JP3204386B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JP3204386B2
JP3204386B2 JP2563998A JP2563998A JP3204386B2 JP 3204386 B2 JP3204386 B2 JP 3204386B2 JP 2563998 A JP2563998 A JP 2563998A JP 2563998 A JP2563998 A JP 2563998A JP 3204386 B2 JP3204386 B2 JP 3204386B2
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JP
Japan
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read
write data
data transfer
read data
memory cell
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Inventor
哲治 高橋
和彦 松木
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エヌイーシーマイクロシステム株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は同一選択ワード内で
同時に2つのメモリセルのディジット線ペアを選択して
2ビット分のデータを読み書きする半導体記憶装置に関
し、特に前記ディジット線ペアとリードデータ線ペア及
びライトデータ線ペアとの間でデータを伝達するための
リード・ライトデータトランスファ回路を備える半導体
記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device for simultaneously selecting two digit line pairs of two memory cells in the same selected word to read and write 2-bit data, and in particular, to the digit line pair and a read data line. The present invention relates to a semiconductor memory device having a read / write data transfer circuit for transmitting data between a pair and a write data line pair.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年における半導体記憶装置の高集積化
及びその動作の安定化のために、同一選択ワード内で同
時に2ディジットペアを選択して2ビット分のデータを
読み書きする半導体記憶装置が提案されている。図5は
その一例の構成を示す図であり、XデコーダXDECに
つながるメインワード線Wに対してサブワードドライバ
SWDが接続され、このサブワードドライバSWDを挟
んで多数個のメモリセルCELLがマトリクス状に配列
される。また、前記サブワードドライバSWDによって
選択されるサブワード線W1,W2の同一ワード内にお
いて、前記サブワードドライバSWDを挟んだ位置にあ
るメモリセルの2つのディジット線ペアD,D- が選択
され、各ディジット線ペアはセンスアンプSAを介して
リード・ライトデータトランスファ回路RWDT1,R
WDT2において、ワード線と平行に配列されたそれぞ
れ2対(4本)のリードデータ線ペアRB1,RB1
B,RB2,RB2B、ライトデータ線ペアWB1,W
B1B,WB2,WB2Bの間でデータの伝達が行われ
る。
2. Description of the Related Art In recent years, a semiconductor memory device which selects two digit pairs at the same time in the same selected word to read and write 2-bit data has been proposed in order to increase the integration of the semiconductor memory device and stabilize its operation. Have been. FIG. 5 is a diagram showing an example of the configuration, in which a sub-word driver SWD is connected to a main word line W connected to the X decoder XDEC, and a large number of memory cells CELL are arranged in a matrix with the sub-word driver SWD interposed therebetween. Is done. Further, in the above sub-word drivers SWD by the same word of the sub-word lines W1, W2 are selected, two digit lines pairs D of the memory cell at a position sandwiching the sub-word drivers SWD, D - is selected, the digit line The pair is connected to the read / write data transfer circuits RWDT1 and RWDT1 via the sense amplifier SA.
In WDT2, two pairs (four) of read data line pairs RB1 and RB1 are arranged in parallel with the word lines.
B, RB2, RB2B, write data line pair WB1, W
Data transmission is performed between B1B, WB2, and WB2B.

