JP3158292B2 - クリーニングテープ - Google Patents
クリーニングテープInfo
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- JP3158292B2 JP3158292B2 JP20375191A JP20375191A JP3158292B2 JP 3158292 B2 JP3158292 B2 JP 3158292B2 JP 20375191 A JP20375191 A JP 20375191A JP 20375191 A JP20375191 A JP 20375191A JP 3158292 B2 JP3158292 B2 JP 3158292B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体の磁性層
表面の平滑化及び清浄化を同時に行い得るクリーニング
テープに関する。
表面の平滑化及び清浄化を同時に行い得るクリーニング
テープに関する。
【0002】
【従来の技術】磁気記録媒体を製造する過程において
は、塵埃等が磁性層表面に付着したり、或いはカレンダ
ー処理で平滑化しきれなかった磁性層の微小突起等が残
存することがある。これら塵埃や微小突起等の異物は、
何れもドロップアウトの原因となり、SN比の低下につ
ながるため、確実に除去することが望まれる。そこで、
従来より表面が平滑な円柱状のローラの周面に沿ってカ
レンダー処理後の磁気記録媒体を走行させ、磁性層表面
にラッピングテープやバーニッシングテープ等を圧接さ
せて、上記磁性層表面を研削し平滑化させることが行わ
れている。
は、塵埃等が磁性層表面に付着したり、或いはカレンダ
ー処理で平滑化しきれなかった磁性層の微小突起等が残
存することがある。これら塵埃や微小突起等の異物は、
何れもドロップアウトの原因となり、SN比の低下につ
ながるため、確実に除去することが望まれる。そこで、
従来より表面が平滑な円柱状のローラの周面に沿ってカ
レンダー処理後の磁気記録媒体を走行させ、磁性層表面
にラッピングテープやバーニッシングテープ等を圧接さ
せて、上記磁性層表面を研削し平滑化させることが行わ
れている。
【0003】このような磁性層表面の平坦化に使用され
るラッピングテープやバーニッシングテープとしては、
ポリエステルフィルム等からなる基材上にポリエステル
バインダーと研磨剤粒子(例えば、酸化アルミニウム、
酸化クロム、シリコンカーバイト、ダイヤモンド等であ
って、平均粒径が0.6〜20μm程度のもの)の混合
物に硬化剤を添加したものを約5〜20μm厚となるよ
うに塗布形成したものが知られている。
るラッピングテープやバーニッシングテープとしては、
ポリエステルフィルム等からなる基材上にポリエステル
バインダーと研磨剤粒子(例えば、酸化アルミニウム、
酸化クロム、シリコンカーバイト、ダイヤモンド等であ
って、平均粒径が0.6〜20μm程度のもの)の混合
物に硬化剤を添加したものを約5〜20μm厚となるよ
うに塗布形成したものが知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このようなラッピング
テープやバーニッシングテープにおいては、上記磁性層
表面と摺接される面に存在する1つ1つの粒子によって
磁性層表面に付着している塵埃や微小突起等の被研削物
を研削している。ところが、こられラッピングテープや
バーニッシングテープは、研削されたカスを有効に保持
する効果を有していないので、一旦研削されたカスがク
リーニングテープの表面から脱落し、再び磁性層表面に
付着して、信号記録再生時にエラー等の原因となるとい
う問題が生じてしまう。このため、従来より上述のよう
なラッピングテープやバーニッシングテープによる磁性
層表面の平坦化を行った後、当該磁性層表面を清浄化す
るために不織布等による払拭が行われていた。しかし、
この方法では、磁性層表面の平滑化と払拭とが別々の工
程で行われるので、作業効率の点で不満が残る。
テープやバーニッシングテープにおいては、上記磁性層
表面と摺接される面に存在する1つ1つの粒子によって
磁性層表面に付着している塵埃や微小突起等の被研削物
を研削している。ところが、こられラッピングテープや
バーニッシングテープは、研削されたカスを有効に保持
する効果を有していないので、一旦研削されたカスがク
リーニングテープの表面から脱落し、再び磁性層表面に
付着して、信号記録再生時にエラー等の原因となるとい
う問題が生じてしまう。このため、従来より上述のよう
なラッピングテープやバーニッシングテープによる磁性
