JP3118776B2 - ベンゾトリアゾール化合物の処理方法 - Google Patents
ベンゾトリアゾール化合物の処理方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ベンゾトリアゾール化
合物の処理方法に関し、詳しくは、塩基性不純物の含有
量が著しく低減されたベンゾトリアゾール化合物を得る
ためのベンゾトリアゾール化合物の処理方法に関する。
合物の処理方法に関し、詳しくは、塩基性不純物の含有
量が著しく低減されたベンゾトリアゾール化合物を得る
ためのベンゾトリアゾール化合物の処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】２−ヒ
ドロキシフェニルベンゾトリアゾール化合物は、紫外線
吸収剤として有用であり、ポリオレフィン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリエステル、ポリカーボネート等の合成樹脂用
光安定剤として広く用いられている。これらのベンゾト
リアゾール化合物の中でも、一分子中に二個の２−ヒド
ロキシフェニルベンゾトリアゾール基を有するメチレン
ビス（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物は、耐熱
性に優れ、また、紫外線吸収剤としての効果に優れるこ
とから、特に、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ
アミド等の高温加工の必要なエンジニアリングプラスチ
ック用紫外線吸収剤として賞用されている。
ドロキシフェニルベンゾトリアゾール化合物は、紫外線
吸収剤として有用であり、ポリオレフィン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリエステル、ポリカーボネート等の合成樹脂用
光安定剤として広く用いられている。これらのベンゾト
リアゾール化合物の中でも、一分子中に二個の２−ヒド
ロキシフェニルベンゾトリアゾール基を有するメチレン
ビス（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物は、耐熱
性に優れ、また、紫外線吸収剤としての効果に優れるこ
とから、特に、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ
アミド等の高温加工の必要なエンジニアリングプラスチ
ック用紫外線吸収剤として賞用されている。
【０００３】このメチレンビス（ベンゾトリアゾリルフ
ェノール）化合物は、下記〔化２〕の一般式（II) で表
される２−非置換−４−アルキル−６−ベンゾトリアゾ
リルフェノール化合物をホルムアルデヒドで縮合するこ
とによって製造されるものであるが、通常の強酸を触媒
として用いる製造方法では脱アルキル化等の副反応が進
行し、収率が著しく低下するばかりでなく、着色の大き
い製品しか得られない欠点があった。
ェノール）化合物は、下記〔化２〕の一般式（II) で表
される２−非置換−４−アルキル−６−ベンゾトリアゾ
リルフェノール化合物をホルムアルデヒドで縮合するこ
とによって製造されるものであるが、通常の強酸を触媒
として用いる製造方法では脱アルキル化等の副反応が進
行し、収率が著しく低下するばかりでなく、着色の大き
い製品しか得られない欠点があった。
【０００４】
【化２】
【０００５】このため、メチレンビス（ベンゾトリアゾ
リルフェノール）化合物は、特開昭６１−１１５０７３
号公報に記載されたように、上記一般式（II) で表され
るベンゾトリアゾリルフェノール化合物をホルムアルデ
ヒドおよびジアルキルアミンと反応させて、先ず下記
〔化３〕の一般式(III) で表される２−ジアルキルアミ
ノメチル−４−アルキル−６−ベンゾトリアゾリルフェ
ノール（マンニッヒベース化合物）とし、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、ナトリウムメ
トキサイド、炭酸ナトリウム等のアルカリ触媒の存在下
に、該マンニッヒベース化合物とベンゾトリアゾリルフ
ェノールを縮合させるか、あるいは、該マンニッヒベー
ス化合物同士を縮合させることによって製造されてい
た。
リルフェノール）化合物は、特開昭６１−１１５０７３
号公報に記載されたように、上記一般式（II) で表され
るベンゾトリアゾリルフェノール化合物をホルムアルデ
ヒドおよびジアルキルアミンと反応させて、先ず下記
〔化３〕の一般式(III) で表される２−ジアルキルアミ
ノメチル−４−アルキル−６−ベンゾトリアゾリルフェ
