JP3031921B2 - Manufacturing method of color image tube - Google Patents

Manufacturing method of color image tube

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JP3031921B2 JP1138239A JP13823989A JP3031921B2 JP 3031921 B2 JP3031921 B2 JP 3031921B2 JP 1138239 A JP1138239 A JP 1138239A JP 13823989 A JP13823989 A JP 13823989A JP 3031921 B2 JP3031921 B2 JP 3031921B2
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  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) この発明は、カラー受像管の製造方法に係り、特に良
好なランディング特性が得られるように蛍光面を形成す
るカラー受像管の製造方法に関する。
Description: Object of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method of manufacturing a color picture tube, and more particularly, to a color picture tube which forms a fluorescent screen so as to obtain good landing characteristics. And a method for producing the same.

(従来の技術) 一般にカラー受像管は、第8図に示すように、パネル
(1)およびファンネル(2)からなる外囲器を有し、
そのパネル(1)の内側に装着された多数の透孔の形成
されたシャドウマスク(3)に対向して、パネル(1)
内面に蛍光面(4)が形成されている。この蛍光面
(4)は、青,緑,赤に発光するストライプ状またはド
ット状の3色蛍光体層からなる。また、画面のコントラ
ストを向上させるために、この3色蛍光体層の間隙部に
カーボンなどを主成分とする非発光層を設けて、いわゆ
るブラックストライプ型またはブラックマトリックス型
としたものもある。
(Prior Art) Generally, a color picture tube has an envelope composed of a panel (1) and a funnel (2) as shown in FIG.
The panel (1) faces the shadow mask (3) having a large number of through holes mounted inside the panel (1).
A fluorescent screen (4) is formed on the inner surface. The phosphor screen (4) is a striped or dot-shaped three-color phosphor layer that emits blue, green, and red light. Further, in order to improve the contrast of the screen, there is a so-called black stripe type or black matrix type in which a non-light emitting layer mainly containing carbon or the like is provided in a gap between the three color phosphor layers.

この蛍光面(1)への画像の表示は、電子銃(5)か
ら放出される3電子ビーム(6B),(6G),(6R)をフ
ァンネル(2)外側に装着された偏向ヨーク(7)の形
成する磁界により水平方向および垂直方向に偏向して、
蛍光面(4)を走査することによりおこなわれる。した
がって、この蛍光面(4)上に色純度良好な画像を表示
するためには、第9図に示すように、シャドウマスク
(3)に対して、その透孔(8)を通過した各電子ビー
ム(6B),(6G),(6R)が対応する蛍光体層(9B),
(9G),(9R)に正しく射突するようにすることが必要
である。特にシャドウマスク(3)の透孔(8)に対す
る3色蛍光体層(9B),(9G),(9R)の位置は、各電
子ビーム(6B),(6G),(6R)の偏向角度にしたがっ
てその見掛け上の射出位置(偏向中心)が変化するた
め、各対応する蛍光体層(9B),(9G),(9R)に電子
ビーム(6B),(6G),(6R)が正しく射突するように
するためには、パネル(1)内面の各点において、シャ
ドウマスク(3)の透孔(8)に対する3色蛍光体層
(9B),(9G),(9R)の位置を変化させる必要があ
る。
The image is displayed on the phosphor screen (1) by using three electron beams (6B), (6G), and (6R) emitted from the electron gun (5) in the deflection yoke (7) mounted outside the funnel (2). ) To deflect horizontally and vertically by the magnetic field
This is performed by scanning the phosphor screen (4). Therefore, in order to display an image with good color purity on the phosphor screen (4), as shown in FIG. 9, each electron passing through the through hole (8) is passed through the shadow mask (3). Phosphor layer (9B) corresponding to beam (6B), (6G), (6R),
It is necessary to correctly strike (9G) and (9R). In particular, the positions of the three-color phosphor layers (9B), (9G) and (9R) with respect to the through holes (8) of the shadow mask (3) are determined by the deflection angles of the electron beams (6B), (6G) and (6R). The apparent emission position (deflection center) changes according to, so that the electron beams (6B), (6G), and (6R) are correctly applied to the corresponding phosphor layers (9B), (9G), and (9R). In order to make the projection, the positions of the three-color phosphor layers (9B), (9G), and (9R) with respect to the through holes (8) of the shadow mask (3) at each point on the inner surface of the panel (1). Needs to be changed.

すなわち、第10図にインライン型電子銃から放出され
る一列配置の3電子ビームのセンタービーム(6G)につ
いて示すように、この電子ビーム(6G)は、偏向ヨーク
(7)の磁界強度を均一とすると、その偏向磁界(11)
内を円軌道を描いて進み、偏向磁界(11)内を出たのち
に直進し、シャドウマスク(3)の透孔(8)を通って
蛍光体層(9G)に射突する。したがって、電子ビーム
(6G)の見掛け上の射出位置、すなわち直線軌道の延長
線が管軸(X軸)と交わる偏向中心(F)の位置が偏向
角度γにしたがって変化する。つまり、偏向角度が零の
場合に対して偏向角度γの場合はΔp蛍光面(4)側に
前進するγ−Δp特性をもっている。
That is, as shown in FIG. 10 with respect to the center beam (6G) of three electron beams arranged in a row and emitted from the in-line type electron gun, the electron beam (6G) makes the magnetic field intensity of the deflection yoke (7) uniform. Then, the deflection magnetic field (11)
The light beam travels in a circular orbit inside the deflecting magnetic field (11), goes straight ahead, and strikes the phosphor layer (9G) through the through hole (8) of the shadow mask (3). Therefore, the apparent emission position of the electron beam (6G), that is, the position of the deflection center (F) where the extension of the linear trajectory intersects the tube axis (X axis) changes according to the deflection angle γ. In other words, when the deflection angle is γ with respect to the case where the deflection angle is zero, it has a γ-Δp characteristic that advances toward the Δp fluorescent screen (4).

