JP3188932B2 - 半導体装置およびその利用方法 - Google Patents
半導体装置およびその利用方法Info
- Publication number
- JP3188932B2 JP3188932B2 JP21476092A JP21476092A JP3188932B2 JP 3188932 B2 JP3188932 B2 JP 3188932B2 JP 21476092 A JP21476092 A JP 21476092A JP 21476092 A JP21476092 A JP 21476092A JP 3188932 B2 JP3188932 B2 JP 3188932B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor
- semiconductor device
- voltage
- negative resistance
- drive voltage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Bipolar Transistors (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高速で多機能な動作を
行う半導体装置およびその利用方法に関するものであ
る。
行う半導体装置およびその利用方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】図18は、従来のこの種の半導体装置と
して負性抵抗素子の構造を説明する図であり、図18
(a)は共鳴トンネルダイオードと呼ばれるGaAsと
AlGaAsとを用いた負性抵抗素子の断面図,図18
(b)はその伝導帯を示す図である。図18(a)にお
いて、1はn+ −GaAs基板、2はn−GaAsエミ
ッタ層、3はi−AlGaAsバリア層、4はi−Ga
As井戸層、5はi−AlGaAsバリア層、6はn−
GaAsコレクタ層である。
して負性抵抗素子の構造を説明する図であり、図18
(a)は共鳴トンネルダイオードと呼ばれるGaAsと
AlGaAsとを用いた負性抵抗素子の断面図,図18
(b)はその伝導帯を示す図である。図18(a)にお
いて、1はn+ −GaAs基板、2はn−GaAsエミ
ッタ層、3はi−AlGaAsバリア層、4はi−Ga
As井戸層、5はi−AlGaAsバリア層、6はn−
GaAsコレクタ層である。
【0003】このような構成において、2つのAlGa
As層3,5は、バリア層として働き、中間のGaAs
量子井戸層4に図18(b)に示すように量子準位を形
成する。この構造において、n−GaAsコレクタ層6
に印加する電圧を変えると、それに応じてi−GaAs
井戸層4中の量子準位が変化し、n−GaAsエミッタ
層2側のフェルミ準位と量子準位とが一致したとき、大
きな電流が流れる。したがって電流−電圧特性には図1
9に示すような微分負性抵抗が現れることとなる。この
微分負性抵抗を利用してマイクロ波からミリ波に達する
超高周波発振やトランジスタと組み合わせた機能論理素
子等が提案されている。
As層3,5は、バリア層として働き、中間のGaAs
量子井戸層4に図18(b)に示すように量子準位を形
成する。この構造において、n−GaAsコレクタ層6
に印加する電圧を変えると、それに応じてi−GaAs
井戸層4中の量子準位が変化し、n−GaAsエミッタ
層2側のフェルミ準位と量子準位とが一致したとき、大
きな電流が流れる。したがって電流−電圧特性には図1
9に示すような微分負性抵抗が現れることとなる。この
微分負性抵抗を利用してマイクロ波からミリ波に達する
超高周波発振やトランジスタと組み合わせた機能論理素
子等が提案されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに共鳴トンネルを用いた負性抵抗素子が多く研究され
ているが、その多くは、2端子素子であり、その論理素
子への応用には困難があった。また、トランジスタと組
み合わせた例でも入力は基本的に1つであり、多入力が
基本条件である。セルオートマトンやニューラルネット
への応用は難しかった。さらにこれらの素子は、ファン
アウトが増えると、素子の動作スピードが遅くなるた
め、多出力の点でも問題があった。
うに共鳴トンネルを用いた負性抵抗素子が多く研究され
ているが、その多くは、2端子素子であり、その論理素
子への応用には困難があった。また、トランジスタと組
み合わせた例でも入力は基本的に1つであり、多入力が
基本条件である。セルオートマトンやニューラルネット
への応用は難しかった。さらにこれらの素子は、ファン
アウトが増えると、素子の動作スピードが遅くなるた
め、多出力の点でも問題があった。
【0005】したがって本発明は、前述した従来の問題
を解決するためになされたものであり、その目的は、高
周波動作が可能でかつ多入力,多出力を可能とした半導
体装置およびその利用方法を提供することにある。
を解決するためになされたものであり、その目的は、高
周波動作が可能でかつ多入力,多出力を可能とした半導
体装置およびその利用方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために本発明による半導体装置は、N型微分負性抵抗