ノール（マンニッヒベース化合物）とし、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、ナトリウムメ
トキサイド、炭酸ナトリウム等のアルカリ触媒の存在下
に、該マンニッヒベース化合物とベンゾトリアゾリルフ
ェノールを縮合させるか、あるいは、該マンニッヒベー
ス化合物同士を縮合させることによって製造されてい
た。
【０００６】
【化３】
【０００７】しかしながら、このような方法で製造され
たメチレンビス（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合
物は、着色が大きいばかりでなく、ポリカーボネート等
のエンジニアリングプラスチックに配合した場合に、該
エンジニアリングプラスチックの分子量を低下させ、そ
の機械的特性を低下させる欠点があった。
たメチレンビス（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合
物は、着色が大きいばかりでなく、ポリカーボネート等
のエンジニアリングプラスチックに配合した場合に、該
エンジニアリングプラスチックの分子量を低下させ、そ
の機械的特性を低下させる欠点があった。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の欠
点を解消するために鋭意検討を重ねた結果、メチレンビ
ス（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物の製造時に
混入する、微量の塩基性物質であるアルカリ金属イオン
および／または有機アミンがその原因であることを知見
した。本発明者等は上記知見に基づき、不純物である上
記塩基性物質を低減させる方法について更に検討を重ね
た結果、メチレンビス（ベンゾトリアゾリルフェノー
ル）化合物を酸で処理することによって、メチレンビス
（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物の分解を引き
起こすことなく、該塩基性不純物の量を著しく低減でき
ることを見出し本発明に到達した。
点を解消するために鋭意検討を重ねた結果、メチレンビ
ス（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物の製造時に
混入する、微量の塩基性物質であるアルカリ金属イオン
および／または有機アミンがその原因であることを知見
した。本発明者等は上記知見に基づき、不純物である上
記塩基性物質を低減させる方法について更に検討を重ね
た結果、メチレンビス（ベンゾトリアゾリルフェノー
ル）化合物を酸で処理することによって、メチレンビス
（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物の分解を引き
起こすことなく、該塩基性不純物の量を著しく低減でき
ることを見出し本発明に到達した。
【０００９】即ち、本発明は、次の〔化４〕（〔化１〕
と同じ）の一般式（Ｉ）で表されるメチレンビス（ベン
ゾトリアゾリルフェノール）化合物を酸で処理すること
を特徴とするベンゾトリアゾール化合物の処理方法を提
供するものである。
と同じ）の一般式（Ｉ）で表されるメチレンビス（ベン
ゾトリアゾリルフェノール）化合物を酸で処理すること
を特徴とするベンゾトリアゾール化合物の処理方法を提
供するものである。
【００１０】
【化４】
【００１１】以下、本発明のベンゾトリアゾール化合物
の処理方法について詳述する。
の処理方法について詳述する。
【００１２】本発明の処理方法により処理される、メチ
レンビス（ベンゾトリアリルフェノール）化合物を表す
上記一般式（Ｉ）において、Ｒで示される炭素原子数１
〜１８のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、
イソブチル、アミル、第二アミル、第三アミル、イソア
ミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、第二オクチル、
第三オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、ノ
ニル、第三ノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、
ドデシル、第三ドデシル、トリデシル、イソトリデシ
ル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル等の直
鎖または分岐のアルキル基等があげられる。
レンビス（ベンゾトリアリルフェノール）化合物を表す
上記一般式（Ｉ）において、Ｒで示される炭素原子数１
〜１８のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、
