JP3058755B2 - Lead frame and manufacturing method thereof - Google Patents

Lead frame and manufacturing method thereof

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JP3058755B2
JP3058755B2 JP4093318A JP9331892A JP3058755B2 JP 3058755 B2 JP3058755 B2 JP 3058755B2 JP 4093318 A JP4093318 A JP 4093318A JP 9331892 A JP9331892 A JP 9331892A JP 3058755 B2 JP3058755 B2 JP 3058755B2
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straight
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秀樹 松沢
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はリードフレーム及びその
製造法に関し、更に詳細には半導体チップを搭載する
ステージがサポートバーによって支承されているリード
フレーム及びその製造法に関する。
The present invention relates to an leadframe and its production how relates further lead frame and a manufacturing how the stage for mounting the semiconductor chip is supported by the support bars in detail.

【0002】[0002]

【従来の技術】リードフレームとして、図4に示す如
く、半導体チップを搭載するステージ12がフレーム枠
15から延設された複数本のサポートバー14、14に
よって支承されているリードフレーム10が使用されて
いる。かかる図4に示すリードフレーム10において
は、搭載する半導体チップとステージ12との接合等を
良好にすべく、ステージ12に複数個のディンプル16
を設けることがある。更に、樹脂等で封止された後、サ
ポートバー14、14に沿って水分の封止樹脂中への侵
入等を防止すべく、サポートバー14、14に凹溝やV
溝を形成することもある。この様な複数個のディンプル
16をステージ12に設けるディンプル加工、或いはサ
ポートバー14、14に凹溝やV溝を形成するプレス加
工等によって、ステージ12やサポートバー14、14
に反り等の歪みが発生し、ステージ12が傾斜したり或
いは反ったりすることがある。このため、かかる複数個
のディンプル16を設けるプレス加工を行う必要のある
リードフレームにおいては、サポートバー14、14の
各々の途中に、図5(a)(b)に示す折曲部108や
クランク部110等から成る歪み吸収部100が形成さ
れる。
2. Description of the Related Art As a lead frame, as shown in FIG. 4, a lead frame 10 in which a stage 12 for mounting a semiconductor chip is supported by a plurality of support bars 14 extending from a frame 15 is used. ing. In the lead frame 10 shown in FIG. 4, a plurality of dimples 16 are provided on the stage 12 in order to improve the bonding between the mounted semiconductor chip and the stage 12.
May be provided. Further, after being sealed with a resin or the like, the support bars 14 and 14 are provided with concave grooves or V-shaped grooves in order to prevent moisture from entering the sealing resin along the support bars 14 and 14.
A groove may be formed. Such a plurality of dimples 16 are provided on the stage 12 by dimple processing or press processing for forming concave grooves or V-grooves on the support bars 14, 14.
Of the stage 12 may be tilted or warped. For this reason, in a lead frame which needs to be subjected to press working for providing such a plurality of dimples 16, the bent portions 108 and the cranks shown in FIGS. The strain absorbing portion 100 including the portion 110 and the like is formed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】かかる歪み吸収部10
0をサポートバー14、14の途中に形成することによ
って、ステージ12やサポートバー14、14に歪みが
発生しても、歪み吸収部100の曲折部108やクラン
ク部110が弾性変形して吸収できる。しかし、サポー
トバー14の途中に、図5に示す歪み吸収部100を設
けるためには、曲折部108やクランク部110を形成
できる空隙を必要とする。しかも、ステージ12等に発
生する歪みを充分に吸収するためには、曲折部108や
クランク部110の形状を大形としなければならず、リ
ードフレームの多ピン化等が要求されている現在、歪み
吸収部100の大形化は困難である。また、サポートバ
ー104の途中に歪み吸収部100を形成すると、サポ
ートバー14の強度も低下するため、サポートバー14
に外力、特に上下方向又は左右方向の外力が加えられる
と、サポートバー14が変形し易くなるという問題もあ
る。そこで、本発明の目的は、サポートバーの強度を保
持すべく歪み吸収部を小形化しても、ステージ等に発生
する反り等の歪みを充分に吸収し得ることができるリー
ドフレーム及びその製造法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Such a strain absorbing section 10 is described.
By forming 0 in the middle of the support bars 14, 14, even if the stage 12 and the support bars 14, 14 are distorted, the bent portion 108 and the crank portion 110 of the strain absorbing portion 100 can be elastically deformed and absorbed. . However, in order to provide the strain absorbing portion 100 shown in FIG. 5 in the middle of the support bar 14, a gap in which the bent portion 108 and the crank portion 110 can be formed is required. Moreover, in order to sufficiently absorb the distortion generated in the stage 12 and the like, the shape of the bent portion 108 and the crank portion 110 must be large, and at present, there is a demand for a multi-pin lead frame. It is difficult to increase the size of the strain absorbing section 100. Further, if the strain absorbing portion 100 is formed in the middle of the support bar 104, the strength of the support bar 14 is also reduced.
When an external force, in particular, an external force in the vertical direction or the horizontal direction is applied to the support bar 14, there is also a problem that the support bar 14 is easily deformed. An object of the present invention, even when miniaturized strain absorbing portion to hold the strength of the support bars, the lead frame and the manufacturing how can be sufficiently absorb the distortion such as warpage occurring on the stage or the like Is to provide.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者は、前記目的を
達成すべく検討を重ねた結果、サポートバーの途中に
成した環状部の空間内に、サポートバーと環状部とを結
ぶ仮想直線と直交する方向に延在する直状交差部を形成
し、この直状交差部の両端を環状部に連結して成る歪み
吸収部を形成した後、直状交差部をコイニングすること
によって、歪み吸収部を小形化しても、ステージ等に蓄
積された歪みを充分に吸収し得ることを見い出し、本発
明に到達した。
SUMMARY OF THE INVENTION The present inventor has extensive investigations to achieve the above object, the shape in the middle of the support bar
In the space of the formed annular part, connect the support bar and the annular part.
Forming a straight intersection that extends in a direction perpendicular to the virtual straight line
And the distortion which connects both ends of this straight intersection to the annular part
After forming the absorbing portion, by coining the straight crossing portion, it was found that even if the strain absorbing portion was downsized, the strain accumulated on the stage or the like could be sufficiently absorbed, and the present invention was reached.