一方、従来より蛍光面は、第11図に示すように、パネ
ル内面に蛍光体と感光性樹脂を主成分とする蛍光体スラ
リを塗布、乾燥し、その被膜をシャドウマスクを介して
露光することによりシャドウマスクの透孔に対応するパ
ターンを焼付けたのち、現像して未感光部を除去するこ
とにより任意1色の蛍光体層を形成する。そして、その
各工程を3色蛍光体層について繰返すことにより形成し
ている。特に非発光層を有する蛍光面については、上記
3色蛍光体層の形成に先立って、感光性樹脂を塗布し、
類似の方法により3色蛍光体層形成位置にシャドウマス
クの透孔に対応する感光性樹脂のパターンを形成したの
ち、非発光性塗料を塗布し、その後、この非発光性塗料
を感光性樹脂のパターンとともに剥離して3色蛍光体層
形成位置に空隙部をもつ非発光層を形成することにより
製造される。
On the other hand, conventionally, as shown in FIG. 11, a phosphor slurry containing a phosphor and a photosensitive resin as main components is applied to the inner surface of the panel, dried, and the film is exposed through a shadow mask. After the pattern corresponding to the through-hole of the shadow mask is printed, the phosphor layer of any one color is formed by developing and removing the unexposed portion. Then, each of the steps is repeated for the three-color phosphor layer. In particular, for a phosphor screen having a non-light emitting layer, a photosensitive resin is applied before forming the three-color phosphor layer,
After forming a pattern of the photosensitive resin corresponding to the through holes of the shadow mask at the position where the three-color phosphor layer is formed by a similar method, a non-light-emitting paint is applied. It is manufactured by peeling off with a pattern to form a non-light emitting layer having a void at a position where a three-color phosphor layer is formed.

この蛍光体層、非発光層のいずれの場合でも、パネル
内面に形成した被膜を露光する光は直進するため、露光
工程では、第12図に示すように、シャドウマスク(3)
を装着したパネル(1)と露光光源(13)との間に、光
源(13)から放射される光(14)の軌道を上記電子ビー
ムの軌道に近似させる補正レンズ(15)を配置した露光
装置が用いられている。なお、(16)は上記被膜を部分
露光するためのシャッターであり、(17)はその露光領
域を制御する開孔である。
In either case of the phosphor layer or the non-light emitting layer, the light for exposing the coating formed on the inner surface of the panel goes straight. Therefore, in the exposing step, as shown in FIG.
Exposure in which a correction lens (15) that approximates the trajectory of the light (14) radiated from the light source (13) to the trajectory of the electron beam is disposed between the panel (1) on which is mounted and the exposure light source (13). The device is used. Incidentally, (16) is a shutter for partially exposing the film, and (17) is an aperture for controlling the exposure area.

このような補正レンズ(15)としては、かっては、球
面レンズが用いられていたが、カラー受像管の構造が複
雑になるにつれて、単純なレンズではγ−Δp特性を補
正することができなくなり、現在では複雑な表面形状を
もつ非球面レンズが用いられている。
A spherical lens has been used as such a correction lens (15), but as the structure of the color picture tube becomes more complicated, the γ-Δp characteristic cannot be corrected with a simple lens, At present, an aspheric lens having a complicated surface shape is used.

この非球面レンズの表面形状は、レンズの底面の中心
を原点とする直交座標(X,Y,Z軸)で表すと、任意点に
おける表面高さxは、 x=f(y,z) ……(1) で表される。また、極座標(r,θ)では、 で表され、一般的には、たとえば(1)式は多項式 で表される。
If the surface shape of this aspheric lens is represented by orthogonal coordinates (X, Y, Z axes) with the origin at the center of the bottom surface of the lens, the surface height x at an arbitrary point is x = f (y, z) (1) In polar coordinates (r, θ), In general, for example, equation (1) is a polynomial It is represented by

このような式を用いておこなわれる補正レンズの設計
は、各係数aijの変化量に対して露光光源から放射され
る光がどのように変化するか、蛍光面の全面にわたり追
跡し、蛍光面全面の電子ビームの入射位置との誤差が一
定値(通常10ミクロン)以下になるように設計される。
しかし、このような方法で設計しても、補正レンズの限
られた数少ない点における誤差を小さくすることは比較
的簡単にできるが、補正レンズ面の任意の点で誤差を小
さくするように係数aijを設定しても、その係数aijは、
一般に他の大多数の点で誤差を大きくするように作用す
るので、蛍光面上のすべての点において所望の誤差以下
になるように設計することはきわめて困難である。たと
え高性能超高速の電算機を使用しても、設計に時間がか
かるばかりでなく、多くの場合、係数aijの変更は豊富
な経験による判断を必要としている。したがって、偏向
角の大きい110度偏向カラー受像管や大形カラー受像管
などのように偏向磁界が複雑なカラー受像管では、補正
レンズの設計に多大の時間がかかり、なおかつ所望の特
性を備える補正レンズにすることができない。
The design of the correction lens performed using such an equation is to track how the light emitted from the exposure light source changes with respect to the variation of each coefficient a ij over the entire surface of the phosphor screen, It is designed so that the error from the incident position of the electron beam on the entire surface is less than a certain value (usually 10 microns).
However, with such a method, it is relatively easy to reduce the error at a limited few points of the correction lens, but the coefficient a is set so as to reduce the error at any point on the correction lens surface. Even if ij is set, its coefficient a ij is
In general, it works to increase the error at most of the other points, and it is extremely difficult to design so that all points on the phosphor screen have a desired error or less. Even with the use of high-performance, ultra-high-speed computers, not only does it take time to design, but in many cases, changing the coefficients a ij requires a wealth of experience. Therefore, in a color picture tube having a complicated deflection magnetic field such as a 110 ° deflection color picture tube or a large color picture tube having a large deflection angle, it takes a lot of time to design a correction lens, and a correction lens having desired characteristics is required. Cannot be a lens.

