JPH04232097A - 熱転写プリントレシーバーシート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は熱転写プリント、詳細にはドナー
シートと共に用いるための熱転写プリントレシーバーシ
ートに関する。

【０００２】現在有効な熱転写プリント（ＴＴＰ）　法
は通常共に用いるドナーシートからの像媒質の熱転写に
よるレシーバーシート上での像の発生を伴なう。ドナー
シートは典型的には通常ワックス及び／又は高分子樹脂
バインダーを含むインク媒質内に混入された昇華性染料
を含む転写層をコートした紙、合成紙又は高分子フィル
ム材料の支持基材を含む。共に用いられるレシーバーシ
ートは通常その表面に染料受容性、高分子受容層を有す
る同じ材料の支持基材を含む。それぞれの転写及び受容
層を接して配置されたドナー及びレシーバーシートを含
む組立てを例えばテレビ信号のような情報信号より得ら
れるパターン化された領域で選択的に加熱した場合、染
料はドナーシートからレシーバーシートの染料受容性層
に転写され、そこに特定のパターンの単色像を形成する
。異なる単色染料でこの工程を繰り返すことにより、レ
シーバーシート上に完全彩色された像が形成される。

【０００３】加熱された組立てより像形成されたシート
の分離を促進するため、転写層及びレシーブ層の少なく
とも１つはシリコーン油のような剥離剤を含む。

【０００４】シャープな像を発生させるに必要な強い局
部的加熱がレーザービームイメージングを含む種々の方
法により加えられるが、加熱プリントの従来の及び広く
用いられている方法は、例えば各ドットが独立の加熱素
子（所望により電気的に制御された）により表わされる
ドットマトリックス変化の熱プリントヘッドを含む。そ
のような接触プリントヘッドに伴なう問題は加熱され軟
化した組立て上のそれぞれの要素の圧力から生ずるレシ
ーバーシートの変形である。この変形はレシーバーシー
トの表面光沢の低下として表わされ、特にその表面が最
初滑らかでそして光沢がある、すわなち高品質手工芸品
の製造において需要がある種類のレシーバーシートにお
いて顕著である。圧力変形に伴なう他の問題は、像の圧
痕がレシーバーシートの背面、すなわちレシーブ層から
離れた基材の面上にみられる「貫通」の現象である。

【０００５】ＴＴＰシステムの工業的成功は、特に、適
当な強さ、コントラスト及び明確さを有する像の形成に
依存している。従って像の光学密度は重要な基準であり
、特に受容層のガラス転移温度　（Ｔｇ）に依存してい
る。高い光学密度は低いＴｇ　を有するポリマーより構
成された受容層により達成される。実際の取り扱いの困
難さはこの用途において用いられる低いＴｇ　ポリマー
の範囲を限定する。例えば、受容層は粘着性であっては
ならない。さらに、像の老化がおこり、その速度も高分
子レシーバーシートのＴｇ　に依存している。不幸にも
Ｔｇ　が低いほど老化の速度は速い。像の老化は光学密
度の低下として示され、それはレシーバーシートの表面
への染料の拡散が原因であり、そこで染料の結晶化がお
こる。

【０００６】像形成されたレシーバーシート上に体脂、
例えば指紋が接触すると像又は像の一部が損われる。レ
シーバーシートは体脂の劣化作用に対する改良された耐
性を示すことが必要である。

【０００７】ＴＴＰ法に用いるため種々のレシーバーシ
ートが提案されてきた。例えば、ＥＰ−Ａ−０１３３０
１２は基材及びその上に像受容層を有し、染料浸透性剥
離剤、例えばシリコーン油が像受容層内又は像受容層の
少なくとも一部の上の剥離層として存在する熱転写性シ
ートを開示している。基材に用いられるため示された材
料はコンデンサー紙、グラシンペーパー、パーチメント
紙、又は高度のサイジングを有する紙もしくはプラスチ
ックフィルム（ポリエチレンテレフタレートを含む）の
軟質薄シートを含むが、例示された基材は主に合成紙（
プロピレンポリマーをベースとすると考えられる）であ
る。基材の厚さは通常３〜５０μｍのオーダーである。 像受容層はエステル、ウレタン、アミド、ウレア、又は
高い極性の結合を有する樹脂をベースとしている。

【０００８】関連する欧州特許出願ＥＰ−Ａ−０１３３
０１１は、受容層の暴露面が（ａ）−　１００〜２０℃
のガラス転移温度を有しそして極性基を有する合成樹脂
、及び（ｂ）４０℃以上のガラス転移温度を有する合成
樹脂をそれぞれ含む第１及び第２の領域を含むことを除
き、同様の基材及び像形成層材料をベースとする熱転写
性シートを開示している。受容層は、基材層と共に用い
る場合３〜５０μｍ又は独立に用いる場合６０〜２００
　μｍの厚さを有する。

【０００９】上記のように、市販入手可能なＴＴＰレシ
ーバーシートに伴なう問題は、形成された像の不適当な
強さ及びコントラスト、保存の際の像の退色、及び体脂
と接触した際の像の劣化を含む。

【００１０】我々は上記欠点を低下させる又は実質的に
排除するＴＴＰ法において用いるためのレシーバーシー
トを発明した。

【００１１】従って、本発明は、その少なくとも一面に
ドナーシートから熱転写された染料を受け取る染料受容
性受容層を有する支持基材を含み、この受容層が炭素原
子を７個より多く含む炭素鎖を含むヒドロカルビル基を
含むポリエステル樹脂を含む、相溶性ドナーシートと共
に用いるための熱転写プリントレシーバーシートを提供
する。

