JP3154686B2 - 半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置 - Google Patents

半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置の製造方
法及び半導体装置の製造装置に係り、特に樹脂パッケー
ジに形成された樹脂突起に磁性金属膜を配設した構成の
半導体装置を製造する半導体装置の製造方法及び半導体
装置の製造装置に関する。近年、電子機器の小型化によ
り樹脂封止型の半導体装置も小型化し、よって半導体装
置に設けられる外部接続端子のピッチが小さくなる傾向
にある。また、近年では半導体装置に対し高い信頼性が
要求されるようになってきている。そのため、小型化及
び高信頼性を共に実現しうる半導体装置の製造装置が必
要となる。
【0002】
【従来の技術】図45は、従来の樹脂封止型半導体装置
の一例を示す断面図である。同図において、1は樹脂パ
ッケージ,2は半導体素子,3はアウターリード,4は
ボンディングワイヤ,5はダイパッドを示す。この半導
体装置はSSOP(Shrink Small Outline Package)と呼
ばれるパッケージ構造のものであり、アウターリード3
がガルウイング状に曲げられて実装基板に実装される構
成とされている。
【0003】この種の半導体装置は、多数の製造工程を
経て製造される。特に、樹脂封止型の半導体装置は、そ
の製造工程に樹脂パッケージ1を形成する封止工程を有
しており、この封止工程は通常金型を用いたトランスフ
ァーモールド法を用いて形成されるため、樹脂パッケー
ジ1が形成された際、樹脂の通路となるゲート部が合わ
せて形成される。
【0004】このため、金型を離型し樹脂パッケージ1
を取り出した際、この樹脂パッケージ1とゲート部が連
続的に形成された状態となっている。このゲート部は半
導体装置には不要のものであるため、ゲートブレイク工
程を実施することにより、樹脂パッケージ1とゲート部
とを分離する処理が行なわれる。このゲートブレイク工
程では、樹脂パッケージ1とゲート部とを切断して分離
するため、必然的に樹脂屑が発生する。よって、ゲート
ブレイク工程で発生する樹脂屑を除去する必要があっ
た。
【0005】ところで、上記した図45に示すSSOP
タイプの半導体装置では、樹脂1内に示すインナーリー
ド8からアウターリード3への引き回し部分9の面積
や、アウターリード3自身の占める面積が大きく、実装
面積が大きくなってしまうという問題点がある。そこで
本出願人は先に、上記の問題点を解決しうる半導体装置
として、特開平9−162348号(特願平7−322
803号)を提案した。図46は、上記出願に係る半導
体装置210を示している。同図に示されるように、半
導体装置210は、半導体素子211,樹脂パッケージ
212,及び金属膜213等からなる極めて簡単な構成
とされており、樹脂パッケージ212の実装面216に
一体的に形成された樹脂突起217に金属膜213を被
膜形成したことを特徴としている。
【0006】上記構成とされた半導体装置210は、従
来のSSOPのようなインナーリードやアウターリード
が不要となり、インナーリードからアウターリードへの
引き回しのための面積や、アウターリード自身の面積が
不要となり、半導体装置210の小型化を図ることがで
きる。また、従来のBGAのような半田ボールを形成す
るために搭載基板を用いる必要がなくなるため、半導体
装置210のコスト低減を図ることができる。更に、樹
脂突起217及び金属膜213は、協働してBGA(Bal
l Grid Array) タイプの半導体装置の半田バンプと同等
の機能を奏するため、実装性を向上することができる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記構成とされた半導
体装置210は、リードフレームに形成された凹部に予
め金属膜213を形成しておき、これに半導体素子21
1を搭載しワイヤ218を配設した上で樹脂パッケージ
212を形成し(封止工程)、その後リードフレームの
みをエッチング等で除去(分離工程)し、更にその後に
樹脂パッケージ212に結合しているゲート部を除去す
る(ゲートブレイク工程)ことにより製造される。
【0008】ここで、分離工程以降の製造工程(即ち、
分離工程及びゲートブレイク工程に注目する。先ず、分
離工程に注目する。この分離工程で実施されるリードフ
レームのエッチング処理は、金属膜213を残し、他の
リードフレームを溶解する選択エッチングで行なわれ
る。また、エッチング液はシャワーで供給されるため、
エッチング時には樹脂パッケージ212の固定が必要と
なる。
【0009】一方、ゲートブレイク工程に注目すると、
上記した分離工程が終了した状態においては、各樹脂パ
ッケージ212はゲート部(封止工程において、樹脂パ
ッケージ212と共に形成される)で連結された構成で
あるため、ゲート部を除去する必要がある。このゲート
部の除去処理は、人手(作業者)により実施されてい
た。
【0010】このため、ゲート部の除去処理は他の工程
処理に比べて遅くなり、これに起因して半導体装置の製
造効率が低下してしまうという問題点があった。また、
ゲートブレイク工程で発生する樹脂屑も、人手により除
去することが行なわれていたため、樹脂屑の除去処理に
おいても時間を要し半導体装置210の製造効率が悪い
という問題点があった。
【0011】更に、人手による処理ではゲート切断面が
不均一になる(即ち、ゲートの一部が残るゲート残りが
発生する)可能性があり、樹脂パッケージ212の形状
にバラツキが発生するおそれがあった。このように、樹
脂パッケージ212の形状にバラツキが存在すると、他
の構成が全て正常であっても、外形不良ということのみ
で半導体装置210が不良と判断されてしまい、スルー
プットが低下してしまうという問題点もある。
【0012】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、小型化された半導体装置を高い信頼性をもって製
造しうる半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装
置を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、次に述べ
る手段を講じることにより解決することができる。請求
項1記載の発明では、半導体素子を封止する樹脂パッケ
ージを有すると共に、該樹脂パッケージに形成された樹
脂突起に金属膜を配設した構成の外部接続端子を有した
半導体装置を製造する半導体装置の製造方法であって、
前記樹脂突起の形成位置と対応する位置に凹部が形成さ
れると共に、該凹部内に前記金属膜が形成されてなるリ
ードフレームに前記半導体素子を搭載する素子搭載工程
と、前記半導体素子と前記金属膜とを電気的に接続する
接続工程と、前記リードフレーム上に、前記半導体素子
を封止するよう樹脂を形成し前記樹脂パッケージを形成
する封止工程と、前記リードフレームをエッチング処理
により除去することにより、ゲート部が一体化された状
態の前記樹脂パッケージを前記金属膜と共に前記リード
フレームから分離する分離工程と、前記ゲート部を前記
樹脂パッケージから分離し除去するゲートブレイク工程
とを具備し、かつ、前記分離工程において、枠体に配設
された貼着テープに前記樹脂パッケージを貼付し、該枠
体を前記エッチング処理時のキャリアとして用いること
を特徴とするものである。
【0014】また、請求項2記載の発明では、前記請求
項1記載の半導体装置の製造方法において、前記貼着テ
ープに前記樹脂パッケージのみを貼着し、前記ゲート部
は前記貼着テープから離間した状態とすることを特徴と
するものである。また、請求項3記載の発明では、前記
請求項1または2記載の半導体装置の製造方法におい
て、前記キャリアとして、前記貼着テープの相対向する
2辺のみを前記枠体に固定し、他の2辺は前記枠体から
離間させたものを用いることを特徴とするものである。
【0015】また、請求項4記載の発明では、前記請求
項1乃至3のいずれかに記載の半導体装置の製造方法に
おいて、前記枠体をチタン,樹脂,若しくは樹脂コーテ
ィングされた金属のいずれかにより形成することを特徴
とするものである。また、請求項5記載の発明では、前
記請求項1乃至4のいずれかに記載の半導体装置の製造
方法において、前記貼着テープの貼着材として、水に濡
れることにより貼着力を失う材質を用いることを特徴と
するものである。
【0016】また、請求項6記載の発明では、前記請求
項2乃至4のいずれかに記載の半導体装置の製造方法に
おいて、前記貼着テープに前記樹脂パッケージを貼着す
る際、前記貼着テープを前記樹脂パッケージに対して上
部に位置させると共に、押圧機構により該貼着テープの
前記樹脂パッケージと対向する部位のみを前記樹脂パッ
ケージに向け押圧することにより、前記貼着テープを前
記樹脂パッケージのみに貼着することを特徴とするもの
である。
【0017】また、請求項7記載の発明では、前記請求
項6記載の半導体装置の製造方法において、前記押圧機
構として、スポットエアーを生成するスポットエアー生
成装置を用いたことを特徴とするものである。また、請
求項8記載の発明では、前記請求項2乃至4のいずれか
に記載の半導体装置の製造方法において、前記貼着テー
プに前記樹脂パッケージを貼着する際、前記貼着テープ
を前記樹脂パッケージに対して下部に位置させると共
に、押圧機構により前記リードフレームの全面を前記貼
着テープに向け押圧することにより、前記貼着テープを
前記樹脂パッケージのみに貼着することを特徴とするも
のである。
【0018】また、請求項9記載の発明では、半導体素
子を封止する樹脂パッケージを有すると共に、該樹脂パ
ッケージに形成された樹脂突起に金属膜を配設した構成
の外部接続端子を有した半導体装置を製造する半導体装
置の製造装置において、リードフレームと一体化された
状態の前記樹脂パッケージが供給され、枠体に貼着テー
プが配設された構成のキャリアに前記樹脂パッケージを
貼付する樹脂パッケージ貼着部と、前記樹脂パッケージ
貼着部から前記キャリアが供給され、前記リードフレー
ムをエッチングにより除去するエッチング部とを具備す
ることを特徴とするものである。
【0019】
【0020】
【0021】また、請求項10記載の発明では、半導体
素子を封止する樹脂パッケージを有すると共に、該樹脂
パッケージに形成された樹脂突起に金属膜を配設した構
成の外部接続端子を有した半導体装置を製造する半導体
装置の製造装置において、表面部に貼着テープが貼着さ
れ、かつゲート部が一体化された状態の前記樹脂パッケ
ージが供給部から搬送されると共に、該樹脂パッケージ
の搬送経路を挟むよう上ローラ及び下ローラを配設し、
該上ローラと下ローラで前記樹脂パッケージと前記ゲー
ト部との境界部分を折曲することにより、前記樹脂パッ
ケージと前記ゲート部とを分離する構成とし、かつ、
記上ローラを1本配設すると共に、前記下ローラを前記
樹脂パッケージの進行方向に対し前記上ローラを挟むよ
う2本配設したことを特徴とするものである。
【0022】
【0023】
【0024】
【0025】
【0026】
【0027】また、請求項11記載の発明では、半導体
素子を封止する樹脂パッケージを有すると共に、該樹脂
パッケージに形成された樹脂突起に金属膜を配設した構
成の外部接続端子を有した半導体装置を製造する半導体
装置の製造装置において、表面部に貼着テープが貼着さ
れ、かつゲート部が一体化された状態の前記樹脂パッケ
ージが供給部から搬送されると共に、該樹脂パッケージ
の搬送経路を挟むよう上ローラ及び下ローラを配設し、
該上ローラと下ローラで前記樹脂パッケージと前記ゲー
ト部との境界部分を折曲することにより、前記樹脂パッ
ケージと前記ゲート部とを分離する構成とし、かつ、前
記樹脂パッケージの前記金属膜が配設された側の面に、
保護テープを配設したことを特徴とするものである。
た、請求項12記載の発明では、 半導体素子を封止する
樹脂パッケージを有すると共に、該樹脂パッケージに形
成された樹脂突起に金属膜を配設した構成の外部接続端
子を有した半導体装置を製造する半導体装置の製造装置
において、表面部に貼着テープが貼着され、かつゲート
部が一体化された状態の前記樹脂パッケージが供給部か
ら搬送されると共に、該樹脂パッケージの搬送経路を挟
むよう上ローラ及び下ローラを配設し、該上ローラと下
ローラで前記樹脂パッケージと前記ゲート部との境界部
分を折曲することにより、前記樹脂パッケージと前記ゲ
ート部とを分離する構成とし、かつ、分離されたゲート
部を前記樹脂パッケージと共に液体内に浸漬する浸漬槽
を設け、該液体内で前記ゲート部のみを回収する構成と
したことを特徴とするものである。
【0028】また、請求項13記載の発明では、半導体
素子を封止する樹脂パッケージを有すると共に、該樹脂
パッケージに形成された樹脂突起に金属膜を配設した構
成の外部接続端子を有した半導体装置を製造する半導体
装置の製造装置において、表面部に貼着テープが貼着さ
れた状態の前記樹脂パッケージが搬送されると共に、前
記貼着テープの走行経路途中に前記貼着テープを通過さ
せるスリットを有した剥離治具を配設し、かつ、前記剥
離軸に設けられるスリットの幅を前記樹脂パッケージの
厚さに比べて小さく設定したことを特徴とするものであ
る。
【0029】また、請求項14記載の発明では、半導体
素子を封止する樹脂パッケージを有すると共に、該樹脂
パッケージに形成された樹脂突起に金属膜を配設した構
成の外部接続端子を有した半導体装置を製造する半導体
装置の製造装置において、表面部に貼着テープが貼着さ
れた状態の前記樹脂パッケージが搬送されると共に、前
記貼着テープの走行経路途中に前記貼着テープを貫通し
