JP3116979B2 - Optical coupling structure between optical waveguides - Google Patents
Optical coupling structure between optical waveguidesInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は光導波路間の光結合構造
に関し、光通信装置等において別々の基板上に形成され
た光導波路間を光学的に結合する場合に用いて有用なも
のである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical coupling structure between optical waveguides, and is useful for optically coupling optical waveguides formed on separate substrates in an optical communication device or the like. .
【0002】[0002]
【従来の技術】従来技術において別々の基板上に形成さ
れた光導波路間を結合させる光結合構造は、図7に示す
ように、光導波路の端面を直接結合させる方法が一般的
である。図中、1は第1の光導波路のコア、2は第1の
光導波路のクラッド層、3は第1の光導波路のコア1お
よびクラッド層2が形成されている基板、4は第2の光
導波路のコア、5は第2の光導波路のクラッド層、6は
第2の光導波路のコア4およびクラッド層5が形成され
ている基板を示す。2. Description of the Related Art In the prior art, an optical coupling structure for coupling optical waveguides formed on separate substrates is generally a method of directly coupling the end faces of the optical waveguide as shown in FIG. In the figure, 1 is the core of the first optical waveguide, 2 is the cladding layer of the first optical waveguide, 3 is the substrate on which the core 1 and the cladding layer 2 of the first optical waveguide are formed, and 4 is the second Reference numeral 5 denotes a core of the optical waveguide, 5 denotes a cladding layer of the second optical waveguide, and 6 denotes a substrate on which the core 4 and the cladding layer 5 of the second optical waveguide are formed.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上述の如き従来技術に
係る光導波路間の光結合構造において、第1の光導波路
のコア1と第2の光導波路のコア4とを結合効率良く直
接結合させるためには、各々の光導波路の端面を3次元
的に位置合わせするだけでなく、各々の光導波路のなす
角度を制御して光軸方向を一致させることが必要であ
り、その位置合わせが困難である。このように、従来の
光結合構造では、別々の基板に形成された光導波路同士
の光結合に3次元的な位置合わせと角度調整という3軸
以上の高精度な位置合わせが必要であり、光結合が困難
であるという欠点がある。また第1の光導波路からの光
信号が第2の光導波路端面で反射して反射もどり光の影
響を受け易くなるという問題がある。In the optical coupling structure between optical waveguides according to the prior art as described above, the core 1 of the first optical waveguide and the core 4 of the second optical waveguide are directly coupled with good coupling efficiency. For this purpose, it is necessary not only to align the end faces of the respective optical waveguides three-dimensionally but also to control the angles formed by the respective optical waveguides so that the optical axis directions coincide with each other. It is. As described above, in the conventional optical coupling structure, the optical coupling between the optical waveguides formed on different substrates requires high-precision alignment of three or more axes such as three-dimensional alignment and angle adjustment. There is the disadvantage that coupling is difficult. In addition, there is a problem that an optical signal from the first optical waveguide is reflected at the end face of the second optical waveguide and is easily affected by reflected return light.
【0004】本発明は、上記従来技術に鑑み、上述の如
き3軸以上の高精度な位置合せを不要とし、かつ端面同
士を直接結合させる際の反射もどり光の影響を除去する
ことができる光導波路間の光結合構造を提供することを
目的とする。In view of the above prior art, the present invention eliminates the need for high-precision alignment of three or more axes as described above, and eliminates the effects of reflected return light when end faces are directly coupled. It is an object of the present invention to provide an optical coupling structure between waveguides.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の構成は、第1の基板上に形成された第1の光導波路
と第2の基板上に形成された第2の光導波路との間を、
可撓性を有し、しかもフィルム構造である第3の光導波
路を介して光学的に結合する光結合構造であって、第3
の光導波路の両端部は第1及び第2の光導波路の両端面
と各々接触し、しかも第1、第2の光導波路と第3の光
導波路との重ね合わせ部の近傍における第3の光導波路
面上に、第3の光導波路と同一の材料で第1及び第2の
光導波路の端面とそれぞれ相対向する第3の光導波路と
同一幅の突起を設け、しかも突起はその第1及び第2の
光導波路と相対向する側と反対側に厚み方向にテーパを
有し、 さらに第3の光導波路の両端部で、しかも第1及
び第2の光導波路との重ね合わせ部に相当する部分に、
第3の光導波路材料と等しい材料の突起を有し、この突
起は第3の光導波路と等しい幅の突起であることを特徴
とする。To achieve the above object, the structure of the present invention comprises a first optical waveguide formed on a first substrate and a second optical waveguide formed on a second substrate. Between
Flexible and moreover an optical coupling structure for optically coupling through the third optical waveguide is a film structure, the third
The two end portions of the optical waveguide are both end surfaces of the first and second optical waveguides.
And the first and second optical waveguides and the third light
Third optical waveguide near the overlapped portion with the waveguide
On the surface, the first and second optical waveguides are made of the same material as the third optical waveguide.
A third optical waveguide opposing the end face of the optical waveguide,
Protrusions having the same width are provided, and the first and second protrusions have the same width.
Taper in the thickness direction on the side opposite to the side facing the optical waveguide
It has further at both ends of the third optical waveguide, moreover first及
And the portion corresponding to the overlapping portion with the second optical waveguide,
A projection made of a material equal to that of the third optical waveguide material;
The protrusion is a protrusion having a width equal to that of the third optical waveguide .
【0006】[0006]
【作用】上記構成の本発明によれば、可撓性を有するフ
ィルム状の第3の光導波路を第1及び第2の光導波路の
長手方向の面の一部に接触させて第1及び第2の光導波
路間を結合させることにより、フィルムの柔軟性が利用
でき、第1と第2の光導波路の高さ方向方向の位置合わ
せ及び第1と第2の光導波路が形成されている平面のな
す角の位置合わせが不要となり、従来の端面同士の直接
結合に比べて大幅に位置合わせ作業を短縮できる。ま
た、光導波路同士の光結合に端面同士を直接結合させな
いことにより、反射もどり光の影響を防ぐことができ
る。さらに、テーパ状の突起の存在により第1又は第2
の光導波路から第3の光導波路へ光パワーが移行しきれ
なかった導波路伝播光も光結合することができる。 According to the present invention having the above-described structure, the first and second optical waveguides are brought into contact with the third optical waveguide in the form of a film in contact with a part of the longitudinal surface of the first and second optical waveguides. By coupling the two optical waveguides, the flexibility of the film can be utilized, the first and second optical waveguides are aligned in the height direction, and the plane on which the first and second optical waveguides are formed is formed. This eliminates the need for angle alignment, and greatly reduces the alignment work compared to conventional direct coupling between end faces. Also, by not directly coupling the end faces to the optical coupling between the optical waveguides, it is possible to prevent the influence of the reflected return light. Further, the presence of the first or second tapered projections
The optical power is completely transferred from the optical waveguide to the third optical waveguide.