【００１２】本発明はまた、その少なくとも一面にドナ
ーシートから熱転写された染料を受け取る染料受容性受
容層（この受容層は炭素原子を７個より多く含む炭素鎖
を含むヒドロカルビル基を含むポリエステル樹脂を含む
）を有する支持基材を形成することを含む、相溶性ドナ
ーシートと共に用いるための熱転写プリントレシーバー
シートの製造方法を提供する。

【００１３】本発明において、以下の用語はそこに示さ
れた意味を有する。

【００１４】シート：単一層だけでなく、多くの個々の
シートに分割可能な連続ウェブ又はリボン状構造も含む
。

【００１５】相溶性：ドナーシートに関し、ドナーシー
トが、熱により接触して置かれたレシーバーシートの受
容層へ浸透しそして像を形成できる染料で含浸されてい
ることを示す。

【００１６】不透明：受容シートの基材が可視光に対し
実質的に不浸透性であることを意味する。

【００１７】気孔のある：レシーバーシートの基材が不
連続な独立気泡を少なくとも一部含む気泡構造を含むこ
とを示す。

【００１８】フィルム：支持ベースの不存在において独
立に存在できる自立構造である。

【００１９】帯電防止：帯電防止層の塗布により処理し
たレシーバーシートが未処理シートに比較し、処理され
た表面において静電気の蓄積が低い傾向を示すことを意
味する。

【００２０】本発明に係るレシーバーシートの基材は紙
より形成してよいが、好ましくはあらゆる合成、フィル
ム形成、高分子材料より形成される。好適な熱可塑性材
料は、１−オレフィン、例えばエチレン、プロピレンも
しくはブテン−１のホモポリマーもしくはコポリマー、
ポリアミド、ポリカーボネート、及び特に１種以上のジ
カルボン酸もしくはその低級アルキル（６個以下の炭素
原子）ジエステル、例えばテレフタル酸、イソフタル酸
、フタル酸、２，５−、２，６−、又は２，７−ナフタ
レンジカルボン酸、琥珀酸、セバシン酸、アジピン酸、
アゼライン酸、４，４′−ジフェニルジカルボン酸、ヘ
キサヒドロテレフタル酸又は１，２−ビス−ｐ−カルボ
キシフェノキシエタン（所望によりピバル酸のようなモ
ノカルボン酸を含む）と１種以上のグリコール、特に脂
肪族グリコール、例えばエチレングリコール、１，３−
プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ネオペン
チルグリコール及び１，４−シクロヘキサンメタノール
との縮合により得られる合成線状ポリエステルを含む。 例えば、英国特許第８３８７０８号に記載されているよ
うな、典型的には７０〜１２５　℃の温度で２つの互い
に垂直の方向に逐次延伸することにより二軸延伸されそ
して好ましくは　１５０〜２５０　℃の温度において熱
硬化するフィルムのようなポリエチレンテレフタレート
フィルムが特に好ましい。

【００２１】基材はポリアリールエーテルもしくはその
チオ同族体、特にポリアリールエーテルケトン、ポリア
リールエーテルスルホン、ポリアリールエーテルエーテ
ルケトン、ポリアリールエーテルエーテルスルホン、又
はこれらのコポリマーもしくはチオ同族体を含む。これ
らのポリマーの例は、ＥＰ−Ａ−１８７９，　ＥＰ−Ａ
−１８４４５８及びＵＳ−Ａ−４００８２０３に開示さ
れており、特に好適な材料は商標ＳＴＡＢＡＲとしてＩ
ＣＩＰＬＣより販売されているものである。これらのポ
リマーのブレンドも用いてよい。

【００２２】好適な熱硬化性樹脂基材は、付加重合樹脂
、例えばアクリル、ビニル、ビスマレイミド及び不飽和
ポリエステル、ホルムアルデヒド縮合樹脂、例えばウレ
ア、メラミンもしくはフェノールとの縮合体、シアネー
ト樹脂、官能化ポリエステル、ポリアミド又はポリイミ
ドを含む。

【００２３】本発明に係るレシーバーシート用のフィル
ム基材は一軸延伸であってよいが、好ましくは機械及び
物理特性の十分な組み合せを達成するためフィルムの面
において２つの互いに垂直方向に延伸することにより二
軸延伸されている。フィルムの形成は延伸高分子フィル
ムの製造に当該分野において公知の方法、例えばチュー
ブもしくはフラットフィルム法により行なわれる。

【００２４】チューブ方法において、同時二軸延伸は、
熱可塑性高分子チューブを押出し、続いて冷却し、再加
熱し、次いで内部ガス圧により膨脹させ横方向の延伸を
引きおこし、縦方向の延伸をおこす速方で引くことによ
り行なわれる。

【００２５】好ましいフラットフィルム法において、フ
ィルム形成ポリマーはスロットダイを通し押出され、冷
却したキャストドラム上で急速に冷却され、ポリマーは
非晶質状態に冷却される。次いで冷却した押出品をポリ
マーのガラス転移温度以上の温度において少なくとも一
方向に延伸することにより延伸が行なわれる。まずフラ
ットな冷却した押出品を一方向、通常は縦方向、すなわ
ちフィルム延伸機の進行方向に延伸し、次いで横方向に
延伸することにより逐次延伸が行なわれる。押出品の前
方延伸は回転するローラー上で又は２対のニップロール
の間で行なわれ、次いでテンター装置内で横延伸が行な
われる。延伸はフィルム形成ポリマーの特性により決定
される程度まで行なわれ、例えばポリエステルは通常延
伸されたポリエステルフィルムの寸法がその最初の寸法
の２．５〜４．５倍であるよう延伸される。

【００２６】延伸されたフィルムはポリマーの結晶化を
おこすため、フィルム形成ポリマーのガラス転移温度よ
り高いがその融点より低い温度において寸法拘束下熱硬
化により寸法安定化される。