前記樹脂パッケージを突き上げる突き上げ治具を設けた
ことを特徴とするものである。
【0030】また、請求項15記載の発明では、半導体
素子を封止する樹脂パッケージを有すると共に、該樹脂
パッケージに形成された樹脂突起に金属膜を配設した構
成の外部接続端子を有した半導体装置を製造する半導体
装置の製造装置において、表面部に貼着テープが貼着さ
れた状態の前記樹脂パッケージが搬送されると共に、前
記貼着テープと前記樹脂パッケージとの界面に高圧水を
噴射する高圧水発生装置を具備することを特徴とするも
のである。
【0031】更に、請求項16記載の発明では、半導体
素子を封止する樹脂パッケージを有すると共に、該樹脂
パッケージに形成された樹脂突起に金属膜を配設した構
成の外部接続端子を有した半導体装置を製造する半導体
装置の製造装置において、表面部に貼着テープが貼着さ
れた状態の前記樹脂パッケージが搬送されると共に、前
記貼着テープの走行経路途中に前記貼着テープと前記樹
脂パッケージとの界面に位置するようワイヤを設け、前
記貼着テープの走行に伴い前記ワイヤが前記貼着テープ
と前記樹脂パッケージとを剥離する構成としたことを特
徴とするものである。
【0032】上記の各手段は、次のよう作用する。請求
項1及び請求項9記載の発明によれば、分離工程におい
て、枠体に配設された貼着テープに樹脂パッケージを貼
付し、この枠体をエッチング処理時のキャリアとして用
いることにより、複雑な搬送機構を必要とすることな
く、エッチング時における樹脂パッケージ(リードフレ
ーム)の搬送を容易に行なうことができる。
【0033】また、枠体単位でエッチング処理を行なう
ため、樹脂パッケージの貼付も脱落が無いように確実に
行うことができる。仮に樹脂パッケージの脱落があった
としても容易に判明し、かつリードフレームのエッチン
グが不充分であった場合でもエッチング再処理が容易と
なる。更に、枠体に対して樹脂パッケージの位置も容易
に決まるため、エッチング完了後に実施される貼着テー
プから樹脂パッケージを分離する処理、及びゲート部の
除去処理等を容易に行なうことができる。
【0034】また、請求項2記載の発明によれば、貼着
テープに樹脂パッケージのみを貼着し、ゲート部は貼着
テープから離間した状態とすることにより、エッチング
完了後に実施される樹脂パッケージとゲート部とを分離
する処理を容易に行なうことができる。また、請求項3
記載の発明によれば、キャリアとして、貼着テープの相
対向する2辺のみを枠体に固定し、他の2辺は前記枠体
から離間させたことにより、エッチング処理時において
エッチング液は枠体と貼着テープの前記他の2辺との離
間部分から流出させることができる。よって、キャリア
内にエッチング液が溜まることを防止でき、偏りのない
エッチング処理が可能となる。
【0035】また、請求項4記載の発明によれば、枠体
をチタン,樹脂,若しくは樹脂コーティングされた金属
のいずれかにより形成したことにより、枠体がエッチン
グ液により侵されることを防止することができる。ま
た、請求項5記載の発明によれば、貼着テープの貼着材
として、水に濡れることにより貼着力を失う材質を用い
ることにより、単に水(或いは湯)内に浸漬させるだけ
で分離されたゲート部がテープに再貼着することなくゲ
ート部のみを除去する処理を容易に行なうことができ
る。
【0036】また、請求項6乃至8記載の発明によれ
ば、貼着テープに対し樹脂パッケージのみが貼着し、ゲ
ート部については貼着テープに貼着しない状態とするこ
とができる。よって、ゲートブレークした際、樹脂パッ
ケージは貼着テープと貼着された状態を維持し、またゲ
ート部は貼着テープと貼着していないため落下するた
め、樹脂パッケージとゲート部とを容易に分離すること
ができる。
【0037】
【0038】
【0039】また、請求項10記載の発明によれば、上
ローラを1本配設すると共に、下ローラを樹脂パッケー
ジの進行方向に対し上ローラを挟むよう2本配設するこ
とにより、少ないローラ数で確実に樹脂パッケージとゲ
ート部との境界部分を折曲することができ、より確実に
樹脂パッケージとゲート部とを分離することができる。
【0040】
【0041】
【0042】
【0043】
【0044】また、請求項11記載の発明によれば、樹
脂パッケージの金属膜が配設された側の面に保護テープ
を配設したことにより、分離処理時に外力が印加されて
も、他の部位に比べて比較的強度の弱い金属膜を確実に
保護することができる。また、請求項12記載の発明に
よれば、分離されたゲート部を樹脂パッケージと共に液
体内に浸漬する浸漬槽を設け、この液体内でゲート部の
みを回収することにより、容易に樹脂パッケージとゲー
ト部の分離処理を行なうことができる。
【0045】また、請求項13記載の発明によれば、樹
脂パッケージが貼着された貼着テープの走行経路途中に
貼着テープを通過させるスリットを有した剥離治具を配
設し、かつスリットの幅を樹脂パッケージの厚さに比べ
て小さく設定したことにより、貼着テープはスリットを
通過するが、樹脂パッケージはスリットを通過すること
ができないため、この剥離治具において樹脂パッケージ
を貼着テープから剥離させることができる。
【0046】また、単に樹脂パッケージが貼着された貼
着テープを剥離治具を通過させるだけで樹脂パッケージ
を貼着テープから剥離させることができるため、自動的
に効率良く剥離処理を行なうことができる。また、請求
項14記載の発明によれば、樹脂パッケージが貼着され
た貼着テープの走行経路途中に、貼着テープを貫通し樹
脂パッケージを突き上げる突き上げ治具を設けたことに
より、単に突き上げ治具を樹脂パッケージに向け移動さ
せるだけの動作で樹脂パッケージを貼着テープから剥離
させることができるため、自動的に効率良く剥離処理を
行なうことができる。
【0047】また、請求項15記載の発明によれば、貼
着テープと樹脂パッケージとの界面に高圧水発生装置に
より高圧水を噴射することにより、この高圧水により貼
着テープと樹脂パッケージとを分離させることができ
る。この際、樹脂パッケージに付着している塵埃も同時
に除去(洗浄)することができる。
【0048】更に、請求項16記載の発明によれば、樹
脂パッケージが貼着された貼着テープの走行経路途中に
貼着テープと樹脂パッケージとの界面に位置するようワ
イヤを設けることにより、貼着テープの走行に伴いワイ
ヤは貼着テープと樹脂パッケージとを剥離するため、単
に樹脂パッケージが貼着された貼着テープをワイヤの配
設位置を通過させるだけで樹脂パッケージを貼着テープ
から剥離させることができ、自動的に効率良く剥離処理
を行なうことができる。
【0049】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態について
図面と共に説明する。図1及び図2は本発明の一実施例
である半導体装置の製造方法及び製造装置により製造さ
れる半導体装置10を示している。図1(A)は半導体
装置の平面図であり、図1(B)は半導体装置10の断
面図であり、更に図2は半導体装置10の底面図であ
る。この半導体装置10は、大略すると半導体素子1
1,樹脂パッケージ12,及び金属膜13とからなる極
めて簡単な構成とされている。
【0050】半導体素子11は、その上面に複数の電極
パッド14が形成されており、素子固定樹脂15上に搭
載された構成とされている。また、樹脂パッケージ12
は、例えばエポキシ樹脂を後述するようにトランスファ
ーモールド(ポッティングも可能である)することによ
り形成されるものであり、その実装面16の所定位置に
は樹脂突起17が一体的に形成されている。この樹脂突
起17は、樹脂パッケージ12の実装面16から下方に
向け突出形成されている。尚、この樹脂突起17の配設
ピッチは、例えば0.8mm程度とすることが可能であ
る。
【0051】また、金属膜13は、樹脂パッケージ12
に形成された樹脂突起17を覆うように形成されてい
る。この金属膜13と前記した電極パッド14との間に
はワイヤ18が配設されており、これにより金属膜13
と半導体素子11は電気的に接続した構成となってい
る。尚、金属膜13の詳細については、説明の便宜上、
後述するものとする。
【0052】上記構成とされた半導体装置10は、従来
のSSOPのようなインナーリードやアウターリードが
不要となり、インナーリードからアウターリードへの引
き回しのための面積や、アウターリード自身の面積が不
要となり、半導体装置10の小型化を図ることができ
る。また、従来のBGAのような半田ボールを形成する
ために搭載基板を用いる必要がなくなるため、半導体装
置10のコスト低減を図ることができる。また、樹脂突
起17及び金属膜13は、協働してBGAタイプの半導
体装置の半田バンプと同等の機能を奏するため、実装性
を向上することができる。
【0053】続いて、金属膜13について図3乃至図8
を用いて説明する。各図は、金属膜13の配設位置近傍
を拡大して示す図である。金属膜13は、前記のように
樹脂突起17を被覆するよう配設されると共に、ワイヤ
18により半導体素子11と電気的に接続する構成とさ
れている。また、この金属膜13は半導体装置10の外
部接続端子として機能するものであり、前記したように
半導体装置10を実装基板に実装する時には、金属膜1
3は実装基板に形成された接続電極に半田付けされる。
【0054】この金属膜13は、単層の金属層により形
成してもまた複数の金属層を積層して形成した構成とし
てもよい。図3は単層の金属層により金属膜13Aを形
成したものであり、図4乃至図8は複数の金属層を積層
して金属膜13B〜13Eを形成したものである。ま
た、金属膜13(13A〜13D)の材質を選定するに
際し、前記のように金属膜13はその内側にワイヤ18
が接続されると共に外側は実装基板に半田付けが行われ
るため、金属膜13の最内層はボンディング性が良好で
あることが要求され、また最外層は半田付け性が良好で
あることが要求される(以下、この金属膜13に要求さ
れる条件を金属膜要求特性という)。この金属膜要求特
性を満たす金属膜13(13A〜13E)の材質として
は、次のようなものが考えられる。
【0055】図3に示される単層の金属膜13Aでは、
金属膜13Aの材質としてボンディング性及び半田付け
性が共に良好な材質を選定する必要がある。これを満足
する材料としては、例えば銀(Ag),或いはパラジウ
ム(Pd)がある。また、図4に示されるような外層1
3B-1と内層13B-2とを積層した2層構造の金属膜1
3Bでは、金属膜要求特性を満たす外層13B-1と内層
13B-2との組み合わせとして、外層13B-1をパラジ
ウム(Pd)により形成し、内層13B-2を金(Au)
により形成する組み合わせ、また外層13B-1を金(A
u)により形成し、内層13B-2をパラジウム(Pd)
により形成する組み合わせが考えられる。
【0056】また、図5に示されるような外層13C-
1,中間層13C-2, 内層13C-3とを積層した3層構
造の金属膜13Cでは、外層13C-1を金(Au)によ
り形成し、中間層13C-2をニッケル(Ni)により形
成し、内層13C-3を金(Au)により形成する組み合
わせが考えられる。また、他の組み合わせとしては、 ・外層13C-1にパラジウム(Pd),中間層13C-2
にニッケル(Ni),内層13C-3にパラジウム(P
d)を用いる組み合わせ ・外層13C-1に金(Au),中間層13C-2にパラジ
ウム(Pd),内層13C-3に金(Au)を用いる組み
合わせ ・外層13C-1に半田,中間層13C-2にニッケル(N
i),内層13C-3に金(Au)を用いる組み合わせ ・外層13C-1に半田,中間層13C-2にニッケル(N
i),内層13C-3にパラジウム(Pd)を用いる組み
合わせ が考えられる。上記した各組み合わせにより金属膜13
Cを構成することにより、金属膜要求特性を満たすと共
に、中間層13C-2による外層13C-1と内層13C-3
との接合性を向上することができる。
【0057】また、図6に示されるような外層13D-
1,第1中間層13D-2, 第2中間層13D-3, 内層1
3D-4とを積層した4層構造の金属膜13Dでは、外層
13D-1を半田により形成し、第1中間層13D-2をニ
ッケル(Ni)により形成し、第2中間層13D-3をパ
ラジウム(Pd)により形成し、内層13D-4を金(A
u)により形成する組み合わせが考えられる。
【0058】また、他の組み合わせとしては、 ・外層13D-1にパラジウム(Pd),第1中間層13
D-2にニッケル(Ni),第2中間層13D-3にパラジ
ウム(Pd),内層13D-4に金(Au)を用いる組み
合わせ ・外層13D-1に金(Au),第1中間層13D-2にパ
ラジウム(Pd),第2中間層13D-3にニッケル(N
i),内層13D-4にパラジウム(Pd)を用いる組み
合わせ ・外層13D-1にパラジウム(Pd),第1中間層13
D-2にニッケル(Ni),第2中間層13D-3に金(A
u),内層13D-4にパラジウム(Pd)を用いる組み
合わせ ・外層13D-1に半田,第1中間層13D-2にニッケル
(Ni),第2中間層13D-3に金(Au),内層13
D-4にパラジウム(Pd)を用いる組み合わせ が考えられる。
【0059】また、図7に示されるような外層13E-
1,第1中間層13E-2, 第2中間層13E-3, 第3中
間層13E-4, 内層13E-5とを積層した5層構造の金
属膜13Eでは、外層13E-1を金(Au)により形成
し、第1中間層13E-2をパラジウム(Pd)により形
成し、第2中間層13E-3をニッケル(Ni)により形
成し、第3中間層13E-4をパラジウム(Pd)により
形成し、内層13E-5を金(Au)により形成する組み
合わせが考えられる。
【0060】また、他の組み合わせとしては、 ・外層13E-1に半田,第1中間層13E-2にニッケル
(Ni),第2中間層13E-3に金(Au),第3中間
層13E-4にパラジウム(Pd),内層13E-5に金
(Au)を用いる組み合わせ ・外層13E-1にパラジウム(Pd),第1中間層13
E-2にニッケル(Ni),第2中間層13E-3に金(A
u),第3中間層13E-4にパラジウム(Pd),内層
13E-5に金(Au)を用いる組み合わせ ・外層13E-1にパラジウム(Pd),第1中間層13
E-2にニッケル(Ni),第2中間層13E-3に銅(C
u),第3中間層13E-4にニッケル(Ni),内層1
3E-5にパラジウム(Pd)を用いる組み合わせ ・外層13E-1に金(Au),第1中間層13E-2にニ
ッケル(Ni),第2中間層13E-3に銅(Cu),第
3中間層13E-4にニッケル(Ni),内層13E-5に
金(Au)を用いる組み合わせ ・外層13E-1に金(Au),第1中間層13E-2にパ
ラジウム(Pd),第2中間層13E-3にニッケル(N
i),第3中間層13E-4に金(Au),内層13E-5
にパラジウム(Pd)を用いる組み合わせが考えられ
る。
【0061】また、図8(A)に示されるような外層1
3F-1,第1中間層13F-2, 第2中間層13F-3, 第
3中間層13F-4, 第4中間層13F-5, 内層13F-6
とを積層した6層構造の金属膜13Fでは、外層13F
-1を金(Au)により形成し、第1中間層13F-2をパ
ラジウム(Pd)により形成し、第2中間層13F-3を
ニッケル(Ni)により形成し、第3中間層13F-4を
金(Au)により形成し、第4中間層13F-5をパラジ
ウム(Pd)により形成し、内層13F-6を金(Au)
により形成する組み合わせが考えられる。
【0062】また、他の組み合わせとしては、 ・外層13F-1に金(Au),第1中間層13F-2にパ
ラジウム(Pd),第2中間層13F-3にニッケル(N
i),第3中間層13F-4に銅(Cu),第4中間層1
3F-5にニッケル(Ni),内層13Fにをパラジウム
(Pd)を用いる組み合わせ ・外層13F-1にパラジウム(Pd),第1中間層13
F-2にニッケル(Ni),第2中間層13F-3に銅(C
u),第3中間層13F-4にニッケル(Ni),第4中
間層13F-5にパラジウム(Pd),内層13Fにを金
(Au)を用いる組み合わせが考えられる。
【0063】また、図8(B)に示されるような外層1
3G-1,第1中間層13G-2, 第2中間層13G-3, 第
3中間層13G-4, 第4中間層13G-5, 第5中間層1
3G-6, 内層13G-7とを積層した6層構造の金属膜1
3Gでは、外層13G-1を金(Au)により形成し、第
1中間層13G-2をパラジウム(Pd)により形成し、
第2中間層13G-3をニッケル(Ni)により形成し、
第3中間層13G-4を銅(Cu)により形成し、第4中
間層13G-5をニッケル(Ni)により形成し、第5中
間層13G-6をパラジウム(Pd)により形成し、内層
13G-7を金(Au)により形成する組み合わせが考え
られる。
【0064】上記した各組み合わせにより金属膜13を
構成することにより、金属膜要求特性を満たすと共に外
層,各中間層,及び外層の接合性を向上することができ
る。続いて、上記した第1実施例に係る半導体装置10
の製造方法について説明する。尚、以下の説明では、金
属膜13として外層13C-1,中間層13C-2, 内層1
3C-3とを積層した3層構造の金属膜13Cを設けた構
成を例に挙げて説明するものとする。
【0065】半導体装置10は、図15に示されるリー
ドフレーム20を用いて製造される。このリードフレー
ム20は、導電性金属基材21に複数の凹部22が形成
されると共に、この凹部22に金属膜13Cが形成され
た構成とされている。凹部22の形成位置は、半導体装
置10に形成された樹脂突起17の形成位置と対応する
よう構成されており、また金属膜13Cは樹脂突起17
に嵌入しうるよう形成されている。
【0066】また後述するように、リードフレーム20
は複数の半導体装置10を一括的に形成できるよう(即
ち、いわゆる複数個取りができるよう)構成されてお
り、従って凹部22及び金属膜13Cも1枚の金属基材
21に複数組形成されている。また本実施例では、隣接
する1個の半導体装置10の領域が極めて近接して形成
されており、よって高密度化が図られた構成とされてい
る。尚、図中23は、例えばリードフレーム20を後の
工程において位置決めする際に用いる位置決め孔であ
る。
【0067】ここで、半導体装置10の製造方法を説明
する前に、先ずリードフレーム20の製造方法について
図9乃至図15を用いて説明する。リードフレーム20
を製造するには、先ず図9に示すように、導電材料(例
えば銅)よりなる平板状の金属基材21を用意し、この
金属基材21の上下両面にエッチングレジスト24を塗
布する(エッチングレジスト塗布工程)。このエッチン
グレジスト24は、例えば感光性樹脂であり、ドライフ
ィルムを貼着した後に液状の感光性樹脂を塗布すること
により所定膜厚に形成される。
【0068】続いて、エッチングレジスト24に図示し
ないマスクを用いて露光処理を行い、その後に現像処理
を行うことによりエッチングレジスト24の凹部形成位
置及び治具穴形成位置に対応する部位を除去し、図10
に示すエッチングレジストパターン24aを形成する
(エッチングレジストパターン形成工程)。エッチング
レジストパターン形成工程が終了すると、エッチングレ
ジストパターン24aが形成された金属基材21に対し
エッチング処理が実施される(エッチング工程)。この
エッチング工程では、凹部22の形成位置においては金
属基材21の上面からのみのハーフエッチングが実施さ
れ、位置決め孔23の形成位置においては両面エッチン
グが実施される。尚、金属基材21の材料として銅(C
u)が用いられた場合には、エッチング液としては、例
えば塩化第2鉄等が用いられる。
【0069】これにより、図11に示されるように、金
属基材21の凹部形成位置には凹部22が形成されると
共に、位置決め孔形成位置には位置決め孔23が形成さ
れる。この際、ハーフエッチングにより形成される凹部
22の深さは、金属基材21の板厚に対し60%程度の
深さとすることが可能である。上記のエッチング工程が
終了すると、エッチングレジストパターン24aを除去
する処理(エッチングレジスト除去工程)が実施され、
図12に示されるように、凹部22及び位置決め孔23
が形成された金属基材21のみの状態となる。
【0070】続いて、図12に示す状態の金属基材21
には、その上下両面にメッキレジスト25が塗布される
(メッキレジスト塗布工程)。そして、図示しないマス
クを用いてこのメッキレジスト25に露光処理を行い、
その後に現像処理を行うことにより、エッチングレジス
ト24の凹部形成位置に対応する部位のみを除去し、図
13に示すメッキレジストパターン25aを形成する
(メッキレジストパターン形成工程)。
【0071】上記のように、メッキレジストパターン形
成工程では、図10に示したエッチングレジスト形成工
程と異なり、メッキレジストパターン25aは凹部22
の形成位置のみを露出させ、金属基材21の他の部分は
位置決め孔23の形成位置を含め全て覆う構成としてい
る。メッキレジストパターン形成工程が終了すると、続
いて図14に示されるように、金属膜形成工程が実施さ
れ金属膜13Cが形成される。本実施例においては、金
属膜13Cの形成にメッキ法を用いている。本実施例に
係る金属膜13Cは、外層13C-1, 中間層13C-2,
及び内層13C-3を積層した3層構造とされているた
め、各層毎にメッキ処理を行う。
【0072】具体的には、外層13C-1として金(A
u), 中間層13C-2としてパラジウム(Pd), 内層
13C-3として金(Au)を用いた場合には、先ず内層
13C-3となる金メッキを行い、続いて中間層13C-2
となるパラジウムメッキを行い、最後に外層13C-1と
なる金メッキを行う。この金属膜13Cを構成する各層
13C-1〜13C-3の厚さは、メッキ時間を制御するこ
とにより任意に設定することができる。
【0073】上記の処理を実施することにより金属膜1
3Cは金属基材21に形成されるが、後に説明するよう
に分離工程において、金属基材21に形成された金属膜
13Cは樹脂パッケージ12をリードフレーム20から
分離する際に樹脂パッケージ12と共にリードフレーム
20から離脱する必要がある。このため、金属膜13C
は金属基材21に対しある程度の分離性も要求される。
【0074】従って、金属膜13Cを凹部22に形成す
るに先立ち、上記分離性を確保するために、凹部22内
に導電性のペースト等の分離性を向上させる部材を塗布
しておき、その上部に金属膜13Cを形成する構成とし
てもよい。また、上記した金属膜形成工程では、メッキ
法を用いて金属膜13Cを形成する方法を説明したが、
金属膜13Cの形成はメッキ法に限定されるものではな
く、例えば蒸着法,スパッタリング法等の他の膜形成技
術を用いて形成する構成としてもよい。
【0075】また本実施例では、エッチングレジスト配
設工程,エッチングレジストパターン形成工程,エッチ
ング工程,及びエッチングレジスト除去工程を実施する
ことにより、先ず金属基材21に凹部22をエッチング
形成した後、エッチングレジスト24とは別個にメッキ
レジスト25を配設する構成としている。即ち、レジス
ト除去工程が終了した後、メッキレジスト配設工程を実
施することにより金属基材21の両面にメッキレジスト
25を配設し、続くメッキレジストパターン形成工程に
おいてメッキレジスト25の凹部22の形成位置に対応
する部位のみを除去して所定のメッキレジストパターン
25aを形成している。この際、上記のようにエッチン
グレジスト24とメッキレジスト25とを異ならせるこ
とにより、エッチングレジストパターン24aとメッキ
レジストパターン24bとを異なるパターンとすること
ができる。
【0076】これにより、続いて実施される金属膜形成
工程では、エッチングに拘わらず、金属膜13Cを形成
したい部位のみ形成することができる。特に、本実施例
では、メッキレジスト配設工程において、位置決め孔2
3をメッキレジスト25により覆う構成としたため、精
度を必要とする位置決め孔23に金属膜13が形成され
ることを防止できる。
【0077】位置決め孔23は、その形成時において高
精度に位置決めが行なわれているため、その後に金属膜
13を形成すると、その位置精度が低下してしまう。よ
って、メッキレジスト配設工程において位置決め孔23
をメッキレジスト25で覆う構成とし、金属膜13が被
膜されるのを防止することにより、その後の工程におい
て精度の高い処理を行なうことが可能となる。
【0078】上記のように金属膜形成工程において凹部
22内に金属膜13Cが形成されると、続いてメッキレ
ジストパターン25aを除去するメッキレジスト除去工
程、及び金属基材21の表面平滑化工程が実施され、図
15に示されるリードフレーム20が形成される。上記
したリードフレーム20の製造方法では、各レジスト塗
布,各レジストパターン形成,エッチング,金属膜形
成,及び各レジスト除去等の簡単な工程によりリードフ
レーム20を形成することができる。尚、上記下実施例
では、メッキレジスト25をエッチングレジスト24と
別個に配設する構成としたが、エッチング工程において
エッチングする部位とメッキ工程においてメッキする部
位が同一である場合には、メッキレジスト25を配設す
る工程及びこれに関連する工程を省略することも可能で
ある。
【0079】次に、上記のようにして製造されるリード
フレーム20を用いて半導体装置10を製造する製造方
法について説明する。半導体装置10を製造するには、
図16に示すように、リードフレーム20の所定素子搭
載位置に素子固定樹脂15を塗布すると共に、素子固定
樹脂15の上部に半導体素子11を搭載する(素子搭載
工程)。素子固定樹脂15は絶縁性を有すると共に接着
剤として機能し、よって半導体素子11はリードフレー
ム20上に素子固定樹脂15の接着力により搭載された
状態となる。
【0080】素子搭載工程が終了すると、リードフレー
ム20はワイヤボンディング装置に装着され、図17に
示されるように、半導体素子11に形成された電極パッ
ド14と、リードフレーム20に形成されている金属膜
13C(具体的には、内層13C-3)との間にワイヤ1
8を配設し、半導体素子11と金属膜13Cとを電気的
に接続する(接続工程)。この際、前記したように、位
置決め孔23は金属膜13Cが形成されないことによ
り、この位置決め孔23を用いてリードフレーム20を
ワイヤボンディング装置に高精度に位置決めされた状態
で装着することができる。
【0081】また、ワイヤ18を電極パッド14と金属
膜13Cとの間でワイヤボンディングする際、図17に
示す例では、先ず電極パッド14にワイヤ18の一端を
ボンディングし(ファーストボンディング)し、続いて
ワイヤ18の他端を金属膜13Cにボンディング(セカ
ンドボンディング)する方法を採用した。しかるに、図
18に示すように、先ず金属膜13Cにワイヤ18の一
端を接続し、続いて金属膜13Cから電極パッド14に
ワイヤ18を引き出した上で、ワイヤ18の他端部を電
極パッド14に接続する方法を採用してもよい。
【0082】このように、先ず金属膜13Cにワイヤ1
8の一端を接続し、その後にワイヤ18の他端部を電極
パッド14に接続する、いわゆる逆打ちのワイヤボンデ
ィング法を用いたことにより、ワイヤループの低背化を
図ることができ、これに伴い半導体装置10の低背化を
図ることができる。また、一般に電極パッド14の配設
ピッチは金属膜13Cの配設ピッチに比べて狭く、また
