JP3123310B2 - Conductive paste for chip-type electronic components - Google Patents

Conductive paste for chip-type electronic components

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JP3123310B2
JP3123310B2 JP05213968A JP21396893A JP3123310B2 JP 3123310 B2 JP3123310 B2 JP 3123310B2 JP 05213968 A JP05213968 A JP 05213968A JP 21396893 A JP21396893 A JP 21396893A JP 3123310 B2 JP3123310 B2 JP 3123310B2
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【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はチップ型電子部品用導電
性ペーストに係り、特にチップコンデンサ、チップ抵
抗、チップサーミスタ、チップインダクター等のチップ
型電子部品の端子電極を形成するための導電性ペースト
に関する。更に詳しくは、本発明は無機酸化物結晶を添
加したチップ型電子部品用導電性ペーストに関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conductive paste for chip-type electronic parts, and more particularly to a conductive paste for forming terminal electrodes of chip-type electronic parts such as chip capacitors, chip resistors, chip thermistors, chip inductors and the like. Regarding paste. More specifically, the present invention relates to a conductive paste for a chip-type electronic component to which an inorganic oxide crystal is added.

【0002】[0002]

【従来の技術】チップコンデンサ、チップ抵抗、チップ
サーミスタ、チップインダクター等のチップ型電子部品
において、チップ型電子部品を構成するセラミック材料
からなるベアチップの表面には端子電極が形成される。
この端子電極の形成には、まず金属粉末とガラスフリッ
トと不活性有機ビヒクルを混練して調整された導電性ペ
ーストをベアチップの表面に塗布して乾燥した後、50
0℃〜850℃程度の温度で焼成する。その後、電解バ
レルめっき或いは無電解めっき法でNi,Cu,Sn,
Sn/Pb合金等のめっき膜を形成する。このようにし
て作製されたチップ型電子部品は、その端子電極を基板
にはんだ付けして使用される。
2. Description of the Related Art In chip-type electronic components such as chip capacitors, chip resistors, chip thermistors, and chip inductors, terminal electrodes are formed on the surface of a bare chip made of a ceramic material constituting the chip-type electronic component.
To form this terminal electrode, first, a conductive paste prepared by kneading a metal powder, a glass frit and an inert organic vehicle is applied to the surface of the bare chip, dried, and then dried.
It is fired at a temperature of about 0 ° C to 850 ° C. Thereafter, Ni, Cu, Sn, and the like are formed by electrolytic barrel plating or electroless plating.
A plating film of a Sn / Pb alloy or the like is formed. The chip-type electronic component manufactured in this manner is used by soldering its terminal electrodes to a substrate.

【0003】即ち、従来、チップ型電子部品用導電性ペ
ーストには、金属の焼結を促進し、ベアチップと端子電
極との界面の接合力を高めるためにガラスフリットが添
加されている。
That is, conventionally, glass frit has been added to a conductive paste for a chip-type electronic component in order to promote sintering of a metal and increase a bonding force at an interface between a bare chip and a terminal electrode.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来の導電性ペースト
中のガラスフリットは、端子電極の焼成温度500℃〜
850℃で軟化、流動を示すような組成にしなければな
らないが、この温度範囲で軟化、流動挙動を示すように
ガラス組成を設計すると、その熱膨張率は5×107
上の高熱膨張率となり、低熱膨張率化することは困難で
ある。このようなガラスフリットを添加した導電性ペー
ストで端子電極を形成した場合、素体との熱膨張収縮の
適合性が悪く、サーマルショックレベルが低いという問
題点があった。
The glass frit in the conventional conductive paste has a terminal electrode baking temperature of 500 ° C. or less.
The glass composition must be softened and flow at 850 ° C. However, if the glass composition is designed to exhibit softening and flowing behavior in this temperature range, the coefficient of thermal expansion becomes a high coefficient of thermal expansion of 5 × 10 7 or more. It is difficult to reduce the coefficient of thermal expansion. When the terminal electrode is formed of a conductive paste to which such a glass frit is added, there is a problem that compatibility of the thermal expansion and contraction with the element body is poor and a thermal shock level is low.

【0005】本発明は上記従来の問題点を解決し、耐サ
ーマルショック性に優れ、耐めっき液性や耐湿性に優
れ、しかもめっき膜形成性が良好なチップ型電子部品の
端子電極形成用導電性ペーストを提供することを目的と
する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and has excellent thermal shock resistance, excellent plating solution resistance and moisture resistance, and also has excellent conductivity for forming a terminal electrode of a chip-type electronic component having good plating film forming property. It is intended to provide a conductive paste.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1のチップ型電子
部品用導電性ペーストは、金属粉末と無機酸化物結晶と
不活性有機ビヒクルとを含む導電性ペーストであって、
セラミック焼成体からなるベアチップの表面に塗布した
後、焼付けで端子電極を形成するチップ型電子部品の端
子電極用導電性ペーストにおいて、前記無機酸化物結晶
は、ZnO 10〜55mol%と、B20〜5
5mol%と、SiO0〜30mol%と、PbO3
0mol%以下とを含み、前記金属粉末に対して、該無
機酸化物結晶が1〜15重量%配合されていることを特
徴とする。
The conductive paste for a chip-type electronic component according to the first aspect is a conductive paste containing a metal powder, an inorganic oxide crystal, and an inert organic vehicle,
In the conductive paste for a terminal electrode of a chip-type electronic component in which a terminal electrode is formed by baking after being applied to the surface of a bare chip made of a ceramic fired body, the inorganic oxide crystal contains 10 to 55 mol% of ZnO and B 2 O 3 20-5
5 mol%, SiO 2 0 to 30 mol% , PbO 3
0 mol% or less, and the inorganic powder is mixed with the metal powder in an amount of 1 to 15% by weight.

【0007】請求項2のチップ型電子部品用導電性ペー
ストは、請求項1の導電性ペーストにおいて、チップ型
電子部品がセラミックコンデンサであることを特徴とす
る。
According to a second aspect of the present invention, in the conductive paste of the first aspect, the chip type electronic component is a ceramic capacitor.

【0008】請求項3のチップ型電子部品用導電性ペー
ストは、請求項2の導電性ペーストにおいて、セラミッ
クコンデンサを構成するセラミック誘電体が鉛系ペロブ
スカイト、チタン酸バリウム又はチタン酸ストロンチウ
ムを主成分とすることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the conductive paste for a chip-type electronic component according to the second aspect, wherein the ceramic dielectric constituting the ceramic capacitor comprises a lead-based perovskite, barium titanate or strontium titanate as a main component. It is characterized by doing.

【0009】以下に本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0010】本発明のチップ型電子部品用導電性ペース
トに含有される無機酸化物結晶は、 SiO: 0〜30mol% B:20〜55mol% ZnO :10〜55mol%PbO :30mol%以下 を含み、更に必要に応じて他の無機酸化物成分を含むも
のである。
[0010] The conductive pace for chip-type electronic parts of the present invention.
The inorganic oxide crystals contained in the2: 0 to 30 mol% B2O3: 20 to 55 mol% ZnO: 10 to 55 mol%PbO: 30 mol% or less  Containing, if necessary, further containing other inorganic oxide components.
It is.

【0011】以下に上記無機酸化物成分の添加割合の限
定理由について説明する。
The reasons for limiting the proportion of the inorganic oxide component will be described below.

【0012】SiO2 は、耐めっき液性を得るために添
加するが、その割合が、30mol%を超えると、金属
の焼結を遅らせてしまう。従って、SiO2 は0〜30
mol%とする。
[0012] SiO 2 is added in order to obtain plating solution resistance, but if its ratio exceeds 30 mol%, sintering of the metal is delayed. Therefore, SiO 2 is 0-30.
mol%.

【0013】B23 は、得られる無機酸化物結晶の融
点調整のために添加するが、その割合が20mol%以
下ではその効果が十分ではなく、55mol%を超える
と得られる無機酸化物結晶の耐めっき液性が乏しくな
る。従って、B23 は20〜55mol%とする。
B 2 O 3 is added to adjust the melting point of the obtained inorganic oxide crystal. When the content is less than 20 mol%, the effect is not sufficient. Has poor plating solution resistance. Accordingly, B 2 O 3 is a 20~55mol%.