【0005】すなわち、本発明は、半導体チップが搭載
されるステージを支承するサポートバーが形成されたリ
ードフレームにおいて、該サポートバーの途中に形成さ
れた環状部の空間内に、前記環状部とサポートバーとの
両連結部を結ぶ仮想直線と交差する方向に延在し、両端
が前記環状部に連結する直状交差部を備えた歪み吸収部
が形成されているとともに、前記直状交差部の少なくと
も一部が変形して伸長されていることを特徴とするリー
ドフレームにある。
That is, according to the present invention, in a lead frame in which a support bar for supporting a stage on which a semiconductor chip is mounted is formed, the annular portion and the support are provided in the space of the annular portion formed in the middle of the support bar. extend in a direction intersecting the virtual straight line connecting the two joining portions of the bar, both ends
Has a straight crossing portion connected to the annular portion.
Is formed, and at least the straight intersection is formed.
The lead frame is partially deformed and stretched .

【0006】また、本発明は、半導体チップを搭載する
ステージがサポートバーによって支承されているリード
フレームをプレス加工によって製造する際に、該サポー
トバーの途中に形成された環状部の空間内に、前記環状
部とサポートバーとの両連結部を結ぶ仮想直線と交差す
方向に延在する直状交差部が形成され、且つ前記直状
交差部の両端が前記環状部に連結されて成る歪み吸収部
形成した後、前記直状交差部の少なくとも一部をコイ
ニングすることを特徴とするリードフレームの製造
でもある。
Further, the present invention provides a method for manufacturing a lead frame in which a stage on which a semiconductor chip is mounted is supported by a support bar by press working, in a space of an annular portion formed in the middle of the support bar. straight intersecting portion extending in a direction intersecting the virtual straight line connecting the two joining portions between the annular portions and the support bar is formed and distortions at both ends, which are connected to the front Symbol annular portion of the straight intersection after forming the absorber is also a manufacturing how the lead frame, characterized by coining at least a portion of the straight intersection.

【0007】かかる構成を具備する本発明において、直
状交差部を、環状部とサポートバーとの連結部を結ぶ
仮想直線と略直交する方向に延在することによって、歪
み吸収部の歪み吸収量を最大とすることができる。ま
た、ステージを支承する複数本のサポートバーの各々に
形成した環状部内に、直状交差部を形成することに
、加工歪み等の歪みを可及的に吸収することができ、
ステージの反り等をなくすことができる。
[0007] In the present invention comprising such a construction, the straight intersection, connecting both connection portions between the ring-shaped portion and the support bar
By extending in a direction substantially orthogonal to the virtual straight line, the amount of strain absorption of the strain absorbing portion can be maximized. In addition, each of the multiple support bars that support the stage
The formed annular section, to form a straight cross-section
Ri, can be absorbed as much as possible the distortion of such processing distortion,
Stage warpage and the like can be eliminated.

【0008】[0008]

【作用】本発明によれば、直状交差部をコイニングする
ことによって、直状交差部が塑性変形して長軸方向に伸
長されるため、直状交差部の両端の各々と接続されてい
る環状部は直状交差部の長軸方向に伸長される。このた
め、直状交差部に対して直角方向の環状部の間隔は短縮
され、環状部に連結されたサポートバーには引張力が作
用し、ステージ等に蓄積された歪みを吸収することがで
きる。この様に、本発明においては、コイニングによっ
て直状交差部に塑性変形を惹起してステージ等に蓄積さ
れた歪みを吸収するため、歪み吸収部を小形化できサポ
ートバーの強度を保持できる。更に、直状交差部のコイ
ニングによってステージ等に蓄積された歪みを吸収する
ため、ステージの水平を保持できるようにステージに蓄
積された歪みの程度に応じて容易に調整できる。
According to the present invention, since the straight intersection is plastically deformed and elongated in the longitudinal direction by coining the straight intersection, the straight intersection is connected to both ends of the straight intersection. The annular portion extends in the longitudinal direction of the straight intersection. For this reason, the interval between the annular portions in the direction perpendicular to the straight intersection portion is reduced, and a tensile force acts on the support bar connected to the annular portion, so that the strain accumulated on the stage or the like can be absorbed. . Thus, in the present invention, plastic deformation is caused at the straight intersection by coining to absorb the strain accumulated on the stage or the like, so that the strain absorbing portion can be downsized and the strength of the support bar can be maintained. Further, since the distortion accumulated in the stage or the like is absorbed by coining of the straight intersection, it can be easily adjusted according to the degree of distortion accumulated in the stage so that the stage can be kept horizontal.

【0009】[0009]

【実施例】本発明を図面によって更に詳細に説明する。
図1は、図4に示すリードフレーム10の各サポートバ
ー14の途中に連結された歪み吸収部20aの平面図で
ある。図1の歪み吸収部20aは、菱形の環状部17a
と、環状部17aの空間内に、両端が環状部17aに
された直状交差部22とによって構成されている。こ
の歪み吸収部20aは、環状部17aとサポートバー1
4との両連結部を結ぶ仮想直線24と直状交差部22と
が直交するように配設されている。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG.
FIG. 1 is a plan view of a strain absorbing portion 20a connected in the middle of each support bar 14 of the lead frame 10 shown in FIG. The distortion absorbing portion 20a of FIG.
And both ends are connected to the annular portion 17a in the space of the annular portion 17a.
Are constituted by sintered been a straight cross-section 22. This strain absorbing portion 20a is formed by the annular portion 17a and the support bar 1
The virtual straight line 24 connecting the two connecting portions with the straight line 4 and the straight crossing portion 22 are arranged to be orthogonal to each other.