ワイヤボンディング処理においてファーストボンディン
グのボンディング領域はセカンドボンディングのボンデ
ィング領域よりも広い。よって、配設ピッチの広い金属
膜13Cにファーストボンディングを行い、配設ピッチ
の狭い電極パッド14にセカンドボンディングを行う構
成とすることにより、高密度にワイヤ18の配設を行う
ことが可能となる。
【0083】更に、他のワイヤボンディング方法とし
て、予め金属膜13Cにスタッドバンプ45を形成して
おき、このスタッドバンプ45にワイヤ18をセカンド
ボンディングする方法が考えられる。以下、このワイヤ
ボンディング方法について図19乃至図21を用いて説
明する。図19(A)は、素子搭載工程が終了した状態
を示している。この状態において、先ずリードフレーム
20の凹部22に形成されている金属膜13Cに、キャ
ピラリ46を用いてスタッドバンプ45を形成する。図
19(B)は、金属膜13Cにスタッドバンプ45が形
成された状態を示している。尚、スタッドバンプ45の
形成方法の詳細については、図21を用いて後述するも
のとする。
【0084】スタッドバンプ45が形成されると、キャ
ピラリ46は半導体チップ11に形成されている電極パ
ッド14上に移動し、図19(C)に示されるように、
電極パッド14に対しワイヤ18をボンディング(ファ
ーストボンディング)する。電極パッド14に対するボ
ンディング処理が終了すると、キャピラリ46はスタッ
ドバンプ45の上部位置まで移動し、これに伴いワイヤ
18もスタッドバンプ45の上部位置まで引き出され
る。
【0085】次に、図20(D)に示されるように、キ
ャピラリ46はスタッドバンプ45に押圧されてワイヤ
18とスタッドバンプ45とがボンディング(セカンド
ボンディング)される。続いて、同様の処理が他方の電
極パッド14に対しても実施され、よって図20(E)
に示されるように、電極パッド14と金属膜13Cとの
間にワイヤ18が配設された状態となる。
【0086】上記したワイヤボンディング方法では、先
ず金属膜13C上にスタッドバンプ45を形成してお
き、その後に電極パッド14にワイヤ18をファースト
ボンディングした上でワイヤ18を金属膜13C上のス
タッドバンプ45に引出し、金属膜13C上ではなくス
タッドバンプ45にセカンドボンディングするため、金
属膜13C上に直接ワイヤ18をボンディングする構成
に比べてワイヤ18を確実にボンディングすることがで
きる。
【0087】即ち、セカンドボンディングでは、ファー
ストボンディングと異なりワイヤ18にボールが形成さ
れていない状態でボンディング処理が実施される。ま
た、セカンドボンディングでは、ワイヤ18がキャピラ
リ46により押圧されつつ溶接されるため、その接合部
分の機械的強度はどうしてもファーストボンディングに
比べて低くなってしまう。
【0088】しかるに、予めセカンドボンディング位置
である金属膜13C上にワイヤ18と同一材料のスタッ
ドバンプ45を形成しておき、このスタッドバンプ45
に対しワイヤ18をセカンドボンディングすることによ
り、ワイヤ18を確実に金属膜13Cと接続させること
ができる。続いて、図21を用いて、上記したスタッド
バンプ45の形成方法について説明する。尚、以下の説
明ではワイヤ18として金(Au)線を用いた場合につ
いて説明する。また図示の便宜上、同図には金属膜13
C近傍のみを図示し、他の構成の図示は省略している。
【0089】スタッドバンプ45を形成するには、先ず
図21(A)に示すように、キャピラリ45を金属膜1
3Cの上部位置に移動させ、ワイヤボンディング装置に
設けられているスパークロッド(図示せず)を放電させ
て、ワイヤ18の先端にボール47(例えば、φ90μ
m)を形成する。次に、図21(B)に示されるよう
に、キャピラリ45を下動させて金属膜13Cに対しボ
ール47を押圧し、この状態で例えば超音波溶接により
ボール47を金属膜13Cにボンディングする。ボール
47はキャピラリ45に押し潰されるため、このボンデ
ィング処理が終了した状態においてボール47の形状
は、ボール径10〜120μm,高さ30〜40μmと
なっている。
【0090】上記のボンディング処理が終了すると、続
いて図21(C)に示されるように、キャピラリ46を
ボール47より上方に向け約300μm引き上げる。続
いて、図21(D)に示されるように、キャピラリ46
を水平方向に約40〜50μm移動させる。上記動作に
より、キャピラリ46はボール47の中心位置から水平
方向に若干量ずれたところに位置することとなる。
【0091】次に、図21(E)に示されるように、ボ
ール47の中心位置から水平方向に若干量ずれた位置を
維持しつつキャピラリ46を下動させ、ボール47を潰
す処理を行なう。続いて、ワイヤ18をクランプした状
態(即ち、ワイヤ18の送りが行なわれないようにした
状態)として、図21(F)に示されるように、キャピ
ラリ46を上動させる。これにより、ワイヤ18は切断
されてスタッドバンプ45が形成される。
【0092】上記したスタッドバンプ45の形成方法に
よれば、図21(E)に示す処理において、キャピラリ
45はボール47を押し潰すため、形成されるスタッド
バンプ45と金属膜13Cとを強固に接合させることが
できる。また、同様の理由によりスタッドバンプ45の
形成面積は広くなる。よって、図21(G)〜(I)に
示されるように、ワイヤ18をセカンドボンディングす
る際、スタッドバンプ45上のボンディング面積が広い
ため、確実にボンディング処理を行なうことができる。
また、ワイヤ18とスタッドバンプ45とは同一材質
(金)であるためその接合性は良好であり、よってこれ
によってもワイヤ18とスタッドバンプ45との接合力
を向上させることができる。
【0093】また、図21(F)を用いて説明したよう
に、ボール47を潰した後にキャピラリ46は上動して
ワイヤ18を切断するが、この上動位置は上記のように
キャピラリ46を水平移動した位置(即ち、ボール中心
位置よりずれた位置)となっている。よって、ワイヤ1
8をリスタッドバンプ45にセカンドボンディングする
際、ワイヤ切断位置に形成される突起48がボンディン
グの邪魔になるようなことはない。
【0094】尚、上記した接続工程においては、ワイヤ
18として金線を用いた例を示したが、ワイヤ18とし
て金線を被覆するよう絶縁材が配設された被覆金線を用
いた構成としてもよい。この被覆金線は、絶縁材により
被覆されていることにより、隣接するワイヤ18が接触
してもショートするようなことはない。よって、特に高
密度にワイヤ18を配設する必要がある場合に有利であ
る。
【0095】上記した接続工程が終了すると、続いてリ
ードフレーム20上に形成された複数の半導体素子11
を封止するよう樹脂パッケージ12を形成する封止工程
を実施する。本実施例では、樹脂パッケージ12をトラ
ンスファーモールドにより成形する方法について説明す
るが、樹脂パッケージ12はポッティング等の他の樹脂
形成方法により形成することも可能である。このポッテ
ィングを行なう場合、リードフレーム20上にポッティ
ングする樹脂の流れを阻止するダムとなる枠体を配設し
ておき、この枠体内に樹脂をポッティングする構成とす
ることが望ましい。
【0096】トランスファーモールドにより樹脂パッケ
ージ12を形成する場合には、低コストでかつ高い信頼
性をもって樹脂パッケージ12を形成することができ、
またポッティングにより樹脂パッケージ12を形成する
場合には、製造設備の簡単化,低コスト化を図ることが
できる。図22は、接続工程が終了したリードフレーム
20をモールド金型に装着して樹脂をモールドした直後
の状態を示す図であり、29はゲート,30はカル,3
1はランナーを夫々示している。同図に示されるよう
に、樹脂パッケージ12はリードフレーム20に一括的
に複数個形成される。尚、モールド直後の状態では、複
数個形成された各樹脂パッケージ12はゲート32に導
入された樹脂(以下、ゲート32に導入され固化した樹
脂を特にゲート部32という)により連結した状態とな
っている。
【0097】図24は樹脂封止工程で用いるモールド金
型(以下、単に金型という)を示す図であり、図23は
図24に矢印Aで示す部位を拡大して示す図である。先
ず、図23を用いて金型の全体構成について説明する。
金型は、大略すると上型34と下型36とにより構成さ
れている。上型34は、上型用ピンプレート38と上型
用チェイスブロック42とにより構成されており、上型
用ピンプレート38は上型用チェイスブロック42に対
して図中上下方向に移動可能な構成とされている。
【0098】上型用ピンプレート38には複数のエジェ
クターピン43が設けられており、このエジェクターピ
ン43は下方に向け延出して上型用チェイスブロック4
2に形成されているピン孔68に移動可能に挿通されて
いる。また、上型用チェイスブロック42は、下型36
と対向する位置に凹部が形成されており、この凹部内に
は上型用キャビティインサート44が嵌装されている。
この上型用キャビティインサート44には、後に詳述す
るパッケージキャビティ56,アンカーキャビティ58
等が形成されている。
【0099】一方、下型36は、下型用ピンプレート4
0と下型用チェイスブロック48とにより構成されてお
り、下型用ピンプレート40は下型用チェイスブロック
48に対して図中上下方向に移動可能な構成とされてい
る。下型用ピンプレート40には複数のエジェクターピ
ン52が設けられており、このエジェクターピン52は
上方に向け延出して下型用チェイスブロック48に形成
されているピン孔68aに移動可能に挿通されている。
また、下型用チェイスブロック48は、上型34と対向
する位置に凹部が形成されており、この凹部内には下型
用キャビティインサート50が嵌装されている。この下
型用キャビティインサート50は、上型用キャビティイ
ンサート44と異なり、その上面は平坦面とされてい
る。
【0100】また、下型用ピンプレート40及び下型用
チェイスブロック48の中央位置には、プランジャー5
4が移動可能に挿通されており、下型用チェイスブロッ
ク48内で、かつプランジャー54の先端部分には樹脂
パッケージ12及びゲート部32の原料となる樹脂64
(タブレット)が配設されている。尚、上型34及び下
型36の内部には、図示しないヒーターが配設されてお
り、金型32内において樹脂64を溶融しうる構成とさ
れている。
【0101】上記構成とされた上型34及び下型36
は、図示しない駆動装置により、図24に示す上型34
と下型36とが離間した状態(離型状態)から、上型3
4と下型36とがクランプした状態(クランプ状態)と
なる位置まで移動する構成とされている。続いて、図2
3を用いて上型34(上型用キャビティインサート4
4)、及び下型36(下型用キャビティインサート5
0)の具体的構成について説明する。尚、説明の便宜
上、図23は樹脂封止処理が終了し上型34と下型36
とを離型した状態を示している。よって、リードフレー
ム20(基板)には樹脂パッケージ12及びゲート部3
2が形成されている。
【0102】先ず、上型用キャビティインサート44の
構成について説明する。金型は、先に図1に示した半導
体装置10の樹脂パッケージ12を形成するために用い
られるものであり、よって樹脂パッケージ12はリード
フレーム20の片側にのみ形成される。樹脂パッケージ
12を形成するためのパッケージキャビティ56は、上
型用キャビティインサート44のみに形成されており、
下型用キャビティインサート50の上面は平坦面とされ
ている。
【0103】また、図23に示される上型用キャビティ
インサート44では、2個(複数個)のパッケージキャ
ビティ56が形成されているが、本実施例ではこの複数
個設けられたパッケージキャビティ56の間にアンカー
キャビティ58が形成された構成とされている。このア
ンカーキャビティ58は、成型時において樹脂64を各
パッケージキャビティ56に注入するためのゲートキャ
ビティとしても機能するものであり、またアンカーキャ
ビティ58において樹脂パッケージ12を連結するゲー
ト部32が形成される。
【0104】上記構成とされた上型用キャビティインサ
ート44を用いて形成された樹脂パッケージ12及びゲ
ート部32に注目すると、アンカーキャビティ58を設
けることにより、隣接する樹脂パッケージ12間はゲー
ト部32により一体的に連結された構成となる。これに
より、樹脂パッケージ12はゲート部32により補強さ
れた構成となる。
【0105】また、リードフレーム20と樹脂パッケー
ジ12との接合力は、樹脂パッケージ12と一体構成形
成されたゲート部32がリードフレーム20に接合され
ることにより増大する。即ち、樹脂成型された状態にお
いて、リードフレーム20と樹脂パッケージ12及びゲ
ート部32との接合面は広くなり、よって接合力は増大
する。
【0106】従って、上型用キャビティインサート44
から樹脂パッケージ12が離型される際、樹脂64が有
する接着力により樹脂パッケージ12とリードフレーム
20との界面部分に樹脂パッケージ12とリードフレー
ム20とを剥離させようとする力(以下、剥離力とい
う)が作用しても、上記の接合力により樹脂パッケージ
12とリードフレーム20とが剥離することを確実に防
止することができる。これにより、リードフレーム20
に形成されている金属膜113が樹脂突起117から剥
離することを防止でき、よって製造される半導体装置1
0の信頼性を向上させることができる。
【0107】ここで、前記したパッケージキャビティ5
6とアンカーキャビティ58の深さに注目して以下説明
する。本実施例では、アンカーキャビティ58のゲート
幅W1とパッケージキャビティ56のパッケージ幅W2
とは略同一とされている。しかるに、アンカーキャビテ
ィ58の深さとパッケージキャビティ56の深さは、異
なるよう構成されている。
【0108】従って、パッケージキャビティ56で形成
される樹脂パッケージ12の高さH1と、アンカーキャ
ビティ58により形成されるゲート部32の高さH2
は、異なる高さとなっている。具体的には、本実施例の
場合には樹脂パッケージ12の高さH1をゲート部32
の高さH2より高くなるよう構成している(H1>H
2)。従って、形成される樹脂パッケージ12とゲート
部32とは異なった形状を有することとなる。
【0109】前記したように、本実施例で設けられるゲ
ート部32は、樹脂パッケージ12を補強すると共にゲ
ート機能を奏するため形成されるものであるため、最終
的には樹脂パッケージ12から除去されるものである。
このため、仮に樹脂パッケージ12とゲート部32とが
同一形状であったとすると、樹脂パッケージ12とゲー
ト部32との識別が困難となり、除去作業時においてゲ
ート部32のみを除去する作業が面倒となる。
【0110】これに対し、本実施例のように、アンカー
キャビティ58の形状とパッケージキャビティ56の形
状とを異ならせ、樹脂パッケージ12とゲート部32と
を積極的に異なる形状とすることにより、樹脂パッケー
ジ12とゲート部32のと判別を容易に行なうことがで
きる。これにより、樹脂パッケージ12からゲート部3
2を除去する作業が容易となり、この除去作業の効率を
向上させることができる。
【0111】続いて、下型用キャビティインサート50
に注目し、以下説明する。前記したように、本実施例で
は、リードフレーム20の片面に樹脂パッケージ12を
形成する構成とされているため、下型用キャビティイン
サート50の上面は略平坦面とされている。しかるに、
樹脂パッケージ12及びゲート部32の形成後に上型3
4と下型36を離型させる際、リードフレーム20が下
型用キャビティインサート50に係止された状態を維持
するよう、アンカーホール62が形成されている。
【0112】このアンカーホール62は、その内部に、
リードフレーム20,樹脂パッケージ12,及びゲート
部32を下型用キャビティインサート50から離脱させ
る際に用いるエジェクターピン52が配設されている。
このエジェクターピン52は、前記したように下型用ピ
ンプレート40に接続されたものであり、上動すること
によりゲート部32と連結形成されているカル60を上
動付勢し、これによりリードフレーム20,樹脂パッケ
ージ12,及びゲート部32は下型用キャビティインサ
ート50から離脱する構成とされている。
【0113】また、本実施例では、アンカーホール62
内にエジェクターピン52が配設されているため、アン
カーホール62とエジェクターピン52のピン孔とを共
用化することができ、よって金型構造の簡単化を図るこ
とができる。更に、アンカーホール62の上端近傍には
傾斜角(アンダーカット)が設けられており、前記した
エジェクターピン52は上動限にある時、この傾斜角が
形成されている部分には進入しないよう構成されている
(即ち、空間部が形成されている)。よって、樹脂64
を充填した際、アンカーホール62内にも樹脂64は充
填されアンカー突状部80が形成される。
【0114】このアンカー突状部80が形成されること
により、カル60は下型用キャビティインサート50に
食い込んだ状態となるため、離型時において樹脂パッケ
ージ12,及びゲート部32を下型用キャビティインサ
ート50に係止することができる。このように、樹脂パ
ッケージ12及びゲート部32が下型用キャビティイン
サート50に仮固定されることにより、離型時に樹脂パ
ッケージ12及びゲート部32が上型用キャビティイン
サート44に持っていかれることを防止することがで
き、また樹脂パッケージ12とリードフレーム20との
間に剥離力が作用することを低減することができる。
【0115】上記した封止工程を実施することにより、
リードフレーム20上に樹脂パッケージ12及びゲート
部32が形成されると、続いて樹脂パッケージ12及び
ゲート部32をリードフレーム20から分離する分離工
程が実施される。本実施例では、リードフレーム20を
エッチングにより溶解除去することにより、樹脂パッケ
ージ12及びゲート部32をリードフレーム20から分
離する方法を採用している。
【0116】また、エッチングによりリードフレーム2
0を除去する方法としては、エッチング液をシャワー状
にリードフレーム20に噴射することによりエッチング
処理を行なう方法や、また樹脂パッケージ12及びゲー
ト部32と共にリードフレーム20をエッチング液内に
浸漬する方法が考えられる。この何れの方法を採用する
ことも可能であるが、以下の説明ではエッチング液をシ
ャワー状にリードフレーム20に噴射する方法を例に挙
げて説明するものとする。
【0117】図25は、この分離工程で用いられるエッ
チング装置50を示している。図25(A)はエッチン
グ装置50を平面視した概略構成図であり、また図25
(B)はエッチング装置50を側面視した概略構成図で
ある。このエッチング装置50は、大略するとキャリヤ
供給部51,リードフレームスタッカー53,貼着部5
5,枠回転機構57,エッチング部59,及びキャリヤ
回収部67等により構成されている。
【0118】キャリヤ供給部51は、複数のキャリヤ6
0を収納すると共に、このキャリヤ60を貼着部55に
供給する機能を奏するものである。また、リードフレー
ムスタッカー53には、前記した封止工程において樹脂
パッケージ12及びゲート部32が形成されたリードフ
レーム20(図28参照)が複数個収納されている。貼
着部55では、リードフレームスタッカー53から樹脂
パッケージ12及びゲート部32が形成されたリードフ
レーム20が供給されると共に、キャリヤ供給部51か
らはキャリヤ60が供給され、リードフレーム20をキ
ャリヤ60に貼着する処理を行なう。本実施例では、リ
ードフレーム20に対しエッチング処理を行なう際、リ
ードフレーム20をキャリヤ60に貼着した状態で搬送
及びエッチング処理を行なうことを特徴とするものであ
る。
【0119】図26及び図27は、リードフレーム20
が貼着された状態のキャリヤ60を示している。同図に
示されるように、キャリヤ60は金属枠61と貼着テー
プ63とにより構成されている。金属枠61は矩形状の
枠体であり、チタン若しくは樹脂コーティングされた金
属により形成されている。また、樹脂により枠体61を
形成することも可能である。
【0120】即ち、金属枠61の材質は、エッチング液
により変質しない材質が選定されている。このように金
属枠61の材質を選定することにより、金属枠61がエ
ッチング液により侵されることを防止することができ、
繰り返しの使用を可能とすることができる。また、貼着
テープ63は、金属枠61と同様にエッチング液により
変質しない樹脂ベースフィルム上に貼着材を塗布した構
成とされている。本実施例では、貼着テープ63の貼着
材として、水に濡れることにより貼着力を失う材質を用
いている。
【0121】この貼着テープ63は、相対向する2辺6
3a,63bのみを金属枠61に固定し、他の相対向す
る2辺63c,63dは金属枠61から離間させた構成
としている。この構成とすることにより、キャリヤ60
の内際には間隙60aが形成されることとなる。続い
て、図29を用いて、貼着部55で実施されるリードフ
レーム20をキャリヤ60に貼着する具体的処理につい
て説明する。リードフレーム20をキャリヤ60に貼着
するには、先ずリードフレームスタッカー53から樹脂
パッケージ12及びゲート部32が形成されたリードフ
レーム20が貼着部55に供給されると共に、貼着部5
5に予め配設されている位置決め架台70に装着され
る。
【0122】位置決め架台70には凹部70aが形成さ
れており、この凹部70aの形成位置はリードフレーム
20の所定装着位置に選定されている。よって、単に位
置決め架台70の凹部70aにリードフレーム20を装
着することにより、リードフレーム20は貼着部55内
の所定位置に位置決めされた状態となる。上記のよう
に、位置決め架台70にリードフレーム20が装着され
ると、続いてキャリヤ供給部51からはキャリヤ60が
供給され、リードフレーム20と同様に位置決め架台7
0に形成されているキャリヤ用凹部70bに装着され
る。これにより、リードフレーム20とキャリヤ60は
位置決め架台70により位置決めされた状態となる。ま
た本実施例では、上記装着状態においてリードフレーム
20は樹脂パッケージ12及びゲート部32に対し下部
に位置しており、かつキャリヤ60に設けられた貼着テ
ープ63が樹脂パッケージ12及びゲート部32の上部
に位置するよう構成されている。
【0123】リードフレーム20及びキャリヤ60が位
置決め架台70に装着されると、続いて張り付け治具6
9が下動し、貼着テープ63をリードフレーム20に向
け押圧する。この際、張り付け治具69には下方に向け
突出した押圧部69aが形成されており、かつこの押圧
部69aの形成位置は樹脂パッケージ12の位置に対応
するよう構成されている。また、前記したようにゲート
部32の高さH2は、樹脂パッケージ12の高さH1に
比べて低く形成されている(図23参照)。
【0124】よって、張り付け治具69により貼着処理
が行なわれた状態におていて、貼着テープ63は樹脂パ
ッケージ12の上部にのみと貼着し、ゲート部32と貼
着テープ63とは離間した状態となっている。尚、図2
6に示されるように、リードフレーム20は貼着テープ
63に複数個整列した状態で装着され、よって一括して
多数のリードフレーム20に対し分離工程を実施できる
構成となっている。
【0125】ここで、再び図25に戻り、エッチング装
置50の構成についての説明を続ける。上記のようにリ
ードフレーム20(樹脂パッケージ12,ゲート部3
2)がキャリヤ60に装着されると、このキャリヤ60
は枠回転機構57により回転されて上下が反転される。
これにより、貼着テープ63が下に位置し、リードフレ
ーム20が上に位置した状態となる。
【0126】続いて、上記のようにリードフレーム20
が上に位置するよう反転されたキャリヤ60は、搬送ベ
ルト66に載置されてエッチング部59に搬送される。
このエッチング部59は、上部にエッチング液を噴射す
るノズル65が配設されており、よって搬送ベルト66
に載置されてキャリヤ60が移動する際、リードフレー
ム20に向けエッチング液が噴射される。これにより、
リードフレーム20はエッチング液により溶解除去され
る。
【0127】また、リードフレーム20に形成されてい
た金属膜13はエッチング液により溶解しない材質とさ
れているため、リードフレーム20がエッチングされる
ことにより、金属膜13は樹脂パッケージ12に形成さ
れた樹脂突起17に付着した状態となる。ところで、上
記したように貼着テープ63は、相対向する2辺63
a,63bのみを金属枠61に固定し、他の相対向する
2辺63c,63dは金属枠61から離間させた構成と
されているため、キャリヤ60の内際には間隙60aが
形成されている。よって、エッチング部59においてキ
ャリヤ60(リードフレーム20)に向けて噴射された
エッチング液は、この間隙60aよりキャリヤ60の下
部に排出されていく。よって、キャリヤ60内にエッチ
ング液が溜まることを防止でき、偏りのないエッチング
処理が可能となる。
【0128】エッチング部59においてリードフレーム
20がエッチングされると、キャリヤ60には樹脂パッ
ケージ12とゲート部32のみが残存した状態となる。
この状態のキャリヤ60はキャリア回収部67に搬送さ
れ、このキャリア回収部67内に収納される。上記のよ
うに、本実施例では分離工程において、キャリヤ60に
配設された貼着テープ63にリードフレーム20と一体
化した状態の樹脂パッケージ12を貼付し、エッチング
処理時においてこのキャリヤ60を単位として搬送を行
なう構成とした。これにより、エッチング処理時におい
て、複雑な搬送機構を必要とすることなく樹脂パッケー
ジ12(リードフレーム20)の搬送を行なうことが可
能となり、よってエッチング装置50内における搬送機
構の構成を簡単化することができる。
【0129】また、貼着テープ63に対し樹脂パッケー
ジ12(リードフレーム20)を脱落が無いように確実
に行うことができ、仮に樹脂パッケージ12の脱落があ
ったとしても容易にこれを認識することができる。更
に、リードフレーム20に対するエッチングが不充分で
あった場合でも、キャリヤ60を再びエッチング部59
に送り込むだけでよく、エッチング再処理が容易とな
る。
【0130】更に、図29を用いて説明したように、金
属枠61に対して樹脂パッケージ12(リードフレーム
20)の位置は高精度に位置決めされるため、エッチン
グ完了後に実施される貼着テープ63から樹脂パッケー
ジ12を分離する処理、及びゲート部32の除去処理等
を容易に行なうことができる。次に、貼着部55の他実
施例について、図30及び図31を用いて説明する。
【0131】図30は、第2実施例である貼着部55A
を示している。先に図29を用いて説明した第1実施例
に係る貼着部55は、位置決め架台70を用い、樹脂パ
ッケージ12が上側に位置するようリードフレーム20
を位置決め架台70に装着すると共に、その上部から貼
着テープ63を樹脂パッケージ12に貼着する構成とし
ていた。
【0132】これに対し、本実施例では、貼着テープ6
3の貼着面が上に位置するようキャリヤ60を平らな基
台(図示せず)上に載置すると共に、樹脂パッケージ1
2が下側に位置するようにしてリードフレーム20をキ
ャリヤ60に貼着したことを特徴とするものである。本
実施例の構成によれば、樹脂パッケージ12を下側に位
置した状態において、ゲート部32に対して樹脂パッケ
ージ12は突出しているため、単にリードフレーム20
を貼着テープ63に向け押圧するだけの処理で、樹脂パ
ッケージ12のみを貼着テープ63に貼着することがで
きる。よって、第1実施例で必要とされた張り付け治具
69を不要とすることができ、貼着部55の構成を簡単
化することができる。
【0133】図31は、第3実施例である貼着部55B
を示している。先に説明した第1実施例に係る貼着部5
5は、樹脂パッケージ12の位置に対応するよう設けら
れた押圧部69aを有する張り付け治具69を用いて樹
脂パッケージ12を貼着テープ63に貼着する構成とし
ていた。これに対し、本実施例では、スポットエアー生
成装置71を設けると共に、このスポットエアー生成装
置71が生成した高圧空気を噴射するノズル72を樹脂
パッケージ12の位置に対応する位置に配設したことを
特徴とするものである。従って、貼着テープ63の樹脂
パッケージ12と対向する位置には上部からスポットエ
アーが吹き付けられ、このスポットエアーに押圧される
ことにより貼着テープ63は樹脂パッケージ12とのみ
貼着される。
【0134】本実施例の構成では、第1実施例のように
治具69が直接貼着テープ63を押圧せず、スポットエ
アーにより押圧する構成であるため、貼着テープ63に
傷が付くことを防止することができる。よって、本実施
例の構成によれば、キャリヤ60の長寿命化を図ること
ができる。上記のように、分離工程において樹脂パッケ
ージ12及びゲート部32がリードフレーム20から分
離されると、続いてゲートブレーク処理が実施される。
図32は、リードフレーム20が除去された直後の樹脂
パッケージ12及びゲート部32を示している。同図に
示すように、この状態の樹脂パッケージ12にはゲート
部32が一体的に連結された構成となっている。
【0135】従って、個々の半導体装置10を形成する
には、ゲート部32を樹脂パッケージ12から分離する
必要がある。このため、図32(B)に矢印Cで示す位
置、即ち樹脂パッケージ12とゲート部32との境界部
分において、ゲート部32を樹脂パッケージ12から切
断する必要がある。そこで、図32に示すゲート部32
が連結された樹脂パッケージ12は、ゲートブレイク装
置に搬送され、前記した図32(B)に矢印Cで切断処
理を行い、ゲート部32と樹脂パッケージ12とを分離
する処理を行なう。このゲートブレイク処理が実施され
ることにより、半導体装置10が形成される。
【0136】図33乃至図39は、このゲートブレイク
処理を行なうゲートブレイク装置80A〜80Eを示し
ている。各図に示されるように、ゲートブレイク処理を
行なうには、貼着テープ63に貼着されている樹脂パッ
ケージ12に保護テープ73を貼着する。この保護テー
プ73は、貼着テープ63の基材と同一の部材である。
【0137】また、貼着テープ63は樹脂パッケージ1
2の表面に貼着しているため、保護テープ73は樹脂パ
ッケージ12の金属膜13が形成されている面に貼着さ
れることとなる。このように、樹脂パッケージ12の金
属膜13が配設された側の面に保護テープ73を配設す
ることにより、金属膜13は保護テープ73により保護
された構成となる。このため、分離処理時等に外力が印
加されても、他の部位に比べて比較的強度の弱い金属膜
13を確実に保護することが可能となる。
【0138】また、保護テープ73を配設することによ
り、樹脂パッケージ12及びゲート部32は、各テープ
63,73により挟まれた構成となるため、以下説明す
るゲートブレーク処理において樹脂パッケージ12とゲ
ート部32が分離されても、樹脂パッケージ12及びゲ
ート部32がバラバラに落下することを防止することが
できる。
【0139】以下、各ゲートブレイク装置80A〜80
Eについて説明する。先ず、図33乃至図35に示すゲ
ートブレイク装置80Aについて説明する。ゲートブレ
イク装置80Aは、ゴムローラ74A〜74C(折り曲
げ治具)を用いて樹脂パッケージ12とゲート部32と
を分離する構成とされている。ゲート部32及び樹脂パ
ッケージ12を貼着した各テープ63,73は、図中左
から右に向けて(図中、矢印で示す方向に)走行し、そ
の走行途中に設けられたゴムローラ74A〜74Cによ
り分離処理が行なわれる。
【0140】ゴムローラ74Aは大径のローラ(以下、
上ゴムローラ74Aという)であり、他のゴムローラ7
4B,74Cはゴムローラ74Aより小径とされている
(以下、ゴムローラ74B,74Cを下ゴムローラ74
B,74Cという)。また、上ゴムローラ74Aは各テ
ープ63,73の走行経路に対し上部に配設されてお
り、下ゴムローラ74B,74Cは各テープ63,73
の走行経路に対し下部に配設されている。更に、一対の
下ゴムローラ74B,74Cは、上記走行方向に対し上
ゴムローラ74Aを挟むよう配設されている。
【0141】上ゴムローラ74Aは各テープ63,73
を下方に向け押圧し、また下ゴムローラ74B,74C
は、各テープ63,73を上方に向け押圧するよう構成
されている。従って、各ゴムローラ74A〜74Cの配
設位置において、各テープ63,73の走行経路は、略
V字状に大きく折曲された状態となる(図33及び図3
4参照)。
【0142】この折曲位置において、上ゴムローラ74
Aは樹脂パッケージ12またはゲート部32を下方に付
勢し、逆に下ゴムローラ74B,74Cは樹脂パッケー
ジ12またはゲート部32を上方に付勢する。よって、
図32(B)に矢印Cで示す樹脂パッケージ12とゲー
ト部32との境界部分(肉薄となった機械的強度が弱い
部分)に曲げ力が集中し、この部位においてゲート部3
2は樹脂パッケージ12の表面側に折曲される。これに
より、上記境界部分は割れ、樹脂パッケージ12とゲー
ト部32は分離する。
【0143】このように、本実施例によれば、ゴムロー
ラ74A〜74Bからなる簡単な構成により、確実に樹
脂パッケージ12とゲート部32とを分離することがで
きる。また、樹脂パッケージ12の走行経路を挟んで、
その上部に上ゴムローラ74Aを1本配設すると共に、
この上ゴムローラ74Aを挟むよう下ゴムローラ74
B,74C2本配設することにより、少ないローラ数で
確実に樹脂パッケージ12とゲート部32との分離処理
を行なうことができる。
【0144】また、上記のようにゲートブレイク時にお
いて、樹脂パッケージ12の表面方向にゲート部32が
折曲されるよう各ゴム74A〜74Cを配置している。
また、図32(B)に示されるように、樹脂パッケージ
12とゲート部32との境界部分の表面側には溝部32
aが形成され肉薄となっている。よって、ゲート部32
を樹脂パッケージ12の表面方向に折曲することによ
り、分離時に樹脂パッケージ12に欠けが発生すること
を防止でき、歩留りの向上を図ることができる。
【0145】更に、各ゴムローラ74A〜74Cは、図
示しない駆動機構により図33に矢印で示す方向に回転
する構成とされているため、各ゴムローラ74A〜74
Cの回転により各テープ63,73は樹脂パッケージ1
2の搬送方向へ移動付勢される。即ち、本実施例では各
ゴムローラ74A〜74Cを樹脂パッケージ12を搬送
する搬送機構として兼用されており、よって搬送機構の
構成を簡単化することができる。
【0146】続いて、図36に示すゲートブレイク装置
80Bについて説明する。ゲートブレイク装置80B
は、くし歯状突起78A,78B(プレス治具)を用
い、樹脂パッケージ12とゲート部32との厚さの差を
利用して両者を分離する構成とされている。尚、本実施
例においても、ゲート部32及び樹脂パッケージ12
は、一対のテープ63,73の間に貼着された状態でゲ
ートブレークされる。
【0147】前記したように、樹脂パッケージ12の高
さH1は、ゲート部32の高さH2に比べて大きく設定
されている(図32(B)参照)。従って、金属膜13
の形成面を上側(くし歯状突起78A,78Bと対向す
る側)にして固定ブロック82に装着すると、ゲート部
32と固定ブロック82との間(具体的には、ゲート部
32と貼着テープ63との間)には間隙が形成される。
【0148】また、くし歯状突起78Aはゲート部32
の全面と対向するよう構成されており、またくし歯状突
起78Bはゲート部32と樹脂パッケージ12との境界
部分と対向するよう構成されている。この状態におい
て、図中矢印で示すように、くし歯状突起78A,78
Bを固定ブロック82に向けて下方にプレスする。これ
により、図32(B)に矢印Cで示した境界部分に剪断
力が発生し、よってこの部位においてゲート部32は打
ち抜かれ、樹脂パッケージ12とゲート部32とは分離
する。
【0149】本実施例のように、ゲート部32、または
ゲート部32と樹脂パッケージ12との境界部分をくし
歯状突起78A,78B(プレス治具)によりプレス
し、樹脂パッケージ12とゲート部32を分離する構成
では、くし歯状突起78A,78Bを上記の各境界位置
或いはゲート部32に配設することにより、複数の切断
箇所を一括的に切断することが可能である。よって、こ
の構成とした場合に、効率の高い分離処理を行なうこと
ができる。
【0150】続いて、図37及び図38(A),(B)
に示すゲートブレイク装置80C,80Dについて説明
する。ゲートブレイク装置80Cは、レーザ発生装置8
4を用い、レーザ光により樹脂パッケージ12とゲート
部32との境界部分を切断する構成とされている。ま
た、ゲートブレイク装置80Dは、回転するカッター8
6により樹脂パッケージ12とゲート部32との境界部
分を切断する構成とされている。
【0151】この各ゲートブレイク装置80C,80D
では、分離位置を高精度に位置出しすることが可能であ
る。よって、形成される樹脂パッケージ12(半導体装
置10)の寸法精度を高めることができる。また、半導
体装置10がチップサイズ化し、これに伴い樹脂パッケ
ージ12及びゲート部32の形状が小さくなった場合に
おいても、確実に樹脂パッケージ12とゲート部32と
を分離することができる。更に、ゲートブレイク装置8
0Cの場合に、レーザ発生装置84を用いて分離処理を
行なうため、分離位置において樹脂屑が発生することを
防止することができる。
【0152】続いて、図39に示すゲートブレイク装置
80Eについて説明する。ゲートブレイク装置80E
は、高圧水発生装置87が生成する高圧水87aを用
い、樹脂パッケージ12とゲート部32との厚さの差を
利用して両者を分離する構成とされている。高圧水発生
装置87は例えば高圧ポンプにより構成されており、供
給される水を高圧にて噴射する機能を奏するものであ
る。この高圧水発生装置87には、噴射ノズル88A,
88Bが接続されており、昇圧された水(高圧水87
a)は噴射ノズル88から噴射される構成とされてい
る。
【0153】本実施例では、噴射ノズル88Aはゲート
部32の全面と対向するよう構成されており、また噴射
ノズル88Bはゲート部32と樹脂パッケージ12との
境界部分と対向するよう構成されている。この状態にお
いて、各噴射ノズル88A,88Bから高圧水発生装置
87で生成された高圧水87aを噴射すると、図32
(B)に矢印Cで示した境界部分に剪断力が発生し、よ
ってこの部位においてゲート部32は打ち抜かれ、樹脂
パッケージ12とゲート部32とは分離する。
【0154】本実施例のように、高圧水87aを用いて
樹脂パッケージ12とゲート部32を分離する構成で
は、前記した各ゲートブレイク装置80A〜80Dのよ
うに、保護テープ73に対しくし歯状突起78A,78
B、レーザ光,カッター86等が直接接触する構成と異
なり、ゲートブレイク時において保護テープ73に印加
される負荷を軽減することができる。よって、保護テー
プ73に損傷が発生することを防止でき、繰り返し使用
することが可能となる。更に、ゲートブレイク時に樹脂
屑が発生しても、高圧水87aによりこれを洗浄するこ
とができる。
【0155】上記のように、ゲートブレイク装置80A
〜80Dを用いて一体化されたゲート部32と樹脂パッ
ケージ12とを自動的に分離する構成としたことによ
り、従来のように人手によりゲートブレークを行なう構
成に比べて製造効率を向上させることができる。また、
ゲートブレイク処理を最適化された均一の条件で実施す
ることが可能となり、よってブレイク時において樹脂屑
の発生を抑制することができる。これにより、樹脂屑の
除去処理が容易となり、半導体装置40の製造効率を向
上させることができる。
【0156】一方、上記のように樹脂パッケージ12と
ゲート部32が分離されることにより半導体装置40が
形成されると、不要物となるゲート部32と半導体装置
40(樹脂パッケージ12)とを仕分ける処理が行なわ
れる。この仕分け作業の方法としては、前記のように樹
脂パッケージ12とゲート部32はその厚さが異なるた
めこれを利用し、半導体装置40より小さく、かつゲー
ト部32より大きい仕分け孔を設けておき、この仕分け
孔により半導体装置40とゲート部32とを仕分けする
ことが考えられる。しかるに、この方法ではゲート部3
2が複数枚重なっていた場合にはゲート部32は残るこ
ととなり、確実な仕分け処理を行なうことができない。
【0157】そこで、本実施例では、図40に示すよう
に、ゲートブレイク処理が終了した後、貼着テープ63
を水或いは湯が装填されている浸漬槽89に浸漬する構
成とした。具体的には、上記したゲートブレイク処理が
終了した後、先ず保護テープ73を剥離する。この剥離
時において、樹脂パッケージ12から分離されたゲート
部32の内、保護テープ73に貼着しているものは除去
される。
【0158】しかるに、ゲート部32には、ゲートブレ
イク処理時において貼着テープ63に貼着したものも含
まれている。このゲート部32は、保護テープ73を剥
離しても貼着テープ63に貼着した状態を維持する。続
いて、このゲート部32が貼着された状態の貼着テープ
63を前記した浸漬槽89に浸漬させる。前記したよう
