JP3189042B2 - Material supply device for vacuum film formation - Google Patents

Material supply device for vacuum film formation

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JP3189042B2
JP3189042B2 JP19811497A JP19811497A JP3189042B2 JP 3189042 B2 JP3189042 B2 JP 3189042B2 JP 19811497 A JP19811497 A JP 19811497A JP 19811497 A JP19811497 A JP 19811497A JP 3189042 B2 JP3189042 B2 JP 3189042B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、蒸発材料を加熱蒸
発させて基板上に膜を形成させる真空成膜の材料供給装
置に関し、特に蒸発材料の補充を装置の運転を停止させ
ることなく行なうことができるようにした真空成膜の材
料供給装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum film forming material supply apparatus for forming a film on a substrate by heating and evaporating an evaporating material, and more particularly to a method for replenishing an evaporating material without stopping the operation of the apparatus. The present invention relates to a vacuum film-forming material supply apparatus capable of performing the above-described steps.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、真空成膜装置として真空蒸着装
置やイオンプレーティング装置が知られている。このよ
うな真空成膜装置では、ハース上に載置された蒸発材料
に熱を加えて蒸発させ基板上に膜を形成している。そし
て、蒸発材料の加熱源として、誘導加熱装置、電子銃、
プラズマ銃が知られている。
2. Description of the Related Art Generally, a vacuum deposition apparatus and an ion plating apparatus are known as vacuum film forming apparatuses. In such a vacuum film forming apparatus, a film is formed on a substrate by applying heat to an evaporation material placed on a hearth and evaporating the material. And, as a heating source of the evaporation material, an induction heating device, an electron gun,
Plasma guns are known.

【0003】そして、イオンプレーティング装置の加熱
源としては、例えば、圧力勾配型プラズマ源あるいはH
CDプラズマ源又は電子銃が知られている。このような
イオンプレーティング装置でプラズマビーム発生器(プ
ラズマ源)を備えたものでは、、真空容器中に配置され
たハース(陽極)とプラズマビーム発生器との間でプラ
ズマビームを生成して、ハース上に載置された蒸発材料
を加熱蒸発させている。そして、蒸発材料からの蒸発金
属粒子はプラズマビームによってイオン化され、このイ
オン粒子が負電圧の基板表面に付着して、基板上に膜が
形成される。
As a heating source of the ion plating apparatus, for example, a pressure gradient plasma source or H
CD plasma sources or electron guns are known. In such an ion plating apparatus having a plasma beam generator (plasma source), a plasma beam is generated between a hearth (anode) arranged in a vacuum vessel and the plasma beam generator, The evaporation material placed on the hearth is heated and evaporated. Then, the evaporated metal particles from the evaporated material are ionized by the plasma beam, and the ion particles adhere to the substrate surface of the negative voltage, and a film is formed on the substrate.

【0004】このようなイオンプレーティング装置にお
いて、連続的にイオンプレーティングを行う場合、蒸発
材料を連続的にハースに供給する必要がある。このよう
な連続供給型のイオンプレーティング装置として、例え
ば、特開昭62−247067号公報に記載されたイオ
ンプレーティング装置が知られている。そして、このイ
オンプレーティング装置では、中空状のるつぼに下方か
ら蒸発材料を連続的に供給することが示されている。
In such an ion plating apparatus, when performing ion plating continuously, it is necessary to continuously supply the evaporation material to the hearth. As such a continuous supply type ion plating apparatus, for example, an ion plating apparatus described in JP-A-62-247067 is known. In this ion plating apparatus, it is shown that the evaporation material is continuously supplied to the hollow crucible from below.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
イオンプレーティング装置では、補充する蒸発材料を真
空容器内に配置しており、その個数には制限がある。し
たがって、真空容器内に用意された補充用の蒸発材料を
すべて使い切ってしまった場合には、装置の運転を停止
して補充作業を行わなければならない。
However, in the above-described ion plating apparatus, the evaporation material to be replenished is arranged in the vacuum vessel, and the number thereof is limited. Therefore, when all of the replenishment evaporating material prepared in the vacuum container has been used up, the operation of the apparatus must be stopped to perform the replenishment operation.

【0006】この補充作業は、装置の運転を停止して真
空容器内を大気に戻した状態で行わなければならない。
このため、運転再開時には再び真空容器を真空引きし、
運転条件を整える作業が必要となり、作業の増加、運転
効率の低下という問題点が残る。
This refilling operation must be performed in a state where the operation of the apparatus is stopped and the inside of the vacuum vessel is returned to the atmosphere.
Therefore, when the operation is resumed, the vacuum container is evacuated again,
Work for adjusting the operating conditions is required, and the problems of increasing the work and lowering the operation efficiency remain.

【0007】そこで、本発明の課題は、蒸発材料の補充
を装置の運転を停止させることなく行うことができるよ
うな真空成膜の材料供給装置を提供することにある。
It is an object of the present invention to provide a material supply apparatus for vacuum film formation that can replenish the evaporating material without stopping the operation of the apparatus.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】第1の発明によれば、加
熱源と、真空容器内に配置されたハースとを有し、前記
加熱源により前記ハースに収納された蒸発材料を蒸発さ
せ、蒸発した物質を基板の表面に付着させることにより
前記基板上に膜を形成する真空成膜装置において、前記
ハースには上下方向に延びる貫通孔が形成されており、
前記貫通孔の直下に上下動可能に設けられた前記蒸発材
料の支持部と、該支持部を駆動する第1の駆動機構と、
前記真空容器とは独立して真空状態にすることができる
室を有し、複数の蒸発材料を格納するための補充部と、
複数の蒸発材料を保持することができ、その1つを前記
支持部に供給するための供給部と、前記補充部と前記供
給部の所定の位置とを結んで蒸発材料を移送するための
密閉通路を有しその途中をゲートバルブで開閉可能とし
た密閉通路体と、該密閉通路体を通して前記補充部から
前記供給部の所定位置への蒸発材料の移送を行う移送機
構とを備え、前記支持部は、前記蒸発材料の径より小さ
な径を有する絶縁材料から成る棒状体であり、前記移送
機構は、前記密閉通路体内に配置されて前記蒸発材料の
径より小さな径を有する支持棒の先端に前記蒸発材料を
搭載して第2の駆動機構により上下方向に移送を行うも
のであり、前記供給部は、前記棒状体に対応する位置
に、それが挿通可能な孔と、前記支持棒に対応する位置
にそれと蒸発材料が挿通可能な孔を有する固定テーブル
と、該固定テーブルの上側に配置されて前記2つの位置
を含む円周上に等間隔で前記蒸発材料の挿通可能な穴を
複数個有する第1のターンテーブルと、該第1のターン
テーブルを前記円周の中心に関して回転駆動する第1の
回転駆動機構とを有し、前記補充部と前記供給部とは、
前記固定テーブルに設けられた孔の直下において前記真
空容器の壁を貫通して下方に延びる前記密閉通路体で連
結されており、前記補充部の前記室には、前記蒸発材料
の径よりは小さくかつ前記支持棒の挿通可能な穴を有す
る第2のターンテーブルが回転可能に配置されており、
該第2のターンテーブルは第2の回転駆動機構により前
記穴が前記密閉通路体の直下域を通過するように回転駆
動され、前記密閉通路体の直下域に対応する前記室の底
壁には前記支持棒がシール状態で挿通されて該支持棒が
前記第2のターンテーブルの穴を通して前記密閉通路体
に入り更に前記供給部の 前記固定テーブルの穴にまで到
達可能に構成されていることを特徴とする真空成膜の材
料供給装置が得られる。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a heating source, and a hearth disposed in a vacuum vessel, wherein the heating source evaporates an evaporation material stored in the hearth. In a vacuum film forming apparatus for forming a film on the substrate by attaching the evaporated substance to the surface of the substrate, a through-hole extending vertically is formed in the hearth,
A support portion for the evaporation material, which is provided directly below the through hole so as to be vertically movable, a first drive mechanism for driving the support portion,
A replenishing unit for storing a plurality of evaporating materials, having a chamber that can be brought into a vacuum state independently of the vacuum container,
A supply unit for supplying a plurality of evaporative materials to the support unit, and a seal for transferring the evaporative materials by connecting the replenishment unit and a predetermined position of the supply unit. A support passage provided with a closed passage body having a passage, the middle of which can be opened and closed by a gate valve, and a transfer mechanism for transferring the evaporated material from the replenishment unit to a predetermined position of the supply unit through the closed passage body; The part is smaller than the diameter of the evaporation material
A rod made of an insulating material having a large diameter,
A mechanism is disposed within the closed passage within the evaporative material.
At the tip of a support rod having a diameter smaller than the diameter,
It is mounted and transported vertically by the second drive mechanism.
The supply unit is located at a position corresponding to the rod-shaped body.
At a position corresponding to the support rod and a hole through which it can be inserted.
Table having a hole through which it and the evaporating material can be inserted
And the two positions located above the fixed table
Holes through which the evaporating material can be inserted at regular intervals on the circumference including
A first turntable having a plurality of first turntables;
A first for driving the table to rotate about the center of the circumference;
Having a rotation drive mechanism, the replenishment unit and the supply unit,
Immediately below the hole provided in the fixed table,
The closed passage extending downwardly through the wall of the empty container.
And the evaporating material is provided in the chamber of the replenishing unit.
Has a hole smaller than the diameter of
A second turntable is rotatably arranged,
The second turntable is moved forward by a second rotary drive mechanism.
The rotary drive so that the hole passes immediately below the closed passage body.
And the bottom of the chamber corresponding to the area immediately below the closed passage body
The support rod is inserted into the wall in a sealed state, and the support rod is
The closed passage body through a hole in the second turntable
To the hole of the fixed table of the supply section.
Thus, a material supply device for vacuum film formation characterized in that the material supply device is configured to be reachable.

【0009】[0009]

【0010】[0010]

【0011】第2の発明によれば、前記支持部は、絶縁
材料から成る棒状体であり、前記供給部は、前記真空容
器外から前記ハースの前記貫通孔直下まで延びて複数の
蒸発材料を収容可能であって途中にはゲートバルブが設
けられた筒状通路体と、この筒状通路体内に収納された
蒸発材料を移動させる押し出し棒と、該押し出し棒を駆
動する第3の駆動機構とを有して前記押し出し棒にて前
記蒸発材料を前記貫通孔直下の前記棒状体に供給するこ
とを特徴とする真空成膜の材料供給装置が得られる。
According to the second aspect, the support portion is a rod-shaped body made of an insulating material, and the supply portion extends from outside the vacuum vessel to immediately below the through hole of the hearth to store a plurality of evaporation materials. A tubular passage body capable of being accommodated and provided with a gate valve in the middle thereof, an extruding rod for moving the evaporating material accommodated in the tubular passage body, and a third drive mechanism for driving the extruded rod. And supplying the evaporating material to the rod-shaped body immediately below the through-hole with the push rod.

【0012】第2の発明においては、前記密閉通路体
は、その一端側が前記真空容器の外側において前記筒状
通路体に接続されて上方に延び、その上端側は前記補充
部の前記室の底壁側に接続されており、前記移送機構
は、前記密閉通路体内に上下動可能に配置された支持棒
の先端に前記蒸発材料を搭載して前記室から前記筒状通
路体への移送を行うものであることを特徴とする。
[0012] In the second aspect of the present invention, one end of the closed passage is connected to the cylindrical passage outside the vacuum vessel and extends upward, and an upper end thereof is a bottom of the chamber of the replenishing section. The transfer mechanism is connected to a wall side, and the transfer mechanism transfers the evaporative material from the chamber to the tubular passage body by mounting the evaporative material on a tip of a support rod arranged vertically movable in the closed passage body. Characterized in that:

【0013】第2の発明ではまた、前記補充部の前記室
には、前記蒸発材料を挿通可能な複数の穴を周方向に等
間隔をおいて有するターンテーブルが回転可能に配置さ
れており、該ターンテーブルは回転駆動機構により前記
穴が前記室と前記密閉通路体との接続部上を通過するよ
うに回転駆動されることを特徴とする。
[0013] In the second invention, a turntable having a plurality of holes in which the evaporative material can be inserted at regular intervals in a circumferential direction is rotatably disposed in the chamber of the replenishing section. The turntable is rotationally driven by a rotary drive mechanism such that the hole passes over a connection between the chamber and the closed passage.

【0014】第1、第2の発明のいずれにおいても、前
記ハースには前記貫通孔内にある蒸発材料を保持するた
めのクランプ機構が設けられていることが好ましい。
In any of the first and second aspects of the present invention, it is preferable that the hearth is provided with a clamp mechanism for holding the evaporated material in the through hole.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】ここで、図4を参照して、真空成
膜装置の中のイオンプレーティング装置について概略説
明を行う。このイオンプレーティング装置は、気密性の
真空容器21を備えており、この真空容器21にはガイ
ド部21aを介して加熱源としてのプラズマビーム発生
器(例えば、圧力勾配型プラズマ銃)22が取り付けら
れている。ガイド部21aの外側にはプラズマビームガ
イド用のステアリングコイル23が配設されている。プ
ラズマビーム発生器22には、プラズマビーム収束用の
第1中間電極24及び第2中間電極25が同心的に配置
されている。第1中間電極24には磁極軸がプラズマビ
ーム発生器22の中心軸と平行になるようにして永久磁
石24aが内蔵され、第2中間電極25にはコイル25
aが内蔵されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Referring now to FIG. 4, a brief description will be given of an ion plating apparatus in a vacuum film forming apparatus. The ion plating apparatus includes an airtight vacuum vessel 21. A plasma beam generator (for example, a pressure gradient plasma gun) 22 as a heating source is attached to the vacuum vessel 21 via a guide 21a. Have been. A steering coil 23 for guiding a plasma beam is disposed outside the guide portion 21a. In the plasma beam generator 22, a first intermediate electrode 24 and a second intermediate electrode 25 for converging a plasma beam are arranged concentrically. The first intermediate electrode 24 incorporates a permanent magnet 24 a so that the magnetic pole axis is parallel to the center axis of the plasma beam generator 22, and the second intermediate electrode 25 includes a coil 25.
a is built in.

【0016】プラズマビーム発生器22には、第1及び
第2中間電極24及び25で規定される通路に繋がる絶
縁管(例えば、ガラス管)26が備えられており、この
ガラス管26内にはMo筒26aが配置されている。そ
して、このMo筒26a内にはTaパイプ26bが配置
されている。Mo筒26aとTaパイプ26bで規定さ
れる空間はLaB6 製の環状板26cで隔離されてい
る。上述の絶縁管26、Mo筒26a、及びTaパイプ
26bの一端は導体板部26dに取り付けられている。
この導体板部26dに形成されたキャリアガス導入口2
6eからキャリアガスが導入され、このキャリアガスは
Taパイプ26bを通過する。
The plasma beam generator 22 is provided with an insulating tube (for example, a glass tube) 26 connected to the passage defined by the first and second intermediate electrodes 24 and 25. The Mo cylinder 26a is arranged. Then, a Ta pipe 26b is arranged in the Mo cylinder 26a. Space defined by Mo tube 26a and Ta pipe 26b is isolated by the LaB 6 made of an annular plate 26c. One ends of the insulating tube 26, the Mo cylinder 26a, and the Ta pipe 26b are attached to the conductor plate 26d.
Carrier gas inlet 2 formed in conductor plate portion 26d
A carrier gas is introduced from 6e, and the carrier gas passes through the Ta pipe 26b.

【0017】真空容器21内には被処理物体としての基
板27が搬送装置28に支持されて配置されており、基
板27には負バイアス用の直流電源が接続される。基板
27に対向して真空容器21の底面にはハース(陽極
部)29が配置される。
A substrate 27 as an object to be processed is disposed in a vacuum vessel 21 and supported by a transfer device 28, and a DC power supply for negative bias is connected to the substrate 27. A hearth (anode) 29 is arranged on the bottom surface of the vacuum vessel 21 so as to face the substrate 27.

【0018】ここで、図5も参照して、ハース29は略
円柱形状であり、ハース29の上面は凹形状となってい
る。ハース29の中心部には図中上下方向に延びる貫通
孔29cが形成されている。ハース29はその下部に径
方向に延びるフランジ部29aを有している。ハース2
9内には通路29bが形成されており、この通路29b
は冷却水管30に接続されている。
Here, referring also to FIG. 5, the hearth 29 has a substantially cylindrical shape, and the upper surface of the hearth 29 is concave. At the center of the hearth 29, a through-hole 29c extending vertically in the figure is formed. The hearth 29 has a flange portion 29a extending in a radial direction at a lower portion thereof. Hearth 2
9, a passage 29b is formed.
Is connected to the cooling water pipe 30.