【0010】図1に示す歪み吸収部20aが各サポート
バー14に形成されたリードフレームにおいては、ステ
ージ12等に発生した歪みを歪み吸収部20aの直状交
差部22の一部又は全面をコイニングすることによって
吸収することができる。つまり、図2に示す様に、直状
交差部22の一部又は全面をコイニングすることによっ
て直状交差部22が伸長され、直状交差部22の両端と
接続する環状部17aの接続部は矢印B方向に押圧され
る。このため、環状部17aと直状交差部22の両端と
の接続部間の間隔wは、コイニング前の間隔W(図1)
よりも拡大される。一方、直状交差部22と直交する方
向の環状部17aの間隔H(図1)は、間隔Lの拡大に
伴い間隔h(図2)に短縮されるため、直状交差部22
と直交する方向の環状部17aに連結されたサポートバ
ー14、14に矢印C方向の力、即ちステージ12及び
フレーム枠15を引張る方向の力が作用する。このた
め、ステージ12等に蓄積された歪みが吸収されるので
ある。
In the lead frame in which the strain absorbing portion 20a shown in FIG. 1 is formed on each support bar 14, the distortion generated in the stage 12 or the like is partially or entirely coined at the straight crossing portion 22 of the strain absorbing portion 20a. Can be absorbed. That is, as shown in FIG. 2, the straight crossing portion 22 is elongated by coining a part or the entire surface of the straight crossing portion 22, and the connecting portion of the annular portion 17 a connected to both ends of the straight crossing portion 22 is It is pressed in the direction of arrow B. For this reason, the interval w between the connecting portions between the annular portion 17a and both ends of the straight intersection portion 22 is the interval W before coining (FIG. 1).
It is expanded more than. On the other hand, the interval H (FIG. 1) between the annular portions 17 a in the direction orthogonal to the straight intersection portion 22 is reduced to the interval h (FIG. 2) as the interval L increases.
A force in the direction of arrow C, that is, a force in the direction of pulling the stage 12 and the frame 15 acts on the support bars 14, 14 connected to the annular portion 17a in a direction perpendicular to the direction. Therefore, the distortion accumulated in the stage 12 and the like is absorbed.

【0011】ここで、直状交差部22の伸長程度が大と
なる程、ステージ12及びフレーム枠15の引張り張力
が大となるため、ステージ12等に蓄積された歪みの程
度に応じてコイニング程度を調整する。かかるコイニン
グ程度の調整は、コイニング面積を調整することによっ
て容易に行うことができる。また、同一コイニング面積
の場合、直状交差部22の巾が広い程、コイニングによ
る伸長が大となるが、歪み吸収部20aが大形となる。
このため、ステージ12等に蓄積される歪みの程度(例
えば、ステージ12に施す加工程度)に応じて直状交差
部22の巾を決定する。更に、本実施例の菱形の環状部
17aとサポートバー14、14との連結部近傍におい
て、菱形の環状部17aを形成する細巾帯状体の交差角
θ(図1)が大角となる程、直状交差部22のコイニン
グによって容易に環状部17aが変形でき、ステージ1
2等の歪みを容易に吸収できる。唯、交差角θが大角と
なる程、歪み吸収部20aが大形となるため、成形する
リードフレームの大きさやインナーリードの密度等との
関係で決定される。尚、本実施例において、サポートバ
ー14の各々に歪み吸収部を設けているが、ステージ1
2等に蓄積される歪みが少ない場合には、1本のサポー
トバー14にのみ歪み吸収部20aを設けてもよい。
Here, the greater the degree of extension of the straight crossing portion 22, the greater the tensile tension of the stage 12 and the frame 15 so that the degree of coining depends on the degree of strain accumulated on the stage 12 and the like. To adjust. Such adjustment of the degree of coining can be easily performed by adjusting the coining area. In addition, in the case of the same coining area, as the width of the straight intersection portion 22 is wider, the expansion due to coining becomes larger, but the strain absorbing portion 20a becomes larger.
For this reason, the width of the straight intersection 22 is determined according to the degree of distortion accumulated on the stage 12 or the like (for example, the degree of processing performed on the stage 12). Furthermore, as the intersection angle θ (FIG. 1) of the narrow band forming the diamond-shaped annular portion 17a becomes larger near the connecting portion between the diamond-shaped annular portion 17a and the support bars 14 in this embodiment, The annular portion 17a can be easily deformed by coining of the straight intersection portion 22, and the stage 1
Distortions such as 2 can be easily absorbed. However, the larger the intersection angle θ becomes, the larger the strain absorbing portion 20a becomes. Therefore, the strain absorbing portion 20a is determined depending on the size of the lead frame to be formed, the density of the inner leads, and the like. In this embodiment, each of the support bars 14 is provided with a strain absorbing portion.
When the distortion accumulated in the second and the like is small, the distortion absorbing portion 20a may be provided only in one support bar.

【0012】以上、述べてきた図1〜図2に示す本実施
例において、歪み吸収部20aの環状部17aが菱形状
に形成されているが、図3(a)に示す様に、円形状の
環状部17bから成る歪み吸収部20bであってもよ
い。また、図3(b)に示す様に、環状部17c内に二
本の直状交差部22cが配設されていてもよい。更に、
図1〜図2に示す本実施例においては、直状交差部22
が環状部17aとサポートバー14との両連結部を結ぶ
仮想直線24と直交するように、歪み吸収部20がサポ
ートバー14に配設されているが、仮想直線24と直状
交差部22とが斜交するように、歪み吸収部20aが配
設されていてもよい。但し、この場合には、図1〜図2
に示す歪み吸収部20aに比較して、同一面積をコイニ
ングしても直状交差部22の変形割合が少なくなる傾向
にある。
In the embodiment shown in FIGS. 1 and 2 described above, the annular portion 17a of the strain absorbing portion 20a is formed in a rhombic shape, but as shown in FIG. May be the strain absorbing portion 20b composed of the annular portion 17b. Further, as shown in FIG. 3 (b), two straight intersecting portions 22c may be provided in the annular portion 17c. Furthermore,
In the present embodiment shown in FIGS.
Connects both connecting portions of the annular portion 17a and the support bar 14.
The strain absorbing portion 20 is disposed on the support bar 14 so as to be orthogonal to the virtual straight line 24, but the strain absorbing portion 20 a is disposed so that the virtual straight line 24 and the straight intersection portion 22 are oblique to each other. May be. However, in this case, FIGS.
The deformation ratio of the straight crossing portion 22 tends to be smaller even if the same area is coined, as compared with the strain absorbing portion 20a shown in FIG.

【0013】[0013]

【発明の効果】本発明によれば、歪み吸収部を小形化し
ても、ステージ等に蓄積される歪みを充分に吸収するこ
とができるため、ステージにディンプル加工等の加工を
施してもステージを水平に保つことができる。また、サ
ポートバーの強度を保持でき、サポートバーに作用する
外力に因るサポートバーの変形を防止できる。このた
め、本発明のリードフレームは、サポートバーの細化が
可能となり、リードフレームの多ピン化等の要請に応え
ることができる。
According to the present invention, even if the distortion absorbing portion is miniaturized, the distortion accumulated in the stage or the like can be sufficiently absorbed. Can be kept horizontal. Further, the strength of the support bar can be maintained, and deformation of the support bar due to an external force acting on the support bar can be prevented. For this reason, the lead frame of the present invention enables the support bar to be made thinner, and can respond to a request for increasing the number of pins of the lead frame.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のリードフレームのサポートバーの途中
に設けられる歪み吸収部の正面図である。
FIG. 1 is a front view of a strain absorbing portion provided in the middle of a support bar of a lead frame of the present invention.

【図2】図1に示す歪み吸収部の作用を説明するための
説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining an operation of a strain absorbing section shown in FIG.

【図3】歪み吸収部の他の例を示す正面図である。FIG. 3 is a front view showing another example of the strain absorbing section.

【図4】本実施例の歪み吸収部が形成されるリードフレ
ームを示す正面図である。
FIG. 4 is a front view showing a lead frame on which a strain absorbing portion of the present embodiment is formed.

【図5】従来の歪み吸収部を示す正面図である。FIG. 5 is a front view showing a conventional strain absorbing section.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 リードフレーム 12 ステージ 14 サポートバー 17a、17b、17c 環状部 20a、20b、20c 歪み吸収部 22、22b、22c 直状交差部 24 仮想直線DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Lead frame 12 Stage 14 Support bar 17a, 17b, 17c Annular part 20a, 20b, 20c Strain absorption part 22, 22b, 22c Straight intersection part 24 Virtual straight line

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 23/50 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 23/50

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 半導体チップが搭載されるステージを支
承するサポートバーが形成されたリードフレームにおい
て、 該サポートバーの途中に形成された環状部の空間内に、
前記環状部とサポートバーとの両連結部を結ぶ仮想直線
と交差する方向に延在し、両端が前記環状部に連結する
直状交差部を備えた歪み吸収部が形成されているととも
に、前記直状交差部の少なくとも一部が変形して伸長さ
れていることを特徴とするリードフレーム。
1. A lead frame in which a support bar for supporting a stage on which a semiconductor chip is mounted is formed in a space of an annular portion formed in the middle of the support bar.
Extend in a direction intersecting the virtual straight line connecting the two joining portions between the annular portions and the support bar, two ends are connected to the annular portion
A strain absorbing part with a straight intersection is formed
At least a part of the straight intersection portion is deformed and extended.
Lead frame, characterized by being.
【請求項2】 半導体チップを搭載するステージがサポ
ートバーによって支承されているリードフレームをプレ
ス加工によって製造する際に、 該サポートバーの途中に形成された環状部の空間内に、
前記環状部とサポートバーとの両連結部を結ぶ仮想直線
と交差する方向に延在する直状交差部が形成され、且つ
前記直状交差部の両端が前記環状部に連結されて成る歪
み吸収部を形成した後、 前記直状交差部の少なくとも一部をコイニングすること
を特徴とするリードフレームの製造方法。
2. When a lead frame on which a stage on which a semiconductor chip is mounted is supported by a support bar is manufactured by press working, a space of an annular portion formed in the middle of the support bar is provided.
A straight crossing portion extending in a direction intersecting a virtual straight line connecting both connecting portions of the annular portion and the support bar is formed, and both ends of the straight crossing portion are connected to the annular portion. Forming a portion, and coining at least a part of the straight crossing portion.
【請求項3】 直状交差部を、環状部とサポートバーと
の両連結部を結ぶ仮想直線と略直交する方向に延在して
形成する請求項記載のリードフレームの製造方法。
3. The method for manufacturing a lead frame according to claim 2 , wherein the straight crossing portion is formed to extend in a direction substantially orthogonal to a virtual straight line connecting both connecting portions of the annular portion and the support bar.
【請求項4】 ステージを支承する複数本のサポートバ
ーの各々に形成した環状部内に、直状交差部を形成する
請求項又は請求項記載のリードフレームの製造方
法。
Wherein in the annular portion formed in each of the plurality of support bars for supporting the stage, according to claim 2 or claim 3 method for fabricating a lead frame according to form a straight cross-section.
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