JP3041795B1 - 電解槽 - Google Patents

電解槽

Info

Publication number
JP3041795B1
JP3041795B1 JP11093591A JP9359199A JP3041795B1 JP 3041795 B1 JP3041795 B1 JP 3041795B1 JP 11093591 A JP11093591 A JP 11093591A JP 9359199 A JP9359199 A JP 9359199A JP 3041795 B1 JP3041795 B1 JP 3041795B1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
chamber
electrolytic cell
diffusion electrode
cathode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP11093591A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000282284A (ja
Inventor
昭博 坂田
幸治 斉木
洋明 相川
真二 片山
健三 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Toagosei Co Ltd
Kaneka Corp
ThyssenKrupp Uhde Chlorine Engineers Japan Ltd
Original Assignee
Chlorine Engineers Corp Ltd
Mitsui Chemicals Inc
Toagosei Co Ltd
Kaneka Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chlorine Engineers Corp Ltd, Mitsui Chemicals Inc, Toagosei Co Ltd, Kaneka Corp filed Critical Chlorine Engineers Corp Ltd
Priority to JP11093591A priority Critical patent/JP3041795B1/ja
Priority to PCT/JP2000/001921 priority patent/WO2000060140A1/ja
Priority to US09/701,418 priority patent/US6383349B1/en
Priority to EP00911433A priority patent/EP1092789B1/en
Priority to CNB008004536A priority patent/CN1163634C/zh
Application granted granted Critical
Publication of JP3041795B1 publication Critical patent/JP3041795B1/ja
Publication of JP2000282284A publication Critical patent/JP2000282284A/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Abstract

