JP3193500B2 - Manufacturing method of flexible electric / optical wiring circuit module - Google Patents

Manufacturing method of flexible electric / optical wiring circuit module

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Abstract

PURPOSE:To provide an electric and optical wiring circuit module capable of connecting electric and optical elements as well as electric and optical parts, that are different in height and position and located complicatedly, to each other efficiently in optical connection so that they can be mounted densely, and also provide its manufacturing method. CONSTITUTION:A core part 7, a clad layer 8, and an electric wiring 11 of an optical waveguide are formed on a polyimid film 5 to produce a flexible electric and optical wiring film. Using the film, electric and optical elements mounted on an electric and optical wiring substrate, etc., are connected to each other. Thus, because the flexible electric and optical wiring film is flexible and enables complicated wiring, electric and optical elements as well as electric and optical parts, etc., that are different in height and position and located complicatedly and densely, can be connected to each other optically and electrically.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、高密度な実装が要求さ
れる光素子や光回路部品の間を光学的、電気的に接続す
る技術に関するものであり、樹脂フィルム上に光導波路
と電気配線を形成したフレキシブルな接続手段を用い
て、高さや位置が異なる複雑に配置された光素子や光回
路部品あるいは光モジュール間を、光結合効率よく、し
かも高密度実装可能に接続することができる光学的、電
気的接続技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technology for optically and electrically connecting optical elements and optical circuit components that require high-density mounting. By using flexible connecting means with wiring formed, it is possible to connect optical elements, optical circuit components or optical modules arranged in a complicated manner having different heights and positions with high optical coupling efficiency and high-density mounting. The present invention relates to optical and electrical connection technologies.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、光素子や光部品等を光学的、電気
的に接続する方法としては、光学的および電気的に、そ
れぞれ別の方法で接続しており、光学的には、シリコン
基板上に形成した光導波路や光ファイバで接続する方法
が一般的であり、また、電気的にはプリント配線板やセ
ラミック配線板等を用いた接続が一般的であった。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method for optically and electrically connecting optical elements and optical components, optical and electrical connections are made by different methods, respectively. A method of connecting with an optical waveguide or an optical fiber formed above is generally used, and a connection using a printed wiring board, a ceramic wiring board, or the like is generally used electrically.

【0003】例えば、従来の光学的接続技術としては、
文献(伊藤・石原、『マイクロエレクトロニクスにおけ
る光配線』、光学、第14巻第1号、P.51)にみら
れるような光導波路や光ファイバを用いた光配線があげ
られる。この方法は、図10(a)に示すように、LD
(レーザダイオード)等の光源1から出射された光を、
光ファイバ2を用いてアレイ状に形成された受光素子3
に接続する方法であり、あるいは図10(b)に示すよ
うに、光導波路4を用いて光源1と受光素子3を接続す
る方法である。
For example, conventional optical connection techniques include:
Optical wiring using an optical waveguide or an optical fiber as described in a literature (Ito and Ishihara, "Optical Wiring in Microelectronics", Optics, Vol. 14, No. 1, p. 51) can be mentioned. This method uses the LD as shown in FIG.
Light emitted from a light source 1 such as a (laser diode)
Light receiving element 3 formed in an array using optical fiber 2
Or a method of connecting the light source 1 and the light receiving element 3 using the optical waveguide 4 as shown in FIG.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の接続法では、光学的、電気的接続が同時に行
えないだけでなく、光学的な接続においても、光導波路
を用いた接続では同じ平面内に搭載された電気・光素子
や電気・光部品の接続のみに限定され、また、光ファイ
バを用いた接続ではファイバを急激に曲げることが困難
であることから、大きな実装空間を必要とするため、架
間等の接続に限定されており、例えば配線板内や配線板
間等、段差を有する電気・光素子や電気・光部品間を実
装効率よく接続することが困難であった。
However, in such a conventional connection method, not only optical and electrical connections cannot be made simultaneously, but also in optical connection, connection using an optical waveguide has the same plane. It is limited only to the connection of electric and optical elements and electric and optical components mounted inside, and it is difficult to sharply bend the fiber with connection using optical fiber, so a large mounting space is required Therefore, the connection is limited to a frame or the like, and it has been difficult to efficiently connect electrical / optical elements and electrical / optical components having steps, such as in a wiring board or between wiring boards.

【0005】このような状況から、光学的、電気的接続
が同時に行え、光学的な接続においても、同じ平面内に
搭載された電気・光素子や電気・光部品の接続のみに限
定されず、また、段差を有する電気・光素子や電気・光
部品間を高密度に接続する技術の実現が課題となってい
た。
[0005] Under such circumstances, optical and electrical connections can be made at the same time, and the optical connection is not limited to the connection of electric / optical elements and electric / optical components mounted on the same plane. In addition, there has been an issue of realizing a technology for connecting electric / optical elements and electric / optical components having steps at high density.