【００２７】本発明の好ましい実施態様において、レシ
ーバーシートは不透明な基材を含む。不透明度はフィル
ムの厚さ及び充填材含量により異なるが、不透明基材フ
ィルムは好ましくは０．７５〜１．７５、特に１．２〜
１．５の透過光学密度　（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ　
Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｄｅｎｓｉｔｙ）（Ｓａｋｕｒａデン
シトメーター、タイプＰＤＡ６５　；透過モード）を示
す。

【００２８】レシーバーシート基材はフィルム形成合成
ポリマーへの有効量の不透明化剤の混入により不透明に
される。しかし、本発明の他の好ましい実施態様におい
て、不透明基材は上記のようにして気孔が与えられる。 従ってポリマー内に不透明な気孔のある基材構造を発生
できる試剤を有効量混入することが好ましい。好適な気
孔付与剤（これは不透明にもする）は、不相溶性樹脂充
填材、粒状無機充填材又はそのような充填材の２種以上
の混合物を含む。

【００２９】「不相溶性樹脂」とは、フィルムの押出及
び加工の間遭遇する最も高い温度において溶融しない、
又はポリマーと実質的に不混和性である樹脂を意味する
。そのような樹脂はポリアミド及びオレフィンポリマー
、特にポリエスエルテルフィルムへの混入用にその分子
内に６個以下の炭素原子を含むモノ−α−オレフィンの
ホモもしくはコポリマー、又はポリオレフィンフィルム
への混入用に前記の種類のポリエステルを含む。

【００３０】不透明な気孔のある基材用に好適な粒状無
機充填材は従来の無機顔料及び充填材、特に金属もしく
は非金属酸化物、例えばアルミナ、シリカ及びチタニア
、アルカリ土類金属塩、例えばカルシウム及びバリウム
のカーボネート及びスルフェートを含む。硫酸バリウム
が特に好ましい充填材であり、これは気孔付与剤として
も機能する。

【００３１】非気孔付与粒状無機充填材もフィルム形成
合成高分子基材に加えてよい。

【００３２】好適な気孔付与及び／又は非気孔付与充填
材は均一であり、本質的に単一の充填材もしくは化合物
、例えば二酸化チタンもしくは硫酸バリウムのみからな
る。又は、充填材の少なくとも一部は均一であり、主要
な充填材は他の改良成分を伴なう。例えば、主要な充填
材粒子は表面改良剤、例えば顔料、石鹸、表面カップリ
ング剤もしくは他の改良剤により処理され充填材が基材
ポリマーと相溶性である程度を促進又は変えられる。

【００３３】本発明の好ましい実施態様において、レシ
ーバーシートは不相溶性樹脂及び粒状無機充填材（気孔
を形成してもしなくてもよい）、特に二酸化チタンのフ
ィルム形成ポリマーへの混入により不透明にされる。

【００３４】十分な不透明度、気孔及び白さを有する基
材の製造は、充填材が微粉砕されていることが必要であ
り、その平均粒度は望ましくは０．１〜１０μｍであり
、ただし粒子の数の９９．９％の実際の粒度は３０μｍ
を越えない。好ましくは、充填材は０．１〜１．０μｍ
、特に好ましくは０．２〜０．７５μｍの平均粒度を有
する。粒度が小さいほど基材の光沢を改良する。

【００３５】粒度は電子顕微鏡又は沈降分析により測定
され、平均粒度は選ばれた粒度以下の粒子の割合を表わ
す累積分布カーブをプロットすることにより求められる
。

【００３６】本発明に係るフィルム支持体に混入された
充填材粒子はどれも３０μｍを越える実際の粒度を有し
ないことが好ましい。そのようなサイズを越える粒子は
当該分野において公知の篩分け法により除去される。し
かし、篩分け操作は選ばれたサイズより大きい粒子をす
べて除去することにおいて常に成功するわけではない。 従って実際には粒子の数の９９．９％のサイズは３０μ
ｍを越えないべきである。最も好ましくは、粒子の９９
．９％のサイズは２０μｍを越えるべきではない。

【００３７】ポリマー基材への不透明化／気孔付与剤の
混入は従来の方法、例えばポリマーが誘導されるモノマ
ー反応体との混合、又はフィルムの形成前に粒状もしく
はチップ形状のポリマーとの乾燥混合により行なわれる
。

【００３８】基材ポリマーに混入される充填材、特に硫
酸バリウムの量は望ましくはポリマーの重量を基準とし
て５％未満、５０％以上であるべきではない。特に不透
明及び光沢の十分なレベルは、充填材の混入が基材ポリ
マーの重量を基準として約８〜３０％、特に１５〜２０
％である場合達成される。

【００３９】通常比較的少量である他の添加材を所望に
よりフィルム基材に混入してよい。例えば、気孔付与を
促進するため２５％までのチャイナクレーを、白色化を
促進するため　１５００ｐｐｍまでの増白剤を、そして
色を改良するため　１０ｐｐｍまでの染料を混入してよ
い。

【００４０】本発明の好ましい実施態様において、基材
は我々の同時係属英国特許出願第　８８１７２２１．８
号に記載されているように少なくとも４．５％の変形指
数（ＤＩ）を示す。変形した基材の弾性回復はシャープ
な鮮明度及び好ましいコントラストのＴＴＰ像の形成に
おいて重要であり、好ましい基材は約５０％以下のＤＩ
を示す。

