JP3204871B2 - Magnetoresistive head - Google Patents

Magnetoresistive head

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JP3204871B2
JP3204871B2 JP11389195A JP11389195A JP3204871B2 JP 3204871 B2 JP3204871 B2 JP 3204871B2 JP 11389195 A JP11389195 A JP 11389195A JP 11389195 A JP11389195 A JP 11389195A JP 3204871 B2 JP3204871 B2 JP 3204871B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁気抵抗効果層を含む
三層素子と、前記磁気抵抗効果層に縦バイアス磁界を与
えるためのハードバイアス層とが設けられた磁気抵抗効
果型ヘッドに係り、特にハードバイアス層の材料を改善
した磁気抵抗効果型ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetoresistive head provided with a three-layer element including a magnetoresistive layer and a hard bias layer for applying a longitudinal bias magnetic field to the magnetoresistive layer. More particularly, the present invention relates to a magnetoresistive head in which the material of a hard bias layer is improved.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6は、縦バイアス層としてハードバイ
アス層を使用した磁気抵抗効果型ヘッドを記録媒体の対
向側から示した拡大図である。三層素子4は、下から軟
磁性層(SAL層)4a、非磁性層(SHUNT層)4
b、磁気抵抗効果層(MR層)4cの順に積層されてい
る。通常、磁気抵抗効果層4cはFe−Ni系合金(パ
ーマロイ)の層、非磁性層4bはタンタル(Ta)の層
であり、また軟磁性層4aは、Ni−Fe−Nb系合金
により形成される。
2. Description of the Related Art FIG. 6 is an enlarged view showing a magnetoresistive head using a hard bias layer as a vertical bias layer as viewed from a side facing a recording medium. The three-layer element 4 includes a soft magnetic layer (SAL layer) 4a, a non-magnetic layer (SHUNT layer) 4
b, a magnetoresistive layer (MR layer) 4c. Normally, the magnetoresistive layer 4c is a layer of Fe—Ni alloy (permalloy), the nonmagnetic layer 4b is a layer of tantalum (Ta), and the soft magnetic layer 4a is formed of a Ni—Fe—Nb alloy. You.

【0003】図6の磁気抵抗効果型ヘッドでは、センダ
ストなどにより形成された下部シールド層2の上に、A
23などによる下部ギャップ層11が形成され、その
上に前記三層素子4が設けられている。三層素子4の両
側には、縦バイアス層としてハードバイアス層9が形成
されている。ハイト方向(Y方向)の膜内において、ハ
ードバイアス層9上には、Cu(銅)またはW(タング
ステン)などの電気抵抗の小さい非磁性導電性材料の主
電極層5が形成されている。三層素子4とハードバイア
ス層9および主電極層5の上には、Al23などによる
上部ギャップ層12が形成され、さらにその上に下地層
3aおよびセンダストなどの上部シールド層3が形成さ
れている。このヘッドは、ハードディスクなどの磁気記
録媒体に対しY方向に対向する。Y方向が記録媒体から
の洩れ磁界の方向である。また、磁気抵抗効果型ヘッド
と磁気記録媒体との相対的な移動方向はZ方向である。
[0006] In the magnetoresistive head shown in FIG. 6, an A layer is formed on a lower shield layer 2 formed of sendust or the like.
A lower gap layer 11 of l 2 O 3 or the like is formed, and the three-layer element 4 is provided thereon. On both sides of the three-layer element 4, hard bias layers 9 are formed as vertical bias layers. In the film in the height direction (Y direction), the main electrode layer 5 made of a non-magnetic conductive material having a small electric resistance such as Cu (copper) or W (tungsten) is formed on the hard bias layer 9. An upper gap layer 12 made of Al 2 O 3 or the like is formed on the three-layer element 4, the hard bias layer 9, and the main electrode layer 5, and an underlayer 3 a and an upper shield layer 3 such as a sendust are formed thereon. Have been. This head is opposed to a magnetic recording medium such as a hard disk in the Y direction. The Y direction is the direction of the leakage magnetic field from the recording medium. The relative movement direction between the magnetoresistive head and the magnetic recording medium is the Z direction.

【0004】ハードバイアス層9は、成膜後にトラック
幅Tw方向(X方向)への磁界が印加されて磁化され、
その残留磁化により磁気抵抗効果層4cに縦バイアス磁
界が与えられて、磁気抵抗効果層4cがX方向へ単磁区
化される。検出電流は、主電極層5から縦バイアス層9
を経て三層素子4に対しX方向へ与えられる。磁気抵抗
効果素子4cに検出電流が与えられると、磁気抵抗効果
層4cからの磁界により、軟磁性層4aがハイト方向
(Y方向)に磁化される。軟磁性層4aの磁化により、
磁気抵抗効果層4cに横バイアス磁界が与えられ、磁気
抵抗効果層4cの磁区方向がハイト方向に対してほぼ4
5度に設定され、これにより磁気抵抗効果層4cでは、
磁気記録媒体からY方向へ与えられる洩れ磁界(外部磁
界)による抵抗の変化が直線性をもつようになる。ハー
ドバイアス方式の磁気抵抗効果型ヘッドでは、ハードバ
イアス層9の残留磁化により、磁気抵抗効果層4cがX
方向へ安定して単磁区化され、バルクハウゼンノイズを
低減できるものとなる。
The hard bias layer 9 is magnetized by applying a magnetic field in the track width Tw direction (X direction) after film formation.
A longitudinal bias magnetic field is applied to the magnetoresistive layer 4c by the residual magnetization, so that the magnetoresistive layer 4c is converted into a single magnetic domain in the X direction. The detection current flows from the main electrode layer 5 to the vertical bias layer 9.
Is applied to the three-layer element 4 in the X direction. When a detection current is applied to the magnetoresistive element 4c, the soft magnetic layer 4a is magnetized in the height direction (Y direction) by the magnetic field from the magnetoresistive layer 4c. Due to the magnetization of the soft magnetic layer 4a,
A lateral bias magnetic field is applied to the magnetoresistive layer 4c, and the magnetic domain direction of the magnetoresistive layer 4c is approximately 4 with respect to the height direction.
The angle is set to 5 degrees, so that in the magnetoresistive layer 4c,
The change in resistance due to the leakage magnetic field (external magnetic field) given from the magnetic recording medium in the Y direction becomes linear. In the hard bias type magnetoresistive head, the residual magnetization of the hard bias layer 9 causes the magnetoresistive layer 4 c
A single magnetic domain is stably formed in the direction, and Barkhausen noise can be reduced.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来のハードバイアス
層9の材料としては、残留磁化をある程度大きくする必
要性から、ハードディスクなどの磁気記録媒体として使
用されていた磁性材料膜を中心として研究が進められて
いる。磁気記録媒体として使用される磁性材料膜に要求
される条件は以下の〜として挙げられる。なお、図
7は、磁気特性を説明するために、磁気材料に与えられ
る外部磁界H(横軸)と磁化M(縦軸)との関係を示す
M−H曲線である。
As for the material of the conventional hard bias layer 9, research has been conducted mainly on magnetic material films used as magnetic recording media such as hard disks because of the necessity of increasing the residual magnetization to some extent. Have been. The conditions required for a magnetic material film used as a magnetic recording medium are as follows. FIG. 7 is an MH curve showing the relationship between the external magnetic field H (horizontal axis) and the magnetization M (vertical axis) given to the magnetic material in order to explain the magnetic characteristics.

