JP3132496B2 - Die bonding equipment - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品のボンデ
ィング荷重の設定を容易にするとともに、吸着部が電子
部品に接触した際に電子部品が破損しないようにしたダ
イボンディング装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a die bonding apparatus which facilitates setting of a bonding load of an electronic component and prevents the electronic component from being damaged when the suction portion contacts the electronic component.
【0002】[0002]
【従来の技術】リードフレームに電子部品(ダイ)を実
装するダイボンディング装置のダイボンディング工程
は、次のように行われる。すなわち、リードフレームを
搬送レール上に位置決めし、このリードフレームにディ
スペンサなどによりボンドを塗布する。一方、ウェハか
ら所定形状にカットされた電子部品をエジェクタにより
突き上げ、ボンディングヘッドを下降させて、この突き
上げられた電子部品をこのボンディングヘッドの吸着部
により吸着し、この装置を上昇させることによりピック
アップする。そして、上記リードフレーム側へ移送し、
再度ボンディングヘッドを下降させ、上記吸着部に吸着
されている電子部品をリードフレームに実装し、この装
置を上昇させるようになっている。このように、ダイボ
ンディング装置のボンディングヘッドは、ダイボンディ
ング工程の1ストロークにおいて、少なくとも2回(エ
ジェクタにより突き上げられた電子部品をピックアップ
するときと、ピックアップした電子部品をリードフレー
ムに実装するとき)の昇降動作を行っている。2. Description of the Related Art A die bonding process of a die bonding apparatus for mounting an electronic component (die) on a lead frame is performed as follows. That is, the lead frame is positioned on the transport rail, and a bond is applied to the lead frame by a dispenser or the like. On the other hand, the electronic component cut into a predetermined shape from the wafer is pushed up by the ejector, the bonding head is lowered, the pushed up electronic component is sucked by the suction portion of the bonding head, and picked up by raising the device. . Then, transfer to the lead frame side,
The bonding head is lowered again, the electronic components sucked by the suction section are mounted on a lead frame, and the apparatus is raised. As described above, the bonding head of the die bonding apparatus performs at least two times in one stroke of the die bonding process (when the electronic component pushed up by the ejector is picked up and when the picked up electronic component is mounted on the lead frame). Elevating operation is performed.
【0003】ここで図7は、従来のボンディングヘッド
の例示図である。図7において、LFはリードフレー
ム、Bはボンド、Pは電子部品であり、110はボンデ
ィングヘッドの支持機構、120は、上部がこの支持機
構110に対して昇降可能に支持され、下部に電子部品
Pを吸着する吸着部122を有する可動機構、130は
この支持機構110をXYZθ方向に移動させる移動手
段である。FIG. 7 is a view showing an example of a conventional bonding head. In FIG. 7, LF is a lead frame, B is a bond, P is an electronic component, 110 is a support mechanism of a bonding head, 120 is an upper part supported on the support mechanism 110 so as to be able to move up and down, and a lower part is an electronic part. A movable mechanism having a suction section 122 for sucking P is a moving means for moving the support mechanism 110 in the XYZθ directions.
【0004】そして、この可動機構120は、吸着ノズ
ル122a、このノズル122aの下部に取り付けられ
るダイコレット122b、このノズル122aの上部に
連結される昇降ロッド121からなる。[0004] The movable mechanism 120 includes a suction nozzle 122a, a die collet 122b attached to a lower portion of the nozzle 122a, and a lifting rod 121 connected to an upper portion of the nozzle 122a.
【0005】また、支持機構110は、ホルダ111、
このホルダ111内に設けられ、かつ昇降ロッド121
を昇降自在に支持するガイドブシュ112、113から
なる。The support mechanism 110 includes a holder 111,
An elevating rod 121 provided in the holder 111
And guide bushes 112 and 113 for supporting the ascending and descending freely.
【0006】またKは、上端部がホルダ111の下部
に、下端部がノズル122aの上部に、それぞれ取り付
けられるボンディング荷重設定用ばねである。このよう
に、従来手段においては、XYZθ方向に移動する移動
手段130による押し下げ力が一定であるとすると、ボ
ンディングヘッド装置が、電子部品をリードフレームに
押し付けるボンディング荷重は、このばねKのみにより
設定されるものであった。[0006] K is a bonding load setting spring that is attached at the upper end to the lower part of the holder 111 and at the lower end to the upper part of the nozzle 122a. As described above, in the conventional means, assuming that the pressing force by the moving means 130 moving in the XYZθ directions is constant, the bonding load for the bonding head device to press the electronic component against the lead frame is set only by the spring K. Was something.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】ところで、ダイボンデ
ィングの分野においても、多品種少量生産が行われるに
至っており、大小様々な電子部品がボンディングされて
いる。By the way, in the field of die bonding, large-variety, small-quantity production has been performed, and electronic components of various sizes are bonded.
【0008】ここで電子部品のサイズが大きければ、接
触面積が大となり、多量のボンドを要するので、大きな
ボンディング荷重をかけてしっかりボンディングする必
要がある。逆に小さな電子部品では、電子部品の破損を
防止するため、小さなボンディング荷重が必要になる。
このように電子部品のサイズなどが異なると、適切なボ
ンディング荷重が相違するので、ボンディング荷重の設
定変更を行うことが多い。Here, if the size of the electronic component is large, the contact area becomes large and a large amount of bonding is required. Therefore, it is necessary to apply a large bonding load and firmly bond. Conversely, small electronic components require a small bonding load to prevent damage to the electronic components.
As described above, when the size of the electronic component is different, an appropriate bonding load is different, and thus the setting of the bonding load is often changed.
【0009】ところが従来手段のように、ばねKのみに
よりボンディング荷重の設定を行うと、この設定変更の
都度ばねKを交替しなければならず、種々のばねKを準
備しておく必要があるばかりでなく、その交替時にはダ
イボンディング工程全体を停止する必要があるので、作
業歩留が低下するという問題点がある。However, if the bonding load is set only by the spring K as in the conventional means, the spring K must be replaced every time the setting is changed, and it is necessary to prepare various springs K. In addition, at the time of the replacement, it is necessary to stop the entire die bonding process, which causes a problem that the work yield is reduced.
【0010】また可動機構120は、ばねKにより支持
機構110に支持されている。そして図8(b)に示す
ように、ホルダ111が、下降して最下降位置に至る
際、次に述べるような現象を起こすことがある。The movable mechanism 120 is supported by the support mechanism 110 by a spring K. Then, as shown in FIG. 8B, when the holder 111 moves down to the lowest position, the following phenomenon may occur.
【0011】すなわち、ホルダ111が下降する際、そ
の下向きの加速度により、可動機構120に上向きの慣
性力が作用し、ばねKは自然長よりも縮んだ状態にあ
る。そして、ホルダ111が、最下降位置に至り停止す
ると、上記上向きの加速度が0となり、可動機構120
に慣性力が作用しなくなる。したがって、ばねKが上記
縮んだ状態から解放され、振動(伸縮)を起こす。That is, when the holder 111 descends, an upward inertial force acts on the movable mechanism 120 due to its downward acceleration, and the spring K is in a state of being contracted from its natural length. When the holder 111 reaches the lowermost position and stops, the upward acceleration becomes zero, and the movable mechanism 120
Inertia force does not act on. Therefore, the spring K is released from the contracted state, and vibrates (expands or contracts).
【0012】その結果、可動機構120の下部に位置す
る吸着部122が、上昇(同図(c))及び下降(同図
(b))を繰り返し(ジャンピング現象)、デリケート
な電子部品Pを破損するおそれがあった。As a result, the suction part 122 located at the lower part of the movable mechanism 120 repeatedly rises (FIG. 3C) and descends (FIG. 3B) (jumping phenomenon) to damage the delicate electronic component P. There was a risk of doing.
【0013】そして、最近ボンディングを高速化するた
め、上記加速度、慣性力は、ますます大きくなってい
る。したがって、ばねKのばね定数が小さいと、上記振
動(伸縮)の振幅が大きくなり、一層上記ジャンピング
現象が顕著になっていた。In recent years, in order to increase the speed of bonding, the acceleration and the inertial force have been increasing. Therefore, when the spring constant of the spring K is small, the amplitude of the vibration (expansion and contraction) increases, and the jumping phenomenon has become more remarkable.
【0014】そこで、従来手段においては、このジャン
ピング現象を抑制すべく、ばねKのばね定数を大きくし
ていた。このように、ばね定数を大きくすれば、上記振
幅は小さくなる。しかしながら、このようにしても、ば
ね定数と振幅の積(吸着ノズル122aが電子部品Pに
及ぼす力)を減殺することはできず、電子部品Pを破損
し易いという上記問題点を解決できるものではなかっ
た。Therefore, in the conventional means, the spring constant of the spring K is increased to suppress this jumping phenomenon. As described above, when the spring constant is increased, the amplitude is reduced. However, even in this case, the product of the spring constant and the amplitude (the force exerted on the electronic component P by the suction nozzle 122a) cannot be reduced, and the above-described problem that the electronic component P is easily damaged can not be solved. Did not.
【0015】なお図8は、ボンディングヘッド装置の上
記2回の昇降動作のうち、ピックアップされた電子部品
をリードフレームに実装する状態を示しているが、エジ
ェクタにより突き上げられた電子部品をピックアップす
る際にも、上述と同様の問題点がある。FIG. 8 shows a state in which the picked-up electronic component is mounted on the lead frame during the two lifting operations of the bonding head device. When picking up the electronic component pushed up by the ejector, FIG. Have the same problems as described above.
【0016】そこで本発明は、部品交換を行わずにボン
ディング荷重の設定変更を行うことができ、しかも電子
部品を破損しにくいダイボンディング装置を提供するこ
とを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a die bonding apparatus which can change a setting of a bonding load without replacing a part, and is hard to damage an electronic part.
【0017】[0017]
【課題を解決するための手段】本発明は、電子部品をボ
ンディングヘッドの吸着部に吸着してピックアップし基
板に搭載するダイボンディング装置において、前記ボン
ディングヘッドが、下部に電子部品を吸着する吸着部を
有する昇降ロッドと、この昇降ロッドの上方に配設され
たダイヤフラムと、昇降ロッドの下降限度を制限する下
降限度制限手段とを備え、また圧縮空気源からダイヤフ
ラムに供給される圧縮空気の圧力の大きさを調整する圧
力調整手段を設け、前記ダイヤフラムを介して前記昇降
ロッドに加えられる圧縮空気の圧力により電子部品に加
えられる前記昇降ロッドの押付け力を調整するようにし
たものである。According to the present invention, there is provided a die bonding apparatus in which an electronic component is sucked to a suction portion of a bonding head to be picked up and mounted on a substrate. A lifting rod having a diaphragm, a diaphragm disposed above the lifting rod, and a descent limit limiting means for limiting a descent limit of the lifting rod, and the pressure of compressed air supplied to the diaphragm from a compressed air source. Pressure adjusting means for adjusting the size is provided, and the pressing force of the lifting rod applied to the electronic component by the pressure of the compressed air applied to the lifting rod via the diaphragm is adjusted.
【0018】上記構成によれば、ダイヤフラムに加えら
れる圧縮空気の圧力の大きさにより、昇降ロッドを押し
下げる外力が決定される。したがって、ボンディング荷
重の設定変更を行うにあたっては、この圧縮空気の圧力
を変更すればよく、何ら部品を交換する必要がない。し
かも、吸着部が最下降しようとする際に、昇降ロッドを
押し下げる外力を減少させることにより、電子部品に過
大なショックが加わらないようにして、電子部品の破損
を防止することができる。According to the above configuration, the external force for pushing down the lifting rod is determined by the magnitude of the pressure of the compressed air applied to the diaphragm. Therefore, when changing the setting of the bonding load, the pressure of the compressed air may be changed, and there is no need to replace any components. In addition, when the suction section is about to descend, the external force that pushes down the elevating rod is reduced, so that an excessive shock is not applied to the electronic component, and damage to the electronic component can be prevented.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】次に図面を参照しながら本発明の
実施の形態を説明する。図1(a)は本発明の一実施の
形態に係るダイボンディング装置の斜視図、図1(b)
は同ボンディングヘッドの部分分解図、図2は同ボンデ
ィングヘッドの組立図、図3は同ボンディングヘッドの
縦断面図、図4は同ボンディングヘッドの制御手段の回
路図、図5は同最下降しようとする際のボンディングヘ
ッドの縦断面図、図6は同動作説明図である。Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings. FIG. 1A is a perspective view of a die bonding apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG.
2 is a partial exploded view of the bonding head, FIG. 2 is an assembly view of the bonding head, FIG. 3 is a longitudinal sectional view of the bonding head, FIG. 4 is a circuit diagram of control means of the bonding head, and FIG. FIG. 6 is a longitudinal sectional view of the bonding head in the case of FIG.
【0020】さて図1及び図2に示すように、このダイ
ボンディング装置は、支持機構10、可動機構20の他
に、支持機構10をYZθ方向に移動させる移動手段3
0、支持機構10に設けられる受動素子DPと、この受
動素子DPに設定値に基づいて可動機構20を、支持機
構10に対して、押し下げる外力を印加する制御手段4
0とを有するものである。As shown in FIGS. 1 and 2, this die bonding apparatus includes a moving mechanism 3 for moving the supporting mechanism 10 in the YZθ directions in addition to the supporting mechanism 10 and the movable mechanism 20.
0, a passive element DP provided in the support mechanism 10, and a control means 4 for applying an external force to push the movable mechanism 20 to the support mechanism 10 based on the set value of the passive element DP.
0.
【0021】1はボンディングヘッドであり、電子部品
供給部としてのウエハW上の電子部品Pを吸着する吸着
部22(後述するようにコレット型のノズルなどからな
る)を有している。LFはこの電子部品Pが搭載される
リードフレームなどの基板(以下単にリードフレームと
いう)である。Reference numeral 1 denotes a bonding head, which has a suction portion 22 (which comprises a collet-type nozzle or the like as will be described later) that sucks an electronic component P on the wafer W as an electronic component supply portion. LF is a substrate such as a lead frame on which the electronic component P is mounted (hereinafter simply referred to as a lead frame).
【0022】まず、この支持機構10の移動手段30に
ついて、図1を参照しながら説明する。First, the moving means 30 of the support mechanism 10 will be described with reference to FIG.
【0023】311はリニアモータからなる第1のダイ
レクトモータであって、水平なガイド312と、このガ
イド312上をスライドするスライダ313を有してお
り、上記ヘッド部1はこのスライダ313に装着され
て、横方向Yに移動する。314はガイド312に設け
られたコイル、315、316はスライダ313の下面
に設けられたヨークとマグネットである。スライダ31
3には空気受を構成するエア孔(図外)が穿設されてお
り、ガイド312上をわずかに浮上して、横方向Yに移
動する。Reference numeral 311 denotes a first direct motor comprising a linear motor, which has a horizontal guide 312 and a slider 313 which slides on the guide 312. The head 1 is mounted on the slider 313. Move in the horizontal direction Y. 314 is a coil provided on the guide 312, 315 and 316 are a yoke and a magnet provided on the lower surface of the slider 313. Slider 31
3 is provided with an air hole (not shown) constituting an air receiver, and slightly floats on the guide 312 to move in the lateral direction Y.
【0024】図1(b)において、321はボンディン
グヘッド1に設けられたリニアモータからなる第2のダ
イレクトモータである。322はヨークであり、中空の
シャフト3が挿着されており、このシャフト3の下部
に、上記支持機構10が連結される。そして、この支持
機構10に可動機構20が昇降可能に支持され、この可
動機構20の下端部に吸着部22が設けられている。上
記ヨーク322は円板形であって、その周面にマグネッ
ト323が装着されており、更にその外側にコイル32
4が設けられている。したがって、コイル324に通電
すると、シャフト3及び支持機構10は上下方向Zに上
下動し、支持機構10が上下動するにつれ、可動機構2
0及びその下端部の吸着部22はウエハW上の電子部品
Pのピックアップ動作や、リードフレームLFへの電子
部品Pの搭載動作を行なう。In FIG. 1B, reference numeral 321 denotes a second direct motor which is a linear motor provided on the bonding head 1. A yoke 322 has a hollow shaft 3 inserted therein, and the support mechanism 10 is connected to a lower portion of the shaft 3. The movable mechanism 20 is supported by the support mechanism 10 so as to be able to move up and down, and a suction part 22 is provided at a lower end of the movable mechanism 20. The yoke 322 has a disk shape, and has a magnet 323 mounted on its peripheral surface.
4 are provided. Therefore, when the coil 324 is energized, the shaft 3 and the support mechanism 10 move up and down in the vertical direction Z, and as the support mechanism 10 moves up and down,
The suction part 22 at 0 and its lower end performs an operation of picking up the electronic component P on the wafer W and an operation of mounting the electronic component P on the lead frame LF.
【0025】331はリニアモータからなる第3のダイ
レクトモータであって、マグネット332、コア33
3、コイル334を備えている。上記シャフト3にはス
プライン4が装着されており、このスプライン4は、マ
グネット332の中心部を昇降自在に貫通している。コ
イル334に通電すると、シャフト3及び支持機構10
はその軸心を中心にθ方向に回転する。Reference numeral 331 denotes a third direct motor composed of a linear motor.
3. A coil 334 is provided. A spline 4 is mounted on the shaft 3, and the spline 4 penetrates the center of the magnet 332 so as to be able to move up and down. When the coil 334 is energized, the shaft 3 and the support mechanism 10
Rotates in the θ direction about its axis.
【0026】この移動手段30は、上記のような構成よ
りなり、次にこの手段30の動作の説明を行なう。The moving means 30 is constructed as described above, and the operation of the moving means 30 will be described below.
【0027】第1のダイレクトモータ311を駆動し
て、ボンディングヘッド1をウエハWの真上に移動させ
る。ついで、第2のダイレクトモータ321を駆動して
吸着部22を昇降させ、ウエハW上の電子部品Pを吸着
してピックアップする。ついで、第1のダイレクトモー
タ311を駆動して、ボンディングヘッド1をリードフ
レームLFの真上へ移動させ、第2のダイレクトモータ
321を駆動して、この電子部品PをリードフレームL
Fに搭載する。上記動作中に、第3のダイレクトモータ
331を駆動することにより、シャフト3及び支持機構
10をθ回転させ、吸着部22や電子部品Pの回転角度
を設定する。The first direct motor 311 is driven to move the bonding head 1 directly above the wafer W. Next, the second direct motor 321 is driven to move the suction unit 22 up and down to suck and pick up the electronic component P on the wafer W. Next, the first direct motor 311 is driven to move the bonding head 1 directly above the lead frame LF, and the second direct motor 321 is driven to transfer the electronic component P to the lead frame L.
Mount on F. By driving the third direct motor 331 during the above operation, the shaft 3 and the support mechanism 10 are rotated by θ, and the rotation angles of the suction unit 22 and the electronic component P are set.
【0028】ここで、電子部品Pに塵埃が付着するのを
避けるために、ダイボンディングはクリーンルームにお
いて行なわれるが、従来手段においては、上記移動手段
に、タイミングベルト、ボールねじなどが多用されてい
た。したがって、従来手段では、これらタイミングベル
トなどの駆動に伴う機械的摩擦により、発塵し、金属
粉、ベルト粉、グリース粉が飛散して、クリーンルーム
のクリーン度が低下し易いものであった。Here, die bonding is performed in a clean room in order to prevent dust from adhering to the electronic component P. In the conventional means, a timing belt, a ball screw and the like are frequently used for the moving means. . Therefore, in the conventional means, dust is generated due to mechanical friction associated with driving of the timing belt and the like, and metal powder, belt powder, and grease powder are scattered, so that the cleanliness of the clean room is easily reduced.
【0029】これに対し、本手段では、タイミングベル
ト、ボールねじなどはまったく使用しないので、ダイレ
クトモータ311、321、331の負荷はきわめて小
さく、動作の高速化が可能となるだけでなく、機械的摩
擦による発塵を生ずることもなく、クリーンルームのク
リーン度が低下しないようにすることができる。On the other hand, in this means, since the timing belt, the ball screw, and the like are not used at all, the load on the direct motors 311, 321, and 331 is extremely small. The generation of dust due to friction does not occur, and the cleanliness of the clean room can be prevented from lowering.
【0030】すなわち本実施の形態に係る移動手段は、
ボンディングヘッドと、このボンディングヘッドを横方
向に往復移動させる第1のダイレクトモータとを備え、
またボンディングヘッドが、下方に吸着部を有する、支
持機構を上下動させる第2のダイレクトモータと、この
支持機構をθ回転させる第3のダイレクトモータとを備
えている。That is, the moving means according to the present embodiment
A bonding head, and a first direct motor for reciprocating the bonding head in a lateral direction,
Further, the bonding head includes a second direct motor having a suction portion below and for vertically moving the support mechanism, and a third direct motor for rotating the support mechanism by θ.
【0031】なお、本手段は、ウエハW上の電子部品P
を位置ずれ補正ステージに移載し、ここで電子部品Pの
XYθ方向の位置ずれを補正した後、ボンディングヘッ
ド1でこの電子部品Pをピックアップし、リードフレー
ムLFに搭載する方式のダイボンディングにも適用でき
る。Note that this means is used for the electronic components P on the wafer W.
Is transferred to a displacement correction stage, where the displacement of the electronic component P in the XYθ directions is corrected, and then the electronic component P is picked up by the bonding head 1 and mounted on a lead frame LF. Applicable.
【0032】次に、図2を参照しながら、支持機構10
などの詳細な構造を説明する。Next, with reference to FIG.
A detailed structure such as will be described.
【0033】さて支持機構10のうち、11はすりばち
状のホルダであり、このホルダ11の上部中央には大径
の凹部11aが凹設されており、この凹部11aと同軸
的に上記凹部11aよりも小径の円孔11bが連設され
ている。また11cは凹部11aに連通する大気開放孔
であり、11dは垂直に設けられる雌ねじ部である。そ
して、ガイドブシュ16が上記円孔11bに嵌込まれ、
後述する昇降ロッド21が、このガイドブシュ16によ
り、ホルダ11に対し昇降自在に支持される。In the support mechanism 10, reference numeral 11 denotes a horn-shaped holder, and a large-diameter concave portion 11a is provided in the upper center of the holder 11, and the concave portion 11a is coaxial with the concave portion 11a. Also, a small-diameter circular hole 11b is continuously provided. Reference numeral 11c denotes an open-to-atmosphere hole communicating with the concave portion 11a, and reference numeral 11d denotes a female screw portion provided vertically. Then, the guide bush 16 is fitted into the circular hole 11b,
An elevating rod 21, which will be described later, is supported by the guide bush 16 so as to be able to move up and down with respect to the holder 11.
【0034】12はホルダ11に載るダイヤフラムケー
スであり、中央にダイヤフラムプレート23(後述)の
ボス部23bよりも大径の円孔12aが開設されてい
る。12bはこのケース12の上記円孔12aの外周側
に凹設された円溝であり、ダイヤフラムDPの周縁肉厚
部DPaが、この円溝12bに嵌込まれるようになって
いる。12cは上記雌ねじ部11dと符合する位置に開
設された透孔、12dは上記ホルダ11の凹部11aの
内周縁上部と係合する段差部である。Reference numeral 12 denotes a diaphragm case mounted on the holder 11, and a circular hole 12a having a diameter larger than that of a boss 23b of a diaphragm plate 23 (described later) is formed in the center. Reference numeral 12b denotes a circular groove which is recessed on the outer peripheral side of the circular hole 12a of the case 12, and a peripheral thick portion DPa of the diaphragm DP is fitted into the circular groove 12b. Reference numeral 12c denotes a through hole opened at a position corresponding to the female screw portion 11d, and reference numeral 12d denotes a step portion which engages with the upper inner peripheral edge of the concave portion 11a of the holder 11.
【0035】13は蓋状のダイヤフラムケースであり、
このケース13は上記ケース12の上に載るものであ
る。13aはこのケース13のボス部、13bは同フラ
ンジ部であり、ボス部13の中央には円孔13cが開設
され、フランジ部13bの上記透孔12cと符合する位
置に、透孔13dが開設されている。この円孔13cに
は、配管15の縮径部15aが嵌合され、透孔13d,
12cにボルト14の雄ねじ部14aが挿通されるとと
もに、この雄ねじ部14aが、ホルダ11の雌ねじ部1
1dに螺合されるようになっている。本実施の形態で
は、ダイヤフラムケース12とケース13がダイヤフラ
ム装着部材となっている。Reference numeral 13 denotes a lid-shaped diaphragm case.
The case 13 rests on the case 12. 13a is a boss portion of the case 13, 13b is the same flange portion, and a circular hole 13c is opened in the center of the boss portion 13, and a through hole 13d is opened at a position corresponding to the through hole 12c of the flange portion 13b. Have been. The reduced diameter portion 15a of the pipe 15 is fitted into the circular hole 13c, and the through hole 13d,
The male screw part 14a of the bolt 14 is inserted through the male screw part 12c, and the male screw part 14a
1d. In the present embodiment, the diaphragm case 12 and the case 13 serve as a diaphragm mounting member.
【0036】さて可動機構20のうち、22は吸着部で
あり、そのうち22aは吸着ノズルであって、図外の吸
引系に接続され、22bはこのノズル22aの下部に取
り付けられるダイコレットである。また21はこのノズ
ル22aの上部に連結される昇降ロッド、21aはこの
ロッド21の縮径部である。In the movable mechanism 20, reference numeral 22 denotes a suction unit, of which 22a is a suction nozzle, which is connected to a suction system (not shown), and 22b is a die collet attached to a lower portion of the nozzle 22a. Reference numeral 21 denotes an elevating rod connected to the upper portion of the nozzle 22a, and reference numeral 21a denotes a reduced diameter portion of the rod 21.
【0037】23はダイヤフラムプレートであり、23
aはこのプレート23の中央を貫通する円孔であり、こ
の円孔23aに昇降ロッド21の縮径部21aが嵌合さ
れ、昇降ロッド21とダイヤフレームプレート23が、
連結される。また23bは、このプレート23のボス部
であり、このボス部23bにダイヤフラムDPが周接す
る。23cは、このプレート23のフランジ部であり、
このフランジ部23cの下面が、上記凹部11aの底面
と接することにより、可動機構20(ダイヤフレームプ
レート23、昇降ロッド21及び吸着部22)の下降限
度が制限されるものであり、したがって凹部11aやフ
ランジ部23cはホルダ11に対する昇降ロッド21の
下降限度を制限する下降限度制限手段となっている。Reference numeral 23 denotes a diaphragm plate.
a is a circular hole passing through the center of the plate 23, and the reduced diameter portion 21a of the lifting rod 21 is fitted into the circular hole 23a, and the lifting rod 21 and the diamond frame plate 23 are
Be linked. Reference numeral 23b denotes a boss of the plate 23, and the diaphragm DP is in circumferential contact with the boss 23b. 23c is a flange portion of the plate 23;
Since the lower surface of the flange portion 23c is in contact with the bottom surface of the concave portion 11a, the lowering limit of the movable mechanism 20 (diamond frame plate 23, lifting rod 21 and suction portion 22) is limited. The flange portion 23c serves as a descent limit limiting means for limiting the descent limit of the lifting rod 21 with respect to the holder 11.
【0038】またDPは、受動素子の例であるダイヤフ
ラムであり、このダイヤフラムDPの周縁肉厚部DPa
を上記円溝12bに嵌込み、ホルダ11、ダイヤフラム
ケース12、13を、ボルト14により結合する。する
と、図3に示すように、ダイヤフラムプレート23に接
するダイヤフラムDPにより、ホルダ11及びダイヤフ
ラムケース13の間の空間が、配管15の流路15bに
連通する第1の空間S1と、大気に開放された第2の空
間S2に分けられる。そして、上記第1の空間S1に
は、制御手段40の出力(圧縮空気)が、シャフト3
(図1(b))より連通する配管15を介して供給さ
れ、この出力がダイヤフラムDPを押し付ける押し下げ
力すなわちボンディング荷重として作用する。Further, DP is a diaphragm which is an example of a passive element, and a peripheral thick portion DPa of the diaphragm DP.
Is fitted into the circular groove 12b, and the holder 11 and the diaphragm cases 12, 13 are connected by bolts 14. Then, as shown in FIG. 3, the space between the holder 11 and the diaphragm case 13 is opened to the first space S <b> 1 communicating with the flow path 15 b of the pipe 15 and to the atmosphere by the diaphragm DP in contact with the diaphragm plate 23. Into a second space S2. The output (compressed air) of the control means 40 is provided in the first space S1 by the shaft 3
(FIG. 1B) is supplied via a communicating pipe 15 and this output acts as a pressing force for pressing the diaphragm DP, that is, a bonding load.
【0039】次に制御手段40について、図4を参照し
ながら詳説する。図4中、ASは圧縮空気源、Vは真空
ポンプなどの真空部である。Next, the control means 40 will be described in detail with reference to FIG. In FIG. 4, AS is a compressed air source, and V is a vacuum unit such as a vacuum pump.
【0040】また、RHは圧縮空気源ASに接続される
高圧設定用レギュレータであり、出力圧力は1kgf/m^2
前後で一定とする。RLは、単動可変式アクチュエータ
による低圧設定用レギュレータであり、この低圧設定用
レギュレータRLは、上記レギュレータRHの出力部に
接続され、高圧設定用レギュレータRHの出力圧力を、
256分割程度に細かく分割した低圧とすることができ
る。すなわちレギュレータは圧力調整手段となってい
る。なお図4中Hは高圧部、Lは低圧部を示している。RH is a high pressure setting regulator connected to the compressed air source AS, and the output pressure is 1 kgf / m ^ 2
It is constant before and after. RL is a low-pressure setting regulator using a single-acting variable actuator. The low-pressure setting regulator RL is connected to the output of the regulator RH, and controls the output pressure of the high-pressure setting regulator RH.
The pressure can be reduced to a low pressure that is finely divided into about 256 divisions. That is, the regulator is a pressure adjusting means. In FIG. 4, H indicates a high-pressure section and L indicates a low-pressure section.
【0041】SV1は、高圧・低圧切換用の第1の3ポ
ート電磁切換弁であり、この第1の切換弁SV1のPポ
ートは、低圧設定用レギュレータRLの出力部に、Rポ
ートは、高圧設定用レギュレータRHの出力部に、それ
ぞれ接続される。SV2は負圧・正圧切換用の第2の3
ポート電磁切換弁であり、この第2の切換弁SV2のP
ポートは真空部Vに、Rポートは上記第1の切換弁SV
1のAポートに接続され、この第2の切換弁SV2のA
ポートは、配管15を介して上記ダイヤフラムDPの上
面側に位置する第1の空間S1に連通する。SV1 is a first three-port electromagnetic switching valve for switching between high pressure and low pressure. The P port of the first switching valve SV1 is connected to the output of the low pressure setting regulator RL, and the R port is connected to the high pressure. Each is connected to the output section of the setting regulator RH. SV2 is the second 3 for switching between negative pressure and positive pressure.
Port solenoid-operated directional control valve.
The port is connected to the vacuum section V, and the R port is connected to the first switching valve SV.
1 of the second switching valve SV2.
The port communicates with the first space S1 located on the upper surface side of the diaphragm DP via the pipe 15.
【0042】そして図4(a)のように、第1及び第2
の切換弁SV1,SV2の双方を消磁すると、第1の空
間S1に、高圧設定用レギュレータRHの出力部から第
1及び第2の切換弁SV1,SV2のRポート,Aポー
トを介して、高圧Hの圧縮空気が供給され、ダイヤフラ
ムDPが大きな押し下げ力により下方へ押し付けられ
る。すると、図3に示すように、ダイヤフラムプレート
23の下面が、ホルダ11の凹部11aの底面と接し、
吸着部22は、ホルダ11などの支持機構10に対し、
最も下降した位置にある。Then, as shown in FIG. 4A, the first and second
When both of the switching valves SV1 and SV2 are demagnetized, the high pressure is applied to the first space S1 from the output of the high pressure setting regulator RH via the R port and the A port of the first and second switching valves SV1 and SV2. H compressed air is supplied, and the diaphragm DP is pressed downward by a large pressing force. Then, as shown in FIG. 3, the lower surface of the diaphragm plate 23 contacts the bottom surface of the concave portion 11a of the holder 11,
The suction part 22 is provided for the support mechanism 10 such as the holder 11.
It is in the lowest position.
【0043】この状態から図4(b)に示すように、第
1及び第2の切換弁SV1,SV2の双方を励磁する
と、真空部Vが、第2の切換弁SV2のPポート、Aポ
ートを介して、上記第1の空間S1に連通する。する
と、この空間S1内の圧力が急激に低下し、上記押し下
げ力も急速に小さくなり、吸着部22は、支持機構10
に対し自由に昇降できるようになる。As shown in FIG. 4 (b), when both the first and second switching valves SV1 and SV2 are excited from this state, the vacuum section V causes the P port and the A port of the second switching valve SV2 to be excited. Through the first space S1. Then, the pressure in the space S1 decreases rapidly, and the pushing-down force also decreases rapidly.
Can freely move up and down.
【0044】そして図4(c)に示すように、第1の切
換弁SV1を励磁し、第2の切換弁SV2を消磁する
と、低圧設定用レギュレータRLの出力部が、第1の切
換弁SV1のPポート、Aポート及び第2の切換弁SV
2のRポート、Aポートを介して、上記第1の空間S1
に連通する。すると、低圧Lの圧縮空気が供給され、ダ
イヤフラムDPが比較的小さな押し下げ力により下方へ
押される。本手段では、この低圧設定用レギュレータR
Lの設定値により、ボンディング荷重を適切に設定する
ものである(図5参照)。Then, as shown in FIG. 4C, when the first switching valve SV1 is excited and the second switching valve SV2 is demagnetized, the output of the low pressure setting regulator RL outputs the first switching valve SV1. P port, A port and second switching valve SV
2 through the R port and the A port of the first space S1.
Communicate with Then, the low-pressure L compressed air is supplied, and the diaphragm DP is pushed downward by a relatively small pushing force. In this means, the low pressure setting regulator R
The bonding load is appropriately set according to the set value of L (see FIG. 5).
【0045】次に図6を参照しながらこのボンディング
ヘッドによるボンディング方法を説明する。図6におい
て横軸は時刻tである。また縦軸は、図6(a)におい
てリードフレームLFの上面から電子部品Pの下面まで
の高さ、同図(b)において可動部20の速度、同図
(c),(d)において切換弁SV1,SV2の励磁・
消磁状態、同図(e)において第1の空間S1の圧力
(ダイヤフラムDPによる押し下げ力に比例する)を示
している。Next, a bonding method using this bonding head will be described with reference to FIG. In FIG. 6, the horizontal axis is time t. The vertical axis represents the height from the upper surface of the lead frame LF to the lower surface of the electronic component P in FIG. 6 (a), the speed of the movable part 20 in FIG. 6 (b), and the switching in FIGS. 6 (c) and (d). Excitation of valves SV1 and SV2
In the demagnetized state, the pressure in the first space S1 (proportional to the pressing force by the diaphragm DP) is shown in FIG.
【0046】さて時刻t0〜t1において、第1、第2
の切換弁SV1,SV2の双方を消磁しておき、空間S
1内の圧力を高圧Hに保ったまま、移動手段30を駆動
して(図1参照)、高速度で支持機構10及び可動機構
20を下降させる。この状態では、図3に示すように、
吸着部22に吸着されている電子部品Pは、リードフレ
ームLFのかなり上方にあるので、高速度で下降させて
も破損のおそれはなく、ダイヤフラムプレート23の下
面が、凹部11aの底面に押付られているので、吸着部
22などの可動機構20は、ホルダ11などの支持機構
10と一体的に下降する。At times t0 to t1, the first and second
Demagnetize both of the switching valves SV1 and SV2 of
The moving means 30 is driven (see FIG. 1) while maintaining the pressure in 1 at the high pressure H, and the support mechanism 10 and the movable mechanism 20 are lowered at a high speed. In this state, as shown in FIG.
Since the electronic component P sucked by the suction portion 22 is located significantly above the lead frame LF, there is no risk of breakage even when the electronic component P is lowered at a high speed, and the lower surface of the diaphragm plate 23 is pressed against the bottom surface of the concave portion 11a. Therefore, the movable mechanism 20 such as the suction unit 22 descends integrally with the support mechanism 10 such as the holder 11.
【0047】次に時刻t1〜t2において、第1、第2
の切換弁SV1,SV2の双方を励磁し、空間S1を真
空部Vに連通させ、上記高圧Hの状態から急速に圧力及
び上記押圧力を低下させる。このように真空部Vへ連通
させるのは、空間S1内の圧力低下を迅速に行い、応答
速度を向上するためである。Next, between times t1 and t2, the first and second
Are excited, the space S1 is communicated with the vacuum portion V, and the pressure and the pressing force are rapidly reduced from the high pressure H state. The communication with the vacuum portion V is performed in order to rapidly reduce the pressure in the space S1 and improve the response speed.
【0048】次に時刻t2〜t3において、第2の切換
弁SV2のみ消磁し、空間S1を低圧Lの状態に保つ。
ここで図5に示すように、時刻t3で電子部品Pが、リ
ードフレームLFに接地する。このときに、電子部品P
及び吸着部22が、リードフレームLFから反力を受け
る。しかし、空間S1内が低圧Lになっているので、、
可動機構20を支持機構10に押付ける外力が弱められ
ている。したがって、可動機構20は、支持機構10に
対しわずかに上昇することができる。よってこの反力
は、小さくしかもスムーズに吸収され、電子部品Pをリ
ードフレームLFに静かに接地させることができる。Next, from time t2 to t3, only the second switching valve SV2 is demagnetized, and the space S1 is maintained at the low pressure L.
Here, as shown in FIG. 5, at time t3, the electronic component P is grounded to the lead frame LF. At this time, the electronic component P
And the suction part 22 receives a reaction force from the lead frame LF. However, since the pressure in the space S1 is low,
The external force pressing the movable mechanism 20 against the support mechanism 10 is weakened. Therefore, the movable mechanism 20 can slightly rise with respect to the support mechanism 10. Therefore, the reaction force is small and smoothly absorbed, and the electronic component P can be quietly grounded to the lead frame LF.