【００４１】必要なＤＩは基材ポリマーへの有効量の分
散性高分子軟化剤の混入により達成され、例えばオレフ
ィンポリマーはポリエチレンテレフタレート基材への混
入に好適である。低もしくは高密度ホモポリマー、例え
ばポリエチレン、ポリプロピレンもしくはポリ−４−メ
チルペンテン−１、又はオレフィンコポリマー、例えば
エチレン−プロピレンコポリマー、又はこれらの２種以
上の混合物が特に好適なオレフィンポリマー軟化剤であ
る。分散剤、例えばカルボキシル化ポリオレフィン、特
にカルボキシル化ポリエチレンは必要な特性を与えるた
めポリエチレンテレフタレート基材内にオレフィンポリ
マー軟化剤と共に混入される。

【００４２】基材の厚さはレシーバーシートの用途によ
り異なるが、　２５０μｍを越えず、好ましくは５０〜
１９０　μｍ、特に　１４５〜１８０　μｍである。

【００４３】上記種類の基材を有するレシーバーシート
は（１）高品質の工芸品の強さ、コントラスト及び感覚
を有するプリントの形成に必須の白さ及び不透明度、（
２）プリントヘッドとの接触に伴なう表面変形及び像浸
透に対する改良された耐性に寄与する剛度、及び（３）
寸法安定性及びカール耐性を与える熱及び薬品に対する
安定度を含む多くの利点を与える。

【００４４】ＴＴＰを上記の種類の気孔のある基材の表
面上に直接行なう場合、形成された像の光学密度は低く
なる傾向にあり、得られるプリントの品質は通常劣って
いる。従って受容層は基材の少なくとも一面に必要とさ
れ、望ましくは（１）ドナーシートから熱転写される染
料に対する高い受容性、（２）許容される光沢のプリン
トの形成を確保するため熱プリントヘッドとの接触から
表面変形に対する耐性、及び（３）安定な像を保つ能力
を示す。

【００４５】本発明のレシーバーシートの受容層は、７
個より多い炭素原子を含む炭素鎖を含む少なくとも１種
のヒドロカルビル基（以後ヒドロカルビル基と呼ぶ）を
含むポリエステル樹脂を含む。少なくとも１種のヒドロ
カルビル基の炭素鎖は通常　１００個未満、好ましくは
８〜５０個、より好ましくは１５〜４５個、特に２５〜
４５個の炭素原子を含む。ヒドロカルビル基の炭素鎖は
好ましくはアルキルもしくはアルケニル基であり、線状
でも分枝鎖であってもよく、分枝鎖の場合好ましくは少
数、例えば１〜８個、特に１〜４個、とりわけ１又は２
個の枝を含む。

【００４６】受容層のポリエステル樹脂成分は好適には
１種以上の二塩基芳香族カルボン酸、例えばテレフタル
酸、イソフタル酸及びヘキサヒドロテレフタル酸、並び
に１種以上のグリコール、特に脂肪族グリコール、例え
ばエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール及びネオペンチルグリコールより得ら
れるコポリエステル樹脂を含む。ヒドロカルビル基は例
えばグリコール又は好ましくはカルボン酸ルートにより
ポリエステルに混入される。従ってヒドロカルビル基を
含むグリコール及び／又はヒドロカルビル基を含むジカ
ルボン酸は選ばれたジカルボン酸及び／又はグリコール
と反応され、本発明の受容層のポリエステル樹脂層を形
成する。特に好適なヒドロカルビル基含有ジカルボン酸
は３４個の炭素原子を含み、好ましくは鎖内に１個もし
くは２個の分枝を有するアルキルもしくはアルケニル鎖
、好ましくはオレイン酸の二量体を含む。長鎖ヒドロカ
ルビル酸の他の二量体、例えばパルミチン酸、ステアリ
ン酸の二量体も好適である。二量体は結合点においてヒ
ドロカルビル基が線状脂肪族、環式脂肪族もしくは芳香
族成分を含むように形成される。ヒドロカルビル基含有
分枝炭素鎖は好ましくは結合点において線状脂肪族、環
式脂肪族及び芳香族成分を例えば２０〜６５／３５〜７
０／０．１〜１５重量％の比で有する分子の混合物を含
む。

【００４７】十分な染料定着、染料保持性及び耐変形性
を与える特に好適なコポリエステルはエチレンテレフタ
レート、エチレンイソフタレート及びエチレンオレエー
トの二量体のコポリエステルである。エチレンテレフタ
レート：エチレンイソフタレートの好ましいモル比は１
．０〜９．０：１．０、特に１．９〜５．７：１．０、
とりわけ約４．６：１．０である。ヒドロカルビル基含
有成分、好ましくはエチレンオレエートの二量体が好ま
しくは４０重量％以下、より好ましくは０．５〜２０重
量％、特に１．０〜２０重量％、とりわけ２．０〜８．
０重量％の濃度でエチレンテレフタレート及びエチレン
イソフタレートを含むポリエステル樹脂中に存在する。

【００４８】本発明の好ましい実施態様において、受容
層はさらに、我々の同時係属英国出願第　８９０９２５
０．６に記載されているように少なくとも１種の反可塑
剤の層を０．５〜３０重量％含む。受容層へ混入するた
めの反可塑剤は好適には芳香族エステルを含み、標準合
成有機法、例えば適当な酸とアルコールの間のエステル
交換により製造される。芳香族エステルは比較的小さな
分子であり、その分子量は１０００を越えず、好ましく
　５００未満である。芳香族エステルは好ましくはハロ
ゲン化、より好ましくは塩素化されているが、分子内に
おけるハロゲン化された種の正確な位置はそれほど重要
ではない。芳香族エステルは好ましくは単一のベンゼン
又はナフタレン環を有する。好適な非ハロゲン化芳香族
エステルの例はジメチルテレフタレート（ＤＭＴ）　及
び２，６−ジメチルナフタレンテトラクロロフタル酸ジ
メチルエステル（ＴＰＤＥ）、特にヒドロキノンジクロ
ロメチルエステル（ＨＱＤＥ）及び２，５−ジクロロテ
レフタル酸ジメチルエステル（ＤＴＤＥ）を含む。

【００４９】受容層の形態は必要とされる特性により異
なる。例えば、受容層ポリエステル樹脂は、転写された
像の光学密度を高めるため非晶質性、表面変形を低下さ
せるため結晶質、又は特性の適当なバランスを与えるた
め一部非晶質／結晶質である。

【００５０】受容層の厚さは広範囲にわたって異なるが
、通常５０μｍを越えない。受容層の乾燥厚さは特定の
受容ポリマーに形成された像の光学密度を支配し、好ま
しくは０．５〜２５μｍである。特に、不透明／気孔ポ
リマー基材層と共に受容層の厚さを０．５〜１０μｍの
範囲内に注意深く調節することにより、表面変形に対す
る十分な改良が転写された像の光学密度を低下させるこ
となく達成される。

【００５１】基材層上での受容層の形成は従来の方法、
例えば好ましい基材層上へポリマーを流延することによ
り行なわれる。しかし、複合シート（基材及び受容層）
の形成は多オリフィスダイの個々のオリフィスを通すそ
れぞれのフィルム形成層の同時押出しを行ないその後ま
だ溶融している層を結合することによる、又はそれぞれ
のポリマーの溶融流れをダイマニホールドに至るチャン
ネル内で結合させ、その後混合することなく層流の状態
でダイオリフィスから押出すことによる同時押出しによ
り行なわれる。

【００５２】同時押出しされたシートは延伸され上記の
ような基材、好ましくは熱硬化性、の分子配向が行なわ
れる。通常、基材層の延伸に用いられる条件は受容層の
一部結晶化を誘導し、従って選ばれた温度において寸法
拘束下熱硬化し、所望の形態の受容層を形成することが
好ましい。従って、受容層の結晶溶融温度以下の温度で
熱硬化を行ない、そして複合体を冷却することにより受
容ポリマーは本質的に結晶質を保つ。しかし、受容層の
結晶溶融温度以上の温度で熱硬化することにより、本質
的に非晶質にされる。ポリエステル基材及びコポリエス
テル受容層を含むレシーバーシートの熱硬化は、実質的
に結晶質受容層を形成するため　１７５〜２００　℃で
、又は本質的に非晶質受容層を形成するため　２００〜
２５０　℃の温度で行なわれる。

【００５３】所望により、本発明に係るレシーバーシー
トには受容層から離れた基材の面に裏打層が提供される
。特に好適な裏打層は我々の同時係属英国特許出願第　
８８１６５２０．４に記載されているものであり、５〜
２５０μｍの平均粒度の非フィルム形成不活性粒状材料
及び高分子樹脂バインダーを含む裏打層でる。この裏打
層はシートのスリップ、粘着防止及び一般的取扱い特性
を改良するに有効な量の粒状材料を含む。そのようなス
リップ材は裏打層の形成後のフィルム加工の間フィルム
を形成しない粒状材料を含み、例えばシリカ、アルミナ
、チャイナクレー及び炭酸カルシウムのような無機材料
、又は高いガラス転移温度（Ｔｇ　＞７５℃）を有する
有機ポリマー、例えばポリメチルメタクリレートもしく
はポリスチレンを含む。好ましいスリップ材は好ましく
はコロイドゾルとして用いられるシリカであるが、コロ
イドアルミナゾルも好適である。２種以上の粒状スリッ
プ材の混合物も所望により用いてよい。

【００５４】裏打層用の特に好適な高分子バインダーは
、アクリル酸及び／又はメタクリル酸及び／又はその低
級アルキル（６個までの炭素原子）のコポリマー、例え
ばエチルアクリレートとメチルメタクリレートのコポリ
マー、メチルメタクリレート／ブチルアクリレート／ア
クリル酸（５５／２７／１８％及び３６／２４／４０％
のモル比）のコポリマー、特に親水性官能基を含むコポ
リマー、例えばメチルメタクリレートとメタクリル酸の
コポリマー、及び架橋性コポリマー、例えばエチルアク
リレート／メチルメタクリレート／アクリルアミドもし
くはメタクリルアミドの４６／４６／８％のモル比のコ
ポリマーを含み、後者のポリマーは約２５重量％のメチ
ル化メラミン−ホルムアルデヒド樹脂の存在下熱硬化性
である場合特に有効である。

【００５５】所望により、本発明に係るレシーバーシー
トはさらに帯電防止層を含んでよい。そのような帯電防
止層は受容層から離れた基材の面上に与えられ、又は裏
打層を用いる場合、受容層から離れた裏打層の表面上に
与えられる。従来の帯電防止剤を用いてよいが、高分子
帯電防止剤が好ましい。特に好適な高分子帯電防止剤は
我々の同時係属英国出願第　８８１５６３２．８号に記
載されているものであり、（ａ）エトキシ化ヒドロキシ
アミンのポリクロロヒドリンエーテル及び（ｂ）ポリグ
リコールジアミンを含み、成分（ａ）及び（ｂ）の総ア
ルカリ金属含量が（ａ）と（ｂ）の合わせた重量の０．
５％を越えない帯電防止剤である。