他の補正レンズの設計方法として、特公昭47−40983
号公報や特公昭49−22770号公報には第13図に示すよう
に、補正レンズ(15)を複数部分に分割し、その各部分
ごとにその表面の傾斜を決定する方法が示されている。
このような方法は、分割された各部分ごとに露光時の光
の軌道を電子ビームの軌道に精度よく一致させることが
でき、γ−Δp特性を満足する補正レンズとすることが
できる。しかし、このような補正レンズ(15)は、分割
された各部分の境界部に段差(18)ができるため、特に
3色蛍光体層の間隙部に非発光層を設けるブラックスト
ライプ型やブラックマトリックス型の蛍光面に対して
は、その段差(18)に起因する光量の不均一のために蛍
光面にむらが生じやすい。これを解決する方法として、
露光的に補正レンズ(15)を揺動する方法や段差部を遮
光する方法があるが、いずれも蛍光面のむらを十分に満
足する品位にすることはできない。
As another design method of the correction lens, Japanese Patent Publication No. 47-40983
As shown in FIG. 13, JP-A-49-22770 discloses a method of dividing a correction lens (15) into a plurality of parts and determining the surface inclination of each part. .
According to such a method, the trajectory of light at the time of exposure can be accurately matched with the trajectory of the electron beam for each of the divided portions, and a correction lens satisfying the γ-Δp characteristic can be obtained. However, since such a correction lens (15) has a step (18) at the boundary between the divided portions, a black stripe type or a black matrix in which a non-light emitting layer is provided particularly in the gap between the three color phosphor layers is provided. Irregularity of the fluorescent screen is likely to occur with respect to the fluorescent screen of the mold due to the uneven light amount caused by the step (18). To solve this,
There are a method of swinging the correction lens (15) in an exposure manner and a method of shielding a step portion from light, but none of these methods can achieve a quality that sufficiently satisfies the unevenness of the phosphor screen.

(発明が解決しようとする課題) 上記のように、カラー受像管の蛍光面の製造は、パネ
ル内面に形成された蛍光体スラリや感光樹脂などの被膜
にシャドウマスクの透孔に対応するパターンを焼付ける
とき、露光光源から放射される光の軌道を偏向ヨークの
形成する磁界により偏向される電子ビームの軌道に近似
させる補正レンズが用いられる。しかし、この補正レン
ズの表面形状は複雑で、蛍光面上のすべての点において
良好なランディングが得られるように設計することが困
難であり、特に広偏向角カラー受像管や大形カラー受像
管などの偏向磁界が複雑なカラー受像管の蛍光面につい
ては、所望の補正レンズが得られていない。
(Problems to be Solved by the Invention) As described above, the manufacture of the fluorescent screen of the color picture tube involves forming a pattern corresponding to the through-holes of the shadow mask on the coating of the phosphor slurry or the photosensitive resin formed on the inner surface of the panel. When printing, a correction lens is used that approximates the trajectory of light emitted from the exposure light source to the trajectory of an electron beam deflected by a magnetic field formed by a deflection yoke. However, the surface shape of this correction lens is complicated, and it is difficult to design it so that good landings can be obtained at all points on the phosphor screen, especially for wide deflection angle color picture tubes and large color picture tubes. For the fluorescent screen of a color picture tube having a complicated deflection magnetic field, a desired correction lens has not been obtained.

発明者は、その原因を種々調査した結果、補正レンズ
の設計を困難にしている大きな原因は、電子ビームに対
する水平偏向のγ−Δp特性と垂直偏向のγ−Δp特性
との相違にあることを見出した。
As a result of various investigations of the cause, the inventor has found that a major cause that makes the design of the correction lens difficult is the difference between the γ-Δp characteristic of horizontal deflection and the γ-Δp characteristic of vertical deflection with respect to the electron beam. I found it.

すなわち、第14図に示す補正レンズ(15)の任意点P
における表面高さxは、P点だけでは決まらず、補正レ
ンズ(15)の中心軸からの傾斜の総和として決定され、
かつ一般に、Z軸上およびY軸上については、それぞれ
各ランディング特性を完全に満足する曲面とするので、
任意点Pにおける表面高さxは、Z軸上のz1から出発し
た場合とY軸上のy1から出発した場合とが一致した場合
のみに、y方向およびz方向とも完全に補正するものと
なる。しかし、第15図(a)に示すように、Z軸上のz1
における表面高さをx(0,z1)とし、このz1からY方向
に点Pの表面高さを決定してゆくと、点Pの表面高さは
曲線(19a)上のxzとなる。一方、同(b)に示すよう
に、Y軸上のy1における表面高さをx(y1,0)とし、こ
のy1からZ方向に点Pの表面高さを決定してゆくと、点
Pの表面高さは曲線(19b)上のx3となり、Z軸からY
方向への補正と、Y軸からZ方向への補正とは必ずしも
一致しない。むしろ一致しない場合がおおい。これは、
電子ビームを水平方向に偏向するときの偏向中心と垂直
方向に偏向するときの偏向中心との差に基づくものであ
り、どのような曲面表示式を用いても、蛍光面上のすべ
ての点においてランディング誤差を満足できる程度に補
正する補正レンズを設計することは不可能であることを
見出した。
That is, an arbitrary point P of the correction lens (15) shown in FIG.
Is not determined only by the point P, but is determined as a sum of inclinations from the central axis of the correction lens (15).
And, in general, on the Z axis and the Y axis, each of the landing characteristics is a curved surface that completely satisfies the respective landing characteristics.
Surface height x at an arbitrary point P, only if the case starting from y 1 on the Y axis when starting with z 1 on the Z axis is coincident, both y and z directions as to completely correct Becomes However, as shown in FIG. 15 (a), z 1 on the Z axis
Is defined as x (0, z 1 ), and the surface height of the point P is determined in the Y direction from z 1, and the surface height of the point P becomes x z on the curve (19a). Become. On the other hand, as shown in (b), the surface height at y 1 on the Y-axis and x (y 1, 0), the slide into determining the surface height of the point P in the Z direction from the y 1 , Y surface height of the point P becomes x 3 on the curve (19b), the Z axis
The correction in the direction does not always match the correction in the Y direction from the Y axis. Rather, they often do not match. this is,
It is based on the difference between the center of deflection when deflecting the electron beam in the horizontal direction and the center of deflection when deflecting in the vertical direction. It has been found that it is impossible to design a correction lens that corrects the landing error to a satisfactory degree.

このような問題は、ブラックストライプ型などのよう
に垂直方向に延びるストライプ状の蛍光面を有し、垂直
方向のランディングを考慮する必要のないカラー受像管
では、あまり問題とならないが、蛍光体層がドット状の
カラー受像管、特に広偏向角カラー受像管や大形カラー
受像管では大きな影響があらわれる。
Such a problem is not so serious in a color picture tube having a stripe-shaped fluorescent screen extending in the vertical direction such as a black stripe type and it is not necessary to consider vertical landing. However, this has a great effect on a color picture tube having a dot shape, particularly a wide deflection angle color picture tube or a large color picture tube.

この発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであ
り、従来の補正レンズでは十分満足できるように補正で
きなかった蛍光面を容易に形成することができるように
することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to easily form a phosphor screen that cannot be corrected sufficiently with a conventional correction lens.

〔発明の構成〕[Configuration of the invention]

(課題を解決するための手段) パネル内面に感光性樹脂または蛍光体スラリの被膜を
形成し、この被膜にシャドウマスクを介して光源からの
光を照射し、上記被膜に上記シャドウマスクの透孔に対
応するパターンを焼付けたのち、現像して非発光層また
は蛍光体層を形成することにより上記パネル内面に蛍光
面を形成するカラー受像管の製造方法において、上記パ
ネル内面に形成された被膜に対する上記光源からの光の
照射領域を制限するシャッターを用い、このシャッター
の移動と同期して上記光源を移動する際に、上記パネル
内面の被膜上に得られるシャドウマスクの透孔に対応す
るパターンの位置を、上記光源を固定して蛍光膜を形成
する場合のシャドウマスクの透孔に対応するパターンの
位置と比較したとき、上記シャッターが光源の光軸と直
行する平面内を水平軸方向に移動する場合には、上記水
平軸方向のパターンの位置と上記光源を固定して蛍光膜
を形成した場合の上記水平軸方向のパターンの位置とが
実質的に同じになるように上記光源の上記光軸方向の移
動と上記水平軸方向の移動とを制御し、上記シャッター
が光源の光軸と直行する平面内を垂直軸方向に移動する
場合には、上記垂直軸方向のパターンの位置と上記光源
を固定して蛍光膜を形成した場合の上記垂直軸方向パタ
ーンの位置とが実質的に同じになるように上記光源の上
記光軸方向の移動と上記垂直軸方向の移動とを制御する
ことで、上記光源をγ−Δp特性に基づく水平偏向の偏
向中心および垂直方向の偏向中心にそれぞれ一致するよ
うに移動させて、上記被膜に上記シャドウマスクの透孔
に対応するパターンを焼付けるようにした。
(Means for Solving the Problems) A coating of a photosensitive resin or a phosphor slurry is formed on the inner surface of the panel, and the coating is irradiated with light from a light source through a shadow mask. After baking a pattern corresponding to the above, in the method of manufacturing a color picture tube to form a phosphor screen on the inner surface of the panel by developing and forming a non-light emitting layer or a phosphor layer, the film formed on the inner surface of the panel Using a shutter for limiting the irradiation area of the light from the light source, when moving the light source in synchronization with the movement of the shutter, the pattern corresponding to the through-hole of the shadow mask obtained on the coating on the inner surface of the panel When the position is compared with the position of the pattern corresponding to the through-hole of the shadow mask when the fluorescent film is formed by fixing the light source, the shutter is positioned at the light source. When moving in the horizontal axis direction in a plane perpendicular to the optical axis of the, the position of the horizontal axis pattern and the position of the horizontal axis pattern when the fluorescent film is formed by fixing the light source and Controlling the movement of the light source in the optical axis direction and the movement in the horizontal axis direction so that the light source is substantially the same, and the shutter moves in the vertical axis direction in a plane orthogonal to the optical axis of the light source. In the optical axis direction of the light source such that the position of the pattern in the vertical axis direction and the position of the vertical axis direction pattern when the phosphor is formed by fixing the light source are substantially the same. By controlling the movement and the movement in the vertical axis direction, the light source is moved so as to coincide with the center of deflection of horizontal deflection based on the γ-Δp characteristic and the center of deflection in the vertical direction, respectively. Corresponds to mask holes Pattern is printed.

(作用) この発明によれば、感光性樹脂または蛍光体スラリの
被膜に対して光の照射領域を制限するシャッターを用
い、このシャッターの移動と同期して移動する光源の移
動を制御することにより、偏向中心位置の違いによるラ
ンディング誤差を補正することができ、これより蛍光体
全面にわたり良好なランディング特性が得られるように
蛍光面を形成することができる。
(Operation) According to the present invention, a shutter for limiting the light irradiation area with respect to the photosensitive resin or the phosphor slurry coating is used, and the movement of the light source that moves in synchronization with the movement of the shutter is controlled. In addition, it is possible to correct a landing error due to a difference in the deflection center position, and thereby to form a phosphor screen so as to obtain good landing characteristics over the entire phosphor.