イソブチル、アミル、第二アミル、第三アミル、イソア
ミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、第二オクチル、
第三オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、ノ
ニル、第三ノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、
ドデシル、第三ドデシル、トリデシル、イソトリデシ
ル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル等の直
鎖または分岐のアルキル基等があげられる。
【００１３】また、本発明の処理方法において、上記一
般式（Ｉ）で表されるメチレンビス（ベンゾトリアリル
フェノール）化合物の処理に用いられる酸としては、例
えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、アクリル酸、酪酸、
イソ酪酸、吉草酸、オクチル酸、イソオクチル酸、ノナ
ン酸、デカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチ
ン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リシノール酸、１２
−ヒドロキシステアリン酸、ベヘン酸、モンタン酸、メ
リシン酸、β−ドデシルメルカプト酢酸、β−ドデシル
メルカプトプロピオン酸、β−Ｎ−ラウリルアミノプロ
ピオン酸、β−Ｎ−メチル−Ｎ−ラウロイルアミノプロ
ピオン酸などの脂肪族モノカルボン酸；マロン酸、コハ
ク酸、アジピン酸、マレイン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸、ドデカンジ酸、クエン酸、ブタントリカルボン
酸、ブタンテトラカルボン酸などの脂肪族多価カルボン
酸；ナフテン酸、シクロペンタンカルボン酸、１−メチ
ルシクロペンタンカルボン酸、２−メチルシクロペンタ
ンカルボン酸、シクロペンテンカルボン酸、シクロヘキ
サンカルボン酸、１−メチルシクロヘキサンカルボン
酸、４−メチルシクロヘキサンカルボン酸、３，５−ジ
メチルシクロヘキサンカルボン酸、４−ブチルシクロヘ
キサンカルボン酸、４−オクチルシクロヘキサンカルボ
ン酸、シクロヘキセンカルボン酸、４−シクロヘキセン
−１，２−ジカルボン酸などの脂環式モノまたはポリカ
ルボン酸；安息香酸、トルイル酸、キシリル酸、エチル
安息香酸、４−第三ブチル安息香酸、サリチル酸、フタ
ル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸などの芳香族モ
ノまたはポリカルボン酸；メタンスルホン酸、ベンゼン
スルホン酸、トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンス
ルホン酸などの有機スルホン酸：塩酸、硫酸、硝酸、フ
ッ化水素酸、リン酸、亜リン酸等の無機酸があげられる
が、処理操作の容易さ、製品の分解を抑制する等の見地
から、有機酸、特に脂肪族モノカルボン酸が好ましい。
般式（Ｉ）で表されるメチレンビス（ベンゾトリアリル
フェノール）化合物の処理に用いられる酸としては、例
えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、アクリル酸、酪酸、
イソ酪酸、吉草酸、オクチル酸、イソオクチル酸、ノナ
ン酸、デカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチ
ン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リシノール酸、１２
−ヒドロキシステアリン酸、ベヘン酸、モンタン酸、メ
リシン酸、β−ドデシルメルカプト酢酸、β−ドデシル
メルカプトプロピオン酸、β−Ｎ−ラウリルアミノプロ
ピオン酸、β−Ｎ−メチル−Ｎ−ラウロイルアミノプロ
ピオン酸などの脂肪族モノカルボン酸；マロン酸、コハ
ク酸、アジピン酸、マレイン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸、ドデカンジ酸、クエン酸、ブタントリカルボン
酸、ブタンテトラカルボン酸などの脂肪族多価カルボン
酸；ナフテン酸、シクロペンタンカルボン酸、１−メチ
ルシクロペンタンカルボン酸、２−メチルシクロペンタ
ンカルボン酸、シクロペンテンカルボン酸、シクロヘキ
サンカルボン酸、１−メチルシクロヘキサンカルボン
酸、４−メチルシクロヘキサンカルボン酸、３，５−ジ
メチルシクロヘキサンカルボン酸、４−ブチルシクロヘ
キサンカルボン酸、４−オクチルシクロヘキサンカルボ
ン酸、シクロヘキセンカルボン酸、４−シクロヘキセン
−１，２−ジカルボン酸などの脂環式モノまたはポリカ
ルボン酸；安息香酸、トルイル酸、キシリル酸、エチル
安息香酸、４−第三ブチル安息香酸、サリチル酸、フタ
ル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸などの芳香族モ
ノまたはポリカルボン酸；メタンスルホン酸、ベンゼン
スルホン酸、トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンス
ルホン酸などの有機スルホン酸：塩酸、硫酸、硝酸、フ
ッ化水素酸、リン酸、亜リン酸等の無機酸があげられる
が、処理操作の容易さ、製品の分解を抑制する等の見地
から、有機酸、特に脂肪族モノカルボン酸が好ましい。
【００１４】上記酸の使用量は、メチレンビス（ベンゾ
トリアゾリルフェノール）中に含まれるアルカリ性不純
物の量に応じて決められるものであり、通常は、アルカ
リ性不純物に対して、０．５倍モル〜２００倍モルが好
ましく、アルカリ性不純物の量を悪影響の生じないまで
に低減させるためには、アルカリ性不純物に対して、当
モル〜１００倍モルが更に好ましい。
トリアゾリルフェノール）中に含まれるアルカリ性不純
物の量に応じて決められるものであり、通常は、アルカ
リ性不純物に対して、０．５倍モル〜２００倍モルが好
ましく、アルカリ性不純物の量を悪影響の生じないまで
に低減させるためには、アルカリ性不純物に対して、当
モル〜１００倍モルが更に好ましい。
【００１５】本発明の処理方法による、上記一般式
（Ｉ）で表されるメチレンビス（ベンゾトリアゾリルフ
ェノール）化合物の上記酸による処理は、該化合物を製
造した後、該化合物の晶析前に実施しても、晶析後に実
施しても良い。
（Ｉ）で表されるメチレンビス（ベンゾトリアゾリルフ
ェノール）化合物の上記酸による処理は、該化合物を製
造した後、該化合物の晶析前に実施しても、晶析後に実
施しても良い。
【００１６】上述のように、上記メチレンビス（ベンゾ
トリアゾリルフェノール）化合物の酸による処理を、該
化合物の晶析前に実施する場合には、好ましくは遊離し
たジアルキルアミンを留去した後、用いたアルカリ触媒
に対して、好ましくは０．５倍モル〜１００倍モル、さ
らに好ましくは当モル〜１００倍モルの有機酸を加え、
通常、２０〜１５０℃で１０分〜５時間程度攪拌した後
水洗を行ない、必要に応じてこの処理を繰り返し行な
う。その後、脱水して晶析することにより、アルカリ性
不純物の著しく低減されたメチレンビス（ベンゾトリア
ゾリルフェノール）化合物が得られる。
トリアゾリルフェノール）化合物の酸による処理を、該
化合物の晶析前に実施する場合には、好ましくは遊離し
たジアルキルアミンを留去した後、用いたアルカリ触媒
に対して、好ましくは０．５倍モル〜１００倍モル、さ
らに好ましくは当モル〜１００倍モルの有機酸を加え、
通常、２０〜１５０℃で１０分〜５時間程度攪拌した後
水洗を行ない、必要に応じてこの処理を繰り返し行な
う。その後、脱水して晶析することにより、アルカリ性
不純物の著しく低減されたメチレンビス（ベンゾトリア
ゾリルフェノール）化合物が得られる。
【００１７】また、上述のように、上記メチレンビス
（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物の酸による処
理を、該化合物の晶析後に実施する場合には、好ましく
は、メチレンビス（ベンゾトリアゾリルフェノール）を
有機溶媒に溶解し、メチレンビス（ベンゾトリアゾリル
フェノール）中に含まれるアルカリ性不純物に対して、
好ましくは０．５倍モル〜１００倍モル、さらに好まし
くは当モル〜１００倍モルの有機酸を加え、通常、２０
〜１５０℃で１０分〜５時間程度攪拌した後水洗を行な
い、必要に応じてこの処理を繰り返し行なう。その後、
脱水して晶析することにより、アルカリ性不純物の著し
く低減されたメチレンビス（ベンゾトリアゾリルフェノ
ール）化合物が得られる。
（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物の酸による処
理を、該化合物の晶析後に実施する場合には、好ましく
は、メチレンビス（ベンゾトリアゾリルフェノール）を
有機溶媒に溶解し、メチレンビス（ベンゾトリアゾリル
フェノール）中に含まれるアルカリ性不純物に対して、
好ましくは０．５倍モル〜１００倍モル、さらに好まし
くは当モル〜１００倍モルの有機酸を加え、通常、２０
〜１５０℃で１０分〜５時間程度攪拌した後水洗を行な
い、必要に応じてこの処理を繰り返し行なう。その後、
脱水して晶析することにより、アルカリ性不純物の著し
く低減されたメチレンビス（ベンゾトリアゾリルフェノ
ール）化合物が得られる。
【００１８】本発明の処理方法によって処理されてアル
カリ性不純物の量の低減されたメチレンビス（ベンゾト
リアゾリルフェノール）化合物は、各種合成樹脂の紫外
線吸収剤として有用であり、特に、直鎖状あるいは分岐
状の芳香族ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレートなどの熱可塑性直鎖
ポリエステル、全芳香族ポリエステル、ポリアセター
ル、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキシ
ド、ポリカプロラクトン、ポリヘキサメチレンアジパミ
ドなどの直鎖ポリアミドなどの特に高い加工温度の必要
とされるエンジニアリングプラスチック用の紫外線吸収
剤として有用である。
カリ性不純物の量の低減されたメチレンビス（ベンゾト
リアゾリルフェノール）化合物は、各種合成樹脂の紫外
線吸収剤として有用であり、特に、直鎖状あるいは分岐
状の芳香族ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレートなどの熱可塑性直鎖
ポリエステル、全芳香族ポリエステル、ポリアセター
ル、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキシ
ド、ポリカプロラクトン、ポリヘキサメチレンアジパミ
ドなどの直鎖ポリアミドなどの特に高い加工温度の必要
とされるエンジニアリングプラスチック用の紫外線吸収
剤として有用である。
【００１９】
【実施例】以下、実施例によって本発明をさらに詳細に
説明する。しかしながら、本発明は、これらの実施例に
よって何ら制限を受けるものではない。
説明する。しかしながら、本発明は、これらの実施例に
よって何ら制限を受けるものではない。
【００２０】実施例１〜４および比較例１ ２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール９８０ｇ、９９％ジエチルアミン２２
６ｇ、８７％パラホルムアルデヒド１０５ｇおよびキシ
レン１２００ｇをとり、窒素気流下１００℃で７時間攪
拌した。液体クロマトグラフィーにより、用いた２−
（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）ベンゾ
トリアゾールの５０モル％以上が２−（２−ヒドロキシ
−３−ジエチルアミノメチル−５−第三オクチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール（マンニッヒベース化合物）と
なっていることを確認した後、過剰のパラホルムアルデ
ヒドおよびジエチルアミンを減圧下に留去した。
ンゾトリアゾール９８０ｇ、９９％ジエチルアミン２２
６ｇ、８７％パラホルムアルデヒド１０５ｇおよびキシ
レン１２００ｇをとり、窒素気流下１００℃で７時間攪
拌した。液体クロマトグラフィーにより、用いた２−
（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）ベンゾ
トリアゾールの５０モル％以上が２−（２−ヒドロキシ
−３−ジエチルアミノメチル−５−第三オクチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール（マンニッヒベース化合物）と
なっていることを確認した後、過剰のパラホルムアルデ
ヒドおよびジエチルアミンを減圧下に留去した。
【００２１】５０％水酸化ナトリウム水溶液４０ｇ
（０．５モル）を加え、窒素気流下、生成するジエチル
アミンを留去しながら１４０℃で８時間攪拌し、液体ク
ロマトグラフィーにより上記マンニッヒベース化合物が
消滅していることを確認した。
（０．５モル）を加え、窒素気流下、生成するジエチル
アミンを留去しながら１４０℃で８時間攪拌し、液体ク
ロマトグラフィーにより上記マンニッヒベース化合物が
消滅していることを確認した。
【００２２】キシレン２０００ｇを追加した後これを５
分割し、各々次の〔表１〕に示す処理を施した後、ゆっ
くりと冷却することによって目的の２，２’−メチレン
ビス（４−第三ブチル−６−ベンゾトリアゾリルフェノ
ール）を結晶として生成させた。
分割し、各々次の〔表１〕に示す処理を施した後、ゆっ
くりと冷却することによって目的の２，２’−メチレン
ビス（４−第三ブチル−６−ベンゾトリアゾリルフェノ
ール）を結晶として生成させた。
【００２３】上記の処理によって得られた生成物につい
て、炎光分析によるナトリウム含有率および５％クロロ
ホルム溶液の４３０nmにおける光線透過率を各々測定し
た結果を次の〔表１〕に示した。
て、炎光分析によるナトリウム含有率および５％クロロ
ホルム溶液の４３０nmにおける光線透過率を各々測定し
た結果を次の〔表１〕に示した。
【表１】
【００２４】実施例５ 実施例１〜４および比較例１で製造したメチレンビス
（ベンゾトリアゾリルフェノール）をポリカーボネート
樹脂へ添加して、ナトリウム含有率の違いが樹脂の物性
へ与える影響を調べた。
（ベンゾトリアゾリルフェノール）をポリカーボネート
樹脂へ添加して、ナトリウム含有率の違いが樹脂の物性
へ与える影響を調べた。
【００２５】比粘度１．３１のポリカーボネート樹脂１
００重量部およびメチレンビス（ベンゾトリアゾリルフ
ェノール）１０重量部を密栓付のフラスコにとり、３２
０℃で２０分間加熱した後、その比粘度を測定した。そ
の結果を下記〔表２〕に示す。
００重量部およびメチレンビス（ベンゾトリアゾリルフ
ェノール）１０重量部を密栓付のフラスコにとり、３２
０℃で２０分間加熱した後、その比粘度を測定した。そ
の結果を下記〔表２〕に示す。
【００２６】
【表２】
【００２７】実施例６ 下記〔表３〕に示した有機酸を用いる以外は、実施例１
〜４と同様の操作により、２，２’−メチレンビス（４
−第三オクチル−６−ベンゾトリアゾリルフェノール）
を製造し、そのナトリウム含有率を測定した。その結果
を下記〔表３〕に示す。尚、表中の処理条件は、例え
ば、用いた水酸化ナトリウムのモル数に対し、２倍モル
の有機酸を用いて１回処理を行った場合、２倍モル×１
回のようにして示した。
〜４と同様の操作により、２，２’−メチレンビス（４
−第三オクチル−６−ベンゾトリアゾリルフェノール）
を製造し、そのナトリウム含有率を測定した。その結果
を下記〔表３〕に示す。尚、表中の処理条件は、例え
ば、用いた水酸化ナトリウムのモル数に対し、２倍モル
の有機酸を用いて１回処理を行った場合、２倍モル×１
回のようにして示した。
【００２８】
【表３】
【００２９】実施例７、８および比較例２ ２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾト
リアゾール２２５ｇ、ジエチルアミン１１０ｇおよびパ
ラホルムアルデヒド５１．８ｇを２５０mlのブタノール
に溶解し、還流下２４時間攪拌した。減圧下に溶媒およ
び過剰のジエチルアミンおよびパラホルムアルデヒドを
留去し２−ジエチルアミノ−４−メチル−６−ベンゾト
リアゾリルフェノール（マンニッヒベース化合物）を得
た。
リアゾール２２５ｇ、ジエチルアミン１１０ｇおよびパ
ラホルムアルデヒド５１．８ｇを２５０mlのブタノール
に溶解し、還流下２４時間攪拌した。減圧下に溶媒およ
び過剰のジエチルアミンおよびパラホルムアルデヒドを
留去し２−ジエチルアミノ−４−メチル−６−ベンゾト
リアゾリルフェノール（マンニッヒベース化合物）を得
た。
【００３０】このマンニッヒベース化合物１２４ｇおよ
び２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾ
トリアゾール９０ｇをキシレン４００mlに溶解し、ナト
リウムメトキサイド（２８％メタノール溶液）３．９ｇ
を加え、窒素気流下、還流温度で１０時間攪拌し、液体
クロマトグラフィーによりマンニッヒベース化合物が消
滅していることを確認した。
び２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾ
トリアゾール９０ｇをキシレン４００mlに溶解し、ナト
リウムメトキサイド（２８％メタノール溶液）３．９ｇ
を加え、窒素気流下、還流温度で１０時間攪拌し、液体
クロマトグラフィーによりマンニッヒベース化合物が消
滅していることを確認した。
【００３１】これを３分割し、下記〔表４〕に示した条
件で、実施例１〜４と同様の操作により酢酸で処理した
後溶媒を留去し、得られた粗生成物をキシレンから再結
晶することにより、目的の２，２’−メチレンビス（４
−メチル−６−ベンゾトリアゾリルフェノール）を結晶
として生成させた。
件で、実施例１〜４と同様の操作により酢酸で処理した
後溶媒を留去し、得られた粗生成物をキシレンから再結
晶することにより、目的の２，２’−メチレンビス（４
−メチル−６−ベンゾトリアゾリルフェノール）を結晶
として生成させた。
【００３２】得られた生成物について、炎光分析による
ナトリウム含有率および透過率を各々測定した結果を次
の〔表４〕に示した。
ナトリウム含有率および透過率を各々測定した結果を次
の〔表４〕に示した。
【００３３】
【表４】
【００３４】実施例９ ２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール９８０ｇ、９９％ジエチルアミン２２
６ｇ、８７％パラホルムアルデヒド１０５ｇおよびキシ
レン１２００ｇをとり、窒素気流下１００℃で７時間攪
拌した。液体クロマトグラフィーにより、用いた２−
（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）ベンゾ
トリアゾールの５０モル％以上が２−（２−ヒドロキシ
−３−ジエチルアミノメチル−５−第三オクチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール（マンニッヒベース化合物）と
なっていることを確認した後、過剰のパラホルムアルデ
ヒドおよびジエチルアミンを減圧下に留去した。
ンゾトリアゾール９８０ｇ、９９％ジエチルアミン２２
６ｇ、８７％パラホルムアルデヒド１０５ｇおよびキシ
レン１２００ｇをとり、窒素気流下１００℃で７時間攪
拌した。液体クロマトグラフィーにより、用いた２−
（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）ベンゾ
トリアゾールの５０モル％以上が２−（２−ヒドロキシ
−３−ジエチルアミノメチル−５−第三オクチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール（マンニッヒベース化合物）と
なっていることを確認した後、過剰のパラホルムアルデ
ヒドおよびジエチルアミンを減圧下に留去した。
【００３５】５０％水酸化ナトリウム水溶液４０ｇ
（０．５モル）を加え、窒素気流下、生成するジエチル
アミンを留去しながら１４０℃で８時間攪拌し、液体ク
ロマトグラフィーによりマンニッヒベース化合物が消滅
していることを確認した。
（０．５モル）を加え、窒素気流下、生成するジエチル
アミンを留去しながら１４０℃で８時間攪拌し、液体ク
ロマトグラフィーによりマンニッヒベース化合物が消滅
していることを確認した。
【００３６】溶媒を留去し、得られた粗生成物をキシレ
ンより再結晶して、２，２’−メチレンビス（４−第三
ブチル−６−ベンゾトリアゾリルフェノール）を得た。
ンより再結晶して、２，２’−メチレンビス（４−第三
ブチル−６−ベンゾトリアゾリルフェノール）を得た。
【００３７】得られた生成物１００ｇをキシレン２００
mlに溶解し、下記〔表５〕に示した酸を１ｇ加え、１０
０℃で３０分間攪拌後１００mlの温水で洗浄した。処理
後のナトリウム含有率および透過率を測定した。その結
果を下記〔表５〕に示す。
mlに溶解し、下記〔表５〕に示した酸を１ｇ加え、１０
０℃で３０分間攪拌後１００mlの温水で洗浄した。処理
後のナトリウム含有率および透過率を測定した。その結
果を下記〔表５〕に示す。
【００３８】
【表５】
【００３９】上記〔表１〕〜〔表５〕に示す結果から明
らかなように、マンニッヒベース化合物を中間として用
い、アルカリ触媒の存在下に製造されたメチレンビス
（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物は、触媒に由
来するアルカリ性不純物を含有しており、このアルカリ
性不純物は水洗のみでは除去できない。そして、このア
ルカリ性不純物の影響により、水洗のみで処理されたメ
チレンビス（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物
は、その色相が劣るばかりでなく、ポリカーボネートな
どの高分子材料の光安定剤として用いた場合に、該高分
子材料の物性を著しく低下させる欠点がある。
らかなように、マンニッヒベース化合物を中間として用
い、アルカリ触媒の存在下に製造されたメチレンビス
（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物は、触媒に由
来するアルカリ性不純物を含有しており、このアルカリ
性不純物は水洗のみでは除去できない。そして、このア
ルカリ性不純物の影響により、水洗のみで処理されたメ
チレンビス（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物
は、その色相が劣るばかりでなく、ポリカーボネートな
どの高分子材料の光安定剤として用いた場合に、該高分
子材料の物性を著しく低下させる欠点がある。
【００４０】これに対し、本発明の方法で処理されたメ
チレンビス（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物
は、アルカリ性不純物の含有量が著しく低減されてお
り、それによって色相に優れるばかりでなく、高分子材
料の光安定剤として用いた場合にも該高分子材料の物性
を低下させないことが明らかである。
チレンビス（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物
は、アルカリ性不純物の含有量が著しく低減されてお
り、それによって色相に優れるばかりでなく、高分子材
料の光安定剤として用いた場合にも該高分子材料の物性
を低下させないことが明らかである。
【００４１】
【発明の効果】本発明のベンゾトリアゾール化合物の処
理方法によれば、ベンゾトリアゾール化合物中のアルカ
リ性不純物の含有量を低減させることができるため、本
発明の処理方法により処理されたベンゾトリアゾール化
合物は、色相に優れ、また、高分子材料に配合した場合
にもその物性を低下させることがないものである。
理方法によれば、ベンゾトリアゾール化合物中のアルカ
リ性不純物の含有量を低減させることができるため、本
発明の処理方法により処理されたベンゾトリアゾール化
合物は、色相に優れ、また、高分子材料に配合した場合
にもその物性を低下させることがないものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−290877（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−46161（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−133967（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−118373（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 249/20 ＣＡ（ＳＴＮ)
Claims (2)
- 【請求項１】 次の〔化１〕の一般式（Ｉ）で表される
メチレンビス（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物
を酸で処理することを特徴とするベンゾトリアゾール化
合物の処理方法。 【化１】 - 【請求項２】 酸として脂肪族モノカルボン酸を用いる
請求項１記載のベンゾトリアゾール化合物の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04120894A JP3118776B2 (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | ベンゾトリアゾール化合物の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04120894A JP3118776B2 (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | ベンゾトリアゾール化合物の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05310713A JPH05310713A (ja) | 1993-11-22 |
| JP3118776B2 true JP3118776B2 (ja) | 2000-12-18 |
Family
ID=14797627
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04120894A Expired - Lifetime JP3118776B2 (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | ベンゾトリアゾール化合物の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3118776B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR960007643A (ko) * | 1994-08-17 | 1996-03-22 | 김준웅 | 자외선 차단성 폴리에스테르 중합체의 제조방법 |
| JP4708548B2 (ja) * | 2000-11-06 | 2011-06-22 | 日本曹達株式会社 | ６−クロロニコチン誘導体の塩基性不純物除去方法 |
| CN106008381A (zh) * | 2016-06-01 | 2016-10-12 | 杭州欣阳三友精细化工有限公司 | 一种苯并三唑基-亚烷基双酚化合物的制备方法 |
-
1992
- 1992-05-13 JP JP04120894A patent/JP3118776B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05310713A (ja) | 1993-11-22 |
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