【００５６】本発明の好ましい実施態様において、レシ
ーバーシートはＵＶ安定剤の混入により紫外線（ＵＶ）
に対し耐性にされる。安定剤はレシーバーシートのいず
れの層に存在してもよいが、好ましくは受容層に存在す
る。安定剤は独立の添加剤、又は好ましくは受容ポリマ
ーの鎖中の共重合した残基を含む。特に、受容ポリマー
がポリエステルである場合、ポリマー鎖は芳香族カルボ
ニル安定剤の共重合したエステル化残基を含む。好適に
は、そのようなエステル化残留物は、欧州特許出願ＥＰ
−Ａ−３１２０２に開示されているようなジ（ヒドロキ
シアルコキシ）クマリンの残基、ＥＰ−Ａ−３１２０３
に開示されているような２−ヒドロキシ−ジ（ヒドロキ
シアルコキシ）ベンゾフェノンの残基、　ＥＰ−Ａ−６
６８６に開示されているようなビス（ヒドロキシアルコ
キシ）キサント−９−オンの残基、及び特に好ましくは
ＥＰ−Ａ−７６５８２に開示されているようなヒドロキ
シ−ビス（ヒドロキシアルコキシ）キサント−９−オン
の残基を含む。前記安定剤中のアルコキシ基は１〜１０
、好ましくは２〜４個の炭素原子を含み、例えばエトキ
シ基である。エステル化残基の含量は受容ポリマーの総
重量の０．０１〜３０％、好ましくは０．０５〜１０％
である。特に好ましい残基は１−ヒドロキシ−３，６−
ビス（ヒドロキシアルコキシ）キサント−９−オンの残
基である。

【００５７】本発明に係るレシーバーシートは、所望に
より受容層中に又は好ましくは離れた層として基材から
離れた受容層の暴露面上の少なくとも一部に剥離媒質を
含む。

【００５８】剥離媒質はドナーシートから転写された染
料に対し透過性であるべきであり、例えばドナーシート
に対しレシーバーシートの剥離特性を高めるためＴＴＰ
法において従来用いられてきた種の剥離剤を含む。好適
な剥離剤は固体ワックス、弗素化ポリマー、シリコーン
油（好ましくは硬化）、例えばエポキシ及び／又はアミ
ノ改質シリコーン油、及び特にオルガノポリシロキサン
樹脂を含む。オルガノポリシロキサン樹脂は受容層の暴
露面の少なくとも一部の離れた層として好適である。

【００５９】特に好適な剥離媒質は我々の同時係属英国
特許出願第　８８１５４２３．２号に記載されているも
のであり、（ｉ）有機ポリイソシアネート、（ｉｉ）イ
ソシアネート反応性ポリジアルキルシロキサン、及び（
ｉｉｉ）　高分子ポリオールの反応生成物である染料透
過性ポリウレタン樹脂を含む剥離媒質である。この高分
子ポリオールは好ましくはポリカーボネートであり、こ
れは剥離媒質に望ましい硬度を与える。

【００６０】剥離媒質は、所望によりさらに粒状助剤を
含んでよい。好適には、助剤は０．７５μｍを越えない
平均粒度を有しそしてＴＴＰ操作の間遭遇する温度にお
いて安定である有機もしくは無機粒状材料を含む。剥離
媒質に必要な助剤の量は必要な表面特性により異なり、
通常剥離媒質に対する助剤の重量比は０．２５：１〜２
．０：１である。

【００６１】表面摩擦特性の所望の調節を与えるため、
助剤の平均粒度は０．７５μｍを越えるべきではない。 より大きな平均粒度の粒子はレシーバーシートの光学特
性、例えば曇り度を低下させる。望ましくは、助剤の平
均粒度は　０．００１〜０．５μｍ、好ましくは　０．
００５〜０．２μｍである。

【００６２】剥離媒質を約５０重量％までの量受容層に
混合し又は適当な溶媒もしくは分散体中その暴露面に加
え、その後例えば　１００〜１６０　℃、好ましくは　
１００〜１２０　℃の温度で乾燥し約５μｍ以下、好ま
しくは　０．０２５〜２．０μｍの乾燥厚さを有する硬
化した剥離層を形成してよい。剥離媒質の添加はレシー
バーシートの製造のどの段階で行ってもよい。従って、
レシーバーシートの基材が二軸延伸高分子フィルムを含
む場合、受容層の表面への剥離媒質の添加は延伸後のフ
ィルムに又は前方及び横方向フィルム延伸工程の間に行
ってよい。

【００６３】所望により、剥離媒質はさらに媒質の広が
りを促進するため及びドナーシートから転写された染料
に対する透過性を改良するため界面活性剤を含んでよい
。上記種類の剥離媒質はすぐれた光学特性を有し、表面
欠陥が全くなく、種々の染料に対し透過性であるレシー
バーシートを与え、多くの逐次剥離特性を与え、これに
よりレシーバーシートは異なる単色染料により像形成さ
れ、完全に着色された像を与える。特に、ドナー及びレ
シーバーシートのレジスターはしわ寄り、破断等の危険
性を伴なわずＴＴＰ操作の間容易に保たれる。

【００６４】図面、特に図４を参照し、ＴＴＰ法は転写
層８及び剥離層５が接してドナーシート及びレシーバー
シートを組立てることにより行なわれる。多くのプリン
ト要素１１（その１つのみを示す）を含む電気的に活性
化された熱プリントヘッド１０をドナーシートの保護層
と接してのせる。プリントヘッドに電圧を加えると選ば
れた個々のプリント要素１１が熱くなり、それにより転
写層の下の領域から染料透過性剥離層５を通し受容層３
へ染料が昇華し、そこで加熱された要素の像１２を形成
する。得られる像が形成されたレシーバーシートはドナ
ーシートより分離され、これを図５に示す。この工程を
繰り返すことにより、所望の形状の多色像が受容層に形
成される。本発明をさらに以下の実施例を参照し説明す
る。

【００６５】例１ ＴＴＰレシーバーシートを以下のようにして形成した。 １８モル％のジメチルイソフタレート及び８２モル％の
ジメチルテレフタレートの混合物を　１８０〜２１０　
℃において触媒（Ｍｎ（ＯＡｃ）２Ｈ２Ｏ）　の存在下
　２２０モル％のエチレングリコールと反応させた。反
応生成物は１８モル％のジ（ヒドロキシエトキシ）イソ
フタレート及び８２モル％のビス（ヒドロキシエトキシ
）テレフタレートを含んでいた（＝モノマー混合物Ａ）
。

【００６６】１００モル％のＰｒｉｐｏｌ　１００９（
オレイン酸の二量体、Ｕｎｉｃｈｅｍａ　Ｉｎｔｅｒｎ
ａｔｉｏｎａｌ製）　を　１８０〜２００　℃において
９０〜１２０　分間触媒（Ｍｎ（ＯＡｃ）２Ｈ２Ｏ）　
の存在下　２２０モル％のエチレングリコールと反応さ
せジヒドロキシエトキシ誘導体（＝モノマーＢ）を形成
した。９５モル％（８５．８重量％）のモノマー混合物
Ａを５モル％（１４．２重量％）のモノマーＢと混合し
、触媒（Ｓｂ２Ｏ３）　の存在下　２４０℃に４０分間
、次いで　２９０℃に７５〜９０分間加熱することによ
り重縮合反応を行った。上記反応において形成されたタ
ーポリマーをクロロホルムに溶解し５重量％溶液を形成
した。この溶液を、０．４μｍの平均粒度を有する微粉
砕硫酸バリウム充填材を１８重量パーセント（ポリマー
基準）含む二軸延伸したポリエチレンテレフタレートの
厚さ　１２５μｍのＡ４シート上にコートした。この溶
液をコートし２．５μｍの乾燥コート厚さを得た。クロ
ロホルム溶剤を蒸発させた後、コートしたポリエチレン
テレフタレートシートを　１２０℃のオーブンに３０秒
間入れた。

【００６７】上記レシーバーシートのプリント特性は、
その一面にセルロース樹脂バインダー中マゼンタ染料を
含む厚さ約２μｍの転写層を有する厚さ約６μｍの二軸
延伸したポリエチレンテレフタレート基材を含むドナー
シートを用いて調べられた。

【００６８】転写及び受容層が接したドナー及びレシー
バーシートのサンプルを含むサンドウィチを熱転写プリ
ント機のゴムカバーしたドラム上にのせ、６１ｍｍの線
密度で配置されたピクセルの線形配列を含むプリントヘ
ッドを接触させた。パターン情報信号に従い、１０ミリ
秒（ｍｓ）間約　３５０℃の温度にピクセルを選択的に
加熱するとマゼンタ染料はドナーシートの転写層から転
写されレシーバーシートの受容層内に加熱されたピクセ
ルの対応する像を形成する。形成された像の反射光学密
度（ＲＯＤ）　を測定した。

【００６９】上記プリント法を、９，８，７，６，５，
４，３、及び２ｍｓのプリント時間で他のレシーバーシ
ートのサンプルに繰り返した。結果を表１に示す。この
表及び他の表のＲＯＤの結果はすべて１０回の平均値で
ある。

【００７０】例２ ターポリマーコーティングが１０モル％（２６重量％）
のモルマーＢを含むことを除き例１の方法を繰り返した
。結果を表１に示す。

【００７１】例３ ターポリマーコーティングが１５モル％（３５．８重量
％）のモルマーＢを含むことを除き例１の方法を繰り返
した。 結果を表１に示す。

【００７２】例４ これは比較例であって、本発明に係るものではない。コ
ーティングがモノマー混合物Ａのコポリマーである、す
なわちモノマーＢが存在しないことを除いて例１の方法
を繰り返した。結果を表１に示す。

【００７３】例５ シアン染料をマゼンタ染料のかわりに用いることを除き
例１の方法を繰り返した。結果を表２に示す。

【００７４】例６ シアン染料をマゼンタ染料のかわりに用いることを除き
例２の方法を繰り返した。結果を表２に示す。

【００７５】例７ シアン染料をマゼンタ染料のかわりに用いることを除き
例３の方法を繰り返した。結果を表２に示す。

【００７６】例８ これは比較例であって、本発明に係るものではない。シ
アン染料をマゼンタ染料のかわりに用いることを除き例
４の方法を繰り返した。結果を表２に示す。

【００７７】例９ 黄色染料をマゼンタ染料のかわりに用いることを除き例
１の方法を繰り返した。結果を表３に示す。

【００７８】例１０ 黄色染料をマゼンタ染料のかわりに用いることを除き例
２の方法を繰り返した。結果を表３に示す。

【００７９】例１１ 黄色染料をマゼンタ染料のかわりに用いることを除き例
３の方法を繰り返した。結果を表３に示す。

【００８０】例１２ これは比較例であって、本発明に係るものではない。黄
色染料をマゼンタ染料のかわりに用いることを除き例４
の方法を繰り返した。結果を表３に示す。

【００８１】例１３〜１５ ＲＯＤを測定する前にプリントしたレシーバーシートを
４０℃のオーブンに　４００時間入れることによって老
化させることを除き、例１，５、及び９の方法を繰り返
した。 結果を表４に示す。

【００８２】例１６〜１８ ＲＯＤを測定する前にプリントしたレシーバーシートを
４０℃のオーブンに　４００時間入れることによって老
化させることを除き、例２，６、及び１０の方法を繰り
返した。 結果を表４に示す。

【００８３】例１９〜２１ これは比較例であって、本発明に係るものではない。Ｒ
ＯＤを測定する前にプリントしたレシーバーシートを４
０℃のオーブンに　４００時間入れることによって老化
させることを除き、例３，７、及び１１の方法を繰り返
した。結果を表４に示す。