【0019】ハース29の外周には、図示のように、補
助陽極を構成するための磁石ケース31が配置されてい
る。磁石ケース31は中空リング状の磁石上ケース31
aと、ドーナツ状の磁石下ケース31bと、上ケース3
1a及び下ケース31bの間に配置された環状の永久磁
石31cとを備えている。永久磁石31cは図中上下方
向に着磁されている。図示の例では、上側がN極、下側
がS極となっている。そして、磁石上ケース31aの中
空部には冷却水管32が接続されている。
On the outer periphery of the hearth 29, a magnet case 31 for forming an auxiliary anode is arranged as shown in the figure. The magnet case 31 is a hollow ring-shaped magnet upper case 31.
a, a donut-shaped magnet lower case 31b, and an upper case 3
1a and an annular permanent magnet 31c arranged between the lower case 31b. The permanent magnet 31c is vertically magnetized in the figure. In the illustrated example, the upper side is an N pole, and the lower side is an S pole. A cooling water pipe 32 is connected to a hollow portion of the upper magnet case 31a.

【0020】上述の磁石ケース31は絶縁板33を介し
てハース29のフランジ部29aと接合されている。こ
の際、磁石ケース31とハース29の側面との間には僅
かの間隙が形成されている。そして、磁石ケース31は
支持部材34によって真空容器21の底面に支持され
る。
The above-described magnet case 31 is joined to the flange portion 29a of the hearth 29 via an insulating plate 33. At this time, a slight gap is formed between the magnet case 31 and the side surface of the hearth 29. The magnet case 31 is supported on the bottom surface of the vacuum vessel 21 by the support member 34.

【0021】再び、図4を参照して、導体板部26dに
は可変電源40のマイナス端が接続され、そのプラス端
はそれぞれ抵抗器R1及びR2を介して第1及び第2の
中間電極24及び25に接続されている。
Referring again to FIG. 4, the negative end of variable power supply 40 is connected to conductive plate portion 26d, and its positive end is connected to first and second intermediate electrodes 24 via resistors R1 and R2, respectively. And 25.

【0022】一方、ハース29には電流計41が接続さ
れ、この電流計41は可変電源40、及び抵抗器R1及
びR2に接続される。さらに、電流計41は抵抗器R3
及びR4を介して接地されるとともに真空容器21に接
続されている。また、抵抗器R3に並列に電圧計42が
接続されている(なお、抵抗器R3は電圧計測用の標準
抵抗器として用いられ、1Mオーム以上の抵抗を有して
いる)。
On the other hand, an ammeter 41 is connected to the hearth 29, and the ammeter 41 is connected to the variable power supply 40 and the resistors R1 and R2. Further, the ammeter 41 has a resistor R3
And R4, and is connected to the vacuum vessel 21. A voltmeter 42 is connected in parallel with the resistor R3 (the resistor R3 is used as a standard resistor for voltage measurement and has a resistance of 1 M ohm or more).

【0023】さらに、基板27の近傍において、基板2
7の外側には、支持板部材43が配置され、この支持板
部材43には膜厚計44が配置されている。また、真空
容器21の側壁にはArガス等のキャリアガスを導入す
るためのガス導入口21bが形成されると共に、真空容
器21内を排気するための排気口21cが形成されてい
る。
Further, in the vicinity of the substrate 27, the substrate 2
A support plate member 43 is disposed outside the support 7, and a film thickness gauge 44 is disposed on the support plate member 43. In addition, a gas inlet 21b for introducing a carrier gas such as Ar gas is formed on a side wall of the vacuum vessel 21 and an exhaust port 21c for exhausting the inside of the vacuum vessel 21 is formed.

【0024】上述のイオンプレーティング装置では、キ
ャリアガス導入口26eからキャリアガスが導入される
と、第1中間電極24とMo筒26aとの間で放電が始
まる。これによって、プラズマビーム45が生成され
る。このプラズマビーム45はステアリングコイル23
と磁石ケース31内の永久磁石31cにガイドされて、
陽極として用いられるハース29及び磁石ケース31に
到達する。
In the above-described ion plating apparatus, when a carrier gas is introduced from the carrier gas inlet 26e, a discharge starts between the first intermediate electrode 24 and the Mo cylinder 26a. As a result, a plasma beam 45 is generated. This plasma beam 45 is applied to the steering coil 23
And guided by the permanent magnet 31c in the magnet case 31,
It reaches the hearth 29 and the magnet case 31 used as an anode.

【0025】ハース29にプラズマビームが与えられる
と、ハース29を貫通してハース29の上面に達してい
る蒸発材料39がジュール加熱されて蒸発する。この蒸
発金属粒子はプラズマビーム45によってイオン化され
て、負電圧が印加された基板27の表面に付着し、基板
27上に膜が形成される。
When a plasma beam is applied to the hearth 29, the evaporating material 39 that has penetrated the hearth 29 and has reached the upper surface of the hearth 29 is heated by Joule and evaporated. The evaporated metal particles are ionized by the plasma beam 45 and adhere to the surface of the substrate 27 to which the negative voltage is applied, and a film is formed on the substrate 27.

【0026】なお、蒸発材料39は、その支持部として
作用する押し上げ棒35に搭載され、この押し上げ棒3
5は駆動機構36により図中上下方向に駆動される。駆
動機構36は、図示しない制御装置により電流計41、
電圧計42、膜厚計44の測定結果及びその他のあらか
じめ定められた成膜条件に基づいて制御され、蒸発材料
39が減少してもプラズマビーム発生器22との間の距
離が一定になるようにしている。その結果、基板27に
は均一な厚さで膜が形成される。このような制御動作特
願平6−270972号に開示されているので、ここで
は詳しい説明は省略する。
The evaporating material 39 is mounted on a push-up bar 35 acting as a support for the push-up bar 3.
5 is driven vertically by a drive mechanism 36 in the figure. The drive mechanism 36 includes an ammeter 41,
It is controlled based on the measurement results of the voltmeter 42 and the film thickness meter 44 and other predetermined film forming conditions so that the distance from the plasma beam generator 22 becomes constant even when the amount of the evaporated material 39 decreases. I have to. As a result, a film is formed on the substrate 27 with a uniform thickness. Such a control operation is disclosed in Japanese Patent Application No. Hei 6-270972, and a detailed description thereof will be omitted here.

【0027】本発明は、上記のようなイオンプレーティ
ング装置において、円柱状の蒸発材料39を連続的に供
給可能にしたことを特徴としている。
The present invention is characterized in that in the above-described ion plating apparatus, a columnar evaporation material 39 can be continuously supplied.

【0028】図1、図2を参照して、本発明の第1の実
施の形態について説明する。前述したように、ハース2
9の貫通孔29cの直下には、蒸発材料39の支持部と
して作用する押し上げ棒35が上下動可能に設けられて
いる。押し上げ棒35は、蒸発材料39の径より小さな
径を有する絶縁材料から成る棒状体であり、真空容器2
1の底壁をシール部材51でシールされた状態にて貫通
し、真空容器21外に配置された駆動機構36(第1の
押し上げ駆動機構)により上下方向に駆動される。駆動
機構36は、図示しない支持枠により真空容器21に支
持される。真空容器21外にはまた、真空容器21とは
独立して真空状態にすることができる補充室61を有
し、この補充室61に複数の蒸発材料39を格納するた
めの補充部60が支持枠67を介して配置されている。
補充部60は、後述するように、ターンテーブル62と
回転駆動機構63とを有する。一方、真空容器21内に
は、複数の蒸発材料39を保持することができ、その1
つを押し上げ棒35の上端に供給するための供給部70
が配置されている。補充部60と供給部70との間に
は、これらの所定の位置を結んで蒸発材料を移送するた
めの密閉通路体を有し、その途中をゲートバルブ81で
開閉可能とした密閉通路体80が設けられている。更
に、補充部60の下部には、密閉通路体80を通して補
充部60から供給部70の所定位置への蒸発材料の移送
を行う移送機構90が設けられている。
Referring to FIGS. 1 and 2, a first embodiment of the present invention will be described. As mentioned above, Haas 2
Immediately below the through hole 29c, a push-up bar 35 acting as a support for the evaporation material 39 is provided so as to be vertically movable. The push-up rod 35 is a rod-shaped body made of an insulating material having a diameter smaller than the diameter of the evaporation material 39, and
1 through a bottom wall sealed with a seal member 51, and a driving mechanism 36 (first
(Up-and- down drive mechanism). The drive mechanism 36 is supported by the vacuum vessel 21 by a support frame (not shown). Outside the vacuum vessel 21, there is also provided a replenishing chamber 61 which can be evacuated independently of the vacuum vessel 21. In the replenishing chamber 61, a replenishing part 60 for storing a plurality of evaporation materials 39 is supported. It is arranged via a frame 67.
The replenishing unit 60 includes a turntable 62 and a
And a rotation drive mechanism 63. On the other hand, a plurality of evaporating materials 39 can be held in the vacuum vessel 21.
Supply unit 70 for supplying one to the upper end of the push-up bar 35
Is arranged. A closed passage body is provided between the replenishing section 60 and the supply section 70 for connecting these predetermined positions to transfer the evaporated material, and a closed passage body 80 which can be opened and closed by a gate valve 81 in the middle thereof. Is provided. Further, a transfer mechanism 90 for transferring the evaporated material from the replenishment unit 60 to a predetermined position of the supply unit 70 through the closed passage body 80 is provided below the replenishment unit 60.

