JP3170527B2 - Ｘ線回折装置の微回転ゴニオメータ - Google Patents
Ｘ線回折装置の微回転ゴニオメータInfo
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- JP3170527B2 JP3170527B2 JP30585292A JP30585292A JP3170527B2 JP 3170527 B2 JP3170527 B2 JP 3170527B2 JP 30585292 A JP30585292 A JP 30585292A JP 30585292 A JP30585292 A JP 30585292A JP 3170527 B2 JP3170527 B2 JP 3170527B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、Ｘ線回折装置のゴニ
オメータの試料台や検出器支持台を微小回転させるため
の微回転ゴニオメータに関する。
オメータの試料台や検出器支持台を微小回転させるため
の微回転ゴニオメータに関する。
【０００２】
【従来の技術】２結晶法を用いた精密Ｘ線回折装置で
は、試料台を微小回転させるための特別なゴニオメータ
が使用される。このような微小回転を可能にするゴニオ
メータを、以下、微回転ゴニオメータと呼ぶ。
は、試料台を微小回転させるための特別なゴニオメータ
が使用される。このような微小回転を可能にするゴニオ
メータを、以下、微回転ゴニオメータと呼ぶ。
【０００３】従来の微回転ゴニオメータは、サインバー
方式あるいはタンジェントバー方式（タンジェンシャル
スクリュー方式）を採用している。図４の（Ａ）はサイ
ンバー方式の微回転ゴニオメータの原理を示した平面図
である。試料台の回転軸１０に直角にアーム１２が固定
され、アーム１２の先端付近がマイクロメータ１４のス
ピンドル１６に押されるようになっている。スピンドル
１６とは反対の側には、押圧ばね１７に支持された支持
棒１８がある。アーム１２の先端付近には鋼球２０が埋
め込まれていて、スピンドル１６の端面（平坦面）は鋼
球２０に接触する。基台２２に固定されたマイクロメー
タ１４を回転させると、スピンドル１６が直線運動し
て、アーム１２が微小角度だけ回転する。回転軸１０の
回転中心から鋼球２０の中心までの距離をＬ、スピンド
ル１６の移動距離（すなわち鋼球２０の中心がスピンド
ル１６の移動方向に動く距離）をｘ、アーム１２の回転
角をθとすると、これらの間には次の関係がある。
方式あるいはタンジェントバー方式（タンジェンシャル
スクリュー方式）を採用している。図４の（Ａ）はサイ
ンバー方式の微回転ゴニオメータの原理を示した平面図
である。試料台の回転軸１０に直角にアーム１２が固定
され、アーム１２の先端付近がマイクロメータ１４のス
ピンドル１６に押されるようになっている。スピンドル
１６とは反対の側には、押圧ばね１７に支持された支持
棒１８がある。アーム１２の先端付近には鋼球２０が埋
め込まれていて、スピンドル１６の端面（平坦面）は鋼
球２０に接触する。基台２２に固定されたマイクロメー
タ１４を回転させると、スピンドル１６が直線運動し
て、アーム１２が微小角度だけ回転する。回転軸１０の
回転中心から鋼球２０の中心までの距離をＬ、スピンド
ル１６の移動距離（すなわち鋼球２０の中心がスピンド
ル１６の移動方向に動く距離）をｘ、アーム１２の回転
角をθとすると、これらの間には次の関係がある。
【０００４】
【数１】ｘ＝Ｌ・ｓｉｎθ …（１） θ＝ｓｉｎ-1（ｘ／Ｌ）…（２）
【０００５】したがって、図４の（Ａ）に示す微回転ゴ
ニオメータはサインバー方式と呼ばれる。上記式（１）
において、θの単位をラジアンとし、θが十分小さいと
き（距離Ｌに対して移動距離ｘが十分短いとき）は、次
式のように近似できる。
ニオメータはサインバー方式と呼ばれる。上記式（１）
において、θの単位をラジアンとし、θが十分小さいと
き（距離Ｌに対して移動距離ｘが十分短いとき）は、次
式のように近似できる。
【０００６】
【数２】ｘ＝Ｌ・θ …（３） θ＝ｘ／Ｌ…（４）
【０００７】すなわち、θが小さいときには、スピンド
ル１６の変位ｘと、アーム１２の角度θとは比例関係に
あり、ゴニオメータの回転軸１０を微小角度だけ回転さ
