JP3074321B2 - 熱転写プリントレシーバーシート - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は熱転写プリント、詳細にはドナー
シートと共に用いるための熱転写プリントレシーバーシ
ートに関する。

【０００２】現在有効な熱転写プリント(TTP) 法は通常
共に用いるドナーシートからの像媒質の熱転写によるレ
シーバーシート上での像の発生を伴なう。ドナーシート
は典型的には通常ワックス及び／又は高分子樹脂バイン
ダーを含むインク媒質内に混入された昇華性染料を含む
転写層をコートした紙、合成紙又は高分子フィルム材料
の支持基材を含む。共に用いられるレシーバーシートは
通常その表面に染料受容性、高分子受容層を有する同じ
材料の支持基材を含む。それぞれの転写及び受容層を接
して配置されたドナー及びレシーバーシートを含む組立
てを例えばテレビ信号のような情報信号より得られるパ
ターン化された領域で選択的に加熱した場合、染料はド
ナーシートからレシーバーシートの染料受容性層に転写
され、そこに特定のパターンの単色像を形成する。異な
る単色染料でこの工程を繰り返すことにより、レシーバ
ーシート上に完全彩色された像が形成される。

【０００３】加熱された組立てより像形成されたシート
の分離を促進するため、転写層及びレシーブ層の少なく
とも１つはシリコーン油のような剥離剤を含む。

【０００４】シャープな像を発生させるに必要な強い局
部的加熱がレーザービームイメージングを含む種々の方
法により加えられるが、加熱プリントの従来の及び広く
用いられている方法は、例えば各ドットが独立の加熱素
子（所望により電気的に制御された）により表わされる
ドットマトリックス変化の熱プリントヘッドを含む。そ
のような接触プリントヘッドに伴なう問題は加熱され軟
化した組立て上のそれぞれの要素の圧力から生ずるレシ
ーバーシートの変形である。この変形はレシーバーシー
トの表面光沢の低下として表わされ、特にその表面が最
初滑らかでそして光沢がある、すわなち高品質手工芸品
の製造において需要がある種類のレシーバーシートにお
いて顕著である。圧力変形に伴なう他の問題は、像の圧
痕がレシーバーシートの背面、すなわちレシーブ層から
離れた基材の面上にみられる「貫通」の現象である。

【０００５】ＴＴＰシステムの工業的成功は、特に、適
当な強さ、コントラスト及び明確さを有する像の形成に
依存している。従って像の光学密度は重要な基準であ
り、特に受容層のガラス転移温度 (Ｔg)に依存してい
る。高い光学密度は低いＴg を有するポリマーより構成
された受容層により達成される。実際の取り扱いの困難
さはこの用途において用いられる低いＴg ポリマーの範
囲を限定する。例えば、受容層は粘着性であってはなら
ない。さらに、像の老化がおこり、その速度も高分子レ
シーバーシートのＴg に依存している。不幸にもＴg が
低いほど老化の速度は速い。像の老化は光学密度の低下
として示され、それはレシーバーシートの表面への染料
の拡散が原因であり、そこで染料の結晶化がおこる。

【０００６】像形成されたレシーバーシート上に体脂、
例えば指紋が接触すると像又は像の一部が損われる。レ
シーバーシートは体脂の劣化作用に対する改良された耐
性を示すことが必要である。

【０００７】ＴＴＰ法に用いるため種々のレシーバーシ
ートが提案されてきた。例えば、EP-A-0133012は基材及
びその上に像受容層を有し、染料浸透性剥離剤、例えば
シリコーン油が像受容層内又は像受容層の少なくとも一
部の上の剥離層として存在する熱転写性シートを開示し
ている。基材に用いられるため示された材料はコンデン
サー紙、グラシンペーパー、パーチメント紙、又は高度
のサイジングを有する紙もしくはプラスチックフィルム
（ポリエチレンテレフタレートを含む）の軟質薄シート
を含むが、例示された基材は主に合成紙（プロピレンポ
リマーをベースとすると考えられる）である。基材の厚
さは通常３〜50μｍのオーダーである。像受容層はエス
テル、ウレタン、アミド、ウレア、又は高い極性の結合
を有する樹脂をベースとしている。

【０００８】関連する欧州特許出願EP-A-0133011は、受
容層の暴露面が（ａ）− 100〜20℃のガラス転移温度を
有しそして極性基を有する合成樹脂、及び（ｂ）40℃以
上のガラス転移温度を有する合成樹脂をそれぞれ含む第
１及び第２の領域を含むことを除き、同様の基材及び像
形成層材料をベースとする熱転写性シートを開示してい
る。受容層は、基材層と共に用いる場合３〜50μｍ又は
独立に用いる場合60〜200 μｍの厚さを有する。

【０００９】上記のように、市販入手可能なＴＴＰレシ
ーバーシートに伴なう問題は、形成された像の不適当な
強さ及びコントラスト、保存の際の像の退色、及び体脂
と接触した際の像の劣化を含む。

【００１０】我々は上記欠点を低下させる又は実質的に
排除するＴＴＰ法において用いるためのレシーバーシー
トを発明した。

【００１１】従って、本発明は、その少なくとも一面に
ドナーシートから熱転写された染料を受け取る染料受容
性受容層を有する支持基材を含み、この受容層が炭素原
子数が15〜45である分枝炭素鎖を含む炭化水素基を40重
量％以下含むポリエステル樹脂を含む、相溶性ドナーシ
ートと共に用いるための熱転写プリントレシーバーシー
トを提供する。

【００１２】本発明はまた、その少なくとも一面にドナ
ーシートから熱転写された染料を受け取る染料受容性受
容層（この受容層は炭素原子数が15〜45である分枝炭素
鎖を含む炭化水素基を40重量％以下含むポリエステル樹
脂を含む）を有する支持基材を形成することを含む、相
溶性ドナーシートと共に用いるための熱転写プリントレ
シーバーシートの製造方法を提供する。

【００１３】本発明において、以下の用語はそこに示さ
れた意味を有する。

【００１４】シート：単一層だけでなく、多くの個々の
シートに分割可能な連続ウェブ又はリボン状構造も含
む。

【００１５】相溶性：ドナーシートに関し、ドナーシー
トが、熱により接触して置かれたレシーバーシートの受
容層へ浸透しそして像を形成できる染料で含浸されてい
ることを示す。

【００１６】不透明：受容シートの基材が可視光に対し
実質的に不浸透性であることを意味する。

【００１７】気孔のある：レシーバーシートの基材が不
連続な独立気泡を少なくとも一部含む気泡構造を含むこ
とを示す。

【００１８】フィルム：支持ベースの不存在において独
立に存在できる自立構造である。

【００１９】帯電防止：帯電防止層の塗布により処理し
たレシーバーシートが未処理シートに比較し、処理され
た表面において静電気の蓄積が低い傾向を示すことを意
味する。

【００２０】本発明に係るレシーバーシートの基材は紙
より形成してよいが、好ましくはあらゆる合成、フィル
ム形成、高分子材料より形成される。好適な熱可塑性材
料は、１−オレフィン、例えばエチレン、プロピレンも
しくはブテン−１のホモポリマーもしくはコポリマー、
ポリアミド、ポリカーボネート、及び特に１種以上のジ
カルボン酸もしくはその低級アルキル（６個以下の炭素
原子）ジエステル、例えばテレフタル酸、イソフタル
酸、フタル酸、２，５−、２，６−、又は２，７−ナフ
タレンジカルボン酸、琥珀酸、セバシン酸、アジピン
酸、アゼライン酸、４，４′−ジフェニルジカルボン
酸、ヘキサヒドロテレフタル酸又は１，２−ビス−ｐ−
カルボキシフェノキシエタン（所望によりピバル酸のよ
うなモノカルボン酸を含む）と１種以上のグリコール、
特に脂肪族グリコール、例えばエチレングリコール、
１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、
ネオペンチルグリコール及び１，４−シクロヘキサンメ
タノールとの縮合により得られる合成線状ポリエステル
を含む。例えば、英国特許第838708号に記載されている
ような、典型的には70〜125 ℃の温度で２つの互いに垂
直の方向に逐次延伸することにより二軸延伸されそして
好ましくは 150〜250 ℃の温度において熱硬化するフィ
ルムのようなポリエチレンテレフタレートフィルムが特
に好ましい。

【００２１】基材はポリアリールエーテルもしくはその
チオ同族体、特にポリアリールエーテルケトン、ポリア
リールエーテルスルホン、ポリアリールエーテルエーテ
ルケトン、ポリアリールエーテルエーテルスルホン、又
はこれらのコポリマーもしくはチオ同族体を含む。これ
らのポリマーの例は、EP-A-1879, EP-A-184458及びUS-A
-4008203に開示されており、特に好適な材料は商標STAB
ARとしてICIPLCより販売されているものである。これら
のポリマーのブレンドも用いてよい。

【００２２】好適な熱硬化性樹脂基材は、付加重合樹
脂、例えばアクリル、ビニル、ビスマレイミド及び不飽
和ポリエステル、ホルムアルデヒド縮合樹脂、例えばウ
レア、メラミンもしくはフェノールとの縮合体、シアネ
ート樹脂、官能化ポリエステル、ポリアミド又はポリイ
ミドを含む。

【００２３】本発明に係るレシーバーシート用のフィル
ム基材は一軸延伸であってよいが、好ましくは機械及び
物理特性の十分な組み合せを達成するためフィルムの面
において２つの互いに垂直方向に延伸することにより二
軸延伸されている。フィルムの形成は延伸高分子フィル
ムの製造に当該分野において公知の方法、例えばチュー
ブもしくはフラットフィルム法により行なわれる。

【００２４】チューブ方法において、同時二軸延伸は、
熱可塑性高分子チューブを押出し、続いて冷却し、再加
熱し、次いで内部ガス圧により膨脹させ横方向の延伸を
引きおこし、縦方向の延伸をおこす速方で引くことによ
り行なわれる。

【００２５】好ましいフラットフィルム法において、フ
ィルム形成ポリマーはスロットダイを通し押出され、冷
却したキャストドラム上で急速に冷却され、ポリマーは
非晶質状態に冷却される。次いで冷却した押出品をポリ
マーのガラス転移温度以上の温度において少なくとも一
方向に延伸することにより延伸が行なわれる。まずフラ
ットな冷却した押出品を一方向、通常は縦方向、すなわ
ちフィルム延伸機の進行方向に延伸し、次いで横方向に
延伸することにより逐次延伸が行なわれる。押出品の前
方延伸は回転するローラー上で又は２対のニップロール
の間で行なわれ、次いでテンター装置内で横延伸が行な
われる。延伸はフィルム形成ポリマーの特性により決定
される程度まで行なわれ、例えばポリエステルは通常延
伸されたポリエステルフィルムの寸法がその最初の寸法
の2.５〜4.５倍であるよう延伸される。

【００２６】延伸されたフィルムはポリマーの結晶化を
おこすため、フィルム形成ポリマーのガラス転移温度よ
り高いがその融点より低い温度において寸法拘束下熱硬
化により寸法安定化される。

【００２７】本発明の好ましい実施態様において、レシ
ーバーシートは不透明な基材を含む。不透明度はフィル
ムの厚さ及び充填材含量により異なるが、不透明基材フ
ィルムは好ましくは0.75〜1.75、特に1.２〜1.５の透過
光学密度 (Transmission Optical Density)(Sakuraデン
シトメーター、タイプPDA65 ；透過モード）を示す。

【００２８】レシーバーシート基材はフィルム形成合成
ポリマーへの有効量の不透明化剤の混入により不透明に
される。しかし、本発明の他の好ましい実施態様におい
て、不透明基材は上記のようにして気孔が与えられる。
従ってポリマー内に不透明な気孔のある基材構造を発生
できる試剤を有効量混入することが好ましい。好適な気
孔付与剤（これは不透明にもする）は、不相溶性樹脂充
填材、粒状無機充填材又はそのような充填材の２種以上
の混合物を含む。

【００２９】「不相溶性樹脂」とは、フィルムの押出及
び加工の間遭遇する最も高い温度において溶融しない、
又はポリマーと実質的に不混和性である樹脂を意味す
る。そのような樹脂はポリアミド及びオレフィンポリマ
ー、特にポリエスエルテルフィルムへの混入用にその分
子内に６個以下の炭素原子を含むモノ−α−オレフィン
のホモもしくはコポリマー、又はポリオレフィンフィル
ムへの混入用に前記の種類のポリエステルを含む。

【００３０】不透明な気孔のある基材用に好適な粒状無
機充填材は従来の無機顔料及び充填材、特に金属もしく
は非金属酸化物、例えばアルミナ、シリカ及びチタニ
ア、アルカリ土類金属塩、例えばカルシウム及びバリウ
ムのカーボネート及びスルフェートを含む。硫酸バリウ
ムが特に好ましい充填材であり、これは気孔付与剤とし
ても機能する。

【００３１】非気孔付与粒状無機充填材もフィルム形成
合成高分子基材に加えてよい。

【００３２】好適な気孔付与及び／又は非気孔付与充填
材は均一であり、本質的に単一の充填材もしくは化合
物、例えば二酸化チタンもしくは硫酸バリウムのみから
なる。又は、充填材の少なくとも一部は均一であり、主
要な充填材は他の改良成分を伴なう。例えば、主要な充
填材粒子は表面改良剤、例えば顔料、石鹸、表面カップ
リング剤もしくは他の改良剤により処理され充填材が基
材ポリマーと相溶性である程度を促進又は変えられる。

【００３３】本発明の好ましい実施態様において、レシ
ーバーシートは不相溶性樹脂及び粒状無機充填材（気孔
を形成してもしなくてもよい）、特に二酸化チタンのフ
ィルム形成ポリマーへの混入により不透明にされる。

【００３４】十分な不透明度、気孔及び白さを有する基
材の製造は、充填材が微粉砕されていることが必要であ
り、その平均粒度は望ましくは0.１〜10μｍであり、た
だし粒子の数の99.9％の実際の粒度は30μｍを越えな
い。好ましくは、充填材は0.１〜1.０μｍ、特に好まし
くは0.２〜0.75μｍの平均粒度を有する。粒度が小さい
ほど基材の光沢を改良する。

【００３５】粒度は電子顕微鏡又は沈降分析により測定
され、平均粒度は選ばれた粒度以下の粒子の割合を表わ
す累積分布カーブをプロットすることにより求められ
る。

【００３６】本発明に係るフィルム支持体に混入された
充填材粒子はどれも30μｍを越える実際の粒度を有しな
いことが好ましい。そのようなサイズを越える粒子は当
該分野において公知の篩分け法により除去される。しか
し、篩分け操作は選ばれたサイズより大きい粒子をすべ
て除去することにおいて常に成功するわけではない。従
って実際には粒子の数の99.9％のサイズは30μｍを越え
ないべきである。最も好ましくは、粒子の99.9％のサイ
ズは20μｍを越えるべきではない。

【００３７】ポリマー基材への不透明化／気孔付与剤の
混入は従来の方法、例えばポリマーが誘導されるモノマ
ー反応体との混合、又はフィルムの形成前に粒状もしく
はチップ形状のポリマーとの乾燥混合により行なわれ
る。

【００３８】基材ポリマーに混入される充填材、特に硫
酸バリウムの量は望ましくはポリマーの重量を基準とし
て５％未満、50％以上であるべきではない。特に不透明
及び光沢の十分なレベルは、充填材の混入が基材ポリマ
ーの重量を基準として約８〜30％、特に15〜20％である
場合達成される。

【００３９】通常比較的少量である他の添加材を所望に
よりフィルム基材に混入してよい。例えば、気孔付与を
促進するため25％までのチャイナクレーを、白色化を促
進するため 1500ppmまでの増白剤を、そして色を改良す
るため 10ppmまでの染料を混入してよい。

【００４０】本発明の好ましい実施態様において、基材
は我々の同時係属英国特許出願第 8817221.8号に記載さ
れているように少なくとも4.５％の変形指数（ＤＩ）を
示す。変形した基材の弾性回復はシャープな鮮明度及び
好ましいコントラストのＴＴＰ像の形成において重要で
あり、好ましい基材は約50％以下のＤＩを示す。

【００４１】必要なＤＩは基材ポリマーへの有効量の分
散性高分子軟化剤の混入により達成され、例えばオレフ
ィンポリマーはポリエチレンテレフタレート基材への混
入に好適である。低もしくは高密度ホモポリマー、例え
ばポリエチレン、ポリプロピレンもしくはポリ−４−メ
チルペンテン−１、又はオレフィンコポリマー、例えば
エチレン−プロピレンコポリマー、又はこれらの２種以
上の混合物が特に好適なオレフィンポリマー軟化剤であ
る。分散剤、例えばカルボキシル化ポリオレフィン、特
にカルボキシル化ポリエチレンは必要な特性を与えるた
めポリエチレンテレフタレート基材内にオレフィンポリ
マー軟化剤と共に混入される。

【００４２】基材の厚さはレシーバーシートの用途によ
り異なるが、 250μｍを越えず、好ましくは50〜190 μ
ｍ、特に 145〜180 μｍである。

【００４３】上記種類の基材を有するレシーバーシート
は（１）高品質の工芸品の強さ、コントラスト及び感覚
を有するプリントの形成に必須の白さ及び不透明度、
（２）プリントヘッドとの接触に伴なう表面変形及び像
浸透に対する改良された耐性に寄与する剛度、及び
（３）寸法安定性及びカール耐性を与える熱及び薬品に
対する安定度を含む多くの利点を与える。

【００４４】ＴＴＰを上記の種類の気孔のある基材の表
面上に直接行なう場合、形成された像の光学密度は低く
なる傾向にあり、得られるプリントの品質は通常劣って
いる。従って受容層は基材の少なくとも一面に必要とさ
れ、望ましくは（１）ドナーシートから熱転写される染
料に対する高い受容性、（２）許容される光沢のプリン
トの形成を確保するため熱プリントヘッドとの接触から
表面変形に対する耐性、及び（３）安定な像を保つ能力
を示す。

【００４５】本発明のレシーバーシートの受容層は、炭
素原子数が15〜45である分枝炭素鎖を含む少なくとも１
種の炭化水素基を40重量％以下含むポリエステル樹脂を
含む。少なくとも１種の炭化水素基の炭素鎖は15〜45
個、好ましくは25〜45個の炭素原子を含む。炭化水素基
の炭素鎖は好ましくはアルキルもしくはアルケニル基で
あり、分枝鎖であり、好ましくは少数、例えば１〜８
個、特に１〜４個、とりわけ１又は２個の枝を含む。

【００４６】受容層のポリエステル樹脂成分は好適には
１種以上の二塩基芳香族カルボン酸、例えばテレフタル
酸、イソフタル酸及びヘキサヒドロテレフタル酸、並び
に１種以上のグリコール、特に脂肪族グリコール、例え
ばエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール及びネオペンチルグリコールより得ら
れるコポリエステル樹脂を含む。炭化水素基は例えばグ
リコール又は好ましくはカルボン酸ルートによりポリエ
ステルに混入される。従って炭化水素基を含むグリコー
ル及び／又はヒドロカルビル基を含むジカルボン酸は選
ばれたジカルボン酸及び／又はグリコールと反応され、
本発明の受容層のポリエステル樹脂層を形成する。特に
好適な炭化水素基含有ジカルボン酸は34個の炭素原子を
含み、好ましくは鎖内に１個もしくは２個の分枝を有す
るアルキルもしくはアルケニル鎖、好ましくはオレイン
酸の二量体を含む。長鎖炭化水素酸の他の二量体、例え
ばパルミチン酸、ステアリン酸の二量体も好適である。
二量体は結合点において炭化水素基が線状脂肪族、環式
脂肪族もしくは芳香族成分を含むように形成される。炭
化水素基含有分枝炭素鎖は好ましくは結合点において線
状脂肪族、環式脂肪族及び芳香族成分を例えば20〜65／
35〜70／0.１〜15重量％の比で有する分子の混合物を含
む。

【００４７】十分な染料定着、染料保持性及び耐変形性
を与える特に好適なコポリエステルはエチレンテレフタ
レート、エチレンイソフタレート及びエチレンオレエー
トの二量体のコポリエステルである。エチレンテレフタ
レート：エチレンイソフタレートの好ましいモル比は1.
０〜9.０：1.０、特に1.９〜5.７：1.０、とりわけ約4.
６：1.０である。炭化水素基含有成分、好ましくはエチ
レンオレエートの二量体が好ましくは40重量％以下、よ
り好ましくは0.５〜20重量％、特に1.０〜20重量％、と
りわけ2.０〜8.０重量％の濃度でエチレンテレフタレー
ト及びエチレンイソフタレートを含むポリエステル樹脂
中に存在する。

【００４８】本発明の好ましい実施態様において、受容
層はさらに、我々の同時係属英国出願第 8909250.6に記
載されているように少なくとも１種の反可塑剤の層を0.
５〜30重量％含む。受容層へ混入するための反可塑剤は
好適には芳香族エステルを含み、標準合成有機法、例え
ば適当な酸とアルコールの間のエステル交換により製造
される。芳香族エステルは比較的小さな分子であり、そ
の分子量は1000を越えず、好ましく 500未満である。芳
香族エステルは好ましくはハロゲン化、より好ましくは
塩素化されているが、分子内におけるハロゲン化された
種の正確な位置はそれほど重要ではない。芳香族エステ
ルは好ましくは単一のベンゼン又はナフタレン環を有す
る。好適な非ハロゲン化芳香族エステルの例はジメチル
テレフタレート(DMT) 及び２，６−ジメチルナフタレン
テトラクロロフタル酸ジメチルエステル（TPDE）、特に
ヒドロキノンジクロロメチルエステル（HQDE）及び２，
５−ジクロロテレフタル酸ジメチルエステル（DTDE）を
含む。

【００４９】受容層の形態は必要とされる特性により異
なる。例えば、受容層ポリエステル樹脂は、転写された
像の光学密度を高めるため非晶質性、表面変形を低下さ
せるため結晶質、又は特性の適当なバランスを与えるた
め一部非晶質／結晶質である。

【００５０】受容層の厚さは広範囲にわたって異なる
が、通常50μｍを越えない。受容層の乾燥厚さは特定の
受容ポリマーに形成された像の光学密度を支配し、好ま
しくは0.５〜25μｍである。特に、不透明／気孔ポリマ
ー基材層と共に受容層の厚さを0.５〜10μｍの範囲内に
注意深く調節することにより、表面変形に対する十分な
改良が転写された像の光学密度を低下させることなく達
成される。

【００５１】基材層上での受容層の形成は従来の方法、
例えば好ましい基材層上へポリマーを流延することによ
り行なわれる。しかし、複合シート（基材及び受容層）
の形成は多オリフィスダイの個々のオリフィスを通すそ
れぞれのフィルム形成層の同時押出しを行ないその後ま
だ溶融している層を結合することによる、又はそれぞれ
のポリマーの溶融流れをダイマニホールドに至るチャン
ネル内で結合させ、その後混合することなく層流の状態
でダイオリフィスから押出すことによる同時押出しによ
り行なわれる。

【００５２】同時押出しされたシートは延伸され上記の
ような基材、好ましくは熱硬化性、の分子配向が行なわ
れる。通常、基材層の延伸に用いられる条件は受容層の
一部結晶化を誘導し、従って選ばれた温度において寸法
拘束下熱硬化し、所望の形態の受容層を形成することが
好ましい。従って、受容層の結晶溶融温度以下の温度で
熱硬化を行ない、そして複合体を冷却することにより受
容ポリマーは本質的に結晶質を保つ。しかし、受容層の
結晶溶融温度以上の温度で熱硬化することにより、本質
的に非晶質にされる。ポリエステル基材及びコポリエス
テル受容層を含むレシーバーシートの熱硬化は、実質的
に結晶質受容層を形成するため 175〜200 ℃で、又は本
質的に非晶質受容層を形成するため 200〜250 ℃の温度
で行なわれる。

【００５３】所望により、本発明に係るレシーバーシー
トには受容層から離れた基材の面に裏打層が提供され
る。特に好適な裏打層は我々の同時係属英国特許出願第
8816520.4に記載されているものであり、５〜250μｍ
の平均粒度の非フィルム形成不活性粒状材料及び高分子
樹脂バインダーを含む裏打層でる。この裏打層はシート
のスリップ、粘着防止及び一般的取扱い特性を改良する
に有効な量の粒状材料を含む。そのようなスリップ材は
裏打層の形成後のフィルム加工の間フィルムを形成しな
い粒状材料を含み、例えばシリカ、アルミナ、チャイナ
クレー及び炭酸カルシウムのような無機材料、又は高い
ガラス転移温度（Ｔg ＞75℃）を有する有機ポリマー、
例えばポリメチルメタクリレートもしくはポリスチレン
を含む。好ましいスリップ材は好ましくはコロイドゾル
として用いられるシリカであるが、コロイドアルミナゾ
ルも好適である。２種以上の粒状スリップ材の混合物も
所望により用いてよい。

【００５４】裏打層用の特に好適な高分子バインダー
は、アクリル酸及び／又はメタクリル酸及び／又はその
低級アルキル（６個までの炭素原子）のコポリマー、例
えばエチルアクリレートとメチルメタクリレートのコポ
リマー、メチルメタクリレート／ブチルアクリレート／
アクリル酸（55／27／18％及び36／24／40％のモル比）
のコポリマー、特に親水性官能基を含むコポリマー、例
えばメチルメタクリレートとメタクリル酸のコポリマ
ー、及び架橋性コポリマー、例えばエチルアクリレート
／メチルメタクリレート／アクリルアミドもしくはメタ
クリルアミドの46／46／８％のモル比のコポリマーを含
み、後者のポリマーは約25重量％のメチル化メラミン−
ホルムアルデヒド樹脂の存在下熱硬化性である場合特に
有効である。

【００５５】所望により、本発明に係るレシーバーシー
トはさらに帯電防止層を含んでよい。そのような帯電防
止層は受容層から離れた基材の面上に与えられ、又は裏
打層を用いる場合、受容層から離れた裏打層の表面上に
与えられる。従来の帯電防止剤を用いてよいが、高分子
帯電防止剤が好ましい。特に好適な高分子帯電防止剤は
我々の同時係属英国出願第 8815632.8号に記載されてい
るものであり、（ａ）エトキシ化ヒドロキシアミンのポ
リクロロヒドリンエーテル及び（ｂ）ポリグリコールジ
アミンを含み、成分（ａ）及び（ｂ）の総アルカリ金属
含量が（ａ）と（ｂ）の合わせた重量の0.５％を越えな
い帯電防止剤である。

【００５６】本発明の好ましい実施態様において、レシ
ーバーシートはＵＶ安定剤の混入により紫外線（ＵＶ）
に対し耐性にされる。安定剤はレシーバーシートのいず
れの層に存在してもよいが、好ましくは受容層に存在す
る。安定剤は独立の添加剤、又は好ましくは受容ポリマ
ーの鎖中の共重合した残基を含む。特に、受容ポリマー
がポリエステルである場合、ポリマー鎖は芳香族カルボ
ニル安定剤の共重合したエステル化残基を含む。好適に
は、そのようなエステル化残留物は、欧州特許出願EP-A
-31202に開示されているようなジ（ヒドロキシアルコキ
シ）クマリンの残基、EP-A-31203に開示されているよう
な２−ヒドロキシ−ジ（ヒドロキシアルコキシ）ベンゾ
フェノンの残基、 EP-A-6686に開示されているようなビ
ス（ヒドロキシアルコキシ）キサント−９−オンの残
基、及び特に好ましくはEP-A-76582に開示されているよ
うなヒドロキシ−ビス（ヒドロキシアルコキシ）キサン
ト−９−オンの残基を含む。前記安定剤中のアルコキシ
基は１〜10、好ましくは２〜４個の炭素原子を含み、例
えばエトキシ基である。エステル化残基の含量は受容ポ
リマーの総重量の0.01〜30％、好ましくは0.05〜10％で
ある。特に好ましい残基は１−ヒドロキシ−３，６−ビ
ス（ヒドロキシアルコキシ）キサント−９−オンの残基
である。

【００５７】本発明に係るレシーバーシートは、所望に
より受容層中に又は好ましくは離れた層として基材から
離れた受容層の暴露面上の少なくとも一部に剥離媒質を
含む。

【００５８】剥離媒質はドナーシートから転写された染
料に対し透過性であるべきであり、例えばドナーシート
に対しレシーバーシートの剥離特性を高めるためＴＴＰ
法において従来用いられてきた種の剥離剤を含む。好適
な剥離剤は固体ワックス、弗素化ポリマー、シリコーン
油（好ましくは硬化）、例えばエポキシ及び／又はアミ
ノ改質シリコーン油、及び特にオルガノポリシロキサン
樹脂を含む。オルガノポリシロキサン樹脂は受容層の暴
露面の少なくとも一部の離れた層として好適である。

【００５９】特に好適な剥離媒質は我々の同時係属英国
特許出願第 8815423.2号に記載されているものであり、
（ｉ）有機ポリイソシアネート、（ii）イソシアネート
反応性ポリジアルキルシロキサン、及び(iii) 高分子ポ
リオールの反応生成物である染料透過性ポリウレタン樹
脂を含む剥離媒質である。この高分子ポリオールは好ま
しくはポリカーボネートであり、これは剥離媒質に望ま
しい硬度を与える。

【００６０】剥離媒質は、所望によりさらに粒状助剤を
含んでよい。好適には、助剤は0.75μｍを越えない平均
粒度を有しそしてＴＴＰ操作の間遭遇する温度において
安定である有機もしくは無機粒状材料を含む。剥離媒質
に必要な助剤の量は必要な表面特性により異なり、通常
剥離媒質に対する助剤の重量比は0.25：１〜2.０：１で
ある。

【００６１】表面摩擦特性の所望の調節を与えるため、
助剤の平均粒度は0.75μｍを越えるべきではない。より
大きな平均粒度の粒子はレシーバーシートの光学特性、
例えば曇り度を低下させる。望ましくは、助剤の平均粒
度は 0.001〜0.５μｍ、好ましくは 0.005〜0.２μｍで
ある。

【００６２】剥離媒質を約50重量％までの量受容層に混
合し又は適当な溶媒もしくは分散体中その暴露面に加
え、その後例えば 100〜160 ℃、好ましくは 100〜120
℃の温度で乾燥し約５μｍ以下、好ましくは 0.025〜2.
０μｍの乾燥厚さを有する硬化した剥離層を形成してよ
い。剥離媒質の添加はレシーバーシートの製造のどの段
階で行ってもよい。従って、レシーバーシートの基材が
二軸延伸高分子フィルムを含む場合、受容層の表面への
剥離媒質の添加は延伸後のフィルムに又は前方及び横方
向フィルム延伸工程の間に行ってよい。

【００６３】所望により、剥離媒質はさらに媒質の広が
りを促進するため及びドナーシートから転写された染料
に対する透過性を改良するため界面活性剤を含んでよ
い。上記種類の剥離媒質はすぐれた光学特性を有し、表
面欠陥が全くなく、種々の染料に対し透過性であるレシ
ーバーシートを与え、多くの逐次剥離特性を与え、これ
によりレシーバーシートは異なる単色染料により像形成
され、完全に着色された像を与える。特に、ドナー及び
レシーバーシートのレジスターはしわ寄り、破断等の危
険性を伴なわずＴＴＰ操作の間容易に保たれる。

【００６４】図面、特に図４を参照し、ＴＴＰ法は転写
層８及び剥離層５が接してドナーシート及びレシーバー
シートを組立てることにより行なわれる。多くのプリン
ト要素11（その１つのみを示す）を含む電気的に活性化
された熱プリントヘッド10をドナーシートの保護層と接
してのせる。プリントヘッドに電圧を加えると選ばれた
個々のプリント要素11が熱くなり、それにより転写層の
下の領域から染料透過性剥離層５を通し受容層３へ染料
が昇華し、そこで加熱された要素の像12を形成する。得
られる像が形成されたレシーバーシートはドナーシート
より分離され、これを図５に示す。この工程を繰り返す
ことにより、所望の形状の多色像が受容層に形成され
る。本発明をさらに以下の実施例を参照し説明する。

【００６５】例１ ＴＴＰレシーバーシートを以下のようにして形成した。
18モル％のジメチルイソフタレート及び82モル％のジメ
チルテレフタレートの混合物を 180〜210 ℃において触
媒(Mn(OAc)2H₂O) の存在下 220モル％のエチレングリコ
ールと反応させた。反応生成物は18モル％のジ（ヒドロ
キシエトキシ）イソフタレート及び82モル％のビス（ヒ
ドロキシエトキシ）テレフタレートを含んでいた（＝モ
ノマー混合物Ａ）。

【００６６】100モル％のPripol 1009(オレイン酸の二
量体、Unichema International製) を 180〜200 ℃にお
いて90〜120 分間触媒(Mn(OAc)2H₂O) の存在下 220モル
％のエチレングリコールと反応させジヒドロキシエトキ
シ誘導体（＝モノマーＢ）を形成した。95モル％（85.8
重量％）のモノマー混合物Ａを５モル％（14.2重量％）
のモノマーＢと混合し、触媒(Sb₂O₃) の存在下 240℃に
40分間、次いで 290℃に75〜90分間加熱することにより
重縮合反応を行った。上記反応において形成されたター
ポリマーをクロロホルムに溶解し５重量％溶液を形成し
た。この溶液を、0.４μｍの平均粒度を有する微粉砕硫
酸バリウム充填材を18重量パーセント（ポリマー基準）
含む二軸延伸したポリエチレンテレフタレートの厚さ 1
25μｍのＡ４シート上にコートした。この溶液をコート
し2.５μｍの乾燥コート厚さを得た。クロロホルム溶剤
を蒸発させた後、コートしたポリエチレンテレフタレー
トシートを 120℃のオーブンに30秒間入れた。

【００６７】上記レシーバーシートのプリント特性は、
その一面にセルロース樹脂バインダー中マゼンタ染料を
含む厚さ約２μｍの転写層を有する厚さ約６μｍの二軸
延伸したポリエチレンテレフタレート基材を含むドナー
シートを用いて調べられた。

【００６８】転写及び受容層が接したドナー及びレシー
バーシートのサンプルを含むサンドウィチを熱転写プリ
ント機のゴムカバーしたドラム上にのせ、61mmの線密度
で配置されたピクセルの線形配列を含むプリントヘッド
を接触させた。パターン情報信号に従い、10ミリ秒（m
s）間約 350℃の温度にピクセルを選択的に加熱すると
マゼンタ染料はドナーシートの転写層から転写されレシ
ーバーシートの受容層内に加熱されたピクセルの対応す
る像を形成する。形成された像の反射光学密度(ROD) を
測定した。

【００６９】上記プリント法を、９，８，７，６，５，
４，３、及び２msのプリント時間で他のレシーバーシー
トのサンプルに繰り返した。結果を表１に示す。この表
及び他の表のＲＯＤの結果はすべて10回の平均値であ
る。

【００７０】例２ ターポリマーコーティングが10モル％（26重量％）のモ
ノマーＢを含むことを除き例１の方法を繰り返した。結
果を表１に示す。

【００７１】例３ ターポリマーコーティングが15モル％（35.8重量％）の
モルマーＢを含むことを除き例１の方法を繰り返した。
結果を表１に示す。

【００７２】例４ これは比較例であって、本発明に係るものではない。コ
ーティングがモノマー混合物Ａのコポリマーである、す
なわちモノマーＢが存在しないことを除いて例１の方法
を繰り返した。結果を表１に示す。

【００７３】例５ シアン染料をマゼンタ染料のかわりに用いることを除き
例１の方法を繰り返した。結果を表２に示す。

【００７４】例６ シアン染料をマゼンタ染料のかわりに用いることを除き
例２の方法を繰り返した。結果を表２に示す。

【００７５】例７ シアン染料をマゼンタ染料のかわりに用いることを除き
例３の方法を繰り返した。結果を表２に示す。

【００７６】例８ これは比較例であって、本発明に係るものではない。シ
アン染料をマゼンタ染料のかわりに用いることを除き例
４の方法を繰り返した。結果を表２に示す。

【００７７】例９ 黄色染料をマゼンタ染料のかわりに用いることを除き例
１の方法を繰り返した。結果を表３に示す。

【００７８】例10 黄色染料をマゼンタ染料のかわりに用いることを除き例
２の方法を繰り返した。結果を表３に示す。

【００７９】例11 黄色染料をマゼンタ染料のかわりに用いることを除き例
３の方法を繰り返した。結果を表３に示す。

【００８０】例12 これは比較例であって、本発明に係るものではない。黄
色染料をマゼンタ染料のかわりに用いることを除き例４
の方法を繰り返した。結果を表３に示す。

【００８１】例13〜15 ＲＯＤを測定する前にプリントしたレシーバーシートを
40℃のオーブンに 400時間入れることによって老化させ
ることを除き、例１，５、及び９の方法を繰り返した。
結果を表４に示す。

【００８２】例16〜18 ＲＯＤを測定する前にプリントしたレシーバーシートを
40℃のオーブンに 400時間入れることによって老化させ
ることを除き、例２，６、及び10の方法を繰り返した。
結果を表４に示す。

【００８３】例19〜21 これは比較例であって、本発明に係るものではない。Ｒ
ＯＤを測定する前にプリントしたレシーバーシートを40
℃のオーブンに 400時間入れることによって老化させる
ことを除き、例３，７、及び11の方法を繰り返した。結
果を表４に示す。

【００８４】例22〜24 ＲＯＤを測定する前にプリントしたレシーバーシートを
80℃のオーブンに40時間入れることによって老化させる
ことを除き、例１，５、及び９の方法を繰り返した。結
果を表５に示す。

【００８５】例24〜27 ＲＯＤを測定する前にプリントしたレシーバーシートを
80℃のオーブンに40時間入れることによって老化させる
ことを除き、例２，６、及び10の方法を繰り返した。結
果を表５に示す。

【００８６】例28〜30 これは比較例であって、本発明に係るものではない。Ｒ
ＯＤを測定する前にプリントしたレシーバーシートを80
℃のオーブンに40時間入れることによって老化させるこ
とを除き、例３，７、及び11の方法を繰り返した。結果
を表５に示す。

【００８７】例31 Pripol 1009のかわりにPripol 1008(オレイン酸の二量
体、Unichema International製）を用いることを除き例
１の方法を繰り返した。得られるターポリマーは Pripo
l 1008由来のモノマーＢを10モル％含んでいた。得られ
るレシーバーシートを40℃のオーブンに 400時間入れる
ことによって老化させた。上記レシーバーシートの老化
前及び後のプリント特性を10msのプリント時間及びマゼ
ンタ染料を用いて調べた。結果を表６に示す。

【００８８】例32 Pripol 1008のかわりにPripol 1004(オレイン酸の二量
体、Unichema International製）を用いることを除き例
31の方法を繰り返した。結果を表６に示す。例33〜37 ターポリマー中のモノマーＢの量がそれぞれ２，４，
６，８及び10重量％であることを除き例31の方法を繰り
返した。結果を表７に示す。

【００８９】例38 これは比較例であって、本発明に係るものではない。コ
ーティングがモノマー混合物Ａのコポリマーである、す
なわちモノマーＢが存在しないことを除いて例31の方法
を繰り返した。結果を表７に示す。

【００９０】例39 例１により製造されたレシーバーシート上に熱転写プリ
ントにより形成されたプリントの表面に対する体脂の作
用を、鼻の片側を指で擦り、次いでこの指をプリントし
たレシーバーシートの上に擦ることによって調べた。像
の汚れは全く見られなかった。

【００９１】例40 これは比較例であって、本発明に係るものではない。レ
シーバーシートを例４に従い製造することを除き例39の
方法を繰り返した。プリントした像は、像の明るい部分
を横切る像の暗い部分の汚れのような劣化を示した。

【００９２】

【表１】

【００９３】

【表２】

【００９４】

【表３】

【００９５】

【表４】

【００９６】

【表５】

【００９７】

【表６】

【００９８】

【表７】

【００９９】好ましい特性 上記のように、本発明に係るレシーバーシートが以下の
好ましい特性を独立に又は組み合わせて示す。 １．ポリエステル樹脂の炭化水素基の分枝炭素鎖は25〜
45個の炭素原子を含む。 ２．炭素鎖はアルキル及び／又はアルケニル基である。 ３．炭化水素基はオレイン酸の二量体より得られる。 ４．ポリエステル樹脂はエチレンテレフタレート及びエ
チレンイソフタレートを含む。 ５．レシーバーシートの基材は不透明である。 ６．基材は不混和性樹脂充填材又は粒状無機充填材を含
む気孔付与剤を有効量含む。 ７．基材中の充填材は硫酸バリウムを含む。 ８．基材は延伸したポリエチレンテレフタレートフィル
ムを含む。

【図面の簡単な説明】

【図１】その第１の面に染料受容層３及び第２の面に裏
打層４を有する高分子支持基材２を含むＴＴＰレシーバ
ーシート１の一部の略図。

【図２】レシーバーシートが独立の剥離層５を含むＴＴ
Ｐレシーバーシートの略図。

【図３】その一面に樹脂バインダー中の昇華性染料を含
む転写層８、及び第２の面に高分子保護層９を有する高
分子基材７を含む相溶性ＴＴＰドナーシート６の略図。

【図４】ＴＴＰ法の略図。

【図５】像を形成したレシーバーシートの略図。

【符号の説明】

１…レシーバーシート ２…基材 ３…染料受容層 ４…裏打層 ５…剥離層 ６…ドナーシート ７…基材 ８…転写層 ９…保護層 10…熱プリントヘッド 11…印刷要素

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 67/00 Ｃ０８Ｌ 67/00 67/08 67/08 (72)発明者 ケビン ペイン イギリス国，クリーブランド ティーエ ス６ ８ジェイイー，ミドルスブラ，ウ ィルトン，ピー．オー．ボックス 90 (56)参考文献 特開 平２−1382（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−112991（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−7972（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−7973（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−7971（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−124492（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−216384（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B41M 5/38 - 5/40

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 相溶性ドナーシートと共に用いるための
   熱転写プリントレシーバーシートであって、その少なく
   とも一面上にドナーシートから熱転写された染料を受け
   取るための染料受容性受容層を有する支持基材を含み、
   この受容層が炭素原子数が15〜45である分枝炭素鎖を含
   む炭化水素基を40重量％以下含むポリエステル樹脂を含
   むことを特徴とするレシーバーシート。
2. 【請求項２】 その少なくとも一面にドナーシートから
   熱転写された染料を受け取るための染料受容性受容層を
   有する支持基材を形成することを含む、相溶性ドナーシ
   ートと共に用いるための熱転写プリントレシーバーシー
   トの製造方法であって、受容層が炭素原子数が15〜45で
   ある分枝炭素鎖を含む炭化水素基を40重量％以下含むポ
   リエステル樹脂を含むことを特徴とする方法。