【0006】残留磁化(Mr) 磁気記録媒体用の磁性膜としては、残留磁化が0.8T
(テスラ)前後が好ましいとされている。すなわち、磁
気記録のためにある程度大きな残留磁化が必要となる反
面、オーバライトのために残留磁化を無制限に大きくで
きず、よって0.8T前後となる磁性材料膜が使用され
る。
Residual magnetization (Mr) A magnetic film for a magnetic recording medium has a residual magnetization of 0.8 T
(Tesla) Before and after is considered preferable. That is, while a certain amount of remanent magnetization is required for magnetic recording, the remanent magnetization cannot be increased without limit due to overwriting, and a magnetic material film having a thickness of about 0.8 T is used.

【0007】保磁力(Hc) 磁気記録媒体用の磁性膜では、面内で2000(Oe)
程度の保磁力(Hc)が必要とされ、また磁気異方性を
付与することが好ましい。
Coercive force (Hc) In a magnetic film for a magnetic recording medium, in-plane 2000 (Oe)
A certain coercive force (Hc) is required, and it is preferable to impart magnetic anisotropy.

【0008】比抵抗(ρ) 磁気記録媒体用の磁性膜では、比抵抗(ρ)は問題とな
らない。
Specific Resistance (ρ) In a magnetic film for a magnetic recording medium, the specific resistance (ρ) does not matter.

【0009】角形比(S,S*) S=Mr/MsおよびS*=a/Hcで表わされる角形
比に関し、Sが0.8よりも大きく、S*が0.95よ
りも大きいことが必要とされている。
Squareness ratio (S, S * ) Regarding the squareness ratio represented by S = Mr / Ms and S * = a / Hc, S is larger than 0.8 and S * is larger than 0.95. is needed.

【0010】メディアノイズ 磁気記録媒体用の磁性膜では、メディアノイズを小さく
することが必要であり、磁性膜の結晶組織の最適化が要
求される。
Media Noise In a magnetic film for a magnetic recording medium, it is necessary to reduce media noise, and optimization of the crystal structure of the magnetic film is required.

【0011】一方、磁気抵抗効果型ヘッドのハードバイ
アス層9として必要とされる特性を前記〜と対比さ
せると、まずの残留磁化(Mr)についてであるが、
ハードバイアス層9が磁気抵抗効果層4cにX方向への
縦バイアス磁界を与えて単磁区化させる機能から、残留
磁化が大きいほどよい。また、今後の磁気抵抗効果型ヘ
ッドは、高密度記録された信号の読取りが要求される結
果、読取りギャップをさらに狭くする必要がある。した
がって(膜厚×残留磁化)をより大きく改善することが
要求されている。
On the other hand, when the characteristics required for the hard bias layer 9 of the magnetoresistive head are compared with the above, the first is the remanent magnetization (Mr).
Since the hard bias layer 9 applies a longitudinal bias magnetic field in the X direction to the magnetoresistive layer 4c to make it a single magnetic domain, the larger the residual magnetization, the better. Further, in the future magnetoresistive head, it is required to read a signal recorded at a high density, and as a result, it is necessary to further narrow the read gap. Therefore, it is required to further improve (film thickness x residual magnetization).

【0012】の保磁力(Hc)であるが、ハードバイ
アス層9は、磁気抵抗効果層4cのNi−Fe膜に重ね
られたときに、ある程度の大きさの面内保磁力を有して
Ni−Fe膜とのエクスチェンジ結合を示すことが必要
である。よって、ハードバイアス層9はある程度の保磁
力(Hc)が要求される。ただし、磁気記録媒体のよう
な大きな保磁力は必要ではなく、面内保磁力が最低でも
200(Oe)以上であれば実用上問題はなく、500
(Oe)以上であれば十分である。また、ハードバイア
ス層9はX方向へ磁化飽和しやすいことが好ましく、し
たがって磁気的に等方性の材料がよい。
The hard bias layer 9 has a certain magnitude of in-plane coercivity when Ni is overlaid on the Ni—Fe film of the magnetoresistive layer 4c. -It is necessary to show exchange coupling with the Fe film. Therefore, the hard bias layer 9 requires a certain coercive force (Hc). However, a large coercive force such as that of a magnetic recording medium is not required. If the in-plane coercive force is at least 200 (Oe) or more, there is no practical problem.
(Oe) or more is sufficient. It is preferable that the hard bias layer 9 be easily magnetized and saturated in the X direction. Therefore, a magnetically isotropic material is preferable.

【0013】の比抵抗(ρ)に関してであるが、磁気
抵抗効果型ヘッドでは、主電極層5からハードバイアス
層9を通して磁気抵抗効果層4cに検出電流が与えら
れ、またこの検出電流により検出出力が得られるもので
あるため、検出電流の経路となるハードバイアス層9の
比抵抗(ρ)は小さいことが必要である。
Regarding the specific resistance (ρ), in the magnetoresistive head, a detection current is applied from the main electrode layer 5 to the magnetoresistive layer 4c through the hard bias layer 9, and a detection output is given by the detection current. Therefore, it is necessary that the specific resistance (ρ) of the hard bias layer 9 serving as the path of the detection current be small.

