JP3063934B2 - Ｘ線をプローブとする分析法用薄膜測定試料調製法および当該方法により調製された薄膜測定試料 - Google Patents
Ｘ線をプローブとする分析法用薄膜測定試料調製法および当該方法により調製された薄膜測定試料Info
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【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ケイ光Ｘ線分析法、全
反射ケイ光Ｘ線分析法、粒子励起Ｘ線分光法（Particle
Induced X-ray Emission Spectroscopy…ＰＩＸＥ法と
言う）等のＸ線をプローブとする分析法に使用される薄
膜測定試料に係り、さらに詳しくはＸ線をプローブとす
る分析法において、自己保持型の測定試料の調製が困難
とされる生物・医学用試料あるいは環境汚染試料等の標
準試料および分析試料の調製を可能とし、含有する微量
成分元素の高感度分析を実現する薄膜測定試料およびそ
の調製法に関する。
反射ケイ光Ｘ線分析法、粒子励起Ｘ線分光法（Particle
Induced X-ray Emission Spectroscopy…ＰＩＸＥ法と
言う）等のＸ線をプローブとする分析法に使用される薄
膜測定試料に係り、さらに詳しくはＸ線をプローブとす
る分析法において、自己保持型の測定試料の調製が困難
とされる生物・医学用試料あるいは環境汚染試料等の標
準試料および分析試料の調製を可能とし、含有する微量
成分元素の高感度分析を実現する薄膜測定試料およびそ
の調製法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ケイ光Ｘ線分析法、全反射ケイ光Ｘ線分
析法またはＰＩＸＥ法等のＸ線をプローブとする分析法
において、微量成分元素の高感度分析を行うためには、
Ｘ線測定の際のバックグラウンドとなる連続Ｘ線の低
減、共存元素の妨害の低減、特性Ｘ線の自己吸収の抑
制、電子線あるいは粒子線照射による試料の発熱・分解
を低減する必要がある。このうち、バックグラウンドと
なる連続Ｘ線の低減が、最も重要である。連続Ｘ線は主
に２次電子制動輻射線であり、これは試料の厚さを薄く
することにより低減が可能となる。しかし、自己保持型
の薄膜測定試料である標準試料あるいは分析試料におい
て、バックグラウンドとなる連続Ｘ線を低減するに至る
までに薄膜測定試料の薄膜化をはかることは極めて困難
であった。例えば、生物・医学用試料あるいは環境汚染
試料等の標準試料あるいは分析試料において、これらを
何らかの支持体（バッキング膜）につけて乾燥し薄膜測
定試料とする必要がある。したがって、支持体の条件と
してはできるだけ膜厚が薄く、不純物を含有せず、かつ
機械的・熱的強度等の高い薄膜が望まれる。そこで、支
持体としてポリスチレン膜、マイラー膜、フォルムバー
膜、炭素膜等の有用性が検討され、従来は支持体として
主にマイラー膜が使用されてきた。しかし、マイラー膜
を支持体として用いる場合には、その膜厚が２００〜１
７００μｇ／ｃｍ2と厚くなるため、連続Ｘ線強度が強
くなりバックグラウンドの低減化をはかることは困難で
あった。また、マイラー膜には通常、不純物元素として
カルシウムが含まれており、これによる妨害作用が生じ
る。一方、フォルムバー（ポリビニルホルマール）膜に
ついても、支持体としての使用が検討されてきたが、現
在までに、均一で丈夫な薄膜の調製法は確立されておら
ず、実用には供されていなかった。一方、共存元素の妨
害の低減には、定量を目的とした元素を分析試料から化
学分離・濃縮して、支持体上に蒸発乾固する方法が取ら
れているが、支持体上に極微量の測定元素を均一に分散
させることは極めて困難であった。なお、ＰＩＸＥ法に
おける測定試料の調製法については、日本化学会編：新
実験化学講座７、基礎技術６、核・放射線１、１９７５
年、第３１３頁〜第３２５（丸善）に記述されている。
析法またはＰＩＸＥ法等のＸ線をプローブとする分析法
において、微量成分元素の高感度分析を行うためには、
Ｘ線測定の際のバックグラウンドとなる連続Ｘ線の低
減、共存元素の妨害の低減、特性Ｘ線の自己吸収の抑