特性を有する負性抵抗素子を第1の電極と第2の電極と
の間に2個直列に接続し、前記2個直列接続された負性
抵抗素子の接続点を出力端子とし、前記負性抵抗素子の
少なくとも一つは負性抵抗特性を電圧が印加されること
により変化させる制御電極を有し、前記制御電極を入力
端子とし、前記第1の電極および第2の電極を周期性の
駆動電圧が供給される駆動電圧端子としたものである。
本発明による半導体装置の利用方法は、この半導体装置
を複数利用し、半導体装置の駆動電圧として0Vから負
性抵抗特性を示す電圧の2倍より大きい電圧まで周期的
に変化する電圧を用い、第1の半導体装置の出力を第2
の半導体装置の入力に接続し、第2の半導体装置の駆動
電圧端子には第1の半導体装置の駆動電圧端子に印加す
る駆動電圧より位相の遅れた駆動電圧を印加するように
したものである。
るために本発明による半導体装置は、N型微分負性抵抗
特性を有する負性抵抗素子を第1の電極と第2の電極と
の間に2個直列に接続し、前記2個直列接続された負性
抵抗素子の接続点を出力端子とし、前記負性抵抗素子の
少なくとも一つは負性抵抗特性を電圧が印加されること
により変化させる制御電極を有し、前記制御電極を入力
端子とし、前記第1の電極および第2の電極を周期性の
駆動電圧が供給される駆動電圧端子としたものである。
本発明による半導体装置の利用方法は、この半導体装置
を複数利用し、半導体装置の駆動電圧として0Vから負
性抵抗特性を示す電圧の2倍より大きい電圧まで周期的
に変化する電圧を用い、第1の半導体装置の出力を第2
の半導体装置の入力に接続し、第2の半導体装置の駆動
電圧端子には第1の半導体装置の駆動電圧端子に印加す
る駆動電圧より位相の遅れた駆動電圧を印加するように
したものである。
【0007】
【作用】本発明においては、少なくとも一方に制御電極
を有する微分負性抵抗素子を2個直列に接続しているの
で、入力信号による電流変化が極めて小さくてもスイッ
チングが可能となる。また、多数の入力端子が接続で
き、かつファンアウトを大きくしても、動作スピードが
制限されない。
を有する微分負性抵抗素子を2個直列に接続しているの
で、入力信号による電流変化が極めて小さくてもスイッ
チングが可能となる。また、多数の入力端子が接続で
き、かつファンアウトを大きくしても、動作スピードが
制限されない。
【0008】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例を詳細に
説明する。図1は、本発明による半導体装置の第1の実
施例による構成を示す断面図である。同図において、1
1は半絶縁性GaAs基板、12a,12bは2×10
18cm-3のSiをドープした厚さ6000Åのn+ −G
aAsバッファー層、13a,13bは例えば5×10
17cm-3のSiをドープしたn−GaAsの厚さ500
Åからなるエミッタ層、14a,14bは例えば厚さ5
0ÅのアンドープAlAsからなる第1のバリア層、1
5a,15bは例えば厚さ50ÅのアンドープGaAs
からなる井戸層、16a,16bは同様に例えば厚さ5
0ÅのアンドープAlAsからなる第2のバリア層、1
7a,17bは例えば5×1017cm-3のSiをドープ
したn−GaAsの厚さ500Åからなるコレクタ層、
18a,18bは2×1018cm-3のSiをドープした
厚さ3000Åのn+ −GaAsコレクタコンタクト層
である。結晶成長は、例えば分子線エピタキシー法で行
い、成長後、メサエッチングを行い、図のような共鳴ト
ンネルダイオードを形成する。19a,19bはコレク
タ電極、20a,20bはエミッタ電極で例えばAuG
e/Niの蒸着および合金化によって形成する。21
a,21bは例えばSiO2 よりなる絶縁体層、22
a,22bは例えばTi/Auよりなる制御電極であ
り、これらの制御電極22a,22bは、各エミッタ層
からコレクタ層までの各側面に接触してショットキー接
合を形成している。なお、制御電極は1つだけでなく、
複数個設けることができる。また、ダイオードとの接触
部の大きさは各々の電極で変えることも可能である。こ
のような負性抵抗素子2つを図に示すように直列に接続
し、出力端子を23とする。
説明する。図1は、本発明による半導体装置の第1の実
施例による構成を示す断面図である。同図において、1
1は半絶縁性GaAs基板、12a,12bは2×10
18cm-3のSiをドープした厚さ6000Åのn+ −G
aAsバッファー層、13a,13bは例えば5×10
17cm-3のSiをドープしたn−GaAsの厚さ500
Åからなるエミッタ層、14a,14bは例えば厚さ5
0ÅのアンドープAlAsからなる第1のバリア層、1
5a,15bは例えば厚さ50ÅのアンドープGaAs
からなる井戸層、16a,16bは同様に例えば厚さ5
0ÅのアンドープAlAsからなる第2のバリア層、1
7a,17bは例えば5×1017cm-3のSiをドープ
したn−GaAsの厚さ500Åからなるコレクタ層、
18a,18bは2×1018cm-3のSiをドープした
厚さ3000Åのn+ −GaAsコレクタコンタクト層