(実施例) 以下、図面を参照してこの発明を実施例に基づいて説
明する。
Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments with reference to the drawings.

第2図および第3図に示すように、補正レンズ(20)
の底面(露光光源側の面)の中心を原点とし、補正レン
ズ(20)の中心軸をX軸とする直交座標において、露光
光源(13)がそのX軸上の点x0(0,0)に位置するとす
る。また、パネル(1)内面をX軸上の点xiを通るY−
Z平面に平行な平面と仮定する。この場合、露光光源
(13)から放射された光は、破線(21)で示すように補
正レンズ(20)により屈折し、シャッター(16)の開孔
(17)、シャドウマスク(3)の透孔を通ってパネル
(1)内面上のy1′に達する。そして、シャッター(1
6)の開孔(17)に対応する領域(22)を露光する。こ
こで、y1′に入射する電子ビームを偏向装置の垂直偏向
磁界によりy1に入射するように偏向した場合の偏向中心
が同じy1に電子ビームが入射するように偏向する水平偏
向磁界の偏向中心より、x4だけパネル(1)側にあると
すると、電子ビームとおなじ軌道を通ってy1に光を投射
するためには、実線(23)で示すように、露光光源(1
3)を上記偏向方向(y1−y1′の方向)、すなわち、Y
軸方向に移動するシャッター(16)とは逆方向にx0を通
るZ−Y平面上をy2だけ移動すればよいことになる。す
なわち、垂直偏向磁界のγ−Δp特性がγ−γのと
き、Δp=x4とすると、 y=x4・tanγ で示す関係が成立し、シャッター(16)の移動方向とは
逆方向に露光光源(13)をy2だけ動かせばよいことにな
る。
As shown in FIGS. 2 and 3, the correction lens (20)
The center is the origin of the bottom surface of the (surface of the exposure light source side) in a rectangular coordinate with the central axis of the correction lens (20) and X-axis, an exposure light source (13) is a point x 0 on the X axis (0, 0 ). Also, panel (1) an inner surface passing through the point x i on the X-axis Y-
Assume a plane parallel to the Z plane. In this case, the light emitted from the exposure light source (13) is refracted by the correction lens (20) as shown by a broken line (21), and is transmitted through the aperture (17) of the shutter (16) and the shadow mask (3). through the holes reaching the panel (1) y 1 on the inner surface '. And the shutter (1
The area (22) corresponding to the aperture (17) in 6) is exposed. Here, when the electron beam incident on y 1 ′ is deflected so as to be incident on y 1 by the vertical deflection magnetic field of the deflecting device, the deflection center is deflected so that the electron beam is incident on the same y 1 . than deflection center, will have to allow the only panel (1) side x 4, in order to project light on y 1 through same trajectory and electron beam, as shown by the solid line (23), an exposure light source (1
3) is the deflection direction (direction of y 1 −y 1 ′), that is, Y
So that the upper Z-Y plane passing through the x 0 in the opposite direction may be moved by y 2 and the shutter (16) which moves in the axial direction. That is, when gamma-Delta] p characteristic of the vertical deflection magnetic field of the gamma-gamma 1, when a Delta] p = x 4, the relationship is established as indicated by y = x 4 · tanγ 1, a direction opposite to the moving direction of the shutter (16) an exposure light source (13) so that should be moved by y 2 in.

したがって、この露光光源(13)の移動を、蛍光面全
面にわたり良好なランディング特性が得られるようにお
こなうには、つぎのようにすればよい。
Therefore, the movement of the exposure light source (13) can be performed as follows in order to obtain good landing characteristics over the entire phosphor screen.

たとえば第14図のZ=Z1で示される直線(Z軸)近傍
のランディング特性を重視するとy=0におけるZ軸方
向のγ−Δp特性が γ−γ で Δp=X5 であり、y=y1におけるZ軸方向のγ−Δp特性が γ−γ で Δp=X6 とし、x5>x6とすると、γ=γのときのΔpは、 Δp=x4−(x5−x6) とすればよく、このときの露光光源(13)の移動量y
4は、 y4={x4−(x5−x6)}tanγ となる。
For example Figure 14 of the straight line represented by Z = Z 1 (Z-axis) is Δp = X 5 γ-Δp characteristic in the Z-axis direction in the gamma-gamma 2 in y = 0 when emphasizing landing characteristics of near, y = gamma-Delta] p characteristic of the Z-axis direction is a Delta] p = X 6 in gamma-gamma 3 in y 1, when x 5> x 6, Δp when the gamma = gamma 1 is, Δp = x 4 - (x 5 −x 6 ), and the movement amount y of the exposure light source (13) at this time.
4 becomes y 4 = {x 4 − (x 5 −x 6 )} tan γ 1 .

このγ−Δp特性の決め方は、蛍光面上のどの部分の
ランディング特性を重視するかで変わるが、いずれの場
合でも、露光光源(13)の移動量ym、γ−Δp特性のΔ
pをxsとすると、 ym=xs・tanγ となる。
The method of determining the γ-Δp characteristic depends on which part of the phosphor screen the landing characteristic is important, but in any case, the moving amount y m of the exposure light source (13) and the Δ of the γ-Δp characteristic
Assuming that p is x s , y m = x s · tanγ 1 .

