アミノプロリン（Ｐｒｏ（４Ｎ
Ｈ２））］、Ｄ−またはＬ−ピログルタミン酸（ｐＧｌ
ｕ）、Ｄ−またはＬ−２−アミノイソ酪酸（Ａｉｂ）、
Ｄ−またはＬ−グルタミン酸（Ｇｌｕ）、Ｄ−またはＬ
−アスパラギン酸（Ａｓｐ）、Ｄ−またはＬ−グルタミ
ン（Ｇｌｎ）、Ｄ−またはＬ−アスパラギン（Ａｓ
ｎ）、Ｄ−またはＬ−リジン（Ｌｙｓ）、Ｄ−またはＬ
−アルギニン（Ａｒｇ）、Ｄ−またはＬ−ヒスチジン
（Ｈｉｓ）、Ｄ−またはＬ−オルニチン（Ｏｒｎ）、Ｄ
−またはＬ−ヒドロキシピペリジンカルボン酸（たとえ
ば５−ヒドロキシピペリジン−２−カルボン酸）、Ｄ−
またはＬ−メルカプトプロリン（Ｐｒｏ（ＳＨ））［た
とえば３−メルカプトプロリン（Ｐｒｏ（３ＳＨ））お
よび４−メルカプトプロリン（Ｐｒｏ（４ＳＨ））］な
どが挙げられ、これらの側鎖であるアミノ基、ヒドロキ
シ基、チオール基またはカルボキシ基は適当な置換基で
置換されていてもよい。前記の好適な置換基としては、
カルバモイル、低級アルカノイル（たとえばホルミル、
アセチルなど）、トリハロ（低級）アルコキシカルボニ
ル（たとえば２，２，２−トリクロロエトキシカルボニ
ルなど）、アル（低級）アルコキシカルボニル（たとえ
ばベンジルオキシカルボニルなど）、低級アルキルスル
ホニル（たとえばメシルエチルスルホニルなど）、低級
アルコキサリル（たとえばメトキサリル、エトキサリル
など）、アリールスルホニル（たとえばフェニルスルホ
ニル、トリルスルホニルなど）、ハロアル（低級）アル
コキシカルボニル（たとえばＯ−クロロベンジルオキシ
カルボニルなど）、カルボキシ（低級）アルカノイル
（たとえばカルボキシアセチル、カルボキシプロピオニ
ルなど），グルシル、β−アラニル、Ｎ−低級アルコキ
シカルボニルグリシル（たとえばＮ−ｔ−ブトキシカル
ボニルグリシルなど）、Ｎ−低級アルコキシカルボニル
−β−アラニル（たとえばＮ−ｔ−ブトキシカルボニル
−β−アラニルなど）、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルア
ミノ（低級）アルカノイル（たとえばＮ，Ｎ−ジメチル
アミノアセチル、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノアセチル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピオニル、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアミノプロピオニルなど）、カルボキサリル、モルホ
リノカルボニル、アミノ（低級）アルカノイル（たとえ
ばアミノアセチル、アミノプロピオニルなど）、Ｎ−ア
ル（低級）アルコキシカルボニルアミノ（低級）アルカ
ノイル（たとえばＮ−ベンジルオキシカルボニルアミノ
アセチルなど）、スレオニル、Ｎ−低級アルコキシカル
ボニルスレオニル（たとえばＮ−ｔ−ブトキシカルボニ
ルスレオニルなど）、Ｎ−低級アルカノイルスレオニル
（たとえばＮ−アセチルスレオニルなど）、Ｎ−低級ア
ルコキシカルボニル（低級）アルキル−Ｎ−低級アルコ
キシカルボニルアミノ（低級）アルカノイル（たとえば
Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−Ｎ−ｔ−ブトキシ
カルボニルアミノアセチルなど）、α−グルタミル、Ｎ
−アル（低級）アルコキシカルボニル−Ｏ−アル（低
級）アルキル−α−グルタミル（たとえばＮ−ベンジル
オキシカルボニル−Ｏ−ベンジル−α−グルタミルな
ど）、γ−グルタミル、Ｎ−アル（低級）アルコキシカ
ルボニル−Ｏ−アル（低級）アルキル−γ−グルタミル
（たとえばＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｏ−ベンジ
ル−γ−グルタミルなど）などのアシル、低級アルキル
（たとえばメチル、エチル、ｔ−ブチルなど）、カルボ
キシ（低級）アルキル（たとえばカルボキシメチルな
ど）、モルホリノ、グリシノアミド、スレオニノアミ
ド、Ｎ′−グルタミノ−Ｎ−低級アルキルアミド（たと
えばＮ′−グルタミノ−Ｎ−ｔ−ブチルアミドなど）、
ジ（低級）アルキルアミノ（たとえばジメチルアミノな
ど）、アル（低級）アルキル（たとえばベンジル、フェ
ネチルなど）、トリハロ（低級）アルキル（たとえば
２，２，２−トリクロロエチルなど）、低級アルコキシ
カルボニル（低級）アルキル（たとえばメトキシカルボ
ニルメチル、エトキシカルボニルメチル、ｔ−ブトキシ
カルボニルメチルなど）またはこの分野で一般に用いら
れる保護基などを挙げることができる。これらのアミノ
酸がチオ基を含む場合、そのスルホキシドまたはスルホ
ンであってもよい。
素原子２ないし６個有するものであり、ビニレン、プロ
ペニレンなどが挙げられ、なかでも好ましいのはビニレ
ンである。好適な「Ｄ−Ｔｒｐ以外のアミノ酸残基」と
は、Ｄ−Ｔｒｐ以外のアミノ酸から誘導された二価の残
基を意味し、これらのアミノ酸としては、グリシン（Ｇ
ｌｙ）、Ｄ−またはＬ−アラニン（Ａｌａ）、β−アラ
ニン（βＡｌａ）、Ｄ−またはＬ−バリン（Ｖａｌ）、
Ｄ−またはＬ−ロイシン（Ｌｅｕ）、Ｄ−またはＬ−イ
ソロイシン（Ｉｌｅ）、Ｄ−またはＬ−セリン（Ｓｅ
ｒ）、Ｄ−またはＬ−スレオニン（Ｔｈｒ）、Ｄ−また
はＬ−システイン（Ｃｙｓ）、Ｄ−またはＬ−メチオニ
ン（Ｍｅｔ）、Ｄ−またはＬ−フェニルアラニン（Ｐｈ
ｅ）、Ｌ−トリプトファン（Ｔｒｐ）、Ｄ−またはＬ−
チロシン（Ｔｙｒ）、Ｄ−またはＬ−プロリン（Ｐｒ
ｏ）、Ｄ−またはＬ−ジデヒドロプロリン（ΔＰｒｏ）
［たとえば３，４−ジデヒドロプロリン（Δ（３，４）
Ｐｒｏ）］、Ｄ−またはＬ−ヒドロキシプロリン（Ｐｒ
ｏ（ＯＨ））［たとえば３−ヒドロキシプロリン（Ｐｒ
ｏ（３ＯＨ））および４−ヒドロキシプロリン（Ｐｒｏ
（４ＯＨ））］、Ｄ−またはＬ−アゼチジン−２−カル
ボン酸（Ａｚｔ）、Ｄ−またはＬ−チオプロリン（Ｔｐ
ｒ）、Ｄ−またはＬ−アミノプロリン（Ｐｒｏ（Ｎ
Ｈ２））［たとえば３−アミノプロリン（Ｐｒｏ（３Ｎ
Ｈ２））および４−アミノプロリン（Ｐｒｏ（４Ｎ
Ｈ２））］、Ｄ−またはＬ−ピログルタミン酸（ｐＧｌ
ｕ）、Ｄ−またはＬ−２−アミノイソ酪酸（Ａｉｂ）、
Ｄ−またはＬ−グルタミン酸（Ｇｌｕ）、Ｄ−またはＬ
−アスパラギン酸（Ａｓｐ）、Ｄ−またはＬ−グルタミ
ン（Ｇｌｎ）、Ｄ−またはＬ−アスパラギン（Ａｓ
ｎ）、Ｄ−またはＬ−リジン（Ｌｙｓ）、Ｄ−またはＬ
−アルギニン（Ａｒｇ）、Ｄ−またはＬ−ヒスチジン
（Ｈｉｓ）、Ｄ−またはＬ−オルニチン（Ｏｒｎ）、Ｄ
−またはＬ−ヒドロキシピペリジンカルボン酸（たとえ
ば５−ヒドロキシピペリジン−２−カルボン酸）、Ｄ−
またはＬ−メルカプトプロリン（Ｐｒｏ（ＳＨ））［た
とえば３−メルカプトプロリン（Ｐｒｏ（３ＳＨ））お
よび４−メルカプトプロリン（Ｐｒｏ（４ＳＨ））］な
どが挙げられ、これらの側鎖であるアミノ基、ヒドロキ
シ基、チオール基またはカルボキシ基は適当な置換基で
置換されていてもよい。前記の好適な置換基としては、
カルバモイル、低級アルカノイル（たとえばホルミル、
アセチルなど）、トリハロ（低級）アルコキシカルボニ
ル（たとえば２，２，２−トリクロロエトキシカルボニ
ルなど）、アル（低級）アルコキシカルボニル（たとえ
ばベンジルオキシカルボニルなど）、低級アルキルスル
ホニル（たとえばメシルエチルスルホニルなど）、低級
アルコキサリル（たとえばメトキサリル、エトキサリル
など）、アリールスルホニル（たとえばフェニルスルホ
ニル、トリルスルホニルなど）、ハロアル（低級）アル
コキシカルボニル（たとえばＯ−クロロベンジルオキシ
カルボニルなど）、カルボキシ（低級）アルカノイル
（たとえばカルボキシアセチル、カルボキシプロピオニ
ルなど），グルシル、β−アラニル、Ｎ−低級アルコキ
シカルボニルグリシル（たとえばＮ−ｔ−ブトキシカル
ボニルグリシルなど）、Ｎ−低級アルコキシカルボニル
−β−アラニル（たとえばＮ−ｔ−ブトキシカルボニル
−β−アラニルなど）、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルア
ミノ（低級）アルカノイル（たとえばＮ，Ｎ−ジメチル
アミノアセチル、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノアセチル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピオニル、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアミノプロピオニルなど）、カルボキサリル、モルホ
リノカルボニル、アミノ（低級）アルカノイル（たとえ
ばアミノアセチル、アミノプロピオニルなど）、Ｎ−ア
ル（低級）アルコキシカルボニルアミノ（低級）アルカ
ノイル（たとえばＮ−ベンジルオキシカルボニルアミノ
アセチルなど）、スレオニル、Ｎ−低級アルコキシカル
ボニルスレオニル（たとえばＮ−ｔ−ブトキシカルボニ
ルスレオニルなど）、Ｎ−低級アルカノイルスレオニル
（たとえばＮ−アセチルスレオニルなど）、Ｎ−低級ア
ルコキシカルボニル（低級）アルキル−Ｎ−低級アルコ
キシカルボニルアミノ（低級）アルカノイル（たとえば
Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−Ｎ−ｔ−ブトキシ
カルボニルアミノアセチルなど）、α−グルタミル、Ｎ
−アル（低級）アルコキシカルボニル−Ｏ−アル（低
級）アルキル−α−グルタミル（たとえばＮ−ベンジル
オキシカルボニル−Ｏ−ベンジル−α−グルタミルな
ど）、γ−グルタミル、Ｎ−アル（低級）アルコキシカ
ルボニル−Ｏ−アル（低級）アルキル−γ−グルタミル
（たとえばＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｏ−ベンジ
ル−γ−グルタミルなど）などのアシル、低級アルキル
（たとえばメチル、エチル、ｔ−ブチルなど）、カルボ
キシ（低級）アルキル（たとえばカルボキシメチルな
ど）、モルホリノ、グリシノアミド、スレオニノアミ
ド、Ｎ′−グルタミノ−Ｎ−低級アルキルアミド（たと
えばＮ′−グルタミノ−Ｎ−ｔ−ブチルアミドなど）、
ジ（低級）アルキルアミノ（たとえばジメチルアミノな
ど）、アル（低級）アルキル（たとえばベンジル、フェ
ネチルなど）、トリハロ（低級）アルキル（たとえば
２，２，２−トリクロロエチルなど）、低級アルコキシ
カルボニル（低級）アルキル（たとえばメトキシカルボ
ニルメチル、エトキシカルボニルメチル、ｔ−ブトキシ
カルボニルメチルなど）またはこの分野で一般に用いら
れる保護基などを挙げることができる。これらのアミノ
酸がチオ基を含む場合、そのスルホキシドまたはスルホ
ンであってもよい。
【００２１】好適な「カルボキシ（低級）アルキル」と
しては、カルボキシメチル、カルボキシエチル、カルボ
キシプロピルなどが挙げられる。好適な「保護されたカ
ルボキシ（低級）アルキル」とは、たとえばエステル化
されたカルボキシ基のように、慣用のカルボキシ保護基
で保護された、前記のカルボキシ（低級）アルキルを意
味する。そのエステル部分の好ましい例としては、低級
アルキルエステル（たとえばメチルエステル、エチルエ
ステル、プロピルエステル、ｔｅｒｔ−ブチルエステル
など）などが挙げられる。好適な「適当な置換基を有し
ていてもよいカルバモイル（低級）アルキル」として
は、カルバモイル（低級）アルキル（たとえばカルバモ
イルメチル、カルバモイルエチル、カルバモイルプロピ
ルなど）、適当な置換基を有していてもよいカルバモイ
ル（低級）アルキル、たとえば低級アルキルカルバモイ
ル（低級）アルキル（たとえばメチルカルバモイルメチ
ル、エチルカルバモイルメチルなど）、アミノ（低級）
アルキルカルバモイル（低級）アルキル（たとえばアミ
ノメチルカルバモイルメチル、アミノエチルカルバモイ
ルメチルなど）、低級アルキルアミノ（低級）アルキル
カルバモイル（低級）アルキル（たとえばジメチルアミ
ノメチルカルバモイルメチル、ジメチルアミノエチルカ
ルバモイルメチルなど）などが挙げられる。好適な「適
当な置換基を有していてもよい低級アルキル」として
は、当該分野で用いられる慣用の基、たとえば先に述べ
た低級アルキル、先に述べたカルボキシ（低級）アルキ
ル、先に述べた保護されたカルボキシ（低級）アルキ
ル、先に述べた適当な置換基を有していてもよいカルバ
モイル（低級）アルキル、低級アルキルアミノ（低級）
アルキル（たとえばジメチルアミノメチル、ジメチルア
ミノエチルなど）、ヒドロキシ（低級）アルキル（たと
えばヒドロキシメチル、ヒドロキシエチルなど）、保護
されたヒドロキシ（低級）アルキル、たとえばアシルオ
キシ（低級）アルキル（たとえばアセチルオキシエチル
など）、ハロ（低級）アルキル（たとえばトリフルオロ
メチルなど）などを挙げることができる。
しては、カルボキシメチル、カルボキシエチル、カルボ
キシプロピルなどが挙げられる。好適な「保護されたカ
ルボキシ（低級）アルキル」とは、たとえばエステル化
されたカルボキシ基のように、慣用のカルボキシ保護基
で保護された、前記のカルボキシ（低級）アルキルを意
味する。そのエステル部分の好ましい例としては、低級
アルキルエステル（たとえばメチルエステル、エチルエ
ステル、プロピルエステル、ｔｅｒｔ−ブチルエステル
など）などが挙げられる。好適な「適当な置換基を有し
ていてもよいカルバモイル（低級）アルキル」として
は、カルバモイル（低級）アルキル（たとえばカルバモ
イルメチル、カルバモイルエチル、カルバモイルプロピ
ルなど）、適当な置換基を有していてもよいカルバモイ
ル（低級）アルキル、たとえば低級アルキルカルバモイ
ル（低級）アルキル（たとえばメチルカルバモイルメチ
ル、エチルカルバモイルメチルなど）、アミノ（低級）
アルキルカルバモイル（低級）アルキル（たとえばアミ
ノメチルカルバモイルメチル、アミノエチルカルバモイ
ルメチルなど）、低級アルキルアミノ（低級）アルキル
カルバモイル（低級）アルキル（たとえばジメチルアミ
ノメチルカルバモイルメチル、ジメチルアミノエチルカ
ルバモイルメチルなど）などが挙げられる。好適な「適
当な置換基を有していてもよい低級アルキル」として
は、当該分野で用いられる慣用の基、たとえば先に述べ
た低級アルキル、先に述べたカルボキシ（低級）アルキ
ル、先に述べた保護されたカルボキシ（低級）アルキ
ル、先に述べた適当な置換基を有していてもよいカルバ
モイル（低級）アルキル、低級アルキルアミノ（低級）
アルキル（たとえばジメチルアミノメチル、ジメチルア
ミノエチルなど）、ヒドロキシ（低級）アルキル（たと
えばヒドロキシメチル、ヒドロキシエチルなど）、保護
されたヒドロキシ（低級）アルキル、たとえばアシルオ
キシ（低級）アルキル（たとえばアセチルオキシエチル
など）、ハロ（低級）アルキル（たとえばトリフルオロ
メチルなど）などを挙げることができる。
【００２２】好適な「チオを含むアミノ酸残基」とは、
チオを含むアミノ酸から誘導された２価の残基を意味
し、たとえばＴｐｒ、Ｍｅｔなどが挙げられる。好適な
「スルフィニルまたはスルホニルを含むアミノ酸残基」
とは、スルフィニルまたはスルホニルを含むアミノ酸か
ら誘導された二価の残基を意味し、たとえばＴｐｒ
（Ｏ）、Ｍｅｔ（Ｏ）、Ｔｐｒ（Ｏ２）、Ｍｅｔ
（Ｏ２）などが挙げられる。好適な「アミノ、ヒドロキ
シおよび／またはカルボキシを含むアミノ酸残基」とし
ては、Ｐｒｏ（４ＯＨ）、Ｓｅｒ、Ｔｈｒ、Ｔｙｒなど
のアミノ酸の二価の残基を挙げることができる。好適な
「保護されたアミノ、保護されたヒドロキシおよび／ま
たは保護されたカルボキシを含むアミノ酸残基」とは、
当該分野で用いられる慣用の基、たとえばカルバモイ
ル、低級アルキルスルホニル（たとえばメシル、エチル
スルホニルなど）、アリールスルホニル（たとえばフェ
ニルスルホニル、トリルスルホニルなど）、低級アルコ
キシカルボニル（低級）アルキル（たとえばメトキシカ
ルボニルメチル、エトキシカルボニルメチルなど）など
でアミノ、ヒドロキシおよび／またはカルボキシが保護
された前記の基を意味する。好適な「適当な置換基を有
するスルホニルオキシを含むアミノ酸残基」とは、適当
な置換基を有するスルホニルオキシを含むアミノ酸から
誘導された２価の残基を意味し、ここで「適当な置換基
を有するスルホニルオキシ」としては、低級アルキルス
ルホニルオキシ（たとえばメチルスルホニルオキシ、エ
チルスルホニルオキシなど」、ハロ（低級）アルキルス
ルホニルオキシ（たとえばトリフルオロメチルスルホニ
ルオキシなど）、アリールスルホニルオキシ（たとえば
フェニルスルホニルオキシ、トリルスルホニルオキシな
ど）などを挙げることができる。好適な「アジドを含む
アミノ酸残基」としては、Ｐｒｏ（４Ｎ３）などのアミ
ノ酸の二価の残基を挙げることができる。好適な「アミ
ノを含むアミノ酸残基」としてはＰｒｏ（４ＮＨ２）な
どのアミノ酸の二価の残基を挙げることができる。好適
な「保護されたヒドロキシを含むアミノ酸残基」として
は、ヒドロキシが先に述べた慣用の基で保護された前記
の基を挙げることができる。
チオを含むアミノ酸から誘導された２価の残基を意味
し、たとえばＴｐｒ、Ｍｅｔなどが挙げられる。好適な
「スルフィニルまたはスルホニルを含むアミノ酸残基」
とは、スルフィニルまたはスルホニルを含むアミノ酸か
ら誘導された二価の残基を意味し、たとえばＴｐｒ
（Ｏ）、Ｍｅｔ（Ｏ）、Ｔｐｒ（Ｏ２）、Ｍｅｔ
（Ｏ２）などが挙げられる。好適な「アミノ、ヒドロキ
シおよび／またはカルボキシを含むアミノ酸残基」とし
ては、Ｐｒｏ（４ＯＨ）、Ｓｅｒ、Ｔｈｒ、Ｔｙｒなど
のアミノ酸の二価の残基を挙げることができる。好適な
「保護されたアミノ、保護されたヒドロキシおよび／ま
たは保護されたカルボキシを含むアミノ酸残基」とは、
当該分野で用いられる慣用の基、たとえばカルバモイ
ル、低級アルキルスルホニル（たとえばメシル、エチル
スルホニルなど）、アリールスルホニル（たとえばフェ
ニルスルホニル、トリルスルホニルなど）、低級アルコ
キシカルボニル（低級）アルキル（たとえばメトキシカ
ルボニルメチル、エトキシカルボニルメチルなど）など
でアミノ、ヒドロキシおよび／またはカルボキシが保護
された前記の基を意味する。好適な「適当な置換基を有
するスルホニルオキシを含むアミノ酸残基」とは、適当
な置換基を有するスルホニルオキシを含むアミノ酸から
誘導された２価の残基を意味し、ここで「適当な置換基
を有するスルホニルオキシ」としては、低級アルキルス
ルホニルオキシ（たとえばメチルスルホニルオキシ、エ
チルスルホニルオキシなど」、ハロ（低級）アルキルス
ルホニルオキシ（たとえばトリフルオロメチルスルホニ
ルオキシなど）、アリールスルホニルオキシ（たとえば
フェニルスルホニルオキシ、トリルスルホニルオキシな
ど）などを挙げることができる。好適な「アジドを含む
アミノ酸残基」としては、Ｐｒｏ（４Ｎ３）などのアミ
ノ酸の二価の残基を挙げることができる。好適な「アミ
ノを含むアミノ酸残基」としてはＰｒｏ（４ＮＨ２）な
どのアミノ酸の二価の残基を挙げることができる。好適
な「保護されたヒドロキシを含むアミノ酸残基」として
は、ヒドロキシが先に述べた慣用の基で保護された前記
の基を挙げることができる。
【００２３】好適な「アルカリ金属」としては、ナトリ
ウム、カリウムなどを挙げることができる。好適な「酸
残基」としては、ハロゲン（たとえば弗素、塩素、臭
素、ヨウ素）、アシルオキシ（たとえばトシルオキシ、
メシルオキシなど）などを挙げることができる。好適な
「適当な置換基を有していてもよいアル（低級）アルキ
ル」としては、アミノ酸およびペプチド化学の分野で用
いられる慣用の基、たとえばアル（低級）アルキル（た
とえばトリチル、ベンズヒドリル、ベンジル、フェネチ
ルなど）、置換アル（低級）アルキル（たとえばＯ−フ
ルオロベンジル、ｍ−フルオロベンジル、Ｏ−トリフル
オロメチルベンジルなど）などを挙げることができる。
好適な「ピリジル（低級）アルキル」としては、２−ピ
リジルメチル、３−ピリジルメチル、４−ピリジルメチ
ルなどを挙げることができる。 キレンを形成する）で表わされる好適な基としては、１
−インドリニル、２−イソインドリニル、１，２，３，
４−テトラヒドロキノリン−１−イル、１，２，３，４
−テトラヒドロイソキノリン−２−イルなどを挙げるこ
とができる。好適な「ヒドロキシ（低級）アルキル」と
しては、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロ
キシプロピルなどを挙げることができる。好適な「保護
されたヒドロキシ（低級）アルキル」とは、ヒドロキシ
基がアシル（たとえばアセチルなど）などの慣用の保護
基で保護された前記のヒドロキシ（低級）アルキルを意
味し、たとえばアセチルオキシエチルなどを挙げること
ができる。好適な「アミノ保護基」としては、アミノ酸
およびペプチド化学の分野で用いられる慣用の保護基、
たとえば低級アルカノイル（たとえばホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイルなど）、
低級アルコキシカルボニル（たとえばメトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブト
キシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニルなど）、低級
アルカンスルホニル（たとえばメタンスルホニル、エタ
ンスルホニルなど）などのアシルなどを挙げることがで
きる。
ウム、カリウムなどを挙げることができる。好適な「酸
残基」としては、ハロゲン（たとえば弗素、塩素、臭
素、ヨウ素）、アシルオキシ（たとえばトシルオキシ、
メシルオキシなど）などを挙げることができる。好適な
「適当な置換基を有していてもよいアル（低級）アルキ
ル」としては、アミノ酸およびペプチド化学の分野で用
いられる慣用の基、たとえばアル（低級）アルキル（た
とえばトリチル、ベンズヒドリル、ベンジル、フェネチ
ルなど）、置換アル（低級）アルキル（たとえばＯ−フ
ルオロベンジル、ｍ−フルオロベンジル、Ｏ−トリフル
オロメチルベンジルなど）などを挙げることができる。
好適な「ピリジル（低級）アルキル」としては、２−ピ
リジルメチル、３−ピリジルメチル、４−ピリジルメチ
ルなどを挙げることができる。 キレンを形成する）で表わされる好適な基としては、１
−インドリニル、２−イソインドリニル、１，２，３，
４−テトラヒドロキノリン−１−イル、１，２，３，４
−テトラヒドロイソキノリン−２−イルなどを挙げるこ
とができる。好適な「ヒドロキシ（低級）アルキル」と
しては、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロ
キシプロピルなどを挙げることができる。好適な「保護
されたヒドロキシ（低級）アルキル」とは、ヒドロキシ
基がアシル（たとえばアセチルなど）などの慣用の保護
基で保護された前記のヒドロキシ（低級）アルキルを意
味し、たとえばアセチルオキシエチルなどを挙げること
ができる。好適な「アミノ保護基」としては、アミノ酸
およびペプチド化学の分野で用いられる慣用の保護基、
たとえば低級アルカノイル（たとえばホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイルなど）、
低級アルコキシカルボニル（たとえばメトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブト
キシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニルなど）、低級
アルカンスルホニル（たとえばメタンスルホニル、エタ
ンスルホニルなど）などのアシルなどを挙げることがで
きる。
【００２４】好適な「低級アルキルチオを含むアミノ酸
残基」とは、低級アルキルチオを含むアミノ酸の二価の
残基を意味し、ここで低級アルキルチオとしては、メチ
ルチオ、エチルチオなどを挙げることができる。好適な
「カルボキシ（低級）アルコキシ」としては、カルボキ
シメトキシ、カルボキシエトキシ、カルボキシプロポキ
シなどを挙げることができる。好適な「保護されたカル
ボキシ（低級）アルコキシ」とは、たとえばエステル化
されたカルボキシ基のように、カルボキシ基が慣用の保
護基で保護された、前記のカルボキシ（低級）アルコキ
シを意味する。そのエステル部分の好ましい例として
は、低級アルキルエステル（たとえばメチルエステル、
エチルエステル、プロピルエステル、ｔｅｒｔ−ブチル
エステルなど）などを挙げることができる。
残基」とは、低級アルキルチオを含むアミノ酸の二価の
残基を意味し、ここで低級アルキルチオとしては、メチ
ルチオ、エチルチオなどを挙げることができる。好適な
「カルボキシ（低級）アルコキシ」としては、カルボキ
シメトキシ、カルボキシエトキシ、カルボキシプロポキ
シなどを挙げることができる。好適な「保護されたカル
ボキシ（低級）アルコキシ」とは、たとえばエステル化
されたカルボキシ基のように、カルボキシ基が慣用の保
護基で保護された、前記のカルボキシ（低級）アルコキ
シを意味する。そのエステル部分の好ましい例として
は、低級アルキルエステル（たとえばメチルエステル、
エチルエステル、プロピルエステル、ｔｅｒｔ−ブチル
エステルなど）などを挙げることができる。
【００２５】Ｒ１部分における好適な置換基としては、
アミノ酸およびペプチド化学の分野で用いられる慣用の
基、たとえば先に述べた適当な置換基を有していてもよ
い低級アルキル、先に述べたアミノ保護基、ヒドロキ
シ、ハロゲン（たとえば弗素、塩素など）、低級アルコ
キシ（たとえばメトキシ、ブトキシなど）、Ｎ，Ｎ−ジ
（低級）アルキルアミノ（たとえばジメチルアミノな
ど）、低級アルコキシカルボニル（たとえばメトキシカ
ルボニル、ｔ−ブトキシカルボニルなど）などを挙げる
ことができる。Ｒ３およびＲ７の好適な置換基として
は、アミノ酸およびペプチド化学の分野で用いられる慣
用の基、たとえば先に述べた適当な置換基を有していて
もよい低級アルキル、先に述べたカルボキシ（低級）ア
ルコキシ、先に述べた保護されたカルボキシ（低級）ア
ルコキシ、ハロゲン（たとえば弗素、塩素など）、低級
アルコキシ（たとえばメトキシ、ブトキシなど）、ニト
ロ、アミノ、先に述べたアミノ保護基で保護されたアミ
ノなどを挙げることができる。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７、Ａ、Ｙのより好ましい例を詳述すれ
ば、Ｒ１は１個以上、好ましくは１ないし３個のハロゲ
ンまたは低級アルコキシを有していてもよいフェニルお
よびナフチルなどのアリール（たとえばフェニル、ジフ
ルオロフェニル、ジメトキシフェニルなど）、ベンゾフ
リル、ピリジル、または ルなど）を示す］で表わされる基；Ｒ２は水素、または
低級アルキル（たとえばメチルなど）；Ｒ３は１個以
上、好ましくは１ないし３個のハロゲンを有していても
よい低級アルキル（たとえばメチル、トリフルオロメチ
ルなど）、アミノ、低級アルカンスルホニルアミノ（た
とえばメタンスルホニルアミノなど）などのアシルアミ
ノ、カルボキシ（低級）アルコキシ（たとえばカルボキ
シメトキシなど）、エステル化されたカルボキシ（低
級）アルコキシ、たとえば低級アルコキシカルボニル
（低級）アルコキシ（たとえばエトキシカルボニルメト
キシなど）など、ハロゲン（たとえば弗素、塩素な
ど）；低級アルコキシ（たとえばメトキシなど）、また
はニトロ；Ｒ４は低級アルキル（たとえばメチルな
ど）；Ｒ５はアル（低級）アルキル、たとえばモノまた
はジまたはトリフェニル（低級）アルキル、好ましくは
フェニル（低級）アルキル（たとえばベンジルなど）；
Ｒ７は水素、低級アルキル（たとえばメチルなど）、ま
たはハロゲン（たとえば塩素など）；Ａは適当な置換基
を有していてもよい、Ｄ−Ｔｒｐ以外のアミノ酸、たと
えばヒドロキシプロリン（たとえば４−ヒドロキシプロ
リンなど）あるいはジデヒドロプロリン（たとえば３，
４−ジデヒドロプロリンなど）から誘導された二価の残
基、Ｙは結合、低級アルキレン（たとえばエチレンな
ど）、または低級アルケニレン（たとえばビニレンな
ど）である。また、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ
７、ＡおよびＹの同様に好ましい例としては、Ｒ１は１
個以上、好ましくは１ないし３個のハロゲンを有してい
てもよいアリール（たとえばフェニル、ジフルオロフェ
ニルなど）、ベンゾフリル、または ルなど）］で表わされる基；Ｒ２は水素；Ｒ３はハロゲ
ンを有していてもよい低級アルキル（たとえばメチル、
トリフルオロメチルなど）、アミノ、低級アルカンスル
ホニルアミノ（たとえばメタンスルホニルアミノな
ど）、カルボキシ（低級）アルコキシ（たとえばカルボ
キシメトキシなど）、低級アルコキシカルボニル（低
級）アルコキシ（たとえばエトキシカルボニルメトキシ
など）、ハロゲン（たとえば弗素など）、低級アルコキ
シ（たとえばメトキシなど）、またはニトロ；Ｒ４は低
級アルキル（たとえばメチルなど）；Ｒ５はアル（低
級）アルキル、たとえばモノまたはジまたはトリフェニ
ル（低級）アルキル（たとえばベンジルなど）；Ｒ７は
水素、低級アルキル（たとえばメチルなど）；Ａは適当
な置換基を有していてもよい、Ｄ−Ｔｒｐ以外のアミノ
酸、たとえばヒドロキシプロリン（たとえば４−ヒドロ
キシプロリンなど）あるいはジデヒドロプロリン（たと
えば３，４−ジデヒドロプロリンなどから誘導された二
価の残基、Ｙは結合、低級アルケニレン（たとえばビニ
レンなど）である。
アミノ酸およびペプチド化学の分野で用いられる慣用の
基、たとえば先に述べた適当な置換基を有していてもよ
い低級アルキル、先に述べたアミノ保護基、ヒドロキ
シ、ハロゲン（たとえば弗素、塩素など）、低級アルコ
キシ（たとえばメトキシ、ブトキシなど）、Ｎ，Ｎ−ジ
（低級）アルキルアミノ（たとえばジメチルアミノな
ど）、低級アルコキシカルボニル（たとえばメトキシカ
ルボニル、ｔ−ブトキシカルボニルなど）などを挙げる
ことができる。Ｒ３およびＲ７の好適な置換基として
は、アミノ酸およびペプチド化学の分野で用いられる慣
用の基、たとえば先に述べた適当な置換基を有していて
もよい低級アルキル、先に述べたカルボキシ（低級）ア
ルコキシ、先に述べた保護されたカルボキシ（低級）ア
ルコキシ、ハロゲン（たとえば弗素、塩素など）、低級
アルコキシ（たとえばメトキシ、ブトキシなど）、ニト
ロ、アミノ、先に述べたアミノ保護基で保護されたアミ
ノなどを挙げることができる。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７、Ａ、Ｙのより好ましい例を詳述すれ
ば、Ｒ１は１個以上、好ましくは１ないし３個のハロゲ
ンまたは低級アルコキシを有していてもよいフェニルお
よびナフチルなどのアリール（たとえばフェニル、ジフ
ルオロフェニル、ジメトキシフェニルなど）、ベンゾフ
リル、ピリジル、または ルなど）を示す］で表わされる基；Ｒ２は水素、または
低級アルキル（たとえばメチルなど）；Ｒ３は１個以
上、好ましくは１ないし３個のハロゲンを有していても
よい低級アルキル（たとえばメチル、トリフルオロメチ
ルなど）、アミノ、低級アルカンスルホニルアミノ（た
とえばメタンスルホニルアミノなど）などのアシルアミ
ノ、カルボキシ（低級）アルコキシ（たとえばカルボキ
シメトキシなど）、エステル化されたカルボキシ（低
級）アルコキシ、たとえば低級アルコキシカルボニル
（低級）アルコキシ（たとえばエトキシカルボニルメト
キシなど）など、ハロゲン（たとえば弗素、塩素な
ど）；低級アルコキシ（たとえばメトキシなど）、また
はニトロ；Ｒ４は低級アルキル（たとえばメチルな
ど）；Ｒ５はアル（低級）アルキル、たとえばモノまた
はジまたはトリフェニル（低級）アルキル、好ましくは
フェニル（低級）アルキル（たとえばベンジルなど）；
Ｒ７は水素、低級アルキル（たとえばメチルなど）、ま
たはハロゲン（たとえば塩素など）；Ａは適当な置換基
を有していてもよい、Ｄ−Ｔｒｐ以外のアミノ酸、たと
えばヒドロキシプロリン（たとえば４−ヒドロキシプロ
リンなど）あるいはジデヒドロプロリン（たとえば３，
４−ジデヒドロプロリンなど）から誘導された二価の残
基、Ｙは結合、低級アルキレン（たとえばエチレンな
ど）、または低級アルケニレン（たとえばビニレンな
ど）である。また、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ
７、ＡおよびＹの同様に好ましい例としては、Ｒ１は１
個以上、好ましくは１ないし３個のハロゲンを有してい
てもよいアリール（たとえばフェニル、ジフルオロフェ
ニルなど）、ベンゾフリル、または ルなど）］で表わされる基；Ｒ２は水素；Ｒ３はハロゲ
ンを有していてもよい低級アルキル（たとえばメチル、
トリフルオロメチルなど）、アミノ、低級アルカンスル
ホニルアミノ（たとえばメタンスルホニルアミノな
ど）、カルボキシ（低級）アルコキシ（たとえばカルボ
キシメトキシなど）、低級アルコキシカルボニル（低
級）アルコキシ（たとえばエトキシカルボニルメトキシ
など）、ハロゲン（たとえば弗素など）、低級アルコキ
シ（たとえばメトキシなど）、またはニトロ；Ｒ４は低
級アルキル（たとえばメチルなど）；Ｒ５はアル（低
級）アルキル、たとえばモノまたはジまたはトリフェニ
ル（低級）アルキル（たとえばベンジルなど）；Ｒ７は
水素、低級アルキル（たとえばメチルなど）；Ａは適当
な置換基を有していてもよい、Ｄ−Ｔｒｐ以外のアミノ
酸、たとえばヒドロキシプロリン（たとえば４−ヒドロ
キシプロリンなど）あるいはジデヒドロプロリン（たと
えば３，４−ジデヒドロプロリンなどから誘導された二
価の残基、Ｙは結合、低級アルケニレン（たとえばビニ
レンなど）である。
【００２６】目的化合物（Ｉ）の製造法を次に詳細に説
明する。 プロセス１ 目的化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（ＩＩ）また
はそのアミノ基における反応性誘導体またはその塩を化
合物（ＩＩＩ）またはそのカルボキシ基における反応性
誘導体またはその塩と反応させることによって製造する
ことができる。化合物（ＩＩ）のアミノ基における反応
性誘導体の好適な例としては、化合物（ＩＩ）とアルデ
ヒドやケトンなどのカルボニル化合物との反応によって
得られるシッフ塩基型のイミノ化合物またはその互変異
性エナミン型の異性体、化合物（ＩＩ）とビス（トリメ
チルシリル）アセトアミド、モノ（トリメチルシリル）
アセトアミド、ビス（トリメチルシリル）尿素などのシ
リル化合物との反応によって得られるシリル誘導体、化
合物（ＩＩ）と三塩化燐やホスゲンとの反応によって得
られる誘導体、その他を挙げることができる。化合物
（ＩＩ）およびその反応性誘導体の好適な塩としては、
化合物（Ｉ）で示したのと同じものを挙げることができ
る。化合物（ＩＩＩ）のカルボキシ基における反応性誘
導体の好適な例としては、酸ハライド、酸無水物、活性
アミド、活性エステルなどを挙げることができる。これ
ら反応性誘導体の好適な例としては、酸塩化物、酸アジ
ド；置換燐酸（たとえばジアルキル燐酸、フェニル燐
酸、ジフェニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸
など）、ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、
スルホン酸（たとえばメタンスルホン酸など）、脂肪族
カルボン酸（たとえば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ
酪酸、ピバル酸、吉草酸、イソ吉草酸、２−エチル酪
酸、トリクロロ酢酸など）または芳香族カルボン酸（た
とえば安息香酸など）などの酸との混合酸無水物；対称
酸無水物；イミダゾール、４−置換イミダゾール、ジメ
チルピラゾール、トリアゾールまたはテトラゾールとの
活性アミド；または活性エステル（たとえばシアノメチ
ルエステル、メトキシメチルエステル、ジメチルイミ エステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、２，４−ジニ
トロフェニルエステル、トリクロロフェニルエステル、
ペンタクロロフェニルエステル、メシルフェニルエステ
ル、フェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエス
テル、ｐ−ニトロフェニルチオエステル、ｐ−クレシル
チオエステル、カルボキシメチルチオエステル、ピラニ
ルエステル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、
８−キノリルチオエスエルなど）、またはＮ−ヒドロキ
シ化合物（たとえばＮ，Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミ
ン、１−ヒドロキシ−２−（１Ｈ）−ピリドン、Ｎ−ヒ
ドロキシスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミ
ド、１−ヒドロキシ−１Ｈ−ベンゾトリアゾールなど）
とのエステルなどを挙げることができる。これらの反応
性誘導体は、使用する化合物（ＩＩＩ）の種類に応じて
適宜選択することができる。化合物（ＩＩＩ）およびそ
の反応性誘導体の好適な塩としては、塩基との塩、たと
えばアルカリ金属塩（たとえばナトリウム塩、カリウム
塩など）、アルカリ土類金属塩（たとえばカルシウム
塩、マグネシウム塩など）、アンモニウム塩；有機塩基
との塩（たとえばトリメチルアミン塩、トリエチルアミ
ン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミ
ン塩、Ｎ，Ｎ′−ジベンジルエチレンジアミン塩など）
などならびに化合物（Ｉ）で示した酸付加塩を挙げるこ
とができる。反応は、通常、水、アルコール（たとえば
メタノール、エタノールなど）、アセトン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩
化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、ピリジン、その他反応に悪影
響を及ぼさない有機溶媒などの慣用の溶媒中で行われ
る。これらの慣用の溶媒は、水との混合物として使用す
ることもできる。この反応において、化合物（ＩＩＩ）
が遊離酸の形またはその塩の形で用いられる場合は、反
応は慣用の縮合剤、たとえばＮ，Ｎ′−ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−モルホ
リノエチルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′
−（４−ジエチルアミノシクロヘキシル）カルボジイミ
ド；Ｎ，Ｎ′−ジエチルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ′−ジ
イソプロピルカルボジイミド；Ｎ−エチル−Ｎ′−（３
−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド；Ｎ，Ｎ′
−カルボニルビス−（２−メチルイミダゾール）；ペン
タメチレンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；ジフェ
ニルケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；エトキシアセ
チレン；１−アルコキシ−１−クロロエチレン；トリア
ルキルホスファイト；ポリ燐酸エチル；ポリ燐酸イソプ
ロピル；オキシ塩化燐（塩化ホスホリル）；三塩化燐；
ジフェニルホスホリルアジド；塩化チオニル；塩化オキ
サリル；ハロ蟻酸低級アルキル（たとえばクロロ蟻酸エ
チル、クロロ蟻酸イソプロピルなど）；トリフェニルホ
スフィン；２−エチル−７−ヒドロキシベンズイソオキ
サゾリウム塩；水酸化２−エチル−５−（ｍ−スルホフ
ェニル）イソオキサゾリウム分子内塩；ベンゾトリアゾ
ール−１−イル−オキシ−トリス（ジメチルアミノ）ホ
スホニウムヘキサフルオロホスフェイト；１−（ｐ−ク
ロロベンゼンスルホニルオキシ）−６−クロロ−１Ｈ−
ベンゾトリアゾール；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと
塩化チオニル、ホスゲン、クロロ蟻酸トリクロロメチ
ル、オキシ塩化燐などと反応させて調製されるいわゆる
ビルスマイヤー試薬などの存在下で行うことが好まし
い。反応は、また、無機または有機塩基、たとえばアル
カリ金属重炭酸塩、トリ（低級）アルキルアミン、ピリ
ジン、Ｎ−（低級）アルキルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジ
（低級）アルキルベンジルアミンなどの存在下で行うこ
ともできる。反応温度は特に限定されず、通常、冷却な
いし加温下で反応は行われる。
明する。 プロセス１ 目的化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（ＩＩ）また
はそのアミノ基における反応性誘導体またはその塩を化
合物（ＩＩＩ）またはそのカルボキシ基における反応性
誘導体またはその塩と反応させることによって製造する
ことができる。化合物（ＩＩ）のアミノ基における反応
性誘導体の好適な例としては、化合物（ＩＩ）とアルデ
ヒドやケトンなどのカルボニル化合物との反応によって
得られるシッフ塩基型のイミノ化合物またはその互変異
性エナミン型の異性体、化合物（ＩＩ）とビス（トリメ
チルシリル）アセトアミド、モノ（トリメチルシリル）
アセトアミド、ビス（トリメチルシリル）尿素などのシ
リル化合物との反応によって得られるシリル誘導体、化
合物（ＩＩ）と三塩化燐やホスゲンとの反応によって得
られる誘導体、その他を挙げることができる。化合物
（ＩＩ）およびその反応性誘導体の好適な塩としては、
化合物（Ｉ）で示したのと同じものを挙げることができ
る。化合物（ＩＩＩ）のカルボキシ基における反応性誘
導体の好適な例としては、酸ハライド、酸無水物、活性
アミド、活性エステルなどを挙げることができる。これ
ら反応性誘導体の好適な例としては、酸塩化物、酸アジ
ド；置換燐酸（たとえばジアルキル燐酸、フェニル燐
酸、ジフェニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸
など）、ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、
スルホン酸（たとえばメタンスルホン酸など）、脂肪族
カルボン酸（たとえば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ
酪酸、ピバル酸、吉草酸、イソ吉草酸、２−エチル酪
酸、トリクロロ酢酸など）または芳香族カルボン酸（た
とえば安息香酸など）などの酸との混合酸無水物；対称
酸無水物；イミダゾール、４−置換イミダゾール、ジメ
チルピラゾール、トリアゾールまたはテトラゾールとの
活性アミド；または活性エステル（たとえばシアノメチ
ルエステル、メトキシメチルエステル、ジメチルイミ エステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、２，４−ジニ
トロフェニルエステル、トリクロロフェニルエステル、
ペンタクロロフェニルエステル、メシルフェニルエステ
ル、フェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエス
テル、ｐ−ニトロフェニルチオエステル、ｐ−クレシル
チオエステル、カルボキシメチルチオエステル、ピラニ
ルエステル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、
８−キノリルチオエスエルなど）、またはＮ−ヒドロキ
シ化合物（たとえばＮ，Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミ
ン、１−ヒドロキシ−２−（１Ｈ）−ピリドン、Ｎ−ヒ
ドロキシスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミ
ド、１−ヒドロキシ−１Ｈ−ベンゾトリアゾールなど）
とのエステルなどを挙げることができる。これらの反応
性誘導体は、使用する化合物（ＩＩＩ）の種類に応じて
適宜選択することができる。化合物（ＩＩＩ）およびそ
の反応性誘導体の好適な塩としては、塩基との塩、たと
えばアルカリ金属塩（たとえばナトリウム塩、カリウム
塩など）、アルカリ土類金属塩（たとえばカルシウム
塩、マグネシウム塩など）、アンモニウム塩；有機塩基
との塩（たとえばトリメチルアミン塩、トリエチルアミ
ン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミ
ン塩、Ｎ，Ｎ′−ジベンジルエチレンジアミン塩など）
などならびに化合物（Ｉ）で示した酸付加塩を挙げるこ
とができる。反応は、通常、水、アルコール（たとえば
メタノール、エタノールなど）、アセトン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩
化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、ピリジン、その他反応に悪影
響を及ぼさない有機溶媒などの慣用の溶媒中で行われ
る。これらの慣用の溶媒は、水との混合物として使用す
ることもできる。この反応において、化合物（ＩＩＩ）
が遊離酸の形またはその塩の形で用いられる場合は、反
応は慣用の縮合剤、たとえばＮ，Ｎ′−ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−モルホ
リノエチルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′
−（４−ジエチルアミノシクロヘキシル）カルボジイミ
ド；Ｎ，Ｎ′−ジエチルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ′−ジ
イソプロピルカルボジイミド；Ｎ−エチル−Ｎ′−（３
−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド；Ｎ，Ｎ′
−カルボニルビス−（２−メチルイミダゾール）；ペン
タメチレンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；ジフェ
ニルケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；エトキシアセ
チレン；１−アルコキシ−１−クロロエチレン；トリア
ルキルホスファイト；ポリ燐酸エチル；ポリ燐酸イソプ
ロピル；オキシ塩化燐（塩化ホスホリル）；三塩化燐；
ジフェニルホスホリルアジド；塩化チオニル；塩化オキ
サリル；ハロ蟻酸低級アルキル（たとえばクロロ蟻酸エ
チル、クロロ蟻酸イソプロピルなど）；トリフェニルホ
スフィン；２−エチル−７−ヒドロキシベンズイソオキ
サゾリウム塩；水酸化２−エチル−５−（ｍ−スルホフ
ェニル）イソオキサゾリウム分子内塩；ベンゾトリアゾ
ール−１−イル−オキシ−トリス（ジメチルアミノ）ホ
スホニウムヘキサフルオロホスフェイト；１−（ｐ−ク
ロロベンゼンスルホニルオキシ）−６−クロロ−１Ｈ−
ベンゾトリアゾール；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと
塩化チオニル、ホスゲン、クロロ蟻酸トリクロロメチ
ル、オキシ塩化燐などと反応させて調製されるいわゆる
ビルスマイヤー試薬などの存在下で行うことが好まし
い。反応は、また、無機または有機塩基、たとえばアル
カリ金属重炭酸塩、トリ（低級）アルキルアミン、ピリ
ジン、Ｎ−（低級）アルキルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジ
（低級）アルキルベンジルアミンなどの存在下で行うこ
ともできる。反応温度は特に限定されず、通常、冷却な
いし加温下で反応は行われる。
【００２７】プロセス２ 目的化合物（Ｉ−ｂ）またはその塩は、化合物（Ｉ−
ａ）またはその塩を化合物（ＩＶ）と反応させることに
よって製造することができる。この反応は、通常、塩
基、たとえばアルキルリチウム（たとえばｎ−ブチルリ
チウムなど）、アルカリ金属水素化物（たとえば水素化
ナトリウム、水素化カリウムなど）、トリ（低級）アル
キルアミン（たとえばトリメチルアミン、トリエチルア
ミンなど）、ピリジンまたはその誘導体（たとえばピコ
リン、ルチジン、４−ジメチルアミノピリジンなど）な
どの存在下で行われる。この反応は、通常、ジオキサ
ン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジ
エチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ベンゼ
ン、テトラヒドロフラン、その他反応に悪影響を及ぼさ
ない溶媒などの慣用の溶媒中で行われる。使用する塩基
が液状の場合は、これを溶媒として用いることもでき
る。必要に応じ、相間移動触媒（たとえば塩化セチルト
リメチルアンモニウムなど）を用いてこの反応を行って
もよい。反応温度は特に限定されず、通常、冷却下、室
温または加熱下で反応は行われる。この反応は、Ａ上の
水酸基が反応中またはこのプロセスの後処理工程で反応
する場合もその範囲に含まれる。
ａ）またはその塩を化合物（ＩＶ）と反応させることに
よって製造することができる。この反応は、通常、塩
基、たとえばアルキルリチウム（たとえばｎ−ブチルリ
チウムなど）、アルカリ金属水素化物（たとえば水素化
ナトリウム、水素化カリウムなど）、トリ（低級）アル
キルアミン（たとえばトリメチルアミン、トリエチルア
ミンなど）、ピリジンまたはその誘導体（たとえばピコ
リン、ルチジン、４−ジメチルアミノピリジンなど）な
どの存在下で行われる。この反応は、通常、ジオキサ
ン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジ
エチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ベンゼ
ン、テトラヒドロフラン、その他反応に悪影響を及ぼさ
ない溶媒などの慣用の溶媒中で行われる。使用する塩基
が液状の場合は、これを溶媒として用いることもでき
る。必要に応じ、相間移動触媒（たとえば塩化セチルト
リメチルアンモニウムなど）を用いてこの反応を行って
もよい。反応温度は特に限定されず、通常、冷却下、室
温または加熱下で反応は行われる。この反応は、Ａ上の
水酸基が反応中またはこのプロセスの後処理工程で反応
する場合もその範囲に含まれる。
【００２８】プロセス３ 目的化合物（Ｉ−ｄ）またはその塩は、化合物（Ｉ−
ｃ）またはその塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付す
ことによって製造することができる。この脱離反応で
は、カルボキシ保護基の脱離反応に用いられる全ての慣
用的方法、たとえば加水分解、還元、ルイス酸を用いて
の脱離などを適用できる。カルボキシ保護基がエステル
の場合、加水分解またはルイス酸を用いる脱離によって
脱離することができる。加水分解は、塩基または酸の存
在下で行うことが好ましい。好適な塩基としては、たと
えば、アルカリ金属水酸化物（たとえば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなど）、アルカリ土類金属水酸化物
（たとえば水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムな
ど）、アルカリ金属炭酸塩（たとえば炭酸ナトリウム、
炭酸カリウムなど）、アルカリ土類金属炭酸塩（たとえ
ば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなど）、アルカリ
金属重炭酸塩（たとえば重炭酸ナトリウム、重炭酸カリ
ウムなど）、アルカリ金属酢酸塩（たとえば酢酸ナトリ
ウム、酢酸カリウムなど）、アルカリ土類金属燐酸塩
（たとえば燐酸マグネシウム、燐酸カルシウムなど）、
アルカリ金属水素燐酸塩（たとえば燐酸水素二ナトリウ
ム、燐酸水素二カリウムなど）などの無機塩基、トリア
ルキルアミン（たとえばトリメチルアミン、トリエチル
アミンなど）、ピコリン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−
メチルモルホリン、１，５−ジアザビシクロ［４，３，
０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２，
２，２］オクタン、１，５−ジアザビシクロ［５，４，
０］ウンデセン−５などの有機塩基が挙げられる。塩基
を用いての加水分解は、水または親水性有機溶媒あるい
はそれらからなる混合溶媒中で行われることが多い。好
適な酸としては、有機酸（たとえば蟻酸、酢酸、プロピ
オン酸など）および無機酸（たとえば塩酸、臭化水素
酸、硫酸など）を挙げることができる。本加水分解は、
通常、有機溶媒、水またはこれらからなる混合溶媒中で
行う。反応温度は特に限定されず、カルボキシ保護基の
種類ならびに脱離方法に応じて適宜選択すればよい。ル
イス酸を用いる脱離は、化合物（Ｉ−ｃ）またはその塩
をルイス酸、たとえば三ハロゲン化硼素（たとえば三塩
化硼素、三弗化硼素など）、四ハロゲン化チタニウム
（たとえば四塩化チタニウム、四臭化チタニウムな
ど）、四ハロゲン化錫（たとえば四塩化錫、四臭化錫な
ど）、ハロゲン化アルミニウム（たとえば塩化アルミニ
ウム、臭化アルミニウムなど）、トリハロ酢酸（たとえ
ばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸など）などと反応
させることによって行われる。この脱離反応は、カチオ
ン捕捉剤（たとえばアニソール、フェノールなど）の存
在下で行うことが好ましく、また、通常、ニトロアルカ
ン（たとえばニトロメタン、ニトロエタンなど）、アル
キレンハライド（たとえば塩化メチレン、塩化エチレン
など）、ジエチルエーテル、二硫化炭素、その他反応に
悪影響を及ぼさない溶媒などの溶媒中で行われる。これ
らの溶媒はそれらの混合物として使用してもよい。還元
による脱離は、ハロ（低級）アルキル（たとえば２−ヨ
ードエチル、２，２，２−トリクロロエチルなど）エス
テル、アル（低級）アルキル（たとえばベンジルなど）
エステルなどの保護基の脱離に適用するのが好ましい。
本脱離反応に用いる還元方法としては、たとえば金属
（たとえば亜鉛、亜鉛アマルガムなど）またはクロム化
合物の塩（たとえば塩化第一クロム、酢酸第一クロムな
ど）と有機または無機酸（たとえば酢酸、プロピオン
酸、塩酸など）との組合せ；慣用の金属触媒（たとえば
パラジウム炭、ラネーニッケルなど）の存在下での慣用
の接触還元などを挙げることができる。反応温度は特に
限定されず、通常、冷却下、室温または加温下で反応は
行われる。本脱離反応は、Ａのアミノ、ヒドロキシおよ
び／またはカルボキシ保護基が反応中またはこのプロセ
スの後処理工程で脱離する場合もその範囲に含まれる。
ｃ）またはその塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付す
ことによって製造することができる。この脱離反応で
は、カルボキシ保護基の脱離反応に用いられる全ての慣
用的方法、たとえば加水分解、還元、ルイス酸を用いて
の脱離などを適用できる。カルボキシ保護基がエステル
の場合、加水分解またはルイス酸を用いる脱離によって
脱離することができる。加水分解は、塩基または酸の存
在下で行うことが好ましい。好適な塩基としては、たと