である。結晶成長は、例えば分子線エピタキシー法で行
い、成長後、メサエッチングを行い、図のような共鳴ト
ンネルダイオードを形成する。19a,19bはコレク
タ電極、20a,20bはエミッタ電極で例えばAuG
e/Niの蒸着および合金化によって形成する。21
a,21bは例えばSiO2 よりなる絶縁体層、22
a,22bは例えばTi/Auよりなる制御電極であ
り、これらの制御電極22a,22bは、各エミッタ層
からコレクタ層までの各側面に接触してショットキー接
合を形成している。なお、制御電極は1つだけでなく、
複数個設けることができる。また、ダイオードとの接触
部の大きさは各々の電極で変えることも可能である。こ
のような負性抵抗素子2つを図に示すように直列に接続
し、出力端子を23とする。
【0009】次にこのように構成される半導体素子の動
作について図2,図3を用いて説明する。まず、1つの
負性抵抗素子単体の電流−電圧特性を図2に示す。2つ
の負性抵抗素子を直列に接続した場合の系の安定点は、
電源電圧Vexに応じて図3のように変化する。まず、電
源電圧Vexがピーク電圧VP の2倍より小さいときは、
点Sが安定点であり、出力電圧はVex/2である。電源
電圧Vexを大きくして2VP を超えると、図3(b)に
示すように系の安定点は点S1と点S2との2点になり、
出力電圧は安定点に応じて電圧VBか電圧VCとなる。こ
こで点S1と点S2とのどちらの安定点に落ち着くかは、
2つの負性抵抗素子の特性の微妙な違いによる。
作について図2,図3を用いて説明する。まず、1つの
負性抵抗素子単体の電流−電圧特性を図2に示す。2つ
の負性抵抗素子を直列に接続した場合の系の安定点は、
電源電圧Vexに応じて図3のように変化する。まず、電
源電圧Vexがピーク電圧VP の2倍より小さいときは、
点Sが安定点であり、出力電圧はVex/2である。電源
電圧Vexを大きくして2VP を超えると、図3(b)に
示すように系の安定点は点S1と点S2との2点になり、
出力電圧は安定点に応じて電圧VBか電圧VCとなる。こ
こで点S1と点S2とのどちらの安定点に落ち着くかは、
2つの負性抵抗素子の特性の微妙な違いによる。
【0010】さて、この微妙な特性の変化を入力端子へ
印加する電圧によって生じさせることがででる。つまり
制御電極22a,22bに正の電圧を印加すると、ME
SFETと同様に空乏層が縮み、素子面積が実効的に大
きくなり、電流も増加することになる。この結果、電流
量が相対的に小さい素子に大きな電圧がかかる方がエネ
ルギー的に安定になる。したがって出力電圧を決めるこ
とができる。負の電圧の時はこの反対である。ここで注
意すべきことは、電流の変化は極めて小さくて良いとい
うことである。2つの負性抵抗素子が完全に等価である
とすれば、0.001%程度の小さな電流変化でも室温
の熱エネルギーに打ち勝って安定にスイッチングするこ
とが可能である。したがって実際には負性抵抗素子のば
らつきがスイッチングに要する最小の電流の変化を決め
ることになる。いずれにせよ電流の変化は極めて小さい
ので、制御電極22a,22bによる相互コンダクタン
スは小さくて良く、入力容量も極めて小さくできる。し
たがってファンアウトが増えても出力側の容量はほとん
ど増えず、動作スピードの劣化は起こらない。
印加する電圧によって生じさせることがででる。つまり
制御電極22a,22bに正の電圧を印加すると、ME
SFETと同様に空乏層が縮み、素子面積が実効的に大
きくなり、電流も増加することになる。この結果、電流
量が相対的に小さい素子に大きな電圧がかかる方がエネ
ルギー的に安定になる。したがって出力電圧を決めるこ
とができる。負の電圧の時はこの反対である。ここで注
意すべきことは、電流の変化は極めて小さくて良いとい
うことである。2つの負性抵抗素子が完全に等価である
とすれば、0.001%程度の小さな電流変化でも室温
の熱エネルギーに打ち勝って安定にスイッチングするこ
とが可能である。したがって実際には負性抵抗素子のば
らつきがスイッチングに要する最小の電流の変化を決め
ることになる。いずれにせよ電流の変化は極めて小さい
ので、制御電極22a,22bによる相互コンダクタン
スは小さくて良く、入力容量も極めて小さくできる。し
たがってファンアウトが増えても出力側の容量はほとん
ど増えず、動作スピードの劣化は起こらない。
【0011】入力用の制御電極22a,22bは、多数
設置できる。この場合、全ての入力端子によるトータル
の電流変化が結果を決めることになり、一種の正負を含
んだ多数決回路になる。入力電極の大きさに差を付けれ
ば、重みも可能である。
設置できる。この場合、全ての入力端子によるトータル
の電流変化が結果を決めることになり、一種の正負を含
んだ多数決回路になる。入力電極の大きさに差を付けれ
ば、重みも可能である。
【0012】さて、この負性抵抗素子を用いて論理回路
を組むためには、電源電圧Vexとして0Vから2VP よ
り大きい電圧の間で周期的に変化する駆動電圧を用い
る。ここである負性抵抗素子の出力を次の負性抵抗素子
の入力として使用するためには、前の負性抵抗素子の出
力が決まっている必要があるため、駆動電圧の位相を遅
らせる必要がある。例えば図4(a)に示すような回路