制、電子線あるいは粒子線照射による試料の発熱・分解
を低減する必要がある。このうち、バックグラウンドと
なる連続Ｘ線の低減が、最も重要である。連続Ｘ線は主
に２次電子制動輻射線であり、これは試料の厚さを薄く
することにより低減が可能となる。しかし、自己保持型
の薄膜測定試料である標準試料あるいは分析試料におい
て、バックグラウンドとなる連続Ｘ線を低減するに至る
までに薄膜測定試料の薄膜化をはかることは極めて困難
であった。例えば、生物・医学用試料あるいは環境汚染
試料等の標準試料あるいは分析試料において、これらを
何らかの支持体（バッキング膜）につけて乾燥し薄膜測
定試料とする必要がある。したがって、支持体の条件と
してはできるだけ膜厚が薄く、不純物を含有せず、かつ
機械的・熱的強度等の高い薄膜が望まれる。そこで、支
持体としてポリスチレン膜、マイラー膜、フォルムバー
膜、炭素膜等の有用性が検討され、従来は支持体として
主にマイラー膜が使用されてきた。しかし、マイラー膜
を支持体として用いる場合には、その膜厚が２００〜１
７００μｇ／ｃｍ2と厚くなるため、連続Ｘ線強度が強
くなりバックグラウンドの低減化をはかることは困難で
あった。また、マイラー膜には通常、不純物元素として
カルシウムが含まれており、これによる妨害作用が生じ
る。一方、フォルムバー（ポリビニルホルマール）膜に
ついても、支持体としての使用が検討されてきたが、現
在までに、均一で丈夫な薄膜の調製法は確立されておら
ず、実用には供されていなかった。一方、共存元素の妨
害の低減には、定量を目的とした元素を分析試料から化
学分離・濃縮して、支持体上に蒸発乾固する方法が取ら
れているが、支持体上に極微量の測定元素を均一に分散
させることは極めて困難であった。なお、ＰＩＸＥ法に
おける測定試料の調製法については、日本化学会編：新
実験化学講座７、基礎技術６、核・放射線１、１９７５
年、第３１３頁〜第３２５（丸善）に記述されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した従
来技術における問題点を解決し、ケイ光Ｘ線分析法、全
反射ケイ光Ｘ線分析法、ＰＩＸＥ法等のＸ線をプローブ
とする分析法における標準試料あるいは分析試料として
好適に用いられる薄膜測定試料およびその調製法を提供
するものである。すなわち、本発明は自己保持型の薄膜
測定試料の調製が困難とされる標準試料および分析試料
の調製を可能とし、膜厚が極めて薄く、不純物を含有せ
ず、かつ機械的・熱的強度等の高い支持体を簡便な方法
で作製することができるＸ線をプローブとする分析法用
薄膜測定試料調製法および当該方法により調製された薄
膜測定試料を提供することにある。
来技術における問題点を解決し、ケイ光Ｘ線分析法、全
反射ケイ光Ｘ線分析法、ＰＩＸＥ法等のＸ線をプローブ
とする分析法における標準試料あるいは分析試料として
好適に用いられる薄膜測定試料およびその調製法を提供
するものである。すなわち、本発明は自己保持型の薄膜
測定試料の調製が困難とされる標準試料および分析試料
の調製を可能とし、膜厚が極めて薄く、不純物を含有せ
ず、かつ機械的・熱的強度等の高い支持体を簡便な方法
で作製することができるＸ線をプローブとする分析法用
薄膜測定試料調製法および当該方法により調製された薄
膜測定試料を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記本発明の目的を達成
するために、本発明のＸ線をプローブとする分析法に用
いられる薄膜測定試料およびその調製法は、以下に示す
手段を用いるものである。 （１）自己保持型の薄膜測定試料の調製が困難とされる
標準試料あるいは分析試料に用いられる極薄膜化した薄
膜測定試料の調製において、これら試料の支持体とし
て、膜厚を２０μｇ／ｃｍ2以下に調製したフォルムバ
ー（ポリビニルホルマール）薄膜を使用するものであ
る。 （２）薄膜測定試料の支持体であるフォルムバー薄膜上
に、内部標準元素を添加して均一な懸濁液とした標準試
料あるいは分析試料を滴下して展開し乾燥させる。 （３）あるいは薄膜測定試料において、フォルムバー溶
液が、標準試料あるいは分析試料から化学分離した定量