えば、アルカリ金属水酸化物（たとえば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなど）、アルカリ土類金属水酸化物
（たとえば水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムな
ど）、アルカリ金属炭酸塩（たとえば炭酸ナトリウム、
炭酸カリウムなど）、アルカリ土類金属炭酸塩（たとえ
ば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなど）、アルカリ
金属重炭酸塩（たとえば重炭酸ナトリウム、重炭酸カリ
ウムなど）、アルカリ金属酢酸塩（たとえば酢酸ナトリ
ウム、酢酸カリウムなど）、アルカリ土類金属燐酸塩
（たとえば燐酸マグネシウム、燐酸カルシウムなど）、
アルカリ金属水素燐酸塩（たとえば燐酸水素二ナトリウ
ム、燐酸水素二カリウムなど）などの無機塩基、トリア
ルキルアミン（たとえばトリメチルアミン、トリエチル
アミンなど）、ピコリン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−
メチルモルホリン、１，５−ジアザビシクロ［４，３，
０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２，
２，２］オクタン、１，５−ジアザビシクロ［５，４，
０］ウンデセン−５などの有機塩基が挙げられる。塩基
を用いての加水分解は、水または親水性有機溶媒あるい
はそれらからなる混合溶媒中で行われることが多い。好
適な酸としては、有機酸（たとえば蟻酸、酢酸、プロピ
オン酸など）および無機酸（たとえば塩酸、臭化水素
酸、硫酸など）を挙げることができる。本加水分解は、
通常、有機溶媒、水またはこれらからなる混合溶媒中で
行う。反応温度は特に限定されず、カルボキシ保護基の
種類ならびに脱離方法に応じて適宜選択すればよい。ル
イス酸を用いる脱離は、化合物（Ｉ−ｃ）またはその塩
をルイス酸、たとえば三ハロゲン化硼素（たとえば三塩
化硼素、三弗化硼素など）、四ハロゲン化チタニウム
（たとえば四塩化チタニウム、四臭化チタニウムな
ど）、四ハロゲン化錫（たとえば四塩化錫、四臭化錫な
ど）、ハロゲン化アルミニウム（たとえば塩化アルミニ
ウム、臭化アルミニウムなど）、トリハロ酢酸（たとえ
ばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸など）などと反応
させることによって行われる。この脱離反応は、カチオ
ン捕捉剤（たとえばアニソール、フェノールなど）の存
在下で行うことが好ましく、また、通常、ニトロアルカ
ン（たとえばニトロメタン、ニトロエタンなど）、アル
キレンハライド（たとえば塩化メチレン、塩化エチレン
など）、ジエチルエーテル、二硫化炭素、その他反応に
悪影響を及ぼさない溶媒などの溶媒中で行われる。これ
らの溶媒はそれらの混合物として使用してもよい。還元
による脱離は、ハロ（低級）アルキル（たとえば２−ヨ
ードエチル、２，２，２−トリクロロエチルなど）エス
テル、アル（低級）アルキル（たとえばベンジルなど）
エステルなどの保護基の脱離に適用するのが好ましい。
本脱離反応に用いる還元方法としては、たとえば金属
（たとえば亜鉛、亜鉛アマルガムなど）またはクロム化
合物の塩（たとえば塩化第一クロム、酢酸第一クロムな
ど）と有機または無機酸（たとえば酢酸、プロピオン
酸、塩酸など）との組合せ；慣用の金属触媒（たとえば
パラジウム炭、ラネーニッケルなど）の存在下での慣用
の接触還元などを挙げることができる。反応温度は特に
限定されず、通常、冷却下、室温または加温下で反応は
行われる。本脱離反応は、Ａのアミノ、ヒドロキシおよ
び／またはカルボキシ保護基が反応中またはこのプロセ
スの後処理工程で脱離する場合もその範囲に含まれる。
【００２９】プロセス４ 目的化合物（Ｉ−ｅ）またはその塩は、化合物（Ｉ−
ｄ）またはそのカルボキシ基における反応性誘導体また
はその塩をアミド化することによって製造することがで
きる。このアミド化に用いられるアミド化剤としては、
適当な置換基、たとえば低級アルキル（たとえばメチ
ル、エチルなど）、アミノ（低級）アルキル（たとえば
アミノメチル、アミノエチルなど）、低級アルキルアミ
ノ（低級）アルキル（たとえばジメチルアミノメチル、
ジメチルアミノエチルなど）を有していてもよいアミン
などを挙げることができる。化合物（Ｉ−ｄ）のカルボ
キシ基における反応性誘導体の好適な例としては、プロ
セス１において化合物（ＩＩＩ）で示したのと同じもの
を挙げることができる。この反応は、プロセス１と実質
的に同様にして行われるので、この反応の反応様式およ
び反応条件（たとえば反応性誘導体、溶媒、反応温度な
ど）はプロセス１で説明したのと同じものを挙げること
ができる。
ｄ）またはそのカルボキシ基における反応性誘導体また
はその塩をアミド化することによって製造することがで
きる。このアミド化に用いられるアミド化剤としては、
適当な置換基、たとえば低級アルキル（たとえばメチ
ル、エチルなど）、アミノ（低級）アルキル（たとえば
アミノメチル、アミノエチルなど）、低級アルキルアミ
ノ（低級）アルキル（たとえばジメチルアミノメチル、
ジメチルアミノエチルなど）を有していてもよいアミン
などを挙げることができる。化合物（Ｉ−ｄ）のカルボ
キシ基における反応性誘導体の好適な例としては、プロ
セス１において化合物（ＩＩＩ）で示したのと同じもの
を挙げることができる。この反応は、プロセス１と実質
的に同様にして行われるので、この反応の反応様式およ
び反応条件（たとえば反応性誘導体、溶媒、反応温度な
ど）はプロセス１で説明したのと同じものを挙げること
ができる。
【００３０】プロセス５ 目的化合物（Ｉ−ｇ）またはその塩は、化合物（Ｉ−
ｆ）またはその塩を酸化させることによって製造するこ
とができる。本反応で用いられる酸化剤としては、無機
の過酸またはその塩（たとえば過ヨウ素酸、過硫酸、ま
たはそれらのナトリウムまたはカリウム塩など）、有機
の過酸またはその塩（たとえば過安息香酸、ｍ−クロロ
過安息香酸、過蟻酸、過酢酸、クロロ過酢酸、トリフル
オロ過酢酸、またはそれらのナトリウムまたはカリウム
塩など）、オゾン、過酸化水素、尿素一過酸化水素、Ｎ
−ハロスクシンイミド（たとえばＮ−ブロモスクシンイ
ミド、Ｎ−クロロスクシンイミドなど）、過塩素酸化合
物（たとえば過塩素酸ｔｅｒｔ−ブチルなど）、過マン
ガン酸塩（たとえば過マンガン酸カリウムなど）、その
他スルフィニル基をスルホニル基に酸化できる慣用の酸
化剤などを挙げることができる。本反応は、また、元素
周期表のＶｂ族またはＶＩｂ族の金属からなる化合物、
たとえばタングステン酸、モリブデン酸、バナジン酸な
ど、あるいはそれらのアルカリ金属塩またはアルカリ土
類金属塩の存在下で行うことができる。この酸化反応
は、通常、水、酢酸、クロロホルム、塩化メチレン、ア
セトン、メタノール、エタノール、それらの混合物など
反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中で行われる。反
応温度は特に限定されず、冷却下ないし室温下で反応を
行うのが好ましい。
ｆ）またはその塩を酸化させることによって製造するこ
とができる。本反応で用いられる酸化剤としては、無機
の過酸またはその塩（たとえば過ヨウ素酸、過硫酸、ま
たはそれらのナトリウムまたはカリウム塩など）、有機
の過酸またはその塩（たとえば過安息香酸、ｍ−クロロ
過安息香酸、過蟻酸、過酢酸、クロロ過酢酸、トリフル
オロ過酢酸、またはそれらのナトリウムまたはカリウム
塩など）、オゾン、過酸化水素、尿素一過酸化水素、Ｎ
−ハロスクシンイミド（たとえばＮ−ブロモスクシンイ
ミド、Ｎ−クロロスクシンイミドなど）、過塩素酸化合
物（たとえば過塩素酸ｔｅｒｔ−ブチルなど）、過マン
ガン酸塩（たとえば過マンガン酸カリウムなど）、その
他スルフィニル基をスルホニル基に酸化できる慣用の酸
化剤などを挙げることができる。本反応は、また、元素
周期表のＶｂ族またはＶＩｂ族の金属からなる化合物、
たとえばタングステン酸、モリブデン酸、バナジン酸な
ど、あるいはそれらのアルカリ金属塩またはアルカリ土
類金属塩の存在下で行うことができる。この酸化反応
は、通常、水、酢酸、クロロホルム、塩化メチレン、ア
セトン、メタノール、エタノール、それらの混合物など
反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中で行われる。反
応温度は特に限定されず、冷却下ないし室温下で反応を
行うのが好ましい。
【００３１】プロセス６ 目的化合物（Ｉ−ｉ）またはその塩は、化合物（Ｉ−
ｈ）またはそのアミノ、ヒドロキシおよび／またはカル
ボキシ基における反応性誘導体またはその塩をアミノ、
ヒドロキシおよび／またはカルボキシ保護基の導入反応
に付すことによって製造することができる。本反応はプ
ロセス１と実質的に同様に行われるので、この反応様式
および反応条件（たとえば溶媒、反応温度など）はプロ
セス１で説明したのと同じものを挙げることができる。
本反応は、Ｒ１上のアミノ基が反応中またはこのプロセ
スの後処理工程で反応する場合もその範囲に含まれる。
ｈ）またはそのアミノ、ヒドロキシおよび／またはカル
ボキシ基における反応性誘導体またはその塩をアミノ、
ヒドロキシおよび／またはカルボキシ保護基の導入反応
に付すことによって製造することができる。本反応はプ
ロセス１と実質的に同様に行われるので、この反応様式
および反応条件（たとえば溶媒、反応温度など）はプロ
セス１で説明したのと同じものを挙げることができる。
本反応は、Ｒ１上のアミノ基が反応中またはこのプロセ
スの後処理工程で反応する場合もその範囲に含まれる。
【００３２】プロセス７−（ｉ） 化合物（ＶＩ）またはその塩は、化合物（Ｉ−ｊ）また
はその塩を化合物（Ｖ）と反応させることによって製造
することができる。本反応は、通常、ジメチルスルホキ
シド、その他反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中で
行われる。反応温度は特に限定されず、通常、加温ない
し加熱下で反応は行われる。 プロセス７−（ｉｉ） 目的化合物（Ｉ−ｋ）またはその塩は、化合物（ＶＩ）
またはその塩を水素化することによって製造することが
できる。この反応は、通常、トリフェニルホスフィン、
パラジウム炭などの存在下で行われる。反応は、通常、
アルコール（たとえばメタノール、エタノールなど）、
その他反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中で行われ
る。反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加熱
下で反応は行われる。
はその塩を化合物（Ｖ）と反応させることによって製造
することができる。本反応は、通常、ジメチルスルホキ
シド、その他反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中で
行われる。反応温度は特に限定されず、通常、加温ない
し加熱下で反応は行われる。 プロセス７−（ｉｉ） 目的化合物（Ｉ−ｋ）またはその塩は、化合物（ＶＩ）
またはその塩を水素化することによって製造することが
できる。この反応は、通常、トリフェニルホスフィン、
パラジウム炭などの存在下で行われる。反応は、通常、
アルコール（たとえばメタノール、エタノールなど）、
その他反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中で行われ
る。反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加熱
下で反応は行われる。
【００３３】プロセス８ 目的化合物（Ｉ−ｈ）またはその塩は、化合物（Ｉ−
ｉ）またはその塩をアミノ、ヒドロキシおよび／または
カルボキシ保護基の脱離反応に付すことによって製造す
ることができる。この反応は、プロセス３と実質的に同
様にして行われるので、この反応の反応様式および反応
条件（たとえば塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温
度など）はプロセス３で説明したのと同じものを挙げる
ことができる。本脱離反応は、Ｒ１のカルボキシ保護基
が反応中またはこのプロセスの後処理工程で脱離する場
合もその範囲に含まれる。
ｉ）またはその塩をアミノ、ヒドロキシおよび／または
カルボキシ保護基の脱離反応に付すことによって製造す
ることができる。この反応は、プロセス３と実質的に同
様にして行われるので、この反応の反応様式および反応
条件（たとえば塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温
度など）はプロセス３で説明したのと同じものを挙げる
ことができる。本脱離反応は、Ｒ１のカルボキシ保護基
が反応中またはこのプロセスの後処理工程で脱離する場
合もその範囲に含まれる。
【００３４】プロセス９ 目的化合物（Ｉ−ｌ）またはその塩は、化合物（Ｉ−
ｋ）またはその塩を化合物（ＶＩ）と反応させることに
よって製造することができる。この反応は、通常、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、その他反応に悪影響を及ぼ
さない溶媒などの慣用の溶媒中で行われる。反応温度は
特に限定されず、通常、冷却ないし加熱下で反応は行わ
れる。
ｋ）またはその塩を化合物（ＶＩ）と反応させることに
よって製造することができる。この反応は、通常、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、その他反応に悪影響を及ぼ
さない溶媒などの慣用の溶媒中で行われる。反応温度は
特に限定されず、通常、冷却ないし加熱下で反応は行わ
れる。
【００３５】プロセス１０ 目的化合物（Ｉ−ａ）またはその塩は、化合物（Ｉ−
ｍ）またはその塩をアミノ保護基の脱離反応に付すこと
によって製造することができる。本反応は、プロセス３
と実質的に同様にして行われるので、本反応の反応様式
および反応条件（たとえば塩基、酸、還元剤、触媒、溶
媒、反応温度など）はプロセス３で説明したのと同じも
のを挙げることができる。
ｍ）またはその塩をアミノ保護基の脱離反応に付すこと
によって製造することができる。本反応は、プロセス３
と実質的に同様にして行われるので、本反応の反応様式
および反応条件（たとえば塩基、酸、還元剤、触媒、溶
媒、反応温度など）はプロセス３で説明したのと同じも
のを挙げることができる。
【００３６】プロセス１１ 目的化合物（Ｉ−ｏ）またはその塩は、化合物（Ｉ−
ｎ）またはその塩をヒドロキシ保護基の脱離反応に付す
ことによって製造することができる。この反応は、プロ
セス３と実質的に同様にして行うことができるので、こ
の反応の反応様式および反応条件（たとえば塩基、酸、
還元剤、触媒、溶媒、反応温度など）はプロセス３で説
明したのと同じものを挙げることができる。
ｎ）またはその塩をヒドロキシ保護基の脱離反応に付す
ことによって製造することができる。この反応は、プロ
セス３と実質的に同様にして行うことができるので、こ
の反応の反応様式および反応条件（たとえば塩基、酸、
還元剤、触媒、溶媒、反応温度など）はプロセス３で説
明したのと同じものを挙げることができる。
【００３７】プロセス１２ 目的化合物（Ｉ−ｑ）またはその塩は、化合物（Ｉ−
ｐ）またはその塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付す
ことによって製造することができる。本反応は、プロセ
ス３と実質的に同様にして行われるので、本反応の反応
様式および反応条件（たとえば塩基、酸、還元剤、触
媒、溶媒、反応温度など）はプロセス３で説明したのと
同じものを挙げることができる。
ｐ）またはその塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付す
ことによって製造することができる。本反応は、プロセ
ス３と実質的に同様にして行われるので、本反応の反応
様式および反応条件（たとえば塩基、酸、還元剤、触
媒、溶媒、反応温度など）はプロセス３で説明したのと
同じものを挙げることができる。
【００３８】プロセス１３ 目的化合物（Ｉ−ｓ）またはその塩は、化合物（Ｉ−
ｒ）またはその塩を還元に付すことによって製造するこ
とができる。本反応は、プロセス３と実質的に同様にし
て行うことができるので、本反応の反応様式および反応
条件（たとえば塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温
度など）はプロセス３で説明したのと同じものを挙げる
ことができる。上記製造法で得られた化合物は、常法に
より、たとえば粉末化、再結晶、カラムクロマトグラフ
ィー、再析出などにより、単離、精製できる。
ｒ）またはその塩を還元に付すことによって製造するこ
とができる。本反応は、プロセス３と実質的に同様にし
て行うことができるので、本反応の反応様式および反応
条件（たとえば塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温
度など）はプロセス３で説明したのと同じものを挙げる
ことができる。上記製造法で得られた化合物は、常法に
より、たとえば粉末化、再結晶、カラムクロマトグラフ
ィー、再析出などにより、単離、精製できる。
【００３９】尚、化合物（Ｉ）およびその他の化合物
は、不斉炭素による立体異性体を１個またはそれ以上含
有することがあるが、これらの異性体およびそれらの混
合物もすべてこの発明の範囲に含まれる。目的化合物
（Ｉ）およびその塩は、タキキニン拮抗作用、特にサブ
スタンスＰ拮抗作用、ニューロキニンＡ拮抗作用、ニュ
ーロキニンＢ拮抗作用などの薬理活性を有するので、タ
キキニン介在性疾患、例えば、喘息、気管支炎、鼻炎、
咳、喀痰などの呼吸器疾患；結膜炎、春季カタルなどの
眼疾患；接触性皮膚炎、アトピー性皮膚炎、じんま疹、
その他の湿疹様皮膚炎などの皮膚疾患；慢性関節リウマ
チ、変形性関節症などの炎症性疾患；疼痛（例えば、片
頭痛、頭痛、歯痛、癌性疼痛、背痛等）などの治療また
は予防に有用である。さらに、この発明の目的化合物
（Ｉ）は、緑内障、ぶどう膜炎などの眼疾患；潰瘍、潰
瘍性大腸炎、過敏性腸症候群、食物性アレルギーなどの
消化器疾患；腎炎などの炎症性疾患；高血圧、狭心症、
心不全、血栓症などの循環器疾患；てんかん；けいれん
性麻痺；頻尿；痴呆；アルツハイマー疾患；精神分裂
症；ハンチントン舞踏病；カルチノイド症候群などの治
療または予防に有用であり、免疫抑制剤としても有用で
あることが期待される。治療目的に投与する場合、この
発明の化合物（Ｉ）およびその塩の一つを有効成分とし
て、これを、医薬として許容される担体、例えば経口、
非経口または外用に適した有機または無機の固形ないし
液状賦形剤などと配合した医薬組成物の形として使用さ
れる。これらの医薬組成物は、カプセル剤、錠剤、糖衣
錠剤、顆粒剤、液剤、懸濁化液、乳剤などの形をとるこ
とができる。必要な場合、これらの製剤に助剤、安定
剤、湿潤剤または乳化剤、緩衝剤、その他慣用の添加剤
を加えることができる。化合物（Ｉ）の投与量は、患者
の年令および条件に応じて増減するが、化合物（Ｉ）の
平均一回量約０．１ｍｇ、１ｍｇ、１０ｍｇ、５０ｍ
ｇ、１００ｍｇ、２５０ｍｇ、５００ｍｇおよび１，０
００ｍｇが喘息などの治療に有効である。一般には、一
日当り０．１ｍｇ／ヒト−約１，０００ｍｇ／ヒトの間
の量を投与することができる。
は、不斉炭素による立体異性体を１個またはそれ以上含
有することがあるが、これらの異性体およびそれらの混
合物もすべてこの発明の範囲に含まれる。目的化合物
（Ｉ）およびその塩は、タキキニン拮抗作用、特にサブ
スタンスＰ拮抗作用、ニューロキニンＡ拮抗作用、ニュ
ーロキニンＢ拮抗作用などの薬理活性を有するので、タ
キキニン介在性疾患、例えば、喘息、気管支炎、鼻炎、
咳、喀痰などの呼吸器疾患；結膜炎、春季カタルなどの
眼疾患；接触性皮膚炎、アトピー性皮膚炎、じんま疹、
その他の湿疹様皮膚炎などの皮膚疾患；慢性関節リウマ
チ、変形性関節症などの炎症性疾患；疼痛（例えば、片
頭痛、頭痛、歯痛、癌性疼痛、背痛等）などの治療また
は予防に有用である。さらに、この発明の目的化合物
（Ｉ）は、緑内障、ぶどう膜炎などの眼疾患；潰瘍、潰
瘍性大腸炎、過敏性腸症候群、食物性アレルギーなどの
消化器疾患；腎炎などの炎症性疾患；高血圧、狭心症、
心不全、血栓症などの循環器疾患；てんかん；けいれん
性麻痺；頻尿；痴呆；アルツハイマー疾患；精神分裂
症；ハンチントン舞踏病；カルチノイド症候群などの治
療または予防に有用であり、免疫抑制剤としても有用で
あることが期待される。治療目的に投与する場合、この
発明の化合物（Ｉ）およびその塩の一つを有効成分とし
て、これを、医薬として許容される担体、例えば経口、
非経口または外用に適した有機または無機の固形ないし
液状賦形剤などと配合した医薬組成物の形として使用さ
れる。これらの医薬組成物は、カプセル剤、錠剤、糖衣
錠剤、顆粒剤、液剤、懸濁化液、乳剤などの形をとるこ
とができる。必要な場合、これらの製剤に助剤、安定
剤、湿潤剤または乳化剤、緩衝剤、その他慣用の添加剤
を加えることができる。化合物（Ｉ）の投与量は、患者
の年令および条件に応じて増減するが、化合物（Ｉ）の
平均一回量約０．１ｍｇ、１ｍｇ、１０ｍｇ、５０ｍ
ｇ、１００ｍｇ、２５０ｍｇ、５００ｍｇおよび１，０
００ｍｇが喘息などの治療に有効である。一般には、一
日当り０．１ｍｇ／ヒト−約１，０００ｍｇ／ヒトの間
の量を投与することができる。
【００４０】目的化合物（Ｉ）の有用性を示すため、化
合物（Ｉ）のいくつかの代表的な化合物の薬理試験デー
タを以下に示す。 試験化合物： （１）３Ｈ−サブスタンスＰ受容体結合 試験方法： （ａ）粗肺膜標本 雄性ハートレー系モルモットを断頭により屠殺した。気
管と肺を摘出し、ポリトロン（キネマチカ）を用いて緩
衝液（０．２５Ｍショ糖、５０ｍＭ トリス−ＨＣｌ
ｐＨ７．５、０．１ｍＭ ＥＤＴＡ）中でホモジナイズ
した。ホモジネートを遠心し（１０００×ｇ、１０分
間）、組織片を除去し、上清を遠心分離（１４，０００
×ｇ、２０分間）してペレットを得た。この小片を緩衝
液（５ｍＭトリス−ＨＣｌ ｐＨ７．５）に再懸濁し、
テフロンホモジナイザーでホモジナイズし、遠心分離
（１４，０００×ｇ、２０分間）して粗膜分画と呼ぶペ
レットを得た。得られたペレットは使用前まで−７０℃
で保存した。 （ｂ）膜標本への３Ｈ−サブスタンスＰ結合 凍結粗膜分画を溶解し、培地１（５０ｍＭ トリス−Ｈ
Ｃｌ、ｐＨ７．５、５ｍＭ ＭｎＣｌ２、０．０２％Ｂ
ＳＡ、２μｇ／ｍｌキモスタチン、４μｇ／ｍｌロイペ
プチン、４０μｇ／ｍｌバシトラシン）に再懸濁した。
３Ｈ−サブスタンスＰ（１ｎＭ）を最終容量５００μｌ
として培地１中で４℃で３０分間、１００μｌの膜標本
とインキュベートした。インキュベーション期間終了時
に反応混合物を吸引しながらワットマンＧＦ／Ｂガラス
フィルター（使用前に３時間０．１％ポリエチレンイミ
ンで前処理）ですばやく濾過した。その後、フィルター
を５ｍｌの緩衝液（５０ｍＭ トリス−ＨＣｌ、ｐＨ
７．５）で４回洗浄した。放射能を５ｍｌのアクアゾル
−２中でパカードシンチレーションカウンター（Ｐａｃ
ｋｅｒｄ ＴＲＩ−ＣＡＲＢ ４５３０）で計測した。 試験結果：
合物（Ｉ）のいくつかの代表的な化合物の薬理試験デー
タを以下に示す。 試験化合物： （１）３Ｈ−サブスタンスＰ受容体結合 試験方法： （ａ）粗肺膜標本 雄性ハートレー系モルモットを断頭により屠殺した。気
管と肺を摘出し、ポリトロン（キネマチカ）を用いて緩
衝液（０．２５Ｍショ糖、５０ｍＭ トリス−ＨＣｌ
ｐＨ７．５、０．１ｍＭ ＥＤＴＡ）中でホモジナイズ
した。ホモジネートを遠心し（１０００×ｇ、１０分
間）、組織片を除去し、上清を遠心分離（１４，０００
×ｇ、２０分間）してペレットを得た。この小片を緩衝
液（５ｍＭトリス−ＨＣｌ ｐＨ７．５）に再懸濁し、
テフロンホモジナイザーでホモジナイズし、遠心分離
（１４，０００×ｇ、２０分間）して粗膜分画と呼ぶペ
レットを得た。得られたペレットは使用前まで−７０℃
で保存した。 （ｂ）膜標本への３Ｈ−サブスタンスＰ結合 凍結粗膜分画を溶解し、培地１（５０ｍＭ トリス−Ｈ
Ｃｌ、ｐＨ７．５、５ｍＭ ＭｎＣｌ２、０．０２％Ｂ
ＳＡ、２μｇ／ｍｌキモスタチン、４μｇ／ｍｌロイペ
プチン、４０μｇ／ｍｌバシトラシン）に再懸濁した。
３Ｈ−サブスタンスＰ（１ｎＭ）を最終容量５００μｌ
として培地１中で４℃で３０分間、１００μｌの膜標本
とインキュベートした。インキュベーション期間終了時
に反応混合物を吸引しながらワットマンＧＦ／Ｂガラス
フィルター（使用前に３時間０．１％ポリエチレンイミ
ンで前処理）ですばやく濾過した。その後、フィルター
を５ｍｌの緩衝液（５０ｍＭ トリス−ＨＣｌ、ｐＨ
７．５）で４回洗浄した。放射能を５ｍｌのアクアゾル
−２中でパカードシンチレーションカウンター（Ｐａｃ
ｋｅｒｄ ＴＲＩ−ＣＡＲＢ ４５３０）で計測した。 試験結果：
【００４１】以下の実施例は本発明を更に詳細に説明す
るものである。これらの実施例では、ＩＵＰＡＣ−ＩＵ
Ｂの採択した略語に加えてさらに以下の略語を用いた。 ＡＣ：アセチル Ａｉｂ：２−アミノイソ酪酸 Ａｚｔ：アゼチジン−２−カルボン酸 Ｂｏｃ：ｔ−ブトキシカルボニル ＢＳＡ：ビストリメチルシリルアセトアミド Ｂｕｔ：ｔ−ブチル Ｂｚ：ベンゾイル Ｂｚｌ：ベンジル Ｂｚｌ（ｏ−Ｆ）：ｏ−フルオロベンジル Ｂｚｌ（ｍ−Ｆ）：ｍ−フルオロベンジル Ｂｚｌ（ｏ−ＣＦ３）：ｏ−トリフルオロメチルベンジ
ル ＤＭＡＰ：ジメチルアミノピリジン ＤＭＦ：ジメチルホルムアミド ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド Ｅｔ：エチル ＨＯＢＴ：Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール ＩＰＥ：イソプロピルエーテル Ｍｅ：メチル Ｍｓ：メシル ＮＭＭ：Ｎ−メチルモルホリン ＨＣｌ／ＤＯＸ：塩化水素の１，４−ジオキサン溶液 Ｐｒｉ：イソプロピル Ｐｙ（２）：２−ピリジル Ｓｕ：スクシンイミド ＴＥＡ：トリエチルアミン ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸 ＴＨＦ：テトラヒドロフラン Ｔｐｒ：チオプロリン Ｔｓ：トシル ＷＳＣ：１−エチル−３−（３′−ジメチルアミノプロ
ピル）カルボジイミド Ｚ：ベンジルオキシカルボニル
るものである。これらの実施例では、ＩＵＰＡＣ−ＩＵ
Ｂの採択した略語に加えてさらに以下の略語を用いた。 ＡＣ：アセチル Ａｉｂ：２−アミノイソ酪酸 Ａｚｔ：アゼチジン−２−カルボン酸 Ｂｏｃ：ｔ−ブトキシカルボニル ＢＳＡ：ビストリメチルシリルアセトアミド Ｂｕｔ：ｔ−ブチル Ｂｚ：ベンゾイル Ｂｚｌ：ベンジル Ｂｚｌ（ｏ−Ｆ）：ｏ−フルオロベンジル Ｂｚｌ（ｍ−Ｆ）：ｍ−フルオロベンジル Ｂｚｌ（ｏ−ＣＦ３）：ｏ−トリフルオロメチルベンジ
ル ＤＭＡＰ：ジメチルアミノピリジン ＤＭＦ：ジメチルホルムアミド ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド Ｅｔ：エチル ＨＯＢＴ：Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール ＩＰＥ：イソプロピルエーテル Ｍｅ：メチル Ｍｓ：メシル ＮＭＭ：Ｎ−メチルモルホリン ＨＣｌ／ＤＯＸ：塩化水素の１，４−ジオキサン溶液 Ｐｒｉ：イソプロピル Ｐｙ（２）：２−ピリジル Ｓｕ：スクシンイミド ＴＥＡ：トリエチルアミン ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸 ＴＨＦ：テトラヒドロフラン Ｔｐｒ：チオプロリン Ｔｓ：トシル ＷＳＣ：１−エチル−３−（３′−ジメチルアミノプロ
ピル）カルボジイミド Ｚ：ベンジルオキシカルボニル
【００４２】以下の実施例に使用される原料化学物及び
得られる目的化合物を以下の表に示す。表中上段の式は
前者を、下段の式は後者をそれぞれ示す。
得られる目的化合物を以下の表に示す。表中上段の式は
前者を、下段の式は後者をそれぞれ示す。
【００４３】製造例１ 水（３５ｍｌ）とアセトン（３５ｍｌ）の混合溶媒に原
料化合物（５．０ｇ）を懸濁し、これにＴＥＡ（４．４
７ｍｌ）を氷冷下に加える。この溶液に二炭酸ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチル（５．６ｇ）のアセトン（２０ｍｌ）溶液
を加え、溶液を同温で１時間、室温で更に１時間攪拌す
る。この間、二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（１．０ｇ）
を加える。アセトンを除去し、水を加え、水溶液をエー
テルで１回洗浄する。水層を６Ｎ塩酸を加えて酸性（ｐ
Ｈ２）とし、酢酸エチルで抽出する。抽出物を食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を蒸発さ
せ、残留物をジイソプロピルエーテルとｎ−ヘキサンの
混合溶媒から結晶化後、濾取し、乾燥して目的化合物
（６．５８ｇ）を得る。 ｍｐ：１１６℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３７０，１７１５，１６９０，
１６２０，１５２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．３０（９Ｈ，
ｓ），２．９０（１Ｈ）および３．１４（１Ｈ）（ＡＢ
Ｘ．ＪＡＢ＝１３．７Ｈｚ，ＪＡＣ＝４．４Ｈｚ，Ｊ
ＢＣ＝１０．７Ｈｚ），４．１７（１Ｈ，ｍ），７．１
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
料化合物（５．０ｇ）を懸濁し、これにＴＥＡ（４．４
７ｍｌ）を氷冷下に加える。この溶液に二炭酸ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチル（５．６ｇ）のアセトン（２０ｍｌ）溶液
を加え、溶液を同温で１時間、室温で更に１時間攪拌す
る。この間、二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（１．０ｇ）
を加える。アセトンを除去し、水を加え、水溶液をエー
テルで１回洗浄する。水層を６Ｎ塩酸を加えて酸性（ｐ
Ｈ２）とし、酢酸エチルで抽出する。抽出物を食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を蒸発さ
せ、残留物をジイソプロピルエーテルとｎ−ヘキサンの
混合溶媒から結晶化後、濾取し、乾燥して目的化合物
（６．５８ｇ）を得る。 ｍｐ：１１６℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３７０，１７１５，１６９０，
１６２０，１５２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．３０（９Ｈ，
ｓ），２．９０（１Ｈ）および３．１４（１Ｈ）（ＡＢ
Ｘ．ＪＡＢ＝１３．７Ｈｚ，ＪＡＣ＝４．４Ｈｚ，Ｊ
ＢＣ＝１０．７Ｈｚ），４．１７（１Ｈ，ｍ），７．１
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【００４４】製造例２ 製造例１と同様にして目的化合物を得る。 （１） ＩＲ（ニート）：３３２０，２９８０，１７１
５，１５１０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，
δ）：１．２６（ｓ）および１．３１（ｓ）（９Ｈ），
２．７−２．９（１Ｈ，ｍ），２．９−３．１（１Ｈ，
ｍ），３．９−４．２（１Ｈ，ｍ），７．０−７．２
（３Ｈ，ｍ），７．２−７．４（２Ｈ，ｍ），１２．６
３（１Ｈ，ｂｒ．） （２） ＩＲ（ヌジョール）：３３８０，１７２０，１
６８５，１５２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２４（ｓ）およ
び１．３０（ｓ）（９Ｈ），２．７−２．９（１Ｈ，
ｍ），３．０−３．２（１Ｈ，ｍ），４．０−４．２
（１Ｈ，ｍ），７．０−７．４（５Ｈ，ｍ），１２．６
７（１Ｈ，ｂｒ．） （３） ｍｐ：７３−７４℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３７０，１７１５，１６９０，
１６２０，１５８０，１５２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．３２（９Ｈ，
ｓ），２．９２（１Ｈ，ＡＢｑのｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ，１
０Ｈｚ），３．０６（１Ｈ，ＡＢｑのｄ，Ｊ＝１４Ｈ
ｚ，５Ｈｚ），４．０−４．２（１Ｈ，ｍ），７．０−
７．２（４Ｈ，ｍ），７．３−７．４（１Ｈ，ｍ），１
２．５１（１Ｈ，ｂｒ．ｓ） （４） ＩＲ（ヌジョール）：３３８０，２６６０，２
６２０，１７６０，１６４０，１６３０，１４０５ｃｍ
−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２２（ｓ）およ
び１．２９（ｓ）（９Ｈ），２．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝１１Ｈｚ，１４Ｈｚ），３．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
４Ｈｚ，１４Ｈｚ），４．１６（１Ｈ，ｍ），７．１９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．４−７．７（４Ｈ，
ｍ），１２．７２（１Ｈ，ｂｒ．）
５，１５１０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，
δ）：１．２６（ｓ）および１．３１（ｓ）（９Ｈ），
２．７−２．９（１Ｈ，ｍ），２．９−３．１（１Ｈ，
ｍ），３．９−４．２（１Ｈ，ｍ），７．０−７．２
（３Ｈ，ｍ），７．２−７．４（２Ｈ，ｍ），１２．６
３（１Ｈ，ｂｒ．） （２） ＩＲ（ヌジョール）：３３８０，１７２０，１
６８５，１５２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２４（ｓ）およ
び１．３０（ｓ）（９Ｈ），２．７−２．９（１Ｈ，
ｍ），３．０−３．２（１Ｈ，ｍ），４．０−４．２
（１Ｈ，ｍ），７．０−７．４（５Ｈ，ｍ），１２．６
７（１Ｈ，ｂｒ．） （３） ｍｐ：７３−７４℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３７０，１７１５，１６９０，
１６２０，１５８０，１５２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．３２（９Ｈ，
ｓ），２．９２（１Ｈ，ＡＢｑのｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ，１
０Ｈｚ），３．０６（１Ｈ，ＡＢｑのｄ，Ｊ＝１４Ｈ
ｚ，５Ｈｚ），４．０−４．２（１Ｈ，ｍ），７．０−
７．２（４Ｈ，ｍ），７．３−７．４（１Ｈ，ｍ），１
２．５１（１Ｈ，ｂｒ．ｓ） （４） ＩＲ（ヌジョール）：３３８０，２６６０，２
６２０，１７６０，１６４０，１６３０，１４０５ｃｍ
−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２２（ｓ）およ
び１．２９（ｓ）（９Ｈ），２．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝１１Ｈｚ，１４Ｈｚ），３．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
４Ｈｚ，１４Ｈｚ），４．１６（１Ｈ，ｍ），７．１９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．４−７．７（４Ｈ，
ｍ），１２．７２（１Ｈ，ｂｒ．）
【００４５】製造例３ 原料化合物（２ｇ）、Ｎ−メチルベンジルアミン（０．
７７ｍｌ）およびＨＯＢＴ（０．８１ｇ）の塩化メチレ
ン（５０ｍｌ）溶液にＷＳＣ・ＨＣｌ（１．１５ｇ）を
氷冷下に加える。溶液を同温で１時間、次いで室温で一
夜攪拌する。溶媒を蒸発させ、反応混合物を酢酸エチル
で抽出し、有機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、
０．５Ｎ塩酸、水、食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。この溶液を蒸発操作に付して、目的化
合物（２．８８ｇ）を得る。 ｍｐ：８６−８８℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３７０，１６８５，１６４０，
１５２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１２（ｓ）およ
び１．３１（ｓ）（９Ｈ），２．７７および２．９１
（３Ｈ，ｓ），４．４−４．８（３Ｈ，ｍ），７．１−
７．４（６Ｈ，ｍ），７．４−７．７（４Ｈ，ｍ），
２．８−３．１（２Ｈ，ｍ）
７７ｍｌ）およびＨＯＢＴ（０．８１ｇ）の塩化メチレ
ン（５０ｍｌ）溶液にＷＳＣ・ＨＣｌ（１．１５ｇ）を
氷冷下に加える。溶液を同温で１時間、次いで室温で一
夜攪拌する。溶媒を蒸発させ、反応混合物を酢酸エチル
で抽出し、有機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、
０．５Ｎ塩酸、水、食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。この溶液を蒸発操作に付して、目的化
合物（２．８８ｇ）を得る。 ｍｐ：８６−８８℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３７０，１６８５，１６４０，
１５２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１２（ｓ）およ
び１．３１（ｓ）（９Ｈ），２．７７および２．９１
（３Ｈ，ｓ），４．４−４．８（３Ｈ，ｍ），７．１−
７．４（６Ｈ，ｍ），７．４−７．７（４Ｈ，ｍ），
２．８−３．１（２Ｈ，ｍ）
【００４６】製造例４ 製造例３と同様にして目的化合物を得る。 （１） ｍｐ：１１０−１１１℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３９０，１６８５，１６４５，
１６００，１５１５，１４５０，１３４５，１２６０，
１１６５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１２（ｓ）およ
び１．３１（ｓ）（９Ｈ），２．７−３．１（５Ｈ，
ｍ），４．３−４．８（３Ｈ，ｍ），７．１−７．５お
よび８．１−８．２（１０Ｈ，ｍ） （２） ＩＲ（ニート）：３３２０，２９９０，１７１
０，１６４０，１４９０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２１（ｓ）およ
び１．３２（ｓ）（９Ｈ），２．７−３．１（２Ｈ，
ｍ），２．７３（ｓ）および２．９０（ｓ）（３Ｈ），
４．３−４．８（３Ｈ，ｍ），７．０−７．４（１０
Ｈ，ｍ） （３） ＩＲ（ヌジョール）：３３７０，１６８５，１
６３５，１５２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２４（ｓ）およ
び１．３４（ｓ）（９Ｈ），２．７−３．０（２Ｈ，
ｍ），２．７５（ｓ）および２．８８（ｓ）（３Ｈ），
４．３−４．７（３Ｈ，ｍ），７．０−７．４（１０
Ｈ，ｍ） （４） ｍｐ：９４−９６℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３８０，１６９０，１６４５，
１６３５，１５２５，１４５０，１２５０，１１７０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２３（ｓ）およ
び１．３３（９Ｈ，ｓ），２．７−２．９（５Ｈ，
ｍ），４．３−４．７（３Ｈ，ｍ），６．９−７．４
（１０Ｈ，ｍ） （５） ＩＲ（ヌジョール）：３３７０，１６８５，１
６４０，１５２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１９（ｓ）およ
び１．３０（ｓ）（９Ｈ），２．７７（ｓ）および２．
９１（ｓ）（３Ｈ），２．８−３．１（２Ｈ，ｍ），
４．３−４．８（３Ｈ，ｍ），７．０−７．７（１０
Ｈ，ｍ） （６） ＩＲ（ヌジョール）：３３２０，１６８５，１
６４０，１５３０，１５１５，１４５５，１４１５，１
２６５，１１７０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２−１．４（９
Ｈ，ｍ），２．６−２．９（５Ｈ，ｍ），４．３−４．
７（３Ｈ，ｍ），６．５−６．７および５．８−６．９
および６．９−７．４（１０Ｈ，ｍ），９．２０（１
Ｈ，ｓ）
１６００，１５１５，１４５０，１３４５，１２６０，
１１６５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１２（ｓ）およ
び１．３１（ｓ）（９Ｈ），２．７−３．１（５Ｈ，
ｍ），４．３−４．８（３Ｈ，ｍ），７．１−７．５お
よび８．１−８．２（１０Ｈ，ｍ） （２） ＩＲ（ニート）：３３２０，２９９０，１７１
０，１６４０，１４９０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２１（ｓ）およ
び１．３２（ｓ）（９Ｈ），２．７−３．１（２Ｈ，
ｍ），２．７３（ｓ）および２．９０（ｓ）（３Ｈ），
４．３−４．８（３Ｈ，ｍ），７．０−７．４（１０
Ｈ，ｍ） （３） ＩＲ（ヌジョール）：３３７０，１６８５，１
６３５，１５２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２４（ｓ）およ
び１．３４（ｓ）（９Ｈ），２．７−３．０（２Ｈ，
ｍ），２．７５（ｓ）および２．８８（ｓ）（３Ｈ），
４．３−４．７（３Ｈ，ｍ），７．０−７．４（１０
Ｈ，ｍ） （４） ｍｐ：９４−９６℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３８０，１６９０，１６４５，
１６３５，１５２５，１４５０，１２５０，１１７０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２３（ｓ）およ
び１．３３（９Ｈ，ｓ），２．７−２．９（５Ｈ，
ｍ），４．３−４．７（３Ｈ，ｍ），６．９−７．４
（１０Ｈ，ｍ） （５） ＩＲ（ヌジョール）：３３７０，１６８５，１
６４０，１５２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１９（ｓ）およ
び１．３０（ｓ）（９Ｈ），２．７７（ｓ）および２．
９１（ｓ）（３Ｈ），２．８−３．１（２Ｈ，ｍ），
４．３−４．８（３Ｈ，ｍ），７．０−７．７（１０
Ｈ，ｍ） （６） ＩＲ（ヌジョール）：３３２０，１６８５，１
６４０，１５３０，１５１５，１４５５，１４１５，１
２６５，１１７０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２−１．４（９
Ｈ，ｍ），２．６−２．９（５Ｈ，ｍ），４．３−４．
７（３Ｈ，ｍ），６．５−６．７および５．８−６．９
および６．９−７．４（１０Ｈ，ｍ），９．２０（１
Ｈ，ｓ）
【００４７】製造例５ 原料化合物（１．５４ｇ）のＴＨＦ（３０ｍｌ）溶液に
水素化ナトリウム（油中６０％、１７６ｍｇ）およびヨ
ウ化メチル（０．５ｍｌ）を加える。混合物を６０℃で
１時間攪拌する。濃縮後、残留物を酢酸エチルで抽出
し、有機層を水、食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。この溶液を蒸発操作に付して、目的化合
物（１．７８ｇ）を油状物として得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３３２０，１７０５，１６４０，
１５１０，１４５０，１３６５，１２５０，１１７０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２−１．４（９
Ｈ，ｍ），２．７−２．９（５Ｈ，ｍ），３．７０
（ｓ）および３．７２（ｓ）（３Ｈ），４．３−４．６
（３Ｈ，ｍ），６．７−６．９（２Ｈ，ｍ），７．０−
７．４（８Ｈ，ｍ）
水素化ナトリウム（油中６０％、１７６ｍｇ）およびヨ
ウ化メチル（０．５ｍｌ）を加える。混合物を６０℃で
１時間攪拌する。濃縮後、残留物を酢酸エチルで抽出
し、有機層を水、食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。この溶液を蒸発操作に付して、目的化合
物（１．７８ｇ）を油状物として得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３３２０，１７０５，１６４０，
１５１０，１４５０，１３６５，１２５０，１１７０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２−１．４（９
Ｈ，ｍ），２．７−２．９（５Ｈ，ｍ），３．７０
（ｓ）および３．７２（ｓ）（３Ｈ），４．３−４．６
（３Ｈ，ｍ），６．７−６．９（２Ｈ，ｍ），７．０−
７．４（８Ｈ，ｍ）
【００４８】製造例６ 原料化合物（２．０５ｇ）の塩化メチレン（２０ｍｌ）
溶液に４Ｎ−ＨＣｌ／ＤＯＸ（１９．０ｍｌ）を冷却下
に加える。溶液を同温で５分間攪拌する。次いで氷浴を
除去し、溶液を室温で１時間攪拌する。溶媒を蒸発さ
せ、残留物をジイソプロピルエーテルで粉末化して濾取
し、水酸化ナトリウムで真空下乾燥して、目的化合物
（１．６８ｇ）を得る。 ｍｐ：１５９℃ ＩＲ（ヌジョール）：１６５０，１６０５，１５８０，
１４９５，１３３５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．７３（３Ｈ，
ｓ），３．１−３．３（２Ｈ，ｍ），４．１−４．８
（３Ｈ，ｍ），７．１−７．２（２Ｈ，ｍ），７．２−
７．４（３Ｈ，ｍ），７．３７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），７．６２（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）および７．６９
（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）（２Ｈ），８．５１（２Ｈ，ｂｒ．
ｓ）
溶液に４Ｎ−ＨＣｌ／ＤＯＸ（１９．０ｍｌ）を冷却下
に加える。溶液を同温で５分間攪拌する。次いで氷浴を
除去し、溶液を室温で１時間攪拌する。溶媒を蒸発さ
せ、残留物をジイソプロピルエーテルで粉末化して濾取
し、水酸化ナトリウムで真空下乾燥して、目的化合物
（１．６８ｇ）を得る。 ｍｐ：１５９℃ ＩＲ（ヌジョール）：１６５０，１６０５，１５８０，
１４９５，１３３５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．７３（３Ｈ，
ｓ），３．１−３．３（２Ｈ，ｍ），４．１−４．８
（３Ｈ，ｍ），７．１−７．２（２Ｈ，ｍ），７．２−
７．４（３Ｈ，ｍ），７．３７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），７．６２（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）および７．６９
（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）（２Ｈ），８．５１（２Ｈ，ｂｒ．
ｓ）
【００４９】製造例７ 製造例６と同様にして目的化合物を得る。 （１） ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１６５５，１６０５，１
５２５，１３５０，１２１５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．７２（ｓ）およ
び２．７４（ｓ）（３Ｈ），３．１−３．３（２Ｈ，
ｍ），４．１−４．８（３Ｈ，ｍ），７．１−７．３
（５Ｈ，ｍ），７．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），
８．１−８．２（２Ｈ，ｍ），８．６１（３Ｈ，ｂｒ．
ｓ） （２） ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１６５５，１６４０，１
６１０，１５１０，１４９０，１４５０，１４００，１
３３０，１２１５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．６４（ｓ）およ
び２．７０（ｓ）（３Ｈ），２．９−３．２（５Ｈ，
ｍ），４．３−４．７（３Ｈ，ｍ），７．１−７．２お
よび７．３−７．４（９Ｈ，ｍ），８．４７（３Ｈ，ｂ
ｒ．ｓ），９．８−９．９（１Ｈ，ｍ） （３） ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１６５５，１５９０，１
４９０，１４５０，１２５５，１２１５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．７１（ｓ）およ
び２．７３（３Ｈ，ｓ），３．０−３．３（２Ｈ，
ｍ），４．１−４．８（３Ｈ，ｍ），７．０−７．２お
よび７．２−７．４（９Ｈ，ｍ），８．４９（３Ｈ，ｂ
ｒ．ｓ） （４） ＩＲ（ヌジョール）：３５００，３４５０，１
６５０，１６１０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．７０（ｓ）およ
び２．７５（ｓ）（３Ｈ），３．１−３．３（２Ｈ，
ｍ），４．０９および４．６７（ＡＢｑ，Ｊ＝１６Ｈ
ｚ）および４．４６（ｓ）（２Ｈ），４．７５（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．０−７．２（２Ｈ，ｍ），７．
２−７．４（３Ｈ，ｍ），７．５−７．６（２Ｈ，
ｍ），７．６−７．７（２Ｈ，ｍ），８．４９（３Ｈ，
ｂｒ．ｓ） （５） ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１６６０，１６５０，１
６１５，１５１５，１２５０，１２２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．５９（ｓ）およ
び２．６９（ｓ）（３Ｈ），２．９−３．２（２Ｈ，
ｍ），３．７２（ｓ）および３．７６（ｓ）（３Ｈ），
４．３−４．５（３Ｈ，ｍ），６．７５−６．９５（２
Ｈ，ｍ），７．１−７．２および７．３−７．４（７
Ｈ，ｍ），８．５０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ）
５２５，１３５０，１２１５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．７２（ｓ）およ
び２．７４（ｓ）（３Ｈ），３．１−３．３（２Ｈ，
ｍ），４．１−４．８（３Ｈ，ｍ），７．１−７．３
（５Ｈ，ｍ），７．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），
８．１−８．２（２Ｈ，ｍ），８．６１（３Ｈ，ｂｒ．
ｓ） （２） ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１６５５，１６４０，１
６１０，１５１０，１４９０，１４５０，１４００，１
３３０，１２１５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．６４（ｓ）およ
び２．７０（ｓ）（３Ｈ），２．９−３．２（５Ｈ，
ｍ），４．３−４．７（３Ｈ，ｍ），７．１−７．２お
よび７．３−７．４（９Ｈ，ｍ），８．４７（３Ｈ，ｂ
ｒ．ｓ），９．８−９．９（１Ｈ，ｍ） （３） ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１６５５，１５９０，１
４９０，１４５０，１２５５，１２１５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．７１（ｓ）およ
び２．７３（３Ｈ，ｓ），３．０−３．３（２Ｈ，
ｍ），４．１−４．８（３Ｈ，ｍ），７．０−７．２お
よび７．２−７．４（９Ｈ，ｍ），８．４９（３Ｈ，ｂ
ｒ．ｓ） （４） ＩＲ（ヌジョール）：３５００，３４５０，１
６５０，１６１０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．７０（ｓ）およ
び２．７５（ｓ）（３Ｈ），３．１−３．３（２Ｈ，
ｍ），４．０９および４．６７（ＡＢｑ，Ｊ＝１６Ｈ
ｚ）および４．４６（ｓ）（２Ｈ），４．７５（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．０−７．２（２Ｈ，ｍ），７．
２−７．４（３Ｈ，ｍ），７．５−７．６（２Ｈ，
ｍ），７．６−７．７（２Ｈ，ｍ），８．４９（３Ｈ，
ｂｒ．ｓ） （５） ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１６６０，１６５０，１
６１５，１５１５，１２５０，１２２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．５９（ｓ）およ
び２．６９（ｓ）（３Ｈ），２．９−３．２（２Ｈ，
ｍ），３．７２（ｓ）および３．７６（ｓ）（３Ｈ），
４．３−４．５（３Ｈ，ｍ），６．７５−６．９５（２
Ｈ，ｍ），７．１−７．２および７．３−７．４（７
Ｈ，ｍ），８．５０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ）
【００５０】製造例８ 原料化合物（１．６５ｇ）、Ｂｏｃ−（２Ｓ，４Ｒ）−
Ｐｒｏ（４ＯＨ）−ＯＨ（１．０２ｇ）およびＨＯＢＴ
（０．６０ｇ）を塩化メチレン（４５ｍｌ）とジメチル
ホルムアミド（１０ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、この溶
液にＷＳＣ（０．８０ｍｌ）を氷冷下に加える。溶液を
同温で１時間、室温で一夜攪拌する。溶媒を蒸発させ、
反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を炭酸水素ナ
トリウム水溶液、水、０．５Ｎ塩酸、水および食塩水で
順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、真空下蒸発操
作に付して、目的化合物（２．３５ｇ）を油状物として
得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１７００，１６８５，１６６５，
１６４５，１６３５，１５５５，１５４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１−１．３
（ｍ）および１．６５（ｓ）（９Ｈ），１．５−１．８
（１Ｈ，ｍ），１．８−２．１（１Ｈ，ｍ），２．９
（３Ｈ，ｓ），２．７−３．１（２Ｈ，ｍ），３．１−
３．４（１Ｈ，ｍ），３．４−３．５（１Ｈ，ｍ），
４．１−４．３（２Ｈ，ｍ），４．３−４．５（２Ｈ，
ｍ），４．７−５．１（２Ｈ，ｍ），７．０−７．７
（９Ｈ，ｍ），８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
Ｐｒｏ（４ＯＨ）−ＯＨ（１．０２ｇ）およびＨＯＢＴ
（０．６０ｇ）を塩化メチレン（４５ｍｌ）とジメチル
ホルムアミド（１０ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、この溶
液にＷＳＣ（０．８０ｍｌ）を氷冷下に加える。溶液を
同温で１時間、室温で一夜攪拌する。溶媒を蒸発させ、
反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を炭酸水素ナ
トリウム水溶液、水、０．５Ｎ塩酸、水および食塩水で
順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、真空下蒸発操
作に付して、目的化合物（２．３５ｇ）を油状物として
得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１７００，１６８５，１６６５，
１６４５，１６３５，１５５５，１５４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１−１．３
（ｍ）および１．６５（ｓ）（９Ｈ），１．５−１．８
（１Ｈ，ｍ），１．８−２．１（１Ｈ，ｍ），２．９
（３Ｈ，ｓ），２．７−３．１（２Ｈ，ｍ），３．１−
３．４（１Ｈ，ｍ），３．４−３．５（１Ｈ，ｍ），
４．１−４．３（２Ｈ，ｍ），４．３−４．５（２Ｈ，
ｍ），４．７−５．１（２Ｈ，ｍ），７．０−７．７
（９Ｈ，ｍ），８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【００５１】製造例９ 製造例８と同様にして目的化合物を得る。 （１） ＩＲ（ニート）：３３００，２９９０，１７０
５，１６９０，１６４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２１（ｓ）および
１．４０（ｓ）（９Ｈ），２．７−３．２（５Ｈ，
ｍ），３．９−４．３（２Ｈ，ｍ），４．３−５．１
（４Ｈ，ｍ），５．４−５．６（１Ｈ，ｍ），５．９−
６．０（１Ｈ，ｍ），７．０−７．１（２Ｈ，ｍ），
７．０−７．１（４Ｈ，ｍ），７．４−７．７（３Ｈ，
ｍ），８．４−８．６（１Ｈ，ｍ） （２） ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１６９０−１６３０，１
６０５，１５２０，１４５５，１３４５，１１６０ｃｍ
−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１２（ｓ），１．
２２（ｓ）および１．３７（ｓ）（９Ｈ），１．５−
１．８（１Ｈ，ｍ），１．８−２．１（１Ｈ，ｍ），
２．７−３．１（５Ｈ，ｍ），３．１−３．５（２Ｈ，
ｍ），４．０−４．３（２Ｈ，ｍ），４．３−４．６
（２Ｈ，ｍ），４．７−５．２（２Ｈ，ｍ），７．０−
７．５（ｍ），７．５−７．７（ｍ），８．０−８．２
（ｍ）および８．３２（ｓ）（９Ｈ），８．４２（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ） （３） ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１６９０，１６８０，１
６３０，１５１０，１４００，１３３０，１１５５ｃｍ
−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２６（ｓ）および
１．３９（ｓ）（９Ｈ），１．５−１．８（１Ｈ，
ｍ），１．８−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７−３．１
（８Ｈ，ｍ），３．２−３．３（１Ｈ，ｍ），３．３−
３．５（１Ｈ，ｍ），４．１−４．３（２Ｈ，ｍ），
４．３−５．１（４Ｈ，ｍ），６．９−７．１および
７．１−７．４（９Ｈ，ｍ），８．２−８．４（１Ｈ，
ｍ），９．６３（１Ｈ，ｂｒ．ｓ） （４） ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３４００−３２００，１
６９０，１６８０，１６４０，１５９０，１５５０，１
４５０，１４１０，１３６５，１２５０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２２（ｓ）および
１．３８（９Ｈ，ｓ），１．５−１．８（１Ｈ，ｍ），
１．８−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７−３．１（５Ｈ，
ｍ），３．１−３．３（１Ｈ，ｍ），３．３−３．５
（１Ｈ，ｍ），４．１−４．３（２Ｈ，ｍ），４．４−
４．６（２Ｈ，ｍ），４．８−５．１（２Ｈ，ｍ），
６．８−７．４（９Ｈ，ｍ），８．３−８．４（１Ｈ，
ｍ） （５） ＩＲ（ニート）：３４５０−３３００，１６９
０−１６５０，１６４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１９（ｓ），１．
２１（ｓ）および１．３８（ｓ）（９Ｈ），１．６−
１．８（１Ｈ，ｍ），１．８−２．１（１Ｈ，ｍ），
２．７−３．５（７Ｈ，ｍ），４．０−４．２（２Ｈ，
ｍ），４．３−４．７（２Ｈ，ｍ），４．７−５．１
（２Ｈ，ｍ），７．０−７．２（２Ｈ，ｍ），７．２−
７．７（７Ｈ，ｍ），８．３−８．５（１Ｈ，ｍ） （６） ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３４５０−３３００，１
６９５−１６３０，１５１０，１４０５，１２５０，１
１６０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２５（ｓ）および
１．３９（ｓ）（９Ｈ），１．５−１．８（１Ｈ，
ｍ），１．８−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７−３．０
（５Ｈ，ｍ），３．２−３．３（１Ｈ，ｍ），３．４−
３．５（１Ｈ，ｍ），３．７１（３Ｈ，ｓ），４．１−
４．３（２Ｈ，ｍ），４．３−４．６および４．７−
５．０（４Ｈ，ｍ），６．７−６．９（２Ｈ，ｍ），
６．９−７．１および７．１−７．３（７Ｈ，ｍ），
８．２−８．４（１Ｈ，ｍ）
５，１６９０，１６４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２１（ｓ）および
１．４０（ｓ）（９Ｈ），２．７−３．２（５Ｈ，
ｍ），３．９−４．３（２Ｈ，ｍ），４．３−５．１
（４Ｈ，ｍ），５．４−５．６（１Ｈ，ｍ），５．９−
６．０（１Ｈ，ｍ），７．０−７．１（２Ｈ，ｍ），
７．０−７．１（４Ｈ，ｍ），７．４−７．７（３Ｈ，
ｍ），８．４−８．６（１Ｈ，ｍ） （２） ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１６９０−１６３０，１
６０５，１５２０，１４５５，１３４５，１１６０ｃｍ
−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１２（ｓ），１．
２２（ｓ）および１．３７（ｓ）（９Ｈ），１．５−
１．８（１Ｈ，ｍ），１．８−２．１（１Ｈ，ｍ），
２．７−３．１（５Ｈ，ｍ），３．１−３．５（２Ｈ，
ｍ），４．０−４．３（２Ｈ，ｍ），４．３−４．６
（２Ｈ，ｍ），４．７−５．２（２Ｈ，ｍ），７．０−
７．５（ｍ），７．５−７．７（ｍ），８．０−８．２
（ｍ）および８．３２（ｓ）（９Ｈ），８．４２（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ） （３） ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１６９０，１６８０，１
６３０，１５１０，１４００，１３３０，１１５５ｃｍ
−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２６（ｓ）および
１．３９（ｓ）（９Ｈ），１．５−１．８（１Ｈ，
ｍ），１．８−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７−３．１
（８Ｈ，ｍ），３．２−３．３（１Ｈ，ｍ），３．３−
３．５（１Ｈ，ｍ），４．１−４．３（２Ｈ，ｍ），
４．３−５．１（４Ｈ，ｍ），６．９−７．１および
７．１−７．４（９Ｈ，ｍ），８．２−８．４（１Ｈ，
ｍ），９．６３（１Ｈ，ｂｒ．ｓ） （４） ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３４００−３２００，１
６９０，１６８０，１６４０，１５９０，１５５０，１
４５０，１４１０，１３６５，１２５０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２２（ｓ）および
１．３８（９Ｈ，ｓ），１．５−１．８（１Ｈ，ｍ），
１．８−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７−３．１（５Ｈ，
ｍ），３．１−３．３（１Ｈ，ｍ），３．３−３．５
（１Ｈ，ｍ），４．１−４．３（２Ｈ，ｍ），４．４−
４．６（２Ｈ，ｍ），４．８−５．１（２Ｈ，ｍ），
６．８−７．４（９Ｈ，ｍ），８．３−８．４（１Ｈ，
ｍ） （５） ＩＲ（ニート）：３４５０−３３００，１６９
０−１６５０，１６４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１９（ｓ），１．
２１（ｓ）および１．３８（ｓ）（９Ｈ），１．６−
１．８（１Ｈ，ｍ），１．８−２．１（１Ｈ，ｍ），
２．７−３．５（７Ｈ，ｍ），４．０−４．２（２Ｈ，
ｍ），４．３−４．７（２Ｈ，ｍ），４．７−５．１
（２Ｈ，ｍ），７．０−７．２（２Ｈ，ｍ），７．２−
７．７（７Ｈ，ｍ），８．３−８．５（１Ｈ，ｍ） （６） ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３４５０−３３００，１
６９５−１６３０，１５１０，１４０５，１２５０，１
１６０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２５（ｓ）および
１．３９（ｓ）（９Ｈ），１．５−１．８（１Ｈ，
ｍ），１．８−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７−３．０
（５Ｈ，ｍ），３．２−３．３（１Ｈ，ｍ），３．４−
３．５（１Ｈ，ｍ），３．７１（３Ｈ，ｓ），４．１−
４．３（２Ｈ，ｍ），４．３−４．６および４．７−
５．０（４Ｈ，ｍ），６．７−６．９（２Ｈ，ｍ），
６．９−７．１および７．１−７．３（７Ｈ，ｍ），
８．２−８．４（１Ｈ，ｍ）
【００５２】製造例１０ 原料化合物（２．５ｇ）のメタノール（７０ｍｌ）溶液
に１０％パラジウム炭（０．５ｇ）を加え、混合物に常
圧下室温で１．５時間水素添加する。混合物を濾過し、
濃縮して、目的化合物（２．２７ｇ）を無定形固体とし
て得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３３７０，１７０５，１６４０，
１５２０，１３６５，１２９０，１２５０，１１７０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１−１．４（９
Ｈ，ｍ），２．５−２．９（５Ｈ，ｍ），４．３−４．
６（３Ｈ，ｍ），４．９１（２Ｈ，ｓ），６．４−６．
５（２Ｈ，ｍ），６．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），
６．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．０−７．２お
よび７．２−７．４（６Ｈ，ｍ）
に１０％パラジウム炭（０．５ｇ）を加え、混合物に常
圧下室温で１．５時間水素添加する。混合物を濾過し、
濃縮して、目的化合物（２．２７ｇ）を無定形固体とし
て得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３３７０，１７０５，１６４０，
１５２０，１３６５，１２９０，１２５０，１１７０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１−１．４（９
Ｈ，ｍ），２．５−２．９（５Ｈ，ｍ），４．３−４．
６（３Ｈ，ｍ），４．９１（２Ｈ，ｓ），６．４−６．
５（２Ｈ，ｍ），６．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），
６．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．０−７．２お
よび７．２−７．４（６Ｈ，ｍ）
【００５３】製造例１１ 原料化合物（１．７５ｇ）のピリジン（３５ｍｌ）溶液
に塩化メタンスルホニル（０．３９ｍｌ）を氷冷下に加
える。溶液を同温で１時間攪拌する。濃縮後、残留物を
酢酸エチルで抽出し、有機層を水、希炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、水、０．５Ｎ塩酸および塩化ナトリウム溶液
で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥する。抽出物を
蒸発操作に付して、目的化合物（２．１４ｇ）を無定形
固体として得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１７１０−１６９０，１６３５，
１５１０，１４９５，１４００，１３３５，１２５０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２６（ｓ）および
１．３４（ｓ）（９Ｈ），２．７−２．９（５Ｈ，
ｍ），２．９２（３Ｈ，ｓ），４．４−４．７（３Ｈ，
ｍ），７．０−７．４（１０Ｈ，ｍ），９．６２（１
Ｈ，ｓ）
に塩化メタンスルホニル（０．３９ｍｌ）を氷冷下に加
える。溶液を同温で１時間攪拌する。濃縮後、残留物を
酢酸エチルで抽出し、有機層を水、希炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、水、０．５Ｎ塩酸および塩化ナトリウム溶液
で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥する。抽出物を
蒸発操作に付して、目的化合物（２．１４ｇ）を無定形
固体として得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１７１０−１６９０，１６３５，
１５１０，１４９５，１４００，１３３５，１２５０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２６（ｓ）および
１．３４（ｓ）（９Ｈ），２．７−２．９（５Ｈ，
ｍ），２．９２（３Ｈ，ｓ），４．４−４．７（３Ｈ，
ｍ），７．０−７．４（１０Ｈ，ｍ），９．６２（１
Ｈ，ｓ）
【００５４】製造例１２ 製造例６および製造例８と同様の操作を順次行なうこと
により目的化合物を得る。 （１） ＩＲ（ニート）：３４００，３３２０，１６８
０（ｂｒ．），１６４０，１４９０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ■６，δ）：１．２４（ｓ）およ
び１．３９（ｓ）（９Ｈ），１．５−１．８（１Ｈ，
ｍ），１．８−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７−３．５
（７Ｈ，ｍ），４．１−４．３（２Ｈ，ｍ），４．４−
４．８（２Ｈ，ｍ），４．９−５．２（２Ｈ，ｍ），
７．０−７．４（９Ｈ，ｍ），８．２−８．５（１Ｈ，
ｍ） （２） ＩＲ（ニート）：３４５０−３３００（ｂ
ｒ．），１６９０−１６６０（ｂｒ．），１６４０，１
５１０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２３（ｓ）および
１．３９（ｓ）（９Ｈ），１．５−１．８（１Ｈ，
ｍ），１．８−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７−３．１
（５Ｈ，ｍ），３．１−３．５（２Ｈ，ｍ），４．０−
４．３（２Ｈ，ｍ），４．３−５．１（４Ｈ，ｍ），
７．０−７．４（９Ｈ，ｍ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８Ｈｚ） （３） ＩＲ（ヌジョール）：３２８０，１６６５，１
６３０，１５１５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２８（ｓ）および
１．３９（ｓ）（３Ｈ），１．６０−１．９０（１Ｈ，
ｍ），１．９０−２．１０（１Ｈ，ｍ），２．６０−
３．００（２Ｈ，ｍ），２．７５（ｓ）および２．８５
（ｓ）（３Ｈ），３．２０−３．３０（１Ｈ，ｍ），
３．３５−３．５０（１Ｈ，ｍ），４．１０−４．７０
（４Ｈ，ｍ），４．７０−５．０５（２Ｈ，ｍ），６．
６０（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）および６．６４（ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）（２Ｈ），６．８６（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）および７．
０３（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）（２Ｈ），６．９０−７．１０
（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．３５（３Ｈ，ｍ），８．
２０−８．４０（１Ｈ，ｍ），９．１９（ｓ）および
９．２３（ｓ）（１Ｈ）
により目的化合物を得る。 （１） ＩＲ（ニート）：３４００，３３２０，１６８
０（ｂｒ．），１６４０，１４９０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ■６，δ）：１．２４（ｓ）およ
び１．３９（ｓ）（９Ｈ），１．５−１．８（１Ｈ，
ｍ），１．８−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７−３．５
（７Ｈ，ｍ），４．１−４．３（２Ｈ，ｍ），４．４−
４．８（２Ｈ，ｍ），４．９−５．２（２Ｈ，ｍ），
７．０−７．４（９Ｈ，ｍ），８．２−８．５（１Ｈ，
ｍ） （２） ＩＲ（ニート）：３４５０−３３００（ｂ
ｒ．），１６９０−１６６０（ｂｒ．），１６４０，１
５１０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２３（ｓ）および
１．３９（ｓ）（９Ｈ），１．５−１．８（１Ｈ，
ｍ），１．８−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７−３．１
（５Ｈ，ｍ），３．１−３．５（２Ｈ，ｍ），４．０−
４．３（２Ｈ，ｍ），４．３−５．１（４Ｈ，ｍ），
７．０−７．４（９Ｈ，ｍ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８Ｈｚ） （３） ＩＲ（ヌジョール）：３２８０，１６６５，１
６３０，１５１５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２８（ｓ）および
１．３９（ｓ）（３Ｈ），１．６０−１．９０（１Ｈ，
ｍ），１．９０−２．１０（１Ｈ，ｍ），２．６０−
３．００（２Ｈ，ｍ），２．７５（ｓ）および２．８５
（ｓ）（３Ｈ），３．２０−３．３０（１Ｈ，ｍ），
３．３５−３．５０（１Ｈ，ｍ），４．１０−４．７０
（４Ｈ，ｍ），４．７０−５．０５（２Ｈ，ｍ），６．
６０（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）および６．６４（ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）（２Ｈ），６．８６（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）および７．
０３（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）（２Ｈ），６．９０−７．１０
（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．３５（３Ｈ，ｍ），８．
２０−８．４０（１Ｈ，ｍ），９．１９（ｓ）および
９．２３（ｓ）（１Ｈ）
【００５５】製造例１３ 原料化合物（５．０ｇ）の塩化メチレン（１２０ｍｌ）
溶液に塩化セチルトリメチルアンモニウム（３００ｍ
ｇ）と水酸化ナトリウム粉末（０．８０ｇ）を加える。
次いで、この混合物にブロモ酢酸エチル（２．０２ｇ）
を加え、混合物を室温で２時間攪拌する。酢酸（１ｍ
ｌ）を加え、濃縮後、残留物に酢酸エチルと水を加え
る。水層を分離し、酢酸エチルで再び抽出後、有機層を
合わせ、炭酸水素ナトリウム水溶液、０．５Ｎ塩酸およ
び食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。
この溶液を濃縮して粗製物（３．８３ｇ）を得、これを
シリカゲルカラムに通し、塩化メチレンとメタノールの
混合溶媒（９７：３〜９４：６）で溶出して、目的化合
物（３．１３ｇ）を無定形固体として得る。 ＩＲ（ＣＨ２Ｃｌ２）：３６００，３４００，１７５
０，１６８０，１６４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．３０（３Ｈ，ｔ），
１．４５（９Ｈ，ｓ），１．８−２．２（２Ｈ，ｍ），
２．７１および２．９１（３Ｈ，ｓ），２．９−３．１
（３Ｈ，ｍ），３．３−３．５５（２Ｈ，ｍ），４．２
６（２Ｈ，ｑ），４．０−４．５（４Ｈ，ｍ），４．５
５−４．６（３Ｈ，ｍ），５．１−５．２（１Ｈ，
ｍ），６．７−６．８（２Ｈ，ｍ），７．０−７．２
（４Ｈ，ｍ），７．２５−７．３（３Ｈ，ｍ）
溶液に塩化セチルトリメチルアンモニウム（３００ｍ
ｇ）と水酸化ナトリウム粉末（０．８０ｇ）を加える。
次いで、この混合物にブロモ酢酸エチル（２．０２ｇ）
を加え、混合物を室温で２時間攪拌する。酢酸（１ｍ
ｌ）を加え、濃縮後、残留物に酢酸エチルと水を加え
る。水層を分離し、酢酸エチルで再び抽出後、有機層を
合わせ、炭酸水素ナトリウム水溶液、０．５Ｎ塩酸およ
び食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。
この溶液を濃縮して粗製物（３．８３ｇ）を得、これを
シリカゲルカラムに通し、塩化メチレンとメタノールの
混合溶媒（９７：３〜９４：６）で溶出して、目的化合
物（３．１３ｇ）を無定形固体として得る。 ＩＲ（ＣＨ２Ｃｌ２）：３６００，３４００，１７５
０，１６８０，１６４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．３０（３Ｈ，ｔ），
１．４５（９Ｈ，ｓ），１．８−２．２（２Ｈ，ｍ），
２．７１および２．９１（３Ｈ，ｓ），２．９−３．１
（３Ｈ，ｍ），３．３−３．５５（２Ｈ，ｍ），４．２
６（２Ｈ，ｑ），４．０−４．５（４Ｈ，ｍ），４．５
５−４．６（３Ｈ，ｍ），５．１−５．２（１Ｈ，
ｍ），６．７−６．８（２Ｈ，ｍ），７．０−７．２
（４Ｈ，ｍ），７．２５−７．３（３Ｈ，ｍ）
【００５６】製造例１４ 原料化合物（１．１ｇ）の塩化メチレン（１１ｍｌ）溶
液に４Ｎ−ＨＣｌ／ＤＯＸ（８．１ｍｌ）を氷冷下に加
える。溶液を同温で５分間、室温で５０分間攪拌する。
溶媒を蒸発させ、残留物をジイソプロピルエーテルで粉
末化し、濾取後、乾燥して、目的化合物（０．８８ｇ）
を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３２５０，１６７０，１６４５，
１５８０，１５５５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６−１．９（１
Ｈ，ｍ），２．２−２．４（１Ｈ，ｍ），２．７９
（ｓ）および２．８９（ｓ）（３Ｈ），２．９−３．４
（４Ｈ，ｍ），４．２−４．６（４Ｈ，ｍ），４．９−
５．２（１Ｈ，ｍ），５．５−５．６（１Ｈ，ｍ），
７．０−７．７（１０Ｈ，ｍ），９．２３（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８Ｈｚ）
液に４Ｎ−ＨＣｌ／ＤＯＸ（８．１ｍｌ）を氷冷下に加
える。溶液を同温で５分間、室温で５０分間攪拌する。
溶媒を蒸発させ、残留物をジイソプロピルエーテルで粉
末化し、濾取後、乾燥して、目的化合物（０．８８ｇ）
を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３２５０，１６７０，１６４５，
１５８０，１５５５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６−１．９（１
Ｈ，ｍ），２．２−２．４（１Ｈ，ｍ），２．７９
（ｓ）および２．８９（ｓ）（３Ｈ），２．９−３．４
（４Ｈ，ｍ），４．２−４．６（４Ｈ，ｍ），４．９−
５．２（１Ｈ，ｍ），５．５−５．６（１Ｈ，ｍ），
７．０−７．７（１０Ｈ，ｍ），９．２３（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８Ｈｚ）
【００５７】製造例１５ 製造例１４と同様にして目的化合物を得る。 （１）ｍｐ：１８８−１８９℃ ＩＲ（ヌジョール）：３５００，３２９０，２７００，
１６６５，１６４５，１６０５，１５６５，１５１５，
１３４５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６−１．９（１
Ｈ，ｍ），２．１−２．４（１Ｈ，ｍ），２．７−３．
４（７Ｈ，ｍ），４．１−４．７（４Ｈ，ｍ），４．９
−５．２（１Ｈ，ｍ），５．５−５．６（１Ｈ，ｍ），
７．０−７．６（７Ｈ，ｍ），８．０−８．２（２Ｈ，
ｍ），８．５１（ｂｒ．ｓ）および１０．０（ｂｒ，
ｓ）（１Ｈ），９．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ） （２）ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３３２０，３０２０，２８
５０，２７００，１６６０，１６４０，１６３０，１５
３０，１５１０，１３９０，１２１５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），２．２−２．４（１Ｈ，ｍ），２．７−３．
２（８Ｈ，ｍ），３．２−３．４（２Ｈ，ｍ），４．２
−４．７および４．９−５．１（６Ｈ，ｍ），７．０−
７．２および７．２−７．４（９Ｈ，ｍ），８．６７
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），９．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），９．７−９．８（１Ｈ，ｍ），９．９８（１Ｈ，
ｂｒ．ｓ） （３）ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６−１．９
（１Ｈ，ｍ），２．２−２．４（１Ｈ，ｍ），２．７５
（ｓ）および２．８６（ｓ）（３Ｈ），２．８−３．４
（４Ｈ，ｍ），４．２−４．７（４Ｈ，ｍ），５．０−
５．２（１Ｈ，ｍ），５．５７（１Ｈ，ｓ），７．０−
７．４（９Ｈ，ｍ），８．６２（１Ｈ，ｂｒ．）９．２