このようにシャッター(16)の移動方向とは逆方向に
露光光源(13)を移動して露光する方法によれば、補正
レンズの表面高さをZ軸上から決定しただけの補正レン
ズ(20)を用いてランディング誤差の少ない蛍光面を形
成することができる。すなわち、蛍光面全面にわたりY
軸方向のランディングについてはほぼ零とすることがで
きる。しかし、Z軸方向のランディングずれについて
は、第4図(a)に示す補正レンズ(20)のZ軸上のO
−A断面およびZ軸に平行なC−C断面をそれぞれ
(b)および(c)に示すように、z軸上においては、
レンズ中心から周辺にゆくにしたがって表面高さが低く
なるのに対し、Z軸から外れた部分では、周辺にゆくに
したがって表面高さが高くなる。そのため、第5図
(a)に示すY軸およびY軸に平行な線(24a)〜(24
e)でのランディング誤差は、同(b)に線(25a)〜
(25e)で示すようにzの座標値が大きくになるにつれ
て大きくなる。
According to the method of exposing by moving the exposure light source (13) in the direction opposite to the direction of movement of the shutter (16), the correction lens (20) whose surface height of the correction lens is determined only on the Z axis is used. ) Can be used to form a phosphor screen with a small landing error. That is, Y over the entire phosphor screen
The landing in the axial direction can be almost zero. However, as for the landing displacement in the Z-axis direction, the correction lens (20) shown in FIG.
As shown in (b) and (c), respectively, the A-section and the CC section parallel to the Z-axis, on the z-axis,
While the surface height decreases as going from the lens center to the periphery, the surface height increases in the portion deviating from the Z axis as going toward the periphery. Therefore, the Y axis shown in FIG. 5A and the lines (24a) to (24a) parallel to the Y axis are shown.
The landing error in e) is the same as in (b),
As shown in (25e), the value increases as the coordinate value of z increases.

また、シャッターのY方向の移動と同期して露光光源
をX方向に移動するとすると、第6図(a)に矢印(2
6)で示す方向に露光点、すなわちシャドウマスクの透
孔に対応するパターンの移動がおこる。この矢印(26)
の長さは相対的移動量を表している。また、シャッター
のY方向の移動と同期して露光光源を逆向きにY方向に
移動するとすると、同(b)に矢印(27)で示す露光点
の移動がおこる。したがって、露光光源をX軸およびY
軸方向に移動させ、かつそのX軸方向移動量とY軸方向
移動量とを調和させると、同(c)に矢印(28)で示す
ように、露光光源を固定して蛍光面を形成する場合の露
光点に対して、第5図(b)に示したランディング誤差
をZ軸方向のみとするように補正することができる。
If the exposure light source is moved in the X direction in synchronization with the movement of the shutter in the Y direction, the arrow (2) in FIG.
The movement of the pattern corresponding to the exposure point, that is, the through hole of the shadow mask, occurs in the direction indicated by 6). This arrow (26)
Represents the relative movement amount. If the exposure light source is moved in the Y direction in the opposite direction in synchronization with the movement of the shutter in the Y direction, the movement of the exposure point indicated by the arrow (27) in FIG. Therefore, the exposure light source is set to X-axis and Y-axis.
When it is moved in the axial direction, and the amount of movement in the X-axis direction and the amount of movement in the Y-axis direction are coordinated, the exposure light source is fixed to form a phosphor screen as shown by an arrow (28) in FIG. The exposure error in this case can be corrected so that the landing error shown in FIG. 5B is only in the Z-axis direction.

なお、第6図に示した矢印(26)〜(28)の方向は、
シャッターおよび露光光源を反対方向に移動すれば逆向
きとなる。また、第6図(c)に矢印(28)で示したラ
ンディング誤差の大きさは、露光光源の移動量を調整す
ることにより、所望の大きさに調整することができる。
The directions of arrows (26) to (28) shown in FIG.
When the shutter and the exposure light source are moved in the opposite directions, the directions are reversed. Further, the magnitude of the landing error indicated by the arrow (28) in FIG. 6C can be adjusted to a desired magnitude by adjusting the amount of movement of the exposure light source.

第1図に上記露光方法を実施する露光装置を示す。こ
の露光装置は、パネル(1)を位置決め支持する支持台
(30)を有し、この支持台(30)の下方に露光光源(1
3)が設置されている。この露光光源(13)としては、
通常、水冷式または空冷式の超高圧水銀灯が用いられる
が、そのほかにレーザ光、あるいはレーザ光を光ファイ
バなどの光導伝体を介して放射するものも使用できる。
また、上記支持台(30)に接近してその下部に軸方向
(水平方向)に長い開孔(17)が形成されたシャッター
(16)が配置されている。そして、このシャッター(1
6)と露光光源(13)との間に補正レンズ(20)が配設
されている。
FIG. 1 shows an exposure apparatus for performing the above-described exposure method. The exposure apparatus has a support (30) for positioning and supporting the panel (1), and an exposure light source (1) is provided below the support (30).
3) is installed. As the exposure light source (13),
Usually, a water-cooled or air-cooled ultra-high pressure mercury lamp is used, but in addition, a laser beam or a device that emits a laser beam through a light conductor such as an optical fiber can also be used.
Further, a shutter (16) having a long opening (17) in the axial direction (horizontal direction) is formed at a lower portion of the shutter (16) in proximity to the support table (30). And this shutter (1
A correction lens (20) is provided between 6) and the exposure light source (13).

