JP3199765B2 - 複合イメ−ジエディタ - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明はコンピュ−タ・エイデ
ド・デサイン（ＣＡＤ）に関し、より具体的には、、ラ
スタ−とベクトルの構成要素を、単一のイメ−ジ階層で
同時に編集し、且つラスタ−構成要素を、選択的に変換
及び消去するものである。

【０００２】

【従来の技術】この発明は、コンピュ−タ・エイデド・
デサイン・アンド・ドラフティング（ＣＡＤＤ）、より
一般的には、コンピュ−タ・エイデド・デサイン（ＣＡ
Ｄ）として知られる装置に用いられる、より進歩したイ
メ−ジエディタにより構成される。

【０００３】この種の１のタイプのイメ−ジエディタ
は、ラスタ−エディタであり、これは既存のハ−ドコピ
−図面をデジタルイメ−ジとしてコンピュ−タに入力
し、その図面に変更を加えるために多く用いられる。

【０００４】技術的に単純であるために、ハ−ドコピ−
図面をデジタルに変換するための入力装置は、典型的に
ラスタ−装置であり、従って、ほとんどの既存の図面は
ラスタ−イメ−ジでり、そのラスタ−イメ−ジがラスタ
−エディタにより変更されるようにしている。

【０００５】ラスタ−イメ−ジは個々にアドレス可能な
ピクセルにより構成されており、コンピュ−タ内ではピ
ットマップとして表現されている。

【０００６】これらデジタル化されたイメ−ジは、幾何
学的形状または多角形のような構成要素等を含み、ラス
タ−エディタのユ−ザが操作できるようになっている。

【０００７】イメ−ジエディタは一般に、デジタル化さ
れファイルに蓄積された構成要素の２つの異なるフォ−
マット、即ち、ラスタ−とベクトルのいずれか１つを編
集する。

【０００８】例えば、ラスタ−イメ−ジの１つの構成要
素は円であり、この円は、ラスタ−フォ−マットでは、
円の周囲にそった個々のピクセルの組合せとして表現さ
れ、それらピクセルはＸ−Ｙ軸上で確認できる。

【０００９】同じ円がベクトルフォ−マットでは、円の
中心（Ｘ−Ｙ軸上）と円の半径とにより構成される集合
として表現され、メモリに蓄積される。

【００１０】ベクトルエディタは一般的に、変更すべき
既存のハ−ドコピ−図面が無い場合に、デジタルイメ−
ジを創設し編集する為に用いられる。

【００１１】これは、良く知られているように、ベクト
ル構成要素を操作、例えば、「拡大縮小」「移動」する
場合に、ラスタ−フォ−マットで同一の操作をする場合
より、はるかに計算器の依存度が少ないからである。

【００１２】さらに、ベクトルフォ−マットでは、構成
要素の個々のピクセルを記憶しなくてよい為、デジタル
化された構成要素を記憶する際の、メモリの使用という
観点において明白な利点がある。

【００１３】ベクトルエディタに共通に有する、このよ
うなより強力で時間ロスの少ない編集操作の利点を活用
する為に、ラスタ−構成要素をベクトル構成要素に変換
したいという要請が生じる。

【００１４】フェルド等（米国特許番号4,307,377)はラ
スタ−イメ−ジをベクトルイメ−ジに変換するための、
初期的試みをしている。

【００１５】この特許では、ラスタ−型のデ−タのスキ
ャンのライン毎に、そのデ−タから実時間でベクトル情
報を取り出す為の、ベクトルコ−ディングの技術を開示
している。

【００１６】この技術では、前段処理機能の一部とし
て、グラフィック情報において生じる、線間ギャップを
埋め込む処理を行う。

【００１７】この前段処理の後に、近接する一対のスキ
ャン線において、エッジからエッジの遷移が表れたかが
モニタ−され、線長の継続性を知る為にその線の位置と
傾斜が比較される。

【００１８】線ベクトルはこのようにして創設され、２
組の直角座標値と線幅を表す数値とともに記憶される。

【００１９】フェルド等は円弧や複線変換のような、複
雑な構成要素の変換については言及していない。

【００２０】更に、この特許は、重畳する構成要素の変
換や、予め定められた構成要素のテンプレ−トにより
「認識」された構成要素の変換についても何ら開示して
いない。

【００２１】より最近では、マッカン等に付与された特
許、及びライエンに付与された特許において、ラスタ−
デ−タをベクトルデ−タに変換する手段が開示されてい
る。

【００２２】マッカン等の特許（米国特許番号4,777,65
1)に示されるシステムでは、ラスタ−スキャンデ−タ
を、リストにされたベクトルに変換し、そのベクトルを
編集し、表示し、蓄積できるるようにしている。

【００２３】この特許では、ベクトルのデ−タベ−ス
は、円弧の確認、性質や他の特徴の確認等の、構文パタ
−ンの認識とし使用する可能性についても示唆されてい
る。

【００２４】ラスタ−されたビットマップそのシステム
に入力され、そのビットマップは一連のウィンドウにセ
グメント化され、隣接する論理エレメントは拡大、平
滑、縮小等の変換動作を行う。

【００２５】線セグメントはリストにおいて「チェイン
コ−ド化」され、その後出力に変換される。

【００２６】ライエンの特許（米国特許4,817,187)は、
デジタル化された手書きの技術図面のベクトル化装置が
示されている。

【００２７】ベクトルは「ランレングス」デ−タを直列
にスキャンして作られる。ランレングスデ−タは、円弧
ベクトル、線ベクトル、あるいはふさがれた形状等の
「基本形状」を規定する記録に蓄積される。

【００２８】ライエンの特許の規定するところによれ
ば、対象物は多数の基本形状が接続されて構成されてお
り、その基本形状は、４個の頂点により構成される「台
形」かまたは、非台形の多角形により構成される「斑
点」（ブロッブ）として言及されている。

【００２９】このライエンの特許で開示された技術で
は、円弧ベクトル、線ベクトル、あるいはふさがれた形
状を、識別することができる。

【００３０】これら上記の特許は、ラスタ−イメ−ジを
ベクトルイメ−ジに変換するための種々の技術が開示さ
れているが、どの特許においても、選択的な変換及び選
択的な消去については、何ら述べられていない。

【００３１】現存するラスタ−イメ−ジを変更するため
には、イメ−ジを選択された構成要素のみをベクトルに
変換することが、より正確で効率のよいプロセスとなる
はずである。

【００３２】殆どの応用例において、大多数のラスタ−
イメ−ジは、めったに変更の必要がなく、従って、殆ど
の場合、全てのラスタ−イメ−ジの変換に時間を費やす
のは賢明ではない。

【００３３】さらに、時々生じるように、構成要素が互
いに重なりあっている場合に、システムにおける構成要
素認識のプロセスが、予め規定された幾何学的形状にし
たっがってされるようになっていれば、使用者は他の構
成要素を選択した構成要素に含まれるものと間違えると
いうような問題が軽減される事を期待できる。

【００３４】また、選択された構成要素が認識され変換
された後、その選択されたラスタ−構成要素が、他の重
なり合うラスタ−構成要素から分離して消去でき、した
がって、他のラスタ−構成要素の完全性が維持されるこ
とができあれば、おおいに有利である。

【００３５】

【発明が解決しようとする課題】従来の技術において知
られているシステムでは、ラスタ−およびベクトルの構
成要素が、単一のコンピュ−タプログラムのもとで編集
できる。

【００３６】しかしながら、このようなシステムでは、
ラスタ−とベクトルの構成要素を、区別されたイメ−ジ
階層で取り扱っている。

【００３７】その結果、ラスタ−構成要素とベクトル構
成要素を取り扱うためには、全く異なる編集操作を用い
る必要があった。

【００３８】したがって、このようなシステムでは、使
用者は、ラスタ−構成要素またはベクトル構成要素の編
集動作が適切に選定されるように、編集される構成要素
のシステム内部での状態を常に認識する必要があった。

【００３９】したがって、構成要素主導型のベクトル変
換、重畳する構成要素のベクトル変換及び消去、更に同
一のイメ−ジ階層において共存するラスタ−構成要素と
ベクトル構成要素の編集ができる、等の特徴を有するイ
メ−ジ編集システムの必要性が生じてきた。

【００４０】

【課題を解決するための手段】本発明は上記のニ−ズを
満足するように設計された、複合イメ−ジエディタを提
供するものである。

【００４１】複合イメ−ジエディタは、共通のベクトル
編集操作により、使用者は２つのタイプの構成要素の間
の相違を意識せずに、ラスタ−構成要素とベクトル構成
要素を編集する為に用いるものである。

【００４２】この複合イメ−ジエディタによる「シ−ム
レス」効果は、選択的にラスタ−構成要素をベクトル構
成要素に変換し、その後選択的にそのベクトル化された
構成要素を消去する機能を提供することにより実現して
いる。

【００４３】本発明の１つの態様によれば、予め記憶さ
れたラスタ−イメ−ジが、メモリ−からエディタに読み
込まれ、表示装置により表示される。

【００４４】例えば、線、複線、円弧、長円形円弧、等
の一覧の幾何学的形状を示すメニュ−から使用者は、ベ
クトルに選択的に変換したいラスタ−構成要素に対応す
る幾何学的構成要素を選定する。

【００４５】そのラスタ−構成要素の選定は、表示画面
上をマウスにより、ラスタ−イメ−ジの中から拾い出す
ことにより行われる。

【００４６】選択されたラスタ−構成要素はベクトルに
変換され、そのラスタ−とベクトルの両方の構成要素が
画面に表示される。

【００４７】使用者はベクトル構成要素を操作する前
に、そのラスタ−構成要素を消去するかを決定する。

【００４８】この時点においては、ベクトル化された構
成要素は、表示されたラスタ−イメ−ジの一部となって
おり、使用者はそのベクトル化された構成要素を、あた
かも新たに創設されたベクトル構成要素のようにみるこ
とができる。

【００４９】この効果は、ラスタ−構成要素デ−タベ−
スとベクトル構成要素デ−タベ−スを、単一のイメ−ジ
階層となるように協調することにより実現している。

【００５０】したがっって、使用者は、移動、縮尺変
更、回転、等を含む標準的なベクトル編集操作を用い
て、ベクトル化された構成要素を取り扱える。

【００５１】ベクトル化された構成要素を修正した後、
使用者はそのベクトル構成要素をラスタ−フォ−マット
に再変換することにより、更新されたラスタ−イメ−ジ
に、その編集された構成要素を蓄積することができる。

【００５２】

【作用】より具体的には、このエディタにおける選択的
変換機能は、まずマウスの拾い出し位置の近傍におい
て、ラスタ−構成要素が存在するかが確認される。

【００５３】次のステップで、ラスタ−構成要素のその
位置において線状のセグメントがあるかを検出する。

【００５４】この線状セグメントはその両端が拡張さ
れ、収集されたエッジ点が修正されて、使用者が選択し
た幾何学的構成要素に対応する標準方程式の変数形式に
される。

【００５５】時計方向及び反時計方向エッジフォロアと
して知られる最適化されたエッジフォロアを用いて、ラ
スタ−構成要素の両エッジ点のピクセルを収集すること
により、端部は拡張される。

【００５６】エッジフォロアはステ−トマシンであり、
１のエッジに１のエッジフォロアが用いられ、ピクセル
の「オンからオフ」への変化を探索することにより、構
成要素のエッジを追尾する。

【００５７】ラスタ−構成要素の経路は、収集したエッ
ジ点を平均化して、いわゆる探索点として記憶し、その
後収集したエッジピクセルを廃棄することにより、メモ
リに効率的に蓄積される。

【００５８】この端部の拡張は、構成要素の交差、ピク
セルのギャップあるいは曲がり等の「偏差」が検出され
るまで継続される。

【００５９】エディタはこの偏差を越えて拡張を継続す
るように試みる。可能であれば、推定されたエッジ点は
偏差をつなげるものと推定されて、そのエッジは偏差を
こえて追尾される。

【００６０】両端がこれ以上拡張できなくなった場合、
この変換プロセスは終了する。複合イメ−ジエディタは
さらに、ベクトル化された構成要素の選択的消去の機能
を有している。

【００６１】即ち、ラスタ−構成要素がベクトル構成要
素と重畳する部分では、この両構成要素間を慎重に分離
することにより、ベクトル構成要素のピクセルがラスタ
−構成要素から区分されるようにする。

【００６２】構成要素の重畳する領域は、交差域周辺の
境界を示す、四辺形の表示によって表される。

【００６３】交差域の境界は、「交差域入口線」、「交
差域出口線」及び一対の「フレアリミット（限界）線」
として定義される。

【００６４】交差域の通過するエッジフォロアの遠近に
基づいて、この入口、出口の名称は変換される。

【００６５】フレアはラスタ−構成要素のエッジの通常
方向かれら逸脱したピクセルのグル−プであり、交錯す
る構成要素を示すものである。

【００６６】フレア限界線は、大まかにはラスタ−構成
要素のエッジと平行になる。選択した構成要素のフレア
限界線を越えたピクセルは、フレアとして認識される。

【００６７】消去プロセスは先ず、交差域内の全てのピ
クセルを、表示画面上の背景色を同一に設定することに
より開始する。

【００６８】それから、各フレアについて、交差域内の
ベクトル化された構成要素を横切るような線が推定され
る。

【００６９】ベクトル構成要素の両サイドの推定線は相
関しており、交差するラスタ−構成要素の境界は、その
推定線内の領域のピクセルを交差するラスタ−構成要素
の色と同一に設定することにより塗りつぶされる。