層表面の平坦化を行った後、当該磁性層表面を清浄化す
るために不織布等による払拭が行われていた。しかし、
この方法では、磁性層表面の平滑化と払拭とが別々の工
程で行われるので、作業効率の点で不満が残る。
【0005】そこで、不織布等の表面に研磨剤をストラ
イプ状に塗布形成した、所謂クリーニングテープを用
い、研磨剤が形成された部分で磁性層表面を研削しつ
つ、同時に不織布が露出した部分で払拭がなされるよう
にした技術も提案されている。ところが、実際、このク
リーニングテープにおいては、不織布の表面が粗いため
に、不織布上にムラなく研磨剤を塗布することは大変難
しく、また大部分の研磨剤は不織布の内部に取り込まれ
てしまうために、その機能を有効に発揮せしめることは
極めて困難となる。これに対して、研磨剤を塗布する前
に不織布をカレンダー処理し、不織布の表面を平滑化さ
せる方法も考えられるが、不織布の表面を平滑化する
と、磁性層表面の払拭効果(被研削物の保持効果)が著
しく低下してしまうため、何れにしても良好な効果は期
待できない。そこで本発明は、上述の従来の実情に鑑み
て提案されたものであり、磁気記録媒体の磁性層表面に
付着している塵埃や微小突起等を研削すると同時に、該
磁性層表面の払拭を確実に行い、磁気記録媒体の表面性
を向上させることが可能なクリーニングテープを提供す
ることを目的とする。
イプ状に塗布形成した、所謂クリーニングテープを用
い、研磨剤が形成された部分で磁性層表面を研削しつ
つ、同時に不織布が露出した部分で払拭がなされるよう
にした技術も提案されている。ところが、実際、このク
リーニングテープにおいては、不織布の表面が粗いため
に、不織布上にムラなく研磨剤を塗布することは大変難
しく、また大部分の研磨剤は不織布の内部に取り込まれ
てしまうために、その機能を有効に発揮せしめることは
極めて困難となる。これに対して、研磨剤を塗布する前
に不織布をカレンダー処理し、不織布の表面を平滑化さ
せる方法も考えられるが、不織布の表面を平滑化する
と、磁性層表面の払拭効果(被研削物の保持効果)が著
しく低下してしまうため、何れにしても良好な効果は期
待できない。そこで本発明は、上述の従来の実情に鑑み
て提案されたものであり、磁気記録媒体の磁性層表面に
付着している塵埃や微小突起等を研削すると同時に、該
磁性層表面の払拭を確実に行い、磁気記録媒体の表面性
を向上させることが可能なクリーニングテープを提供す
ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上述の目的
を達成するために検討を重ねた結果、不織布上にストラ
イプ状に塗布形成される研磨剤の下層に熱可塑性樹脂か
らなる下地層を設けることにより、不織布の表面が平滑
化されて、上記研磨剤を有効に形成することができ、良
好な研削効果と払拭効果が同時に得られることを見出
し、本発明に至ったものである。即ち、本発明のクリー
ニングテープは、不織布上に熱可塑性樹脂からなる下地
層を介して研磨剤を含む研磨層を選択的に設けたことを
特徴とするものである。
を達成するために検討を重ねた結果、不織布上にストラ
イプ状に塗布形成される研磨剤の下層に熱可塑性樹脂か
らなる下地層を設けることにより、不織布の表面が平滑
化されて、上記研磨剤を有効に形成することができ、良
好な研削効果と払拭効果が同時に得られることを見出
し、本発明に至ったものである。即ち、本発明のクリー
ニングテープは、不織布上に熱可塑性樹脂からなる下地
層を介して研磨剤を含む研磨層を選択的に設けたことを
特徴とするものである。
【0007】
【作用】不織布上に選択的に塗布形成される研磨層の下
層に熱可塑性樹脂からなる下地層を設けることにより、
不織布の表面が平滑化されるので、上記研磨層を不織布
上にムラなく形成することができる。従って、上記研磨
層が所望のパターンで上記不織布の表面に選択的に形成
されるので、この研磨層が形成された領域で磁性層表面
の塵埃や微小突起等が研削されると同時に、この研削さ
れたカスが上記研磨層の形成領域以外で露出する不織布
によって確実に保持される。
層に熱可塑性樹脂からなる下地層を設けることにより、
不織布の表面が平滑化されるので、上記研磨層を不織布
上にムラなく形成することができる。従って、上記研磨
層が所望のパターンで上記不織布の表面に選択的に形成
されるので、この研磨層が形成された領域で磁性層表面
の塵埃や微小突起等が研削されると同時に、この研削さ
れたカスが上記研磨層の形成領域以外で露出する不織布
によって確実に保持される。
【0008】