【0014】またハードバイアス層では、の角形比に
ついてはあまりこだわる必要がなく、またのメディア
のノイズについてはどうでもよい。すなわちメディアノ
イズを抑制させるための結晶組織の最適化は必要とされ
ない。
In the hard bias layer, it is not necessary to be particular about the squareness ratio, and it does not matter about the noise of the medium. That is, it is not necessary to optimize the crystal structure for suppressing the media noise.

【0015】従来の磁気抵抗効果型ヘッドでは、前記
〜で示す条件を満たすものとして開発された磁気記録
媒体用の磁性材料のうち、ハードバイアス層9の条件と
して必要な比抵抗(ρ)が低いなどの材料に着目され、
その代表的なものとしてCo−Pt(コバルト−白金)
系合金や、Co−Cr−Pt(コバルト−クロム−白
金)系合金を使用することが検討されてきている。
In the conventional magnetoresistive head, among the magnetic materials for magnetic recording media developed to satisfy the above conditions, the specific resistance (ρ) required as the condition of the hard bias layer 9 is low. Focus on materials such as
A typical example is Co-Pt (cobalt-platinum).
It has been studied to use a base alloy or a Co-Cr-Pt (cobalt-chromium-platinum) base alloy.

【0016】ここで、Co−Pt系合金では、Ptの濃
度を高めることにより、保磁力を大きくすることができ
る。また磁気抵抗効果型ヘッドでは、耐食性が要求さ
れ、前記Ptの濃度を高めることにより耐食性をある程
度高めることが可能である。ただし、Ptの濃度を高く
していくと、残留磁化(Mr)が低下することになる。
このように、Co−Pt系合金では、耐食性と磁気特性
とがトレードオフの関係となる。
Here, in a Co—Pt alloy, the coercive force can be increased by increasing the concentration of Pt. Further, in the magnetoresistive head, corrosion resistance is required, and it is possible to increase the corrosion resistance to some extent by increasing the concentration of Pt. However, as the Pt concentration increases, the residual magnetization (Mr) decreases.
Thus, in the Co-Pt alloy, there is a trade-off between the corrosion resistance and the magnetic properties.

【0017】またCo−Pt系合金にCrを添加したC
o−Cr−Pt系合金では、Co−Ptに比べて耐食性
を向上させることが可能である。しかしCrを添加する
と、その濃度がわずかであっても、残留磁化(Mr)が
低下し、また比抵抗(ρ)が増大することになる。
[0017] In addition, C in which Cr is added to a Co-Pt alloy
An o-Cr-Pt-based alloy can improve corrosion resistance as compared with Co-Pt. However, when Cr is added, the remanence (Mr) decreases and the specific resistance (ρ) increases even if the concentration is slight.

【0018】Co−Pt系合金やCo−Cr−Pt系合
金のように、従来の磁気記録媒体用の磁性膜材料をハー
ドバイアス層に転用した場合、磁気特性と耐食性の双方
を向上させることが難しい。さらに今後の狭ギャップの
磁気抵抗効果型ヘッドのように、膜厚が小さくしかも適
正な磁気特性が要求されるハードバイアス層の材料とし
ては、Co−Pt系合金やCo−Cr−Pt系合金に変
わる磁性材料の開発が望まれている。
When a conventional magnetic film material for a magnetic recording medium such as a Co-Pt-based alloy or a Co-Cr-Pt-based alloy is diverted to a hard bias layer, both magnetic properties and corrosion resistance can be improved. difficult. Further, as a material for a hard bias layer having a small film thickness and appropriate magnetic properties, such as a future narrow gap magnetoresistive head, a Co-Pt alloy or a Co-Cr-Pt alloy is used. The development of magnetic materials that are changing is desired.

【0019】本発明は上記従来の課題を解決するもので
あり、従来に比べて、磁気特性を向上でき、さらに耐食
性も向上できる磁性材料膜によりハードバイアス層を形
成した磁気抵抗効果型ヘッドを提供することを目的とし
ている。
The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and provides a magnetoresistive head in which a hard bias layer is formed by a magnetic material film capable of improving magnetic characteristics and improving corrosion resistance as compared with the prior art. It is intended to be.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明は、磁気抵抗効果
層の両側に位置して磁気抵抗効果層に縦バイアス磁界を
与えるハードバイアス層が設けられた磁気抵抗効果型ヘ
ッドにおいて、前記ハードバイアス層が、Co−Ni−
Pt系合金により形成されており、Niの濃度が10〜
20(at%)で、Ptの濃度が13〜19(at%)
であることを特徴とするものである。
According to the present invention, there is provided a magnetoresistive head having a hard bias layer provided on both sides of the magnetoresistive layer for applying a longitudinal bias magnetic field to the magnetoresistive layer. If the layer is Co-Ni-
It is formed of a Pt-based alloy and has a Ni concentration of 10 to 10.
20 (at%), the concentration of Pt is 13 to 19 (at%)
It is characterized by being.

【0021】[0021]

【0022】[0022]

【0023】[0023]

【0024】[0024]

【作用】従来のハードバイアス層は磁気記録媒体用とし
て開発された磁性膜を使用していたが、本発明では、磁
気記録媒体用の磁性膜として要求される特性と、磁気抵
抗効果型ヘッドのハードバイアス層の磁性膜として要求
される特性とが必ずしも同一ではないことに着目してな
されたものである。さらに詳しくは、ハードバイアス層
を形成する磁性膜では、磁気記録媒体用の磁性膜のよう
な高い保磁力(Hc)は不要であり、むしろ残留磁化と
比抵抗と耐食性の方が重要な要素であることに着目し、
これを満たす材料としてCo−Ni−Pt系合金を用い
たものである。
In the conventional hard bias layer, a magnetic film developed for a magnetic recording medium is used. However, according to the present invention, the characteristics required for a magnetic film for a magnetic recording medium and the characteristics of a magnetoresistive head can be improved. This is done by paying attention to the fact that the characteristics required for the magnetic film of the hard bias layer are not always the same. More specifically, the magnetic film forming the hard bias layer does not require a high coercive force (Hc) like a magnetic film for a magnetic recording medium, and rather the residual magnetization, the specific resistance and the corrosion resistance are more important factors. Focusing on something,
A Co-Ni-Pt-based alloy is used as a material satisfying this.