を目的とした元素を含む溶液であり、この溶液を使用し
て、目的とした元素を定量的に含む薄膜測定試料を調製
する。 （４）薄膜測定試料の支持体であるフォルムバー薄膜の
調製法が、フォルムバーのテトラヒドロフラン溶液をシ
ョ糖に代表される糖類の水溶液上に滴下して展開させ、
フォルムバーの溶媒であるテトラヒドロフランを蒸発さ
せることにより、糖類の水溶液の液面に生成させた極薄
いフォルムバー薄膜を、薄膜測定試料ホルダーで掬い取
り、水洗後、乾燥させたものを使用する。 （５）フォルムバー薄膜の調製法において、フォルムバ
ーのテトラヒドロフラン溶液の濃度が５．０％以下であ
り、さらにショ糖水溶液の濃度および密度が、それぞれ
４０％以上および１．１８ｇｃｍ~3以上である条件下で
フォルムバー薄膜を調製する。 （６）フォルムバー薄膜の調製法において、フォルムバ
ー溶液に添加する元素をキレート錯体として用いる。
するために、本発明のＸ線をプローブとする分析法に用
いられる薄膜測定試料およびその調製法は、以下に示す
手段を用いるものである。 （１）自己保持型の薄膜測定試料の調製が困難とされる
標準試料あるいは分析試料に用いられる極薄膜化した薄
膜測定試料の調製において、これら試料の支持体とし
て、膜厚を２０μｇ／ｃｍ2以下に調製したフォルムバ
ー（ポリビニルホルマール）薄膜を使用するものであ
る。 （２）薄膜測定試料の支持体であるフォルムバー薄膜上
に、内部標準元素を添加して均一な懸濁液とした標準試
料あるいは分析試料を滴下して展開し乾燥させる。 （３）あるいは薄膜測定試料において、フォルムバー溶
液が、標準試料あるいは分析試料から化学分離した定量
を目的とした元素を含む溶液であり、この溶液を使用し
て、目的とした元素を定量的に含む薄膜測定試料を調製
する。 （４）薄膜測定試料の支持体であるフォルムバー薄膜の
調製法が、フォルムバーのテトラヒドロフラン溶液をシ
ョ糖に代表される糖類の水溶液上に滴下して展開させ、
フォルムバーの溶媒であるテトラヒドロフランを蒸発さ
せることにより、糖類の水溶液の液面に生成させた極薄
いフォルムバー薄膜を、薄膜測定試料ホルダーで掬い取
り、水洗後、乾燥させたものを使用する。 （５）フォルムバー薄膜の調製法において、フォルムバ
ーのテトラヒドロフラン溶液の濃度が５．０％以下であ
り、さらにショ糖水溶液の濃度および密度が、それぞれ
４０％以上および１．１８ｇｃｍ~3以上である条件下で
フォルムバー薄膜を調製する。 （６）フォルムバー薄膜の調製法において、フォルムバ
ー溶液に添加する元素をキレート錯体として用いる。
【０００５】
【実施例】以下に本発明の実施例を挙げ、図面を用いて
さらに詳細に説明する。 ＜実施例１＞図１は、本実施例で調製したＸ線をプロー
ブとする分析法に用いられる薄膜測定試料の断面構成を
示す模式図であり、標準試料または分析試料２の支持体
である薄膜化したフォルムバー薄膜１を用いた薄膜測定
試料〔図１（ａ）〕、および支持体薄膜中に定量を目的
とした元素を添加したフォルムバー薄膜３からなる薄膜
測定試料〔図１（ｂ）〕と、従来から使用されている標
準試料または分析試料２とマイラー膜４により構成され
ている膜厚の厚い測定試料〔図１（ｃ）〕を比較して図
示した。なお、図１（ｄ）には、本実施例において用い
たフォルムバー薄膜１または３を構成するポリビニルホ
ルマールの化学構造式を示す。図２は、本実施例におい
て標準試料または分析試料の支持体として使用したフォ
ルムバー薄膜１の調製法の一例を示す工程図である。す
なわち、０．５％以下の濃度のフォルムバーのテトラヒ
ドロフラン溶液５を、４０％以上の濃度のショ糖水溶液
（密度：１．１８ｇｃｍ~3以上）６上に滴下して展開さ
せ〔図２（ａ）〕、５分間放置してフォルムバーの溶媒
であるテトラヒドロフランを蒸発させる〔図２
（ｂ）〕。生成したフォルムバー薄膜１をアルミニウム
製の薄膜測定試料ホルダ８で掬い取り〔図２（ｃ）〕、
水洗後〔図２（ｄ）〕、乾燥させる〔図２（ｅ）〕。そ
して、図２（ｆ）に示すような薄膜測定試料を得た。
さらに詳細に説明する。 ＜実施例１＞図１は、本実施例で調製したＸ線をプロー
ブとする分析法に用いられる薄膜測定試料の断面構成を