【0003】このような従来の半導体記憶装置では、前
記サブワードドライバSWDを挟んで配置されている各
リード・ライトデータトランスファ回路RWDT1,R
WDT2は、それぞれリードデータトランスファRTと
ライトデータトランスファWTが同一方向に向けて一体
化された状態で配列された構成とされており、したがっ
て、各リードデータトランスファRDTとライトデータ
トランスファWDTを通過されるリードデータ線ペアR
B1,RB1B,RB2,RB2B及びライトデータ線
ペアWB1,WB1B,WB,とWB2Bはそれぞれま
とまった状態で配列されている。このため、特に2対の
リードデータ線ペアRB1,RB1B,RB2,RB2
Bの配列が固定されてしまい、そのために互いの線間容
量によって雑音が生じ、リード誤りを生じる原因となっ
ている。このため、同図にも示されているように、サブ
ワードドライブSWDを配置するために前記両リード・
ライトデータトランスファ回路RWDT1,RWDT2
の間に確保したスペースを利用し、前記した2対のリー
ドデータ線ペアRB1,RB1B,RB2,RB2Bに
ツイスト処理を施し、隣接配置されるリードデータ線を
入れ換えることで、前記した線間容量による不具合を防
止した技術が提案されている。例えば、このようなツイ
スト処理を行うものとして、特開平1−76494号公
報に記載の技術がある。
In such a conventional semiconductor memory device, each of the read / write data transfer circuits RWDT1, RWDT1, RWD1,
The WDT 2 has a configuration in which the read data transfer RT and the write data transfer WT are arranged in an integrated manner in the same direction, and therefore, the WDT 2 is passed through each of the read data transfer RDT and the write data transfer WDT. Read data line pair R
B1, RB1B, RB2, RB2B and write data line pairs WB1, WB1B, WB, and WB2B are arranged in a united state. Therefore, in particular, two read data line pairs RB1, RB1B, RB2, RB2
The arrangement of B is fixed, which causes noise due to mutual line capacitance, which causes a read error. For this reason, as shown in FIG.
Write data transfer circuits RWDT1, RWDT2
By using the space secured between the two, the two read data line pairs RB1, RB1B, RB2, and RB2B are subjected to twist processing, and the adjacently arranged read data lines are replaced with each other, so that the above-described line capacitance is used. Techniques have been proposed that prevent such problems. For example, as a technique for performing such a twist processing, there is a technique described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-76494.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年に
おける半導体記憶装置の高集積化の要求、及びプロセス
技術の進展に伴って、サブワードドライバの縮小化が可
能とされると、前記したスペースも縮小され、2対のリ
ードデータ線ペアをツイスト処理するためのスペースを
確保することが困難になる。このため、ツイスト処理に
よる前記した線間容量の問題を解決することが困難にな
り、逆に、このツイスト処理を優先するとサブワードド
ライバの周辺に無駄なスペースが生じることになり、半
導体記憶装置の高集積化、構成サイズの縮小を実現する
ことが困難になる。
However, with the recent demand for higher integration of semiconductor memory devices and the development of process technology, if the sub-word driver can be reduced in size, the above-mentioned space is also reduced. In addition, it becomes difficult to secure a space for twisting two pairs of read data lines. For this reason, it is difficult to solve the above-described problem of the line capacitance due to the twisting process. Conversely, if this twisting process is prioritized, a wasteful space is generated around the sub-word driver, and the semiconductor memory device becomes expensive. It becomes difficult to realize integration and reduction of the configuration size.

【0005】本発明の目的は、リードデータ線における
線間容量の問題を解消するとともに、高集積化及び構成
サイズの縮小を実現した半導体記憶装置を提供すること
にある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device which solves the problem of the line capacitance in a read data line, and realizes high integration and a reduced configuration size.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、第1のメモリセル領域と第2のメモリセル領域の間
にワード線を選択するためのサブワードドライバを配置
し、前記第1及び第2のメモリセル領域にはそれぞれ第
1及び第2のビット線が配置され、該第1及び第2のビ
ット線と交差する形態で複数本のリードデータ線及び複
数本のライトデータ線が前記第1及び第2のメモリセル
領域にわたって配置される半導体記憶装置において、前
記複数本のリードデータ線は第1のリードデータ線と第
2のリードデータ線とからなりこれら第1及び第2のリ
ードデータ線を前記複数本のライトデータ線の両側に分
けて配置し、前記第1のメモリセル領域と前記第2のメ
モリセル領域にそれぞれ前記第1、第2のビット線と前
記第1及び第2のリードデータ線及び前記ライトデータ
線との間を接続する第1及び第2のリードライトデータ
トランスファ接続部をそれぞれ配置し、前記第1のリー
ドデータ線は前記第1のメモリセル領域の第1のリード
ライトデータトランスファ接続部のリードデータトラン
スファで前記第1のビット線に接続され、前記第2のリ
ードデータ線は前記第2のメモリセル領域の第2のリー
ドライトデータトランスファ接続部のリードデータトラ
ンスファで前記第2のビット線に接続されることを特徴
とする。
According to the semiconductor memory device of the present invention, a sub-word driver for selecting a word line is arranged between a first memory cell region and a second memory cell region. First and second bit lines are respectively arranged in the second memory cell area, and a plurality of read data lines and a plurality of write data lines are formed so as to intersect with the first and second bit lines. In the semiconductor memory device disposed over the first and second memory cell regions, the plurality of read data lines include a first read data line and a second read data line, and the first and second read data lines are provided. Data lines are separately arranged on both sides of the plurality of write data lines, and the first and second bit lines and the first and second bit lines are respectively provided in the first memory cell region and the second memory cell region. Two And first and second read / write data transfer connections for connecting between the read data line and the write data line, respectively, wherein the first read data line is connected to a first read / write terminal of the first memory cell area. A read data transfer of a write data transfer connection is connected to the first bit line, and the second read data line is a read data transfer of a second read / write data transfer connection of the second memory cell area. It is characterized by being connected to the second bit line.

