JP3100404B2 - 反射型偏向板 - Google Patents
反射型偏向板Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザービームプリン
タ、スキャナ等の走査光学系において使用される偏向素
子に関するものである。
タ、スキャナ等の走査光学系において使用される偏向素
子に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】現在、レーザービームプリンタ、スキャ
ナ等の走査光学系において使用されている偏向素子とし
ては、反射鏡への入射角度を変化させる方式が採用され
ている。この方式は、反射鏡面へ光源からの入射角度を
変化させるため、固定した反射鏡に対して移動する光源
位置からの光を照射する形式と、移動させる反射鏡に対
して固定した光源位置からの光を照射する形式とがあ
る。
ナ等の走査光学系において使用されている偏向素子とし
ては、反射鏡への入射角度を変化させる方式が採用され
ている。この方式は、反射鏡面へ光源からの入射角度を
変化させるため、固定した反射鏡に対して移動する光源
位置からの光を照射する形式と、移動させる反射鏡に対
して固定した光源位置からの光を照射する形式とがあ
る。
【０００３】後者の形式として、ポリゴン多面鏡、ガル
バノメータが代表的であり、走査光学系において広く用
いられている。この場合、ポリゴン多面鏡の回転速度
は、空気軸受の採用により、30000rpm以上の高速性が得
られており、書込みの高速化に対応している。また、書
込みの高速化のため、一個の光源の代わりに、光源を複
数設けることも、採用されている。
バノメータが代表的であり、走査光学系において広く用
いられている。この場合、ポリゴン多面鏡の回転速度
は、空気軸受の採用により、30000rpm以上の高速性が得
られており、書込みの高速化に対応している。また、書
込みの高速化のため、一個の光源の代わりに、光源を複
数設けることも、採用されている。
【０００４】現実には、ポリゴン多面鏡の高速回転によ
って、スキャニングの高速化が図られている。このスキ
ャニングの高速化と共に、軸受部を含む偏向器の小型化
は、書込みユニットの小型・軽量化に追従していく上で
必要である。また、ポリゴン多面鏡の面は、回転速度が
剛性の限界を越えると、表面が歪み、これに伴い発生す
る収差の補正が必要となり、結像光学系のレンズ枚数の
低減を困難にする。
って、スキャニングの高速化が図られている。このスキ
ャニングの高速化と共に、軸受部を含む偏向器の小型化
は、書込みユニットの小型・軽量化に追従していく上で
必要である。また、ポリゴン多面鏡の面は、回転速度が
剛性の限界を越えると、表面が歪み、これに伴い発生す
る収差の補正が必要となり、結像光学系のレンズ枚数の
低減を困難にする。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、反射面の表
面そのものに偏向機能を与えた、新規な反射型偏向板を
提供し、回転多面鏡の回転数を上げることなく、軽量・
小型で偏向特性を向上しうる偏向素子を提供することを
目的とするものである。
面そのものに偏向機能を与えた、新規な反射型偏向板を
提供し、回転多面鏡の回転数を上げることなく、軽量・
小型で偏向特性を向上しうる偏向素子を提供することを
目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、少なくとも一面を平面とした基板１と、
前記基板１の平面上に形成された反射面２と、前記反射
面２上に形成された所定の厚さの屈折率分布層３とから
なり、前記屈折率分布層３は一軸方向に屈折率が変化す
る屈折率分布を形成していることを特徴とするものであ
り、また、前記屈折率分布の変化が連続的又は不連続的
に増減を繰り返す屈折率分布層であることを特徴とする
ものである。
成するために、少なくとも一面を平面とした基板１と、
前記基板１の平面上に形成された反射面２と、前記反射
面２上に形成された所定の厚さの屈折率分布層３とから
なり、前記屈折率分布層３は一軸方向に屈折率が変化す
る屈折率分布を形成していることを特徴とするものであ
り、また、前記屈折率分布の変化が連続的又は不連続的
に増減を繰り返す屈折率分布層であることを特徴とする
ものである。
【０００７】
【作用】本発明の構成により、屈折率分布が一軸方向に
変化している屈折率分布層を反射面上に形成し、その反
射面を屈折率分布の変化の方向に回動又は摺動すると、
屈折率分布層の各位置に入射するビームは偏向角を付与
され、走査速度の高速化が図られる。そして、屈折率分
布の変化に周期性を与えることにより、屈折率分布方向
に摺動させて偏向作用を得ることができる。
変化している屈折率分布層を反射面上に形成し、その反
射面を屈折率分布の変化の方向に回動又は摺動すると、
屈折率分布層の各位置に入射するビームは偏向角を付与
され、走査速度の高速化が図られる。そして、屈折率分
布の変化に周期性を与えることにより、屈折率分布方向
に摺動させて偏向作用を得ることができる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
する。
【０００９】第１図には、本発明の反射型偏向板の基本
的な構成を示す。その反射型偏向板の基本的な構成は、
基板１の一方の平坦な面上に、反射層２を形成し、該反
射層２の上にはＸ軸方向に屈折率が変化する一方向屈折
率分布層３を設けている。
的な構成を示す。その反射型偏向板の基本的な構成は、
基板１の一方の平坦な面上に、反射層２を形成し、該反
射層２の上にはＸ軸方向に屈折率が変化する一方向屈折
率分布層３を設けている。
【００１０】前記の一方向屈折率分布層３の形成手段と
して、例えば、イオン交換法，プロトン交換法等の公知
の手段がある。
して、例えば、イオン交換法，プロトン交換法等の公知
の手段がある。
【００１１】イオン交換法を用いる場合、屈折率分布層
３の材料にソーダガラスを用い、ビーム入射面側の表面
へＡｌ薄膜を真空蒸着し、その上にレジストを塗布しフ
ォトリソを用いてパターンニングする。その後、例え
ば、Ｈ3 ＰＯ4 ＋ＣＨ3 ＣＯＯＨ＋ＨＮＯ3 混合液に
て、Ａｌ膜をウェットエッチングし、窓あけを行う。次
に、ＫＮＯ3 溶液中に浸し、イオン交換を行い、窓あけ
された部分を選択的にイオン交換する。イオン交換後、
Ａｌ膜はすべて除去する。
３の材料にソーダガラスを用い、ビーム入射面側の表面
へＡｌ薄膜を真空蒸着し、その上にレジストを塗布しフ
ォトリソを用いてパターンニングする。その後、例え
ば、Ｈ3 ＰＯ4 ＋ＣＨ3 ＣＯＯＨ＋ＨＮＯ3 混合液に
て、Ａｌ膜をウェットエッチングし、窓あけを行う。次
に、ＫＮＯ3 溶液中に浸し、イオン交換を行い、窓あけ
された部分を選択的にイオン交換する。イオン交換後、
Ａｌ膜はすべて除去する。
【００１２】プロトン交換法による場合、マスク材料と
してＣｒ，Ｔｉ等が用いられる。Ｔｉの場合、ソーダガ
ラスの代わりにＬｉＮｂＯ3 結晶が用いられ、結晶表面
に、Ｔｉをスパッタし、フォトレジストで縞状のパター
ンニングを行い、ウェットエッチングでＴｉ膜の窓を作
る。プロトン交換後、Ｔｉ膜はすべて除去し、アニーリ
ングする。
してＣｒ，Ｔｉ等が用いられる。Ｔｉの場合、ソーダガ
ラスの代わりにＬｉＮｂＯ3 結晶が用いられ、結晶表面
に、Ｔｉをスパッタし、フォトレジストで縞状のパター
ンニングを行い、ウェットエッチングでＴｉ膜の窓を作
る。プロトン交換後、Ｔｉ膜はすべて除去し、アニーリ
ングする。
【００１３】前記の如き方法により、反射層２上に形成
された屈折率分布層３を有する反射型偏向板は、その屈
折率分布層３が変化するＸ軸方向に摺動させることによ
り、所定の入射角度で向かってきた入射ビームＮＢを異
なる角度で射出する射出ビームＳＢとし、偏向機能を発
揮する。この偏向機能について、第２図を用いて説明す
る。第２図は、第１図の反射型偏向板をｙ方向から見た