【0006】本発明は、これらの課題を解決するために
なされたものであり、その目的は、高さや位置が異なる
複雑に配置された電気・光素子や電気・光部品あるいは
電気・光モジュール間を光結合効率よく、しかも実装効
率よく高密度実装可能に接続することができるフレキシ
ブル電気・光配線回路モジュールの製造方法を提供する
ことにある。
The present invention has been made to solve these problems, and an object of the present invention is to provide an electric / optical element, an electric / optical component, or an electric / optical module between complicatedly arranged heights and positions. the optical coupling efficiency is to provide a method of manufacturing a flexible electric-optical wiring circuit module which can moreover be connected implemented efficiently high-density mounting can be.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明のフレキシブル電気・光配線回路モジュー
製造方法においては、可撓性を有する樹脂フィルムを
ベースとして前記樹脂フィルムの表面に単層または多層
の光導波路と電気配線を形成したフレキシブル電気・光
配線フィルムを用いて、電気配線基板または光配線基板
または電気・光配線基板に搭載された電気・光素子また
は電気・光部品の間を光学的かつ電気的に接続すること
を基本構成として、 まず、樹脂フィルム上に最終処理後
の屈折率が前記樹脂フィルムの屈折率よりも大きな屈折
率を有する固形化前の感光性樹脂層を形成し、次に、前
記感光性樹脂層に対するフォトリソ工程および熱処理の
工程を経て所望の形状を有する光導波路のコア層を形成
し、次に、前記樹脂フィルム上に薄膜の下地金属を形成
し、次に、第1のフォトレジストの露光、現像のフォト
工程により所望のパターンニングを行った後に電解めっ
きで電気配線層を形成し、次に、前記第1のフォトレジ
ストを除去して電気配線を形成し、次に、第2のフォト
レジストの露光、現像のフォト工程により所望のパター
ンニングを行って前記電気配線の端部にAuあるいはは
んだの電解めっきでボンディング用のパッドを形成し、
次に、前記電気配線部分以外の前記下地金属を除去し、
次に、以上により作製されたフレキシブル電気・光配線
フィルムによって電気配線基板または光配線基板または
電気・光配線基板に搭載された電気・光素子または電気
・光部品の間を光学的かつ電気的に接続するか、 もしく
は、まず、樹脂フィルム上に最終処理後の屈折率が前記
樹脂フィルムの屈折率よりも大きな屈折率を有する感光
性樹脂層を形成し、次に、該感光性樹脂層の上に薄膜の
金属膜を形成し、次に、フォトレジストの露光、現像の
フォトリソ工程により前記金属膜のパターンを形成し、
次に、前記金属膜のパターンをマスクとして反応性ガス
を用いて前記感光性樹脂層あるいは前記感光性樹脂層と
樹脂フィルムの一部までをエッチング除去することによ
り所望の形状を有する光導波路のコア層を形成し、次
に、前記フォトレジストと金属膜を除去して光導波路を
作製し、次に、前記樹脂フィルム上に電気配線を形成
し、次に、以上により作 製されたフレキシブル電気・光
配線フィルムによって電気配線基板または電気・光配線
基板に搭載された電気・光素子や電気・光部品の間を光
学的かつ電気的に接続することを特徴とする。
Means for Solving the Problems] To achieve the above object, a flexible electrical and optical wiring circuit module of the present invention
In the method of manufacturing, an electric wiring board or an optical wiring board is formed by using a flexible electric / optical wiring film in which a single-layer or multilayer optical waveguide and electric wiring are formed on the surface of the resin film based on a flexible resin film. to connect between the electric and optical devices or electrical and optical components mounted on the wiring board or the electrical and optical wiring board optically and electrically to the basic configuration, first, after the final treatment on a resin film
Is higher than the refractive index of the resin film.
To form a photosensitive resin layer before solidification,
Photolithography process and heat treatment for the photosensitive resin layer
Form the core layer of the optical waveguide having the desired shape through the process
Next, a thin base metal is formed on the resin film.
And then the exposure and development photo of the first photoresist
After performing the desired patterning by the process,
Forming an electrical wiring layer, and then forming the first photoresist
The electrical wires are formed by removing the strike, and then the second photo
Exposure of resist and desired pattern by photo process of development
To the ends of the electrical wiring by Au or
A pad for bonding is formed by solder plating.
Next, the base metal other than the electric wiring portion is removed,
Next, the flexible electrical and optical wiring fabricated above
Depending on the film electric wiring board or optical wiring board or
Electric or optical element or electric mounted on electric or optical wiring board
And optical and either electrically connecting the optical part, Moshiku
First, the refractive index after final treatment on the resin film is
Photosensitive with refractive index higher than that of resin film
Forming a photosensitive resin layer, and then forming a thin film on the photosensitive resin layer.
A metal film is formed, and then the photoresist is exposed and developed.
Forming a pattern of the metal film by a photolithography process,
Next, using the pattern of the metal film as a mask, the reactive gas
With the photosensitive resin layer or the photosensitive resin layer
By etching away part of the resin film
Forming a core layer of an optical waveguide having a desired shape;
Then, the photoresist and the metal film are removed to form an optical waveguide.
Fabrication, and then forming electrical wiring on the resin film
And, then, a flexible electrical and light created manufactured by the above
Electric wiring board or electric / optical wiring depending on the wiring film
Light between electrical and optical elements and electrical and optical components mounted on the substrate
And electrically and electrically connected.