せるには、その回転角度に比例した量だけスピンドル１
６を変位させている。例えば、Ｌ＝２０６．３ｍｍにす
ると、スピンドルの変位１μｍが、アーム１２（すなわ
ち回転軸１０）の回転角度１秒に相当する。
ル１６の変位ｘと、アーム１２の角度θとは比例関係に
あり、ゴニオメータの回転軸１０を微小角度だけ回転さ
せるには、その回転角度に比例した量だけスピンドル１
６を変位させている。例えば、Ｌ＝２０６．３ｍｍにす
ると、スピンドルの変位１μｍが、アーム１２（すなわ
ち回転軸１０）の回転角度１秒に相当する。
【０００８】図４の（Ｂ）はタンジェントバー方式の微
回転ゴニオメータの原理を示した平面図である。この方
式では、マイクロメータ１４ｂのスピンドル１６ｂの先
端が尖っており、これでアーム１２ｂの平坦面１３を押
している。回転軸１０の回転中心からスピンドル１６ｂ
の先端までの距離をＬ、スピンドル１６の移動距離を
ｘ、アーム１２ｂの回転角をθとすると、これらの間に
は次の関係がある。
回転ゴニオメータの原理を示した平面図である。この方
式では、マイクロメータ１４ｂのスピンドル１６ｂの先
端が尖っており、これでアーム１２ｂの平坦面１３を押
している。回転軸１０の回転中心からスピンドル１６ｂ
の先端までの距離をＬ、スピンドル１６の移動距離を
ｘ、アーム１２ｂの回転角をθとすると、これらの間に
は次の関係がある。
【０００９】
【数３】ｘ＝Ｌ・ｔａｎθ …（５） θ＝ｔａｎ-1（ｘ／Ｌ）…（６）
【００１０】したがって、図４の（Ｂ）に示す微回転ゴ
ニオメータはタンジェントバー方式と呼ばれる。上記式
（５）及び（６）においても、θの単位をラジアンと
し、θが十分小さいとき（距離Ｌに対して移動距離ｘが
十分短いとき）は、式（３）及び（４）と同様に近似で
きる。
ニオメータはタンジェントバー方式と呼ばれる。上記式
（５）及び（６）においても、θの単位をラジアンと
し、θが十分小さいとき（距離Ｌに対して移動距離ｘが
十分短いとき）は、式（３）及び（４）と同様に近似で
きる。
【００１１】図４の（Ｃ）はサインバー方式とタンジェ
ントバー方式の複合型の微回転ゴニオメータの原理を示
した平面図である。この方式では、マイクロメータ１４
ｃのスピンドル１６ｃの先端に鋼球２０ｃを埋め込んで
あり、これでアーム１２ｃの平坦面１３ｃを押してい
る。
ントバー方式の複合型の微回転ゴニオメータの原理を示
した平面図である。この方式では、マイクロメータ１４
ｃのスピンドル１６ｃの先端に鋼球２０ｃを埋め込んで
あり、これでアーム１２ｃの平坦面１３ｃを押してい
る。
【００１２】いずれの微回転ゴニオメータにおいても、
マイクロメータのスピンドルの変位を回転角度に変換す
ることによって、回転軸を微小角度だけ正確に回転させ
るようにしている。
マイクロメータのスピンドルの変位を回転角度に変換す
ることによって、回転軸を微小角度だけ正確に回転させ
るようにしている。
【００１３】一方で、広い角度範囲にわたる回転を実施
するためには、図５の（Ａ）に示すように、モータ５に
よるウォーム２の回転をウォームホイール４に伝える形
式のゴニオメータが用いられている。この広角ゴニオメ
ータでは、通常、０．００１度（３．６秒）のステップ
サイズで回転できるが、そのステップ精度は±１秒程度
である。また、ウォーム軸の１回転はゴニオメータの回
転角で１度に相当するが、ウォーム軸の１回転の間に数
秒の酔歩が存在する。さらに、ゴニオメータ回転軸６と
ウォームホイール４との間の偏心ずれやウォームホイー
ル４の真円からのずれによる累積誤差は全振幅で２０秒
程度ある。図５の（Ｂ）に示すように、ウォーム軸に減
速機８をつけてステップサイズを小さくする処理をした
ゴニオメータもあるが、この場合は、減速機８による誤
差も伴う。したがって、通常の広角ゴニオメータは、測
定の目的によっては、必要な精度が得られない場合があ
る。
するためには、図５の（Ａ）に示すように、モータ５に
よるウォーム２の回転をウォームホイール４に伝える形
式のゴニオメータが用いられている。この広角ゴニオメ
ータでは、通常、０．００１度（３．６秒）のステップ
サイズで回転できるが、そのステップ精度は±１秒程度
である。また、ウォーム軸の１回転はゴニオメータの回
