JP3129726B2 - Polishing method of headpiece aggregate - Google Patents

Polishing method of headpiece aggregate

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JP3129726B2
JP3129726B2 JP02213140A JP21314090A JP3129726B2 JP 3129726 B2 JP3129726 B2 JP 3129726B2 JP 02213140 A JP02213140 A JP 02213140A JP 21314090 A JP21314090 A JP 21314090A JP 3129726 B2 JP3129726 B2 JP 3129726B2
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
    • B24B37/048Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces of sliders and magnetic heads of hard disc drives or the like

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、治具の上にヘッドピース集合体を取付け、
取付け面とは反対側のヘッドピース集合体の端面を研磨
する研磨方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention mounts a headpiece assembly on a jig,
The present invention relates to a polishing method for polishing an end face of a head piece assembly opposite to a mounting surface.

<従来の技術> ヘッドピース集合体の研磨技術としては、例えば、特
開平1−153264号公報、特開平1−153265号公報等に記
載されたものが知られている。基本的には、治具の上に
ヘッドピース集合体を取付け、取付け面とは反対側のヘ
ッドピース集合体の端面を研磨し、所定のスロートハイ
ト(ギャップディプス)を得るものである。ヘッドピー
ス集合体は、セラミック支持体の上に複数の磁気ヘッド
ピースを一方向に間隔を隔てて整列してある。磁気ヘッ
ドピースの各々は、被研磨面となる端面側にポール部が
位置していて、ポール部の所定位置を表示する加工マー
クを有している。
<Prior Art> As a polishing technique for a headpiece assembly, for example, those described in JP-A-1-153264, JP-A-1-153265, and the like are known. Basically, a headpiece assembly is mounted on a jig, and the end face of the headpiece assembly opposite to the mounting surface is polished to obtain a predetermined throat height (gap depth). The headpiece assembly has a plurality of magnetic headpieces aligned in one direction on a ceramic support. Each of the magnetic head pieces has a pole portion located on an end surface side to be a polished surface, and has a processing mark indicating a predetermined position of the pole portion.

磁気ヘッドピースを支持するセラミック支持体は、μ
m単位ではあるが、歪による撓みを生じる。この撓みの
ために、磁気ヘッドピースの位置、特にポール部のスロ
ートハイト位置が、個々の磁気ヘッドピースによって異
なった状態となる。そこで、加工マークを目印にし、所
定のスロートハイトとなるように研磨する。研磨に当っ
て、従来は、作業員の経験と勘によって、加工マークか
ら見て、どの位置まで研磨すれば最も歩留よく製造でき
るかを判断していた。
The ceramic support that supports the magnetic headpiece is μ
Although it is in the unit of m, bending occurs due to strain. Due to this bending, the position of the magnetic headpiece, particularly the throat height position of the pole portion, is different depending on each magnetic headpiece. Therefore, the work mark is used as a mark, and polishing is performed so as to obtain a predetermined throat height. Conventionally, in polishing, it has been determined, based on the experience and intuition of a worker, to which position the polishing can be performed with the highest yield when viewed from the processing mark.

<発明が解決しようとする課題> 上述したように、従来は、作業員の経験と勘によって
研磨位置を判断していたために、作業員の個人差を生じ
易いこと、作業性が悪く、量産性に欠けること、歩留変
動が大きくなること等の問題があった。
<Problems to be Solved by the Invention> As described above, since the polishing position is conventionally determined based on the experience and intuition of the worker, individual differences among workers are likely to occur, workability is poor, and mass productivity is low. And the variation in yield is increased.

また、ヘッドコアの研摩技術としては、特開昭54−58
426号公報に記載された技術も知られている。この先行
技術文献に記載された技術は、薄膜磁気ヘッドの基板に
おけるヘッドコアのギャップ側と略同じ高さ位置にスロ
ートハイト測定用マークをパターン形成し、スロートハ
イト測定用マークの寸法をラップ面側で測定することに
よって、所定のスロートハイトを得るものである。
Japanese Patent Application Laid-Open No.
The technique described in Japanese Patent Publication No. 426 is also known. The technique described in this prior art document forms a pattern for a throat height measurement mark on the substrate of a thin-film magnetic head at a position substantially equal to the gap side of a head core, and the dimension of the throat height measurement mark on the lap surface side A predetermined throat height is obtained by measuring.

しかしながら、この先行技術文献に記載された技術
は、ヘッドコアのそれぞれについて、スロートハイト測
定用マークの寸法をラップ面側で測定するという煩わし
さがあるため、作業性が悪く、量産性に欠けるという問
題点は解決されていない。
However, the technique described in this prior art document has a problem that the workability is poor and the mass productivity is low because of the trouble of measuring the size of the throat height measurement mark on the lap surface side for each of the head cores. The point has not been resolved.

そこで、本発明の課題は、上述する従来の問題点を解
決し、研磨量を客観的、合理的に設定し、1つのヘッド
ピース集合体から得られる良品のヘッドピース数を増大
させて歩留を向上させると共に、同一治具上に取付ける
べき組合せ確率を上げて、作業能率を向上させたヘッド
ピース集合体の研磨方法を提供することである。
Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, set the polishing amount objectively and rationally, increase the number of non-defective headpieces obtained from one headpiece assembly, and increase the yield. It is an object of the present invention to provide a method of polishing a headpiece aggregate in which the work efficiency is improved by increasing the probability of a combination to be mounted on the same jig.

<課題を解決するための手段> 上述した課題解決のため、本発明は、治具の上に複数
のヘッドピース集合体を取付け、取付け面とは反対側の
前記ヘッドピース集合体の端面を研磨する研磨方法であ
って、 前記ヘッドピース集合体は、セラミック支持体の上に
複数の磁気ヘッドピースを一方向に間隔を隔てて整列し
てあり、 前記磁気ヘッドピースの各々は、前記端面側にポール
部が位置していて、前記ポール部に対して所定の位置関
係を保って設けられた加工マークを有しており、 前記磁気ヘッドピースの整列方向の両側における磁気
ヘッドピース及び中間部に位置する磁気ヘッドピースの
少なくとも3点において、前記端面から前記加工マーク
までの距離La、Lb及びLcを測定して前記3点を含む第1
の曲線を想定し、 前記第1の曲線からスロートハイトが実質的に零とな
る第2の曲線を想定し、整列方向の両側に位置する磁気
ヘッドピースについて、前記端面から前記第2の曲線ま
での距離LA、LBを求め、 前記距離La、Lb、Lc、LA、LBに関し、 △a=La−LA △b=Lb−LB △c={(La+Lb)/2}−Lc が類似している複数のヘッドピース集合体を、同一の治
具に取付けて研磨すること を特徴とする。
<Means for Solving the Problems> In order to solve the above-described problems, the present invention mounts a plurality of headpiece aggregates on a jig and polishes an end face of the headpiece aggregate on a side opposite to a mounting surface. In the polishing method, the headpiece assembly includes a plurality of magnetic headpieces arranged on a ceramic support at intervals in one direction, and each of the magnetic headpieces is disposed on the end face side. The pole portion is located, and has a processing mark provided with a predetermined positional relationship with respect to the pole portion, and is located at the magnetic head piece and the intermediate portion on both sides in the alignment direction of the magnetic head piece. At least at three points of the magnetic head piece to be measured, distances La, Lb, and Lc from the end face to the processing mark are measured and a first point including the three points is measured.
From the first curve, assuming a second curve from which the throat height is substantially zero, for the magnetic head pieces located on both sides in the alignment direction, from the end face to the second curve The distances LA, LB, Lc, LA, and LB are determined as follows: Δa = La−LA Δb = Lb−LB Δc = {(La + Lb) / 2} −Lc A plurality of headpiece assemblies are mounted on the same jig and polished.

<実施例> 第1図〜第3図は本発明に係るヘッドピース集合体の
研磨方法を示す図である。第1図において、1は治具、
2はヘッドピース集合体である。ヘッドピース集合体2
は、治具1の上に接着等の手段によって取付けられてい
る。取付面2Aとは反対側の端面2Bが研磨面となる。
<Example> FIGS. 1 to 3 are views showing a method for polishing a head piece aggregate according to the present invention. In FIG. 1, 1 is a jig,
2 is a headpiece assembly. Headpiece assembly 2
Is mounted on the jig 1 by means such as bonding. The end surface 2B opposite to the mounting surface 2A is a polished surface.

ヘッドピース集合体2は、スライダ部材となるセラミ
ック構造体20を共用して、複数の磁気ヘッドピースQ1〜
Qnを一方向に整列して形成したものである。磁気ヘッド
ピースQ1〜Qnの各々は、端面2B側にポール部が位置して
いて、ポール部に対して所定の位置関係で設けられた加
工マーク21を有している。磁気ヘッドピースQ1〜Qnの数
は任意数である。
The head piece assembly 2 shares a plurality of magnetic head pieces Q1 to Q
It is formed by aligning Qn in one direction. Each of the magnetic head pieces Q1 to Qn has a pole portion located on the end face 2B side, and has a processing mark 21 provided in a predetermined positional relationship with the pole portion. The number of magnetic head pieces Q1 to Qn is an arbitrary number.

磁気ヘッドピースQ1〜Qnのそれぞれは、1個または2
個のトランスデューサを有している。第8図はトランス
デューサ部分の平面拡大部分破断面図、第9図は第8図
A1−A1線上における断面図である。第8図及び第9図は
構造の概略を示すために用いられているもので、各部寸
法は誇張して描かれており、必ずしも一致していない。
20はセラミック構造体で、Al2O3−TiC等から構成された
基体部分201及びその上に形成されたアルミナ等の絶縁
膜202を有している。22は下部磁性膜、23はアルミナ等
でなるギャップ膜、24は層間絶縁膜、25はコイル膜、26
は上部磁性膜、27はアルミナ等の保護膜、28、29はリー
ド導体であり、これらは集積回路技術によって形成され
ている。下部磁性膜22及び上部磁性膜26は、端面2Bの方
向に延びるポール部221、261をそれぞれ有すると共に、
ポール部221、261の後方にヨーク部222、262を有し、ヨ
ーク部222、262の後方領域を、磁気回路を完成するよう
に互いに結合した構造となっている。コイル膜25は結合
部の周りを渦巻状に回るように配置されている。
Each of the magnetic head pieces Q1 to Qn is one or two.
Transducers. FIG. 8 is a partially enlarged plan sectional view of the transducer part, and FIG. 9 is FIG.
It is sectional drawing in the A1-A1 line. FIGS. 8 and 9 are used to show the outline of the structure, and the dimensions of each part are exaggerated and do not always match.
Reference numeral 20 denotes a ceramic structure having a base portion 201 made of Al 2 O 3 —TiC or the like and an insulating film 202 made of alumina or the like formed thereon. 22 is a lower magnetic film, 23 is a gap film made of alumina or the like, 24 is an interlayer insulating film, 25 is a coil film, 26
Is an upper magnetic film, 27 is a protective film such as alumina, and 28 and 29 are lead conductors, which are formed by integrated circuit technology. The lower magnetic film 22 and the upper magnetic film 26 have pole portions 221 and 261 extending in the direction of the end face 2B, respectively.
Yoke portions 222 and 262 are provided behind the pole portions 221 and 261, and the rear regions of the yoke portions 222 and 262 are connected to each other to complete a magnetic circuit. The coil film 25 is arranged so as to spiral around the joint.

上部磁性膜26のポール部261はセラミック構造体20の
面に対して実質的に平行となるように形成された先端部
領域263の後方に、セラミック構造体20の面から立ち上
がる変位領域264を有し、変位領域264を経てヨーク部26
2に連なっている。ポール部261の先端から変位開始点Y
までの深さTHがスロートハイトであり、変位開始点Y
がスロートハイト零である。所定の電磁変換特性が得ら
れるたには、スロートハイトTHを所定の値に設定しな
ければならない。スロートハイトTHは端面2Bの研磨に
よって定められるが、その研磨時の基準として加工マー
ク21が利用される。加工マーク21は磁気ヘッドピースQ1
〜Qnのポール部221、261の側部に設けられている。
The pole portion 261 of the upper magnetic film 26 has a displacement region 264 rising from the surface of the ceramic structure 20 behind a tip region 263 formed so as to be substantially parallel to the surface of the ceramic structure 20. Then, the yoke portion 26 passes through the displacement region 264.
It is connected to 2. Displacement start point Y from tip of pole part 261
Is the throat height and the displacement start point Y
Is zero throat height. In order to obtain predetermined electromagnetic conversion characteristics, the throat height TH must be set to a predetermined value. The throat height TH is determined by polishing the end face 2B, and the processing mark 21 is used as a reference for the polishing. Processing mark 21 is magnetic headpiece Q1
To Qn of the pole portions 221 and 261.

再び、第1図〜第3図を参照して説明する。磁気ヘッ
ドピースQ1〜Qnの整列方向の両側における磁気ヘッドピ
ースQ1、Qn及び中間部に位置する磁気ヘッドピースQrの
少なくとも3点a〜cにおいて、端面2Bから加工マーク
21までの距離La〜Lcを測定する。測定点は、上述の3点
a〜cを含んで更に多く設定することもできる。測定は
例えば光学的加工マーク検出装置によって行なわれる。
距離La〜Lcの測定前に、研磨される面2Bは平面度の高い
面となるように研削しておく。
The description will be continued with reference to FIGS. 1 to 3 again. At least three points a to c of the magnetic head pieces Q1 and Qn and the magnetic head piece Qr located at the intermediate portion on both sides in the alignment direction of the magnetic head pieces Q1 to Qn, the processing mark is formed from the end face 2B.
The distance La to Lc to 21 is measured. More measurement points can be set including the above three points a to c. The measurement is performed, for example, by an optical processing mark detection device.
Before measuring the distances La to Lc, the surface 2B to be polished is ground so as to have a high flatness.

上述のようにして得られた測定値La〜Lcから、3点a
〜cを含む第1の曲線f1を想定する。この場合の第1の
曲線f1は2次曲線となり、各磁気ヘッドピースQ1〜Qnに
含まれる加工マーク21の包絡線であるとみることができ
る。
From the measured values La to Lc obtained as described above, three points a
Suppose a first curve f1 including 〜c. In this case, the first curve f1 is a quadratic curve, and can be regarded as an envelope of the processing mark 21 included in each of the magnetic head pieces Q1 to Qn.

次に、第1の曲線f1からスロートハイトTHが実質的
に零となる第2の曲線f2を想定する。加工マーク21はス
ロートハイトTHが実質的に零となる位置である変位開
始点Y(第8図及び第9図参照)に対して、一定の位置
関係となるように設計されているので、設計値に基づい
て第2の曲線を想定してもよい。この場合、第2の曲線
f2は第1の曲線f1を平行移動した曲線となる。別の手段
として、同一ウエハー内から切出され一つのヘッドピー
ス集合体を、他に先行して研磨し、加工マーク21に対す
るスロートハイトTHが零の点を実測する手段も考えら
れる。第1の曲線f1及び第2の直線f2の設定は、コンピ
ュータによるデータ処理によって実現できる。
Next, a second curve f2 in which the throat height TH becomes substantially zero from the first curve f1 is assumed. The processing mark 21 is designed to have a fixed positional relationship with respect to the displacement start point Y (see FIGS. 8 and 9) where the throat height TH is substantially zero. A second curve may be assumed based on the value. In this case, the second curve
f2 is a curve obtained by translating the first curve f1. As another means, a means in which one head piece assembly cut out from the same wafer is polished prior to the other and the throat height TH with respect to the processing mark 21 is actually measured at a zero point may be considered. The setting of the first curve f1 and the second straight line f2 can be realized by data processing by a computer.

次に、両側に配置されている磁気ヘッドピースについ
て、端面2Bから第2の曲線f2までの距離LA、LBを求め
る。そして、 △a=La−LA △b=Lb−LB △c={(La+Lb)/2}−Lc の類似している複数個のヘッドピース集合体を同一の治
具に取付けて研磨する。同一の治具に取付けるヘッドピ
ース集合体の数は3〜5個程度である。
Next, distances LA and LB from the end face 2B to the second curve f2 are determined for the magnetic head pieces arranged on both sides. Then, a plurality of headpiece assemblies similar to each other: Δa = La−LA Δb = Lb−LB Δc = {(La + Lb) / 2} −Lc are mounted on the same jig and polished. The number of headpiece assemblies attached to the same jig is about 3 to 5.

△a、△bの式によれば、距離Laと距離LAとの関係、
及び、距離Lbと距離LBとの関係から、端面2Bを基準にし
たスロートハイトゼロ点が解る。距離La、LBは測定値で
あり既知である。距離LA、LBも予め予測できる。従っ
て、△a、△bによって与えられるスロートハイトゼロ
点を基準とし、所定の高さ(長さ)を有するスロートハ
イトTHを得るのに必要な研摩量を、端面2Bからの距離L
A、LBを越えない範囲で、必要な値に設定し、研摩する
ことができる。
According to the equations of Δa and Δb, the relationship between the distance La and the distance LA,
Further, from the relationship between the distance Lb and the distance LB, the throat height zero point based on the end face 2B is known. The distances La and LB are measured values and are known. The distances LA and LB can be predicted in advance. Therefore, based on the throat height zero point given by △ a, △ b, the amount of polishing required to obtain the throat height TH having a predetermined height (length) is determined by the distance L from the end face 2B.
Abrasive can be set to the required value within the range not exceeding A and LB.

△a、△bが類似してない場合は、スロートハイトTH
を決める基準となるスロートハイトゼロ点が異なり、従
って、研摩量も異なるので、同一の治具に取り付けられ
るべきヘッドピース集合体からは外す。
If Δa and Δb are not similar, the throat height TH
Since the throat height zero point serving as a reference for determining is different, and hence the amount of polishing is also different, the throat height is removed from the headpiece assembly to be mounted on the same jig.

△cはヘッドピース集合体の撓み成分である。撓み成
分△cが類似しているヘッドピース集合体の複数個を、
同一の治具に取り付けて研摩した場合、同一の研摩量
で、類似したスロートハイトTHを持つ磁気ヘッドピース
の個数を増加させることができる。
Δc is a bending component of the head piece assembly. A plurality of headpiece aggregates having similar flexural components △ c,
When polishing is performed by attaching to the same jig, the number of magnetic head pieces having similar throat heights TH can be increased with the same polishing amount.

よって、本発明によれば、研摩量を客観的、合理的に
設定し、1つのヘッドピース集合体から得られる良品の
ヘッドピース数を増大させて歩留を向上させると共に、
同一治具上に取付けるべき組合せ確率を上げて、作業能
率を向上させることができる。
Therefore, according to the present invention, the amount of polishing is objectively and rationally set, and the yield is improved by increasing the number of non-defective headpieces obtained from one headpiece aggregate,
The working efficiency can be improved by increasing the combination probability of being mounted on the same jig.

第4図は上述のようにして選択されたヘッドピース集
合体を取付けた研磨治具の正面断面図、第5図は同じく
その底面図である。実施例では、ヘッドピース集合体2
を有する例えば4個の治具1を、共通の研磨治具3に取
付けてある。各治具1に取付けられたヘッドピース集合
体2は第1図〜第3図で説明した組合せ条件を満たして
いる。4、5は接着剤、6は基準片である。
FIG. 4 is a front sectional view of a polishing jig to which the headpiece assembly selected as described above is mounted, and FIG. 5 is a bottom view of the same. In the embodiment, the head piece assembly 2
Are attached to a common polishing jig 3. The head piece assembly 2 attached to each jig 1 satisfies the combination conditions described with reference to FIGS. 4 and 5 are adhesives and 6 is a reference piece.

第6図及び第7図は研磨の具体例を示している。図に
おいて、7は回転体である。回転体7は図示しないモー
タ等により、矢印で示すa1方向に回転駆動される。この
回転体7は、例えば錫等の軟質金属部材を用いて円板状
に形成された研磨部材71の背面に、例えばステンレス等
の金属材料によって円板状に形成された支持部材72を、
接着剤73によって一体的に面接合させてある。支持部材
72は、スズ等の軟質金属材料で構成されていて機械的強
度の不充分な研磨部材71を支持するために設けられたも
のである。
6 and 7 show specific examples of polishing. In the figure, reference numeral 7 denotes a rotating body. The rotating body 7 is driven to rotate in a direction a1 indicated by an arrow by a motor (not shown) or the like. The rotating body 7 includes a disk-shaped support member 72 formed of a metal material such as stainless steel on the back surface of a disk-shaped polishing member 71 formed of a soft metal member such as tin.
The surfaces are integrally joined by an adhesive 73. Support member
Reference numeral 72 denotes a member made of a soft metal material such as tin and provided to support the polishing member 71 having insufficient mechanical strength.

研磨に当っては、回転体7を矢印a1方向に面回転さ
せ、かつ、研磨部材71の表面(イ)にダイヤモンド粒子
等を含む研磨材を供給しながら、研磨部材71の表面
(イ)にヘッドピース集合体2の下面を接触させる。治
具3は矢印b1またはb2で示す回転半径方向に平行移動さ
せ、研磨部材71の表面(イ)の全面で研磨が行なわれる
ようにする。矢印a2は治具3及びヘッドピース集合体2
の自転の方向を示している。治具1、3の構造及びヘッ
ドピース集合体2の取付技術に関しては、前掲の特開平
1−153264号公報、特開平1−153265号公報等に記載さ
れた技術が適用できる。
In the polishing, the rotating body 7 is rotated in the direction of arrow a1 and the surface (a) of the polishing member 71 is supplied to the surface (a) of the polishing member 71 while supplying the abrasive containing diamond particles and the like to the surface (a). The lower surface of the headpiece assembly 2 is brought into contact. The jig 3 is moved in parallel in the radial direction of rotation indicated by the arrow b1 or b2 so that the entire surface of the polishing member 71 (a) is polished. Arrow a2 indicates jig 3 and headpiece assembly 2
Indicates the direction of rotation. With respect to the structures of the jigs 1 and 3 and the mounting technique of the headpiece assembly 2, the techniques described in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 1-153264 and 1-153265 can be applied.

<発明の効果> 以上述べたように、本発明は、治具の上に複数のヘッ
ドピース集合体を取付け、取付け面とは反対側のヘッド
ピース集合体の端面を研磨する研磨方法であって、磁気
ヘッドピースの整列方向の両側における磁気ヘッドピー
ス及び中間部に位置する磁気ヘッドピースの少なくとも
3点において、端面から加工マークまでの距離を測定
し、測定値から3点を含む第1の曲線を想定し、第1の
曲線からスロートハイトが実質的に零となる第2の曲線
を想定し、整列方向の両側に位置する磁気ヘッドピース
について端面から第2の曲線までの距離LA、LBを求め、 △a=La−LA、△b=Lb−LB △c={(La+Lb)/2}−Lc が類似しているヘッドピース集合体を、同一の治具に取
付けて研磨するようにしたから、研磨量を客観的、合理
的に設定し、1つのヘッドピース集合体から得られる良
品のヘッドピース数を増大させて歩留を向上させると共
に、同一治具上に取付けるべき組合せ選択を容易化し、
作業能率を向上させたヘッドピース集合体の研磨方法を
提供することができる。
<Effect of the Invention> As described above, the present invention is a polishing method for mounting a plurality of headpiece aggregates on a jig and polishing an end face of the headpiece aggregate opposite to the mounting surface. Measuring a distance from an end face to a processing mark at least at three points of the magnetic head piece on both sides in the alignment direction of the magnetic head pieces and a magnetic head piece located at an intermediate portion, and obtaining a first curve including the three points from the measured values; Assuming a second curve where the throat height becomes substantially zero from the first curve, distances LA and LB from the end face to the second curve for the magnetic head pieces located on both sides in the alignment direction are calculated. Δa = La−LA, Δb = Lb−LB Δc = {(La + Lb) / 2} −Lc A headpiece assembly having similar similarities is mounted on the same jig and polished. , Set the polishing amount objectively and rationally , Improves the headpiece number increased by yield of non-defective resulting from one head piece aggregate, to facilitate the combination selected to be mounted on the same jig,
It is possible to provide a method for polishing a headpiece aggregate with improved work efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図〜第3図は本発明に係るヘッドピース集合体の研
磨方法を示す図、第4図は選択されたヘッドピース集合
体を取付けた研磨治具の正面断面図、第5図は同じくそ
の底面図、第6図及び第7図は研磨の具体例を示す図、
第8図はトランスデューサ部分の平面拡大部分破断面
図、第9図は第8図A1−A1線上における断面図である。 1、3……治具 2……ヘッドピース集合体 Q1〜Qn……磁気ヘッドピース f1……第1の曲線 f2……第2の曲線
1 to 3 are views showing a method of polishing a headpiece assembly according to the present invention, FIG. 4 is a front sectional view of a polishing jig to which a selected headpiece assembly is attached, and FIG. FIGS. 6 and 7 are bottom views, showing specific examples of polishing.
FIG. 8 is a partially enlarged cross-sectional view of the transducer portion, and FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line A1-A1 of FIG. 1, 3, jig 2, headpiece assembly Q1 to Qn, magnetic headpiece f1, first curve f2, second curve

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B24B 37/04 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) B24B 37/04

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】治具の上に複数のヘッドピース集合体を取
付け、取付け面とは反対側の前記ヘッドピース集合体の
端面を研磨する研磨方法であって、 前記ヘッドピース集合体は、セラミック支持体の上に複
数の磁気ヘッドピースを一方向に間隔を隔てて整列して
あり、 前記磁気ヘッドピースの各々は、前記端面側にポール部
が位置していて、前記ポール部に対して所定の位置関係
を保って設けられた加工マークを有しており、 前記磁気ヘッドピースの整列方向の両側における磁気ヘ
ッドピース及び中間部に位置する磁気ヘッドピースの少
なくとも3点において、前記端面から前記加工マークま
での距離La、Lb及びLcを測定して、前記3点を含む第1
の曲線を想定し、 前記第1の曲線からスロートハイトが実質的に零となる
第2の曲線を想定し、整列方4向の両側に位置する磁気
ヘッドピースについて前記端面から前記第2の曲線まで
の距離LA、LBを求め、 前記距離La、Lb、Lc、LA、LBに関し、 △a=La−LA △b=Lb−LB △c={(La+Lb)/2}−Lc が類似している複数のヘッドピース集合体を、同一の治
具に取付けて研磨すること を特徴とするヘッドピース集合体の研磨方法。
1. A polishing method for mounting a plurality of headpiece aggregates on a jig and polishing an end face of the headpiece aggregate opposite to a mounting surface, wherein the headpiece aggregate is a ceramic. A plurality of magnetic headpieces are arranged on a support at an interval in one direction, and each of the magnetic headpieces has a pole portion located on the end face side and has a predetermined position with respect to the pole portion. At least three points of the magnetic head piece on both sides in the alignment direction of the magnetic head piece and the magnetic head piece located at the intermediate portion, from the end face. The distances La, Lb and Lc to the mark are measured, and the first including the three points is measured.
Assuming a second curve in which the throat height is substantially zero from the first curve, the second curve from the end face for the magnetic head pieces located on both sides in the alignment direction 4 The distances LA and LB are determined, and for the distances La, Lb, Lc, LA and LB, Δa = La−LA Δb = Lb−LB Δc = {(La + Lb) / 2} −Lc A plurality of headpiece aggregates mounted on the same jig and polished.
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