では、それぞれの段に属す負性抵抗素子に図4(b)に
示すような3相の駆動電圧を与えてやれば良い。
を組むためには、電源電圧Vexとして0Vから2VP よ
り大きい電圧の間で周期的に変化する駆動電圧を用い
る。ここである負性抵抗素子の出力を次の負性抵抗素子
の入力として使用するためには、前の負性抵抗素子の出
力が決まっている必要があるため、駆動電圧の位相を遅
らせる必要がある。例えば図4(a)に示すような回路
では、それぞれの段に属す負性抵抗素子に図4(b)に
示すような3相の駆動電圧を与えてやれば良い。
【0013】図5は、本発明の第2の実施例を示す断面
図である。この実施例は、第1の実施例とは2つの負性
抵抗素子の接続構造が異なっている。
図である。この実施例は、第1の実施例とは2つの負性
抵抗素子の接続構造が異なっている。
【0014】図6は、本発明の第3の実施例を示す断面
図である。この負性抵抗素子は第1の実施例で示した2
つの負性抵抗素子を縦方向に積み上げた構造であり、結
晶成長により、容易に形成できる。
図である。この負性抵抗素子は第1の実施例で示した2
つの負性抵抗素子を縦方向に積み上げた構造であり、結
晶成長により、容易に形成できる。
【0015】図7は、本発明の第4の実施例を示す断面
図である。この素子は第1の実施例で示した負性抵抗素
子に対する制御電極22aを絶縁体膜あるいは例えばA
lGaAs等のゲートバリア層25を介して接続したも
のである。
図である。この素子は第1の実施例で示した負性抵抗素
子に対する制御電極22aを絶縁体膜あるいは例えばA
lGaAs等のゲートバリア層25を介して接続したも
のである。
【0016】なお、前述した実施例では、AlGaAs
/GaAs系を用いた場合について説明したが、本発明
はこれに限定されるものではなく、InGaAsやIn
P等の材料に変えても良い。特に井戸層の材料を変える
ことによって負性抵抗の生じる電圧を低くすれば、低消
費電力化に有効である。
/GaAs系を用いた場合について説明したが、本発明
はこれに限定されるものではなく、InGaAsやIn
P等の材料に変えても良い。特に井戸層の材料を変える
ことによって負性抵抗の生じる電圧を低くすれば、低消
費電力化に有効である。
【0017】また、前述した実施例では、電子をキャリ
アとして用いるだけでなく、ドーピングをp型にしてホ
ールをキャリアとして用いても良い。
アとして用いるだけでなく、ドーピングをp型にしてホ
ールをキャリアとして用いても良い。
【0018】さらに前述した実施例では、共鳴トンネル
ダイオードを用いた場合について説明したが、本発明は
これに限定されるものではなく、pn接合トンネルダイ
オードやInAs/AlGaSb/InAsを用いたシ
ングルバリア形の負性抵抗素子でも実現できる。
ダイオードを用いた場合について説明したが、本発明は
これに限定されるものではなく、pn接合トンネルダイ
オードやInAs/AlGaSb/InAsを用いたシ
ングルバリア形の負性抵抗素子でも実現できる。
【0019】図8は、本発明による半導体装置を用いて
形成した半導体論理回路の構成を示し、特に論理ゲート
(インバータ)の例を示したものである。同図において
は、図1で説明した2個のN型の負性抵抗素子を、一方
を負荷素子80とし、他方をドライバ素子90として直
列に接続し、それを駆動するために振動電圧を印加する
点である。ここで入力端子Iは図1の制御端子22aに
対応し、出力端子Oは図1の出力端子23に対応してい
る。また、ドライバ素子90は図1における参照番号の
添え字「a]が付されている部分に対応し、負荷素子8
0は参照番号[b]が付されている部分に対応してい
る。
形成した半導体論理回路の構成を示し、特に論理ゲート
(インバータ)の例を示したものである。同図において
は、図1で説明した2個のN型の負性抵抗素子を、一方
を負荷素子80とし、他方をドライバ素子90として直
列に接続し、それを駆動するために振動電圧を印加する
点である。ここで入力端子Iは図1の制御端子22aに
対応し、出力端子Oは図1の出力端子23に対応してい
る。また、ドライバ素子90は図1における参照番号の
添え字「a]が付されている部分に対応し、負荷素子8
0は参照番号[b]が付されている部分に対応してい
る。
【0020】図9〜図11は、この半導体論理回路にお
ける負荷曲線およびそれに対応する回路のポテンシャル
エネルギーを示す。ここで実線は、負荷素子80および
ドライバ素子90が等価な場合を、点線は、ドライバ素
子90に正の入力電圧を加えたときをそれぞれ示してい
る。駆動電圧Vbiasがピーク電圧VP の2倍より小さい
ときには安定点Sが一つであり、回路は単安定である。
この状態は、図9に示される。
ける負荷曲線およびそれに対応する回路のポテンシャル
エネルギーを示す。ここで実線は、負荷素子80および
ドライバ素子90が等価な場合を、点線は、ドライバ素
子90に正の入力電圧を加えたときをそれぞれ示してい
る。駆動電圧Vbiasがピーク電圧VP の2倍より小さい
ときには安定点Sが一つであり、回路は単安定である。
この状態は、図9に示される。
【0021】駆動電圧Vbiasがピーク電圧VP の2倍と