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて説明する。本実施例のクリーニングテープは、図1
に示すように、基材となる不織布1上に下地層2を介し
てバインダー等と混練された研磨剤を含む研磨層3が所
定のパターンに形成されてなる。上記不織布1は、周知
のようにポリマーを溶融し、連続したフィラメント層状
に積み上げた後、加熱等により押し固めて作成すること
により得られるものであり、例えばポリプロピレン、ポ
エチレンテレフタレート、ナイロン等のオレフィン系樹
脂が好適とされる。具体的には、デュポン社製のTIV
EC・25D(42.4g/m2 )やNomex#41
0(何れも商品名)等が任意に選定できる。これら材質
を基材として使用すれば、これら繊維中に磁性層表面よ
り除去した被研削物を捕捉することができ、磁性層表面
への再付着を防止することができる。また、磁性層表面
への損傷が防止でき、高密度化が望まれる磁気記録媒体
への対応が可能である。
いて説明する。本実施例のクリーニングテープは、図1
に示すように、基材となる不織布1上に下地層2を介し
てバインダー等と混練された研磨剤を含む研磨層3が所
定のパターンに形成されてなる。上記不織布1は、周知
のようにポリマーを溶融し、連続したフィラメント層状
に積み上げた後、加熱等により押し固めて作成すること
により得られるものであり、例えばポリプロピレン、ポ
エチレンテレフタレート、ナイロン等のオレフィン系樹
脂が好適とされる。具体的には、デュポン社製のTIV
EC・25D(42.4g/m2 )やNomex#41
0(何れも商品名)等が任意に選定できる。これら材質
を基材として使用すれば、これら繊維中に磁性層表面よ
り除去した被研削物を捕捉することができ、磁性層表面
への再付着を防止することができる。また、磁性層表面
への損傷が防止でき、高密度化が望まれる磁気記録媒体
への対応が可能である。
【0009】この不織布1上には、所定のパターンで選
択的に下地層2が形成される。これにより、上記不織布
1の表面が平滑化されるので、この不織布1上に当該下
地層2を介して上記研磨層3をムラなく塗布形成するこ
とができ、所望のパターン形状を有する研磨層3を得る
ことができる。この下地層2の材料としては、熱可塑性
樹脂が使用される。熱可塑性樹脂としては、従来より公
知の材料が何れも使用可能であり、特に限定はない。な
お、本実施例では、この下地層2は、20〜25重量%
のウレタン系樹脂と3〜5重量%の塩化ビニル系樹脂の
混合物をメチルエチルケトン、酢酸エチル及びトルエン
等の混合溶剤に溶解させ、この溶液をグラビアコート等
の手法により上記不織布1上に選択的に塗布し、乾燥さ
せることにより得られた。
択的に下地層2が形成される。これにより、上記不織布
1の表面が平滑化されるので、この不織布1上に当該下
地層2を介して上記研磨層3をムラなく塗布形成するこ
とができ、所望のパターン形状を有する研磨層3を得る
ことができる。この下地層2の材料としては、熱可塑性
樹脂が使用される。熱可塑性樹脂としては、従来より公
知の材料が何れも使用可能であり、特に限定はない。な
お、本実施例では、この下地層2は、20〜25重量%
のウレタン系樹脂と3〜5重量%の塩化ビニル系樹脂の
混合物をメチルエチルケトン、酢酸エチル及びトルエン
等の混合溶剤に溶解させ、この溶液をグラビアコート等
の手法により上記不織布1上に選択的に塗布し、乾燥さ
せることにより得られた。
【0010】このような下地層2上には、当該下地層2
と略同じパターンで研磨層3が積層形成される。従っ
て、上記不織布1上には、上記下地層2を介して上記研
磨層3が規則的なパターンで形成され、これら研磨層3
が形成された領域に挟まれた領域では、上記不織布1が
露出するかたちとされる。但し、この研磨層3が確実に
上記下地層2上に形成されるために、この研磨層3のパ
ターン幅は上記下地層2のパターン幅よりも若干狭くさ
れることが望ましい。このような研磨層3は、研磨剤を
硬化剤とともにポリエステル系樹脂接着剤等のバインダ
ー中に分散させ、これを所定の有機溶媒に溶解させた塗
布溶液が例えば印刷技術等によって塗布されて形成され
る。
と略同じパターンで研磨層3が積層形成される。従っ
て、上記不織布1上には、上記下地層2を介して上記研
磨層3が規則的なパターンで形成され、これら研磨層3
が形成された領域に挟まれた領域では、上記不織布1が
露出するかたちとされる。但し、この研磨層3が確実に
上記下地層2上に形成されるために、この研磨層3のパ
ターン幅は上記下地層2のパターン幅よりも若干狭くさ
れることが望ましい。このような研磨層3は、研磨剤を