転角で１度に相当するが、ウォーム軸の１回転の間に数
秒の酔歩が存在する。さらに、ゴニオメータ回転軸６と
ウォームホイール４との間の偏心ずれやウォームホイー
ル４の真円からのずれによる累積誤差は全振幅で２０秒
程度ある。図５の（Ｂ）に示すように、ウォーム軸に減
速機８をつけてステップサイズを小さくする処理をした
ゴニオメータもあるが、この場合は、減速機８による誤
差も伴う。したがって、通常の広角ゴニオメータは、測
定の目的によっては、必要な精度が得られない場合があ
る。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の微回転
ゴニオメータにおいては、回転角度θが小さい範囲では
精度の高い微小回転を実現できるが、θの角度が大きく
なるにしたがって、誤差が拡大する。すなわち、式
（４）の近似式と式（２）の理論式の間の誤差分だけ、
誤差が拡大する。したがって、回転角度θの広い範囲に
わたっての角度制御には従来の微回転ゴニオメータを用
いることができない。例えば、角度誤差をコンマ数秒以
内にしたいときには、θを±１度の範囲内で使用しなけ
ればならない。また、角度誤差を１秒以内とする場合
は、θを±２度の範囲内で使用しなければならない。
ゴニオメータにおいては、回転角度θが小さい範囲では
精度の高い微小回転を実現できるが、θの角度が大きく
なるにしたがって、誤差が拡大する。すなわち、式
（４）の近似式と式（２）の理論式の間の誤差分だけ、
誤差が拡大する。したがって、回転角度θの広い範囲に
わたっての角度制御には従来の微回転ゴニオメータを用
いることができない。例えば、角度誤差をコンマ数秒以
内にしたいときには、θを±１度の範囲内で使用しなけ
ればならない。また、角度誤差を１秒以内とする場合
は、θを±２度の範囲内で使用しなければならない。
【００１５】従来の微回転ゴニオメータは、２結晶法に
よる精密Ｘ線回折装置に用いられ、主としてロッキング
カーブの測定に用いられてきた。例えば、ロッキングカ
ーブの測定によって、基板結晶上にエピタキシャル成長
させた単結晶薄膜のミスマッチ量を求めることができ
る。このような場合の測角範囲は数百秒程度でよく、従
来の微回転ゴニオメータで何ら問題はなかった。しか
し、薄膜の構造も複雑になり、微回転ゴニオメータを超
格子の周期測定にも利用するようになってきた。超格子
の周期測定のためには、ブラッグ反射のまわりに出現す
るサテライト反射（衛星反射）の角度位置を測定する必
要があるが、この場合の測角範囲は５〜６度に及ぶこと
もある。また、小角領域にも超格子の周期に応じたピー
クが現れ、その角度位置により周期を決定することがで
きるが、この場合の測角範囲はやはり５〜８度程度にな
る。このような広い範囲の精密測定には、従来の微回転
ゴニオメータでは誤差が大きくて対応できなかった。
よる精密Ｘ線回折装置に用いられ、主としてロッキング
カーブの測定に用いられてきた。例えば、ロッキングカ
ーブの測定によって、基板結晶上にエピタキシャル成長
させた単結晶薄膜のミスマッチ量を求めることができ
る。このような場合の測角範囲は数百秒程度でよく、従
来の微回転ゴニオメータで何ら問題はなかった。しか
し、薄膜の構造も複雑になり、微回転ゴニオメータを超
格子の周期測定にも利用するようになってきた。超格子
の周期測定のためには、ブラッグ反射のまわりに出現す
るサテライト反射（衛星反射）の角度位置を測定する必
要があるが、この場合の測角範囲は５〜６度に及ぶこと
もある。また、小角領域にも超格子の周期に応じたピー
クが現れ、その角度位置により周期を決定することがで
きるが、この場合の測角範囲はやはり５〜８度程度にな
る。このような広い範囲の精密測定には、従来の微回転
ゴニオメータでは誤差が大きくて対応できなかった。
【００１６】表１はサインバー方式の微回転ゴニオメー
タの誤差を示したものである。この誤差Δθは次の式
（７）で計算できる。
タの誤差を示したものである。この誤差Δθは次の式
（７）で計算できる。
【００１７】
【数４】 Δθ＝（ｘ／Ｌ）−ｓｉｎ-1（ｘ／Ｌ）…（７）
【００１８】表２はタンジェントバー方式の微回転ゴニ
オメータの誤差を示したものである。この誤差Δθは次
の式（８）で計算できる。
オメータの誤差を示したものである。この誤差Δθは次