図面であり、入射ビームＮＢ、射出ビームＳＢの断面位
置を拡大したものである。
された屈折率分布層３を有する反射型偏向板は、その屈
折率分布層３が変化するＸ軸方向に摺動させることによ
り、所定の入射角度で向かってきた入射ビームＮＢを異
なる角度で射出する射出ビームＳＢとし、偏向機能を発
揮する。この偏向機能について、第２図を用いて説明す
る。第２図は、第１図の反射型偏向板をｙ方向から見た
図面であり、入射ビームＮＢ、射出ビームＳＢの断面位
置を拡大したものである。
【００１４】第２図において、反射型偏向板はｘ軸方向
に移動可能に設置されている。先ず、反射型偏向板が第
一の位置、すなわち、反射型偏向板の屈折率分布層３の
点Ａに入射ビームＮＢａが入射する位置と、次に、反射
型偏向板がｘ軸方向に−ｘだけ移動した第二の位置、す
なわち、反射型偏向板の屈折率分布層３の点Ｂに入射ビ
ームＮＢｂが入射する位置とに別けて説明する。
に移動可能に設置されている。先ず、反射型偏向板が第
一の位置、すなわち、反射型偏向板の屈折率分布層３の
点Ａに入射ビームＮＢａが入射する位置と、次に、反射
型偏向板がｘ軸方向に−ｘだけ移動した第二の位置、す
なわち、反射型偏向板の屈折率分布層３の点Ｂに入射ビ
ームＮＢｂが入射する位置とに別けて説明する。
【００１５】反射型偏向板の移動前の上記第一の位置に
おいて、入射ビームＮＢａは、屈折率分布層３の表面の
入射点Ａに対して、入射角ψ1 にて入射する。この時の
入射角ψ1 のｙ成分は９０度である。また、入射点Ａに
おける屈折率分布層３の屈折率をＮａとし、屈折率分布
層の上側、すなわち空気層の屈折率を１とすると、屈折
率分布層への初期入射角ψ2 は、次のように表される。
おいて、入射ビームＮＢａは、屈折率分布層３の表面の
入射点Ａに対して、入射角ψ1 にて入射する。この時の
入射角ψ1 のｙ成分は９０度である。また、入射点Ａに
おける屈折率分布層３の屈折率をＮａとし、屈折率分布
層の上側、すなわち空気層の屈折率を１とすると、屈折
率分布層への初期入射角ψ2 は、次のように表される。
【数１】 ψ2 ＝ａｒｃｓｉｎ（１／Ｎａ・ｓｉｎψ1 ） …
【００１６】また、屈折率分布層３における屈折率分布
について見ると、ｘ軸方向の任意の位置の屈折率Ｎｘ
は、
について見ると、ｘ軸方向の任意の位置の屈折率Ｎｘ
は、
【数２】 Ｎ2 （ｘ）＝Ｎ2 （ｏ）〔１−（ｇｘ）2 〕 … ｇは集束定数。
【００１７】図２のｚ方向（負）に進む光線の位置座標
ｘは、
ｘは、
【数３】 ｄ2 ｘ／ｄｚ2 ＝１／２Ａ1 ・∂／∂ｘ・Ｎ2 （ｘ）
… ここで、定数Ａ1 は、入射点Ａにおける光線位置座標ｘ
A 、方向余弦ψ2 より、
… ここで、定数Ａ1 は、入射点Ａにおける光線位置座標ｘ
A 、方向余弦ψ2 より、
【数４】 Ａ1 ＝Ｎ2 （ｘA ）・ｃｏｓ2 ψ2 …
【００１８】式、式より、
【数５】 ｄ2 ｘ／ｄｚ2 ＝−１／Ａ1 ・ｇ2・Ｎ2 （ｏ）・ｘ
…
…
【００１９】次に、偏向板移動後の光線入射位置Ｂへの
初期入射角φ1 は、入射点Ａに対する入射角ψ1 に等し
い（入射角のｙ成分は９０度である）。
初期入射角φ1 は、入射点Ａに対する入射角ψ1 に等し
い（入射角のｙ成分は９０度である）。
【００２０】入射点Ｂの屈折率をＮｂ（Ｎｂ≠Ｎａ）と
すると、屈折率分布層への初期入射角φ2 は、次のよう
に表される。
すると、屈折率分布層への初期入射角φ2 は、次のよう
に表される。
【数６】 φ2 ＝ａｒｃｓｉｎ（１／Ｎｂ・ｓｉｎφ1 ） …
【００２１】屈折率分布層３の入射点Ａ、Ｂにおける二
つの入射角ψ2 とφ2 とは等しくない。
つの入射角ψ2 とφ2 とは等しくない。
【００２２】また、入射点Ｂにおける入射光線の、ｚ方
向（負）の進行に伴う位置座標ｘは、次の通りとなる。
向（負）の進行に伴う位置座標ｘは、次の通りとなる。
【数７】 ｄ2 ｘ／ｄｚ2 ＝１／２Ａ2 ・∂／∂ｘ・Ｎ2 （ｘ）
…
…
