JP3038839B2 - High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer - Google Patents

High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer

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Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、高周波誘導結合プラズマ質量分析計(以
下、「ICP−MS」と略す)に関し、更に詳しくは、サン
プル導入部の操作性を改善したICP−MSに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to a high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer (hereinafter abbreviated as “ICP-MS”), and more specifically, to improve the operability of a sample introduction unit. ICP-MS.

<従来の技術> ICP−MSは、高周波誘導結合プラズマを用いて試料を
励起させ、生じたイオンをノズルとスキマーからなるイ
ンターフェイスを介して質量分析計に導いて電気的に検
出し該イオン量を精密に測定することにより、試料中の
被測定元素を高精度に分析するように構成されている。
第5図は、このようなICP−MSの従来例構成説明図であ
る。この図において、プラズマトーチ1の外側管1bと最
外側管1cにはガス調節器2を介してアルゴンガス供給源
3からアルゴンガスが供給され、内側管1aには試料槽4
内の試料がネブライザ5で霧化されてのちアルゴンガス
によって搬入されるようになっている。また、プラズマ
トーチ1に巻回された高周波誘導コイル6には高周波電
源10によって高周波電流が流され、該コイル6の周囲に
高周波磁界(図示せず)が形成されている。一方、ノズ
ル8とスキマー9に挟まれたフォアチャンバー11内は、
真空ポンプ12によって例えば1Torr.に減圧されている。
また、センターチャンバー13内にはイオンレンズ系14a,
14bが設けられると共に、該センターチャンバー13の内
部は第1油拡散ポンプ15によって例えば10-4Torr.に減
圧され、マスフィルタ(例えば四重極マスフィルタ)16
を収容しているリアチャンバー17内は第2油拡散ポンプ
18によって例えば10-5Torr.に減圧されている。
<Prior art> ICP-MS excites a sample using high frequency inductively coupled plasma, guides generated ions to a mass spectrometer through an interface composed of a nozzle and a skimmer, and electrically detects the amount of the ions. By performing accurate measurement, the element to be measured in the sample is analyzed with high accuracy.
FIG. 5 is a diagram illustrating the configuration of a conventional example of such an ICP-MS. In this figure, an outer tube 1b and an outermost tube 1c of a plasma torch 1 are supplied with argon gas from an argon gas supply source 3 via a gas controller 2, and an inner tube 1a is supplied with a sample tank 4
The sample inside is atomized by the nebulizer 5 and then carried in by argon gas. A high-frequency power is supplied to a high-frequency induction coil 6 wound around the plasma torch 1 by a high-frequency power supply 10, and a high-frequency magnetic field (not shown) is formed around the coil 6. On the other hand, the inside of the fore chamber 11 sandwiched between the nozzle 8 and the skimmer 9
The pressure is reduced to, for example, 1 Torr by the vacuum pump 12.
Also, an ion lens system 14a,
14b, the inside of the center chamber 13 is decompressed to, for example, 10 −4 Torr by the first oil diffusion pump 15, and a mass filter (for example, a quadrupole mass filter) 16 is provided.
The inside of the rear chamber 17 containing the oil is a second oil diffusion pump
For example, the pressure is reduced to 10 −5 Torr.

この状態で上記高周波磁界の近傍でアルゴンガス中に
電子かイオンが植え付けられると、該高周波磁界の作用
によって瞬時に高周波誘導結合プラズマ7が生ずる。該
プラズマ7内のイオンは、ノズル8やスキマー9を経由
してのちイオンレンズ系14a,14bを通って収束される。
ここで、イオンレンズ系14a,14bは、高周波誘導結合プ
ラズマ7からの光を遮断しイオンだけを通過させる例え
ばダブル四極子レンズが用いられており、該イオンレン
ズ系を通過したイオンは、マスフィルタ16を通り二次電
子増倍管19に導かれて検出され、該検出信号が信号処理
部20に送出されて演算・処理されることによって前記試
料中の被測定元素分析値が求められるようになってい
る。
When electrons or ions are implanted in the argon gas in the vicinity of the high-frequency magnetic field in this state, the high-frequency inductively coupled plasma 7 is instantaneously generated by the action of the high-frequency magnetic field. The ions in the plasma 7 pass through the nozzle 8 and the skimmer 9 and are then focused through the ion lens systems 14a and 14b.
Here, as the ion lens systems 14a and 14b, for example, a double quadrupole lens that blocks light from the high-frequency inductively coupled plasma 7 and passes only ions is used, and the ions that have passed through the ion lens system are mass-filtered. The detection element analysis value in the sample is obtained by being guided to the secondary electron multiplier 19 through 16 and detected, and the detection signal is sent to the signal processing unit 20 and calculated and processed. Has become.