の式（８）で計算できる。
【００１９】
【数５】 Δθ＝（ｘ／Ｌ）−ｔａｎ-1（ｘ／Ｌ）…（８）
【００２０】
【表１】
【００２１】
【表２】
【００２２】この発明の目的は、比較的広い測角範囲に
わたって精密な角度制御が可能な微回転ゴニオメータを
提供することにある。
わたって精密な角度制御が可能な微回転ゴニオメータを
提供することにある。
【００２３】
【課題を解決するための手段】第１の発明は、ゴニオメ
ータの回転軸にアームが固定され、このアームは前記回
転軸の回転中心から離れる方向に延び、前記アームの先
端付近は直線移動装置によって移動可能にされている、
Ｘ線回折装置の微回転ゴニオメータにおいて、前記アー
ムの先端に前記回転中心を中心とする円弧面が形成さ
れ、この円弧面にワイヤが巻かれ、ワイヤの一端はアー
ムに固定され、ワイヤの他端は直線移動装置に固定さ
れ、アームは前記ワイヤの前記一端側の方向に常に引っ
張られた状態にあることを特徴としている。本発明にお
けるワイヤは、線状のものに限らず、帯状のものも含
む。また、ワイヤの材質は、金属に限らず、伸び縮みの
少ない合成樹脂材料なども使用できる。
ータの回転軸にアームが固定され、このアームは前記回
転軸の回転中心から離れる方向に延び、前記アームの先
端付近は直線移動装置によって移動可能にされている、
Ｘ線回折装置の微回転ゴニオメータにおいて、前記アー
ムの先端に前記回転中心を中心とする円弧面が形成さ
れ、この円弧面にワイヤが巻かれ、ワイヤの一端はアー
ムに固定され、ワイヤの他端は直線移動装置に固定さ
れ、アームは前記ワイヤの前記一端側の方向に常に引っ
張られた状態にあることを特徴としている。本発明にお
けるワイヤは、線状のものに限らず、帯状のものも含
む。また、ワイヤの材質は、金属に限らず、伸び縮みの
少ない合成樹脂材料なども使用できる。
【００２４】第２の発明は、第１の発明において、前記
アームは、アームの変位にかかわらずにアームに常に一
定の引っ張り力を付与する渦巻きばね装置に結合されて
いることにより、常に引っ張られた状態にあることを特
徴としている。
アームは、アームの変位にかかわらずにアームに常に一
定の引っ張り力を付与する渦巻きばね装置に結合されて
いることにより、常に引っ張られた状態にあることを特
徴としている。
【００２５】
【作用】アームの先端の円弧面の中心は、ゴニオメータ
の回転中心上にあるので、この円弧面に巻き付けたワイ
ヤを、円弧面の接線方向に引っ張ることによってアーム
を回転させた場合、アームの回転角度はワイヤの直線移
動距離に完全に比例する。したがって、ワイヤの直線移
動をマイクロメータのような微小移動装置で制御すれ
ば、アームの回転角度を精密に制御することができ、し
かも比較的広い角度範囲にわたって誤差が増大すること
なく角度制御が可能である。本発明の微回転ゴニオメー
タは、２結晶法を用いた精密Ｘ線回折装置や、Ｘ線鏡面
反射の反射率測定装置などに利用すると効果的である。
の回転中心上にあるので、この円弧面に巻き付けたワイ
ヤを、円弧面の接線方向に引っ張ることによってアーム
を回転させた場合、アームの回転角度はワイヤの直線移
動距離に完全に比例する。したがって、ワイヤの直線移
動をマイクロメータのような微小移動装置で制御すれ
ば、アームの回転角度を精密に制御することができ、し
かも比較的広い角度範囲にわたって誤差が増大すること
なく角度制御が可能である。本発明の微回転ゴニオメー
タは、２結晶法を用いた精密Ｘ線回折装置や、Ｘ線鏡面
反射の反射率測定装置などに利用すると効果的である。
【００２６】
【実施例】図１は、この発明の一実施例を示す平面図で
ある。ゴニオメータの回転軸２４にはアーム２６が固定
され、このアーム２６は回転軸２４の中心から離れる方
向に回転軸２４に対して垂直に延びている。アーム２６
の先端には円弧面２８が形成されている。この円弧面２
８の中心は回転軸２４の中心と一致している。円弧面２
８にはワイヤ３０が巻き付けられ、このワイヤ３０の一
端は、円弧面２８の一端の近傍に固定装置３２で固定さ
れている。ワイヤ３０の他端はマイクロメータ３４のス
ピンドル３６に固定されている。
ある。ゴニオメータの回転軸２４にはアーム２６が固定
され、このアーム２６は回転軸２４の中心から離れる方