【要約】 【課題】 下部ガスチャンバーを陰極エレメントの下方
外端部に設けることによって、ガス拡散電極からのガス
室への苛性液漏れに、有効適切に対処できる電解槽を提
供する。 【解決手段】 陰極室エレメント４の酸素ガス供給部に
連通するガス拡散電極１の酸素ガス供給口５を有するガ
ス室２、ガス拡散電極１とイオン交換膜の間に苛性液が
入る苛性室から構成される電解槽のガス拡散電極１のガ
ス室２の下部で、陰極エレメント４の陰極集電枠３の面
に沿う下方外端部へ、ガス排出部として下部ガスチャン
バー６を設けた電解槽。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、イオン交換膜法食
塩電解等に使用される酸素陰極を用いた電解槽に関し、
更に詳しくは、ガス拡散電極からのガス室への苛性液漏
れに、有効適切に対処できる電解槽に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のイオン交換膜型食塩電解槽にガス
拡散電極を用い酸素陰極として使用する場合、液透過性
の無いガス拡散電極を用いて３室法で構成される。実用
型電解槽（高さが、１．２ｍ以上）では電解液は液室に
満たされるので、電解液による液圧がガス拡散電極下部
にかかる。この差圧は陰極液室からガス室への液漏れの
原因になる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この縦型の電解槽にガ
ス拡散電極を装着し、電解液を供給するとガス拡散電極
の下部に大きな液圧がかかり、一方上部はほとんど液圧
が生じないという、差圧問題が生じる。下部では陰極液
室からガス室への液漏れの原因になる。上部ではガスの
電解液側への漏れの原因になる。また、ガス圧より液圧
が高い状態で運転するとガス拡散電極の耐水性が高く、
且つシールが十分でないと電解液が多量にガス室に漏れ
出るため、ガスの供給が阻害され、電極性能、電極寿命
が低下するという問題点があった。特に耐水圧が低いガ
ス拡散電極の使用が制限される。
【０００４】また、ガス室に苛性液が充満すると、更に
下部ガスチャンバーに流入する。この場合、下部ガスチ
ャンバーが苛性液により腐食されるため、銀などのＮａ
ＯＨに対して防食性のある金属で下部ガスチャンバーの
内面にメッキ処理を行っておかなければならないが、従
来の電解槽では、構造上、下部ガスチャンバーの内面に
防食メッキを行うことが困難であった。また、陰極集電
枠と下部ガスチャンバーはガスケットでシールされてい
るが、シールが十分でない場合、苛性液が陰極エレメン
ト内部に流入し、エレメント内部も腐食されるという問
題点があった。更に、既存の陰極エレメントにおいて
は、構造的にガスチャンバーを取り付けるのが困難な電
解槽もあった。
【０００５】本発明は、このような従来の課題に鑑みて
なされたものであり、下部ガスチャンバーを陰極エレメ
ントの下方外端部に設けることによって、ガス拡散電極
からのガス室への苛性液漏れに、有効適切に対処できる
電解槽を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記の
ガス拡散電極を有する電解槽が提供されて、本発明の上
記目的が達成される。 （１） 陽極、イオン交換膜及びガス拡散電極よりなる
酸素陰極を用いる電解槽において、陰極エレメントの酸
素ガス供給に連通するガス拡散電極の酸素ガス供給口を
有するガス室、ガス拡散電極とイオン交換膜の間に苛性
液が入る苛性室から構成される電解槽のガス室の下部
で、陰極エレメントの陰極集電枠の面に沿う下方外端部
に、ガス排出部として下部ガスチャンバーを設けること
を特徴とする電解槽。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明についてその実施の
形態を図面に基づいて説明するが、本発明はこれらに限
定されない。図１は、本発明の単極式の例を示す断面説
明図であり、図２は、複極式の例を示す断面説明図であ
る。
【０００８】図１において、ガス拡散電極１、コルゲー
トメッシュ７と陰極集電枠３とで構成されるガス室２の
陰極集電枠３には陰極エレメント４の酸素ガス供給部に
連通するガス供給口５が開設されている。コルゲートメ
ッシュ７が充填されているガス室２の、陰極エレメント
４の下方外端部の、陰極集電枠３の面に沿うガス室の下
部には、あらかじめ苛性ソーダに対して耐食性である銀
等をメッキした金属板が内面になるように板金加工して
作製した下部ガスチャンバー６をガス排出部として付設
している。
【０００９】図１に示す実施態様においては酸素ガス
は、陰極エレメント４の下部より供給し、陰極エレメン
ト４の内部を上昇し、陰極集電枠３の上部のガス供給口
５からガス室に入り、下部ガスチャンバー６に入る。
【００１０】本発明のガス拡散電極を有する電解槽は、
上記したように構成されているため、ガス圧より液圧が
高い状態で運転して、電解液（苛性液）が多量にガス室
に漏れ出ても、漏れ出た苛性液は下部ガスチャンバー６
中へ流下し、ガスの供給が阻害され、電極性能等が低下
することがない。また、ガス拡散電極１からガスケット
のシールが不十分なために下部ガスチャンバー６に苛性
液が漏れても、下部ガスチャンバー６の内面はあらかじ
め苛性ソーダに対し防食メッキされているため腐食が防
止され、陰極エレメント４内部に苛性液が流入して陰極
エレメント内部を腐食することがない。また、下部チャ
ンバー６が腐食した場合も、陰極集電枠３だけを交換す
ることで修復できる。更に、既存陰極エレメントの改造
が不要のため、どのタイプの電解槽にも適用できる。
【００１１】
【発明の効果】本発明のガス拡散電極を有する電解槽に
よれば、ガス拡散電極のガス室の下部で、陰極エレメン
トの陰極集電枠の面に沿う下方外端部に、ガス排出部と
して下部ガスチャンバーを設けているために、例え苛性
液が多量にガス室に漏れ出ても、下部ガスチャンバーへ
流下するので、ガスの供給が阻害されて電極性能が低下
することがない。また、下部チャンバーが腐食すること
があっても、陰極集電枠を交換するだけで修復できる。
更に、既存のエレメントの改造が不要なため、単極式、
複極式を問わず、どのタイプの電解槽にも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のガス拡散電極を用いる電解槽の単極式
の例を示す断面説明図である。
【図２】本発明のガス拡散電極を用いる電解槽の複極式
の例を示す断面説明図である。
【符号の説明】
１ ガス拡散電極 ２ ガス室 ３ 陰極集電枠 ４ 陰極エレメント ５ ガス供給口 ６ 下部ガスチャンバー ７ コルゲートメッシュ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂田 昭博 東京都港区西新橋一丁目14番１号 東亞 合成株式会社内 (72)発明者 斉木 幸治 大阪府大阪市北区中之島三丁目２番４号 鐘淵化学工業株式会社内 (72)発明者 相川 洋明 東京都千代田区霞が関三丁目２番５号 三井化学株式会社内 (72)発明者 片山 真二 岡山県玉野市東高崎24丁目６号 クロリ ンエンジニアズ株式会社内 (72)発明者 山口 健三 東京都中央区築地５丁目６番４号 コン セプト エンジニアズ株式会社内 (56)参考文献 特開 平10−219488（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−266852（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C25B 1/00 - 15/08