一方、ICP−MSでは、分析性能を高く維持する上で、
プラズマトーチの軸とノズルの軸を±0.1mmぐらいの範
囲内で一致させるという所謂軸合わせが極めて重要であ
る。このため、従来は、定常的に試料を導入し、プラズ
マトーチ内を流れる試料の流れの中心とノズルの中心が
一致するようにプラズマトーチをX軸方向とY軸方向に
移動させながら、試料中の成分信号が最大となるように
して上記軸合わせを行なっていた。
On the other hand, in ICP-MS, to maintain high analytical performance,
It is very important to align the axis of the plasma torch with the axis of the nozzle within a range of about ± 0.1 mm. For this reason, conventionally, a sample is constantly introduced, and while moving the plasma torch in the X-axis direction and the Y-axis direction so that the center of the flow of the sample flowing in the plasma torch coincides with the center of the nozzle, the sample The above-mentioned axis alignment is performed so that the component signal of the above-mentioned component becomes maximum.

<発明が解決しようとする問題点> 然しながら、上述のような試料中の成分信号による軸
合わせ方法は、試料を定常的に導入する溶液分析の場合
(所謂ネブライザ法)にのみ使用できるものであって、
試料を過渡的に導入するレーザアブレーション法や加熱
気化導入法などの場合には使用できないという欠点があ
った。
<Problems to be Solved by the Invention> However, the axis alignment method based on the component signal in the sample as described above can be used only in the case of solution analysis in which the sample is constantly introduced (the so-called nebulizer method). hand,
There is a drawback that it cannot be used in the case of a laser ablation method for introducing a sample transiently or a heating vaporization introducing method.

このため、従来は、上記ネブライザー法でトーチ位置
を調整して後、プラズマトーチの後方に配設されている
ネブライザとスプレーチャンバーを取外し、別の試料導
入装置を接続するようにしていた。しかし、この方法で
は、作業中にプラズマトーチの位置を動かしてしまうこ
とが多く、ICP−MSの性能(特に感度)を十分に引出す
ことができないという大きな欠点があった。また、高周
波誘導プラズマ中で試料成分とほぼ同様の分布をするキ
ャリアガス中に軸合わせのための物質を混入する場合、
標準ガス発生器や標準ガス用流量制御装置が必要とな
り、単に機器の調整のために試料導入法を僅かに変える
だけで周辺設備を大規模に変更したり新設したりしなけ
ればならないという欠点もあった。
For this reason, conventionally, after adjusting the torch position by the above-mentioned nebulizer method, the nebulizer and the spray chamber provided behind the plasma torch are removed, and another sample introduction device is connected. However, in this method, the position of the plasma torch is often moved during the operation, and there is a major drawback that the performance (in particular, sensitivity) of ICP-MS cannot be sufficiently brought out. In addition, when a substance for axis alignment is mixed into a carrier gas having almost the same distribution as the sample components in the high-frequency induction plasma,
A standard gas generator and a flow control device for standard gas are required, and there is also a disadvantage that peripheral equipment must be changed on a large scale or newly installed simply by slightly changing the sample introduction method to adjust the equipment. there were.

本発明は、かかる従来例の欠点に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、過渡的に試料が導入される場合で
あってもプラズマトーチとノズルの軸合わせを容易に行
なえるようなICP−MSを提供することにある。
The present invention has been made in view of the drawbacks of the conventional example, and an object of the present invention is to provide an ICP capable of easily aligning a plasma torch with a nozzle even when a sample is transiently introduced. -To provide MS.