【0008】[0008]

【作用】本発明のフレキシブル電気・光配線回路モジュ
ルの製造方法では、フィルム状のベース上に光導波路
と電気配線を形成することにより作製した電気・光配線
フィルムを用いて、電気・光配線基板等に搭載された電
気・光素子間等を接続する。この電気・光配線フィルム
がフレキシブルであり細密な配線ができるため、高さや
位置が異なって複雑に配置され、かつ高密度に基板上に
実装された電気・光素子や電気・光部品を光学的、電気
的に接続することができる。
The flexible electro-optical wiring circuit module <br/> Lumpur manufacturing method of the present invention, by using an electric-optical wiring film prepared by forming an optical waveguide and electrical wiring on a film-shaped base The electrical and optical elements mounted on the electrical and optical wiring board and the like are connected. Since this electrical / optical wiring film is flexible and allows fine wiring, it can be used for optical / optical devices and electrical / optical components that are arranged in different heights and positions in a complicated manner and mounted on a substrate at high density. , Can be electrically connected.

【0009】[0009]

【実施例】以下、本発明の実施例を、添付図面を参照し
て詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0010】図1〜図7は、本発明の実施例に用いるフ
レキシブル電気・光配線フィルムの材料構成ならびにそ
の作製方法を示す図である。本実施例のフレキシブル電
気・光配線回路モジュールは、電気配線基板や光配線基
板または電気・光配線基板等に実装されてその配線基板
の光導波路や電気配線で接続された電気・光素子や電気
・光部品の間を、フレキシブル電気・光配線フィルムを
用いて、光学的かつ電気的に接続したものである。こ
の、フレキシブル電気・光配線フィルムの第1の構成例
は、図2(f)に示すように、可撓性を有するポリイミ
ドフィルム5等の樹脂フィルムをベースとし、その樹脂
フィルムの表面に、単層または多層のコア部7等からな
る光導波路と電気配線11を形成したものである。
FIG. 1 to FIG. 7 are diagrams showing a material configuration of a flexible electric / optical wiring film used in an embodiment of the present invention and a manufacturing method thereof. The flexible electric / optical wiring circuit module according to the present embodiment is mounted on an electric wiring board, an optical wiring board, an electric / optical wiring board, or the like, and is connected to the optical waveguide or the electric wiring of the wiring board. -Optical components are optically and electrically connected to each other using a flexible electric / optical wiring film. As shown in FIG. 2 (f), the first configuration example of the flexible electric / optical wiring film is based on a resin film such as a polyimide film 5 having flexibility, and the surface of the resin film has a simple structure. An optical waveguide composed of a layered or multilayered core portion 7 and the like and an electric wiring 11 are formed.

【0011】まず、上記第1の構成例のフレキシブル電
気・光配線フィルムの基本的な材料構成ならびに作製方
法の第1例について述べる。図1(a)〜(d)および
図2(a)〜(f)は、それらを断面構成で示したもの
である。
First, a first example of a basic material structure and a manufacturing method of the flexible electric / optical wiring film of the first structure example will be described. 1 (a) to 1 (d) and 2 (a) to 2 (f) show them in a sectional configuration.

【0012】まず、図1(a),(b),(c),
(d)において、樹脂フィルムとしてポリイミドフィル
ム5を用い(a)、このポリイミドフィルム5上に、最
終処理後の屈折率が前記ポリイミドフィルム5の屈折率
より大きな屈折率を有する液状の感光性ポリイミド6を
形成し(b)、この液状の感光性ポリイミド6に対する
フォトリソ工程および熱処理等の工程を経て、所望の形
状を有するポリイミド光導波路のコア部(以下、場合に
より単にコア部と記述する)7を形成し(c)、そのコ
ア部7の上に、そのコア部7の屈折率より小さい屈折率
を有する他のポリイミドからなるクラッド層8を形成し
(d)、フレキシブル光配線フィルムを作製する。
First, FIGS. 1 (a), (b), (c),
In (d), a polyimide film 5 is used as a resin film (a), and a liquid photosensitive polyimide 6 having a refractive index after the final treatment having a refractive index larger than that of the polyimide film 5 is provided on the polyimide film 5. (B), and through a photolithography process and a heat treatment process for the liquid photosensitive polyimide 6, a core portion (hereinafter simply referred to as a core portion in some cases) of the polyimide optical waveguide having a desired shape is formed. (C), a clad layer 8 made of another polyimide having a refractive index smaller than the refractive index of the core 7 is formed on the core 7, and a flexible optical wiring film is produced.

【0013】次に、図2(a)〜(f)において、図1
に示したフレキシブル光配線フィルムの裏面に電気配線
を形成して電気・光配線フィルムを作製する工程例を示
す。本工程例では、図1で作製したフレキシブル光配線
フィルム(a)の裏面に無電解めっきあるいは真空蒸着
法により下地金属9を形成し(b)、フォトレジスト1
0の露光、現像等のフォト工程により、所望のパターン
ニングを行った後、電解めっきにより電気配線11を形
成し(c)、フォトレジスト10を除去し(d)、再
度、別のフォトレジスト10′の露光、現像等のフォト
工程により所望のパターンニングを行った後、電解めっ
きにより電気配線11の端部に金あるいははんだからな
る接続用のパッド12を形成し(e)、フォトレジスト
10′を除去した後、電気配線11部分以外の下地金属
9を膜厚の違いを利用した選択エッチング法等で除去し
(f)、光導波路と電気配線の両者から構成されたフレ
キシブル電気・光配線フィルムを作製することができ
る。
Next, in FIGS. 2A to 2F, FIG.
2 shows an example of a process for forming an electric wiring on the back surface of the flexible optical wiring film shown in FIG. In this process example, a base metal 9 is formed on the back surface of the flexible optical wiring film (a) manufactured in FIG.
After performing desired patterning by a photo process such as exposure and development of 0, an electric wiring 11 is formed by electrolytic plating (c), the photoresist 10 is removed (d), and another photoresist 10 is formed again. After performing a desired patterning by a photo process such as exposure, development and the like, a connection pad 12 made of gold or solder is formed on the end of the electric wiring 11 by electrolytic plating (e), and a photoresist 10 'is formed. Is removed, the underlying metal 9 other than the electric wiring 11 is removed by a selective etching method or the like utilizing a difference in film thickness (f), and a flexible electric / optical wiring film composed of both the optical waveguide and the electric wiring is formed. Can be produced.