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），１０．００（１Ｈ，ｂ
ｒ．） （４）ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６−１．９
（１Ｈ，ｍ），２．２−２．４（１Ｈ，ｍ），２．７７
（ｓ）および２．８６（ｓ）（３Ｈ），２．８−３．２
（３Ｈ，ｍ），３．２−３．５（１Ｈ，ｍ），４．２−
４．７（４Ｈ，ｍ），４．８−５．１（１Ｈ，ｍ），
５．５６（１Ｈ，ｓ），７．０−７．４（９Ｈ，ｍ），
８．５８（１Ｈ，ｂｒ．），９．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ），９．９８（１Ｈ，ｂｒ．） （５）ｍｐ：２１６−２１７℃ ＩＲ（ヌジョール）：３４１０，３２００，３０７０，
１６７５，１６４０，１６１５，１５６０，１４５０，
１２６５ｃｍ−１ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．
７−１．９（１Ｈ，ｍ），２．２−２．４（１Ｈ，
ｍ），２．７−３．２および３．２−３．４（７Ｈ，
ｍ），４．２−４．７（４Ｈ，ｍ），４．９−５．１
（１Ｈ，ｍ），５．５８（１Ｈ，ｓ），６．９−７．４
（９Ｈ，ｍ），８．５８（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），９．１−
９．３（１Ｈ，ｍ），１０．０３（１Ｈ，ｂｒ．ｓ） （６）ｍｐ：１３７−１４１℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３００，１７５０，１６７０，
１６４０，１５６０，１５１０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２１（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７Ｈｚ），１．７−１．９（１Ｈ，ｍ），２．２−
２．４（１Ｈ，ｍ），２．７４および２．８３（３Ｈ，
ｓ），２．８−３．１（２Ｈ，ｍ），３．２−３．４
（２Ｈ，ｍ），４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），
４．３−４．６（４Ｈ，ｍ），４．７４（２Ｈ，ｓ），
４．８−５．０（１Ｈ，ｍ），５．５９（１Ｈ，ｍ），
６．８−６．９（２Ｈ，ｍ），７．０５−７．４（７
Ｈ，ｍ），９．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ） （７）ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９
（１Ｈ，ｍ），２．２−２．４（１Ｈ，ｍ），２．７８
（ｓ）および２．８９（ｓ）（３Ｈ），２．９−３．４
（４Ｈ，ｍ），４．２−４．７（４Ｈ，ｍ），４．９−
５．１（１Ｈ，ｍ），５．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈ
ｚ），７．０−７．２（２Ｈ，ｍ），７．２−７．４
（３Ｈ，ｍ），７．４−７．７（４Ｈ，ｍ），９．２０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ） （８）ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１６７５，１６３５，１５
５０，１５１０，１４５０，１３００，１２５０，１１
８０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），２．２−２．４（１Ｈ，ｍ），２．７−３．
１および３．２−３．４（７Ｈ，ｍ），３．７２（３
Ｈ，ｓ），４．２−４．６（４Ｈ，ｍ），４．８−５．
０（１Ｈ，ｍ），５．５７（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），６．８
−６．９（２Ｈ，ｍ），７．０−７．４（７Ｈ，ｍ），
８．５９（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）９．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ），１０．０４（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）
１６６５，１６４５，１６０５，１５６５，１５１５，
１３４５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６−１．９（１
Ｈ，ｍ），２．１−２．４（１Ｈ，ｍ），２．７−３．
４（７Ｈ，ｍ），４．１−４．７（４Ｈ，ｍ），４．９
−５．２（１Ｈ，ｍ），５．５−５．６（１Ｈ，ｍ），
７．０−７．６（７Ｈ，ｍ），８．０−８．２（２Ｈ，
ｍ），８．５１（ｂｒ．ｓ）および１０．０（ｂｒ，
ｓ）（１Ｈ），９．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ） （２）ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３３２０，３０２０，２８
５０，２７００，１６６０，１６４０，１６３０，１５
３０，１５１０，１３９０，１２１５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），２．２−２．４（１Ｈ，ｍ），２．７−３．
２（８Ｈ，ｍ），３．２−３．４（２Ｈ，ｍ），４．２
−４．７および４．９−５．１（６Ｈ，ｍ），７．０−
７．２および７．２−７．４（９Ｈ，ｍ），８．６７
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），９．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），９．７−９．８（１Ｈ，ｍ），９．９８（１Ｈ，
ｂｒ．ｓ） （３）ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６−１．９
（１Ｈ，ｍ），２．２−２．４（１Ｈ，ｍ），２．７５
（ｓ）および２．８６（ｓ）（３Ｈ），２．８−３．４
（４Ｈ，ｍ），４．２−４．７（４Ｈ，ｍ），５．０−
５．２（１Ｈ，ｍ），５．５７（１Ｈ，ｓ），７．０−
７．４（９Ｈ，ｍ），８．６２（１Ｈ，ｂｒ．）９．２
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），１０．００（１Ｈ，ｂ
ｒ．） （４）ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６−１．９
（１Ｈ，ｍ），２．２−２．４（１Ｈ，ｍ），２．７７
（ｓ）および２．８６（ｓ）（３Ｈ），２．８−３．２
（３Ｈ，ｍ），３．２−３．５（１Ｈ，ｍ），４．２−
４．７（４Ｈ，ｍ），４．８−５．１（１Ｈ，ｍ），
５．５６（１Ｈ，ｓ），７．０−７．４（９Ｈ，ｍ），
８．５８（１Ｈ，ｂｒ．），９．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ），９．９８（１Ｈ，ｂｒ．） （５）ｍｐ：２１６−２１７℃ ＩＲ（ヌジョール）：３４１０，３２００，３０７０，
１６７５，１６４０，１６１５，１５６０，１４５０，
１２６５ｃｍ−１ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．
７−１．９（１Ｈ，ｍ），２．２−２．４（１Ｈ，
ｍ），２．７−３．２および３．２−３．４（７Ｈ，
ｍ），４．２−４．７（４Ｈ，ｍ），４．９−５．１
（１Ｈ，ｍ），５．５８（１Ｈ，ｓ），６．９−７．４
（９Ｈ，ｍ），８．５８（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），９．１−
９．３（１Ｈ，ｍ），１０．０３（１Ｈ，ｂｒ．ｓ） （６）ｍｐ：１３７−１４１℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３００，１７５０，１６７０，
１６４０，１５６０，１５１０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２１（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７Ｈｚ），１．７−１．９（１Ｈ，ｍ），２．２−
２．４（１Ｈ，ｍ），２．７４および２．８３（３Ｈ，
ｓ），２．８−３．１（２Ｈ，ｍ），３．２−３．４
（２Ｈ，ｍ），４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），
４．３−４．６（４Ｈ，ｍ），４．７４（２Ｈ，ｓ），
４．８−５．０（１Ｈ，ｍ），５．５９（１Ｈ，ｍ），
６．８−６．９（２Ｈ，ｍ），７．０５−７．４（７
Ｈ，ｍ），９．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ） （７）ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９
（１Ｈ，ｍ），２．２−２．４（１Ｈ，ｍ），２．７８
（ｓ）および２．８９（ｓ）（３Ｈ），２．９−３．４
（４Ｈ，ｍ），４．２−４．７（４Ｈ，ｍ），４．９−
５．１（１Ｈ，ｍ），５．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈ
ｚ），７．０−７．２（２Ｈ，ｍ），７．２−７．４
（３Ｈ，ｍ），７．４−７．７（４Ｈ，ｍ），９．２０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ） （８）ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１６７５，１６３５，１５
５０，１５１０，１４５０，１３００，１２５０，１１
８０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），２．２−２．４（１Ｈ，ｍ），２．７−３．
１および３．２−３．４（７Ｈ，ｍ），３．７２（３
Ｈ，ｓ），４．２−４．６（４Ｈ，ｍ），４．８−５．
０（１Ｈ，ｍ），５．５７（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），６．８
−６．９（２Ｈ，ｍ），７．０−７．４（７Ｈ，ｍ），
８．５９（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）９．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ），１０．０４（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）
【００５８】製造例１６ 製造例１と同様にして目的化合物を得る。 ＩＲ（ＣＨＣＬ３）：３４７０，１７２５，１７１５，
１５００ｃｍ−１ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．
３３（９Ｈ，ｓ），２．１７（６Ｈ，ｓ），２．６５−
３．０（２Ｈ，ｍ），３．９５−４．１（１Ｈ，ｍ），
６．９−７．０５（４Ｈ，ｍ），１２．４６（１Ｈ，ｂ
ｒ．ｓ） 製造例１７ 製造例３と同様にして目的化合物を得る。 ＩＲ（ニート）：３４５０，３３２０，１７１０，１６
４０，１３６５ｃｍ−１ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，
δ）：１．２−１．４（９Ｈ，ｍ），２．１−２．２
（６Ｈ，ｍ），２．６５−２．９５（５Ｈ，ｍ），４．
３−４．７（３Ｈ，ｍ），６．７５−７．４（９Ｈ，
ｍ）
１５００ｃｍ−１ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．
３３（９Ｈ，ｓ），２．１７（６Ｈ，ｓ），２．６５−
３．０（２Ｈ，ｍ），３．９５−４．１（１Ｈ，ｍ），
６．９−７．０５（４Ｈ，ｍ），１２．４６（１Ｈ，ｂ
ｒ．ｓ） 製造例１７ 製造例３と同様にして目的化合物を得る。 ＩＲ（ニート）：３４５０，３３２０，１７１０，１６
４０，１３６５ｃｍ−１ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，
δ）：１．２−１．４（９Ｈ，ｍ），２．１−２．２
（６Ｈ，ｍ），２．６５−２．９５（５Ｈ，ｍ），４．
３−４．７（３Ｈ，ｍ），６．７５−７．４（９Ｈ，
ｍ）
【００５９】製造例１８ 製造例６と同様にして目的化合物を得る。 ｍｐ：９６−１０４℃ ＩＲ（ヌジョール）：３４４０，１６５０，１６１０，
１４９０，１４５０，１２８０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１−２．２５（６
Ｈ，ｍ），２．６２（ｓ）および２．６９（３Ｈ，
ｓ），２．８５−３．２（２Ｈ，ｍ），４．０−４．１
および４．３５−４．６５（３Ｈ，ｍ），６．９−７．
４（８Ｈ，ｍ），８．４９（３Ｈ，ｂｒ．ｓ） 製造例１９ 製造例８と同様にして目的化合物を得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３４５０−３３００，１６９０−
１６５０，１６４５−１６２５，１４５０，１１５５ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２−１．４５（９
Ｈ，ｍ），１．６−１．８５（１Ｈ，ｍ），１．９−
２．２（７Ｈ，ｍ），２．７−３．０（５Ｈ，ｍ），
３．１５−３．５（２Ｈ，ｍ），４．１−５．１（６
Ｈ，ｍ），６．７−７．３５（８Ｈ，ｍ），８．２５−
８．３５（１Ｈ，ｍ） 製造例２０ ４Ｎ−ＨＣｌ／ＤＯＸにかえてＴＦＡを用いる以外製造
例１４と同様にして目的化合物を得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３４５０−３２００，１６８０，
１６４０，１５６５，１４５５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），２．１−２．４（７Ｈ，ｍ），２．６５−
３．１５（５Ｈ，ｍ），３．２５−３．５（２Ｈ，
ｍ），４．２−５．１および５．５５−５．６５（６
Ｈ，ｍ），６．８−７．４（８Ｈ，ｍ），９．１−９．
３（１Ｈ，ｍ），８．６５（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），１０．
０（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）
１４９０，１４５０，１２８０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１−２．２５（６
Ｈ，ｍ），２．６２（ｓ）および２．６９（３Ｈ，
ｓ），２．８５−３．２（２Ｈ，ｍ），４．０−４．１
および４．３５−４．６５（３Ｈ，ｍ），６．９−７．
４（８Ｈ，ｍ），８．４９（３Ｈ，ｂｒ．ｓ） 製造例１９ 製造例８と同様にして目的化合物を得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３４５０−３３００，１６９０−
１６５０，１６４５−１６２５，１４５０，１１５５ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２−１．４５（９
Ｈ，ｍ），１．６−１．８５（１Ｈ，ｍ），１．９−
２．２（７Ｈ，ｍ），２．７−３．０（５Ｈ，ｍ），
３．１５−３．５（２Ｈ，ｍ），４．１−５．１（６
Ｈ，ｍ），６．７−７．３５（８Ｈ，ｍ），８．２５−
８．３５（１Ｈ，ｍ） 製造例２０ ４Ｎ−ＨＣｌ／ＤＯＸにかえてＴＦＡを用いる以外製造
例１４と同様にして目的化合物を得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３４５０−３２００，１６８０，
１６４０，１５６５，１４５５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），２．１−２．４（７Ｈ，ｍ），２．６５−
３．１５（５Ｈ，ｍ），３．２５−３．５（２Ｈ，
ｍ），４．２−５．１および５．５５−５．６５（６
Ｈ，ｍ），６．８−７．４（８Ｈ，ｍ），９．１−９．
３（１Ｈ，ｍ），８．６５（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），１０．
０（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）
【００６０】製造例２１ 原料化合物（１８．０ｇ）の水（９０ｍｌ）中懸濁液に
１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（６５．８ｍｌ）を加え
る。溶液を３７℃に加温し、１Ｎ塩酸を加えてｐＨ８．
０に調整する。次いで、この溶液に塩化コバルト（Ｉ
Ｉ）・６水和物（９０ｍｇ）とアシラーゼ（商標：アシ
ラーゼアマノ１５０００）（９００ｍｇ）を加える。反
応混合物を３７℃で一夜攪拌する。この間、１Ｎ水酸化
ナトリウム水溶液でｐＨを７．５に維持する。析出物を
濾取し、水洗後、乾燥して、目的化合物（４．７５ｇ）
を得る。 ｍｐ：＞１９２℃ ＩＲ（ヌジョール）：３４００，１６０５，１５８４，
１５１２，８８８，８４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ＋ＮａＯＤ，δ）：２．６５−３．１５
（２Ｈ，ｍ），３．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３８Ｈ
ｚ，５．７２Ｈｚ），７．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．
２４Ｈｚ，１．７０Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１．６Ｈｚ），７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２２Ｈ
ｚ）
１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（６５．８ｍｌ）を加え
る。溶液を３７℃に加温し、１Ｎ塩酸を加えてｐＨ８．
０に調整する。次いで、この溶液に塩化コバルト（Ｉ
Ｉ）・６水和物（９０ｍｇ）とアシラーゼ（商標：アシ
ラーゼアマノ１５０００）（９００ｍｇ）を加える。反
応混合物を３７℃で一夜攪拌する。この間、１Ｎ水酸化
ナトリウム水溶液でｐＨを７．５に維持する。析出物を
濾取し、水洗後、乾燥して、目的化合物（４．７５ｇ）
を得る。 ｍｐ：＞１９２℃ ＩＲ（ヌジョール）：３４００，１６０５，１５８４，
１５１２，８８８，８４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ＋ＮａＯＤ，δ）：２．６５−３．１５
（２Ｈ，ｍ），３．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３８Ｈ
ｚ，５．７２Ｈｚ），７．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．
２４Ｈｚ，１．７０Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１．６Ｈｚ），７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２２Ｈ
ｚ）
【００６１】製造例２２ 原料化合物（４．５８ｇ）とヨウ化メチル（７．８ｍ
ｌ）のＴＨＦ（４０ｍｌ）溶液を氷冷し、これに６０％
水素化ナトリウム（１．８７ｇ）を窒素雰囲気下で加え
る。混合物を室温で一夜攪拌する。混合物に水を加え、
ＴＨＦを蒸発させる。エーテルと水を加え、水層を分離
する。有機層を水で再び洗浄する。これらの水層を合わ
せ、６Ｎ塩酸で酸性（ｐＨ２）とし、分離する油状物を
酢酸エチルで抽出する。抽出物を食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥後、蒸発操作に付して、目的化合物
を油状物（４．２０ｇ）として得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：２６００，１７００ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．３４および１．４１
（９Ｈ，ｓ）；２．２２（６Ｈ，ｓ），２．６９および
２．７６（３Ｈ，ｓ）；２．９−３．３（２Ｈ，ｍ）； ６．９−７．１（３Ｈ，ｍ），８．８３（１Ｈ，ｓ） 製造例２３ 製造例１と同様にして目的化合物を得る。 ｍｐ：１１９．０−１２１．５℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３７０，１７１８，１６９０，
１５２６，８１８ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２６，１．３１
（９Ｈ，ｓ）；２．７０−３．１５（２Ｈ，ｍ）；４．
００−４．１０（１Ｈ，ｍ）；７．１０−７．３０，
７．４５−７．６０（４Ｈ，ｍ）；１２．７０（１Ｈ，
ｂｒ．ｓ）
ｌ）のＴＨＦ（４０ｍｌ）溶液を氷冷し、これに６０％
水素化ナトリウム（１．８７ｇ）を窒素雰囲気下で加え
る。混合物を室温で一夜攪拌する。混合物に水を加え、
ＴＨＦを蒸発させる。エーテルと水を加え、水層を分離
する。有機層を水で再び洗浄する。これらの水層を合わ
せ、６Ｎ塩酸で酸性（ｐＨ２）とし、分離する油状物を
酢酸エチルで抽出する。抽出物を食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥後、蒸発操作に付して、目的化合物
を油状物（４．２０ｇ）として得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：２６００，１７００ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．３４および１．４１
（９Ｈ，ｓ）；２．２２（６Ｈ，ｓ），２．６９および
２．７６（３Ｈ，ｓ）；２．９−３．３（２Ｈ，ｍ）； ６．９−７．１（３Ｈ，ｍ），８．８３（１Ｈ，ｓ） 製造例２３ 製造例１と同様にして目的化合物を得る。 ｍｐ：１１９．０−１２１．５℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３７０，１７１８，１６９０，
１５２６，８１８ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２６，１．３１
（９Ｈ，ｓ）；２．７０−３．１５（２Ｈ，ｍ）；４．
００−４．１０（１Ｈ，ｍ）；７．１０−７．３０，
７．４５−７．６０（４Ｈ，ｍ）；１２．７０（１Ｈ，
ｂｒ．ｓ）
【００６２】製造例２４ 原料化合物（５．００ｇ）の塩化メチレン（５０ｍｌ）
溶液にＴＥＡ（２．２９ｍｌ）と塩化ピバロイル（２．
０３ｍｌ）を氷冷下に加える。混合物を同温で３５分間
攪拌し、この溶液にＮ−メチルベンジルアミン（１．８
１ｇ）を加える。溶液を氷冷下で２５分間、更に１．５
時間攪拌する。濃縮後、残留物に水と酢酸エチルを加
え、有機層を分離し、炭酸水素ナトリウム水溶液、水、
０．５Ｎ塩酸および食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。濃縮後、結晶性残留物（７．１０ｇ）
をジイソプロピルエーテルで洗浄し、濾取後、乾燥し
て、目的化合物（５．２９ｇ）を得る。 ｍｐ：１０３．０−１０６℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３９０，１６９０，１６３８，
８１４，７３０，７１０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２１，１．３２
（９Ｈ，ｓ）；２．９０，２．９４（３Ｈ，ｓ）；２．
７０−３．０５（２Ｈ，ｍ）；４．４０−４．７５（３
Ｈ，ｍ）；７．０５−７．６５（９Ｈ，ｍ） 製造例２５ 製造例３と同様にして目的化合物を得る。 ｍｐ：１２６−１２７℃ ＩＲ（ヌジョール）：１６８０，１６４５ｃｍ−１ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．０５，１．１９，１．２２
および１．３７（９Ｈ，ｓ）；２．１８，２．２０およ
び２．２２（６Ｈ，ｓ）；２．８３，２．８５および
２．８９（６Ｈ，ｓ）；２．９−３．２５（２Ｈ，
ｍ）；４．３６−４．７５（２Ｈ，ｍ）；４．９５−
５．０３および５．３０−５．４５（１Ｈ，ｍ）；６．
８５−７．３（８Ｈ，ｍ）
溶液にＴＥＡ（２．２９ｍｌ）と塩化ピバロイル（２．
０３ｍｌ）を氷冷下に加える。混合物を同温で３５分間
攪拌し、この溶液にＮ−メチルベンジルアミン（１．８
１ｇ）を加える。溶液を氷冷下で２５分間、更に１．５
時間攪拌する。濃縮後、残留物に水と酢酸エチルを加
え、有機層を分離し、炭酸水素ナトリウム水溶液、水、
０．５Ｎ塩酸および食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。濃縮後、結晶性残留物（７．１０ｇ）
をジイソプロピルエーテルで洗浄し、濾取後、乾燥し
て、目的化合物（５．２９ｇ）を得る。 ｍｐ：１０３．０−１０６℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３９０，１６９０，１６３８，
８１４，７３０，７１０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２１，１．３２
（９Ｈ，ｓ）；２．９０，２．９４（３Ｈ，ｓ）；２．
７０−３．０５（２Ｈ，ｍ）；４．４０−４．７５（３
Ｈ，ｍ）；７．０５−７．６５（９Ｈ，ｍ） 製造例２５ 製造例３と同様にして目的化合物を得る。 ｍｐ：１２６−１２７℃ ＩＲ（ヌジョール）：１６８０，１６４５ｃｍ−１ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．０５，１．１９，１．２２
および１．３７（９Ｈ，ｓ）；２．１８，２．２０およ
び２．２２（６Ｈ，ｓ）；２．８３，２．８５および
２．８９（６Ｈ，ｓ）；２．９−３．２５（２Ｈ，
ｍ）；４．３６−４．７５（２Ｈ，ｍ）；４．９５−
５．０３および５．３０−５．４５（１Ｈ，ｍ）；６．
８５−７．３（８Ｈ，ｍ）
【００６３】製造例２６ 原料化合物（２．００ｇ）の酢酸エチル（７．５ｍｌ）
溶液に酢酸エチル中４Ｎ−塩化水素（１５ｍｌ）を加え
る。溶液を同温で３５分間攪拌後、濃縮する。残留物に
塩化メチレンと炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、有機
層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥後、５ｍｌ容量ま
で濃縮する（溶液Ｉ）。Ｂｏｃ−（２Ｓ，４Ｒ）−Ｐｒ
ｏ（４ＯＨ）−ＯＨ（１．０６ｇ）の塩化メチレン（１
５ｍｌ）溶液を別の反応容器で調製し、これにＴＥＡ
（０．７０ｍｌ）と塩化ピバロイル（０．６２ｍｌ）を
氷冷下に加え、混合物を同温で１５分間攪拌する。この
溶液に先に調製した溶液（溶液Ｉ）を加え、得られた溶
液を氷冷下で１時間攪拌し、室温で一夜静置する。この
溶液にＮ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパンジアミン
（０．２３ｍｌ）を加え、混合物を室温で１時間攪拌す
る。濃縮後、残留物に酢酸エチルと水を加え、有機層を
炭酸水素ナトリウム水溶液、水、０．５Ｎ塩酸、水およ
び食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。
溶媒を蒸発させて、目的化合物（２．４３ｇ）を無定形