【0014】ZnOは素体との接着強度を得るために添
加するが、その割合が10mol%未満ではその効果が
十分ではなく、55mol%を超えると得られる無機酸
化物結晶の耐めっき液性が乏しくなる。従って、ZnO
は10〜55mol%とする。
[0014] ZnO is added in order to obtain an adhesive strength with the element, but if its proportion is less than 10 mol%, its effect is not sufficient. Become scarce. Therefore, ZnO
Is set to 10 to 55 mol%.

【0015】本発明において、無機酸化物結晶は更に3
0mol%以下のPbOを含み、その他必要に応じてA
,ZrO ,TiO,GeO等の他の酸化
物を含んでいても良く、この場合、Aは20m
ol%以下、ZrO,TiOはそれぞれ10mol
%以下、GeOは40mol%以下とするのが好まし
い。また、これら、他の成分の含有割合はPbOとの合
計で全体で50mol%以下とするのが望ましい。
In the present invention, the inorganic oxide crystal further comprises 3
Contains 0 mol% or less of PbO, and A
l 2 O 3, ZrO 2, TiO 2, may contain other oxides GeO 2 or the like, in this case, A l 2 O 3 is 20m
ol% or less, ZrO 2 and TiO 2 are each 10 mol
% Or less, and GeO 2 is preferably 40 mol% or less. These, if the content ratio of the other components PbO
It is desirable that the total amount be 50 mol% or less.

【0016】本発明のチップ型電子部品用導電性ペース
トにおいて、金属粉末としては、Ag,Au,Pd,P
t等の貴金属、Cu,Ni等の卑金属、又はこれらを混
合した粉末が使用される。金属粉末は焼結して端子電極
に導電性を与える。
In the conductive paste for a chip-type electronic component of the present invention, Ag, Au, Pd, P
A noble metal such as t, a base metal such as Cu or Ni, or a powder obtained by mixing these is used. The metal powder sinters to provide conductivity to the terminal electrodes.

【0017】不活性有機ビヒクルとしては、メチルセル
ロース、エチルセルロース等をブチルカルビトール、テ
ルピネオール等の有機溶剤に溶解したものが用いられ
る。一般に上記セルロース類は上記有機溶剤に対して5
〜30重量%の割合で混合される。有機ビヒクルは、得
られる導電性ペーストの粘度を調整し、ベアチップ表面
への塗布を容易にするために用いられる。
As the inert organic vehicle, those obtained by dissolving methylcellulose, ethylcellulose and the like in an organic solvent such as butyl carbitol and terpineol are used. Generally, the above celluloses are 5 to the above organic solvent.
3030% by weight. The organic vehicle is used for adjusting the viscosity of the obtained conductive paste and facilitating the application to the bare chip surface.

【0018】本発明の導電性ペーストは、ペースト重量
を100重量%とする時、好ましくは65〜80重量%
の金属粉末と、この金属粉末に対して1〜15重量%の
無機酸化物結晶と、残部が有機ビヒクルとにより構成さ
れる。金属粉末が65重量%未満であると、形成される
端子電極の導電性に劣り、80重量%を超えると導電性
ペーストの粘度特性が劣化する。
The conductive paste of the present invention is preferably 65 to 80% by weight when the paste weight is 100% by weight.
, Metal oxide of 1 to 15% by weight with respect to the metal powder, and the remainder is composed of an organic vehicle. If the metal powder is less than 65% by weight, the conductivity of the terminal electrode formed is poor, and if it exceeds 80% by weight, the viscosity characteristics of the conductive paste deteriorate.