【0014】図3(a)〜(e)は、本発明の実施例に
用いるフレキシブル電気・光配線フィルムの作製方法の
第2例を示す図であって、反応性ガスを用いた反応性イ
オンエッチング法により光導波路を作製する工程例につ
いて示したものである。本工程例では、ポリイミドフィ
ルム5(a)の上に光導波路のコア部となる他のポリイ
ミド層13を形成し、所定の熱処理等の工程を経た後、
無電解めっきあるいは真空蒸着法により金属層14を形
成し(b)、フォトレジスト10の露光、現像等のフォ
ト工程により、所望のパターンニングを行い、前記金属
層14をエッチング除去して金属マスク15を形成した
後(c)、反応性ガスを用いた反応性イオンエッチング
法や化学エッチング法等の加工法により、前記ポリイミ
ド層13をあるいはポリイミド層13の除去を完全にす
るためにポリイミド層13とポリイミドフィルム5の一
部までをエッチング除去することにより、所望の形状を
有するコア部7を形成した後(d)、金属マスク15を
除去し、前記コア部7の上に、前記コア部7の屈折率よ
り小さい屈折率を有する他のポリイミドからなるクラッ
ド層8を形成し(e)、フレキシブル光配線フィルムを
作製することができる。この後、図2と同様にして、電
気配線を形成すれば、フレキシブル電気・光配線フィル
ムが作製できる。
FIGS. 3A to 3E are diagrams showing a second example of a method for producing a flexible electric / optical wiring film used in an embodiment of the present invention, in which reactive ions using a reactive gas are used. This is an example of a process for manufacturing an optical waveguide by an etching method. In this process example, another polyimide layer 13 serving as a core portion of an optical waveguide is formed on the polyimide film 5 (a), and after a predetermined heat treatment process,
A metal layer 14 is formed by electroless plating or a vacuum evaporation method (b), desired patterning is performed by a photo process such as exposure and development of the photoresist 10, and the metal layer 14 is removed by etching. (C), the polyimide layer 13 or the polyimide layer 13 is completely removed by a processing method such as a reactive ion etching method or a chemical etching method using a reactive gas in order to completely remove the polyimide layer 13. After the core 7 having a desired shape is formed by etching and removing a part of the polyimide film 5 (d), the metal mask 15 is removed, and the core 7 is placed on the core 7. By forming a clad layer 8 made of another polyimide having a refractive index smaller than the refractive index (e), a flexible optical wiring film can be produced. That. Thereafter, if electrical wiring is formed in the same manner as in FIG. 2, a flexible electrical / optical wiring film can be manufactured.

【0015】なお、図1〜図3には、コア部7の上にク
ラッド層8を形成した構造について述べたが、クラッド
層を形成しない、空気クラッド層とした構造とすること
もできる。
Although the structure in which the clad layer 8 is formed on the core portion 7 has been described with reference to FIGS. 1 to 3, a structure in which the clad layer is not formed and an air clad layer may be used.

【0016】図4(a)〜(e)は、本発明の実施例に
用いるフレキシブル電気・光配線フィルムの作製方法の
第3例を示す図であって、フレキシブル電気・光配線フ
ィルムの光導波路のコア部の深さ方向に所定の角度で反
射面を形成する工程例について示したものである。本工
程例では、ポリイミドフィルム5の上に光導波路のコア
部となる他のポリイミド層13を形成し、所定の熱処理
等の工程を経た後(a)、無電解めっきあるいは真空蒸
着法により金属層14を形成し(b)、フォトレジスト
10の露光、現像等のフォト工程により、所望のパター
ンニングを行い、前記金属層14をエッチング除去し金
属マスク15を形成した後(c)、反応性ガスを用いた
反応性イオンエッチング法により、コア部の深さに対し
て斜め方向に前記ポリイミド層13をエッチング除去し
(d)、金属マスク15をエッチングすることにより、
コア部の深さに対して斜めの形状を有する反射面17を
形成した(e)フレキシブル光配線フィルムを作製する
ことができる。この後、図2と同様にして、電気配線を
形成すれば、フレキシブル電気・光配線フィルムが作製
できる。
FIGS. 4 (a) to 4 (e) are views showing a third example of a method for producing a flexible electric / optical wiring film used in an embodiment of the present invention. 3 shows an example of a process of forming a reflection surface at a predetermined angle in the depth direction of the core portion. In this process example, another polyimide layer 13 serving as a core portion of the optical waveguide is formed on the polyimide film 5 and after a predetermined heat treatment process (a), the metal layer is formed by electroless plating or vacuum evaporation. 14 (b), a desired patterning is performed by a photo process such as exposure and development of the photoresist 10, and the metal layer 14 is removed by etching to form a metal mask 15 (c). By removing the polyimide layer 13 in an oblique direction with respect to the depth of the core portion by a reactive ion etching method using (d), and etching the metal mask 15,
(E) A flexible optical wiring film in which the reflecting surface 17 having an oblique shape with respect to the depth of the core portion is formed can be manufactured. Thereafter, if electrical wiring is formed in the same manner as in FIG. 2, a flexible electrical / optical wiring film can be manufactured.