硬化剤とともにポリエステル系樹脂接着剤等のバインダ
ー中に分散させ、これを所定の有機溶媒に溶解させた塗
布溶液が例えば印刷技術等によって塗布されて形成され
る。
【0011】この研磨層3に含有される研削剤として
は、磁性層表面を傷付けない程度の微細な研削剤が用い
られ、例えば粒度400〜10000番程度の無機質粉
末が使用される。また、この研削剤の粒径及び硬度とし
ては、例えば平均粒径3μm以下、モース硬度6以上の
ものが望ましい。かかる研削剤としては、酸化アルミニ
ウム、酸化クロム、シリコンカーバイト、ダイヤモンド
粒子等が挙げられる。この研削剤の添加量は、30〜9
0重量%程度であることが好ましい。研削剤の添加量が
前記範囲よりも少ないと、十分な研削効果を期待するこ
とができず、逆に前記範囲よりも多いと、磁性層表面を
傷付ける虞れがある。また、上記硬化剤としては、特に
限定されず、通常使用される材料であれば何れでも良
い。上記有機溶媒としては、例えばトルエン、キシレ
ン、酢酸エチル、メチルエチルケトン等の混合溶媒が使
用される。
は、磁性層表面を傷付けない程度の微細な研削剤が用い
られ、例えば粒度400〜10000番程度の無機質粉
末が使用される。また、この研削剤の粒径及び硬度とし
ては、例えば平均粒径3μm以下、モース硬度6以上の
ものが望ましい。かかる研削剤としては、酸化アルミニ
ウム、酸化クロム、シリコンカーバイト、ダイヤモンド
粒子等が挙げられる。この研削剤の添加量は、30〜9
0重量%程度であることが好ましい。研削剤の添加量が
前記範囲よりも少ないと、十分な研削効果を期待するこ
とができず、逆に前記範囲よりも多いと、磁性層表面を
傷付ける虞れがある。また、上記硬化剤としては、特に
限定されず、通常使用される材料であれば何れでも良
い。上記有機溶媒としては、例えばトルエン、キシレ
ン、酢酸エチル、メチルエチルケトン等の混合溶媒が使
用される。
【0012】本実施例では、この研磨層3は、図2に示
すように、磁性層表面を拭き取る方向、つまり上記不織
布1の長手方向と直交する方向にストライプ状にパター
ン形成されてなる。この時、各研磨層3のパターン幅W
1 、及び隣接する研磨層3間のパターン間隔W2 は、磁
性層表面に付着する塵埃や微小突起等の異物を確実に研
削し、研削されたカスをこれら研磨層3間で露出した上
記不織布1により十分捕捉できるような値とする。例え
ば、本実施例では、上記パターン幅W1 は2.4mmと
し、パターン間隔W2は5mmとした。また、この研磨
層3は、ストライプ状のパターン形状のみならず、例え
ば図3に示すように、上記不織布1の長手方向と直交す
る方向に対して傾斜するように直線的にパターン形成
し、この傾斜模様が所定間隔で長手方向に規則的に繰り
返し形成されたものであっても良い。このように、傾斜
模様とすることにより、一層優れた研削効果が得られ、
研削されたカスの捕捉能率も向上する。
すように、磁性層表面を拭き取る方向、つまり上記不織
布1の長手方向と直交する方向にストライプ状にパター
ン形成されてなる。この時、各研磨層3のパターン幅W
1 、及び隣接する研磨層3間のパターン間隔W2 は、磁
性層表面に付着する塵埃や微小突起等の異物を確実に研
削し、研削されたカスをこれら研磨層3間で露出した上
記不織布1により十分捕捉できるような値とする。例え
ば、本実施例では、上記パターン幅W1 は2.4mmと
し、パターン間隔W2は5mmとした。また、この研磨
層3は、ストライプ状のパターン形状のみならず、例え
ば図3に示すように、上記不織布1の長手方向と直交す
る方向に対して傾斜するように直線的にパターン形成
し、この傾斜模様が所定間隔で長手方向に規則的に繰り
返し形成されたものであっても良い。このように、傾斜
模様とすることにより、一層優れた研削効果が得られ、
研削されたカスの捕捉能率も向上する。
【0013】従って、本実施例のクリーニングテープに
おいては、上記不織布1の表面に上記下地層2を介して
研磨層3が形成された領域と、これら研磨層3が形成さ
れた領域に挟まれた領域で上記不織布1が露出した領域
とが存在し、これら領域が交互に繰り返されたパターン
で形成されてなる。このように、研磨層3をストライプ
状に形成することにより、当該研磨層3にて研削された
磁性層表面の塵埃や微小突起等の異物は上記研磨層3と
研磨層3の間で露出する不織布1に保持され、磁性層表
面の研削と払拭を同一工程で行うことができる。
おいては、上記不織布1の表面に上記下地層2を介して
研磨層3が形成された領域と、これら研磨層3が形成さ
れた領域に挟まれた領域で上記不織布1が露出した領域