【0029】供給部70は、押し上げ棒51に対応する
位置に、それが挿通可能な孔71−1と、支持棒91に
対応する位置にそれと蒸発材料39が挿通可能な孔71
−2とを有する固定テーブル71と、固定テーブル71
の上側に配置されて前記2つの位置を含む円周上に等間
隔で蒸発材料39の挿通可能な穴72−1を複数個有す
るターンテーブル(第1のターンテーブル)72と、タ
ーンテーブル72を前記円周の中心に関して回転駆動す
る回転駆動機構(第1の回転駆動機構)73とを有す
る。回転駆動機構73もまた、図示しない支持枠を介し
て真空容器21に支持されており、その回転軸73−1
もシールされた状態にて真空容器21の底壁を貫通して
いる。なお、固定テーブル71及びターンテーブル72
は、蒸発材料39を介してハース29側から電流が流れ
るような場合、絶縁材料で形成する。また、押し上げ棒
35の先端には、絶縁体35−1が設けられている。
The supply section 70 has a hole 71-1 at a position corresponding to the push-up rod 51 and a hole 71-1 through which the evaporating material 39 can be inserted at a position corresponding to the support rod 91.
-2 fixed table 71, and fixed table 71
A turntable (first turntable) 72 having a plurality of holes 72-1 through which the evaporating material 39 can be inserted at regular intervals on a circle including the two positions and disposed on the upper side of the turntable 72; A rotation drive mechanism (first rotation drive mechanism) 73 that is driven to rotate about the center of the circumference. The rotation drive mechanism 73 is also supported by the vacuum vessel 21 via a support frame (not shown), and has a rotation shaft 73-1.
Also penetrates the bottom wall of the vacuum vessel 21 in a sealed state. The fixed table 71 and the turntable 72
Is formed of an insulating material when a current flows from the hearth 29 side via the evaporation material 39. An insulator 35-1 is provided at the tip of the push-up bar 35.

【0030】補充部60と供給部70とは、固定テーブ
ル71に設けられた孔71−2の直下において真空容器
21の底壁を貫通して下方に延びる密閉通路体80で連
結されている。密閉通路体80における真空容器21の
貫通部は、シールされている。密閉通路体80と補充室
61との連結もシール状態にて行われている。補充部6
0の補充室61には、蒸発材料39の径よりは小さくか
つ支持棒91の挿通可能な穴62−1を有するターンテ
ーブル(第2のターンテーブル)62が回転可能に配置
されている。ターンテーブル62は回転駆動機構(第2
の回転駆動機構)63により穴62−1が密閉通路体8
0の直下域を通過するように回転駆動される。ここで
は、回転駆動機構63の回転軸がベベルギヤ64を介し
てターンテーブル62の回転軸65に伝達される。勿
論、回転軸65もシールされた状態にて補充室61の底
壁を貫通している。
The replenishing unit 60 and the supply unit 70 are connected to each other by a closed passage body 80 that extends downward through a bottom wall of the vacuum vessel 21 immediately below a hole 71-2 provided in the fixed table 71. The through portion of the vacuum vessel 21 in the closed passage body 80 is sealed. The connection between the closed passage body 80 and the replenishment chamber 61 is also performed in a sealed state. Replenishment unit 6
A turntable (second turntable) 62 smaller than the diameter of the evaporating material 39 and having a hole 62-1 through which the support rod 91 can be inserted is rotatably disposed in the replenishment chamber 61. The turntable 62 is a rotary drive mechanism (second
Of the closed passage body 8 by the rotation drive mechanism 63)
It is rotationally driven so as to pass through a region immediately below zero. Here, the rotation shaft of the rotation drive mechanism 63 is transmitted to the rotation shaft 65 of the turntable 62 via the bevel gear 64. Of course, the rotating shaft 65 also penetrates the bottom wall of the refill chamber 61 in a sealed state.

【0031】移送機構90は、密閉通路体80内に配置
されて蒸発材料39の径より小さな径を有する支持棒9
1の先端に蒸発材料を搭載して駆動機構(第2の押し上
駆動機構)92により上下方向に移送を行うものであ
る。このために、密閉通路体80の直下域に対応する補
充室61の底壁には、支持棒91がシール状態で挿通さ
れ、この支持棒91はターンテーブル62の穴62−1
を通して密閉通路体80に入り、更に供給部70の固定
テーブル71の孔71−2にまで到達可能に構成されて
いる。なお、支持棒91は、ここではボールネジ機構に
より上下方向に駆動されているが、シリンダでも良い。
The transfer mechanism 90 is provided in the closed passage body 80 and has a diameter smaller than the diameter of the evaporation material 39.
The evaporating material is mounted on the tip of the drive mechanism 1 (the second push-up mechanism).
The transfer is performed in the up-down direction by a drive mechanism 92. For this purpose, a support rod 91 is inserted in a sealed state into the bottom wall of the refilling chamber 61 corresponding to a region directly below the closed passage body 80, and the support rod 91 is inserted into the hole 62-1 of the turntable 62.
Into the closed passage body 80 through the air passage, and can further reach the hole 71-2 of the fixed table 71 of the supply unit 70. The support rod 91 is driven in the vertical direction by a ball screw mechanism here, but may be a cylinder.

【0032】補充部60について詳しく延べると、補充
室61は図示しない真空排気装置により、真空状態を確
保できるようになっている。補充室61の上壁には、補
充室61内に蒸発材料39を補填するためのドア66が
シール可能に設けられている。ターンテーブル62に設
けられた穴62−1は、厳密に言えば、段差を有してい
る。すなわち、穴62−1は、その下部側が支持棒91
の挿通可能な径であって蒸発材料39の径よりも小さな
小径部であり、上部側が蒸発材料39の挿通可能な大径
部である。これは、蒸発材料39を穴62−1の大径部
に挿入して倒れにくくするためである。このような構造
により、支持棒91の上端がターンテーブル62よりも
低い位置にある状態でターンテーブル62を回転駆動し
て、そこに置かれている蒸発材料39が支持棒91の上
端に対応する位置に来た時に停止させ、それから支持棒
91を上方に駆動することにより、ターンテーブル62
上の蒸発材料39を密閉通路体80を通して供給部70
側に移送することができる。なお、図1ではターンテー
ブル62上には2個の蒸発材料39のみが示されている
が、実際には、後述するようにターンテーブル62の円
周上に等間隔をおいて複数個配置される。
When the replenishing section 60 is expanded in detail, the replenishing chamber 61 can be maintained in a vacuum state by a vacuum exhaust device (not shown). On the upper wall of the replenishing chamber 61, a door 66 for replenishing the replenishing chamber 61 with the evaporation material 39 is provided so as to be sealable. Strictly speaking, the hole 62-1 provided in the turntable 62 has a step. That is, the lower side of the hole 62-1 has the support rod 91.
Is a small diameter portion smaller than the diameter of the evaporating material 39, and the upper side is a large diameter portion through which the evaporating material 39 can be inserted. This is because the evaporating material 39 is inserted into the large-diameter portion of the hole 62-1 to make it difficult to fall down. With such a structure, the turntable 62 is rotationally driven in a state where the upper end of the support rod 91 is at a position lower than the turntable 62, and the evaporation material 39 placed thereon corresponds to the upper end of the support rod 91. By stopping when it comes to the position, and then driving the support rod 91 upward, the turntable 62
The upper evaporating material 39 is supplied to the supply section 70 through the closed passage body 80.
Can be transported to the side. Although only two evaporating materials 39 are shown on the turntable 62 in FIG. 1, actually, a plurality of evaporating materials 39 are arranged at equal intervals on the circumference of the turntable 62 as described later. You.