【００７０】従って、この発明における複合イメ−ジエ
ディタは、単一のイメ−ジ階層に共存するラスタ−構成
要素とベクトル構成要素を編集する手段を提供する。

【００７１】この複合イメ−ジエディタは更に、選択的
変換と称される、構成要素主導型のベクトル化手段を有
し、また重畳する構成要素の選択的消去の手段を有す
る。

【００７２】

【実施例】次に図面に基づいて説明する。

【００７３】図面では全体を通じて、同様の部分は同様
の数値で表示している。図１は、コンピュ−タワ−クス
テ−ションであり、この発明で用いるコンピュ−タの代
表的なもので、全体を数値１００で示している。

【００７４】ワ−クステ−ション１００は、コンピュ−
タ１０４、カラ−モニタ１０８、マウス１１２、キ−ボ
−ド１１６、フロッピ−ディスクドライブ１２０、ハ−
ドディスクドライブ１２４及びエサ−ネット（イーサネ
ット）通信端子１２８により構成されている。

【００７５】コンピュ−タ１０４はマザ−ボ−ドバス１
３２と入出力バス１３６を有している。

【００７６】入出力バス１３６は、好ましい１実施例で
は、ＩＢＭ ＰＣ／ＡＴバスであり、インダストリィ・
スタンダ−ド・ア−キテクチャ（ＩＳＡ）（Industry
Standard Architecture）バスとしても知られているも
のである。

【００７７】２つのバス１３２、１３６は入出力バスイ
ンタフェイス・コントロ−ラ１４０により電気的に接続
されている。

【００７８】入出力バス１３６は、多数の入出力回路
に、電気的機械的な通路を供給している。

【００７９】例えば、グラフィックディスプレイコント
ロ−ラ１４４は、モニタ１０８を入出力バス１３６に接
続している。

【００８０】好ましい実施例では、このモニタ１０８は
１９インチのカラ−モニタであり、１０２４×７６８の
画素分解能を有している。

【００８１】シリアル通信コントロ−ラ１４８は、マウ
ス１１２を入出力バス１３６に接続している。

【００８２】マウス１１２はモニタ１０８に表示された
構成要素を”拾い上げる”ために用いられる。

【００８３】入出力バス１３６は更に、ハ−ドディスク
ドライブ１２４とエサネット通信端子１２８をサポ−ト
している。

【００８４】ハ−ドディスクコントロ−ラ１５２は、ハ
−ドディスクドライブ１２４と入出力バス１３６を接続
している。

【００８５】ハ−ドディスクドライブ１２４は、数値１
００で表示されるワ−クステ−ションの、一構成部分と
することが出来、６０メガバイトのデ−タを記憶でき
る。

【００８６】エサネット通信コントロ−ラ１５６は、エ
サネット通信端子１２８を入出力バス１３６に接続す
る。

【００８７】エサネット通信コントロ−ラ１５６は、業
界の標準プロトコルであるＴＣＰ／ＩＰをサポ−トし、
そのＴＣＰ／ＩＰはＦＴＰ及びテルネット機能を有して
いる。

【００８８】エサネット通信端子１２８は好ましい実施
例では、ワ−クステ−ション１００をドキュメントスキ
ャナ（図示せず）及びプリントサ−バ（図示せず）等を
含む通信網に接続する。

【００８９】イメ−ジプロセッサ１６０も入出力バス１
３６に接続されている。イメ−ジプロセッサ１６０は、
例えばテキサスインスツルメント社製の、ＴＩ３４０１
０と、１２メガバイトのイメ−ジメモリを含んでいる。

【００９０】イメ−ジプロセッサ１６０は、ベクトルと
ラスタ−の複合イメ−ジを記憶し操作する専門的機能を
有している。

【００９１】しかしながら、このイメ−ジプロセッサ１
６０の使用、あるいは他の専用ハ−ドウエアの使用は、
本発明を実施するために必ずしも必要なものではない。

【００９２】マザ−ボ−ドバス１３２は更に、幾つかの
基本的な入出力機器をサポ−トしている。

【００９３】例えば、マザ−ボ−ド１３２は、キ−ボ−
ド・フロッピ−ディスク・コントロ−ラ１６４に接続さ
れ、これにより、キ−ボ−ド１１６とフロッピ−ディス
ク・ドライブ１２０をサポ−トしている。

【００９４】フロッピ−ディスク・ドライブ１２０は、
この構成例では、１．２メガバイトまでのデ−タを記憶
するフロッピ−ディスクをアクセスすることができる。

【００９５】コンピュ−タ１０４を構成する基本的な素
子は、マイクロプロセッサ１６８、例えばインテル社製
のマイクロプロセッサ８０Ｘ８６，コプロセッサ１７
２、例えば同様にインテル社製の８０Ｘ８７マス・コプ
ロセッサ、さらに１７６で表示された主メモリ、例え
ば、４メガバイトのランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）
である。

【００９６】主メモリ１７６は、Ｕｎｉｘコンパチブル
・オペレ−ティングシステム１８０、例えば，マイクロ
ソフト社の子会社である、カリフォルニア州、サンタク
ルッツのサンタクルッツオペレ−ションにより提供する
ＳＣＯ Ｘｅｎｉｘと、複合イメ−ジエディタ２００で
ある。

【００９７】図１に示すように、複合イメ−ジエディタ
２００の各種のソフトウエア機能が主メモリ１７６の２
００ａ及びイメ−ジプロセッサ１６０の２００ｂ間に分
散している。

【００９８】本発明において、複合イメ−ジエディタ２
００はイメ−ジデ−タファイル２０２を操作する為に用
いられる。

【００９９】図１による好ましい実施例では、イメ−ジ
デ−タファイル２０２は、イメ−ジプロセッサ１６０内
にも存在している。

【０１００】イメ−ジデ−タファイル２０２は、例え
ば、１２平方フィ−ト、Ｅサイズで２００ドット／イン
チの用紙あるいは、３平方フィ−トＣサイズ４００ドッ
ト／インチの用紙によるハ−ドコピ−をドキュメントス
キャナに挿入することにより作成し、その後、イメ−ジ
デ−タファイル２０２は、エサ−ネット通信ポ−ト１２
８を経由して、ワ−クステ−ション１００に転送され
る。

【０１０１】ここでは、代表的なワ−クステ−ションを
示し説明したが、この技術分野の専門家であれば、他の
多数のコンピュ−タやワ−クステ−ションによる構成
で、本発明を実施できることを理解できるであろう。

【０１０２】図２は２００で示す複合イメ−ジエディタ
の、最上位のレベルのフロ−を示す。

【０１０３】複合イメ−ジエディタ２００は図１に示す
ワ−クステ−ション１００上で実行される。

【０１０４】スタ−ト２０３の状態から実行を開始する
ことにより、複合イメ−ジエディタ２００は、イメ−ジ
デ−タファイル２０２を、フロッピ−ディスク１２０ま
たはハ−ドディスク１２４から、イメ−ジプロセッサ１
６０にロ−ドし、カラ−モニタ１０８にそのイメ−ジデ
−タ２０２を表示する。

【０１０５】エディタ２００は次に状態２０４に移行
し、使用者が一定のパラメ−タを設定できる状態にな
る。

【０１０６】設定するパラメ−タは、使用者によりマウ
ス１１２（図１）の使用を通して、メニュ−の中から選
択される。

【０１０７】この好ましい実施例では、これらパラメ−
タは、使用者により選定される構成要素のタイプ、すな
わち、幾何学的形状のラスタ−表示のタイプであり、例
えば、線、複線、円（あるいは円弧）、長円（あるいは
長円弧）である。

【０１０８】この好ましい実施例における複合イメ−ジ
エディタ２００は、上記のような構成要素タイプを特に
提供しているが、他の種の構成要素タイプ、例えば、通
常の多角形も随意に規定できる。

【０１０９】使用者がエディタ２００に構成要素タイプ
の選択を印加した後、エディタ２００は、状態２０４か
ら状態２０８に移行し、ここで使用者は、モニタ１０８
に表示された他のメニュ−から、エディト動作を選択す
る。

【０１１０】この好ましい実施例では、ストップ（ＳＴ
ＯＰ）、すなわちエディタ２００の実行を、状態２１０
で停止させる動作、グラブ（ＧＲＡＢ）、「選択的変
換」すなわち、ラスタ−構成要素からベクトル構成要素
の変換動作、アンドゥ（ＵＮＤＯ）、すなわち最後のエ
ディタ動作が行われる前の状態のイメ−ジに戻る動作、
等のエディタ動作のセットを提供している。

【０１１１】ここで述べた３つのエディタ動作に加え、
使用者はモニタ１０８上に示された、２組のオンオフ切
替えを設定して、ジャンプギャップ及び交差横切りの動
作を設定できる。

【０１１２】ジャンプギャップがオンに設定されると、
線上の欠落したピクセルについて、そのギャップは意図
されたもでないものと自動的に仮定して認識し、したが
ってエディタ２００はギャップを「ジャンプ」する。

【０１１３】このような切替えスイッチにより選定でき
る機能は有益である。それは、スキャナによる掃引の不
完全さにより、また他の例としてラスタ−構成要素が鎖
線の形で定義されることにより、ラスタ−構成要素のピ
クセルが欠落する場合があるからである。切替えスイッ
チによるもう一つの機能、交差横切りは、エディタ２０
０が、重複する如何なる数の構成要素の中から１の構成
要素を選択する機能である。

【０１１４】エディタ動作の選定がなされると、エディ
タ２００は状態２１２に移行し、ここで使用者はマウス
１１２によりモニタ１０８上の１の構成要素を指定す
る。

【０１１５】状態２０４、２０８及び２１２について
は、後に述べる図３を参照することにより、充分に理解
可能となるであろう。

【０１１６】複合イメ−ジエディタ２００ａの、主メモ
リ部分に相当するオブジェクトコ−ドは、カリフォルニ
アのサンタクルッツ社によりライセンスされた「Ｃ」コ
ンパイラであるＳＣＯを用いたソ−スコ−ドにより生成
した。

【０１１７】複合イメ−ジエディタ２００ｂの、イメ−
ジプロセッサ部分に相当するオブジェクトコ−ドは、テ
キサス インスツルメント社によりライセンスされたＣ
コンパイラにより生成した。

【０１１８】しかしながら、この技術分野の専門家であ
れば、ここに提示したフロ−グラムの各ステップを多数
の異なるコンパイラやプログラム言語によっても実現で
きる事が、理解できるであろう。

【０１１９】図２にもどり、状態２１２における使用者
による構成要素の指定に続き、エディタ２００は機能２
１６（図５）に移行することにより、ラスタ−構成要素
の選択的変換を開始し、これにより、最近接のラスタ−
「ブロッブ」を探知するように動作する。

【０１２０】ラスタ−ブロッブは、イメ−ジデ−タ２０
２のイメ−ジ構成要素あるいはラスタ−対象の一部を形
成する、ピクセル（画素）の集まりとして定義される。

【０１２１】もしブロッブが発見されると、エディタ２
００は機能２２０（図７）に移行し、ブロッブの形状を
認識しようとする。

【０１２２】この形状認識は、イメ−ジデ−タ２０２の
ピクセルを、幾何学的形状、例えば線、複線、円あるい
は長円の標準方程式に当てはめようとする。

【０１２３】もしブロッブの形状が実際に認識される
と、エディタ２００は状態２２４に移行し、ここで等価
のベクトル構成要素を形成して表示する。

【０１２４】この時点において、使用者は、モニタ１０
８において、ベクトル構成要素とラスタ−構成要素を、
ほぼ同じ座標空間上で観測できる。

【０１２５】この２つのタイプの構成要素は、異なる色
により識別される。状態２２４からエディタ２００は状
態２２８に移行し、ここで選択された構成要素につい
て、境界四辺形が計算される。

【０１２６】この境界四辺形の値は、選択された構成要
素に付属する全てのピクセルの、最大と最小のｘ、ｙの
座標から、あらかじめ見つけることができる。

【０１２７】状態２２８から状態２３２に移行し、ここ
で選択された方形のビットマップが、イメ−ジプロセッ
サ１６０のメモリの書き込み領域にコピーされる。

【０１２８】状態２３２からエディタ２００は状態２３
４に移行し、使用者はここで再びエディタ２００に、入
力を印加するように要求される。

【０１２９】使用者はモニタ１０８に表示された、次の
３つの動作から選ぶことができる。すなわち、放棄（Ａ
ＢＡＮＤＯＮ），これにいより如何なる変化を生じる前
に放棄する、確認（ＣＯＮＦＩＲＭ），希望するエディ
タの変更を確認する、修正（ＭＯＤＩＦＹ），交差また
はギャップを使用者が手動で通過できるようにする。

【０１３０】さらに、状態２３４では、３つのオンオフ
切替え機能があり、それは、ラスタ−デリ−ト、ラスタ
−構成要素の削除、ベクトルデリ−ト、ベクトル構成要
素の削除、ラスタライズ、ベクトル構成要素をラスタ−
構成要素に変換、の機能である。

【０１３１】この状態２３４は、後に述べる図４に関す
る説明でより理解できるであろう。引き続き図２におい
て、もし状態２３４において、使用者が形状認識の拡
張、即ち「修正」を選択した場合、機能２３６となって
選択した構成要素の形状認識が、イメ−ジデ−タ２０２
の他のピクセルにも拡張され、その後このフロ−は状態
２２４に戻る。