【0049】したがって、従来のばねKのみによる手段
のように、電子部品PがリードフレームLFに接地した
後、吸着部22が上下にはげしく振動(ジャンピング現
象)し、電子部品Pを破損するようなことはない。Therefore, like the conventional means using only the spring K, after the electronic component P is grounded to the lead frame LF, the suction portion 22 vibrates vigorously (jumping phenomenon) up and down to damage the electronic component P. Never.
【0050】次に時刻t3〜t4において、図4(e)
実線で示すように空間S1内の圧力を低圧Lに保つか、
あるいはこれではボンディング荷重が不足である場合に
は、低圧設定用レギュレータRLを駆動して、低圧側の
圧力を次第に上昇させてもよい(破線参照)。これによ
り、電子部品PをリードフレームLFにしっかりボンデ
ィングすることができる。Next, from time t3 to t4, FIG.
As shown by the solid line, the pressure in the space S1 is maintained at a low pressure L,
Alternatively, if the bonding load is insufficient, the low-pressure setting regulator RL may be driven to gradually increase the low-pressure side pressure (see the broken line). Thereby, the electronic component P can be firmly bonded to the lead frame LF.
【0051】そして時刻t4〜t5〜t6において、第
1、第2の切換弁SV1,SV2を消磁し、空間S1内
の圧力を高圧Hに保ち、移動手段30を駆動して、支持
機構10及び可動機構20を上昇させるものである。Then, from time t4 to t5 to t6, the first and second switching valves SV1 and SV2 are demagnetized, the pressure in the space S1 is maintained at a high pressure H, the moving means 30 is driven, and the support mechanism 10 and The movable mechanism 20 is raised.
【0052】[0052]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ダ
イヤフラムに加えられる圧縮空気の圧力を調整すること
により、部品交換を伴うことなく円滑にボンディング荷
重の変更を行うことができる。また吸着部が最下降しよ
うとする際の外力を小さくすることにより、電子部品に
及ぶショックを小さくして、電子部品の破損を防止する
ことができる。As described above, according to the present invention, by adjusting the pressure of the compressed air applied to the diaphragm, it is possible to smoothly change the bonding load without replacing parts. In addition, by reducing the external force when the suction section is about to descend, the shock applied to the electronic component can be reduced, and damage to the electronic component can be prevented.
【図1】(a)本発明の一実施の形態に係るダイボンデ
ィング装置の斜視図 (b)本発明の一実施の形態に係るダイボンディング装
置のボンディングヘッドの部分分解図FIG. 1A is a perspective view of a die bonding apparatus according to one embodiment of the present invention. FIG. 1B is a partially exploded view of a bonding head of the die bonding apparatus according to one embodiment of the present invention.
【図2】本発明の一実施の形態に係るダイボンディング
装置のボンディングヘッドの組立図FIG. 2 is an assembly diagram of a bonding head of the die bonding apparatus according to one embodiment of the present invention.
【図3】本発明の一実施の形態に係るダイボンディング
装置のボンディングヘッドの縦断面図FIG. 3 is a longitudinal sectional view of a bonding head of the die bonding apparatus according to one embodiment of the present invention.
【図4】本発明の一実施の形態に係るダイボンディング
装置のボンディングヘッドの制御手段の回路図FIG. 4 is a circuit diagram of a bonding head control unit of the die bonding apparatus according to one embodiment of the present invention.
【図5】本発明の一実施の形態に係るダイボンディング
装置の最下降しようとする際のボンディングヘッドの縦
断面図FIG. 5 is a longitudinal sectional view of a bonding head when the die bonding apparatus according to the embodiment of the present invention is about to descend most;
【図6】本発明の一実施の形態に係るダイボンディング
装置の動作説明図FIG. 6 is an explanatory diagram of an operation of the die bonding apparatus according to one embodiment of the present invention;
【図7】従来のボンディングヘッドの例示図FIG. 7 is an exemplary view of a conventional bonding head.
1 ボンディングヘッド 11 ホルダ 11a 凹部 22 吸着部 23 プレート 23c フランジ部 AS 圧縮空気源 DP ダイヤフラム P 電子部品 RL 低圧設定用レギュレータ RH 高圧設定用レギュレータ W ウェハ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Bonding head 11 Holder 11a Concave part 22 Suction part 23 Plate 23c Flange part AS Compressed air source DP Diaphragm P Electronic component RL Regulator for low pressure setting RH Regulator for high pressure setting W Wafer
Claims (1)
吸着してピックアップし基板に搭載するダイボンディン
グ装置において、前記ボンディングヘッドが、下部に電
子部品を吸着する吸着部を有する昇降ロッドと、この昇
降ロッドの上方に配設されたダイヤフラムと、昇降ロッ
ドの下降限度を制限する下降限度制限手段とを備え、ま
た圧縮空気源からダイヤフラムに供給される圧縮空気の
圧力の大きさを調整する圧力調整手段を設け、前記ダイ
ヤフラムを介して前記昇降ロッドに加えられる圧縮空気
の圧力により電子部品に加えられる前記昇降ロッドの押
付け力を調整するようにしたことを特徴とするダイボン
ディング装置。1. A die bonding apparatus in which an electronic component is attracted to a suction portion of a bonding head to be picked up and mounted on a substrate, wherein the bonding head has a lifting rod having a suction portion at a lower portion for sucking the electronic component; Pressure adjusting means for adjusting the pressure of compressed air supplied from the compressed air source to the diaphragm, comprising: a diaphragm disposed above the rod; Wherein the pressing force of the lifting rod applied to the electronic component by the pressure of the compressed air applied to the lifting rod via the diaphragm is adjusted.
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