示す模式図であり、標準試料または分析試料２の支持体
である薄膜化したフォルムバー薄膜１を用いた薄膜測定
試料〔図１（ａ）〕、および支持体薄膜中に定量を目的
とした元素を添加したフォルムバー薄膜３からなる薄膜
測定試料〔図１（ｂ）〕と、従来から使用されている標
準試料または分析試料２とマイラー膜４により構成され
ている膜厚の厚い測定試料〔図１（ｃ）〕を比較して図
示した。なお、図１（ｄ）には、本実施例において用い
たフォルムバー薄膜１または３を構成するポリビニルホ
ルマールの化学構造式を示す。図２は、本実施例におい
て標準試料または分析試料の支持体として使用したフォ
ルムバー薄膜１の調製法の一例を示す工程図である。す
なわち、０．５％以下の濃度のフォルムバーのテトラヒ
ドロフラン溶液５を、４０％以上の濃度のショ糖水溶液
（密度：１．１８ｇｃｍ~3以上）６上に滴下して展開さ
せ〔図２（ａ）〕、５分間放置してフォルムバーの溶媒
であるテトラヒドロフランを蒸発させる〔図２
（ｂ）〕。生成したフォルムバー薄膜１をアルミニウム
製の薄膜測定試料ホルダ８で掬い取り〔図２（ｃ）〕、
水洗後〔図２（ｄ）〕、乾燥させる〔図２（ｅ）〕。そ
して、図２（ｆ）に示すような薄膜測定試料を得た。
【０００６】
【表１】
【０００７】表１は、種々の有機溶媒で調製したフォル
ムバー溶液を水面上に滴下して展開させた後、有機溶媒
を蒸発させた時に生成したフォルムバー薄膜の状態を示
したものである。本実施例で使用したテトラヒドロフラ
ンを除き、溶媒が水面上で不均一なレンズ状に集まるた
め均一で丈夫な膜は得られなかった。一方、テトラヒド
ロフランでは、表１に示したように密度、粘度、表面張
力が小さく、水面上で良く展開し均一なフォルムバー薄
膜が生成した。しかし、水面上に生成したフォルムバー
薄膜の回収は不可能であった。
ムバー溶液を水面上に滴下して展開させた後、有機溶媒
を蒸発させた時に生成したフォルムバー薄膜の状態を示
したものである。本実施例で使用したテトラヒドロフラ
ンを除き、溶媒が水面上で不均一なレンズ状に集まるた
め均一で丈夫な膜は得られなかった。一方、テトラヒド
ロフランでは、表１に示したように密度、粘度、表面張
力が小さく、水面上で良く展開し均一なフォルムバー薄
膜が生成した。しかし、水面上に生成したフォルムバー
薄膜の回収は不可能であった。
【０００８】
【表２】
【０００９】表２は、種々の濃度のフォルムバーのテト
ラヒドロフラン溶液を、種々の濃度のショ糖水溶液上に
滴下後、有機溶媒のテトラヒドロフランを蒸発させた時
に生成したフォルムバー薄膜の状態を示したものであ
る。０．５％以下の濃度のフォルムバーのテトラヒドロ
フラン溶液を、５０％の濃度のショ糖水溶液（密度：
１．２３ｇｃｍ~3）上に展開させた時に均一なフォルム
バー薄膜が得られ、かつ生成したフォルムバー薄膜の回
収も容易であった。
ラヒドロフラン溶液を、種々の濃度のショ糖水溶液上に
滴下後、有機溶媒のテトラヒドロフランを蒸発させた時
に生成したフォルムバー薄膜の状態を示したものであ
る。０．５％以下の濃度のフォルムバーのテトラヒドロ
フラン溶液を、５０％の濃度のショ糖水溶液（密度：
１．２３ｇｃｍ~3）上に展開させた時に均一なフォルム
バー薄膜が得られ、かつ生成したフォルムバー薄膜の回
収も容易であった。
【００１０】
【表３】
【００１１】表３は、０．５％の濃度のフォルムバーの
テトラヒドロフラン溶液を、５０％の濃度のショ糖水溶
液上に展開させて調製した３枚のフォルムバー薄膜と、
１枚のフォルムバー薄膜の任意の３点における膜厚を示
したものである。本実施例における調製法によって、再
現性が良く、均質なフォルムバー薄膜を得ることができ
た。また、本実施例で得られたフォルムバー薄膜の膜厚
は、ＰＩＸＥ法等のＸ線をプローブとする分析法で通常
使用されている支持体のうちで最も膜厚の薄いマイラー
膜の膜厚の約１／３０であった。
テトラヒドロフラン溶液を、５０％の濃度のショ糖水溶
液上に展開させて調製した３枚のフォルムバー薄膜と、
１枚のフォルムバー薄膜の任意の３点における膜厚を示
したものである。本実施例における調製法によって、再
現性が良く、均質なフォルムバー薄膜を得ることができ