【０１３２】もし使用者が状態２３４において、「確
認」を選択すると、機能２３８に入ることにより消去が
完了し、選択した構成要素がラスタ−イメ−ジから消去
される。

【０１３３】もし状態２３４において、使用者により
「放棄」が指定されると、エディタ２００は状態２０
４、２０８または２１２のいずれか１つの動作に復帰す
る。

【０１３４】機能２１６において、ラスタ−ブロッブが
見つからない場合、または機能２２０において形状が認
識されない場合には、状態２４０において、モニタ１０
８上のカ−ソル位置に最も近いベクトル構成要素の探索
を行う。

【０１３５】もしベクトル構成要素が発見されると、使
用者は状態２４４において、発見または作成した構成要
素のベクトル処理を行いう。

【０１３６】これは状態２３８の「ラスタ−イメ−ジか
ら選定した構成要素を消去」から移行することもでき
る。

【０１３７】この好ましい実施例では状態２４４の機能
を実行するためのベクトル編集用ソフトウエアは、オク
ラホマ州、タルサのアエル・アドバンスト・グラフィッ
ク・システム社がライセンスするビジョンエ−イ−エル
（VisionAEL ）と呼ばれるプログラムを用いている。

【０１３８】ベクトル処理が終了すると、エディタ２０
０は状態２４４から状態２４８に移行し、既に変換した
ベクトル構成要素が、ラスタ−構成要素としてイメ−ジ
デ−タ２０２に記憶すべきかを決定するテストをおこな
う。

【０１３９】もし現在のベクトル構成要素が状態２４０
における「最も近いベクトル構成要素の探索」の結果と
して見出されたものでる場合、すなわち、ベクトル構成
要素がその前に選択的に変換されなかった場合、そのテ
ストは満足されず、フロ−は状態２０４、２０８または
２１２の何れかに戻る。

【０１４０】これらの状態２０４、２０８または２１２
は、モニタ１０８上の画面表示で、単一のメニュ−とし
て、合成させることもできる。

【０１４１】もし使用者が、ラスタライズ切替えで示し
たように、すでに選択的に変換したベクトル構成要素を
ラスタ−変換したい場合には、そのような操作は状態２
５２において行うことができる。

【０１４２】状態２４０、２４８または２５２のいずれ
からでも、初期画面表示に復帰することができる。

【０１４３】図３において、コンピュ−タ画面表示２７
０が示されている。これは、図１のモニタ１０８上に再
生されるものである。

【０１４４】この図３の画面表示は、図２における状態
２０４、２０８及び２１２について使用者が見る画面の
例である。

【０１４５】表示２７０は、使用者の選定可能なパラメ
−タ２７２、一対の切替え２７６を含む使用者選定エデ
ィット動作２７４、及び構成要素ウインドウ２７８から
構成される。

【０１４６】図３の構成要素ウインドウ２７８は、３つ
の重なった構成要素による単純な組合せを示す。

【０１４７】これらの構成要素は、線２８０、もう１つ
の線２８２、及び円２８４である。状態２１２（図２）
において、カ−ソル２８６は図３に示すように、円２８
４上の一部に位置されている。

【０１４８】図４はエディタ２００が図２の状態２３４
にあるとき、モニタ１０８（図１）に表される、第２の
画面表示２９０である。

【０１４９】メニュ−２９６の３つの切替え（トグル）
２９４により、従前の動作の承認または延長が選択され
る。

【０１５０】この例では（図４）、使用者はラスタ−削
除のトグルを起動しただけである。この選定に応答し
て、図４の構成要素ウインドウ２７８では、円２８４が
ベクトル形式に変換され、そのラスタ−構成要素は削除
される。

【０１５１】したがって、複合イメ−ジエディタ２００
は、イメ−ジデ−タファイル２０２を読出た後、ラスタ
−構成要素のみを含む「純粋」なラスタ−イメ−ジをエ
ディトするか、または、ラスタ−構成要素とベクトル構
成要素の双方を含む複合イメ−ジをエディットするため
に使用できる。

【０１５２】これらラスタ−とベクトルの双方を含む構
成要素は、エディタ２００に分離した、しかし互いに整
合したデ−タベ−スとして、記憶されている。

【０１５３】図５は、図２の機能２１６における、「最
近接のラスタ−ブロッブを探知」する為の制御フロ−で
ある。

【０１５４】機能２１６において、エディタ２００は、
使用者がマウス１１２（図１）を用いて、拾い上げた特
定のピクセルに「付随」した構成要素の、位置、方向、
幅を検出するように動作する。

【０１５５】機能２１６において、エディタ２００は、
その選定されたピクセルのｘ−ｙ組による座標を入力す
る。

【０１５６】もし、選定したピクセルの付近でラスタ−
構成要素が検出されたときは、その選定されたピクセル
は「オン」、すなわち部分的に線状の一連の画素に近接
している。

【０１５７】エディタ２００は状態２９８において、実
行を開始し、状態３００に移行して、「オン」のピクセ
ルすなわち、ラスタ−ブロッブが、選定した画素に近接
して存在するかどうかを、画素検出動作の実行により決
定する。

【０１５８】最大検出半径の領域は、「オン」ピクセル
の「近接度」を検出する程度を規定しするもので、誤差
円とも呼ばれる。

【０１５９】もし、テスト３００が不十分なときは、エ
ディタ２００は状態３０２に移行し、ここで機能２１６
を、ラスタ−ブロッブの不検出として、終了させる。

【０１６０】摘出点付近で「オン」ピクセルが検出され
ると、状態３００から状態３０４に、エディタ２００は
移行し、摘出点付近で「オン−オフ」移行、すなわち、
機能２１６におけるエディタ２００が、エッジを探知し
たかを決定する。

【０１６１】状態３０４において、エディタ２００は、
周囲の４方向について、スパイラル状のパタ−ン中の画
素を捜索する。

【０１６２】もし「オン−オフ」移行が見つからない場
合は、エディタ２００は状態３０６に移行し、エラ−と
して機能２１６を終了する。

【０１６３】もし状態３０４においてエッジが見つかる
と、エディタ２００は状態３０８に移行し、そのエッジ
が部分的に円滑で直線かどうかを決定する。

【０１６４】この状態３０８における動作は、探知した
エッジ点付近のエッジ点を集めて、エッジピクセルのリ
ストとすることから始まる。

【０１６５】好ましい実施例では、このエッジピクセル
の収集は、イメ−ジプロセッサ１６０により実行され、
より高レベルの機能は、マイクロプロセッサ１６８及び
コプロセッサ１７２により行われる。

【０１６６】エディタ２００は、エッジピクセルのリス
トを入力し、周知の最小２乗法エラ−アルゴリズムを使
用して、探知したエッジの傾斜を決定する。

【０１６７】現在探知されているエッジの伝播方向を指
示するように、エッジ傾斜ベクトルの向きが合わせられ
る。

【０１６８】この方向決定は、エッジ傾斜ベクトルと、
２つのエッジフォロアの各々により収集された、最後の
エッジ点を接続するベクトル、との積の符号を調べるこ
とにより達成される。

【０１６９】２つのエッジフォロアは時計方向エッジフ
ォロアを反時計方向エッジフォロアと呼ばれ、この名称
の由来は以下の説明でより明確となろう。

【０１７０】エッジがその近辺において、直線であるか
否かを調べるために、そのエッジベクトルの長さを計算
し、最小適合長と比較する。

【０１７１】もしエッジが、その部分において円滑で直
線でない場合は、機能３１０によりエラ−状態が表示さ
れ、機能２１６の制御フロ−は停止する。

【０１７２】エッジベクトルが、その部分において円滑
で直線である場合は、エディタ２００は機能３０８から
状態３１２に移行し、現在のエッジベクトルと直角方向
の反対エッジを、構成要素を「スライス」することによ
り探知する。

【０１７３】もし反対側エッジが状態３１６で発見され
ない場合には、状態３１８でエラ−状態が表示され、エ
ディタ２００は機能２１６の制御フロ−を停止するか、
もしくわ、エディタ２００は、状態３２０に移行し、反
対側エッジが元のエッジと、平行であるか否かが決定さ
れる。

【０１７４】この状態における機能は以下のように分解
できる。（１）反対側エッジについて、上記により元の
エッジについて説明したように、エッジ点を収集する、
（２）最小２乗法エラ−アルゴリズムを、双方のエッジ
ベクトルに起動して、両者が平行か否かを決定する、
（３）先のエッジベクトルで説明したと同様に、その平
行線に対し最小適合長を決定する。

【０１７５】もし平行エッジが発見されない場合は、エ
ディタ２００は状態３２２に移行し、エラ−状態を表示
して制御フロ−を停止する。

【０１７６】それ以外の場合は、エディタ２００は状態
３２４に移行し、その部分のエッジ傾斜、線幅及びエッ
ジ開始点の座標を格納し、機能２１６は通常状態３２６
で終了する。

【０１７７】図５の制御フロ−は、図６のラスタ−ブロ
ッブの例を参照すると、より理解が可能となる。

【０１７８】この例では、選択されたピクセル３４０
は、どのラスタ−ブロッブ内または付近にも位置してい
ない。

【０１７９】半径Ｒの誤差円３４４は、ピクセル３４０
周囲の「オン」ピクセルの検出のみを行う。

【０１８０】この例では、状態３００のテストは不可と
なる。もう１つのピクセル３４８は、ラスタ−ブロッブ
３５０上に位置している。

【０１８１】ピクセル３４８は状態３００によるピクセ
ル探知のテストを直ちに満足する。ラスタ−ブロッブ３
５０上のピクセル３５２が次に捜索され、指定ピクセル
３４８の近傍で「オン−オフ」移行であることが決定さ
れる。

【０１８２】エッジフォロアにより、エッジを線３５４
に沿って延長することにより、ラスタ−ブロッブ３５０
のエッジが、部分的に円滑で直線であることが見出され
る。

【０１８３】その後、ラスタ−ブロッブ３５０は、第２
の「オン−オフ」移行の画素３５８までスライスされ、
ここで同様のステップでブロッブ３５０の反対のエッジ
を検出し、この画素３５８のを含むエッジは線３５４に
平行で、円滑かつ直線であることが決定される。

【０１８４】図７は図２における状態２２０の「ブロッ
ブの形状認識」のフロ−ダイアグラムを示している。

【０１８５】この機能の動作は、状態３６０で開始さ
れ、次に状態３６２に移行して、各々のエッジ端の状態
を「ランニング」に初期化する。

【０１８６】状態３６６において、制御フロ−のル−プ
に入り、いずれかのエッジ端が「ランニング」、すなわ
ち、偏差（不連続）がないためにエッジの延長が停止し
ない状態の間、継続する。

【０１８７】状態３７０で内部ル−プが開始し、各エッ
ジ端に１回の計２回ル−プ動作を行う。

【０１８８】もしエッジ端が状態３７４のように「ラン
ニング」のときは、経路は状態３７８になり、エッジは
「偏差」が検出されるまで追尾（フォロウ）される。

【０１８９】偏差は一般に交差、曲がり、またはギャッ
プと定義される。次の機能３８２で新たな「探索点（サ
ーベイポイント）」が、エッジピクセルのリストに加え
られる。

【０１９０】「探索点」は曲線の基準線上にある点を表
示する、メモリ上に記憶された点であり、その基準線
は、追尾されている平行なエッジ間の線幅を２等分する
線である。

【０１９１】このようにして、エッジフォロアにより収
集されたピクセルは、その後廃棄され、これにより、不
要のピクセルの蓄積は避けられる。

【０１９２】更にエッジは、線の１つの終端と相関がと
れるように、平らにならされる。更新されたエッジピク
セルのリストは、機能３８６における曲線適合アルゴリ
ズムにかけられ、線の傾斜が更新がされる。

【０１９３】状態３９０において、偏差を横切りまたは
飛び越すように機能する。もし偏差が状態３９４におい
て、横切られまたは飛び越されない場合は、状態３９８
において終了状態となる。

【０１９４】一方、もし状態３９４で偏差が横切られた
場合は、内部ル−プは継続する。状態３９８からも同一
の経路をとることができる。

【０１９５】内部ル−プは、状態３７４において、いず
れかのエッジ端が「ランニング」でないときには停止す
る。

【０１９６】内部ル−プが２回転すると、すなわち、選
択したラスタ−構成要素の１のエッジ端について１回転
すると、エディタ２００は状態３７０から状態４０２に
移行して、いずれか１の端が「ランニング」であるかを
テストする。

【０１９７】もし、いずれか１の端が、偏差を横切った
後に、「ランニング」であると、外部ル−プが状態３６
６において継続する。

【０１９８】それ以外の場合は、機能２２０は状態４０
４において停止する。図７に示すと同様の基本的制御フ
ロ−が、各々のタイプの構成要素、すなわち、線、複
線、円弧、長円弧、に適用できる。

【０１９９】これら各タイプの構成要素のための、固有
のアルゴリズムは、多少異なるが、そのような固有のア
ルゴルズムは、等業界の専門家が理解できる範囲であ
る。

【０２００】図８は図７の機能３７８における、エッジ
フォロアの制御フロ−を示す。機能３７８の動作は２つ
の異なる形態を取る。

【０２０１】１つは、時計方向エッジフォロアであり、
もう１つは、反時計方向エッジフォロアである。

【０２０２】いずれの場合も図８のエッジフォロア機能
３７８に示されるように、状態４０５によりこの機能に
入った後、変数が初期化される。

【０２０３】状態４１０により主ル−プに入り、エディ
タ２００は状態４１４で、次のエッジピクセルに進行す
る。

【０２０４】エッジ点処理機能４１８は値を格納する。
この機能４１８により返却された値が、状態４２２で
「継続」すべきものであるときは、状態４１０でル−プ
を継続する。