【0025】Co−Ni−Pt系合金は、従来のハード
バイアス層に用いられていたCo−Pt系合金に比較し
て、残留磁化(Mr)を大きくでき、また飽和磁化(M
s)も若干大きくできる。保磁力(Hc)はCo−Pt
系合金よりも小さくなるが、ハードバイアス層として必
要とされる200(Oe)以上、さらに500(Oe)
以上は十分に確保できる。しかも、Co−Ni−Pt系
合金は、耐食性において従来の材料よりも優れたものと
なる。
The Co—Ni—Pt alloy can increase the remanent magnetization (Mr) and the saturation magnetization (Mr) as compared with the Co—Pt alloy used for the conventional hard bias layer.
s) can also be slightly increased. Coercive force (Hc) is Co-Pt
200 (Oe) or more, which is required as a hard bias layer, and further 500 (Oe)
The above can be sufficiently secured. In addition, the Co—Ni—Pt-based alloy has better corrosion resistance than conventional materials.

【0026】まず、ハードバイアス層の磁性膜として要
求される残留磁化であるが、表1に示すように、Niの
濃度が10〜20(at%)で、Ptの濃度が13〜1
9(at%)であると、残留磁化(Mr)を10(k
G;キロガウス)以上にでき、従来のハードバイアス層
として使用されているCo76Pt24(at%)に比べて
残留磁化を20〜30%程度向上できる。すなわち残留
磁化を10(kG)以上にできる磁性材料は、Co
(a-x)Ni(x)Pt(b)としたときに、x=10〜20
(at%)、b=13〜19(at%)、a−x=61
〜75(at%)である。
First, regarding the residual magnetization required for the magnetic film of the hard bias layer, as shown in Table 1, the Ni concentration is 10 to 20 (at%) and the Pt concentration is 13 to 1 (at%).
If it is 9 (at%), the residual magnetization (Mr) becomes 10 (k
G; kilogauss) or more, and the residual magnetization can be improved by about 20 to 30% as compared with Co 76 Pt 24 (at%) used as a conventional hard bias layer. That is, a magnetic material capable of increasing the residual magnetization to 10 (kG) or more is Co
(ax) Ni (x) Pt (b) , x = 10-20
(At%), b = 13-19 (at%), a-x = 61
7575 (at%).

【0027】[0027]

【0028】さらに、高温高湿度環境に放置し、あるい
は純水および生理食塩水に、磁性膜を浸漬したときの、
磁性膜の腐蝕状態を調べた結果、表1に示すように耐食
性の評価が「○」および「◎」となるものは、Niの濃
度xが10〜33(at%)で、Ptの濃度bが13〜
24(at%)である。ただしa+b=100(at
%)である。この範囲の組成とすることにより、ハード
バイアス層の耐食性を従来のものよりも向上させること
ができる。
Furthermore, when the magnetic film is left in a high temperature and high humidity environment or immersed in pure water and physiological saline,
As a result of examining the corrosion state of the magnetic film, as shown in Table 1, when the corrosion resistance was evaluated as “○” or “◎”, the Ni concentration x was 10 to 33 (at%) and the Pt concentration b Is 13 ~
24 (at%). However, a + b = 100 (at
%). With the composition in this range, the corrosion resistance of the hard bias layer can be improved as compared with the conventional one.

【0029】[0029]

【実施例】以下の実施例に示す磁性膜を使用したハード
バイアス層およびこのハードバイアス層を用いた磁気抵
抗効果型ヘッドの構成は図6に示したのと同じである。
すなわちAl23などによる下部ギャップ層11上に、
軟磁性層(SAL層)4a、非磁性層(SHUNT層)
4b、磁気抵抗効果層(MR層)4cが積層された三層
素子4が設けられ、この三層素子4のX方向両側を挟む
ように、下部ギャップ層11上に、ハードバイアス層9
が形成されている。また膜のハイト方向(Y方向)内部
において、ハードバイアス層9上に主電極層5が形成さ
れている。
EXAMPLE The structure of a hard bias layer using a magnetic film and the structure of a magnetoresistive head using this hard bias layer shown in the following examples are the same as those shown in FIG.
That is, on the lower gap layer 11 of Al 2 O 3 or the like,
Soft magnetic layer (SAL layer) 4a, non-magnetic layer (SHUNT layer)
4b and a three-layer element 4 in which a magnetoresistive layer (MR layer) 4c is laminated. A hard bias layer 9 is formed on the lower gap layer 11 so as to sandwich both sides of the three-layer element 4 in the X direction.
Are formed. The main electrode layer 5 is formed on the hard bias layer 9 in the height direction (Y direction) of the film.

【0030】ハードバイアス層9を構成すべき磁性材料
として、表1に試料(a)〜(m)で示す磁性膜を形成
し、磁気特性、比抵抗および耐食性について調べた。成
膜はRFコンベンショナルスパッタ装置を使用し、Co
をターゲットとし、NiとPtのそれぞれのチップを適
宜配置して膜組成を調整した。スパッタガス圧は、試料
(a)〜(j)が10(mTorr)、試料(k)〜
(m)が1(mTorr)である。以下の表1に記載さ
れている試料の膜厚はいずれも500オングストローム
とした。
The magnetic films shown in Table 1 as samples (a) to (m) were formed as magnetic materials to constitute the hard bias layer 9, and their magnetic properties, specific resistance, and corrosion resistance were examined. The film was formed using an RF conventional sputtering apparatus,
And the Ni and Pt chips were appropriately arranged to adjust the film composition. The sputtering gas pressure was 10 (mTorr) for samples (a) to (j), and sample (k) to
(M) is 1 (mTorr). The thickness of each sample described in Table 1 below was 500 Å.

