JP3159486U - 導電性積層体 - Google Patents
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Abstract
【課題】アンチニュートンリング性及び耐久性に優れた導電性積層体を提供する。【解決手段】ベース基板1と、ベース基板1の一方の面11の上に形成された、厚さが1〜2μmの光学拡散層であって、該光学拡散層の内部に、それぞれの粒径が0.5〜1μmの複数の水溶性粒子21を含ませ、且つ、ベース基板の一方の面から離れた面22の上に、下側に窪む、最大の深さが0.5〜1μmの複数の凹部23が形成された光学拡散層2と、光学拡散層2の、複数の凹部23がある面22の上に形成され、光学拡散層2の複数の凹部23がある面22に緊密に結合する第1の面31と、該第1の面に対向して第1の面の形状に沿って形成された第2の面32とを有する導電層3と、を含む。【選択図】図1
Description
本考案は、導電性積層体に関し、より詳しくは、タッチパネルの電極基板として用いられる導電性積層体に関する。
近年、ディスプレイに導電性積層体を用いたタッチパネルを備えた情報機器が多く使用されるようになった。タッチパネルの位置検出方式には、光学方式、超音波方式、及び、抵抗膜方式などがある。このうち抵抗膜方式は、構造が単純で、価格も比較的安いため、最も注目されている。
抵抗膜方式のタッチパネルは、図4に示すように、ベース基板91、92の対向する側面にそれぞれ、上部電極と下部電極としての2枚の導電性積層体93、94が、スペーサ95、95、・・・を介して一定間隔に保持されて構成される電子部品である。
この抵抗膜方式のタッチパネルを使用するとき、視認側の電極をペンまたは指で押圧してたわませ、対向する側の電極と接触、導通させることによって検出回路が位置を検知し、所定の入力が行なわれる。この際、押圧部周辺にニュートンリングが現れることがあり、このニュートンリングの発生により、ディスプレイの視認性が低下する問題点がある。また、使われるベース基板の位相差値及び表面光沢が大きい場合、グレアにより視認性が劣化することもある。これら、ニュートンリング及びグレアの発生を軽減させるためにコーティングなどをするが、かえってヘーズが上がるといった不具合が生じてしまう。さらに、タッチパネルに要求される押圧耐久性試験において、抵抗膜が劣化、剥離し、抵抗値が高くなり、最終的にはタッチパネルとしての電気特性が低下する問題点もある。
そこで、グレアの発生をなくすために、透明タッチパネルの少なくとも1つの電極基板上に、例えばIn・Sn酸化物で電極を構成する抵抗膜方式タッチパネル用の透明導電膜が開示されている。(特許文献1)この透明導電膜は、算術平均粗さ(Ra)が0.4nm≦Ra≦4.0nmであり、二乗平均粗さ(Rms)が0.6nm≦Rms≦3.0nmである結晶粒子積層構造となっている。なお、In・Snで形成された導電膜の表面の平面内平均粒子径は40nm≦Ra≦200nmと観察された。
このように、この従来の透明導電膜によれば、グレアを抑制することはできるが、ニュートンリングの発生及び耐久性の向上の課題がなおも残っている。
本発明は、アンチニュートンリング性及び耐久性に優れた導電性積層体を提供することを目的とする
上記目的を達成するために、本考案の導電性積層体は、タッチパネル用導電性積層体であって、ベース基板と、前記ベース基板の一方の面の上に形成された、厚さが1〜2μmの光学拡散層であって、該光学拡散層の内部に、それぞれの粒径が0.5〜1μmの複数の水溶性粒子を含ませ、且つ、前記ベース基板の一方の面から離れた面の上に、下側に窪む、最大の深さが0.5〜1μmの複数の凹部が形成された光学拡散層と、前記光学拡散層の、複数の凹部がある前記面の上に形成され、前記光学拡散層の複数の凹部がある面に緊密に結合する第1の面と、該第1の面に対向して前記第1の面の形状に沿って形成された第2の面とを有する導電層と、を含む導電性積層体を提供する。
この導電性積層体では、前記導電層の厚さが、10〜50nmであることが好ましく、20nmであることがより好ましい。
本考案の導電性積層体によれば、水溶性粒子及び凹部を有する光学拡散層、及び、光学拡散層の凹部によって形成された特定の表面形状を有する導電層を含む構成により、この構成をした導電性積層体を用いたタッチパネルは、ニュートンリング及びグレアの発生を低減することができ、視認性を向上させることができる。また、耐久性試験を経た結果、耐久性に優れることが確認できた。したがって、アンチニュートンリング性及び耐久性に優れた導電性積層体が得られる。