【0017】図5は、本発明の実施例により作製され
フレキシブル電気・光配線フィルムの第2の構成例を示
す斜視図である。本構成例は、フレキシブル電気・光配
線フィルムに形成する光導波路の構成に関して、図4に
示した方法で、ポリイミドフィルム5上にアレイ状の光
導波路のコア部7を形成し、入射光18がコア部7を経
て反射面17で光の伝搬方向を上方に変え、出射光19
を取り出す構成としたものである。
[0017] FIG. 5 is a perspective view showing a second configuration example of a flexible electro-optical wiring film more Ru are prepared in the Examples of the present invention. In this configuration example, regarding the configuration of the optical waveguide formed on the flexible electric / optical wiring film, the arrayed optical waveguide core 7 is formed on the polyimide film 5 by the method shown in FIG. The propagation direction of the light is changed upward at the reflection surface 17 through the core portion 7 and the outgoing light 19
Is taken out.

【0018】図6は、本発明の実施例により作製され
フレキシブル電気・光配線フィルムの第3の構成例を示
す上面構成図である。本構成例は、フレキシブル電気・
光配線フィルムに形成する光導波路の構成に関して、図
4および図5に示したような深さ方向ではなく、コア部
7の幅方向に反射面17′を形成し、この反射面17′
で入射光18の光路をポリイミドフィルム5の面上で変
更し、出射光19を取り出す構成としたものである。
[0018] FIG. 6 is a top diagram illustrating a third configuration example of a more fabricated flexible electro-optical wiring film Ru to an embodiment of the present invention. This configuration example uses flexible
Regarding the configuration of the optical waveguide formed on the optical wiring film, the reflection surface 17 'is formed not in the depth direction as shown in FIGS. 4 and 5, but in the width direction of the core 7, and the reflection surface 17' is formed.
Thus, the optical path of the incident light 18 is changed on the surface of the polyimide film 5, and the emitted light 19 is extracted.

【0019】図7は、本発明の実施例により作製され
フレキシブル電気・光配線フィルムの第4の構成例を示
す断面構成図である。本構成例は、図4に示した工程の
基本的繰り返しにより多層の光導波路を作製する構成例
について示したものである。本構成例は、フレキシブル
電気・光配線フィルムに形成する光導波路の構成に関し
て、ベースとしてのポリイミドフィルム5上に1層目の
コア部7−1を形成し、端面に所定の角度を有する反射
面17−1を形成した後、コア部7−1の高さとほぼ等
しい高さまでクラッド層8−1を形成し、コア部7−1
と同じポリイミド層の形成と、金属マスクを用いた反応
性イオンエッチング工程により光ヴィア20を形成し、
光ヴィア20の高さまでクラッド層8−2を形成した
後、2層目のコア部7−2を1層目のコア部7−1と同
様の方法で形成し、光ヴィア20と接続する部分の端面
に反射面17−2を形成した後、最後にクラッド層8−
3を形成し、多層の光導波路を作製したものである。入
射光18は、下層のコア部7−1を通り、反射面17−
1で反射され、光ヴィア20を経て反射面17−2で反
射され、上層のコア部7−2を通って出射光19として
取り出される。本構成例によれば、複数の光導波路を立
体的に交差させることができ、複雑な光配線を行うこと
ができる。
FIG. 7 is a sectional view showing a fourth configuration example of the flexible electro-optical wiring film more Ru are prepared in the Examples of the present invention. This configuration example shows a configuration example in which a multilayer optical waveguide is manufactured by basically repeating the steps shown in FIG. This configuration example relates to a configuration of an optical waveguide formed on a flexible electric / optical wiring film, in which a first layer core portion 7-1 is formed on a polyimide film 5 as a base, and a reflection surface having a predetermined angle on an end surface. After forming 17-1, the cladding layer 8-1 is formed to a height substantially equal to the height of the core portion 7-1.
The optical via 20 is formed by forming the same polyimide layer as above and performing a reactive ion etching process using a metal mask.
After forming the cladding layer 8-2 to the height of the optical via 20, the second layer core 7-2 is formed in the same manner as the first layer core 7-1, and the portion connected to the optical via 20 is formed. After the reflection surface 17-2 is formed on the end face of the cladding layer 8-
3 to form a multilayer optical waveguide. The incident light 18 passes through the lower core portion 7-1 and passes through the reflecting surface 17-.
1, the light is reflected by the reflection surface 17-2 via the optical via 20, and is extracted as the outgoing light 19 through the upper core portion 7-2. According to this configuration example, a plurality of optical waveguides can cross three-dimensionally, and complicated optical wiring can be performed.

【0020】図8は、本発明の一実施例により作製され
フレキシブル電気・光配線フィルムを用いて構成した
モジュールの構成例を示側面図である。ポリイミドフ
ィルム5と光導波路のコア部7およびパッド12を有す
る電気配線11からなるフレキシブル電気・光配線フィ
ルム26を用いて、発光素子22や駆動用IC21、受
光素子24やアンプIC25等が搭載された2枚の電気
・光配線基板23−1と23−2の間を接続し、フレキ
シブル電気・光配線回路モジュール27を作製すること
ができる。パッド12とコア部7の高さ位置は、ポリイ
ミドフィルム5の厚さを制御することにより、パッド1
2を接続すると同時に発光素子22からの出射光がコア
部7に効率よく光結合するように設計された構成とす
る。また、必要であれば、発光素子や受光素子とコア部
の間を、コアの屈折率にほぼ等しい樹脂を用いるか、あ
るいは、レンズを用いて光結合する構成としてもよい。
なお、図例では、電気・光配線基板23−1と23−2
の間を光導波路によって接続する構成となっているが、
光導波路とあわせて、ヴィア接続した電気配線を形成す
ることにより、電気・光配線基板の間を電気的に接続す
ることができることは自明である。
[0020] FIG. 8 is made by an embodiment of the present invention
And is a view to a side view an example of the configuration of a module constituted by using a flexible electrical and optical wiring film. A light-emitting element 22, a driving IC 21, a light-receiving element 24, an amplifier IC 25, and the like are mounted using a flexible electric / optical wiring film 26 including a polyimide film 5 and an electric wiring 11 having a core portion 7 and a pad 12 of an optical waveguide. By connecting the two electric / optical wiring substrates 23-1 and 23-2, a flexible electric / optical wiring circuit module 27 can be manufactured. The height position of the pad 12 and the core portion 7 is controlled by controlling the thickness of the polyimide film 5 so that the pad 1
2 is connected so that light emitted from the light emitting element 22 is efficiently optically coupled to the core 7. If necessary, a configuration may be adopted in which a resin substantially equal to the refractive index of the core is used between the light emitting element or the light receiving element and the core portion, or optical coupling is performed using a lens.
In the illustrated example, the electrical / optical wiring boards 23-1 and 23-2 are used.
Are connected by an optical waveguide.
It is obvious that by forming via-connected electric wiring together with the optical waveguide, it is possible to electrically connect between the electric and optical wiring substrates.

【0021】図9は、このようにして作製されたフレキ
シブル電気・光配線回路モジュールを3段構成の配線ボ
ードに搭載した構成例について示した側面図である。一
組のモジュール27−1の一方の電気・光配線基板23
−1が第1段目の配線ボード28−1の下面に搭載さ
れ、その他方の電気・光配線基板23−2が第2段目の
配線ボード28−2の上面に搭載されているが、これら
の基板間をフレキシブル電気・光配線フィルム26−1
を用いて接続することができる。また、もう一組のモジ
ュール27−2の一方の電気・光配線基板23−1が第
2段目の配線ボード28−2に搭載され、その他方の電
気・光配線基板23−2が第3段目の配線ボード28−
3の上面に搭載されているが、これらの基板間をフレキ
シブル電気・光配線フィルム26−2を用いて接続する
ことができる。
FIG. 9 is a side view showing an example of a configuration in which the flexible electric / optical wiring circuit module manufactured as described above is mounted on a three-stage wiring board. One electric / optical wiring board 23 of one set of modules 27-1
-1 is mounted on the lower surface of the first-stage wiring board 28-1, and the other electrical / optical wiring board 23-2 is mounted on the upper surface of the second-stage wiring board 28-2. A flexible electric / optical wiring film 26-1 is provided between these substrates.
Can be connected. Further, one electric / optical wiring board 23-1 of another module 27-2 is mounted on the second-stage wiring board 28-2, and the other electric / optical wiring board 23-2 is connected to the third electric / optical wiring board 23-2. Wiring board 28-
3, these substrates can be connected to each other by using a flexible electric / optical wiring film 26-2.

【0022】なお、本実施例では、フィルム材料や光導
波路材料としてポリイミドを用いたが、エポキシ等の樹
脂を用いることもでき、樹脂材料により限定されるもの
ではない。また、電気・光素子や電気・光部品が搭載さ
れる基板は電気配線基板や光配線基板であってもかまわ
ない。このように、本発明は、その主旨に沿って種々に
応用され、種々の実施態様を取り得るものである。
In this embodiment, polyimide is used as the film material and the optical waveguide material. However, a resin such as epoxy can be used and is not limited by the resin material. Further, the substrate on which the electric / optical element or the electric / optical component is mounted may be an electric wiring substrate or an optical wiring substrate. As described above, the present invention can be variously applied according to the gist and can take various embodiments.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
フレキシブル電気・光配線回路モジュールの製造方法に
よれば、フィルム状のベース上に光導波路と電気配線を
形成した電気・配線フィルムが、フレキシブルであり細
密な配線ができるため、電気・光配線基板等の上に、高
さや位置が異なって複雑に配置されかつ高密度に実装さ
れた電気・光素子や電気・光部品あるいは電気・光モジ
ュール間を、光結合効率よくかつ実装効率よく光学的、
電気的に接続することができる。
As it is apparent from the foregoing description, according to the flexible electrical and optical wiring circuit module manufacturing method of the present invention, the electric-wire to form an optical waveguide and electrical wiring on a film-shaped base film However, because they are flexible and allow fine wiring, they can be placed on electrical / optical wiring boards, etc., at different heights and positions, and can be placed in a complicated manner and mounted at high density.・ Optical between optical modules with good optical coupling efficiency and mounting efficiency
Can be electrically connected.