【0019】本発明において、導電性ペースト中の無機
酸化物結晶の好適な配合比はベアチップを構成する焼結
体の種類によって異なるが、金属粉末に対する無機酸化
物結晶の配合割合が1重量%未満であると、端子電極形
成時、金属の焼結が進まず、焼結金属が多孔質となって
しまうことから、めっき液の侵入を容易なものとし、端
子電極とベアチップとの接着強度が低下し、端子電極の
耐湿性が劣化する。特に、積層セラミックコンデンサの
場合には誘電正接(tanδ)や絶縁抵抗(IR)が劣
化する。逆に、この無機酸化物結晶の配合割合が15重
量%を超えると、焼付け時に電極層の表面に無機酸化物
結晶が浮き出して、焼付け電極層の表面に更にめっき層
を設ける際にめっき膜の形成が阻害されてしまう。従っ
て、導電性ペーストに含まれる無機酸化物結晶の配合割
合は金属粉末に対して1〜15重量%とするのが好まし
い。
In the present invention, the preferred compounding ratio of the inorganic oxide crystals in the conductive paste depends on the type of the sintered body constituting the bare chip, but the compounding ratio of the inorganic oxide crystals to the metal powder is less than 1% by weight. Therefore, when forming the terminal electrode, the sintering of the metal does not proceed and the sintered metal becomes porous, so that the plating solution can easily enter and the adhesive strength between the terminal electrode and the bare chip is reduced. As a result, the moisture resistance of the terminal electrode deteriorates. In particular, in the case of a multilayer ceramic capacitor, the dielectric loss tangent (tan δ) and the insulation resistance (IR) deteriorate. Conversely, when the compounding ratio of the inorganic oxide crystal exceeds 15% by weight, the inorganic oxide crystal floats on the surface of the electrode layer at the time of baking, and when the plating layer is further provided on the surface of the baked electrode layer, the amount of the plating film increases. Formation is inhibited. Therefore, the mixing ratio of the inorganic oxide crystal contained in the conductive paste is preferably set to 1 to 15% by weight based on the metal powder.

【0020】本発明のチップ型電子部品用導電性ペース
トは積層セラミックコンデンサ、チップインダクター、
チップサーミスター、チップ抵抗等のチップ型電子部品
の端子電極形成に用いられ、特に、積層セラミックコン
デンサの端子電極形成に好適に用いられる。この場合、
積層セラミックコンデンサを構成する誘電体としては、
鉛系ペロブスカイト又はチタン酸バリウムやチタン酸ス
トロンチウムを主成分とするセラミック誘電体材料が好
ましい。鉛系ペロブスカイトを主成分にする誘電体材料
としてはPb(Mg1/3 Nb2/3 )O3 ,Pb(Fe
1/2 Nb1/2 )O3 ,PbTiO3 等が挙げられる。
The conductive paste for a chip-type electronic component of the present invention is a multilayer ceramic capacitor, a chip inductor,
Chip thermistor, used for the terminal electrode formation of the chip-type electronic component chip resistors, etc., in particular, multilayer ceramic con
It is preferably used for forming a terminal electrode of a capacitor . in this case,
As dielectrics that constitute multilayer ceramic capacitors,
A ceramic dielectric material containing lead-based perovskite or barium titanate or strontium titanate as a main component is preferable. Pb (Mg 1/3 Nb 2/3 ) O 3 , Pb (Fe
1/2 Nb 1/2 ) O 3 , PbTiO 3 and the like.

【0021】[0021]

【作用】SiO,B,ZnO,PbO及びその
他の成分を所定の割合で配合した無機酸化物結晶は、低
熱膨張化が容易であるため、このような無機酸化物結晶
を所定の配合割合で用いた導電性ペーストをベアチップ
表面に焼き付けて形成した端子電極は、耐サーマルショ
ック性に優れる。その上、耐めっき液性や耐湿性に優
れ、しかもめっき膜の形成も容易である。
The inorganic oxide crystal in which SiO 2 , B 2 O 3 , ZnO , PbO and other components are blended at a predetermined ratio can easily be reduced in thermal expansion. A terminal electrode formed by baking the conductive paste used in the mixing ratio on the bare chip surface has excellent thermal shock resistance. In addition, it has excellent plating solution resistance and moisture resistance, and it is easy to form a plating film.

【0022】[0022]

【実施例】次に実施例及び比較例を挙げて、本発明をよ
り具体的に説明する。
Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples.