とが存在し、これら領域が交互に繰り返されたパターン
で形成されてなる。このように、研磨層3をストライプ
状に形成することにより、当該研磨層3にて研削された
磁性層表面の塵埃や微小突起等の異物は上記研磨層3と
研磨層3の間で露出する不織布1に保持され、磁性層表
面の研削と払拭を同一工程で行うことができる。
【0014】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明では、基材とされる不織布上に研磨層を選択的に形成
しているので、磁性層表面の塵埃や微小突起等の異物は
前記研磨層にて研削され、同時にこの研磨層が形成され
た領域以外の領域で露出する不織布によって有効に捕捉
される。従って、磁性層表面の研削と払拭を同一工程で
行うことができ、製造工程の簡素化が図られるととも
に、作業効率が著しく向上する。また、上記研磨層の下
層には、下地層を設けているので、当該研磨層をムラな
く有効に形成することができる。
明では、基材とされる不織布上に研磨層を選択的に形成
しているので、磁性層表面の塵埃や微小突起等の異物は
前記研磨層にて研削され、同時にこの研磨層が形成され
た領域以外の領域で露出する不織布によって有効に捕捉
される。従って、磁性層表面の研削と払拭を同一工程で
行うことができ、製造工程の簡素化が図られるととも
に、作業効率が著しく向上する。また、上記研磨層の下
層には、下地層を設けているので、当該研磨層をムラな
く有効に形成することができる。
【図1】本発明のクリーニングテープの構成を示す断面
図である。
図である。
【図2】研磨層のパターン形状の一例を説明するための
平面図である。
平面図である。
【図3】研磨層のパターン形状の他の例を説明するため
の平面図である。
の平面図である。
1・・・不織布 2・・・下地層 3・・・研磨層
Claims (1)
- 【請求項1】 不織布上に熱可塑性樹脂からなる下地層
を介して研磨剤を含む研磨層を選択的に設けたことを特
徴とするクリーニングテープ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20375191A JP3158292B2 (ja) | 1991-07-19 | 1991-07-19 | クリーニングテープ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20375191A JP3158292B2 (ja) | 1991-07-19 | 1991-07-19 | クリーニングテープ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0528477A JPH0528477A (ja) | 1993-02-05 |
JP3158292B2 true JP3158292B2 (ja) | 2001-04-23 |
Family
ID=16479241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20375191A Expired - Fee Related JP3158292B2 (ja) | 1991-07-19 | 1991-07-19 | クリーニングテープ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3158292B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5991127A (en) * | 1996-08-21 | 1999-11-23 | Geneva Group Of Companies, Inc. | Magnetic head and tape path cleaning tape |
JP4885364B2 (ja) * | 2001-01-10 | 2012-02-29 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ワイピングフィルム |
-
1991
- 1991-07-19 JP JP20375191A patent/JP3158292B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0528477A (ja) | 1993-02-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20010109 |
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