<問題点を解決するための手段> 上述のような問題点を解決する本発明の特徴は、高周
波誘導結合プラズマを用いて試料を励起させ生じたイオ
ンをノズルとスキマーからなるインターフェイスを介し
て質量分析計検出器に導いて検出することにより前記試
料中の被測定元素を分析する分析計において、サンプル
導入装置とガス混入装置を設け、これらの装置をガス調
節器とプラズマトーチの間に並列若しくは直列に接続す
るとともに、前記ガス調節器からのキャリアガスをこれ
らの装置に導くように構成し、軸合わせ時には、ガス調
節器から供給されたキャリアガスを前記ガス混入装置を
経由させてプラズマトーチに導くと共に、前記ガス混入
装置においてキャリアガス中に大気を導入するように構
成し、前記プラズマトーチとノズルの位置を調整するこ
とにある。
<Means for Solving the Problems> A feature of the present invention that solves the above problems is that ions generated by exciting a sample using high-frequency inductively coupled plasma are mass-transduced through an interface including a nozzle and a skimmer. In an analyzer for analyzing an element to be measured in the sample by guiding to and detecting an analyzer detector, a sample introduction device and a gas mixing device are provided, and these devices are arranged in parallel or between a gas regulator and a plasma torch. While connected in series, the carrier gas from the gas regulator is configured to be guided to these devices, and at the time of axis alignment, the carrier gas supplied from the gas regulator is passed through the gas mixing device to the plasma torch. Guiding and introducing the atmosphere into the carrier gas in the gas mixing device, the position of the plasma torch and the nozzle Is to adjust.

<実施例> 以下、本発明について図を用いて詳細に説明する。第
1図は本発明実施例の要部を示す要部説明図であり、図
中、第5図と同一記号は同一意味をもたせて使用しここ
での重複説明は省略する。また、24はサンプル導入装
置、25はガス混入装置、26は第1乃至第4の接続口26a
〜26dと盲栓26eを有する第1切換弁、27は第1乃至第4
の接続口27a〜27dと盲栓27eを有する第2切換弁であ
る。第2図はガス混入装置の具体的な構成断面図であ
り、図中、21はコネクタ、22a,22bは例えばOリングで
なるシール部材、23はプラズマトーチに至るキャリアガ
ス導入チューブ、51はネブライザの内管、52はは先端が
大気解放されているキャピラリーチューブである。
<Example> Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory view of a main part showing a main part of an embodiment of the present invention. In the figure, the same symbols as those in FIG. 5 are used with the same meanings, and duplicate explanations are omitted here. 24 is a sample introduction device, 25 is a gas mixing device, 26 is the first to fourth connection ports 26a.
26d and a first switching valve having a blind plug 26e;
Is a second switching valve having connection ports 27a to 27d and blind plug 27e. FIG. 2 is a cross-sectional view of a specific configuration of the gas mixing device, in which 21 is a connector, 22a and 22b are sealing members made of, for example, O-rings, 23 is a carrier gas introduction tube leading to a plasma torch, and 51 is a nebulizer An inner tube 52 is a capillary tube whose tip is open to the atmosphere.

このような構成からなる本発明の実施例において、軸
合わせ時には、切換弁26,27が第1図の破線接続状態に
される。この状態で、ガス調節器2から供給されたキャ
リアガスは、第1切換弁26の第1及び第4接続口26a,26
d→ガス混入装置25→第2切換弁27の第3及び第2切換
弁27c,27bを経てプラズマトーチ1に至る。また、分析
時には、切換弁26,27が第1図の実線接続状態にされ、
ガス調節器2から供給されたキャリアガスは、第1切換
弁26の第1及び第2接続口26a,26b→サンプル導入装置2
4→第2切換弁27の第1及び第2切換弁27a,27bを経てプ
ラズマトーチ1に至る。このようにして、プラズマトー
チ1の内管1aに導かれたサンプルは、第5図を用いて詳
述した前記従来例と同様にして測定成分の分析がおこな
わる。
In the embodiment of the present invention having such a configuration, at the time of axis alignment, the switching valves 26 and 27 are brought into the connection state indicated by the broken lines in FIG. In this state, the carrier gas supplied from the gas controller 2 is supplied to the first and fourth connection ports 26a and 26a of the first switching valve 26.
d → the gas mixing device 25 → the plasma torch 1 via the third and second switching valves 27c and 27b of the second switching valve 27. At the time of analysis, the switching valves 26 and 27 are connected to the solid line in FIG.
The carrier gas supplied from the gas controller 2 is supplied to the first and second connection ports 26a and 26b of the first switching valve 26 → the sample introduction device 2
4 → the plasma torch 1 via the first and second switching valves 27a and 27b of the second switching valve 27. In this way, the sample guided to the inner tube 1a of the plasma torch 1 is subjected to the analysis of the components to be measured in the same manner as in the conventional example described in detail with reference to FIG.

ところで、上記軸合わせ時に、第1切換弁26の第4接
続口26dを経てガス混入装置25に導入されたキャリアガ
ス(例えば、Aγガス)は、第2図のネブライザ5内を
通ってコネクタ21内に至り、その後、キャリアガス導入
チューブ23に導かれる。このため、ネブライザ5の所謂
エジェクタ効果により、大気がキャピラリーチューブ52
と内管51を通ってコネクタ21内に吸引され、その後、キ
ャリアガス導入チューブ23に導かれる。また、このよう
にしてキャリアガス導入チューブ23に導かれたキャリア
ガスや大気は、第2切換弁27の第3及び第2切換弁27c,
27bを経てプラズマトーチ1に至る。ここで、キャリア
ガスの流量はガス調節器2によって一定となっているた
め、プラズマトーチ1に導入される大気の量も一定とな
る。また、この大気導入量は、キャピラリーチューブ52
の内径や長さを変えることによって任意の量とすること
ができ、通常は、溶液導入用のサンプル導入パイプがそ
のままキャピラリーチューブ52として使用できる。
By the way, at the time of the shaft alignment, the carrier gas (for example, Aγ gas) introduced into the gas mixing device 25 through the fourth connection port 26d of the first switching valve 26 passes through the nebulizer 5 in FIG. Then, it is guided to the carrier gas introduction tube 23. For this reason, the so-called ejector effect of the nebulizer 5 causes the atmosphere to flow into the capillary tube 52.
Then, the liquid is sucked into the connector 21 through the inner pipe 51, and then guided to the carrier gas introduction tube 23. Further, the carrier gas and the atmosphere guided to the carrier gas introduction tube 23 in this manner are supplied to the third and second switching valves 27c and 27c of the second switching valve 27.
The plasma torch 1 is reached via 27b. Here, since the flow rate of the carrier gas is kept constant by the gas controller 2, the amount of air introduced into the plasma torch 1 is also kept constant. In addition, the amount of air introduced is
By changing the inner diameter and length of the sample, it can be set to an arbitrary amount. Usually, a sample introduction pipe for introducing a solution can be used as it is as the capillary tube 52.

このようにキャリアガス中に大気を導入し、大気中の
成分(例えば炭素)を連続的に測定しながら、トーチと
ノズルの位置を調整する。また、この成分信号でICP−M
Sの他のパラメータのチューニングも可能であり、その
結果、ICP−MSがもっている本来の性能(例えば成分定
性能力)を十分に発揮できるようになる。
As described above, the atmosphere is introduced into the carrier gas, and the positions of the torch and the nozzle are adjusted while continuously measuring the components (for example, carbon) in the atmosphere. In addition, the ICP-M
Tuning of other parameters of S is also possible, and as a result, the original performance (for example, component qualitative ability) of ICP-MS can be sufficiently exhibited.

第3図及び第4図は本発明の他の実施例の要部構成説
明図であり、図中、28は第1乃至第4の接続口28a〜28d
を有し内部流路が実線接続状態と破線接続状態に交互に
切換えられる切換弁、29はキャピラリーチューブ52に装
着された開閉弁である。また、第3図及び第4図のよう
な実施例は、レーザアブレーション等のようにサンプル
導入系に大気が一時的に混入しても良い場合に用いられ
る。
FIG. 3 and FIG. 4 are explanatory diagrams of a main part configuration of another embodiment of the present invention. In the drawings, reference numeral 28 denotes first to fourth connection ports 28a to 28d.
And a switching valve 29 in which the internal flow path is alternately switched between a solid line connection state and a broken line connection state, and 29 is an on-off valve mounted on the capillary tube 52. The embodiment as shown in FIGS. 3 and 4 is used when the air may be temporarily mixed into the sample introduction system, such as laser ablation.

<発明の効果> 以上詳しく説明したような本発明は、高周波誘導結合
プラズマを用いて試料を励起させ生じたイオンをノズル
とスキマーからなるインターフェイスを介して質量分析
計検出器に導いて検出することにより前記試料中の被測
定元素を分析する分析計において、サンプル導入装置と
ガス混入装置を設け、これらの装置をガス調節器とプラ
ズマトーチの間に並列若しくは直列に接続するととも
に、前記ガス調節器からのキャリアガスをこれらの装置
に導くように構成し、軸合わせ時には、ガス調節器から
供給されたキャリアガスを前記ガス混入装置を経由させ
てプラズマトーチに導くと共に、前記ガス混入装置にお
いてキャリアガス中に大気を導入するように構成され、
前記プラズマトーチとノズルの位置が調整される。
<Effect of the Invention> As described in detail above, the present invention uses a high-frequency inductively coupled plasma to excite a sample and guide ions to a mass spectrometer detector via an interface including a nozzle and a skimmer to detect the ions. In the analyzer for analyzing the element to be measured in the sample, a sample introduction device and a gas mixing device are provided, and these devices are connected in parallel or in series between a gas controller and a plasma torch, and the gas controller And the carrier gas supplied from the gas controller is guided to the plasma torch via the gas mixing device at the time of axis alignment, and the carrier gas is introduced into the gas mixing device. Is configured to introduce air into the
The positions of the plasma torch and the nozzle are adjusted.

サンプルライン中にチューニング用成分を混入するた
め、前記従来例に比して軸合わせが容易かつ正確にでき
るという利点がある。また、一般使用のネブライザを使
用するため、サンプル導入ラインに流量制御機構が不用
であるという利点もある。
Since the tuning component is mixed into the sample line, there is an advantage that the axis alignment can be performed easily and accurately as compared with the conventional example. In addition, since a commonly used nebulizer is used, there is an advantage that a flow control mechanism is not required in the sample introduction line.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明実施例の要部構成断面図、第2図はガス
混入装置の具体的な構成断面図、第3図及び第4図は本
発明実施例の要部構成説明図、第5図はICP−MSの全体
的な構成説明図である。 1……プラズマトーチ、 3……アルゴンガス供給源、 4……試料槽、5……ネブライザ、 7……高周波誘導結合プラズマ、8……ノズル、 9……スキマー、16……マスフィルタ、 19……二次電子増倍管、20……信号処理部 21……コネクタ 22a,22b……シール部材、 23……キャリアガス導入チューブ、 52……キャピラリーチューブ 24……サンプル導入装置、 25……ガス混入装置、26,27……切換弁、
FIG. 1 is a cross-sectional view of a main part of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of a specific structure of a gas mixing device, FIG. 3 and FIG. FIG. 5 is an explanatory diagram of the overall configuration of the ICP-MS. 1 ... plasma torch, 3 ... argon gas supply source, 4 ... sample tank, 5 ... nebulizer, 7 ... high frequency inductively coupled plasma, 8 ... nozzle, 9 ... skimmer, 16 ... mass filter, 19 …… Secondary electron multiplier, 20 …… Signal processing unit 21… Connectors 22a, 22b …… Seal member, 23 …… Carrier gas introduction tube, 52 …… Capillary tube 24 …… Sample introduction device, 25 …… Gas mixing device, 26, 27… switching valve,

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 49/00 - 49/48 G01N 21/00 G01N 27/62 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) H01J 49/00-49/48 G01N 21/00 G01N 27/62

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】高周波誘導結合プラズマを用いて試料を励
起させ生じたイオンをノズルとスキマーからなるインタ
ーフェイスを介して質量分析計検出器に導いて検出する
ことにより前記試料中の被測定元素を分析する分析計に
おいて、 サンプル導入装置とガス混入装置を設け、これらの装置
をガス調節器とプラズマトーチの間に並列若しくは直列
に接続するとともに、前記ガス調節器からのキャリアガ
スをこれらの装置に導くように構成し、軸合わせ時に
は、ガス調節器から供給されたキャリアガスを前記ガス
混入装置を経由させてプラズマトーチに導くと共に、前
記ガス混入装置においてキャリアガス中に大気を導入す
るように構成し、前記プラズマトーチとノズルの位置を
調整することを特徴とする高周波誘導結合プラズマ質量
分析計。
1. An element to be measured in a sample is analyzed by introducing ions generated by exciting a sample using a high-frequency inductively coupled plasma to a mass spectrometer detector through an interface composed of a nozzle and a skimmer. In a spectrometer, a sample introduction device and a gas mixing device are provided, these devices are connected in parallel or in series between a gas controller and a plasma torch, and a carrier gas from the gas controller is guided to these devices. At the time of axis alignment, the carrier gas supplied from the gas controller is guided to the plasma torch via the gas mixing device, and the gas mixing device introduces air into the carrier gas. A high-frequency inductively coupled plasma mass spectrometer, wherein the positions of the plasma torch and the nozzle are adjusted.
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