上記シャッター(16)には、これをY方向(垂直方
向)に動かすためのラック(31)が、また、露光光源
(13)には、これをXY方向に動かすようにY軸に対して
傾斜したラック(32)が取付けられており、駆動モータ
(32)により各ラック(31),(32)と歯合するピニオ
ン(34),(35)をベルト(36),(37)を介して回転
することにより、シャッター(16)と露光光源(13)と
を同期してシャッター(16)の長い開孔(17)の長手方
向と直交する方向に逆向きかつ傾斜してXY平面上を移動
させる構造となっている。
The shutter (16) has a rack (31) for moving it in the Y direction (vertical direction), and the exposure light source (13) has a tilt with respect to the Y axis so as to move it in the XY direction. Racks (32) are attached, and the pinions (34) and (35) meshing with the racks (31) and (32) are driven by the drive motor (32) via the belts (36) and (37). By rotating, the shutter (16) and the exposure light source (13) are synchronized and moved in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the long aperture (17) of the shutter (16) in the direction opposite to and inclined on the XY plane. It has a structure to make it.

このような露光光源(13)の移動機構としては、第7
図に示すように、駆動モータにより駆動されるクランク
機構(38)に露光光源(13)を連結し、この露光光源
(13)をY軸に対して傾斜したガイド溝(39)に沿って
移動させるように構成したものでもよい。この場合、ガ
イド溝(39)の形状を変化させることにより有効な補正
が得られる。
As a moving mechanism of such an exposure light source (13),
As shown in the figure, an exposure light source (13) is connected to a crank mechanism (38) driven by a drive motor, and the exposure light source (13) is moved along a guide groove (39) inclined with respect to the Y axis. It may be configured so as to make it. In this case, an effective correction can be obtained by changing the shape of the guide groove (39).

ところで、このような露光装置を使用して、たとえば
パネル(1)内面の形成された蛍光体スラリの被膜(4
0)などの被膜をシヤドウマスク(3)を介して露光す
ると、シャッター(16)の移動にともなって蛍光体スラ
リの被膜(40)に対する露光領域が移動し、この露光領
域の移動とともに、γ−Δp特性に基づく水平偏向の偏
向中心と垂直偏向の偏向中心とを一致させるように露光
光源(13)の位置を変化させることができる。したがっ
て、パネル(1)内面の所要位置に3色蛍光体層を形成
してランディング特性良好な蛍光面を有するカラー受像
管を形成することができる。
By the way, using such an exposure apparatus, for example, a phosphor slurry film (4) formed on the inner surface of the panel (1) is formed.
When the coating such as 0) is exposed through the shadow mask (3), the exposure area of the phosphor slurry coating (40) moves with the movement of the shutter (16). The position of the exposure light source (13) can be changed so that the deflection center of the horizontal deflection and the deflection center of the vertical deflection based on the characteristics coincide with each other. Therefore, it is possible to form a three-color phosphor layer at a required position on the inner surface of the panel (1) to form a color picture tube having a phosphor screen with good landing characteristics.

また、このような方法によれば、従来のように補正レ
ンズの任意点における表面高さをZ軸上から得られる値
とY軸上から得られる値とを一致させる妥協的な設計を
おこなう必要はなく、上記実施例の場合では、補正レン
ズの表面高さは、Z軸上から決定するだけのものでよ
く、補正レンズの設計が容易となる。
Further, according to such a method, it is necessary to carry out a compromise design in which the surface height at an arbitrary point of the correction lens coincides with the value obtained on the Z-axis and the value obtained on the Y-axis as in the related art. However, in the case of the above embodiment, the surface height of the correction lens need only be determined from the Z axis, and the design of the correction lens becomes easy.

なお、上記実施例では、シャッターをY軸方向に動か
し、露光光源をY−X平面上を動かす場合について述べ
たが、このシャッターおよび露光光源の移動は、シャッ
ターをZ軸方向に動かし、露光光源をZ−X平面内を動
かすようにしてもよい。
In the above embodiment, the case where the shutter is moved in the Y-axis direction and the exposure light source is moved on the YX plane has been described. However, the movement of the shutter and the exposure light source is performed by moving the shutter in the Z-axis direction and exposing the exposure light source. May be moved in the ZX plane.

また、使用する補正レンズについては、 x=f(y,z) のごとき単一な数式で表面形状を表わせるものばかりで
なく、複数の数式で表わせるもの、あるいは複数のブロ
ックに分割され、表面に段差を有する補正レンズも使用
可能である。
The correction lens to be used is not only a lens that can express the surface shape by a single mathematical expression such as x = f (y, z), but also one that can be expressed by a plurality of mathematical expressions, or is divided into a plurality of blocks. A correction lens having a step on the surface can also be used.

