JP3176258B2 - Multilayer wiring board - Google Patents

Multilayer wiring board

Info

Publication number
JP3176258B2
JP3176258B2 JP17180595A JP17180595A JP3176258B2 JP 3176258 B2 JP3176258 B2 JP 3176258B2 JP 17180595 A JP17180595 A JP 17180595A JP 17180595 A JP17180595 A JP 17180595A JP 3176258 B2 JP3176258 B2 JP 3176258B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductor
wiring
hole conductor
hole
sectional area
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP17180595A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0923068A (en
Inventor
憲一 合原
隆志 奥ノ薗
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=15930056&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP3176258(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP17180595A priority Critical patent/JP3176258B2/en
Publication of JPH0923068A publication Critical patent/JPH0923068A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3176258B2 publication Critical patent/JP3176258B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体素子やコンデン
サ、抵抗器等の電子部品が搭載される多層配線基板に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer wiring board on which electronic components such as semiconductor elements, capacitors and resistors are mounted.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、多層配線基板、特に配線導体の導
通抵抗を低抵抗とした多層配線基板は一般に酸化アルミ
ニウム質焼結体等の電気絶縁性のセラミック質焼結体か
ら成る絶縁基体の内部及び表面にタングステン、モリブ
デン、マンガン等の高融点金属粉末から成る複数個の配
線導体を多層に配設するとともに各配線導体を絶縁基体
内に設けたタングステン、モリブデン、マンガン等の高
融点金属粉末から成るスルーホール導体で接続した構造
を有しており、絶縁基体の上面に半導体素子やコンデン
サ、抵抗器等の電子部品を搭載させるとともに該電子部
品の電極を半田を介して配線導体に接続させることによ
って絶縁基体上面に搭載された各電子部品はその各々が
配線導体を介して電気的に接続されるようになってい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, a multilayer wiring board, particularly a multilayer wiring board having a low conduction resistance of a wiring conductor, generally has an insulating substrate made of an electrically insulating ceramic sintered body such as an aluminum oxide sintered body. In addition, a plurality of wiring conductors made of a high melting point metal powder such as tungsten, molybdenum, manganese, etc. are arranged in a multilayer, and each wiring conductor is provided from a high melting point metal powder such as tungsten, molybdenum, manganese, etc. provided in an insulating base. A semiconductor device, a capacitor, a resistor, and other electronic components mounted on the upper surface of the insulating base and connecting the electrodes of the electronic components to the wiring conductors via solder. Thus, each electronic component mounted on the upper surface of the insulating base is electrically connected to each other via a wiring conductor.

【0003】尚、かかる従来の多層配線基板は通常、セ
ラミックスの積層技術及びスクリーン印刷等の厚膜技術
を採用することによって製作されており、具体的には以
下の方法によって製作されている。
Incidentally, such a conventional multilayer wiring board is usually manufactured by employing a ceramic lamination technique and a thick film technique such as screen printing, and specifically, manufactured by the following method.

【0004】即ち、 (1) まず、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシ
ウム等の原料粉末に適当な有機バインダー、可塑剤、溶
剤を添加混合して泥漿状となすとともにこれを従来周知
のドクターブレード法やカレンダーロール法等のテープ
成形技術を採用して複数枚のセラミックグリーンシート
( セラミック生シート) を得、しかる後、各セラミック
グリーンシートの所定位置に穴あけ加工法によりスルー
ホールを形成する。
[0004] (1) First, an appropriate organic binder, a plasticizer, and a solvent are added to a raw material powder such as aluminum oxide, silicon oxide, and magnesium oxide to form a slurry, which is mixed with a conventionally known doctor blade method. Multiple ceramic green sheets by using tape forming technology such as or calender roll method
(Ceramic raw sheet) is obtained, and thereafter, through holes are formed at predetermined positions of each ceramic green sheet by a boring method.

【0005】(2) 次にタングステン、モリブデン等の高
融点金属粉末に適当なガラスフリット、有機バインダ
ー、可塑剤、溶剤を添加混合して金属ペーストを得ると
ともに該金属ペーストをスクリーン印刷法を採用するこ
とによって前記セラミックグリーンシートの表面に所定
パターンに印刷塗布するとともに各セラミックグリーン
シートのスルーホール内に充填する。
(2) Next, a suitable glass frit, an organic binder, a plasticizer and a solvent are added to and mixed with a high melting point metal powder such as tungsten or molybdenum to obtain a metal paste, and the metal paste is screen-printed. In this way, a predetermined pattern is printed and applied on the surface of the ceramic green sheet, and the ceramic green sheet is filled in through holes.