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 陽極、イオン交換膜及びガス拡散電極よ
    りなる酸素陰極を用いる電解槽において、陰極エレメン
    トの酸素ガス供給部に連通するガス拡散電極の酸素ガス
    供給口を有するガス室、ガス拡散電極とイオン交換膜の
    間に苛性液が入る苛性室から構成される電解槽のガス室
    の下部で陰極エレメントの陰極集電枠の面に沿う下方外
    端部に、ガス排出部として下部ガスチャンバーを設ける
    ことを特徴とする電解槽。
JP11093591A 1999-03-31 1999-03-31 電解槽 Expired - Fee Related JP3041795B1 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11093591A JP3041795B1 (ja) 1999-03-31 1999-03-31 電解槽
PCT/JP2000/001921 WO2000060140A1 (fr) 1999-03-31 2000-03-28 Cellule electrolytique utilisant une electrode de diffusion de gaz et procede de repartition de la puissance pour la cellule electrolytique
US09/701,418 US6383349B1 (en) 1999-03-31 2000-03-28 Electrolytic cell using gas diffusion electrode and power distribution method for the electrolytic cell
EP00911433A EP1092789B1 (en) 1999-03-31 2000-03-28 Electrolytic cell using gas diffusion electrode and power distribution method for the electrolytic cell
CNB008004536A CN1163634C (zh) 1999-03-31 2000-03-28 使用气体扩散电极的电解槽及该电解槽的配电方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11093591A JP3041795B1 (ja) 1999-03-31 1999-03-31 電解槽

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP3041795B1 true JP3041795B1 (ja) 2000-05-15
JP2000282284A JP2000282284A (ja) 2000-10-10

Family

ID=14086554

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11093591A Expired - Fee Related JP3041795B1 (ja) 1999-03-31 1999-03-31 電解槽

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3041795B1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010243192A (ja) * 2009-04-01 2010-10-28 A & D Co Ltd 歪ゲージとロードセル。

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010243192A (ja) * 2009-04-01 2010-10-28 A & D Co Ltd 歪ゲージとロードセル。

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000282284A (ja) 2000-10-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8940139B2 (en) Gas diffusion electrode equipped ion exchange membrane electrolyzer
JP6001646B2 (ja) 電解液が縁部に浸出することを防止する封止材の代替物としてのガスケットフレームを備える電気化学セル
WO2000060140A1 (fr) Cellule electrolytique utilisant une electrode de diffusion de gaz et procede de repartition de la puissance pour la cellule electrolytique
JP7122181B2 (ja) 電極構造体、電解セル及び電解槽
JP3041795B1 (ja) 電解槽
JP4302386B2 (ja) 電解装置
CN209368364U (zh) 一种氯碱工业用氧阴极离子膜电解槽
JPS6346154B2 (ja)
JPH059772A (ja) 塩化アルカリ水溶液電解槽
JP3086853B2 (ja) 電解槽
JP3110555B2 (ja) イオン交換膜電解槽
JP3041792B1 (ja) 苛性室厚の薄い電解槽
JP3041793B1 (ja) 電解槽
JP7071595B2 (ja) 電解槽用ガスケット及びそれを用いた電解槽
JP2952595B1 (ja) ガス拡散電極の取付け、排電方法
RU2780741C1 (ru) Уплотнение для электролитических резервуаров и электролитический резервуар, включающий уплотнение
WO2024166685A1 (ja) 電解エレメント、および、アルカリ水電解槽
JP2987586B1 (ja) ガス拡散電極の排電構造
JP3827647B2 (ja) ガス拡散電極を備えたイオン交換膜電解槽
JPS621236Y2 (ja)
JPH04154980A (ja) 電解槽
JPH04214887A (ja) 電解槽
JPH0328388A (ja) 電解槽
CN114436372A (zh) 密封效果好的电解组件及富氢水杯
JPS5831894Y2 (ja) フィルタ−プレス型電解槽用導電ピン

Legal Events

Date Code Title Description
S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080310

Year of fee payment: 8

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080310

Year of fee payment: 8

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080310

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090310

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090310

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100310

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100310

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110310

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110310

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120310

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120310

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130310

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130310

Year of fee payment: 13

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140310

Year of fee payment: 14

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees