JP3074354B2 - 除草活性スルホンアミド誘導体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 技術分野 本発明は、発芽前処理及び／又は発芽後処理除草剤と
して有用なエリスロ立体化学を有する式（Ｉ）で表され
る新規な除草活性スルホンアミド誘導体、それらの使用
及び農学的に適当な除草剤である組成物に関する。

ここで、Ｐ及びＱは、同一又は相異なって、それぞれ
CH又はＮを表し、Ｐ及びＱを含む芳香環は、ベンゼン又
はピリジン環を表す。

R¹は、H,R^a−Ｃ（＝Ｏ）又はR^a−X^a−Ｃ（＝Ｏ）で表
される基を表し、R^aは、C₁−C₃アルキル基、C₁−C₃ハロ
アルキル基、C₂−C₃アルケニル基又はC₂−C₃アルキニル
基を表し、X^aは、O,S,NH又はNR^a基を表す。

R²は、C₁−C₂アルキル基を表し、又、 Ｘ及びＹは、それぞれ独立して、ハロゲン原子、C₁−
C₂アルキル基、C₁−C₂アルコキシ基又はC₁−C₂ハロアル
コキシ基を表す。

従来技術の説明 スルホニルウレア誘導体が除草活性を有することはよ
く知られている。かかるスルホニルウレア構造を有する
例としては、 （１）大韓民国特許第70,675号公報には、次式（Ａ）で
表される化合物が記載されている。

ここで、Ｒは、ハロアルキル基を表し、Ｘ及びＹは、
それぞれ独立して、CH₃、OCH₃又は塩素原子等を表し、
Ｚは、CH又はＮを表す。

（２）大韓民国特許第70,677号公報には、次式（Ｂ）で
表される化合物が記載されている。

ここで、R,X,Y及びＺは、前記と同じ意味を表し、Ｐ
及びＱは、相異なってＮ又はCHを表し、P,Qを含む芳香
環はピリジン環を表す。

上記式（Ａ）及び（Ｂ）で表される化合物において、
Ｒが不斉炭素原子を含む場合には、上記（Ａ）及び
（Ｂ）で表される化合物は二つの不斉炭素原子を有する
ため、トレオ及びエリスロの二つの立体異性体が存在す
る。

しかしながら、この二つの立体異性体は、除草活性及
び選択性において互いに異なるものである。

発明の概要 本発明は、イネに対して優れた選択性を有し、かつ、
一年生雑草及び多年生雑草、特にイヌビユ（barnyard
grass）に対して卓越した除草活性を有する、新規スル
ホンアミド誘導体を提供することを目的とする。

また、本発明のもう一つの目的は、活性成分として前
記スルホンアミド誘導体を含有する除草性組成物を提供
することである。

発明の詳細な説明 本発明は、次式（Ｉ）で表されるエリスロ立体化学を
有する、イネに対して選択性を有する除草活性スルホン
アミド誘導体及びそれらの農学的に適当なそれらの塩に
関する。

ここで、P,Q,R¹,R²,X及びＹは、前記と同じ意味を表
す。

前記式（Ｉ）で表されるエリスロ立体化学を有する化
合物における好ましい基としては、高い除草活性及び優
れた作物選択性の観点から次のものが挙げられる。

（１）ベンゼン環（P,Qは独立してCH） （２）ピリジン環（ＰはＮ、ＱはCH） （３）R¹は、水素原子又はアセチル基 （４）R²は、メチル基 （５）Ｘ及びＹは、メトキシ基 これらの化合物は、イネの栽培上の問題となるイヌビ
ユ及び多年生雑草を容易にコントロールが出来、イネ用
除草性組成物として農業的に用いることができる。特
に、次の化合物は優れたイネ選択性を有する。

エリスロ−２−（１−アセトキシ−２−フルオロ−ｎ
−ブチル）−Ｎ−〔4,6−ジメトキシピリミジン−２−
イル）アミノカルボニル〕−３−ピリジンスルホンアミ
ド（化合物番号１） エリスロ−Ｎ−〔（4,6−ジメトキシピリミジン−２
−イル）アミノカルボニル〕−２−（２−フルオロ−１
−ヒドロキシ−ｎ−ブチル）−３−ピリジンスルホンア
ミド（化合物番号２） エリスロ−２−（１−アセトキシ−２−フルオロ−ｎ
−ブチル）−Ｎ−〔4,6−ジメトキシピリミジン−２−
イル）アミノカルボニル〕ベンゼンスルホンアミド（化
合物番号３） エリスロ−Ｎ−〔（4,6−ジメトキシピリミジン−２
−イル）アミノカルボニル〕−２−（２−フルオロ−１
−ヒドロキシ−ｎ−ブチル）−ベンゼンスルホンアミド
（化合物番号４）等。

本発明化合物である前記式（Ｉ）で表される化合物の
エリスロ立体異性体は、対応するトレオ立体異性体ある
いはエリスロ及びトレオ立体異性体混合物に比較して、
卓越した除草活性を有する。

さらに加えて、前記式（Ｉ）で表される化合物のエリ
スロ立体異性体は、イネに対して優れた選択性を有する
ので、除草剤あるいは除草性組成物の有効成分として有
用である。

エリスロ立体化学を有する本発明化合物である純粋な
前記式（Ｉ）で表される化合物は、以下に記載する反応
によって製造することができる。しかしながら、本発明
化合物の製造方法は、これに限定されるものではない。

前記式（Ｉ）で表される化合物のうち、R¹が水素原子
である化合物は、前記式（Ｉ）で表される化合物のR¹が
アセチル基等のアシル基である化合物を、アルカリの存
在下に加水分解させることにより得ることができる。

前記アシル基を加水分解させるには、LiOH,KOH,NaOH,
Li₂CO₃,Na₂CO₃,K₂CO₃等のアルカリ、好ましくはLiOHを
用いる。この加水分解反応は、水、有機溶媒あるいは水
及び、例えばメタノール、エタノール、アセトン、テト
ラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等の不活性溶媒
との混合溶媒中、又は溶媒単独で行われる。また、この
反応は、０〜80℃の温度範囲で、１〜24時間かけて行わ
れる。次いで、塩酸を加えて反応液を酸性にすることに
より、反応生成物を容易に単離することができる。

他の単離方法として、反応液を酸性としたのち、メチ
レンクロリドや酢酸エチルなどによって抽出し、有機層
を分取したのち、濃縮することによっても目的物を得る
ことができる。また、必要に応じ、HPLCを用いて精製す
ることにより、純粋な目的物を得ることができる。

前記加水分解反応は、次に示す反応スキムに従って行
われる。

ここで、P,Q,R²,X及びＹは、前記と同じ意味を表し、
R¹は、水素原子を除き前記と同じ意味を表す。

また、前記式（Ｉ）で表される本発明化合物は、次式
（II）で表されるエリスロ立体異性体を、次式（III）
で表される化合物と反応させることによっても得ること
ができる。

ここで、P,Q,R¹,R²,X及びＹは、前記と同じ意味を表
す。

上記反応においては、不活性溶媒として、例えば、テ
トラヒドロフラン、アセトン、アセトニトリル、ジオキ
サン、メチレンクロリド、トルエン、ブタノン、ピリジ
ン、ジメチルホルムアミド等を用いることができる。

この反応は、好ましくは少量のDBU又はDABCO等の強塩
基の存在下に、20〜80℃で行われる。

上記反応は、USP.4,443,245号公報に言及されている
反応であり、その後はEP.44,807号公報記載の方法によ
って、反応液を酸性にすることにより目的物を得ること
ができる。必要に応じ、HPLCを用いて精製することによ
り、純粋な目的物を得ることができる。前記DBUは、1,8
−ジアザビシクロ［5.4.0］ウンデセ−７−エンを、DAB
COは、1,4−ジアザビシクロ［2.2.2］オクタンを表す。

また、前記式（Ｉ）の製造に用いる前記式（III）で
表される化合物は、従来法により容易に得ることができ
る。

一方、前記式（II）で表されるエリスロ立体異性体
は、次に示す反応スキムに従って製造することができ
る。

ここで、P,Q,R¹及びR²は、前記と同じ意味を表す。

前記式（II）で表されるエリスロ立体化学を有するス
ルホンアミド前駆体は、式（IV）で表されるＮ−ｔ−ブ
チルスルホンアミドを、例えば、トリフルオロ酢酸（TF
A）等の酸を、０〜50℃処理することにより得ることが
できる。

また、上記反応に用いられる前記式（IV）で表される
エリスロ立体異性体は、次式（Ｖ）で表される化合物
を、通常のアシル化反応によってアシル化させることに
よって得ることができる。

前記式（IV）で表される化合物の純粋なエリスロ立体
異性体は、前記式（IV）で表される化合物のトレオ及び
エリスロ立体異性体混合物を、例えば、カラムクロマト
グラフ、HPLCやprep−TLC等の通常の分離方法により得
ることができる。

次式（Ｖ）で表される化合物は、次式（VI）で表され
る化合物を、例えば、ジイソブチルアルミニウムハイド
ライド等の選択的還元剤を用いる選択的還元反応により
得ることができる。

ここで、P,Q及びR²は、前記と同じ意味を表し、DIBAL
・Ｈは、ジイソブチルアルミニウムハイドライドであ
る。上記反応においては、好ましくは、ＰはＮ、ＱはCH
である。

前記式（Ｖ）で表される化合物の純粋なエリスロ立体
異性体は、カラムクロマトグラフを用いて精製すること
により、容易に得ることができる。

前記式（IV）で表される化合物は、次の反応に示す他
のプロセスによっても得ることができる。

ここで、P,Q及びR²は、前記と同じ意味を表し、R
¹は、水素原子を除き前記と同じ意味を表し、Ｌは、ア
ルコキシ基、Ｎ（CH³）_２又はNCH₃（OCH³）で表される
基等を表す。

上記反応プロセスは、大韓民国特許第70,675号及び7
0,677号公報に開示されている。前記式（VII）で表され
る化合物のTHF溶液に、２当量のｎ−ブチルリチウム
を、−100〜＋30℃で加え、同温度で１〜24時間反応さ
せることによりジリチオ塩を得る。次いで、Ｌ−Ｃ（＝
Ｏ）−CHF−CH₂R²で表される化合物を、−100〜−40℃
で加えてケトンを得る。

ヒドロキシ化合物は、上記ケトンをNaNH₄で還元する
ことにより得ることができる。次いで、無水酢酸、DMAP
及びピリジンを用いるアシル化反応により、式（VIII）
で表される化合物（ここで、R¹はアセチル基である。）
を得ることができる。

前記式（IV）で表される化合物の純粋なエリスロ立体
異性体は、例えば、HPLC、カラムクロマトグラフ、prep
−TLC等の分離精製技術を用いることにより容易に得る
ことができる。

一方、除草剤として有用な前記式（Ｉ）で表される化
合物の塩は、従来から知られる種々の方法によって得る
ことができる。例えば、前記式（Ｉ）で表される化合物
の金属塩は、前記式（Ｉ）で表される化合物と、例え
ば、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の水酸化
物、アルコキシド若しくは炭酸塩等の強塩基アニオンや
四級アミンの溶液を作用させることにより得ることがで
きる。

また、前記式（Ｉ）で表される化合物の塩は、カチオ
ン交換によっても得ることができる。このカチオン交換
は、例えば、前記式（Ｉ）で表される化合物のアルカリ
金属若しくは四級アミン塩の水溶液等の交換される式
（Ｉ）で表される塩の溶液に、交換したいカチオンを含
有する溶液を直接反応させることによって得ることがで
きる。この方法は、目的とする塩が水に可溶性の場合、
特にナトリウム塩、カリウム塩又はカルシウム塩の場合
に有効である。

以上、本発明化合物の製造方法を簡潔にまとめて説明
したが、これらの方法は、スルホニルウレア又は有機組
成物の分野の当業者にとって、容易に実施することがで
きるものである。

前記式（Ｉ）で表される本発明化合物の代表例を次の
表１にまとめて示す。

本発明のエリスロ立体化学を有するスルホンアミド誘
導体は、除草剤として有用である。除草剤としての適用
方法を以下に説明する。

（適用） 本発明化合物は、発芽前処理又は発芽後処理除草剤及
び水田の水表面処理又は茎葉処理剤として高い除草活性
を有する。

本発明化合物の使用量は、種々のファクターのより決
定される。即ち、雑草の種類、気候、天候、選択される
剤型、適用方法や雑草の大きさ等に依存する。

有効成分は、一般的には、1g〜1kg/ha程度が用いられ
る。有機物質の含有量の少ない土壌、砂状土に散布する
場合、若い植物の場合や短時間の除草活性効果が必要な
場合においては、有効成分は比較的少量である。

本発明化合物は、イネや小麦畑の雑草、特に、広葉雑
草、イネ科雑草、一年生雑草又は多年生雑草のコントロ
ールのための活性成分として用いられる場合に特に有効
である。本発明化合物は、特にイヌビユに卓効を示す。

本発明化合物によりコントロールが可能な雑草の例を
以下に示す。

（雑草のリスト） 双子葉雑草種 カラシナ（Sinaps），マメグンバイナズマ（Lepidiu
m），ヤエムグラ（Galium），ハコベ（Stellaria），イ
ヌカミツレ（Matricaria），カミツレモドキ（Anthemi
s），ハキダメギク（Galinsoga），シロザ（Chenopodiu
m），イラクサ（Urtica），ノボロギク（Senecio），ハ
リビユ（Amaranrhus），スベリビユ（Portulaca），オ
ナモミ（Xanthium），ヒルガオ（Convolvulus），アサ
ガオ（Ipomoea），ミナヤナギ（Polygonum），クサネム
（Sesbania），ブタクサ（Ambrosia），アザミ（Cirsiu
m），ヒレアザミ（Carduus），ノゲシ（Sonchus），ホ
オズキ（Solanum），イヌガラシ（Rorippa），キカシグ
サ（Rotala），アゼナ（Lindernia），ホトケノザ（Lam
ium），イヌノフグリ（Veronica），アルブチロン（Arb
utilon），エメックス（Emex），チョウセンアサガオ
（Datura），スミレ（Viola），オドリコソウ（Galeops
is），ヒナゲシ（Papaver），ヤグルマギク（Centaure
a）， 単子葉雑草種 イヌビユ（Echinochloa），エノコログサ（Setari
a），キビ（Panicum），メシヒバ（Digitaria），オオ
アワノカエリ（Phleum），スズメノカタビラ（Poa），
ウシノケグサ（Festuca），オシヒバ（Eleusine），パ
ラグラス（Brachiaria），ライ麦（Lolium），イヌムギ
（Bromus），カラスムギ（Avena），ヒメガヤツリ（Cyp
erus），ジョンソングラス（Sorghum），ミズヒキ（Agr
opyron），ギョウギョウシバ（Cynodon），コナギ（ミ
ズアオイ、Monochoria），アゼテンツキヤマイ（Fimbri
stylis），オモダカ（ウリカワ、Sagitaria），マツバ
イ（Eleocharis），ホタルイ（Scirpus），スズメノヒ
ユ（Paspalum），タツノツメガヤ（Dactyloctenium），
ヌカボ（Agrostis），スズメノテッポウ（Alopecuru
s），アペラ（Apera），アメリカコナギ（Heterather
a），アゼカワ（Leptochloa）。

本発明化合物は、単独又は或いは２種、３種若しくは
４種の他の除草剤が添加された混合剤としても用いるこ
とができる。本発明化合物と混合して用いることのでき
る他の除草剤の例を以下に示す。本発明化合物と以下に
示す除草剤とを混合して用いることは、雑草をコントロ
ールする上で特に有効である。

一般名 アセトクロール（acetochlor），アシフルオルフェン
（acifluorfen）,AC252,214,AC263,499,アクロレイン
（acrolein），アラクロール（alachlor），アメチュリ
ン（ametryn），アミトロール（amitrole）,AMS,アシュ
ラム（asulam），アッシュア（assure），アトラジン
（atrazine）,BAS−514,バーバン（barban），ベネフィ
ン（benefin），ベンスルフロンメチル（bensulfuron
methyl），ベンスリド（bensulide），ベンタゾン（bet
azon），ベンゾフルオール（benzofluor），ベンゾイル
プロップ（benzoylprop），ビフェノックス（bifeno
x），ブロマシル（bromacil），ブロモキシニル（bromo
xynil），ブタクロール（butachlor），ブチダゾール
（buthidazole），ブタリン（butralin），ブチレート
（butylate），カコジリックアシッド（cacodylic aci
d）,CDAA,CDEC,CGA82725,CH−83,クロラムベン（chlora
mben），クロルブムロン（chlorbromuron），クロリム
ロンエチル（chlorimuron ethyl），クロロキュロン
（chloroxuron），クロルポルファム（chlorporpha
m），スクロルスルフロン（chlorsulfuron），クロルト
ルロン（chlortoluron），シンメスリン（cinmethyli
n），クレソジウム（clethodim），クロマゾン（clomaz
one），クロプロキシジム（cloproxydim），クロピラリ
ド（clopyralid）,CMA,シアナジン（cyanazine），シク
ロレート（cycloate），シクルロン（cycluron），サイ
パークワット（cyperquat），シプラジン（cyprazin
e），シプラゾール（cyprazole），シプロミド（cyprom
id），ダラポン（dalapon），ダゾメット（dazomet）,D
CPA,デスメジファム（desmediphan），デスメスリン（d
esmetryn,ディアレート（diallate），ダイカンバ（dic
amba），ジクルベニル（dichlorbenil），ディクロルプ
ロップ（dichlorprop），ジクロフォップ（dichlofo
p），ジエタニル（diethanyl），ジフェンゾクワット
（difenzoquat），ジニトラミン（dinitramine），ジノ
セブ（dinoseb），ジフェナミド（diphenamid），ジプ
ロペスリン（dipropetryn），ジクワット（diquat），
ジウロン（diuron）,DNOC,DOWCO453ME,DPX−M6316,DSM
A,エンドサール（endothall）,EPTC,エタルフルラリン
（ethalfluralin），エトフメセート（ethofumesat
e），エクスプレス（express），フェナック（fena
c），フェノキサプロップエチル（fenoxapropethyl），
フェヌロン（fenuron），フェヌロンTCA（fenuronTC
A），フラムプロップ（flamprop），フルアジホップ（f
luazifop），フルアジホップブチル（fluazifopbuty
l），フルアジホップ−Ｐ（fluazifop−Ｐ），フルクロ
ラリン（fluchloralin），フルメツロン（fluometuro
n），フルオロクロリドン（fluorochloridone），フル
オロジフェン（fluorodifen），フルオログリコフェン
（fluoroglycofen），フルリドン（fluridone），フォ
メサフェン（fomesafen），フォサミン（fosamine），
グリフォセート（glyphosate），ハロキシホップ（halo
xyfop），ハーモニィ（harmoney），ヘキサフルレート
（hexaflurate），ヘキサジノン（hexazinone）,HW−5
2,イマザメタベンツ（imazamethabenz），イマザピル
（imazapyr），イマザクィン（imazaquin），イマゼタ
ピル（imazethapyr），イオキシニル（ioxynil），イソ
プロパリン（isopropalin），イソプロツゥーロン（iso
proturon），イソウロン（isouron），イソキサベン（i
soxaben），カルブチレート（karbutilate），ラクトフ
ェン（lactofen），レナシル（lenacil），リニュロン
（linuron）,MAA,MAMA,MCPA,MCPB,メコプロップ（mecop
rop），メフルイジン（mefluidide），メタルプロパリ
ン（methalpropalin），メタベンツチアズロン（methab
enzthiazuron），メタム（metham），メタゾール（meth
azole），メトキュロン（methoxuron），メトラクロー
ル（metolachlor），メトリブジン（metribuzin），メ
トスルフロンメチル（metsulfuron methyl）,MH,モリ
ネート（molinate），モノリニュロン（monolinuro
n），モニュロン（monuron），モニュロンTCA（monuron
TCA）,MSMA,My−93,ナプロパミド（napropamide），ナ
プロアニリド（naproanilide），ナプタラム（naptala
m），ネブロン（neburon），ニトラリン（nitralin），
ニトロフルオルフェン（nitorofluorfen），ノレア（no
rea），ノルフルラゾン（norfrurazon）,NTN−801,オリ
ザリン（oryzalin），オキサジアゾン（oxadiazon），
オキシフルオルフェン（oxyfluorfen），パラコート（p
araquat），ペブレート（pebulate），ペンジメタリン
（pendimethalin），ペルフルイドン（perfluidone），
フェンメジファム（phenmedipham），ピクロラム（picl
oram）,PPG−1013,プレチラクロール（pretilachlo
r），プロシアジン（procyazine），プロフルラリン（p
rofluralin），プロメトン（prometon），プロメスリン
（prometryn），プロナミド（pronamide），プロパクロ
ール（propachlor），プロパニル（propanil），プロパ
ジン（propazine），プロファーム（propham），プロス
ルファリン（prosulfalin），ピナクロール（prynachlo
r），ピラゾン（pyrazon），ピラゾレート（pyrazolat
e），キザロホップ（quizalofop），キザロホップエチ
ル（quizalofop ethyl）,SC−2957,セクブメトン（sec
bumeton），セトキシジム（sethoxydim），シドュロン
（siduron），シマジン（simazine）,SL−49,スルホメ
ツロンメチル（sulfometuron methyl）,TCA,テブチウ
ロン（tebuthiuron），テルバシル（terbacil），テル
ブクロール（terbuchlor），テルブチラジン（terbuthy
lazine），テルブトール（terbutol），テルブツリン
（terbutryn），チアメツロンメチル（thiameturon me
thyl），チオベンカーブ（thiobencarb），トリアレー
ト（triallate），トリクロピル（triclopyr），トリジ
フェン（tridiphane,トリフルラリン（trifluralin），
トリメツロン（trimeturon）,2,4−D,2,4−DB,ベルノレ
ート（vernolate）,X−52,キシラクロール（xylachlo
r），サターン（Saturn）,KH−218,NSK−850,ピラゾキ
シフェン（pyrazoxyfen），ジメンジョン（dimensio
n）,CH−900,メフェナセット（mefenacet）,TSH−888,
ディムロン（dymron），ジメピペレート（dimepiperat
e），イソキサピリフォス（isoxapyrifos），フェノベ
ンツロン（phenobenzuron）,JC−940,エスプロカブ（es
procab），メチルベンカブ（methylbencab），フェノピ
レート（phenopylate），ベンフレゼート（benfuresat
e）,S−275,キンクロラック（quinclorac），ロンダッ
クス（londax）,NC−311,TH−913,HW−52,DEH−112,SKH
−301,ブロモブチド（bromobutide）,BAS517H,RE45601,
RE36290,RO173664,HOE075032,ICIA6051,DPX^a7881,MW80,
CGA136872,DPXV9360,DPXE9636,SL950,ICIA02957,CGAI42
464,MY15,MON7200,WL95481,DPXY6202,MON15100,SL160,I
CIA0224,LS83556,BAS518H,CGA131036,DPXL5300,HOE7054
2,ICIA0604,ICIA0574,LS846215 〔製剤〕 式（Ｉ）で表される化合物を用いる製剤は、通常用い
られる方法により製造することができる。これらには、
粉剤、粒剤、錠剤、液剤、フロアブル、乳濁剤、水和
剤、乳剤及びその類が含まれる。これらの多くは、直接
施用される。

散布用製剤は、適当な媒体を用いて製造することがで
き、１ヘクタール当たり数リットルから数百リットルの
散布容量で用いられる。高強度配合剤（high strength
compositions）は、次の製剤化のための中間体として
予備的に用いられる。この製剤は、広く、約0.1〜98.9
重量％の活性成分を含有し、少なくとも（１）約0.1％
〜20％の界面活性剤及び（２）１％〜99.8％の固体若し
くは液体からなる不活性な希釈剤を含有するのが好まし
い。より好ましくは、このような製剤は、次の表２に示
すような割合でこれらの成分を含有する。

活性成分の含有割合の下限又は上限は、もちろん使用
目的と化合物の物理的性質に依存する。界面活性剤と活
性成分の混合比が高い方がしばしば望ましく、又、製剤
中に組み入れる場合やタンクミックスの場合に好ましい
結果を与える。

典型的な固体状の希釈剤は、Watkinsらの総説（"Hand
book of Insecticide Dust Diluents and Carrie
r"2nd Ed.,Dorland Books,Caldwell,N.J.,）に記載さ
れている。また、他の固体の希釈剤も用いることができ
る。

水和剤を製造する場合には、より吸収性の希釈剤が好
ましく、粉剤を製造する場合には、より濃密な希釈剤が
好ましい。

典型的な液剤の希釈剤及び溶媒は、Masdenの総説（"S
olvents Guide",2nd Ed.,Interscience,New York,19
50）に記載されている。

濃縮液は、０℃において層分離しないものが好ましい
ので、濃縮懸濁剤の場合には、0.1％以下の溶解度のも
のが好ましい。

界面活性剤及びこれらの使用方法については、McCutc
heonの総説（McCutcheons'Detergents and Emulsifie
rs Annual.Mc Publishing Corp.,Ridgewood,N,
J.,）、及びSiselyらの総説（Sisely and Wood.,"Enc
yclopedia of Sufface Active Agents",Chemical
Publishing Co.,Inc.,New York,1964）に記載されて
いる。

なお、上述した全ての製剤は、少量の消泡剤、ケーキ
ング剤、コロジオン及び微生物菌体等の添加剤を含有し
ていてもよい。

このような組成物の製造方法はよく知られている。液
剤は特性をブレンド及び細かな固体組成物をブレンド
し、粉砕することによって得ることができる。

フロアブルは、粉引き法（milling method:USP.3,06
0,084号）により製造することができる。また、粒剤や
錠剤は、予め成型されたグラニュラーキャリアー（gran
ular carrier）上に活性成分をスプレーすることによ
り、あるいはアグロメレーション（agglomeration）法
（J.E.Browing,"Agglomeration"Chemical Engineerin
g,Dec.4,1967,pp147/"Perry's Chemical Engineer"s
Handbook",5th Ed.,Mcgraw−Hill,New York,1973,p
p8−57ff）により製造することができる。

製剤分野に関するより詳細な情報については、例え
ば、USP.3,235,361号公報、USP.3,309,192号公報、USP.
2,891,855号公報、G.C.Klinman,"Weed Control as
ａ Science",John Wiley and Sons,Inc.,New Yor
k,1961,pp.81−96、J.D.Fryer andS.A.Evans,"Weed C
ontrol Handbook",5th Ed.,Blackwell Scientific
Publications Oxford,968,pp.101−103等を参照された
い。

本発明化合物は、単独で用いることができるし、他の
市販の除草剤と組み合わせて用いることもできる。

以下、本発明化合物の製造及び使用方法について実施
例によりさらに詳細に説明する。

実施例１ エリスロ−２−（１−アセトキシ−２−フルオロ−ｎ−
ブチル）−Ｎ−（1,1−ジメチルエチル）−３−ピリジ
ンスルホンアミドの製造 エリスロ−Ｎ−（1,1−ジメチルエチル）−２−（２
−フルオロ−１−ヒドロキシ−ｎ−ブチル）−３−ピリ
ジンスルホンアミド（1.0g）のメチレンクロリド20ml溶
液に、無水酢酸0.37g、ピリジン0.29g及びN,N−ジメチ
ルアミノピリジン50mgを加え、反応混合物を２時間室温
で撹拌した。反応終了後、反応混合物を水で希釈し、５
％塩酸で酸性として、メチレンクロリド層を分取した。
有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄（２
回）したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過
し、濾液を濃縮することにより、目的物1.1gを得た。

¹H−NMR（200MHz,CDCl₃）：δ0.93（t,3H）,1.3（s,9
H）,1.6−1.9（m,2H）,2.8（s,3H）,4.6−5.0（m,1H）,
5.6（bs,1H）,6.54−6.61（dd,1H）,7.3−7.4（m,1H）,
8.2−8.3（m,1H）,8.65−8.75（m.1H） 実施例２ エリスロ−２−（１−アセトキシ−２−フルオロ−ｎ−
ブチル）−３−ピリジンスルホンアミドの製造 実施例１で得られたエリスロ−２−（１−アセトキシ
−２−フルオロ−ｎ−ブチル）−Ｎ−（1,1−ジメチル
エチル）−３−ピリジンスルホンアミドをトリフルオロ
酢酸20mlに溶解し、室温で一夜撹拌した。反応液を減圧
濃縮し、得られた残渣を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗
浄し、無水マグネシウムで乾燥し、濾過し、濾液を濃縮
した。得られた残渣を酢酸エチル/n−ヘキサンで処理す
ることにより、目的物0.5gを得た。

¹H−NMR（200MHz,CDCl₃）：δ1.06（t,3H）,1.6−2.1
（m,2H）,2.13（s,3H）,4.7−5.1（m,1H）,5.65（br,1
H）,6.61（t,1H）,7.4−7.5（m,1H）,8.4−8.5（m,1
H）,9.8−8.9（m,1H） 実施例３ エリスロ−２−（１−アセトキシ−２−フルオロ−ｎ−
ブチル）−Ｎ−〔4,6−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕−３−ピリジンスルホンアミド
（化合物番号１）の製造 エリスロ−２−（１−アセトキシ−２−フルオロ−ｎ
−ブチル）−３−ピリジンスルホンアミド（0.5g）のア
セトニトリル20ml溶液に、フェニル Ｎ−（4,6−ジメ
トキシピリミジン−２−イル）カルバメートを室温で加
えた。次いで、この反応混合物に、1,8−ジアザビシク
ロ［5.4.0］ウンデセ−７−エン（DBU）0.29gを加え、
室温で２時間撹拌した。反応液にメチレンクロリドを加
えて希釈し、５％塩酸で溶液を酸性とし、メチレンクロ
リドで抽出した。有機層を水で２回洗浄したのち、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、濾液を濃縮した。
得られた残渣をエチルエーテルで処理することにより、
目的物を白色結晶として0.6g得た。m.p.184−186℃ ¹H−NMR（200MHz,CDCl₃）：δ0.98（t,3H）,1.6−2.0
（m,2H）,2.04（s,3H）,3.99（s,6H）,4.7−5.1（m,1
H）,5.8（s,1H）,6.6−6.7（dd,1H）,7.3（br,1H）,7.4
5−7.55（m,1H）,8.6−8.7（m,1H）,8.8−8.9（m,1H） 実施例４ エリスロ−Ｎ−〔（4,6−ジメトキシピリミジン−２−
イル）アミノカルボニル〕−２−（２−フルオロ−１−
ヒドロキシ−ｎ−ブチル）−３−ピリジンスルホンアミ
ド（化合物番号２）の製造 エリスロ−２−（１−アセトキシ−２−フルオロ−ｎ
−ブチル）−Ｎ−〔4,6−ジメトキシピリミジン−２−
イル）アミノカルボニル〕−３−ピリジンスルホンアミ
ド0.3gをメタノール10mlに溶解し、この溶液に水酸化リ
チウム55mgを室温で加えて、４時間撹拌した。反応液を
メチレンクロリド100mlで希釈し、５％塩酸で酸性とし
て有機層を分取した。有機層を水で２回洗浄したのち、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、濾液を濃縮し
た。得られた残渣をエチルエーテルで処理することによ
り、目的物を固体として0.2g得た。m.p.129−130℃ 実施例５ エリスロ−２−（１−アセトキシ−２−フルオロ−ｎ−
ブチル）−Ｎ−〔4,6−ジメチトキシピリミジン−２−
イル）アミノカルボニル〕ベンゼンスルホンアミド（化
合物番号３）の製造 エリスロ−２−（１−アアセトキシ−２−フルオロ−
ｎ−ブチル）ベンゼンスルホンアミドの2gをアセトニト
リル20mlに溶解した。次いで、この溶液中に、フェニル
Ｎ−（4,6−ジメトキシピリミジン−２−イル）カル
バメートとDBU1mlを加え、30分間室温で撹拌した。反応
液にメチレンクロリド100mlを加えて希釈し、５％塩酸5
0mlを加えて酸性として、有機層を分取した。有機層を
水で２回洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、濾過し、濾液を濃縮した。得られた残渣を酢酸エチ
ル/n−へキサン／エチルエーテルで処理することによ
り、目的物を白色固体として2.6g得た。m.p.172−174℃ ¹H−NMR（200MHz,CDCl₃）：δ0.94（t,3H,J＝8Hz）,
1.54−1.80（m,2H）,2.00（s,3H）,3.99（s,6H）,4.66
−4.93（m,1H）,5.76（s,1H）,6.74（dd,1H,J₁＝14.8H
z,J₂＝3Hz）,7.14（brs,1H）,7.49−7.62（m,3H）,8.34
−8.35（m.1H）,13.06（brs,1H） IR（KBr）：ν（Ｃ＝Ｏ）1710,1755cm^-1 実施例６ エリスロ−Ｎ−〔4,6−ジメチトキシピリミジン−２−
イル）アミノカルボニル〕−２−（２−フルオロ−１−
ヒドロキシ−ｎ−ブチル）ベンゼンスルホンアミド（化
合物番号４）の製造 エリスロ−２−（１−アセトキシ−２−フルオロ−ｎ
−ブチル）−Ｎ−〔4,6−ジメチトキシピリミジン−２
−イル）アミノカルボニル〕ベンゼンスルホンアミドの
2gをテトラヒドロフラン60mlに溶解し、そこへ水酸化リ
チウム0.8gの水溶液10mlを室温で加えた。反応混合物を
12時間撹拌したのち、５％塩酸を０℃で加えて酸性と
し、酢酸エチル100mlで希釈した。有機層を分取し、水
で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過
し、濾液を濃縮した。得られた残渣をエチルエーテル/n
−ヘキサンで処理することにより、目的物を固体として
1.7g得た。m.p.132−134℃ ¹H−NMR（200MHz,CDCl₃）：δ0.95（t,3H,J＝8Hz）,
1.57−1.87（m,2H）,3.86−3.92（brs,1H）,3.96（s,6
H）,4.58−4.90（m,1H）,5.76（s,1H）,5.79−6.00（m,
1H）,7.27−8.16（m.5H）,12.83（brs,1H） IR（KBr）：ν（Ｃ＝Ｏ）1710cm^-1 実施例７ 以下に示す方法により、本発明化合物の除草活性試験
を温室内で行った。

発芽前処理試験 活性成分の１重量部をアセトン５重量部と混合し、乳
化剤としてアルキルアリル ポリグリコール エーテル
１重量部を加えて活性成分の簡易製剤を調製し、得られ
た溶液を水で所望の濃度に希釈した。次いで、試験植物
の種を普通土中に播種し、24時間後、前記活性成分の簡
易製剤の希釈液を散布した。

単位面積当たりの水の量を一定に保つことは好まし
い。

製剤中の活性化合物の濃度は重要ではなく、単位面積
当たりの活性化合物の量のみが重要であることは明らか
である。

３週間後、無処理区と比較して％ダメージで植物のダ
メージの度合いを算出した。値は次の意味を表す。

0％＝ノーダメージ（無処理区と同様） 20％＝少し効果あり 70％＝除草効果あり 100％＝完全に枯死 この試験において、前記実施例（製造例）で得らえた
活性化合物（Ｉ）は、単子葉雑草及び双子葉雑草に対し
て良好な除草活性を示した。

実施例８ 発芽後処理試験 活性成分の１重量部をアセトン５重量部と混合し、乳
化剤１重量部を加えて活性成分の簡易製剤を調製し、得
られた溶液を水で所望の濃度に希釈した。次いで、背丈
５−15cmの試験植物に前記活性成分の簡易製剤の希釈液
を、所定の散布濃度となるように散布した。本実施例で
は、2,000リットル水/haとなるようにした。

３週間後、無処理区と比較して％ダメージで植物のダ
メージの度合いを算出した。値は次の意味を表す。

0％＝ノーダメージ（無処理区と同様） 20％＝少し効果あり 70％＝除草効果あり 100％＝完全に枯死 この試験において、前記実施例（製造例）で得らえた
活性化合物（Ｉ）は、単子葉雑草及び双子葉雑草に対し
て良好な除草活性を示した。

実施例９ 新鮮な水で処理した水田浸水試験（Fresh−water tr
eatment paddy submergged test） 表面積60cm²又は140cm²のプラスチック製のポットに
少量の肥料を入れ、消毒剤の水田用土を5cmの深さにな
るように入れた。

次に、このポットに、イヌビユ（barnyard gras
s）、カヤツリグサ（umbrella plant），ヒマワリ（da
yflower）、コナギ（mochoria），トゥースカップ（too
thcup），シロバナサクラタデ（smartweed）及びホタル
イ（bulrush）等の種及びミズガヤツリ（flat−sedge）
及びウリカワ（arrowhead）等の地下茎（perennial nu
trition body）を土壌表面に播種又は移植し、さら
に、予め２−３葉期まで成長させたイネを深さ2cmで移
植した。

移植後、深さ2cmまで毎日水を散布し、先に製造した
簡易製剤（4mg/pot）を実際のフィールドと同様となる
ようにスポット処理を行った。

処理２週間後、除草効果を実際のフィールド条件と同
様となるようにして測定した。

前記の実施例は、あくまで例示であって、本発明を限
定するものではなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲の
他の実施態様も当業者に示唆するものであると理解され
る。

次の第３表に、活性成分の発芽前及び発芽後処理除草
活性試験結果を示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 239/47 Ｃ０７Ｄ 239/47 Ａ 401/12 401/12 // Ｃ０７Ｍ 7:00 (72)発明者 コー ヨウン クワン 大韓民国、305―333 デジョン、ユスン ―ク、ウヘン―ドン、99、ハンビットア パート 102―1702 (72)発明者 リュー ジェ ウック 大韓民国、305―333 デジョン、ユスン ―ク、ウヘン―ドン、99、ハンビットア パート 120―305 (72)発明者 ホン スン イエップ 大韓民国、305―343 デジョン、ユスン ―ク、ジャン―ドン、100 (72)発明者 ウー ジェ チュン 大韓民国、302―162 デジョン、セオ― ク、ドマ―２ドン、205、キュンナムア パート １―406 (72)発明者 クー ドン ホワン 大韓民国、305―333 デジョン、ユスン ―ク、ウヘン―ドン、99、ハンビットア パート 128―604 (72)発明者 ホワン イン テック 大韓民国、302―182 デジョン、セオー ク、カジャン―ドン、58―30 (56)参考文献 特表 平６−505729（ＪＰ，Ａ) 特表 平６−525254（ＪＰ，Ａ) 国際公開96／12708（ＷＯ，Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C07D 239/42 C07D 239/52 C07D 239/47 A01N 47/36 C07C 311/29 C07D 213/71 C07D 401/12 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (13)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】エリスロ立体化学を有する式（Ｉ）で表さ
   れる化合物。 ここで、Ｐ及びＱは、同一又は相異なって、それぞれCH
   又はＮを表し、Ｐ及びＱを含む芳香環は、ベンゼン又は
   ピリジン環を表す。 R¹は、H,R^a−Ｃ（＝Ｏ）又はR^a−X^a−Ｃ（＝Ｏ）で表さ
   れる基を表し、R^aは、C₁−C₃アルキル基、C₁−C₃ハロア
   ルキル基、C₂−C₃アルケニル基又はC₂−C₃アルキニル基
   を表し、X^aは、O,S,NH又はNR^a基基を表す。 R²は、C₁−C₂アルキル基を表し、又、 Ｘ及びＹは、それぞれ独立して、ハロゲン原子、C₁−C₂
   アルキル基、C₁−C₂アルコキシ基又はC₁−C₂ハロアルコ
   キシ基を表す。
2. 【請求項２】R¹は、水素原子またはアセチル基であり、 Ｐ及びＱは、同一又は相異なって、それぞれCH、Ｎであ
   り、 Ｘ及びＹは、それぞれ独立して、メトキシ基である請求
   項１記載の化合物。
3. 【請求項３】エリスロ−２−（１−アセトキシ−２−フ
   ルオロ−ｎ−ブチル）−Ｎ−〔4,6−ジメトキシピリミ
   ジン−２−イル）アミノカルボニル〕−３−ピリジンス
   ルホンアミドである請求項１記載の化合物。
4. 【請求項４】エリスロ−Ｎ−〔（4,6−ジメトキシピリ
   ミジン−２−イル）アミノカルボニル〕−２−（２−フ
   ルオロ−１−ヒドロキシ−ｎ−ブチル）−３−ピリジン
   スルホンアミドである請求項１記載の化合物。
5. 【請求項５】エリスロ−２−（１−アセトキシ−２−フ
   ルオロ−ｎ−ブチル）−Ｎ−〔4,6−ジメトキシピリミ
   ジン−２−イル）アミノカルボニル〕ベンゼンスルホン
   アミドである請求項１記載の化合物。
6. 【請求項６】エリスロ−Ｎ−〔（4,6−ジメトキシピリ
   ミジン−２−イル）アミノカルボニル〕−２−（２−フ
   ルオロ−１−ヒドロキシ−ｎ−ブチル）−ベンゼンスル
   ホンアミドである請求項１記載の化合物。
7. 【請求項７】エリスロ立体化学を有する式（II）で表さ
   れる中間体化合物。 ここで、R¹,R²,P及びＱは、請求項１で規定したのと同
   じ意味を表す。
8. 【請求項８】エリスロ−２−（１−アセトキシ−２−フ
   ルオロ−ｎ−ブチル）−３−ピリジンスルホンアミドで
   ある請求項７記載の中間体化合物。
9. 【請求項９】エリスロ−２−（１−アセトキシ−２−フ
   ルオロ−ｎ−ブチル）ベンゼンスルホンアミドである請
   求項７記載の中間体化合物。
10. 【請求項１０】式（Ｉ）で表される化合物の１種又は２
    種以上の化合物を有効成分として含有する除草性組成
    物。 ここで、P,Q,R¹,R²,X及びＹは、請求項１で規定したの
    と同じ意味を表す。
11. 【請求項１１】R¹は、水素原子又はアセチル基であり、
    ＱはCHを表し、ＰはＮを表し、Ｘ及びＹはそれぞれメト
    キシ基である、式（Ｉ）で表される化合物を有効成分と
    して含有する、請求項10記載の除草性組成物。
12. 【請求項１２】エリスロ−２−（１−アセトキシ−２−
    フルオロ−ｎ−ブチル）−Ｎ−〔4,6−ジメトキシピリ
    ミジン−２−イル）アミノカルボニル〕−３−ピリジン
    スルホンアミドである式（Ｉ）で表される化合物を有効
    成分として含有する、請求項10記載の除草性組成物。
13. 【請求項１３】エリスロ−Ｎ−〔（4,6−ジメトキシピ
    リミジン−２−イル）アミノカルボニル〕−２−（２−
    フルオロ−１−ヒドロキシ−ｎ−ブチル）−ベンゼンス
    ルホンアミドである式（Ｉ）で表される化合物を有効成
    分として含有する、請求項10記載の除草性組成物。