【0033】なお、図示していないが、補充部60には
更に、補充室61内の蒸発材料39の数を検出するセン
サが設けられる。このセンサは、補充室61内の蒸発材
料39の残り数が2〜3個になると、その検出信号を制
御装置に送る。制御装置では、この検出信号を受ける
と、アラーム等を出してオペレータに蒸発材料39の補
填を促す。
Although not shown, the replenishing section 60 is further provided with a sensor for detecting the number of evaporating materials 39 in the replenishing chamber 61. When the remaining number of the evaporation materials 39 in the replenishing chamber 61 becomes two or three, this sensor sends a detection signal to the control device. Upon receiving this detection signal, the control device issues an alarm or the like to prompt the operator to replenish the evaporation material 39.

【0034】供給部70について詳しく説明すると、固
定テーブル71の孔71−1、71−2は、ここでは、
同一円周上であって180°の角度間隔をおいた位置に
設けられている。また、支持棒91による上述の蒸発材
料39の移送と、押し上げ棒35による蒸発材料39の
固定テーブル71からの押し上げを並行して行うために
は、ターンテーブル72の穴72−1の直下に孔71−
1、71−2を有する必要がある。孔71−1の径を蒸
発材料39の径よりも小さくしているのは、蒸発材料3
9を穴72−1に挿入した状態にて固定テーブル71上
に搭載することができるようにするためであり、蒸発材
料39の倒れを防ぐと共に、ターンテーブル72を回転
させることで蒸発材料39が固定テーブル71上をスラ
イドして移動することができるようにしている。
The supply unit 70 will be described in detail. The holes 71-1 and 71-2 of the fixed table 71 are
They are provided at positions on the same circumference and spaced at an angle of 180 °. Further, in order to transfer the above-mentioned evaporation material 39 by the support rod 91 and to push up the evaporation material 39 from the fixed table 71 by the push-up rod 35 in parallel, a hole is provided immediately below the hole 72-1 of the turntable 72. 71-
1, 71-2. The reason why the diameter of the hole 71-1 is smaller than the diameter of the evaporation material 39 is that the evaporation material 3
9 is inserted into the hole 72-1 so that the evaporation material 39 can be mounted on the fixed table 71. The evaporation material 39 is prevented from falling down, and the evaporation material 39 is rotated by rotating the turntable 72. It can slide and move on the fixed table 71.

【0035】また、支持棒91上の蒸発材料39をター
ンテーブル72の回転で固定テーブル71上に移動させ
る際は、支持棒91の上端をターンテーブル72と固定
テーブル71との間、言い換えれば固定テーブル71の
上端よりやや高い位置に位置させる必要がある。
When the evaporation material 39 on the support rod 91 is moved onto the fixed table 71 by the rotation of the turntable 72 , the upper end of the support rod 91 is placed between the turntable 72 and the fixed table 71 , in other words, fixed. Table 71
It must be positioned slightly higher than the top .

【0036】図1は、押し上げ棒35により固定テーブ
ル71上の蒸発材料39を押し上げ可能な状態を示して
いる。すなわち、ハース29内の蒸発材料39が減少す
ると、押し上げ棒35が上方に駆動されてその上端に載
っている蒸発材料39がハース29の貫通孔29c内に
押し込まれる。そして、上述した制御装置により貫通孔
29c内にある蒸発材料39の最上端が常に一定位置に
あるような制御が行われる。
FIG. 1 shows a state in which the evaporating material 39 on the fixed table 71 can be pushed up by the push-up bar 35. That is, when the evaporation material 39 in the hearth 29 decreases, the push-up bar 35 is driven upward, and the evaporation material 39 placed on the upper end thereof is pushed into the through hole 29 c of the hearth 29. Then, control is performed by the above-described control device such that the uppermost end of the evaporation material 39 in the through hole 29c is always at a fixed position.

【0037】一方、移送機構90により蒸発材料39を
固定テーブル71上に補充する場合には、押し上げ棒3
5はターンテーブル72の回動を妨げない位置まで下げ
られる。この時、貫通孔29c内にある蒸発材料39を
一時的に保持するために、ハース29の下部には蒸発材
料39を保持するためのクランプ機構55が設けられて
いる。このクランプ機構55の保持及び解放動作は、上
述の制御装置により行われる。図1の状態において、支
持棒91を上方に駆動してターンテーブル62上にある
蒸発材料39を支持棒91の上端に載せ、そのまま上方
に駆動して蒸発材料39の下端部が固定テーブル71の
上面に対応する位置で停止させる。この状態でターンテ
ーブル72を所定角度回動させると、支持棒91の上端
に載っている蒸発材料39はターンテーブル72の穴7
2−1で保持された状態で固定テーブル71上をスライ
ドする。上記所定角度は、ターンテーブル72に設けら
れる穴72−1の角度間隔と同じである。固定テーブル
71上にも1個の蒸発材料39だけしか示していない
が、実際には、後述するように固定テーブル71の円周
上に等間隔をおいて複数個配置される。回転駆動機構6
3、73及び駆動機構92の駆動制御、ゲートバルブ8
1の開閉制御も上述した制御装置により行われる。
On the other hand, when replenishing the evaporation material 39 onto the fixed table 71 by the transfer mechanism 90,
5 is lowered to a position where the turntable 72 is not hindered from rotating. At this time, a clamp mechanism 55 for holding the evaporation material 39 is provided below the hearth 29 in order to temporarily hold the evaporation material 39 in the through hole 29c. The operation of holding and releasing the clamp mechanism 55 is performed by the control device described above. In the state of FIG. 1, the support rod 91 is driven upward to put the evaporative material 39 on the turntable 62 on the upper end of the support rod 91, and is driven upward as it is so that the lower end of the evaporative material 39 is Stop at the position corresponding to the upper surface. When the turntable 72 is rotated by a predetermined angle in this state, the evaporation material 39 placed on the upper end of the support rod 91 is removed from the hole 7 of the turntable 72.
The user slides on the fixed table 71 while being held at 2-1. The predetermined angle is the same as the angle interval between the holes 72-1 provided in the turntable 72. Although only one evaporating material 39 is shown on the fixed table 71, actually, a plurality of evaporating materials 39 are arranged at equal intervals on the circumference of the fixed table 71 as described later. Rotation drive mechanism 6
3, 73 and drive control of drive mechanism 92, gate valve 8
1 is also controlled by the above-described control device.

【0038】なお、ハース29には、装置の運転時に大
電流が流れるので、ハース29とその周囲の部材の間は
絶縁体により絶縁されることは言うまでも無い。それに
加えて、蒸発材料39を通して押し上げ棒35や固定テ
ーブル71及びターンテーブル72から漏電しないよう
に、これらも絶縁材料で構成される。
Since a large current flows through the hearth 29 during operation of the apparatus, it goes without saying that the hearth 29 and the surrounding members are insulated by an insulator. In addition, these are also made of an insulating material so that no electric leakage occurs from the push-up bar 35, the fixed table 71 and the turntable 72 through the evaporating material 39.

【0039】図2は、図1の状態におけるターンテーブ
ル62と固定テーブル71及びターンテーブル72の位
置関係を示しており、ターンテーブル62及び固定テー
ブル71上にそれぞれ、蒸発材料が複数個配置されるこ
とが理解できよう。前述したように、ターンテーブル6
2、ターンテーブル72の1回当たりの回動角度はそれ
ぞれ、穴62−1、穴72−1の角度間隔α1 、α2
決まる。
FIG. 2 shows the positional relationship between the turntable 62, the fixed table 71, and the turntable 72 in the state shown in FIG. 1. A plurality of evaporating materials are arranged on the turntable 62 and the fixed table 71, respectively. I can understand that. As described above, the turntable 6
2. The rotation angle per turn of the turntable 72 is determined by the angular intervals α 1 and α 2 between the hole 62-1 and the hole 72-1 respectively.