Missing waveguide propagation light can also be optically coupled.
【0007】[0007]
【実施例】以下本発明の実施例を図面に基づき詳細に説
明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【0008】図1はストリップ型光導波路を対象とした
本発明の第1の実施例を示す断面図である。同図中、1
は第1の光導波路のコア、2は第1の光導波路のクラッ
ド層、3は第1の光導波路のコア1およびクラッド層2
が形成されている基板、4は第2の光導波路のコア、5
は第2の光導波路のクラッド層、6は第2の光導波路の
コア4およびクラッド層5が形成されている基板、7は
第3の光導波路のコア、8は第3の光導波路のクラッド
層、9は第3の光導波路のコア7およびクラッド層8が
形成されている第3の基板である。FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment of the present invention for a strip type optical waveguide. In the figure, 1
Is a core of the first optical waveguide, 2 is a cladding layer of the first optical waveguide, 3 is a core 1 and a cladding layer 2 of the first optical waveguide.
Is formed on the substrate, 4 is the core of the second optical waveguide, 5
Is a cladding layer of the second optical waveguide, 6 is a substrate on which the core 4 and the cladding layer 5 of the second optical waveguide are formed, 7 is a core of the third optical waveguide, and 8 is a cladding of the third optical waveguide. The layer 9 is a third substrate on which the core 7 and the cladding layer 8 of the third optical waveguide are formed.
【0009】コア1とコア4、およびクラッド層2とク
ラッド層5は各々屈折率の等しいポリイミド系有機材料
等の光導波路材料から成り、アルミナやSi等から成る
第1および第2の基板3,6上に各々スピンコート・キ
ュアした後、コア1,4については反応性エッチング等
により矩形構造とする。コア1,4およびクラッド層
2,5の厚さは各々数ミクロン〜50ミクロン程度、コ
ア幅は数ミクロン〜50ミクロン程度である。The cores 1 and 4 and the cladding layers 2 and 5 are made of an optical waveguide material such as a polyimide organic material having the same refractive index, and are made of first and second substrates 3 and 2 made of alumina or Si. After spin-coating and curing each of the cores 6, the cores 1 and 4 are formed into a rectangular structure by reactive etching or the like. Each of the cores 1 and 4 and the cladding layers 2 and 5 has a thickness of about several microns to 50 microns, and a core width of about several microns to 50 microns.
【0010】コア7はコア1,4と、またクラッド層8
はクラッド層2,5と屈折率の等しいポリイミド系有機
材料等の光導波路材料から成り、厚みは各々数ミクロン
〜50ミクロン程度、コア幅はおおよそ数ミクロン〜5
0ミクロン程度、クラッド幅は数mm〜cm角のフィルムで
ある。このコア7は必要に応じて数ミクロン以下の薄い
光導波路クラッド層で覆われていても良い。かくして、
本実施例に係る第3の光導波路は第1および第2の光導
波路と同幅で、可撓性を有するものなっている。The core 7 includes the cores 1 and 4 and the cladding layer 8.
Are made of an optical waveguide material such as a polyimide-based organic material having the same refractive index as the cladding layers 2 and 5, each having a thickness of several microns to 50 microns, and a core width of approximately several microns to 5 microns.
The film has a thickness of about 0 μm and a cladding width of several mm to cm square. This core 7 may be covered with a thin optical waveguide cladding layer of several microns or less as necessary. Thus,
The third optical waveguide according to the present embodiment has the same width and flexibility as the first and second optical waveguides.
【0011】本実施例に係る第3の光導波路の形成は、
例えば図示していないシリコンウエハ上に光導波路コア
層およびクラッド層をスピンコート・キュアし、光導波
路コア形成用のマスクをリフトオフ法等により形成した
後、コア7を上述と同様の方法にて形成し、光導波路ク
ラッドとシリコン基板の界面を剥離すことにより得られ
る。クラッド層8は、さらにアクリル等の第3の基板9
を接着するが、この基板9は必要に応じて省略すること
も可能である。The formation of the third optical waveguide according to this embodiment is as follows.
For example, an optical waveguide core layer and a clad layer are spin-coated and cured on a silicon wafer (not shown), a mask for forming the optical waveguide core is formed by a lift-off method or the like, and then the core 7 is formed by the same method as described above. Then, it is obtained by peeling off the interface between the optical waveguide clad and the silicon substrate. The cladding layer 8 further includes a third substrate 9 made of acrylic or the like.
The substrate 9 can be omitted if necessary.
【0012】本実施例においては、まずコア1とコア7
の長手方向(x,z軸方向)を図示していない位置合わ
せ装置により位置合わせした後、コア7をコア1の長手
方向の面の一部に完全に接触させる。接触後は必要に応
じて紫外線硬化型の接着剤で固定する。この場合、接着
剤の屈折率はクラッド層2,8と等しくする。同様の方
法にてコア7とコア4を接触させることにより、第1お
よび第2の光導波路を結合させることができる。In this embodiment, first, the core 1 and the core 7
The core 7 is completely brought into contact with a part of the surface of the core 1 in the longitudinal direction after the longitudinal direction (x, z-axis direction) of the core 1 is aligned by a positioning device (not shown). After the contact, it is fixed with an ultraviolet curable adhesive as needed. In this case, the refractive index of the adhesive is equal to that of the cladding layers 2 and 8. By bringing the core 7 and the core 4 into contact in a similar manner, the first and second optical waveguides can be coupled.
【0013】図2は本発明の第2の実施例を示す断面図
である。同図中、1は第1の光導波路のコア、2は第1
の光導波路のクラッド層、3は第1の光導波路のコア1
およびクラッド層2が形成されている基板、4は第2の
光導波路のコア、5は第2の光導波路のクラッド層、6
は第2の光導波路のコア4およびクラッド層5が形成さ
れている基板、7は第3の光導波路のコア、8は第3の
光導波路のクラッド層、9は第3の光導波路コア7およ
びクラッド層8が形成されている第3の基板、10a,
10bは第3の光導波路コア上に形成された突起を示
す。コア1とコア4、およびクラッド層2とクラッド層
5は各々屈折率の等しいポリイミド系有機材料等の光導
波路材料から成り、アルミナやSi等から成る基板3,
6上に各々スピンコート・キュアした後、コア1,4に
ついては反応性エッチング等にて矩形構造とする。コア
1,4およびクラッド層2,5の厚さは各々数ミクロン
〜50ミクロン程度、コア幅は数ミクロン〜50ミクロ
ン程度である。FIG. 2 is a sectional view showing a second embodiment of the present invention. In the figure, 1 is the core of the first optical waveguide, and 2 is the first optical waveguide.