に、貼着テープ63の貼着材は、水に濡れることにより
貼着力を失う材質のものが選定されている。更に、前記
したように樹脂パッケージ12は押圧処理が行なわれる
ことにより貼着テープ63に強固に貼着されている(図
29〜図31参照)のに対し、ゲート部32と貼着テー
プ63との貼着力は弱い。
【0159】このため、樹脂パッケージ12及びゲート
部32が共に貼着されている貼着テープ63を単に浸漬
槽89に浸漬させるだけで、ゲート部32のみが貼着テ
ープから剥離する。よって樹脂パッケージ12とゲート
部32とを分離する処理を容易に行なうことができる。
上記のように、貼着テープ63からゲート部32を剥離
する処理が終了すると、続いて貼着テープ63から樹脂
パッケージ12を剥離する剥離工程が実施される。この
剥離工程を実施することにより、個々の半導体装置10
が製造される。
【0160】図41乃至図44は、この剥離工程で使用
される剥離装置102A〜102Dを示している。以
下、各剥離装置102A〜102Dについて説明する。
先ず、図41に示す剥離装置102Aについて説明す
る。本実施例に係る剥離装置102Aは、剥離治具91
を用いて貼着テープ63からゲート部32を剥離する構
成とされている。
【0161】剥離治具91は、上部治具92,下部治具
93,及び収納部95とにより構成されており、また上
部治具92と下部治具93との間にはスリット94が設
けられている。この剥離治具91は、樹脂パッケージ1
2が貼着された貼着テープ63の走行経路途中に配設さ
れており、かつ貼着テープ63が上記のスリット94内
を通過するよう構成されている。また、スリット94を
通過する際、図示されるように、貼着テープ63はV字
状に大きく曲げられるよう構成されている。
【0162】また、上記のスリット94は、その幅が樹
脂パッケージ12の高さH1に比べて小さく設定されて
いる。よって、貼着テープ63はスリット94を通過す
るが、樹脂パッケージ12はスリット94を通過するこ
とができない。また、貼着テープ63の走行経路はスリ
ット94の位置で大きく曲げられている。よって、樹脂
パッケージ12は、貼着テープ63の走行に伴い剥離治
具91により貼着テープ63から剥離され半導体装置1
0が製造される。この製造装置10は、樹脂パッケージ
12が貼着テープ63から剥離することにより落下する
が、この落下位置には収納部95が設けられている。よ
って、半導体装置10は、この収納部95に収納され
る。
【0163】本実施例に係る剥離装置102Aは、単に
樹脂パッケージ12が貼着された貼着テープ63を剥離
治具91を通過させるだけで樹脂パッケージ12を貼着
テープ63から剥離させることができるため、自動的に
効率良く剥離処理を行なうことができる。続いて、図4
2に示す剥離装置102Bについて説明する。本実施例
に係る剥離装置102Bは、突き上げ治具96を用いて
貼着テープ63からゲート部32を剥離する構成とされ
ている。
【0164】突き上げ治具96は、樹脂パッケージ12
を突き上げる突き上げ針97を有しており、貼着テープ
63の走行経路の下部に配設されている。この突き上げ
治具96は、貼着テープ63に対して上下に移動しうる
構成とされてるいる。また、貼着テープ63が走行する
際、樹脂パッケージ12は貼着テープ63の上部に位置
するよう構成されている。
【0165】そして、貼着テープ63の走行に伴い、樹
脂パッケージ12が突き上げ治具96の上部まで搬送さ
れると、突き上げ治具96は上動し、突き上げ針97は
貼着テープ63を貫通して樹脂パッケージ12を上方に
向け突き上げる。これにより、樹脂パッケージ12は貼
着テープ63から剥離し、半導体装置10が形成され
る。
【0166】上記のように、本実施例に係る剥離装置1
02Bは、単に突き上げ治具96を樹脂パッケージ12
に向け移動させるだけの動作で樹脂パッケージ12を貼
着テープ63から剥離させることができるため、自動的
に効率良く剥離処理を行なうことができる。続いて、図
43に示す剥離装置102Cについて説明する。本実施
例に係る剥離装置102Cは、高圧水発生装置98を用
いて貼着テープ63からゲート部32を剥離する構成と
されている。
【0167】高圧水発生装置98は例えば高圧ポンプに
より構成されており、供給される水を高圧にて噴射する
機能を奏するものである。この高圧水発生装置98に
は、噴射ノズル99が接続されており、昇圧された水
(高圧水98a)は噴射ノズル99から噴射される構成
とされている。この噴射ノズル99は、貼着テープ63
と樹脂パッケージ12との界面向け高圧水98aを噴射
するよう構成されている。
【0168】従って、高圧水発生装置98で生成され、
噴射ノズル99から噴射された高圧水98aは、貼着テ
ープ63と樹脂パッケージ12との界面に噴射され、よ
ってこの水圧により貼着テープ63から樹脂パッケージ
12を分離させることができる。このように、高圧水9
8aを用いて剥離処理を行なうことにより、貼着テープ
63が損傷することを防止でき、貼着テープ63を繰り
返し使用することが可能となる。また、高圧水98aの
噴射により、樹脂パッケージ12に付着している塵埃を
同時に除去(洗浄)することができる。尚、本実施例の
場合には、前記したように貼着テープ63に塗布される
貼着材としては、水に濡れることにより貼着力を失う材
質を用いることが望ましい。
【0169】続いて、図44に示す剥離装置102Dに
ついて説明する。本実施例に係る剥離装置102Dは、
ワイヤー100を用いて貼着テープ63からゲート部3
2を剥離する構成とされている。ワイヤー100は、樹
脂パッケージ12が貼着された貼着テープ63の走行経
路途中で、かつ貼着テープ63と樹脂パッケージ12と
の界面に位置するよう設けられている。また、このワイ
ヤー100と対向する下部位置には、押し上げ治具10
1が配設されている。貼着テープ63は、このワイヤー
100と押し上げ治具101との間を走行するよう構成
されている。更に、貼着テープ63は、押し上げ治具1
01よりその走行経路がV字状に大きく曲げられてい
る。
【0170】上記構成とすることにより、貼着テープ6
3の走行経に伴い、相対的にワイヤ100は貼着テープ
63と樹脂パッケージ12との界面内に進行し、これに
より樹脂パッケージ12は貼着テープ63から剥離され
る。よって、本実施例の剥離装置102Dも、単に樹脂
パッケージ12が貼着された貼着テープ63をワイヤ1
00の配設位置を通過させるだけで樹脂パッケージ12
を貼着テープ63から剥離させることができ、自動的に
効率良く剥離処理を行なうことができる。
【0171】
【発明の効果】上述の如く本発明によれば、次に述べる
種々の効果を実現することができる。請求項1及び請求
項9記載の発明によれば、複雑な搬送機構を必要とする
ことなく、エッチング時における樹脂パッケージ(リー
ドフレーム)の搬送を容易に行なうことができる。
【0172】また、枠体単位でエッチング処理を行なう
ため、樹脂パッケージの貼付も脱落が無いように確実に
行うことができる。更に、枠体に対して樹脂パッケージ
の位置も容易に決まるため、エッチング完了後に実施さ
れる貼着テープから樹脂パッケージを分離する処理、及
びゲート部の除去処理等を容易に行なうことができる。
【0173】また、請求項2記載の発明によれば、エッ
チング完了後に実施される樹脂パッケージとゲート部と
を分離する処理を容易に行なうことができる。また、請
求項3記載の発明によれば、エッチング処理時において
エッチング液は枠体と貼着テープの前記他の2辺との離
間部分から流出させることができ、よってキャリア内に
エッチング液が溜まることを防止でき、偏りのないエッ
チング処理を行なうことができる。
【0174】また、請求項4記載の発明によれば、枠体
がエッチング液により侵されることを防止することがで
きる。また、請求項5記載の発明によれば、単に水(或
いは湯)内に浸漬させるだけで貼着テープから樹脂パッ
ケージ及びゲート部を剥離させることができ、よって貼
着テープから樹脂パッケージ,ゲート部を剥離する処理
を容易に行なうことができる。
【0175】また、請求項6乃至8記載の発明によれ
ば、貼着テープに対し樹脂パッケージにのみが貼着し、
ゲート部については貼着テープに貼着しない状態とする
ことができ、よって樹脂パッケージとゲート部とを容易
に分離することができる
【0176】
【0177】また、請求項10記載の発明によれば、少
ないローラ数で確実に樹脂パッケージとゲート部との境
界部分を折曲することができ、より確実に樹脂パッケー
ジとゲート部とを分離することができる
【0178】
【0179】また、請求項11記載の発明によれば、樹
脂パッケージの金属膜が配設された側の面に保護テープ
を配設したことにより、分離処理時に外力が印加されて
も、他の部位に比べて比較的強度の弱い金属膜を確実に
保護することができる。
【0180】また、請求項12記載の発明によれば、分
離されたゲート部を樹脂パッケージと共に液体内に浸漬
する浸漬槽を設け、この液体内でゲート部のみを回収す
ることにより、容易に樹脂パッケージとゲート部の分離
処理を行なうことができる。また、請求項13及び16
記載の発明によれば、単に樹脂パッケージが貼着された
貼着テープを剥離治具を通過させるだけで樹脂パッケー
ジを貼着テープから剥離させることができるため、自動
的に効率良く剥離処理を行なうことができる。
【0181】更に、請求項14記載の発明によれば、単
に突き上げ治具を樹脂パッケージに向け移動させるだけ
の動作で樹脂パッケージを貼着テープから剥離させるこ
とができるため、自動的に効率良く剥離処理を行なうこ
とができる。また、請求項15記載の発明によれば、高
圧水により容易に貼着テープと樹脂パッケージとを分離
させることができ、また樹脂パッケージに付着している
塵埃も同時に除去(洗浄)することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る製造方法及び製造装置で製造され
る半導体装置を説明するための図であり、(A)は平面
図,(B)は断面図である。
【図2】本発明に係る製造方法及び製造装置で製造され
る半導体装置を説明するための図である(底面図)。
【図3】金属膜(1層)を拡大して示す図である。
【図4】金属膜(2層)を拡大して示す図である。
【図5】金属膜(3層)を拡大して示す図である。
【図6】金属膜(4層)を拡大して示す図である。
【図7】金属膜(5層)を拡大して示す図である。
【図8】金属膜(6層,7層)を拡大して示す図であ
る。
【図9】リードフレームの形成方法を説明するための図
である(エッチングレジスト塗布工程)。
【図10】リードフレームの形成方法を説明するための
図である(エッチングレジストパターン形成工程)。
【図11】リードフレームの形成方法を説明するための
図である(エッチング工程)。
【図12】リードフレームの形成方法を説明するための
図である(エッチングレジスト除去工程)。
【図13】リードフレームの形成方法を説明するための
図である(メッキレジスト塗布工程及びメッキレジスト
パターン形成工程)。
【図14】リードフレームの形成方法を説明するための
図である(金属膜形成工程及びメッキレジスト除去工
程)。
【図15】完成したリードフレームを示す断面図であ
る。
【図16】半導体装置の製造方法の一実施例を説明する
ための図である(素子搭載工程)。
【図17】半導体装置の製造方法の一実施例を説明する
ための図である(接続工程)。
【図18】半導体装置の製造方法における接続工程の変
形例を説明するための図である。
【図19】半導体装置の製造方法における接続工程の変
形例を説明するための図(その1)である。
【図20】半導体装置の製造方法における接続工程の変
形例を説明するための図(その2)である。
【図21】スタッドバンプの形成方法を説明するための
図である。
【図22】接続工程が終了した状態のリードフレームを
示す図である。
【図23】樹脂封止工程で用いる金型の構造を説明する
ための図である(その1)。
【図24】樹脂封止工程で用いる金型の構造を説明する
ための図である(その2)。
【図25】分離工程で用いるエッチング装置の一実施例
を説明するための図である。
【図26】エッチング装置で用いるキャリヤを説明する
ための図である。
【図27】図26におけるA−A線に沿う断面図であ
る。
【図28】リードフレームに形成された状態の樹脂パッ
ケージ及びゲート部を説明するための図である。
【図29】貼着部で実施される貼着方法の第1実施例を
説明するための図である。
【図30】貼着部で実施される貼着方法の第2実施例を
説明するための図である。
【図31】貼着部で実施される貼着方法の第3実施例を
説明するための図である。
【図32】ゲート部が一体的に連結した状態の樹脂パッ
ケージを示す図である。
【図33】ゲートブレイク装置の第1実施例を示す概略
構成図である。
【図34】図33のゲートブレーク位置を拡大して示す
図である。
【図35】ゲートブレイク装置の第1実施例を示す平面
図である。
【図36】ゲートブレイク装置の第2実施例を示す概略
構成図である。
【図37】ゲートブレイク装置の第3実施例を示す概略
構成図である。
【図38】ゲートブレイク装置の第4実施例を示す概略
構成図である。
【図39】ゲートブレイク装置の第5実施例を示す概略
構成図である。
【図40】樹脂パッケージとゲート部を分離する浸漬槽
を説明するための図である。
【図41】剥離装置の第1実施例を示す概略構成図であ
る。
【図42】剥離装置の第2実施例を示す概略構成図であ
る。
【図43】剥離装置の第3実施例を示す概略構成図であ
る。
【図44】剥離装置の第4実施例を示す概略構成図であ
る。
【図45】従来の半導体装置及びその製造方法の一例を
説明するための図である。