【0040】次に、各部の動作の一例について説明す
る。運転開始時には、ハース29の貫通孔29c内は勿
論、固定テーブル71、ターンテーブル62上に保持可
能な全数の蒸発材料39が保持されているものとする。
運転開始時には、押し上げ棒35は貫通孔29c内の蒸
発材料39を押し上げている状態にある。そして、時間
経過と共に、蒸発材料39が減少してもその上端を一定
の高さに維持するよう貫通孔29c内の蒸発材料39を
押し上げる制御が行われる。押し上げ棒35の上端がク
ランプ機構55に近い位置まで上動すると、クランプ機
構55が貫通孔29c内の蒸発材料39を一時的に保持
する。続いて、押し上げ棒35はその上端が固定テーブ
ル71よりやや低い位置まで下げられ、ターンテーブル
72が所定角度だけ回動されることにより、固定テーブ
ル71上の蒸発材料39が孔71−1の真上に送られて
来る。そして、押し上げ棒35が再び上動してその上端
に蒸発材料39を搭載して貫通孔29c内に送り込む。
この時、クランプ機構55の保持動作は解除される。
Next, an example of the operation of each unit will be described. At the start of the operation, it is assumed that all the evaporable materials 39 that can be held on the fixed table 71 and the turntable 62 are held in the through hole 29c of the hearth 29 as well as on the fixed table 71 and the turntable 62.
At the start of the operation, the push-up bar 35 is in a state of pushing up the evaporation material 39 in the through hole 29c. Then, control is performed to push up the evaporating material 39 in the through hole 29c so that the upper end thereof is maintained at a constant height even if the evaporating material 39 decreases with time. When the upper end of the push-up bar 35 moves up to a position close to the clamp mechanism 55, the clamp mechanism 55 temporarily holds the evaporation material 39 in the through hole 29c. Subsequently, the upper end of the push-up bar 35 is lowered to a position slightly lower than the fixed table 71 and the turntable 72 is rotated by a predetermined angle, so that the evaporation material 39 on the fixed table 71 is removed from the hole 71-1. Sent over. Then, the push-up bar 35 moves up again to load the evaporating material 39 on the upper end thereof and feed it into the through hole 29c.
At this time, the holding operation of the clamp mechanism 55 is released.

【0041】このような動作を繰り返すことにより、固
定テーブル71上の蒸発材料39が無くなると、クラン
プ機構55が貫通孔29c内の蒸発材料39を一時的に
保持し、押し上げ棒35はその上端が固定テーブル71
よりやや低い位置まで下げられる。続いて、ゲートバル
ブ81が開にされ、支持棒91が上動するよう駆動され
る。支持棒91は、上動しながらターンテーブル62上
にある蒸発材料39を搭載して空き状態の穴72−1に
送り込み、上端がターンテーブル72よりやや低い位
、言い換えれば固定テーブル71の上端よりやや高い
位置で停止する。続いて、ターンテーブル72が所定角
度だけ回動されことにより、支持棒91上の蒸発材料
39は固定テーブル71上に移し替えられる。この時、
ターンテーブル72の次の空き状態にある穴72−1が
固定テーブル71の孔71−2の上に位置している。次
に、支持棒91は、ターンテーブル62よりやや低い位
置まで下げられ、ターンテーブル62が所定角度だけ回
動されて次の蒸発材料39が支持棒91の上端に対応す
る位置に送られてくる。支持棒91は、上動しながらタ
ーンテーブル62上にある蒸発材料39を搭載して空き
状態の穴72−1に送り込み、上端がターンテーブル7
2よりやや低い位置、すなわち固定テーブル71の上端
よりやや高い位置で停止する。以後、同様の動作を繰り
返して、ターンテーブル62上の蒸発材料39が固定テ
ーブル71上に移し替えられる。以上の動作は、貫通孔
29c内の蒸発材料39が大幅に減少しない程度の時
間、例えば1分程度で完了する。移し替えが終了したら
ゲートバルブ81が閉じられる。
By repeating such an operation, when the evaporating material 39 on the fixed table 71 is exhausted, the clamp mechanism 55 temporarily holds the evaporating material 39 in the through hole 29c, and the upper end of the push-up bar 35 is raised. Fixed table 71
Can be lowered to a slightly lower position. Subsequently, the gate valve 81 is opened, and the support rod 91 is driven to move upward. The support rod 91 is loaded with the evaporating material 39 on the turntable 62 while moving upward, and feeds it into the empty hole 72-1. The upper end is located at a position slightly lower than the turntable 72 , in other words, from the upper end of the fixed table 71. Somewhat high
Stop at the position . Subsequently, the turntable 72 is Ru is a predetermined angle rotation, the evaporation material 39 on support bar 91 is transferred on the fixed table 71. At this time,
The next empty hole 72-1 of the turntable 72 is located above the hole 71-2 of the fixed table 71. Next, the support bar 91 is lowered to a position slightly lower than the turntable 62, the turntable 62 is rotated by a predetermined angle, and the next evaporation material 39 is sent to a position corresponding to the upper end of the support bar 91. . The support rod 91 carries the evaporating material 39 on the turntable 62 while moving upward, and feeds it into the empty hole 72-1.
A position slightly lower than 2 , that is , the upper end of the fixed table 71
Stop at a slightly higher position . Thereafter, the same operation is repeated, and the evaporation material 39 on the turntable 62 is transferred to the fixed table 71. The above operation is completed in such a time that the evaporation material 39 in the through-hole 29c does not significantly decrease, for example, about 1 minute. When the transfer is completed, the gate valve 81 is closed.

【0042】その後、補充室61を大気状態にしてドア
66を開き、補充室61内に蒸発材料39を補填する。
補填が終了したら、補充室61を真空排気装置により真
空状態にして次の補充動作に備える。
Thereafter, the door 66 is opened with the replenishing chamber 61 in the air state, and the evaporating material 39 is replenished in the replenishing chamber 61.
When the refilling is completed, the replenishing chamber 61 is evacuated by the evacuation device to prepare for the next refilling operation.

【0043】上記の補充動作は、固定テーブル71上の
すべての蒸発材料39が無くなった時点で一度に行われ
る動作であるが、固定テーブル71上の1個の蒸発材料
39が貫通孔29cに送り込まれる毎に1個ずつ固定テ
ーブル71上に補充するような動作でも良い。
The above-described replenishment operation is an operation which is performed at a time when all the evaporation material 39 on the fixed table 71 is exhausted. One evaporation material 39 on the fixed table 71 is fed into the through hole 29c. An operation of replenishing the fixed table 71 one by one each time it is performed may be used.

【0044】図3を参照して、第2の実施の形態につい
て説明する。この実施の形態においては、ハース29の
直下に配置されて蒸発材料39を押し上げるために、第
1の実施の形態と同様の押し上げ棒35及び駆動機構3
6が用いられるが、供給部の構造が異なる。すなわち、
供給部100は、真空容器21外からハース29の貫通
孔29c直下まで水平に延びて複数の蒸発材料39を収
容可能であって途中にはゲートバルブ101が設けられ
た筒状通路体102と、この筒状通路体102内に収納
された蒸発材料39を移動させる押し出し棒103と、
この押し出し棒103を駆動する駆動機構(第3の駆動
機構)104とを有して、押し出し棒103にて蒸発材
料39を貫通孔29c直下の押し出し棒35の上端に供
給する。筒状通路体102は絶縁体で構成される。ま
た、押し出し棒103の先端にも絶縁材料が設けられて
いる。
The second embodiment will be described with reference to FIG. In this embodiment, the push-up rod 35 and the drive mechanism 3 similar to those in the first embodiment are used to push up the evaporating material 39 by being disposed immediately below the hearth 29.
6 is used, but the structure of the supply unit is different. That is,
The supply unit 100 extends horizontally from the outside of the vacuum vessel 21 to immediately below the through hole 29c of the hearth 29, can accommodate a plurality of evaporation materials 39, and has a tubular passage body 102 provided with a gate valve 101 in the middle thereof. An extruding rod 103 for moving the evaporating material 39 stored in the cylindrical passage body 102;
A drive mechanism (third drive mechanism) 104 for driving the push rod 103 is provided, and the push rod 103 supplies the evaporation material 39 to the upper end of the push rod 35 immediately below the through hole 29c. The tubular passage body 102 is made of an insulator. An insulating material is also provided at the tip of the push rod 103.

【0045】上記のような供給部100の構造上、密閉
通路体80は、その一端側が真空容器21の外側におい
て筒状通路体102に接続されて上方に延び、その上端
側は補充部60の補充室61の底壁側に接続されてい
る。また、密閉通路体80の途中にはゲートバルブ81
が設けられている。
Due to the structure of the supply unit 100 as described above, one end of the closed passage body 80 is connected to the cylindrical passage body 102 outside the vacuum vessel 21 and extends upward. It is connected to the bottom wall side of the replenishing chamber 61. In the middle of the closed passage body 80, a gate valve 81 is provided.
Is provided.