【0007】また、本発明においては、前記両側のメモ
リセル領域における各リード・ライトデータトランスフ
ァ回路は、各リード・ライトデータトランスファ回路を
構成するリードデータトランスファとライトデータトラ
ンスファが前記リードデータ線及びライトデータ線の並
列方向に沿って反対向きに配置されていることを特徴と
する。ここで、前記両側の各リード・ライトデータトラ
ンスファ回路は、前記リードデータトランスファとライ
トデータトランスファが、前記リードデータ線及びライ
トデータ線の並列方向に沿って平行状態に入れ替えて配
置した構成とされる。
Further, in the present invention, each of the read / write data transfer circuits in the memory cell areas on both sides includes a read data transfer and a write data transfer constituting each read / write data transfer circuit. It is characterized by being arranged in the opposite direction along the parallel direction of the data lines. Here, each of the read / write data transfer circuits on both sides has a configuration in which the read data transfer and the write data transfer are arranged in a parallel state along the parallel direction of the read data line and the write data line. .

【0008】リード動作時には、リードデータ線ペアは
非活性化状態のライトデータ線ペアの両側に配置してあ
るのでリードデータ線ペア間の線間容量および干渉は皆
無となり、リードデータ線ペアにツイスト処理を施すこ
とが不要となり、半導体記憶装置の高集積化、縮小化が
可能となる。また、ライト動作時は、リードデータ線ペ
アは非活性化状態であり、かつライトデータ線ペアはリ
ードデータ線ペアによって両側において挟まれた状態に
あるため、他の動作配線からの干渉がシールドされる。
In a read operation, the read data line pairs are arranged on both sides of the deactivated write data line pair, so that there is no line capacitance and no interference between the read data line pairs, and the read data line pairs are twisted. This eliminates the need for processing, and enables high integration and miniaturization of the semiconductor memory device. During a write operation, the read data line pair is in an inactive state, and the write data line pair is sandwiched on both sides by the read data line pair, so that interference from other operation wiring is shielded. You.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態を図面を
参照して説明する。図1は、本発明の半導体記憶装置で
使用されるメモリセルアレイ構成のブロック図である。
マトリクス配置された多数個のメモリセルからなるメモ
リセルアレイ群CELLと、ワード線を選択、かつドラ
イブするメインXデコーダMainXDECと、このメ
インCデコーダに接続されるサブワードドライバSub
XDECと、ディジット線をプリチャージするディジッ
トプリチャージ回路PDLと、ディジット線データをN
チャネル、Pチャネルの各トランジスタで構成されるセ
ンスアンプ回路SEN,SEPに伝達するトランスファ
ゲートTGと、YデコーダYDECと、このYデコーダ
で選択されたセンスアンプ回路で増幅したデータをリー
ドデータ線へ伝達するリードデータトランスファR−S
Wと、ライトデータ線のデータをYデコーダで選択した
ディジット線に伝達するためのライトデータトランスフ
ァW−SWで構成されている。なお、IO1〜IO4は
前記リードデータ線、ライトデータ線により入出力され
るデータ群を模式的に示したものである。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram of a memory cell array configuration used in the semiconductor memory device of the present invention.
A memory cell array group CELL including a large number of memory cells arranged in a matrix, a main X decoder MainXDEC for selecting and driving a word line, and a sub-word driver Sub connected to the main C decoder
XDEC, a digit precharge circuit PDL for precharging the digit line, and digit line data
A transfer gate TG for transmitting to sense amplifier circuits SEN and SEP constituted by channel and P channel transistors, a Y decoder YDEC, and data amplified by the sense amplifier circuit selected by the Y decoder are transmitted to a read data line. Read data transfer RS
W and a write data transfer W-SW for transmitting the data on the write data line to the digit line selected by the Y decoder. It should be noted that IO1 to IO4 schematically show data groups input and output by the read data lines and the write data lines.

【0010】図2は、図1の詳細回路を示す図であり、
特に前記リードデータトランスファとライトデータトラ
ンスファで構成されるリード・ライトデータトランスフ
ァ回路のレイアウト構成と、リードデータ線ペア及びラ
イトデータ線ペアの配置関係を示す図である。図5に示
した従来構成と同様に、メモリセルCELL、センスア
ンプ回路SA、及びリード・ライトデータトランスファ
回路RWDT1,RWDT2は、サブワードドライバS
WDを挟んでその両側に配置配置されており、前記リー
ド・ライトデータトランスファ回路RWDT1,RWD
T2において、各センスアンプSAに接続される各ディ
ジット線ペアD,D- と、これに交差されるそれぞれ2
対(4本)のリードデータ線ペアRB1,RB1B,R
B2,RB2B、ライトデータ線ペアWB1,WB1
B,WB2,WB2Bとの間でデータの伝達が行われ
る。
FIG. 2 is a diagram showing a detailed circuit of FIG.
In particular, FIG. 3 is a diagram showing a layout configuration of a read / write data transfer circuit including the read data transfer and the write data transfer, and an arrangement relationship between a read data line pair and a write data line pair. As in the conventional configuration shown in FIG. 5, the memory cell CELL, the sense amplifier circuit SA, and the read / write data transfer circuits RWDT1 and RWDT2 include a sub-word driver S
The read / write data transfer circuits RWDT1 and RWD are arranged on both sides of the WD.
In T2, the digit line pair D connected to each sense amplifier SA, D - respectively, is crossing the 2
A pair (four) of read data line pairs RB1, RB1B, R
B2, RB2B, write data line pair WB1, WB1
Data is transmitted between B, WB2, and WB2B.

【0011】ここで、前記ライトデータ線ペアWB1,
WB1B,WB2,WB2Bは、これまでと同様に1つ
にまとめられた状態で並設されているが、前記リードデ
ータ線ペアRB1,RB1B,RB2,RB2Bは各ペ
アが前記ライトデータ線ペアWB1,WB1B,WB
2,WB2Bを前記並設方向に挟むようにその両側に分
離された位置に配設されている。また、これに合わせて
前記サブワードドライバSWDを挟むリード・ライトデ
ータトランスファ回路RWDT1,RWDT2は、それ
ぞれリードデータトランスファRDTとライトデータト
ランスファWDTがディジット線D,D- の延長方向に
沿って反対向きに配設されている。すなわち、この実施
形態の場合には、サブワードドライバSWDの図示上側
のリード・ライトデータトランスファ回路RWDT1
は、図示左側にライトデータトランスファWDTが、図
示右側にリードデータトランスファRDTが配置され
る。また、サブワードドライバSWDの図示下側のリー
ド・ライトデータトランスファ回路RWDT2は、その
逆に、図示右側にライトデータトランスファWDTが、
図示左側にリードデータトランスファRDTが配置され
ている。
Here, the write data line pair WB1,
WB1B, WB2, WB2B are arranged in a united state as before, but the read data line pairs RB1, RB1B, RB2, RB2B are each paired with the write data line pair WB1, WB1B, WB
2, WB2B are arranged at positions separated on both sides thereof so as to sandwich the WB2B in the juxtaposition direction. Further, the sub-word sandwiching the driver SWD read-write data transfer circuit RWDT1 In accordance with this, RWDT2 is read data transfer RDT and the write data transfer the WDT digit line D, respectively, D - distribution in opposite directions along the extension direction of the Has been established. That is, in the case of this embodiment, the read / write data transfer circuit RWDT1 on the upper side of the drawing of the sub-word driver SWD is shown.
In the figure, a write data transfer WDT is arranged on the left side in the figure and a read data transfer RDT is arranged on the right side in the figure. On the other hand, the read / write data transfer circuit RWDT2 on the lower side of the sub-word driver SWD is provided with a write data transfer WDT on the right side of the figure.
The read data transfer RDT is arranged on the left side in the figure.

【0012】したがって、図示上側のリード・ライトデ
ータトランスファ回路RWDT1では、リードデータト
ランスファRDT上に延長されるリードデータ線ペアR
B1,RB1Bに対してディジット線ペアD,D- に対
する接続が行われ、ライトデータトランスファWDT上
に延長されるライトデータ線ペアのうちの一方、ここで
はWB1,WB1Bに対して接続が行われるが、ライト
データトランスファWDT側に延長されるリードデータ
線ペアRB2,RB2Bは単にライトデータトランスフ
ァWDT上及びその隣接位置を通過される構成とされて
いる。同様に、図示下側のリード・ライトデータトラン
スファ回路RWDT2では、リードデータトランスファ
RDT上に延長されるリードデータ線ペアRB2,RB
2Bに対してディジット線ペアD,D- に対する接続が
行われ、ライトデータトランスファWDT上に延長され
るライトデータ線ペアのうちの他方、すなわちWB2,
WB2Bに対して接続が行われるが、ライトデータトラ
ンスファWDT側に延長されるリードデータ線ペアRB
1,RB1Bは単にライトデータトランスファWDT上
及びその隣接位置を通過される構成とされている。な
お、この構成を実現するために、前記リードデータ線ペ
アRB1,RB1B,RB2,RB2B、ライトデータ
線ペアWB1,WB1B,WB2,WB2Bは、前記サ
ブワードドライバSWDが配設される領域において配線
経路が若干屈曲されている。
Therefore, in the read / write data transfer circuit RWDT1 on the upper side in the figure, the read data line pair R extended on the read data transfer RDT is provided.
B1, RB1B digit line pair D relative to, D - connection is made with respect to, one of the write data line pair to be extended on the write data transfer WDT, here WB1, but connected to WB1B is performed The read data line pair RB2, RB2B extending to the write data transfer WDT side is configured to simply pass over the write data transfer WDT and a position adjacent thereto. Similarly, in the lower read / write data transfer circuit RWDT2 in the figure, a read data line pair RB2, RB extended on the read data transfer RDT is provided.
Digit line pair D relative 2B, D - connection is made with respect to, the other of the write data line pair to be extended on the write data transfer WDT, i.e. WB2,
A connection is made to WB2B, but a read data line pair RB extended to the write data transfer WDT side.
1 and RB1B are simply passed through the write data transfer WDT and adjacent positions thereof. In order to realize this configuration, the read data line pairs RB1, RB1B, RB2, RB2B and the write data line pairs WB1, WB1B, WB2, WB2B have a wiring path in a region where the sub-word driver SWD is provided. It is slightly bent.

【0013】図3は前記リード・ライトデータトランス
ファ回路RWDTの構成を模式的に示す図であり、図2
の図示下側のリード・ライトデータトランスファ回路R
WDT2の一部を示している。このリード・ライトデー
タトランスファ回路では、図示左側にリードデータトラ
ンスファRDTが、図示右側にライトデータトランスフ
ァWDTが配設されており、かつ1つのディデット線ペ
アD,D- と、これに交差する図外のデータ線との接続
を行うためのゲートポリシリG、拡散層SD、コンタク
トCTを含む1つの素子が図示されている。この構成の
リード・ライトデータトランスファ回路RWDT2にお
いて、リードデータトランスファRTとライトデータト
ランスファWDTの左右を交換して図2の図示上側のリ
ード・ライトデータトランスファ回路RWDT1を構成
する場合には、図4(a)のように、各データトランス
ファRDT,WDTを交差的に平行移動した構成、ある
いは図4(b)のように、リード・ライトデータトラン
スファ回路RWDT2の全体を平面内で180度回転さ
せたミラー構成を採用することができる。
FIG. 3 is a diagram schematically showing the configuration of the read / write data transfer circuit RWDT.
Read / write data transfer circuit R on the lower side of FIG.
A part of WDT2 is shown. This read-write data transfer circuit, the read data transfer RDT to the left side being disposed write data transfer WDT to the right side, and one Didetto line pair D, D - and, crossing the unshown One element including a gate polysilicon G, a diffusion layer SD, and a contact CT for connection with the data line of FIG. In the read / write data transfer circuit RWDT2 having this configuration, when the left and right sides of the read data transfer RT and the write data transfer WDT are exchanged to constitute the upper read / write data transfer circuit RWDT1 in FIG. As shown in FIG. 4A, each data transfer RDT, WDT is cross-translated in parallel, or as shown in FIG. 4B, a mirror in which the entire read / write data transfer circuit RWDT2 is rotated by 180 degrees in a plane. A configuration can be employed.

【0014】以上の構成におけるリード動作を説明す
る。メインXデコーダXDECおよびサブワードドライ
バSWDで選択されたワード線W2によりメモリセルC
ELLからメモリセルデータがセンスアンプ回路SAに
伝達される。センスアンプ回路SAで増幅されたメモリ
セルデータは同時に活性化する2台のYデコーダ(図示
せず)により選択されたリードデータトランスファRD
Tのみがディジット線ペアD,D- からリードデータ線
ペアRB1,RB1B,RB2,RB2Bにメモリセル
データを伝達する。2組のリードデータ線ペアRB1,
RB1Bとリードデータ線ペアRB2,RB2Bは非活
性化状態の2組のライトデータ線ペアWB1,WB1
B,WB2,WB2Bの両側に配置してあるのでリード
データ線ペア間の線間容量および干渉は皆無となる。ち
なみに、図2に示した従来構造では隣接しているリード
データ線ペア間の線間容量は0.3PF程度である。し
たがって、従来のようなリードデータ線ペアに対してサ
ブワードドライバSWDの配置領域においてツイスト処
理を施すことが不要となり、半導体記憶装置の高集積
化、縮小化が可能となる。
The read operation in the above configuration will be described. The memory cell C is connected to the word line W2 selected by the main X decoder XDEC and the sub-word driver SWD.
The memory cell data is transmitted from the ELL to the sense amplifier circuit SA. The memory cell data amplified by the sense amplifier circuit SA is read data transfer RD selected by two Y decoders (not shown) activated simultaneously.
T only the digit line pair D, D - read data line pair RB1 from, RB1B, RB2, transmits the memory cell data in RB2B. Two read data line pairs RB1,
RB1B and read data line pairs RB2, RB2B are two write data line pairs WB1, WB1 in an inactive state.
Since they are arranged on both sides of B, WB2 and WB2B, there is no line capacitance and no interference between the read data line pairs. Incidentally, in the conventional structure shown in FIG. 2, the line capacitance between adjacent read data line pairs is about 0.3 PF. Therefore, it is not necessary to perform the twisting process on the read word line pair in the arrangement region of the sub-word driver SWD as in the related art, and the semiconductor memory device can be highly integrated and reduced in size.