【0023】実施例1〜 チップ型電子部品として、図1に示すチップ型積層セラ
ミックコンデンサ10を作製し、その特性を調べること
により各種導電性ペーストの評価を行なった。図1に示
すセラミックコンデンサ10は、ベアチップ11と、こ
のチップ11の両端部に形成された端子電極(無機酸化
物結晶を含むAg電極)12とを備える。チップ11は
鉛ペロブスカイト系(Pb(Mg1/3Nb2/3)O
)であって、貴金属のAg70/Pd30からなる内
部電極13を有し、長さ3.2mm、幅1.6mm、厚
み0.85mmのサイズを有する。Ag下地端子電極1
2は焼付け電極層からなり、端子電極12の表面にはN
iめっき膜14及びSn/Pbめっき膜15がこの順に
形成されている。
Embodiment 14  As a chip-type electronic component, a chip-type multilayer ceramic as shown in FIG.
Making a mic capacitor 10 and examining its characteristics
, Various conductive pastes were evaluated. As shown in FIG.
The ceramic capacitor 10 has a bare chip 11
Electrodes formed on both ends of the chip 11 (inorganic oxidation)
Ag electrode containing a crystal). Chip 11
Lead perovskite (Pb (Mg1/3Nb2/3) O
3), Which is composed of the noble metal Ag70 / Pd30
Having a part electrode 13, length 3.2 mm, width 1.6 mm, thickness
Only has a size of 0.85 mm. Ag base terminal electrode 1
2 is composed of a baked electrode layer, and N
The i-plated film 14 and the Sn / Pb-plated film 15 are arranged in this order.
Is formed.

【0024】端子電極は次の条件により形成した。The terminal electrodes were formed under the following conditions.

【0025】導電性ペースト100重量%とするとき、
75重量%の金属粉末と、この金属粉末に対して表1に
示す配合比の無機酸化物結晶と残部を表1の割合の不活
性有機ビヒクルとを混練して導電性ペーストを調製し
た。
When the conductive paste is 100% by weight,
A conductive paste was prepared by kneading 75% by weight of a metal powder, an inorganic oxide crystal having a compounding ratio shown in Table 1 with respect to the metal powder, and an inert organic vehicle having a balance shown in Table 1 as a balance.

【0026】ここで金属粉末はAg100重量%であ
り、無機酸化物結晶はSiO,B,ZnO,P
bO4種又はその他の成分を含むものであって、表1
に示す組成比で添加される。また、有機ビヒクルはエチ
ルセルロースをブチルカルビトールとテルピネオールに
混合したものを用いた。
Here, the metal powder is 100% by weight of Ag, and the inorganic oxide crystals are SiO 2 , B 2 O 3 , ZnO , P
four bO or be one containing other components, Table 1
At the composition ratio shown in Table 1. The organic vehicle used was a mixture of ethyl cellulose and butyl carbitol and terpineol.

【0027】このペーストを焼付け後の厚さが90μm
になるようにベアチップの両端部にディップ方式で塗布
し、大気圧下、650〜850℃まで昇温し、この温度
で5分間保持した後、20℃/分の速度で室温まで降温
してAgからなる下地電極を得た。
The paste has a thickness of 90 μm after baking.
Is applied to both ends of the bare chip by a dip method, the temperature is raised to 650 to 850 ° C. under the atmospheric pressure, kept at this temperature for 5 minutes, and then cooled to room temperature at a rate of 20 ° C./min to obtain Ag. Was obtained.

【0028】次いで、Niめっき膜及びSn/Pbめっ
き膜を次の条件により形成した。pH4.0、温度50
℃のスルファミン酸ニッケル(Ni(NH2 SO32
・4H2 O)120g/lの組成の浴を用い、電解バレ
ルめっき法で下地電極の表面に1〜3μm厚のNiめっ
き膜を形成した。更に、pH4.5、温度25℃の錫
(Sn)15g/l、鉛(Pb)6g/lの組成の浴を
用い、電解バレルめっき法でNiめっき膜の表面に10
〜15μm厚のSn/Pbめっき膜を形成した。これに
より、下地電極の上に更に2層のめっき膜を形成した積
層セラミックコンデンサを得た。
Next, a Ni plating film and a Sn / Pb plating film were formed under the following conditions. pH 4.0, temperature 50
° C nickel sulfamate (Ni (NH 2 SO 3 ) 2
(4H 2 O) Using a bath having a composition of 120 g / l, a Ni plating film having a thickness of 1 to 3 μm was formed on the surface of the base electrode by electrolytic barrel plating. Furthermore, using a bath having a composition of 15 g / l of tin (Sn) and 6 g / l of lead (Pb) at a pH of 4.5 and a temperature of 25 ° C., an electrolytic barrel plating method was used to coat 10 g of Ni on the surface of the Ni plating film.
A Sn / Pb plating film having a thickness of about 15 μm was formed. Thus, a multilayer ceramic capacitor in which two more plating films were formed on the base electrode was obtained.

【0029】得られた積層セラミックコンデンサについ
て、諸特性を次の方法により測定し、結果を表2に示し
た。なお、括弧内の数値nは試験した試料数である。
Various characteristics of the obtained multilayer ceramic capacitor were measured by the following methods, and the results are shown in Table 2. The numerical value n in parentheses is the number of tested samples.

【0030】(a) 静電容量(nF)及び誘電正接
(%)(n=30) 1KHz、1Vrmsで測定した。
(A) Capacitance (nF) and dielectric loss tangent (%) (n = 30) Measured at 1 KHz and 1 Vrms.

【0031】(b) 絶縁抵抗(Ω)(n=15) 25Vの直流電圧を印加した後、30秒経過後の抵抗を
測定した。
(B) Insulation Resistance (Ω) (n = 15) After applying a DC voltage of 25 V, the resistance was measured 30 seconds later.

【0032】(c) 信頼性(耐湿負荷試験)(n=2
0) +85℃の温度で85%の相対湿度下、16Vの直流電
圧を印加して1000時間後の劣化の有無を調べた。
(C) Reliability (moisture resistance load test) (n = 2
0) A DC voltage of 16 V was applied at a temperature of + 85 ° C. and a relative humidity of 85%, and the presence or absence of deterioration after 1000 hours was examined.

【0033】(d) 引張強度(kgf)(n=10) 積層セラミックコンデンサの下地外部電極に0.8mm
φのはんだ引き鋼線を230℃のホットプレート上で共
晶クリームはんだにより接着し、この鋼線を引張ること
により、引張強度を測定した。
(D) Tensile strength (kgf) (n = 10) 0.8 mm is applied to the underlying external electrode of the multilayer ceramic capacitor.
A φ soldered steel wire was adhered on a hot plate at 230 ° C. by eutectic cream solder, and the steel wire was pulled to measure the tensile strength.

【0034】(e) サーマルショック試験(n=2
0) 300℃の温度で溶解させたSn63/Pb37の共晶
はんだ(H63A)中にピンセットで試料を挟み、予熱
せずに3秒間浸漬し、その後のクラックの有無を実態顕
微鏡で観察した。
(E) Thermal shock test (n = 2
0) The sample was sandwiched with tweezers in Sn63 / Pb37 eutectic solder (H63A) melted at a temperature of 300 ° C., immersed for 3 seconds without preheating, and the presence or absence of cracks was observed with a stereoscopic microscope.

【0035】比較例1〜3 表1に示すように、導電性ペーストに添加した無機酸化
物結晶の組成や添加量が上記実施例から外れる以外は同
様にペーストを作製した。このペーストを実施例と同様
に焼付け、めっきを行い、積層セラミックコンデンサを
得、同様に諸特性を調べ、結果を表2に示した。
Comparative Examples 1 to 3 As shown in Table 1, pastes were prepared in the same manner except that the composition and the amount of the inorganic oxide crystals added to the conductive paste were out of the above examples. This paste was baked and plated in the same manner as in the example to obtain a multilayer ceramic capacitor, and various characteristics were similarly examined. The results are shown in Table 2.

【0036】[0036]

【表1】 [Table 1]

【0037】[0037]

【表2】 [Table 2]

【0038】表1,2より、実施例の積層セラミックコ
ンデンサは比較例のものと比較して電気特性の劣化が無
く、耐サーマルショック性に優れ、引張強度も高い値を
示し、品質安定性に優れ、信頼性が高いことが判明し
た。
As shown in Tables 1 and 2, the multilayer ceramic capacitor of the embodiment has no deterioration in electric characteristics, is excellent in thermal shock resistance, has a high tensile strength, and has a high quality stability as compared with the comparative example. It turned out to be excellent and reliable.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明のチップ型電
子部品用導電性ペーストによれば、耐サーマルショック
性に優れ、耐めっき液性や耐湿性に優れ、しかもめっき
膜形成性が良好なチップ型電子部品の端子電極形成用導
電性ペーストが提供される。
As described in detail above, the conductive paste for a chip-type electronic component of the present invention has excellent thermal shock resistance, excellent plating solution resistance and moisture resistance, and has good plating film forming properties. The present invention provides a conductive paste for forming a terminal electrode of a chip-type electronic component.

【0040】従って、本発明のチップ型電子部品用導電
性ペーストによれば、 めっき膜の形成が容易でめっき液の端子電極内部へ
の侵入がない。 ベアチップとの接着強度が高い。 めっき後の電気特性劣化がない。 耐湿性に優れ高い信頼性を有する。 等の高特性端子電極を形成することができ、工業的に極
めて有利である。
Therefore, according to the conductive paste for a chip-type electronic component of the present invention, the plating film can be easily formed and the plating solution does not enter the terminal electrodes. High bonding strength with bare chip. There is no deterioration in electrical characteristics after plating. It has excellent moisture resistance and high reliability. It is possible to form a high-performance terminal electrode such as that described above, which is extremely advantageous industrially.

【0041】本発明のチップ型電子部品用導電性ペース
トは、特に、鉛ペロブスカイト、チタン酸バリウム又は
チタン酸ストロンチウムを主成分とするセラミック誘電
体よりなるセラミックコンデンサの端子電極形成に極め
て有効である。
The conductive paste for a chip-type electronic component of the present invention is extremely effective particularly for forming terminal electrodes of a ceramic capacitor composed of a ceramic dielectric containing lead perovskite, barium titanate or strontium titanate as a main component.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例及び比較例で作製した積層セラミックコ
ンデンサの断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor manufactured in an example and a comparative example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 積層セラミックコンデンサ 11 ベアチップ 12 端子電極 13 内部電極 14 Niめっき膜 15 Sn/Pbめっき膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Multilayer ceramic capacitor 11 Bare chip 12 Terminal electrode 13 Internal electrode 14 Ni plating film 15 Sn / Pb plating film

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 金属粉末と無機酸化物結晶と不活性有機
ビヒクルとを含む導電性ペーストであって、セラミック
焼成体からなるベアチップの表面に塗布した後、焼付け
で端子電極を形成するチップ型電子部品の端子電極用導
電性ペーストにおいて、 前記無機酸化物結晶は、ZnO 10〜55mol%
と、B20〜55mol%と、SiO0〜30
mol%と、PbO30mol%以下とを含み、前記金
属粉末に対して、該無機酸化物結晶が1〜15重量%配
合されていることを特徴とするチップ型電子部品用導電
性ペースト。
1. A chip-type electronic device comprising a conductive paste containing a metal powder, an inorganic oxide crystal, and an inert organic vehicle, which is applied to the surface of a bare chip made of a fired ceramic body and then baked to form a terminal electrode. In the conductive paste for terminal electrodes of a component, the inorganic oxide crystal is ZnO 10 to 55 mol%.
And B 2 O 3 20 to 55 mol%, and SiO 2 0 to 30
% of PbO and 30 mol% or less of PbO , wherein 1 to 15% by weight of the inorganic oxide crystal is blended with respect to the metal powder.
【請求項2】 請求項1の導電性ペーストにおいて、チ
ップ型電子部品がセラミックコンデンサであることを特
徴とするチップ型電子部品用導電性ペースト。
2. The conductive paste according to claim 1, wherein the chip-type electronic component is a ceramic capacitor.
【請求項3】 請求項2の導電性ペーストにおいて、セ
ラミックコンデンサを構成するセラミック誘電体が鉛系
ペロブスカイト、チタン酸バリウム又はチタン酸ストロ
ンチウムを主成分とすることを特徴とするチップ型電子
部品用導電性ペースト。
3. The conductive material for a chip-type electronic component according to claim 2, wherein the ceramic dielectric constituting the ceramic capacitor contains lead-based perovskite, barium titanate or strontium titanate as a main component. Paste.
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