固体として得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３４００−３２６０，２９６０，
２９３０，１６２５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１９，１．３８
（９Ｈ，ｓ）；１．５０−２．１０（２Ｈ，ｍ），２．
７０−３．１０（５Ｈ，ｍ）；３．１５−３．５０（２
Ｈ，ｍ）；４．０５−５．０５（６Ｈ，ｍ）；７．００
−７．６５（８Ｈ，ｍ）；８．２５−８．４０（１Ｈ，
ｍ）ＭＡＳＳ：Ｍ＋：５５０
溶液に酢酸エチル中４Ｎ−塩化水素（１５ｍｌ）を加え
る。溶液を同温で３５分間攪拌後、濃縮する。残留物に
塩化メチレンと炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、有機
層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥後、５ｍｌ容量ま
で濃縮する（溶液Ｉ）。Ｂｏｃ−（２Ｓ，４Ｒ）−Ｐｒ
ｏ（４ＯＨ）−ＯＨ（１．０６ｇ）の塩化メチレン（１
５ｍｌ）溶液を別の反応容器で調製し、これにＴＥＡ
（０．７０ｍｌ）と塩化ピバロイル（０．６２ｍｌ）を
氷冷下に加え、混合物を同温で１５分間攪拌する。この
溶液に先に調製した溶液（溶液Ｉ）を加え、得られた溶
液を氷冷下で１時間攪拌し、室温で一夜静置する。この
溶液にＮ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパンジアミン
（０．２３ｍｌ）を加え、混合物を室温で１時間攪拌す
る。濃縮後、残留物に酢酸エチルと水を加え、有機層を
炭酸水素ナトリウム水溶液、水、０．５Ｎ塩酸、水およ
び食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。
溶媒を蒸発させて、目的化合物（２．４３ｇ）を無定形
固体として得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３４００−３２６０，２９６０，
２９３０，１６２５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１９，１．３８
（９Ｈ，ｓ）；１．５０−２．１０（２Ｈ，ｍ），２．
７０−３．１０（５Ｈ，ｍ）；３．１５−３．５０（２
Ｈ，ｍ）；４．０５−５．０５（６Ｈ，ｍ）；７．００
−７．６５（８Ｈ，ｍ）；８．２５−８．４０（１Ｈ，
ｍ）ＭＡＳＳ：Ｍ＋：５５０
【００６４】製造例２７ 製造例２６の前半部分と同様にして目的化合物を得る。 ｍｐ：２１９−２２１℃ ＩＲ（ヌジョール）：２７５０，１６５０，１５５０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１５（３Ｈ，
ｓ），２．１９（３Ｈ，ｓ），２．５（６Ｈ，ｍ），
２．８５−３．０（１Ｈ，ｍ），３．１７−３．３５
（１Ｈ，ｍ）， ４．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，９．３Ｈ
ｚ），６．９−７．１（５Ｈ，ｍ），７．３（３Ｈ，
ｍ），９．５（２Ｈ，ｂｒ．） 製造例２８ 製造例２６の後半部分と同様にして目的化合物を得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３４５０，１６９０，１６６０
（ｓｈ），１６４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．０９，１．２１，
１．２７，１．２８，１．３７および１．３８（９Ｈ，
ｓ），１．２−１．４，１．４−１．６，２．０−２．
２（２Ｈ，ｍ），１．９９および２．１３（６Ｈ，
ｓ），２．６−２．８（４Ｈ，ｍ），３．０（３Ｈ，
ｍ），３．２−３．４５（３Ｈ，ｍ），４．１−４．７
（４Ｈ，ｍ），５．０（１Ｈ，ｍ），５．４−５．６
（１Ｈ，ｍ），６．８−７．３（８Ｈ，ｍ）
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１５（３Ｈ，
ｓ），２．１９（３Ｈ，ｓ），２．５（６Ｈ，ｍ），
２．８５−３．０（１Ｈ，ｍ），３．１７−３．３５
（１Ｈ，ｍ）， ４．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，９．３Ｈ
ｚ），６．９−７．１（５Ｈ，ｍ），７．３（３Ｈ，
ｍ），９．５（２Ｈ，ｂｒ．） 製造例２８ 製造例２６の後半部分と同様にして目的化合物を得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３４５０，１６９０，１６６０
（ｓｈ），１６４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．０９，１．２１，
１．２７，１．２８，１．３７および１．３８（９Ｈ，
ｓ），１．２−１．４，１．４−１．６，２．０−２．
２（２Ｈ，ｍ），１．９９および２．１３（６Ｈ，
ｓ），２．６−２．８（４Ｈ，ｍ），３．０（３Ｈ，
ｍ），３．２−３．４５（３Ｈ，ｍ），４．１−４．７
（４Ｈ，ｍ），５．０（１Ｈ，ｍ），５．４−５．６
（１Ｈ，ｍ），６．８−７．３（８Ｈ，ｍ）
【００６５】製造例２９ 原料化合物（２．２０ｇ）の酢酸エチル（７．５ｍｌ）
溶液に酢酸エチル中４Ｎ塩化水素（１５ｍｌ）溶液を氷
冷下に加える。溶液を同温で２時間攪拌する。濃縮後、
残留物をエーテルから結晶化して、目的化合物（１．５
９ｇ）を得る。 ｍｐ：１６８．０−１７５．０℃ ＩＲ（ヌジョール）：３２７０，１６４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６０−１．９０，
２．１０−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．８０，２．９３
（３Ｈ，ｓ），２．７０−３．４０（４Ｈ，ｍ），４．
０５−４．７５（４Ｈ，ｍ），４．８５−５．１０（１
Ｈ，ｍ），５．５０−５．６０（１Ｈ，ｍ），７．００
−７．６５（８Ｈ，ｍ），８．３０−８．８０，９．６
０−１０．１５（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），９．１７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．０８Ｈｚ）
溶液に酢酸エチル中４Ｎ塩化水素（１５ｍｌ）溶液を氷
冷下に加える。溶液を同温で２時間攪拌する。濃縮後、
残留物をエーテルから結晶化して、目的化合物（１．５
９ｇ）を得る。 ｍｐ：１６８．０−１７５．０℃ ＩＲ（ヌジョール）：３２７０，１６４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６０−１．９０，
２．１０−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．８０，２．９３
（３Ｈ，ｓ），２．７０−３．４０（４Ｈ，ｍ），４．
０５−４．７５（４Ｈ，ｍ），４．８５−５．１０（１
Ｈ，ｍ），５．５０−５．６０（１Ｈ，ｍ），７．００
−７．６５（８Ｈ，ｍ），８．３０−８．８０，９．６
０−１０．１５（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），９．１７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．０８Ｈｚ）
【００６６】実施例１ １−メチルインドール−３−カルボン酸（０．２３
ｇ）、原料化合物（０．６３ｇ）、塩化メチレン（１２
ｍｌ）およびＨＯＢＴ（０．１８ｇ）の溶液にＷＳＣ
（０．２４ｍｌ）を氷冷下に加える。溶液を同温で１時
間、室温で一夜攪拌する。溶媒を蒸発させ、反応混合物
を酢酸エチルで抽出し、有機層を炭酸水素ナトリウム水
溶液、水、０．５Ｎ塩酸、水および食塩水で順次洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を蒸発させ、残
留物をシリカゲルカラム（１００ｇ）に通し、クロロホ
ルムとメタノールの混合溶媒（５０：１）で溶出する。
目的化合物を含む画分を集め、溶媒を蒸発させる。残留
物を酢酸エチルで結晶化し、濾取後、乾燥して、目的化
合物（０．５０ｇ）を得る。 ｍｐ：１８３−１８４℃ ＩＲ（ヌジョール）：３２７０，１６８０，１６５５，
１５８０，１５７０，１５３０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），１．９−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７２
（ｓ）および２．８５（ｓ）（３Ｈ），２．９−３．３
（２Ｈ，ｍ），３．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），
３．８−４．１（１Ｈ，ｍ），３．８５（３Ｈ，ｓ），
４．３０（ｓ）および４．４３（ｓ）および４．６−
４．８（ｍ）（４Ｈ），４．９−５．２（２Ｈ，ｍ），
７．０−７．７（１２Ｈ，ｍ），７．８８（１Ｈ，
ｓ），８．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．４−
８．７（１Ｈ，ｍ）
ｇ）、原料化合物（０．６３ｇ）、塩化メチレン（１２
ｍｌ）およびＨＯＢＴ（０．１８ｇ）の溶液にＷＳＣ
（０．２４ｍｌ）を氷冷下に加える。溶液を同温で１時
間、室温で一夜攪拌する。溶媒を蒸発させ、反応混合物
を酢酸エチルで抽出し、有機層を炭酸水素ナトリウム水
溶液、水、０．５Ｎ塩酸、水および食塩水で順次洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を蒸発させ、残
留物をシリカゲルカラム（１００ｇ）に通し、クロロホ
ルムとメタノールの混合溶媒（５０：１）で溶出する。
目的化合物を含む画分を集め、溶媒を蒸発させる。残留
物を酢酸エチルで結晶化し、濾取後、乾燥して、目的化
合物（０．５０ｇ）を得る。 ｍｐ：１８３−１８４℃ ＩＲ（ヌジョール）：３２７０，１６８０，１６５５，
１５８０，１５７０，１５３０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），１．９−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７２
（ｓ）および２．８５（ｓ）（３Ｈ），２．９−３．３
（２Ｈ，ｍ），３．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），
３．８−４．１（１Ｈ，ｍ），３．８５（３Ｈ，ｓ），
４．３０（ｓ）および４．４３（ｓ）および４．６−
４．８（ｍ）（４Ｈ），４．９−５．２（２Ｈ，ｍ），
７．０−７．７（１２Ｈ，ｍ），７．８８（１Ｈ，
ｓ），８．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．４−
８．７（１Ｈ，ｍ）
【００６７】実施例２ 実施例１と同様にして目的化合物を得る。 （１）ｍｐ：１８３−１８４℃ ＩＲ（ヌジョール）：３２８０，１６９０，１６５０，
１５８５，１５４５，１５２０，１４５０，１３５０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），１．９−２．１（１Ｈ，ｍ），２．６−３．
３（５Ｈ，ｍ），３．５−３．７（１Ｈ，ｍ），３．７
−４．０（１Ｈ，ｍ），３．８５（３Ｈ，ｓ），４．２
−４．７（４Ｈ，ｍ），４．９−５．１（２Ｈ，ｍ），
７．０−７．６（１０Ｈ，ｍ），７．８−８．１（４
Ｈ，ｍ），８．４−８．６（１Ｈ，ｍ） （２）ｍｐ：１２４−１２６℃ ＩＲ（ヌジョール）：３４２０，３３００，１６７０，
１６４０，１６１５，１５４５，１３２５，１１６０，
１１２６，１１１０，１０６６ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６−２．４（２
Ｈ，ｍ），２．６−３．３（５Ｈ，ｍ），３．６−４．
１（２Ｈ，ｍ），４．２−４．８（４Ｈ，ｍ），５．０
−５．２（２Ｈ，ｍ），６．８−７．９（１４Ｈ，
ｍ），８．６−８．９（１Ｈ，ｍ） （３）ｍｐ：９８−１００℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３００，１６５０，１６３０，
１６１４，１５８８，１５３０，１５０４，１３３０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６−２．２（２
Ｈ，ｍ），２．５−３．２（５Ｈ，ｍ），３．５−３．
９（２Ｈ，ｍ），４．２−４．８（４Ｈ，ｍ），４．９
−５．２（２Ｈ，ｍ），６．７−６．８，７．０−７．
６ ７．７−７．８，８．０−８．２，８．５−８．６
および８．９−９．０（１４Ｈ，ｍ） （４）ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１６４０，１６３０，１５
３０，１５１０，１４６５，１４３５，１３３０，１２
２０，１１５０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），１．９−２．１（１Ｈ，ｍ），２．６−３．
１（５Ｈ，ｍ），２．８９（３Ｈ，ｓ），３．６−３．
７（１Ｈ，ｍ），３．８−４．０（１Ｈ，ｍ），３．８
６（３Ｈ，ｓ），４．２−４．６，４．６−４．８およ
び４．８−５．１（６Ｈ，ｍ），７．０−７．５（１２
Ｈ，ｍ），７．８−８．０（１Ｈ，ｍ），８．０６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．３−８．５（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），９．６４（１Ｈ，ｂｒ．ｓ） （５）ＩＲ（ヌジョール）：３４２０，３２９０，３１
００，１６５５，１６４０，１６００，１５７０，１５
３５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），１．９−２．１（１Ｈ，ｍ），２．６７
（ｓ）および２．８３（ｓ）（３Ｈ），２．８−３．２
（２Ｈ，ｍ），３．６−３．７（１Ｈ，ｍ），３．７−
４．０（４Ｈ，ｍ），４．２−５．０（４Ｈ，ｍ），
４．９−５．２（１Ｈ，ｍ），５．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝３Ｈｚ），６．９−７．４（１１Ｈ，ｍ），７．５０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．８９（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．３−
８．５（１Ｈ，ｍ） （６）ＩＲ（ヌジョール）：３４３０，３２７０，３１
００，１６５５，１６３５，１６０５，１５７０，１５
３５，１５１０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），１．９−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７０
（ｓ）および２．８１（ｓ）（３Ｈ），２．８−３．１
（２Ｈ，ｍ），３．６−３．７（１Ｈ，ｍ），３．７−
４．０（４Ｈ，ｍ），４．２−４．６（３Ｈ，ｍ），
４．６−４．８（１Ｈ，ｍ），４．８−５．１（１Ｈ，
ｍ），５．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），６．９−
７．４（１１Ｈ，ｍ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），７．９０（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），８．０６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．３−８．５（１Ｈ，ｍ） （７）ｍｐ：１８７−１８８℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３５０，３２７０，１６８５，
１６５０，１５９０，１５４５，１４５０，１２５０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），１．９−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７−３．
１（５Ｈ，ｍ），３．６−３．８および３．８−４．０
（２Ｈ，ｍ），３．８６（３Ｈ，ｓ），４．２−４．５
（３Ｈ，ｍ），４．６−４．８（１Ｈ，ｍ），４．９−
５．１（２Ｈ，ｍ），６．９−７．３（１１Ｈ，ｍ），
７．４−７．５（１Ｈ，ｍ），７．８−８．０（１Ｈ，
ｍ），８．０−８．１（１Ｈ，ｍ），８．３−８．５
（１Ｈ，ｍ） （８）ＩＲ（ヌジョール）：３３６０，１６８５，１６
５５，１５８０，１５６５，１５３０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６−１．８（１
Ｈ，ｍ），１．８−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７１
（ｓ）および２．８５（ｓ）（３Ｈ），２．８−３．３
（２Ｈ，ｍ），３．６−３．７（１Ｈ，ｍ），３．７−
４．０（１Ｈ，ｍ），３．８６（３Ｈ，ｓ），４．２−
４．７（４Ｈ，ｍ），４．８−５．１（１Ｈ，ｍ），
５．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），６．９−７．３
（７Ｈ，ｍ），７．３−７．７（５Ｈ，ｍ），７．８９
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），８．３−８．６（１Ｈ，ｍ） （９）ｍｐ：１７２−１７３℃ ＩＲ（ヌジョール）：３４３０，３２８０，１６５５，
１６３０−１６００，１５１０，１４５０，１２３５ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），１．９−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７−３．
０（５Ｈ，ｍ），３．６−３．８（１Ｈ，ｍ），３．６
９（３Ｈ，ｓ），３．８−４．０（１Ｈ，ｍ），３．８
５（３Ｈ，ｓ），４．３−４．６，４．６−４．８およ
び４．８−５．１（６Ｈ，ｍ），６．７−６．８，６．
９−７．３および７．５−７．６（１２Ｈ，ｍ），７．
８−８．０および８．０−８．１（２Ｈ，ｍ），８．３
−８．５（１Ｈ，ｍ）
１５８５，１５４５，１５２０，１４５０，１３５０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），１．９−２．１（１Ｈ，ｍ），２．６−３．
３（５Ｈ，ｍ），３．５−３．７（１Ｈ，ｍ），３．７
−４．０（１Ｈ，ｍ），３．８５（３Ｈ，ｓ），４．２
−４．７（４Ｈ，ｍ），４．９−５．１（２Ｈ，ｍ），
７．０−７．６（１０Ｈ，ｍ），７．８−８．１（４
Ｈ，ｍ），８．４−８．６（１Ｈ，ｍ） （２）ｍｐ：１２４−１２６℃ ＩＲ（ヌジョール）：３４２０，３３００，１６７０，
１６４０，１６１５，１５４５，１３２５，１１６０，
１１２６，１１１０，１０６６ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６−２．４（２
Ｈ，ｍ），２．６−３．３（５Ｈ，ｍ），３．６−４．
１（２Ｈ，ｍ），４．２−４．８（４Ｈ，ｍ），５．０
−５．２（２Ｈ，ｍ），６．８−７．９（１４Ｈ，
ｍ），８．６−８．９（１Ｈ，ｍ） （３）ｍｐ：９８−１００℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３００，１６５０，１６３０，
１６１４，１５８８，１５３０，１５０４，１３３０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６−２．２（２
Ｈ，ｍ），２．５−３．２（５Ｈ，ｍ），３．５−３．
９（２Ｈ，ｍ），４．２−４．８（４Ｈ，ｍ），４．９
−５．２（２Ｈ，ｍ），６．７−６．８，７．０−７．
６ ７．７−７．８，８．０−８．２，８．５−８．６
および８．９−９．０（１４Ｈ，ｍ） （４）ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：１６４０，１６３０，１５
３０，１５１０，１４６５，１４３５，１３３０，１２
２０，１１５０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），１．９−２．１（１Ｈ，ｍ），２．６−３．
１（５Ｈ，ｍ），２．８９（３Ｈ，ｓ），３．６−３．
７（１Ｈ，ｍ），３．８−４．０（１Ｈ，ｍ），３．８
６（３Ｈ，ｓ），４．２−４．６，４．６−４．８およ
び４．８−５．１（６Ｈ，ｍ），７．０−７．５（１２
Ｈ，ｍ），７．８−８．０（１Ｈ，ｍ），８．０６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．３−８．５（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），９．６４（１Ｈ，ｂｒ．ｓ） （５）ＩＲ（ヌジョール）：３４２０，３２９０，３１
００，１６５５，１６４０，１６００，１５７０，１５
３５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），１．９−２．１（１Ｈ，ｍ），２．６７
（ｓ）および２．８３（ｓ）（３Ｈ），２．８−３．２
（２Ｈ，ｍ），３．６−３．７（１Ｈ，ｍ），３．７−
４．０（４Ｈ，ｍ），４．２−５．０（４Ｈ，ｍ），
４．９−５．２（１Ｈ，ｍ），５．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝３Ｈｚ），６．９−７．４（１１Ｈ，ｍ），７．５０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．８９（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．３−
８．５（１Ｈ，ｍ） （６）ＩＲ（ヌジョール）：３４３０，３２７０，３１
００，１６５５，１６３５，１６０５，１５７０，１５
３５，１５１０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），１．９−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７０
（ｓ）および２．８１（ｓ）（３Ｈ），２．８−３．１
（２Ｈ，ｍ），３．６−３．７（１Ｈ，ｍ），３．７−
４．０（４Ｈ，ｍ），４．２−４．６（３Ｈ，ｍ），
４．６−４．８（１Ｈ，ｍ），４．８−５．１（１Ｈ，
ｍ），５．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），６．９−
７．４（１１Ｈ，ｍ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），７．９０（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），８．０６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．３−８．５（１Ｈ，ｍ） （７）ｍｐ：１８７−１８８℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３５０，３２７０，１６８５，
１６５０，１５９０，１５４５，１４５０，１２５０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），１．９−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７−３．
１（５Ｈ，ｍ），３．６−３．８および３．８−４．０
（２Ｈ，ｍ），３．８６（３Ｈ，ｓ），４．２−４．５
（３Ｈ，ｍ），４．６−４．８（１Ｈ，ｍ），４．９−
５．１（２Ｈ，ｍ），６．９−７．３（１１Ｈ，ｍ），
７．４−７．５（１Ｈ，ｍ），７．８−８．０（１Ｈ，
ｍ），８．０−８．１（１Ｈ，ｍ），８．３−８．５
（１Ｈ，ｍ） （８）ＩＲ（ヌジョール）：３３６０，１６８５，１６
５５，１５８０，１５６５，１５３０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６−１．８（１
Ｈ，ｍ），１．８−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７１
（ｓ）および２．８５（ｓ）（３Ｈ），２．８−３．３
（２Ｈ，ｍ），３．６−３．７（１Ｈ，ｍ），３．７−
４．０（１Ｈ，ｍ），３．８６（３Ｈ，ｓ），４．２−
４．７（４Ｈ，ｍ），４．８−５．１（１Ｈ，ｍ），
５．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），６．９−７．３
（７Ｈ，ｍ），７．３−７．７（５Ｈ，ｍ），７．８９
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），８．３−８．６（１Ｈ，ｍ） （９）ｍｐ：１７２−１７３℃ ＩＲ（ヌジョール）：３４３０，３２８０，１６５５，
１６３０−１６００，１５１０，１４５０，１２３５ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），１．９−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７−３．
０（５Ｈ，ｍ），３．６−３．８（１Ｈ，ｍ），３．６
９（３Ｈ，ｓ），３．８−４．０（１Ｈ，ｍ），３．８
５（３Ｈ，ｓ），４．３−４．６，４．６−４．８およ
び４．８−５．１（６Ｈ，ｍ），６．７−６．８，６．
９−７．３および７．５−７．６（１２Ｈ，ｍ），７．
８−８．０および８．０−８．１（２Ｈ，ｍ），８．３
−８．５（１Ｈ，ｍ）
【００６８】実施例３ 原料化合物（１．０ｇ）の塩化メチレン（２５ｍｌ）中
懸濁液にピリジン（０．６５ｇ）と塩化シンナモイル
（０．３４３ｇ）を氷冷下に加える。この混合物にテト
ラヒドロフラン（５ｍｌ）を加え、得られた溶液を同温
で１時間３０分、室温で２時間攪拌する。濃縮後、残留
物を酢酸エチルで抽出し、有機層を希炭酸水素ナトリウ
ム溶液、水、０．５Ｎ塩酸および塩化ナトリウム溶液で
順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥する。濃縮後、残
留物を酢酸エチル、ジイソプロピルエーテルおよびエー
テルの混合溶媒で結晶化し、濾過後、ジイソプロピルエ
ーテルで洗浄して、目的化合物（１．１３ｇ）を得る。 ｍｐ：９１−９４℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３５０（ｓｈ），３２９０，１
６６５，１６４５，１６１０，１５８５，１５３０ｃｍ
−１
懸濁液にピリジン（０．６５ｇ）と塩化シンナモイル
（０．３４３ｇ）を氷冷下に加える。この混合物にテト
ラヒドロフラン（５ｍｌ）を加え、得られた溶液を同温
で１時間３０分、室温で２時間攪拌する。濃縮後、残留
物を酢酸エチルで抽出し、有機層を希炭酸水素ナトリウ
ム溶液、水、０．５Ｎ塩酸および塩化ナトリウム溶液で
順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥する。濃縮後、残
留物を酢酸エチル、ジイソプロピルエーテルおよびエー
テルの混合溶媒で結晶化し、濾過後、ジイソプロピルエ
ーテルで洗浄して、目的化合物（１．１３ｇ）を得る。 ｍｐ：９１−９４℃ ＩＲ（ヌジョール）：３３５０（ｓｈ），３２９０，１
６６５，１６４５，１６１０，１５８５，１５３０ｃｍ
−１
【００６９】実施例４ 原料化合物（１．６１ｇ）とＢＳＡ（１．８９ｇ）の塩