【図46】小型化された半導体装置の一例を説明するた
めの図である。
【符号の説明】
10 半導体装置 11 半導体素子 12 樹脂パッケージ 13,13A〜13E 金属膜 17 樹脂突起 20 リードフレーム 21 金属基材 22 凹部 24 エッチングレジスト 25 メッキレジスト 32 ゲート部 34 上型 36 下型 43 イジェクターピン 45 スタッドバンプ 46 キャピラリ 50 エッチング装置 51 キャリヤ供給部 53 リードフレームスタッカー 54 プランジャー 55,55A,55B 貼着部 56 パッケージキャビティ 57 枠回転機構 58 アンカーキャビティ 59 エッチング部 60 キャリヤ 61 金属枠 63 貼着テープ 64 樹脂 67 キャリヤ回収部 69 貼り付け治具 69a 押圧部 70 位置決め架台 71 スポットエアー生成装置 73 保護テープ 74A 上ゴムローラー 74B,74C 下ゴムローラー 78A,78B くし歯状突起 80A〜80E ゲートブレイク装置 82 固定ブロック 84 レーザ発生装置 86 カッター 87,98 高圧水発生装置 88,99 噴射ノズル 89 浸漬槽 91 剥離治具 92 上部治具 93 下部治具 94 スリット 96 突き上げ治具 97 突き上げ針 100 ワイヤ 101 押し上げ治具 102A〜102D 剥離装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小野寺 正徳 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1 番1号 富士通株式会社内 (72)発明者 織茂 政一 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1 番1号 富士通株式会社内 (72)発明者 米田 義之 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1 番1号 富士通株式会社内 (56)参考文献 特開 平9−162348(JP,A) 特開 昭59−208756(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/56,23/28 H01L 23/12,23/50

Claims (16)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体素子を封止する樹脂パッケージを
    有すると共に、該樹脂パッケージに形成された樹脂突起
    に金属膜を配設した構成の外部接続端子を有した半導体
    装置を製造する半導体装置の製造方法であって、 前記樹脂突起の形成位置と対応する位置に凹部が形成さ
    れると共に、該凹部内に前記金属膜が形成されてなるリ
    ードフレームに前記半導体素子を搭載する素子搭載工程
    と、 前記半導体素子と前記金属膜とを電気的に接続する接続
    工程と、 前記リードフレーム上に、前記半導体素子を封止するよ
    う樹脂を形成し前記樹脂パッケージを形成する封止工程
    と、 前記リードフレームをエッチング処理により除去するこ
    とにより、ゲート部が一体化された状態の前記樹脂パッ
    ケージを前記金属膜と共に前記リードフレームから分離
    する分離工程と、 前記ゲート部を前記樹脂パッケージから分離し除去する
    ゲートブレイク工程とを具備し、 かつ、前記分離工程において、枠体に配設された貼着テ
    ープに前記樹脂パッケージを貼付し、該枠体を前記エッ
    チング処理時のキャリアとして用いることを特徴とする
    半導体装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の半導体装置の製造方法に
    おいて、 前記貼着テープに前記樹脂パッケージのみを貼着し、前
    記ゲート部は前記貼着テープから離間した状態とするこ
    とを特徴とする半導体装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載の半導体装置の製
    造方法において、 前記キャリアとして、前記貼着テープの相対向する2辺
    のみを前記枠体に固定し、他の2辺は前記枠体から離間
    させたものを用いることを特徴とする半導体装置の製造
    方法。
  4. 【請求項4】 請求項1乃至3のいずれかに記載の半導
    体装置の製造方法において、 前記枠体をチタン,樹脂,若しくは樹脂コーティングさ
    れた金属のいずれかにより形成することを特徴とする半
    導体装置の製造方法。
  5. 【請求項5】 請求項1乃至4のいずれかに記載の半導
    体装置の製造方法において、 前記貼着テープの貼着材として、水に濡れることにより
    貼着力を失う材質を用いることを特徴とする半導体装置
    の製造方法。
  6. 【請求項6】 請求項2乃至4のいずれかに記載の半導
    体装置の製造方法において、 前記貼着テープに前記樹脂パッケージを貼着する際、前
    記貼着テープを前記樹脂パッケージに対して上部に位置
    させると共に、押圧機構により該貼着テープの前記樹脂
    パッケージと対向する部位のみを前記樹脂パッケージに
    向け押圧することにより、前記貼着テープを前記樹脂パ
    ッケージのみに貼着することを特徴とする半導体装置の
    製造方法。
  7. 【請求項7】 請求項6記載の半導体装置の製造方法に
    おいて、 前記押圧機構として、スポットエアーを生成するスポッ
    トエアー生成装置を用いたことを特徴とする半導体装置
    の製造方法。
  8. 【請求項8】 請求項2乃至4のいずれかに記載の半導
    体装置の製造方法において、 前記貼着テープに前記樹脂パッケージを貼着する際、前
    記貼着テープを前記樹脂パッケージに対して下部に位置
    させると共に、押圧機構により前記リードフレームの全
    面を前記貼着テープに向け押圧することにより、前記貼
    着テープを前記樹脂パッケージのみに貼着することを特
    徴とする半導体装置の製造方法。
  9. 【請求項9】 半導体素子を封止する樹脂パッケージを
    有すると共に、該樹脂パッケージに形成された樹脂突起
    に金属膜を配設した構成の外部接続端子を有した半導体
    装置を製造する半導体装置の製造装置において、 リードフレームと一体化された状態の前記樹脂パッケー
    ジが供給され、枠体に貼着テープが配設された構成のキ
    ャリアに前記樹脂パッケージを貼付する樹脂パッケージ
    貼着部と、 前記樹脂パッケージ貼着部から前記キャリアが供給さ
    れ、前記リードフレームをエッチングにより除去するエ
    ッチング部とを具備することを特徴とする半導体装置の
    製造装置。
  10. 【請求項10】 半導体素子を封止する樹脂パッケージ
    を有すると共に、該樹脂パッケージに形成された樹脂突
    起に金属膜を配設した構成の外部接続端子を有した半導
    体装置を製造する半導体装置の製造装置において、 表面部に貼着テープが貼着され、かつゲート部が一体化
    された状態の前記樹脂パッケージが供給部から搬送され
    ると共に、該樹脂パッケージの搬送経路を挟むよう上ロ
    ーラ及び下ローラを配設し、 該上ローラと下ローラで前記樹脂パッケージと前記ゲー
    ト部との境界部分を折曲することにより、前記樹脂パッ
    ケージと前記ゲート部とを分離する構成とし、 かつ、前記上ローラを1本配設すると共に、前記下ロー
    ラを前記樹脂パッケージの進行方向に対し前記上ローラ
    を挟むよう2本配設したことを特徴とする半導体装置の
    製造装置。
  11. 【請求項11】 半導体素子を封止する樹脂パッケージ
    を有すると共に、該樹脂パッケージに形成された樹脂突
    起に金属膜を配設した構成の外部接続端子を有した半導
    体装置を製造する半導体装置の製造装置において、 表面部に貼着テープが貼着され、かつゲート部が一体化
    された状態の前記樹脂パッケージが供給部から搬送され
    ると共に、該樹脂パッケージの搬送経路を挟むよう上ロ
    ーラ及び下ローラを配設し、 該上ローラと下ローラで前記樹脂パッケージと前記ゲー
    ト部との境界部分を折曲することにより、前記樹脂パッ
    ケージと前記ゲート部とを分離する構成とし、 かつ、前記樹脂パッケージの前記金属膜が配設された側
    の面に、保護テープを配設したことを特徴とする半導体
    装置の製造装置。
  12. 【請求項12】 半導体素子を封止する樹脂パッケージ
    を有すると共に、該樹脂パッケージに形成された樹脂突
    起に金属膜を配設した構成の外部接続端子を有した半導
    体装置を製造する半導体装置の製造装置において、 表面部に貼着テープが貼着され、かつゲート部が一体化
    された状態の前記樹脂パッケージが供給部から搬送され
    ると共に、該樹脂パッケージの搬送経路を挟むよう上ロ
    ーラ及び下ローラを配設し、 該上ローラと下ローラで前記樹脂パッケージと前記ゲー
    ト部との境界部分を折曲することにより、前記樹脂パッ
    ケージと前記ゲート部とを分離する構成とし、 かつ、分離されたゲート部を前記樹脂パッケージと共に
    液体内に浸漬する浸漬槽を設け、該液体内で前記ゲート
    部のみを回収する構成としたことを特徴とする半導体装
    置の製造装置。
  13. 【請求項13】 半導体素子を封止する樹脂パッケージ
    を有すると共に、該樹脂パッケージに形成された樹脂突
    起に金属膜を配設した構成の外部接続端子を有した半導
    体装置を製造する半導体装置の製造装置において、 表面部に貼着テープが貼着された状態の前記樹脂パッケ
    ージが搬送されると共に、前記貼着テープの走行経路途
    中に前記貼着テープを通過させるスリットを有した剥離
    治具を配設し、 かつ、前記剥離軸に設けられるスリットの幅を前記樹脂
    パッケージの厚さに比べて小さく設定したことを特徴と
    する半導体装置の製造装置。
  14. 【請求項14】 半導体素子を封止する樹脂パッケージ
    を有すると共に、該樹脂パッケージに形成された樹脂突
    起に金属膜を配設した構成の外部接続端子を有した半導
    体装置を製造する半導体装置の製造装置において、 表面部に貼着テープが貼着された状態の前記樹脂パッケ
    ージが搬送されると共に、前記貼着テープの走行経路途
    中に前記貼着テープを貫通し前記樹脂パッケージを突き
    上げる突き上げ治具を設けたことを特徴とする半導体装
    置の製造装置。
  15. 【請求項15】 半導体素子を封止する樹脂パッケージ
    を有すると共に、該樹脂パッケージに形成された樹脂突
    起に金属膜を配設した構成の外部接続端子を有した半導
    体装置を製造する半導体装置の製造装置において、 表面部に貼着テープが貼着された状態の前記樹脂パッケ
    ージが搬送されると共に、前記貼着テープと前記樹脂パ
    ッケージとの界面に高圧水を噴射する高圧水発生装置を
    具備することを特徴とする半導体装置の製造装置。
  16. 【請求項16】 半導体素子を封止する樹脂パッケージ
    を有すると共に、該樹脂パッケージに形成された樹脂突
    起に金属膜を配設した構成の外部接続端子を有した半導
    体装置を製造する半導体装置の製造装置において、 表面部に貼着テープが貼着された状態の前記樹脂パッケ
    ージが搬送されると共に、前記貼着テープの走行経路途
    中に前記貼着テープと前記樹脂パッケージとの界面に位
    置するようワイヤを設け、 前記貼着テープの走行に伴い前記ワイヤが前記貼着テー
    プと前記樹脂パッケージとを剥離する構成としたことを
    特徴とする半導体装置の製造装置。
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JP4601776B2 (ja) * 2000-07-17 2010-12-22 大日本印刷株式会社 短冊状リードフレームの搬送方法
JP4007798B2 (ja) * 2001-11-15 2007-11-14 三洋電機株式会社 板状体の製造方法およびそれを用いた回路装置の製造方法
KR100629887B1 (ko) * 2003-05-14 2006-09-28 이규한 금속 칩스케일 반도체패키지 및 그 제조방법
US8137417B2 (en) 2006-09-29 2012-03-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Peeling apparatus and manufacturing apparatus of semiconductor device
CN106001833B (zh) * 2016-07-21 2018-09-21 中山立杰精密器材有限公司 一种hdmi连接端子自动接焊线设备
CN108847397B (zh) * 2018-04-20 2020-05-05 四川旭茂微科技有限公司 一种整流桥弯脚装置及其使用方法
CN113517212B (zh) * 2021-06-23 2021-11-19 四川通妙科技有限公司 一种引线框架用粘芯装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109382959A (zh) * 2017-08-04 2019-02-26 东和株式会社 树脂成形装置及树脂成形品制造方法
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