JP3093025B2 - Manufacturing method of semiconductor light emitting device - Google Patents

Manufacturing method of semiconductor light emitting device

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JP3093025B2 JP9661092A JP9661092A JP3093025B2 JP 3093025 B2 JP3093025 B2 JP 3093025B2 JP 9661092 A JP9661092 A JP 9661092A JP 9661092 A JP9661092 A JP 9661092A JP 3093025 B2 JP3093025 B2 JP 3093025B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体発光素子の製法に
関する。さらに詳しくは、半導体発光素子の検査工程で
測定に要する装置を小型化することができるとともに、
測定時間を短縮して生産性を向上させることができる半
導体発光素子の製法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor light emitting device. More specifically, it is possible to reduce the size of a device required for measurement in a semiconductor light emitting element inspection process,
The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor light emitting device capable of shortening a measurement time and improving productivity.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、発光素子などの製造工程にお
いて、ウェハに対して垂直な端面より電磁波(光)を発
する素子の光の波長、拡がり、強さ、干渉性などの性能
を評価する方法として、以下のような方法が採用されて
いる。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a manufacturing process of a light emitting device or the like, a method of evaluating the performance of an element emitting an electromagnetic wave (light) from an end face perpendicular to a wafer, such as the wavelength, spread, strength, and coherence of light. The following method has been adopted.

【0003】すなわち、図7に示されるようにウェハ31
を延伸可能なテープシート32上に貼り付け、ついでウェ
ハ31を図8に示されるように切断ないしは分割して、複
数本の短冊状ウェハ31a を作成する。そして、測定した
い短冊状ウェハ31a をピックアップして測定ステージに
移動させ、ウェハの上面および下面に電極をあてて通電
することにより素子の性能が測定される。このばあい、
前記短冊状ウェハ31aにおける個々の素子間はpn接合
部までの切断線を入れることなどによって素子間絶縁が
形成されており、相互に電気が流れない構造となってい
る。また、各素子の上面に形成される金属膜からなるパ
ターンも隣接する素子のパターンとは別に独立して形成
され、短冊状ウェハの各素子を独立して一斉に測定でき
るようにされている。
[0003] That is, as shown in FIG.
Is affixed onto a stretchable tape sheet 32, and then the wafer 31 is cut or divided as shown in FIG. 8 to form a plurality of strip-shaped wafers 31a. Then, the strip-shaped wafer 31a to be measured is picked up and moved to a measurement stage, and electrodes are applied to the upper and lower surfaces of the wafer to conduct electricity, thereby measuring the performance of the element. In this case,
Insulation between elements is formed between the individual elements in the strip-shaped wafer 31a by inserting a cutting line to the pn junction, for example, so that no electricity flows between the elements. Further, a pattern made of a metal film formed on the upper surface of each element is also formed independently of the pattern of an adjacent element, so that each element of the strip-shaped wafer can be measured simultaneously and independently.

【0004】また、ばあいによっては、前記短冊状ウェ
ハに分割したのちにさらに各素子レベルに分割し、素子
毎に測定ステージに移動させ、性能を評価することが行
なわれている。
[0004] In some cases, after the wafer is divided into strip-shaped wafers, the wafer is further divided into element levels, and each element is moved to a measurement stage to evaluate the performance.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た方法では、ウェハを切断したのちに、測定したい素子
または短冊状ウェハをピックアップしてテープシートよ
り抜き取り、測定ステージに移動させ、ついで測定ステ
ージで上面と下面の電極に電気を流し、性能測定を行な
う必要がある。そして、測定速度を速くするためには、
この素子または短冊状ウェハを抜き取る機械の速度を速
める必要があるが、吸着性のあるテープシートから剥離
して測定ステージに移動するため、その速度アップにも
限界がある。さらに、この抜き取り装置があるために測
定装置全体の小型化を図ることができない。
However, in the above-described method, after the wafer is cut, an element or a strip-shaped wafer to be measured is picked up, extracted from a tape sheet, moved to a measurement stage, and then moved to the measurement stage. It is necessary to conduct electricity to the electrodes on the lower surface and measure the performance. And to increase the measurement speed,
It is necessary to increase the speed of the machine for extracting the element or the strip-shaped wafer, but there is a limit in increasing the speed because the device is separated from the adhesive tape sheet and moved to the measurement stage. Furthermore, the size of the entire measuring device cannot be reduced because of the extraction device.