また、γ−Δp特性については、光の軌道がx軸と交
わらない場合は、Y−X平面あるいはZ−X平面に投影
した場合の交角を用いればよい。
As for the γ-Δp characteristic, when the trajectory of light does not intersect the x-axis, an intersection angle when projected on the YX plane or the ZX plane may be used.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明によれば、蛍光面全体にわたり良好なランディ
ング特性を持つカラー受像管を形成することができる。
According to the present invention, it is possible to form a color picture tube having good landing characteristics over the entire phosphor screen.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図ないし第7図はこの発明の実施例の説明図で、第
1図はその一実施例の蛍光面の形成に用いられる露光装
置の構成を示す図、第2図はその露光方法の原理を説明
するための斜視図、第3図は同じくそのX−Z平面図、
第4図(a)ないし(c)はそれぞれ補正レンズの表面
形状を説明するための図、第5図(a)および(b)は
それぞれ補正レンズのランディング誤差を説明するため
の図、第6図(a)ないし(c)はそれぞれシャッター
の移動と同期して露光光源を移動したときの露光点の移
動およびランディング誤差の補正を説明するための図、
第7図は異なる露光装置の要部構成を示す図、第8図な
いし第15図は従来技術の説明図で、第8図はカラー受像
管の構成図、第9図は蛍光面の3色蛍光体層に対する3
電子ビームのランディングを説明するための図、第10図
は偏向磁界による偏向中心の移動を説明するための図、
第11図は蛍光面の製造方法を説明するためのブロック
図、第12図は従来の露光装置の構成を示す図、第13図
(a)および(b)はそれぞれ複数部分に分割された補
正レンズの平面図および断面図、第14図は補正レンズの
設計方法を説明するための図、第15図(a)および
(b)はそれぞれ第14図に示した補正レンズのz−P断
面図の表面形状を示す図およびy−P断面の表面形状を
示す図である。 1……パネル、3……シャドウマスク 13……露光光源、16……シャッター 20……補正レンズ、33……駆動モータ 40……蛍光体スラリの被膜
1 to 7 are explanatory views of an embodiment of the present invention. FIG. 1 is a view showing a configuration of an exposure apparatus used for forming a fluorescent screen according to one embodiment, and FIG. FIG. 3 is a perspective view for explaining the principle, FIG.
FIGS. 4 (a) to 4 (c) are diagrams for explaining the surface shape of the correction lens, and FIGS. 5 (a) and (b) are diagrams for explaining a landing error of the correction lens, respectively, and FIG. FIGS. 9A to 9C are diagrams for explaining movement of an exposure point and correction of a landing error when an exposure light source is moved in synchronization with movement of a shutter, respectively.
FIG. 7 is a diagram showing a main part configuration of a different exposure apparatus, FIGS. 8 to 15 are explanatory views of the prior art, FIG. 8 is a configuration diagram of a color picture tube, and FIG. 3 for phosphor layer
FIG. 10 is a diagram for explaining landing of an electron beam, FIG. 10 is a diagram for explaining movement of a deflection center by a deflection magnetic field,
FIG. 11 is a block diagram for explaining a method of manufacturing a phosphor screen, FIG. 12 is a diagram showing a configuration of a conventional exposure apparatus, and FIGS. 13 (a) and 13 (b) each show a correction divided into a plurality of portions. FIG. 14 is a plan view and a cross-sectional view of the lens, FIG. 14 is a view for explaining a method of designing the correction lens, and FIGS. 15 (a) and (b) are zP cross-sectional views of the correction lens shown in FIG. 3A and 3B are a diagram showing a surface shape of a cross section and a diagram showing a surface shape of a yP cross section. 1 Panel, 3 Shadow mask 13 Exposure light source, 16 Shutter 20 Correction lens, 33 Drive motor 40 Phosphor slurry coating

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】パネル内面に感光性樹脂または蛍光体スラ
リの被膜を形成し、この被膜にシャドウマスクを介して
光源からの光を照射し、上記被膜に上記シャドウマスク
の透孔に対応するパターンを焼付けたのち、現像して非
発光層または蛍光体層を形成することにより上記パネル
内面に蛍光面を形成するカラー受像管の製造方法におい
て、 上記パネル内面に形成された被膜に対する上記光源から
の光の照射領域を制限するシャッターを用い、このシャ
ッターの移動と同期して上記光源を移動する際に、 上記パネル内面の被膜上に得られるシャドウマスクの透
孔に対応するパターンの位置を、上記光源を固定して蛍
光膜を形成する場合のシャドウマスクの透孔に対応する
パターンの位置と比較したとき、 上記シャッターが光源の光軸と直行する平面内を水平軸
方向に移動する場合には、上記水平軸方向のパターンの
位置と上記光源を固定して蛍光膜を形成した場合の上記
水平軸方向のパターンの位置とが実質的に同じになるよ
うに上記光源の上記光軸方向の移動と上記水平軸方向の
移動とを制御し、 上記シャッターが光源の光軸と直行する平面内を垂直軸
方向に移動する場合には、上記垂直軸方向のパターンの
位置と上記光源を固定して蛍光膜を形成した場合の上記
垂直軸方向パターンの位置とが実質的に同じになるよう
に上記光源の上記光軸方向の移動と上記垂直方向の移動
とを制御することで、 上記光源をγ−Δp特性に基づく水平偏向の偏向中心お
よび垂直方向の偏向中心にそれぞれ一致するように移動
させて、上記被膜に上記シャドウマスクの透孔に対応す
るパターンを焼付けることを特徴とするカラー受像管の
製造方法。
1. A coating of a photosensitive resin or a phosphor slurry is formed on the inner surface of a panel, and the coating is irradiated with light from a light source through a shadow mask. After baking, a method for manufacturing a color picture tube for forming a phosphor screen on the inner surface of the panel by forming a non-light emitting layer or a phosphor layer by developing, wherein the coating film formed on the inner surface of the panel is exposed to light from the light source. Using a shutter to limit the light irradiation area, when moving the light source in synchronization with the movement of the shutter, the position of the pattern corresponding to the through-hole of the shadow mask obtained on the coating on the inner surface of the panel, The shutter is perpendicular to the optical axis of the light source when compared with the position of the pattern corresponding to the through hole of the shadow mask when the fluorescent film is formed by fixing the light source. When moving in the horizontal axis direction on the plane, the position of the horizontal axis pattern is substantially the same as the position of the horizontal axis pattern when the light source is fixed and the phosphor film is formed. Controlling the movement of the light source in the optical axis direction and the movement in the horizontal axis direction so that the shutter moves in the vertical axis direction in a plane perpendicular to the optical axis of the light source. The movement of the light source in the optical axis direction and the vertical movement of the light source so that the position of the pattern in the direction and the position of the vertical axis direction pattern when the fluorescent film is formed by fixing the light source are substantially the same. By controlling the movement, the light source is moved so as to coincide with the deflection center of the horizontal deflection and the deflection center in the vertical direction based on the γ-Δp characteristic, and the film corresponds to the through-hole of the shadow mask. Baking pattern Method for manufacturing a color picture tube, wherein the kick.
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