以下では、本考案についての実施の形態に基づいて、図面を用いて詳細に説明する。
図1は、実施の形態の一例の導電性積層体の概略構成を示す断面図である。図中、この導電性積層体は、ベース基板1と、光学拡散層2と、導電層3とを含む。
図1は、実施の形態の一例の導電性積層体の概略構成を示す断面図である。図中、この導電性積層体は、ベース基板1と、光学拡散層2と、導電層3とを含む。
光学拡散層2は、ベース基板1の一方の面11の上に形成された、厚さが1〜2μmの光学拡散層である。該光学拡散層2の内部に、それぞれの粒径が0.5〜1μmの複数の水溶性粒子21、21、・・・を含ませている。且つ、光学拡散層2のベース基板1の一方の面11から離れた面22の上に、下側に窪む、最大の深さが0.5〜1μmの複数の凹部23、23、・・・が形成されている。
導電層3は、光学拡散層2の、複数の凹部23がある面22の上に形成され、光学拡散層2の複数の凹部23がある面22に緊密に結合する第1の面31と、該第1の面31に対向して第1の面31の形状に沿って形成された第2の面32とを有する。
本考案において使用するベース基板1をつくる材料としては、例えば、ポリエステル系樹脂(polyester-based resin)、アセテート系樹脂(acetate-based resin)、ポリエーテルスルホン系樹脂(polyethersulfone-based resin)、ポリカーボネート系樹脂(polycarbonate-based resin)、ポリアミド系樹脂(polyamide-based resin)、ポリイミド系樹脂(polyimide-based resin)、ポリオレフィン系樹脂(polyolefin-based resin)、アクリル系樹脂(acrylic-based resin)、ポリ塩化ビニル系樹脂(polyvinyl chloride-based resin)、ポリスチレン系樹脂(polystyrene-based resin)、ポリビニルアルコール系樹脂(polyvinyl alcohol-based resin)、ポリアリレート系樹脂(polyarylate-based resin)、ポリフェニレンサルファイド系樹脂(polyphenylene sulfide-based resin)、ポリ塩化ビニリデン系樹脂(polyvinylidene chloride-based resin)、(メチル)アクリル系樹脂((methyl)acrylic-based resin)等が挙げられる。一例として、ベース基板をつくる材料は、ポリエステル系樹脂のポリエチレンテレフタレート(PET)を用いる。
光学拡散層2は、ベース基板1上に乳化剤を塗布した後、硬化処理を経てベース基板1上に硬化膜を形成し、この硬化膜を水洗い処理したものである。これによって、硬化膜の表側の水溶性粒子が溶離し、一面に複数の凹部が形成される。なお、乳化剤は、樹脂溶液と水溶性粒子含有のコロイド状溶液とを均一に混合してなるものである。
樹脂溶液に用いられる樹脂は、例えば、アクリレート樹脂等の紫外線硬化型樹脂、アクリル酸樹脂、アセタール樹脂等の熱可塑性樹脂、或いはエポキシ樹脂、ポリウレタン等の熱硬化性樹脂などを用いることができる。一例として、樹脂溶液は、アクリレート樹脂溶液が用いられる。
水溶性粒子21として、ゲラチン、ヒドロゲル、ポリビニルアルコール又はこれらの組み合わせを用いることができる。一例において、水溶性粒子としてポリビニルアルコールを用いる。なお、コロイド状溶液は、水溶性粒子をトルエンなどの有機溶剤に分散させてなるものである。
光学拡散層2中に分散している水溶性粒子21の含有量は、光学拡散層の総重量に対し、3wt%〜7wt%であることが好ましい。
導電層3の厚さは、特に制限されないが、10nm〜50nmであるのが好ましい。この例において、導電層3の厚さは、20nmである。
導電層3は、例えばスパッタリングによって光学拡散層2の上に形成される。導電層の形成材料は、例えば、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛、In-Sn系酸化物、Sn-Sb系酸化物、Zn-Al系酸化物、或いはIn-Zn系酸化物などが挙げられる。一例として、導電層3は、In-Sn系酸化物を用いる。