【0006】本発明は、叙上の事情に鑑み、前記従来技
術の有する欠点が解消された検査工程を有する半導体発
光素子の製法を提供することを目的とする。すなわち、
本発明の目的は、検査工程で測定装置を小型化するとと
もに生産性を向上させることができる、半導体発光素子
の製法を提供することである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a method of manufacturing a semiconductor light emitting device having an inspection step in which the above-mentioned disadvantages of the prior art are eliminated. That is,
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a semiconductor light emitting device, which can reduce the size of a measuring device in a test process and improve productivity.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体発光素子
の製法は、(a) 複数個の半導体発光素子を有するウェハ
を延伸可能なテープシート上に貼着し、(b) 前記ウェハ
を各素子の大きさに切断し、(c) 前記テープシートを切
断方向の一方に平行に延伸して複数本のバー状ウェハを
形成し、(d) この延伸状態を保ちつつさらに前記延伸方
向と垂直方向に延伸し、(e) 前記テープシートを、各素
子が所定間隔だけ離れるように延伸した状態で、測定装
置上にセッティングすることからなり、前記測定装置
は、前記素子の上面および下面と接触しうる電極を備え
ており、かつ、素子が前記電極にはさまれる位置にきた
ときに当該素子から発せられる電磁波を検出しうる複数
個の受光素子を備えて測定する検査工程を有することを
特徴としている。
The method of manufacturing a semiconductor light emitting device of the present invention comprises the steps of (a) adhering a wafer having a plurality of semiconductor light emitting devices onto a stretchable tape sheet; (C) stretching the tape sheet parallel to one of the cutting directions to form a plurality of bar-shaped wafers, and (d) maintaining the stretched state and further perpendicular to the stretching direction. Stretching in the direction, and (e) setting the tape sheet on a measuring device in a state where each device is stretched so as to be separated by a predetermined distance, wherein the measuring device is in contact with the upper and lower surfaces of the device. A plurality of light-receiving elements capable of detecting an electromagnetic wave emitted from the element when the element comes to a position sandwiched between the electrodes. And

【0008】また、請求項2記載の半導体発光素子の製
法は、(a) 複数個の半導体発光素子を有するウェハを、
複数本の線状ないしは帯状の導電体がお互いに平行にな
るように設けられ、もしくは全面に導電性物質が塗布さ
れた延伸可能なテープシートまたは延伸可能な導電性の
テープシート上に貼着し、(b) 前記ウェハを、それぞれ
の発光素子の発光面が露出し、複数本のバー状ウェハを
形成するように切断し、(c) 前記テープシートを、各バ
ー状ウェハが所定間隔だけ離れるように切断方向と垂直
方向に延伸した状態で、測定装置上にセッティングする
ことからなり、前記測定装置は、前記バー状ウェハを構
成する素子の上面と接触しうる複数の電極を備えてお
り、かつ、前記バー状ウェハが複数の電極と前記導電体
にはさまれる位置にきたときに各素子から発せられる電
磁波を検出しうる複数個の受光素子を備えており、さら
に前記バー状ウェハの各素子の上面電極側が相互に電気
的に絶縁されてなることを特徴としている。
[0008] The method of manufacturing a semiconductor light emitting device according to claim 2 includes the steps of: (a) forming a wafer having a plurality of semiconductor light emitting devices;
A plurality of linear or belt-shaped conductors are provided so as to be parallel to each other, or are adhered on a stretchable tape sheet or a stretchable conductive tape sheet coated with a conductive substance on the entire surface. (B) cutting the wafer so that the light-emitting surface of each light-emitting element is exposed and forming a plurality of bar-shaped wafers; (c) separating the tape sheet from each other by a predetermined distance between the bar-shaped wafers In a state of being stretched in a direction perpendicular to the cutting direction, setting on a measuring device, the measuring device includes a plurality of electrodes that can be in contact with the upper surface of the element constituting the bar-shaped wafer, And, the bar-shaped wafer is provided with a plurality of light-receiving elements capable of detecting electromagnetic waves emitted from each element when it comes to a position sandwiched between the plurality of electrodes and the conductor, furthermore, the bar-shaped wafer Upper electrode side of the device is characterized by comprising electrically insulated from each other.

【0009】本明細書において、受光素子とは、ホトダ
イオードやホトトランジスタのみならず、CdS、光電
管、CCD、カラーセンサなど光を検知しうるもの全て
を意味する。
In the present specification, the light receiving element means not only a photodiode or a phototransistor but also any element capable of detecting light, such as CdS, a phototube, a CCD, and a color sensor.

【0010】[0010]

【実施例】以下、添付図面に基づき本発明の半導体発光
素子の製法の検査工程(以下、単に測定方法という)を
説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an inspection process (hereinafter, simply referred to as a measuring method) in a method for manufacturing a semiconductor light emitting device of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

【0011】まず、図1に示されるように、パターンが
形成されたウェハ1を延伸可能なテープシート2上に貼
付する。テープシート2としては、充分な引き伸ばしが
可能なように、塩化ビニルフィルムなどの延伸性を有し
た材料などで作製されたものを用いるのが好ましい。前
記ウェハ1は、半導体レーザやLEDなどの発光素子
で、ウェハに対して垂直な端面より電磁波(光)を発す
る素子または前記ウェハ1の表面側から電磁波(光)を
発する素子を複数個有している。
First, as shown in FIG. 1, a wafer 1 on which a pattern has been formed is attached onto a stretchable tape sheet 2. As the tape sheet 2, it is preferable to use a tape sheet 2 made of an extensible material, such as a vinyl chloride film, so that sufficient stretching is possible. The wafer 1 is a light emitting element such as a semiconductor laser or an LED, and has a plurality of elements that emit electromagnetic waves (light) from an end surface perpendicular to the wafer or a plurality of elements that emit electromagnetic waves (light) from the front side of the wafer 1. ing.

【0012】つぎに、前記ウェハ1を各素子の大きさに
切断ないしは分割する。この切断は、ダイヤモンドカッ
ターなどを用いて行なうことができる。
Next, the wafer 1 is cut or divided into respective element sizes. This cutting can be performed using a diamond cutter or the like.

【0013】切断後、テープシート2を切断方向の一方
に平行に、たとえば図1における矢印Aの方向に延伸し
て複数本のバー状のウェハを形成する。そして、その延
伸状態のままこんどは前記延伸方向と垂直方向に、たと
えば図1における矢印Bの方向に延伸する。
After cutting, the tape sheet 2 is stretched in parallel with one of the cutting directions, for example, in the direction of arrow A in FIG. 1 to form a plurality of bar-shaped wafers. Then, in the stretched state, it is stretched in the direction perpendicular to the stretching direction, for example, in the direction of arrow B in FIG.

【0014】こうして、各素子が所定間隔だけ離れるよ
うにテープシート2を延伸した状態で、該テープシート
2を測定装置3上にセッティングする。
In this manner, the tape sheet 2 is set on the measuring device 3 in a state where the tape sheet 2 is stretched so that each element is separated by a predetermined interval.

【0015】測定装置3は、図2に示されるように、素
子5の上面および下面と接触しうる複数対の電極4を有
している。電極4は素子5の上面と接触しうる第1電極
4aと素子5の下面と接触しうる第2電極4bとからなって
おり、図2では一対の電極しか描かれていないが、実際
には紙面垂直方向に同様の電極が複数対配置されてい
る。この際、テープシートを導電性フィルムで形成する
か、または導電性物質を全面に塗布したテープシートを
使用すれば、第2電極4bは1個で兼用できる。
As shown in FIG. 2, the measuring device 3 has a plurality of pairs of electrodes 4 that can contact the upper and lower surfaces of the element 5. The electrode 4 is a first electrode capable of contacting the upper surface of the element 5
4a and a second electrode 4b that can come into contact with the lower surface of the element 5. Although FIG. 2 shows only a pair of electrodes, a plurality of similar electrodes are actually arranged in a direction perpendicular to the paper surface. . At this time, if the tape sheet is formed of a conductive film or a tape sheet coated with a conductive material on the entire surface is used, one second electrode 4b can be used as well.

【0016】前記両電極を介して素子5に通電される
と、素子5はその端面6より電磁波を発するが、この電
磁波は各素子5の端面6に対向して配置されている、ピ
ンフォト、CdS、光電管、CCD、カラーセンサなど
の受光素子7により検出される。そして、ある素子列の
測定が完了すると、ローラ8の回転によりテープシート
2が移動して、つぎの素子列が両電極間にはさまれる所
定の測定位置に到達し、同様の測定が行なわれる。
When the element 5 is energized through the two electrodes, the element 5 emits an electromagnetic wave from its end face 6. This electromagnetic wave is disposed opposite to the end face 6 of each element 5. The light is detected by a light receiving element 7 such as CdS, a photoelectric tube, a CCD, and a color sensor. When the measurement of a certain element row is completed, the tape sheet 2 moves by the rotation of the roller 8, reaches the predetermined measurement position where the next element row is sandwiched between the two electrodes, and the same measurement is performed. .

【0017】なお、第2電極4bは、テープシート2とし
て導電性樹脂からなるフィルムを採用するときは、該フ
ィルム裏面に接触しうるよう配置される。一方、非導電
性フィルムを採用するときは、フィルムを突き破って素
子の下面と直接に接触しうるよう配置される。このよう
に、本明細書において「接触しうる」とはテープシート
を介して間接的に接触しうるばあいと、テープシートを
突き破って直接的に接触しうるばあいの両方を含む概念
である。
When a film made of a conductive resin is used as the tape sheet 2, the second electrode 4b is arranged so as to be in contact with the back surface of the film. On the other hand, when a non-conductive film is used, it is arranged so as to penetrate the film and directly contact the lower surface of the element. As described above, the term “contactable” in the present specification is a concept including both a case where the contact can be made indirectly via the tape sheet and a case where the contact can be made directly through the tape sheet.

【0018】図3は図2に示される装置の変形例を示し
ており、図2に示される装置のように前後2方向からの
発光を同時に測定するタイプと異なり、一方向からの発
光のみを測定するタイプの装置である。通常は左右から
の発光特性は殆ど同じであるため、一方向からのみの性
能を測定すれば充分のばあいに、この装置を適用でき
る。
FIG. 3 shows a modification of the device shown in FIG. 2. Unlike the device shown in FIG. 2, in which light emission from two directions is measured simultaneously, only light emission from one direction is obtained. It is a type of device that measures. Usually, the emission characteristics from the left and right are almost the same, so this device can be applied when it is sufficient to measure the performance from only one direction.

【0019】つぎに本発明の測定方法の他の態様につい
て説明する。
Next, another embodiment of the measuring method of the present invention will be described.

【0020】図1〜3に関連して説明した方法において
は、テープシートを2方向に延伸する必要があったが、
以下に述べる方法では、一方向に延伸するだけで測定が
可能である。
In the method described with reference to FIGS. 1 to 3, it was necessary to stretch the tape sheet in two directions.
In the method described below, measurement is possible only by stretching in one direction.

【0021】まず、図4に示されるように、複数個の半
導体発光素子を有するウェハ11を、複数本の線状ないし
は帯状の導電体20がお互いに平行になるように設けられ
たテープシート12上に発光素子の発光端面が前記導電体
と平行になるように貼着する。線状ないしは帯状の導電
体20としては、メタルワイヤや導電性の物質たとえばA
gペーストなどをテープシート12上に塗布したものを用
いることができる。また、導電性の物質を塗布するばあ
いは線ないし帯状とは限らず全面に塗布してもよく、ま
たテープシート自体が導電性のものであってもよい。図
5は図4のI−I線断面説明図である。
First, as shown in FIG. 4, a wafer 11 having a plurality of semiconductor light emitting elements is placed on a tape sheet 12 provided with a plurality of linear or band-shaped conductors 20 provided in parallel with each other. The light-emitting element is attached on the upper surface so that the light-emitting end face is parallel to the conductor. As the linear or band-shaped conductor 20, a metal wire or a conductive substance such as A
What applied the g paste etc. on the tape sheet 12 can be used. When a conductive material is applied, the material is not limited to a line or a band, but may be applied to the entire surface, or the tape sheet itself may be conductive. FIG. 5 is an explanatory cross-sectional view taken along line II of FIG.

【0022】つぎに、前記ウェハ11を、それぞれが1本
の導電体を備えた複数本のバー状ウェハ21となるように
切断する。そして、前記テープシート12を、各バー状ウ
ェハ21が所定間隔だけ離れるように切断方向と垂直方向
に延伸し、この延伸した状態でテープシート12を測定装
置13上にセッティングする。
Next, the wafer 11 is cut into a plurality of bar-shaped wafers 21 each having one conductor. Then, the tape sheet 12 is stretched in a direction perpendicular to the cutting direction so that each bar-shaped wafer 21 is separated by a predetermined interval, and the tape sheet 12 is set on the measuring device 13 in the stretched state.

【0023】測定装置13は、図6に示されるように、バ
ー状ウェハ21を構成する素子の上面と接触しうる複数の
電極14を備えており、この電極14と導電体20を介して各
素子に通電すると各素子はその端面16より電磁波を発す
る。このばあい、前記バー状ウェハ21における個々の素
子間はpn接合部を超えたエピタキシャル層までの切断
線を入れることなどによって素子間絶縁が形成されてお
り、相互に電気が流れない構造となっている。また、各
素子上面に形成される金属膜からなるパターンも隣接す
る素子のパターンとは別に独立して形成されている。
As shown in FIG. 6, the measuring device 13 includes a plurality of electrodes 14 that can come into contact with the upper surfaces of the elements constituting the bar-shaped wafer 21. When the elements are energized, each element emits an electromagnetic wave from its end face 16. In this case, inter-element insulation is formed between the individual elements in the bar-shaped wafer 21 by inserting a cutting line extending beyond the pn junction to the epitaxial layer, so that a structure in which electricity does not flow mutually is obtained. ing. Further, a pattern made of a metal film formed on the upper surface of each element is formed independently of a pattern of an adjacent element.

【0024】素子の端面16から発せられる電磁波は、端
面16に対向して配置されている複数個の受光素子17によ
り検出される。なお、図6では簡単のために一方の端面
側にしか受光素子を配置していないが、もちろん他方の
端面側にも受光素子を配置して、電磁波を2方向同時に
測定することもできる。
Electromagnetic waves emitted from the end face 16 of the element are detected by a plurality of light receiving elements 17 arranged opposite to the end face 16. In FIG. 6, the light receiving element is arranged only on one end face side for simplicity, but it is of course possible to arrange the light receiving element also on the other end face side to measure electromagnetic waves simultaneously in two directions.

【0025】また、前述の実施例では、切断面である端
面から発光する発光素子について説明したが、半導体ウ
ェハの表面側から発光するタイプでも、受光素子をその
上面に配置することにより、本発明を同様に適用でき
る。
In the above-described embodiment, the light emitting element emitting light from the end surface which is a cut surface has been described. However, even if the light emitting element emits light from the front side of the semiconductor wafer, the present invention can be realized by disposing the light receiving element on the upper surface. Can be similarly applied.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上説明したとおり、本発明の製法によ
れば、検査工程において、素子または素子列をテープシ
ートからピックアップする作業が不要となるため、該作
業のための装置を省略して測定装置全体の小型化を図る
ことができる。また、測定時間を短縮して生産性を向上
させることができる。
As described above, according to the manufacturing method of the present invention, in the inspection process, the operation of picking up the element or the element array from the tape sheet is unnecessary, and the measurement is performed by omitting the apparatus for the operation. The size of the entire device can be reduced. In addition, the measurement time can be shortened and the productivity can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】ウェハをテープシート上に貼着した状態をあら
わす平面説明図である。
FIG. 1 is an explanatory plan view showing a state in which a wafer is stuck on a tape sheet.

【図2】本発明の測定方法において用いられる装置の一
例の断面説明図である。
FIG. 2 is an explanatory sectional view of an example of an apparatus used in the measuring method of the present invention.

【図3】本発明の測定方法において用いられる装置の他
の例の断面説明図である。
FIG. 3 is an explanatory sectional view of another example of the apparatus used in the measuring method of the present invention.

【図4】導電体が設けられたテープシート上にウェハを
貼着した状態をあらわす平面説明図である。
FIG. 4 is an explanatory plan view showing a state in which a wafer is stuck on a tape sheet provided with a conductor.

【図5】図4のI−I線断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along line II of FIG. 4;

【図6】本発明の測定方法において用いられる装置のさ
らに他の例の説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of still another example of the device used in the measuring method of the present invention.

【図7】ウェハをテープシート上に貼着した状態をあら
わす平面説明図である。
FIG. 7 is an explanatory plan view showing a state in which a wafer is stuck on a tape sheet.

【図8】ウェハを短冊状ウェハを形成するように切断し
た状態をあらわす平面説明図である。
FIG. 8 is an explanatory plan view showing a state in which the wafer is cut so as to form a strip-shaped wafer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、11 ウェハ 2、12 テープシート 3、13 測定装置 4、14 電極 5 素子 7、17 受光素子 1,11 Wafer 2,12 Tape sheet 3,13 Measuring device 4,14 Electrode 5 element 7,17 Light receiving element

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−214587(JP,A) 特開 昭60−116181(JP,A) 特開 昭60−25241(JP,A) 特開 昭63−153880(JP,A) 特開 昭53−106570(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 33/00 H01L 21/66 H01S 5/00 - 5/50 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (56) References JP-A-61-214587 (JP, A) JP-A-60-116181 (JP, A) JP-A-60-25241 (JP, A) JP-A 63-214 153880 (JP, A) JP-A-53-106570 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 33/00 H01L 21/66 H01S 5/00-5/50

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 (a) 複数個の半導体発光素子を有するウ
ェハを延伸可能なテープシート上に貼着し、 (b) 前記ウェハを各素子の大きさに切断し、 (c) 前記テープシートを切断方向の一方に平行に延伸し
て複数本のバー状ウェハを形成し、 (d) この延伸状態を保ちつつさらに前記延伸方向と垂直
方向に延伸し、 (e) 前記テープシートを、各素子が所定間隔だけ離れる
ように延伸した状態で、測定装置上にセッティングする ことからなり、前記測定装置は、前記素子の上面および
下面と接触しうる電極を備えており、かつ、素子が前記
電極にはさまれる位置にきたときに当該素子から発せら
れる電磁波を検出しうる複数個の受光素子を備えて測定
する検査工程を有することを特徴とする半導体発光素子
の製法。
(A) affixing a wafer having a plurality of semiconductor light-emitting elements on a stretchable tape sheet; (b) cutting the wafer to the size of each element; (c) the tape sheet Is stretched in parallel to one of the cutting directions to form a plurality of bar-shaped wafers, (d) further stretched in a direction perpendicular to the stretching direction while maintaining this stretched state, (e) the tape sheet, In a state where the element is stretched so as to be separated by a predetermined distance, setting is performed on a measuring device, the measuring device includes an electrode capable of contacting an upper surface and a lower surface of the element, and the element includes the electrode. 1. A method for manufacturing a semiconductor light emitting device, comprising: an inspection step of providing a plurality of light receiving elements capable of detecting an electromagnetic wave emitted from the element when the element comes to a position sandwiched therebetween.
【請求項2】 (a) 複数個の半導体発光素子を有するウ
ェハを、複数本の線状ないしは帯状の導電体がお互いに
平行になるように設けられ、もしくは全面に導電性物質
が塗布された延伸可能なテープシートまたは延伸可能な
導電性のテープシート上に貼着し、 (b) 前記ウェハを、それぞれの発光素子の発光面が露出
し、複数本のバー状ウェハを形成するように切断し、 (c) 前記テープシートを、各バー状ウェハが所定間隔だ
け離れるように切断方向と垂直方向に延伸した状態で、
測定装置上にセッティングする ことからなり、前記測定装置は、前記バー状ウェハを構
成する素子の上面と接触しうる複数の電極を備えてお
り、かつ、前記バー状ウェハが複数の電極と前記導電体
にはさまれる位置にきたときに各素子から発せられる電
磁波を検出しうる複数個の受光素子を備えており、さら
に前記バー状ウェハの各素子の上面電極側が相互に電気
的に絶縁されてなることを特徴とする半導体発光素子の
製法。
2. (a) A wafer having a plurality of semiconductor light emitting elements is provided such that a plurality of linear or band-shaped conductors are parallel to each other, or a conductive substance is applied to the entire surface. (B) cutting the wafer so that the light emitting surface of each light emitting element is exposed and a plurality of bar-shaped wafers are formed. (C) in a state where the tape sheet is stretched in a direction perpendicular to the cutting direction so that each bar-shaped wafer is separated by a predetermined distance,
Setting on a measuring device, the measuring device includes a plurality of electrodes capable of contacting an upper surface of an element constituting the bar-shaped wafer, and the bar-shaped wafer includes a plurality of electrodes and the conductive material. The bar-shaped wafer is provided with a plurality of light receiving elements that can detect an electromagnetic wave emitted from each element when it comes to a position sandwiched between the body, and further, the upper electrode side of each element of the bar-shaped wafer is electrically insulated from each other. A method for manufacturing a semiconductor light emitting device, comprising:
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