JP3087785B2 - Vacuum suction device - Google Patents

Vacuum suction device

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JP3087785B2
JP3087785B2 JP03332311A JP33231191A JP3087785B2 JP 3087785 B2 JP3087785 B2 JP 3087785B2 JP 03332311 A JP03332311 A JP 03332311A JP 33231191 A JP33231191 A JP 33231191A JP 3087785 B2 JP3087785 B2 JP 3087785B2
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nozzle
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vacuum suction
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隆 関場
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株式会社富士通宮城エレクトロニクス
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、小物部品等を吸着によ
りハンドリングする場合に使用される真空吸着装置に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum suction device used for handling small parts by suction.

【0002】近年、電子部品等の小物部品をハンドリン
グする方法の一つに真空吸着による搬送がある。ハンド
リングされる被吸着物の小物部品の中には、静電気の影
響で故障するものもあり、吸着時及び切離時に静電気を
除去する必要がある。また、ハンドリングする場合に
は、ハンド先端に真空吸着装置を組み込む必要があるこ
とから、該真空吸着装置の小型化が望まれている。
[0002] In recent years, one of the methods for handling small parts such as electronic parts is transfer by vacuum suction. Some of the small components to be adsorbed that are handled are broken by the influence of static electricity, and it is necessary to remove static electricity at the time of adsorption and separation. Further, when handling, it is necessary to incorporate a vacuum suction device at the tip of the hand, and therefore, it is desired to reduce the size of the vacuum suction device.

【0003】[0003]

【従来の技術】図4に、従来の真空吸着装置の構成図を
示す。なお、図4は一部断面図である。図4の真空吸着
装置30において、フランジ31aを有する中空シャフ
ト31の先端に、ゴム系の吸着盤(ゴムパッド)32が
摺動可能に取り付けられる。この場合、ゴムパッド32
とフランジ31aとの間にはバネ33が介在して、該ゴ
ムパッド32が上下動する。そして、中空シャフト31
の他端は真空源(図示せず)に連通して、ゴムパッド3
2よりエアを引き込む。
2. Description of the Related Art FIG. 4 shows a configuration diagram of a conventional vacuum suction device. FIG. 4 is a partial sectional view. In the vacuum suction device 30 shown in FIG. 4, a rubber suction plate (rubber pad) 32 is slidably attached to the tip of a hollow shaft 31 having a flange 31a. In this case, the rubber pad 32
A spring 33 is interposed between the rubber pad 32 and the flange 31a, and the rubber pad 32 moves up and down. And the hollow shaft 31
The other end of the rubber pad 3 communicates with a vacuum source (not shown).
2 Pull air in.

【0004】一方、ゴムパッド32の近傍にノズル34
が位置し、被吸着物である例えば樹脂パッケージのIC
35に静電気除去のためのイオン(例えばオゾン)を吹
き付ける。
On the other hand, a nozzle 34 is provided near the rubber pad 32.
Is located, for example, an IC of a resin package, which is an object to be adsorbed.
Ions (for example, ozone) for removing static electricity are sprayed on 35.

【0005】このような真空吸着装置30は、真空源よ
り中空シャフト31を介してゴムパッド32よりエアを
引き込みながら、該ゴムパッド32をIC35の樹脂パ
ッケージに押し付ける。一般に、ゴムとプラスティック
とが接触又は切離しを行う場合に静電気が発生すること
から、IC35が静電気の影響で故障する場合がある。
そこで、IC35を吸着する前にノズル34より該樹脂
パッケージにイオンを吹き付け、静電気の除電を行って
いる。
The vacuum suction device 30 presses the rubber pad 32 against the resin package of the IC 35 while drawing air from the rubber pad 32 through a hollow shaft 31 from a vacuum source. Generally, static electricity is generated when the rubber and the plastic come into contact with or separated from each other, so that the IC 35 may fail due to the influence of the static electricity.
Therefore, before adsorbing the IC 35, ions are sprayed onto the resin package from the nozzle 34 to remove static electricity.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、イオンを吹き
付ける場合、イオンの吹き付け経路を長くするとイオン
状態が崩れて除電効果を悪くすることから、引き廻しを
長くすることができない。また、イオンを吹き付けるた
めのノズル34を設置するための場所を必要とし、狭い
場所に設置することができず、小型化を図ることが困難
であるという問題がある。
However, in the case of spraying ions, if the length of the ion spraying path is lengthened, the ion state collapses and the static elimination effect is deteriorated, so that the circulation cannot be lengthened. Further, there is a problem that a space for installing the nozzle 34 for spraying ions is required, the space cannot be installed in a narrow space, and it is difficult to reduce the size.

【0007】そこで、本発明は上記課題に鑑みなされた
もので、静電気を除去し、小型化を図る真空記装置を提
供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide a vacuum storage device that eliminates static electricity and reduces the size.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題は、中和ガスが
供給されて前記中和ガスを噴射する第1の孔と、前記第
1の孔に連通された第2の孔が形成された噴射部と、
記噴射部の下部に設けられ、前期第2の孔に連通された
第3の孔を有する噴射/吸引部と、前記噴射/吸引部の
先端に取り付けられたノズルと、前記噴射部に対して摺
動し、前記第1の孔の噴射口を閉塞又は開放するフード
部を有する切替部と、を有する真空吸着装置であって、
前記切替部により前記第1の孔を閉塞した場合には、前
記第2の孔及び第3の孔を介して前記ノズルより被吸着
物に前記中和ガスを噴射し、前記切替部により前記第1
の孔を開放した場合には、前記フード部を介して前記ノ
ズルの周辺より前記被吸着物に前記中和ガスを噴射する
ことにより、前記ノズルを負圧にして前記被吸着物を前
記ノズルに吸着させるように構成したにより解決され
る。
Means for Solving the Problems The above-mentioned problem is caused by neutralizing gas.
A first hole that is supplied and injects the neutralizing gas ;
An injection unit for the second hole is formed communicating with the first hole, before
It was provided at the lower part of the injection part and was communicated with the second hole in the previous term.
An ejection / suction unit having a third hole;
A nozzle attached to the tip and a sliding
A hood that moves and closes or opens the injection port of the first hole
And a switching unit having a unit,
When the first hole is closed by the switching unit,
Suction from the nozzle through the second and third holes;
The neutralizing gas is injected to the object, and the first part is switched by the switching part.
When the hole is opened, the nozzle is inserted through the hood.
Injecting the neutralizing gas to the object to be adsorbed from around the chisel
By setting the nozzle to a negative pressure,
The problem is solved by the configuration in which the nozzle is made to adsorb .

【0009】[0009]

【作用】上述のように、切換部により第1の孔を閉塞し
た場合には、中和ガスが第2の孔より保持体、中空シャ
フトを介してノズルより被吸着物に噴射する。これによ
り、既に被吸着物に帯電している静電気を中和する。
As described above, when the first hole is closed by the switching unit, the neutralizing gas is injected from the second hole to the object through the nozzle through the holder and the hollow shaft. This neutralizes the static electricity already charged on the object.

【0010】また、切換部により第1の孔を開放した場
合には、中和ガスは切換部を介してノズルの周辺より被
吸着物に噴射する。このとき、第2の孔からノズルにか
けて負圧状態となって、被吸着物を真空吸着する。すな
わち、被吸着物を中和ガスにより除電しながら真空吸着
するものである。
When the first hole is opened by the switching unit, the neutralizing gas is injected from the periphery of the nozzle to the adsorbed object through the switching unit. At this time, a negative pressure is applied from the second hole to the nozzle , and the object to be sucked is sucked by vacuum. That is, the object is vacuum-adsorbed while neutralizing the neutralized gas .

【0011】このように、中和ガスの噴射をノズル及び
その周辺で行うことから、静電気除電が効果的に行うこ
とが可能になると共に、小型とすることが可能となる。
As described above, since the neutralizing gas is injected at the nozzle and the vicinity thereof, it is possible to effectively perform static electricity elimination and to reduce the size.

【0012】[0012]

【実施例】図1に、本発明の一実施例の構成図を示す。
図1の真空吸着装置10は、例えば樹脂パッケージのI
C11を被吸着物としてハンドリングする装置の先端に
設けられるもので、噴射部であるマイクロエジェクタ1
2は上方より下方側部に第1の孔13が形成され、該下
方側部付近に連通する第2の孔14が形成される。そし
て、マイクロエジェクタ12の上方端は、図示しない
が、中和ガスであるイオン(例えばオゾン)の供給源に
接続される。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention.
The vacuum suction device 10 of FIG.
The micro-ejector 1 which is provided at the tip of an apparatus for handling C11 as an object to be adsorbed,
2 has a first hole 13 formed on a lower side portion from above, and a second hole 14 communicating with the vicinity of the lower side portion. Although not shown, the upper end of the micro ejector 12 is connected to a supply source of ions (eg, ozone) as a neutralizing gas .

【0013】マイクロエジェクタ12の下部には、第2
の孔14と連通した保持体15が設けられる。この保持
体15内には中板15aが形成されており、厚さ方向に
テーパ15b形状の穴部15cが形成される。
At the lower part of the micro ejector 12, a second
A holder 15 communicating with the hole 14 is provided. An intermediate plate 15a is formed in the holder 15, and a hole 15c having a tapered shape 15b is formed in the thickness direction.

【0014】この穴部15cには、一端が嵌合するよう
なテーパ16aが形成された中空シャフト16が設けら
れると共に、中空シャフト16の側部と保持体15の先
端内側部との間に自動調心型の球面状の滑り軸受け17
が介在する。また、中空シャフト16の先端にはノズル
18が取り付けられ、このノズル18と保持体15の先
端との間にバネ19が介在する。
The hole 15c is provided with a hollow shaft 16 formed with a taper 16a at one end of which is fitted, and has an automatic space between the side of the hollow shaft 16 and the inside of the tip of the holder 15. Aligning spherical sliding bearing 17
Intervenes. A nozzle 18 is attached to the tip of the hollow shaft 16, and a spring 19 is interposed between the nozzle 18 and the tip of the holder 15.

【0015】第2の孔14と連通した保持体15の穴部
15dと、穴部15cと、中空シャフト16の穴部16
aとで、第2の孔14と連通した第3の孔が構成され、
保持体15と、中空シャフト16とで、第3の孔を有す
る噴射/吸引部が構成される。この第3の孔はノズル1
8の穴部18aに連通する。
The hole of the holder 15 communicating with the second hole 14
15d, a hole 15c, and a hole 16 of the hollow shaft 16.
a, a third hole communicating with the second hole 14 is formed,
Holder 15 and hollow shaft 16 have a third hole
The injection / suction unit is configured. This third hole is nozzle 1
8 communicates with the hole 18a.

【0016】この滑り軸受け17及びバネ19により可
動機構を構成する。すなわち、中空シャフト16の先端
に取り付けられたノズル18は、該中空シャフト16の
軸方向に上下動すると共に、軸方向と垂直な面上で回動
する。この場合、保持体15の穴部15cに中空シャフ
ト16のテーパ16aが嵌合して位置決めされる。
The sliding bearing 17 and the spring 19 constitute a movable mechanism. That is, the nozzle 18 attached to the tip of the hollow shaft 16 moves up and down in the axial direction of the hollow shaft 16 and rotates on a plane perpendicular to the axial direction. In this case, the taper 16a of the hollow shaft 16 fits into the hole 15c of the holder 15 and is positioned.

【0017】ここで、ノズル18は、アルミ又はアルミ
合金等で形成され、表面をタフラム処理される。タフラ
ム処理とは、アルミ及びアルミ合金の表面に高抵抗膜で
ある硬質陽極酸化皮膜を作り、その皮膜の穴にテフロン
を含浸させたものであり、表面硬度が高く、且つ潤滑性
も良く耐磨耗性に優れており、電気的抵抗も106 〜1
010Ω程度で形成される。
Here, the nozzle 18 is formed of aluminum or aluminum alloy or the like, and the surface thereof is subjected to a tuffram treatment. Tufram treatment is a process in which a hard anodic oxide film, which is a high-resistance film, is formed on the surface of aluminum and aluminum alloys, and the holes in the film are impregnated with Teflon. Excellent wear resistance and electrical resistance of 106 to 1
It is formed with about 010Ω.

【0018】すなわち、ノズル18の表面を電気的に高
抵抗にすることにより、IC11のパッケージに帯電し
た静電気を緩やかに除電することができると共に、IC
11との接触の際にも材質が金属であることから静電気
を発生しにくくすることができる。また、ノズル18の
表面は耐磨耗性が高いことから交換が不要となるもので
ある。
That is, by making the surface of the nozzle 18 electrically high resistance, static electricity charged in the package of the IC 11 can be gently eliminated, and the IC
Since the material is metal even in the case of contact with 11, static electricity can be hardly generated. Further, since the surface of the nozzle 18 has high abrasion resistance, the nozzle 18 does not need to be replaced.

【0019】一方、マイクロエジェクタ12及び保持体
15の一部を覆うように切換部であるバルブ20が、ス
トッパ21a,21b(21bは保持体15に形成)間
を限度に位置する。このバルブ20は、フード部20a
を有しており、上方は少なくとも第1の孔13の噴射口
径より大きい厚さで形成され、一部にバネ22を介して
ボールプランジャ23が設けられる。
On the other hand, the valve 20, which is a switching portion, is positioned so as to cover the micro-ejector 12 and a part of the holder 15 between the stoppers 21a and 21b (21b is formed on the holder 15). The valve 20 includes a hood 20a
The upper part is formed with a thickness larger than at least the diameter of the injection hole of the first hole 13, and a ball plunger 23 is provided in part via a spring 22.

【0020】また、マイクロエジェクタ12の側部には
該ボールプランジャ23が嵌合する溝24a,24bが
軸方向に所定距離で連設される。すなわち、バルブ20
はマイクロエジェクタ12を摺動して上下動し、ボール
プランジャ23が溝24a又は24bに嵌合して位置決
めされる。この場合、バルブ20が上方に位置するとき
には第1の孔13は開放状態となり、下方に位置すると
きには該第1の孔13を閉塞させる。
On the side of the micro ejector 12, grooves 24a and 24b into which the ball plunger 23 is fitted are continuously formed at a predetermined distance in the axial direction. That is, the valve 20
Slides on the micro-ejector 12 and moves up and down, and the ball plunger 23 is fitted into the groove 24a or 24b to be positioned. In this case, when the valve 20 is located above, the first hole 13 is open, and when it is located below, the first hole 13 is closed.

【0021】次に、図2に、図1の動作を説明するため
の図を示す。図1はバルブ20が上方に位置する場合で
あり、図2は下方に位置する場合である。
Next, FIG. 2 shows a diagram for explaining the operation of FIG. FIG. 1 shows a case where the valve 20 is located above, and FIG. 2 shows a case where it is located below.

【0022】まず、図2において、バルブ20のボール
プランジャ23は溝24bに嵌合してストッパ21bで
下方に位置する。このとき、バルブ20はマイクロエジ
ェクタ12の第1の孔13の噴射口を閉塞する。
First, in FIG. 2, the ball plunger 23 of the valve 20 fits into the groove 24b and is located below the stopper 21b. At this time, the valve 20 closes the injection port of the first hole 13 of the micro ejector 12.

【0023】そこで、イオン供給源(図示せず)よりイ
オン(オゾン)を供給すると、該イオンは、第2の孔1
4,保持体15,中空シャフト16を介してノズル18
よりIC11のパッケージ上に噴射する。このとき、該
パッケージ上に既に帯電している静電気は中和される状
態となる。
When ions (ozone) are supplied from an ion supply source (not shown), the ions are supplied to the second hole 1.
4, the nozzle 18 via the holder 15 and the hollow shaft 16
It is sprayed on the package of IC11. At this time, the static electricity already charged on the package is neutralized.

【0024】そして、図1に戻って説明するに、バルブ
20を上方に移動させてボールプランジャ23を溝24
aに嵌合させてストッパ21aにより位置固定すると、
第1の孔13の噴射口は開放状態となる。そこで、第1
の孔13よりイオンを所定の流速で供給すると、第1の
孔13の噴射口よりバルブ20のフード部20aに沿っ
ノズル18の周辺よりIC11のパッケージ上にイオ
ンを噴射する。
Returning to FIG. 1, the valve 20 is moved upward to move the ball plunger 23 into the groove 24.
a, and the position is fixed by the stopper 21a.
The injection hole of the first hole 13 is open. Therefore, the first
When ions are supplied at a predetermined flow rate from the holes 13, the ions are injected from the injection holes of the first holes 13 along the hood portion 20 a of the valve 20 onto the package of the IC 11 from around the nozzle 18.

【0025】このとき、第2の孔14よりノズル18に
かけて負圧状態となる。そして、ノズル18をIC11
のパッケージ上に接触させると、該IC11が真空吸着
される。すなわち、イオンを噴射して静電気の除電を行
いつつ、IC11を真空吸着するものである。
At this time, a negative pressure state is established from the second hole 14 to the nozzle 18. Then, the nozzle 18 is connected to the IC 11
IC 11 is vacuum-sucked. That is, the IC 11 is vacuum-adsorbed while ejecting ions to remove static electricity.

【0026】このように、効率よく静電気の除電を行う
ことができると共に、ノズル18にタフラム処理を施す
ことにより静電気発生を低減することができる。また、
除電のためのイオンの噴射と真空吸着を一体化している
ことから小型化を図ることができる。
As described above, static electricity can be efficiently eliminated, and the generation of static electricity can be reduced by performing the tuff ram treatment on the nozzle 18. Also,
The size reduction can be achieved because the injection of ions for static elimination and the vacuum adsorption are integrated.

【0027】次に、図3に、図1の被吸着物が傾斜して
いる場合を説明するための図を示す。図3において、被
吸着物であるIC11が傾斜している場合に、ノズル
8をパッケージ上に接触させてバネ19により押しつけ
ると、中空シャフト16のテーパ16aが保持体15の
中板15aの穴部15cより離れ、球面状の滑り軸受け
17により該ノズル18面とIC11のパッケージ面と
は密着状態とされる。すなわち、IC11の傾斜をバネ
19及び滑り軸受け17により吸収して真空吸着を確実
ならしめるものである。
Next, FIG. 3 is a view for explaining a case where the object to be adsorbed in FIG. 1 is inclined. In FIG. 3, when the IC 11 that is the object to be adsorbed is inclined, the nozzle 1
8 is brought into contact with the package and pressed by a spring 19, the taper 16a of the hollow shaft 16 is separated from the hole 15c of the middle plate 15a of the holding body 15, and the surface of the nozzle 18 and the package of the IC 11 are moved by the spherical slide bearing 17. The surface is brought into close contact with the surface. That is, the inclination of the IC 11 is absorbed by the spring 19 and the slide bearing 17 to ensure the vacuum suction.

【0028】また、IC11を吸着後、装置本体が上昇
し搬送する際には、ノズル18がバネ19により下方に
押し戻され、穴部15cに中空シャフト16のテーパ部
16aが嵌め込まれ自動的に位置決めされる。そのた
め、搬送等による位置ずれも無く、正確な吸着、切離し
ができるものである。
When the apparatus main body is lifted and conveyed after the IC 11 is sucked, the nozzle 18 is pushed back down by the spring 19, and the tapered portion 16a of the hollow shaft 16 is fitted into the hole 15c and automatically positioned. Is done. Therefore, accurate suction and separation can be performed without any displacement due to conveyance or the like.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、静電気を
除去する中和ガスの被吸着物への噴射と、真空吸着を同
時に行うことにより、静電気の除去を効率的に行うこと
ができると共に、一体化することから小型化を図ること
ができる。
As described above, according to the present invention, static electricity can be efficiently removed by simultaneously spraying a neutralizing gas for removing static electricity onto an object to be adsorbed and performing vacuum suction. At the same time, the size can be reduced because they are integrated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例の構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of an embodiment of the present invention.

【図2】図1の動作を説明するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining the operation of FIG. 1;

【図3】図1の被吸着物が傾斜している場合を説明する
ための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining a case where an object to be adsorbed in FIG. 1 is inclined.

【図4】従来の真空吸着装置の構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram of a conventional vacuum suction device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 真空吸着装置 11 IC 12 マイクロエジェクタ 13 第1の孔 14 第2の孔 15 保持体 15a 中板 15b,16a テーパ 15c,15d,16a,18a 穴部 16 中空シャフト 17 滑り軸受け 18 ノズル 20 バルブ 20a フード Reference Signs List 10 vacuum suction device 11 IC 12 micro ejector 13 first hole 14 second hole 15 holder 15a middle plate 15b, 16a taper 15c,15d, 16a, 18a Hole 16 Hollow shaft 17 Sliding bearing 18nozzle  20 Valve 20a Hood

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−154793(JP,A) 特開 平1−120899(JP,A) 特開 昭61−37635(JP,A) 特開 昭63−204738(JP,A) 特開 平1−240287(JP,A) 実開 平1−84994(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B25J 15/06 B25B 11/00 B65G 47/91 H05F 3/04 H05K 13/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-3-154793 (JP, A) JP-A-1-120899 (JP, A) JP-A-61-37635 (JP, A) JP-A-63-63 204738 (JP, A) JP-A-1-240287 (JP, A) JP-A-1-84994 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) B25J 15/06 B25B 11 / 00 B65G 47/91 H05F 3/04 H05K 13/00

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 中和ガスが供給されて前記中和ガスを噴
射する第1の孔と、前記第1の孔に連通された第2の孔
が形成された噴射部と、前記噴射部の下部に設けられ、前期第2の孔に連通され
た第3の孔を有する噴射/吸引部と、 前記噴射/吸引部の先端に取り付けられたノズルと、 前記噴射部に対して摺動し、前記第1の孔の噴射口を閉
塞又は開放するフード部を有する切替部と、 を有する真空吸着装置であって、 前記切替部により前記第1の孔を閉塞した場合には、前
記第2の孔及び第3の孔を介して前記ノズルより被吸着
物に前記中和ガスを噴射し、 前記切替部により前記第1の孔を開放した場合には、前
記フード部を介して前記ノズルの周辺より前記被吸着物
に前記中和ガスを噴射することにより、前記ノズルを負
圧にして前記被吸着物を前記ノズルに吸着させるように
構成した ことを特徴とする真空吸着装置。
(1) neutralizationGas is supplied to the neutralizing gasSpout
The first hole to shootAnd a second hole communicated with the first hole
Was formedAn injection unit,It is provided at the lower part of the injection unit, and is communicated with the second hole.
An injection / suction unit having a third hole, A nozzle attached to the tip of the jet / suction unit; Sliding with respect to the injection section, closing the injection port of the first hole
A switching unit having a hood unit that closes or opens, A vacuum suction device having When the first hole is closed by the switching unit,
Suction from the nozzle through the second and third holes;
Inject the neutralizing gas into the object, When the first hole is opened by the switching unit,
The object to be adsorbed from the periphery of the nozzle through the hood portion
The nozzle is negatively charged by injecting the neutralizing gas into
Pressure so that the object is adsorbed to the nozzle.
Composed A vacuum suction device characterized by the above-mentioned.
【請求項2】 前記ノズルの表面に、高抵抗膜を設けた
ことを特徴とする請求項1記載の真空吸着装置。
2. The vacuum suction device according to claim 1, wherein a high resistance film is provided on a surface of the nozzle .
【請求項3】 前記噴射/吸引部は、保持体と、前記保
持体を介して前記第2の孔と連通し、前記ノズルが先端
に取り付けられた中空シャフトとを有し、 前記保持体と前記中空シャフトとが前記中空シャフトの
軸方向に互いに嵌合する形状に形成されると共に、前記
ノズル前記軸方向及び前記軸方向と垂直な面上で回動
させる可動機構を設けることを特徴とする請求項1又は
2記載の真空吸着装置。
(3)The injection / suction unit includes a holder and the holder.
The nozzle communicates with the second hole through a holding body,
Having a hollow shaft attached to the  The holder and the hollow shaft areSaidHollow shaft
Along with being formed in a shape that fits together in the axial direction,
nozzleToSaidAxial direction andSaidRotation on a plane perpendicular to the axial direction
A movable mechanism for causing the movable mechanism to be provided.
2. The vacuum suction device according to 2.
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