向に回転軸２４に対して垂直に延びている。アーム２６
の先端には円弧面２８が形成されている。この円弧面２
８の中心は回転軸２４の中心と一致している。円弧面２
８にはワイヤ３０が巻き付けられ、このワイヤ３０の一
端は、円弧面２８の一端の近傍に固定装置３２で固定さ
れている。ワイヤ３０の他端はマイクロメータ３４のス
ピンドル３６に固定されている。
【００２７】マイクロメータ３４はゴニオメータの基台
３３に取り付けられている。マイクロメータ３４はモー
タ駆動による差動マイクロメータであり、そのスピンド
ル３６は、回転することなく矢印３８の方向（すなわち
円弧面２８の接線方向）に移動できる。
３３に取り付けられている。マイクロメータ３４はモー
タ駆動による差動マイクロメータであり、そのスピンド
ル３６は、回転することなく矢印３８の方向（すなわち
円弧面２８の接線方向）に移動できる。
【００２８】ワイヤ３０の直径は０．２〜０．５ｍｍで
ある。ワイヤ３０の材質は、ピアノ線やリン青銅など
の、高張力でかつ可撓性のある材料が用いられるが、特
に金属製である必要はない。
ある。ワイヤ３０の材質は、ピアノ線やリン青銅など
の、高張力でかつ可撓性のある材料が用いられるが、特
に金属製である必要はない。
【００２９】アーム２６の一方側の側面４０にはフック
４２が固定され、このフック４２に渦巻きばね装置４４
が接続されている。渦巻きばね装置４４の中心部４６は
基台に固定されている。この渦巻きばね装置４４は、そ
の巻き度合いに依存せずに、ほぼ一定の張力でフック４
２を矢印４８の方向に引っ張る働きをしている。これに
より、ワイヤ３０には常に一定の張力が作用し、張力変
化に伴うワイヤ３０の伸び縮みを防いでいる。なお、ワ
イヤ３０は温度変化によっても伸び縮みを生じるが、微
回転ゴニオメータは通常、恒温室などの温度変化の少な
い場所に設置されるので、この心配はあまりいらない。
４２が固定され、このフック４２に渦巻きばね装置４４
が接続されている。渦巻きばね装置４４の中心部４６は
基台に固定されている。この渦巻きばね装置４４は、そ
の巻き度合いに依存せずに、ほぼ一定の張力でフック４
２を矢印４８の方向に引っ張る働きをしている。これに
より、ワイヤ３０には常に一定の張力が作用し、張力変
化に伴うワイヤ３０の伸び縮みを防いでいる。なお、ワ
イヤ３０は温度変化によっても伸び縮みを生じるが、微
回転ゴニオメータは通常、恒温室などの温度変化の少な
い場所に設置されるので、この心配はあまりいらない。
【００３０】円弧面２８の半径をＲ、ワイヤ３０の直径
をＤとすると、回転軸２４の中心からワイヤ３０の中心
までの距離ＬはＬ＝Ｒ＋（Ｄ／２）となる。マイクロメ
ータ３４のスピンドル３６の移動距離をｘとすると、ア
ーム２６の回転角θ（単位はラジアン）はθ＝ｘ／Ｌと
なる。すなわち、スピンドル３６の移動距離ｘとアーム
の回転角θは完全に比例し、しかも、θが増加していっ
てもその比例関係は保たれる。したがって、円弧面２８
の長さに相当するすべての角度範囲において精密な角度
制御が可能となる。この実施例では±１０°以上の角度
範囲で精密な角度制御が可能となった。
をＤとすると、回転軸２４の中心からワイヤ３０の中心
までの距離ＬはＬ＝Ｒ＋（Ｄ／２）となる。マイクロメ
ータ３４のスピンドル３６の移動距離をｘとすると、ア
ーム２６の回転角θ（単位はラジアン）はθ＝ｘ／Ｌと
なる。すなわち、スピンドル３６の移動距離ｘとアーム
の回転角θは完全に比例し、しかも、θが増加していっ
てもその比例関係は保たれる。したがって、円弧面２８
の長さに相当するすべての角度範囲において精密な角度
制御が可能となる。この実施例では±１０°以上の角度
範囲で精密な角度制御が可能となった。
【００３１】図２は、スピンドル３６を図面の上方向に
移動させてアーム２６を反時計方向にθだけ回転させた
状態を示した平面図である。図３は、スピンドル３６を
図面の下方向に移動させてアーム２６を時計方向にθだ
け回転させた状態を示した平面図である。
移動させてアーム２６を反時計方向にθだけ回転させた
状態を示した平面図である。図３は、スピンドル３６を
図面の下方向に移動させてアーム２６を時計方向にθだ
け回転させた状態を示した平面図である。
【００３２】