【００８４】例２２〜２４ ＲＯＤを測定する前にプリントしたレシーバーシートを
８０℃のオーブンに４０時間入れることによって老化さ
せることを除き、例１，５、及び９の方法を繰り返した
。結果を表５に示す。

【００８５】例２４〜２７ ＲＯＤを測定する前にプリントしたレシーバーシートを
８０℃のオーブンに４０時間入れることによって老化さ
せることを除き、例２，６、及び１０の方法を繰り返し
た。結果を表５に示す。

【００８６】例２８〜３０ これは比較例であって、本発明に係るものではない。Ｒ
ＯＤを測定する前にプリントしたレシーバーシートを８
０℃のオーブンに４０時間入れることによって老化させ
ることを除き、例３，７、及び１１の方法を繰り返した
。結果を表５に示す。

【００８７】例３１ Ｐｒｉｐｏｌ　１００９のかわりにＰｒｉｐｏｌ　１０
０８（オレイン酸の二量体、Ｕｎｉｃｈｅｍａ　Ｉｎｔ
ｅｒｎａｔｉｏｎａｌ製）を用いることを除き例１の方
法を繰り返した。得られるターポリマーは　Ｐｒｉｐｏ
ｌ　１００８由来のモノマーＢを１０モル％含んでいた
。得られるレシーバーシートを４０℃のオーブンに　４
００時間入れることによって老化させた。上記レシーバ
ーシートの老化前及び後のプリント特性を１０ｍｓのプ
リント時間及びマゼンタ染料を用いて調べた。結果を表
６に示す。

【００８８】例３２ Ｐｒｉｐｏｌ　１００８のかわりにＰｒｉｐｏｌ　１０
０４（オレイン酸の二量体、Ｕｎｉｃｈｅｍａ　Ｉｎｔ
ｅｒｎａｔｉｏｎａｌ製）を用いることを除き例３１の
方法を繰り返した。結果を表６に示す。例３３〜３７タ
ーポリマー中のモノマーＢの量がそれぞれ２，４，６，
８及び１０重量％であることを除き例３１の方法を繰り
返した。結果を表７に示す。

【００８９】例３８ これは比較例であって、本発明に係るものではない。コ
ーティングがモノマー混合物Ａのコポリマーである、す
なわちモノマーＢが存在しないことを除いて例３１の方
法を繰り返した。結果を表７に示す。

【００９０】例３９ 例１により製造されたレシーバーシート上に熱転写プリ
ントにより形成されたプリントの表面に対する体脂の作
用を、鼻の片側を指で擦り、次いでこの指をプリントし
たレシーバーシートの上に擦ることによって調べた。像
の汚れは全く見られなかった。

【００９１】例４０ これは比較例であって、本発明に係るものではない。レ
シーバーシートを例４に従い製造することを除き例３９
の方法を繰り返した。プリントした像は、像の明るい部
分を横切る像の暗い部分の汚れのような劣化を示した。

【００９２】

【表１】

【００９３】

【表２】

【００９４】

【表３】

【００９５】

【表４】

【００９６】

【表５】

【００９７】

【表６】

【００９８】

【表７】

【００９９】好ましい特性 上記のように、本発明に係るレシーバーシートは以下の
好ましい特性を独立に又は組み合せて示す。 １．　　ポリエステル樹脂のヒドロカルビル基の炭素鎖
は８〜５０個の炭素原子を含む。 ２．　　炭素鎖はアルキル及び／又はアルケニル基であ
る。 ３．　　ヒドロカルビル基はオレイン酸の二量体より得
られる。 ４．　　ポリエステル樹脂はエチレンテレフタレート及
びエチレンイソフタレートを含む。 ５．　　レシーバーシートの基材は不透明である。 ６．　　基材は不混和性樹脂充填材又は粒状無機充填材
を含む気孔付与剤を有効量含む。 ７．　　基材中の充填材は硫酸バリウムを含む。 ８．　　基材は延伸したポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを含む。

【図面の簡単な説明】

【図１】その第１の面に染料受容層３及び第２の面に裏
打層４を有する高分子支持基材２を含むＴＴＰレシーバ
ーシート１の一部の略図。

【図２】レシーバーシートが独立の剥離層５を含むＴＴ
Ｐレシーバーシートの略図。

【図３】その一面に樹脂バインダー中の昇華性染料を含
む転写層８、及び第２の面に高分子保護層９を有する高
分子基材７を含む相溶性ＴＴＰドナーシート６の略図。

【図４】ＴＴＰ法の略図。

【図５】像を形成したレシーバーシートの略図。

【符号の説明】

１…レシーバーシート ２…基材 ３…染料受容層 ４…裏打層 ５…剥離層 ６…ドナーシート ７…基材 ８…転写層 ９…保護層 １０…熱プリントヘッド １１…印刷要素

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　相溶性ドナーシートと共に用いるため
   の熱転写プリントレシーバーシートであって、その少な
   くとも一面上にドナーシートから熱転写された染料を受
   け取るための染料受容性受容層を有する支持基材を含み
   、この受容層が炭素原子を７個より多く含む炭素鎖を含
   むヒドロカルビル基を含むポリエステル樹脂を含むこと
   を特徴とするレシーバーシート。
2. 【請求項２】　　その少なくとも一面にドナーシートか
   ら熱転写された染料を受け取るための染料受容性受容層
   を有する支持基材を形成することを含む、相溶性ドナー
   シートと共に用いるための熱転写プリントレシーバーシ
   ートの製造方法であって、受容層が炭素原子を７個より
   多く含む炭素鎖を含むヒドロカルビル基を含むポリエス
   テル樹脂を含むことを特徴とする方法。