た。また、本実施例で得られたフォルムバー薄膜の膜厚
は、ＰＩＸＥ法等のＸ線をプローブとする分析法で通常
使用されている支持体のうちで最も膜厚の薄いマイラー
膜の膜厚の約１／３０であった。
【００１２】図３は、通常ＰＩＸＥ法等で薄膜測定試料
の支持体として使用されるマイラー膜と、本発明の支持
体であるフォルムバー薄膜のＰＩＸＥスペクトルを示
す。両者のＸ線スペクトルから明らかなように、本実施
例の支持体であるフォルムバー薄膜から発生した連続Ｘ
線強度は、ＰＩＸＥ法等において通常支持体として使用
されている最も膜厚の薄いマイラー膜の約１／２０の強
度であった。さらに、マイラー膜では必ず検出されるカ
ルシウム等の不純物も検出されず、フォルムバー薄膜は
マイラー膜よりも優れた支持体であることが分かった。
図４は、本実施例の支持体であるフォルムバー薄膜と、
通常使用されている支持体であるマイラー膜を使用した
場合のＰＩＸＥ法の検出限界を示した図である。ここで
の検出限界の定義は、１００μＣのプロトン照射により
１００カウントの計数値を与える元素濃度、またはバッ
クグラウンド計数値の標準偏差（バックグラウンドの計
数値の平方根）の３倍の計数値を与える元素濃度のいず
れか多い方とした。図から明らかなように、本実施例の
支持体であるフォルムバー薄膜を使用することにより検
出限界が向上し、従来よりも高感度の分析が可能となっ
た。一方、プロトンの１００ｎＡ、２時間照射において
も、本実施例のフォルムバー薄膜は分解せず、ＰＩＸＥ
法等のＸ線をプローブとする分析法に用いられる薄膜測
定試料の支持体として優れていることが判明した。
の支持体として使用されるマイラー膜と、本発明の支持
体であるフォルムバー薄膜のＰＩＸＥスペクトルを示
す。両者のＸ線スペクトルから明らかなように、本実施
例の支持体であるフォルムバー薄膜から発生した連続Ｘ
線強度は、ＰＩＸＥ法等において通常支持体として使用
されている最も膜厚の薄いマイラー膜の約１／２０の強
度であった。さらに、マイラー膜では必ず検出されるカ
ルシウム等の不純物も検出されず、フォルムバー薄膜は
マイラー膜よりも優れた支持体であることが分かった。
図４は、本実施例の支持体であるフォルムバー薄膜と、
通常使用されている支持体であるマイラー膜を使用した
場合のＰＩＸＥ法の検出限界を示した図である。ここで
の検出限界の定義は、１００μＣのプロトン照射により
１００カウントの計数値を与える元素濃度、またはバッ
クグラウンド計数値の標準偏差（バックグラウンドの計
数値の平方根）の３倍の計数値を与える元素濃度のいず
れか多い方とした。図から明らかなように、本実施例の
支持体であるフォルムバー薄膜を使用することにより検
出限界が向上し、従来よりも高感度の分析が可能となっ
た。一方、プロトンの１００ｎＡ、２時間照射において
も、本実施例のフォルムバー薄膜は分解せず、ＰＩＸＥ
法等のＸ線をプローブとする分析法に用いられる薄膜測
定試料の支持体として優れていることが判明した。
【００１３】図５は、本実施例の支持体であるフォルム
バー薄膜を使用して、ＰＩＸＥ法用生物試料の薄膜測定
試料調製法の一例を示したブロック図である。本実施例
の調製法により調製した数種の生物試料の薄膜測定試料
を、ＰＩＸＥ分析した結果を表４に示した。分析結果
は、他の分析法による定量値と一致し、本実施例の薄膜
試料調製法によって調製した薄膜測定試料を使用するこ
とによりＰＩＸＥ分析が可能となることが分かった。
バー薄膜を使用して、ＰＩＸＥ法用生物試料の薄膜測定
試料調製法の一例を示したブロック図である。本実施例
の調製法により調製した数種の生物試料の薄膜測定試料
を、ＰＩＸＥ分析した結果を表４に示した。分析結果
は、他の分析法による定量値と一致し、本実施例の薄膜
試料調製法によって調製した薄膜測定試料を使用するこ
とによりＰＩＸＥ分析が可能となることが分かった。
【００１４】
【表４】
【００１５】＜実施例２＞図６は、定量を目的とした元
素を試料の支持体であるフォルムバー薄膜に添加する薄
膜測定試料の調製法の一例を図示したものである。ここ
では、スカンジウム、クロム、コバルト、銅の元素量と
して、それぞれ３．８〜１４．３μｇ／ｃｃのアセチル