【発明の効果】この発明の微回転ゴニオメータは、アー
ムの先端の円弧面にワイヤを巻き付けて、このワイヤを
円弧面の接線方向に引っ張ってアームを回転させるよう
にしているので、ワイヤの直線移動距離とアームの回転
角度とが完全に比例し、従来の微回転ゴニオメータと比
較して広い角度範囲にわたって精密な角度制御が可能と
なる。
ムの先端の円弧面にワイヤを巻き付けて、このワイヤを
円弧面の接線方向に引っ張ってアームを回転させるよう
にしているので、ワイヤの直線移動距離とアームの回転
角度とが完全に比例し、従来の微回転ゴニオメータと比
較して広い角度範囲にわたって精密な角度制御が可能と
なる。
【図１】この発明の一実施例を示す平面図である。
【図２】図１のゴニオメータを反時計方向に微小回転さ
せたときの平面図である。
せたときの平面図である。
【図３】図１のゴニオメータを時計方向に微小回転させ
たときの平面図である。
たときの平面図である。
【図４】従来の微回転ゴニオメータの平面図である。
【図５】従来の広角ゴニオメータの斜視図である。
２４…回転軸 ２６…アーム ２８…円弧面 ３０…ワイヤ ３２…固定装置 ３４…マイクロメータ ４４…渦巻きばね装置
Claims (2)
- 【請求項１】 ゴニオメータの回転軸にアームが固定さ
れ、このアームは前記回転軸の回転中心から離れる方向
に延び、前記アームの先端付近は直線移動装置によって
移動可能にされている、Ｘ線回折装置の微回転ゴニオメ
ータにおいて、 前記アームの先端に前記回転中心を中心とする円弧面が
形成され、この円弧面にワイヤが巻かれ、ワイヤの一端
はアームに固定され、ワイヤの他端は直線移動装置に固
定され、アームは前記ワイヤの前記一端側の方向に常に
引っ張られた状態にあることを特徴とする、微回転ゴニ
オメータ。 - 【請求項２】 前記アームは、アームの変位にかかわら
ずにアームに常に一定の引っ張り力を付与する渦巻きば
ね装置に結合されていることにより、常に引っ張られた
状態にあることを特徴とする請求項１記載の微回転ゴニ
オメータ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30585292A JP3170527B2 (ja) | 1992-10-21 | 1992-10-21 | Ｘ線回折装置の微回転ゴニオメータ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30585292A JP3170527B2 (ja) | 1992-10-21 | 1992-10-21 | Ｘ線回折装置の微回転ゴニオメータ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06130195A JPH06130195A (ja) | 1994-05-13 |
| JP3170527B2 true JP3170527B2 (ja) | 2001-05-28 |
Family
ID=17950141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30585292A Expired - Fee Related JP3170527B2 (ja) | 1992-10-21 | 1992-10-21 | Ｘ線回折装置の微回転ゴニオメータ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3170527B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007010483A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Rigaku Corp | Ｘ線ビーム処理装置及びｘ線分析装置 |
| CN106956368A (zh) * | 2016-01-08 | 2017-07-18 | 陈立文 | 切割设备的切割卸荷装置 |
-
1992
- 1992-10-21 JP JP30585292A patent/JP3170527B2/ja not_active Expired - Fee Related
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