【0046】移送機構90´は、第1の実施の形態にお
ける移送機構90と同様に、密閉通路体80内に上下動
可能に配置された支持棒91´の先端に蒸発材料を搭載
して補充室61から筒状通路体102への移送を行うも
のであり、支持棒91´の駆動機構92´を備えてい
る。
The transfer mechanism 90 ′, similar to the transfer mechanism 90 in the first embodiment, replenishes by mounting an evaporating material on the tip of a support rod 91 ′ that is vertically movable within the closed passage 80. The transfer from the chamber 61 to the cylindrical passage body 102 is performed, and the drive mechanism 92 ′ for the support rod 91 ′ is provided.

【0047】補充部60´については、第1の実施の形
態における補充部60と同様に、真空排気装置や蒸発材
料補填用のドア、蒸発材料の残り数検出用のセンサ(い
ずれも図示せず)が設けられるが、以下の点で異なる。
すなわち、補充室61には、蒸発材料39を遊嵌状態で
挿通可能な複数の穴62−1´を周方向に等間隔をおい
て有するターンテーブル62´が回転可能に配置されて
いる。このターンテーブル62´は、回転駆動機構63
によりベベルギヤ64を介して、穴62−1´が補充室
61と密閉通路体80との接続部上を通過するように回
転駆動される。穴62−1´は等径であり、補充室61
の底壁との間で蒸発材料39を保持している。補充室6
1と密閉通路体80との接続部の径は、蒸発材料39の
径よりも大きく、支持棒91´の上端がこの接続部の高
さまで押し上げられた状態でターンテーブル62´が回
動されて蒸発材料39が接続部に来ると、蒸発材料39
は支持棒91´の上端に移し替えられる。この移し替え
が終了すると、上端に蒸発材料39を搭載した支持棒9
1´は、図3に示す位置まで下げられる。そして、この
状態で押し出し棒103が駆動されて、支持棒91´の
上端にある蒸発材料39を筒状通路体102へ移し替え
る。
As with the replenishing section 60 in the first embodiment, the replenishing section 60 'is similar to the replenishing section 60 in the first embodiment, and is not shown in the drawings. ) Is provided, but differs in the following points.
That is, in the replenishment chamber 61, a turntable 62 'having a plurality of holes 62-1' in which the evaporating material 39 can be inserted in a loosely fitted state at equal intervals in the circumferential direction is rotatably arranged. The turntable 62 ′ has a rotation drive mechanism 63.
Accordingly, the hole 62-1 ′ is rotationally driven via the bevel gear 64 such that the hole 62-1 ′ passes over the connection portion between the refilling chamber 61 and the closed passage body 80. The hole 62-1 'has the same diameter and the refilling chamber 61
The evaporating material 39 is held between the evaporating material 39 and the bottom wall. Refill room 6
The diameter of the connection between the first passage 1 and the closed passage body 80 is larger than the diameter of the evaporating material 39, and the turntable 62 'is rotated while the upper end of the support rod 91' is pushed up to the height of this connection. When the evaporation material 39 comes to the connection, the evaporation material 39
Is transferred to the upper end of the support rod 91 '. When this transfer is completed, the support rod 9 with the evaporating material 39 mounted on the upper end
1 'is lowered to the position shown in FIG. Then, in this state, the push rod 103 is driven to transfer the evaporation material 39 at the upper end of the support rod 91 ′ to the cylindrical passage body 102.

【0048】補充動作に伴う駆動機構36、92´、1
04、回転駆動機構63の駆動制御、クランプ機構55
の保持、解放動作、ゲートバルブ81、101の開閉制
御はすべて図示しない制御装置により行われ、原理的に
は第1の実施の形態と同じなので説明は省略する。この
例でも、蒸発材料の補充は複数個を1度で行っても良い
し、1個ずつでも良いが、筒状通路102内への充填は
ゲートバルブ101よりも先の方へ行い、ゲートバルブ
101は常時閉の状態におくのが好ましい。また、蒸発
材料は、円柱であったが、角柱でも良い。
The driving mechanisms 36, 92 ', 1
04, drive control of rotation drive mechanism 63, clamp mechanism 55
The holding and releasing operations and the opening and closing control of the gate valves 81 and 101 are all performed by a control device (not shown), and the description thereof is omitted because it is basically the same as that of the first embodiment. Also in this example, a plurality of evaporation materials may be replenished at once or one at a time. However, the filling of the cylindrical passage 102 is performed earlier than the gate valve 101, and 101 is preferably kept in a normally closed state. Further, the evaporation material is a cylinder, but may be a prism.

【0049】[0049]

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば真空容器内への蒸発材料の補充を装置の運転を停止さ
せることなく行うことができるので、従来のように蒸発
材料の補充のたびに装置の運転を停止して、大気開放、
真空排気の作業を行う必要が無く、運転効率を大幅に向
上させることができる。
As described above, according to the present invention, the replenishment of the evaporative material into the vacuum vessel can be performed without stopping the operation of the apparatus. Every time the operation of the device is stopped,
There is no need to perform evacuation work, and the operating efficiency can be greatly improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態を示す縦断面図であ
る。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a first embodiment of the present invention.

【図2】図1における補充室のターンテーブルと供給部
におけるターンテーブル及び固定テーブルの位置関係を
説明するための平面図である。
FIG. 2 is a plan view for explaining a positional relationship between a turntable in a replenishment chamber and a turntable and a fixed table in a supply unit in FIG. 1;

【図3】本発明の第2の実施の形態を示す縦断面図であ
る。
FIG. 3 is a longitudinal sectional view showing a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明が適用されるイオンプレーティング装置
の構造を示す縦断面図である。
FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing a structure of an ion plating apparatus to which the present invention is applied.

【図5】図4におけるハース周辺の構造を示す拡大断面
図である。
FIG. 5 is an enlarged sectional view showing a structure around a hearth in FIG. 4;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

29 ハース 35 押し上げ棒 36、92、92´、104 駆動機構 39 蒸発材料 64、73 回転駆動機構 60 補充部 61 補充室 62、72 ターンテーブル 70、100 供給部 71 固定テーブル 80 密閉通路体 81、101 ゲートバルブ 90、90´ 移送機構 102 筒状通路体 103 押し出し棒 29 Hearth 35 Push-up rod 36, 92, 92 ', 104 Drive mechanism 39 Evaporation material 64, 73 Rotary drive mechanism 60 Replenishment unit 61 Replenishment chamber 62, 72 Turntable 70, 100 Supply unit 71 Fixed table 80 Sealed passage 81, 101 Gate valve 90, 90 'Transfer mechanism 102 Cylindrical passage body 103 Push rod

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平8−74039(JP,A) 特開 昭62−247067(JP,A) 特開 平8−134636(JP,A) 実開 昭63−162860(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C23C 14/00 - 14/58 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-8-74039 (JP, A) JP-A-62-247067 (JP, A) JP-A-8-134636 (JP, A) Jpn. 162860 (JP, U) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) C23C 14/00-14/58

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 加熱源と、真空容器内に配置されたハー
スとを有し、前記加熱源により前記ハースに収納された
蒸発材料を蒸発させ、蒸発した物質を基板の表面に付着
させることにより前記基板上に膜を形成する真空成膜装
置において 記ハースには上下方向に延びる貫通孔が
形成されており 記貫通孔の直下に上下動可能に設けられた前記蒸発材
料の支持部と 支持部を駆動する第1の押し上げ駆動機構と 記真空容器とは独立して真空状態にすることができる
室を有し、複数の蒸発材料を格納するための補充部と 数の蒸発材料を保持することができ、その1つを前記
支持部に供給するための供給部と 記補充部と前記供給部の所定の位置とを結んで蒸発材
料を移送するための密閉通路を有しその途中をゲートバ
ルブで開閉可能とした密閉通路体と 密閉通路体を通して前記補充部から前記供給部の所定
位置への蒸発材料の移送を行う移送機構とを備え 前記支持部は、前記蒸発材料の径より小さな径を有する
絶縁材料から成る棒状体であり、 前記移送機構は、前記密閉通路体内に配置されて前記蒸
発材料の径より小さな径を有する支持棒の先端に前記蒸
発材料を搭載して第2の押し上げ駆動機構により上下方
向に移送を行うものであり、 前記供給部は、前記棒状体に対応する位置に、それが挿
通可能な孔と、前記支持棒に対応する位置にそれと蒸発
材料が挿通可能な孔を有する固定テーブルと、該固定テ
ーブルの上側に配置されて前記2つの位置を含む円周上
に等間隔で前記蒸発材料の挿通可能な穴を複数個有する
第1のターンテーブルと、該第1のターンテーブルを前
記円周の中心に関して回転駆動する第1の回転駆動機構
とを有し、 前記補充部と前記供給部とは、前記固定テーブルに設け
られた孔の直下において前記真空容器の壁を貫通して下
方に延びる前記密閉通路体で連結されており、 前記補充部の前記室には、前記蒸発材料の径よりは小さ
くかつ前記支持棒の挿 通可能な穴を有する第2のターン
テーブルが回転可能に配置されており、 該第2のターンテーブルは第2の回転駆動機構により前
記穴が前記密閉通路体の直下域を通過するように回転駆
動され、 前記密閉通路体の直下域に対応する前記室の底壁には前
記支持棒がシール状態で挿通されて該支持棒が前記第2
のターンテーブルの穴を通して前記密閉通路体に入り更
に前記供給部の前記固定テーブルの穴にまで到達可能に
構成されている ことを特徴とする真空成膜の材料供給装
置。
1. A heating device comprising: a heating source; and a hearth disposed in a vacuum vessel, wherein the heating source evaporates an evaporating material stored in the hearth, and attaches the evaporated substance to a surface of the substrate. in a vacuum deposition apparatus for forming a film on the substrate, before Symbol hearth is formed with a through hole extending in the vertical direction, the support of the evaporation material which is vertically movable to just under the prior SL through hole and parts, a first push-up drive mechanism for driving the support unit, before SL has a chamber that can be independently evacuated to the vacuum vessel, and refill unit for storing a plurality of evaporation materials It can hold multiple evaporation material to transfer the evaporated material by connecting a supply unit for supplying one of them to the support unit, the a pre-Symbol supplementing portion and a predetermined position of the supply unit With a closed passage for opening and closing the gate with a gate valve Comprising a sealed passage body and ability, and a transfer mechanism for transferring the evaporation material from the refill unit through the closed passage body to a predetermined position of the supply unit, the support portion is smaller in diameter than the diameter of the evaporation material Having
A rod-shaped body made of an insulating material, wherein the transfer mechanism is disposed in the closed passage, and
The steam is attached to the tip of a support rod having a diameter smaller than the diameter of the raw material.
Up and down by the second push-up drive mechanism with loading material
The supply unit is inserted into a position corresponding to the rod-shaped body.
Through the hole and the position corresponding to the support rod and evaporation
A fixing table having a hole through which a material can be inserted;
On the circumference that includes the two positions
Has a plurality of holes through which the evaporation material can be inserted at equal intervals
A first turntable and a front of the first turntable
A first rotation drive mechanism that rotates about the center of the circumference
And the replenishment unit and the supply unit are provided on the fixed table.
Through the wall of the vacuum vessel just below the hole
And is connected to the chamber of the replenishment section by a diameter smaller than the diameter of the evaporation material.
Second turn having inserted through possible holes in KuKatsu the support rod
A table is rotatably arranged, and the second turntable is moved forward by a second rotation drive mechanism.
The rotary drive so that the hole passes immediately below the closed passage body.
And the bottom wall of the chamber corresponding to the area immediately below the closed passage body is
The support rod is inserted in a sealed state, and the support rod is
Into the closed passage through the hole in the turntable
To reach the hole of the fixed table of the supply section
Material supply apparatus for a vacuum deposition, characterized in that it is configured.
【請求項2】 請求項1記載の材料供給装置において、
前記ハースには前記貫通孔内にある蒸発材料を保持する
ためのクランプ機構が設けられていることを特徴とする
真空成膜の材料供給装置。
2. The material supply device according to claim 1, wherein
The hearth holds the vaporized material in the through hole
Material supply device for vacuum film formation, characterized in that a clamp mechanism is provided .
【請求項3】 加熱源と、真空容器内に配置されたハー
スとを有し、前記加熱源により前記ハースに収納された
蒸発材料を蒸発させ、蒸発した物質を基板の表面に付着
させることにより前記基板上に膜を形成する真空成膜装
置において、 前記ハースには上下方向に延びる貫通孔が形成されてお
り、 前記貫通孔の直下に上下動可能に設けられた前記蒸発材
料の支持部と、 該支持部を駆動する第1の押し上げ駆動機構と、 前記真空容器とは独立して真空状態にすることができる
室を有し、複数の蒸発材料を格納するための補充部と、 複数の蒸発材料を保持することができ、その1つを前記
支持部に供給するための供給部と、 前記補充部と前記供給部の所定の位置とを結んで蒸発材
料を移送するための密閉通路を有しその途中をゲートバ
ルブで開閉可能とした密閉通路体と、 該密閉通路体を通して前記補充部から前記供給部の所定
位置への蒸発材料の移送を行う移送機構とを備え、 前記支持部は、絶縁材料から成る棒状体であり、前記供
給部は、前記真空容器外から前記ハースの前記貫通孔直
下まで延びて複数の蒸発材料を収容可能であって途中に
はゲートバルブが設けられた筒状通路体と、この筒状通
路体内に収納された蒸発材料を移動させる押し出し棒
と、該押し出し棒を駆動する第3の駆動機構とを有して
前記押し出し棒にて前記蒸発材料を前記貫通孔直下の前
記棒状体に 供給する ことを特徴とする真空成膜の材料供
給装置。
3. A heating source, and a heater disposed in a vacuum vessel.
And contained in the hearth by the heating source.
Evaporate the evaporation material and attach the evaporated substance to the surface of the substrate
Vacuum film forming apparatus for forming a film on the substrate
The hearth has a through hole extending vertically.
The evaporating material is provided directly below the through hole so as to be vertically movable.
The support for the material, the first push-up driving mechanism for driving the support , and the vacuum container can be independently evacuated.
A replenishing unit for storing a plurality of evaporative materials and a plurality of evaporative materials, one of which can be
A supply section for supplying to the support section, and an evaporating material connecting the replenishment section and a predetermined position of the supply section.
There is a closed passage for transferring
Given a closed passage body which can be opened and closed in Lube, from the supplement section through the sealed passage of the supply unit
A transfer mechanism for transferring the evaporated material to a position, wherein the support portion is a rod-shaped body made of an insulating material,
The supply unit is provided directly outside the through hole of the hearth from outside the vacuum vessel.
Extends down to accommodate multiple evaporation materials
Is a tubular passage body provided with a gate valve, and the tubular passage body
Extrusion rod to move evaporative material stored in road body
And a third drive mechanism for driving the push rod.
The extruded material is used to push the evaporating material immediately below the through hole.
A material supply device for vacuum film formation, wherein the material is supplied to the rod-shaped body .
【請求項4】 請求項記載の材料供給装置において、
前記密閉通路体は、その一端側が前記真空容器の外側に
おいて前記筒状通路体に接続されて上方に延び、その上
端側は前記補充部の前記室の底壁側に接続されており、
前記移送機構は、前記密閉通路体内に上下動可能に配置
された支持棒の先端に前記蒸発材料を搭載して前記室か
ら前記筒状通路体への移送を行うものであることを特徴
とする真空成膜の材料供給装置。
4. The material supply device according to claim 3 , wherein
One end of the closed passage body is located outside the vacuum vessel.
Connected to the tubular passage body and extends upward,
The end side is connected to the bottom wall side of the chamber of the replenishing unit,
The transfer mechanism is vertically movably disposed in the closed passage body.
The above-mentioned evaporation material is mounted on the tip of the
Wherein the material is transferred to the cylindrical passage body from a vacuum.
【請求項5】 請求項3あるいは4記載の材料供給装置
において、前記補充部の前記室には、前記蒸発材料を挿
通可能な複数の穴を周方向に等間隔をおいて有するター
ンテーブルが回転可能に配置されており、該ターンテー
ブルは回転駆動機構により前記穴が前記室と前記密閉通
路体との接続部上を通過するように回転駆動されること
を特徴とする真空成膜の材料供給装置。
5. The material supply device according to claim 3 , wherein the evaporating material is inserted into the chamber of the replenishing unit.
Having a plurality of holes that can pass through at equal intervals in the circumferential direction
Table is rotatably arranged.
The hole is connected to the chamber by the rotary drive mechanism.
A material supply apparatus for vacuum film formation, which is driven to rotate so as to pass over a connection portion with a road body .
【請求項6】 請求項3〜5のいずれかに記載の材料供
給装置において、前記ハースには前記貫通孔内にある蒸
発材料を保持するためのクランプ機構が設けられている
ことを特徴とする真空成膜の材料供給装置。
6. The material supply device according to claim 3 , wherein the hearth has a steam supply hole in the through hole.
A material supply device for vacuum film formation, comprising a clamp mechanism for holding a generated material.
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