【００２３】ここで、定数Ａ2 は、入射点Ｂにおける光
線位置座標ｘB 、方向余弦φ2 より、
線位置座標ｘB 、方向余弦φ2 より、
【数８】 Ａ2 ＝Ｎ2 （ｘB ）・ｃｏｓ2 φ2 …
【００２４】式、式より、
【数９】 ｄ2 ｘ／ｄｚ2 ＝−１／Ａ2 ・ｇ2・Ｎ2 （ｏ）・ｘ
…
…
【００２５】式、式の比較により、屈折率分布層３
上の２点の入射点Ａ、Ｂへの入射光線は、屈折率分布層
３内の光路を夫々異にし、夫々の最終射出角ψ6 、φ6
が異なることになる。
上の２点の入射点Ａ、Ｂへの入射光線は、屈折率分布層
３内の光路を夫々異にし、夫々の最終射出角ψ6 、φ6
が異なることになる。
【００２６】屈折率分布層における屈折率変化に周期性
を与えることにより、屈折率分布層のｘ方向への一回の
摺動に対して、複数回の走査回数を得ることができる。
を与えることにより、屈折率分布層のｘ方向への一回の
摺動に対して、複数回の走査回数を得ることができる。
【００２７】屈折率分布層に周期性を与える手段とし
て、高周波振動を用いることができ、その方法として、
例えば、ＰＺＴによる振動付与手段が使用できる。
て、高周波振動を用いることができ、その方法として、
例えば、ＰＺＴによる振動付与手段が使用できる。
【００２８】また、図９に示すように、ポリゴン多面鏡
５の反射層５ａ表面に、本発明における屈折率が変化す
る一方向屈折率分布層３Ｇを形成することができる。こ
の場合、ポリゴン多面鏡５の回転方向と一致する方向
に、屈折率分布が変化するように屈折率分布層３Ｇを設
けている。通常、ポリゴン多面鏡の回転に伴い、入射面
位置が変化し、入射角に応じて反射角が変化するとい
う、ミラー反射系と異なり、本発明の場合、各々の入射
面位置での屈折率が異なっているため、屈折率分布層の
内部に入って、反射層で反射し、再び、屈折率分布層内
を経由して射出されるビームの各射出角は、反射面上の
屈折率分布層における屈折率の相違により制御できる。
すなわち、反射面上の屈折率分布層である媒質に、屈折
率分布を与えることにより、偏向反射角の制御をするこ
とができる。
５の反射層５ａ表面に、本発明における屈折率が変化す
る一方向屈折率分布層３Ｇを形成することができる。こ
の場合、ポリゴン多面鏡５の回転方向と一致する方向
に、屈折率分布が変化するように屈折率分布層３Ｇを設
けている。通常、ポリゴン多面鏡の回転に伴い、入射面
位置が変化し、入射角に応じて反射角が変化するとい
う、ミラー反射系と異なり、本発明の場合、各々の入射
面位置での屈折率が異なっているため、屈折率分布層の
内部に入って、反射層で反射し、再び、屈折率分布層内
を経由して射出されるビームの各射出角は、反射面上の
屈折率分布層における屈折率の相違により制御できる。
すなわち、反射面上の屈折率分布層である媒質に、屈折
率分布を与えることにより、偏向反射角の制御をするこ
とができる。
【００２９】図３の実施例の反射型偏向板４Ａは、その
摺動順方向に対して屈折率の勾配が正となる構成の屈折
率分布層３Ａを有している。この反射型偏向板４Ａの順
方向の摺動に対して、走査方向は反転する。
摺動順方向に対して屈折率の勾配が正となる構成の屈折
率分布層３Ａを有している。この反射型偏向板４Ａの順
方向の摺動に対して、走査方向は反転する。
【００３０】また、図４の実施例の反射型偏向板４Ｂ
は、その摺動順方向に対して屈折率の勾配が負となる構
成の屈折率分布層３Ｂを有している。この反射型偏向板
４Ｂの順方向の摺動に対して、走査方向はその摺動方向
と同一の方向をとる。
は、その摺動順方向に対して屈折率の勾配が負となる構
成の屈折率分布層３Ｂを有している。この反射型偏向板
４Ｂの順方向の摺動に対して、走査方向はその摺動方向
と同一の方向をとる。
【００３１】図５には、屈折率分布層３Ｃの屈折率勾配
が反射型偏向板４Ｃの摺動順方向に対して、負から正へ
と反転する構成の反射型偏向板である。この反射型偏向
板の順方向の摺動に対して、走査方向は順方向に始ま