【0006】(3) そして最後に表面及びスルーホールに
金属ペーストが塗布充填されたセラミックグリーンシー
トを上下に積層し、しかる後、これを還元雰囲気中もし
くは中性雰囲気中、約1600℃の温度で焼成すること
によって製品としての多層配線基板が完成する。
(3) Finally, ceramic green sheets coated and filled with a metal paste on the surface and through-holes are laminated one above the other, and thereafter, they are placed in a reducing atmosphere or a neutral atmosphere at a temperature of about 1600 ° C. By firing, a multilayer wiring board as a product is completed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の多層配線基板は配線導体及びスルーホール導体を形
成するタングステン、モリブデンの電気抵抗値が4×1
-6Ω・cm〜8×10-6Ω・cmと高いこと、配線導
体の幅方向の断面積は一般に250×10-3mm2 〜7
50×10-3mm2 であるのに対し、スルーホール導体
の断面積が2×10-3mm2 〜70×10-3mm2 と狭
いこと等から配線導体及びスルーホール導体を介して各
電子部品に電気信号を流した場合、スルーホール導体に
電気が流れる際に大きなジュール発熱が発生し、これが
絶縁基体を局部的に加熱して絶縁基体にクラックや割れ
を発生させてしまい、その結果、絶縁基体に取着されて
いる配線導体に断線等が招来し、絶縁基体上面に搭載さ
れている各電子部品の電気的接続の信頼性が低いものと
なる欠点を有してた。
However, in this conventional multilayer wiring board, the electrical resistance of tungsten and molybdenum forming the wiring conductor and the through-hole conductor is 4 × 1.
0 -6 Ω · cm~8 × 10 -6 Ω · cm and high that, the cross-sectional area in the width direction of the wiring conductors generally 250 × 10 -3 mm 2 ~7
Since the cross-sectional area of the through-hole conductor is as small as 2 × 10 −3 mm 2 to 70 × 10 −3 mm 2 , whereas the cross-sectional area of the through-hole conductor is 50 × 10 −3 mm 2 , When an electric signal is applied to an electronic component, large Joule heat is generated when electricity flows through the through-hole conductor, which locally heats the insulating base and causes cracks and cracks in the insulating base. As a result, In addition, the wiring conductors attached to the insulating base may be broken or the like, resulting in low reliability of electrical connection of each electronic component mounted on the upper surface of the insulating base.

【0008】[0008]

【発明の目的】本発明は上記欠点に鑑み案出されたもの
で、その目的は配線導体やスルーホール導体に断線が招
来するのを有効に防止し、絶縁基体に搭載される各電子
部品の電気的接続を確実となすことができる多層配線基
板を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been devised in view of the above-mentioned drawbacks, and has as its object to effectively prevent breakage of wiring conductors and through-hole conductors and to reduce the number of electronic components mounted on an insulating substrate. An object of the present invention is to provide a multilayer wiring board that can make electrical connection reliably.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の多層配線基板
は、セラミック質焼結体から成る絶縁基体内に、金属ペ
ーストを焼成して形成された複数個の配線導体を多層に
配設するとともに該各配線導体を金属ペーストを焼成し
て形成されたスルーホール導体を介して接続して成る多
層配線基板であって、前記配線導体の長さをL1、断面
積をS1、比抵抗をσ1、スルーホール導体の長さを
2、断面積をS2、スルーホール比抵抗をσ2としたと
き、前記スルーホール導体を形成する金属ペースト中の
金属粉末の比率を前記配線導体を形成する金属ペースト
中の金属粉末の比率より高くするか、または前記スルー
ホール導体の断面積S2を前記配線導体の断面積S1より
も30%以上広いものとするか、または前記スルーホー
ル導体の長さL2を前記配線導体の長さL1以下とするこ
とによって、σ1・L1/S1≧σ2・L2/S2としたこと
を特徴とするものである。
According to the present invention, there is provided a multilayer wiring board in which a plurality of wiring conductors formed by firing a metal paste are arranged in a multilayer on an insulating base made of a ceramic sintered body. A multilayer wiring board comprising the wiring conductors connected via through-hole conductors formed by firing a metal paste, wherein the length of the wiring conductor is L 1 , the cross-sectional area is S 1 , and the specific resistance is When σ 1 , the length of the through-hole conductor is L 2 , the cross-sectional area is S 2 , and the through-hole specific resistance is σ 2 , the ratio of the metal powder in the metal paste forming the through-hole conductor is defined as Either the ratio is higher than the ratio of the metal powder in the metal paste to be formed, or the cross-sectional area S 2 of the through-hole conductor is 30% or more wider than the cross-sectional area S 1 of the wiring conductor, or the through-hole conductor before the length L 2 of the By less length L 1 of the wiring conductor, it is characterized in that it has a σ 1 · L 1 / S 1 ≧ σ 2 · L 2 / S 2.