図2は、実施の形態1のタッチパネルの概略構成を示す断面図である。このタッチパネルは、第1導電ユニット4と、第2導電ユニット5とを備え、前記2つの導電ユニット4、5が複数のスペーサ6、6、・・・を介して対向配置してなる。第1導電ユニット4は、図1に示す導電性積層体を用いたものである。
第2導電ユニット5は、ベース基板としての第2基板51と、第2基板51の第1導電ユニット4の導電層(以下、第1導電層)41寄りの面52の上に形成された第2導電層53とを含んでなる。
スペーサ6、6、・・・は、第1導電層41と第2導電層53との間に設けられている。
なお、第2基板51と第2導電層53とは、前記ベース基板(第1基板)と導電層(第1導電層)の構成成分と同様であるため、詳しい説明を省略する。
第2導電層53の厚さは、10nm〜100nmであることが好ましい。一例として、第2導電層53の厚さは30nmである。
図3は、実施の形態2のタッチパネルの概略構成を示す断面図である。このタッチパネルは、第1導電ユニット7と、第2導電ユニット8とを備え、この2つの導電ユニット7、8が複数のスペーサ9、9、・・・を介して対向配置してなる。前記2つの導電ユニット7、8は共に、図1に示す導電性積層体を用いたものである。スペーサ9、9、・・・は、第1導電層71と第2導電層81との間に設けられている。
以下、本考案の実施例を記載してより具体的に説明するが、本考案はこれにより何ら限定を受けるものではない。
<化学品>
200重量部において50%の固形分と50%のトルエンを含むアクリレート溶液(Eternal Chemical社製、型番:5537C-50)及びポリビニルアルコール(Kuraray社;型番:BP−17)を用いる。
200重量部において50%の固形分と50%のトルエンを含むアクリレート溶液(Eternal Chemical社製、型番:5537C-50)及びポリビニルアルコール(Kuraray社;型番:BP−17)を用いる。
<導電性積層体>
<実施例1>
本実施例の作製は、以下のステップを含む。即ち、
(1)ベース基板として、PETの透明基板を用いた。
(2)トルエン溶剤を用い、固形分9%のポリビニルアルコールのコロイド状溶液を調製した。
(3)まず、アクリレート溶液4000gと、ステップ(2)に得られたポリビニルアルコールのコロイド状溶液1000gとを均一に混合して、次に、複数の水溶性粒子を含有する乳化剤とトルエン5000gとを混合して希釈した乳化剤を調整した。この希釈した乳化剤をステップ(1)の透明基板の一面にコーディングし、紫外線を230mJ/cm2照射して硬化させ、厚さがほぼ1.2μmになる硬化膜を形成した。
(4)ステップ(3)の硬化膜を50〜60℃の熱湯に2分間浸し、硬化膜における表側の水溶性粒子を溶離させ、複数の凹部が形成されて、半製品となる光学拡散層を製作した。なお、水溶性粒子の含有量は、光学拡散層の総重量に対し、ほぼ4.3wt%である。
(5)ステップ(4)の半製品を、真空度が4×10−1Paの、アルゴンガス80%と酸素ガス20%の混合ガスの雰囲気下で、酸化インジウムと酸化錫の混合物焼結体からなるターゲットを用いて、スパッタリングを行った。In―Sn酸化物層は光学拡散層の一面に形成され、厚さはほぼ20nmである。以上により、導電性積層体を作製した。
<実施例1>
本実施例の作製は、以下のステップを含む。即ち、
(1)ベース基板として、PETの透明基板を用いた。
(2)トルエン溶剤を用い、固形分9%のポリビニルアルコールのコロイド状溶液を調製した。
(3)まず、アクリレート溶液4000gと、ステップ(2)に得られたポリビニルアルコールのコロイド状溶液1000gとを均一に混合して、次に、複数の水溶性粒子を含有する乳化剤とトルエン5000gとを混合して希釈した乳化剤を調整した。この希釈した乳化剤をステップ(1)の透明基板の一面にコーディングし、紫外線を230mJ/cm2照射して硬化させ、厚さがほぼ1.2μmになる硬化膜を形成した。
(4)ステップ(3)の硬化膜を50〜60℃の熱湯に2分間浸し、硬化膜における表側の水溶性粒子を溶離させ、複数の凹部が形成されて、半製品となる光学拡散層を製作した。なお、水溶性粒子の含有量は、光学拡散層の総重量に対し、ほぼ4.3wt%である。