り、屈折率最小地点３ｃ1 を通過の後、逆方向に走査方
向が反転する。図６の反射型偏向板４Ｄの屈折率分布層
３Ｄは、その屈折率勾配が反射型偏向板４Ｄの摺動順方
向に対して、正から負へと反転する構成を有している。
この構成の反射型偏向板４Ｄでは、その順方向の摺動に
対して、走査方向は逆方向に始まり、屈折率最大地点４
ｄ1 を通過の後、順方向に走査方向が反転する。図３〜
図６の各反射型偏向板４Ａ〜４Ｄにおいて、摺動方向を
逆にしても、偏向作用が得られることは当然である。
が反射型偏向板４Ｃの摺動順方向に対して、負から正へ
と反転する構成の反射型偏向板である。この反射型偏向
板の順方向の摺動に対して、走査方向は順方向に始ま
り、屈折率最小地点３ｃ1 を通過の後、逆方向に走査方
向が反転する。図６の反射型偏向板４Ｄの屈折率分布層
３Ｄは、その屈折率勾配が反射型偏向板４Ｄの摺動順方
向に対して、正から負へと反転する構成を有している。
この構成の反射型偏向板４Ｄでは、その順方向の摺動に
対して、走査方向は逆方向に始まり、屈折率最大地点４
ｄ1 を通過の後、順方向に走査方向が反転する。図３〜
図６の各反射型偏向板４Ａ〜４Ｄにおいて、摺動方向を
逆にしても、偏向作用が得られることは当然である。
【００３２】図７の反射型偏向板４Ｅは、屈折率分布層
３Ｅの屈折率勾配が反射型偏向板３Ｅの摺動方向に対し
て連続的に増減する周期性を付与された構成のものであ
る。このような屈折率分布層３Ｅの屈折率分布により、
走査方向は順逆の繰り返しとなる。
３Ｅの屈折率勾配が反射型偏向板３Ｅの摺動方向に対し
て連続的に増減する周期性を付与された構成のものであ
る。このような屈折率分布層３Ｅの屈折率分布により、
走査方向は順逆の繰り返しとなる。
【００３３】更に、図８の反射型偏向板４Ｆは、屈折率
分布層３Ｆの屈折率勾配が反射型偏向板４Ｆの摺動方向
に対して不連続でかつ周期性を付与された構成のもので
ある。このような屈折率分布層３Ｆの屈折率分布によ
り、反射型偏向板４Ｆの１回の摺動に対し、走査方向が
順方向で複数回の走査が得られる。
分布層３Ｆの屈折率勾配が反射型偏向板４Ｆの摺動方向
に対して不連続でかつ周期性を付与された構成のもので
ある。このような屈折率分布層３Ｆの屈折率分布によ
り、反射型偏向板４Ｆの１回の摺動に対し、走査方向が
順方向で複数回の走査が得られる。
【００３４】
【発明の効果】本発明の構成では、反射型偏向板に形成
した屈折率分布層の屈折率分布方向と一致させる方向に
おいて、反射型偏向板と入射ビームとを相対的に変位す
ることにより、簡単な機構で入射ビームの偏向が可能で
あり、走査速度の高速化を図ることができ、例えば、ポ
リゴン多面鏡と組み合わせると、偏向角をより広げるこ
とができ、一層の走査の高速化を達成できる。また、屈
折率分布層に周期性を与えると、反射型偏向板の１回の
直線的摺動により、複数回の走査が得られる。
した屈折率分布層の屈折率分布方向と一致させる方向に
おいて、反射型偏向板と入射ビームとを相対的に変位す
ることにより、簡単な機構で入射ビームの偏向が可能で
あり、走査速度の高速化を図ることができ、例えば、ポ
リゴン多面鏡と組み合わせると、偏向角をより広げるこ
とができ、一層の走査の高速化を達成できる。また、屈
折率分布層に周期性を与えると、反射型偏向板の１回の
直線的摺動により、複数回の走査が得られる。
【図１】本発明の反射型偏向板とビームの関連を示す全
体斜視図である。
体斜視図である。
【図２】図１の反射型偏向板において屈折率分布層上の
Ａ点、Ｂ点への入射ビームが夫々射出する状態を示す原
理構成を説明する断面図である。
Ａ点、Ｂ点への入射ビームが夫々射出する状態を示す原
理構成を説明する断面図である。
【図３】本発明の反射型偏向板において屈折率分布層が
順方向の摺動に対して屈折率勾配を正とした実施例の説
明図である。
順方向の摺動に対して屈折率勾配を正とした実施例の説
明図である。
【図４】本発明の反射型偏向板において屈折率分布層が
順方向の摺動に対して屈折率勾配を負とした実施例の説
明図である。
順方向の摺動に対して屈折率勾配を負とした実施例の説
明図である。
【図５】本発明の反射型偏向板において屈折率分布層が
順方向の摺動に対して屈折率勾配を負から正へ反転する
実施例の説明図である。
順方向の摺動に対して屈折率勾配を負から正へ反転する
実施例の説明図である。
【図６】本発明の反射型偏向板において屈折率分布層が
順方向の摺動に対して屈折率勾配を正から負へ反転する
実施例の説明図である。
順方向の摺動に対して屈折率勾配を正から負へ反転する
実施例の説明図である。
【図７】本発明の反射型偏向板において屈折率分布層が
順方向の摺動に対して屈折率勾配を連続的に周期性を持
たせた実施例の説明図である。
順方向の摺動に対して屈折率勾配を連続的に周期性を持
たせた実施例の説明図である。
【図８】本発明の反射型偏向板において屈折率分布層が
順方向の摺動に対して屈折率勾配を不連続的に周期性を
持たせた実施例の説明図である。
順方向の摺動に対して屈折率勾配を不連続的に周期性を
持たせた実施例の説明図である。
【図９】ポリゴン多面鏡の反射面に本発明の一方向屈折
率分布層を形成した斜視図である。
率分布層を形成した斜視図である。
１ 基板 ２ 反射層 ３，３Ａ〜３Ｇ 屈折率分布層 ４，４Ａ〜４Ｆ 反射型偏向板 ＮＢ 入射ビーム ＳＢ 射出ビーム
Claims (3)
- 【請求項１】 少なくとも一面を平面とした基板１と、
前記基板１の平面上に形成された反射面２と、前記反射
面２上に形成された所定の厚さの屈折率分布層３とから
なり、前記屈折率分布層３は一軸方向に屈折率が変化す
る屈折率分布を形成していることを特徴とする反射型偏
向板。 - 【請求項２】 前記屈折率分布の変化が連続的に増減を
繰り返す屈折率分布層であることを特徴とする請求項１
記載の反射型偏向板。 - 【請求項３】 前記屈折率分布の変化が不連続的に増減
を繰り返す屈折率分布層であることを特徴とする請求項
１記載の反射型偏向板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2775991A JP3100404B2 (ja) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | 反射型偏向板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2775991A JP3100404B2 (ja) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | 反射型偏向板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04254816A JPH04254816A (ja) | 1992-09-10 |
| JP3100404B2 true JP3100404B2 (ja) | 2000-10-16 |
Family
ID=12229940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2775991A Expired - Fee Related JP3100404B2 (ja) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | 反射型偏向板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3100404B2 (ja) |
-
1991
- 1991-01-30 JP JP2775991A patent/JP3100404B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04254816A (ja) | 1992-09-10 |
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