【0010】[0010]

【作用】本発明の多層配線基板によれば、スルーホール
導体を形成する金属ペースト中の金属粉末の比率を高く
することによってその材質の比抵抗を配線導体よりも小
さくする、或いはスルーホール導体の断面積を配線導体
の断面積よりも30%以上広く、或いは長さを配線導体
の長さ以下と短くすることによって、配線基板とスルー
ホール導体との関係を、配線導体の長さをL1、断面積
をS1、比抵抗をσ1、スルーホール導体の長さをL2
断面積をS2、スルーホール比抵抗をσ2としたとき、σ
1・L1/S1≧σ2・L2/S2となしたことから、スルー
ホール導体に電気が流れても該スルーホール導体におい
て大きなジュール発熱が発生することはなく、その結
果、絶縁基体に局部加熱によるクラックや割れ等の発生
はなく、これによって絶縁基体に取着されている配線導
体に断線等を招来することが有効に防止されて絶縁基体
上面に搭載されている各電子部品を配線導体及びスルー
ホール導体を介して電気的に接続することが可能とな
る。
According to the multilayer wiring board of the present invention, the specific resistance of the material is made smaller than that of the wiring conductor by increasing the ratio of the metal powder in the metal paste forming the through-hole conductor, or By making the cross-sectional area 30% or more wider than the cross-sectional area of the wiring conductor or shortening the length to less than or equal to the length of the wiring conductor, the relationship between the wiring board and the through-hole conductor is reduced to reduce the length of the wiring conductor to L 1. , The cross-sectional area is S 1 , the specific resistance is σ 1 , the length of the through-hole conductor is L 2 ,
When the cross-sectional area is S 2 and the through-hole resistivity is σ 2 , σ
Since 1 · L 1 / S 1 ≧ σ 2 · L 2 / S 2 , even when electricity flows through the through-hole conductor, no large Joule heat is generated in the through-hole conductor. There are no cracks or cracks in the base due to local heating, thereby effectively preventing the wiring conductors attached to the insulating base from breaking or the like, and each electronic component mounted on the upper surface of the insulating base. Can be electrically connected via the wiring conductor and the through-hole conductor.

【0011】[0011]

【実施例】次に本発明を添付図面に基づき詳細に説明す
る。図1は本発明の多層配線基板の一実施例を示し、1
は絶縁基体、2は配線導体、3はスルーホール導体であ
る。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. FIG. 1 shows an embodiment of a multilayer wiring board according to the present invention.
Is an insulating base, 2 is a wiring conductor, and 3 is a through-hole conductor.

【0012】前記絶縁基体1は酸化アルミニウム質焼結
体やムライト質焼結体、窒化アルミニウム質焼結体、ガ
ラスセラミックス焼結体等のセラミック質焼結体で形成
されており、その上面に半導体素子やコンデンサ、抵抗
器等の電子部品4が搭載される。
The insulating substrate 1 is formed of a ceramic sintered body such as an aluminum oxide sintered body, a mullite sintered body, an aluminum nitride sintered body, a glass ceramic sintered body, etc. Electronic components 4 such as elements, capacitors, and resistors are mounted.

【0013】前記絶縁基体1はその内部及び表面に複数
個の配線導体2が多層に形成されており、各配線導体2
は絶縁基体1内に設けたスルーホール導体3を介して電
気的に接続されている。
A plurality of wiring conductors 2 are formed in the inside and on the surface of the insulating base 1 in multiple layers.
Are electrically connected via a through-hole conductor 3 provided in the insulating base 1.

【0014】前記配線導体2及びスルーホール導体3は
絶縁基体1の上面に搭載される各電子部品4同士を相互
に電気的に接続するとともに各電子部品4を外部電気回
路に電気的に接続する作用を為し、タングステン、モリ
ブデン、マンガン等で形成されている。
The wiring conductor 2 and the through-hole conductor 3 electrically connect the electronic components 4 mounted on the upper surface of the insulating base 1 to each other, and also electrically connect the electronic components 4 to an external electric circuit. It functions and is made of tungsten, molybdenum, manganese, or the like.

【0015】また前記各配線導体2とスルーホール導体
3は、スルーホール導体3の比抵抗を小さくする、或い
はスルーホール導体3の断面積を広く、長さを短くする
ことによって、配線導体2とスルーホール導体3との関
係が、配線導体の長さをL1、断面積をS1 、比抵抗を
σ1 、スルーホール導体の長さをL2 、断面積をS2
スルーホール比抵抗をσ2 としたとき、σ1 ・L1 /S
1 ≧σ2 ・L2 /S2となっており、スルーホール導体
3の電気抵抗値が配線基板2の電気抵抗値に比し極めて
小さなものとなっていることからスルーホール導体3に
電気が流れても該スルーホール導体3において大きなジ
ュール発熱が発生することはなく、その結果、絶縁基体
1に局部加熱によるクラックや割れ等の発生はなく、絶
縁基体1に取着されている配線導体2に断線等を招来す
ることが有効に防止されて絶縁基体1上面に搭載されて
いる各電子部品4を配線導体2及びスルーホール導体3
を介して確実に電気的接続することが可能となる。
Each of the wiring conductors 2 and the through-hole conductor 3 is formed by reducing the specific resistance of the through-hole conductor 3 or widening the cross-sectional area and shortening the length of the through-hole conductor 3. The relationship with the through-hole conductor 3 is that the length of the wiring conductor is L 1 , the cross-sectional area is S 1 , the specific resistance is σ 1 , the length of the through-hole conductor is L 2 , the cross-sectional area is S 2 ,
When the through-hole resistivity is σ 2 , σ 1 · L 1 / S
1 ≧ σ 2 · L 2 / S 2, and the electric resistance of the through-hole conductor 3 is extremely smaller than the electric resistance of the wiring board 2. Even if it flows, no large Joule heat is generated in the through-hole conductor 3, and as a result, there is no occurrence of cracks or cracks due to local heating in the insulating base 1, and the wiring conductor 2 attached to the insulating base 1 Each of the electronic components 4 mounted on the upper surface of the insulating substrate 1 is effectively prevented from being disconnected or the like.
It is possible to reliably make an electrical connection via the.

【0016】尚、前記配線導体2及びスルーホール導体
3はタングステン、モリブデン等の高融点金属粉末にガ
ラスフリットを添加含有させて成り、スルーホール導体
3の比抵抗を配線導体2の比抵抗に対し小さくしてスル
ーホール導体3におけるジュール発熱の発生を有効に防
止するには、例えば、スルーホール導体3中に添加含有
されるガラスフリットの量を配線導体2中に添加含有さ
れる量より少なくし、タングステン等の高融点金属粉末
の比率を高くしておけばよい。
The wiring conductor 2 and the through-hole conductor 3 are formed by adding a glass frit to a high melting point metal powder such as tungsten or molybdenum. In order to effectively prevent the generation of Joule heat in the through-hole conductor 3 by making it smaller, for example, the amount of glass frit added and contained in the through-hole conductor 3 is made smaller than the amount added and contained in the wiring conductor 2. The proportion of the high melting point metal powder such as tungsten or tungsten may be increased.

【0017】また前記スルーホール導体3の断面積は配
線導体2の断面積に対して30%以上広いものとなして
おくとスルーホール導体3の電気抵抗値が小さく、該ス
ルーホール導体3におけるジュール発熱の発生が有効に
防止される。従って、前記スルーホール導体3の断面積
は配線導体2の断面積に対して30%以上広いものとな
しておくことが好ましい。
If the cross-sectional area of the through-hole conductor 3 is 30% or more wider than the cross-sectional area of the wiring conductor 2, the electric resistance of the through-hole conductor 3 is small, and the joule in the through-hole conductor 3 is reduced. The generation of heat is effectively prevented. Therefore, it is preferable that the cross-sectional area of the through-hole conductor 3 be 30% or more wider than the cross-sectional area of the wiring conductor 2.

【0018】更に前記スルーホール導体3の長さは配線
導体2の全長に対し100%以下の短いものとなしてお
くとスルーホール導体3の電気抵抗値が小さく、該スル
ーホール導体3におけるジュール発熱の発生が有効に防
止される。従って、前記スルーホール導体3の長さは配
線導体2の全長に対して100%以下の短いものとなし
ておくことが好ましい。
Furthermore, if the length of the through-hole conductor 3 is made shorter than 100% of the total length of the wiring conductor 2, the electric resistance of the through-hole conductor 3 becomes small, and the Joule heat generated in the through-hole conductor 3 is reduced. Is effectively prevented. Therefore, it is preferable that the length of the through-hole conductor 3 is shorter than the total length of the wiring conductor 2 by 100% or less.

【0019】また更に前記配線導体2のうち絶縁基体1
の上面に形成されたものはその露出表面に更にニッケ
ル、金等の耐蝕性に優れ、且つ良導電性の金属をメッキ
法により1.0μm乃至20.0μmの厚みに被着させ
ておくと、配線導体2の酸化腐食が有効に防止されると
ともに配線導体2と電子部品4との電気的接続が良好と
なる。従って、前記配線導体2のうち絶縁基体1の上面
に形成されたものはその露出表面に更にニッケル、金等
の耐蝕性に優れ、且つ良導電性の金属をメッキ法により
1.0μm乃至20.0μmの厚みに被着させておくこ
とが好ましい。
Further, the insulating substrate 1 of the wiring conductor 2
The one formed on the upper surface of the substrate is further provided with a metal having excellent corrosion resistance, such as nickel and gold, and a good conductive metal to a thickness of 1.0 μm to 20.0 μm by a plating method. Oxidation corrosion of the wiring conductor 2 is effectively prevented, and the electrical connection between the wiring conductor 2 and the electronic component 4 is improved. Therefore, the wiring conductor 2 formed on the upper surface of the insulating substrate 1 is further coated on the exposed surface with a highly conductive metal such as nickel or gold having a good corrosion resistance of 1.0 μm to 20 μm by plating. Preferably, it is applied to a thickness of 0 μm.

【0020】かくして上述の多層配線基板によれば、絶
縁基体1の上面に半導体素子やコンデンサ、抵抗器等の
電子部品4を搭載するとともに各電子部品4の電極、端
子を半田等を介して配線導体2に接続すれば、絶縁基体
1の上面に搭載される半導体素子やコンデンサ等の電子
部品4はその各々が配線導体2及びスルーホール導体3
を介して電気的に接続され、これによって所定の電気回
路を形成することとなる。
Thus, according to the above-described multilayer wiring board, the electronic components 4 such as semiconductor elements, capacitors, and resistors are mounted on the upper surface of the insulating base 1 and the electrodes and terminals of each electronic component 4 are wired via solder or the like. When connected to the conductor 2, the electronic components 4 such as semiconductor elements and capacitors mounted on the upper surface of the insulating base 1 are each a wiring conductor 2 and a through-hole conductor 3.
Are electrically connected to each other through the above, thereby forming a predetermined electric circuit.

【0021】次に上述した多層配線基板のうち、スルー
ホール導体3の比抵抗を配線導体2の比抵抗より小さく
することによってスルーホール導体3におけるジュール
発熱の発生を有効に防止するようになした多層配線基板
の製造方法について図2(a)乃至(c)に基づき説明
する。
Next, in the above-mentioned multilayer wiring board, by making the specific resistance of the through-hole conductor 3 smaller than the specific resistance of the wiring conductor 2, the generation of Joule heat in the through-hole conductor 3 is effectively prevented. A method for manufacturing a multilayer wiring board will be described with reference to FIGS.

【0022】まず、図2(a)に示す如く、3枚のセラ
ミックグリーンシート10a 、10b 、10C を準備するとと
もにセラミックグリーンシート10a 、10b の所定位置に
スルーホールaを形成する。
First, as shown in FIG. 2A, three ceramic green sheets 10a, 10b and 10C are prepared, and through holes a are formed at predetermined positions of the ceramic green sheets 10a and 10b.

【0023】前記セラミックグリーンシート10a 、10b
、10c は例えば多層配線基板の絶縁基体が酸化アルミ
ニウム質焼結体で形成されている場合には、酸化アルミ
ニウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化カルシウム
等の原料粉末に適当な有機バインダー、可塑剤、溶剤を
添加混合して泥漿状となし、しかる後、前記泥漿物を従
来周知のドクターブレード法やカレンダーロール法等を
採用し、シート状に成形することによって形成される。
The ceramic green sheets 10a, 10b
, 10c is, for example, when the insulating substrate of the multilayer wiring board is formed of an aluminum oxide-based sintered body, an organic binder, a plasticizer, and the like suitable for a raw material powder such as aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, and calcium oxide; A solvent is added and mixed to form a slurry, and thereafter, the slurry is formed into a sheet by employing a conventionally known doctor blade method, calender roll method or the like.

【0024】また前記セラミックグリーンシート10a 、
10b へのスルーホールaの形成はセラミックグリーンシ
ート10a 、10b に従来周知のプレス穴あけ加工法により
所定径の貫通孔を開けることによって各セラミックグリ
ーンシート10a 、10b の所定位置に形成される。
The ceramic green sheets 10a,
The through holes a are formed in the ceramic green sheets 10a and 10b at predetermined positions of the ceramic green sheets 10a and 10b by forming through holes of a predetermined diameter in the ceramic green sheets 10a and 10b by a conventionally known press drilling method.

【0025】次に図2(b)に示す如く、前記セラミッ
クグリーンシート10a 、10b 、10cの各々の表面に金属
ペーストを所定パターンに被着させて配線導体パターン
20を形成し、同時にスルーホールa内に金属ペーストを
充填させてスルーホール用導体層21を形成する。
Next, as shown in FIG. 2 (b), a metal paste is applied in a predetermined pattern on the surface of each of the ceramic green sheets 10a, 10b, 10c to form a wiring conductor pattern.
20 is formed, and at the same time, a metal paste is filled in the through-hole a to form the conductor layer 21 for the through-hole.

【0026】前記配線導体パターン20を形成する金属ペ
ーストはタングステンやモリブデン等の高融点金属粉末
に適当なガラスフリット、有機バインダー、可塑剤、溶
剤を添加混合し、ペースト状となすことによって形成さ
れ、またスルーホール用導体層21を形成する金属ペース
トは前記配線導体パターン20を形する金属ペーストと
実質的に同じ組成から成り、ガラスフリットの添加量を
減じたものが使用される。この場合、スルーホール用導
体層21を形成する金属ペーストのガラスフリットの添加
混合量が配線導体パターン20を形成する金属ペーストよ
り少なく、タングステン等の高融点金属粉末の比率が高
くなっていることから後述するスルーホール用導体層21
を焼成して形成されるスルーホール導体3の比抵抗を配
線導体2の比抵抗に対し小さい値となすことができる。
The metal paste for forming the wiring conductor pattern 20 is formed by adding a suitable glass frit, an organic binder, a plasticizer, and a solvent to a high melting point metal powder such as tungsten or molybdenum and mixing the mixture to form a paste. the metal paste to form a through-hole conductor layer 21 is made of a metal paste substantially the same composition that form the wiring conductor pattern 20, minus the amount of the glass frit is used. In this case, the addition and mixing amount of the glass frit of the metal paste forming the conductor layer 21 for the through hole is smaller than that of the metal paste forming the wiring conductor pattern 20, and the ratio of the high melting point metal powder such as tungsten is increased. Conductor layer for through hole 21 described later
The specific resistance of the through-hole conductor 3 formed by sintering can be made smaller than the specific resistance of the wiring conductor 2.

【0027】また前記配線導体パターン20は所定の金属
ペーストをセラミックグリーンシート10a 、10b 、10c
の各々の表面にスクリーン印刷法により印刷塗布するこ
とによって所定パターンに被着され、またスルーホール
用導体層21は所定の金属ペーストをセラミックグリーン
シート10a 、10b の各々に設けたスルーホールa内に充
填することによって行われる。
The wiring conductor pattern 20 is formed by applying a predetermined metal paste to the ceramic green sheets 10a, 10b, 10c.
Are coated in a predetermined pattern by a screen printing method on each surface of the ceramic green sheets 10a and 10b. This is done by filling.

【0028】次に前記表面に配線導体パターン20が形成
され、スルーホールa内にスルーホール用導体層21が充
填された各セラミックグリーンシート10a 、10b 、10c
を図2(c)に示す如く、各セラミックグリーンシート
10a 、10b 、10c 表面に形成させた配線導体パターン20
がセラミックグリーンシート10a 、10b のスルーホール
a内に充填させたスルーホール用導体層21で電気的に接
続されるようにして上下に積層し積層体Lを形成する。
Next, each of the ceramic green sheets 10a, 10b, 10c in which a wiring conductor pattern 20 is formed on the surface and a through-hole a is filled with a through-hole conductor layer 21 is formed.
As shown in FIG. 2 (c), each ceramic green sheet
10a, 10b, 10c Wiring conductor pattern 20 formed on the surface
Are laminated vertically so that they are electrically connected by the through-hole conductor layer 21 filled in the through-holes a of the ceramic green sheets 10a and 10b.

【0029】そして最後に前記積層体Lを還元雰囲気
中、約1600℃の温度で焼成し、各セラミックグリー
ンシート10a 、10b 、10c と配線導体パターン20とスル
ーホールa内に充填したスルーホール用導体層21とを焼
結一体化することによって図1に示す絶縁基体1の内部
及び表面にスルーホール導体3によって電気的に接続さ
れている配線導体2を配設した製品としての多層配線基
板が完成する。
Finally, the laminated body L is fired in a reducing atmosphere at a temperature of about 1600 ° C., and the ceramic green sheets 10 a, 10 b, 10 c, the wiring conductor pattern 20, and the through hole conductor filled in the through hole a By sintering and integrating the layer 21, a multilayer wiring board as a product in which the wiring conductors 2 electrically connected by the through-hole conductors 3 are provided inside and on the surface of the insulating base 1 shown in FIG. 1 is completed. I do.

【0030】尚、本発明は上述の実施例に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種
々の変更は可能であり、例えば、上述の製造方法ではス
ルーホール導体3の比抵抗を配線導体2の比抵抗に比べ
小さくすることによってスルーホール導体3の電気抵抗
値を小さくし、スルーホール導体3におけるジュール発
熱の発生を有効に防止するようにしたが、セラミックグ
リーンシート10a 、10b に設けるスルーホールaの径を
大きくして、スルーホール導体3の断面積を広くした
り、セラミックグリーンシート10a 、10b の厚みを薄く
し、スルーホール導体3の長さを短くすることによって
スルーホール導体3の電気抵抗値を配線導体2の電気抵
抗値より小さくし、スルーホール導体3におけるジュー
ル発熱の発生を有効に防止してもよい。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. The electrical resistance value of the through-hole conductor 3 is reduced by making the specific resistance of the through-hole conductor 3 smaller than the specific resistance of the wiring conductor 2, and the generation of Joule heat in the through-hole conductor 3 is effectively prevented. Increasing the diameter of the through-hole a provided in 10a, 10b to increase the cross-sectional area of the through-hole conductor 3 or reducing the thickness of the ceramic green sheets 10a, 10b and shortening the length of the through-hole conductor 3 As a result, the electric resistance of the through-hole conductor 3 is made smaller than the electric resistance of the wiring conductor 2, thereby effectively preventing the generation of Joule heat in the through-hole conductor 3. May be.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明の多層配線基板によれば、スルー
ホール導体を形成する金属ペースト中の金属粉末の比率
を高くすることによってその材質の比抵抗を配線導体よ
りも小さくする、或いはスルーホール導体の断面積を配
線導体の断面積よりも30%以上広く、或いは長さを配
線導体の長さ以下と短くすることによって、配線基板と
スルーホール導体との関係を、配線導体の長さをL1
断面積をS1、比抵抗をσ1、スルーホール導体の長さを
2、断面積をS2、スルーホール比抵抗をσ2としたと
き、σ1・L1/S1≧σ2・L2/S2となしたことから、
スルーホール導体に電気が流れても該スルーホール導体
において大きなジュール発熱が発生することはなく、そ
の結果、絶縁基体に局部加熱によるクラックや割れ等の
発生はなく、これによって絶縁基体に取着されている配
線導体に断線等を招来することが有効に防止されて絶縁
基体上面に搭載されている各電子部品を配線導体及びス
ルーホール導体を介して電気的に接続することが可能と
なる。
According to the multilayer wiring board of the present invention, the specific resistance of the material is made smaller than that of the wiring conductor by increasing the ratio of the metal powder in the metal paste forming the through-hole conductor, or The relation between the wiring board and the through-hole conductor is reduced by making the cross-sectional area of the conductor 30% or more wider than the cross-sectional area of the wiring conductor or shortening the length to not more than the length of the wiring conductor. L 1 ,
When the cross-sectional area is S 1 , the specific resistance is σ 1 , the length of the through-hole conductor is L 2 , the cross-sectional area is S 2 , and the through-hole specific resistance is σ 2 , σ 1 · L 1 / S 1 ≧ σ 2 - from the fact that without the L 2 / S 2,
Even when electricity flows through the through-hole conductor, no large Joule heat is generated in the through-hole conductor, and as a result, there is no occurrence of cracks or cracks due to local heating on the insulating base, and thus the insulating base is attached to the insulating base. It is possible to effectively prevent disconnection or the like from occurring in the wiring conductor, and to electrically connect the electronic components mounted on the upper surface of the insulating base via the wiring conductor and the through-hole conductor.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の多層配線基板の一実施例を示す断面図
である。
FIG. 1 is a sectional view showing one embodiment of a multilayer wiring board of the present invention.

【図2】(a)乃至(c)は図1に示す多層配線基板の
製造方法を説明するための各工程毎の断面図である。
2 (a) to 2 (c) are cross-sectional views for explaining respective steps of a method for manufacturing the multilayer wiring board shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・・・・絶縁基体 2・・・・・・配線導体 3・・・・・・スルーホール導体 4・・・・・・電子部品 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Insulating base 2 ... Wiring conductor 3 ... Through-hole conductor 4 ... Electronic components

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】セラミック質焼結体から成る絶縁基体内
に、金属ペーストを焼成して形成された複数個の配線導
体を多層に配設するとともに該各配線導体を金属ペース
トを焼成して形成されたスルーホール導体を介して接続
して成る多層配線基板であって、前記配線導体の長さを
1、断面積をS1、比抵抗をσ1、スルーホール導体の
長さをL2、断面積をS2、スルーホール比抵抗をσ2
したとき、前記スルーホール導体を形成する金属ペース
ト中の金属粉末の比率を前記配線導体を形成する金属ペ
ースト中の金属粉末の比率より高くするか、または前記
スルーホール導体の断面積S 2 を前記配線導体の断面積
1 よりも30%以上広いものとするか、または前記ス
ルーホール導体の長さL 2 を前記配線導体の長さL 1 以下
とすることによって、σ1・L1/S1≧σ2・L2/S2
したことを特徴とする多層配線基板。
To 1. A dielectric in substrate made of a ceramic sintered body, a metal paste the respective wire conductors with arranging a plurality of wiring conductors formed by firing a metal paste on a multilayer
A multilayer wiring board formed by sintering through a through-hole conductor, wherein the length of the wiring conductor is L 1 , the cross-sectional area is S 1 , the specific resistance is σ 1 , the through-hole conductor of length L 2, the sectional area S 2, when the through-hole resistivity was sigma 2, metal paste for forming the through-hole conductor
The ratio of the metal powder in the metal powder to the metal
Higher than the ratio of metal powder in the
The cross-sectional area S 2 of the through-hole conductor is determined by the cross-sectional area of the wiring conductor.
Or a wider 30% or more than S 1, or the scan
The length L 2 of the through hole conductor is equal to or less than the length L 1 of the wiring conductor.
And by a σ 1 · L 1 / S 1 ≧ σ 2 · L 2 / S 2
Multi-layer wiring board, characterized in that the.
JP17180595A 1995-07-07 1995-07-07 Multilayer wiring board Expired - Lifetime JP3176258B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17180595A JP3176258B2 (en) 1995-07-07 1995-07-07 Multilayer wiring board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17180595A JP3176258B2 (en) 1995-07-07 1995-07-07 Multilayer wiring board

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0923068A JPH0923068A (en) 1997-01-21
JP3176258B2 true JP3176258B2 (en) 2001-06-11

Family

ID=15930056

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17180595A Expired - Lifetime JP3176258B2 (en) 1995-07-07 1995-07-07 Multilayer wiring board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3176258B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110492018B (en) * 2019-08-09 2024-06-18 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Display device

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0923068A (en) 1997-01-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0569799B1 (en) Method for making via conductors in multilayer ceramic substrates
JPH06224560A (en) Ceramic multilayer interconnecting board
JP3176258B2 (en) Multilayer wiring board
JPH0346978B2 (en)
JP3258231B2 (en) Ceramic circuit board and method of manufacturing the same
JP2885477B2 (en) Multilayer wiring board and method of manufacturing the same
JP3250944B2 (en) Wiring board
JPH08316638A (en) Multilayer wiring board
JPS60117796A (en) Multilayer circuit board and method of producing same
JPS60176296A (en) Method of producing glazed resistance element interal multilayer substrate
JPS6092697A (en) Composite laminated ceramic part
JP2004241432A (en) Multilayered ceramic board and its manufacturing method
JPH0216004B2 (en)
JP3289430B2 (en) Ceramic multilayer substrate and method of manufacturing the same
JP2738603B2 (en) Circuit board
JPH0464198B2 (en)
JPH1098244A (en) Thick-film circuit board and its manufacture
JP2842707B2 (en) Circuit board
JP3695769B2 (en) Method for manufacturing thick film circuit board
JP2001267743A (en) Method of manufacturing ceramic laminated substrate
JP2874685B2 (en) Method for manufacturing multilayer substrate
JPS5917294A (en) Composite laminated ceramic part and method of producing same
JPH0923044A (en) Wiring board
JPH066046A (en) Ceramic multilayer wiring board
JPH0544200B2 (en)