【０２０５】それ以外の場合は、この機能３７８の制御
フロ−は状態４２４で終了する。図９はエッジフォロア
の方向を規定するフロ−を示す。

【０２０６】各ステップにおいて、エッジフォロア機能
３７８の動作は、現在のピクセルから、隣接する８つの
ピクセルの１つに移動する。

【０２０７】隣接する画素または方向は、連続的に記載
されており、南西方向の「０」ピクセル４２８から開始
して、順に反時計方向に移動する。

【０２０８】したがって、「０」ピクセル４２８に続き
「１」ピクセル４３０、「２」ピクセル４３２、「３」
ピクセル４３４、「４」ピクセル４３６、「５」ピクセ
ル４３８、「６」ピクセル４４０、「７」ピクセル４４
２に移行する。

【０２０９】図１０はエッジフォロア機能３７８の反時
計方向動作により得られた経路４４３の例を示す。

【０２１０】４４５で示す線の１つのエッジは、「オ
ン」ピクセル４４４ａから出発し、終端ピクセル４４４
ｍで終了する。

【０２１１】「オン」であるエッジピクセル４４４ａ、
４４４ｅ、４４４ｇ、４４４ｈ及び４４４ｍは、後の操
作に用いるために、記憶される。

【０２１２】時計方向のエッジフォロア３７８は、図示
していないが、線４４５の反対のエッジを行き来する。

【０２１３】図１１は、図８の機能４１８で行われるよ
うな、構成要素を延長しながら各エッジ点を調べるプロ
セスを示している。

【０２１４】機能４１８の動作は、状態４４６から開始
し状態４４６のテストに移行して、エッジが閉ル−プを
構成するか否かを決定する。

【０２１５】閉ル−プはもし最後に通過したエッジ点の
座標が開始点のエッジと同一の場合、及びエッジの「結
線数」（ワインディングナンバ−）が絶対値８である場
合に生じる。

【０２１６】各々のエッジフォロアは図９で示す各方向
に対応した８のステ−トを有するステ−トマシンとして
表すことができる。

【０２１７】もしエッジが「Ｊの字」のような曲がりを
有するかを決定するためには、現在のピクセル位置をエ
ッジフォロアの開始位置との相対関係で追尾することが
有用である。

【０２１８】このような位置情報は結線数として記憶さ
れる。結線数はゼロから開始し、完全な反時計方向回転
のあとは８の値になり、完全な時計方向回転のあとはマ
イナス８になり、いずれの場合も閉ル−プであること示
す。

【０２１９】一例として、エッジフォロア機能３７８
（図８）の反時計方向型に対応するステ−トマシンを考
える。

【０２２０】「オフ」ピクセルに遭遇する毎に結線数は
１だけインクリメントし、次のステ−トが現在のステ−
トに１だけインクリメントされた状態に設定される。

【０２２１】もし「オン」ピクセルに遭遇し、ピクセル
方向即ちステ−トが奇数の場合、結線数は１だけデクリ
メントされて次のステ−トは現在のステ−トから１だけ
デクリメントされた状態となる。

【０２２２】もし「オン」ピクセルに遭遇したときのピ
クセル方向が偶数であれば、結線数は２だけデクリメン
トされて次のステ−トは現在のステ−トから２だけデク
リメントされた状態となる。

【０２２３】勿論すべての算術的動作はモジュロ８によ
る計算による。エッジフォロアは同一のピクセルを二回
追従しないように最適化されている。

【０２２４】状態４４８で閉ル−プが指摘された場合に
は、「ル−プバック」状態として状態４４９に差し戻さ
れる。

【０２２５】それ以外の場合は、エディタ２００は状態
４４８から４５０に移行し、エッジが公称軌道から分離
しているかを決定するテストが行われる。

【０２２６】公称軌道から遊離していることは、フレア
（像のにじみ）が発見されたことを意味する。

【０２２７】上記の基準線として定義された公称軌道
は、フレア線により外郭を定められた領域内で維持され
る。

【０２２８】フレア線は投影線であり、おの基準線と平
行になっている。状態４５０において、エッジの基準線
（公称軌道）からそのエッジが分離している程度を示す
偏差を計算する。なお、本実施例では、エッジが公称軌
道と一致しない状態ないし動作を「分離」といい、その
程度を偏差という。また、本実施例では、分離が発生し
ている箇所を「分離箇所」または「偏差箇所」という。

【０２２９】この像の偏差は基準エッジベクトルと公称
エッジベクトルとのクロス積即ち垂直距離で表現され
る。

【０２３０】もし偏差の絶対値が予め定めた最大値より
大きい場合には「過大分離」状況としてエッジ点処理機
能４１８により状態４５２に差戻される。

【０２３１】この予め定める最大値は使用者の希望する
正確さとスピ−ドとの妥協点を含む多数の設計条件によ
り決められる。

【０２３２】一方、もし公称軌道が維持される場合に
は、状態４５０から状態４５４に移行し、エッジが「戻
り道」を有するかを決めるテストを行う。

【０２３３】この状態４５４において、エッジの最大延
長量と基準傾斜の方向が計算される。

【０２３４】エッジの延長におけるエッジフォロア機能
３７８（図８）の進行が、基準エッジベクトルと公称エ
ッジ延長ベクトルとのドット積で現されるように逆方向
となった場合には、「戻り道」状況となり状態４５６に
差戻される。

【０２３５】他の場合は「通常」状態であり、状態４５
８に移行して機能４１８のの通常処理が終了する。

【０２３６】図１２は図７の機能３８２による「新規の
探索点を計算しリストに入れよ」の状態を示す。

【０２３７】状態４６０から開始し、エディタ２００は
状態４６２に移行し、時計方向エッジフォロアが停止し
た終端エッジ点と、反時計エッジフォロアが停止した終
端エッジ点とが比較される。

【０２３８】摘出されたピクセルまたは最後の分離点か
ら最長合計距離を進行したエッジは、より近くのエッジ
の停止点まで収縮される。

【０２３９】エッジを平滑化するプロセスは、蓄積した
近接の終端エッジ点のインデックスを、遠方のエッジを
収縮させるためのスタ−ト点のインデックスとなるよう
に選定することにより進行する。

【０２４０】遠方エッジの蓄積点は、（１）残りの点が
無くなるまで、（２）充分なドット積が（ａ）エッジ進
行方向にある近接エッジと接するベクトルと（ｂ）近接
端子エッジ点から遠方エッジ点のベクトル空間の結合に
より規定されるベクトル、との間で得られまで、横切っ
て通過する。

【０２４１】エディタ２００は状態４６２から４６６に
移行し、探索点の間隔が計算される。

【０２４２】統計的平均の手法により、延長された線上
のピクセルは捨てられてその場所には「探索点」が格納
される。

【０２４３】基本的にはカ−ブは直線に近ければそれだ
け探索点の廃棄が多くなり、したがって、探索点のリス
トはそれだけまばらになる。

【０２４４】最後の運行距離を決定た後、「新規の探索
点の間隔」が計算され、変数として格納される。

【０２４５】次に、ル−プ状態４７０ににおいて、新規
の探索点が探索点リストに追加される。

【０２４６】したがって、状態４７４で、前回の探索点
から「新規の探索点の間隔」の距離分はなれた時計方向
エッジの点が選択される。

【０２４７】状態４７８でこの選択された点の公称カ−
ブ方向が決定される。状態４８２において、時計方向エ
ッジの選択された探索点と対等となる反時計方向エッジ
の探索点が決定される。

【０２４８】状態４８６において、エッジ点座標を平均
することにより、線の中心が計算され、状態４９０で、
その線の中心と方向がリストに追加された探索点の記録
に格納される。

【０２４９】探索点リストに充分な探索点が追加される
まで、ル−プは状態４９４からル−プ状態４７０に戻る
ことにより継続する。

【０２５０】状態４９４においてル−プから出ると、状
態４９８において、線エッジは最近接する一対の平行線
に適合される。

【０２５１】各エッジに関連する探索点は自己標準化さ
れ、このためエディタ２００はより高速の整数計算機能
を行うことができる。

【０２５２】好ましい実施例においては、実際にピクセ
ル位置と異なる全てのデ−タ点が固定した点のフォ−マ
ットで格納される。

【０２５３】しかし必要であればデ−タ点は浮動点フォ
−マットで格納され処理される事もできる。

【０２５４】状態４９８の平行線適合においては、もし
エッジ点が「垂直よりはより水平」であれば、各エッジ
は式、ｘ＝ａｙ＋ｂ、に適合し、その他の場合は各エッ
ジは式、ｙ＝ａｘ＋ｂ、に適合する。

【０２５５】この「垂直よりはより水平」のテストはエ
ッジデ−タの両グル−プにおけるｘ及びｙのモ−メント
を比較して行われる。

【０２５６】別個の線が各エッジに適合されるが、得ら
れるエッジは平行なので、単一の傾斜のみが計算され
る。

【０２５７】このようにして得られた式群は上半三角マ
トリクスを形成しガウス−ジョ−ダン削除と後方置換を
用いて解かれる。

【０２５８】二つのエッジはこれにより、ｙ１＝ａｘ１
＋ｂ１、ｙ２＝ａｘ２＋ｂ２、として現される。

【０２５９】軸上のｂ１とｂ２はの原点からの距離のそ
れぞれ２点間にに標準化される。このらの２点間はｙ軸
上の２本の線間の分離距離を求めるために差し引かれ
る。

【０２６０】線幅は単位長さ勾配と分離距離との積によ
り計算される。適合線からの各エッジの偏差が計算され
る。

【０２６１】新規に延長された線またはカ−ブの勾配が
線の中心として決定され、状態５０２において最終探索
点として格納される。

【０２６２】平均線幅が状態５０６で更新され、制御フ
ロ−３８２は状態５０８で終了する。

【０２６３】図１３は図７における「カ−ブ適合を再計
算せよ」の機能を示している。機能３８６は線適合デ−
タの最小自乗法デ−タに新規に得られた探索点を加える
ことにより線適合情報を更新する。

【０２６４】新規探索点は現存する線適合と一列に整列
するか調べられる。もし探索点が許容範囲を越える場合
には、カ−ブ端が終了する。

【０２６５】エディタ２００は状態５０９で機能３８６
を開始する。状態５１０に進行し、最小自乗法誤差カ−
ブ適合の合計は更新される。

【０２６６】状態５１４で線適合パラメ−タは、まず線
適合情報の未標準化勾配が計算され、次に勾配ベクトル
を標準化し点群の中心軌跡を計算することにより、再計
算される。

【０２６７】新規の勾配ベクトルは正規の方向、即ち、
旧勾配と全体的に同一の方向を示すように向けられる。

【０２６８】次に状態５１４から状態５１８に移行し、
総合的な線適合情報が更新される。上記の議論は線に関
連して行われているが、この技術分野の専門家であれ
ば、他の幾何学的構成要素を含む一般化されたものとし
て認識することができる。

【０２６９】この更新するステップは、新規に計算され
た勾配と各終了点の最終探索点の基準点を用いて、新規
の終了探索点を形成するステップを含む。

【０２７０】次に線適合デ−タの為の終了点が形成され
る。これらの点は適合線上に位置し、カ−ブのいずれの
他の終了点の終了探索点と対等となる。

【０２７１】機能３８６は状態５２０で終了する。図１
４、図１５，図１６及び図１７は、図７に示した「偏差
箇所を通過またはジャンプを試みよ」の機能を現してい
る。

【０２７２】エディタ２００は状態５２１で機能３９０
を開始し状態５２２に進行する。状態５２２は閉ル−プ
が検出されたときに正しく探索点リストを形成するため
に用いられる。

【０２７３】各エッジフォロアにより格納されたエッジ
の現況（エッジステ−タス）において、もし「ル−プバ
ック」状況が検出された場合には、状態５２２は両カ−
ブ終了端ステ−タスを「停止」に設定し、機能３９０は
状態５２４で終了する。

【０２７４】ル−プバックが検出されなければ、エディ
タ２００は機能３９０を状態５２６に移行して、エッジ
フレアまたはエッジ引き返しに対して「前方監視」が実
行され、その結果が格納される。

【０２７５】前方監視の機能のため、ル−プバックのチ
ェックは状態５３０で行われる。もしル−プバックが検
出されときは、機能３９０は状態５３２で終了する。

【０２７６】一方、ル−プバックが検出されない場合
は、状態５３４に移行して、探索点リストが満杯である
かを決定する。

【０２７７】もし探索点リストが満杯でないときは、状
態５３８においてカ−ブ適合エラ−が推定される。

【０２７８】状態５４２でエッジ引き返し状況のテスト
が行われる。このテスト結果が否の場合には、状態５４
６でエッジ端において「単純延長」のテストが行われ
る。

【０２７９】状態５５０でこのエッジが平滑で平行であ
るかのテストも行われる。このテスト結果が否の場合
は、エッジフォロア３７８（図８）は終了点から再開始
することが許可される。