等しいときは、図10に示されるように電流のピーク付
近に動作点が移動し、この状態は実用上使用するのが困
難である。また、駆動電圧Vbiasがピーク電圧VP の2
倍を超えて大きくなると、図11に示されるように回路
の安定点は、2つの安定点S1,S2に分裂し、回路のポ
テンシャルエネルギーは、2つの谷を持つようになる。
このとき、2つの共鳴トンネルトランジスタのピーク電
流に差をつけることによってどちらかの安定点に回路が
落ち着くかを選ぶことができる。
等しいときは、図10に示されるように電流のピーク付
近に動作点が移動し、この状態は実用上使用するのが困
難である。また、駆動電圧Vbiasがピーク電圧VP の2
倍を超えて大きくなると、図11に示されるように回路
の安定点は、2つの安定点S1,S2に分裂し、回路のポ
テンシャルエネルギーは、2つの谷を持つようになる。
このとき、2つの共鳴トンネルトランジスタのピーク電
流に差をつけることによってどちらかの安定点に回路が
落ち着くかを選ぶことができる。
【0022】例えば点線で示したようにドライバ素子9
0に正の入力電圧を与えれば、ピーク電流は増大し、回
路は安定点S1 に落ち着くことになる。この場合、回路
の安定点を選ぶために必要なピーク電流変化は、極めて
小さくて良い。そのため、相互コンダクタンスも極めて
小さくて良く、これと比例関係にある入力容量も小さく
できる。
0に正の入力電圧を与えれば、ピーク電流は増大し、回
路は安定点S1 に落ち着くことになる。この場合、回路
の安定点を選ぶために必要なピーク電流変化は、極めて
小さくて良い。そのため、相互コンダクタンスも極めて
小さくて良く、これと比例関係にある入力容量も小さく
できる。
【0023】従来の論理ゲートと異なり、本発明に係わ
る論理ゲートでは、次段を駆動する電流は、駆動電圧に
よって供給されるため、駆動能力はこの相互コンダクタ
ンスとは無関係である。したがってファンアウトを多く
とっても動作速度が落ちない。つまり、この論理ゲート
のスイッチング時間は、入力容量が十分小さくできるた
め、ファンアウトに係わりなく、共鳴トンネルダイオー
ド自身の応答速度によって決まることになる。共鳴トン
ネルダイオードは、非常に高速の動作が予測実証されつ
つあり、これは従来技術による論理ゲートに対する本発
明の大きな特徴である。
る論理ゲートでは、次段を駆動する電流は、駆動電圧に
よって供給されるため、駆動能力はこの相互コンダクタ
ンスとは無関係である。したがってファンアウトを多く
とっても動作速度が落ちない。つまり、この論理ゲート
のスイッチング時間は、入力容量が十分小さくできるた
め、ファンアウトに係わりなく、共鳴トンネルダイオー
ド自身の応答速度によって決まることになる。共鳴トン
ネルダイオードは、非常に高速の動作が予測実証されつ
つあり、これは従来技術による論理ゲートに対する本発
明の大きな特徴である。
【0024】この回路を論理ゲートとして動作させるた
めには、駆動電圧として2VP の上下で振動する周期電
圧を用いる。また、第1の論理ゲートの出力を第2の論
理ゲートの入力として利用するためには、第2の論理ゲ
ートの駆動電圧は、第1の論理ゲートの駆動電圧より位
相か遅れている必要がある。例えば図12(a)に示す
ようにインバータを駆動電圧発生回路100に多段に接
続した回路では、それぞれの段に図12(b)に示すよ
うな3相の駆動電圧を与えてやれば良い。さらに論理ゲ
ートを接続するには、次段にまた駆動電圧Aを加え、以
下繰り返せば良い。
めには、駆動電圧として2VP の上下で振動する周期電
圧を用いる。また、第1の論理ゲートの出力を第2の論
理ゲートの入力として利用するためには、第2の論理ゲ
ートの駆動電圧は、第1の論理ゲートの駆動電圧より位
相か遅れている必要がある。例えば図12(a)に示す
ようにインバータを駆動電圧発生回路100に多段に接
続した回路では、それぞれの段に図12(b)に示すよ
うな3相の駆動電圧を与えてやれば良い。さらに論理ゲ
ートを接続するには、次段にまた駆動電圧Aを加え、以
下繰り返せば良い。
【0025】また、入力用の電極は、多数配置すること
ができる。例えば図13は、第1のゲートI1と第2の
ゲートI2とを持つ2入力のドライバ素子91を、図1
4はそれぞれ重み付けの異なる4つの入力ゲートI1,
I2,I3,I4を設けた場合である。このときの重み付
けの割合は、例えばゲート電極あるいは制御電極22a
の電極面積の大きさを変えることによって行われる。こ
の場合、すべての入力によるトータルのピーク電流変化
が出力を決めることになり、正負を含んだ重み付き閾値
回路になる。
ができる。例えば図13は、第1のゲートI1と第2の
ゲートI2とを持つ2入力のドライバ素子91を、図1
4はそれぞれ重み付けの異なる4つの入力ゲートI1,
I2,I3,I4を設けた場合である。このときの重み付
けの割合は、例えばゲート電極あるいは制御電極22a
の電極面積の大きさを変えることによって行われる。こ
の場合、すべての入力によるトータルのピーク電流変化
が出力を決めることになり、正負を含んだ重み付き閾値
回路になる。
【0026】また、本発明に係わる半導体論理回路は、
接地側の素子をドライバ素子90として用いたが、図1
5に示されるようにドライバ素子90と負荷素子80と
を入れ換えた構成でも良く、また、図16に示されるよ
うに両方の素子80,90に入力を与えることも可能で
ある。ここで2つの素子80,90のピーク電圧VPが
異なるとき(例えばVP1,VP2)は、この2VP をVP1
+VP2と置き換えれば良い。
接地側の素子をドライバ素子90として用いたが、図1
5に示されるようにドライバ素子90と負荷素子80と
を入れ換えた構成でも良く、また、図16に示されるよ
うに両方の素子80,90に入力を与えることも可能で
ある。ここで2つの素子80,90のピーク電圧VPが
異なるとき(例えばVP1,VP2)は、この2VP をVP1
+VP2と置き換えれば良い。
【0027】このような半導体論理回路によれば、ファ
ンアウトに関係なく、高速動作が可能な半導体論理回路
装置を提供することができる。
ンアウトに関係なく、高速動作が可能な半導体論理回路
装置を提供することができる。
【0028】図17は、図14で説明したそれぞれ重み
付けの異なる4つの入力ゲートI1,I2,I3,I4を設
けた場合の重み付けを行った4個の制御電極22a1,
22a2,22a3,22a4 の構造を示しており、各制
御電極から引き出されたリード線Lには、それぞれ電極
の重み付けの割合が示してあり、この割合は、電極面積
の大きさ(共鳴トンネルダイオードとの接合部の長さ)
に対応させて決められている。この構造は、図1を発展
させた形で表現されており、図1に示されるドライバ素
子90の対向する両側に各電極が設けられる構造となっ
ている。また、図13に示されるそれぞれ重み付けされ
た2つの入力ゲートI1,I2についても同様に図1に示
されるドライバ素子90の対向する両側に各制御電極が
設けられる電極構造となっている。
付けの異なる4つの入力ゲートI1,I2,I3,I4を設
けた場合の重み付けを行った4個の制御電極22a1,
22a2,22a3,22a4 の構造を示しており、各制
御電極から引き出されたリード線Lには、それぞれ電極
の重み付けの割合が示してあり、この割合は、電極面積
の大きさ(共鳴トンネルダイオードとの接合部の長さ)
に対応させて決められている。この構造は、図1を発展
させた形で表現されており、図1に示されるドライバ素
子90の対向する両側に各電極が設けられる構造となっ
ている。また、図13に示されるそれぞれ重み付けされ
た2つの入力ゲートI1,I2についても同様に図1に示
されるドライバ素子90の対向する両側に各制御電極が
設けられる電極構造となっている。
【0029】なお、前述した実施例では、2個の負性抵
抗素子の直列体を駆動する駆動電圧は、図4あるいは図
12に示したような矩形パルスに限定されず、正弦波あ
るいは三角波であっても良く、要は振動する波形あるい
は周期性のある波形であれば良い。
抗素子の直列体を駆動する駆動電圧は、図4あるいは図
12に示したような矩形パルスに限定されず、正弦波あ
るいは三角波であっても良く、要は振動する波形あるい
は周期性のある波形であれば良い。
【0030】
【発明の効果】以上、説明したように本発明の第1の発
明によれば、入力信号が極めて小さくてもスイッチング
が可能であり、出力振幅が変わらない。また、第2の発
明によれば、極めて高速な動作が可能となる。さらに第
3の発明によれば、次段を駆動するために必要な信号が
極めて小さくても良いので、多くの素子を次段に接続す
ることが可能でかつ動作スピードがほとんど遅くならな
い。また、第4,第5の発明によれば、多数の入力端子
が接続可能で多くの機能が実現できる等の極めて優れた
効果が得られる。
明によれば、入力信号が極めて小さくてもスイッチング
が可能であり、出力振幅が変わらない。また、第2の発
明によれば、極めて高速な動作が可能となる。さらに第
3の発明によれば、次段を駆動するために必要な信号が
極めて小さくても良いので、多くの素子を次段に接続す
ることが可能でかつ動作スピードがほとんど遅くならな
い。また、第4,第5の発明によれば、多数の入力端子
が接続可能で多くの機能が実現できる等の極めて優れた
効果が得られる。
【図1】本発明による半導体装置の第1の実施例を示す
断面図である。
断面図である。
【図2】本発明による半導体装置を構成する1つの負性
抵抗素子の電流−電圧特性を示す図である。
抵抗素子の電流−電圧特性を示す図である。
【図3】本発明による半導体装置のスイッチング特性を
示す図である。
示す図である。
【図4】本発明による半導体装置よりなる論理回路を駆
動するためのクロック信号を示す図である。
動するためのクロック信号を示す図である。
【図5】本発明による半導体装置の第2の実施例を示す
断面図である。
断面図である。
【図6】本発明による半導体装置の第3の実施例を示す
断面図である。
断面図である。
【図7】本発明による半導体装置の第3の実施例を示す
断面図である。
断面図である。
【図8】本発明による半導体装置を用いた半導体論理回
路の基本構成を示す図である。
路の基本構成を示す図である。
【図9】図8の動作を説明するための負荷特性およびポ
テンシャルエネルギー特性を示す図である。
テンシャルエネルギー特性を示す図である。
【図10】図8の動作を説明するための負荷特性および
ポテンシャルエネルギー特性を示す図である。
ポテンシャルエネルギー特性を示す図である。
【図11】図8の動作を説明するための負荷特性および
ポテンシャルエネルギー特性を示す図である。
ポテンシャルエネルギー特性を示す図である。
【図12】図8に示す基本構成を多段に接続した構成お
よび各段を駆動する信号波形を示す図である。
よび各段を駆動する信号波形を示す図である。
【図13】本発明による半導体装置を用いた半導体論理
回路の変形例を示す図である。
回路の変形例を示す図である。
【図14】本発明による半導体装置を用いた半導体論理
回路の変形例を示す図である。
回路の変形例を示す図である。
【図15】本発明による半導体装置を用いた半導体論理
回路の変形例を示す図である。
回路の変形例を示す図である。
【図16】本発明による半導体装置を用いた半導体論理
回路の変形例を示す図である。
回路の変形例を示す図である。
【図17】本発明による半導体装置の制御電極に重み付
けを行った電極構造を示す斜視図である。
けを行った電極構造を示す斜視図である。
【図18】従来の半導体装置の構成を示す断面図であ
る。
る。
【図19】従来の半導体装置の電流−電圧特性を示す図
である。
である。
11 半絶縁性GaAs基板 12a,12b n+−GaAsバッファー層 13a,13b n−GaAsエミッタ層 14a,14b i−AlAsバリア層 15a,15b i−GaAs井戸層 16a,16b i−AlAsバリア層 17a,17b n−GaAsコレクタ層 18a,18b n+−GaAsコレクタコンタク
ト層 19a,19b コレクタ電極 20a,20b エミッタ電極 21a,21b SiO2絶縁体層 22a,22b Ti/Au制御電極 23 出力端子 24 n+−GaAsエミッタコンタク
ト層 25 AlGaAsゲートバリア層 80,81 負荷素子 90,91,92 ドライバ素子 100 駆動電圧発生回路
ト層 19a,19b コレクタ電極 20a,20b エミッタ電極 21a,21b SiO2絶縁体層 22a,22b Ti/Au制御電極 23 出力端子 24 n+−GaAsエミッタコンタク
ト層 25 AlGaAsゲートバリア層 80,81 負荷素子 90,91,92 ドライバ素子 100 駆動電圧発生回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 29/68 H01L 29/205 H01L 29/88
Claims (5)
- 【請求項1】 N型微分負性抵抗特性を有する負性抵抗
素子を第1の電極と第2の電極との間に2個直列に接続
し、前記2個直列接続された負性抵抗素子の接続点を出
力端子とし、前記負性抵抗素子の少なくとも一つは負性
抵抗特性を電圧が印加されることにより変化させる制御
電極を有し、前記制御電極を入力端子とし、前記第1の
電極および第2の電極を周期性の駆動電圧が供給される
駆動電圧端子としたことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項2】 請求項1において、前記負性抵抗素子が
複数の半導体ヘテロ接合およびpn接合の少なくとも一
方より構成されたことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項3】 請求項1において、前記負性抵抗素子が
第1の半導体よりなるエミッタ層と、前記第1の半導体
中のキャリアに対してバリアとなる第2の半導体よりな
る第1のバリア層と、前記半導体中のキャリアに対して
エネルギー的に低いバンド端を有する第3の半導体より
なる井戸層と、前記第1の半導体,第3の半導体中のキ
ャリアに対してバリアとなる第4の半導体よりなる第2
のバリア層と、前記第2の半導体,第4の半導体中のキ
ャリアに対してエネルギー的に低いバンド端を有する第
5の半導体よりなるコレクタ層とを有する共鳴トンネル
素子とからなり、その側面に少なくとも1つの金属から
なる制御電極を備えたことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項4】 請求項1記載の半導体装置を複数有し、
前記半導体装置の駆動電圧として0Vから負性抵抗特性
を示す電圧の2倍より大きい電圧まで周期的に変化する
位相の異なる複数の電圧を発生する駆動電圧発生手段を
有し、前記第1の半導体装置の出力を前記第2の半導体
装置の入力に接続し、前記第2の半導体装置の駆動電圧
端子には前記第1の半導体装置の駆動電圧端子に印加す
る駆動電圧より位相の遅れた駆動電圧を印加するように
接続したことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項5】 請求項1記載の半導体装置を複数利用
し、前記半導体装置の駆動電圧として0Vから負性抵抗
特性を示す電圧の2倍より大きい電圧まで周期的に変化
する電圧を用い、前記第1の半導体装置の出力を前記第
2の半導体装置の入力に接続し、前記第2の半導体装置
の駆動電圧端子には前記第1の半導体装置の駆動電圧端
子に印加する駆動電圧より位相の遅れた駆動電圧を印加
することを特徴とする半導体装置の利用方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21476092A JP3188932B2 (ja) | 1991-07-22 | 1992-07-21 | 半導体装置およびその利用方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20460791 | 1991-07-22 | ||
JP3-204607 | 1991-07-22 | ||
JP21476092A JP3188932B2 (ja) | 1991-07-22 | 1992-07-21 | 半導体装置およびその利用方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05190833A JPH05190833A (ja) | 1993-07-30 |
JP3188932B2 true JP3188932B2 (ja) | 2001-07-16 |
Family
ID=26514556
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21476092A Expired - Fee Related JP3188932B2 (ja) | 1991-07-22 | 1992-07-21 | 半導体装置およびその利用方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3188932B2 (ja) |
-
1992
- 1992-07-21 JP JP21476092A patent/JP3188932B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05190833A (ja) | 1993-07-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH07120807B2 (ja) | 定電流半導体装置 | |
US5313117A (en) | Semiconductor logic circuit using two n-type negative resistance devices | |
JPH05110086A (ja) | トンネルトランジスタ | |
US4907045A (en) | Resonant-tunneling functional device using multiple negative differential resistances | |
US4590502A (en) | Camel gate field effect transistor device | |
JPH084138B2 (ja) | 半導体装置 | |
Chen et al. | Monostable-bistable transition logic elements (MOBILEs) based on monolithic integration of resonant tunneling diodes and FETs | |
JP3188932B2 (ja) | 半導体装置およびその利用方法 | |
US5280182A (en) | Resonant tunneling transistor with barrier layers | |
Chen et al. | Device technology for monolithic integration of InP-based resonant tunneling diodes and HEMTs | |
JPH05291591A (ja) | 負性抵抗素子及びその製造方法並びに半導体装置 | |
JP3249997B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2671790B2 (ja) | 微分負性抵抗トランジスタ | |
JP3281936B2 (ja) | 論理回路 | |
US4639752A (en) | Fast ternary (GaInAs) logic gate device | |
US5712491A (en) | Lateral theta device | |
JPH1168087A (ja) | 共鳴トンネルトランジスタおよびその製造方法 | |
JPS6292368A (ja) | 半導体装置 | |
JPH0831471B2 (ja) | 共鳴トンネリングトランジスタ | |
US3824490A (en) | Negative resistance devices | |
KR100275499B1 (ko) | 에미터 서브-메사 어레이 구조를 갖는 양자 공진터널링 소자 | |
JP3249998B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP3280558B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2518160B2 (ja) | 共鳴トンネル・ダイオ―ド | |
JPH07302895A (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |