JP3174026B2 - Metal-based multilayer circuit board - Google Patents

Metal-based multilayer circuit board

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JP3174026B2 JP7293998A JP7293998A JP3174026B2 JP 3174026 B2 JP3174026 B2 JP 3174026B2 JP 7293998 A JP7293998 A JP 7293998A JP 7293998 A JP7293998 A JP 7293998A JP 3174026 B2 JP3174026 B2 JP 3174026B2
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裕 荻野
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ノイズシールド性
と耐電圧性に優れ、熱放散性が良好な金属ベース多層回
路基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a metal-based multi-layer circuit board having excellent noise shielding properties and withstand voltage and good heat dissipation.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体搭載用の回路基板において
は、基板の小型化、高密度実装化および高性能化が要求
され、更には、半導体素子の小型化、高性能化、ハイパ
ワー化が進み、半導体素子から発生した熱を如何に放散
するかということが問題となっている。そこで、電源分
野を中心に金属板上に絶縁層を介して金属箔を積層し回
路形成した金属ベース回路基板が熱放散性に優れるとい
う理由から使用されてきている。しかし、金属ベース回
路基板は金属板の上に薄い絶縁層を塗布した構造である
ため、ノイズが発生しやすく、モジュールの誤動作を引
き起こしやすいという問題があった。
2. Description of the Related Art In recent years, circuit boards for mounting semiconductors have been required to be smaller in size, have higher mounting density, and have higher performance. In addition, miniaturization, higher performance, and higher power of semiconductor elements have been required. The problem is how to dissipate the heat generated from the semiconductor element. Therefore, mainly in the power supply field, a metal base circuit board formed by laminating a metal foil on a metal plate via an insulating layer and forming a circuit has been used because of its excellent heat dissipation. However, since the metal base circuit board has a structure in which a thin insulating layer is applied on a metal plate, there is a problem that noise is easily generated and a module is likely to malfunction.

【0003】ノイズをシールドし、更に熱放散性を高め
て高密度実装化を達成する目的で、例えば金属ベース回
路基板上の全面あるいは一部に両面に回路を有する上層
回路基板を接着剤を介して積層し、前記上層回路基板上
に発熱性の電子部品を搭載した金属ベース多層回路基板
が公知となっている(特開平5−327169号公
報)。 このような金属ベース多層回路基板では、金属
板と上層基板の間に熱伝導性の悪い樹脂からなる接着剤
層が存在すること、又、絶縁材としてエポキシ含浸ガラ
スクロス等の熱放散性の悪い材料が使用されていること
から、上層回路パターン上に発熱性の高いパワー電子部
品を搭載する場合には、熱放散性が不十分であり、電子
部品の温度が上昇し、ひいては誤動作を生ぜしめるとい
う問題があった。本発明者らは、上記問題点の解決を意
図して、いろいろな検討を行い、金属板に金属酸化物及
び/または金属窒化物を含有する絶縁接着剤層を介して
回路基板を接合した構造の金属ベース多層回路基板(特
願平7−87001号)を提示している。
For the purpose of shielding noise and increasing heat dissipation to achieve high-density mounting, for example, an upper layer circuit board having a circuit on both sides of the entire surface of a metal base circuit board or a part thereof is bonded with an adhesive. A metal-based multilayer circuit board is known in which heat-generating electronic components are mounted on the above-mentioned upper circuit board (Japanese Patent Laid-Open No. 5-327169). In such a metal-based multilayer circuit board, there is an adhesive layer made of a resin having poor heat conductivity between the metal plate and the upper layer board, and the heat dissipating property such as epoxy impregnated glass cloth as an insulating material is poor. Because of the use of the material, when mounting high heat-generating power electronic components on the upper circuit pattern, heat dissipation is insufficient, the temperature of the electronic components rises, and eventually malfunctions occur There was a problem. Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted various studies with a view to solving the above-described problems, and have studied a structure in which a circuit board is bonded to a metal plate via an insulating adhesive layer containing a metal oxide and / or a metal nitride. (Japanese Patent Application No. 7-87001).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記金属ベー
ス多層回路基板を製造する場合、予め上層回路基板を準
備し、これを絶縁接着剤層を介して金属板上に張り付け
るという従来からの方法によるときには、上層基板の厚
みが厚く弾力性に欠けるので、張り付け時に上層基板に
働く若干の変形によって欠陥が生じ上層回路の両面にあ
る回路間の耐電圧が低下してしまったり、或いは、絶縁
接着剤層と上層回路基板に予め作製されている回路との
間に存在する空気が巻き込まれて、上層回路基板がわず
かながら膨れたり、回路と金属板との間の耐電圧特性が
低下してしまう等の理由で、歩留まりが低く、生産性が
悪いという問題があった。
However, in the case of manufacturing the above-mentioned metal-based multilayer circuit board, a conventional method of preparing an upper-layer circuit board in advance and attaching it to a metal plate via an insulating adhesive layer is used. In some cases, the thickness of the upper substrate is so large that it lacks elasticity, so that a slight deformation acting on the upper substrate at the time of bonding causes a defect, resulting in a decrease in the withstand voltage between the circuits on both sides of the upper layer circuit, or insulation bonding. Air existing between the agent layer and the circuit pre-fabricated on the upper circuit board is entrained, causing the upper circuit board to swell slightly, or withstanding voltage characteristics between the circuit and the metal plate to decrease. For this reason, there is a problem that the yield is low and the productivity is poor.

【0005】本発明の目的は、金属板に金属酸化物及び
/又は金属窒化物を含有する絶縁接着剤層を介して回路
基板を接合した構造を有する金属ベース多層回路基板に
おいて、一層熱抵抗が小さく、熱放散性に優れ、又耐ノ
イズ性及び耐電圧特性が優れる金属ベース多層回路基板
を生産性良く提供することである。
An object of the present invention is to provide a metal-based multilayer circuit board having a structure in which a circuit board is bonded to a metal plate via an insulating adhesive layer containing a metal oxide and / or a metal nitride, in which the thermal resistance is further reduced. An object of the present invention is to provide a metal-based multilayer circuit board which is small, has excellent heat dissipation, and has excellent noise resistance and withstand voltage characteristics with high productivity.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の製造法
により得られる金属ベース多層回路基板であって、第1
の絶縁接着剤層の熱伝導率が35×10-4cal/cm・sec・
℃以下150×10-4cal/cm・sec・℃であり、厚さが2
0μm以上200μm以下であることを特徴とする金属
ベース多層回路基板であり、特に、第2の絶縁接着剤層
の熱伝導率が35×10-4cal/cm・sec・℃以下150×
10-4cal/cm・sec・℃であり、厚さが40μm以上20
0μm以下であることを特徴とする金属ベース多層回路
基板である。
The present invention relates to a metal-based multilayer circuit board obtained by the above-mentioned manufacturing method, comprising:
Thermal conductivity of the insulating adhesive layer of 35 × 10 -4 cal / cm · sec.
It is 150 × 10 -4 cal / cm · sec · ° C or less and the thickness is 2
A metal-based multilayer circuit board having a thickness of 0 μm or more and 200 μm or less, and in particular, a thermal conductivity of a second insulating adhesive layer of 35 × 10 −4 cal / cm · sec · ° C.
10 −4 cal / cm · sec · ° C., thickness 40 μm or more 20
A metal-based multilayer circuit board having a thickness of 0 μm or less.

【0007】金属板上に、第1の絶縁接着剤層を介して
導体回路を設け、前記導体回路上に第2の絶縁接着剤層
を介して回路導体層より形成された回路を設けてなる
属ベース多層回路基板であって、第1、第2の絶縁接着
剤層の熱伝導率がともに35×10-4cal/cm・sec・℃以
上150×10-4cal/cm・sec・℃以下であり、厚さがそ
れぞれ20μm以上200μm以下、40μm以上20
0μm以下であることを特徴とする金属ベース多層回路
基板である。
[0007] on a metal plate, set only a conductor circuit through the first insulating adhesive layer, to provide a circuit which is formed from the circuit conductor layer through the second insulating adhesive layer on the conductor circuit A metal-based multi-layer circuit board comprising: a first and a second insulating adhesive layers each having a thermal conductivity of 35 × 10 −4 cal / cm · sec · ° C. or more and 150 × 10 −4 cal; / cm · sec · ° C or less, and the thickness is respectively 20 μm or more and 200 μm or less, 40 μm or more and 20 μm or less.
A metal-based multilayer circuit board having a thickness of 0 μm or less.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、図を用いて本発明について
詳細に説明する。本発明は、金属ベース多層回路基板で
あり、その製造法は、図1に例示した金属板1上に第1
の絶縁接着剤層2を介して導体回路3を有する金属ベー
ス回路基板4を用い、前記金属ベース回路基板4の導体
回路3上に第2の絶縁接着剤層5を介して回路用導体6
を接合する工程(以下第1の工程という)を含む。尚、
以下の説明に於いては簡略のために、導体回路3上の全
面を覆うように第2の絶縁接着剤層5を介し回路用導体
6を接合する場合を説明するが、導体回路3の一部が露
出するように接合されていても構わない。この工程を経
て、金属ベース回路基板4は図2の構造となる。又、本
発明の金属ベース多層回路基板は、導体回路3と回路用
導体層6を電気的に接続するためのバイアホールを形成
する工程(以下第2の工程)を含む。前記の図2の構造
は、この工程を経て、図5に例示したようなバイアホー
ル7を有する構造となる。更に、本発明の金属ベース多
層回路基板は回路用導体層6に回路を形成する工程(以
下第3の工程)を含み、この工程を経て前記の図5に例
示の構造は図6に例示した金属ベース多層回路基板8を
構成する。図3及び図4は、本発明の金属ベース多層回
路基板の製造途中の状態を示す図であり、図3は図2例
示の構造の中間製品が直ちに第3の工程を経た時の状態
を示し、図4は図3で得た中間製品について第2の工程
の途中で、例えばレーザー照射して第2の絶縁接着剤層
の一部を切削した後の状態を示している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to the drawings. The present invention is a metal-based multilayer circuit board.
A metal base circuit board 4 having a conductor circuit 3 with an insulating adhesive layer 2 interposed therebetween, and a circuit conductor 6 on the conductor circuit 3 of the metal base circuit board 4 with a second insulating adhesive layer 5 interposed therebetween.
(Hereinafter, referred to as a first step). still,
In the following description, for the sake of simplicity, the case where the circuit conductor 6 is joined via the second insulating adhesive layer 5 so as to cover the entire surface of the conductor circuit 3 will be described. It may be joined so that the portion is exposed. Through this step, the metal base circuit board 4 has the structure shown in FIG. Further, the metal-based multilayer circuit board of the present invention includes a step of forming a via hole for electrically connecting the conductor circuit 3 and the circuit conductor layer 6 (hereinafter, a second step). The structure shown in FIG. 2 has a via hole 7 as illustrated in FIG. 5 through this step. Further, the metal-based multilayer circuit board of the present invention includes a step of forming a circuit on the circuit conductor layer 6 (hereinafter, a third step). After this step, the structure illustrated in FIG. 5 is illustrated in FIG. A metal-based multilayer circuit board 8 is formed. 3 and 4 are views showing a state in the course of manufacturing the metal-based multilayer circuit board of the present invention, and FIG. 3 shows a state in which an intermediate product having the structure shown in FIG. 2 immediately goes through a third step. FIG. 4 shows a state of the intermediate product obtained in FIG. 3 after a part of the second insulating adhesive layer has been cut by, for example, laser irradiation in the middle of the second step.

【0009】本発明における第1の工程では通常の金属
ベース回路基板4が用いられるが、得られる金属ベース
多層回路基板8の耐電圧特性の面からは、金属ベース回
路基板4を構成する絶縁接着剤層が充分に加熱硬化され
ていることが好ましい。然るに、金属ベース回路基板の
絶縁接着剤層は、金属ベース多層回路基板8の第1の絶
縁接着剤層2となるので、この硬化が不充分で、例えば
揮発性物質が含まれていると、第2の絶縁接着剤層5を
塗布後の硬化に際しふくれ現象を発生したり、金属ベー
ス多層回路基板8の耐電圧を低下する等の問題が発生す
ることがあるからである。
In the first step of the present invention, an ordinary metal-based circuit board 4 is used. However, from the viewpoint of the withstand voltage characteristic of the obtained metal-based multilayer circuit board 8, the insulating adhesive constituting the metal-based circuit board 4 is used. It is preferable that the agent layer is sufficiently cured by heating. However, since the insulating adhesive layer of the metal-based circuit board becomes the first insulating adhesive layer 2 of the metal-based multilayer circuit board 8, the curing is insufficient and, for example, when a volatile substance is contained, This is because, when the second insulating adhesive layer 5 is cured after application, problems such as a blistering phenomenon and a decrease in the withstand voltage of the metal-based multilayer circuit board 8 may occur.

【0010】又、第1の工程は、金属ベース回路基板4
上に塗布された第2の絶縁接着剤層5が半硬化状態にあ
るときに、熱プレス、ラミネーターを用いて回路用導体
層6を張り付け、第2の絶縁接着剤層を硬化することで
行われるのが一般的であるが、本発明では導体回路3の
厚さが5μm以上150μm以下とすることで、第2の
絶縁接着剤層5が導体回路3の間に入り込み導体回路3
と回路用導体6の間の耐電圧性を確保できるようにな
る。導体回路3の厚みが5μm未満の金属ベース回路基
板4は容易に入手できないし、150μmを越える時は
耐電圧性に優れる金属ベース多層回路基板8を必ずしも
得られるとは限らなくなるからである。
In the first step, the metal base circuit board 4
When the second insulating adhesive layer 5 applied thereon is in a semi-cured state, the circuit conductor layer 6 is attached using a hot press or a laminator, and the second insulating adhesive layer is cured. In the present invention, the second insulating adhesive layer 5 is inserted between the conductor circuits 3 so that the thickness of the conductor circuits 3 is 5 μm or more and 150 μm or less.
And the circuit conductor 6 can withstand voltage. This is because the metal base circuit board 4 having a thickness of the conductor circuit 3 of less than 5 μm is not readily available, and if it exceeds 150 μm, it is not always possible to obtain a metal base multilayer circuit board 8 having excellent withstand voltage.

【0011】本発明では、上記第1、第2及び第3の工
程を採用することで、従来法の問題点であった、回路間
或いは回路と金属板との間の耐電圧特性の低下、膨れの
発生を大幅に防止し、その結果として生産性を向上する
ものである。即ち、本発明においては、弾力性に富み、
しかも回路形成されていない金属箔を接合するので、回
路間の耐電圧特性が損なわれず、膨れも防止できるし、
又、予め金属板との絶縁を確保してある金属ベース回路
基板を実質的に用いているので、金属板と回路間の耐電
圧特性をも損なうことがない。
In the present invention, the first, second, and third steps are employed to reduce the withstand voltage characteristic between circuits or between a circuit and a metal plate, which is a problem of the conventional method. It is intended to largely prevent the occurrence of blisters, and as a result, to improve the productivity. That is, in the present invention, rich in elasticity,
In addition, since metal foil that is not formed with a circuit is joined, the withstand voltage characteristics between circuits are not impaired, and swelling can be prevented.
Further, since the metal base circuit board, which has been previously insulated from the metal plate, is substantially used, the withstand voltage characteristics between the metal plate and the circuit are not impaired.

【0012】本発明における第2の工程は、回路用導体
層6と第2の絶縁接着剤層5の一部を物理的、化学的或
いは機械的に除去しバイアホール用の孔を形成する操作
と前記の操作でできた空隙の少なくとも内壁部にめっ
き、印刷等の方法で導電性物質を充填する操作との組み
合わせにより、導体回路3と回路用導体層6との電気的
な接続を行う工程である。本発明者らは、いろいろ検討
の結果、回路用導体層6の所定の位置をエッチングによ
り開孔し、該孔にレーザー光線を照射して第2の絶縁接
着剤層5を除去し、更にめっきすることでバイアホール
を形成する方法が、寸法精度高いので周辺部に傷をいれ
ず、しかも生産性高い方法であることを見いだしたもの
である。
The second step in the present invention is an operation of forming a hole for a via hole by physically, chemically or mechanically removing a part of the circuit conductor layer 6 and the second insulating adhesive layer 5. Electrically connecting the conductor circuit 3 and the circuit conductor layer 6 by a combination of the above operation and the operation of filling at least the inner wall of the void formed by the above operation with a conductive material by a method such as plating or printing. It is. As a result of various studies, the inventors of the present invention open a predetermined position of the circuit conductor layer 6 by etching, irradiate the hole with a laser beam to remove the second insulating adhesive layer 5, and further perform plating. Thus, it has been found that the method of forming the via hole has high dimensional accuracy, so that the peripheral portion is not damaged and the method is high in productivity.

【0013】バイアホール用の孔を形成する方法として
は、ドリル等を用いる機械加工法の他、エキシマレーザ
ー、CO2レーザー、YAGレーザー等の各種のレーザ
ー光線による方法を用いることができるし、ケミカルド
リリングにより化学的に第2の絶縁接着剤層を除去する
方法もある。
As a method of forming a hole for a via hole, a method using various laser beams such as an excimer laser, a CO2 laser, and a YAG laser can be used in addition to a machining method using a drill or the like. There is also a method of chemically removing the second insulating adhesive layer.

【0014】バイアホール用の孔の少なくとも内壁部に
導電性物質を被覆或いは充填し電気的に接続する方法に
ついては、無電解めっき、電解めっき、ダイレクトプレ
ーティング等のめっき法や、導体塗料、はんだ或いは前
記の方法を組み合わせることができる。これらの方法の
うち、特にめっき法は、安価で、生産性が高いので好ま
しい方法である。
A method for covering or filling at least the inner wall portion of the via hole with a conductive substance and electrically connecting the conductive material to the via hole includes plating methods such as electroless plating, electrolytic plating, and direct plating; Alternatively, the above methods can be combined. Among these methods, the plating method is particularly preferable because it is inexpensive and has high productivity.

【0015】また、バイアホール内のめっき材質につい
ては、導体回路3及び回路用導体層6との電気抵抗が大
きくならないこと、また前記導体回路や回路用導体層と
の熱膨張差による破断等が起こりにくいことから、同質
であることが好ましい。導体回路3や回路用導体の材質
は電気抵抗の小さい銅が一般に用いられるので、バイア
ホール内のめっきは銅めっきとすることが望ましい。
尚、本発明のバイアホールの形成方法は、スルーホール
についても適用できる。
[0015] The plating material in the via hole is such that the electrical resistance between the conductor circuit 3 and the circuit conductor layer 6 does not increase, and breakage due to a difference in thermal expansion between the conductor circuit and the circuit conductor layer. Since it is unlikely to occur, it is preferable that they are of the same quality. As the material of the conductor circuit 3 and the circuit conductor, copper having small electric resistance is generally used, it is preferable that the plating in the via hole is copper plating.
The method of forming a via hole according to the present invention can be applied to a through hole.

【0016】本発明における第3の工程は、第1の工程
で金属ベース回路基板に接合された回路用導体層に回路
を形成する工程であり、エッチング等の一般的な回路形
成法によれば良い。尚、本発明においては、上記第1の
工程が最初であれば良く、第2及び第3の工程の順序は
定める必要がないし、必要に応じて前記第2及び第3の
工程を繰り返すこともできる。
The third step in the present invention is a step of forming a circuit on the circuit conductor layer bonded to the metal base circuit board in the first step, and according to a general circuit forming method such as etching. good. In the present invention, the first step only needs to be performed first, the order of the second and third steps does not need to be determined, and the second and third steps may be repeated as necessary. it can.

【0017】本発明の金属ベース多層回路基板8は、図
6に全面が多層構造のものを例示するが、その構成は次
の通りである。即ち、本発明の金属ベース多層回路基板
8は、金属板1上に第1の絶縁接着剤層2を介して導体
回路3が形成された金属ベース回路基板4上に、第2の
絶縁接着剤層5を介し回路用導体層6から形成された外
層回路が積層一体化されており、外層回路と導体回路3
とがバイアホール7により電気的に接続された構造を有
する。なお、図示していないが、外層回路上には電子素
子が必要に応じ搭載されていてもよいし、ワイヤーボン
ディング等により他部品と結合されていてもよい。又、
導体回路3及び外層回路は金属板1の少なくとも一主面
上の少なくとも一部に積層されていれば良く、外層回路
上に回路基板を複数積層しても構わない。
FIG. 6 exemplifies a metal-based multilayer circuit board 8 of the present invention having a multilayer structure as a whole, and its structure is as follows. That is, the metal-based multilayer circuit board 8 of the present invention is provided on the metal-based circuit board 4 on which the conductor circuit 3 is formed on the metal plate 1 via the first insulating adhesive layer 2. An outer layer circuit formed from the circuit conductor layer 6 is laminated and integrated via the layer 5, and the outer layer circuit and the conductor circuit 3 are integrated.
Are electrically connected by via holes 7. Although not shown, an electronic element may be mounted on the outer layer circuit as necessary, or may be connected to another component by wire bonding or the like. or,
The conductor circuit 3 and the outer layer circuit need only be laminated on at least a part of at least one main surface of the metal plate 1, and a plurality of circuit boards may be laminated on the outer layer circuit.

【0018】第1の絶縁接着剤層2の熱伝導率は35×
10-4cal/cm・sec・℃以上150×10-4cal/cm・sec・℃
以下であり、しかもその厚みは20μm以上200μm
以下である。熱伝導率が35×10-4cal/cm・sec・℃未
満の場合には、金属ベース多層回路基板8の熱抵抗が大
きくなり、目的とする良好な熱放散性が得られないこと
がある。また、150×10-4cal/cm・sec・℃を越える
ものは工業的に得ることが難しい。しかし、前記の範囲
の熱伝導率を有する第1の絶縁接着剤層2を用い、確実
に、良好な熱放散性を有する金属ベース多層基板8を得
るためには、第1の絶縁接着剤層2の厚みが20μm以
上200μm以下である。200μmを越える厚みで
は、良好な熱放散性を達成することができなくなるし、
20μm未満では耐電圧性が低下するので好ましくな
い。
The thermal conductivity of the first insulating adhesive layer 2 is 35 ×
10 -4 cal / cm-sec-C or higher 150 x 10 -4 cal / cm-sec-C
Or less, and the thickness is not less than 20 μm and not more than 200 μm.
It is as follows. If the thermal conductivity is less than 35 × 10 −4 cal / cm · sec · ° C., the thermal resistance of the metal-based multilayer circuit board 8 increases, and the desired good heat dissipation may not be obtained. . Further, those exceeding 150 × 10 −4 cal / cm · sec · ° C. are difficult to obtain industrially. However, in order to use the first insulating adhesive layer 2 having a thermal conductivity in the above range and to surely obtain the metal-based multilayer substrate 8 having good heat dissipation, the first insulating adhesive layer 2 2 has a thickness of not less than 20 μm and not more than 200 μm. If the thickness exceeds 200 μm, good heat dissipation cannot be achieved,
If the thickness is less than 20 μm, the withstand voltage decreases, which is not preferable.

【0019】第1の絶縁接着剤層2は金属酸化物及び/
又は金属窒化物と樹脂とで構成される。金属酸化物及び
金属窒化物は熱伝導性に優れ、しかも電気絶縁性のもの
が好ましく、金属酸化物としては酸化アルミニウム、酸
化珪素、酸化ベリリウム、酸化マグネシウムが、金属窒
化物としては窒化硼素、窒化珪素、窒化アルミニウムが
選択され、これらを単独または2種以上を混合して用い
ることができる。特に、前記の金属酸化物のうち、酸化
アルミニウムは電気絶縁性、熱伝導性ともに良好な絶縁
接着剤層を容易に得ることができ、しかも安価に入手可
能であるという理由で、また、前記の金属窒化物のうち
窒化硼素は電気絶縁性、熱伝導性に優れ、更に誘電率が
小さいという理由で好ましい。
The first insulating adhesive layer 2 comprises a metal oxide and / or
Alternatively, it is composed of a metal nitride and a resin. Metal oxides and metal nitrides are preferably excellent in heat conductivity and electrically insulating. Aluminum oxide, silicon oxide, beryllium oxide, and magnesium oxide are used as metal oxides, and boron nitride and nitride are used as metal nitrides. Silicon and aluminum nitride are selected, and these can be used alone or in combination of two or more. In particular, among the above-mentioned metal oxides, aluminum oxide can easily obtain an insulating adhesive layer having good electric insulation and thermal conductivity, and can be easily obtained at a low cost. Of the metal nitrides, boron nitride is preferred because it has excellent electrical insulation and thermal conductivity, and has a small dielectric constant.

【0020】前記金属酸化物と金属窒化物の合量は45
体積%以上85体積%以下であり、好ましくは48体積
%以上80体積%以下である。45体積%未満では、第
1の絶縁接着剤層2の熱伝導率を35×10-4cal/cm・s
ec・℃以上にすることが容易でなく、その結果、熱放散
性に優れる金属ベース多層回路基板が得られなくなる。
又、85体積%を越える場合には、樹脂との混合におい
て気泡を巻き込み易くなり、その結果、耐電圧性に優れ
た金属ベース多層回路基板8が得られないことがある。
熱放散性に優れ、しかも耐電圧性に優れる金属ベース多
層回路基板を再現性良く得るためには、48体積%以上
80体積%以下の範囲が好ましい。
The total amount of the metal oxide and the metal nitride is 45
It is at least 85% by volume and preferably at least 48% by volume. If it is less than 45% by volume, the thermal conductivity of the first insulating adhesive layer 2 is reduced to 35 × 10 −4 cal / cm · s.
It is not easy to increase the temperature to ec · ° C. or higher. As a result, a metal-based multilayer circuit board having excellent heat dissipation properties cannot be obtained.
On the other hand, when the content exceeds 85% by volume, bubbles are easily entrained in mixing with the resin, and as a result, the metal-based multilayer circuit board 8 having excellent withstand voltage may not be obtained.
In order to obtain a metal-based multilayer circuit board excellent in heat dissipation and voltage resistance with good reproducibility, the range of 48% by volume to 80% by volume is preferable.

【0021】前記の第1の絶縁接着剤層2を構成する樹
脂としては、前記の金属酸化物及び/又は金属窒化物を
含みながらも、硬化状態下において、金属板1及び導体
回路3との接合力に優れ、また耐電圧特性等を損なわな
いものが選択される。このような樹脂として、エポキシ
樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂の他各種のエン
ジニアリングプラスチックが単独または2種以上を混合
して用いることができるが、このうちエポキシ樹脂が金
属同士の接合力に優れるので好ましい。特に、エポキシ
樹脂のなかでは、流動性が高く、前記の金属酸化物及び
金属窒化物との混合性に優れるビスフェノールA型エポ
キシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂は一層好ま
しい樹脂である。
The resin constituting the first insulating adhesive layer 2 contains the metal oxide and / or the metal nitride described above, but is in a hardened state and is in contact with the metal plate 1 and the conductor circuit 3. Those that have excellent bonding strength and do not impair withstand voltage characteristics and the like are selected. As such a resin, various engineering plastics other than epoxy resin, phenol resin, and polyimide resin can be used alone or in combination of two or more. Among them, epoxy resin is preferable because of its excellent bonding strength between metals. . In particular, among the epoxy resins, bisphenol A-type epoxy resins and bisphenol F-type epoxy resins, which have high fluidity and are excellent in mixing properties with the above-mentioned metal oxides and metal nitrides, are more preferable resins.

【0022】第2の絶縁接着剤層5の熱伝導率は、35
×10-4cal/cm・sec・℃以上150×10-4cal/cm・sec・
℃以下であり、しかもその厚みが40μm以上200μ
m以下である。熱伝導率が35×10-4cal/cm・sec・℃
未満のときは、金属ベース多層回路基板8の熱抵抗が大
きくなり、目的とする良好な熱放散性が得られないこと
があるし、150×10-4cal/cm・sec・℃を越えるもの
は工業的に得ることが難しい。又、第2の絶縁接着剤層
5の厚みが、40μm未満の場合には耐電圧性が低下す
る場合があるし、200μmを越えると熱放散性が低下
するためである。第2の絶縁接着剤層5の熱伝導率と厚
さを限定することにより、金属ベース多層回路基板8が
耐電圧性と熱放散とに優れるという特性は、第1の絶縁
接着剤層2の熱伝導率が35×10-4cal/cm・sec・℃以
上150×10-4cal/cm・sec・℃以下であって、しかも
その厚みが20μm以上200μm以下である場合に、
特に達成されるので好ましい。
The thermal conductivity of the second insulating adhesive layer 5 is 35
× 10 -4 cal / cm ・ sec ・ ℃ or more 150 × 10 -4 cal / cm ・ sec ・
° C or less, and the thickness is 40 µm or more and 200 µ
m or less. Thermal conductivity 35 × 10 -4 cal / cm · sec · ° C
If the value is less than 1, the thermal resistance of the metal-based multilayer circuit board 8 increases, and the desired good heat dissipation property may not be obtained, or exceeds 150 × 10 −4 cal / cm · sec · ° C. Is difficult to obtain industrially. If the thickness of the second insulating adhesive layer 5 is less than 40 μm, the withstand voltage may decrease, and if it exceeds 200 μm, the heat dissipation may decrease. By limiting the thermal conductivity and the thickness of the second insulating adhesive layer 5, the characteristic that the metal-based multilayer circuit board 8 is excellent in the withstand voltage and the heat dissipation is the same as that of the first insulating adhesive layer 2. When the thermal conductivity is 35 × 10 −4 cal / cm · sec · ° C. or more and 150 × 10 −4 cal / cm · sec · ° C. or less and the thickness is 20 μm or more and 200 μm or less,
It is particularly preferred because it is achieved.

【0023】第2の絶縁接着剤層5は、金属酸化物と金
属窒化物との合量が45体積%以上85体積%以下、好
ましくは48体積%以上80体積%以下と残部が樹脂と
を用いることで、得ることができる。特に、金属酸化物
が酸化アルミニウム、金属窒化物が窒化硼素のときに好
ましい結果が得られる。第2の絶縁接着剤層5に含まれ
る金属酸化物及び/又は金属窒化物の充填量、種類及び
樹脂の種類については、第1の絶縁接着剤層2に於ける
理由と同じである。即ち、金属酸化物及び金属窒化物は
熱伝導性に優れ、しかも電気絶縁性のものが好ましく、
金属酸化物としては酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化
ベリリウム、酸化マグネシウムがあげられ、金属窒化物
としては窒化硼素、窒化珪素、窒化アルミニウムが選択
され、これらを単独または2種以上を混合して用いるこ
とができる。特に、金属酸化物として酸化アルミニウム
は電気絶縁性、熱伝導性ともに良好な絶縁接着剤層を容
易に得られるし、しかも安価に入手容易であるという理
由で、好ましいものであり、金属窒化物として窒化硼素
は電気絶縁性、熱伝導性が優れ、更に誘電率が小さいの
で好ましい。
The second insulating adhesive layer 5 has a total content of the metal oxide and the metal nitride of 45% by volume to 85% by volume, preferably 48% by volume to 80% by volume, and the balance of resin. It can be obtained by using. Particularly, preferable results are obtained when the metal oxide is aluminum oxide and the metal nitride is boron nitride. The amount, type, and type of resin of the metal oxide and / or metal nitride contained in the second insulating adhesive layer 5 are the same as those in the first insulating adhesive layer 2. That is, metal oxides and metal nitrides have excellent thermal conductivity, and are preferably electrically insulating.
Examples of the metal oxide include aluminum oxide, silicon oxide, beryllium oxide, and magnesium oxide, and examples of the metal nitride include boron nitride, silicon nitride, and aluminum nitride. These may be used alone or in combination of two or more. Can be. In particular, aluminum oxide as a metal oxide is preferable because it can easily obtain an insulating adhesive layer having good electric insulation and thermal conductivity, and is easily available at a low cost. Boron nitride is preferable because it has excellent electrical insulation and thermal conductivity, and further has a small dielectric constant.

【0024】第2の絶縁接着剤層5を構成する樹脂とし
ては、前記金属酸化物及び/又は金属窒化物を含みなが
らも、硬化状態下において、導体回路3及び回路用導体
層6との接合力に優れ、金属ベース多層回路基板8の特
性を損なわないものが選択される。このような樹脂とし
て、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂の
他各種のエンジニアリングプラスチックが単独又は2種
以上を混合して用いることができるが、このうちエポキ
シ樹脂が金属同士の接合力に優れるので好ましい。特に
エポキシ樹脂のなかでも、流動性が高く、無機質充填剤
との混合性に優れるビスフェノールA型エポキシ樹脂、
ビスフェノールF型エポキシ樹脂は一層好ましい樹脂で
ある。
The resin constituting the second insulating adhesive layer 5 contains the above-mentioned metal oxide and / or metal nitride and is bonded to the conductor circuit 3 and the circuit conductor layer 6 in a cured state. Those that have excellent power and do not impair the characteristics of the metal-based multilayer circuit board 8 are selected. As such a resin, various engineering plastics other than an epoxy resin, a phenol resin, and a polyimide resin can be used alone or in combination of two or more. Among them, the epoxy resin is preferable because of its excellent bonding strength between metals. . In particular, among epoxy resins, bisphenol A type epoxy resin having high fluidity and excellent mixing with inorganic filler,
Bisphenol F type epoxy resins are more preferred resins.

【0025】第2の絶縁接着剤層5中の金属酸化物及び
金属窒化物の合量は、45体積%以上85体積%以下で
あり、好ましくは48体積%以上80体積%以下であ
る。45体積%未満では、第2の絶縁接着剤層5の熱伝
導率を35×10-4cal/cm・sec・℃以上にすることが容
易でなく、その結果、熱放散性の乏しい金属ベース多層
回路基板8しか得られない。又、85体積%を越える場
合には、樹脂との混合において気泡を巻き込み易くな
り、その結果、耐電圧性に優れた金属ベース多層回路基
板8が得られないことがある。48体積%以上80体積
%以下の場合には、熱放散性と耐電圧性とに優れる金属
ベース多層回路基板が再現良く得ることができる。
The total amount of the metal oxide and metal nitride in the second insulating adhesive layer 5 is at least 45 vol% and at most 85 vol%, preferably at least 48 vol% and at most 80 vol%. If the content is less than 45% by volume, it is not easy to make the thermal conductivity of the second insulating adhesive layer 5 equal to or higher than 35 × 10 −4 cal / cm · sec · ° C. Only the multilayer circuit board 8 can be obtained. On the other hand, when the content exceeds 85% by volume, bubbles are easily entrained in mixing with the resin, and as a result, the metal-based multilayer circuit board 8 having excellent withstand voltage may not be obtained. When the content is 48% by volume or more and 80% by volume or less, a metal-based multilayer circuit board excellent in heat dissipation and withstand voltage can be obtained with good reproducibility.

【0026】導体回路3、回路用導体層6の材質は銅、
アルミニウム、ニッケル、鉄、錫、銀、チタニウムのい
ずれか、または、これらの金属を含む合金及びそれぞれ
の金属及び/又は合金を使用したクラッド箔等が用いる
ことができる。また、この時の箔の製造方法は電解法で
も圧延法で作製したものでもよく、箔上にはNiめっ
き、Ni+Auめっき、はんだめっきなどの金属めっき
がほどこされていてもかまわないが、第2の絶縁接着剤
層5との接着性の点から、回路用導体層6の表面はエッ
チングやめっき等により予め粗化処理されていればさら
に好ましい。又、回路用導体層6の厚みは特に制限はな
いが一般的には500μm以下が用いられる。
The material of the conductor circuit 3 and the circuit conductor layer 6 is copper,
Any of aluminum, nickel, iron, tin, silver, and titanium, or an alloy containing these metals and a clad foil using each metal and / or alloy can be used. The method of manufacturing the foil at this time may be an electrolytic method or a rolling method. The foil may be plated with a metal such as Ni plating, Ni + Au plating, or solder plating. In view of the adhesiveness to the insulating adhesive layer 5, it is more preferable that the surface of the circuit conductor layer 6 be roughened in advance by etching, plating, or the like. The thickness of the circuit conductor layer 6 is not particularly limited, but is generally 500 μm or less.

【0027】本発明では、金属板1として、良好な熱伝
導性を持つアルミニウムおよびアルミニウム合金、銅お
よび銅合金、鉄および鉄合金等の金属、銅/鉄−ニッケ
ル系合金、アルミニウム/鉄−ニッケル系合金等の2層
の複合材料、あるいは銅/鉄−ニッケル系合金/銅、ア
ルミニウム/鉄−ニッケル系合金/アルミニウム等の3
層の複合材料等が使用可能である。また、金属板1の厚
みとしては、特に制限はないが、0.5mm〜3.0m
mが一般に用いられる。
In the present invention, the metal plate 1 is made of a metal having good thermal conductivity, such as aluminum and aluminum alloys, copper and copper alloys, iron and iron alloys, copper / iron-nickel alloys, and aluminum / iron-nickel alloys. Composite material of two layers, such as alloys, or 3 such as copper / iron-nickel alloy / copper, aluminum / iron-nickel alloy / aluminum
Layer composites and the like can be used. The thickness of the metal plate 1 is not particularly limited, but is 0.5 mm to 3.0 m.
m is generally used.

【0028】以下、実施例に基づき、発明をより具体的
に説明する。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on examples.

【実施例】〔実施例1〕 510mm×510mm×1.5mmのアルミニウム板
上に、窒化硼素(電気化学工業(株)製;GP)を53
体積%含有するビスフェノールF型エポキシ樹脂(油化
シェル(株)製;エピコート807)を絶縁接着剤とし
て用い、アミン系硬化剤を加え、200μmの厚みとな
るように塗布し、厚さが35μmの銅箔をラミネート法
により張り合わせた。次に、この銅箔にシールドパター
ンを形成した後に、銅箔上に前記絶縁接着剤にアミン系
硬化剤を加え、200μmの厚みとなるように塗布し、
さらに厚さが35μmの銅箔をラミネート法により張り
合わせ、加熱硬化した。次に、外層銅箔の所定箇所にド
リルによりφ0.5mmの丸穴を開け、第2の絶縁接着
剤層まで切削した後に、銅めっきを施し、バイアホール
を形成した。この表面にエッチングにより所望の回路を
形成し、金属ベース多層回路基板を得た。この金属ベー
ス多層回路基板について、熱抵抗、耐電圧、電子素子の
動作安定性、及び生産性を以下に示す方法で測定した。
結果を表1に記載したように、良好であった。尚、絶縁
接着剤より別途直径10mm厚さ1mmの円板の加熱硬
化体を作製し、レーザー法熱伝導率測定試片とした。
[Example 1] 53 pieces of boron nitride (GP, manufactured by Denki Kagaku Kogyo KK) were placed on an aluminum plate of 510 mm x 510 mm x 1.5 mm.
A bisphenol F type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Co., Ltd .; Epicoat 807) containing a volume% is used as an insulating adhesive, an amine-based curing agent is added, and the mixture is applied to a thickness of 200 μm, and the thickness is 35 μm. Copper foil was laminated by a lamination method. Next, after forming a shield pattern on the copper foil, an amine-based curing agent was added to the insulating adhesive on the copper foil, and applied to a thickness of 200 μm,
Further, a copper foil having a thickness of 35 μm was adhered by a laminating method and cured by heating. Next, a round hole having a diameter of 0.5 mm was drilled in a predetermined portion of the outer layer copper foil by a drill, and after cutting to the second insulating adhesive layer, copper plating was performed to form a via hole. A desired circuit was formed on the surface by etching to obtain a metal-based multilayer circuit board. For this metal-based multilayer circuit board, the thermal resistance, the withstand voltage, the operation stability of the electronic element, and the productivity were measured by the following methods.
The results were good as described in Table 1. In addition, a heat-cured body of a disc having a diameter of 10 mm and a thickness of 1 mm was separately prepared from an insulating adhesive, and used as a test piece for measuring thermal conductivity by a laser method.

【0029】<熱抵抗の測定方法> 金属ベース多層回路基板の多層化した部分或いは導体回
路部分を40mm×30mmに切りとり試験片とする。
試験片をエッチングして、その中心付近に大きさ10m
m×14mmのパッド部を形成し、この部分にトランジ
スター(2SC2233;TO220タイプ;株式会社
東芝製)をはんだ付けする。基板の裏面を室温に冷却し
つつ、トランジスタを動作させ、第1及び第2の絶縁接
着剤層或いは第1の絶縁接着剤層のみを挟んでいるトラ
ンジスター裏側と基板の温度を測定し、両者の温度差と
トランジスタの消費電力(コレクター損失)から熱抵抗
を算出する(デンカHITTプレートカタログ参照)。
<Method of Measuring Thermal Resistance> A multilayered portion or a conductor circuit portion of a metal-based multilayer circuit board is cut into a size of 40 mm × 30 mm to obtain a test piece.
Etch the test piece and measure 10m near its center
An mx14 mm pad portion is formed, and a transistor (2SC2233; TO220 type; manufactured by Toshiba Corporation) is soldered to this portion. The transistor is operated while the back surface of the substrate is cooled to room temperature, and the temperature of the substrate and the back side of the transistor sandwiching only the first and second insulating adhesive layers or only the first insulating adhesive layer are measured. The thermal resistance is calculated from the temperature difference and the power consumption (collector loss) of the transistor (refer to the Denka HITT plate catalog).

【0030】<耐電圧の測定方法> 金属ベース多層回路基板の第1の絶縁接着剤層上に配置
された導体回路をベタパターンとし、第2の絶縁接着剤
層上の回路用導体或いは導体回路をエッチングしてφ2
0mmの円形パターンを10mm間隔で3×3個形成し
た。尚、中心部に位置する前記円形パターンはバイアホ
ールにより前記導体回路と電気的に接続した。上記金属
ベース多層回路基板について、JIS C 2110に
規定された段階昇圧法により、中心部の円形パターンと
他の円形パターン間の耐電圧を測定した。
<Measurement Method of Withstand Voltage> The conductor circuit arranged on the first insulating adhesive layer of the metal-based multilayer circuit board is used as a solid pattern, and the circuit conductor or the conductor circuit on the second insulating adhesive layer is used. To etch φ2
3 × 3 0 mm circular patterns were formed at 10 mm intervals. The circular pattern located at the center was electrically connected to the conductor circuit by a via hole. With respect to the metal-based multilayer circuit board, the withstand voltage between the central circular pattern and the other circular patterns was measured by the step-up method defined in JIS C 2110.

【0031】<パワー電子素子の動作安定性の評価方法
> 日立製作所製p−mos−FET(2SK2174S)
を回路導体或いは導体回路上に2mm間隔で3個組み込
んだモジュールを作製し、100℃の環境下で素子1個
当たり10Wの消費電力となるようにしながら96時間
連続運転し、誤動作の有無を評価する。誤動作が発生し
なければ、消費電力を更に10W加えて再度評価する。
以降同様に消費電力を増加し、誤動作の発生した時の消
費電力量にてパワー電子素子の動作安定性を評価する。
<Method for Evaluating Operation Stability of Power Electronic Device> p-mos-FET (2SK2174S) manufactured by Hitachi, Ltd.
Was fabricated on a circuit conductor or a conductor circuit at three intervals of 2 mm, and the module was continuously operated for 96 hours at 100 ° C. while consuming 10 W per element, and evaluated for malfunction. I do. If no malfunction occurs, the power consumption is further increased by 10 W and the evaluation is performed again.
Thereafter, similarly, the power consumption is increased, and the operation stability of the power electronic element is evaluated based on the power consumption when a malfunction occurs.

【0032】<生産性の評価方法> 名刺サイズ(90mm×55mm)の金属ベース多層回
路基板10,000枚を製造するのに要した時間で評価
した。
<Evaluation Method of Productivity> Evaluation was made based on the time required to manufacture 10,000 metal-based multilayer circuit boards having a business card size (90 mm × 55 mm).

【0033】[0033]

【表1】 [Table 1]

【0034】〔参考例1〕 絶縁接着剤に酸化アルミニウム(昭和電工(株)製:A
−42−2)を54体積%含有するシリコーン樹脂(東
レダウコーニングシリコーン(株)製;SE1880)
を用いたこと以外は、実施例1と同一の操作をして得た
金属ベース多層回路基板について、熱抵抗、耐電圧、電
子素子の動作安定性、及び生産性を同一の方法で測定し
た。結果を表1に記載したように、良好であった。
[ Reference Example 1 ] Aluminum oxide (shown by Showa Denko KK: A
-42-2) containing 54% by volume (manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd .; SE1880)
The thermal resistance, the withstand voltage, the operation stability of the electronic element, and the productivity were measured by the same method for the metal-based multilayer circuit board obtained by performing the same operation as in Example 1 except that the above method was used. The results were good as described in Table 1.

【0035】〔参考例2〕 絶縁接着剤に酸化アルミニウム(昭和電工(株)製:A
−42−2)を54体積%含有するビスフェノールA型
エポキシ樹脂(油化シェル(株)製:エピコート82
8)を用いたこと以外は、実施例1と同一の操作をして
得た金属ベース多層回路基板について、熱抵抗、耐電
圧、電子素子の動作安定性、及び生産性を測定した。結
果は、表1に記載したように、良好であった。
[ Reference Example 2 ] Aluminum oxide (shown by Showa Denko KK: A
Bisphenol A type epoxy resin containing 54% by volume (Epicoat 82, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.)
Except for using 8), the thermal resistance, the withstand voltage, the operation stability of the electronic element, and the productivity were measured for the metal-based multilayer circuit board obtained by performing the same operation as in Example 1. The results were good, as described in Table 1.

【0036】〔参考例3〕 510mm×510mm×1.5mmのアルミニウム板
上に、酸化アルミニウム(昭和電工(株)製:A−42
−2)を54体積%含有するビスフェノールA型エポキ
シ樹脂(油化シェル(株)製:エピコート828)を絶
縁接着剤として用い、アミン系硬化剤を加え、200μ
mの厚みとなるように塗布し、厚さが5μmの銅箔をラ
ミネート法により張り合わせ、加熱硬化した。次に、こ
の銅箔をエッチングしてシールドパターンを形成した
後、銅箔上に前記の絶縁接着剤にアミン系硬化剤を加え
200μmの厚みとなるように塗布し、厚さが5μmの
銅箔をラミネート法により張り合わせた後、加熱硬化し
た。次に、外層銅箔の所定箇所にエッチングによりφ
0.5mmの丸穴を開け、穴開き部にレーザー光線を照
射して第2の絶縁接着剤層の一部を切削した後に、銅め
っきを施して、バイアホールを形成した。次に、外層銅
箔をエッチングして所望の回路を形成することで金属ベ
ース多層回路基板を得た。この金属ベース多層回路基板
について、熱抵抗、耐電圧、電子素子の動作安定性、及
び生産性を測定した。結果は、表1に記載したとおり、
良好であった。
Reference Example 3 Aluminum oxide (A-42, manufactured by Showa Denko KK) was placed on an aluminum plate of 510 mm × 510 mm × 1.5 mm.
Bisphenol A type epoxy resin containing 54% by volume (Epicoat 828, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) was used as an insulating adhesive, and an amine-based curing agent was added.
m, and a copper foil having a thickness of 5 μm was adhered by a lamination method and cured by heating. Next, after etching this copper foil to form a shield pattern, an amine-based curing agent was added to the above-mentioned insulating adhesive on the copper foil, and applied so as to have a thickness of 200 μm. Were laminated by a laminating method and then cured by heating. Next, a predetermined portion of the outer layer copper foil is etched by φ
A 0.5 mm round hole was formed, and a laser beam was applied to the hole to cut a part of the second insulating adhesive layer, followed by copper plating to form a via hole. Next, a desired circuit was formed by etching the outer layer copper foil, thereby obtaining a metal-based multilayer circuit board. This metal-based multilayer circuit board was measured for thermal resistance, withstand voltage, operation stability of electronic elements, and productivity. The results were as described in Table 1.
It was good.

【0037】〔参考例4〕 510mm×510mm×1.5mmのアルミニウム板
上に、酸化アルミニウム(昭和電工(株)製:A−42
−2)を54体積%含有するビスフェノールA型エポキ
シ樹脂(油化シェル(株)製:エピコート828)を絶
縁接着剤として用い、アミン系硬化剤を加え、200μ
mの厚みとなるように塗布し、厚さが150μmの銅箔
をラミネート法により張り合わせ、加熱硬化した。次
に、この銅箔をエッチングしてシールドパターンを形成
した後に、銅箔上に前記の絶縁接着剤にアミン系硬化剤
を加え、200μmの厚みとなるように塗布し、厚さが
150μmの銅箔をラミネート法により張り合わせ、加
熱硬化した。次に、外層銅箔の所定箇所にエッチングに
よりφ0.5mmの丸穴を開け、穴開き部にレーザー光
線を照射し、第2の絶縁接着剤層の一部を切削した後
に、銅めっきを施し、バイアホールを形成した。更に、
外層銅箔をエッチングして所望の回路を形成し、金属ベ
ース多層回路基板を得た。この金属ベース多層回路基板
について、熱抵抗、耐電圧、電子素子の動作安定性、及
び生産性を測定した。結果は表1に記載したとおり、良
好であった。
REFERENCE EXAMPLE 4 Aluminum oxide (A-42, manufactured by Showa Denko KK) was placed on an aluminum plate of 510 mm × 510 mm × 1.5 mm.
Bisphenol A type epoxy resin containing 54% by volume (Epicoat 828, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) was used as an insulating adhesive, and an amine-based curing agent was added.
m, and a copper foil having a thickness of 150 μm was adhered by a lamination method and cured by heating. Next, after this copper foil is etched to form a shield pattern, an amine-based curing agent is added to the above-mentioned insulating adhesive on the copper foil, and applied so as to have a thickness of 200 μm. The foils were laminated by a laminating method and cured by heating. Next, a circular hole having a diameter of 0.5 mm is formed in a predetermined portion of the outer layer copper foil by etching, a laser beam is applied to the hole, and a portion of the second insulating adhesive layer is cut, and then copper plating is performed. Via holes were formed. Furthermore,
The desired circuit was formed by etching the outer layer copper foil to obtain a metal-based multilayer circuit board. This metal-based multilayer circuit board was measured for thermal resistance, withstand voltage, operation stability of electronic elements, and productivity. The results were good as described in Table 1.

【0038】〔実施例〕 510mm×510mm×1.5mmのアルミニウム板
上に、酸化アルミニウム(昭和電工(株)製:A−42
−2)を56体積%含有するビスフェノールA型エポキ
シ樹脂(油化シェル(株)製:エピコート828)を絶
縁接着剤として用い、アミン系硬化剤を加え、200μ
mの厚みとなるように塗布し、厚さが35μmの銅箔を
ラミネート法により張り合わせ、加熱硬化した。次に、
この銅箔をエッチングしてシールドパターンを形成した
後に、銅箔上に前記の酸化アルミニウムを54体積%含
有するビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル
(株)製;エピコート828)を絶縁接着剤として用
い、アミン系硬化剤を加え、250μmの厚みとなるよ
うに塗布し、厚さが35μmの銅箔をラミネート法によ
り張り合わせ、加熱硬化した。次に、外層銅箔の所定箇
所にエッチングによりφ0.5mmの丸穴を開け、穴開
き部にレーザー光線を照射し、第2の絶縁接着剤層の一
部を切削した後に、銅めっきを施し、バイアホールを形
成した。更に、外層銅箔をエッチングして所望の回路を
形成し、金属ベース多層回路基板を得た。この金属ベー
ス多層回路基板について、熱抵抗、耐電圧、電子素子の
動作安定性、及び生産性を測定した。結果は表1に記載
したように良好であった。
Example 2 Aluminum oxide (A-42, manufactured by Showa Denko KK) was placed on an aluminum plate of 510 mm × 510 mm × 1.5 mm.
Using bisphenol A type epoxy resin containing 56% by volume (Epicoat 828, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) as an insulating adhesive, adding an amine-based curing agent,
m, and a copper foil having a thickness of 35 μm was laminated by a laminating method and cured by heating. next,
After the copper foil was etched to form a shield pattern, a bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Co., Ltd .; Epicoat 828) containing 54% by volume of aluminum oxide was used as an insulating adhesive on the copper foil. An amine-based curing agent was added, and the mixture was applied so as to have a thickness of 250 μm, and a copper foil having a thickness of 35 μm was adhered by a lamination method and cured by heating. Next, a circular hole having a diameter of 0.5 mm is formed in a predetermined portion of the outer layer copper foil by etching, a laser beam is applied to the hole, and a portion of the second insulating adhesive layer is cut, and then copper plating is performed. Via holes were formed. Further, a desired circuit was formed by etching the outer layer copper foil to obtain a metal-based multilayer circuit board. This metal-based multilayer circuit board was measured for thermal resistance, withstand voltage, operation stability of electronic elements, and productivity. The results were good as described in Table 1.

【0039】〔実施例〕 510mm×510mm×1.5mmのアルミニウム板
上に、酸化アルミニウム(昭和電工(株)製:A−42
−2)を56体積%含有するビスフェノールA型エポキ
シ樹脂(油化シェル(株)製:エピコート828)を絶
縁接着剤として用い、アミン系硬化剤を加え、20μm
の厚みとなるように塗布し、厚さが35μmの銅箔をラ
ミネート法により張り合わせ、加熱硬化した。次に、こ
の銅箔をエッチングしてシールドパターンを形成した後
に、銅箔上に前記の酸化アルミニウムを54体積%含有
するビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル
(株)製;エピコート828)を絶縁接着剤として用
い、アミン系硬化剤を加え、250μmの厚みとなるよ
うに塗布し、さらに厚さが35μmの銅箔をラミネート
法により張り合わせ、加熱硬化した。次に、外層銅箔の
所定箇所にエッチングによりφ0.5mmの丸穴を開
け、穴開き部にレーザー光線を照射し、第2の絶縁接着
剤層の一部を切削した後に、銅めっきを施し、バイアホ
ールを形成した。更に、外層銅箔をエッチングして所望
の回路を形成し、金属ベース多層回路基板を得た。この
金属ベース多層回路基板について、熱抵抗、耐電圧、電
子素子の動作安定性、及び生産性を測定した。結果は表
1に記載したように良好であった。
Example 3 Aluminum oxide (A-42, manufactured by Showa Denko KK) was placed on an aluminum plate of 510 mm × 510 mm × 1.5 mm.
Bisphenol A type epoxy resin containing 56% by volume (Epicoat 828, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) was used as an insulating adhesive, and an amine-based curing agent was added thereto.
, And a copper foil having a thickness of 35 μm was adhered by a laminating method and cured by heating. Next, after the copper foil was etched to form a shield pattern, a bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Co .; Epicoat 828) containing 54% by volume of aluminum oxide was insulated on the copper foil. An amine-based curing agent was added thereto, and applied so as to have a thickness of 250 μm. A copper foil having a thickness of 35 μm was laminated by a laminating method and cured by heating. Next, a circular hole having a diameter of 0.5 mm is formed in a predetermined portion of the outer layer copper foil by etching, a laser beam is applied to the hole, and a portion of the second insulating adhesive layer is cut, and then copper plating is performed. Via holes were formed. Further, a desired circuit was formed by etching the outer layer copper foil to obtain a metal-based multilayer circuit board. This metal-based multilayer circuit board was measured for thermal resistance, withstand voltage, operation stability of electronic elements, and productivity. The results were good as described in Table 1.

【0040】〔実施例〕 510mm×510mm×1.5mmのアルミニウム板
上に、酸化アルミニウム(昭和電工(株)製:A−42
−2)を56体積%含有するビスフェノールA型エポキ
シ樹脂(油化シェル(株)製:エピコート828)を絶
縁接着剤として用い、アミン系硬化剤を加え、200μ
mの厚みとなるように塗布し、厚さが35μmの銅箔を
ラミネート法により張り合わせ、加熱硬化した。次に、
この銅箔をエッチングしてシールドパターンを形成した
後に、銅箔上に前記の絶縁接着剤をアミン系硬化剤を加
え、200μmの厚みとなるように塗布し、さらに厚さ
が35μmの銅箔をラミネート法により張り合わせ、加
熱硬化した。次に、外層銅箔の所定箇所をエッチングし
てφ0.5mmの丸穴を開け、穴開き部にレーザー光線
を照射し、第2の絶縁接着剤層の一部を切削した後に、
銅めっきを施し、バイアホールを形成した。さらに外層
銅箔をエッチングして所望の回路を形成し、金属ベース
多層回路基板を得た。この金属ベース多層回路基板につ
いて、熱抵抗、耐電圧、電子素子の動作安定性、及び生
産性を測定した。結果は、表1に記載したように、良好
であった。
Example 4 Aluminum oxide (A-42, manufactured by Showa Denko KK) was placed on an aluminum plate of 510 mm × 510 mm × 1.5 mm.
Using bisphenol A type epoxy resin containing 56% by volume (Epicoat 828, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) as an insulating adhesive, adding an amine-based curing agent,
m, and a copper foil having a thickness of 35 μm was laminated by a laminating method and cured by heating. next,
After the copper foil was etched to form a shield pattern, the above-mentioned insulating adhesive was applied to the copper foil so as to have a thickness of 200 μm by adding an amine-based curing agent, and further a copper foil having a thickness of 35 μm was formed. They were laminated by a lamination method and cured by heating. Next, a predetermined portion of the outer layer copper foil is etched to form a round hole of φ0.5 mm, a laser beam is applied to the hole, and a part of the second insulating adhesive layer is cut.
Copper plating was performed to form via holes. Further, a desired circuit was formed by etching the outer layer copper foil to obtain a metal-based multilayer circuit board. This metal-based multilayer circuit board was measured for thermal resistance, withstand voltage, operation stability of electronic elements, and productivity. The results were good, as described in Table 1.

【0041】〔実施例〕 510mm×510mm×1.5mmのアルミニウム板
上に、酸化アルミニウム(昭和電工(株)製:A−42
−2)を56体積%含有するビスフェノールA型エポキ
シ樹脂(油化シェル(株)製:エピコート828)を絶
縁接着剤として用い、アミン系硬化剤を加え、200μ
mの厚みとなるように塗布し、厚さが35μmの銅箔を
ラミネート法により張り合わせ、加熱硬化した。次に、
銅箔をエッチングしてシールドパターンを形成した後
に、銅箔上に前記の絶縁接着剤をアミン系硬化剤を加
え、40μmの厚みとなるように塗布し、厚さが35μ
mの銅箔をラミネート法により張り合わせ、加熱硬化し
た。次に、外層銅箔の所定箇所をエッチングしてφ0.
5mmの丸穴を開け、穴開き部にレーザー光線を照射
し、第2絶縁接着剤層の一部を切削した後に、銅めっき
を施し、バイアホールを形成した。さらに外層銅箔をエ
ッチングして所望の回路を形成し、金属ベース多層回路
基板を得た。この金属ベース多層回路基板について、熱
抵抗、耐電圧、電子素子の動作安定性、及び生産性を測
定した。結果は良好であり、表1に記載した。
Example 5 Aluminum oxide (A-42 manufactured by Showa Denko KK) was placed on a 510 mm × 510 mm × 1.5 mm aluminum plate.
Using bisphenol A type epoxy resin containing 56% by volume (Epicoat 828, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) as an insulating adhesive, adding an amine-based curing agent,
m, and a copper foil having a thickness of 35 μm was laminated by a laminating method and cured by heating. next,
After the copper foil is etched to form a shield pattern, the above-mentioned insulating adhesive is applied on the copper foil so as to have a thickness of 40 μm by adding an amine-based curing agent to a thickness of 35 μm.
m copper foils were laminated by a laminating method and heat-cured. Next, a predetermined portion of the outer layer copper foil was etched to obtain φ0.
A 5 mm round hole was made, and a laser beam was applied to the hole to cut a part of the second insulating adhesive layer, followed by copper plating to form a via hole. Further, a desired circuit was formed by etching the outer layer copper foil to obtain a metal-based multilayer circuit board. This metal-based multilayer circuit board was measured for thermal resistance, withstand voltage, operation stability of electronic elements, and productivity. The results were good and are described in Table 1.

【0042】〔実施例〕 510mm×510mm×1.5mmのアルミニウム板
上に、酸化アルミニウム(昭和電工(株)製:A−42
−2)を80体積%含有するビスフェノールF型エポキ
シ樹脂(油化シェル(株)製:エピコート807)を絶
縁接着剤として用い、アミン系硬化剤を加え、200μ
mの厚みとなるように塗布し、厚さが35μmの銅箔を
ラミネート法により張り合わせた。次に、銅箔をエッチ
ングしてシールドパターンを形成した後に、銅箔上に前
記の絶縁接着剤をアミン系硬化剤を加え、200μmの
厚みとなるように塗布し、厚さが35μmの銅箔をラミ
ネート法により張り合わせ、加熱硬化した。次に、外層
銅箔の所定箇所をドリルによりφ0.5mmの丸穴を開
け、第2絶縁接着剤層の深さまで切削した後に、銅めっ
きを施し、バイアホールを形成した。さらに外層銅箔を
エッチングして所望の回路を形成し、金属ベース多層回
路基板を得た。この金属ベース多層回路基板について、
熱抵抗、耐電圧、電子素子の動作安定性、及び生産性を
測定した。結果は、表1に記載したように良好であっ
た。
Example 6 Aluminum oxide (A-42, manufactured by Showa Denko KK) was placed on an aluminum plate of 510 mm × 510 mm × 1.5 mm.
Using bisphenol F type epoxy resin containing 80% by volume (Epicoat 807 manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) as an insulating adhesive, adding an amine-based curing agent,
m, and a copper foil having a thickness of 35 μm was laminated by a lamination method. Next, after the copper foil is etched to form a shield pattern, the above-mentioned insulating adhesive is applied on the copper foil so as to have a thickness of 200 μm by adding an amine-based curing agent, and the copper foil having a thickness of 35 μm is formed. Were laminated by a laminating method and cured by heating. Next, a predetermined hole in the outer layer copper foil was drilled into a round hole of φ0.5 mm, cut to the depth of the second insulating adhesive layer, and then plated with copper to form a via hole. Further, a desired circuit was formed by etching the outer layer copper foil to obtain a metal-based multilayer circuit board. About this metal-based multilayer circuit board,
The thermal resistance, the withstand voltage, the operation stability of the electronic device, and the productivity were measured. The results were good as described in Table 1.

【0043】〔参考例5〕 510mm×510mm×1.5mmのアルミニウム板
上に、窒化珪素(電気化学工業工業(株)製;SN−
9)を48体積%含有するビスフェノールF型エポキシ
樹脂(油化シェル(株)製:エピコート807)を絶縁
接着剤として用い、アミン系硬化剤を加え、200μm
の厚みとなるように塗布し、厚さが35μmの銅箔をラ
ミネート法により張り合わせた。次に、銅箔をエッチン
グしてシールドパターンを形成した後に、銅箔上に酸化
アルミニウム(昭和電工(株)製;A−42−2)を5
6体積%含有するビスフェノールF型エポキシ樹脂を絶
縁接着剤として用い、アミン系硬化剤を加え、200μ
mの厚みとなるように塗布し、厚さが35μmの銅箔を
ラミネート法により張り合わせ、加熱硬化した。次に、
外層銅箔の所定箇所をドリルによりφ0.5mmの丸穴
を開け、第2の絶縁接着剤層の部分まで切削した後に、
銅めっきを施し、バイアホールを形成した。さらに外層
銅箔をエッチングして所望の回路を形成し、金属ベース
多層回路基板を得た。この金属ベース多層回路基板につ
いて、熱抵抗、耐電圧、電子素子の動作安定性、及び生
産性を測定した。結果は、表1に記載したように良好で
あった。
Reference Example 5 Silicon nitride (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Kogyo KK; SN-) was placed on an aluminum plate of 510 mm × 510 mm × 1.5 mm.
Using bisphenol F type epoxy resin containing 48 volume% of 9) (Eicoat 807 manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) as an insulating adhesive, adding an amine-based curing agent, and adding 200 μm
And a copper foil having a thickness of 35 μm was laminated by a lamination method. Next, after the copper foil was etched to form a shield pattern, aluminum oxide (A-42-2, manufactured by Showa Denko KK) was applied on the copper foil for 5 hours.
A bisphenol F type epoxy resin containing 6% by volume was used as an insulating adhesive, and an amine-based curing agent was added.
m, and a copper foil having a thickness of 35 μm was laminated by a laminating method and cured by heating. next,
After drilling a round hole of φ0.5 mm by drilling a predetermined portion of the outer copper foil and cutting it to the second insulating adhesive layer,
Copper plating was performed to form via holes. Further, a desired circuit was formed by etching the outer layer copper foil to obtain a metal-based multilayer circuit board. This metal-based multilayer circuit board was measured for thermal resistance, withstand voltage, operation stability of electronic elements, and productivity. The results were good as described in Table 1.

【0044】〔参考例6〕 510mm×510mm×1.5mmのアルミニウム板
上に、酸化アルミニウム(昭和電工(株)製;A−42
−2)を56体積%含有するビスフェノールF型エポキ
シ樹脂(油化シェル(株)製:エピコート807)を絶
縁接着剤として用い、アミン系硬化剤を加え、200μ
mの厚みとなるように塗布し、厚さが35μmの銅箔を
ラミネート法により張り合わせた。次に、銅箔をエッチ
ングしてシールドパターンを形成した後に、銅箔上に窒
化珪素(電気化学工業(株)製;SN−9)を48体積
%含有するビスフェノールF型エポキシ樹脂を絶縁接着
剤として用い、アミン系硬化剤を加え、200μmの厚
みとなるように塗布し、厚さが35μmの銅箔をラミネ
ート法により張り合わせ、加熱硬化した。次に、外層銅
箔の所定箇所をドリルによりφ0.5mmの丸穴を開
け、第2の絶縁接着剤層の部分まで切削した後に、銅め
っきを施し、バイアホールを形成した。さらに外層銅箔
をエッチングして所望の回路を形成し、金属ベース多層
回路基板を得た。この金属ベース多層回路基板につい
て、熱抵抗、耐電圧、電子素子の動作安定性、及び生産
性を測定した。結果は、表1に記載したように良好であ
った。
Reference Example 6 Aluminum oxide (A-42, manufactured by Showa Denko KK) was placed on an aluminum plate of 510 mm × 510 mm × 1.5 mm.
Using bisphenol F type epoxy resin containing 56% by volume (Epicoat 807 manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) as an insulating adhesive, adding an amine-based curing agent,
m, and a copper foil having a thickness of 35 μm was laminated by a lamination method. Next, after etching the copper foil to form a shield pattern, a bisphenol F type epoxy resin containing 48% by volume of silicon nitride (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd .; SN-9) is coated on the copper foil with an insulating adhesive. An amine-based curing agent was added, and the mixture was applied so as to have a thickness of 200 μm, and a copper foil having a thickness of 35 μm was adhered by a lamination method and cured by heating. Next, a predetermined hole of the outer layer copper foil was drilled into a round hole having a diameter of 0.5 mm and cut to a portion of the second insulating adhesive layer, and then plated with copper to form a via hole. Further, a desired circuit was formed by etching the outer layer copper foil to obtain a metal-based multilayer circuit board. This metal-based multilayer circuit board was measured for thermal resistance, withstand voltage, operation stability of electronic elements, and productivity. The results were good as described in Table 1.

【0045】〔比較例1〕 基材の厚みが60μmで、35μm厚の所望の回路を前
記基材の両面に有するガラスエポキシ樹脂回路基板に、
ドリルにより所定の箇所にφ0.5mmの貫通孔を開け
た後、銅めっきを施し、バイアホールを形成した。ま
た、両面の銅箔をエッチングして所望の回路を形成し
た。次に、510mm×510mm×1.5mmのアル
ミニウム板上にガラスエポキシプレプリグを厚さ100
μmとなるように塗布し、前記ガラスエポキシ樹脂回路
基板を配置し加熱硬化して、金属ベース多層回路基板を
作製した。この金属ベース多層回路基板について、熱抵
抗、耐電圧、電子素子の動作安定性、及び生産性を実施
例1と同一の方法で測定した。その結果、熱抵抗は3.
8℃/W、パワー電子素子の動作安定性は20Wであ
り、不良であった。
Comparative Example 1 A glass epoxy resin circuit board having a base material having a thickness of 60 μm and a desired circuit having a thickness of 35 μm on both sides of the base material was prepared as follows.
After a through hole having a diameter of 0.5 mm was formed in a predetermined place by a drill, copper plating was performed to form a via hole. Further, a desired circuit was formed by etching the copper foil on both sides. Next, a glass epoxy prepreg having a thickness of 100 mm was formed on an aluminum plate of 510 mm × 510 mm × 1.5 mm.
μm, and the glass epoxy resin circuit board was placed and cured by heating to produce a metal-based multilayer circuit board. For this metal-based multilayer circuit board, the thermal resistance, the withstand voltage, the operation stability of the electronic element, and the productivity were measured in the same manner as in Example 1. As a result, the thermal resistance is 3.
At 8 ° C./W, the operation stability of the power electronic device was 20 W, which was poor.

【0046】〔比較例2〕 厚さ35μmの銅箔からなる所望の回路を両面に有し、
基材が60μm厚さのガラスエポキシ樹脂からなるガラ
スエポキシ樹脂回路基板(松下電工(株)製;R−17
66)を用意し、ドリルにより所定の箇所にφ0.5m
mの貫通孔を開けた後、銅めっきを施し、バイアホール
を形成した。また、両面の銅箔をエッチングして所望の
回路を形成した。次に、510mm×510mm×1.
5mmのアルミニウム板上に、窒化珪素(電気化学工業
(株)製;SN−9)を57体積%含有するビスフェノ
ールF型エポキシ樹脂(油化シェル(株)製;エピコー
ト807)を絶縁接着剤として用い、アミン系硬化剤を
加え、200μmの厚みとなるように塗布し、前記ガラ
スエポキシ樹脂回路基板をラミネート法により張り合わ
せた、加熱硬化して金属ベース多層回路基板を作製し
た。上記金属ベース多層回路基板について、熱抵抗、耐
電圧、電子素子の動作安定性、及び生産性を測定した。
その結果、表1に記載したように、熱抵抗、耐電圧、電
子素子の動作安定性は良好であったが、生産性が低く不
良であった。
Comparative Example 2 A desired circuit made of a copper foil having a thickness of 35 μm was provided on both sides.
Glass epoxy resin circuit board made of glass epoxy resin having a thickness of 60 μm (Matsushita Electric Works, Ltd .; R-17)
66) is prepared, and φ0.5m
After opening a through hole of m, copper plating was performed to form a via hole. Further, a desired circuit was formed by etching the copper foil on both sides. Next, 510 mm × 510 mm × 1.
A bisphenol F type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Co .; Epicoat 807) containing 57% by volume of silicon nitride (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd .; SN-9) was used as an insulating adhesive on a 5 mm aluminum plate. An amine-based curing agent was added thereto, applied so as to have a thickness of 200 μm, laminated with the glass epoxy resin circuit board by a laminating method, and cured by heating to produce a metal-based multilayer circuit board. With respect to the metal-based multilayer circuit board, thermal resistance, withstand voltage, operation stability of electronic elements, and productivity were measured.
As a result, as shown in Table 1, the thermal resistance, the withstand voltage and the operation stability of the electronic element were good, but the productivity was low and the product was poor.

【0047】〔実施例〕 510mm×510mm×1.5mmのアルミニウム板
上に、窒化硼素(電気化学工業(株)製;GP)を53
体積%含有するビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化
シェル(株)製;エピコート828)を絶縁接着剤とし
て用い、アミン系硬化剤を加え、200μmの厚みとな
るように塗布し、厚さが35μmの銅箔をラミネート法
により張り合わせた。次に、この銅箔に内層回路を形成
した後に、その上の所定の部分のみに前記絶縁接着剤を
アミン系硬化剤を加え、200μmの厚みとなるように
塗布し、さらに厚さが35μmの銅箔をラミネート法に
より張り合わせ、加熱硬化した。次に、直下に銅箔を有
する外層銅箔の所定箇所にドリルによりφ0.5mmの
丸穴を開け、第2絶縁接着剤層まで切削した後に、銅め
っきを施し、バイアホールを形成した。この表面にエッ
チングにより所望の外層回路を形成し、内層回路の一部
が露出した金属ベース多層回路基板を得た。前記金属ベ
ース多層回路基板について、熱抵抗、耐電圧、電子素子
の動作安定性、及び生産性を測定した。結果は表2に記
載した通り、良好であった。
Example 7 On an aluminum plate of 510 mm × 510 mm × 1.5 mm, 53 boron nitride (GP, manufactured by Denki Kagaku Kogyo KK) were placed.
A bisphenol A-type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Co., Ltd .; Epicoat 828) containing a volume% is used as an insulating adhesive, an amine-based curing agent is added, and the mixture is applied to a thickness of 200 μm to form a coating having a thickness of 35 μm. Copper foil was laminated by a lamination method. Next, after the inner layer circuit is formed on the copper foil, the above-mentioned insulating adhesive is added to only a predetermined portion of the copper foil so as to have an amine-based curing agent, and is applied so as to have a thickness of 200 μm. The copper foil was laminated by a lamination method and cured by heating. Next, a circular hole having a diameter of 0.5 mm was drilled at a predetermined position of the outer layer copper foil having a copper foil immediately below, and after cutting to the second insulating adhesive layer, copper plating was performed to form a via hole. A desired outer layer circuit was formed on the surface by etching to obtain a metal-based multilayer circuit board in which a part of the inner layer circuit was exposed. With respect to the metal-based multilayer circuit board, thermal resistance, withstand voltage, operation stability of electronic elements, and productivity were measured. The results were good as described in Table 2.

【0048】[0048]

【表2】 [Table 2]

【0049】〔参考例7〕 絶縁接着剤に酸化アルミニウム(昭和電工(株)製:A
−42−2)を54体積%含有するシリコーン樹脂(東
レダウコーニングシリコーン(株)製;SE1880)
を用いたこと以外は、実施例13と同一の操作をして得
た内層回路の一部が露出した金属ベース多層回路基板に
ついて、熱抵抗、耐電圧、電子素子の動作安定性、及び
生産性を同様の方法で測定した。結果は表2に記載した
ように良好であった。
[ Reference Example 7 ] Aluminum oxide (shown by Showa Denko KK: A
-42-2) containing 54% by volume (manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd .; SE1880)
Except for the use of the same, a metal-based multilayer circuit board with a part of the inner layer circuit obtained by performing the same operation as in Example 13 was used, and the thermal resistance, the withstand voltage, the operation stability of the electronic element, and the productivity Was measured in the same manner. The results were good as described in Table 2.

【0050】〔参考例8〕 510mm×510mm×1.5mmのアルミニウム板
上に、酸化アルミニウム(昭和電工(株)製:A−42
−2)を54体積%含有するビスフェノールA型エポキ
シ樹脂(油化シェル(株)製:エピコート828)を絶
縁接着剤として用い、アミン系硬化剤を加え、200μ
mの厚みとなるように塗布し、厚さが5μmの銅箔をラ
ミネート法により張り合わせ、加熱硬化した。次に、こ
の銅箔をエッチングして内層回路を形成した後、その上
の所定の部分のみに前述の絶縁接着剤をアミン系硬化剤
を加え、200μmの厚みとなるように塗布し、厚さが
5μmの銅箔をラミネート法により張り合わせた後、加
熱硬化した。次に、直下に銅箔を有する外層銅箔の所定
箇所にエッチングによりφ0.5mmの丸穴を開け、穴
開き部にレーザー光線を照射し、第2絶縁接着剤層上の
絶縁層を切削した後に、銅めっきを施して、バイアホー
ルを形成した。次に、外層銅箔をエッチングして所望の
外層回路を形成し、内層回路の一部が露出した金属ベー
ス多層回路基板を得た。この金属ベース多層回路基板に
ついて、熱抵抗、耐電圧、電子素子の動作安定性、及び
生産性を測定した。結果は表2に記載した通り、良好で
あった。
Reference Example 8 Aluminum oxide (A-42, manufactured by Showa Denko KK) was placed on an aluminum plate of 510 mm × 510 mm × 1.5 mm.
Bisphenol A type epoxy resin containing 54% by volume (Epicoat 828, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) was used as an insulating adhesive, and an amine-based curing agent was added.
m, and a copper foil having a thickness of 5 μm was adhered by a lamination method and cured by heating. Next, after the copper foil is etched to form an inner layer circuit, the above-mentioned insulating adhesive is added to only a predetermined portion thereof with an amine-based curing agent and applied to a thickness of 200 μm. After laminating a copper foil having a thickness of 5 μm by a laminating method, it was cured by heating. Next, a predetermined hole of the outer copper foil having a copper foil immediately below is drilled into a circular hole of φ0.5 mm by etching, a laser beam is applied to the hole, and the insulating layer on the second insulating adhesive layer is cut. Then, copper plating was performed to form via holes. Next, a desired outer layer circuit was formed by etching the outer layer copper foil, and a metal-based multilayer circuit board in which a part of the inner layer circuit was exposed was obtained. This metal-based multilayer circuit board was measured for thermal resistance, withstand voltage, operation stability of electronic elements, and productivity. The results were good as described in Table 2.

【0051】〔参考例9〕 510mm×510mm×1.5mmのアルミニウム板
上に、酸化アルミニウム(昭和電工(株)製:A−42
−2)を54体積%含有するビスフェノールA型エポキ
シ樹脂(油化シェル(株)製:エピコート828)を絶
縁接着剤として用い、アミン系硬化剤を加え、200μ
mの厚みとなるように塗布し、厚さが150μmの銅箔
をラミネート法により張り合わせ、加熱硬化した。次
に、この銅箔をエッチングして内層回路を形成した後、
その上の所定の部分のみに前述の絶縁接着剤をアミン系
硬化剤を加え、200μmの厚みとなるように塗布し、
厚さが150μmの銅箔をラミネート法により張り合わ
せた後、加熱硬化した。次に、直下に銅箔を有する外層
銅箔の所定箇所にエッチングによりφ0.5mmの丸穴
を開け、穴開き部にレーザー光線を照射し、第2絶縁接
着剤層上の絶縁層を切削した後に、銅めっきを施して、
バイアホールを形成した。更に、外層銅箔をエッチング
して所望の外層回路を形成し、内層回路の一部が露出し
た金属ベース多層回路基板を得た。この金属ベース多層
回路基板について、熱抵抗、耐電圧、電子素子の動作安
定性、及び生産性を測定した。結果は表2に記載した通
り、良好であった。
Reference Example 9 Aluminum oxide (A-42, manufactured by Showa Denko KK) was placed on a 510 mm × 510 mm × 1.5 mm aluminum plate.
Bisphenol A type epoxy resin containing 54% by volume (Epicoat 828, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) was used as an insulating adhesive, and an amine-based curing agent was added.
m, and a copper foil having a thickness of 150 μm was adhered by a lamination method and cured by heating. Next, after etching this copper foil to form an inner layer circuit,
The above-mentioned insulating adhesive is added to only a predetermined portion thereon with an amine-based curing agent and applied so as to have a thickness of 200 μm.
After laminating a copper foil having a thickness of 150 μm by a lamination method, it was cured by heating. Next, a predetermined hole of the outer copper foil having a copper foil immediately below is drilled into a circular hole of φ0.5 mm by etching, a laser beam is applied to the hole, and the insulating layer on the second insulating adhesive layer is cut. , Copper plating,
Via holes were formed. Further, a desired outer layer circuit was formed by etching the outer layer copper foil, and a metal-based multilayer circuit board in which a part of the inner layer circuit was exposed was obtained. This metal-based multilayer circuit board was measured for thermal resistance, withstand voltage, operation stability of electronic elements, and productivity. The results were good as described in Table 2.

【0052】[0052]

【発明の効果】本発明によれば、金属板に金属酸化物及
び/又は金属窒化物を含有する絶縁接着剤を介して回路
基板を接合した構造の金属ベース多層回路基板におい
て、一層熱抵抗が小さく、熱放散性に優れ、耐ノイズ性
と耐電圧性に優れる金属ベース多層回路基板を生産性良
く提供することができる。
According to the present invention, in a metal-based multilayer circuit board having a structure in which a circuit board is joined to a metal plate via an insulating adhesive containing a metal oxide and / or a metal nitride, the thermal resistance is further reduced. A metal-based multilayer circuit board that is small, has excellent heat dissipation, and has excellent noise resistance and voltage resistance can be provided with high productivity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の金属ベース多層回路基板に用いる金
属ベース回路基板の一例を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing an example of a metal-based circuit board used for a metal-based multilayer circuit board of the present invention.

【図2】 本発明の製造法での第(1)工程後の金属ベ
ース回路基板の一例を示す図。
FIG. 2 is a view showing an example of a metal-based circuit board after a first step (1) in the manufacturing method of the present invention.

【図3】 本発明の製造法での第(2)工程の途中を示
す一例の図で、回路用導体層のみが開孔されている状態
を示す図。
FIG. 3 is a view of an example showing a middle of a step (2) in the manufacturing method of the present invention, showing a state in which only a circuit conductor layer is opened.

【図4】 本発明の製造法での第(2)工程の途中を示
す一例の図で、回路用導体層と第2の絶縁接着剤層が開
孔されている状態を示す図。
FIG. 4 is a view of an example showing the middle of the step (2) in the manufacturing method of the present invention, showing a state in which the circuit conductor layer and the second insulating adhesive layer are opened.

【図5】 本発明の製造法での第(2)工程後を示す一
例の図で、バイアホールが形成されている状態を示す
図。
FIG. 5 is a view of an example showing a state after the step (2) in the manufacturing method of the present invention, in which a via hole is formed.

【図6】 本発明の製造法での第(3)工程後を示す一
例の図で、本発明の金属ベース多層回路基板の一例であ
る。
FIG. 6 is an example of a view after the step (3) in the manufacturing method of the present invention, which is an example of the metal-based multilayer circuit board of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 金属板 2 第1の絶縁接着剤層 3 導体回路 4 金属ベース回路基板 5 第2の絶縁接着剤層 6 回路用導体層 7 バイアホール 8 金属ベース多層回路基板 REFERENCE SIGNS LIST 1 metal plate 2 first insulating adhesive layer 3 conductive circuit 4 metal-based circuit board 5 second insulating adhesive layer 6 circuit conductive layer 7 via hole 8 metal-based multilayer circuit board

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−216391(JP,A) 特開 昭60−171791(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 3/46 H05K 1/05 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-61-216391 (JP, A) JP-A-60-171791 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H05K 3/46 H05K 1/05

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】(1)金属板上に、第1の絶縁接着剤層を
介して導体回路を形成してなる金属ベース回路基板の前
記導体回路上に第2の絶縁接着剤層を介して回路用導体
層を接合する工程、 (2)前記導体回路と回路用導体層を電気的に接続する
ためのバイアホールを形成する工程、 (3)前記回路用導体層に回路を形成する工程、 を経る金属ベース多層回路基板の製造法にて製造された
金属ベース多層回路基板であって、前記第1の絶縁接着
剤層の熱伝導率が35×10-4cal/cm・sec・℃以上15
0×10-4cal/cm・sec・℃以下であり、厚さが20μm
以上200μm以下であることを特徴とする金属ベース
多層回路基板。
(1) A conductive circuit is formed on a metal plate via a first insulating adhesive layer. A conductive circuit is formed on the metal base circuit board via a second insulating adhesive layer. Joining the circuit conductor layer; (2) forming a via hole for electrically connecting the conductor circuit and the circuit conductor layer; (3) forming a circuit in the circuit conductor layer; Wherein the first insulating adhesive layer has a thermal conductivity of 35 × 10 −4 cal / cm · sec · ° C. or more. Fifteen
0 × 10 −4 cal / cm · sec · ° C. or less, thickness 20 μm
A metal-based multilayer circuit board having a thickness of 200 μm or less.
【請求項2】第2の絶縁接着剤層の熱伝導率が35×1
-4cal/cm・sec・℃以上150×10-4cal/cm・sec・℃以
下であり、厚さが40μm以上200μm以下であるこ
とを特徴とする請求項1記載の金属ベース多層回路基
板。
2. The thermal conductivity of the second insulating adhesive layer is 35 × 1.
0 -4 cal / cm · sec · ℃ than 150 × 10 -4 cal / cm · sec · ℃ or less, according to claim 1, wherein the thickness is equal to or is 40μm or more 200μm or less metal base multilayer circuit substrate.
【請求項3】金属板上に、第1の絶縁接着剤層を介して
導体回路を設け、前記導体回路上に第2の絶縁接着剤層
を介して回路導体層より形成された回路を設けてなる
属ベース多層回路基板であって、第1、第2の絶縁接着
剤層の熱伝導率がともに35×10-4cal/cm・sec・℃以
上150×10-4cal/cm・sec・℃以下であり、厚さがそ
れぞれ20μm以上200μm以下、40μm以上20
0μm以下であることを特徴とする金属ベース多層回路
基板。
To 3. A metal plate, set only a conductor circuit through the first insulating adhesive layer, the circuit formed from the circuit conductor layer through the second insulating adhesive layer on the conductor circuit A metal-based multi-layer circuit board provided , wherein the first and second insulating adhesive layers both have a thermal conductivity of 35 × 10 −4 cal / cm · sec · ° C. or more and 150 × 10 −. 4 cal / cm · sec · ° C or less, and the thickness is 20 μm or more and 200 μm or less and 40 μm or more, respectively.
A metal-based multilayer circuit board having a thickness of 0 μm or less.
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