【０２８０】状態５５４でカ−ブ適合誤差が、最小誤差
と最大誤差により規定される許容誤差範囲内であるかチ
ェックされる。

【０２８１】適合誤差が許容範囲の場合には、状態５５
８においてカ−ブ端ステ−タスが「ランニング」に設定
される。

【０２８２】最後に、状態５６２において、カ−ブの反
対端を延長するための総合的情報が用意され、その後機
能３９０は状態５６４において終了する。

【０２８３】制御フロ−の状態５５０にもどり、もしエ
ッジが平滑で平行でなければ、エディタ２００は状態５
６６（図１５）に移り、探索点リストが満杯か否かを決
定するためのテストをする。

【０２８４】図１４に示した状態５４２から５５４の制
御フロ−がそれに引き続き行われる。

【０２８５】もりリストが満杯でなければ、エディタ２
００は状態５７０に進行し、この終端が「休止」、すな
わち、一時的停止を示す状態になっていないかを決定す
るテストをし、さらに、他の終端が「停止」になってい
ないかテストする。

【０２８６】このテストが否の場合は、状態５７４にお
いて「曲がり角」が検出されたかをテストする。

【０２８７】曲がり角が検出されない場合は、状態５７
８（図１６）において、カ−ブ適合誤差が許容範囲を越
えたかをテストする。

【０２８８】このテストが否の場合は、状態５８２にお
いて、エディタ２００は例えば図３のトグル２７６のよ
うな、交差点横切り通過を起動させるか否かの問いを発
生する。

【０２８９】これが肯定の場合は、状態５８４におい
て、線の継続についての障害を越えて探査が実行される
（図１６）。

【０２９０】次に、機能５８６で交差点通過が成功した
かを決定するテストがおこなわれる。

【０２９１】これが満足された場合には、状態５９０に
おいて、終端ステ−タスを「ランニング」に設定する。

【０２９２】エディタ２００により図１７の状態５９４
に移行し、反対側の終端を延長するための総合情報を用
意し、機能３９０は状態５９６で終了する。

【０２９３】エディタ２００は探索点リストが満杯のと
きは、図１４の状態５３４から別のフロ−に移り、この
場合は状態５９８に移行して終端ステ−タスが「停止」
に設定される。

【０２９４】これに続き図１７の状態６０２に移行し、
検討中のラスタ−ブロッブの他の探索部分の情報が蓄積
される。

【０２９５】エディタ２００は次に、状態５９４に移行
し、カ−ブの反対側終端の延長をするための総合情報を
用意し、状態５９６で終了する。

【０２９６】同様にして、図１５において、もし探索点
リストが状態５６６において満杯の場合は、ある予期し
ない条件により、状態６０６で終端ステ−タスを「停
止」に設定したことを意味する。

【０２９７】状態５７０で、この終端が休止にならずか
つ他の終端が停止にならない場合は、状態６１０で終端
ステ−タスが「休止」に設定され、これにより、ラスタ
−構成要素の他の終端に移行するための準備状態にな
る。

【０２９８】しかし、エディタ２００は現在実行中の線
の他の終端の延長がなされるまでは、曲がり角操作また
は交差点操作は行わない。

【０２９９】図１５の状態５７０における一方のフロ−
では、曲がり角テストがおこなわれる。

【０３００】曲がり角は、両エッジが同一のフレア線を
横切るのを観測して検出される。状態５７４におて曲が
り角が検出されたときは、状態６１４に移行して、カ−
ブの形態が曲がり角、例えば複線（ポリライン）である
かを決定する。

【０３０１】もし曲がり角である場合は、状態６１８に
移行し、この角を越えてカ−ブ追尾を行うための総合変
数が設定され、その後図１６の状態５７８に復帰する。

【０３０２】それ以外の場合は、状態６１４から状態６
２２に移行して、終端ステ−タスを「停止」に設定す
る。

【０３０３】図１６において、状態５７８においてカ−
ブ適合許容範囲を越えたかが観察され、もし越えていれ
ばその線は過剰にうねりがあり追尾に不適当であり、エ
ディタ２００は状態６２６に移行して、終端ステ−タス
を「停止」に設定する。

【０３０４】エディタ２００は次に状態６０２（図１
７）に移行する。状態５８２のテストが否であり、状態
６３０において「停止」に設定された場合にも、状態６
０２に移行する。

【０３０５】図１８は、図１６における、機能５８６の
「交差点通過」の制御フロ−を示す。

【０３０６】状態６３４において、カ−ブ終端ステ−タ
スが「停止」に設定される。交差点通過の試行が不可と
なるには、多数の理由たあるため、ラスタ−構成要素に
おけるこの終端で、線が停止した、との予想をたてる。

【０３０７】状態６３４の後に状態６３８となり、交差
点情報にスペ−スを割り当てる為の試行がなされる。

【０３０８】もし交差点情報スペ−スが割当不可の場
合、すなわち、現在の構成要素の交差点通過の合計数
が、最大値に達している場合には、機能５８６は状態６
４０で終了する。

【０３０９】そうでない場合には、エディタ２００は状
態６４２に移行し、交差線の幅の値を予測する。

【０３１０】この障害の線幅は現在の構成要素の線幅と
同一と推定される。交差角度は鋭角と推定される。

【０３１１】交差点の長さＬは、双方の線の幅をＷと仮
定して、次の式で現される。 Ｌ＝Ｗ・（１／ｓｉｎ（Ａ）＋ｃｏｓ（Ａ）／ｓｉｎ（Ａ）） ここでＡは交差点の角度であり、９０°以下である。

【０３１２】状態６４６において、エディタ２００は使
用者によって選定された、基準構成要素のうち現在検討
中の構成要素に基づいた、変数を初期化することにより
交差点を「スライス」する準備をする。

【０３１３】スライスとは選択されたラスタ−構成要素
を横に切る（断面）ことである。線の終端（このときの
ステ−タスは「停止」）と交差する障害物との間の、多
数のスライスを形成しかつ分析することにより、交差部
分の全体の「形状」が決定される。

【０３１４】分析されるスライスの数は、エディタの設
計や現在対象とする特定のイメ−ジ及び構成要素寸法に
より異なる。

【０３１５】ラスタ−障害物をスライスする際、エディ
タ２００は「オフからオン」へのピクセルの変化を探
し、この変化は交差する障害物を通過した構成要素の継
続可能性を示している。

【０３１６】この各スライスの継続可能性の情報は、更
に処理を行う為に保存される。この格納された情報は、
エッジピクセル及び中心ピクセル等のスライスに含まれ
る情報を含む。

【０３１７】スライス動作は最後の探索点から開始し、
そこから使用者により選定された、構成要素の性質に基
づいた基準線の方向へ進行する。

【０３１８】状態６５０で延長を開始するためのサ−チ
がおこなわれ、これはル−プの一方に対応すると共に、
その他方は状態６８２に接続されている。

【０３１９】このル−プは予め定めた最大スライス数に
達した場合、または継続が発見された場合に停止する。

【０３２０】処理手順が進むにつれ、スライスの長さが
増加し、基本形状のパタ−ンがラスタ−構成要素上に形
成される。

【０３２１】状態６５４においてスライスの中心点が１
単位、すなわち１ピクセル分更新される。

【０３２２】スライス分析機能６５８（図２０）で新規
のスライスが分析される。機能６５８でエラ−があり、
状態６６２でチェックされると、エディタ２００は図１
９に示された状態６６６に移動し、暫定メモリ空間を解
放にする。

【０３２３】エディタ２００は状態６７０に移行し、フ
ェイルコ−ドを差戻しして、状態６７２で終了する。

【０３２４】図１８の状態６６２で、機能６５８のスラ
イス工程でエラ−が全くなかった場合には、状態６７４
に移行してエディタ２００は、連続するスライスの最小
数が、少なくとも１の延長と相関、すなわち「トレ−
ス」するかが決定される。

【０３２５】もしそのようなトレ−スが見出された場合
は、エディタ２００は図１９の状態６６６に移り上記し
たように機能する。

【０３２６】もしトレ−スが全く無かった場合は、状態
６７８に移行し、エディタ２００はトレ−ス中にギャッ
プが検出されたか、そしてそのギャップが動作を継続す
るには大きすぎるかが決定される。

【０３２７】もしそのようなギャップが見いだされた場
合は、エディタ２００は状態６６６（図１９）に移り上
記のように機能する。

【０３２８】状態６７８において、もしそのようなギャ
ップが無い場合には、エディタ２００は次に状態６８２
に移動し、全ての可能なスライスに対し、サ−チが終了
したかを決定する。

【０３２９】サ−チが終了の場合は、エディタ２００は
状態６６６（図１９）に移行し、上記の機能を行う。

【０３３０】サ−チの終了でない場合は、エディタ２０
０は状態６５０において、ル−プの最初に戻り次のスラ
イスの処理を行う。

【０３３１】もし構成要素が例えばギャップのため、延
長不可能の場合は、使用者は図４のメニュ−２９０に示
すような、延長（ＥＸＴＥＮＤ）機能を介在させるかを
選択できる。

【０３３２】状態６７４に戻り、もし有効なトレ−ス
（または延長）が発見された場合は、エディタ２００は
図１９に示す状態６８６に移行し、延長されたエッジ点
が有効であるかがテストされる。

【０３３３】エッジ点の有効性は、エッジフォロア機能
３７８（図８）により多数のエッジ点を収集し、次にそ
れらのエッジが平行で同一方向であるかをチェックして
おこなわれる。

【０３３４】エッジ点が有効でない場合は、エディタ２
００は状態６８６から状態６６６に移行し、上記したよ
うな機能を果たす。

【０３３５】反対に、延長したエッジ点が有効の場合
は、エディタ２００は状態６８６から状態６９０に移行
し、延長の開始における探索点を作成する。

【０３３６】この新規の探索点は、２つのエッジ再開始
点の中心で、交差点を越えた位置に置かれる。

【０３３７】最終サ−チ方向の傾斜が決められる。その
後、状態６９４となり、交差するラスタ−ブロッブから
探索したカ−ブを分離するために、交差情報が記憶され
る。

【０３３８】単一の交差する線の例では、この交差情報
は各交差頂点に近接する「オフ」ピクセルの４つの交差
点配置を含んでいる。

【０３３９】機能５８６においてエディタ２００は、次
に状態６９８に移行し、ギャップが検出されたかを決定
する。

【０３４０】状態６９８でギャップが検出された場合に
は、エディタ２００は状態７０２に移行し、そのギャッ
プが「完全」であるかを決定する。

【０３４１】例えば「Ｔ」字交差のように、そのギャッ
プに交差する線が無い場合は、そのギャップは完全であ
り、交差線を有しないギャップとして取り扱われる。

【０３４２】状態７０２におけるテストが満足された場
合のみ、そのギャップは横切られる。

【０３４３】状態７０２のテストは、その線エッジにフ
レアが存在しないことを確認することにり行われる。

【０３４４】状態７０２で交差線が検出された場合に
は、機能５８６は終了し状態６６６に移行して、上記の
ように機能する。

【０３４５】それ以外の場合は、もしギャップが「完
全」であれば、エディタ２００は状態７０６に移行し、
探索点情報及び交差情報を永続リストに追加する。

【０３４６】この永続リストは探索点情報及び交差情報
を、現在のラスタ−構成要素が取り扱われている間にわ
たり保持する。

【０３４７】エディタ２００は次に状態７１０に移行
し、時計方向、反時計方向エッジフォロア３７８（図
８）が、延長部分に継続して行われるように設定され
る。

【０３４８】状態７１４で現在の終端ステ−タスを「ラ
ンニング」に設定する。状態７１８で機能５８６の「成
功」ステ−タスとなり、これは交差が横切られ、すなわ
ちギャップが飛び越され、構成要素が延長を継続できる
ことを意味する。

【０３４９】機能５８６は状態７２０で終了する。図２
０，２１は、図１８の機能６５８で示された「新規の交
差スライスを分析する」機能の制御フロ−を現してい
る。

【０３５０】機能６５８はまた走査線アルゴリズムとも
呼ばれており、これはビデオ走査線のように、各スライ
スが現在のラスタ−構成要素に対し垂直線を構成するか
らである。

【０３５１】機能６５８は状態７２１で開始し、状態７
２２に移行して、スライス終点を得るべきスライスの開
始点を決定する。

【０３５２】状態７２６で幾つかのステップ変数が実行
され、状態７２６のル−プに移行し、スライスとピクセ
ルを同時に探索る。

【０３５３】このル−プの目的は、「一致リスト」に遷
移ピクセルの組を集めることである。

【０３５４】このような組は「オン−オフ」または「オ
フ−オン」のいずれかである。スライス探査により、
「オフ−オン」と「オン−オフ」の組合せが見つかった
ときは、交差は終了する。

【０３５５】ル−プはまず状態７３４に移行して、現在
のピクセルが「オン」であるかをテストする。

【０３５６】現在のピクセルとは、いま分析しているス
ライスのピクセルである。ル−プの第１回目は、このピ
クセルは、状態７２２で求めた開始点を現す。

【０３５７】もし現在のピクセルが「オフ」の場合は、
状態７３８に移行し、その前のピクセルが「オン」であ
ったかをテストする。

【０３５８】もしそうであった場合は、状態７４２に移
行し、その前に「オフ−オン」移行があったかをテスト
する。

【０３５９】このテストの結果が肯定であれば、制御フ
ロ−は状態７４６に移行し、「一致（ヒット）リスト」
に「オン−オフ」移行が格納される。

【０３６０】ポインタ−は状態７５０（図２１）でスラ
イスの次のピクセルに進み、状態７５４でル−プの最後
に到達し、スライスの最終条件が存在するかをテストす
る。

【０３６１】スライスの最終条件となっていない場合に
は、制御フロ−は状態７３０で、ル−プの最初に戻る
（図２０）。

【０３６２】図２０の状態７３８または７４２による、
ル−プ内の他の経路を取った場合には、状態７５０でた
だちにスライス内の次のピクセル進行する条件が整わな
かった場合を意味する。