【0031】飽和磁化(Ms)、残留磁化(Mr)、M
−H曲線の角形比(S,S*)、保磁力(Hc)の各磁
気特性は、振動試料型磁力計(VSM)を用いて測定し
た。この測定では、各試料に対して、±10(kOe)
の印加磁界におけるM−H曲線を求め、このM−H曲線
から前記各特性を導きだした。飽和磁化(Ms)は外部
磁界10(kOe)における磁化量である。また、比抵
抗(ρ)は、4端子法により測定した。
Saturation magnetization (Ms), residual magnetization (Mr), M
Each magnetic property of the squareness ratio (S, S * ) and coercive force (Hc) of the −H curve was measured using a vibrating sample magnetometer (VSM). In this measurement, for each sample, ± 10 (kOe)
The MH curve at the applied magnetic field was determined, and the above-described characteristics were derived from the MH curve. The saturation magnetization (Ms) is the amount of magnetization in an external magnetic field of 10 (kOe). The specific resistance (ρ) was measured by a four-terminal method.

【0032】耐食性の試験は、Al23の基板に各試料
の磁性膜を500オングストロームの膜厚にて形成した
ものを、気温80℃、相対湿度90%の高温高湿度の環
境下に96時間放置したもの、純水に24時間浸漬した
もの、および生理食塩水に24時間浸漬したもののそれ
ぞれにおいて、光学顕微鏡により表面の腐蝕状況を観測
した。このいずれかにおいて腐蝕面積が20%以上を占
めたものを「×」、腐蝕面積が5%以上20%未満のも
のを「△」、腐蝕面積が5%未満のものを「○」、いず
れも腐蝕面積が0%のものを「◎」と評価した。
The corrosion resistance test was conducted by forming a magnetic film of each sample on an Al 2 O 3 substrate with a thickness of 500 Å in an environment of high temperature and high humidity of 80 ° C. and 90% relative humidity. The corrosion state of the surface was observed with an optical microscope in each of the samples left for a period of time, those immersed in pure water for 24 hours, and those immersed in physiological saline for 24 hours. In any one of these, “×” indicates that the corrosion area occupies 20% or more, “、” indicates that the corrosion area is 5% or more and less than 20%, and “○” indicates that the corrosion area is less than 5%. Those having a corrosion area of 0% were evaluated as “◎”.

【0033】また表1において、(a)はCoが100
%の金属膜、(b)(c)がCo−Pt合金、(k)が
Co−Ni合金のそれぞれ比較例である。その他のもの
がCo−Ni−Pt系合金の本発明の実施例となるハー
ドバイアス層に使用される磁性膜である。Co−Ni−
Pt合金のそれぞれの磁性膜では、Niの濃度とPtの
濃度をそれぞれランダムに変化させており、Niの濃度
xは10〜33(at%)の範囲、Ptの濃度bは13
〜24(at%)の範囲である。
In Table 1, (a) shows that Co is 100
% (B) and (c) are Co-Pt alloys and (k) is a Co-Ni alloy. Others are magnetic films used for a hard bias layer of a Co-Ni-Pt-based alloy according to an embodiment of the present invention. Co-Ni-
In each of the magnetic films of the Pt alloy, the concentration of Ni and the concentration of Pt are randomly changed. The concentration x of Ni is in the range of 10 to 33 (at%), and the concentration b of Pt is 13
2424 (at%).

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】表1の各試料のうち、残留磁化(Mr)を
10(kG)以上にできるCo−Ni−Pt系合金は、
Co(a-x)Ni(x)Pt(b)としたときに、x=10〜2
0(at%)、b=13〜19(at%)であり、よっ
てa−x=61〜80(at%)である。これに該当す
るCo−Ni−Pt合金の試料は、(e)(f)(i)
(l)(m)であるが、いずれも耐食性試験での評価結
果が「○」および「◎」である。ここで、表1の(b)
(c)はいずれのもCo−Pt系合金であるが、Ptの
濃度が低いために耐食性試験での評価結果がいずれも
「△」である。従来のハードバイアス層として使用され
ているCo−Pt系合金は、耐食性を向上させるために
Ptの濃度を高くしており、例えばCo76Pt24(at
%)が使用されていた。このCo76Pt24(at%)で
は、前記試料と同様にして測定した残留磁化(Mr)が
7〜8(kG)程度である。
Among the samples shown in Table 1, Co-Ni-Pt alloys capable of making the remanent magnetization (Mr) 10 kG or more are as follows:
When Co (ax) Ni (x) Pt (b) , x = 10 to 2
0 (at%), b = 13 to 19 (at%), and ax = 61 to 80 (at%). Samples of the corresponding Co—Ni—Pt alloys are (e), (f), and (i).
(L) (m), all of which are evaluated by the corrosion resistance test as “○” and “◎”. Here, (b) of Table 1
(C) are all Co-Pt alloys, but the evaluation results in the corrosion resistance test are all “Δ” because the Pt concentration is low. The Co—Pt-based alloy used as the conventional hard bias layer has a high Pt concentration in order to improve the corrosion resistance. For example, Co 76 Pt 24 (at
%) Was used. In this Co 76 Pt 24 (at%), the remanent magnetization (Mr) measured in the same manner as in the sample is about 7 to 8 (kG).

【0036】したがって、x=10〜20(at%)、
b=13〜19(at%)、a−x=61〜80(at
%)の範囲の組成を持つCo(a-x)Ni(x)Pt(b)
は、従来のハードバイアス層の磁性膜よりも残留磁化
(Mr)が20〜30%程度向上でき、残留磁化を10
(kG)以上の高い値にできる。また、この範囲にある
試料の(e)(f)(i)(l)(m)では、いずれも
飽和磁化(Ms)が12.3(kG)以上の高い値とな
り、また保磁力(Hc)が435(Oe)以上、比抵抗
(ρ)が58.3(μΩ・cm)以下の低い値となる。
そして耐食性の優れたものとなる。よって、ハードバイ
アス層としてCo−Ni−Pt系合金を使用する場合、
x=10〜20(at%)、b=13〜19(at
%)、a−x=61〜80(at%)の範囲の組成とす
ることが好ましい。
Therefore, x = 10 to 20 (at%),
b = 13 to 19 (at%), ax = 61 to 80 (at
In Co having a composition in the range of%) (ax) Ni (x ) Pt (b), residual magnetization than the magnetic film of the conventional hard bias layer (Mr) can be increased by about 20-30%, the residual magnetization 10
(KG) or higher. Further, in the samples (e), (f), (i), (l) and (m) in this range, the saturation magnetization (Ms) becomes a high value of 12.3 (kG) or more, and the coercive force (Hc ) Is 435 (Oe) or more and the specific resistance (ρ) is 58.3 (μΩ · cm) or less.
And it will be excellent in corrosion resistance. Therefore, when a Co—Ni—Pt alloy is used as the hard bias layer,
x = 10 to 20 (at%), b = 13 to 19 (at
%) And a−x = 61 to 80 (at%).

【0037】次に、試料(e)〜(j)および(l)
(m)となるCo−Ni−Pt系合金は、いずれも耐食
性の評価が「○」または「◎」の優れたものとなる。耐
食性を改善できる点に着目すると、Co(a-x)Ni(x)
(b)において、Niの濃度xを10〜33(at%)
で、Ptの濃度bを13〜24(at%)とすることが
好ましい。すなわち、耐食性の優れたハードバイアス層
を構成する場合に、Niの濃度xを10〜33(at
%)で、Ptの濃度bを13〜24(at%)としたC
o−Ni−Pt系合金を使用することが好ましい。また
この組成範囲となる試料(e)〜(j)および(l)
(m)は、残留磁化(Mr)が9.4(kG)以上で比
較的高い値であり、また保磁力(Hc)も110(O
e)以上であり、さらに比抵抗(ρ)は、58.3(μ
Ω・cm)以下と低いものとなる。よって、Niの濃度
xを10〜33(at%)で、Ptの濃度bを13〜2
4(at%)の試料(e)〜(j)および(l)(m)
は、耐食性に優れるとともに、磁気特性の点からのハー
ドバイアス層の磁性膜として適したものとなる。
Next, samples (e) to (j) and (l)
Each of the Co—Ni—Pt-based alloys (m) has an excellent corrosion resistance rating of “○” or “◎”. Focusing on the fact that corrosion resistance can be improved, Co (ax) Ni (x) P
At t (b) , the concentration x of Ni is set to 10 to 33 (at%).
It is preferable that the concentration b of Pt is 13 to 24 (at%). That is, when forming a hard bias layer having excellent corrosion resistance, the concentration x of Ni is set to 10 to 33 (at
%), And the concentration b of Pt was set to 13 to 24 (at%).
It is preferable to use an o-Ni-Pt alloy. Samples (e) to (j) and (l) having this composition range
(M) is a relatively high value when the remanent magnetization (Mr) is 9.4 (kG) or more, and the coercive force (Hc) is 110 (Og).
e) and the specific resistance (ρ) is 58.3 (μ)
Ω · cm) or less. Therefore, the concentration x of Ni is 10 to 33 (at%) and the concentration b of Pt is 13 to 2 (at%).
4 (at%) of samples (e)-(j) and (l) (m)
Has excellent corrosion resistance and is suitable as a magnetic film of a hard bias layer from the viewpoint of magnetic properties.

【0038】次に、図1は、Co−Ni−Pt系合金の
Niの濃度と残留磁化(Mr)および飽和磁化(Ms)
との関係を示し、同時に比較例としてCo−Cr−Pt
系合金においてCrの濃度と残留磁化(Mr)および飽
和磁化(Ms)との関係を示している。
Next, FIG. 1 shows the Ni concentration, residual magnetization (Mr) and saturation magnetization (Ms) of the Co—Ni—Pt alloy.
And Co-Cr-Pt as a comparative example.
4 shows the relationship between the concentration of Cr and the residual magnetization (Mr) and the saturation magnetization (Ms) in a system alloy.

【0039】Co(a-x)Ni(x)Pt(b)では、bを13
(at%)に固定し、xを0(at%)から12(at
%)、20(at%)、33(at%)に増加させたも
のであり、それぞれ表1の試料(b)(e)(f)
(g)に相当している。比較例であるCo(a-x)Cr(x)
Pt(b)においても、bを13(at%)に固定し、x
を0(at%)から4(at%)、6(at%)、11
(at%)に増加させたものについて測定を行なってい
る。Co−Ni−Pt系合金とCo−Cr−Pt系合金
のそれぞれに対する磁気特性の測定方法は、表1に示し
た各特性の測定方法と同じである。また、図1において
膜厚が500オングストロームのものを中白の丸印で示
し、1000オングストロームのものを中塗りの丸印で
示している。
In Co (ax) Ni (x) Pt (b) , b is 13
(At%) and x is changed from 0 (at%) to 12 (at%).
%), 20 (at%), and 33 (at%), respectively, and the samples (b), (e), and (f) in Table 1 are respectively shown.
(G). Co (ax) Cr (x) as a comparative example
In Pt (b) , b was fixed at 13 (at%), and x
From 0 (at%) to 4 (at%), 6 (at%), 11
(At%) is measured. The measuring method of the magnetic properties for each of the Co-Ni-Pt-based alloy and the Co-Cr-Pt-based alloy is the same as the measuring method of each property shown in Table 1. In FIG. 1, those having a thickness of 500 angstroms are indicated by solid white circles, and those having a thickness of 1000 angstroms are indicated by intermediate solid circles.

【0040】(イ)(ロ)はそれぞれCo−Ni−Pt
系合金の飽和磁化(Ms)と残留磁化(Mr)、(ハ)
(ニ)はそれぞれCo−Cr−Pt系合金の飽和磁化
(Ms)と残留磁化(Mr)である。図1では、Co−
Cr−Pt系合金のCrの濃度がわずかに増加しただけ
で、飽和磁化(ハ)と残留磁化(ニ)が低下するのに対
し、Co−Ni−Pt系合金では、Niの濃度が増加し
ても飽和磁化(イ)はあまり小さくならず、むしろNi
の濃度が5〜10(at%)の範囲では飽和磁化が大き
くなる。また、Co−Ni−Pt系合金にて、Niの濃
度を高くすると、残留磁化(Mr)が大きくなる傾向と
なり、膜厚が500オングストロームの場合、Niの濃
度が5〜25(at%)の範囲にて、残留磁化(Mr)
が1.0(T;テスラ)を越える高い値となる。
(A) and (b) are Co-Ni-Pt, respectively.
Magnetization (Ms) and residual magnetization (Mr) of the base alloy, (c)
(D) shows the saturation magnetization (Ms) and residual magnetization (Mr) of the Co—Cr—Pt-based alloy, respectively. In FIG. 1, Co-
Although the saturation magnetization (c) and the remanent magnetization (d) decrease with only a slight increase in the Cr concentration of the Cr-Pt-based alloy, the Ni concentration increases in the Co-Ni-Pt-based alloy. However, the saturation magnetization (a) is not so small,
Is in the range of 5 to 10 (at%), the saturation magnetization increases. Further, in a Co—Ni—Pt-based alloy, when the concentration of Ni is increased, the residual magnetization (Mr) tends to increase. When the film thickness is 500 Å, the Ni concentration is 5 to 25 (at%). In the range, the residual magnetization (Mr)
Is a high value exceeding 1.0 (T; Tesla).

【0041】すなわち、Co−Ni−Pt系合金で膜厚
が500オングストローム程度あるいはそれ以下のハー
ドバイアス層を形成し、Ptの濃度を13(at%)程
度としたとき、Niの濃度は5〜25(at%)の範囲
に設定することが好ましく、図1から、Niの濃度のさ
らに好ましい範囲は10〜20(at%)である。
That is, when a hard bias layer having a thickness of about 500 Å or less is formed of a Co—Ni—Pt-based alloy and the Pt concentration is about 13 (at%), the Ni concentration is 5 to 5 at%. It is preferable to set the range to 25 (at%), and from FIG. 1, a more preferable range of the Ni concentration is 10 to 20 (at%).

【0042】図2は、図1と同様のCo−Ni−Pt系
合金、および比較例としてのCo−Cr−Pt系合金の
膜厚500オングストローム(中白の丸印)と1000
オングストローム(中塗りの丸印)のそれぞれにおい
て、Ptの濃度を13(at%)に固定したときの、N
iまたはCrの濃度と保磁力(Hc)との関係を示した
ものである。
FIG. 2 shows a film thickness of 500 Å (solid white circle) and 1000 Å of the same Co—Ni—Pt alloy as in FIG. 1 and a Co—Cr—Pt alloy as a comparative example.
In each of Angstroms (filled circles), when the concentration of Pt was fixed at 13 (at%), N
It shows the relationship between the concentration of i or Cr and the coercive force (Hc).

【0043】図2では、Co−Cr−Pt系合金のCr
の濃度が増加すると、保磁力(Hc)が増大するが、C
o−Ni−Pt系合金では、Niの濃度が増加すると、
保磁力(Hc)が低下することが解る。ただし、前述の
ように、ハードバイアス層を構成する磁性膜では、磁気
記録媒体に比べて高い保磁力は要求されず、保磁力(H
c)が200(Oe)以上であれば実用上問題はなく、
さらに好ましくは500(Oe)程度以上でよい。Co
−Ni−Pt系合金の膜厚が500オングストローム程
度あるいはそれ以下で、且つPtの濃度が13(at
%)程度の場合、Niの濃度が30(at%)以下であ
れば、保磁力(Hc)を200(Oe)以上にでき、約
18(at%)以下であれば保磁力(Hc)を500
(Oe)以上にできる。
FIG. 2 shows that the Co—Cr—Pt alloy
The coercive force (Hc) increases as the concentration of
In an o-Ni-Pt alloy, when the concentration of Ni increases,
It can be seen that the coercive force (Hc) decreases. However, as described above, the magnetic film constituting the hard bias layer does not require a higher coercive force than the magnetic recording medium, and the coercive force (H
If c) is 200 (Oe) or more, there is no practical problem,
More preferably, it may be about 500 (Oe) or more. Co
-The thickness of the Ni-Pt alloy is about 500 Å or less, and the Pt concentration is 13 (at
%), The coercive force (Hc) can be increased to 200 (Oe) or more if the Ni concentration is 30 (at%) or less, and the coercive force (Hc) can be reduced to about 18 (at%) or less. 500
(Oe) or more.

【0044】図3は、図1と図2に示したのと同様にP
tの濃度を13(at%)とした、Co−Ni−Pt系
合金およびCo−Cr−Pt系合金に関し、Niまたは
Crの濃度を変えたときの比抵抗(ρ)の変化を示して
いる。図3に示すように、Co−Cr−Pt系合金で
は、Crの濃度が高くなると、比抵抗(ρ)が増大し、
ハードバイアス層の材料として好ましくないことが解
る。一方、Co−Ni−Pt系合金では、Niの濃度と
無関係に、比抵抗(ρ)が低い値で安定していることが
解る。Co−Ni−Pt系合金をハードバイアス層の磁
性膜として使用した場合に、Niの濃度にかかわらず、
比抵抗(ρ)が小さくなる。
FIG. 3 is a diagram similar to FIG. 1 and FIG.
For the Co-Ni-Pt-based alloy and the Co-Cr-Pt-based alloy where the concentration of t is 13 (at%), the change in specific resistance (ρ) when the concentration of Ni or Cr is changed is shown. . As shown in FIG. 3, in the Co—Cr—Pt alloy, when the concentration of Cr increases, the specific resistance (ρ) increases,
It turns out that it is not preferable as a material of a hard bias layer. On the other hand, it can be seen that the specific resistance (ρ) is stable at a low value in the Co—Ni—Pt alloy regardless of the concentration of Ni. When a Co—Ni—Pt-based alloy is used as the magnetic film of the hard bias layer, regardless of the concentration of Ni,
The specific resistance (ρ) decreases.

【0045】図4と図5は、前記のそれぞれの図に示し
たCo−Ni−Pt系合金とCo−Cr−Pt系合金に
おいて、CrまたはNiの濃度の変化と、M−H曲線で
の角形比S,S*との関係を示している。図4と図5か
ら、Co−Ni−Pt系合金では、Niの濃度にかかわ
らず、角系比S,S*が一定であり、Co−Cr−Pt
系合金と同等であることが解る。
FIGS. 4 and 5 show the change in the concentration of Cr or Ni in the Co—Ni—Pt-based alloy and the Co—Cr—Pt-based alloy shown in each of the above figures, and the MH curves. The relationship with the squareness ratios S and S * is shown. 4 and 5 that the Co-Ni-Pt-based alloy has a constant angular system ratio S, S * regardless of the Ni concentration, and the Co-Cr-Pt
It turns out that it is equivalent to a system alloy.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上のように本発明では、磁気抵抗効果
型ヘッドのハードバイアス層を構成する磁性膜の材料と
してCo−Ni−Pt系合金を使用することにより、残
留磁化を大きくでき、磁気抵抗効果層を安定して単磁区
化でき、バルクハウゼンノイズを低減できるとともに、
耐食性にも優れ、磁気抵抗効果型ヘッドの各層の膜剥が
れなどが生じにくいものとなる。
As described above, according to the present invention, the use of a Co—Ni—Pt alloy as the material of the magnetic film constituting the hard bias layer of the magnetoresistive head can increase the residual magnetization, The resistance effect layer can be stably formed into a single magnetic domain, and Barkhausen noise can be reduced.
It is also excellent in corrosion resistance and hardly causes film peeling of each layer of the magnetoresistive head.

【0047】また、Niの濃度を10〜20(at%)
の範囲で、Ptの濃度を13〜19(at%)の範囲と
すると、Co−Ni−Pt系の磁性膜の残留磁化(M
r)を10(kG)以上にでき、従来のハードバイアス
層よりも、磁気特性を改善できるものとなる。
Further, the concentration of Ni is 10 to 20 (at%).
And the Pt concentration is in the range of 13 to 19 (at%), the residual magnetization (M.sub.M) of the Co--Ni--Pt-based magnetic film
r) can be 10 (kG) or more, and the magnetic characteristics can be improved as compared with the conventional hard bias layer.

【0048】また、Ptの濃度がほぼ13(at%)程
度のときに、Niの濃度を5〜25(at%)とするこ
とにより、残留磁化を1.0T以上にでき、やはり磁気
特性を改善できるものとなる。
Further, when the Pt concentration is approximately 13 (at%), the residual magnetization can be increased to 1.0 T or more by setting the Ni concentration to 5 to 25 (at%), and the magnetic characteristics are also improved. It can be improved.

【0049】さらに、Niの濃度を10〜33(at
%)で、Ptの濃度を13〜24(at%)とすること
により、耐食性の点で優れたハードバイアス層を形成す
ることができる。
Further, the concentration of Ni is 10 to 33 (at
%), The hard bias layer excellent in corrosion resistance can be formed by setting the concentration of Pt to 13 to 24 (at%).

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】ハードバイアス層の材料となるCo−Ni−P
t系合金と、比較例としてのCo−Cr−Pt系合金と
での、NiまたはCrの濃度と飽和磁化(Ms)および
残留磁化(Mr)との関係を示す線図、
FIG. 1 shows Co—Ni—P used as a material for a hard bias layer.
FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the concentration of Ni or Cr and the saturation magnetization (Ms) and the residual magnetization (Mr) in a t-based alloy and a Co—Cr—Pt-based alloy as a comparative example;

【図2】ハードバイアス層の材料となるCo−Ni−P
t系合金と、比較例としてのCo−Cr−Pt系合金と
での、NiまたはCrの濃度と保磁力(Hc)との関係
を示す線図、
FIG. 2 shows Co—Ni—P used as a material for a hard bias layer.
FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the coercive force (Hc) and the concentration of Ni or Cr in a t-based alloy and a Co—Cr—Pt-based alloy as a comparative example;

【図3】ハードバイアス層の材料となるCo−Ni−P
t系合金と、比較例としてのCo−Cr−Pt系合金と
での、NiまたはCrの濃度と比抵抗(ρ)との関係を
示す線図、
FIG. 3 shows Co—Ni—P used as a material for a hard bias layer.
FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the concentration of Ni or Cr and the specific resistance (ρ) between a t-based alloy and a Co—Cr—Pt-based alloy as a comparative example;

【図4】ハードバイアス層の材料となるCo−Ni−P
t系合金と、比較例としてのCo−Cr−Pt系合金と
での、NiまたはCrの濃度と角形比Sとの関係を示す
線図、
FIG. 4 shows Co—Ni—P used as a material for a hard bias layer.
FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the concentration of Ni or Cr and the squareness ratio S in a t-based alloy and a Co—Cr—Pt-based alloy as a comparative example;

【図5】ハードバイアス層の材料となるCo−Ni−P
t系合金と、比較例としてのCo−Cr−Pt系合金と
での、NiまたはCrの濃度と角形比S*との関係を示
す線図、
FIG. 5 shows Co—Ni—P used as a material of a hard bias layer.
A diagram showing a relationship between the concentration of Ni or Cr and the squareness ratio S * in a t-based alloy and a Co—Cr—Pt-based alloy as a comparative example,

【図6】ハードバイアス層を有する磁気抵抗効果型ヘッ
ドを記録媒体の対向側から拡大して示す正面図、
FIG. 6 is an enlarged front view showing a magnetoresistive head having a hard bias layer from a side facing a recording medium;

【図7】磁性材料のM−H曲線図、FIG. 7 is an MH curve diagram of a magnetic material,

【符号の説明】[Explanation of symbols]

4 三層素子 4a 軟磁性層 4b 非磁性層 4c 磁気抵抗効果層 5 主電極 9 ハードバイアス層 Reference Signs List 4 trilayer element 4a soft magnetic layer 4b nonmagnetic layer 4c magnetoresistive layer 5 main electrode 9 hard bias layer

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 5/39 Continuation of the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G11B 5/39

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 磁気抵抗効果層の両側に位置して磁気抵
抗効果層に縦バイアス磁界を与えるハードバイアス層が
設けられた磁気抵抗効果型ヘッドにおいて、前記ハード
バイアス層が、Co−Ni−Pt系合金により形成され
ており、Niの濃度が10〜20(at%)で、Ptの
濃度が13〜19(at%)であることを特徴とする磁
気抵抗効果型ヘッド。
1. A magnetoresistive head provided with a hard bias layer for applying a longitudinal bias magnetic field to the magnetoresistive layer located on both sides of the magnetoresistive layer, wherein the hard bias layer is made of Co—Ni—Pt. A magnetoresistive head made of a base alloy having a Ni concentration of 10 to 20 (at%) and a Pt concentration of 13 to 19 (at%).
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