(5)ステップ(4)の半製品を、真空度が4×10−1Paの、アルゴンガス80%と酸素ガス20%の混合ガスの雰囲気下で、酸化インジウムと酸化錫の混合物焼結体からなるターゲットを用いて、スパッタリングを行った。In―Sn酸化物層は光学拡散層の一面に形成され、厚さはほぼ20nmである。以上により、導電性積層体を作製した。
<実施例2、3及び比較例1>
表1に示す構成を用い、実施例1と同様にして、導電性積層体をそれぞれ得た。
表1に示す構成を用い、実施例1と同様にして、導電性積層体をそれぞれ得た。
<タッチパネル>
<応用例1>
他に用意した透明基板の一面に、スパッタリングにて、In−Sn酸化物層を第2導電層として形成した。このIn−Sn酸化物層の厚さはほぼ30nmである。このようにして第2導電ユニットを得た。そして、実施例1で得られた導電性積層体を第1導電ユニットとして用いた。次に、第1導電ユニットと第2導電ユニットとを、それぞれが厚さ20μmの複数のスペーサを介して対向させて、図2に示すタッチパネルを作製した。そして、複数のスペーサは互いに150μmの間隔をとるように配置した。
<応用例1>
他に用意した透明基板の一面に、スパッタリングにて、In−Sn酸化物層を第2導電層として形成した。このIn−Sn酸化物層の厚さはほぼ30nmである。このようにして第2導電ユニットを得た。そして、実施例1で得られた導電性積層体を第1導電ユニットとして用いた。次に、第1導電ユニットと第2導電ユニットとを、それぞれが厚さ20μmの複数のスペーサを介して対向させて、図2に示すタッチパネルを作製した。そして、複数のスペーサは互いに150μmの間隔をとるように配置した。
<応用例2、3及び応用比較例1>
実施例2、3及び比較例1の導電性積層体を用いて、応用例1と同様にして、図2に示すタッチパネルをそれぞれ作製した。
実施例2、3及び比較例1の導電性積層体を用いて、応用例1と同様にして、図2に示すタッチパネルをそれぞれ作製した。
(タッチパネルの性能評価)
応用例1〜3及び応用比較例1で得られたタッチパネルについて、下記評価を行った。結果を表2に示す。
応用例1〜3及び応用比較例1で得られたタッチパネルについて、下記評価を行った。結果を表2に示す。
<ヘーズ、内部拡散値、外部拡散値>
ヘーズは、日本電色(株)製ヘーズメーター(NDH―2000)を用いてJIS K7105に準じて測定した。
ヘーズは、日本電色(株)製ヘーズメーター(NDH―2000)を用いてJIS K7105に準じて測定した。
また、実施例1〜3及び応用比較例1のそれぞれのステップ(4)で得られた半製品における凹部を有する面に3Mのテープを貼り付けて、実施例1〜3及び応用比較例1のテストサンプルを得た。
そして、ヘーズメーターを用いて、使用されるテープのヘーズ、前記実施例及び前記比較例のステップ(1)で用意した透明基板のヘーズ、前記実施例及び前記比較例のテストサンプルのヘーズを測定した。
内部拡散値、外部拡散値は、次の式によって算出する。
<ペン入力耐久性>
作製したタッチパネルの第2導電ユニットの第2基板(図2の51)を、0.8Rのポリアセタール製のペンを用いて5.0Nの荷重で直線往復摺動を行った。ペンのペン圧負荷を250gとして、5万回ずつ摺動した前後のリニアリティー変化量を測定した。リニアリティー変化量が1.5%以上となった場合の往復摺動回数を、ペン入力耐久性の基準とした。なお、リニアリティー(L)は次のように求める。
作製したタッチパネルの第2導電ユニットの第2基板(図2の51)を、0.8Rのポリアセタール製のペンを用いて5.0Nの荷重で直線往復摺動を行った。ペンのペン圧負荷を250gとして、5万回ずつ摺動した前後のリニアリティー変化量を測定した。リニアリティー変化量が1.5%以上となった場合の往復摺動回数を、ペン入力耐久性の基準とした。なお、リニアリティー(L)は次のように求める。
第1導電層及び第2導電層間に直流電圧5Vを印加する。
ペンの測定開始位置Aの入力電圧をEA、測定終了位置Bの出力電圧をEB、Aからの距離Xにおける出力電圧をEX、測定点Xの出力電圧理論値をEXX、リニアリティーをLとし、下記式より求めた。
ペンの測定開始位置Aの入力電圧をEA、測定終了位置Bの出力電圧をEB、Aからの距離Xにおける出力電圧をEX、測定点Xの出力電圧理論値をEXX、リニアリティーをLとし、下記式より求めた。
<文字表示テスト>
液晶ディスプレイ上に応用例1〜3及び比較例1のタッチパネルを設置し、文字の表示状況を目視で観察し、視認性、アンチニュートンリング性、アンチグレア性を評価した。
・視認性