【0015】また、ライト動作時は、前記リード動作と
逆に、リード・ライトデータトランスファ回路RWDT
1,RWDT2においてそれぞれライトデータ線ペアW
B1,WB1B,WB2,WB2Bからディジット線ペ
アD,D- にデータを伝達する。このとき、リードデー
タ線ペアRB1,RB1B,RB2,RB2Bは非活性
化状態であり、かつライトデータ線ペアWB1,WB1
B,WB2,WB2Bはリードデータ線ペアRB1,R
B1B,RB2,RB2Bによって両側において挟まれ
た状態にあるため、他の動作配線からの干渉をシールド
する効果も得られる。
At the time of write operation, the read / write data transfer circuit RWDT is performed in reverse to the read operation.
1 and RWDT2, respectively.
B1, WB1B, WB2, WB2B digit line pair from D, D - to transmit the data to. At this time, the read data line pairs RB1, RB1B, RB2, RB2B are in the inactive state, and the write data line pairs WB1, WB1
B, WB2, WB2B are read data line pairs RB1, R
Since both sides are sandwiched by B1B, RB2, and RB2B, an effect of shielding interference from other operation wiring can be obtained.

【0016】なお、前記したような、リードデータトラ
ンスファとライトデータトランスファが反対に配置され
たリード・ライトデータトランスファ回路を構成する場
合には、前記したようにリードデータトランスファRD
TとライトデータトランスファWDTを平行移動する構
成とミラー回転した構成とが採用できるが、これら両者
を比較した場合、図4(c),(d)に示すように、素
子のゲートポリGが目ずれを起こしたときには、前記し
た平行移動構成に比較してミラー構成では、ゲートポリ
GとコンタクトCTとの間の寸法が相違されることにな
ってディジット線容量のアンバランスが生じることにな
るため、このアンバランスを防止するためには平行移動
による入れ替えがより効果的なものとなる。
When a read / write data transfer circuit in which the read data transfer and the write data transfer are arranged opposite to each other as described above is constructed, as described above, the read data transfer RD
A configuration in which the T and the write data transfer WDT are translated in parallel and a configuration in which the mirror is rotated can be employed. When these two are compared, as shown in FIGS. 4C and 4D, the gate poly G of the element is misaligned. Is caused, the dimensions between the gate poly G and the contact CT are different from each other in the mirror configuration as compared with the above-described parallel movement configuration, and the digit line capacitance is unbalanced. In order to prevent imbalance, replacement by parallel movement is more effective.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、互いに並
設される複数本のリードデータ線とライトデータ線は、
リードデータ線がライトデータ線の両側に分離した状態
で延設されており、また、各データ線はサブワードドラ
イバによって分離されたメモリセル領域の各リード・ラ
イトデータトランスファ回路においてそれぞれデータ伝
達が行われる構成とされているので、リード動作時に
は、リードデータ線ペアは非活性化状態のライトデータ
線ペアによって分離されて各リードデータ線ペア間の線
間容量および干渉は皆無となり、リードデータ線ペアに
ツイスト処理を施すことが不要となり、半導体記憶装置
の高集積化、縮小化が可能となる。また、ライト動作時
は、リードデータ線ペアは非活性化状態であり、かつラ
イトデータ線ペアはリードデータ線ペアによって両側に
おいて挟まれた状態にあるため、他の動作配線からの干
渉がシールドされる。これにより、プロセス技術が進み
サブワードドライバが小さくなり、サブワードドライバ
領域でデータ線のツイスト処理ができなくても前記した
作用効果を期待することが可能となり、半導体記憶装置
の高集積化、構成サイズの縮小化が実現できる。
As described above, according to the present invention, a plurality of read data lines and write data lines arranged in
The read data line is extended on both sides of the write data line in a separated state, and each data line performs data transmission in each read / write data transfer circuit of the memory cell area separated by the sub-word driver. In the read operation, the read data line pairs are separated by the deactivated write data line pairs during the read operation, and there is no line capacitance and no interference between the read data line pairs. It is not necessary to perform the twisting process, and the semiconductor memory device can be highly integrated and reduced in size. During a write operation, the read data line pair is in an inactive state, and the write data line pair is sandwiched on both sides by the read data line pair, so that interference from other operation wiring is shielded. You. As a result, the sub-word driver becomes smaller as the process technology advances, and the above-described effects can be expected even if the twist processing of the data lines cannot be performed in the sub-word driver region. Reduction can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明が適用される半導体記憶装置の詳細レイ
アウト図である。
FIG. 1 is a detailed layout diagram of a semiconductor memory device to which the present invention is applied.

【図2】本発明の半導体記憶装置の要部の回路構成図で
ある。
FIG. 2 is a circuit configuration diagram of a main part of the semiconductor memory device of the present invention.

【図3】リード・ライトデータトランスファ回路の模式
的な構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a read / write data transfer circuit.

【図4】リード・ライトデータトランスファ回路の構成
を説明するための図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a configuration of a read / write data transfer circuit.

【図5】従来の半導体記憶装置の一部の回路構成図であ
る。
FIG. 5 is a circuit diagram of a part of a conventional semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

CELL メモリセル SWD サブワードドライバ SA センスアンプ D,D- ディジット線ペア RB1,RB1B,RB2,RB2B リードデータ線
ペア WB1,WB1B,WB2,WB2B ライトデータ線
ペア RWDT1,RWDT2 リード・ライトデータトラン
スファ回路 RDT リードデータトランスファ WDT ライトデータトランスファ W,W1,W2 ワード線 XDEC Xデコーダ
CELL memory cell SWD sub-word driver SA sense amplifier D, D - digit line pair RB1, RB1B, RB2, RB2B read data line pair WB1, WB1B, WB2, WB2B write data line pair RWDT1, RWDT2 read / write data transfer circuit RDT read data Transfer WDT Write data transfer W, W1, W2 Word line XDEC X decoder

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松木 和彦 神奈川県川崎市中原区小杉町一丁目403 番53 日本電気アイシーマイコンシステ ム株式会社内 (56)参考文献 特開 平4−283495(JP,A) 特開 平7−334985(JP,A) ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Kazuhiko Matsuki 1-403-3, Kosugi-cho, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Within NEC Ic Microcomputer System Co., Ltd. (56) References JP-A-4-283495 (JP, A) JP-A-7-334985 (JP, A)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】第1のメモリセル領域と第2のメモリセル
領域の間にワード線を選択するためのサブワードドライ
バを配置し、 前記第1及び第2のメモリセル領域にはそれぞれ第1及
び第2のビット線が配置され、該第1及び第2のビット
線と交差する形態で複数本のリードデータ線及び複数本
のライトデータ線が前記第1及び第2のメモリセル領域
にわたって配置される半導体記憶装置において、 前記複数本のリードデータ線は第1のリードデータ線と
第2のリードデータ線とからなりこれら第1及び第2の
リードデータ線を前記複数本のライトデータ線の両側に
分けて配置し、 前記第1のメモリセル領域と前記第2のメモリセル領域
にそれぞれ前記第1、第2のビット線と前記第1及び第
2のリードデータ線及び前記ライトデータ線との間を接
続する第1及び第2のリードライトデータトランスファ
接続部をそれぞれ配置し、 前記第1のリードデータ線は前記第1のメモリセル領域
の第1のリードライトデータトランスファ接続部のリー
ドデータトランスファで前記第1のビット線に接続さ
れ、 前記第2のリードデータ線は前記第2のメモリセル領域
の第2のリードライトデータトランスファ接続部のリー
ドデータトランスファで前記第2のビット線に接続され
ることを特徴とする半導体記憶装置。
1. A sub-word driver for selecting a word line is disposed between a first memory cell region and a second memory cell region, and a first and a second memory cell region are provided in the first and second memory cell regions, respectively. A second bit line is arranged, and a plurality of read data lines and a plurality of write data lines are arranged across the first and second memory cell areas in a form intersecting with the first and second bit lines. In the semiconductor memory device, the plurality of read data lines include a first read data line and a second read data line, and the first and second read data lines are connected to both sides of the plurality of write data lines. The first and second bit lines and the first and second read data lines and the write data line are respectively arranged in the first memory cell region and the second memory cell region. And first and second read / write data transfer connection sections for connecting the first and second read / write data transfer sections, respectively, wherein the first read data line is a read data transfer of a first read / write data transfer connection section of the first memory cell area. The second read data line is connected to the first bit line, and the second read data line is connected to the second bit line at a read data transfer of a second read / write data transfer connection part of the second memory cell area. A semiconductor memory device characterized by the above-mentioned.
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