化メチレン（３５ｍｌ）溶液にインドール−３−カルボ
ニルクロリド（０．７０ｇ）を氷冷下に加える。溶液を
同温で２時間攪拌する。溶媒を蒸発させ、残留物にＴＨ
Ｆ（２０ｍｌ）と水（５ｍｌ）の混合物を加える。混合
物を室温で２０分間攪拌する。溶液を水、希炭酸水素ナ
トリウム溶液、０．５Ｎ塩酸および塩化ナトリウム溶液
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。濃縮後、残留
物をシリカゲル（４２ｇ）カラムに通し、最初はクロロ
ホルムで、次いでクロロホルム−メタノール（１００：
１．５→１００：２濃度勾配）で溶出して、目的化合物
（１．８９ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３２５０，１７５０，１６３０，
１５１０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２０（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７Ｈｚ），１．７−２．１（２Ｈ，ｍ），２．６５
−３．０（５Ｈ，ｍ），３．６−３．７および３．８−
４．０（２Ｈ，ｍ），４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），４．２−４．５（３Ｈ，ｍ），４．６９（２Ｈ，
ｓ），４．７（１Ｈ，ｍ），４．８−５．０（２Ｈ，
ｍ），６．７−６．８（２Ｈ，ｍ），７．０−７．５
（１０Ｈ，ｍ），７．８５（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），８．０
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．４（１Ｈ，
ｍ），１１．６４（１Ｈ，ｂｒ．ｓ） 実施例５ 製造例１５および実施例１と同様の操作を順次行なって
目的化合物を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３３４０，１６３５，１６００，
１５３０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７（ｓ）および
２．８３（ｓ）（３Ｈ），２．９−３．２（２Ｈ，
ｍ），３．８６（３Ｈ，ｓ），４．３−４．８（４Ｈ，
ｍ），４．８−５．１（１Ｈ，ｍ），５．３−５．４
（１Ｈ，ｍ），５．６−５．７（１Ｈ，ｍ），６．０−
６．１（１Ｈ，ｍ），６．９−７．６（１２Ｈ，ｍ），
７．９９（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），８．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８Ｈｚ），８．５−８．７（１Ｈ，ｍ）
化メチレン（３５ｍｌ）溶液にインドール−３−カルボ
ニルクロリド（０．７０ｇ）を氷冷下に加える。溶液を
同温で２時間攪拌する。溶媒を蒸発させ、残留物にＴＨ
Ｆ（２０ｍｌ）と水（５ｍｌ）の混合物を加える。混合
物を室温で２０分間攪拌する。溶液を水、希炭酸水素ナ
トリウム溶液、０．５Ｎ塩酸および塩化ナトリウム溶液
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。濃縮後、残留
物をシリカゲル（４２ｇ）カラムに通し、最初はクロロ
ホルムで、次いでクロロホルム−メタノール（１００：
１．５→１００：２濃度勾配）で溶出して、目的化合物
（１．８９ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３２５０，１７５０，１６３０，
１５１０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２０（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７Ｈｚ），１．７−２．１（２Ｈ，ｍ），２．６５
−３．０（５Ｈ，ｍ），３．６−３．７および３．８−
４．０（２Ｈ，ｍ），４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），４．２−４．５（３Ｈ，ｍ），４．６９（２Ｈ，
ｓ），４．７（１Ｈ，ｍ），４．８−５．０（２Ｈ，
ｍ），６．７−６．８（２Ｈ，ｍ），７．０−７．５
（１０Ｈ，ｍ），７．８５（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），８．０
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．４（１Ｈ，
ｍ），１１．６４（１Ｈ，ｂｒ．ｓ） 実施例５ 製造例１５および実施例１と同様の操作を順次行なって
目的化合物を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３３４０，１６３５，１６００，
１５３０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７（ｓ）および
２．８３（ｓ）（３Ｈ），２．９−３．２（２Ｈ，
ｍ），３．８６（３Ｈ，ｓ），４．３−４．８（４Ｈ，
ｍ），４．８−５．１（１Ｈ，ｍ），５．３−５．４
（１Ｈ，ｍ），５．６−５．７（１Ｈ，ｍ），６．０−
６．１（１Ｈ，ｍ），６．９−７．６（１２Ｈ，ｍ），
７．９９（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），８．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８Ｈｚ），８．５−８．７（１Ｈ，ｍ）
【００７０】実施例６ 原料化合物（７２７ｍｇ）のエタノール（１５ｍｌ）溶
液に１Ｎ水酸化ナトリウム（１５ｍｌ）溶液を氷冷下に
加える。溶液を室温で３時間攪拌する。アルコールを蒸
発後、水を加え、溶液を凍結乾燥して、目的化合物（６
６０ｍｇ）を粉末として得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３２００，１６１０，１５１５ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．８−２．１（２
Ｈ，ｍ），２．７−３．０（２．７２および２．８５に
おけるシングレットを含む）（５Ｈ，ｍ），３．５５−
３．６５および３．７−３．９（２Ｈ，ｍ），４．１３
（２Ｈ，ｓ），４．２（１Ｈ，ｍ），４．４−４．６
（４．４４におけるシングレットを含む）（２Ｈ），
４．６８（１Ｈ，ｍ），４．８９（１Ｈ，ｍ），５．２
４（１Ｈ，ｓ），６．６−７．４（１１Ｈ，ｍ），７．
４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．８（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），８．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），８．３１
（１Ｈ，ｍ） 実施例７ 原料化合物（０．６ｇ）をメタノール（４０ｍｌ）に溶
解し、１０％パラジウム炭（０．０６ｇ）で常圧下１時
間水素添加する。触媒を濾去し、濾液を濃縮して、目的
化合物（０．６１ｇ）を無定形固体として得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３３６０，１６３０，１５３０，
１５１５，１４７０，１４３５，１３７０，１２５０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），１．９−２．１（１Ｈ，ｍ），２．６−２．
９（５Ｈ，ｍ），３．６−３．７（１Ｈ，ｍ），３．８
５（３Ｈ，ｓ），３．８−４．０（１Ｈ，ｍ），４．３
−４．５（３Ｈ，ｍ），４．６−５．１（５Ｈ，ｍ），
６．４−６．５，６．７−７．１，７．１−７．３およ
び７．４−７．５（１２Ｈ，ｍ），７．８−８．０（１
Ｈ，ｍ），８．０−８．１（１Ｈ，ｍ），８．３−８．
４（１Ｈ，ｍ）
液に１Ｎ水酸化ナトリウム（１５ｍｌ）溶液を氷冷下に
加える。溶液を室温で３時間攪拌する。アルコールを蒸
発後、水を加え、溶液を凍結乾燥して、目的化合物（６
６０ｍｇ）を粉末として得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３２００，１６１０，１５１５ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．８−２．１（２
Ｈ，ｍ），２．７−３．０（２．７２および２．８５に
おけるシングレットを含む）（５Ｈ，ｍ），３．５５−
３．６５および３．７−３．９（２Ｈ，ｍ），４．１３
（２Ｈ，ｓ），４．２（１Ｈ，ｍ），４．４−４．６
（４．４４におけるシングレットを含む）（２Ｈ），
４．６８（１Ｈ，ｍ），４．８９（１Ｈ，ｍ），５．２
４（１Ｈ，ｓ），６．６−７．４（１１Ｈ，ｍ），７．
４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．８（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），８．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），８．３１
（１Ｈ，ｍ） 実施例７ 原料化合物（０．６ｇ）をメタノール（４０ｍｌ）に溶
解し、１０％パラジウム炭（０．０６ｇ）で常圧下１時
間水素添加する。触媒を濾去し、濾液を濃縮して、目的
化合物（０．６１ｇ）を無定形固体として得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３３６０，１６３０，１５３０，
１５１５，１４７０，１４３５，１３７０，１２５０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），１．９−２．１（１Ｈ，ｍ），２．６−２．
９（５Ｈ，ｍ），３．６−３．７（１Ｈ，ｍ），３．８
５（３Ｈ，ｓ），３．８−４．０（１Ｈ，ｍ），４．３
−４．５（３Ｈ，ｍ），４．６−５．１（５Ｈ，ｍ），
６．４−６．５，６．７−７．１，７．１−７．３およ
び７．４−７．５（１２Ｈ，ｍ），７．８−８．０（１
Ｈ，ｍ），８．０−８．１（１Ｈ，ｍ），８．３−８．
４（１Ｈ，ｍ）
【００７１】実施例８ 原料化合物（０．６ｇ）をテトラヒドロフラン（６ｍ
ｌ）に溶解する。この溶液に４Ｎ−ＨＣｌ／ＤＯＸ
（０．２８ｍｌ）を氷冷下に加える。溶液を１０分間攪
拌後、濃縮する。残留物をエーテルで粉末化し、濾過
後、乾燥（４０℃、６時間）して、目的化合物（０．５
８ｇ）を得る。 ｍｐ：＞１７３℃（分解） ＩＲ（ヌジョール）：３５００−３１００，１６３０，
１５３０，１５１０，１２５０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），１．９−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７−３．
２（５Ｈ，ｍ），３．６−３．７（１Ｈ，ｍ），３．８
−４．２（４Ｈ，ｍ），７．０−７．６（１２Ｈ，
ｍ），７．９１（１Ｈ，ｓ），８．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ），８．３−８．６（１Ｈ，ｍ），４．２−
５．１（６Ｈ，ｍ），１０．３（３Ｈ，ｂｒ．ｓ） 実施例９ 実施例１と同様にして目的化合物を得る。 ｍｐ：＞１０５℃（分解） ＩＲ（ヌジョール）：３４３０−３２８０，１６４５−
１６３０，１６０５，１５３０，１４１５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７５−１．９５
（１Ｈ，ｍ），２．０−２．２（７Ｈ，ｍ），２．７０
−２．７８（３Ｈ，ｓ），２．８−３．０５（２Ｈ，
ｍ），３．６−４．０（２Ｈ，ｍ），３．８５（３Ｈ，
ｓ），４．２５−５．０５（６Ｈ，ｍ），６．７５−
７．５（１１Ｈ，ｍ），７．８−８．１（２Ｈ，ｍ），
８．３−８．５（１Ｈ，ｍ） 実施例１０ 実施例１と同様にして目的化合物を得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３３００，１６６０，１６５０，
１４６０−１４２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−２．２５（８
Ｈ，ｍ），２．６−３．１（５Ｈ，ｍ），３．５−３．
９（２Ｈ，ｍ），４．２５−５．２（６Ｈ，ｍ），６．
８−７．６および７．９５−９．０（１５Ｈ，ｍ） 実施例１１ 実施例８と同様にして目的化合物を得る。 ｍｐ：＞１４５℃（分解） ＩＲ（ヌジョール）：３２７０，１６９０，１６６０，
１５８０，１５６５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．９−２．２５（８
Ｈ，ｍ），２．６−３．１（５Ｈ，ｍ），３．６−３．
９（２Ｈ，ｍ），４．２５−５．１５（６Ｈ，ｍ），
６．７−８．０および８．４−９．３（１５Ｈ，ｍ）
ｌ）に溶解する。この溶液に４Ｎ−ＨＣｌ／ＤＯＸ
（０．２８ｍｌ）を氷冷下に加える。溶液を１０分間攪
拌後、濃縮する。残留物をエーテルで粉末化し、濾過
後、乾燥（４０℃、６時間）して、目的化合物（０．５
８ｇ）を得る。 ｍｐ：＞１７３℃（分解） ＩＲ（ヌジョール）：３５００−３１００，１６３０，
１５３０，１５１０，１２５０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−１．９（１
Ｈ，ｍ），１．９−２．１（１Ｈ，ｍ），２．７−３．
２（５Ｈ，ｍ），３．６−３．７（１Ｈ，ｍ），３．８
−４．２（４Ｈ，ｍ），７．０−７．６（１２Ｈ，
ｍ），７．９１（１Ｈ，ｓ），８．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ），８．３−８．６（１Ｈ，ｍ），４．２−
５．１（６Ｈ，ｍ），１０．３（３Ｈ，ｂｒ．ｓ） 実施例９ 実施例１と同様にして目的化合物を得る。 ｍｐ：＞１０５℃（分解） ＩＲ（ヌジョール）：３４３０−３２８０，１６４５−
１６３０，１６０５，１５３０，１４１５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７５−１．９５
（１Ｈ，ｍ），２．０−２．２（７Ｈ，ｍ），２．７０
−２．７８（３Ｈ，ｓ），２．８−３．０５（２Ｈ，
ｍ），３．６−４．０（２Ｈ，ｍ），３．８５（３Ｈ，
ｓ），４．２５−５．０５（６Ｈ，ｍ），６．７５−
７．５（１１Ｈ，ｍ），７．８−８．１（２Ｈ，ｍ），
８．３−８．５（１Ｈ，ｍ） 実施例１０ 実施例１と同様にして目的化合物を得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３３００，１６６０，１６５０，
１４６０−１４２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７−２．２５（８
Ｈ，ｍ），２．６−３．１（５Ｈ，ｍ），３．５−３．
９（２Ｈ，ｍ），４．２５−５．２（６Ｈ，ｍ），６．
８−７．６および７．９５−９．０（１５Ｈ，ｍ） 実施例１１ 実施例８と同様にして目的化合物を得る。 ｍｐ：＞１４５℃（分解） ＩＲ（ヌジョール）：３２７０，１６９０，１６６０，
１５８０，１５６５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．９−２．２５（８
Ｈ，ｍ），２．６−３．１（５Ｈ，ｍ），３．６−３．
９（２Ｈ，ｍ），４．２５−５．１５（６Ｈ，ｍ），
６．７−８．０および８．４−９．３（１５Ｈ，ｍ）
【００７２】実施例１２ １−メチルインドール−３−カルボン酸（０．２５ｇ）
の塩化メチレン（１０ｍｌ）溶液にＴＥＡ（０．２２ｍ
ｌ）および塩化ピバロイル（０．１９ｍｌ）を順次氷冷
下で加える。得られた溶液を同温で２５分間攪拌する
（溶液Ｉ）。原料化合物（０．７０ｇ）を塩化メチレン
と炭酸水素ナトリウム水溶液に分配する。有機層を分離
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、５ｍｌ容量に濃縮す
る。この溶液を先に調製した溶液（Ｉ）に加え、得られ
た溶液を一夜攪拌する。この間、温度を徐々に室温まで
昇温する。溶液にＮ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパン
ジアミン（０．０４４ｍｌ）を加え、混合物を４０分間
攪拌する。濃縮後、残留物を酢酸エチルで抽出する。有
機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、０．５Ｎ塩酸お
よび飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、次いで真空下濃縮する。この粗製物をクロロホルム
とメタノール（メタノール濃度０．５％ないし５％）の
混合物を溶離溶媒とするシリカゲルカラムクラマトグラ
フィーで精製して、目的化合物を無定形固体（０．７２
ｇ）として得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３３３０，１６４０−１６３０，
１５３０，７４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６０−２．１０
（２Ｈ，ｍ），２．６０−３．１０（５Ｈ，ｍ），３．
８６（３Ｈ，ｓ），３．５５−４．００（２Ｈ，ｍ），
４．２０−５．１０（６Ｈ，ｍ），６．９５−７．６
０，７．８０−８．５５（１４Ｈ，ｍ） ＭＡＳＳ：Ｍ＋：６０７
の塩化メチレン（１０ｍｌ）溶液にＴＥＡ（０．２２ｍ
ｌ）および塩化ピバロイル（０．１９ｍｌ）を順次氷冷
下で加える。得られた溶液を同温で２５分間攪拌する
（溶液Ｉ）。原料化合物（０．７０ｇ）を塩化メチレン
と炭酸水素ナトリウム水溶液に分配する。有機層を分離
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、５ｍｌ容量に濃縮す
る。この溶液を先に調製した溶液（Ｉ）に加え、得られ
た溶液を一夜攪拌する。この間、温度を徐々に室温まで
昇温する。溶液にＮ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパン
ジアミン（０．０４４ｍｌ）を加え、混合物を４０分間
攪拌する。濃縮後、残留物を酢酸エチルで抽出する。有
機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、０．５Ｎ塩酸お
よび飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、次いで真空下濃縮する。この粗製物をクロロホルム
とメタノール（メタノール濃度０．５％ないし５％）の
混合物を溶離溶媒とするシリカゲルカラムクラマトグラ
フィーで精製して、目的化合物を無定形固体（０．７２
ｇ）として得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３３３０，１６４０−１６３０，
１５３０，７４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６０−２．１０
（２Ｈ，ｍ），２．６０−３．１０（５Ｈ，ｍ），３．
８６（３Ｈ，ｓ），３．５５−４．００（２Ｈ，ｍ），
４．２０−５．１０（６Ｈ，ｍ），６．９５−７．６
０，７．８０−８．５５（１４Ｈ，ｍ） ＭＡＳＳ：Ｍ＋：６０７
【００７３】実施例１３ 氷冷した原料化合物（１．２５ｇ）の塩化メチレン
（６．８ｍｌ）溶液をＴＦＡ（５．１ｍｌ）で４０分間
処理する。濃縮後、塩化メチレンと炭酸水素ナトリウム
溶液を加え、有機層を分離し、塩化ナトリウム溶液で洗
浄後、硫酸ナトリウムで乾燥する。この溶液を１６ｍｌ
容量まで濃縮する（溶液Ｉ）。１−メチルインドール−
３−カルボン酸（３５０ｍｇ）の塩化メチレン（１５ｍ
ｌ）溶液にＴＥＡ（２０２ｍｇ）と塩化ピバロイル（２
４１ｍｇ）を氷冷下に加える。この溶液を同温で２０分
間攪拌後、これに先に調製した溶液（溶液Ｉ）を加え
る。得られた溶液を室温で２時間攪拌する。濃縮後、酢
酸エチルと水を加え、有機層を分離し、炭酸水素ナトリ
ウム溶液、水、０．５Ｎ塩酸および塩化ナトリウム溶液
で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥する。濃縮後、
粗製物をシリカゲルクロマトグラフィー（２４ｇ）に付
し、クロロホルムとメタノール（メタノール２％−２．
５％）の混合溶媒で溶出して、精製物（０．９５ｇ）を
得る。これに酢酸エチルを加えて結晶化する。結晶を濾
取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄後、乾燥して、目
的化合物（０．７２ｇ）を得る。 ｍｐ：２０４−２０５℃ ＩＲ（ヌジョール）：３４１０，１６４０，１５９０，
１５２５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６−２．２（２
Ｈ，ｍ），２．０８および２．１４（６Ｈ，ｓ），２．
５５−２．９（４Ｈ，ｍ），３．０−３．４（４Ｈ，
ｍ）．３．６−４．０５（５Ｈ，ｍ），４．３−４．６
（３Ｈ，ｍ），４．９５−５．１５（２Ｈ，ｍ），５．
４−５．６（１Ｈ，ｍ），６．８５−７．３（１０Ｈ，
ｍ），７．５（１Ｈ，ｍ），７．９−８．１５（２Ｈ，
ｍ）
（６．８ｍｌ）溶液をＴＦＡ（５．１ｍｌ）で４０分間
処理する。濃縮後、塩化メチレンと炭酸水素ナトリウム
溶液を加え、有機層を分離し、塩化ナトリウム溶液で洗
浄後、硫酸ナトリウムで乾燥する。この溶液を１６ｍｌ
容量まで濃縮する（溶液Ｉ）。１−メチルインドール−
３−カルボン酸（３５０ｍｇ）の塩化メチレン（１５ｍ
ｌ）溶液にＴＥＡ（２０２ｍｇ）と塩化ピバロイル（２
４１ｍｇ）を氷冷下に加える。この溶液を同温で２０分
間攪拌後、これに先に調製した溶液（溶液Ｉ）を加え
る。得られた溶液を室温で２時間攪拌する。濃縮後、酢
酸エチルと水を加え、有機層を分離し、炭酸水素ナトリ
ウム溶液、水、０．５Ｎ塩酸および塩化ナトリウム溶液
で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥する。濃縮後、
粗製物をシリカゲルクロマトグラフィー（２４ｇ）に付
し、クロロホルムとメタノール（メタノール２％−２．
５％）の混合溶媒で溶出して、精製物（０．９５ｇ）を
得る。これに酢酸エチルを加えて結晶化する。結晶を濾
取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄後、乾燥して、目
的化合物（０．７２ｇ）を得る。 ｍｐ：２０４−２０５℃ ＩＲ（ヌジョール）：３４１０，１６４０，１５９０，
１５２５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６−２．２（２
Ｈ，ｍ），２．０８および２．１４（６Ｈ，ｓ），２．
５５−２．９（４Ｈ，ｍ），３．０−３．４（４Ｈ，
ｍ）．３．６−４．０５（５Ｈ，ｍ），４．３−４．６
（３Ｈ，ｍ），４．９５−５．１５（２Ｈ，ｍ），５．
４−５．６（１Ｈ，ｍ），６．８５−７．３（１０Ｈ，
ｍ），７．５（１Ｈ，ｍ），７．９−８．１５（２Ｈ，
ｍ）
【００７４】実施例１４ ３−（３，４−ジメトキシフェニル）プロピオン酸
（０．２８ｇ）とＨＯＢＴ（０．１８ｇ）の塩化メチレ
ン（１０ｍｌ）溶液にＷＳＣ・ＨＣｌ（０．２６ｇ）を
氷冷下に加える。得られた溶液を同温で２．５時間攪拌
する（溶液Ｉ）。原料化合物（０．７０ｇ）の塩化メチ
レン（１０ｍｌ）溶液にＴＥＡ（０．２０ｍｌ）を氷冷
下に加える。溶液を同温で１．５時間攪拌する。この溶
液を先に調製した溶液Ｉに同温で加え、得られた溶液を
室温で一夜攪拌する。濃縮後、残留物を酢酸エチルで抽
出し、有機物を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、０．５
Ｎ塩酸および飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。濃縮後、残留物にジイソプロピルエーテ
ルを加え、得られる析出物を濾取し、乾燥して、目的化
合物を無定形固体（０．５３ｇ）として得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３３００，２９４０，１６３０，
１５１２ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６５−２．４５
（２Ｈ，ｍ）；２．０６，２．１３，２．１８（６Ｈ，
ｓ）；２．５５−３．２０（６Ｈ，ｍ）；２．７４，
２．７８，２．８１（３Ｈ，ｓ）；３．１５−３．９０
（２Ｈ，ｍ）；３．６７，３．６９，３．７０，３．７
２，３．７３（６Ｈ，ｓ）；４．１５−５．１５（６
Ｈ，ｍ）；６．５５−７．４０（１１Ｈ，ｍ）；８．２
５−８．４０，８．６０−８．８０（１Ｈ，ｍ） ＭＡＳＳ：Ｍ＋：６０１
（０．２８ｇ）とＨＯＢＴ（０．１８ｇ）の塩化メチレ
ン（１０ｍｌ）溶液にＷＳＣ・ＨＣｌ（０．２６ｇ）を
氷冷下に加える。得られた溶液を同温で２．５時間攪拌
する（溶液Ｉ）。原料化合物（０．７０ｇ）の塩化メチ
レン（１０ｍｌ）溶液にＴＥＡ（０．２０ｍｌ）を氷冷
下に加える。溶液を同温で１．５時間攪拌する。この溶
液を先に調製した溶液Ｉに同温で加え、得られた溶液を
室温で一夜攪拌する。濃縮後、残留物を酢酸エチルで抽
出し、有機物を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、０．５
Ｎ塩酸および飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。濃縮後、残留物にジイソプロピルエーテ
ルを加え、得られる析出物を濾取し、乾燥して、目的化
合物を無定形固体（０．５３ｇ）として得る。 ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：３３００，２９４０，１６３０，
１５１２ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６５−２．４５
（２Ｈ，ｍ）；２．０６，２．１３，２．１８（６Ｈ，
ｓ）；２．５５−３．２０（６Ｈ，ｍ）；２．７４，
２．７８，２．８１（３Ｈ，ｓ）；３．１５−３．９０
（２Ｈ，ｍ）；３．６７，３．６９，３．７０，３．７
２，３．７３（６Ｈ，ｓ）；４．１５−５．１５（６
Ｈ，ｍ）；６．５５−７．４０（１１Ｈ，ｍ）；８．２
５−８．４０，８．６０−８．８０（１Ｈ，ｍ） ＭＡＳＳ：Ｍ＋：６０１
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07K 5/06 - 5/078 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】 式： 【化１】 ［式中、Ｒ1がハロゲンおよび低級アルコキシから選ば
れる置換基１ないし３個を有していてもよいＣ6−Ｃ10
アリール；ベンゾフリル；ピリジルまたは式 【化２】 （式中、Ｒ6は水素または低級アルキル）で表わされる
基、 Ｒ2は水素または低級アルキル、 Ｒ3がハロゲン１ないし３個を有していてもよい低級ア
ルキル；アミノ；アシルアミノ；カルボキシ（低級）ア
ルコキシ；エステル化されたカルボキシ（低級）アルコ
キシ；ハロゲン；低級アルコキシ；またはニトロ、 Ｒ4は低級アルキル、 Ｒ5がモノまたはジまたはトリフェニル（低級）アルキ
ル、 Ｒ7が水素；低級アルキル；またはハロゲン； Ａはヒドロキシプロリン；またはジデヒドロプロリン、 Ｙは結合、低級アルキレンまたは低級アルケニレン、 をそれぞれ示す］で表わされる化合物およびその医薬と
して許容される塩。
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