アセトン化合物を含む０．５％フォルムバーのテトラヒ
ドロフラン溶液を調製した。この溶液の１ｃｃを、直径
３．５ｃｍのテフロンビーカ内の５０％ショ糖水溶液上
に展開し、膜厚が１０μｇ／ｃｍ2の薄膜測定試料を調
製した。この薄膜測定試料中に含まれるスカンジウム、
クロム、コバルト、銅の元素量は、計算上９．４１〜２
９．７ｎｇ／ｃｍ2とした。図７は、本実施例であるス
カンジウム、クロム、コバルト、銅をドープした薄膜測
定試料のＰＩＸＥスペクトルを示す。図に示すごとく、
フォルムバー薄膜内に添加した全元素の特性Ｘ線ピーク
が見られた。また、これより求めた金属元素１ｎｇ／ｃ
ｍ2／μＣあたりの特性Ｘ線のカウント数は、測定系の
効率と特性Ｘ線の発生断面積から求めた計算値と一致し
た。したがって、本実施例の薄膜測定試料の調製法を用
いることにより、薄膜測定試料中に定量的に元素を添加
することが可能であること、また調製した薄膜測定試料
を使用してＰＩＸＥ分析が行えることが可能となること
が分かった。
素を試料の支持体であるフォルムバー薄膜に添加する薄
膜測定試料の調製法の一例を図示したものである。ここ
では、スカンジウム、クロム、コバルト、銅の元素量と
して、それぞれ３．８〜１４．３μｇ／ｃｃのアセチル
アセトン化合物を含む０．５％フォルムバーのテトラヒ
ドロフラン溶液を調製した。この溶液の１ｃｃを、直径
３．５ｃｍのテフロンビーカ内の５０％ショ糖水溶液上
に展開し、膜厚が１０μｇ／ｃｍ2の薄膜測定試料を調
製した。この薄膜測定試料中に含まれるスカンジウム、
クロム、コバルト、銅の元素量は、計算上９．４１〜２
９．７ｎｇ／ｃｍ2とした。図７は、本実施例であるス
カンジウム、クロム、コバルト、銅をドープした薄膜測
定試料のＰＩＸＥスペクトルを示す。図に示すごとく、
フォルムバー薄膜内に添加した全元素の特性Ｘ線ピーク
が見られた。また、これより求めた金属元素１ｎｇ／ｃ
ｍ2／μＣあたりの特性Ｘ線のカウント数は、測定系の
効率と特性Ｘ線の発生断面積から求めた計算値と一致し
た。したがって、本実施例の薄膜測定試料の調製法を用
いることにより、薄膜測定試料中に定量的に元素を添加
することが可能であること、また調製した薄膜測定試料
を使用してＰＩＸＥ分析が行えることが可能となること
が分かった。
【００１６】
【発明の効果】以上詳細に説明したごとく本発明の薄膜
測定試料は、ケイ光Ｘ線分析法、全反射ケイ光Ｘ線分析
法、ＰＩＸＥ法等のＸ線をプローブとする分析法におい
て、自己保持型の極薄の薄膜測定試料の調製が困難とさ
れる標準試料または分析試料の薄膜測定試料の調製を可
能とし、膜厚が極めて薄く、不純物を含有せず、かつ機
械的・熱的・電気的強度等の高い高性能で高感度の分析
用薄膜測定試料を簡便な方法で容易に作製することがで
きる。また、本発明の応用範囲として、生物・医学用試
料、あるいは環境汚染試料等の標準試料あるいは分析試
料として好適に用いることができる。
測定試料は、ケイ光Ｘ線分析法、全反射ケイ光Ｘ線分析
法、ＰＩＸＥ法等のＸ線をプローブとする分析法におい
て、自己保持型の極薄の薄膜測定試料の調製が困難とさ
れる標準試料または分析試料の薄膜測定試料の調製を可
能とし、膜厚が極めて薄く、不純物を含有せず、かつ機
械的・熱的・電気的強度等の高い高性能で高感度の分析
用薄膜測定試料を簡便な方法で容易に作製することがで
きる。また、本発明の応用範囲として、生物・医学用試
料、あるいは環境汚染試料等の標準試料あるいは分析試
料として好適に用いることができる。
【図１】本発明の実施例１で例示したＸ線をプローブと
する分析用薄膜測定試料の構成を示す模式図。
する分析用薄膜測定試料の構成を示す模式図。
【図２】本発明の実施例１で例示した薄膜測定試料の支
持体として用いられるフォルムバー薄膜の調製法の一例
を示す工程図。
持体として用いられるフォルムバー薄膜の調製法の一例
を示す工程図。
【図３】本発明の実施例１で例示したフォルムバー薄膜
のＰＩＸＥスペクトル図および従来のＰＩＸＥ分析にお
いて用いられるマイラー膜のスペクトル図。
のＰＩＸＥスペクトル図および従来のＰＩＸＥ分析にお
いて用いられるマイラー膜のスペクトル図。
【図４】本発明の実施例１で例示したフォルムバー薄膜