【０３６３】状態７３４におけるテストが肯定であれ
ば、すなわち現在のピクセルが「オン」であれば、制御
フロ−は状態７５８に移行し、その前のピクセルが「オ
ン」であるかテストする。

【０３６４】このテスト結果が肯定であれば、制御フロ
−は状態７５０に移行する。そうでない場合には、状態
７５８から状態７６２に移動し、「一致リスト」にオフ
−オン移行を格納する。

【０３６５】この状態の後、状態７６６になり、ギャッ
プカウンタがリセットされ、状態７５０に進行する。

【０３６６】ル−プが状態７５４でスライスの最後のピ
クセルを発見することにより、完了した場合には、制御
フロ−は機能７７０に移行し（図２２）、有効なカ−ブ
延長を探すために「一致リスト」が分析される。

【０３６７】最小遷移数に相関があれば、有効なカ−ブ
延長が発見されたことになる。機能７７０でこの分析が
完了すると、制御フロ−は状態７７４に移行し、延長が
あったかの問いがなされる。

【０３６８】もし延長が無かった場合は、制御フロ−は
状態７７４から状態７７８に移行し、「スライスの継
続」となる。

【０３６９】状態７７４で延長があった場合は、制御フ
ロ−は状態７８２に移行し、「延長の存在」状態とな
り、状態７８０に移行してアルゴリズム６５８は終了す
る。

【０３７０】図２２は図２１の機能７７０に対応する
「有効カ−ブ延長のヒットリストを解析」の機能を示
す、制御フロ−である。

【０３７１】機能７７０は現在のスライス中の最新の一
致（ヒット）を取り出し、その変化を反映してトレ−ス
構造を更新する。

【０３７２】一致はクロス積を増加させることにより整
順しなければならない。エディタ２００は状態７８４で
機能７７０に入り、状態７８６に移行して、新規のスラ
イス中心について、総合トレ−スデ−タを調整する。

【０３７３】これはスライスの移動が矯正されたこと及
び矯正されたスライスが収集されたことを意味する。

【０３７４】次に状態７９０で示す−ル−プの開始位置
に移行する。このル−プは「オフ−オン」および「オン
−オフ」遷移の組数により定められる。

【０３７５】状態７９４で現在の一致（ヒット）組とス
ライス中心との距離が決定される。この計算は、スライ
ス基準線と一致組により形成される、ベクトルのクロス
積を計算することにより達成される。

【０３７６】制御フロ−は状態７９８に移行し、一致組
がトレ−ス記録の投影した軌道と重なるか、またはその
一致組が現在のトレ−スまたは一致組の後に位置するま
で、機能７７０はトレ−ス記録リストについて進行す
る。

【０３７７】トレ−ス記録は、その前のスライスについ
て収集された、一致組の結果により構成されている。

【０３７８】したがって、トレ−スの接線に重なる一致
組は同じトレ−スカ−ブの連続でなければならない。

【０３７９】状態７９８から制御フロ−は状態８０２に
移行し、重畳するトレ−スが発見されたかの問いを発生
する。

【０３８０】重畳するトレ−スが発見された場合は、状
態８０６に移行し、トレ−スを２つのトレ−スに分割す
るか、すなわち「Ｙ」交差の形状と解釈するか、を決定
する。

【０３８１】このテストは、その前のスライスの単一の
一致と、現在のスライスの２つの一致との間で、相関が
あるかを決定することによりおこなわれる。

【０３８２】状態８０６のテストは、２つの重畳する一
致組がその前のスライスの単一の一致と、現在のスライ
スの２つの一致との間で、一致するする場合は肯定とみ
なされる。

【０３８３】状態８０６のテストが肯定の場合は、状態
８１０で一致した１組について、次のトレ−スが開始さ
れる。

【０３８４】この分割テストが否の場合は、状態８１０
から制御フロ−は、状態８１４に移行し、現在の一致組
が重畳するトレ−スに追加される。

【０３８５】状態８１８でトレ−スが合流するかを確
認、すなわち現在の一致組が近接のトレ−スまたはその
前の２つの一致組に重畳するかを決定する。

【０３８６】状態８１８のテストは本質的に、トレ−ス
分離の逆になる。例えば、その前の２つの一致と現在の
スライスの単一の一致との相関があれば、２つのトレ−
スは１つに合流することである。

【０３８７】状態８１８で重畳条件が発見されると、制
御フロ−は状態８２２に移行し、トレ−スは「合流」と
記録される。

【０３８８】状態８２２から、または状態８１８のテス
ト結果が否であるなら、制御フロ−は状態８２６に移行
し、処理すべき一致組がさらに存在するかを決定する。

【０３８９】このテスト結果が肯定の場合は、制御フロ
−は状態７９０のル−プの最初に戻り、次の一致組が処
理される。

【０３９０】重畳トレ−スがあるかをテストしその結果
により分岐する状態８０２に戻り、もしそのようなトレ
−スが発見されないときは、状態８３０に移行し、新規
のトレ−スが開始される。

【０３９１】状態８３０から制御フロ−は、状態８２６
に移行し、ル−プが継続される。処理すべき一致組がも
はや存在しないため、状態８２６でル−プが終了する
と、制御フロ−は状態８３４に移行し、「不一致」トレ
−ス、または現在のスライスの一致組と更新されていな
いトレ−スは、削除と記録される。

【０３９２】トレ−スの記録は機能８３８（図２３）で
分析され、「不一致」と記録されたトレ−スは状態８４
２で削除される。

【０３９３】機能７７０の結果は、状態８４６に戻り、
有効な延長が発見された事を示すか、またはギャップが
大きすぎてジャンプできない事を示す。

【０３９４】状態８４６から制御フロ−は状態８４８に
移行し、機能７７０の動作は終了する。図２２の「トレ
−ス記録を解析」の機能８３８が、図２３に現わされて
いる。

【０３９５】エディタ２００は状態８４９において機能
８３８に入り、状態８５０に移行してル−プが開始さ
れ、トレ−スリストの各記録に対し起動する。

【０３９６】状態８５０から制御フロ−は状態８５２に
移行し、トレ−スが終了したか、又は継続するスライス
または一致組が少なすぎるかを決定するテストが行われ
る。

【０３９７】このいずれにも該当しない場合は、状態８
５４に経路を移行し、トレ−スをさらに延長する試みを
する。

【０３９８】状態８５４において、エッジフォロア３７
８（図８）を指示することにより、最新の「一致組」の
後ろを反対方向に、エッジ点が収集される。

【０３９９】次に制御フロ−は状態８５８に移行し、平
滑なエッジか、平行なエッジか、正しい線幅かがテスト
される。

【０４００】この方法は図５の状態３０８及び３２０で
述べたものに対応する。状態８５８のテスト結果が否で
ある場合は、制御フロ−は状態８６２に移行し、有効な
スライス数を２だけデクリメントする。

【０４０１】トレ−スに必要な継続するスライス数が、
このようにデクリメントされる場合は、機能８３８を実
行する際に、平滑及び平行適合テストを繰り返す必要が
ないために、トレ−スの処理量は減少する。

【０４０２】エディタ２００は次に状態８６２から８６
６に移行する。状態８６６ル−プの終了、すなわちトレ
−スリストが終了かどうかがテストされる。

【０４０３】そうでない場合は、状態８５０でル−プは
戻されて継続する。状態８５８のテスト結果が肯定の場
合は、制御フロ−は状態８７０に移行し、トレ−ス接線
すなわち傾斜が現在のラスタ−構成要素に整合するかの
テストが行われる。

【０４０４】整合しない場合は、状態８６２に移行し、
再度トレ−ス処理の数を減少させる。

【０４０５】もしトレ−スが検討しているラスタ−に整
合する場合、すなわち状態８７４のテストが肯定の場合
は、そのトレ−スは延長可能と記録され、制御フロ−は
状態８６６でル−プに戻る。

【０４０６】状態８６６のトレ−スリストが終了したこ
とにより、ル−プから外にでた場合は、制御フロ−は状
態８７８に移り、少なくとも１つの構成要素の延長可能
性が発見されたかのテストが行われる。

【０４０７】状態８７８のテスト結果が否の場合は、機
能８３８は状態８８２において「フェイル」に戻り、状
態８８４で終了する。

【０４０８】その他の場合は、最小の延長誤差を有する
トレ−スの指数、すなわち傾斜と適合の誤差が格納され
る。

【０４０９】状態８８２または８８６のいずれの動作の
完了によっても、機能８３８の操作は終了する。

【０４１０】図２において、機能２３６として示された
「ラスタ−イメ−ジから構成要素を消去」の機能が図２
４に示されている。

【０４１１】機能２３６は、使用者によりベクトル構成
要素またはラスタ−構成要素の消去が、承認された場合
に動作を開始する。

【０４１２】構成要素消去機能２３６は状態８８８で動
作を開始し、予め定めた「カット（切取り）線」におい
て、周辺のラスタ−から構成要素を切り抜く。

【０４１３】機能８９０（図２５）に移行し、指定され
た構成要素が、交差するラスタ−対象物から取り除かれ
る。

【０４１４】残りの切取りは状態８９４により行われ
る。この残りの切取りとは、例えば「Ｔ」交差または探
索点オ−バ−フロ−のような、許容範囲を越えた状況の
とき行われる削除である。

【０４１５】最後に、指定された構成要素の隔離された
セグメントは、状態８９８で消去され、機能２３６は状
態９００で終了する。

【０４１６】機能２３６は１つの「オン」ピクセルの位
置が与えられえば、いかなるラスタ−ブロッブの消去も
可能である。

【０４１７】図２４において機能８９０として示された
「交差するラスタ−対象物から指定された構成要素を削
除する」機能は、図２５及び図２６に示されている。

【０４１８】機能８９０は状態９０１で開始し、アルゴ
リズム５８６（図１８、図１９）における交差点及びギ
ャップのジャンプ機能により生じた「障害物ゾ−ン」に
わたり、ブリッジを形成する動作も行う。

【０４１９】機能８９０は障害物の形状により必要とな
る、現在のカ−ブ終端の「カット線」リストを形成す
る。

【０４２０】エディタ２００は状態９０１ａに移行し、
次に状態９０２に移行して、時計方向線の中間傾斜が決
定される。

【０４２１】この中間傾斜の値は、ｘ−ｙ時計方向交差
の開始点（交差の最後の探索点）とｘ−ｙ時計方向交差
の終了点（交差の後の最初探索点）との間の線の傾斜で
ある。

【０４２２】制御フロ−は状態９０２から状態９０６に
移行し、時計方向の一対の突起点を決定する。

【０４２３】この突起点は曲がり角点「角１」、「角
２」として蓄積される。「角１」の点は、ｘ−ｙ時計方
向交差の開始点に垂直な、時計方向エッジフレア線上の
点である。

【０４２４】「角２」の点は、ｘ−ｙ時計方向交差の終
了点に垂直な、時計方向エッジフレア線上の点である。

【０４２５】ル−プが状態９１０から開始する。このル
−プにおいて、状態９１４において、突起点と角２との
間の時計方向フレアリミット線を、エッジが交差するま
で、選択したラスタ−構成要素の時計方向エッジに沿っ
て進行させる。

【０４２６】このエッジ交差の指示が出された場合に
は、制御フロ−は状態９１８に移行し、エッジがフレア
リミットと交差したかを決定する。

【０４２７】状態９１８でのテスト結果が肯定である場
合には、制御フロ−は状態９２２に移行し、「時計方向
フレアリミット点０」のエッジ点が、フレア点リストに
記録される。

【０４２８】制御フロ−は状態９２６に移り、「オフ」
ピクセルに出会うまで、時計方向線中間傾斜線に平行
に、フレア線に沿って進行させる。

【０４２９】次に状態９３０で、時計方向エッジフォロ
ア３７８（図８）は、フレア線を越えて、時計方向引き
出し点まで、交差ラスタ−対象物の最初のエッジに沿っ
て進行する。

【０４３０】この後、制御フロ−は状態９３４に移行
し、時計方向エッジフォロア３７８が、フレア線を越え
て、もう１つの時計方向引き出し点まで、交差ラスタ−
対象物の第２のエッジに沿って後戻りする。

【０４３１】次に状態９３８に移行して、フレア線の内
部に入り込む為に、第２のエッジに沿って前進する。

【０４３２】状態９３８は「時計方向フレアリミット点
０」が、フレア線より下方にあることを確実にする。

【０４３３】状態９３８から、または状態９１８におい
てフレアリミットをどのエッジも越えていない結果がで
たときは、制御フロ−は状態９４２に移行し、交差領域
の両終端における、時計方向及び反時計方向探索点によ
り定められる、交差領域の終端に到達したかのテストが
行われる。

【０４３４】交差領域の終端に到達していない場合は、
制御フロ−は状態９１０のル−プに戻る。

【０４３５】それ以外の場合は、ル−プは終了し状態９
４６（図２６）となり、これにより状態９０１ａに移行
して、図２５における時計方向に対する状態９０２から
９４２の動作を繰り返す。

【０４３６】制御フロ−は状態９４６から状態９５０に
移行し、正確性のテストが行われる。状態９５０のテス
トでエッジ上にフレア点が発見されない場合は、状態９
５４に移行し、交差入口で「切取り線」が後の取り消し
の為に形成される。

【０４３７】この切取り線は、「角」点または「時計方
向突起点」または「ｘ−ｙ反時計方向交差開始点」によ
り定められる。

【０４３８】機能８９０は状態９５６により終了する。
一方、状態９５０において、フレア点が発見された場合
には、制御フロ−は状態９５８に移行し、互いに接近す
るフレアは１つの太いフレアとなるように結合される。

【０４３９】状態９５８から制御フロ−は状態９６２に
移行し、「角１」「角２」「角３」及び「角４」により
定められた領域が消去される。

【０４４０】状態９６６で交差中心線が計算される。フ
レア数により制御されるル−プが、状態９７０で開始さ
れる。

【０４４１】制御フロ−は次に状態９７４に移行し、各
フレアリミット点と引き出し点との間の線が、交差中心
線として推定される。

【０４４２】各推定線の終了点が、状態９７８で、中心
点として記憶される。制御フロ−は状態９８２に移行
し、全てのフレア点について処理がなされたかがテスト
される。

【０４４３】このテスト結果が否の場合は、状態９７０
のル−プの最初に戻り、次のフレア点の処理を行う。

【０４４４】それ以外の場合は、ル−プは終了し、状態
９８６で反時計方向エッジについて、ル−プの状態９７
０から９８２の同じステップを繰り返す。

【０４４５】その後、制御フロ−は状態９９０に移行
し、交差中心線の反対側のフレアを相関させる。

【０４４６】状態９９４に移り、引き出し点と中心点と
により定められた各フレアが塗りつぶされる。

【０４４７】最後に、状態９９８で、交差の入口と出口
の線が、選択した構成要素の分離を保証するために、再
消去される。

【０４４８】機能８９０は状態１０００で終了する。図
２７は図２５及び図２６で示した、構成要素切取りの機
能８９０により実行される、ラスタ−構成要素の選択的
消去と切取りの例を現している。

【０４４９】図２７では、選択された構成要素１００２
が、構成要素「Ａ」（１００６）及び構成要素「Ｂ」
（１０１０）に交差する。

【０４５０】第１の延長線（１０１４）が、「時計方向
引き出し点０」（１０１８）から「時計方向フレアリミ
ット点０」（１０２２）を経由して、第１の「中心ドッ
ト」（１０２４）に想定される。

【０４５１】第２の延長線（１０２６）が、「反時計方
向引き出し点０」（１０３０）から「反時計方向フレア
リミット点０」（１０３４）を経由して、第２の「中心
ドット」（１０３８）に想定される。

【０４５２】二つの中心ドット１０２４、１０３８は次
に、塗りつぶし領域１０４２の完全なエッジを形成する
ために、相関が取られる。

【０４５３】構成要素Ｂ（１０１０）と選択した構成要
素１００２とにより形成された交差「Ｔ」の部分にも、
上記の消去アルゴリズム８９０により塗りつぶし領域１
０４６が形成される。

【０４５４】領域１０４６、は交差する構成要素Ｂにピ
クセルの色を設定することにより、塗りつぶされる。

【０４５５】この塗りつぶし領域１０４２、１０４６
は、「角１」（１０５４）、「角２」（１０５６）、
「ｘ−ｙ時計方向交差終了点」（１０５８）、「ｘ−ｙ
反時計方向交差終了点」（１０６０）、「角３」（１０
６２）、「角４」（１０６４）、「ｘ−ｙ時計方向交差
開始点」（１０６６）、「ｘ−ｙ反時計方向交差開始
点」（１０６８）により囲まれた交差領域１０５０によ
り塗りつぶされ、その後消去される。

【０４５６】「角１」（１０５４）から「角２」（１０
５６）への線、及び「角３」（１０６２）から「角４」
（１０６４）への線はフレアリミット線を定める。

【０４５７】「角１」（１０５４）から「角４」（１０
６４）への線、及び探索点「ｘ−ｙ時計方向交差開始
点」（１０６６）、「ｘ−ｙ反時計方向交差開始点」
（１０６８）は交差の入口を示し、「角２」（１０５
６）から「角３」（１０６２）への線、及び探索点「ｘ
−ｙ時計方向交差終了点」（１０５８）、「ｘ−ｙ反時
計方向交差終了点」（１０６０）は交差の入口を示す。

【０４５８】図２８は機能８９０（図２５、図２６）の
「切取り線」機能の例を示し、選択されたラスタ−構成
要素１０７０を交差するラスタ−対象物１０７４から分
離させるものである。

【０４５９】状態９９８（図２６）のように、領域１０
７８が塗りつぶされた後、消去または再消去されて、選
択された構成要素１０７０のどの「オン」ピクセルも、
交差対象物１０７４の「オン」ピクセルと、接触しない
（例え斜め方向でも）ようにされる。

【０４６０】これまでの説明から理解されるように、こ
の複合イメ−ジエディタは、単一のイメ−ジ階層におい
て、ラスタ−構成要素とベクトル構成要素とが同一の広
がりを持って維持されるため、優れた柔軟性を得ること
ができる。

【０４６１】すなわち、一度ラスタ−構成要素がベクト
ル化されると、全てのタイプのベクトル動作が使用でき
るので、使用者はどのエディタ動作がその構成要素に許
容されるかを考慮しないでよい。

【０４６２】さらに、ここで示したように、交差横切り
機能やギャップジャンプ機能により、重畳するラスタ−
対象物に対し、選択的認識とベクトルフォ−マットへの
変換が可能である。

【０４６３】最後にラスタ−構成要素の選択的消去によ
り、交差するラスタ−対象物の保持ができ、使用者にラ
スタ−構成要素の幾何学形態が混合せず、したがって、
全ての構成要素がベクトル構成要素であるように感じさ
せることができる。

【０４６４】上記のように、本発明の新規な基本的特徴
を、各種の実施例について詳細な説明をおこなったが、
当分野の通常の専門家であれば、本発明の精神を逸脱す
ることなく、各種の置き換え、削除、変更が可能である
ことは理解出来るであろう。

【０４６５】

【発明の効果】本発明によれば、単一のイメ−ジ階層に
おいて、ラスタ−構成要素とベクトル構成要素とが同一
の広がりを持って維持されるため、優れた柔軟性を得る
ことができる。

【０４６６】すなわち、一度ラスタ−構成要素がベクト
ル化されると、全てのタイプのベクトル動作が使用でき
るので、使用者はどのエディタ動作がその構成要素に許
容されるかを考慮しないでよい。

【０４６７】さらに、交差横切り機能やギャップジャン
プ機能により、重畳するラスタ−対象物に対し、選択的
認識とベクトルフォ−マットへの変換が可能である。

【０４６８】また、ラスタ−構成要素の選択的消去によ
り、交差するラスタ−対象物の保持ができ、使用者にラ
スタ−構成要素の幾何学形態が混合せず、したがって、
全ての構成要素がベクトル構成要素であるように感じさ
せることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を包含するコンピュ−タシスタムの好ま
しい実施例のブロックダイアグラムを示す。

【図２】本発明の複合イメ−ジエディタの好ましい実施
例における最上位のフロ−ダイアグラムを示す。

【図３】本発明の一の態様における、ユ−ザ選択可能パ
ラメ−タ及び編集動作を示すコンピュ−タ画面表示を示
す。

【図４】本発明の一の態様における、ユ−ザ確認を示す
コンピュ−タ画面表示を示す。

【図５】図２のフロ−ダイアグラムで言及した「最短距
離のラスタ−ブロッブを探知」機能を規定するフロ−ダ
イアグラムである。

【図６】図５で規定された最短距離のラスタ−ブロッブ
を探知する為の好ましい方法の１例を表すダイアグラム
である。

【図７】図２のフロ−ダイアグラムで言及した「ブロッ
ブの形状を認識」機能を規定するフロ−ダイアグラムで
ある。

【図８】図７で示した「エッジフォロア」機能を一般化
して規定するフロ−ダイアグラムであり、時計方向エッ
ジフォロアと反時計方向エッジフォロアを含む。

【図９】図８に示したエッジフォロア機能に付加されて
いる、エッジフォロア方向変換の好ましい実施例を示す
ダイアグラムである。

【図１０】反時計方向エッジフォロア機能により取られ
た経路の例を示すダイアグラムである。

【図１１】図８のフロ−ダイアグラムで言及した「エッ
ジ点処理」機能を規定するフロ−ダイアグラムである。

【図１２】図７のフロ−ダイアグラムで言及した「新規
の探査点を計算しリストに追加」機能を規定するフロ−
ダイアグラムである。

【図１３】図７のフロ−ダイアグラムで言及した「カ−
ブの整合を再計算」機能を規定するフロ−ダイアグラム
である。

【図１４】図７のフロ−ダイアグラムで言及した「不連
続箇所を通過またはジャンプを試行」機能を規定するフ
ロ−ダイアグラムである。

【図１５】図７のフロ−ダイアグラムで言及した「不連
続箇所を通過またはジャンプを試行」機能を規定するフ
ロ−ダイアグラムである。

【図１６】図７のフロ−ダイアグラムで言及した「不連
続箇所を通過またはジャンプを試行」機能を規定するフ
ロ−ダイアグラムである。

【図１７】図７のフロ−ダイアグラムで言及した「不連
続箇所を通過またはジャンプを試行」機能を規定するフ
ロ−ダイアグラムである。

【図１８】図１４のフロ−ダイアグラムで言及した「交
差箇所を通過を試行」機能を規定するフロ−ダイアグラ
ムである。

【図１９】図１４のフロ−ダイアグラムで言及した「交
差箇所を通過を試行」機能を規定するフロ−ダイアグラ
ムである。

【図２０】図１８のフロ−ダイアグラムで言及した「新
規の交差箇所スライスを解析」機能を規定するフロ−ダ
イアグラムである。

【図２１】図１８のフロ−ダイアグラムで言及した「新
規の交差箇所スライスを解析」機能を規定するフロ−ダ
イアグラムである。

【図２２】図２０のフロ−ダイアグラムで言及した「有
効カ−ブの延長における適合リストを解析」機能を規定
するフロ−ダイアグラムである。

【図２３】図２２のフロ−ダイアグラムで言及した「追
尾レコ−ドを解析」機能を規定するフロ−ダイアグラム
である。

【図２４】図２のフロ−ダイアグラムで言及した「ラス
タ−イメ−ジから構成要素を消去」機能を規定するフロ
−ダイアグラムである。

【図２５】図２４のフロ−ダイアグラムで言及した「交
差するラスタ−対象から選択した構成要素を切り離す」
機能を規定するフロ−ダイアグラムである。

【図２６】図２４のフロ−ダイアグラムで言及した「交
差するラスタ−対象から選択した構成要素を切り離す」
機能を規定するフロ−ダイアグラムである。

【図２７】二つの交差するラスタ−対象物から選択され
たラスタ−構成要素を消去する例を示すダイアグラムで
ある。

【図２８】二つの交差するラスタ−対象物から選択され
たラスタ−構成要素を切り取る例を示すダイアグラムで
ある。

【符号の説明】

１００・・ワークステーション １０４・・コンピュータ １０８・・カラーモニタ １１２・・マウス １１６・・キーボード １２０・・フロッピーディスクドライブ １２４・・ハードディスクドライブ １２８・・エサーネット通信端子 １３２・・マザーボードバス １３６・・入出力バス １４０・・入出力バスインタフェイス・コントローラ １４４・・グラフィックディスプレイコントローラ １４８・・シリアル通信コントローラ １５６・・エサネット通信コントローラ １６０・・イメージプロセッサ １６８・・マイクロプロセッサ １７２・・コプロセッサ １７６・・主メモリ １８０・・オペレーティングシステム ２００・・複合イメージエディタ ２０２・・イメージデータファイル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハル シー ロナス，ジュニア アメリカ合衆国 92128 カリフォルニ ア，サンディエゴ，カミト トマス 16009番地 (56)参考文献 特開 平１−194080（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G06T 1/00 - 17/50

Claims (23)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 プロセッサとメモリと表示器を有するコ
   ンピュータにおいて、ラスター構成要素とベクトル構成
   要素を編集する方法であって、 上記メモリに格納されているラスターイメージを読出す
   ステップを含み、そのラスターイメージは上記表示器の
   ピクセルを現す複数のバイナリコードの合成であり、 上記メモリの表示バッファ部分に上記ラスターイメージ
   を格納するステップと、 その格納されたイメージを上記表示器に表示するステッ
   プと、 そのラスターイメージの表示されたピクセルの中からラ
   スター構成要素を選択するステップを含み、そのラスタ
   ー構成要素は幾何学的形状を規定するための座標により
   定められた複数のピクセルを含んでおり、 予め定められた幾何学的形状のリストの中から、選択さ
   れたラスター構成要素の形状に最も類似する形状を選択
   するステップと、 選択されたラスター構成要素のピクセル座標により決定
   される幾何学式と予め定められた幾何学的形状の幾何学
   式を比較してその偏差を求めるステップと、 その幾何学的偏差を予め定めた最小偏差と比較して、選
   択されたラスター構成要素が選択された幾何学的形状と
   充分に同一の幾何学式を有することを認識するステップ
   と、 その選択されたラスター構成要素を上記選択された幾何
   学的形状に対応するベクトル構成要素に変換し、そのベ
   クトル構成要素は相対的変位及び傾斜により定義される
   座標を有する複数の点を有し、そのベクトル構成要素の
   複数の点はピクセル絶対値座標に変換されて前記表示バ
   ッファを用いて読み出され上記表示器に表示されるステ
   ップと、 選択されたラスター構成要素が通常であればベクトル構
   成要素のみを有するイメージに含まれるベクトル構成要
   素として取り扱えるようにそのベクトル構成要素をベク
   トル編集操作により処理するステップと、 を有することを特徴とする方法。
2. 【請求項２】 前記選択は、前記コンピュータに接続さ
   れた入力装置によって達成される請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】 前記入力装置は、マウスである請求項２
   記載の方法。
4. 【請求項４】 コンピュータのメモリに蓄積された、収
   集されたラスター構成要素の表示イメージの中から選択
   されたラスター構成要素を、予め規定した幾何学的形状
   に関連した形状式により定義されるベクトル構成要素に
   変換する方法であって、 予め規定した幾何学的形状のリストの中から、所望の形
   状を選択するステップと、 上記収集されたラスター構成要素の中から、その選択さ
   れた規定の形状に全体的に対応する形状のラスター構成
   要素を選択するステップと、 その選択されたラスター構成要素上の、局部的に線状の
   セグメントを指定して、その線状セグメントが延長され
   て、その選択したラスター構成要素の最大空間距離を決
   定する、そのような同定ステップと、 その線状セグメントの少なくとも１の終端を延長して、
   上記選択された予め規定した幾何学的形状に対応する形
   状式が、上記ラスター構成要素に指定した点に適合する
   ようにするステップと、 そのラスター構成要素の形状式の偏差と最大偏差を比較
   し、そのラスター構成要素の偏差が最大偏差以下である
   ことを認識するステップと、 上記選択されたラスター構成要素の１のエッジを追尾し
   て、そのエッジにより規定される１の方向に延長して、
   そのエッジ追尾についての偏差が指摘されるまで、第１
   組のエッジピクセルを収集するエッジ追尾ステップと、 上記選択されたラスター構成要素の推定されるエッジに
   対し、上記エッジ追尾の偏差があった部分を越えた点か
   ら、エッジ追尾を開始し、第２組のエッジピクセルを収
   集する外挿エッジ追尾ステップと、 上記選択されたラスター構成要素の、上記第２組のエッ
   ジピクセルを上記第１組のエッジピクセルに合成するス
   テップと、 上記ラスター構成要素をベクトル構成要素に変換するス
   テップを含み、そのベクトル構成要素は、上記ラスター
   構成要素のエッジに基準線を適合させて、その基準線上
   に位置させた探索点の組を有し、 そのベクトル構成要素をベクトル構成要素データベース
   に蓄積するステップと、を有することを特徴とする方
   法。
5. 【請求項５】 前記ラスター構成要素を選択するステッ
   プは、前記表示イメージにおける前記ラスター構成要素
   近傍のピクセルを指定するステップを含む請求項４記載
   の方法。
6. 【請求項６】 前記同定ステップは、前記ラスター構成
   要素の選択されたエッジに沿った第３組のエッジピクセ
   ルを収集するステップと、 前記選択されたエッジに対して実質的に平行な前記ラス
   ター構成要素の反対エッジを、前記収集されたエッジピ
   クセルに対して直角方向に探知するステップと、 実質的に平行な前記エッジを共通な基準線に適合させる
   ステップと、からなる請求項４記載の方法。
7. 【請求項７】 前記エッジ追尾についての偏差が他のラ
   スター構成要素との交差である請求項４記載の方法。
8. 【請求項８】 前記外挿エッジ追尾ステップは、交差す
   るラスタ構成要素を横切るステップを有する請求項７記
   載の方法。
9. 【請求項９】 前記エッジ追尾についての偏差がピクセ
   ルギャップである請求項４記載の方法。
10. 【請求項１０】前記外挿エッジ追尾ステップは、前記ピ
    クセルギャップをジャンプするステップを有する請求項
    ９記載の方法。
11. 【請求項１１】前記エッジ追尾についての偏差が曲がり
    である請求項４記載の方法。
12. 【請求項１２】前記外挿エッジ追尾ステップは、前記曲
    がりにおいて方向を転換するステップを有する請求項９
    記載の方法。
13. 【請求項１３】前記エッジピクセルを収集する手順は、
    時計方向エッジフォロワによって規定される請求項４記
    載の方法。
14. 【請求項１４】前記エッジピクセルを収集する手順は、
    反時計方向エッジフォロワによって規定される請求項４
    記載の方法。
15. 【請求項１５】 表示されたイメージの交差領域で、ベ
    クトル構成要素に重畳するラスター構成要素から、選択
    的にベクトル構成要素を消去する方法であって、 そのベクトル構成要素に平行で且つ互いに平行な１組の
    フレアリミット線と、交差部入口線と交差部出口線と、
    により規定される四辺形により、１または２以上の不連
    続なピクセルエッジ構成を有するそのベクトル構成要素
    の周囲の交差領域に境界線をつけるステップと、 その交差領域のピクセルに表示イメージの背景の色彩を
    設定することにより、その交差領域を消去するステップ
    と、 上記フレアリミット線の外部のラスター構成要素上の点
    から、そのフレアリミット線に平行で等距離の交差中心
    線に、仮想線を引いてその中心線上の点を指定するステ
    ップと、 その仮想線と中心線上の点を、その交差領域の反対側の
    フレア組によって生じた対応する仮想線に相関させるス
    テップと、 その２つの仮想線、交差中心線及び１のフレアリミット
    線により規定される四辺形領域を、その四辺形の中の全
    てのピクセルの色彩を、交差するラスター構成要素の色
    彩と同一にすることにより塗りつぶすステップと、 を有することを特徴とする方法。
16. 【請求項１６】 前記相関させるステップは、前記中心
    線の点の座標を中心線上の点の組と比較して前記前記点
    の組のうちの最短距離の点を決定する、比較ステップを
    有する請求項１５記載の方法。
17. 【請求項１７】 プロセッサとメモリと表示器を有する
    コンピュータにおいて、ラスター構成要素とベクトル構
    成要素を編集する複合イメージエディタにおいて、上記
    表示器のピクセルを現す複数のバイナリコードの合成と
    して、上記メモリに格納されているラスターイメージを
    読出す手段と、 上記メモリの表示バッファ部分に、上記ラスターイメー
    ジを格納する手段と、 その格納されたイメージを上記表示器に表示する手段
    と、 そのラスターイメージの表示されたピクセルの中からラ
    スター構成要素を選択する手段を有し、そのラスター構
    成要素は幾何学的形状を規定するための座標により定め
    られた複数のピクセルを含んでおり、 予め定められた幾何学的形状のリストの中から、選択さ
    れたラスター構成要素の形状に最も類似する形状を選択
    する手段と、 選択されたラスター構成要素のピクセル座標により決定
    される幾何学式と、予め定められた幾何学的形状の幾何
    学式を比較して、その偏差を求める手段と、 その幾何学的偏差を予め定めた最小偏差と比較して、選
    択されたラスター構成要素が選択された幾何学的形状と
    充分に同一の幾何学式を有することを認識する手段と、 その選択されたラスター構成要素を上記選択された幾何
    学的形状に対応するベクトル構成要素に変換し、そのベ
    クトル構成要素は相対的変位及び傾斜により定義される
    座標を有する複数の点を有し、そのベクトル構成要素の
    複数の点をピクセル絶対値座標に変換して前記表示バッ
    ファを用いて読み出し上記表示器に表示させる手段と、 選択されたラスター構成要素が通常であればベクトル構
    成要素のみを有するイメージに含まれるベクトル構成要
    素として取り扱えるようにそのベクトル構成要素をベク
    トル編集操作により処理する手段と、 を有することを特徴とする複合イメージエディタ。
18. 【請求項１８】 コンピュータのメモリに蓄積された、
    収集されたラスター構成要素の表示イメージの中から選
    択されたラスター構成要素を、予め規定した幾何学的形
    状に関連した形状式により定義されるベクトル構成要素
    に変換するシステムであって、 予め規定した幾何学的形状のリストの中から、所望の形
    状を選択する手段と、 上記収集されたラスター構成要素の中から、その選択さ
    れた規定の形状に全体的に対応する形状のラスター構成
    要素を選択する手段と、 その選択されたラスター構成要素上の、局部的に線状の
    セグメントを指定して、その線状セグメントが延長され
    て、その選択したラスター構成要素の最大空間距離を決
    定する、そのような同定手段と、 その線状セグメントの少なくとも１の終端を延長して、
    上記選択された予め規定した幾何学的形状に対応する形
    状式が、上記ラスター構成要素に指定した点に適合する
    ようにする手段と、 そのラスター構成要素の形状式の偏差と最大偏差を比較
    し、そのラスター構成要素の偏差が最大偏差以下である
    ことを認識する手段と、 上記選択されたラスター構成要素の１のエッジを追尾し
    て、そのエッジにより規定される１の方向に延長して、
    そのエッジ追尾についての偏差が指摘されるまで、第１
    組のエッジピクセルを収集するエッジ追尾手段と、 上記選択されたラスター構成要素の推定されるエッジに
    対し、上記エッジ追尾の偏差があった部分を越えた点か
    ら、エッジ追尾を開始し、第２組のエッジピクセルを収
    集する外挿エッジ追尾手段と、 上記選択されたラスター構成要素の、上記第２組のエッ
    ジピクセルを上記第１組のエッジピクセルに合成する手
    段と、 上記ラスター構成要素をベクトル構成要素に変換する手
    段を含み、そのベクトル構成要素は、上記ラスター構成
    要素のエッジに基準線を適合させて、その基準線上に位
    置させた探索点の組を有し、 そのベクトル構成要素をベクトル構成要素データベース
    に蓄積する手段と、を有することを特徴とするシステ
    ム。
19. 【請求項１９】 表示されたイメージの交差領域で、ベ
    クトル構成要素に重畳するラスター構成要素から、選択
    的にベクトル構成要素を消去するシステムであって、 そのベクトル構成要素に実質的に平行で且つ互いに実質
    的に平行な１組のフレアリミット線と、交差部入口線と
    交差部出口線と、により規定される四辺形により、１ま
    たは２以上の不連続なピクセルエッジ構成を有するその
    ベクトル構成要素の周囲の交差領域に境界線をつける手
    段と、 その交差領域のピクセルに表示イメージの背景の色彩を
    設定することにより、その交差領域を消去する手段と、 上記フレアリミット線の外部のラスター構成要素上の点
    から、そのフレアリミット線に平行で等距離の交差中心
    線に、仮想線を引いてその中心線上の点を指定する手段
    と、 その仮想線と中心線上の点を、その交差領域の反対側の
    フレア組によって生じた対応する仮想線に相関させる手
    段と、 その２つの仮想線、交差中心線及び１のフレアリミット
    線により規定される四辺形領域を、その四辺形の中の全
    てのピクセルの色彩を、交差するラスター構成要素の色
    彩と同一にすることにより塗りつぶす手段と、 を有することを特徴とするシステム。
20. 【請求項２０】 プロセッサとメモリと表示器を有する
    コンピュータにおいて、ラスター構成要素とベクトル構
    成要素を、共通のベクトル操作により、編集する複合イ
    メージエディタシステムにおいて、 上記メモリの単一イメージバッファに、上記ラスター及
    びベクトル構成要素を格納する手段を有し、その単一イ
    メージバッファはラスター構成要素データベースとベク
    トル構成要素データベース及びそのラスター構成要素と
    ベクトル構成要素のデータベースを整合する手段とによ
    り構成され、 選択されたラスター構成要素を選択されたベクトル構成
    要素に変換し、その変換されたベクトル構成要素を、上
    記イメージバッファに格納する手段と、 その選択されたラスター構成要素を、そのイメージバッ
    ファから削除する手段と、 を有することを特徴とする複合イメージエディタ。
21. 【請求項２１】 請求項２０のイメージエディタにおい
    て、前記削除する手段は、前記選択されたラスター構成
    要素と交差するラスター構成要素を前記イメージバッフ
    ァに保持する請求項２０記載の複合イメージエディタ。
22. 【請求項２２】 ラスター構成要素とベクトル構成要素
    を含むディジタルイメージを編集する方法であって、編集対象のラスター構成要素またはベクトル構成要素に
    対する選択操作を検出するステップと、 ラスター構成要素データベースに予め格納され、前記選
    択されたラスター構成要素を、ベクトル構成要素に変換
    するステップと、 そのベクトル構成要素をベクトルデータベースに格納す
    るステップと、 複数のラスター構成要素とベクトル構成要素を、単一の
    イメージ階層として表示器に表示できるように、そのラ
    スター構成要素とベクトル構成要素を整合させ、任意に
    選択されたラスター構成要素またはベクトル構成要素を
    同一の操作環境 で編集するステップとを有することを特
    徴とする方法。
23. 【請求項２３】 請求項２２の方法において更に、 上記変換されたベクトル構成要素を、最初からベクトル
    構成要素として作られた構成要素に対する編集操作と同
    一のベクトル編集操作により編集するステップを有する
    ことを特徴とする方法。