The cladding layer 3 of the optical waveguide is a core 1 of the first optical waveguide.
A substrate on which the cladding layer 2 is formed; 4, a core of the second optical waveguide; 5, a cladding layer of the second optical waveguide;
Is a substrate on which the core 4 and the cladding layer 5 of the second optical waveguide are formed, 7 is the core of the third optical waveguide, 8 is the cladding layer of the third optical waveguide, and 9 is the third optical waveguide core 7 And the third substrate 10a on which the cladding layer 8 is formed,
Reference numeral 10b denotes a protrusion formed on the third optical waveguide core. The cores 1 and 4 and the cladding layers 2 and 5 are each made of an optical waveguide material such as a polyimide organic material having the same refractive index.
After spin coating and curing on each of the cores 6, the cores 1 and 4 are formed into a rectangular structure by reactive etching or the like. Each of the cores 1 and 4 and the cladding layers 2 and 5 has a thickness of about several microns to 50 microns, and a core width of about several microns to 50 microns.
【0014】コア7はコア1,4と、またクラッド層8
はクラッド層2,5と屈折率の等しいポリイミド系有機
材料等の光導波路材料から成り、厚みは各々数ミクロン
〜50ミクロン程度、コア幅は数ミクロン〜50ミクロ
ン程度、クラッド幅は数mm〜cm角のフィルムである。The core 7 includes cores 1 and 4 and a cladding layer 8.
Are made of an optical waveguide material such as a polyimide-based organic material having the same refractive index as the cladding layers 2 and 5, each having a thickness of about several microns to 50 microns, a core width of about several microns to 50 microns, and a cladding width of several mm to cm. This is a corner film.
【0015】突起10a,10bは、コア7上に形成し
てあり、このコア7と同一の屈折率、幅、厚みから成
り、その長手方向の寸法はコア1からコア7への、また
コア7からコア4への光パワー移行が最大となる長さ
(−完全結合長)に構成してある。なお、突起10a,
10bは必要に応じて数ミクロン以下の薄い光導波路ク
ラッドで覆われていても良い。The projections 10a and 10b are formed on the core 7 and have the same refractive index, width and thickness as the core 7, and their longitudinal dimensions are from the core 1 to the core 7 and from the core 7 to the core 7. It is configured to have a length (-complete coupling length) at which the optical power transfer from the optical fiber to the core 4 becomes maximum. The protrusions 10a,
10b may be covered with a thin optical waveguide cladding of several microns or less as required.
【0016】かくして、本実施例に係る第3の導波路は
第1及び第2の導波路と同幅で、可撓性を有するととも
に突起10a,10bを有するものとなっている。Thus, the third waveguide according to the present embodiment has the same width as the first and second waveguides, is flexible, and has the projections 10a and 10b.
【0017】本実施例に係る第3の光導波路の形成は、
例えば図示していないシリコンウエハ上に光導波路コア
層およびクラッド層をスピンコート・キュアし、光導波
路コア形成用のマスクをリフトオフ法等により形成した
後、突起部用光導波路層および突起部形成用マスクを同
様の方法にて形成し、続いて反応性イオンエッチング等
により突起10a,10bとコア7を同時に形成した
後、光導波路クラッドとシリコン基板の界面を剥離する
ことにより得られる。クラッド層8は、さらにアクリル
等の第3の基板9を接着するが、この基板9は必要に応
じて省略することも可能である。The formation of the third optical waveguide according to the present embodiment is as follows.
For example, an optical waveguide core layer and a clad layer are spin-coated and cured on a silicon wafer (not shown), and a mask for forming the optical waveguide core is formed by a lift-off method or the like. The mask is formed by the same method, and subsequently, the projections 10a and 10b and the core 7 are simultaneously formed by reactive ion etching or the like, and then the mask is obtained by peeling the interface between the optical waveguide clad and the silicon substrate. The clad layer 8 further adheres a third substrate 9 made of acrylic or the like, but this substrate 9 can be omitted if necessary.
【0018】本実施例においては、まずコア1とコア7
の長手方向(x,z軸方向)を図示していない位置合わ
せ装置により位置合わせした後、突起10a,10bを
コア1の長手方向の面の一部に完全に接触させる。接触
後は必要に応じて紫外線硬化型の接着剤で固定する。こ
の場合、接着剤の屈折率はクラッド層2,8と等しくす
る。同様の方法にて突起10a,10bとコア4を接触
させることにより、第1および第2の光導波路を結合さ
せることができる。In this embodiment, first, the core 1 and the core 7
After the alignment in the longitudinal direction (x, z-axis directions) of the core 1 is performed by a positioning device (not shown), the protrusions 10a and 10b are completely brought into contact with a part of the surface of the core 1 in the longitudinal direction. After the contact, it is fixed with an ultraviolet curable adhesive as needed. In this case, the refractive index of the adhesive is equal to that of the cladding layers 2 and 8. By bringing the protrusions 10a and 10b into contact with the core 4 in a similar manner, the first and second optical waveguides can be coupled.
【0019】上述の如き第1及び第2の実施例によれ
ば、可撓性を有するフィルム状の第3の光導波路を第1
および第2の光導波路の長手方向の面の一部に接触させ
て第1および第2の光導波路間を結合させることによ
り、フィルムの柔軟性が利用でき、第1と第2の光導波
路の高さ方向の位置合わせおよび第1と第2の光導波路
が形成されている平面のなす角の位置合わせが不要にな
り、従来の端面同士の直接結合に比べて大幅に位置合わ
せ作業を短縮できる。また光導波路同士の光結合に端面
同士を直接結合させないことにより、反射もどり光の影
響を防ぐことができる。According to the first and second embodiments as described above, the third optical waveguide in the form of a film having flexibility is formed by the first optical waveguide.
And connecting the first and second optical waveguides by contacting a part of the surface in the longitudinal direction of the second optical waveguide, so that the flexibility of the film can be utilized and the first and second optical waveguides can be used. Positioning in the height direction and positioning of the angle formed by the planes on which the first and second optical waveguides are formed become unnecessary, and the positioning work can be greatly reduced as compared with the conventional direct coupling between end faces. . Also, by not directly coupling the end faces to the optical coupling between the optical waveguides, it is possible to prevent the influence of the reflected return light.
【0020】図3は、本発明の第3の実施例を示す断面
図である。同図中、1は第1の光導波路のコア、2は第
1の光導波路のクラッド層、3は第1の光導波路のコア
1およびクラッド層2が形成されている基板、4は第2
の光導波路のコア、5は第2の光導波路のクラッド層、
6は第2の光導波路のコア4およびクラッド層5が形成
されている基板、17は第3の光導波路のコア、18は
第3の光導波路のクラッド層、19は第3の光導波路の
コア17およびクラッド層18が形成されている第3の
基板である。FIG. 3 is a sectional view showing a third embodiment of the present invention. In the figure, 1 is the core of the first optical waveguide, 2 is the cladding layer of the first optical waveguide, 3 is the substrate on which the core 1 and the cladding layer 2 of the first optical waveguide are formed, and 4 is the second
5 is a core of the optical waveguide, 5 is a cladding layer of the second optical waveguide,
6 is a substrate on which the core 4 and the cladding layer 5 of the second optical waveguide are formed, 17 is the core of the third optical waveguide, 18 is the cladding layer of the third optical waveguide, and 19 is the substrate of the third optical waveguide. This is a third substrate on which a core 17 and a cladding layer 18 are formed.
【0021】コア1とコア4、およびクラッド層2とク
ラッド層5は各々屈折率の等しいポリイミド系有機材料
等の光導波路材料から成り、アルミナやSi等から成る
第1および第2の基板3,6上に各々スピンコート・キ
ュアした後、コア1,4について反応性エッチング等に
より矩形構造とする。コア1,4およびクラッド層2,
5の厚さは各々数ミクロン〜50ミクロン程度、コア幅
は数ミクロン〜50ミクロン程度である。The cores 1 and 4 and the cladding layers 2 and 5 are made of an optical waveguide material such as a polyimide organic material having the same refractive index, and are made of first and second substrates 3 made of alumina or Si. After spin coating and curing on each of the cores 6, the cores 1 and 4 are formed into a rectangular structure by reactive etching or the like. Cores 1 and 4 and cladding layers 2
5 have a thickness of several microns to 50 microns, respectively, and a core width of several microns to 50 microns.
【0022】コア17はコア1,4と、また第3のクラ
ッド層18はクラッド層2,5と屈折率の等しいポリイ
ミド系有機材料等の光導波路材料から成り、厚みは各々
数ミクロン〜50ミクロン程度、コア幅は数ミクロン〜
50ミクロン程度、クラッド幅は数mm〜cm角のフィルム
である。このコア17は必要に応じて数ミクロン以下の
薄い光導波路クラッド層で覆われていても良い。かくし
て、本実施例に係る第3の導波路は第1及び第2の導波
路と同幅で、可撓性を有するものとなっている。The core 17 is made of an optical waveguide material such as a polyimide organic material having the same refractive index as the cores 1 and 4 and the third cladding layer 18 is the same as the cladding layers 2 and 5, and each has a thickness of several microns to 50 microns. Degree, core width is several microns ~
It is a film with a thickness of about 50 microns and a cladding width of several mm to cm square. This core 17 may be covered with a thin optical waveguide cladding layer of several microns or less as necessary. Thus, the third waveguide according to the present embodiment has the same width as the first and second waveguides and has flexibility.
【0023】本実施例に係る第3の光導波路フィルムの
形成は、例えば図示していないシリコンウエハ上に光導
波路コア層およびクラッド層をスピンコート・キュア
し、光導波路コア形成用のマスクをリフトオフ法等によ
り形成した後、コア17を上述と同様の方法にて形成
し、さらに集束イオンビーム等にてビームの走査領域を
光導波路の深さ方向に順次変化させながらテーパ形状を
作製して、最後に光導波路クラッドとシリコン基板の界
面を剥離することにより得られる。クラッド層8はさら
にアクリル等の基板9を接着するが、この基板9は必要
に応じて省略することも可能である。The third optical waveguide film according to the present embodiment is formed, for example, by spin-coating and curing an optical waveguide core layer and a clad layer on a silicon wafer (not shown), and lifting off a mask for forming the optical waveguide core. After forming by a method or the like, the core 17 is formed by the same method as described above, and further, a tapered shape is produced while sequentially changing the beam scanning region with the focused ion beam or the like in the depth direction of the optical waveguide, Finally, it is obtained by peeling off the interface between the optical waveguide clad and the silicon substrate. The clad layer 8 further adheres a substrate 9 made of acrylic or the like, but this substrate 9 can be omitted if necessary.
【0024】本実施例においては、まずコア1とコア1
7の長手方向(x,z軸方向)を図示していない位置合
わせ装置により位置合わせした後、コア17を第1のコ
ア1の長手方向の面の一部に完全に接触させる。接触後
は必要に応じて紫外線硬化型の接着剤で固定する。この
場合、接着剤の屈折率はクラッド層2,18と等しくす
る。同様の方法にてコア17とコア4を接触させること
により、第1および第2の光導波路を結合させることが
できる。In this embodiment, first, the core 1 and the core 1
After the longitudinal direction (x, z-axis directions) of 7 is aligned by an alignment device (not shown), the core 17 is completely brought into contact with a part of the surface of the first core 1 in the longitudinal direction. After the contact, it is fixed with an ultraviolet curable adhesive as needed. In this case, the adhesive has the same refractive index as the cladding layers 2 and 18. By bringing the core 17 and the core 4 into contact in a similar manner, the first and second optical waveguides can be coupled.
【0025】図4は本発明の第4の実施例を示す断面図
である。同図中、1は第1の光導波路のコア、2は第1
の光導波路のクラッド層、3は第1の光導波路のコア1
およびクラッド層2が形成されている基板、4は第2の
光導波路のコア、5は第2の光導波路のクラッド層、6
は第2の光導波路のコア4およびクラッド層5が形成さ
れている基板、17は第3の光導波路のコア、18は第
3の光導波路のクラッド層、9は第3の光導波路のコア
17およびクラッド層18が形成されている第3の基
板、10は第3の光導波路コア上に形成された突起を示
す。FIG. 4 is a sectional view showing a fourth embodiment of the present invention. In the figure, 1 is the core of the first optical waveguide, and 2 is the first optical waveguide.
The cladding layer 3 of the optical waveguide is a core 1 of the first optical waveguide.
A substrate on which the cladding layer 2 is formed; 4, a core of the second optical waveguide; 5, a cladding layer of the second optical waveguide;
Is a substrate on which the core 4 and the cladding layer 5 of the second optical waveguide are formed, 17 is a core of the third optical waveguide, 18 is a cladding layer of the third optical waveguide, and 9 is a core of the third optical waveguide. The third substrate 10 on which the 17 and the cladding layer 18 are formed indicates protrusions formed on the third optical waveguide core.
【0026】コア1とコア4、およびクラッド層2とク
ラッド層5は各々屈折率の等しいポリイミド系有機材料
等の光導波路材料から成り、アルミナやSi等から成る
基板3,6上に各々スピンコート・キュアした後、コア
1,4については反応性エッチング等により矩形構造と
する。コア1,4およびクラッド層2,5の厚さは各々
数ミクロン〜50ミクロン程度、コア幅は数ミクロン〜
50ミクロン程度である。The cores 1 and 4 and the cladding layers 2 and 5 are made of an optical waveguide material such as a polyimide organic material having the same refractive index, and are respectively spin-coated on substrates 3 and 6 made of alumina or Si. After curing, the cores 1 and 4 are formed into a rectangular structure by reactive etching or the like. The thickness of each of the cores 1 and 4 and the cladding layers 2 and 5 is about several microns to 50 microns, and the core width is several microns to
It is about 50 microns.
【0027】コア17はコア1,4と、またクラッド層
18はクラッド層2,5と屈折率の等しいポリイミド系
有機材料等の光導波路材料から成り、厚みは各々数ミク
ロン〜50ミクロン程度、コア幅は数ミクロン〜50ミ
クロン程度、クラッド幅は数mm〜cm角のフィルムであ
る。The core 17 is made of an optical waveguide material such as a polyimide-based organic material having the same refractive index as the cores 1 and 4 and the clad layer 18 and the clad layers 2 and 5. The film has a width of several microns to 50 microns and a cladding width of several mm to cm square.
【0028】突起10a,10bは、コア17上に形成
しており、このコア7と同一の屈折率、幅、厚みから成
り、その長手方向の寸法はコア1からコア17への、ま
たコア17からコア4への光パワー移行が最大となる長
さ(−完全結合長)に構成してある。なお、突起10
a,10bは必要に応じて数ミクロン以下の薄い光導波
路クラッドで覆われていても良い。The protrusions 10a and 10b are formed on the core 17 and have the same refractive index, width and thickness as those of the core 7, and their lengthwise dimensions are from the core 1 to the core 17 and from the core 17 to the core 17. It is configured to have a length (-complete coupling length) at which the optical power transfer from the optical fiber to the core 4 becomes maximum. The protrusion 10
a and 10b may be covered with a thin optical waveguide cladding of several microns or less as required.
【0029】かくして、本実施例に係る第3の光導波路
は第1および第2の光導波路と同幅で、可撓性を有する
とともに突起10a,10bを有するものとなってい
る。Thus, the third optical waveguide according to the present embodiment has the same width as the first and second optical waveguides, has flexibility, and has the projections 10a and 10b.
【0030】本実施例に係る第3の光導波路の形成は、
例えば図示していないシリコンウエハ上に光導波路コア
層およびクラッド層をスピンコート・キュアし、光導波
路コア形成用のマスクをリフトオフ法等により形成した
後、突起部用光導波路層および突起部形成用マスクを同
様の方法にて形成し、続いて反応性イオンエッチング等
により突起10a,10bとコア17を同時に形成した
後、光導波クラッドとシリコン基板の界面を剥離するこ
とにより得られる。クラッド層18は、さらにアクリル
等の基板9を接着するが、この基板9は必要に応じて省
略することも可能である。The formation of the third optical waveguide according to the present embodiment is as follows.
For example, an optical waveguide core layer and a clad layer are spin-coated and cured on a silicon wafer (not shown), and a mask for forming the optical waveguide core is formed by a lift-off method or the like. A mask is formed by the same method, and subsequently, the protrusions 10a and 10b and the core 17 are simultaneously formed by reactive ion etching or the like, and thereafter, the interface between the optical waveguide cladding and the silicon substrate is peeled off. The cladding layer 18 further adheres a substrate 9 made of acrylic or the like, but this substrate 9 can be omitted if necessary.
【0031】本実施例においては、まずコア1とコア1
7の長手方向(x,z軸方向)を図示していない位置合
わせ装置により位置合わせした後、コア17上に形成さ
れた突起10aをコア1の長手方向の面の一部に完全に
接触させる。接触後は必要に応じて紫外線硬化型の接着
剤で固定する。この場合、接着剤の屈折率はクラッド層
2,18と等しくする。同様の方法にてコア17上に形
成された突起10bと第2の光導波路コア4を接触させ
ることにより、第1および第2の光導波路を結合させる
ことができる。In this embodiment, first, the core 1 and the core 1
After the longitudinal direction (x, z-axis directions) of the core 7 is aligned by a positioning device (not shown), the protrusion 10 a formed on the core 17 is completely brought into contact with a part of the surface of the core 1 in the longitudinal direction. . After the contact, it is fixed with an ultraviolet curable adhesive as needed. In this case, the adhesive has the same refractive index as the cladding layers 2 and 18. By bringing the protrusion 10b formed on the core 17 into contact with the second optical waveguide core 4 in a similar manner, the first and second optical waveguides can be coupled.
【0032】上述の如き第3及び第4の実施例によれ
ば、前述の第1及び第2の実施例と同様の作用に加え、
テーパ部での全反射による光も結合させることができる
ので、その分光結合効率が向上する。According to the third and fourth embodiments as described above, in addition to the same operations as in the above-described first and second embodiments,
Since light due to total reflection at the tapered portion can also be coupled, the spectral coupling efficiency is improved.
【0033】図5は本発明の第5の実施例を示す断面図
である。同図中、1は第1の光導波路のコア、2は第1
の光導波路のクラッド層、3は第1の光導波路のコア1
およびクラッド層2が形成されている基板、4は第2の
光導波路のコア、5は第2の光導波路のクラッド層、6
は第2の光導波路のコア4およびクラッド層5が形成さ
れている基板、7は第3の光導波路のコア、8は第3の
光導波路のクラッド層、9は第3の光導波路のコア7お
よびクラッド層8が形成されている第3の基板、20
a,20bは第3の光導波路コア上に形成されたテーパ
状の突起を示す。FIG. 5 is a sectional view showing a fifth embodiment of the present invention. In the figure, 1 is the core of the first optical waveguide, and 2 is the first optical waveguide.
The cladding layer 3 of the optical waveguide is a core 1 of the first optical waveguide.
A substrate on which the cladding layer 2 is formed; 4, a core of the second optical waveguide; 5, a cladding layer of the second optical waveguide;
Is a substrate on which the core 4 and the cladding layer 5 of the second optical waveguide are formed, 7 is the core of the third optical waveguide, 8 is the cladding layer of the third optical waveguide, and 9 is the core of the third optical waveguide. A third substrate on which 7 and a cladding layer 8 are formed, 20
Reference numerals a and 20b denote tapered projections formed on the third optical waveguide core.
【0034】コア1とコア4、およびクラッド層2とク
ラッド層5は各々屈折率の等しいポリイミド系有機材料
等の光導波路材料から成り、アルミナやSi等から成る
基板4,6上に各々スピンコート・キュアした後、コア
1,4については反応性エッチング等により矩形構造と
する。コア1,4およびクラッド層2,5の厚さは各々
数ミクロン程度、コア幅は数ミクロン〜50ミクロン程
度である。The cores 1 and 4 and the cladding layers 2 and 5 are made of an optical waveguide material such as a polyimide organic material having the same refractive index, and are respectively spin-coated on substrates 4 and 6 made of alumina, Si or the like. After curing, the cores 1 and 4 are formed into a rectangular structure by reactive etching or the like. The thickness of each of the cores 1 and 4 and the cladding layers 2 and 5 is about several microns, and the core width is about several microns to 50 microns.
【0035】コア7はコア1,4と、またクラッド層8
はクラッド層2,5と屈折率の等しいポリイミド系有機
材料等の光導波路材料から成り、厚みは各々数ミクロン
〜50ミクロン程度、コア幅は数ミクロン〜50ミクロ
ン程度、クラッド幅は数mm〜cm角のフィルムである。こ
のコア7は必要に応じて数ミクロン以下の薄い光導波路
クラッドで覆われていても良い。The core 7 comprises the cores 1 and 4 and the cladding layer 8
Are made of an optical waveguide material such as a polyimide-based organic material having the same refractive index as the cladding layers 2 and 5, each having a thickness of about several microns to 50 microns, a core width of about several microns to 50 microns, and a cladding width of several mm to cm. This is a corner film. This core 7 may be covered with a thin optical waveguide cladding of several microns or less as necessary.
【0036】突起20a,20bは、コア7と同一の屈
折率、幅、厚みから成り、コア7上で、しかも第1およ
び第2の光導波路と第3の光導波路との重ね合わせ部近
傍に第1および第2の光導波路と相対向するよう各々形
成されるとともに、第1および第2の光導波路と相対向
していない反対側にテーパを有している。The projections 20a and 20b have the same refractive index, width and thickness as the core 7, and are formed on the core 7 and in the vicinity of the overlapping portion between the first and second optical waveguides and the third optical waveguide. The first and second optical waveguides are formed so as to face each other, and have a taper on the opposite side that does not face the first and second optical waveguides.
【0037】かくして、本実施例に係る第3の光導波路
は第1および第2の光導波路と同幅で、可撓性を有する
とともに突起20a,20bを有するものとなってい
る。Thus, the third optical waveguide according to the present embodiment has the same width as the first and second optical waveguides, has flexibility, and has the projections 20a and 20b.
【0038】本実施例に係る第3の光導波路の形成は、
例えば図示していないシリコンウエハ上に光導波路コア
層およびクラッド層をスピンコート・キュアし、光導波
路コア形成用のマスクをリフトオフ法等により形成した
後、テーパ状突起部用光導波路層およびテーパ状突起部
形成用マスクを同様の方法にて形成し、続いて反応性イ
オンエッチング等によりテーパ形状とする突起20a,
20bとコア7を同時に形成した後、集束イオンビーム
等にてビーム等の走査領域を突起20a,20bの深さ
方向に順次変化させながら突起20a,20bにテーパ
を作製し、最後に光導波路クラッドとシリコン基板の界
面を剥離することにより得られる。クラッド層はさらに
アクリル等の基板9を接着するが、この基板9は必要に
応じて省略することも可能である。The formation of the third optical waveguide according to this embodiment is as follows.
For example, an optical waveguide core layer and a cladding layer are spin-coated and cured on a silicon wafer (not shown), and a mask for forming the optical waveguide core is formed by a lift-off method or the like. A projection forming mask is formed by the same method, and then the projections 20a and 20a are formed into a tapered shape by reactive ion etching.
After forming the core 20b and the core 7 at the same time, a taper is formed on the projections 20a and 20b while sequentially changing the scanning area of the beam or the like with the focused ion beam in the depth direction of the projections 20a and 20b. By peeling the interface between the substrate and the silicon substrate. The clad layer further adheres a substrate 9 made of acrylic or the like, but this substrate 9 can be omitted if necessary.
【0039】本実施例においては、まずコア1とコア7
の長手方向(x,z軸方向)を図示していない位置合わ
せ装置により位置合わせした後、コア7をコア1の長手
方向の面の一部に完全に接触させる。接触後は必要に応
じて紫外線硬化型の接着剤で固定する。この場合、接着
剤の屈折率はクラッド層2,8と等しくする。同様の方
法にてコア7とコア4を接触させることにより、第1お
よび第2の光導波路を結合させることができる。In this embodiment, first, the core 1 and the core 7
The core 7 is completely brought into contact with a part of the surface of the core 1 in the longitudinal direction after the longitudinal direction (x, z-axis direction) of the core 1 is aligned by a positioning device (not shown). After the contact, it is fixed with an ultraviolet curable adhesive as needed. In this case, the refractive index of the adhesive is equal to that of the cladding layers 2 and 8. By bringing the core 7 and the core 4 into contact in a similar manner, the first and second optical waveguides can be coupled.
【0040】図6は本発明の第6の実施例を示す断面図
である。同図中、1は第1の光導波路のコア、2は第1
の光導波路のクラッド層、3は第1の光導波路のコア1
およびクラッド層2が形成されている基板、4は第2の
光導波路のコア、5は第2の光導波路のクラッド層、6
は第2の光導波路のコア4およびクラッド層5が形成さ
れている基板、7は第3の光導波路コア、8は第3の光
導波路のクラッド層、9は第3の光導波路のコア7およ
びクラッド層8が形成されている第3の基板、10a,
10bは第3の光導波路のコア7上に形成された第1お
よび第2の光導波路と重ね合わせ用の突起、20a,2
0bは第3の光導波路のコア7上に形成されたテーパ形
状を有する突起を示す。FIG. 6 is a sectional view showing a sixth embodiment of the present invention. In the figure, 1 is the core of the first optical waveguide, and 2 is the first optical waveguide.
The cladding layer 3 of the optical waveguide is a core 1 of the first optical waveguide.
A substrate on which the cladding layer 2 is formed; 4, a core of the second optical waveguide; 5, a cladding layer of the second optical waveguide;
Is a substrate on which the core 4 and the cladding layer 5 of the second optical waveguide are formed, 7 is a third optical waveguide core, 8 is a cladding layer of the third optical waveguide, and 9 is a core 7 of the third optical waveguide. And the third substrate 10a on which the cladding layer 8 is formed,
10b is a projection for superimposing the first and second optical waveguides formed on the core 7 of the third optical waveguide, and 20a, 2
0b denotes a tapered projection formed on the core 7 of the third optical waveguide.
【0041】コア1とコア4、およびクラッド層2とク
ラッド層5は各々屈折率の等しいポリイミド系有機材料
等の光導波路材料から成り、アルミナやSi等から成る
基板3,6上に各々スピンコート・キュアした後、コア
1,4については反応性エッチング等により矩形構造と
する。コア1,4およびクラッド層2,5の厚さは各々
数ミクロン〜50ミクロン程度、コア幅は数ミクロン〜
50ミクロン程度である。The cores 1 and 4 and the cladding layers 2 and 5 are made of an optical waveguide material such as a polyimide organic material having the same refractive index, and are respectively spin-coated on substrates 3 and 6 made of alumina, Si or the like. After curing, the cores 1 and 4 are formed into a rectangular structure by reactive etching or the like. The thickness of each of the cores 1 and 4 and the cladding layers 2 and 5 is about several microns to 50 microns, and the core width is several microns to
It is about 50 microns.
【0042】コア7はコア1,4と、またクラッド層8
はクラッド層2,5と屈折率の等しいポリイミド系有機
材料等の光導波路材料から成り、厚みは各々数ミクロン
〜50ミクロン程度、コア幅は数ミクロン〜50ミクロ
ン程度、クラッド幅は数mm〜cm角のフィルムである。The core 7 includes the cores 1 and 4 and the cladding layer 8.
Are made of an optical waveguide material such as a polyimide-based organic material having the same refractive index as the cladding layers 2 and 5, each having a thickness of about several microns to 50 microns, a core width of about several microns to 50 microns, and a cladding width of several mm to cm. This is a corner film.
【0043】突起10a,10b,20a,20bはコ
ア7と同一の屈折率、幅で、突起10a,10bの厚み
はコア7と等しく、突起20a,20bの厚みはコア7
の2倍以上に形成してある。また、突起20a,20b
は第1および第2の光導波路と相対向する位置に形成さ
れ、さらに第1および第2の光導波路と相対向していな
い反対側にテーパを有している。突起10a,10bの
長手方向の寸法はコア1からコア7への、またコア7か
らコア4への光パワー移行が最大となる長さ(=完全結
合長)である。なお、第3の光導波路コア上に形成され
た突起10a,10bは必要に応じて数ミクロン以下の
薄い光導波路クラッドで覆われても良い。The protrusions 10a, 10b, 20a and 20b have the same refractive index and width as the core 7, the thickness of the protrusions 10a and 10b is equal to that of the core 7, and the thickness of the protrusions 20a and 20b is
Is formed twice or more. Also, the projections 20a, 20b
Is formed at a position facing the first and second optical waveguides, and has a taper on the opposite side not facing the first and second optical waveguides. The longitudinal dimension of the projections 10a and 10b is the length (= complete coupling length) at which the optical power transfer from the core 1 to the core 7 and from the core 7 to the core 4 becomes maximum. The projections 10a and 10b formed on the third optical waveguide core may be covered with a thin optical waveguide clad of several microns or less as necessary.
【0044】かくして、本実施例に係る第3の光導波路
は第1および第2の導波路と同幅で、可撓性を有すると
ともに突起10a,10b,20a,20bを有するも
のとなっている。Thus, the third optical waveguide according to the present embodiment has the same width as the first and second waveguides, is flexible, and has the projections 10a, 10b, 20a, and 20b. .
【0045】本実施例に係る第3の光導波路フィルムの
形成は、例えば図示していないシリコンウエハ上に光導
波路コア層およびクラッド層をスピンコート・キュア
し、光導波路コア形成用のマスクをリフトオフ法等によ
り形成した後、突起部用光導波路層および突起部形成用
マスクを同様の方法にて形成し、続いて反応性イオンエ
ッチング等により突起10a,10b,20a,20b
とコア7を同時に形成し、突起20a,20bについて
は集束イオンビーム等にてビームの走査領域を突起20
a,20bの深さ方向に順次変化させながらテーパを作
製した後、光導波路クラッドとシリコン基板の界面を剥
離することにより得られる。クラッド層8は、さらにア
クリル等の基板9を接着するが、この基板9は必要に応
じて省略することも可能である。The formation of the third optical waveguide film according to this embodiment is performed, for example, by spin-coating and curing the optical waveguide core layer and the cladding layer on a silicon wafer (not shown), and lifting off the optical waveguide core forming mask. After being formed by a method or the like, a projection optical waveguide layer and a projection forming mask are formed by the same method, and subsequently, the projections 10a, 10b, 20a, and 20b are formed by reactive ion etching or the like.
And the core 7 are formed at the same time, and for the projections 20a and 20b, a beam
It is obtained by forming a taper while sequentially changing it in the depth direction of a and 20b, and then peeling off the interface between the optical waveguide clad and the silicon substrate. The clad layer 8 further adheres a substrate 9 made of acrylic or the like, but this substrate 9 can be omitted if necessary.
【0046】本実施例においては、まずコア1とコア7
の長手方向(x,z軸方向)を図示していない位置合わ
せ装置により位置合わせした後、コア7上に形成された
突起10a,10bをコア1の長手方向の面の一部に完
全に接触させる。接触後は必要に応じて紫外線硬化型の
接着剤で固定する。この場合、接着剤の屈折率はクラッ
ド層2,8と等しくする。同様の方法にて第3の光導波
路コア上に形成された突起10a,10bと第2の光導
波路コア4を接触させることにより、第1および第2の
光導波路を結合させることができる。In this embodiment, first, the cores 1 and 7
After the alignment in the longitudinal direction (x, z-axis directions) of the core 1 is performed by a positioning device (not shown), the protrusions 10a and 10b formed on the core 7 are completely brought into contact with a part of the surface in the longitudinal direction of the core 1. Let it. After the contact, it is fixed with an ultraviolet curable adhesive as needed. In this case, the refractive index of the adhesive is equal to that of the cladding layers 2 and 8. By bringing the protrusions 10a, 10b formed on the third optical waveguide core into contact with the second optical waveguide core 4 in a similar manner, the first and second optical waveguides can be coupled.
【0047】上述の如き第3及び第4の実施例によれ
ば、前述の第1及び第2の実施例と同様の作用に加え、
第3の光導波路面上での第1の光導波路および第2の光
導波路と相対する位置にテーパ形状の突起20a,20
bを設けることにより、第1の光導波路あるいは第2の
光導波路から第3の光導波路へ光パワーが移行しきれな
かった導波路伝播光も光結合することができる。According to the third and fourth embodiments as described above, in addition to the same operations as in the above-described first and second embodiments,
Tapered projections 20a, 20 are located on the third optical waveguide surface at positions facing the first optical waveguide and the second optical waveguide.
By providing b, waveguide-propagating light whose optical power cannot be completely transferred from the first optical waveguide or the second optical waveguide to the third optical waveguide can be optically coupled.
【0048】なお、上述の如き第1〜第6の実施例にお
いて、コア7は直線のみで形成されている必要はなく、
曲がり、分岐等の回路が形成されていてもよい。また、
第1の光導波路および第2の光導波路は同一基板上に形
成されていてもよいことは言うまでもない。さらに、光
導波路材料はアクリル系材料(例えばポリメタクリレー
ト)でもよいことは言うまでもない。また、本発明の光
結合構造はストリップ型光導波路の他にリッジ型埋め込
み型導波路にも適用できることは言うまでもない。In the first to sixth embodiments as described above, the core 7 does not need to be formed only by a straight line.
A circuit such as a bend or a branch may be formed. Also,
It goes without saying that the first optical waveguide and the second optical waveguide may be formed on the same substrate. Further, it goes without saying that the optical waveguide material may be an acrylic material (for example, polymethacrylate). In addition, it goes without saying that the optical coupling structure of the present invention can be applied to a ridge-type embedded waveguide in addition to the strip-type optical waveguide.
【0049】[0049]
【発明の効果】以上実施例とともに具体的に説明したよ
うに、本発明によれば第1の光導波路と第2の光導波路
を可撓性のフィルムから成る第3の光導波路にて結合す
る構成とすることにより、第2の光導波路の高さ方向の
位置合わせ及び第1と第2の光導波路が形成されている
平面のなす角の位置合わせが不要になり、従来の端面同
士の直接結合に比べて大幅に位置合わせ作業を短縮で
き、実装コストの低減に有効となる。また、端面同士の
直接結合としないことにより、結合界面での反射もどり
光の光導波路伝播光に対する影響を抑制することができ
る。さらに、テーパ状の突起の存在により第1又は第2
の光導波路から第3の光導波路へ光パワが移行しきれな
かった導波路伝播光も光結合することができる。また、
テーパ状の突起の存在により第1又は第2の光導波路か
ら第3の光導波路へ光パワーが移行しきれなかった導波
路伝播光も光結合することができるので、この場合の光
結合効率も向上する。 According to the present invention, the first optical waveguide and the second optical waveguide are connected by the third optical waveguide made of a flexible film, as described above in detail with the embodiments. With this configuration, it is not necessary to align the height of the second optical waveguide in the height direction and the angle between the planes on which the first and second optical waveguides are formed. The alignment work can be greatly reduced as compared with the connection, which is effective in reducing the mounting cost. In addition, since the end faces are not directly coupled to each other, the influence of the reflected return light at the coupling interface on the light propagating in the optical waveguide can be suppressed. Further, the presence of the first or second tapered projections
Optical power has not completely transferred from the optical waveguide to the third optical waveguide.
The light propagated through the waveguide can be optically coupled. Also,
The first or second optical waveguide due to the presence of the tapered protrusion
That the optical power could not transfer to the third optical waveguide
Road-propagating light can also be optically coupled.
The coupling efficiency is also improved.
【図1】本発明の第1の実施例を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第2の実施例を示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing a second embodiment of the present invention.
【図3】本発明の第3の実施例を示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing a third embodiment of the present invention.
【図4】本発明の第4の実施例を示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing a fourth embodiment of the present invention.
【図5】本発明の第5の実施例を示す断面図である。FIG. 5 is a sectional view showing a fifth embodiment of the present invention.
【図6】本発明の第6の実施例を示す断面図である。FIG. 6 is a sectional view showing a sixth embodiment of the present invention.
【図7】従来技術を示す断面図である。FIG. 7 is a sectional view showing a conventional technique.
1,4,7 コア 2,5,8 クラッド層 3,6,9 基板 1,4,7 core 2,5,8 cladding layer 3,6,9 substrate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭51−32343(JP,A) 実開 昭57−190516(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 6/12 - 6/26 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (56) References JP-A-51-32343 (JP, A) JP-A-57-190516 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G02B 6/12-6/26
Claims (1)
路と第2の基板上に形成された第2の光導波路との間
を、可撓性を有し、しかもフィルム構造である第3の光
導波路を介して光学的に結合する光結合構造であって、第3の光導波路の両端部は第1及び第2の光導波路の両
端面と各々接触し、しかも第1、第2の光導波路と第3
の光導波路との重ね合わせ部の近傍における第3の光導
波路面上に、第3の光導波路と同一の材料で第1及び第
2の光導波路の端面とそれぞれ相対向する第3の光導波
路と同一幅の突起を設け、しかも突起はその第1及び第
2の光導波路と相対向する側と反対側に厚み方向にテー
パを有し、 さらに第3の光導波路の両端部で、しかも第1及び第2
の光導波路との重ね合わせ部に相当する部分に、第3の
光導波路材料と等しい材料の突起を有し、この突起は第
3の光導波路と等しい幅の突起であること を特徴とする
光導波路間の光結合構造。1. A flexible, film-like structure between a first optical waveguide formed on a first substrate and a second optical waveguide formed on a second substrate. An optical coupling structure optically coupled through a third optical waveguide, wherein both ends of the third optical waveguide are both of the first and second optical waveguides.
The first and second optical waveguides are in contact with the end faces, respectively.
The third light guide near the overlapping portion with the optical waveguide
The first and second optical waveguides are made of the same material as the third optical waveguide.
A third optical waveguide opposing the end face of the second optical waveguide, respectively.
A projection having the same width as the road is provided, and the projections are the first and second projections.
2 in the thickness direction on the side opposite to the side facing the optical waveguide.
Has a path, further at both ends of the third optical waveguide, moreover the first and second
The portion corresponding to the overlapping portion with the optical waveguide of
It has a projection of the same material as the optical waveguide material, and this projection is
3. An optical coupling structure between the optical waveguides, wherein the projections have the same width as the optical waveguide of No. 3 .
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