目視で、明確に確認できるものを良好(3)、かすかに確認できるものをやや良好(2)、確認できないものを不良(1)とした。
・アンチニュートンリング性
ニュートンリングの有無を目視で観察した。ニュートンリングが観測できないものを良好(3)、かすかに観測できるものをやや良好(2)、明確に観測できるものを不良(1)とした。
・アンチグレア性
グレアが発生しないものを良好(3)、かすかに発生したものをやや良好(2)、完全に発生したものを不良(1)とした。
液晶ディスプレイ上に応用例1〜3及び比較例1のタッチパネルを設置し、文字の表示状況を目視で観察し、視認性、アンチニュートンリング性、アンチグレア性を評価した。
・視認性
目視で、明確に確認できるものを良好(3)、かすかに確認できるものをやや良好(2)、確認できないものを不良(1)とした。
・アンチニュートンリング性
ニュートンリングの有無を目視で観察した。ニュートンリングが観測できないものを良好(3)、かすかに観測できるものをやや良好(2)、明確に観測できるものを不良(1)とした。
・アンチグレア性
グレアが発生しないものを良好(3)、かすかに発生したものをやや良好(2)、完全に発生したものを不良(1)とした。
表2に示すように、応用例に係るタッチパネルは、耐久性に優れることが分かる。特に、実施例の硬化膜の厚さより厚くなった比較例1の積層体を備えた応用比較例1のタッチパネルは、外部拡散値と内部拡散値が小さく、アンチニュートンリング性及びアンチグレア性が劣る。また、水溶性粒子をより多く含有させた実施例3の積層体を備えた応用例3のタッチパネルは、視認性がやや劣るが、耐久性、アンチニュートンリング性及びアンチグレア性は、応用比較例1よりも良好である。
以上により、所定の厚さを有する光学拡散層及び所定の含有量と所定の平均粒径を有する水溶性粒子により、所定の表面形状を有する積層体を構成することができ、耐久性に優れると共に、視認性及びアンチニュートンリング性、アンチグレア性も良いタッチパネルが得られることが分かる。また、内部拡散値及び外部拡散値、即ち、上記試験で測定した各ヘーズは、各性質を判断する基準とすることができる。このようにして、アンチニュートンリング性及び耐久性に優れた導電性積層体を簡単に製造することができる。
上記のように、本考案の導電性積層体によれば、所定量の水溶性粒子含有の光学拡散層と、所定の表面形状を形成した導電層により、従来の導電性積層体によるアンチニュートンリング及びグレアを軽減することができ、また、それによってつくられるタッチパネルにも優れた視認性及びアンチグレア性を有する導電性積層体を提供することができる。
本考案の導電性積層体は、タッチパネル用の電極基板として有用である。
1 ベース基板
2 光学拡散層
21 水溶性粒子
23 凹部
51 第2基板
11、22、31、32、52 面
4、5、7、8 導電ユニット
3、41、53、71、81 導電層
6、9 スペーサ
2 光学拡散層
21 水溶性粒子
23 凹部
51 第2基板
11、22、31、32、52 面
4、5、7、8 導電ユニット
3、41、53、71、81 導電層
6、9 スペーサ
Claims (3)
- タッチパネル用導電性積層体であって、
ベース基板と、
前記ベース基板の一方の面の上に形成された、厚さが1〜2μmの光学拡散層であって、該光学拡散層の内部に、それぞれの粒径が0.5〜1μmの複数の水溶性粒子を含ませ、且つ、前記ベース基板の一方の面から離れた面の上に、下側に窪む、最大の深さが0.5〜1μmの複数の凹部が形成された光学拡散層と、
前記光学拡散層の、複数の凹部がある前記面の上に形成され、前記光学拡散層の複数の凹部がある面に緊密に結合する第1の面と、該第1の面に対向して前記第1の面の形状に沿って形成された第2の面とを有する導電層と、
を含む導電性積層体。 - 前記導電層の厚さが、10〜50nmであることを特徴とする請求項1に記載の導電性積層体。
- 前記導電層の厚さが、20nmであることを特徴とする請求項2に記載の導電性積層体。
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TW98216398U TWM385044U (en) | 2009-09-04 | 2009-09-04 | Conductive laminate |
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