を使用した場合のＰＩＸＥ法の検出限界を示す図および
従来のＰＩＸＥ分析において用いられるマイラー膜の検
出限界を示す図。
を使用した場合のＰＩＸＥ法の検出限界を示す図および
従来のＰＩＸＥ分析において用いられるマイラー膜の検
出限界を示す図。
【図５】本発明の実施例１で例示したフォルムバー薄膜
を用いて生物試料用薄膜測定試料を調製する方法の一例
を示すブロック図。
を用いて生物試料用薄膜測定試料を調製する方法の一例
を示すブロック図。
【図６】本発明の実施例２で例示したフォルムバー薄膜
中に定量を目的とした元素を添加して薄膜測定試料を調
製する方法の一例を示すブロック図。
中に定量を目的とした元素を添加して薄膜測定試料を調
製する方法の一例を示すブロック図。
【図７】本発明の実施例２で例示したフォルムバー薄膜
中に数種の元素を添加した薄膜測定試料のＰＩＸＥスペ
クトルを示す図。
中に数種の元素を添加した薄膜測定試料のＰＩＸＥスペ
クトルを示す図。
１…フォルムバー薄膜 ２…標準試料または分析試料 ３…定量を目的とした元素を添加したフォルムバー薄膜 ４…マイラー膜 ５…フォルムバーのテトラヒドロフラン溶液 ６…ショ糖水溶液 ７…テフロン容器 ８…アルミニウム製薄膜測定試料ホルダ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 加藤 正明 東京都千代田区内幸町１丁目１番６号 日本電信電話株式会社内 (72)発明者 鈴木 信男 宮城県仙台市宮城野区宮千代１丁目５の 10 (72)発明者 岩田 吉弘 宮城県仙台市青葉区荒巻字青葉465 イ トーピア青葉465 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 1/28 G01N 23/223 ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)
Claims (6)
- 【請求項１】Ｘ線をプローブとする分析法に用いられる
薄膜測定試料であって、自己保持型の薄膜測定試料であ
る標準試料もしくは分析試料の支持体として、 膜厚を
２０μｇ／ｃｍ2以下に調製したポリビニルホルマール
薄膜すなわちフォルムバー薄膜を用いて構成したことを
特徴とするＸ線をプローブとする分析法用薄膜測定試
料。 - 【請求項２】Ｘ線をプローブとする分析法に用いられる
薄膜測定試料を調製する方法において、請求項１記載の
薄膜測定試料の支持体であるフォルムバー薄膜上に、内
部に標準元素を添加した後、均一な懸濁液とした標準試
料もしくは分析試料を滴下して乾燥する工程を少なくと
も含むことを特徴とするＸ線をプローブとする分析法用
薄膜測定試料調製法。 - 【請求項３】Ｘ線をプローブとする分析法に用いられる
薄膜測定試料を調製する方法において、請求項１記載の
薄膜測定試料の支持体であるフォルムバー薄膜の調製法
は、標準試料もしくは分析試料から化学的分離操作によ
り分離もしくは濃縮した定量を目的とする元素を添加し
て調製したフォルムバー溶液を用い、該フォルムバー溶
液により定量を目的とした元素を所定量含有する薄膜測
定試料を調製する工程を少なくとも含むことを特徴とす
るＸ線をプローブとする分析法用薄膜測定試料調製法。 - 【請求項４】Ｘ線をプローブとする分析法に用いられる
薄膜測定試料を調製する方法において、請求項１、請求
項２または請求項３記載の薄膜測定試料の支持体である
フォルムバー薄膜の調製法は、フォルムバーのテトラヒ
ドロフラン溶液を、ショ糖に代表される糖類の水溶液上
に滴下して展開させ、フォルムバーの溶媒であるテトラ
ヒドロフランを蒸発させることにより、上記糖類の水溶
液面上に生成させたフォルムバー薄膜を、薄膜測定試料
ホルダで掬い取り、水洗後、乾燥させる工程を少なくと
も含むことを特徴とするＸ線をプローブとする分析法用
薄膜測定試料調製法。 - 【請求項５】請求項４記載のフォルムバー薄膜の調製法
において、フォルムバーのテトラヒドロフラン溶液の濃
度が５．０％以下であり、ショ糖水溶液の濃度が４０％
以上、密度が１．１８ｇｃｍ~3以上の条件下でフォルム
バー薄膜を調製する工程を少なくとも含むことを特徴と
するＸ線をプローブとする分析法用薄膜測定試料調製
法。 - 【請求項６】請求項３記載の薄膜測定試料の支持体であ
るフォルムバー薄膜の調製法において、フォルムバー溶
液に添加する元素はキレート錯体であることを特徴とす
るＸ線をプローブとする分析法用薄膜測定試料調製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4121774A JP3063934B2 (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | Ｘ線をプローブとする分析法用薄膜測定試料調製法および当該方法により調製された薄膜測定試料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4121774A JP3063934B2 (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | Ｘ線をプローブとする分析法用薄膜測定試料調製法および当該方法により調製された薄膜測定試料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05312698A JPH05312698A (ja) | 1993-11-22 |
| JP3063934B2 true JP3063934B2 (ja) | 2000-07-12 |
Family
ID=14819558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4121774A Expired - Lifetime JP3063934B2 (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | Ｘ線をプローブとする分析法用薄膜測定試料調製法および当該方法により調製された薄膜測定試料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3063934B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997011359A1 (en) * | 1995-09-22 | 1997-03-27 | Philips Electronics N.V. | Sample holder for a sample to be subjected to radiation analysis |
| JP4522739B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2010-08-11 | 株式会社堀場製作所 | 液体試料の濃縮方法及び濃縮用保持台とそれを用いた微量元素分析方法 |
| US7474730B2 (en) | 2006-10-17 | 2009-01-06 | Oxford Instruments Analytical Oy | Compensation for fluctuations over time in the radiation characteristics of the X-ray source in an XRF analyser |
| JP2010133721A (ja) * | 2008-12-02 | 2010-06-17 | Renesas Electronics Corp | 元素量測定方法 |
| CN103278361B (zh) * | 2013-05-16 | 2015-06-17 | 青岛科技大学 | 一种聚合物薄膜的低温包埋方法 |
| CN115235861A (zh) * | 2022-08-25 | 2022-10-25 | 胜科纳米(苏州)股份有限公司 | 一种用于飞行时间二次离子质谱分析的超薄有机膜层的制样及分析方法 |
-
1992
- 1992-05-14 JP JP4121774A patent/JP3063934B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05312698A (ja) | 1993-11-22 |
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