【0024】[0024]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a),(b),(c),(d)は本発明の実
施例に用いるフレキシブル電気・光配線フィルムの第1
の構成例と第1の作製方法例を示す図
FIGS. 1 (a), 1 (b), 1 (c) and 1 (d) show a first example of a flexible electric / optical wiring film used in an embodiment of the present invention.
Showing a configuration example of a semiconductor device and a first manufacturing method example

【図2】(a),(b),(c),(d),(e),
(f)は同じく上記フレキシブル電気・光配線フィルム
の第1の構成例と第1の作製方法例を示す図
FIGS. 2 (a), (b), (c), (d), (e),
(F) is a diagram showing a first configuration example and a first manufacturing method example of the flexible electric / optical wiring film.

【図3】(a),(b),(c),(d),(e)はフ
レキシブル電気・光配線フィルムの第2の作製方法例を
示す図
FIGS. 3 (a), (b), (c), (d), and (e) are views showing a second example of a method for manufacturing a flexible electric / optical wiring film.

【図4】(a),(b),(c),(d),(e)はフ
レキシブル電気・光配線フィルムの第3の作製方法例を
示す図
FIGS. 4 (a), (b), (c), (d), and (e) are diagrams showing a third example of a method for manufacturing a flexible electric / optical wiring film.

【図5】本発明の実施例により作製されるフレキシブル
電気・光配線フィルムの第2の構成例を示す斜視図
Perspective view showing a second configuration example of a flexible electro-optical wiring film more Ru are prepared in the Examples of the present invention; FIG

【図6】本発明の実施例により作製されるフレキシブル
電気・光配線フィルムの第3の構成例を示す上面図
3 a top view showing a configuration example of a more fabricated flexible electro-optical wiring film Ru to the embodiment of the present invention; FIG

【図7】本発明の実施例により作製されるフレキシブル
電気・光配線フィルムの第4の構成例を示す断面構成図
[7] 4 cross-sectional view showing the arrangement of a flexible electro-optical wiring film more Ru are prepared in the Examples of the present invention

【図8】上記のフレキシブル電気・光配線フィルムを用
いて構成したフレキシブル電気・光回路モジュールの
例を示す側面図
[Figure 8] configuration of the flexible electrical-optical circuit module configured using a flexible electrical and optical wiring film of the
Side view of a formation example

【図9】上記実施例のフレキシブル電気・光回路モジュ
ールを配線ボードへ搭載した構成例を示す側面図
FIG. 9 is a side view showing a configuration example in which the flexible electric / optical circuit module of the above embodiment is mounted on a wiring board.

【図10】(a),(b)は従来技術を説明する斜視図FIGS. 10A and 10B are perspective views illustrating a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

5…ポリイミドフィルム 6…感光性ポリイミド 7,7−1,7−2…光導波路のコア部(コア部) 8,8−1,8−2,8−3…クラッド層 9…下地金属 10,10′…フォトレジスト 11…電気配線 12…パッド 13…ポリイミド層 14…金属層 15…金属マスク 17,17′,17−1,17−2…反射面 18…入射光 19…出射光 20…光ヴィア 21…駆動IC 22…発光素子 23−1,23−2…電気・光配線基板 24…受光素子 25…アンプIC 26,26−1,26−2…フレキシブル電気・光配線
フィルム 27,27−1,27−2…フレキシブル電気・光配線
回路モジュール 28−1,28−2,28−3…配線ボード
5 Polyimide film 6 Photosensitive polyimide 7, 7-1, 7-2 Core part (core part) of optical waveguide 8, 8-1, 8-2, 8-3 Cladding layer 9 Base metal 10, 10 '... Photoresist 11 ... Electrical wiring 12 ... Pad 13 ... Polyimide layer 14 ... Metal layer 15 ... Metal mask 17, 17', 17-1, 17-2 ... Reflective surface 18 ... Incident light 19 ... Emitting light 20 ... Light Via 21 Drive IC 22 Light emitting element 23-1, 23-2 Electric / optical wiring board 24 Light receiving element 25 Amplifier IC 26, 26-1, 26-2 Flexible electric / optical wiring film 27, 27- 1, 27-2: Flexible electric / optical wiring circuit module 28-1, 28-2, 28-3: Wiring board

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 桂 浩輔 東京都千代田区内幸町1丁目1番6号 日本電信電話株式会社内 (72)発明者 林 剛 東京都千代田区内幸町1丁目1番6号 日本電信電話株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−79290(JP,A) 特開 昭61−121014(JP,A) 高分子 第41巻、10月号、1992年、 732−735頁 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 6/12 - 6/14 H05K 1/02 JICSTファイル(JOIS)──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kosuke Katsura 1-1-6 Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Corporation (72) Inventor Tsuyoshi Hayashi 1-16-1 Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo Japan (56) References JP-A-61-79290 (JP, A) JP-A-61-121014 (JP, A) Polymers, Vol. 41, October, 1992, 732-735 ( 58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G02B 6/12-6/14 H05K 1/02 JICST file (JOIS)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 可撓性を有する樹脂フィルムをベースと
して前記樹脂フィルムの表面に単層または多層の光導波
路と電気配線を形成したフレキシブル電気・光配線フィ
ルムを用いて、電気配線基板または光配線基板または電
気・光配線基板に搭載された電気・光素子または電気・
光部品の間を光学的かつ電気的に接続するフレキシブル
電気・光配線回路モジュールを製造する方法であって、 まず、樹脂フィルム上に最終処理後の屈折率が前記樹脂
フィルムの屈折率よりも大きな屈折率を有する固形化前
の感光性樹脂層を形成し、次に、前記感光性樹脂層に対
するフォトリソ工程および熱処理の工程を経て所望の形
状を有する光導波路のコア層を形成し、次に、前記樹脂
フィルム上に薄膜の下地金属を形成し、次に、第1のフ
ォトレジストの露光、現像のフォト工程により所望のパ
ターンニングを行った後に電解めっきで電気配線層を形
成し、次に、前記第1のフォトレジストを除去して電気
配線を形成し、次に、第2のフォトレジストの露光、現
像のフォト工程により所望のパターンニングを行って前
記電気配線の端部にAuあるいははんだの電解めっきで
ボンディング用のパッドを形成し、次に、前記電気配線
部分以外の前記下地金属を除去し、次に、以上により作
製されたフレキシブル電気・光配線フィルムによって電
気配線基板または光配線基板または電気・光配線基板に
搭載された電気・光素子または電気・光部品の間を光学
的かつ電気的に接続することを特徴とするフレキシブル
電気・光配線回路モジュールの製造方法。
1. A resin film having flexibility as a base.
A single-layer or multilayer optical waveguide on the surface of the resin film
Flexible electrical and optical wiring
Electrical wiring board or optical wiring board or
Electrical / optical devices or electrical / optical devices
A method for manufacturing a flexible electric / optical wiring circuit module for optically and electrically connecting optical components, wherein a refractive index after a final treatment on a resin film is larger than a refractive index of the resin film. Form a photosensitive resin layer before solidification having a refractive index, then form a core layer of an optical waveguide having a desired shape through a photolithography process and a heat treatment process for the photosensitive resin layer, Forming a thin metal base metal on the resin film, then exposing the first photoresist, performing a desired patterning by a photo step of development, and then forming an electric wiring layer by electrolytic plating, The first photoresist is removed to form an electrical wiring, and then the second photoresist is subjected to a desired patterning by exposing and developing photo-processes to form an end of the electrical wiring. A bonding pad is formed by electrolytic plating of Au or solder, and then the base metal other than the electric wiring portion is removed. Then, the electric wiring substrate is formed by the flexible electric / optical wiring film prepared as described above. Alternatively, a method for manufacturing a flexible electric / optical wiring circuit module, comprising optically and electrically connecting optical / optical elements or electric / optical components mounted on an optical wiring substrate or an electric / optical wiring substrate.
【請求項2】 可撓性を有する樹脂フィルムをベースと
して前記樹脂フィルムの表面に単層または多層の光導波
路と電気配線を形成したフレキシブル電気・光配線フィ
ルムを用いて、電気配線基板または光配線基板または電
気・光配線基板に搭載された電気・光素子または電気・
光部品の間を光学的かつ電気的に接続するフレキシブル
電気・光配線回路モジュールを製造する方法であって、 まず、樹脂フィルム上に最終処理後の屈折率が前記樹脂
フィルムの屈折率よりも大きな屈折率を有する感光性樹
脂層を形成し、次に、該感光性樹脂層の上に薄膜の金属
膜を形成し、次に、フォトレジストの露光、現像のフォ
トリソ工程により前記金属膜のパターンを形成し、次
に、前記金属膜のパターンをマスクとして反応性ガスを
用いて前記感光性樹脂層あるいは前記感光性樹脂層と樹
脂フィルムの一部までをエッチング除去することにより
所望の形状を有する光導波路のコア層を形成し、次に、
前記フォトレジストと金属膜を除去して光導波路を作製
し、次に、前記樹脂フィルム上に電気配線を形成し、次
に、以上により作製されたフレキシブル電気・光配線フ
ィルムによって電気配線基板または電気・光配線基板に
搭載された電気・光素子や電気・光部品の間を光学的か
つ電気的に接続することを特徴とするフレキシブル電気
・光配線回路モジュールの製造方法。
2. A resin film having flexibility as a base.
A single-layer or multilayer optical waveguide on the surface of the resin film
Flexible electrical and optical wiring
Electrical wiring board or optical wiring board or
Electrical / optical devices or electrical / optical devices
A method for manufacturing a flexible electric / optical wiring circuit module for optically and electrically connecting optical components, wherein a refractive index after a final treatment on a resin film is larger than a refractive index of the resin film. Forming a photosensitive resin layer having a refractive index, then forming a thin metal film on the photosensitive resin layer, then exposing the photoresist, the pattern of the metal film by a photolithography process of development Then, the photosensitive resin layer or the photosensitive resin layer and a part of the resin film are etched and removed using a reactive gas using the pattern of the metal film as a mask to form a light guide having a desired shape. Forming the core layer of the waveguide, then
The photoresist and the metal film are removed to form an optical waveguide, then an electric wiring is formed on the resin film, and then the electric wiring board or the electric wiring is formed by the flexible electric / optical wiring film manufactured as described above. A method for manufacturing a flexible electric / optical wiring circuit module, comprising electrically and electrically connecting electric / optical elements and electric / optical components mounted on an optical wiring substrate.
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